JP6722461B2 - 粉体処理装置及び方法 - Google Patents
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Description
被処理対象となる粉体をプラズマ処理する粉体処理装置であって、
円筒状基体と、
前記円筒状基体の外側及び内側に相対向し且つ周方向にずらして配置され、軸方向に亘って、周方向に間欠的に設けられた外側電極及び内側電極と、
前記外側電極を覆う誘電体層と、
前記外側電極と前記内側電極との間に高周波電圧を印加する高周波電源と、
前記円筒状基体の内方に軸方向の一端側から他端側に当該円筒状基体の内壁に沿って輸送ガスと共に前記粉体を流入する粉体輸送手段と、
前記粉体輸送手段により流入され、表面処理された処理粉体を回収する回収手段と
を具備し、前記高周波電源により前記外側電極と前記内側電極との間に高周波電圧を印加して前記内側電極近傍にプラズマを発生させて前記粉体をプラズマと接触させ、プラズマにより表面処理された処理粉体を前記回収手段で回収することを特徴とする粉体処理装置にある。
被処理対象となる粉体をプラズマ処理する粉体処理装置であって、
円筒状基体と、
前記円筒状基体の外側及び内側に相対向し且つ周方向にずらして配置され、軸方向に亘って、周方向に間欠的に設けられた外側電極及び内側電極と、
前記外側電極及び前記内側電極の何れか一方を覆う誘電体層と、
前記円筒状基体の前記誘電体層が設けられた側とは反対側に近接して設けられ、前記円筒状基体との間に流路を形成する流路形成円筒管と、
前記外側電極と前記内側電極との間に高周波電圧を印加する高周波電源と、
前記円筒状基体と前記流路形成円筒管との間の流路に軸方向の一端側から他端側に輸送ガスと共に前記粉体を流入する粉体輸送手段と、
前記粉体輸送手段により流入され、表面処理された処理粉体を回収する回収手段と
を具備し、前記高周波電源により前記外側電極と前記内側電極との間に高周波電圧を印加して前記流路内の電極近傍にプラズマを発生させて前記粉体をプラズマと接触させ、プラズマにより表面処理された処理粉体を前記回収手段で回収することを特徴とする粉体処理装置にある。
前記流路形成円筒管が前記円筒状基体の内側に設けられ、前記円筒状基体と前記流路形成円筒管との間の前記流路の軸方向の端部は封止されており、前記粉体輸送手段は、前記流路の軸方向の一端側の周方向の所定箇所に設けられたガス流入口から前記輸送ガスと共に前記粉体を流入し、前記回収手段は、前記流路の軸方向の他端側の周方向の所定箇所に設けられたガス排気口から排出されるガスから処理粉体を回収する
ことを特徴とする第2の態様に記載の粉体処理装置にある。
前記流路形成円筒管の内側に排出流路管が配置され、前記流路の軸方向の他端部は前記排出流路管の一端部に連通し、前記回収手段は、前記流路形成円筒管の一端側に位置する前記排出流路管の他端部から排出されるガスから処理粉体を回収する
ことを特徴とする第3の態様に記載の粉体処理装置にある。
前記円筒状基体は、軸方向が重力方向となるように配置され、前記粉体輸送手段は、重力方向下側から前記粉体を流入し、前記回収手段は、重力方向上側から処理粉体を回収する
ことを特徴とする第1〜4の何れかの態様に記載の粉体処理装置にある。
前記円筒状基体は、軸方向が重力方向となるように配置され、前記粉体輸送手段は、重力方向上側から前記粉体を流入し、前記回収手段は、重力方向下側から処理粉体を回収する
ことを特徴とする第1〜4の何れかの態様に記載の粉体処理装置にある。
前記輸送ガスは、アルゴン、ヘリウム、空気、窒素、酸素及び塩素から選択される一種のガス又は複数のガスの混合ガスであることを特徴とする第1〜6の何れかの態様に記載の粉体処理装置にある。
被処理対象となる粉体をプラズマ処理する粉体処理方法であって、
円筒状基体の外側及び内側に外側電極及び内側電極を、相対向し且つ周方向にずらし、前記円筒状基体の軸方向に亘って、周方向に間欠的に配置し、前記外側電極を誘電体層で覆い、前記外側電極と前記内側電極との間に高周波電圧を印加することにより前記内側電極の近傍にプラズマを発生させると共に、前記円筒状基体の軸方向の一端側から他端側に輸送ガスと共に前記粉体を流入するようにし、該粉体を輸送しながらプラズマに接触することで表面処理を行い、前記他端側から処理粉体を回収する
ことを特徴とする粉体処理方法にある。
被処理対象となる粉体をプラズマ処理する粉体処理方法であって、
円筒状基体の外側及び内側に外側電極及び内側電極を、相対向し且つ周方向にずらし、軸方向に亘って、周方向に間欠的に配置し、前記外側電極及び前記内側電極の一方を誘電体層で覆い、前記円筒状基体の前記誘電体層が設けられた側とは反対側に近接して流路形成円筒管を設けて前記円筒状基体との間に流路を形成し、前記外側電極と前記内側電極との間に高周波電圧を印加しながら前記円筒状基体と前記流路形成円筒管との間の流路に軸方向の一端側から他端側に輸送ガスと共に前記粉体を流入し、前記流路内の電極近傍にプラズマを発生させて前記粉体をプラズマと接触させ、プラズマにより表面処理された処理粉体を回収することを特徴とする粉体処理方法にある。
前記粉体の導入を連続的に行うと同時に、前記処理粉体を連続的に回収することを特徴とする第8又は9の態様に記載の粉体処理方法にある。
図1は、本発明の実施形態1に係る粉体処理装置の概略構成を示す横断面及び縦断面を示す。これらの図面に示すように、円筒状基体1の外側及び内側には、それぞれ複数の外側電極2A〜2D及び内側電極3A〜3Dが設けられている。
図2は、本発明の実施形態2に係る粉体処理装置の概略構成を示す横断面及び縦断面を示す。
図3は、本発明の実施形態3に係る粉体処理装置の概略構成を示す横断面及び縦断面を示す。
1a・・・ガス流入口
1b、1c・・・ガス排出口
2A〜2D・・・外側電極
3A〜3D・・・…内側電極
4・・・高周波電源
5・・・誘電体層
6、21、22・・・流路形成円筒管
7、7A〜7C・・・流路
8、8A、9、9A蓋部材
10・・・ガス流入管
11・・・ガス排出管
12・・・被処理粉体
12A・・・処理粉体
15・・・プラズマ
16・・・回転気流
Claims (9)
- 被処理対象となる粉体をプラズマ処理する粉体処理装置であって、
円筒状基体と、
前記円筒状基体の外側及び内側に部分的に相対向し且つ部分的に周方向にずらして配置され、軸方向に亘って、周方向に間欠的に設けられた外側電極及び内側電極と、
前記外側電極を覆う誘電体層と、
前記外側電極と前記内側電極との間に高周波電圧を印加する高周波電源と、
前記円筒状基体の内方に軸方向の一端側から他端側に当該円筒状基体の内壁に沿って輸送ガスと共に前記粉体を流入する粉体輸送手段と、
前記粉体輸送手段により流入され、表面処理された処理粉体を回収する回収手段と
を具備し、前記高周波電源により前記外側電極と前記内側電極との間に高周波電圧を印加して前記内側電極近傍にプラズマを発生させて前記粉体をプラズマと接触させ、プラズマにより表面処理された処理粉体を前記回収手段で回収することを特徴とする粉体処理装置。 - 被処理対象となる粉体をプラズマ処理する粉体処理装置であって、
円筒状基体と、
前記円筒状基体の外側及び内側に部分的に相対向し且つ部分的に周方向にずらして配置され、軸方向に亘って、周方向に間欠的に設けられた外側電極及び内側電極と、
前記外側電極及び前記内側電極の何れか一方を覆う誘電体層と、
前記円筒状基体の前記誘電体層が設けられた側とは反対側に近接して設けられ、前記円筒状基体との間に流路を形成する流路形成円筒管と、
前記外側電極と前記内側電極との間に高周波電圧を印加する高周波電源と、
前記円筒状基体と前記流路形成円筒管との間の流路に軸方向の一端側から他端側に輸送ガスと共に前記粉体を流入する粉体輸送手段と、
前記粉体輸送手段により流入され、表面処理された処理粉体を回収する回収手段と
を具備し、前記高周波電源により前記外側電極と前記内側電極との間に高周波電圧を印加して前記流路内の電極近傍にプラズマを発生させて前記粉体をプラズマと接触させ、プラズマにより表面処理された処理粉体を前記回収手段で回収することを特徴とする粉体処理装置。 - 前記流路形成円筒管が前記円筒状基体の内側に設けられ、前記円筒状基体と前記流路形成円筒管との間の前記流路の軸方向の端部は封止されており、前記粉体輸送手段は、前記流路の軸方向の一端側の周方向の所定箇所に設けられたガス流入口から前記輸送ガスと共に前記粉体を流入し、前記回収手段は、前記流路の軸方向の他端側の周方向の所定箇所に設けられたガス排気口から排出されるガスから処理粉体を回収する
ことを特徴とする請求項2に記載の粉体処理装置。 - 前記流路形成円筒管の内側に排出流路管が配置され、前記流路の軸方向の他端部は前記排出流路管の一端部に連通し、前記回収手段は、前記流路形成円筒管の一端側に位置する前記排出流路管の他端部から排出されるガスから処理粉体を回収する
ことを特徴とする請求項3に記載の粉体処理装置。 - 前記円筒状基体は、軸方向が重力方向となるように配置され、前記粉体輸送手段は、重力方向下側から前記粉体を流入し、前記回収手段は、重力方向上側から処理粉体を回収する
ことを特徴とする請求項1〜4の何れか一項に記載の粉体処理装置。 - 前記円筒状基体は、軸方向が重力方向となるように配置され、前記粉体輸送手段は、重力方向上側から前記粉体を流入し、前記回収手段は、重力方向下側から処理粉体を回収する
ことを特徴とする請求項1〜4の何れか一項に記載の粉体処理装置。 - 前記輸送ガスは、アルゴン、ヘリウム、空気、窒素、酸素及び塩素から選択される一種のガス又は複数のガスの混合ガスであることを特徴とする請求項1〜6の何れか一項に記載の粉体処理装置。
- 被処理対象となる粉体をプラズマ処理する粉体処理方法であって、
円筒状基体の外側及び内側に外側電極及び内側電極を、部分的に相対向し且つ部分的に周方向にずらし、前記円筒状基体の軸方向に亘って、周方向に間欠的に配置し、前記外側電極を誘電体層で覆い、前記外側電極と前記内側電極との間に高周波電圧を印加することにより前記内側電極の近傍にプラズマを発生させると共に、前記円筒状基体の軸方向の一端側から他端側に輸送ガスと共に前記粉体を連続的に流入するようにし、該粉体を輸送しながらプラズマに接触することで表面処理を行い、前記他端側から処理粉体を連続的に回収することを特徴とする粉体処理方法。 - 被処理対象となる粉体をプラズマ処理する粉体処理方法であって、
円筒状基体の外側及び内側に外側電極及び内側電極を、部分的に相対向し且つ部分的に周方向にずらし、軸方向に亘って、周方向に間欠的に配置し、前記外側電極及び前記内側電極の一方を誘電体層で覆い、前記円筒状基体の前記誘電体層が設けられた側とは反対側に近接して流路形成円筒管を設けて前記円筒状基体との間に流路を形成し、前記外側電極と前記内側電極との間に高周波電圧を印加しながら前記円筒状基体と前記流路形成円筒管との間の流路に軸方向の一端側から他端側に輸送ガスと共に前記粉体を連続的に流入し、前記流路内の電極近傍にプラズマを発生させて前記粉体をプラズマと接触させ、プラズマにより表面処理された処理粉体を連続的に回収することを特徴とする粉体処理方法。
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