JP6722679B2 - Conductive paste - Google Patents

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Description

本発明は、例えばチップ型電子部品をプリント配線基板に接合するために好適に使用することのできる、導電性ペーストに関する。 The present invention relates to a conductive paste which can be suitably used for joining a chip-type electronic component to a printed wiring board, for example.

古くから、基板上に電子部品を表面実装するための接合材として、ハンダが用いられてきた。 For a long time, solder has been used as a bonding material for surface-mounting electronic components on a substrate.

近年、ハンダによる接合の代わりに、銀などの金属の微粒子を含む導電性ペーストを被接合物同士の間に介在させ、接合材中の金属を焼結させて、被接合物同士を接合する技術が開発されている。 In recent years, a technique for joining objects to be joined by interposing an electrically conductive paste containing fine particles of a metal such as silver between the objects to be joined and sintering the metal in the joining material instead of soldering Is being developed.

接合材による接合部に大きなボイドが存在すると、繰り返して冷熱サイクルを受けた場合などにおいて、ボイドから接合部に亀裂が生じ、接合の信頼性が低下することがある。 When a large void is present in the joint portion formed by the joint material, cracks may be generated in the joint portion from the void and the reliability of the joint may be deteriorated when repeatedly subjected to a thermal cycle.

特許文献1には、ボイドの発生を抑制することのできる接合材として、ヘキサン酸などの炭素数8以下の有機化合物で被覆され平均一次粒子径1〜50nmの銀微粒子と、オレイン酸などの有機化合物で被覆された平均一次粒子径0.5〜4μmの銀粒子と、3〜7質量%のアルコールと0.3〜1質量%のトリオールとからなる溶剤と、0.5〜2質量%の酸系分散剤と0.01〜0.1質量%のリン酸エステル系分散剤からなる分散剤と、0.01〜0.1質量%のジグリコール酸などの焼結助剤とを含む銀ペーストからなる接合材において、銀微粒子の含有量が5〜30質量%、銀粒子の含有量が60〜90質量%、銀微粒子と銀粒子の合計の含有量が90質量%以上である、接合剤が開示される。 Patent Document 1 discloses, as a bonding material capable of suppressing the occurrence of voids, silver fine particles having an average primary particle diameter of 1 to 50 nm and coated with an organic compound having 8 or less carbon atoms, such as hexanoic acid, and an organic material such as oleic acid. Compound-coated silver particles having an average primary particle diameter of 0.5 to 4 μm, a solvent consisting of 3 to 7% by mass of alcohol and 0.3 to 1% by mass of triol, and 0.5 to 2% by mass. Silver containing a dispersant comprising an acid dispersant and 0.01 to 0.1% by mass of a phosphate ester dispersant, and 0.01 to 0.1% by mass of a sintering aid such as diglycolic acid. In a bonding material made of a paste, the content of silver fine particles is 5 to 30% by mass, the content of silver particles is 60 to 90% by mass, and the total content of silver fine particles and silver particles is 90% by mass or more. Agents are disclosed.

特許文献2には、4.6g/cc以上のタップ密度を有するマイクロまたはサブマイクロサイズの銀フレークと、銀表面に存在する任意の脂肪酸潤滑剤または界面活性剤を溶解する溶媒を含む、導電性組成物が開示される。この文献における課題は、従来の半導体組み立てにおけるハンダの代替品として高出力デバイスの導電性の増強をもたらし、従来の銀フレークおよび接着性樹脂を含む典型的な導電性接着剤組成物並びに圧力をかけて焼結する必要があるナノ銀だけを含む組成物の代替品を提供することである。 Patent Document 2 discloses a conductive material containing a micro or sub-micro size silver flake having a tap density of 4.6 g/cc or more and a solvent that dissolves any fatty acid lubricant or surfactant present on the silver surface. A composition is disclosed. The challenge in this document is to provide enhanced conductivity of high power devices as a replacement for solder in conventional semiconductor assembly, with typical conductive adhesive compositions containing conventional silver flakes and adhesive resins and pressure. To provide an alternative to compositions containing only nanosilver that need to be sintered.

特許文献3には、脂肪酸、脂肪酸塩および脂肪酸エステルからなる群から選択される少なくとも1つの化合物を含むコーティングを有する金属粒子と、少なくとも1つの脂肪族炭化水素化合物とを含有する、ペーストが開示される。前記少なくとも1つのコーティング化合物は、8〜28個の炭素原子を有する飽和脂肪酸、8〜28個の炭素原子を有する飽和脂肪酸の塩、8〜28個の炭素原子を有する飽和脂肪酸のエステル、およびこれらの混合物からなる群から選択されることができる。この文献における課題は、電子部品が基板と安定的に結合されるようにする焼結プロセスであって、プロセス温度が250℃未満であるプロセスと、このプロセスに使用可能なペーストを提供することである。 Patent Document 3 discloses a paste containing metal particles having a coating containing at least one compound selected from the group consisting of fatty acids, fatty acid salts and fatty acid esters, and at least one aliphatic hydrocarbon compound. It Said at least one coating compound comprises saturated fatty acids having 8 to 28 carbon atoms, salts of saturated fatty acids having 8 to 28 carbon atoms, esters of saturated fatty acids having 8 to 28 carbon atoms, and these Can be selected from the group consisting of mixtures of The problem in this document is to provide a sintering process that allows electronic components to be stably bonded to a substrate, the process temperature being below 250° C., and a paste that can be used for this process. is there.

特開2015−004105号公報JP, 2005-004105, A 特表2014−512634号公報Japanese Patent Publication No. 2014-512634 特開2012−084514号公報JP, 2012-084514, A

本発明者の検討によれば、従来の銀ペーストによってチップサイズ約2mm以下の比較的小さいチップを基板に接合した場合、接合部における大きなボイドの発生を抑制することが可能であるが、例えばチップサイズ10mm程度の比較的大きなチップを接合する場合、従来の銀ペーストでは接合部における大きなボイドの発生を抑制することが難しいことがある。 According to the study by the present inventor, when a relatively small chip having a chip size of about 2 mm or less is bonded to a substrate with a conventional silver paste, it is possible to suppress the generation of a large void at the bonding portion. When bonding a relatively large chip having a size of about 10 mm, it may be difficult to suppress the generation of a large void in the bonded portion with the conventional silver paste.

本発明の目的は、比較的大きなチップを基板に接合する場合であっても、接合部における大きなボイドの発生を抑制することのできる導電性ペーストを提供することである。 An object of the present invention is to provide a conductive paste capable of suppressing the generation of large voids in a bonded portion even when bonding a relatively large chip to a substrate.

本発明の一態様によれば、
平均粒径0.5μm以上10μm以下の金属粉と、
金属微粒子と、
前記金属微粒子の表面を被覆している被覆剤と、
前記金属粉及び前記金属微粒子を分散させている溶剤と、
を含む導電性ペーストであって、
金属微粒子の表面に付着した被覆剤を含めた金属微粒子の平均粒径が1nm以上50nm以下であり、
前記被覆剤は、炭素数が6以上20以下の化合物であってカルボキシル構造を有する化合物であり、
前記溶剤は、ヒドロキシル構造、エステル構造及びエーテル構造からなる群から選択される少なくとも一種を有する化合物であり、
前記金属粉が、球状金属粉とフレーク状金属粉とを含み、
前記球状金属粉と前記フレーク状金属粉との質量比(球状金属粉:フレーク状金属粉)が、90:10〜15:85の範囲にある、
導電性ペーストが提供される。
According to one aspect of the invention,
Metal powder having an average particle size of 0.5 μm or more and 10 μm or less,
Metal particles,
A coating agent coating the surface of the metal fine particles,
A solvent in which the metal powder and the metal fine particles are dispersed,
A conductive paste containing
The average particle diameter of the metal fine particles including the coating agent adhered to the surface of the metal fine particles is 1 nm or more and 50 nm or less,
The coating material is a compound having 6 to 20 carbon atoms and a carboxyl structure,
The solvent is Ri compound der having at least one member selected from the group consisting of hydroxyl structure, ester structure and ether structure,
The metal powder includes spherical metal powder and flaky metal powder,
The mass ratio of the spherical metal powder and the flake-shaped metal powder (spherical metal powder:flake-shaped metal powder) is in the range of 90:10 to 15:85,
A conductive paste is provided.

本発明の別の態様によれば、前記導電性ペーストの焼結体からなる層を有する、基板が提供される。 According to another aspect of the present invention, there is provided a substrate having a layer made of a sintered body of the conductive paste.

本発明によれば、比較的大きなチップを基板に接合する場合であっても、接合部における大きなボイドの発生を抑制することのできる導電性ペーストが提供される。 According to the present invention, there is provided a conductive paste capable of suppressing the generation of large voids in a bonded portion even when a relatively large chip is bonded to a substrate.

本発明に係る導電性ペーストは、
平均粒径0.5μm以上10μm以下の金属粉と、
金属微粒子と、
前記金属微粒子の表面を被覆している被覆剤と、
前記金属粉及び前記金属微粒子を分散させている溶剤と、
を含む。
The conductive paste according to the present invention,
Metal powder having an average particle size of 0.5 μm or more and 10 μm or less,
Metal particles,
A coating agent coating the surface of the metal fine particles,
A solvent in which the metal powder and the metal fine particles are dispersed,
including.

金属微粒子の表面に付着した被覆剤を含めた金属微粒子の平均粒径が1nm以上50nm以下である。 The average particle size of the metal fine particles including the coating agent attached to the surface of the metal fine particles is 1 nm or more and 50 nm or less.

なお、本発明に関して、金属微粒子の量(質量や含有量)に言及する場合、特に断りのない限り、金属微粒子のみ(したがって被覆剤は含まない)の量を意味する。一方、金属微粒子の粒径に言及する場合、特に断りのない限り、金属微粒子の表面に付着した被覆剤を含んだ粒径を意味する。また、平均粒径は、体積基準の存在比率の積算値が50%のメジアン径を意味する。 In addition, in the present invention, when referring to the amount (mass or content) of the metal fine particles, it means the amount of only the metal fine particles (hence not including the coating agent) unless otherwise specified. On the other hand, when referring to the particle size of the metal fine particles, unless otherwise specified, it means the particle size including the coating agent adhered to the surface of the metal fine particles. Further, the average particle diameter means a median diameter whose cumulative value of the volume-based existence ratio is 50%.

〔金属成分〕
導電性ペースト中の金属成分として、平均粒径0.5μm以上10μm以下の金属粉と、平均粒径1nm以上50nm以下の金属微粒子と、を用いる。金属粉の平均粒径は、好ましくは0.5〜2μmである。金属微粒子の平均粒径は、好ましくは1〜30nmである。このような金属粉および金属微粒子を用いることにより、導電性ペーストの焼結体からなる接合部に大きなボイドが発生するのを抑制することができる。
[Metal component]
As the metal component in the conductive paste, metal powder having an average particle size of 0.5 μm or more and 10 μm or less and metal fine particles having an average particle size of 1 nm or more and 50 nm or less are used. The average particle size of the metal powder is preferably 0.5 to 2 μm. The average particle size of the metal fine particles is preferably 1 to 30 nm. By using such metal powder and metal fine particles, it is possible to suppress the generation of large voids in the joint portion formed of the sintered body of the conductive paste.

導電性および入手容易性の観点から、好ましくは、金属粉は、銀、銅、アルミニウムおよびニッケルからなる群から選択される少なくとも一種からなる。 From the viewpoint of conductivity and availability, the metal powder preferably comprises at least one selected from the group consisting of silver, copper, aluminum and nickel.

金属粉の形状は適宜選ぶことができるが、金属粉が、球状金属粉とフレーク状金属粉とを含むことが好ましい。金属粉は、球状金属粉とフレーク状金属粉とからなることもできる。球状金属粉とフレーク状金属粉との質量比(球状金属粉:フレーク状金属粉)が、90:10〜15:85の範囲にあることが好ましい。球状金属粉とフレーク状金属粉とを用いること、さらに好ましくは前記比率で用いることによって、焼成時に揮発する有機成分が抜けやすくなり、接合部に大きなボイドが発生することをいっそう確実に抑制することができる。 The shape of the metal powder can be appropriately selected, but the metal powder preferably contains spherical metal powder and flake-shaped metal powder. The metal powder may be composed of spherical metal powder and flake-shaped metal powder. The mass ratio of the spherical metal powder to the flake-shaped metal powder (spherical metal powder:flake-shaped metal powder) is preferably in the range of 90:10 to 15:85. Using spherical metal powder and flake-shaped metal powder, more preferably by using in the above ratio, the organic components that volatilize during firing become easy to escape, it is possible to more reliably suppress the occurrence of large voids in the joint. You can

なお、金属粉の球状、フレーク状はアスペクト比をもとに定義しており、金属粉が球状であるとは、アスペクト比が1.1未満であることを意味し、金属粉がフレーク状であるとは、アスペクト比が1.1以上であることを意味する。アスペクト比とは、金属粉の[平均長径(μm)]/[平均厚さ(μm)]で算出されるものである。球状金属粉の平均長径および平均厚さは、走査型電子顕微鏡で適正な倍率(2000倍前後)の観察像を得て、その観察像の中にある30個以上の粒子の長径及び厚さを直接観察して、その平均値として得られた値を用いることができる。一方、フレーク状金属粉の平均長径および平均厚さは、まずフレーク銀粉をエポキシ樹脂で固めた試料を製造し、次にその試料の断面を走査型電子顕微鏡(倍率10000倍)で直接観察し、視野内にある銀粒子の30個以上の長径、厚さそれぞれの総和をフレーク状金属粉の個数で除して求めることができる。 The spherical shape and flake shape of the metal powder are defined based on the aspect ratio. The spherical shape of the metal powder means that the aspect ratio is less than 1.1, and the metal powder has the flake shape. "Yes" means that the aspect ratio is 1.1 or more. The aspect ratio is calculated by [average long diameter (μm)]/[average thickness (μm)] of the metal powder. The average major axis and average thickness of the spherical metal powder are obtained by observing an observation image with an appropriate magnification (around 2000 times) with a scanning electron microscope, and measuring the major axis and thickness of 30 or more particles in the observation image. It is possible to directly observe and use the value obtained as the average value. On the other hand, the average major axis and the average thickness of the flake-shaped metal powder are determined by first manufacturing a sample in which flake silver powder is hardened with an epoxy resin, and then observing the cross section of the sample directly with a scanning electron microscope (magnification: 10,000 times). It can be determined by dividing the total of 30 or more major axes and thicknesses of silver particles in the visual field by the number of flaky metal powders.

導電性の観点から、好ましくは、金属微粒子は、銀、銅、パラジウムおよびニッケルからなる群から選択される少なくとも一種からなる。 From the viewpoint of conductivity, the metal fine particles are preferably composed of at least one selected from the group consisting of silver, copper, palladium and nickel.

金属粉を構成する金属と、金属微粒子を構成する金属とが同じであってもよく、また異なっていてもよい。 The metal forming the metal powder and the metal forming the metal fine particles may be the same or different.

〔被覆剤〕
金属微粒子は、金属微粒子同士の凝集を抑制する目的で、被覆剤によって被覆される。この被覆剤は、炭素数が6以上20以下の化合物であってカルボキシル構造を有する化合物、特には有機化合物である。この化合物は、金属微粒子表面に強力に付着可能であり、また、導電性ペーストが使用される200℃〜400℃の温度領域にて分解される一方で、室温では十分に安定(金属微粒子から分離・揮発しにくい)である。好ましい炭素数は6以上18以下である。また、被覆剤として、炭素数6〜8のカルボン酸と炭素数16〜18のカルボン酸を併用することが好ましい。
[Coating agent]
The metal fine particles are coated with a coating agent for the purpose of suppressing aggregation of the metal fine particles. This coating agent is a compound having 6 to 20 carbon atoms and a carboxyl structure, particularly an organic compound. This compound is capable of strongly adhering to the surface of metal fine particles and is decomposed in the temperature range of 200°C to 400°C where the conductive paste is used, while it is sufficiently stable at room temperature (separated from metal fine particles).・It is hard to volatilize). The preferred carbon number is 6 or more and 18 or less. Further, as the coating agent, it is preferable to use a carboxylic acid having 6 to 8 carbon atoms and a carboxylic acid having 16 to 18 carbon atoms in combination.

被覆剤は、分子構造中にカルボキシル基を1つだけ含んでもよいし、2つ以上含んでもよい。また被覆剤は、分子構造中に、カルボキシル基の他に、エステル基、エーテル基およびヒドロキシル基からなる群から選ばれる一種以上の基を含んでいてもよい。被覆剤として、マレイン酸モノエチルやリシノール酸などが好ましい。被覆剤として、これら化合物を単独で使用しても良いし、複数種を併用しても良い。 The coating agent may include only one carboxyl group in the molecular structure, or may include two or more carboxyl groups. Further, the coating agent may contain, in the molecular structure, one or more groups selected from the group consisting of an ester group, an ether group and a hydroxyl group, in addition to the carboxyl group. As the coating agent, monoethyl maleate or ricinoleic acid is preferable. As the coating agent, these compounds may be used alone or in combination of two or more kinds.

被覆剤として使用されるカルボキシル基を有する化合物は、構造中に不飽和結合を1つ以上有していてもよいし、不飽和結合を有していなくてもよい。 The compound having a carboxyl group used as a coating agent may have one or more unsaturated bonds in the structure, or may not have an unsaturated bond.

〔溶剤〕
金属粉および金属微粒子を分散させるために、溶剤を用いる。溶剤は、ヒドロキシル構造、エステル構造及びエーテル構造からなる群から選択される少なくとも一種を有する化合物、特には有機化合物である。
〔solvent〕
A solvent is used to disperse the metal powder and the metal fine particles. The solvent is a compound having at least one selected from the group consisting of a hydroxyl structure, an ester structure and an ether structure, particularly an organic compound.

溶剤は、分子構造中にヒドロキシル基を1つ以上含むものが好ましく、ヒドロキシル基に加えて、エステル基および/またはエーテル基を含んでいてもよい。 The solvent preferably contains one or more hydroxyl groups in the molecular structure, and may contain an ester group and/or an ether group in addition to the hydroxyl group.

溶剤の沸点(1気圧における)が好ましくは200〜400℃の範囲、より好ましくは220〜320℃の範囲であると、導電性ペーストの安定性を保ちつつ、焼成時の大きなボイドの発生をより確実に抑制することができる。 When the boiling point of the solvent (at 1 atm) is preferably in the range of 200 to 400° C., more preferably in the range of 220 to 320° C., the generation of large voids at the time of firing is maintained while maintaining the stability of the conductive paste. It can be surely suppressed.

溶剤には、ジエチレングリコールモノブチルエーテル(沸点230℃)、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル(沸点258℃)、ジエチレングリコールモノオクチルエーテル(沸点286℃)、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール(沸点244℃)、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート(沸点247℃)、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール(沸点255℃)などが好ましい。これら溶剤は単独で使用しても良いし、複数種を併用しても良い。 As the solvent, diethylene glycol monobutyl ether (boiling point 230° C.), diethylene glycol monohexyl ether (boiling point 258° C.), diethylene glycol monooctyl ether (boiling point 286° C.), 2-ethyl-1,3-hexanediol (boiling point 244° C.), diethylene glycol Monobutyl ether acetate (boiling point 247°C), 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol (boiling point 255°C) and the like are preferable. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

〔組成〕
導電性ペースト中の金属成分の含有量(金属粉と金属微粒子の合計含有量)は、好ましくは87質量%超、98質量%未満、より好ましくは88質量%以上、97質量%以下である。さらに好ましくは、90質量%以上、96質量%以下である。焼成時に揮発させるべき有機成分を低減することができ、接合部に大きなボイドが発生することを、より確実に抑制することができるからである。また、導電性ペースト中の金属成分の含有量は、後に詳述する導電性ペーストの粘度にも関連し、上記範囲の上限値は粘度も考慮したものである。
〔composition〕
The content of the metal component in the conductive paste (the total content of the metal powder and the metal fine particles) is preferably more than 87% by mass and less than 98% by mass, more preferably 88% by mass or more and 97% by mass or less. More preferably, it is 90% by mass or more and 96% by mass or less. This is because it is possible to reduce the amount of organic components to be volatilized during firing, and it is possible to more reliably suppress the generation of large voids at the joint. Further, the content of the metal component in the conductive paste is also related to the viscosity of the conductive paste, which will be described in detail later, and the upper limit of the above range also takes the viscosity into consideration.

金属微粒子と被覆剤との合計量に対する被覆剤の量の比率は、好ましくは4質量%を超え、13質量%未満であり、より好ましくは5質量%以上、12質量%以下である。さらに好ましくは、5質量%以上、9質量%以下である。焼成時に揮発させるべき有機成分を低減することができ、接合部に大きなボイドが発生することを、より確実に抑制することができるからである。 The ratio of the amount of the coating material to the total amount of the metal fine particles and the coating material is preferably more than 4% by mass and less than 13% by mass, more preferably 5% by mass or more and 12% by mass or less. More preferably, it is 5% by mass or more and 9% by mass or less. This is because it is possible to reduce the amount of organic components to be volatilized during firing, and it is possible to more reliably suppress the generation of large voids at the joint.

導電性ペーストは、金属粉、金属微粒子、被覆剤および溶剤からなっていてよい。あるいは、導電性ペーストがこれら以外の他の成分を含むこともできる。 The conductive paste may consist of metal powder, fine metal particles, a coating agent and a solvent. Alternatively, the conductive paste may include other components other than these.

金属粉と金属微粒子の好ましい質量比は97:3〜80:20、より好ましくは93:7〜87:13である。 The preferable mass ratio of the metal powder and the metal fine particles is 97:3 to 80:20, more preferably 93:7 to 87:13.

有機成分が焼成膜内部に残存することに起因して、導電性ペーストの焼結体の比抵抗が大きくなることを防止する観点から、導電性ペーストは、重合して形成される熱硬化性の樹脂成分を含有しないことが好ましい。 From the viewpoint of preventing the resistivity of the sintered body of the conductive paste from increasing due to the organic components remaining inside the fired film, the conductive paste is a thermosetting resin formed by polymerization. It is preferable not to contain a resin component.

〔導電性ペーストの粘度〕
導電性ペーストの粘度(E型粘度計で10rpm、25℃にて測定した値)は、好ましくは3Pa・s以上150Pa・s以下の範囲、より好ましくは10Pa・s以上100Pa・s以下の範囲である。これにより、メタルマスク印刷やディスペンス印刷に適したペーストにすることができる。
[Viscosity of conductive paste]
The viscosity of the conductive paste (value measured with an E-type viscometer at 10 rpm and 25° C.) is preferably 3 Pa·s or more and 150 Pa·s or less, more preferably 10 Pa·s or more and 100 Pa·s or less. is there. This makes it possible to obtain a paste suitable for metal mask printing and dispense printing.

〔導電性ペーストの使用〕
導電性ペーストを基板に塗布し、特にはメタルマスク印刷やディスペンサー印刷などの印刷法によって塗布し、その後適宜焼成することによって導電性ペーストを焼結させることができる。その方法は導電性ペーストの分野で従来公知の方法を用いることができる。そのようにして基板上に形成された焼結体からなる層は、配線や電極として利用できる。また、上記と同様の方法で基板に導電性ペーストを塗布し、その塗膜に接して電子部品などの物体を配置し、焼成することにより、導電性ペーストを接合材として利用できる。樹脂を含まない導電性ペーストは、樹脂成分(有機成分)が焼成膜内部に残存しないため、比較的低温での焼成が可能である。基板としては例えば電子回路基板、特にはプリント基板を適宜用いることができる。
[Use of conductive paste]
It is possible to sinter the conductive paste by applying the conductive paste onto a substrate, particularly by a printing method such as metal mask printing or dispenser printing, and then firing it appropriately. As the method, a conventionally known method in the field of conductive paste can be used. The layer made of the sintered body thus formed on the substrate can be used as a wiring or an electrode. In addition, the conductive paste can be used as a bonding material by applying the conductive paste to the substrate by the same method as described above, placing an object such as an electronic component in contact with the coating film, and baking the applied material. Since the resin component (organic component) does not remain inside the fired film, the conductive paste containing no resin can be fired at a relatively low temperature. As the substrate, for example, an electronic circuit substrate, especially a printed circuit board can be appropriately used.

以下に詳述するように、銀微粒子を調製した後、この銀微粒子を用いて導電性ペーストを作成した。 As described in detail below, after silver fine particles were prepared, a conductive paste was prepared using the silver fine particles.

〔実施例1〕
<銀微粒子の調製>
・工程1a
2Lビーカーに、粉末状酸化銀(東洋化学工業製 酸化銀特級、粒度分布30μm以下、平均粒径6μm)を54.25g、メチルシクロヘキサン(沸点101℃の非極性炭化水素溶媒)を225g加えて撹拌した後、30秒間かけてギ酸を22.8g加えて撹拌した。
[Example 1]
<Preparation of fine silver particles>
・Process 1a
To a 2 L beaker, 54.25 g of powdered silver oxide (manufactured by Toyo Chemical Industry, special grade of silver oxide, particle size distribution of 30 μm or less, average particle size of 6 μm) and 225 g of methylcyclohexane (a non-polar hydrocarbon solvent having a boiling point of 101° C.) were added and stirred. After that, 22.8 g of formic acid was added over 30 seconds and the mixture was stirred.

・工程1b
ギ酸銀生成による発熱がおさまり、液温が30℃になった時点で、オレイルアミン(1級アミン、分子量267.49)4.35g、ジブチルアミン(2級アミン、分子量129.24)64g、メチルシクロヘキサン40gを同時に加えて分解的還元反応を行った。液温は58℃まで上昇した。液温が40℃以下になった時点で撹拌を停止した。
・Process 1b
When the heat generated by the generation of silver formate subsided and the liquid temperature reached 30°C, 4.35 g of oleylamine (primary amine, molecular weight 267.49), dibutylamine (secondary amine, molecular weight 129.24) 64 g, methylcyclohexane 40 g was added at the same time to carry out a decomposing reduction reaction. The liquid temperature rose to 58°C. The stirring was stopped when the liquid temperature reached 40°C or lower.

・工程1c
得られた濃紺色の分散液を1Lナス型フラスコに移し、エバポレーター(商品名:N−1100S、東京理科器械製)を用いて、40℃、50hPaの条件で、反応溶媒のメチルシクロヘキサンを留去した。銀微粒子を含有する、スラリー状の残渣を得た。
・Process 1c
The obtained dark blue dispersion liquid was transferred to a 1 L eggplant type flask, and methylcyclohexane as a reaction solvent was distilled off under the conditions of 40° C. and 50 hPa using an evaporator (trade name: N-1100S, manufactured by Tokyo Scientific Instruments). did. A slurry-like residue containing silver particles was obtained.

・工程1d
脱メチルシクロヘキサン後の残渣にメタノールを200g加えた後3分間撹拌を行った。メタノールを加えると銀微粒子の凝集が起こり、1級アミンと2級アミンを被覆してなる銀微粒子はメタノール中に分散することなく、沈殿した。余剰のギ酸やアミン、またはそれらを含有する塩などの成分の相当量は、メタノールに溶解される。その後、上澄み層をデカンテーションにより除去した(1回目の洗浄)。次いで同様にメタノール125gを加え3分間撹拌を行い、上澄み層をデカンテーションにより除去した(2回目の洗浄)。さらに同様にメタノールを10g加え3分間撹拌し、上澄み層をデカンテーションにより除去し(3回目の洗浄)、洗浄工程を終了した。
・Process 1d
200 g of methanol was added to the residue after demethylcyclohexane, and the mixture was stirred for 3 minutes. Aggregation of silver fine particles occurred when methanol was added, and silver fine particles coated with primary amine and secondary amine were precipitated without being dispersed in methanol. A considerable amount of excess components such as formic acid and amine, or salts containing them are dissolved in methanol. Then, the supernatant layer was removed by decantation (first washing). Next, similarly, 125 g of methanol was added and stirred for 3 minutes, and the supernatant layer was removed by decantation (second washing). Similarly, 10 g of methanol was added and stirred for 3 minutes, and the supernatant layer was removed by decantation (3rd washing), and the washing step was completed.

・工程1e
工程1dから得られたメタノールで洗浄した残渣にメタノール125g、リシノール酸(極性溶媒に対して親和性を有する保護剤すなわち被覆剤として使用される有機酸)3.0gを加えて40℃で15分撹拌を行った。この段階で、銀微粒子はメタノールに完全には分散しておらず、メタノール中で沈殿している。メタノールをデカンテーションにより除去した後、メタノール75gを加えて3分間撹拌することで洗浄を行い、メタノールをデカンテーションにより除去した。得られた残渣にメタノール25gとマレイン酸モノエチル(極性溶媒に対して親和性を有する保護剤すなわち被覆剤として使用される有機酸)5gを加えて40℃で15分撹拌した。
・Process 1e
To the residue obtained by washing with methanol obtained in step 1d, 125 g of methanol and 3.0 g of ricinoleic acid (organic acid used as a protective agent having an affinity for a polar solvent, that is, a coating agent) were added and the mixture was added at 40° C. for 15 minutes. Stirring was performed. At this stage, the silver fine particles are not completely dispersed in methanol but are precipitated in methanol. After removing the methanol by decantation, 75 g of methanol was added and washing was performed by stirring for 3 minutes, and the methanol was removed by decantation. To the obtained residue, 25 g of methanol and 5 g of monoethyl maleate (organic acid used as a protective agent having an affinity for a polar solvent, that is, a coating agent) were added, and the mixture was stirred at 40° C. for 15 minutes.

・工程1f
得られた銀微粒子とメタノールとの混合物にヘキサンを100g加えて3分間撹拌した。この微粒子は極性溶媒に対して親和性を有するため、炭化水素溶媒であるヘキサンを加えることで凝集し沈殿する。メタノールとヘキサンの混合層をデカンテーションで除去することで微粒子の洗浄を行った(1回目の洗浄)。メタノールとヘキサンの混合層をデカンテーションにより除去した後、ヘキサン100gを加えて3分間撹拌し、ヘキサンをデカンテーションにより除去することで微粒子の洗浄を行った(2回目の洗浄)。得られた残渣にアセトン100gを加えて3分間撹拌し、アセトンをデカンテーションにより除去した(3回目の洗浄)。得られた残渣にヘキサン50gを加えて3分間撹拌し、ヘキサンをデカンテーションにより除去すること(4回目の洗浄)で洗浄を終了した。洗浄後の残渣から洗浄溶剤を除いたもの(銀微粒子+被覆剤)の一部を熱分析したところ、銀微粒子と被覆剤の合計に対する銀微粒子の割合は93.0質量%であった。
・Process 1f
100 g of hexane was added to the obtained mixture of silver fine particles and methanol, and the mixture was stirred for 3 minutes. Since these fine particles have an affinity for polar solvents, they are aggregated and precipitated by adding hexane, which is a hydrocarbon solvent. The fine particles were washed by removing the mixed layer of methanol and hexane by decantation (first washing). After removing the mixed layer of methanol and hexane by decantation, 100 g of hexane was added and stirred for 3 minutes, and hexane was removed by decantation to wash the fine particles (second washing). To the obtained residue, 100 g of acetone was added and stirred for 3 minutes, and acetone was removed by decantation (third washing). 50 g of hexane was added to the obtained residue, the mixture was stirred for 3 minutes, and the hexane was removed by decantation (fourth washing) to complete the washing. A part of the residue after cleaning, which was obtained by removing the cleaning solvent (silver fine particles+coating agent), was subjected to thermal analysis. As a result, the ratio of silver fine particles to the total of the silver fine particles and the coating agent was 93.0% by mass.

・工程1g
得られた銀微粒子(工程1fから得られた残渣)にイソプロパノール(IPA)を125g加えて、IPA分散液(被覆剤で被覆された銀微粒子がIPAに分散した分散液)を得た。このIPA分散液中には洗浄工程で用いた若干のメタノール、ヘキサン、アセトンが混入している。エバポレーターを用いて40℃、120hPaの条件でそれらの溶媒を蒸気圧の差を用いて選択的に除去した。IPA分散液を0.5μmのガラスフィルター(アドバンテック製)で濾過し、分散液中に少量含まれる凝集物を除去した。IPA分散液(175.1g)中に含まれる銀濃度(分散液全体に対する銀微粒子の質量割合)を測定すると、27.4質量%(銀収率:95質量%)であった。
・Process 1g
125 g of isopropanol (IPA) was added to the obtained silver fine particles (residue obtained from step 1f) to obtain an IPA dispersion liquid (dispersion liquid in which silver fine particles coated with a coating agent were dispersed in IPA). A small amount of methanol, hexane, and acetone used in the washing step are mixed in this IPA dispersion liquid. Those solvents were selectively removed using a difference in vapor pressure under the conditions of 40° C. and 120 hPa using an evaporator. The IPA dispersion liquid was filtered through a 0.5 μm glass filter (manufactured by Advantech) to remove a small amount of aggregates contained in the dispersion liquid. The concentration of silver contained in the IPA dispersion liquid (175.1 g) (mass ratio of silver fine particles to the entire dispersion liquid) was 27.4% by mass (silver yield: 95% by mass).

・工程1h
得られた銀微粒子のIPA分散液(工程1gから得られた分散液)175.1gのうち、73gを300mlのナスフラスコに取り、ジエチレングリコールモノブチルエーテル(KHネオケム製)を5.0g加えて、エバポレーターを用いて60℃、30hPaの条件でIPAを除去した。これにより、銀微粒子のジエチレングリコールモノブチルエーテル分散液(25.0g)が得られ、銀濃度を測定すると80.0質量%であった。銀微粒子の平均粒径は15nmであった。
・Process 1h
Of 175.1 g of the obtained IPA dispersion of fine silver particles (dispersion obtained from step 1 g), 73 g was placed in a 300 ml eggplant flask, and 5.0 g of diethylene glycol monobutyl ether (KH Neochem) was added to the evaporator. Was used to remove IPA under the conditions of 60° C. and 30 hPa. As a result, a dispersion of silver fine particles in diethylene glycol monobutyl ether (25.0 g) was obtained, and the silver concentration was measured to be 80.0% by mass. The average particle size of the silver fine particles was 15 nm.

<導電性ペーストの作成>
・工程1i
工程1hで得られた銀微粒子分散液25.0gのうち、11.63g(導電性ペーストに含まれる銀微粒子および被覆剤と、導電性ペーストに含まれる溶剤の一部との合計量に相当する)をポリプロピレン製の容器に取った。そこにジエチレングリコールモノブチルエーテル(KHネオケム製)を4.67g(工程1hで得られた銀微粒子分散液には溶剤が1.63g含まれているので、導電性ペーストに含まれる全溶剤量より1.63g少ない量)加え、撹拌脱泡装置(クラボウ社製、商品名:KK−V300、自転:720rpm、公転:935rpm)にて30秒間混合した。そこに、球状銀粉(DOWAエレクトロニクス株式会社製、商品名:Ag−2−1C、平均粒径1.0μm)、フレーク状銀粉:(徳力本店製、商品名:TC−506C、平均粒径3.6μm)をそれぞれ41.85gずつ加え、撹拌脱泡装置にて60秒間混合し、導電性銀ペーストを得た。得られた導電性銀ペーストの銀濃度を測定すると93.2質量%であった。
<Creating conductive paste>
・Process 1i
Of 25.0 g of the silver particle dispersion obtained in step 1h, 11.63 g (corresponding to the total amount of the silver particles and the coating agent contained in the conductive paste and a part of the solvent contained in the conductive paste) ) Was placed in a polypropylene container. 4.67 g of diethylene glycol monobutyl ether (manufactured by KH Neochem) was added thereto (since the silver fine particle dispersion obtained in step 1h contains 1.63 g of solvent, the total amount of the solvent contained in the conductive paste is 1.67 g. A small amount (63 g) was added, and the mixture was mixed for 30 seconds with a stirring and defoaming device (Kurabo Co., Ltd., trade name: KK-V300, rotation: 720 rpm, revolution: 935 rpm). There, spherical silver powder (manufactured by DOWA Electronics Co., Ltd., trade name: Ag-2-1C, average particle size 1.0 μm), flake-shaped silver powder: (manufactured by Tokoriki Head Office, trade name: TC-506C, average particle size 3. 6 μm) and 41.85 g each were added and mixed for 60 seconds with a stirring and defoaming device to obtain a conductive silver paste. The silver concentration of the obtained conductive silver paste was measured and found to be 93.2% by mass.

銀微粒子の平均粒径は、動的光散乱法を用いたナノトラック粒度分析計(日機装製、商品名:UPA−EX 1.50)により測定した。 The average particle size of the silver fine particles was measured by a Nanotrac particle size analyzer (manufactured by Nikkiso, trade name: UPA-EX 1.50) using a dynamic light scattering method.

<導電性ペーストの評価>
上記導電性ペーストについて、次の評価を行った。
<Evaluation of conductive paste>
The following evaluation was performed about the said electroconductive paste.

・ボイドの評価
導電性ペースト100mgを銀めっき銅基板にディスペンス印刷し、ペースト膜厚が100μmとなるようにシリコンチップ(金めっき付き、10mm□)を搭載した。その後、焼成炉(エスペック製、商品名:PHH−101M)を用いて下記の温度条件で焼成を行った。
-Evaluation of voids 100 mg of the conductive paste was dispense-printed on a silver-plated copper substrate, and a silicon chip (with gold plating, 10 mm□) was mounted so that the paste film thickness was 100 μm. Then, firing was performed under the following temperature conditions using a firing furnace (manufactured by ESPEC, trade name: PHH-101M).

温度条件:
室温から昇温速度10℃/分で120℃に昇温し、120℃で30分保持し、次いで昇温速度10℃/分で250℃に昇温し、250℃で60分保持。
Temperature conditions:
The temperature is raised from room temperature to 120° C. at a temperature rising rate of 10° C./minute, and held at 120° C. for 30 minutes, then to 250° C. at a temperature rising rate of 10° C./minute, and held at 250° C. for 60 minutes.

焼成した10mm□チップの接合サンプルは、中心部分を切断・研磨したのちに、SEM(日立ハイテクノロジーズ製、商品名:S3400N型走査電子顕微鏡)を用いてボイドを評価した。 After cutting and polishing the central portion of the fired 10 mm□ chip bonded sample, voids were evaluated using SEM (Hitachi High-Technologies Corporation, trade name: S3400N scanning electron microscope).

接合サンプルの切断面に観察されたボイドのうち、最も大きいボイドの長軸方向の長さをボイドの大きさ(μm)として表1に示す。最も大きいボイドの長軸方向の長さが20μm未満である場合、表1のボイドの大きさの欄に「−」と示した。 Of the voids observed on the cut surface of the bonded sample, the length of the largest void in the major axis direction is shown in Table 1 as the void size (μm). When the length of the largest void in the major axis direction was less than 20 μm, “−” was shown in the column of void size in Table 1.

・粘度測定
E型粘度計(東機産業製、商品名:TV−25)を用いて回転数10rpm、20℃にて粘度を測定した。
-Viscosity measurement Using an E-type viscometer (manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd., trade name: TV-25), viscosity was measured at a rotation speed of 10 rpm and 20°C.

表1に、これらの評価結果を、導電性ペーストの製造条件とともに示す。 Table 1 shows these evaluation results together with the manufacturing conditions of the conductive paste.

以下実施例2〜10について説明するが、これらの例では被覆剤の量を変化させている。表1に実施例2〜10の導電性ペーストの製造条件と評価結果も示す。 Examples 2 to 10 will be described below, but the amount of the coating agent is changed in these examples. Table 1 also shows manufacturing conditions and evaluation results of the conductive pastes of Examples 2 to 10.

〔実施例2〕
工程1iにおいて、配合するジエチレングリコールモノブチルエーテルの量を3.99gに変更したこと、およびジエチレングリコールモノブチルエーテル添加に続いて、さらにリシノール酸0.34g、マレイン酸モノエチル0.34gを配合したうえで撹拌脱泡装置で混合したこと以外は実施例1と同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
[Example 2]
In step 1i, the amount of diethylene glycol monobutyl ether to be blended was changed to 3.99 g, and following addition of diethylene glycol monobutyl ether, 0.34 g of ricinoleic acid and 0.34 g of monoethyl maleate were further blended, followed by degassing with stirring. A conductive silver paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the paste was mixed in the apparatus.

〔実施例3〕
工程1iにおいて、配合するジエチレングリコールモノブチルエーテルの量を4.10gに変更したこと、およびジエチレングリコールモノブチルエーテル添加に続いて、さらにリシノール酸0.285g、マレイン酸モノエチル0.285gを配合したうえで撹拌脱泡装置で混合したこと以外は実施例1と同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
[Example 3]
In step 1i, the amount of diethylene glycol monobutyl ether to be blended was changed to 4.10 g, and following addition of diethylene glycol monobutyl ether, 0.285 g of ricinoleic acid and 0.285 g of monoethyl maleate were further blended, followed by degassing with stirring. A conductive silver paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the paste was mixed in the apparatus.

〔実施例4〕
工程1iにおいて、配合するジエチレングリコールモノブチルエーテルの量を4.22gに変更したこと、およびジエチレングリコールモノブチルエーテル添加に続いて、さらにリシノール酸0.225g、マレイン酸モノエチル0.225gを配合したうえで撹拌脱泡装置で混合したこと以外は実施例1と同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
[Example 4]
In step 1i, the amount of diethylene glycol monobutyl ether to be blended was changed to 4.22 g, and following addition of diethylene glycol monobutyl ether, 0.225 g of ricinoleic acid and 0.225 g of monoethyl maleate were further blended, followed by degassing with stirring. A conductive silver paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the paste was mixed in the apparatus.

〔実施例5〕
工程1iにおいて、配合するジエチレングリコールモノブチルエーテルの量を4.34gに変更したこと、およびジエチレングリコールモノブチルエーテル添加に続いて、さらにリシノール酸0.165g、マレイン酸モノエチル0.165gを配合したうえで撹拌脱泡装置で混合したこと以外は実施例1と同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
[Example 5]
In step 1i, the amount of diethylene glycol monobutyl ether to be blended was changed to 4.34 g, and following addition of diethylene glycol monobutyl ether, 0.165 g of ricinoleic acid and 0.165 g of monoethyl maleate were further blended and then degassed by stirring. A conductive silver paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the paste was mixed in the apparatus.

〔実施例6〕
工程1iにおいて、配合するジエチレングリコールモノブチルエーテルの量を4.45gに変更したこと、およびジエチレングリコールモノブチルエーテル添加に続いて、さらにリシノール酸0.11g、マレイン酸モノエチル0.11gを配合したうえで撹拌脱泡装置で混合したこと以外は実施例1と同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
[Example 6]
In step 1i, the amount of diethylene glycol monobutyl ether to be blended was changed to 4.45 g, and following addition of diethylene glycol monobutyl ether, 0.11 g of ricinoleic acid and 0.11 g of monoethyl maleate were further blended, followed by degassing with stirring. A conductive silver paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the paste was mixed in the apparatus.

〔実施例7〕
工程1iにおいて、配合するジエチレングリコールモノブチルエーテルの量を4.56gに変更したこと、およびジエチレングリコールモノブチルエーテル添加に続いて、さらにリシノール酸0.055g、マレイン酸モノエチル0.055gを配合したうえで撹拌脱泡装置で混合したこと以外は実施例1と同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
[Example 7]
In step 1i, the amount of diethylene glycol monobutyl ether to be blended was changed to 4.56 g, and following addition of diethylene glycol monobutyl ether, 0.055 g of ricinoleic acid and 0.055 g of monoethyl maleate were further blended and stirred for defoaming. A conductive silver paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the paste was mixed in the apparatus.

〔実施例8〕
本例では、以下に述べる点以外は実施例1と同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
[Example 8]
In this example, a conductive silver paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except for the points described below.

・工程1fの変更
工程1fの4回目の洗浄で得られた残渣に、さらにアセトン100gを加えて3分間撹拌し、アセトンをデカンテーションにより除去した(5回目の洗浄)。得られた残渣にヘキサン50gを加えて3分間撹拌し、ヘキサンをデカンテーションにより除去すること(6回目の洗浄)で洗浄を終了した。洗浄後の残渣から洗浄溶剤を除いたもの(銀微粒子+被覆剤)を熱分析したところ、銀微粒子と被覆剤の合計に対する銀微粒子の割合は96.0質量%であった。
-Change of Step 1f To the residue obtained by the fourth washing of Step 1f, 100 g of acetone was further added and stirred for 3 minutes, and acetone was removed by decantation (fifth washing). 50 g of hexane was added to the obtained residue, the mixture was stirred for 3 minutes, and hexane was removed by decantation (sixth washing) to complete the washing. When the residue obtained by removing the washing solvent from the residue after washing (silver fine particles+coating agent) was subjected to thermal analysis, the ratio of silver fine particles to the total of the silver fine particles and the coating agent was 96.0% by mass.

・工程1iの変更
工程1iにおいて、配合するジエチレングリコールモノブチルエーテルの量を4.45gに変更し、また、エチレングリコールモノブチルエーテル添加に続いて、さらにリシノール酸0.11g、マレイン酸モノエチル0.11gを配合したうえで撹拌脱泡装置で混合した。
-Modification of Step 1i In Step 1i, the amount of diethylene glycol monobutyl ether blended was changed to 4.45 g, and 0.11 g of ricinoleic acid and 0.11 g of monoethyl maleate were further blended following the addition of ethylene glycol monobutyl ether. Then, the mixture was mixed with a stirring defoaming device.

なお、工程1gで得られたIPA分散液(175.1g)中に含まれる銀濃度(分散液全体に対する銀微粒子の質量割合)を測定すると、27.4質量%(銀収率:95質量%)であった。また、工程1gで得られた銀微粒子分散液からIPAを除去し、銀微粒子を得た。これを熱分析した結果、銀微粒子(被覆剤込み)中の銀固形分の割合(銀微粒子と被覆剤の合計量に対する銀微粒子の割合)は96.0質量%であった。 The concentration of silver contained in the IPA dispersion liquid (175.1 g) obtained in step 1 g (mass ratio of silver fine particles to the entire dispersion liquid) was 27.4% by mass (silver yield: 95% by mass). )Met. In addition, IPA was removed from the silver particle dispersion liquid obtained in step 1g to obtain silver particles. As a result of thermal analysis of this, the ratio of the silver solid content in the silver particles (including the coating agent) (the ratio of the silver particles to the total amount of the silver particles and the coating agent) was 96.0% by mass.

また、工程1hで得られた銀微粒子のジエチレングリコールモノブチルエーテル分散液(25.0g)中の銀濃度を測定すると80.0質量%であった。銀微粒子の平均粒径は15nmであった。 The silver concentration in the diethylene glycol monobutyl ether dispersion liquid (25.0 g) of the silver fine particles obtained in step 1h was measured and found to be 80.0% by mass. The average particle size of the silver fine particles was 15 nm.

〔実施例9〕
工程1hまで実施例8と同様にして銀微粒子のジエチレングリコールモノブチルエーテル分散液(25.0g)を得たこと、工程1iにおいて、配合するジエチレングリコールモノブチルエーテルの量を4.56gに変更したこと、および工程1iで、ジエチレングリコールモノブチルエーテル添加に続いて、さらにリシノール酸0.055g、マレイン酸モノエチル0.055gを配合したうえで撹拌脱泡装置で混合したこと以外は実施例1と同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
[Example 9]
Up to Step 1h, a diethylene glycol monobutyl ether dispersion liquid (25.0 g) of fine silver particles was obtained in the same manner as in Example 8, the amount of diethylene glycol monobutyl ether blended in Step 1i was changed to 4.56 g, and In 1i, the conductive silver was added in the same manner as in Example 1 except that 0.055 g of ricinoleic acid and 0.055 g of monoethyl maleate were further added after the addition of diethylene glycol monobutyl ether and mixed in a stirring defoaming apparatus. A paste was produced and evaluated.

〔実施例10〕
工程1hまで実施例8と同様にして銀微粒子のジエチレングリコールモノブチルエーテル分散液(25.0g)を得たこと、および工程1iにおいて、配合するジエチレングリコールモノブチルエーテルの量を4.67gに変更したこと以外は実施例1と同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
[Example 10]
Other than obtaining diethylene glycol monobutyl ether dispersion liquid (25.0 g) of fine silver particles in the same manner as in Example 8 up to step 1 h, and changing the amount of diethylene glycol monobutyl ether blended in step 1 i to 4.67 g. A conductive silver paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1.

以下実施例11〜16について説明するが、これらの例では球状銀粉とフレーク状銀粉の比を変化させている。表2に、これら実施例の導電性ペーストの製造条件と評価結果を示し、また便宜上実施例1のデータも再掲した。 Examples 11 to 16 will be described below, but in these examples, the ratio of spherical silver powder to flake silver powder is changed. Table 2 shows the manufacturing conditions and the evaluation results of the conductive pastes of these Examples, and the data of Example 1 are also shown for convenience.

〔実施例11〕
工程1iで配合する球状銀粉の量を83.70g、フレーク状銀粉を未配合とした以外は実施例1と同様にして同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
[Example 11]
A conductive silver paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the amount of spherical silver powder blended in step 1i was 83.70 g and the flake silver powder was not blended.

〔実施例12〕
工程1iで配合する球状銀粉を79.52gとし、フレーク状銀粉を4.19gとした以外は実施例1と同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
[Example 12]
A conductive silver paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the spherical silver powder blended in step 1i was 79.52 g and the flake silver powder was 4.19 g.

〔実施例13〕
工程1iで配合する球状銀粉を75.33gとし、フレーク状銀粉を8.37gとした以外は実施例1と同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
[Example 13]
A conductive silver paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the spherical silver powder blended in step 1i was 75.33 g and the flake silver powder was 8.37 g.

〔実施例14〕
工程1iで配合する球状銀粉を16.74gとし、フレーク状銀粉を66.96gとした以外は実施例1と同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
[Example 14]
A conductive silver paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the spherical silver powder blended in step 1i was 16.74 g and the flake silver powder was 66.96 g.

〔実施例15〕
工程1iで配合する球状銀粉を12.56gとし、フレーク状銀粉を71.14gとした以外は実施例1と同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
[Example 15]
A conductive silver paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the spherical silver powder blended in step 1i was 12.56 g and the flake silver powder was 71.14 g.

〔実施例16〕
工程1iで配合する球状銀粉を8.37gとし、フレーク状銀粉を75.33gとした以外は実施例1と同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
Example 16
A conductive silver paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the spherical silver powder blended in step 1i was 8.37 g and the flake silver powder was 75.33 g.

以下、実施例17〜22について説明するが、これらの例では金属成分の量を変化させている。表3に、これらの例の導電性ペーストの製造条件と評価結果を示し、また便宜上実施例7のデータを再掲した。 Hereinafter, Examples 17 to 22 will be described, but in these examples, the amount of the metal component is changed. Table 3 shows the manufacturing conditions and the evaluation results of the conductive pastes of these examples, and the data of Example 7 is reprinted for convenience.

〔実施例17〕
本例では、以下に述べる点以外は実施例1と同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
Example 17
In this example, a conductive silver paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except for the points described below.

・工程1hの変更
工程1hにおいて、ジエチレングリコールモノブチルエーテル(KHネオケム製)の添加量を2.0gに変更したこと以外は、実施例1の工程1hと同様にしてIPAを除去した。その結果、銀微粒子のジエチレングリコールモノブチルエーテル分散液(23.5g)が得られ、銀濃度を測定すると85.0質量%であった。銀微粒子の平均粒径は15nmであった。
-Change of Step 1h IPA was removed in the same manner as in Step 1h of Example 1 except that the amount of diethylene glycol monobutyl ether (manufactured by KH Neochem) was changed to 2.0 g in Step 1h. As a result, a diethylene glycol monobutyl ether dispersion liquid (23.5 g) of silver fine particles was obtained, and the silver concentration was measured and found to be 85.0% by mass. The average particle size of the silver fine particles was 15 nm.

・工程1iの変更
上記で得られた銀微粒子のジエチレングリコールモノブチルエーテル分散液のうち、11.53gをポリプロピレン容器に取り分け、そこにジエチレングリコールモノブチルエーテル(KHネオケム製)0.26g、リシノール酸0.02g、マレイン酸モノエチル0.02gを配合した後、実施例1の工程1iと同様に撹拌脱泡装置で混合した。さらに、球状銀粉の添加量を44.1gとし、フレーク状銀粉の添加量を44.1gとした。
-Modification of step 1i Of the diethylene glycol monobutyl ether dispersion liquid of the silver fine particles obtained above, 11.53 g is set aside in a polypropylene container, and diethylene glycol monobutyl ether (KH Neochem) 0.26 g, ricinoleic acid 0.02 g, After blending 0.02 g of monoethyl maleate, the mixture was mixed by a stirring and defoaming apparatus in the same manner as in Step 1i of Example 1. Furthermore, the amount of spherical silver powder added was 44.1 g, and the amount of flake silver powder added was 44.1 g.

〔実施例18〕
本例では、以下に述べる点以外は実施例1と同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
[Example 18]
In this example, a conductive silver paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except for the points described below.

・工程1iの変更
工程1hで得られた銀微粒子のジエチレングリコールモノブチルエーテル分散液から12.125gをポリプロピレン容器に取り分け、ジエチレングリコールモノブチルエーテル(KHネオケム製)を0.545g、リシノール酸0.015g、マレイン酸モノエチル0.015gを配合した後、実施例1の工程1iと同様に撹拌脱泡装置で混合した。さらに、球状銀粉の添加量を43.65gとし、フレーク状銀粉の添加量を43.65gとした。
-Change of Step 1i 12.125 g of the diethylene glycol monobutyl ether dispersion of silver fine particles obtained in Step 1h was set aside in a polypropylene container, 0.545 g of diethylene glycol monobutyl ether (KH Neochem), 0.015 g of ricinoleic acid, and maleic acid. After blending 0.015 g of monoethyl, the mixture was mixed by a stirring and degassing apparatus in the same manner as in Step 1i of Example 1. Further, the amount of spherical silver powder added was 43.65 g, and the amount of flake silver powder added was 43.65 g.

〔実施例19〕
本例では、以下に述べる点以外は実施例1と同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
Example 19
In this example, a conductive silver paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except for the points described below.

・工程1iの変更
工程1hで得られた銀微粒子のジエチレングリコールモノブチルエーテル分散液から11.25gをポリプロピレン容器に取り分け、ジエチレングリコールモノブチルエーテル(KHネオケム製)を7.64g、リシノール酸0.055g、マレイン酸モノエチル0.055gを配合した後、実施例1の工程1iと同様に撹拌脱泡装置で混合した。さらに、球状銀粉の添加量を40.50gとし、フレーク状銀粉の添加量を40.50gとした。
-Change of step 1i 11.25 g of the diethylene glycol monobutyl ether dispersion of silver fine particles obtained in step 1h was set aside in a polypropylene container, and diethylene glycol monobutyl ether (KH Neochem) was 7.64 g, ricinoleic acid 0.055 g, and maleic acid. After blending 0.055 g of monoethyl, the mixture was mixed by a stirring and defoaming apparatus in the same manner as in Step 1i of Example 1. Further, the amount of spherical silver powder added was 40.50 g, and the amount of flake silver powder added was 40.50 g.

〔実施例20〕
本例では、以下に述べる点以外は実施例1と同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
Example 20
In this example, a conductive silver paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except for the points described below.

・工程1iの変更
工程1hで得られた銀微粒子のジエチレングリコールモノブチルエーテル分散液から11.25gをポリプロピレン容器に取り分け、ジエチレングリコールモノブチルエーテル(KHネオケム製)を8.67g、リシノール酸0.055g、マレイン酸モノエチル0.055gを配合した後、実施例1の工程1iと同様に撹拌脱泡装置で混合した。さらに、球状銀粉の添加量を40.05gとし、フレーク状銀粉の添加量を40.05gとした。
-Change of Step 1i 11.25 g of the diethylene glycol monobutyl ether dispersion of silver fine particles obtained in Step 1h was set aside in a polypropylene container, 8.67 g of diethylene glycol monobutyl ether (KH Neochem), 0.055 g of ricinoleic acid, and maleic acid. After blending 0.055 g of monoethyl, the mixture was mixed by a stirring and defoaming apparatus in the same manner as in Step 1i of Example 1. Furthermore, the amount of spherical silver powder added was 40.05 g, and the amount of flake silver powder added was 40.05 g.

〔実施例21〕
本例では、以下に述べる点以外は実施例1と同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
Example 21
In this example, a conductive silver paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except for the points described below.

・工程1iの変更
工程1hで得られた銀微粒子のジエチレングリコールモノブチルエーテル分散液から12.13gをポリプロピレン容器に取り分け、ジエチレングリコールモノブチルエーテルを9.69g、リシノール酸0.055g、マレイン酸モノエチル0.055gを配合した後、実施例1の工程1iと同様に撹拌脱泡装置で混合した。さらに、球状銀粉の添加量を39.60gとし、フレーク状銀粉の添加量を39.60gとした。
-Modification of step 1i 12.13 g of the diethylene glycol monobutyl ether dispersion of silver fine particles obtained in step 1h was set aside in a polypropylene container, and 9.69 g of diethylene glycol monobutyl ether, 0.055 g of ricinoleic acid and 0.055 g of monoethyl maleate were added. After compounding, the mixture was mixed by a stirring and defoaming device in the same manner as in Step 1i of Example 1. Further, the amount of spherical silver powder added was 39.60 g, and the amount of flake silver powder added was 39.60 g.

〔実施例22〕
本例では、以下に述べる点以外は実施例1と同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
Example 22
In this example, a conductive silver paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except for the points described below.

・工程1iの変更
工程1hで得られた銀微粒子のジエチレングリコールモノブチルエーテル分散液から12.13gをポリプロピレン容器に取り分け、ジエチレングリコールモノブチルエーテルを10.72g、リシノール酸0.055g、マレイン酸モノエチル0.055gを配合した後、実施例1の工程1iと同様に撹拌脱泡装置で混合した。さらに、球状銀粉の添加量を39.15gとし、フレーク状銀粉の添加量を39.15gとした。
-Change of Step 1i 12.13 g of the diethylene glycol monobutyl ether dispersion of silver fine particles obtained in Step 1h was set aside in a polypropylene container, and 10.72 g of diethylene glycol monobutyl ether, 0.055 g of ricinoleic acid, and 0.055 g of monoethyl maleate were added. After compounding, the mixture was mixed by a stirring and defoaming device in the same manner as in Step 1i of Example 1. Further, the amount of spherical silver powder added was 39.15 g, and the amount of flake silver powder added was 39.15 g.

以下実施例23について説明するが、この例では溶剤の種類を変更した。 Example 23 will be described below, but the type of solvent was changed in this example.

〔実施例23〕
工程1hおよび1iで使用した溶剤の種類をジエチレングリコールモノブチルエーテルから2−エチル−1,3−ヘキサンジオールに変更した以外は実施例1と同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
[Example 23]
A conductive silver paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the type of solvent used in steps 1h and 1i was changed from diethylene glycol monobutyl ether to 2-ethyl-1,3-hexanediol.

表4に、この例の導電性ペーストの製造条件と評価結果を示す。なお、便宜上、実施例1に係るデータを表4に再掲した。 Table 4 shows the manufacturing conditions and evaluation results of the conductive paste of this example. For the sake of convenience, the data according to Example 1 are shown in Table 4 again.

以下実施例24および25について説明するが、これらの例では被覆剤としてリシノール酸およびマレイン酸モノエチルのいずれか一方のみを用いている。 Examples 24 and 25 will be described below, but in these examples, only one of ricinoleic acid and monoethyl maleate is used as a coating agent.

〔実施例24〕
本例では被覆剤としてリシノール酸のみを用いた。具体的には、次の点を除き、実施例1と同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
Example 24
In this example, only ricinoleic acid was used as the coating agent. Specifically, a conductive silver paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except for the following points.

・工程1eにおいて、マレイン酸モノエチル5gに替えて、リシノール酸5gを使用した。 -In step 1e, 5 g of ricinoleic acid was used instead of 5 g of monoethyl maleate.

・工程1g、1hおよび1iに替えて、以下の操作を行った。
工程1fから得られた銀微粒子(残渣)中の溶媒を、エバポレーターを用いて40℃、120hPaの条件で除去し、ペースト状の銀微粒子を得た(53.30g)。その中に含まれる銀濃度を測定すると、90.0質量%(銀収率:95質量%)であった。銀微粒子の平均粒径は15nmであった。
-The following operation was performed instead of steps 1g, 1h, and 1i.
The solvent in the silver fine particles (residue) obtained from step 1f was removed under the conditions of 40° C. and 120 hPa using an evaporator to obtain paste-like silver fine particles (53.30 g). When the silver concentration contained in it was measured, it was 90.0 mass% (silver yield: 95 mass %). The average particle size of the silver fine particles was 15 nm.

得られた銀微粒子53.30gのうち、10.33g(導電性ペーストに含まれる銀微粒子と被覆剤との合計量に相当)をポリプロピレン製の容器に取り、そこにジエチレングリコールモノブチルエーテル(KHネオケム製)を5.97g加え、撹拌脱泡装置(クラボウ社製、商品名:KK−V300、自転:720rpm、公転:935rpm)にて30秒間混合した。そこに、実施例1と同じ球状銀粉およびフレーク状銀粉をそれぞれ41.85gずつ加え、撹拌脱泡装置にて60秒間混合し、導電性銀ペーストを得た。得られた導電性銀ペーストの銀濃度を測定すると93.1質量%であった。 Out of 53.30 g of the obtained silver fine particles, 10.33 g (corresponding to the total amount of the silver fine particles contained in the conductive paste and the coating agent) was placed in a polypropylene container, and diethylene glycol monobutyl ether (made by KH Neochem was added thereto. 5.97 g) was added and mixed for 30 seconds with a stirring and defoaming device (Kurabo Co., Ltd., trade name: KK-V300, rotation: 720 rpm, revolution: 935 rpm). 41.85 g of the same spherical silver powder and flaky silver powder as in Example 1 were added thereto and mixed for 60 seconds with a stirring and defoaming device to obtain a conductive silver paste. When the silver concentration of the obtained conductive silver paste was measured, it was 93.1% by mass.

この例の製造条件および評価結果を表5に示す。表5には、実施例25の導電性ペーストの製造条件と評価結果も示す。 Table 5 shows the manufacturing conditions and evaluation results of this example. Table 5 also shows the manufacturing conditions and the evaluation results of the conductive paste of Example 25.

〔実施例25〕
実施例26では被覆剤としてマレイン酸モノエチルのみを用いた。具体的には、次の点を除き、実施例1と同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
Example 25
In Example 26, only monoethyl maleate was used as the coating agent. Specifically, a conductive silver paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except for the following points.

・工程1eにおいて、リシノール酸3gに替えて、マレイン酸モノエチル3gを使用した。 -In step 1e, 3 g of monoethyl maleate was used instead of 3 g of ricinoleic acid.

・工程1g、1hおよび1iに替えて、以下の操作を行った。
得られた銀微粒子液中の溶媒をエバポレーターを用いて40℃、120hPaの条件で除去し、ペースト状の銀微粒子を得た(58.51g)。中に含まれる銀濃度を測定すると、82.0質量%(銀収率:95質量%)であった。銀微粒子の平均粒径は16nmであった。
-The following operation was performed instead of steps 1g, 1h, and 1i.
The solvent in the obtained silver fine particle liquid was removed using an evaporator under the conditions of 40° C. and 120 hPa to obtain paste silver fine particles (58.51 g). The concentration of silver contained therein was measured and found to be 82.0% by mass (silver yield: 95% by mass). The average particle size of the silver fine particles was 16 nm.

得られた銀微粒子58.51gのうち、11.34g(導電性ペーストに含まれる銀微粒子と被覆剤との合計量に相当)をポリプロピレン製の容器に取り、そこにジエチレングリコールモノブチルエーテル(KHネオケム製)を4.96g加え、撹拌脱泡装置(クラボウ社製、商品名:KK−V300、自転:720rpm、公転:935rpm)にて30秒間混合した。そこに、実施例1と同じ球状銀粉およびフレーク状銀粉をそれぞれ41.85gずつ加え、撹拌脱泡装置にて60秒間混合し、導電性銀ペーストを得た。得られた導電性銀ペーストの銀濃度を測定すると93.0質量%であった。 Out of 58.51 g of the obtained silver fine particles, 11.34 g (corresponding to the total amount of the silver fine particles and the coating agent contained in the conductive paste) was placed in a polypropylene container, and diethylene glycol monobutyl ether (made by KH Neochem was added thereto. ) Was added for 30 seconds with a stirring and defoaming device (Kurabo Co., trade name: KK-V300, rotation: 720 rpm, revolution: 935 rpm). 41.85 g of the same spherical silver powder and flaky silver powder as in Example 1 were added thereto and mixed for 60 seconds with a stirring and defoaming device to obtain a conductive silver paste. The silver concentration of the obtained conductive silver paste was measured and found to be 93.0% by mass.

〔比較例1〕
<銀微粒子の調製>
・工程2a
1000mlビーカーに粉末状酸化銀(東洋化学工業製 酸化銀特級、粒度分布30μm以下、平均粒径6μm)を54.25g、スワクリーン150(商品名、丸善石油化学製、沸点150℃、非極性炭化水素溶媒)を100.3g、トリブチルアミン76g(KHネオケム製)、NAA−35(商品名、オレイン酸、日油製)4.75gを加え、加熱しながら内温が75℃になるまで1時間撹拌した。内温が75℃に到達後、温度を保持したまま更に1時間撹拌を継続した。
[Comparative Example 1]
<Preparation of fine silver particles>
・Process 2a
54.25 g of powdered silver oxide (manufactured by Toyo Chemical Industry, special grade of silver oxide, particle size distribution 30 μm or less, average particle size 6 μm) in a 1000 ml beaker, Swaclean 150 (trade name, manufactured by Maruzen Petrochemical, boiling point 150° C., non-polar carbonization) (Hydrogen solvent) 100.3 g, tributylamine 76 g (made by KH Neochem), NAA-35 (trade name, oleic acid, made by NOF) 4.75 g are added, and the internal temperature becomes 75° C. for 1 hour while heating. It was stirred. After the internal temperature reached 75° C., stirring was continued for 1 hour while maintaining the temperature.

・工程2b
1時間撹拌後、ジブチルアミノプロピルアミン(KHネオケム製)5.4gを添加し、更に撹拌を継続した。75℃から内温の上昇が確認されたら加熱を止め、更に撹拌を継続した。オレイン酸銀の分解的還元反応により内温が125℃に到達するのを確認し、さらに撹拌しながら内温が50℃になるまで冷却した。
・Process 2b
After stirring for 1 hour, 5.4 g of dibutylaminopropylamine (manufactured by KH Neochem) was added, and stirring was continued. When it was confirmed that the internal temperature had risen from 75°C, heating was stopped and stirring was continued. It was confirmed that the internal temperature reached 125° C. by the decomposable reduction reaction of silver oleate, and further cooled with stirring until the internal temperature reached 50° C.

・工程2c
得られた濃紺色の分散液にメタノール180g、水1.8gを添加、撹拌後、上澄み層をデカンテーションにより除去した。2回目は、メタノール180g、3回目は100gをそれぞれ添加し、同様の方法で粒子の洗浄を行い、スラリー状の残渣を得た。得られた残渣にヘプタン80gとジブチルアミノプロピルアミン7.5gを添加し撹拌した。静置後、上部のメタノール層をデカンテーションにより除去した。さらに、メタノール50gを添加、撹拌後上澄み層を除去した。さらに、メタノール50g、蒸留水0.5gを添加、撹拌後、上澄み層を除去した。
・Process 2c
180 g of methanol and 1.8 g of water were added to the obtained dark blue dispersion liquid, and after stirring, the supernatant layer was removed by decantation. 180 g of methanol was added for the second time and 100 g for the third time, respectively, and the particles were washed in the same manner to obtain a slurry-like residue. To the obtained residue, 80 g of heptane and 7.5 g of dibutylaminopropylamine were added and stirred. After standing, the upper methanol layer was removed by decantation. Further, 50 g of methanol was added and after stirring, the supernatant layer was removed. Further, 50 g of methanol and 0.5 g of distilled water were added and stirred, and then the supernatant layer was removed.

・工程2d
工程2cから得られたヘプタン分散液を内温が60℃になるまで加熱し、メタノールおよび水を除去した。
・Process 2d
The heptane dispersion obtained from step 2c was heated until the internal temperature reached 60°C to remove methanol and water.

・工程2e
工程2dで得られたヘプタン分散液を0.2μmのPTFEフィルター(アドバンテック製)で濾過し、分散液中に少量含まれる凝集物を除去した。ヘプタン分散液を一部採取し、ヘプタン除去後、銀微粒子(被覆剤で被覆された銀微粒子)の有機物量を熱分析により測定した結果、有機物量は14.0質量%であった。また、ヘプタン分散液(94.0g)中の銀固形分(金属成分)の割合は52.1質量%であった。
・Process 2e
The heptane dispersion obtained in step 2d was filtered through a 0.2 μm PTFE filter (manufactured by Advantech) to remove a small amount of aggregates contained in the dispersion. A part of the heptane dispersion was sampled, and after removing heptane, the amount of organic matter in the silver fine particles (silver fine particles coated with the coating agent) was measured by thermal analysis. As a result, the amount of organic matter was 14.0% by mass. The ratio of the silver solid content (metal component) in the heptane dispersion (94.0 g) was 52.1% by mass.

・工程2f
得られた銀微粒子のヘプタン分散液(工程2fから得られた分散液)94.0gのうち、50gを300mlのナスフラスコに取り、そこにテトラデカンを6.5g添加し、エバポレーターを用いて60℃30hPaの条件でヘプタンを除去した。これにより、銀微粒子のテトラデカン分散液(32.55g)が得られ、銀濃度を測定すると80.0質量%であった。
・Process 2f
Of 94.0 g of the obtained heptane dispersion of fine silver particles (dispersion obtained from step 2f), 50 g was placed in a 300 ml eggplant flask, 6.5 g of tetradecane was added thereto, and the temperature was adjusted to 60° C. using an evaporator. Heptane was removed under the condition of 30 hPa. As a result, a tetradecane dispersion liquid (32.55 g) of fine silver particles was obtained, and the silver concentration was measured and found to be 80.0% by mass.

<導電性ペーストの作成>
・工程2g
工程2fで得られた銀微粒子分散液32.55gのうち、11.61g(導電性ペーストに含まれる銀微粒子および被覆剤と、導電性ペーストに含まれる溶剤の一部との合計量に相当)をポリプロピレン製の容器に取り、そこにテトラデカンを4.69g(工程2fで得られた銀微粒子分散液には溶剤が0.81g含まれているので、導電性ペーストに含まれる全溶剤量より0.81g少ない量)加え、撹拌脱泡装置(クラボウ社製、商品名:KK−V300、自転:720rpm、公転:935rpm)にて30秒間混合した。そこに、実施例1と同じ球状銀粉およびフレーク状銀粉をそれぞれ41.85gずつ加え、撹拌脱泡装置にて60秒間混合し、導電性銀ペーストを得た。得られた導電性銀ペーストの銀濃度を測定すると93.0質量%であった。
<Creating conductive paste>
・Process 2g
11.63 g (corresponding to the total amount of the silver particles and the coating agent contained in the conductive paste and a part of the solvent contained in the conductive paste) of 32.55 g of the silver fine particle dispersion obtained in step 2f Was placed in a polypropylene container, and 4.69 g of tetradecane was added thereto (since 0.81 g of the solvent was contained in the silver fine particle dispersion obtained in step 2f, 0% of the total amount of solvent contained in the conductive paste was 0.81 g less amount), and the mixture was mixed for 30 seconds with a stirring and defoaming device (Kurabo Co., trade name: KK-V300, rotation: 720 rpm, revolution: 935 rpm). 41.85 g of the same spherical silver powder and flaky silver powder as in Example 1 were added thereto and mixed for 60 seconds with a stirring and defoaming device to obtain a conductive silver paste. The silver concentration of the obtained conductive silver paste was measured and found to be 93.0% by mass.

得られた導電性ペーストにつき、実施例1と同様の評価を行った。この例の製造条件および評価結果を表6に示す。なお表6には比較例2〜4の導電性ペーストの製造条件と評価結果も示す。 The conductive paste thus obtained was evaluated in the same manner as in Example 1. Table 6 shows the manufacturing conditions and evaluation results of this example. In addition, Table 6 also shows manufacturing conditions and evaluation results of the conductive pastes of Comparative Examples 2 to 4.

〔比較例2〕
工程2gにおいて、配合する銀微粒子分散液の量を10.88g、配合するテトラデカン量を10.82gに変更した以外は比較例1と同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
[Comparative Example 2]
A conductive silver paste was produced and evaluated in the same manner as in Comparative Example 1 except that in Step 2g, the amount of the silver fine particle dispersion liquid to be blended was changed to 10.88 g and the amount of tetradecane to be blended was changed to 10.82 g.

〔比較例3〕
工程2gにおいて、配合する球状銀粉を83.7gとし、フレーク状銀粉を未配合とした以外は比較例1と同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
[Comparative Example 3]
In Step 2g, a conductive silver paste was produced and evaluated in the same manner as in Comparative Example 1 except that the spherical silver powder to be blended was 83.7 g and the flaky silver powder was not blended.

〔比較例4〕
工程2gにおいて、配合する銀微粒子分散液の量を10.88g、配合するテトラデカン量を10.82gに変更し、配合する球状銀粉を78.3gとし、フレーク状銀粉を未配合とした以外は比較例1と同様にして、導電性銀ペーストを製造し、評価した。
[Comparative Example 4]
In step 2g, the amount of the silver fine particle dispersion to be blended was changed to 10.88 g, the amount of tetradecane to be blended was changed to 10.82 g, the spherical silver powder to be blended was 78.3 g, and the flaky silver powder was not blended. A conductive silver paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1.

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Claims (8)

平均粒径0.5μm以上10μm以下の金属粉と、
金属微粒子と、
前記金属微粒子の表面を被覆している被覆剤と、
前記金属粉及び前記金属微粒子を分散させている溶剤と、
を含む導電性ペーストであって、
金属微粒子の表面に付着した被覆剤を含めた金属微粒子の平均粒径が1nm以上50nm以下であり、
前記被覆剤は、炭素数が6以上20以下の化合物であってカルボキシル構造を有する化合物であり、
前記溶剤は、ヒドロキシル構造、エステル構造及びエーテル構造からなる群から選択される少なくとも一種を有する化合物であり、
前記金属粉が、球状金属粉とフレーク状金属粉とを含み、
前記球状金属粉と前記フレーク状金属粉との質量比(球状金属粉:フレーク状金属粉)が、90:10〜15:85の範囲にある、
導電性ペースト。
Metal powder having an average particle size of 0.5 μm or more and 10 μm or less,
Metal particles,
A coating agent coating the surface of the metal fine particles,
A solvent in which the metal powder and the metal fine particles are dispersed,
A conductive paste containing
The average particle diameter of the metal fine particles including the coating agent adhered to the surface of the metal fine particles is 1 nm or more and 50 nm or less,
The coating material is a compound having 6 to 20 carbon atoms and a carboxyl structure,
The solvent is Ri compound der having at least one member selected from the group consisting of hydroxyl structure, ester structure and ether structure,
The metal powder includes spherical metal powder and flaky metal powder,
The mass ratio of the spherical metal powder and the flake-shaped metal powder (spherical metal powder:flake-shaped metal powder) is in the range of 90:10 to 15:85,
Conductive paste.
前記金属微粒子と前記被覆剤との合計量に対する被覆剤の量の比率が、4質量%を超え、13質量%未満である、
請求項1に記載の導電性ペースト。
The ratio of the amount of the coating material to the total amount of the metal fine particles and the coating material is more than 4% by mass and less than 13% by mass.
The conductive paste according to claim 1.
前記金属粉と前記金属微粒子との合計含有量が、87質量%を超え、98質量%未満である、
請求項1又は2に記載の導電性ペースト。
The total content of the metal powder and the metal fine particles is more than 87% by mass and less than 98% by mass.
The conductive paste according to claim 1.
前記溶剤の沸点が、200℃以上400℃以下の範囲にある、
請求項1〜のいずれか1項に記載の導電性ペースト。
The boiling point of the solvent is in the range of 200 ℃ or more and 400 ℃ or less,
Claims 1-3 in any one of the description of the conductive paste.
前記金属粉が、銀、銅、アルミニウムおよびニッケルからなる群から選択される少なくとも一種からなり、
前記金属微粒子が、銀、銅、パラジウムおよびニッケルからなる群から選択される少なくとも一種からなる、
請求項1〜のいずれか1項に記載の導電性ペースト。
The metal powder is at least one selected from the group consisting of silver, copper, aluminum and nickel,
The metal fine particles, at least one selected from the group consisting of silver, copper, palladium and nickel,
Claims 1-4 for any one in the conductive paste according.
前記導電性ペーストの粘度(10rpm、25℃)が、3Pa・s以上150Pa・s以下の範囲にある、
請求項1〜のいずれか1項に記載の導電性ペースト。
The viscosity (10 rpm, 25° C.) of the conductive paste is in the range of 3 Pa·s or more and 150 Pa·s or less,
Claim 1-5 any one of the description of the conductive paste.
前記被覆剤が、炭素数6〜8のカルボン酸と炭素数16〜18のカルボン酸とからなる、
請求項1〜のいずれか1稿に記載の導電性ペースト。
The coating agent comprises a carboxylic acid having 6 to 8 carbon atoms and a carboxylic acid having 16 to 18 carbon atoms,
The conductive paste according to any one of claims 1 to 7 .
請求項1〜のいずれか1項に記載の導電性ペーストの焼結体からなる層を有する、
基板。
A layer comprising a sintered body of the conductive paste according to any one of claims 1 to 7 ,
substrate.
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