JP6723838B2 - 液晶表示装置、および、液晶表示装置の調整方法 - Google Patents

液晶表示装置、および、液晶表示装置の調整方法 Download PDF

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Description

本願明細書に開示される技術は、液晶表示装置、および、液晶表示装置の調整方法に関するものである。
液晶表示装置において、駆動回路チップ数を減らすことによって製造コストを抑制する手法として、2倍走査線方式と呼ばれる技術がある。
たとえば、特許文献1(特開2006−178461号公報)、または、特許文献2(特開2006−079104号公報)に開示されるように、2倍走査線方式の液晶表示装置は、x軸方向に延びる走査信号線と、y軸方向に延びる複数の映像信号線と、それぞれの映像信号線に接続される複数の薄膜トランジスタ(thin film transistor、すなわち、TFT)と、それぞれのTFTに接続される画素電極とを備える。
また、x軸方向における映像信号線同士に挟まれて、2つのTFTと、それぞれのTFTに接続される画素電極とが配置される。ここで、x軸方向における映像信号線同士に挟まれる2つのTFT、および、それぞれのTFTに接続される画素電極を、一対の画素と称する。
x軸方向に隣接する画素電極同士では、それぞれの画素電極に接続されるTFTが共通の映像信号線に接続される。
TFTのゲート電極は、走査信号線に接続される。ただし、y軸方向に隣接する一対の画素の間に、2本の走査信号線が挟まれて配線されることによって、一対の画素における2つのTFTは、y軸方向において隣接する他の一対の画素における2つのTFTとは、走査信号線を共有しない。
すなわち、y軸方向において隣接する一対の画素同士では、共通の走査信号線にTFTのゲート電極が接続されることはない。
このような構成であることによって、2倍走査線方式の液晶表示装置では、1画素あたりの映像信号線の本数を半減させることができる。
したがって、映像信号線を駆動するための映像信号ICなどの部品点数を削減することができるため、液晶表示装置の低コスト化を実現することができる。
特開2006−178461号公報 特開2006−079104号公報
2倍走査線方式の液晶表示装置では、x軸方向に隣接する画素電極同士で、それぞれの画素電極に接続されるTFTが共通の映像信号線に接続される。一方で、一対の画素を形成する画素電極同士の間には、映像信号線が配置されない。
一対の画素を形成する画素電極同士の間には、一般的に遮光層で構成される映像信号線が配置されない。そのため、映像信号線の近傍で発生しうる電界漏れ、または、配向不良などによる液晶層からの光漏れを考慮する必要がない。
このことから、x軸方向に隣接する画素電極同士の間に映像信号線が配置された場合の、当該画素間領域に形成される遮光層の幅に比べ、x軸方向に隣接する画素電極同士の間に映像信号線が配置されない場合の、当該画素間領域に形成される遮光層の幅が狭くなる傾向にある。
遮光層の幅に偏りがある場合の遮光層の配置パターンと遮光層の幅に偏りがない場合の遮光層の配置パターンとで、それぞれの画素における開口重心、すなわち、それぞれの画素における、遮光層が形成されていない領域の重心を比較する。
すると、遮光層の幅に偏りがある場合の遮光層の配置パターンでは、遮光層の幅に偏りがない場合の遮光層の配置パターンよりも、幅が狭い遮光層が形成される側にそれぞれの画素における開口重心がずれることが分かる。
以上のように、x軸方向における幅が異なる遮光層が配置される配置パターンでは、それぞれの画素における開口重心が、x軸方向における幅が狭い遮光層が配置される側にずれる。その結果、輝度分布に偏りが生じることによって、y軸方向に延びる明暗の筋が視認されることになる。
これに対し、明暗の筋を視認されないようにするため、意図的に、x軸方向に隣接する画素電極同士の間に映像信号線が配置されない場合に対応する遮光層のx軸方向における幅を広げることによって、x軸方向に隣接する画素電極の間に映像信号線が配置される場合に対応する遮光層の幅と、x軸方向に隣接する画素電極同士の間に映像信号線が配置されない場合に対応する遮光層の幅とを同程度とする手法が考えられる。
この場合、同じ幅である遮光層が均一に配置されることによって、それぞれの画素における開口重心が等間隔で配置される。したがって、明暗の筋が視認されにくくなる。
しかしながら、この手法では、幅が狭かった遮光層のx軸方向における幅を過度に広げることとなるため開口率が低くなる。そのため、輝度が低下する。
一方で、輝度の低下を避けるには、バックライトの輝度を上げることが考えられる。しかしながら、そのためには、発光ダイオード(Light Emitting Diode、すなわち、LED)の数を増やす、または、LEDの消費電力を上げるなどが必要となる。これらの措置は、製造コストの上昇、または、消費電力の増加につながる。
また、特許文献2に開示される手法では、隣接する画素電極同士の間に映像信号線が配置されない場合の、当該画素間領域の一部に、画素駆動用のTFTと、TFTが形成された領域を遮光する遮光層とを配置する。
そして、隣接する画素電極同士の画素間領域において、輝度を均一にする。そうすることによって、開口率の低下を防ぎつつ、明暗の筋を視認されにくくする。
しかしながら、この手法では、映像信号線に接続される必要があるTFTと、TFTが形成された領域を遮光する遮光層とを、映像信号線から離れた位置、すなわち、隣接する画素電極同士の間に映像信号線が配置されない場合の、当該画素間領域の近傍に配置することとなる。
そのため、TFTと映像信号線との間の接続配線が形成する遮光部分が増加してしまう。その結果、やはり、開口率が低下する。
本願明細書に開示される技術は、以上に記載されたような問題を解決するためになされたものであり、開口率の低下と、明暗の筋が視認されることとをともに抑制することができる技術に関するものである。
本願明細書に開示される技術の第1の態様は、液晶表示パネルにおいて配列される、複数の画素と、平面視において、複数の前記画素の間に設けられる遮光層と、平面視において、それぞれの前記画素に重なって設けられる複数色の色材層とを備え、前記遮光層には、第1の領域と、前記第1の領域よりも、平面視における幅が狭い第2の領域とが含まれ、前記第2の領域の前記遮光層の両隣に配置される前記色材層は互いに異なる色であり、平面視において前記遮光層と重ならない領域における前記色材層のそれぞれは、前記第1の領域の周辺における透過率よりも、前記第2の領域の周辺における透過率の方が低い。
また、本願明細書に開示される技術の第2の態様は、液晶表示パネルにおいて配列される、複数の画素と、平面視において、複数の前記画素の間に設けられる遮光層と、平面視において、それぞれの前記画素に重なって設けられる色材層とを備え、前記遮光層には、第1の領域と、前記第1の領域よりも、平面視における幅が狭い第2の領域とが含まれ、前記色材層は、前記第1の領域の周辺における透過率よりも、前記第2の領域の周辺における透過率の方が低く、前記色材層は、前記第1の領域の周辺において開口部を有する
また、本願明細書に開示される技術の第3の態様は、液晶表示パネルにおいて配列される、複数の画素と、平面視において、複数の前記画素の間に設けられる遮光層と、平面視において、それぞれの前記画素に重なって設けられる複数色の色材層とを備える液晶表示装置の調整方法であり、前記遮光層には、第1の領域と、前記第1の領域よりも、平面視における幅が狭い第2の領域とが含まれ、前記第2の領域の前記遮光層の両隣に配置される前記色材層は互いに異なる色であり、平面視において前記遮光層と重ならない領域における前記色材層のそれぞれは、前記第1の領域の周辺における透過率よりも、前記第2の領域の周辺における透過率の方が低く、複数の前記画素全体での色純度および白輝度の調整は、平面視において前記遮光層と重ならない領域におけるそれぞれの前記色材層内における透過率の平均値に基づいて行われる。
本願明細書に開示される技術の第1の態様によれば、開口率の低下と、明暗の筋が視認されることとをともに抑制することができる。
また、本願明細書に開示される技術の第2の態様によれば、開口率の低下と、明暗の筋が視認されることとをともに抑制することができる。
また、本願明細書に開示される技術の第3の態様によれば、1画素内で局所的に、所望の色純度または所望の白輝度が得られる透過率よりも高い透過率である領域と低い透過率である領域とが形成される場合であっても、それぞれの色材層内における透過率の平均値に基づいて色材層の透過率を設定することによって、色純度特性にも白輝度特性にも悪影響を及ぼすことを抑制することができる。
本願明細書に開示される技術に関する目的と、特徴と、局面と、利点とは、以下に示される詳細な説明と添付図面とによって、さらに明白となる。
実施の形態に関する、液晶表示装置を実現するための構成を概略的に例示する平面図である。 図1におけるA−A断面を例示する断面図である。 図1におけるA−A断面の他の態様を例示する断面図である。 実施の形態に関する、液晶表示装置を実現するための構成を概略的に例示する平面図である。 図4におけるB−B断面を例示する断面図である。 セルギャップと液晶層の透過率との関係性を例示する図である。 セルギャップに傾斜を設ける場合の、本実施の形態に関する液晶表示装置の構成を概略的に例示する断面図である。 セルギャップに傾斜を設ける場合の、液晶表示装置の他の態様を概略的に例示する断面図である。 セルギャップに傾斜を設ける場合の、液晶表示装置の他の態様を概略的に例示する断面図である。 2倍走査線方式の液晶表示装置の構造を概略的に例示する平面図である。 液晶表示パネルにおける、遮光層の幅に偏りがある場合の遮光層の配置パターンを例示する平面図である。 液晶表示パネルにおける、遮光層の幅に偏りがない場合の遮光層の配置パターンを例示する平面図である。
以下、添付される図面を参照しながら実施の形態について説明する。
なお、図面は概略的に示されるものであり、説明の便宜のため、適宜、構成の省略、または、構成の簡略化がなされるものである。また、異なる図面にそれぞれ示される画像などの大きさおよび位置の相互関係は、必ずしも正確に記載されるものではなく、適宜変更され得るものである。
また、以下に示される説明では、同様の構成要素には同じ符号を付して図示し、それらの名称と機能とについても同様のものとする。したがって、それらについての詳細な説明を、重複を避けるために省略する場合がある。
また、以下に記載される説明において、「上」、「下」、「側」、「底」、「表」または「裏」などの特定の位置と方向とを意味する用語が用いられる場合があっても、これらの用語は、実施の形態の内容を理解することを容易にするために便宜上用いられるものであり、実際に実施される際の方向とは関係しないものである。
<第1の実施の形態>
以下、本実施の形態に関する液晶表示装置、および、液晶表示装置の調整方法について説明する。説明の便宜上、まず、2倍走査線方式の液晶表示装置について説明する。
図10は、2倍走査線方式の液晶表示装置の構造を概略的に例示する平面図である。
図10に例示されるように、2倍走査線方式の液晶表示装置は、x軸方向に延びる走査信号線12と、x軸方向に延びる走査信号線13と、y軸方向に延びる複数の映像信号線14と、それぞれの映像信号線14に接続される複数のTFT15と、それぞれのTFT15に接続される画素電極16とを備える。
走査信号線12と走査信号線13とは、y軸方向に交互に配置される。そして、TFT15および当該TFT15に接続される画素電極16は、y軸方向における走査信号線12と走査信号線13との間に配置される。
また、x軸方向における映像信号線14同士に挟まれて、2つのTFT15と、それぞれのTFT15に接続される画素電極16とが配置される。ここで、x軸方向における映像信号線14同士に挟まれる2つのTFT15、および、それぞれのTFT15に接続される画素電極16を、一対の画素と称する。
映像信号線14を挟んでx軸方向に隣接する画素電極16同士では、それぞれの画素電極16に接続されるTFT15が当該映像信号線14に共通して接続される。
TFT15のゲート電極は、走査信号線12、または、走査信号線13に接続される。ただし、一対の画素における2つのTFT15は、一方のTFT15のゲート電極が走査信号線12に接続され、かつ、他方のTFT15のゲート電極が走査信号線13に接続される。
また、y軸方向に隣接する一対の画素の間に、走査信号線12および走査信号線13の双方が挟まれて配線されることによって、一対の画素における2つのTFT15は、y軸方向において隣接する他の一対の画素における2つのTFT15とは、走査信号線12、および、走査信号線13を共有しない。
すなわち、y軸方向において隣接する一対の画素同士では、共通の走査信号線12、または、共通の走査信号線13にTFT15のゲート電極が接続されることはない。
このような構成であることによって、2倍走査線方式の液晶表示装置では、1画素あたりの映像信号線14の本数を半減させることができる。
したがって、映像信号線14を駆動するための映像信号ICなどの部品点数を削減することができるため、液晶表示装置の低コスト化を実現することができる。
2倍走査線方式の液晶表示装置では、x軸方向に隣接する画素電極16同士で、それぞれの画素電極16に接続されるTFT15が共通の映像信号線14に接続される。一方で、一対の画素を形成する画素電極16同士の間には、映像信号線14が配置されない。
一対の画素を形成する画素電極16同士の間には、一般的に遮光層で構成される映像信号線14が配置されない。そのため、映像信号線14の近傍で発生しうる電界漏れ、または、配向不良などによる液晶層からの光漏れを考慮する必要がない。
このことから、x軸方向に隣接する画素電極16同士の間に映像信号線14が配置された場合の、当該画素間領域に形成される遮光層の幅に比べ、x軸方向に隣接する画素電極16同士の間に映像信号線14が配置されない場合の、当該画素間領域に形成される遮光層の幅が狭くなる傾向にある。
図11は、液晶表示パネルにおける、遮光層の幅に偏りがある場合の遮光層の配置パターンを例示する平面図である。また、図12は、液晶表示パネルにおける、遮光層の幅に偏りがない場合の遮光層の配置パターンを例示する平面図である。
図11では、y軸方向に延びる遮光層1と、遮光層1よりもx軸方向における幅が狭く、かつ、y軸方向に延びる遮光層2とが形成される。x軸方向における幅が狭い遮光層2が、x軸方向に隣接する画素電極16同士の間に映像信号線14が配置されない場合の遮光層に対応する。
一方で、図12では、y軸方向に延びる遮光層1が形成される。すなわち、図12に例示される遮光層の配置パターンは、x軸方向に隣接するすべての画素電極16の間に映像信号線14が配置される場合に対応する。
図12に例示される遮光層の配置パターンでは、同じ幅である遮光層1が均一に配置されることによって、それぞれの画素における開口重心、すなわち、それぞれの画素における、遮光層1が形成されていない領域の重心が、等間隔で配置される。図12においては、隣接する開口重心同士の間の距離がL1で共通している。
図11に例示される場合と図12に例示される場合とで、それぞれの画素における開口重心、すなわち、それぞれの画素における、遮光層1および遮光層2が形成されていない領域の重心を比較する。
すると、図11に例示される場合では、図12に例示される場合よりも、遮光層2が形成される側にそれぞれの画素における開口重心がずれることが分かる。
図11においては、隣接する開口重心同士の間の距離は、L2、および、L2とは異なるL3が交互に設定される。L2はL3よりも狭いため、それぞれの画素における開口重心は、遮光層2が形成される側にずれることとなる。
以上のように、図11に例示されるような、x軸方向における幅が異なる遮光層が配置される配置パターンでは、それぞれの画素における開口重心が、x軸方向における幅が狭い遮光層が配置される側にずれる。その結果、輝度分布に偏りが生じることによって、y軸方向に延びる明暗の筋が視認されることになる。
これに対し、明暗の筋を視認されないようにするため、意図的に、x軸方向に隣接する画素電極16同士の間に映像信号線14が配置されない場合に対応する遮光層2のx軸方向における幅を広げることによって、x軸方向に隣接する画素電極16の間に映像信号線14が配置される場合に対応する遮光層1の幅と、x軸方向に隣接する画素電極16同士の間に映像信号線14が配置されない場合に対応する遮光層2の幅とを同程度とする手法が考えられる。
この場合、図12に例示される遮光層の配置パターンと同様に、同じ幅である遮光層が均一に配置されることによって、それぞれの画素における開口重心が等間隔で配置される。したがって、明暗の筋が視認されにくくなる。
しかしながら、この手法では、遮光層2のx軸方向における幅を過度に広げることとなるため開口率が低くなる。そのため、輝度が低下する。
一方で、輝度の低下を避けるには、バックライトの輝度を上げることが考えられる。しかしながら、そのためには、LEDの数を増やす、または、LEDの消費電力を上げるなどが必要となる。これらの措置は、製造コストの上昇、または、消費電力の増加につながる。
また、隣接する画素電極同士の間に映像信号線が配置されない場合の、当該画素間領域の一部に、画素駆動用のTFTと、TFTが形成された領域を遮光する遮光層とを配置し、そして、隣接する画素電極同士の画素間領域において、輝度を均一にする。そうすることによって、開口率の低下を防ぎつつ、明暗の筋を視認されにくくする手法がある。
しかしながら、この手法では、映像信号線に接続される必要があるTFTと、TFTが形成された領域を遮光する遮光層とを、映像信号線から離れた位置、すなわち、隣接する画素電極同士の間に映像信号線が配置されない場合の、当該画素間領域の近傍に配置することとなる。
そのため、TFTと映像信号線との間の接続配線が形成する遮光部分が増加してしまう。その結果、やはり、開口率が低下する。
<液晶表示装置の構成について>
以下、本実施の形態に関する液晶表示装置の一例として、薄膜トランジスタ、すなわち、TFTを有するアクティブマトリックス型液晶表示装置が説明されるが、TFT以外のスイッチング素子を有する液晶表示装置であっても適用可能である。
図1は、本実施の形態に関する液晶表示装置を実現するための構成を概略的に例示する平面図である。具体的には、図1は、液晶表示パネルにおける、複数の画素間における遮光層の配置パターンを例示する平面図である。
図1に例示されるように、液晶表示パネルにおいては、y軸方向に延びる遮光層1と、遮光層1よりもx軸方向における幅が狭く、かつ、y軸方向に延びる遮光層2とが形成される。
図2は、図1におけるA−A断面を例示する断面図である。
図2に例示されるように、液晶表示装置は、カラーフィルターが設けられる対向基板であるカラーフィルター基板4と、カラーフィルター基板4の下面に設けられる遮光層1と、カラーフィルター基板4の下面において、遮光層1とは離間して設けられる遮光層2と、カラーフィルター基板4の下面において、遮光層1と遮光層2との間の領域、すなわち、画素に重なって設けられる色材層3と、TFTがアレイ状に配列して設けられるTFTアレイ基板8と、カラーフィルター基板4とTFTアレイ基板8とに挟まれる液晶層9とを備える。
また、本実施の形態に関する液晶表示装置は2倍走査線方式を用いたものであるから、TFTアレイ基板8には、行列状に配列されている画素である、
Figure 0006723838
をx軸方向において2列ずつに区切るように、n/2本の映像信号線14がy軸方向に沿って配線される。それぞれの映像信号線14は、それぞれの両側に位置する2m個の画素におけるTFT15に接続される(図10を参照)。
また、
Figure 0006723838
のそれぞれの行については、それぞれの行を構成するn個の画素をy軸方向において両側から挟むように走査信号線12および走査信号線13がそれぞれ配線される(図10を参照)。
それぞれの行を形成するn個の画素は、n/2本の映像信号線14によってx軸方向において区切られる。
映像信号線14を挟んでx軸方向に隣接する画素同士では、それぞれの画素電極16に接続されるTFT15が当該映像信号線14に共通して接続される。そして、映像信号線14から、それぞれの画素におけるTFT15へ映像信号電圧が供給される。
また、一対の画素における2つのTFT15は、一方のTFT15のゲート電極が走査信号線12に接続され、かつ、他方のTFT15のゲート電極が走査信号線13に接続される。そして、走査信号線12または走査信号線13から、それぞれの画素におけるTFT15へ走査信号電圧が供給される。
したがって、図10に例示されるように、TFT15の位置は、列ごとに異なる位置となる。すなわち、x軸方向に隣接する画素同士では、走査信号線12および映像信号線14に接続されたTFT15と、走査信号線13および映像信号線14に接続されたTFT15とがそれぞれ備えられる。
上記のように、カラーフィルター基板4の下面には、電界漏れ、または、配向異常などによって発生する光抜けを遮るために遮光層1、および、遮光層2が設けられる。
遮光層1、および、遮光層2は、TFTアレイ基板8における走査信号線12、走査信号線13、映像信号線14、または、その他の配線が設けられる領域に、平面視において重なる位置に設けられる。
または、遮光層1、および、遮光層2は、TFTアレイ基板8におけるTFT15が設けられる領域に、平面視において重なる位置に設けられる。
遮光層1、および、遮光層2は、ブラックマスク、または、ブラックマトリックスであり、BMとも称する。
BMの材料には、たとえば、酸化クロムなどを用いた金属層、顔料であるカーボンブラック、または、顔料であるチタン(Ti)ブラックがレジスト、すなわち、感光性樹脂に拡散された樹脂層が用いられる。このような樹脂層が用いられたBMを、樹脂BMとも称する。
さらに、カラーフィルター基板4の下面には、遮光層1と遮光層2との間の領域に色材層3が設けられる。色材層3は、たとえば、RGBの3原色に対応する顔料、または、染料がレジストに拡散された透明樹脂層からなる。
さらに、遮光層1、遮光層2、および、色材層3を覆うように、酸化インジウムスズ(tin−doped indium oxide または indium tin oxide、すなわち、ITO)などの透明導電性膜からなる対向電極が、液晶表示パネルの表示領域における略全面に形成される。なお、ここでは、対向電極の図示を省略する。
対向電極は、TFTアレイ基板8における画素電極との間に電界を生じさせ、液晶層9における液晶を駆動する。なお、ここでは、画素電極の図示を省略する。
対向電極は、トランスファー材を介して、TFTアレイ基板8側に設けられたトランスファー電極と電気的に接続される。なお、ここでは、トランスファー材およびトランスファー電極の図示を省略する。
トランスファー電極、および、トランスファー材を介して外部から入力された信号が、対向電極に伝達される。なお、in−plane switching(IPS:登録商標)方式、または、fringe field switching(FFS)方式のような横電界方式の液晶表示装置に使用する場合には、対向電極がTFTアレイ基板8側に設けられることから、カラーフィルター基板4に対向電極を設ける必要はない。
また、カラーフィルター基板4の液晶層9に向かう面、および、TFTアレイ基板8の液晶層9に向かう面には、液晶を配向させるための配向膜が形成される。なお、ここでは、配向膜の図示を省略する。
本実施の形態の液晶表示装置では、遮光層1は、映像信号線14が配置された領域に、平面視において重なる位置に設けられる。
また、本実施の形態の液晶表示装置では、遮光層2は、x軸方向に隣接する画素同士の間の領域であって、かつ、映像信号線14が配置されない領域に、平面視において重なる位置に設けられる。また、遮光層2の幅は、遮光層1の幅よりも狭い。
遮光層2は、映像信号線14が配置されない領域に設けられる。そのため、遮光層2の幅は、混色を防止することができる範囲で、かつ、最小限の幅でよい。
遮光層1の幅および遮光層2の幅に基づく液晶表示パネルの輝度分布に対して、逆の輝度分布を生ずるように、画素内、特に遮光層1および遮光層2が形成されない領域内に、透過率の傾斜を形成する。
本実施の形態では、画素内に透過率の傾斜を形成するために、色材層3の透過率分布を調整する。具体的には、色材層3の厚みを調整することによって、遮光層2の周辺領域における透過率を、遮光層1の周辺領域における透過率よりも低くする。
すなわち、遮光層1の周辺における色材層3の厚さよりも、遮光層2の周辺における厚さの方が厚くなるように調整する。
たとえば、図2に例示されるように、色材層3の厚みを、遮光層1が設けられる箇所、すなわち、映像信号線14が配置される領域から、遮光層2が設けられる箇所、すなわち、映像信号線14が配置されない領域に向けて、徐々に厚くなるテーパー形状となるように調整する。
なお、ここで、遮光層1が設けられる箇所から遮光層2が設けられる箇所までに変更される色材層3の厚みとしては、これらの領域における色材層3の厚みの平均値を基準として、たとえば、相対的に厚くされる遮光層2の周辺における色材層3では、1割から5割程度色材層3の厚みを厚くする範囲内で、相対的に薄くされる遮光層1の周辺における色材層3では、1割から5割程度色材層3の厚みを薄くする範囲内で、以下において説明する作用に関係する遮光層1の幅と遮光層2の幅との差によって生ずる開口率への影響の程度に応じて適当な厚みに設定すればよい。
ここでは、遮光層2の周辺における色材層3では平均値に対して3割程度厚くした厚みに、遮光層1の周辺における色材層3では平均値に対して3割程度薄くした厚みに、それぞれ設定される。
<液晶表示装置の作用について>
次に、本実施の形態に関する液晶表示装置の構成によって得られる作用について説明を行う。
遮光層2の幅は、遮光層1の幅よりも狭い。そのため、遮光層2による開口率への影響、すなわち、液晶表示パネルにおいて遮光層2によって遮光される面積に割合は小さく、遮光層2の周辺領域は、相対的に明るく見える領域となるはずである。
しかしながら、遮光層2の周辺領域では、色材層3の透過率が低く設定される。そのため、遮光層2の周辺領域における開口率は下がる。
一方で、遮光層1の幅は、遮光層2の幅よりも広い。そのため、遮光層1による開口率への影響、すなわち、液晶表示パネルにおいて遮光層1によって遮光される面積に割合は大きく、遮光層1の周辺領域は、相対的に暗く見える領域となるはずである。
しかしながら、遮光層1の周辺領域では、色材層3の透過率が高く設定される。そのため、遮光層1の周辺領域における開口率は上がる。
以上のように、本実施の形態に関する液晶表示装置によれば、幅の異なる遮光層による開口率への影響を、遮光層が形成されない領域における色材層3の透過率を調整することによって相殺することができる。したがって、液晶表示パネルにおける、幅の異なる遮光層による輝度分布の偏りが緩和されるため、明暗の筋、すなわち、筋状ムラが視認されにくくなる。
なお、以上に説明されたとおり、本実施の形態に関する液晶表示装置は、遮光層1の周辺および遮光層2の周辺において、色材層3の透過率の大小を相対的に異ならせることによって、幅の異なる遮光層による開口率への影響を相殺する。そして、本実施の形態に関する液晶表示装置は、輝度分布の偏りを緩和できるように、遮光層1の周辺領域の透過率または遮光層2の周辺領域の透過率を色材層3によって調整する。
遮光層1の周辺および遮光層2の周辺において、透過率を相対比較する周辺領域の目安としては、たとえば、遮光層1との境界または遮光層2との境界から所定距離までの同じ幅の領域に対し、充分に輝度分布の偏りが緩和できるように、色材層3の透過率が設定されればよい。
具体的には、1つの画素領域全体で基本的には均一とされる透過率に対して、主に遮光層1の近傍または遮光層2の近傍のみで局所的に透過率が異なる領域を設けるのであれば、遮光層1の近傍領域または遮光層2の近傍領域で、それぞれの画素幅の1/3程度の範囲を上記の所定距離の目安とすればよい。
これら目安となる領域内での透過率について、幅の異なる遮光層による開口率への影響を相殺する方向で互いに透過率が異なる部分を有していることによって、充分に輝度分布の偏りを緩和することができる。それによって、以上に記載された実施の形態において説明された所望の効果が得られることができる。
また、これら目安となる領域内における透過率については、その平均値に基づいて相対比較すればよく、互いに透過率の平均値が異なっている場合であれば、同様に効果が得られることになる。
また、画素領域の幅方向において全体的に透過率を異ならせるのであれば、つまり、遮光層1の近傍から遮光層2の近傍に向かって低くなる方向で、徐々に、または段階的に透過率を変化させるのであれば、画素を遮光層1側と遮光層2側との2つの領域に幅方向にたとえば2分割して、分割されたそれぞれの領域に対応する画素幅の1/2の範囲を所定距離の目安とすれば良い。
特に、これら目安となる領域内での透過率について、少なくとも平均値において、幅の異なる遮光層による開口率への影響を相殺する方向で互いに透過率が異なっていれば、充分に輝度分布の偏りを緩和することができる。それによって、以上に記載された実施の形態において説明された所望の効果が得られることができる。
また、このような透過率の分布が形成されていれば、画素幅の1/3程度の範囲を所定距離の目安として、幅の異なる遮光層による開口率への影響を相殺する方向で互いに透過率が異なる部分を有していることにも相当し、明らかに実施の形態で説明された所望の効果が得られることになる。
図3は、図1におけるA−A断面の他の態様を例示する断面図である。
図3に例示されるように、液晶表示装置は、カラーフィルター基板4と、遮光層1と、遮光層2と、カラーフィルター基板4の下面において、遮光層1と遮光層2との間の領域に設けられる色材層3Aと、TFTアレイ基板8と、液晶層9とを備える。
色材層3Aは、たとえば、RGBの3原色に対応する顔料、または、染料がレジストに拡散された透明樹脂層からなる。
図3に例示される態様では、画素内に透過率の傾斜を形成するために、色材層3Aの透過率分布を調整する。より具体的には、色材層3Aの厚みを、遮光層1側から遮光層2側へ向かって階段状に厚くなるように調整することによって、遮光層2の周辺領域における透過率を、遮光層1の周辺領域における透過率よりも低くする。
なお、色材層3Aの厚みを階段状に調整することによって、1つの画素内で色純度および透過率に差が生じる。しかしながら、実際に視認される際には、1つの画素内で平均化された色純度および透過率として観察される。
そして、液晶表示装置全体としては、色材層3Aの厚みを階段状に調整することは、色純度または透過率に悪影響を及ぼさずに、色材層3のようにテーパー状に調整した場合と同様の効果が得られる。
色材層のパターン形成には、階調露光マスクを用いたパターニング方法である、公知のハーフトーン技術を用いることができる。当該技術を用いることによって、比較的容易に、部分的に異なる厚さを有する色材層を形成することができる。
なお、色材層の透過率が高くなると、色純度の低下、および、白輝度の向上につながる。一方で、色材層の透過率が低くなると、色純度の向上、および、白輝度の低下につながる。
このような関係性があることから、一般的な液晶表示装置においては、所望の色純度と所望の白輝度とが得られるように、色材層の透過率がバランス設計される。
したがって、上記の色材層の厚さの調整については、液晶表示装置全体での所望の色純度と所望の白輝度とが得られるようになされることが望ましい。
1画素あたりのRGBそれぞれに対応する色材層は、本実施の形態では、厚みが均一でない、傾斜した厚みを有する層である。液晶表示装置全体での所望の色純度と所望の白輝度とが得られるようにするためには、1画素あたりのRGBそれぞれの色材層の透過率の平均値が、液晶表示装置全体での所望の色純度と所望の白輝度とが得られる透過率に対応するようにすればよい。
具体的には、通常の液晶表示装置のようにRGBそれぞれの色材層が均一な厚みで設けられた場合に、液晶表示装置全体で所望の色純度と所望の白輝度とが得られるRGBそれぞれの色材層の透過率を求める。
そして、RGBそれぞれの色材層が当該透過率を達成するための厚みを、RGBそれぞれの色材層の設計膜厚とする。
映像信号線14が配置されない領域においては、色材層は設計膜厚よりも厚く形成される。逆に、映像信号線14が配置される領域においては、色材層は、設計膜厚よりも薄く形成される。
また、高い精度で厚みを調整するのであれば、所望の色純度と所望の白輝度とが得られるRGBそれぞれの色材層の設計膜厚に、1画素あたりのRGBそれぞれの色材層の厚みの平均値が一致するように設定すればよい。
以上のように色材層の厚みが設定されることで、1画素内で局所的に、所望の色純度または所望の白輝度が得られる透過率よりも高い透過率である領域と低い透過率である領域とが形成されるが、特に色純度特性にも白輝度特性にも悪影響を及ぼすことを抑制することができる。
<第2の実施の形態>
本実施の形態に関する液晶表示装置、および、液晶表示装置の調整方法について説明する。以下の説明においては、以上に記載された実施の形態で説明された構成と同様の構成については同じ符号を付して図示し、その詳細な説明については適宜省略するものとする。
<液晶表示装置の構成について>
本実施の形態では、色材層の透過率分布を調整する別の方法として、色材層に開口部を設けて、その開口部の配置または面積などを調整することによって、色材層の透過率分布を調整する方法について説明する。
なお、本実施の形態では、色材層の形成領域を調整する方法として開口部を設ける場合が例示されるが、色材層の形成領域の調整方法は当該方法に限られるものではなく、たとえば、透過率を低くしたい領域にのみ、部分的に色材層が形成される場合であってもよい。
図4は、本実施の形態に関する液晶表示装置を実現するための構成を概略的に例示する平面図である。具体的には、図4は、液晶表示パネルにおける、カラーフィルター基板を例示する平面図である。
図4に例示されるように、カラーフィルター基板4においては、y軸方向に延びる遮光層1と、遮光層1よりもx軸方向における幅が狭く、かつ、y軸方向に延びる遮光層2とが形成される。
また、図4に例示されるように、カラーフィルター基板4においては、遮光層1および遮光層2が形成されない領域に色材層3Bが設けられる。また、色材層3Bは、開口部6を有する。
色材層3Bの開口部6は、遮光層1が設けられる箇所の周辺、すなわち、映像信号線14が配置される領域の周辺に形成される。
図5は、図4におけるB−B断面を例示する断面図である。
図5に例示されるように、液晶表示装置は、カラーフィルター基板4と、遮光層1と、遮光層2と、カラーフィルター基板4の下面において、遮光層1と遮光層2との間の領域に設けられる色材層3Bと、TFTアレイ基板8と、液晶層9と、色材層3Bの下面に設けられる平坦化層(オーバーコート層)7とを備える。平坦化層7は、色材層3Bの開口部6にも充填されて設けられる。
本実施の形態に関する液晶表示装置は、図4および図5に例示されるように、色材層3Bの一部を開口部6とすることによって、第1の実施の形態と同様の効果が得ることができる。
具体的には、映像信号線14が配置される領域に対応する、遮光層1の周辺領域に、色材層3Bの開口部6を設ける。
その際、図5に例示されるように、色材層3Bの下面に、厚さが、たとえば、1μm以上である平坦化層7が形成されることが望ましい。
平坦化層7は、色材層3Bの下面に塗布形成される透明樹脂膜である。平坦化層7が設けられた場合には、図5に例示されるように、色材層3Bの開口部6にも平坦化層7が充填される。そして、平坦化層7の下面が平坦化される。
色材層3Bの開口部6を設けた場合、色材層3Bの開口部6が設けられた箇所と、色材層3Bの開口部6が設けられない箇所とで、基板間距離、すなわち、セルギャップが異なるため、色材層3Bの透過率に差が生じる。
このセルギャップの違いに起因する透過率の差を、平坦化層7によって抑制することができる。したがって、セルギャップの違いに起因する透過率の変化を考慮せずに、開口部6による色材層3Bの透過率の調整を行うことができ、透過率の調整が容易となる。
また、色材層3Bの開口部6の端部における段差形状によって、配向異常が生じることを抑制することができる。
また、色材層3Bの開口部6は、色材層3Bのパターニングプロセスにおいて同時に形成することができる。そのため、工程を増やさずに、比較的容易に形成することができる。
なお、本実施の形態に関する液晶表示装置は、色材層3Bに開口部6を設け、かつ、開口部6の配置、面積、または、その他の形状に関するパラメータを調整することによって、色材層3Bの透過率分布を調整するものであるが、第1の実施の形態における場合と同様に、液晶表示装置全体での所望の色純度と所望の白輝度とが得られるように調整がなされることが望ましい。
1画素あたりのRGBそれぞれに対応する色材層3Bは、本実施の形態では、部分的に開口部6が形成されることによって透過率に傾斜が生じるように形成される。液晶表示装置全体での所望の色純度と所望の白輝度とが得られるようにするためには、開口部6が形成される領域も含めて、1画素あたりの色材層3Bの透過率の平均値を、液晶表示装置全体での所望の色純度と所望の白輝度とが得られる透過率に対応するようにすればよい。
具体的には、通常の液晶表示装置のようにRGBそれぞれの色材層3Bに開口部6が形成されない構成であった場合に、液晶表示装置全体で所望の色純度と所望の白輝度とが得られるRGBそれぞれの色材層3Bの透過率を求める。
そして、RGBそれぞれの色材層3Bが当該透過率を達成するための厚みを、RGBそれぞれの色材層3Bの設計膜厚とする。
開口部6において色材層3Bの透過率の平均値が高くなることを相殺するために、開口部6が設けられる遮光層1、および、遮光層1の周辺領域、さらに、遮光層2、および、遮光層2の周辺領域も含めて、の色材層3Bの厚みを、形成される領域全体において均一な厚みのまま設計膜厚よりも厚くする。
また、高い精度で厚みを調整するのであれば、所望の色純度と所望の白輝度とが得られるRGBそれぞれの色材層の設計膜厚に、図5における1画素あたりのRGBそれぞれの色材層3Bの厚みの平均値が一致するように設定すればよい。具体的には、色材層3Bの厚みがゼロとなる開口部6が色材層3Bの面積に占める割合に応じて、形成される領域全体において設計膜厚に比べて厚くする際の色材層3Bの厚みを調整することによって、1画素あたりのRGBそれぞれの色材層3Bの厚みの平均値を調整する。
以上のように色材層3Bの開口部6が形成されることで、1画素内で局所的に、所望の色純度または所望の白輝度が得られる透過率よりも高い透過率である領域と低い透過率である領域とが形成されるが、特に色純度特性にも白輝度特性にも悪影響を及ぼすことを抑制することができる。
なお、本実施の形態に関する液晶表示装置における色材層3Bは均一な厚みで形成されたが、第1の実施の形態における色材層3のように、遮光層1が設けられる箇所、すなわち、映像信号線14が配置される領域と、遮光層2が設けられる箇所、すなわち、映像信号線14が配置されない領域とで厚みを変えることも可能である。
そのようにした場合には、色材層の透過率の調整が、広い範囲で可能となる。
<第3の実施の形態>
本実施の形態に関する液晶表示装置、および、液晶表示装置の調整方法について説明する。以下の説明においては、以上に記載された実施の形態で説明された構成と同様の構成については同じ符号を付して図示し、その詳細な説明については適宜省略するものとする。
<液晶表示装置の構成について>
本実施の形態では、画素内に透過率の傾斜を形成する方法として、セルギャップと液晶層の透過率との関係性を利用する方法について説明する。ここで、液晶層の透過率とは、液晶層と偏光子との関係によって生ずる透過率をいう。
図6は、セルギャップと液晶層の透過率との関係性を例示する図である。図6において、縦軸は液晶層の透過率を示し、横軸はセルギャップを示す。
図6において、G1は、映像信号線14が配置されない領域におけるセルギャップを示す。また、Gは、映像信号線14が配置される領域におけるセルギャップを示す。
また、T1は、映像信号線14が配置されない領域における透過率を示す。また、T2は、映像信号線14が配置される領域における透過率を示す。
図6に例示されるように、一般的な液晶表示(liquid crystal display、すなわち、LCD)装置に用いられるセルギャップの範囲内では、セルギャップが、図6におけるG1からG2へと大きくなると、液晶層の透過率は、図6におけるT1からT2へと大きくなる関係性がある。なお、ここでの「液晶層の透過率」は、液晶表示パネルが白表示の際の透過率である。
そこで、映像信号線14が配置される領域におけるセルギャップを、映像信号線14が配置されない領域おけるセルギャップよりも厚くするように、セルギャップの厚みに傾斜を設ける。
そうすることによって、画素内に、映像信号線14が配置される領域における液晶層の透過率よりも映像信号線14が配置されない領域における液晶層の透過率が下がる方向の傾斜ができる。
このように、画素内に透過率の傾斜を設けることによって、第1の実施の形態における場合と同様の効果が得られる。
図7は、セルギャップに傾斜を設ける場合の、本実施の形態に関する液晶表示装置の構成を概略的に例示する断面図である。
図7に例示されるように、液晶表示装置は、カラーフィルター基板4と、遮光層1と、遮光層2と、カラーフィルター基板4の下面において、遮光層1と遮光層2との間の領域に設けられる色材層3Cと、TFTアレイ基板8と、液晶層9と、色材層3Cの下面に設けられるギャップ制御層10とを備える。
色材層3Cは、均一な厚みで形成される。ギャップ制御層10の厚さは、映像信号線14が配置される領域に対応する、遮光層1、および、遮光層1の周辺領域においては、映像信号線14が配置されない領域に対応する、遮光層2、および、遮光層2の周辺領域における場合よりも薄い。
図7に例示される構成によれば、ギャップ制御層10の厚さの違いによってセルギャップに傾斜が形成される。すなわち、映像信号線14が配置されない領域の液晶層の透過率が下がる傾斜が形成される。したがって、第1の実施の形態と同様の効果が得ることができる。
なお、ここで、ギャップ制御層10の厚さの違いによって遮光層1が設けられる箇所から遮光層2が設けられる箇所まで傾斜が設けられるセルギャップの厚みとしては、これらの領域でのセルギャップの平均値を基準として、例えば、相対的に厚くされる遮光層1の周辺におけるセルギャップでは1割から5割程度ギャップ制御層10の厚さを厚くする範囲内で、相対的に薄くされる遮光層2の周辺におけるセルギャップでは1割から5割程度ギャップ制御層10の厚さを薄くする範囲内で、先に説明を行った作用に関係する遮光層1の幅と遮光層2の幅との差によって生ずる開口率への影響の程度に応じて、さらに、セルギャップと透過率との相関に関係する液晶層9のリタデーション値に応じて適当な厚みに設定すればよい。
また、セルギャップの厚みの大小と透過率の大小とが正の相関を持つ範囲、つまり、例えば、図6に例示される場合では、G1からG2の範囲内で上記セルギャップを調整するとよい。
ここでは、当該、G1からG2に収まる範囲で、セルギャップの平均値を例えば4μmに設定し、遮光層1の周辺におけるセルギャップでは平均値に対して2割程度厚くした厚みとなる4.8μmに、遮光層2の周辺におけるセルギャップでは平均値に対して2割程度薄くした厚みとなる3.2μmに、それぞれ設定される。
図8は、セルギャップに傾斜を設ける場合の、液晶表示装置の他の態様を概略的に例示する断面図である。
図8に例示されるように、液晶表示装置は、カラーフィルター基板4と、遮光層1と、遮光層2と、色材層3Cと、TFTアレイ基板8と、液晶層9と、色材層3Cの下面に部分的に設けられるギャップ制御層10Cとを備える。
ギャップ制御層10Cは、色材層3Cの下面のうち、映像信号線14が配置されない領域に対応する、遮光層2の周辺領域にのみ設けられる。
図8に例示される構成によれば、ギャップ制御層10Cによってセルギャップに傾斜が形成される。すなわち、映像信号線14が配置されない領域の液晶層の透過率が下がる傾斜が形成される。したがって、第1の実施の形態と同様の効果が得ることができる。
図9は、セルギャップに傾斜を設ける場合の、液晶表示装置の他の態様を概略的に例示する断面図である。
図9に例示されるように、液晶表示装置は、カラーフィルター基板4と、遮光層1と、遮光層2と、色材層3Cと、TFTアレイ基板8と、液晶層9と、色材層3Cの下面に設けられる平坦化層7Dと、TFTアレイ基板8の上面に設けられるギャップ制御層10Dとを備える。
平坦化層7Dは、遮光層1、遮光層2、および、色材層3Cを覆って設けられる。そして、平坦化層7Dが平坦化される。
ギャップ制御層10Dは、たとえば、有機膜である。ギャップ制御層10Dの厚さは、平面視において映像信号線14が配置される領域と重なる領域においては、平面視において映像信号線14が配置されない領域と重なる領域における場合よりも薄い。
図9に例示される構成によれば、ギャップ制御層10Dの厚さの違いによってセルギャップに傾斜が形成される。すなわち、映像信号線14が配置されない領域の液晶層の透過率が下がる傾斜が形成される。したがって、第1の実施の形態と同様の効果が得ることができる。
なお、TFTアレイ基板8の上面に設けられるギャップ制御層10Dは、SiNなどの無機膜であっても構わない。その場合には、無機膜を単層膜、または、積層膜とし、少なくとも1層の無機膜をパターニングすることによって階段状に形成する。
そうすることによって、映像信号線14が配置されない領域と重なる領域が厚く形成されたギャップ制御層10Dを、比較的容易に形成することができる。
なお、本実施の形態に関する液晶表示装置における色材層3Cは均一な厚みで形成されたが、以上に記載されたいずれかの実施の形態における色材層、たとえば、第1の実施の形態における色材層3のように、遮光層1が設けられる箇所、すなわち、映像信号線14が配置される領域と、遮光層2が設けられる箇所、すなわち、映像信号線14が配置されない領域とで厚みを変えることも可能である。
そのようにした場合には、液晶層の透過率と色材層の透過率とを合わせた合計透過率の調整が、広い範囲で可能となる。
また、以上に記載された実施の形態では、遮光層1と遮光層2とが、x軸方向に交互に設けられる場合が例示されたが、遮光層1の配置および遮光層2の配置は、以上に記載された態様に限られるものではない。
すなわち、x軸方向に遮光層1が複数連続して設けられる場合、または、x軸方向に遮光層2が複数連続して設けられる場合であってもよい。その場合であっても、遮光層1の周辺における色材層の透過率よりも、遮光層2の周辺における色材層の透過率が低いこと、または、遮光層1の周辺における液晶層の透過率よりも、遮光層2の周辺における液晶層の透過率が低いことが満たされていればよい。
また、以上に記載された実施の形態においてセルギャップに傾斜を設けるために用いられるギャップ制御層10、ギャップ制御層10C、または、ギャップ制御層10Dは、有機膜、または、無機膜を用いる場合が説明された。有機膜を用いる場合には、より具体的には、たとえば、感光性を有した透明樹脂膜を用いることが望ましい。
また、これら感光性を有した透明樹脂膜からなるギャップ制御層10、ギャップ制御層10C、または、ギャップ制御層10Dの形成方法としては、塗布形成される透明樹脂膜をパターニングして形成すればよい。
そのパターニングの際には、透明樹脂膜として感光性樹脂を用いるとともに、階調露光マスクを用いたパターニング方法である、公知のハーフトーン技術を用いることができる。当該技術を用いることによって、比較的容易に、部分的に異なる厚さを有するギャップ制御層10、ギャップ制御層10C、または、ギャップ制御層10Dを形成することができる。
<以上に記載された実施の形態によって生じる効果について>
次に、以上に記載された実施の形態によって生じる効果を例示する。なお、以下の説明においては、以上に記載された実施の形態に例示された具体的な構成に基づいて当該効果が記載されるが、同様の効果が生じる範囲で、本願明細書に例示される他の具体的な構成と置き換えられてもよい。
また、当該置き換えは、複数の実施の形態に跨ってなされてもよい。すなわち、異なる実施の形態において例示されたそれぞれの構成が組み合わされて、同様の効果が生じる場合であってもよい。
以上に記載された実施の形態によれば、液晶表示装置は、複数の画素と、遮光層と、色材層3とを備える。複数の画素は、液晶表示パネルにおいて配列される。遮光層は、平面視において、複数の画素の間に設けられる。色材層3は、平面視において、それぞれの画素に重なって設けられる。また、遮光層には、第1の領域と、第2の領域とが含まれる。ここで、遮光層1は、遮光層における第1の領域に対応するものである。また、遮光層2は、遮光層における第2の領域に対応するものである。また、遮光層2は、遮光層1よりも、平面視における幅が狭い。そして、色材層3は、遮光層1の周辺における透過率よりも、遮光層2の周辺における透過率の方が低い。
このような構成によれば、開口率の低下と、明暗の筋が視認されることとをともに抑制することができる。具体的には、幅の異なる遮光層による開口率への影響を、色材層3の透過率を調整することによって相殺することができる。すなわち、遮光層1の周辺領域では、色材層3の透過率が高く設定される。また、幅の狭い遮光層2の周辺領域では、色材層3の透過率が低く設定される。したがって、液晶表示パネルにおける、幅の異なる遮光層による輝度分布の偏りが緩和されるため、明暗の筋が視認されにくくなる。また、このような構成によれば、高い透過率である2倍走査線方式の液晶表示装置が得られる。また、透過率が高いため、バックライトのLED個数を減らすことができ、かつ、液晶表示装置の消費電力を減らすことができる。また、このような構成によれば、駆動ICの削減により低コスト化を実現することができる。
なお、これらの構成以外の本願明細書に例示される他の構成については適宜省略することができる。すなわち、これらの構成のみで、以上に記載された効果を生じさせることができる。
しかしながら、本願明細書に例示される他の構成のうちの少なくとも1つを以上に記載された構成に適宜追加した場合、すなわち、以上に記載された構成としては記載されなかった本願明細書に例示される他の構成を以上に記載された構成に追加した場合でも、同様に以上に記載された効果を生じさせることができる。
また、以上に記載された実施の形態によれば、色材層3は、遮光層1の周辺における厚さよりも、遮光層2の周辺における厚さの方が厚い。このような構成によれば、遮光層1の周辺領域では、色材層3の厚さが薄い。また、幅の狭い遮光層2の周辺領域では、色材層3の厚さが厚い。したがって、液晶表示パネルにおける、幅の異なる遮光層による輝度分布の偏りが緩和されるため、明暗の筋が視認されにくくなる。また、当該構成は、公知のハーフトーン技術、すなわち、階調露光技術を応用することによって、比較的容易に形成することができる。
また、以上に記載された実施の形態によれば、色材層3の厚さは、遮光層1の周辺から遮光層2の周辺に向かって、徐々に厚くなる。このような構成によれば、遮光層1の周辺領域では、色材層3の厚さが薄い。そして、遮光層1の周辺領域から遮光層2の周辺領域へ向かって、色材層3の厚さが徐々に厚くなる。したがって、液晶表示パネルにおける、幅の異なる遮光層による輝度分布の偏りが緩和されるため、明暗の筋が視認されにくくなる。
また、以上に記載された実施の形態によれば、色材層3Aの厚さは、遮光層1の周辺から遮光層2の周辺に向かって、段階的に厚くなる。このような構成によれば、遮光層1の周辺領域では、色材層3の厚さが薄い。また、幅の狭い遮光層2の周辺領域では、色材層3の厚さが厚い。したがって、液晶表示パネルにおける、幅の異なる遮光層による輝度分布の偏りが緩和されるため、明暗の筋が視認されにくくなる。
また、以上に記載された実施の形態によれば、色材層3Bは、遮光層1の周辺において開口部6を有する。このような構成によれば、遮光層1の周辺領域では、色材層3の透過率が高く設定される。また、幅の狭い遮光層2の周辺領域では、色材層3の透過率が低く設定される。したがって、液晶表示パネルにおける、幅の異なる遮光層による輝度分布の偏りが緩和されるため、明暗の筋が視認されにくくなる。また、当該構成であれば、半透過型の液晶表示装置において汎用される、カラーフィルター基板の色材層抜きパターンの形成プロセスを用いて、色材層形成用のマスク設計を変更することによって形成することができるため、形成が比較的容易である。
また、以上に記載された実施の形態によれば、液晶表示装置は、色材層3Bの開口部6を埋めつつ、色材層3Bを覆って設けられる平坦化層7を備える。このような構成によれば、色材層3Bの開口部6が設けられた箇所と、色材層3Bの開口部6が設けられない箇所との間に生じる色材層3Bの透過率の差を、平坦化層7によって抑制することができる。したがって、セルギャップの違いに起因する透過率の変化を考慮せずに、開口部6による色材層3Bの透過率の調整を行うことができ、透過率の調整が容易となる。また、色材層3Bの開口部6の端部における段差形状によって、配向異常が生じることを抑制することができる。
また、以上に記載された実施の形態によれば、液晶表示装置は、複数の画素と、遮光層と、ギャップ制御層10とを備える。複数の画素は、液晶表示パネルにおいて配列される。遮光層は、平面視において、複数の画素の間に設けられる。ギャップ制御層10は、平面視において、少なくともそれぞれの画素に重なって設けられる。また、遮光層には、遮光層1と、遮光層2とが含まれる。また、遮光層2は、遮光層1よりも、平面視における幅が狭い。そして、ギャップ制御層10は、遮光層1の周辺における厚さよりも、遮光層2の周辺における厚さの方が厚い。
このような構成によれば、開口率の低下と、明暗の筋が視認されることとをともに抑制することができる。具体的には、幅の異なる遮光層による開口率への影響を、ギャップ制御層10の厚さを調整することによって相殺することができる。すなわち、遮光層1の周辺領域では、ギャップ制御層10の厚さが薄い。また、幅の狭い遮光層2の周辺領域では、ギャップ制御層10の厚さが厚い。したがって、液晶表示パネルにおける、幅の異なる遮光層による輝度分布の偏りが緩和されるため、明暗の筋が視認されにくくなる。また、色材層の厚さまたは形状などに制約がある場合であっても、ギャップ制御層10の厚さを調整することによって、開口率の低下と、明暗の筋が視認されることとをともに抑制することができる。
なお、これらの構成以外の本願明細書に例示される他の構成については適宜省略することができる。すなわち、これらの構成のみで、以上に記載された効果を生じさせることができる。
しかしながら、本願明細書に例示される他の構成のうちの少なくとも1つを以上に記載された構成に適宜追加した場合、すなわち、以上に記載された構成としては記載されなかった本願明細書に例示される他の構成を以上に記載された構成に追加した場合でも、同様に以上に記載された効果を生じさせることができる。
また、以上に記載された実施の形態によれば、ギャップ制御層10Cは、遮光層2の周辺にのみ形成される。このような構成によれば、遮光層1の周辺領域では、ギャップ制御層10が形成されない。また、幅の狭い遮光層2の周辺領域では、ギャップ制御層10が形成される。したがって、液晶表示パネルにおける、幅の異なる遮光層による輝度分布の偏りが緩和されるため、明暗の筋が視認されにくくなる。
また、以上に記載された実施の形態によれば、液晶表示装置は、液晶層9を挟む、カラーフィルター基板4とアレイ基板とを備える。ここで、TFTアレイ基板8は、アレイ基板に対応するものである。また、遮光層は、カラーフィルター基板4の液晶層9に向かう面に形成される。そして、ギャップ制御層10は、カラーフィルター基板4の液晶層9に向かう面に形成される。このような構成によれば、幅の異なる遮光層による開口率への影響を、ギャップ制御層10の厚さを調整することによって相殺することができる。
また、以上に記載された実施の形態によれば、液晶表示装置は、液晶層9を挟む、カラーフィルター基板4とTFTアレイ基板8とを備える。また、遮光層は、カラーフィルター基板4の液晶層9に向かう面に形成される。そして、ギャップ制御層10Dは、TFTアレイ基板8の液晶層9に向かう面に形成される。このような構成によれば、幅の異なる遮光層による開口率への影響を、ギャップ制御層10の厚さを調整することによって相殺することができる。また、ギャップ制御層10Dを設ける箇所の選択肢が広がる。
また、以上に記載された実施の形態によれば、液晶表示装置は、ギャップ制御層に加えて、平面視において、それぞれの画素に重なって設けられる色材層3を備える。また、色材層3は、遮光層1の周辺における透過率よりも、遮光層2の周辺における透過率の方が低い。このような構成によれば、液晶層の透過率と色材層の透過率とを合わせた合計透過率の調整が、広い範囲で可能となる。
また、以上に記載された実施の形態によれば、液晶表示装置の調整方法において、複数の画素全体での色純度および白輝度の調整は、それぞれの色材層3内における透過率の平均値に基づいて行われる。
このような構成によれば、1画素内で局所的に、所望の色純度または所望の白輝度が得られる透過率よりも高い透過率である領域と低い透過率である領域とが形成される場合であっても、それぞれの色材層内における透過率の平均値に基づいて色材層の透過率を設定することによって、色純度特性にも白輝度特性にも悪影響を及ぼすことを抑制することができる。
なお、これらの構成以外の本願明細書に例示される他の構成については適宜省略することができる。すなわち、これらの構成のみで、以上に記載された効果を生じさせることができる。
しかしながら、本願明細書に例示される他の構成のうちの少なくとも1つを以上に記載された構成に適宜追加した場合、すなわち、以上に記載された構成としては記載されなかった本願明細書に例示される他の構成を以上に記載された構成に追加した場合でも、同様に以上に記載された効果を生じさせることができる。
また、特に制限がない限り、それぞれの処理が行われる順序は変更することができる。
<以上に記載された実施の形態における変形例について>
以上に記載された実施の形態では、それぞれの構成要素の材質、材料、寸法、形状、相対的配置関係または実施の条件などについても記載する場合があるが、これらはすべての局面において例示であって、本願明細書に記載されたものに限られることはないものとする。
したがって、例示されていない無数の変形例が、本願明細書に開示される技術の範囲内において想定される。たとえば、少なくとも1つの構成要素を変形する場合、追加する場合または省略する場合、さらには、少なくとも1つの実施の形態における少なくとも1つの構成要素を抽出し、他の実施の形態の構成要素と組み合わせる場合が含まれるものとする。
また、矛盾が生じない限り、以上に記載された実施の形態において「1つ」備えられるものとして記載された構成要素は、「1つ以上」備えられていてもよいものとする。
さらに、以上に記載された実施の形態におけるそれぞれの構成要素は概念的な単位であって、本願明細書に開示される技術の範囲内には、1つの構成要素が複数の構造物から成る場合と、1つの構成要素がある構造物の一部に対応する場合と、さらには、複数の構成要素が1つの構造物に備えられる場合とを含むものとする。
また、以上に記載された実施の形態におけるそれぞれの構成要素には、同一の機能を発揮する限り、他の構造または形状を有する構造物が含まれるものとする。
また、本願明細書における説明は、本技術に関するすべての目的のために参照され、いずれも、従来技術であると認めるものではない。
また、以上に記載された実施の形態において、特に指定されずに材料名などが記載された場合は、矛盾が生じない限り、当該材料に他の添加物が含まれた、たとえば、合金などが含まれるものとする。
1,2 遮光層、3,3A,3B,3C 色材層、4 カラーフィルター基板、6 開口部、7,7D 平坦化層、8 TFTアレイ基板、9 液晶層、10,10C,10D ギャップ制御層、12,13 走査信号線、14 映像信号線、15 TFT、16 画素電極。

Claims (10)

  1. 液晶表示パネルにおいて配列される、複数の画素と、
    平面視において、複数の前記画素の間に設けられる遮光層と、
    平面視において、それぞれの前記画素に重なって設けられる複数色の色材層とを備え、
    前記遮光層には、
    第1の領域と、
    前記第1の領域よりも、平面視における幅が狭い第2の領域とが含まれ、
    前記第2の領域の前記遮光層の両隣に配置される前記色材層は互いに異なる色であり、
    平面視において前記遮光層と重ならない領域における前記色材層のそれぞれは、前記第1の領域の周辺における透過率よりも、前記第2の領域の周辺における透過率の方が低い、
    液晶表示装置。
  2. 液晶表示パネルにおいて配列される、複数の画素と、
    平面視において、複数の前記画素の間に設けられる遮光層と、
    平面視において、それぞれの前記画素に重なって設けられる色材層とを備え、
    前記遮光層には、
    第1の領域と、
    前記第1の領域よりも、平面視における幅が狭い第2の領域とが含まれ、
    前記色材層は、前記第1の領域の周辺における透過率よりも、前記第2の領域の周辺における透過率の方が低く、
    前記色材層は、前記第1の領域の周辺において開口部を有する、
    晶表示装置。
  3. 前記液晶表示装置は、さらに、
    前記色材層の前記開口部を埋めつつ、前記色材層を覆って設けられる平坦化層を備える、
    請求項に記載の液晶表示装置。
  4. 前記色材層は、前記第1の領域の周辺における厚さよりも、前記第2の領域の周辺における厚さの方が厚い、
    請求項1から請求項3のうちのいずれか1項に記載の液晶表示装置。
  5. 前記色材層の厚さは、前記第1の領域の周辺から前記第2の領域の周辺に向かって、徐々に厚くなる、
    請求項に記載の液晶表示装置。
  6. 前記色材層の厚さは、前記第1の領域の周辺から前記第2の領域の周辺に向かって、段階的に厚くなる、
    請求項に記載の液晶表示装置。
  7. 液晶層を挟む、カラーフィルター基板とアレイ基板とをさらに備え、
    複数の前記画素は、行列状に配列され、
    前記アレイ基板には、複数の前記画素が配列される列方向に沿って延在する複数本の映像信号線が配置され、
    前記遮光層は、前記カラーフィルター基板の前記液晶層に向かう面に形成され、
    前記第1の領域および前記第2の領域は、双方ともに前記列方向に延在して設けられ、
    前記第1の領域は、複数本の前記映像信号線が配置された領域に平面視で重なる位置に設けられ、
    前記第2の領域の前記遮光層は、複数本の前記映像信号線が配置されない領域に平面視で重なる位置に設けられる、
    請求項1から請求項6のうちのいずれか1項に記載の液晶表示装置。
  8. 液晶表示パネルにおいて配列される、複数の画素と、
    平面視において、複数の前記画素の間に設けられる遮光層と、
    平面視において、それぞれの前記画素に重なって設けられる複数色の色材層とを備える液晶表示装置の調整方法であり、
    前記遮光層には、
    第1の領域と、
    前記第1の領域よりも、平面視における幅が狭い第2の領域とが含まれ、
    前記第2の領域の前記遮光層の両隣に配置される前記色材層は互いに異なる色であり、
    平面視において前記遮光層と重ならない領域における前記色材層のそれぞれは、前記第1の領域の周辺における透過率よりも、前記第2の領域の周辺における透過率の方が低く、
    複数の前記画素全体での色純度および白輝度の調整は、平面視において前記遮光層と重ならない領域におけるそれぞれの前記色材層内における透過率の平均値に基づいて行われる、
    液晶表示装置の調整方法。
  9. 前記色材層は、前記第1の領域の周辺における厚さよりも、前記第2の領域の周辺における厚さの方が厚い、
    請求項に記載の液晶表示装置の調整方法。
  10. 液晶層を挟む、カラーフィルター基板とアレイ基板とをさらに備え、
    複数の前記画素は、行列状に配列され、
    前記アレイ基板には、複数の前記画素が配列される列方向に沿って延在する複数本の映像信号線が配置され、
    前記遮光層は、前記カラーフィルター基板の前記液晶層に向かう面に形成され、
    前記第1の領域および前記第2の領域は、双方ともに前記列方向に延在して設けられ、
    前記第1の領域は、複数本の前記映像信号線が配置された領域に平面視で重なる位置に設けられ、
    前記第2の領域の前記遮光層は、複数本の前記映像信号線が配置されない領域に平面視で重なる位置に設けられる、
    請求項8または9に記載の液晶表示装置の調整方法。
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