JP6741068B2 - 平面アレイアンテナおよび準ミリ波・ミリ波無線通信モジュール - Google Patents

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Description

本開示は平面アレイアンテナおよび準ミリ波・ミリ波無線通信モジュールに関する。
高周波の無線通信には、平面アンテナが用いられる場合がある。たとえば特許文献1〜3は、導体層にスロットを形成し、放射導体に給電する平面アンテナを開示している。特に、特許文献2は、複数の平面アンテナを備える平面アレイアンテナを開示している。具体的には、複数のストリップ導体と、複数のスロットが設けられた導体層と、それぞれのスロットを覆うように配置された複数の放射導体を備えた平面アレイアンテナを開示している。
特開2013−201712号公報 特開平6−291536号公報 特開平7−046033号公報
平面アレイアンテナは、複数の平面アンテナから出射する電磁波を合成することによって、放射特性を高めることが可能である。本願は、優れた放射特性を得ることが可能な平面アレイアンテナおよび準ミリ波・ミリ波無線通信モジュールを提供することを目的とする。
本開示の平面アレイアンテナは、複数の放射導体と、第1地導体層とを有する放射部と、複数のストリップ導体と第2地導体層とを有する給電部とを備え、前記複数のストリップ導体は、前記第1地導体層と前記第2地導体層との間において、前記複数の放射導体に対応して配置され、前記第1地導体層は、各放射導体と対応するストリップ導体との間に位置し、前記ストリップ導体の延びる方向と交差する方向に延びる複数のスロットと、前記複数のスロットのうち、隣接する2つのスロットの間に位置する溝または少なくとも1つの孔とを有する。
前記複数の放射導体および前記ストリップ導体は、それぞれ、第1方向および前記第1方向に直交する第2方向にそって2次元に配置されていてもよい。
前記第1地導体層は、複数の孔を有し、前記複数の孔は、前記第1方向および前記第2方向に沿って配列されていてもよい。
前記第1地導体層は、複数の孔を有し、前記複数の孔は、前記第1方向および前記第2方向のいずれか一方にのみに沿って配列されていてもよい。
前記第1地導体層は、複数の溝を有し、前記複数の溝は、前記第1方向および前記第2方向に沿って配列されていてもよい。
前記第1地導体層は、複数の溝を有し、前記複数の溝は、前記第1方向および前記第2方向のいずれか一方にのみに沿って配列されていてもよい。
前記複数の放射導体と前記第1地導体層との間、前記第1地導体層と前記ストリップ導体との間および前記ストリップ導体と前記第2地導体層との間にそれぞれ位置する誘電体層をさらに備えていてもよい。
前記平面アレイアンテナは、複数のセラミック層をさらに備え、前記複数の放射導体、前記第1地導体層、前記複数のストリップ導体および前記第2地導体層は前記複数のセラミック層の間に位置していてもよい。
前記平面アレイアンテナは、前記複数の放射導体を覆う誘電体層をさらに備えていてもよい。
前記第1地導体層の前記溝または少なくとも1つの孔は空洞であってもよい。
前記第1地導体層の前記溝または少なくとも1つの孔は、前記複数のセラミック層を構成しているセラミックと同じセラミックで充填されていてもよい。
本開示の準ミリ波・ミリ波無線通信モジュールは、上記平面アレイアンテナと、前記平面アレイアンテナと電気的に接続された能動部品とを備える。
本開示によれば、アレイアンテナの各放射導体から放射される電磁波の干渉が抑制され、優れた放射特性を備えた平面アレイアンテナおよび準ミリ波・ミリ波無線通信モジュールを得ることができる。
第1の実施形態の平面アレイアンテナの概略を示す平面図である。 (a)は、図1の2A−2A線における平面アレイアンテナの断面図であり、(b)から(d)は、図1の2A−2A線における平面アレイアンテナの要素の概略を示す平面図である。 図1に示す平面アレイアンテナの第1地導体層の概略を示す平面図である。 平面アレイアンテナの第1地導体層に設ける開孔の他の例を示す平面図である。 平面アレイアンテナの第1地導体層に設ける開孔の他の例を示す平面図である。 平面アレイアンテナの第1地導体層に設ける開孔の他の例を示す平面図である。 平面アレイアンテナの第1地導体層に設ける開孔の他の例を示す平面図である。 平面アレイアンテナの第1地導体層に設ける開孔の他の例を示す平面図である。 第1の実施形態の他の例による平面アレイアンテナの概略を示す断面図である。 第1の実施形態の平面アレイアンテナと配線回路とを形成した多層セラミック基板の例を示す断面図である。 (a)は、無線通信モジュールの実施形態を示す模式的下面図であり、(b)は、基板に実装された無線通信モジュールを示す模式的断面図である。 計算によって求めた実施例1の平面アレイアンテナの放射特性を示す図である。 計算によって求めた実施例2の平面アレイアンテナの放射特性を示す図である。 計算によって求めた実施例3の平面アレイアンテナの放射特性を示す図である。 計算によって求めた実施例4の平面アレイアンテナの放射特性を示す図である。 計算によって求めた実施例5の平面アレイアンテナの放射特性を示す図である。 平面アレイアンテナの他の形態を示す図であって、(a)は、図1の2A−2A線に対応する位置における平面アレイアンテナの断面図であり、(b)から(e)は、図1の2A−2A線に対応する位置における平面アレイアンテナの要素の概略を示す平面図である。 平面アレイアンテナの他の形態を示す図であって、(a)は、図1の2A−2A線に対応する位置における平面アレイアンテナの断面図であり、(b)から(d)は、図1の2A−2A線に対応する位置における平面アレイアンテナの要素の概略を示す平面図である。
本願発明者は、ストリップ導体からスロットを介して平面アンテナに給電する平面アンテナを複数備える平面アンテナアレイの放射特性を向上させることを鋭意検討した。その結果、平面アンテナに複数のスロットを設け、平面アンテナの放射導体に給電させる場合に、電磁波の干渉が生じ、放射特性が劣化することを見出し、電磁波の干渉を抑制し得る新規な構造の平面アレイアンテナを想到した。
本開示の平面アレイアンテナは、例えば、準ミリ波・ミリ波帯域の無線通信に利用可能である。ミリ波帯域の無線通信は、波長が1mm〜10mmであり、30GHzから300GHzの周波数の電波を搬送波として用いる。準ミリ波帯域の無線通信は、波長が10mm〜30mmであり、10GHzから30GHzの周波数の電波を搬送波として用いる。準ミリ波・ミリ波帯域の無線通信では、平面アンテナのサイズは数センチあるいはミリメートルのオーダーになる。このため、例えば、準ミリ波・ミリ波無線通信回路を、多層セラミック焼結基板(例えば多層セラミック基板102)によって構成する場合、多層セラミック焼結基板に本開示の平面アレイアンテナを実装することが可能となる。
(第1の実施形態)
図1は本開示の平面アレイアンテナ101の実施形態を示す平面図である。多層セラミック体40の上面40uに複数の放射導体30がアレイ状に配置されている。本実施形態では、放射導体30は、図1に示すように、x方向(第1方向)およびx方向に直交するy方向(第2方向)に2次元に配列されており、アレイを構成している。図2(a)に図1の2A−2A線における平面アレイアンテナ101の断面図を示す。
平面アレイアンテナ101は、放射部51と、給電部52とを含む。給電部52と放射部51とは電磁結合しており、給電部52から供給される信号電力を放射部51が受け取り、電磁波が放射導体30から放出される。放射部51は複数の放射導体30と、第1地導体層20とを有する。また、給電部52は、複数のストリップ導体10と、第2地導体層60とを有する。複数のストリップ導体10のそれぞれは、第1地導体層20と第2地導体層60との間に位置し、放射導体30の1つに対応して配置されている。つまり、これら構成要素の積層方向であるz方向からみて、各ストリップ導体10の少なくとも一部が、対応する放射導体30と重なっている。図2(b)、図2(c)および図2(d)は、2A−2A断面に示される放射導体30、第1地導体層20およびストリップ導体10の平面図である。
放射導体30、第1地導体層20、ストリップ導体10および第2地導体層60の間には、誘電体層が位置している。誘電体層は、樹脂層、ガラス層、セラミック層、空洞等であってよい。本実施形態では、誘電体層はセラミック層であり、平面アレイアンテナ101は複数のセラミック層を含む多層セラミック体40に放射導体30、第1地導体層20、ストリップ導体10および第2地導体層60が設けられた多層セラミック基板として構成されている。多層セラミック基板によって平面アレイアンテナ101を構成する例は後述する。
放射導体30は、電波を放射する放射素子であり、導電性層によって形成される。例えば本実施形態では、放射導体30は、矩形(方形)形状を有している。しかし、放射導体は、円形状あるいは他の形状を有していてもよい。上述したように、複数の放射導体30は、アレイアンテナを構成しており、これにより、放射または受信する電波の指向性が高められる。また、放射導体30のピッチpは波長λ0の1/2である。ここで、λdは、後述するように誘電体である多層セラミック体40中における搬送波の波長であり、λ0は、搬送波の真空中における波長である。
第1地導体層20も導電性層によって形成される。第1地導体層20は、放射導体30のアレイの領域30rを含む大きさを有し、かつ、z方向から見て、領域30rを含むように、放射導体30に対して配置されていることが好ましい(図1、図2参照)。
第1地導体層20は、複数のスロット21を含む。各スロット21は、放射導体30の1つと対応するストリップ導体10との間に位置し、ストリップ導体10の延びる方向であるx方向と交差するy方向に延びる。スロット21を有する第1地導体層20は、後述するストリップ導体10と第2地導体層60とで構成されるマイクロストリップラインに印加される信号電力が、スロット21を介して放射部51へ電磁結合する際、放射導体として機能する。放射導体30とスロット21を有する第1地導体層20とによって複共振が生じ、放射する電磁波が広帯域化される。
また、第1地導体層20は、複数のスロット21のうち、隣接する2つのスロット21の間に位置する少なくとも1つの開口を有する。開口は溝または孔である。本実施形態では、第1地導体層20は、複数の孔22を有する。スロット21および孔22は、第1地導体層20に設けられた貫通開口であり、これらの領域において導電性層が欠落している。後述するように、スロット21および孔22内に誘電体が埋め込まれていてもよいし、空洞であってもよい。スロット21の内周の長さL(内周の4辺を合計した長さに相当)はλdである。孔22の直径whは、λd/4以下である。複数の孔22の配置について以下において詳述する。
複数のストリップ導体10は、導電性層によって形成される。複数のストリップ導体10は、z方向から見て、第1地導体層20の複数のスロット21と交差するように配置されている。本実施形態では、ストリップ導体10の幅wmは例えば140μmである。
第2地導体層60も導電性層によって形成される。第2地導体層60は、放射導体30のアレイの領域30rを含む大きさを有し、かつ、z方向(多層セラミック体40の積層方向)から見て、領域30rを含むように、放射導体30に対して配置されていることが好ましい(図1、図2参照)。
図3は、第1地導体層20全体の平面図である。図3において、放射導体30の位置およびストリップ導体10の位置を破線で示している。複数の孔22は、本実施形態では、隣接する2つのスロット21の間にx方向およびy方向に沿って配置されている。例えば、隣接する2つのスロット21のx方向における中間点およびy方向の中間点の位置をそれぞれ通り、y方向およびx方向に平行な直線上に配列された孔22の列22pおよび孔22の列22qが配置されている。孔22の数、直径、位置および間隔は、電磁波の干渉抑制に影響する。これらの最適値は、平面アレイアンテナ101に求められる特性に依存する。列22pおよび列22qによって、各スロット21を含む第1地導体層20の領域20rが区切られている。領域20rにおいて、z方向に位置する放射導体30、第1地導体層20、ストリップ導体10および第2地導体層60が1つの平面アンテナを構成している。
平面アレイアンテナ101によれば、給電部52の各ストリップ導体10と第2地導体層60とで構成されるマイクロストリップラインに印加される信号電力が、スロット21を介して放射部51へ電磁結合し、第1地導体層20に設けられた孔22によって、平面アンテナ間の相互の電磁気的干渉が抑制される。このため、放射導体30から放射される電波の干渉が最適化され、放射特性の低下も抑制される。以下において説明するように、特に放射特性におけるメインローブとサイドローブとのゲイン差を大きくすることができ、指向性に優れた放射特性を実現することができる。
平面アンテナ、マイクロストリップライン等、高周波信号を伝送したり、高周波の電磁波を放射する素子構造では、地導体は一般に電磁波のシールド構造として機能する。この観点から、地導体層に孔22を設けることは一般的ではない。例えば、特開2003−78337号公報に開示された積層アンテナは、スロットと、複数の穿孔部とが設けられた金属皮膜を備えている。この金属皮膜の穿孔はフォトニックバンドギャップを構成しており、スロット以外の領域で金属皮膜が電磁波を伝播させないようにするための構造であって、複数の平面アンテナ間における電磁波の干渉を最適化する構造ではない。
なお、上記実施形態の平面アレイアンテナ101は、1つの放射導体30に対して、図2(c)および(d)に示すようにy方向に延びるスロット21およびx方向に延びるストリップ導体10を備えていた。平面アレイアンテナは他の形態のスロットおよびストリップ導体を備えていてもよい。図17(a)から(e)に示す平面アレイアンテナ101’は、第1地導体層20に設けられ、x方向およびy方向に延びるスロットが交差した十字形状の開口21bを備える。また、平面アレイアンテナ101’ の十字形状の開口21bに対応して、x方向に延びるストリップ導体10とy方向に延びるストリップ導体10bとを備える。ストリップ導体10とストリップ導体10bとはz方向から見て交差するように誘電体層を介して配置されている。
図18(a)から(d)に示す平面アレイアンテナ101’’は、平面アレイアンテナ101’と同様、十字形状の開口21bを有するが、ストリップ導体の形態が平面アレイアンテナ101’と異なっている。平面アレイアンテナ101’’はx方向に延びるストリップ導体10dとy方向に延びるストリップ導体10cとを備える。これらのストリップ導体は十字形状の開口21bに対応しているが、x方向およびy方向の長さは十字形状を構成する交差する2つのストリップの1/2の長さよりも短い。例えば、ストリップ導体10cとストリップ導体10dとは誘電体層中において、第1地導体層20から同じ距離を隔てた位置に配置することができる。
なお、上記実施形態において、第1地導体層20は、x方向に配列された孔22の列22qおよびy方向に配列された孔22の列22pの両方を備えていた。しかし、例えば、図4および図5に示すように、第1地導体層20にy方向に配列された複数の孔22の列22pのみを設けてもよいし、x方向に配列された複数の孔22の列22qのみを設けてもよい。また、孔22の形状は円に限られず、三角形、四角形等の多角形であってもよく、孤立した任意の形状の貫通開口を有する孔22であればよい。
また、第1地導体層に形成する孔の列は1つであってもよいし、2以上であってもよい。x方向およびy方向に沿った1列同士を交差させて十字状に配置してもよく、2列同士を交差させて二重の十字状に配置してもよい。孔の列における孔のピッチは等しくてもよいし、第1地導体層を介した干渉を抑制できていれば、孔の間隔を変化させたり、孔の間隔をランダムに設定してもよい。また、平面アレイアンテナにおいて、各アンテナを囲うように、孔や溝を第1地導体層に形成してもよい。
また、孔22の代わりに溝を設けてもよい。図6および図7に示すように、第1地導体層20のy方向に隣接する2つのスロット21の間に、x方向に延びる溝23qを設けてもよいし、第1地導体層20のx方向に隣接する2つのスロット21の間に、y方向に延びる溝23pを設けてもよい。さらに図8に示すように、第1地導体層20のx方向およびy方向に隣接する2つのスロット21の間に、y方向に延びる溝23pおよびx方向に延びる溝23qを設けてもよい。
溝23pは、第1地導体層20の厚さの1/2以上の深さを有することが好ましく、底を有しないことがより好ましい。つまり、溝23pは第1地導体層20を貫通し、溝23pが伸びる方向と交差する方向に第1地導体層20を分断していることが好ましい。溝23pは、第1地導体層20の外形を規定する対向する2辺に達していてもよいし、対向する2辺の近傍で第1地導体層20が接続されているストリップ状の貫通開口であってもよい。
図4から図8に示す形態の第1地導体層20を備える平面アレイアンテナであっても、同様に、各ストリップ導体10と第2地導体層60とで構成されるマイクロストリップラインに印加される信号電力が、スロット21を介して放射部51へ電磁結合する際、平面アンテナ相互の電磁気的干渉が抑制される。このため、放射導体30から放射される電波の干渉が最適化され、放射特性の低下も抑制される。
(多層セラミック基板による平面アレイアンテナの形態)
以下、平面アレイアンテナを多層セラミック基板によって構成する形態を説明する。多層セラミック基板によって平面アレイアンテナ101を構成する場合、図1および図2に示すように、多層セラミック体40の内部または表面に放射導体30、第1地導体層20、ストリップ導体10および第2地導体層60を設ける。例えば、多層セラミック体40は、セラミック層40a〜40dを含み、セラミック層40aとセラミック層40bとの間に第2地導体層60とが位置している。また、複数のストリップ導体10は、セラミック層40bとセラミック層40cとの間に位置し、第1地導体層20は、セラミック層40cとセラミック層40dとの間に位置している。第1地導体層20のスロット21および孔22は、空洞であってもよし、セラミック層40cおよびセラミック層40dの一部が充填されていてもよい。スロット21および孔22にセラミック層40cおよびセラミック層40dの一部が充填されていれば、セラミック層40cとセラミック層40dとの密着性が向上し、多層セラミック体40の強度を高めることができる。複数の放射導体30は、セラミック層40d上、つまり、多層セラミック体40の上面40uに位置している。
多層セラミック体40においてセラミック層40a〜40dの境界は明確には存在しない場合がある。この場合、例えば、第1地導体層20等のセラミック以外の構成要素が2つのセラミック層の間に存在する場合には、第1地導体層20の位置が2つのセラミック層の境界と対応づけることができる。セラミック層40a〜40dはそれぞれ、セラミックの焼結前のセラミックグリーンシートに対応していてもよいし、2層以上のセラミックグリーンシートに対応していてもよい。また、セラミック層40aの下方に、更に他のセラミック層を有していてもよいし、導電性ビアおよび配線パターン等を有していてもよい。各セラミック層40a〜40dの厚さは、例えば1μm以上15mm以下であり、好ましくは、25μm以上1mm以下である。これにより、ミリ波帯および準ミリ波帯の平面アレイアンテナを構成することができる。
放射導体30は、放射効率の観点では、多層セラミック体40の上面40uに位置し、外部に露出していることが好ましい。しかし、放射導体30を外部環境による酸化、あるいは、外力による損傷や変形から保護するため、図9(の平面アレイアンテナ101’)に示すように、セラミック層40eで覆われていてもよい。酸化を防止するためには、放射導体30にメッキを施すことも考えられる。しかし、この場合、メッキによって放射導体30の導電率が低下し、放射特性が低下し得る。これに対し、セラミック層40eで覆う場合には、放射導体30の導電率は低下しないため、メッキを設ける場合と同等以上の放射特性を維持しつつ、外力からの保護等、メッキよりも高い保護効果を得ることができる。
この場合、放射導体30を覆うセラミック層40eの厚さは、70μm以下であることが好ましい。これにより、平面アレイアンテナに一般的に使用される、Au/Niメッキした放射導体30の場合と同等以上の放射効率を実現することができる。セラミック層40eの厚さは小さいほど損失が少ないため、アンテナ特性の観点では、特に下限に制限はない。しかし、セラミック層40eの厚さが小さくなりすぎると、厚さを均一にすることが困難になる場合がある。セラミック層40eの厚さを均一に形成するためには、セラミック層40eの厚さは、例えば、5μmであることが好ましい。つまり、セラミック層40eの厚さは5μm以上70μm以下であることがより好ましい。
多層セラミック基板は、平面アレイアンテナ101の他に、他の構成要素をそなえていてもよい。例えば、図10に示すように、多層セラミック基板102は、第2地導体層60よりも下方に複数のセラミック層をさらに備え、受動部品パターン71および配線パターン72と、複数のセラミック層に設けられた導電性ビア73をさらに備えていてもよい。受動部品パターン71は、例えば、導電性層あるは、所定の抵抗値を有するセラミックであり、インダクタ、コンデンサ、抵抗、結合器、分配器、フィルタ、電源等を構成している。また、導電性ビア73および配線パターン72は、受動部品パターン、地導体等と接続され、所定の回路を構成している。多層セラミック基板102は、セラミック層と平面アレイアンテナ101の放射導体30等の導電体、受動部品パターン71、配線パターン72および導電性ビア73とが同時に焼成された同時焼成セラミック基板である。
また、多層セラミック体40の下面40vには、例えば、外部の基板と接続するための、電極74、受動部品を接続するための電極75および集積回路等の能動部品を接続するための電極76が位置していてもよい。ストリップ導体10は、図示しない位置に配置された導電性ビアによって、電極74、75、76のいずれかと電気的に接続されていてもよい。
第2地導体層60よりも下面側に位置する複数のセラミック層に設けられたこれらの構成要素により、受動部品を含む配線回路が構成される。配線回路の上述した、複数の電極に受動部品および集積回路等が接続されることによって、無線通信回路が構成される。
多層セラミック基板によって平面アレイアンテナ101を構成する場合、各セラミック層と放射導体30などの導電層とを同時に焼成することが可能である。つまり同時焼成セラミック基板によって平面アレイアンテナ101を構成することができる。同時焼成セラミック基板は、低温焼成セラミック(LTCC、Low Temperature Co−fired Ceramics)基板であってもよいし、高温焼成セラミック(HTCC、High Temperature Co−fired Ceramics)基板であってもよい。高周波特性の観点では、低温焼成セラミック基板を用いた方が好ましい場合がある。多層セラミック構造のセラミック層、放射導体、地導体、ストリップ導体、受動部品パターン、配線パターン、導電性ビアには、焼成温度、用途等および無線通信の周波数等に応じたセラミック材料および導電性材料が用いられる。放射導体、地導体(具体的には地導体層)、ストリップ導体、受動部品パターン、配線パターン、導電性ビアを形成するための導電性ペーストと、多層セラミック構造のセラミック層を形成するためのグリーンシートが同時に焼成(Co−fired)される。同時焼成セラミック基板が低温焼成セラミック基板である場合、800℃から1000℃程度の温度範囲で焼結することができるセラミック材料および導電性材料を用いる。例えばAl、Si、Srを主成分とし、Ti、Bi、Cu、Mn、Na、Kの少なくとも1種を副成分とするセラミック材料、Al、Si、Srを主成分とし、Ca、Pb、Na、Kの少なくとも1種を副成分とするセラミック材料、Al、Mg、Si、Gdを含むセラミック材料、Al、Si、Zr、Mgを含むセラミック材料が用いられる。また、AgまたはCuを含む導電性材料が用いられる。セラミック材料の誘電率は3〜15程度である。同時焼成セラミック基板が高温焼成多層セラミック基板である場合、Alを主成分とするセラミック材料および、W(タングステン)またはMo(モリブデン)を含む導電性材料を用いることができる。
より具体的には、LTCC材料として、例えば、低誘電率(比誘電率5〜10)のAl−Mg−Si−Gd−O系誘電体材料、Mg2SiO4からなる結晶相とSi−Ba−La−B−O系からなるガラス等からなる誘電体材料、Al−Si−Sr−O系誘電体材料、Al−Si−Ba−O系誘電体材料、高誘電率(比誘電率50以上)のBi−Ca−Nb−O系誘電体材料等様々な材料を用いることができる。
例えば、Al−Si−Sr−O系誘電体材料は、主成分としてAl、Si、Sr、Tiの酸化物を含む場合は、主成分であるAl、Si、Sr、TiをそれぞれAl23、SiO2、SrO、TiO2に換算したとき、Al23:10〜60質量%、SiO2:25〜60質量%、SrO:7.5〜50質量%、TiO2:20質量%以下(0を含む)を含有することが好ましい。また、その主成分100質量部に対して、副成分として、Bi、Na、K、Coの群のうちの少なくとも1種をBi23換算で0.1〜10質量部、Na2O換算で0.1〜5質量部、K2O換算で0.1〜5質量部、CoO換算で0.1〜5質量部含有することが好ましく、更に、Cu、Mn、Agの群のうちの少なくとも1種をCuO換算で0.01〜5質量部、Mn34換算で0.01〜5質量部、Agを0.01〜5質量部含有することが好ましい。その他不可避不純物を含有することもできる。
多層セラミック体40における複数のセラミック層は、それぞれ同じ組成を有し、同じ材料によって形成されていてもよい。あるいは、平面アンテナの放射効率を高めるために、多層セラミック体40の放射導体近傍のセラミック層は、それよりも下方のセラミック層と異なる組成を有し、異なる材料によって形成されていてもよい。異なる組成を有することにより、異なる誘電率を有することが可能となり、放射効率を向上させることが可能となる。
また、放射導体30をセラミック層以外の樹脂あるいはガラスなどからなる層で覆ってもよいし、多層セラミック体40と、樹脂あるいはガラスなどからなる回路基板とを組み合わせ、複合基板を構成してもよい。
同時焼成セラミック基板は、LTCC基板またはHTCC基板と同様の製造方法を用いて製造することができる。
例えば、まず、上述した元素を含むセラミック材料を用意し、必要に応じて、例えば700℃〜850℃で仮焼し、粉砕することにより造粒する。セラミック材料にガラス成分の粉末、有機バインダ、可塑剤、溶剤を添加し、これらの混合物のスラリーを得る。誘電率を異ならせるため等により、セラミック層を異なる材料によって形成する場合には、異なる材料を含む2種類のスラリーを用意する。また、上述した導電性材料の粉末を有機バインダおよび溶剤等と混合し、導電ペーストを得る。
ドクターブレード法、圧延(押し出し)法、印刷法、インクジェット式塗布法、転写法等を用いて、スラリーから所定の厚さの層をキャリアフィルム上に形成し、乾燥させる。スラリーの層を切断することによって、セラミックグリーンシートを得る。
次に、同時焼成セラミック基板内で構成する回路に従い、レーザ、メカ式パンチャ等を用いて複数のセラミックグリーンシートにビアホールを形成し、スクリーン印刷法を用いて各ビアホールに導電ペーストを充填する。また、スクリーン印刷等によって、導電ペーストをセラミックグリーンシートに印刷し、配線パターン、受動部品パターン、放射導体のパターン、第1および第2地導体層のパターンおよびストリップ導体のパターンをセラミックグリーンシートに形成する。
上述した導電ペーストが配置されたセラミックグリーンシートを、仮圧着を行いながら順次積層し、グリーンシート積層体を形成する。その後、グリーンシート積層体からバインダを除去し、脱バインダ後のグリーンシート積層体を焼成する。これにより、同時焼成セラミック基板が完成する。
このようにして作製される同時焼成セラミック基板は、ミリ波無線通信用の配線回路、受動部品および平面アレイアンテナを備える。このため、同時焼成セラミック基板にミリ波無線通信用のチップセット等を実装することによって、アンテナも備えた無線通信モジュールが実現する。
また、多層セラミック体の表面のセラミック層が放射導体の全体を完全に覆っている場合には、放射導体を外部環境および外力から保護することができ、放射効率が低下したり、アンテナの特性が変化したりするのを抑制することができる。
なお、本実施形態おいて説明した平面アレイアンテナの放射導体、地導体およびストリップ導体の形状、数、配置は模式的な一例に過ぎない。例えば、複数の放射導体のうち、一部を地導体から異なる距離に位置するセラミック層の界面に配置してもよい。また、放射導体にスロットを設けてもよい。また、平面アレイアンテナは、放射導体の他に、給電されない導体をさらに含んでおり、放射導体と、セラミック層を介して積層されていてもよい。
(第2の実施形態)
準ミリ波・ミリ波無線通信モジュールの実施形態を説明する。図11(a)は、本開示の無線通信モジュールの実施形態を示す模式的下面図であり、図11(b)は、基板に実装された無線通信モジュールを示す模式的断面図である。無線通信モジュール103は、第1の実施形態の多層セラミック基板102と、半田バンプ81と、受動部品82と能動部品83とを備える。半田バンプ81は、多層セラミック基板102の下面40vに位置する電極74に設けられている。受動部品82は、例えば、チップコンデンサ、チップインダクタ、チップ抵抗等であり、電極75に半田などによって接合されている。能動部品83は、例えば、無線通信用のチップセットであり、受信回路、送信回路、A/Dコンバータ、D/Aコンバータ、ベースバンドプロセッサ、メディアアクセスコントローラ等であり、電極76に半田などによって接合されている。
無線通信モジュール103は、例えば、電極92が設けられた回路基板91にフリップチップボンディングによって、フェイスダウンで、つまり、受動部品82および能動部品83が回路基板91と対向するように接合される。回路基板91の電極92と多層セラミック基板102の電極74とが半田バンプ81によって電気的に接続されることにより、多層セラミック基板102が外部の電源回路や他のモジュールと電気的に接続される。
回路基板91に実装された無線通信モジュール103において、多層セラミック基板102の上面40uは、回路基板91と反対側に位置している。このため、受動部品82および能動部品83、あるいは、回路基板91の影響を受けることなく、準ミリ波およびミリ波帯の電波を(図1のような)放射部51から放射し、また、外部から到達する準ミリ波およびミリ波帯の電波を放射部51で受信することができる。したがって、アンテナを備え、小型であり、かつ、表面実装が可能な無線通信モジュールが実現し得る。
(平面アレイアンテナの特性の計算例)
第1の実施形態の平面アレイアンテナの特性を計算によって求めた結果を説明する。
第1地導体層に設ける開口の種類および配列方向を表1に示すように異ならせた実施例1から実施例5の平面アレイアンテナの放射特性を計算によって求めた。計算に用いた条件は以下の通りである。
放射導体の材料:銀
スロットのサイズ:1.6mm(y方向)x0.5mm(x方向)
放射導体のサイズ:2mm(y方向)x0.5mm(x方向)
孔の直径、または、溝の幅:100μm
放射導体30のピッチp:2.5mm(60GHz帯のλ/2)
多層セラミック体40の誘電率:6
図12から図16に計算した平面アレイアンテナの放射特性を示す。表1に、第1地導体層に設けた開口の種類および配列方向と、放射特性を示す図との対応を示す。図12から図16において、横軸は、図1に示すように座標をとった場合におけるxz平面内において、−z軸方向を−180°および+180°とし、+z軸方向を0°とした場合の角度を示し、縦軸はゲインを示す。
Figure 0006741068
図12は、実施例1の平面アレイアンテナから放射される電磁波のxz平面におけるゲインの放射パターンを示す。図12に示すように、60°付近においてもっともゲインが大きくなる。この60°付近のピークをメインローブ(Main Lobe)という。このほか、−75°および120°付近にもピークを有する、これらをサイドローブ(Side Lobe)という。一般にアレイアンテナには、放射あるいは受信する電磁波の指向性が高いことが求められる。このため、サイドローブの角度でみられる電磁波の放射は不要波であり、指向性が高いという観点では、メインローブのピークとサイドローブのゲイン差は大きいほうが好ましい。図12に示す計算例では、メインローブとサイドローブにおけるゲイン差は、約8dBである。図13は、実施例2の平面アレイアンテナから放射される電磁波のxz平面におけるゲインの放射パターンを示す。図13およびこれ以降の図では、メインローブおよび次にゲインが大きいサイドローブが含まれる50°から150°の範囲でのゲインの放射パターンを示す。図13において、比較のために第1地導体層20に開口を設けない場合の放射特性を合わせて示す。
図13に示すように、メインローブのゲインは、開口を設けない場合(以下参考例と呼ぶ)と実施例2とで、ほとんど変化はない。しかし、サイドローブのゲインは、実施例2のほうが1dB程度小さい。つまり、実施例2は、参考例に比べて、メインローブとサイドローブにおけるゲイン差が大きくなっており、放射特性における指向性が高まっている。
図14から図16は、開口として溝を第1地導体層20に設けた場合の放射特性を示している。図14に示すように、この計算例では、溝をx方向に設ける場合、開口を設けることで放射特性は改善される。なお、開口は隣り合うスロット同士の干渉の抑制にも寄与する。これに対して、図15および図16に示すように、溝を少なくともy方向に設ける場合、y方向の溝がアンテナの共振方向(x方向)と交差して共振を遮るので、開口を設けることによってサイドローブのゲインとメインローブのゲインとの差を大きくすることができる。具体的には、実施例4では、メインローブのゲインの低下が約1dBであるのに対し、サイドローブのゲインの低下は、約4dBである。また、実施例5では、メインローブのゲインの低下が約1.5dBであるのに対し、サイドローブのゲインの低下は、約2dBである。したがって、特に実施例4、5では、参考例に比べて、放射特性における指向性が高まっている。
10 ストリップ導体
20 第1地導体層
20r 領域
21 スロット
22 孔
22p、22q 列
23p、23q 溝
30 放射導体
30r 領域
40 多層セラミック体
40a〜40e セラミック層
40u 上面
40v 下面
51 放射部
52 給電部
60 第2地導体層
71 受動部品パターン
72 配線パターン
73 導電性ビア
74〜76 電極
81 半田バンプ
82 受動部品
83 能動部品
91 回路基板
92 電極
93 封止樹脂
101、101’ 平面アレイアンテナ
102 多層セラミック基板
103 無線通信モジュール

Claims (12)

  1. 複数の放射導体と、第1地導体層とを有する放射部と、
    複数のストリップ導体と第2地導体層とを有する給電部と、
    を備え、
    前記複数のストリップ導体は、前記第1地導体層と前記第2地導体層との間において、前記複数の放射導体に対応して配置され、
    前記第1地導体層は、各放射導体と対応するストリップ導体との間に位置し、前記ストリップ導体の延びる方向と交差する方向に延びる複数のスロットと、少なくとも1つの溝または孔とを有し、
    前記少なくとも1つの溝または孔は、前記複数のスロットのうち、少なくとも一対の隣接するスロットの間に位置しており、
    平面視において、前記第1地導体層の、前記少なくとも1つの溝または孔によって区切られる領域内のそれぞれにおいて、前記少なくとも一対の隣接するスロットの1つに対応する放射導体、ストリップ導体および前記第2地導体層の一部が位置し、1つの平面アンテナを構成している、平面アレイアンテナ。
  2. 前記複数の放射導体および前記ストリップ導体は、それぞれ、第1方向および前記第1方向に直交する第2方向に沿って2次元に配置されている請求項1に記載の平面アレイアンテナ。
  3. 前記第1地導体層は、複数の孔を有し、前記複数の孔は、前記第1方向および前記第2方向に沿って配列されている、請求項2に記載の平面アレイアンテナ。
  4. 前記第1地導体層は、複数の孔を有し、前記複数の孔は、前記第1方向および前記第2方向のいずれか一方にのみに沿って配列されている、請求項2に記載の平面アレイアンテナ。
  5. 前記第1地導体層は、複数の溝を有し、前記複数の溝は、前記第1方向および前記第2方向に沿って配列されている、請求項2に記載の平面アレイアンテナ。
  6. 前記第1地導体層は、複数の溝を有し、前記複数の溝は、前記第1方向および前記第2方向のいずれか一方にのみに沿って配列されている、請求項2に記載の平面アレイアンテナ。
  7. 前記複数の放射導体と前記第1地導体層との間、前記第1地導体層と前記ストリップ導体との間および前記ストリップ導体と前記第2地導体層との間にそれぞれ位置する誘電体層をさらに備える請求項1から6のいずれかに記載の平面アレイアンテナ。
  8. 複数のセラミック層をさらに備え、
    前記複数の放射導体、前記第1地導体層、前記複数のストリップ導体および前記第2地導体層は前記複数のセラミック層の間に位置する請求項1から6のいずれかに記載の平面アレイアンテナ。
  9. 前記複数の放射導体を覆う誘電体層をさらに備えた請求項1から8のいずれかに記載の平面アレイアンテナ。
  10. 前記第1地導体層の前記少なくとも1つの溝または孔は空洞である、請求項1から9のいずれかに記載の平面アレイアンテナ。
  11. 前記第1地導体層の前記少なくとも1つの溝または孔は、前記複数のセラミック層を構成しているセラミックと同じセラミックで充填されている、請求項1から9のいずれかに記載の平面アレイアンテナ。
  12. 請求項1から11いずれかに記載の平面アレイアンテナと、
    前記平面アレイアンテナと電気的に接続された能動部品と、
    を備えた準ミリ波・ミリ波無線通信モジュール。
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