JP2012163755A - 液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ＢＭ段差によるセルギャップの不均一性を低減する。
【解決手段】液晶表示装置は、一方の基板２に、画素部Ｐ及び額縁部Ｆに形成され、画素部Ｐに複数の開口部４０Ｈを有し、額縁部Ｆに開口部４０Ｈを有さず、画素部Ｐの隣接する画素間及び額縁部Ｆを遮光するＢＭ４０が形成されたモノクロ液晶表示装置である。画素部Ｐの複数の開口部４０Ｈ内に、ＢＭ４０と略同一膜厚のＯＣ膜５１が形成され、画素部Ｐ及び額縁部ＦのＢＭ４０上にＯＣ膜５１が形成されずに、ＢＭ４０及びＯＣ膜５１が形成された基板の表面が略平坦化されており、画素部Ｐ及び額縁部ＦのＢＭ４０上に複数の柱状スペーサ２１が形成されている。
【選択図】図２

Description

本発明は、液晶表示装置に関するものである。

近年、カラー液晶表示装置においては、表示画面内のセルギャップを均一化するために、ＢＭ（遮光層）及び色材層（カラーフィルタ層）上にこれらを被覆し表面を平坦化するＯＣ膜（オーバーコート膜、平坦化膜）を形成し、その上に表示領域を含む画素部及びその外側の額縁部の其々に樹脂製の柱状スペーサを形成することが多くなってきている。
カラー液晶表示装置の場合、通常、隣接するＢＭ間に形成される画素開口部は色材層によって埋められており、概ねＢＭと色材層が同じ面を形成して大きな凹凸が無い基板表面を構成している。従って、更なる平坦化処理となるＯＣ膜の形成により、かなり高レベルに基板表面は平坦化される。

色材層を有しないモノクロ（単色）液晶表示装置に対して、カラー液晶表示装置と同様の構成を採用する場合、ＢＭを形成した基板上に平坦化用のＯＣ膜を形成し、その上に、画素部及び額縁部の其々のＢＭ上に、柱状スペーサを形成することになる。

モノクロ液晶表示装置の画素部では、隣接するＢＭ間に形成される画素開口部は色材層によって埋められておらず、ＢＭの膜厚に相当する段差が形成されており、画素部と額縁部ではＢＭ形成面積が異なっている。そのため、画素部と額縁部にＯＣ膜及び柱状スペーサ形成用樹脂膜をスピンコートなどの方法により塗布形成した場合、画素部と額縁部とで樹脂膜の塗布厚さが異なってしまう。これは以下の理由によるものである。

ＢＭ形成面積の大きい額縁部ではＢＭ段差が無い領域が広く、ほぼ所望の膜厚に樹脂が塗布形成される。これに対して、画素部ではＢＭのない画素開口部に樹脂が流れ込むことにより、ＢＭ上に形成される樹脂膜は所望の膜厚よりも薄くなってしまう。画素部では、ＢＭのない画素開口部の樹脂膜の膜厚が支配的となり、ＢＭ上についてもＢＭのない画素開口部の樹脂膜の膜厚に近い膜厚の樹脂膜が形成されてしまう。そのため、額縁部ではＯＣ膜の膜厚及び柱状スペーサ形成用樹脂膜の膜厚は何れも画素部に対して相対的に厚く形成される傾向がある。その結果、額縁部の柱状スペーサは画素部のそれよりも高く形成される傾向がある。このことは、周辺セルギャップムラによる表示品位の低下を招く恐れがある。

カラー液晶表示装置においても、色材層とＢＭの膜厚に比較的大きな差がある場合がある。かかる場合には、モノクロ液晶表示装置と同様に、画素部と額縁部とでＢＭ形成面積の相違によって、画素部と額縁部において、ＯＣ膜の膜厚及び柱状スペーサ形成用樹脂膜の膜厚、及び柱状スペーサの高さに差が生じ、周辺セルギャップムラによる表示品位の低下が生じる恐れがある。

特開2003-207788号公報 特開2004-240136号公報 特開2004-198847号公報

特許文献１〜３には、ＢＭ段差に起因する画素部及び額縁部間でのＯＣ膜の厚みの不均一性に対する対策として、ハーフトーンマスク技術を用いて、画素部と額縁部とで、柱状スペーサの径、密度、あるいは高さを変える方法が提案されている（特許文献１の請求項１等、特許文献２の請求項４等、特許文献３の請求項５等）。
然しながら、上記特許文献においては、ＯＣ膜の厚みの不均一の発生により、更に上層に樹脂を塗布して形成される柱状スペーサの高さに違いが生ずる点が考慮されておらず、セルギャップの均一化としては不充分である。

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、ＢＭ段差によるセルギャップの不均一性が低減され、表示品質が向上された液晶表示装置を提供することを目的としている。

本発明の第１の液晶表示装置は、
液晶層と当該液晶層を挟持して対向配置された一対の基板とを備え、
平面視、複数の画素がマトリックス状に配置され、表示領域を含む画素部と、当該画素部の外側に形成された非表示領域である額縁部とを有し、
前記一対の基板のうち一方の基板には、前記画素部及び前記額縁部に形成され、前記画素部に複数の開口部を有し、前記額縁部に開口部を有さず、前記画素部の隣接する前記画素間及び前記額縁部を遮光する遮光層が形成されたモノクロ液晶表示装置であって、
前記画素部の前記複数の開口部内に、前記遮光層と略同一膜厚のオーバーコート膜が形成され、前記画素部及び前記額縁部の前記遮光層上に当該オーバーコート膜が形成されずに、前記遮光層及び前記オーバーコート膜が形成された前記基板の表面が略平坦化されており、前記画素部及び前記額縁部の前記遮光層上に複数の柱状スペーサが形成されたものである。

本明細書において、「２つの層の膜厚が略同一である」とは、２つの層の平均的な膜厚の差が±５％以内であると定義する。「略平坦化されている」とは、最大厚みと最小厚みとの差が±５％以内であると定義する。

本発明の第１の液晶表示装置において、前記遮光層及び前記オーバーコート膜上に第２のオーバーコート膜が形成され、当該第２のオーバーコート膜上に複数の柱状スペーサが形成された構成でもよい。

本発明の第２の液晶表示装置は、
液晶層と当該液晶層を挟持して対向配置された一対の基板とを備え、
平面視、複数の画素がマトリックス状に配置され、表示領域を含む画素部と、当該画素部の外側に形成された非表示領域である額縁部とを有し、
前記一対の基板のうち一方の基板には、前記画素部及び前記額縁部に形成され、前記画素部に複数の開口部を有し、前記額縁部に開口部を有さず、前記画素部の隣接する前記画素間及び前記額縁部を遮光する遮光層が形成されたモノクロ液晶表示装置であって、
前記遮光層が形成された前記基板の前記画素部及び前記額縁部に複数の柱状スペーサが形成されており、
前記額縁部の前記柱状スペーサの高さをａ、前記画素部の前記柱状スペーサの高さをｂとしたとき、ａ＞ｂであり、
前記遮光層が形成された前記基板の前記画素部には、前記遮光層上及び前記遮光層の前記複数の開口部内にオーバーコート膜が形成され、前記額縁部の前記柱状スペーサの形成領域にはオーバーコート膜が形成されておらず、
前記額縁部において前記遮光層上に形成された前記柱状スペーサの頂点高さ位置と、前記画素部において前記遮光層及び前記オーバーコート膜上に形成された前記柱状スペーサの頂点高さ位置との差がａ−ｂより小さいものである。

本発明の第３の液晶表示装置は、
液晶層と当該液晶層を挟持して対向配置された一対の基板とを備え、
平面視、複数の画素がマトリックス状に配置され、表示領域を含む画素部と、当該画素部の外側に形成された非表示領域である額縁部とを有し、
前記一対の基板のうち一方の基板には、前記画素部及び前記額縁部に形成され、前記画素部に複数の開口部を有し、前記額縁部に開口部を有さず、前記画素部の隣接する前記画素間及び前記額縁部を遮光する遮光層が形成されたモノクロ液晶表示装置であって、
前記遮光層が形成された前記基板の前記額縁部と前記画素部に複数の柱状スペーサが形成されており、
前記額縁部の前記柱状スペーサの高さをａ、前記画素部の前記柱状スペーサの高さをｂとしたとき、ａ＞ｂであり、
前記遮光層が形成された前記基板の前記画素部及び前記額縁部にオーバーコート膜が形成されており、
前記額縁部の前記遮光層上の前記オーバーコート膜の膜厚をｄ１、前記画素部の前記遮光層上の前記オーバーコート膜の膜厚をｄ２としたとき、ｄ１＞ｄ２であり、
前記遮光層が形成された前記基板又は当該基板と対向する基板に、前記画素部の前記柱状スペーサの形成位置に、前記額縁部と前記画素部のセルギャップの差を（ａ＋ｄ１）−（ｂ＋ｄ２）より小さく調整する膜厚調整膜が形成されたものである。

本発明の第４の液晶表示装置は、
液晶層と当該液晶層を挟持して対向配置された一対の基板とを備え、
平面視、複数の画素がマトリックス状に配置され、表示領域を含む画素部と、当該画素部の外側に形成された非表示領域である額縁部とを有し、
前記一対の基板のうち一方の基板には、前記画素部及び前記額縁部に形成され、前記画素部に複数の開口部を有し、前記額縁部に開口部を有さず、前記画素部の隣接する前記画素間及び前記額縁部を遮光する遮光層が形成されたモノクロ液晶表示装置であって、
前記遮光層が形成された前記基板の前記額縁部と前記画素部に複数の柱状スペーサが形成されており、
前記額縁部の前記柱状スペーサの高さをａ、前記画素部の前記柱状スペーサの高さをｂとしたとき、ａ＞ｂであり、
前記遮光層が形成された前記基板の前記画素部及び前記額縁部に感光性レジストを用いてオーバーコート膜が形成されており、
前記オーバーコート膜形成時に前記額縁部と前記画素部を同一露光条件で露光したときの前記額縁部の前記遮光層上の前記オーバーコート膜の膜厚をｄ１、前記画素部の前記遮光層上の前記オーバーコート膜の膜厚をｄ２としたとき、ｄ１＞ｄ２であり、
前記額縁部において前記遮光層及び前記オーバーコート膜上に形成された前記柱状スペーサの頂点高さ位置と、前記画素部において前記遮光層及び前記オーバーコート膜上に形成された前記柱状スペーサの頂点高さ位置との差が（ａ＋ｄ１）−（ｂ＋ｄ２）より小さくなるよう、前記オーバーコート膜形成時の前記額縁部と前記画素部の露光条件を変えて、前記オーバーコート膜の前記額縁部と前記画素部の膜厚が調整されたものである。

本発明の第５の液晶表示装置は、
液晶層と当該液晶層を挟持して対向配置された一対の基板とを備え、
平面視、複数の画素がマトリックス状に配置され、表示領域を含む画素部と、当該画素部の外側に形成された非表示領域である額縁部とを有し、
前記一対の基板のうち一方の基板には、前記画素部及び前記額縁部に形成され、前記画素部に複数の開口部を有し、前記額縁部に開口部を有さず、前記画素部の隣接する前記画素間及び前記額縁部を遮光する遮光層が形成されたモノクロ液晶表示装置であって、
前記遮光層が形成された前記基板の前記額縁部と前記画素部にオーバーコート膜が形成され、前記遮光層が形成された前記基板の前記額縁部と前記画素部に感光性レジストを用いて複数の柱状スペーサが形成されており、
前記額縁部の前記遮光層上の前記オーバーコート膜の膜厚をｄ１、前記画素部の前記遮光層上の前記オーバーコート膜の膜厚をｄ２としたとき、ｄ１＞ｄ２であり、
前記柱状スペーサ形成時に前記額縁部と前記画素部を同一露光条件で露光したときの前記額縁部の前記柱状スペーサの高さをａ、前記画素部の前記柱状スペーサの高さをｂとしたとき、ａ＞ｂであり、
前記画素部において前記遮光層及び前記オーバーコート膜上に形成された前記柱状スペーサの頂点高さ位置と、前記額縁部において前記遮光層及び前記オーバーコート膜上に形成された前記柱状スペーサの頂点高さ位置との差が（ａ＋ｄ１）−（ｂ＋ｄ２）より小さくなるよう、前記柱状スペーサ形成時の前記額縁部と前記画素部の露光条件を変えて、前記柱状スペーサの前記額縁部と前記画素部の高さが調整されたものである。

本発明の第６の液晶表示装置は、
液晶層と当該液晶層を挟持して対向配置された一対の基板とを備え、
平面視、複数の画素がマトリックス状に配置され、表示領域を含む画素部と、当該画素部の外側に形成された非表示領域である額縁部とを有し、
前記一対の基板のうち一方の基板には、前記画素部及び前記額縁部に形成され、前記画素部に複数の開口部を有し、前記額縁部に開口部を有さず、前記画素部の隣接する前記画素間及び前記額縁部を遮光する遮光層が形成され、前記画素部の前記遮光層上及び前記複数の開口部内に色材層が形成されたカラー液晶表示装置であって、
前記額縁部の前記遮光層上の少なくとも一部に前記色材層が形成され、
前記額縁部の前記遮光層上の前記色材層の膜厚をｃ１、前記画素部の前記遮光層上の前記色材層の膜厚をｃ２としたとき、ｃ１＞ｃ２であり、
前記遮光層及び前記色材層が形成された前記基板の前記画素部及び前記額縁部にオーバーコート膜及び複数の柱状スペーサが形成されており、
前記額縁部の前記色材層上の前記オーバーコート膜の膜厚をｄ１、前記画素部の前記色材層上の前記オーバーコート膜の膜厚をｄ２とし、前記額縁部の前記色材層及び前記オーバーコート膜上の前記柱状スペーサの高さをａ、前記画素部の前記色材層及び前記オーバーコート膜上の前記柱状スペーサの高さをｂとしたとき、
前記遮光層及び前記色材層が形成された前記基板、又は当該基板と対向する基板に、前記画素部の前記遮光層上に、前記額縁部と前記画素部のセルギャップの差を（ａ＋ｄ１＋ｃ１）−（ｂ＋ｄ２＋ｃ２）より小さく調整する膜厚調整膜が形成されたものである。

本発明によれば、ＢＭ段差によるセルギャップの不均一性が低減され、表示品質が向上された液晶表示装置を提供することができる。

実施形態１の液晶表示装置の全体概略断面図である。 実施形態１の対向基板の要部断面図である。 実施形態１の対向基板の製造工程図である。 実施形態１の対向基板の製造工程図である。 実施形態１の対向基板の製造工程図である。 実施形態２の対向基板の要部断面図である。 実施形態３の対向基板の要部断面図である。 実施形態４の対向基板の要部断面図である。 実施形態５の対向基板の要部断面図である。 実施形態６の対向基板の要部断面図である。 実施形態７の液晶表示装置の要部断面図である。 実施形態８の対向基板の要部断面図である。

「実施形態１」
図面を参照して、本発明に係る実施形態１の液晶表示装置について説明する。
本実施形態では、スイッチング素子として薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を用いた透過型のアクティブマトリックス型液晶表示装置を例として、説明する（以降の実施形態でも同様）。
本実施形態の液晶表示装置は、モノクロ（単色）液晶表示装置である。
図１は液晶表示装置の全体概略断面図である。図２は対向基板の要部断面図である。図３Ａ〜図３Ｃは対向基板の製造工程図である。
各図における各構成要素の位置及び縮尺等は便宜上のものであり、実際のものとは適宜異ならせて、簡略化してある（他の実施形態についても同様）。

図１に示すように、本実施形態の液晶表示装置１００は、液晶層２０と、液晶層２０を挟持して対向配置されたＴＦＴアレイ基板１と対向基板２とからなる液晶セル３を備えている。

ＴＦＴアレイ基板１は、ガラス基板等の透光性を有する絶縁性基板１１と、この液晶層２０側の内面に平面視マトリックス状に形成された複数の画素電極１２と、これら複数の画素電極１２のスイッチング素子である複数のＴＦＴ１３とを備え、液晶層２０側の最表面に図示しない配向膜を備えている。図中、符号１４は画素電極１２とＴＦＴ１３との間に形成された絶縁膜を模式的に示している。
ＴＦＴアレイ基板１は、ＴＦＴ１３に接続されたソース線及びゲート線、及びこれらの配線に接続された引廻し配線等の各種配線など、ＴＦＴアレイ基板に必要な要素が形成されているが、ここでは図示を簡略化してある。

液晶表示装置１００において、複数の画素電極１２及び複数の画素スイッチング素子ＴＦＴ１３が形成された領域が画素部Ｐであり、その外側の領域が額縁部Ｆである。
画素部Ｐは表示領域を含んでおり、画素部Ｐの周縁部は一部非表示領域とされる場合もある。額縁部Ｆは非表示領域である。

対向基板２は、ガラス基板等の透光性を有する絶縁性基板３０と、この液晶層２０側の内面に形成された遮光層（ＢＭ）４０と、ＯＣ膜（オーバーコート膜、平坦化膜）５１と、共通電極６０とを備え、液晶層２０側の最表面に図示しない配向膜を備えている。
ＢＭ４０は画素部Ｐ及び額縁部Ｆの双方に形成されており、画素部Ｐの隣接する画素間及び額縁部Ｆを遮光する層である。ＢＭ４０は、画素部Ｐに複数の開口部（画素開口部）４０Ｈを有し、額縁部Ｆには開口部４０Ｈを有していない。
本実施形態において、ＢＭ４０はアクリル系樹脂などに黒色顔料を分散させた樹脂ＢＭからなり、１〜２μｍ程度の膜厚で形成されている。ＢＭ４０はＣｒ等の遮光性金属によって形成することもできる。

ＴＦＴアレイ基板１と対向基板２間の周縁部にはシール材８０が形成され、この内部に液晶層２０が封入されている。
図２に示すように、対向基板２の配向膜上には、画素部Ｐと額縁部Ｆの双方のＢＭ４０の形成領域に、複数の樹脂製の柱状スペーサ２１が形成されている。複数の柱状スペーサ２１は、液晶層２０内、すなわちＴＦＴアレイ基板１の配向膜と対向基板２の配向膜との間に形成されている。

ＴＦＴアレイ基板１と対向基板２の外面（液晶層２０側と反対の面）にはそれぞれ、偏光板７１、７２及び図示しない位相差補償素子が取り付けられている。
ＴＦＴアレイ基板１の額縁部Ｆには外部接続端子９０が設けられており、ＦＦＣ（フレキシブルフラットケーブル）を介して、制御基板９２が接続されている。
液晶セル３の視認側と反対側にはバックライトが設けられている（図示略）。

図１及び図２に示すように、本実施形態において、画素部ＰのＢＭ４０の複数の開口部４０Ｈ内に、ＢＭと略同一膜厚のＯＣ膜５１が形成され、画素部Ｐ及び額縁部ＦのＢＭ４０上にＯＣ膜５１が形成されずに、ＢＭ４０及びＯＣ膜５１が形成された対向基板２の表面が略平坦化されており、画素部Ｐ及び額縁部ＦのＢＭ４０上に複数の柱状スペーサ２１が形成されている。

ＯＣ膜５１の材料としては特に制限されず、一般的なカラーフィルタ基板に用いられるＯＣ膜でもよいし、透光性を有するアクリル樹脂等でもよい。
ＯＣ膜５１の材料としては、パターニング形成が容易となる様に、色材層等と同様の感光性樹脂であることが望ましい。ＯＣ膜５１の材料は、色材層と同様の着色材料でもよく、色材層と主成分が同じで顔料を含まない非着色材料でもよい。

本実施形態において、表面が略平坦化されたＢＭ４０とＯＣ膜５１上に配向膜（図示略）が形成されており、この上に、複数の柱状スペーサ２１が形成されている。複数の柱状スペーサ２１は、画素部Ｐ及び額縁部ＦのＢＭ４０の形成領域に形成されている。
本実施形態では、ＢＭ４０の複数の開口部４０ＨがＯＣ膜５１により埋められて、略平坦化された対向基板２に、複数の柱状スペーサ２１が形成されている。ＢＭ４０の複数の開口部４０Ｈ内にのみＯＣ膜５１を形成して略平坦化した対向基板２上に柱状スペーサ形成用樹脂を塗布することから、樹脂塗布ムラが抑制され、これによって柱状スペーサ２１の高さにばらつきが生じることが抑制される。
本実施形態では、柱状スペーサ２１は画素部Ｐと額縁部Ｆで高さの差がない下地上に形成されるため、画素部Ｐと額縁部Ｆで柱状スペーサ２１の高さが略均一となり、周辺セルギャップムラが抑制される。
本実施形態ではまた、配向膜が表面が略平坦化されたＢＭ４０及びＯＣ膜５１上に形成され、その平坦性が高くなるため、その配向処理であるラビング処理を略均一に行うことができ、配向不良の発生が低減され、表示品質が向上するという効果も得られる。

柱状スペーサ２１の下地の平坦性が高い程、上記効果がより高まることは明らかである。図１及び図２中、ＢＭ４０とＯＣ膜５１は膜厚が完全に一致し、これらの表面が完全に平坦化されている場合について図示してある。
ただし、ＢＭ４０とＯＣ膜５１は、一般的なカラーフィルタ基板のＢＭ及び色材層と同様に、ＢＭの画素開口部をＢＭとほぼ同じ膜厚のＯＣ膜で埋めている程度の平坦性があればよい。即ち、ＢＭ４０とＯＣ膜５１は、感光性樹脂の塗布とパターニングを繰り返してＢＭと色材層を順次形成する一般的なカラーフィルタ基板の製造の過程で形成されるＢＭと色材層の厚みの差程度の厚みの差を有していてもよい。
一般的なカラーフィルタ基板のＢＭ及び色材層と同様に、互いに隣接するＢＭ４０とＯＣ膜５１の境界近傍部分は、これらの層が多少重なり合って、多少の凹凸が形成されていてもよい。
一般的なカラーフィルタ基板のＢＭ及び色材層で許容される程度に平坦化されていれば、セルギャップの均一性として充分であり、良好な表示品質が得られる。
互いに隣接するＢＭ４０とＯＣ膜５１の境界近傍部分に多少の凹凸が形成される場合、別途研磨などの平坦化工程を追加して、平坦化しても構わない。
「略同一膜厚」及び「略平坦化」の具体的な定義については、前述の記載を参照されたい。

次に、図３Ａ〜図３Ｃを参照して、対向基板２の製造方法の一例について説明する。
図３Ａに示すように、公知方法に従って、ガラス等の基板３０上に、画素部Ｐに複数の開口部４０Ｈを有し、額縁部Ｆに開口部４０Ｈを有さない樹脂製のＢＭ４０をパターニング形成する。次に同図に示すように、ＢＭ４０を形成した基板３０上に、ＯＣ膜５１となる感光性樹脂５１Ｒをスピンコート法などにより塗布する。
次に図３Ｂに示すように、ＢＭ４０の形成領域の感光性樹脂５１Ｒを選択的に除去する。例えば、感光性樹脂５１Ｒがポジ型の場合、ＢＭ４０の形成領域の感光性樹脂５１Ｒのみを感光し、その後、感光性樹脂５１Ｒを現像することにより、ＢＭ４０の形成領域の感光性樹脂５１Ｒを選択的に除去することができる。以上の工程後に、ＢＭ４０の複数の開口部４０Ｈを埋めるＯＣ膜５１が形成される。
次に、ＢＭ４０の複数の開口部４０ＨがＯＣ膜５１で埋められ、表面が略平坦化された基板３０上に、配向膜の塗布形成、及びラビング処理を行う（図示略）。
次に図３Ｃに示すように、表面が略平坦化された基板３０上に、柱状スペーサ２１となる感光性樹脂２１Ｒをスピンコート法などにより塗布する。下地が略平坦化されているので、画素部Ｐ及び額縁部Ｆに塗布される感光性樹脂２１Ｒの厚みは略均一となる。その後、感光性樹脂２１Ｒの露光及び現像を実施して、図２に示した対向基板２が製造される。

以上説明したように、本実施形態によれば、ＢＭ段差によるセルギャップの不均一性が低減され、表示品質が向上されたモノクロ液晶表示装置１００を提供することができる。

「実施形態２」
図面を参照して、本発明に係る実施形態２の液晶表示装置について説明する。
本実施形態の液晶表示装置は、実施形態１と同様、モノクロ（単色）液晶表示装置である。
図４は対向基板の要部断面図である。
本実施形態の基本的な構成は実施形態１と同様であり、実施形態１と同じ構成要素については同じ参照符号を付して、説明を省略する。

本実施形態の液晶表示装置の全体構成は実施形態１と同様であり、実施形態１とは対向基板の構成のみが異なっている。
本実施形態の液晶表示装置の対向基板４は、実施形態１と同様、画素部Ｐ及び額縁部Ｆに形成され、画素部Ｐに複数の開口部４０Ｈを有し、額縁部Ｆに開口部４０Ｈを有さず、画素部Ｐの隣接する画素間及び額縁部Ｆを遮光するＢＭ４０を備え、画素部Ｐの複数の開口部４０Ｈ内に、ＢＭ４０と略同一膜厚のＯＣ膜５１が形成され、画素部Ｐ及び額縁部ＦのＢＭ４０上にＯＣ膜５１が形成されずに、ＢＭ４０及びＯＣ膜５１が形成された基板の表面が略平坦化されている。
対向基板４ではさらに、表面が略平坦化されたＢＭ４０及びＯＣ膜５１上に、第２のＯＣ膜５２が形成され、第２のＯＣ膜５２上に配向膜（図示略）が形成され、その上に、複数の柱状スペーサ２１が形成されている。

本実施形態では、ＢＭ４０及びＯＣ膜５１によって概ね平坦化された基板３０上にさらに第２のＯＣ膜５２を形成しているので、実施形態１よりも基板表面の平坦性がより一層高められ、柱状スペーサ形成用樹脂膜の膜厚ばらつきがより低減されて、画素部Ｐと額縁部Ｆにおける柱状スペーサ２１の高さがより均一となり、周辺セルギャップムラがより低減される。
さらに本実施形態では、ＢＭ４０が第２のＯＣ膜５２で被覆されるので、ＢＭ４０からの液晶層２０等の他の層への汚染を防ぐことができ、焼付きなどの表示不良を防ぐことができる効果も得られる。

以上説明したように、本実施形態によっても、ＢＭ段差によるセルギャップの不均一性が低減され、表示品質が向上されたモノクロ液晶表示装置を提供することができる。

「実施形態３」
図面を参照して、本発明に係る実施形態３の液晶表示装置について説明する。
本実施形態の液晶表示装置は、実施形態１と同様、モノクロ（単色）液晶表示装置である。
図５は対向基板の要部断面図である。
本実施形態の基本的な構成は実施形態１と同様であり、実施形態１と同じ構成要素については同じ参照符号を付して、説明を省略する。

本実施形態の液晶表示装置の全体構成は実施形態１と同様であり、実施形態１とは対向基板の構成のみが異なっている。
本実施形態の液晶表示装置の対向基板５は、実施形態１と同様、画素部Ｐ及び額縁部Ｆに形成され、画素部Ｐに複数の開口部４０Ｈを有し、額縁部Ｆに開口部４０Ｈを有さず、画素部Ｐの隣接する画素間及び額縁部Ｆを遮光するＢＭ４０を備えている。

本実施形態では、額縁部Ｆの柱状スペーサ２１の高さをａ、画素部Ｐの柱状スペーサ２１の高さをｂとしたとき、ａ＞ｂである。
画素部Ｐと額縁部Ｆの柱状スペーサ２１の高さの差は、ＢＭ段差に起因した柱状スペーサ形成用樹脂膜の塗布ムラによるものである。

本実施形態において、ＢＭ４０が形成された対向基板５の画素部Ｐには、ＢＭ４０上及びＢＭ４０の複数の開口部４０Ｈ内にＯＣ膜５１が形成され、額縁部Ｆの柱状スペーサ２１の形成領域にはＯＣ膜５１が形成されていない。
本実施形態では、画素部Ｐに形成するＯＣ膜５１の膜厚を調整することで、額縁部ＦにおいてＢＭ４０上に形成された柱状スペーサ２１の頂点高さ位置と、画素部ＰにおいてＢＭ４０及びＯＣ膜５１上に形成された柱状スペーサ２１の頂点高さ位置との差Δｄがａ−ｂより小さく調整されている。
画素部ＰのＢＭ４０上では、開口部４０Ｈに流入する樹脂によって比較的薄いＯＣ膜５１が形成されることから、画素部Ｐと額縁部Ｆの柱状スペーサ２１の高さの差を画素部Ｐに形成したＯＣ膜５１で調整することができる。
画素部ＰのＢＭ４０上のＯＣ膜５１の膜厚をａ−ｂに略等しくして、Δｄ≒０となるように調整することが最も好ましい。

本実施形態によっても、ＢＭ段差によるセルギャップの不均一性が低減され、表示品質が向上されたモノクロ液晶表示装置を提供することができる。

「実施形態４」
図面を参照して、本発明に係る実施形態４の液晶表示装置について説明する。
本実施形態の液晶表示装置は、実施形態１と同様、モノクロ（単色）液晶表示装置である。
図６は対向基板の要部断面図である。
本実施形態の基本的な構成は実施形態１と同様であり、実施形態１と同じ構成要素については同じ参照符号を付して、説明を省略する。

本実施形態の液晶表示装置の全体構成は実施形態１と同様であり、実施形態１とは対向基板の構成のみが異なっている。
本実施形態の液晶表示装置の対向基板６は、実施形態１と同様、画素部Ｐ及び額縁部Ｆに形成され、画素部Ｐに複数の開口部４０Ｈを有し、額縁部Ｆに開口部４０Ｈを有さず、画素部Ｐの隣接する画素間及び額縁部Ｆを遮光するＢＭ４０を備えている。

本実施形態では、額縁部Ｆの柱状スペーサ２１の高さをａ、画素部Ｐの柱状スペーサ２１の高さをｂとしたとき、ａ＞ｂである。
画素部Ｐと額縁部Ｆの柱状スペーサ２１の高さの差は、ＢＭ段差に起因した柱状スペーサ形成用樹脂膜の塗布ムラによるものである。

本実施形態では、ＢＭ４０が形成された対向基板６の画素部Ｐ及び額縁部ＦにＯＣ膜５１が形成されており、
額縁部ＦのＢＭ４０上のＯＣ膜５１の膜厚をｄ１、画素部ＰのＢＭ４０上のＯＣ膜５１の膜厚をｄ２としたとき、ｄ１＞ｄ２である。
画素部Ｐと額縁部ＦのＯＣ膜５１の膜厚の差は、ＢＭ段差に起因したＯＣ膜５１の塗布ムラによるものである。

ＢＭ４０が形成された対向基板６には、画素部Ｐの柱状スペーサ２１の形成位置に、額縁部Ｆと画素部Ｐのセルギャップの差を（ａ＋ｄ１）−（ｂ＋ｄ２）より小さく調整する膜厚調整膜５３が形成されている。
膜厚調整膜５３は、ＯＣ膜５１と同様の材料、又はその他の任意の材料により形成できる。
膜厚調整膜５３の膜厚を（ａ＋ｄ１）−（ｂ＋ｄ２）に略等しくし、額縁部Ｆと画素部Ｐのセルギャップの差をほぼ０にすることが最も好ましい。

本実施形態によっても、ＢＭ段差によるセルギャップの不均一性が低減され、表示品質が向上されたモノクロ液晶表示装置を提供することができる。
画素部ＰのＢＭ４０上のＯＣ膜５１の膜厚は比較的薄くなるが、本実施形態では、その上に膜厚調整膜５３が形成されるので、画素部ＰのＢＭ４０がＯＣ膜５１と膜厚調整膜５３によって被覆され、ＢＭ４０から他の層への汚染が抑制され、焼付きなどの表示不良を防ぐことができるという効果も得られる。

「実施形態５」
図面を参照して、本発明に係る実施形態５の液晶表示装置について説明する。
本実施形態の液晶表示装置は、実施形態１と同様、モノクロ（単色）液晶表示装置である。
図７は対向基板の要部断面図である。
本実施形態の基本的な構成は実施形態１と同様であり、実施形態１と同じ構成要素については同じ参照符号を付して、説明を省略する。

本実施形態の液晶表示装置の全体構成は実施形態１と同様であり、実施形態１とは対向基板の構成のみが異なっている。
本実施形態の液晶表示装置の対向基板７は、実施形態１と同様、画素部Ｐ及び額縁部Ｆに形成され、画素部Ｐに複数の開口部４０Ｈを有し、額縁部Ｆに開口部４０Ｈを有さず、画素部Ｐの隣接する画素間及び額縁部Ｆを遮光するＢＭ４０を備えている。

本実施形態では、額縁部Ｆの柱状スペーサ２１の高さをａ、画素部Ｐの柱状スペーサ２１の高さをｂとしたとき、ａ＞ｂである。
画素部Ｐと額縁部Ｆの柱状スペーサ２１の高さの差は、ＢＭ段差に起因した柱状スペーサ形成用樹脂膜の塗布ムラによるものである。

本実施形態では、ＢＭ４０が形成された対向基板７の画素部Ｐ及び額縁部Ｆに感光性レジストを用いてＯＣ膜５１が形成されている。
本実施形態において、ＯＣ膜５１形成時に額縁部Ｆと画素部Ｐを同一露光条件で露光したときの額縁部ＦのＢＭ４０上のＯＣ膜５１の膜厚をｄ１、画素部ＰのＢＭ４０上のＯＣ膜５１の膜厚をｄ２としたとき、ｄ１＞ｄ２である。そして、額縁部ＦにおいてＢＭ４０及びＯＣ膜５１上に形成された柱状スペーサ２１の頂点高さ位置と、画素部ＰにおいてＢＭ４０及びＯＣ膜５１上に形成された柱状スペーサ２１の頂点高さ位置との差が（ａ＋ｄ１）−（ｂ＋ｄ２）より小さくなるよう、ＯＣ膜５１形成時の額縁部Ｆと画素部Ｐの露光条件を変えて、ＯＣ膜５１の額縁部Ｆと画素部Ｐの膜厚が調整されている。
より具体的には、本実施形態において、額縁部ＦのＢＭ４０上のＯＣ膜５１の膜厚をｄ３、画素部ＰのＢＭ４０上のＯＣ膜５１の膜厚をｄ４としたとき、例えばｄ１≒ｄ３の条件であれば、ｄ４＞ｄ２となるよう、額縁部Ｆと画素部ＰのＯＣ膜５１の露光条件が変えられる。
ＯＣ膜５１の膜厚調整は、ハーフトーンマスクあるいはグレイトーンマスクなどの階調マスクを用いて露光することで、実施できる。

好ましくは、額縁部ＦにおいてＢＭ４０及びＯＣ膜５１上に形成された柱状スペーサ２１の頂点高さ位置と、画素部ＰにおいてＢＭ４０及びＯＣ膜５１上に形成された柱状スペーサ２１の頂点高さ位置との差が（ａ＋ｄ１）−（ｂ＋ｄ２）より小さくなる条件を充足し、かつ、ｄ３＜ｄ４となるよう、額縁部Ｆと画素部ＰのＯＣ膜５１の露光条件が変えられる。
さらに、ｄ４−ｄ３をａ−ｂに略等しくし、額縁部ＦにおいてＢＭ４０及びＯＣ膜５１上に形成された柱状スペーサ２１の頂点高さ位置と、画素部ＰにおいてＢＭ４０及びＯＣ膜５１上に形成された柱状スペーサ２１の頂点高さ位置との差をほぼ０にすることが最も好ましい。

本実施形態によっても、ＢＭ段差によるセルギャップの不均一性が低減され、表示品質が向上されたモノクロ液晶表示装置を提供することができる。

「実施形態６」
図面を参照して、本発明に係る実施形態６の液晶表示装置について説明する。
本実施形態の液晶表示装置は、実施形態１と同様、モノクロ（単色）液晶表示装置である。
図８は対向基板の要部断面図である。
本実施形態の基本的な構成は実施形態１と同様であり、実施形態１と同じ構成要素については同じ参照符号を付して、説明を省略する。

本実施形態の液晶表示装置の全体構成は実施形態１と同様であり、実施形態１とは対向基板の構成のみが異なっている。
本実施形態の液晶表示装置の対向基板８は、実施形態１と同様、画素部Ｐ及び額縁部Ｆに形成され、画素部Ｐに複数の開口部４０Ｈを有し、額縁部Ｆに開口部４０Ｈを有さず、画素部Ｐの隣接する画素間及び額縁部Ｆを遮光するＢＭ４０を備えている。

本実施形態において、ＢＭ４０が形成された対向基板８の額縁部Ｆと画素部ＰにＯＣ膜５１が形成され、ＢＭ４０が形成された対向基板８の額縁部Ｆと画素部Ｐに感光性レジストを用いて複数の柱状スペーサ２１が形成されている。
本実施形態において、額縁部ＦのＢＭ４０上のＯＣ膜５１の膜厚をｄ１、画素部ＰのＢＭ４０上のＯＣ膜５１の膜厚をｄ２としたとき、ｄ１＞ｄ２である。
画素部Ｐと額縁部ＦのＯＣ膜５１の膜厚の差は、ＢＭ段差に起因したＯＣ膜５１の塗布ムラによるものである。

本実施形態において、柱状スペーサ２１形成時に額縁部Ｆと画素部Ｐを同一露光条件で露光したときの額縁部Ｆの柱状スペーサ２１の高さをａ、画素部Ｐの柱状スペーサ２１の高さをｂとしたとき、ａ＞ｂである。
本実施形態では、画素部ＰにおいてＢＭ４０及びＯＣ膜５１上に形成された柱状スペーサ２１の頂点高さ位置と、額縁部ＦにおいてＢＭ４０及びＯＣ膜５１上に形成された柱状スペーサ２１の頂点高さ位置との差が（ａ＋ｄ１）−（ｂ＋ｄ２）より小さくなるよう、柱状スペーサ２１形成時の額縁部Ｆと画素部Ｐの露光条件を変えて、柱状スペーサ２１の額縁部Ｆと画素部Ｐの高さが調整されている。

より具体的には、本実施形態において、額縁部ＦのＢＭ４０上の柱状スペーサ２１の高さをｘ、画素部ＰのＢＭ４０上の柱状スペーサ２１の高さをｙとしたとき、例えばｘ≒ａの条件であれば、ｙ＞ｂとなるよう、額縁部Ｆと画素部Ｐの柱状スペーサ２１形成時の露光条件が変えられる。
柱状スペーサ２１の高さ調整は、ハーフトーンマスクあるいはグレイトーンマスクなどの階調マスクを用いて露光することで、実施できる。

好ましくは、本実施形態において、額縁部ＦにおいてＢＭ４０及びＯＣ膜５１上に形成された柱状スペーサ２１の頂点高さ位置と、画素部ＰにおいてＢＭ４０及びＯＣ膜５１上に形成された柱状スペーサ２１の頂点高さ位置との差が（ａ＋ｄ１）−（ｂ＋ｄ２）より小さくなる条件を充足し、かつ、ｘ＜ｙとなるよう、額縁部Ｆと画素部ＰのＯＣ膜５１の露光条件が変えられる。
さらに、ｙ−ｘをｄ１−ｄ２に略等しくし、額縁部ＦにおいてＢＭ４０及びＯＣ膜５１上に形成された柱状スペーサ２１の頂点高さ位置と、画素部ＰにおいてＢＭ４０及びＯＣ膜５１上に形成された柱状スペーサ２１の頂点高さ位置との差をほぼ０にすることが最も好ましい。

本実施形態によっても、ＢＭ段差によるセルギャップの不均一性が低減され、表示品質が向上されたモノクロ液晶表示装置を提供することができる。

「実施形態７」
図面を参照して、本発明に係る実施形態７の液晶表示装置について説明する。
本実施形態の液晶表示装置は、実施形態１と同様、モノクロ（単色）液晶表示装置である。
図９は液晶表示装置の要部断面図である。
本実施形態の基本的な構成は実施形態１と同様であり、実施形態１と同じ構成要素については同じ参照符号を付して、説明を省略する。

本実施形態の液晶表示装置の全体構成は実施形態４と同様であり、実施形態４とは膜厚調整膜をＴＦＴアレイ基板に設けた点のみが異なっている。
本実施形態の液晶表示装置の対向基板９は、実施形態１と同様、画素部Ｐ及び額縁部Ｆに形成され、画素部Ｐに複数の開口部４０Ｈを有し、額縁部Ｆに開口部４０Ｈを有さず、画素部Ｐの隣接する画素間及び額縁部Ｆを遮光するＢＭ４０を備えている。

本実施形態では、額縁部Ｆの柱状スペーサ２１の高さをａ、画素部Ｐの柱状スペーサ２１の高さをｂとしたとき、ａ＞ｂである。
画素部Ｐと額縁部Ｆの柱状スペーサ２１の高さの差は、ＢＭ段差に起因した柱状スペーサ形成用樹脂膜の塗布ムラによるものである。

本実施形態では、ＢＭ４０が形成された対向基板９の画素部Ｐ及び額縁部ＦにＯＣ膜５１が形成されており、額縁部ＦのＢＭ４０上のＯＣ膜５１の膜厚をｄ１、画素部ＰのＢＭ４０上のＯＣ膜５１の膜厚をｄ２としたとき、ｄ１＞ｄ２である。
画素部Ｐと額縁部ＦのＯＣ膜５１の膜厚の差は、ＢＭ段差に起因したＯＣ膜５１の塗布ムラによるものである。

本実施形態では、ＴＦＴアレイ基板１に、画素部Ｐの柱状スペーサ２１の形成位置に、額縁部Ｆと画素部Ｐのセルギャップの差を（ａ＋ｄ１）−（ｂ＋ｄ２）より小さく調整する膜厚調整膜５４が形成されている。
膜厚調整膜５４は、ＯＣ膜５１と同様の材料、又はその他の任意の材料により形成できる。
膜厚調整膜５４の膜厚を（ａ＋ｄ１）−（ｂ＋ｄ２）に略等しくし、額縁部Ｆと画素部Ｐのセルギャップの差をほぼ０にすることが最も好ましい。

本実施形態によっても、ＢＭ段差によるセルギャップの不均一性が低減され、表示品質が向上されたモノクロ液晶表示装置を提供することができる。

「実施形態８」
図面を参照して、本発明に係る実施形態８の液晶表示装置について説明する。
本実施形態の液晶表示装置は、カラー液晶表示装置である。
図１０は対向基板の要部断面図である。
本実施形態の基本的な構成は実施形態１と同様であり、実施形態１と同じ構成要素については同じ参照符号を付して、説明を省略する。

本実施形態の液晶表示装置の全体構成は実施形態１と同様であり、実施形態１とは対向基板の構成のみが異なっている。
本実施形態の液晶表示装置の対向基板９は、実施形態１と同様、画素部Ｐ及び額縁部Ｆに形成され、画素部Ｐに複数の開口部４０Ｈを有し、額縁部Ｆに開口部４０Ｈを有さず、画素部Ｐの隣接する画素間及び額縁部Ｆを遮光するＢＭ４０を備えている。

本実施形態の液晶表示装置は、画素部ＰのＢＭ４０上及び複数の開口部４０Ｈ内に色材層４１が形成されたカラー液晶表示装置であり、額縁部ＦのＢＭ４０上の少なくとも一部に色材層４１が形成されている。色材層４１は例えば、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、及び青（Ｂ）の３色の層である。

本実施形態において、額縁部ＦのＢＭ４０上の色材層４１の膜厚をｃ１、画素部ＰのＢＭ４０上の色材層４１の膜厚をｃ２としたとき、ｃ１＞ｃ２である。
画素部Ｐと額縁部Ｆの色材層４１の膜厚の差は、ＢＭ段差に起因した色材層４１の塗布ムラによるものである。
本実施形態では、ＢＭ４０及び色材層４１が形成された対向基板１０の画素部Ｐ及び額縁部ＦにＯＣ膜５１及び複数の柱状スペーサ２１が形成されている。
本実施形態において、額縁部Ｆの色材層４１上のＯＣ膜５１の膜厚をｄ１、画素部Ｐの色材層４１上のＯＣ膜５１の膜厚をｄ２とし、額縁部Ｆの色材層４１及びＯＣ膜５１上の柱状スペーサ２１の高さをａ、画素部Ｐの色材層４１及びＯＣ膜５１上の柱状スペーサ２１の高さをｂとしたとき、対向基板１０の画素部ＰのＢＭ４０の形成領域に、額縁部Ｆと画素部Ｐのセルギャップの差を（ａ＋ｄ１＋ｃ１）−（ｂ＋ｄ２＋ｃ２）より小さく調整する膜厚調整膜４２が形成されている。
膜厚調整膜５４の膜厚を（ａ＋ｄ１+ｃ１）−（ｂ＋ｄ２+ｃ２）に略等しくし、額縁部Ｆと画素部Ｐのセルギャップの差をほぼ０にすることが最も好ましい。

図示する例では、膜厚調整膜４２は、色材層４１上に形成された第２の色材層である。第２の色材層は表示に寄与しないので、下層の第１の色材層４１と同色でもよいし、異なる層でもよい。

本実施形態において、額縁部Ｆには、ＢＭ４０及びＯＣ膜５１上に形成される柱状スペーサ２１と、ＢＭ４０、色材層４１、及びＯＣ膜５１上に形成される柱状スペーサ２１とがあるが、額縁部Ｆのセルギャップは、ＢＭ４０、色材層４１、及びＯＣ膜５１上に形成された柱状スペーサ２１の高さに依存する。

以上説明したように、本実施形態によれば、ＢＭ及び色材層の段差によるセルギャップの不均一性が低減され、表示品質が向上されたカラー液晶表示装置を提供することができる。

膜厚調整膜４２は、ＯＣ膜等の他の層によって形成することもでき、実施形態７のようにＴＦＴアレイ基板１側に設けることもできる。

本実施形態では、実施形態４、７をカラー液晶表示装置に適用した適用例について説明したが、実施形態３、５、６をカラー液晶表示装置に適用することもできる。この場合、実施形態３、５、６の設計に合わせて、画素部Ｐと額縁部Ｆの色材層４１の膜厚の差を考慮して、ＢＭ４０及び色材層４１の段差によるセルギャップの不均一性を低減するようにすればよい。

「設計変更」
本発明は上記実施形態に限らず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、設計変更可能である。
本発明は、透過型のＴＦＴ液晶表示装置のみならず、任意の表示方式の液晶表示装置に適用可能である。

１００ 液晶表示装置
１ ＴＦＴアレイ基板
２、４〜１０ 対向基板
３ 液晶セル
１２ 画素電極
１３ ＴＦＴ
２０ 液晶層
２１ 柱状スペーサ
２１Ｒ 感光性樹脂
４０ ＢＭ（遮光層）
４０Ｈ 開口部
４１ 色材層
４２ 膜厚調整膜
５１ ＯＣ膜（オーバーコート膜）
５１Ｒ 感光性樹脂
５２ 第２のＯＣ膜
５３、５４ 膜厚調整膜
６０ 共通電極
７１、７２ 偏光板
８０ シール材
Ｐ 画素部
Ｆ 額縁部

Claims (9)

1. 液晶層と当該液晶層を挟持して対向配置された一対の基板とを備え、
   平面視、複数の画素がマトリックス状に配置され、表示領域を含む画素部と、当該画素部の外側に形成された非表示領域である額縁部とを有し、
   前記一対の基板のうち一方の基板には、前記画素部及び前記額縁部に形成され、前記画素部に複数の開口部を有し、前記額縁部に開口部を有さず、前記画素部の隣接する前記画素間及び前記額縁部を遮光する遮光層が形成されたモノクロ液晶表示装置であって、
   前記画素部の前記複数の開口部内に、前記遮光層と略同一膜厚のオーバーコート膜が形成され、前記画素部及び前記額縁部の前記遮光層上に当該オーバーコート膜が形成されずに、前記遮光層及び前記オーバーコート膜が形成された前記基板の表面が略平坦化されており、前記画素部及び前記額縁部の前記遮光層上に複数の柱状スペーサが形成された液晶表示装置。
2. 前記遮光層及び前記オーバーコート膜上に第２のオーバーコート膜が形成され、当該第２のオーバーコート膜上に複数の柱状スペーサが形成された請求項１に記載の液晶表示装置。
3. 液晶層と当該液晶層を挟持して対向配置された一対の基板とを備え、
   平面視、複数の画素がマトリックス状に配置され、表示領域を含む画素部と、当該画素部の外側に形成された非表示領域である額縁部とを有し、
   前記一対の基板のうち一方の基板には、前記画素部及び前記額縁部に形成され、前記画素部に複数の開口部を有し、前記額縁部に開口部を有さず、前記画素部の隣接する前記画素間及び前記額縁部を遮光する遮光層が形成されたモノクロ液晶表示装置であって、
   前記遮光層が形成された前記基板の前記画素部及び前記額縁部に複数の柱状スペーサが形成されており、
   前記額縁部の前記柱状スペーサの高さをａ、前記画素部の前記柱状スペーサの高さをｂとしたとき、ａ＞ｂであり、
   前記遮光層が形成された前記基板の前記画素部には、前記遮光層上及び前記遮光層の前記複数の開口部内にオーバーコート膜が形成され、前記額縁部の前記柱状スペーサの形成領域にはオーバーコート膜が形成されておらず、
   前記額縁部において前記遮光層上に形成された前記柱状スペーサの頂点高さ位置と、前記画素部において前記遮光層及び前記オーバーコート膜上に形成された前記柱状スペーサの頂点高さ位置との差がａ−ｂより小さい液晶表示装置。
4. 前記画素部の前記遮光層上の前記オーバーコート膜の膜厚がａ−ｂに略等しい請求項３に記載の液晶表示装置。
5. 液晶層と当該液晶層を挟持して対向配置された一対の基板とを備え、
   平面視、複数の画素がマトリックス状に配置され、表示領域を含む画素部と、当該画素部の外側に形成された非表示領域である額縁部とを有し、
   前記一対の基板のうち一方の基板には、前記画素部及び前記額縁部に形成され、前記画素部に複数の開口部を有し、前記額縁部に開口部を有さず、前記画素部の隣接する前記画素間及び前記額縁部を遮光する遮光層が形成されたモノクロ液晶表示装置であって、
   前記遮光層が形成された前記基板の前記額縁部と前記画素部に複数の柱状スペーサが形成されており、
   前記額縁部の前記柱状スペーサの高さをａ、前記画素部の前記柱状スペーサの高さをｂとしたとき、ａ＞ｂであり、
   前記遮光層が形成された前記基板の前記画素部及び前記額縁部にオーバーコート膜が形成されており、
   前記額縁部の前記遮光層上の前記オーバーコート膜の膜厚をｄ１、前記画素部の前記遮光層上の前記オーバーコート膜の膜厚をｄ２としたとき、ｄ１＞ｄ２であり、
   前記遮光層が形成された前記基板又は当該基板と対向する基板に、前記画素部の前記柱状スペーサの形成位置に、前記額縁部と前記画素部のセルギャップの差を（ａ＋ｄ１）−（ｂ＋ｄ２）より小さく調整する膜厚調整膜が形成された液晶表示装置。
6. 前記膜厚調整膜の膜厚が、（ａ＋ｄ１）−（ｂ＋ｄ２）に略等しい請求項５に記載の液晶表示装置。
7. 液晶層と当該液晶層を挟持して対向配置された一対の基板とを備え、
   平面視、複数の画素がマトリックス状に配置され、表示領域を含む画素部と、当該画素部の外側に形成された非表示領域である額縁部とを有し、
   前記一対の基板のうち一方の基板には、前記画素部及び前記額縁部に形成され、前記画素部に複数の開口部を有し、前記額縁部に開口部を有さず、前記画素部の隣接する前記画素間及び前記額縁部を遮光する遮光層が形成されたモノクロ液晶表示装置であって、
   前記遮光層が形成された前記基板の前記額縁部と前記画素部に複数の柱状スペーサが形成されており、
   前記額縁部の前記柱状スペーサの高さをａ、前記画素部の前記柱状スペーサの高さをｂとしたとき、ａ＞ｂであり、
   前記遮光層が形成された前記基板の前記画素部及び前記額縁部に感光性レジストを用いてオーバーコート膜が形成されており、
   前記オーバーコート膜形成時に前記額縁部と前記画素部を同一露光条件で露光したときの前記額縁部の前記遮光層上の前記オーバーコート膜の膜厚をｄ１、前記画素部の前記遮光層上の前記オーバーコート膜の膜厚をｄ２としたとき、ｄ１＞ｄ２であり、
   前記額縁部において前記遮光層及び前記オーバーコート膜上に形成された前記柱状スペーサの頂点高さ位置と、前記画素部において前記遮光層及び前記オーバーコート膜上に形成された前記柱状スペーサの頂点高さ位置との差が（ａ＋ｄ１）−（ｂ＋ｄ２）より小さくなるよう、前記オーバーコート膜形成時の前記額縁部と前記画素部の露光条件を変えて、前記オーバーコート膜の前記額縁部と前記画素部の膜厚が調整された液晶表示装置。
8. 液晶層と当該液晶層を挟持して対向配置された一対の基板とを備え、
   平面視、複数の画素がマトリックス状に配置され、表示領域を含む画素部と、当該画素部の外側に形成された非表示領域である額縁部とを有し、
   前記一対の基板のうち一方の基板には、前記画素部及び前記額縁部に形成され、前記画素部に複数の開口部を有し、前記額縁部に開口部を有さず、前記画素部の隣接する前記画素間及び前記額縁部を遮光する遮光層が形成されたモノクロ液晶表示装置であって、
   前記遮光層が形成された前記基板の前記額縁部と前記画素部にオーバーコート膜が形成され、前記遮光層が形成された前記基板の前記額縁部と前記画素部に感光性レジストを用いて複数の柱状スペーサが形成されており、
   前記額縁部の前記遮光層上の前記オーバーコート膜の膜厚をｄ１、前記画素部の前記遮光層上の前記オーバーコート膜の膜厚をｄ２としたとき、ｄ１＞ｄ２であり、
   前記柱状スペーサ形成時に前記額縁部と前記画素部を同一露光条件で露光したときの前記額縁部の前記柱状スペーサの高さをａ、前記画素部の前記柱状スペーサの高さをｂとしたとき、ａ＞ｂであり、
   前記画素部において前記遮光層及び前記オーバーコート膜上に形成された前記柱状スペーサの頂点高さ位置と、前記額縁部において前記遮光層及び前記オーバーコート膜上に形成された前記柱状スペーサの頂点高さ位置との差が（ａ＋ｄ１）−（ｂ＋ｄ２）より小さくなるよう、前記柱状スペーサ形成時の前記額縁部と前記画素部の露光条件を変えて、前記柱状スペーサの前記額縁部と前記画素部の高さが調整された液晶表示装置。
9. 液晶層と当該液晶層を挟持して対向配置された一対の基板とを備え、
   平面視、複数の画素がマトリックス状に配置され、表示領域を含む画素部と、当該画素部の外側に形成された非表示領域である額縁部とを有し、
   前記一対の基板のうち一方の基板には、前記画素部及び前記額縁部に形成され、前記画素部に複数の開口部を有し、前記額縁部に開口部を有さず、前記画素部の隣接する前記画素間及び前記額縁部を遮光する遮光層が形成され、前記画素部の前記遮光層上及び前記複数の開口部内に色材層が形成されたカラー液晶表示装置であって、
   前記額縁部の前記遮光層上の少なくとも一部に前記色材層が形成され、
   前記額縁部の前記遮光層上の前記色材層の膜厚をｃ１、前記画素部の前記遮光層上の前記色材層の膜厚をｃ２としたとき、ｃ１＞ｃ２であり、
   前記遮光層及び前記色材層が形成された前記基板の前記画素部及び前記額縁部にオーバーコート膜及び複数の柱状スペーサが形成されており、
   前記額縁部の前記色材層上の前記オーバーコート膜の膜厚をｄ１、前記画素部の前記色材層上の前記オーバーコート膜の膜厚をｄ２とし、前記額縁部の前記色材層及び前記オーバーコート膜上の前記柱状スペーサの高さをａ、前記画素部の前記色材層及び前記オーバーコート膜上の前記柱状スペーサの高さをｂとしたとき、
   前記遮光層及び前記色材層が形成された前記基板、又は当該基板と対向する基板に、前記画素部の前記遮光層上に、前記額縁部と前記画素部のセルギャップの差を（ａ＋ｄ１＋ｃ１）−（ｂ＋ｄ２＋ｃ２）より小さく調整する膜厚調整膜が形成された液晶表示装置。

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