JP6721489B2 - 磁気共鳴イメージング装置及び計算画像生成方法 - Google Patents

磁気共鳴イメージング装置及び計算画像生成方法 Download PDF

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Description

本発明は、磁気共鳴イメージング技術に関し、特に、計算によって被検体パラメータを推定する技術に関する。
磁気共鳴イメージング(MRI)装置は、被検体の組織を構成する原子、主として水素原子の原子核から得られる核磁気共鳴信号の信号強度や位相情報を用いて、組織の原子核密度(プロトン密度)画像や血流などの動きのある部分の画像を取得する。核磁気共鳴信号の信号強度や位相は、撮像の際の条件、装置や被検体の組織の特性によって決まる。このことを利用して、近年、MRI装置で、装置や被検体の組織の特性のうち、核磁気共鳴信号との関係が解析可能な特性をパラメータとして計算により求め、画像化する技術が広まっている。
このような技術の一つに、異なる撮影パラメータにて複数の画像を撮影し、ピクセルごとに被検体パラメータや装置パラメータを計算で求める方法がある。ここで、撮影パラメータとは繰り返し時間や高周波磁場の設定強度、高周波磁場の位相などであり、被検体パラメータとは縦緩和時間、横緩和時間、スピン密度、共鳴周波数、拡散係数、高周波磁場の照射強度分布などである。装置パラメータとは磁場強度、受信感度分布などであるが、被検体にも依存する。得られた被検体パラメータの値をピクセルの値とする画像は計算画像あるいはマップと呼ばれる。
MRIでは撮影の目的に応じた種々の撮影シーケンスがあり、撮影シーケンスによっては、撮影パラメータと被検体パラメータあるいは装置パラメータとピクセル値の関係(信号関数)が解析的に求められており、この信号関数を用いることにより、被検体パラメータや装置パラメータを算出することができる。信号関数が解析的に求められていない撮影シーケンスでも、数値シミュレーションによって信号関数を構成することによって計算画像の生成を可能にする方法が提案されている(特許文献1)。
特許文献1には、被検体パラメータあるいは装置パラメータとして、緩和時間、周波数、高周波磁場の照射強度、スピン密度、共鳴周波数などの各マップを取得する手順がグラディエントエコー(GE:Gradient Echo)系の高速撮影シーケンスであるRF−spoiled GEを例として開示されている。
特開2011−024926号公報
被検体パラメータの一つである緩和時間には、縦緩和時間T1、横緩和時間T2の二種類がある。さらに横緩和時間T2は、撮影方法によってT2そのもの(真の横緩和時間)が得られる場合と見かけの横緩和時間T2*が得られる場合がある。T2*は静磁場不均一の影響を含む横緩和時間であり、静磁場不均一の影響が出るGE系の撮影シーケンスで、T2はスピンエコー(SE:Spin Echo)系の撮影シーケンスを用いてそれぞれ取得することができる。特許文献1では、GE系の撮影シーケンスを用いているため、算出される横緩和時間はT2*であり、T2を取得することはできない。
組織の状態を把握する上で、T2はT2*よりも重要なパラメータであり、一般の臨床検査では、T2*強調像よりもT2強調像が広く用いられている。T2強調像は、SE系の撮影シーケンスを用いて得ることができるが、一般にSE系の撮影シーケンスは、GE系の撮影シーケンスに比べ、撮影時間が長い。またT2のみならず、T2*やその他のパラメータを取得しようとすると、さらに長い撮影時間が必要となる。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、複数の被検体パラメータマップを高速に取得することを課題とする。
上記課題を解決するため、本発明では、単一の撮影シーケンスにおいて、グラディエントエコーとスピンエコーの両方を発生させる撮影シーケンスを用いるとともに、グラディエントエコーを用いて1以上のパラメータの値を算出し、スピンエコーを用いて別のパラメータの値を算出する。一方のパラメータの値を算出する際に、他方のパラメータ算出で得たパラメータの値を用いてもよい。
すなわち本発明のMRI装置は、被検体に高周波磁場及び傾斜磁場を印加し、被検体が発する核磁気共鳴信号を計測する計測部と、パルスシーケンスに従って前記計測部を制御する制御部と、前記計測部が取得した核磁気共鳴信号と前記パルスシーケンスの信号関数とを用いて、前記被検体の特性に関わる被検体パラメータのパラメータ値を算出するパラメータ算出部と、を備え、前記制御部は、前記パルスシーケンスとして、1回の励起用高周波磁場の印加後に少なくとも2種の核磁気共鳴信号を計測するパルスシーケンスを用いて前記計測部を制御し、前記パラメータ算出部は、前記2種の核磁気共鳴信号の一方を用いて、第一の被検体パラメータを含む1以上の被検体パラメータのパラメータ値を算出し、前記2種の核磁気共鳴信号の他方を用いて、前記第一の被検体パラメータとは異なる第二の被検体パラメータを含む1以上の被検体パラメータのパラメータ値を算出する。
また本発明の計算画像生成方法は、グラディエントエコー計測とそれに続くスピンエコー計測とを含むパルスシーケンスを、撮影パラメータの値を変えて複数回実行することによって取得したエコー信号を用いて被検体の特性に関わる被検体パラメータの計算画像を生成する方法であって、複数回の撮影で得た前記グラディエントエコーと前記パルスシーケンスの信号関数とを用いて第一の被検体パラメータを含む2以上の被検体パラメータのパラメータ値を算出し、複数回の撮影で得た前記スピンエコーと、グラディエントエコー計測後の信号関数とを用いて第二のパラメータのパラメータ値を算出することを特徴とする。
本発明によれば、単一の撮影シーケンスで得た複数の核磁気共鳴信号を用いて、段階的にパラメータを算出することにより、高速で複数のパラメータ取得を可能にする。また本発明が採用する撮影シーケンスでは、グラディエントエコーを計測した後の待ち時間を利用してT2算出用のスピンエコーを計測することができる。そのため、撮影時間の延長を最小限に抑えてT2マップを取得することができるようになる。
本発明が適用されるMRI装置の全体構成を示す図。 計算機の機能ブロック図。 実施形態のMRI装置の動作を示すフロー。 (a)撮影シーケンスの一実施形態を示す図、(b)撮影シーケンスで得たエコーからなるk空間データを示す図。 RF−spoiled GEシーケンスを示す図。 パラメータセットの一例。 (a)、(b)は、それぞれ、図6のパラメータセットで得られる画像を示す図、(c)、(d)は、それぞれ、(a)の画像から得られる計算画像、(b)の画像から得られる計算画像を示す図。 演算部の各処理と入力及び出力データの関係を示す図。 信号関数の一部を示す図。
以下、図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。本発明の実施形態を説明するための全図において、同一機能を有するものは同一符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。
<装置構成>
本発明が適用されるMRI装置の実施形態について説明する。図1は、本実施形態のMRI装置100の概略構成を示すブロック図である。MRI装置100は、静磁場を発生するマグネット101と、傾斜磁場を発生する傾斜磁場コイル102と、シーケンサ104と、傾斜磁場電源105と、高周波磁場発生器106と、高周波磁場を照射するとともに核磁気共鳴信号を検出する送受信コイル107と、受信器108と、計算機109と、ディスプレイ111と、記憶装置112とを備える。送受信コイル107は、図では単一のものを示しているが送信コイルと受信コイルとを別個に備えていてもよい。以下、マグネット101、傾斜磁場コイル102と傾斜磁場電源105、シーケンサ104、高周波磁場発生器10、送受信コイル107及び受信器108を総括して、計測部110ともいう。
被検体(例えば、生体)103はマグネット101の発生する静磁場空間内の寝台(テーブル)に載置される。また、シーケンサ104は、傾斜磁場電源105と高周波磁場発生器106に命令を送り、それぞれ傾斜磁場および高周波磁場を発生させる。高周波磁場は、送受信コイル107を通じて被検体103に印加される。被検体103から発生した核磁気共鳴信号は送受信コイル107によって受波され、受信器108で検波が行われる。検波の基準とする核磁気共鳴周波数(検波基準周波数f0)は、シーケンサ104によりセットされる。検波された信号は、計算機109に送られ、ここで画像再構成などの信号処理が行われる。その結果は、ディスプレイ111に表示される。必要に応じて、記憶装置112に検波された信号や測定条件を記憶させることもできる。
シーケンサ104は、通常、予めプログラムされたタイミング、強度で各装置が動作するように制御を行う。プログラムのうち、特に、高周波磁場、傾斜磁場、信号受信のタイミングや強度を記述したものはパルスシーケンス(撮影シーケンス)と呼ばれる。本実施形態のMRI装置では、後述するが、グラディエントエコーとスピンエコーの両方を発生させる撮影シーケンスが格納されている。
計算機109は、CPUとメモリとを備え、上述した各部の動作を制御する制御部として機能するとともに、各種信号処理や演算を行う演算部として機能する。具体的には、パルスシーケンスに従って、計測部を動作させ、エコー信号を計測する。また、得られたエコー信号に対し、各種の信号処理を施し、所望の画像を得る。画像には、被検体パラメータをピクセルの値とする計算画像が含まれる。制御や演算のためのプログラムやアルゴリズムは記憶装置112に格納されており、記憶装置112に格納されたプログラムを、計算機109のCPUがメモリにロードして実行することにより計算機109の各機能が実現される。なお計算機109の機能の一部は、PL(programmable logic device)等のハードウエアで実現されてもよい。
上述した処理を実現するための計算機109の構成例を図2に示す。図示するように、計算機109は、計測部および演算部を含む装置全体の制御を行う制御部210と、演算部230とを含む。演算部230は、画像再構成部231、信号関数生成部233、パラメータ推定部235及び画像生成部237を含む。なお、演算部230の各機能部のうちパラメータ算出部としての機能部である、信号関数生成部233、パラメータ推定部235および画像生成部237は、MRI装置100とは独立に設けられた計算機であって、MRI装置100の計算機109とデータの送受信が可能な計算機において実現されてもよい。
<計算機の処理>
次に本実施形態のMRI装置による計算画像作成について説明する。本実施形態では、一例として、パラメータとして縦緩和時間T1、横緩和時間T2、T2*、照射磁場強度比B1及び受信コイル感度Scを算出する場合を説明する。図3に、計算画像作成の手順の概要を示す。
前提として、複数の撮影条件の組み合わせが予め決められ、記憶装置112に格納されている(S301)。制御部210は、これら複数の撮影条件のうちの一つの撮影条件を設定し、計測部110を制御して、所定のパルスシーケンスを実行し、エコー信号、ここではグラディエントエコーとスピンエコーを計測する撮影を行う(S302)。それぞれのエコー信号について、画像再構成に必要な数の計測が終了したならば、撮影条件を変えて、撮影を行う(S303)。計画した撮影条件の組み合わせすべての撮影が終了するまで、撮影を繰り返す。一方、計算機109(信号関数生成部233)は、撮影に用いる撮影シーケンスが決まるとその信号関数を生成する(S304)。計算機109(画像再構成部231)は、複数の撮影で得た2種のエコー信号についてそれぞれ撮影毎に画像(GE画像とSE画像)を再構成し、パラメータ推定部235がこれら画像のピクセル値と信号関数生成部233が生成した信号関数を用いてパラメータの推定を行う(S305)。なお計算機109が行う演算の一部は、撮影の終了前に撮影と並行して行ってもよい。また、撮影シーケンスが同じであれば撮影条件が異なっても信号関数は同じである。そのため、生成した信号関数を保存しておくことにより、撮影のたびに信号関数を生成する必要はなく、同じ信号関数を繰り返し使用することができる。
パラメータの推定は、グラディエントエコーを用いた推定(第一のパラメータの推定)とスピンエコーを用いた推定(第二のパラメータの推定)を含み、それぞれの処理で異なる種類のパラメータを算出する。画像生成部237は、算出された複数のパラメータの全て或いは一部のパラメータについて、その値を画素値とする画像すなわち計算画像(パラメータ画像)を作成する(S306)。画像生成部237は、計算画像を表示画像として、或いはさらに計算画像を含む表示画像を作成し、ディスプレイ111に表示させる(S307)。
以下、各処理の詳細を説明する。
[撮影条件の設定S30
この処理では、撮影シーケンスと撮影条件を設定する。撮影条件とは撮影シーケンス実行時に、ユーザが任意に設定可能なパラメータ(撮影パラメータ)であり、具体的には、繰り返し時間(TR)、エコー時間(TE)、高周波磁場の設定強度(フリップ角(Flip Angle:FA))、高周波磁場の位相の増分(θ)などがある。本実施形態では、これらの値を異ならせて、組み合わせたものを複数種用意しておく。
まず撮影シーケンスについて説明する。本実施形態では、撮影シーケンスとして、1回の励起パルスの印加後に、グラディエントエコーとスピンエコーの両方を発生させる撮影シーケンスとを用いる。このような撮影シーケンスとして、例えば、RF−spoiled GEシーケンスとSEシーケンスを組み合わせたシーケンス(以下、GE−SEシーケンスという)を用いることができる。RF−spoiled GEシーケンスは、高速で3D撮影を行うことができ、この撮影シーケンスによって得られる画像のピクセル値は、主に被検体パラメータである緩和時間T1、T2*、スピン密度ρと、装置パラメータであるB1、Scに依存する。
GE−SEシーケンスの一例を図4(a)に示す。なお図4(a)において、RF、A/D、Gs、Gp、Grはそれぞれ、高周波磁場、信号受信、スライス傾斜磁場、位相エンコード傾斜磁場、リードアウト傾斜磁場を表す。なお本図では、位相エンコード傾斜磁場Gpの軸が一軸の場合を示しているが、3D−シーケンスの場合には、2軸の位相エンコード傾斜磁場が用いられる。
このGE−SEシーケンスは、RF−spoiled GEシーケンスのエコー計測後の待ち時間を利用して、反転RFパルスによりスピンエコーを発生させるもので、グラディエントエコー計測までのシーケンスは、図5に示すRF−spoiled GEシーケンスと同様である。即ち、まず、スライス傾斜磁場パルス401の印加とともに高周波磁場(RF)パルス402を照射し、対象物体内のあるスライスの磁化を励起する。次いでスライスリフェーズ傾斜磁場パルス403と位相エンコード傾斜磁場パルス404、ディフェーズ用リードアウト傾斜磁場405を印加した後、リードアウト傾斜磁場パルス406を印加しながら核磁気共鳴信号(グラディエントエコー、第1エコー)407を計測する。そして最後にディフェーズ用位相エンコード傾斜磁場パルス408を印加する。
次に、スライス傾斜磁場パルス409−1の印加とともに反転パルス410−1を照射し、スライス内の磁化を反転する。次いで位相エンコード傾斜磁場パルス411−1を印加した後、リードアウト傾斜磁場パルス412−1を印加しながら核磁気共鳴信号(スピンエコー、第2エコー)を計測413−1する。そして最後にディフェーズ用位相エンコード傾斜磁場パルス414−1を印加する。
これ以降、スライス傾斜磁場パルス409−1の印加からディフェーズ用位相エンコード傾斜磁場パルス414−1の印加までのシーケンスと同じシーケンスを必要回数だけ繰り返す。図4(a)の例では、全部で4個の反転パルス(410−1〜410−4)、を印加して、第2エコーから第5エコーまで合計4個のスピエンエコーを計測(413−1〜413−4)する。RFパルス402照射から最後のスピンエコー計測までの手順を繰り返し時間TRで繰り返し、第1エコーから第5エコーまでのそれぞれのエコーを複数回計測する。繰り返しごとに位相エンコード傾斜磁場パルス(404、408、411−1〜411−4、414−1〜414−4)の強度(位相エンコード量kp)を変化させるとともにRFパルス402の位相の増分値をθずつ変化させる(n番目のRFパルスの位相θは、θ=θn−1 +θ×nとなる)。RFの位相を繰り返し毎に所定量増分することにより、横緩和の影響を減らすことができる。
なおGE−SEシーケンスの反転パルスの数は任意である。ただし、繰り返し時間が数十ミリ秒程度と短い場合には、偶数であることが望ましい。これは、RF−spoiled GEと同様、次の励起までに必要な待ち時間を短くして撮影時間を短くするためである。すなわち、RF−spoiled GEでは、励起パルスによって励起された磁化には、静磁場の方向を向いている縦磁化成分がある程度残っていて、次の励起パルスまでの待ち時間が短くできるように設計されている。ここで反転パルスを照射すると縦磁化が反転し、もう一度照射すると元の静磁場の向きに戻る。このように、反転パルスを偶数回にすることにより、本シーケンスにおいてもRF−spoiled GEと同様に次の励起パルスの前に縦磁化を静磁場の向きにすることができる。
本実施形態では、所定数のグラディエントエコー画像を得るために、反転パルスを用いないRF−spoiled GEも併用する。
次に撮影パラメータの組み合わせ(撮影パラメータセット)について説明する。撮影パラメータセットは、FA(フリップ角)、TR(繰り返し時間)、TE(エコー時間)、反転パルス間隔、及びθ(RF位相増分値)等の撮影パラメータをそれぞれ所定のパラメータ値として組み合わせたものであり、異なる複数の撮影パラメータセットを予め決めておき、異なる撮影パラメータセットで撮影を行う。なお組み合わせは、上述した全てのパラメータの値を異ならせる必要はなく、一部のパラメータは値を固定し、一部のパラメータの値だけを異ならせてもよい。組み合わせは、例えば誤差伝搬の法則に基づき、ノイズの影響を最小限にするように各パラメータの値の組み合わせとして選択することができる。
パラメータの値は、算出すべき被検体パラメータの種類等を考慮して決める。例えば、FAは、通常のRF−spoiled GEでは5度から60度程度に設定されるが、本実施形態では、できるだけ小さくする。これは以下の理由による。FAが大きいと磁化移動効果が大きくなるため、信号強度がタンパクの影響を受けて小さくなる傾向にある。その結果、T1、T2の推定値もタンパク濃度の影響を受けた結果となり、通常の手法でT1、T2を個別に計測した場合とは異なるT1、T2が得られるからである。磁化移動効果の影響を抑えるためには、FAの最大値を40度程度に抑えることが望ましい。ただし、磁化移動効果の影響も加味したT1、T2を計測したい場合はこの限りではない。
TRの最大値は、用いる撮影シーケンスや反転パルス数などを考慮して決定する。例えばGE−SEシーケンスは、RF−spoiled GEに反転パルスを追加しているため、RF−spoiled GEよりもTRが長くなる。そのため、GE−SEシーケンスを使う撮影パラメータセットは、TRが長いものにした方が良い。なお、GE−SEシーケンスの反転パルスの間隔とTRを長くすれば長いT2の推定精度が向上するが、撮影時間が長くなる。
RFパルスの位相増分θは、横緩和の影響を異ならせるためにRFパルスの位相を変化させるものであり、位相増分θを変化させることで、横緩和の影響が異なる信号を得ることができる。一般に位相増分を20度程度とすることで横緩和の影響がなくなるので、それ以下の範囲で増分を変化させる。
TE及び反転パルス間隔は、装置的な制約やSARを考慮して決める。これらの撮影パラメータは、固定値としてもよい。
撮影パラメータセットの数は、後述するパラメータ推定において推定するパラメータの数(未知数の数)と同じかそれ以上とする。本実施形態は、未知数の数が4(T1、T2、B1、Sc)であるため、撮影パラメータセットは4以上とする。パラメータセット数即ち当該パラメータセットの撮影で得られる画像の数を多くすればするほど推定精度は向上するが、その分撮影時間が長くなる。
誤差伝搬の法則に基いてノイズを最小化するように選択されたパラメータセットの一例を図6に示す。この例では、FAを10度、40度、θを2度、5度、7度、8度、22度、TRを10ms、30ms、40msにしたときの組み合わせからなる6つの撮影パラメータセットP1〜P6を決定している。この撮影パラメータセットP1〜P6では、グラディエントエコーのTEは全て3msとしている。撮影シーケンスは、TRが最も長いP3で図4(a)のGE−SEシーケンスとし、それ以外は図5のRF−spoiled GEとしている。またGE−SEシーケンスの反転パルスの間隔は8msである。
[撮影S302、S303
計測部110は、制御部210による制御のもと、上述した複数の撮影パラメータセットを用いて複数の画像を撮影する。即ち撮影パラメータセットを変えながら、複数回の撮影を行い、複数のグラディエント画像(GE画像)と複数のスピンエコー画像(SE画像)を得る。例えば図4(a)のGE−SEシーケンスによって得たエコーは、エコー番号毎に図4(b)に示すようなk空間に配置され、2次元逆フーリエ変換することによって画像が再構成される。例えば、第1エコーから第1エコー画像、第2エコーから第2エコー画像が再構成される。第1エコー画像はGE画像であり、第2エコー画像以降はSE画像である。図5に示す、1回の繰り返しで1つのグラディエントエコーを得るRF−spoiled GEの場合には、1回の撮影で一つのGE画像が得られる。図6に示すパラメータセットを用いた複数の撮影では、図7(a)、(b)に示すように、6枚のGE画像及び4枚のSE画像が得られる。
[パラメータ算出S304、S305
演算部230は、上述のように取得した複数の画像を用いて被検体パラメータ及び装置パラメータを算出する。以下、パラメータ算出に関わる演算部230の処理を、図8を参照して説明する。図8は各処理と入力及び出力データの関係を示す図である。
[信号関数生成(数値シミュレーション)S801]
撮影シーケンスが決まると、信号関数生成部233は、数値シミュレーションによりその撮影シーケンスによって得られる各ピクセルの信号強度を表す関数(信号関数)を生成する。本実施形態ではGE−SEシーケンスの信号関数を生成する。信号関数fsは、撮影パラメータ(FA、TR、TE、θ)、装置パラメータ及び被検体パラメータの関数であり、以下のように表される。
Figure 0006721489
ここで、T1、T2、ρはそれぞれ被検体パラメータの縦緩和時間、横緩和時間、スピン密度であり、B1、Scは装置の特性及び被検体の特性に依存するパラメータ(ここでは装置パラメータという)であるRFの照射強度、受信コイルの感度である。ここで、B1は撮影時にはFAの係数となるため、FAとの積の形に変換しておく。また、ρとScは比例係数として信号強度に対して作用するため関数の外側に出し、TEも指数関数の形で信号強度にかかるため同様に関数の外側に出す。これにより式(1)は2段目の式のように書き換えることができる。
信号関数fs820を作成するため、fsの基本となる関数fを数値シミュレーションによって作成する。すなわち、撮影対象のスピン密度ρとB1、Scをそれぞれ1、TEを0とした上で、被検体パラメータT1、T2に任意の値を設定し、これに対して撮影パラメータFA、TR、θを網羅的に変化させて数値シミュレーションにて信号を算出する。変化させるパラメータ値の範囲は、実際の撮影(図3:S302)に用いる撮影パラメータの範囲と、被検体のT1、T2の範囲が含まれるようにする。撮影パラメータと被検体パラメータの各パラメータ値の一例を以下に示す。パラメータの後の数字は、変化させる個数、「:」の後の数値はパラメータ値である。
TR 4個 [ms]: 10, 20, 30, 40
FA 10個 [度]: 5, 10, 15, 20, 25, 30, 35, 40, 50, 60
θ 17個 [度]: 0, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 12, 14, 16, 18, 20, 22
T2 17個 [s]: 0.01, 0.02, 0.03, 0.04, 0.05, 0.07, 0.1, 0.14, 0.19, 0.27, 0.38, 0.53, 0.74, 1.0, 1.4, 2.0, 2.8
T1 15個 [s]: 0.05, 0.07, 0.1, 0.14, 0.19, 0.27, 0.38, 0.53, 0.74, 1.0, 1.5, 2.0, 2.8, 4.0, 5.6
これら撮影パラメータと被検体パラメータのすべての組み合わせからなる撮影パラメータセット(上記例では173400個のセット)810を構成し、それぞれの信号値を計算機シミュレーションによって算出する。
数値シミュレーションは、格子点上にスピンを配置した被検体モデルと撮影シーケンス、撮影パラメータ、装置パラメータを入力とし、磁気共鳴現象の基礎方程式であるBlochの式を解いて磁気共鳴信号を出力する。被検体モデルはスピンの空間分布(γ, M,T1, T2)として与えられる。ここで、γは磁気回転比、Mは熱平衡磁化(スピン密度)、T1とT2はそれぞれ縦緩和時間と横緩和時間である。磁気共鳴信号を画像再構成することにより、与えられた条件での画像を得ることができる。
Blochの式は1階線形常微分方程式であり、次式で表される。
Figure 0006721489
ここで、(x,y, z)は3次元の直交座標系を表し、zは静磁場(強度がB)の向きに等しい。また、(Mx,My,Mz)はスピン、Gx,Gy,Gzはそれぞれ添字方向の傾斜磁場強度、H1は高周波磁場強度、Δfは回転座標系の周波数である。
以上の計算機シミュレーションによって得られた信号値から、補間により信号関数fを作成し、式(1)に従ってfs820を作成する。補間には1次から3次程度の線形補間やスプライン補間を用いることが可能である。
信号関数fsは、式(1)を変形した次式(3)で表すこともできる。
Figure 0006721489
上述のようにして作成した信号関数fの一部を図9に示す。上記シミュレーションで得られる信号関数fは、TR、FA、θ、T1、T2を変数とする5次元の関数であるが、図9ではT1、T2及びθを一定(T1=900ms、T2=100ms、θ=5度)とし、横軸と縦軸をそれぞれFA、TRとした2次元の関数の信号強度を表している。
[パラメータの推定]
パラメータ推定は、複数の撮影パラメータセット530を用いて撮影(S802)することにより得たエコー毎の画像840、850と撮影シーケンスの信号関数820とを用いて、実際に撮影した被検体の被検体パラメータT1、T2(T2*)、及び、ρと装置パラメータ(受信感度分布)Scとの積a(=ρ×Sc)を算出する。T2*はGE画像をT2はSE画像を用いて推定され(第一のパラメータ推定)、T2はSE画像を用いて推定される(第二のパラメータ推定)。
[第一のパラメータ推定S803]
複数枚のGE画像と、信号関数生成S801で生成した信号関数820を用いてT1とT2、B1、aを推定する。具体的には、ピクセルごとの信号値Iを、S801で生成した信号関数fs(式(3))対してフィッティングすることにより、未知数であるT1とT2、B1、aの推定を行う。関数フィッティグは、式(4)で表される最小二乗法により行うことができる。
Figure 0006721489
式(4)中、Iは所定の撮影パラメータセット(FA、θ、TR、TE)にて撮影された画像のピクセル値、χは式(3)の信号関数に推定されたT1とT2、B1、aを代入することで算出される値と画像のピクセル値との残差の総和である。この残差の総和χが最小となるようなT1とT2、B1、aを推定する。ここで推定されるT2は、元画像にグラディエントエコー画像を用いているため、T2*である。そして、推定したT1とT2*、B1、aをパラメータ860として出力する。パラメータはピクセル毎の数値として算出されるので、各パラメータのマップ即ち計算画像となる。この例では、図7(c)に示すように、4つのパラメータの計算画像が得られる。
なお受信感度分布Sc(=a/ρ)は一般のMRI装置では既存の方法を用いて容易に計測することが可能であるため、そのScとaとからスピン密度ρを求めることができる。
[第二のパラメータ推定S804]
次に、複数枚のスピンエコー画像850を用いてT2を推定する。SE画像を用いたパラメータ推定では、信号関数として、MR信号のT2減衰を表す式(5)を用いる。
Figure 0006721489
図4(a)に示す撮影シーケンスの例では、図7(b)に示すように第2エコーから第5エコーまでを用いた4つの画像SE1〜SE4が得られ、これら画像のピクセルごとの信号値Iを、式(5)に対してフィッティングすることによりT2とa’を推定する。4つの画像SE1〜SE4のTEは、例えば、反転パルスの間隔が8msの場合、それぞれ8ms、16ms、24ms、32msである。またT1は第一のパラメータ推定S803で算出されたT1を用いることができる。関数フィッティングは、第一の推定と同様に、撮影で得た画像のピクセル値と、信号関数(5)から算出した値との残差を最小化する最小二乗法により行うことができる。
このように推定したT2は、第一のパラメータ推定で得たT2*とは異なり、静磁場不均一の影響を受けていない「真の横緩和時間」である。パラメータ推定部235は、T2をパラメータとして出力する。なお第二のパラメータ推定S804で推定されるパラメータのうち「a’」は、式(6)に示すように第一のパラメータ推定S803において推定したパラメータaとT1、T2(T2*)、B1を用いて表される。従って、第二のパラメータ推定S804では「a’」の正解値として、S803で算出したaとT1、T2(T2*)、B1の値をあらかじめ与えた上でT2だけを推定しても良い。それにより、未知数の数が2個から1個に減るため、T2の推定精度が向上する。以上が、図3のパラメータ推定処理S305である。
[画像生成S306、S307]
画像生成部237は、推定した各パラメータ(T1、T2、T2*、a(=Sc×ρ)、B1)のパラメータ値を画素とする計算画像を生成する。計算画像は、推定した全てのパラメータについて生成してもよいし、一部のパラメータについて生成してもよい。またT1画像或いはT2/T2*画像を用いて、T1強調画像やT2/T2*強調画像を生成してもよい。
画像生成部237は、生成した計算画像或いは強調画像を種々の表示形態でディスプレイ111に表示する。表示形態は、例えば、画素値を白黒濃淡で表した計算画像としてもよいし、色で表示してもよい。また計算画像単独で表示してもよいし、撮影(S302)で得たプロトン密度画像と並列に表示してもよい。また特定の部分のパラメータ値や値の範囲を数値として表示することも可能である。
以上説明したように、本実施形態によれば、GE系シーケンスの待ち時間を利用してスピンエコーを取得する撮影シーケンスを行うことで、全体の撮影時間を延長することなくGEエコーとSEエコーの2種のエコーを取得することができる。これにより、T1、T2*、a(=Sc×ρ)、B1の各種マップに加えてT2マップを取得することができる。
<変形例1>
上記実施形態では、GE−SEシーケンスにおいて取得するスピンエコーの数を4としたが、この数は1以上であれば任意である。例えば、第二のパラメータ処理S804において、「a’」の正解値として第一のパラメータ推定処理S803で算出した結果をあらかじめ与えて、T2を推定する場合には、未知数はT2の一つだけであるため、スピンエコー数は1以上であれば良い。また、「a’」とT2の二つを推定する場合にはスピンエコー数は2以上である必要がある。また、推定精度を高くするためには、スピンエコー数は多いほど良い。実用的には、3個以上であることが望ましい。
<変形例2>
上記実施形態では、GE−SEシーケンスにおける反転パルスのパルス間隔を固定した例を説明したが、反転パルス間隔を異なるパラメータセットの撮影を追加してもよい。その場合、GE−SEシーケンスにおけるスピンエコー数が4であれば、スピンエコーSEのTEが異なる画像が8つ得られるので、被検体パラメータの推定精度を高めることができる。或いはGE−SEシーケンスにおけるスピンエコー数を少なくして、撮影時間を短縮することも可能である。また、異なる反転パルス間隔のパラメータセットにおいてスピンエコー数は必ずしも等しくする必要はない。
<変形例3>
上記実施形態では、TRの短いパラメータセット(例えば図6のP1,P2、P4〜P6)では、一つのグラディエントエコーを計測する撮影シーケンスを採用したが、図5のRF−spoiled GEにおいて第一エコー407に続いて第二、第三・・・のグラディエントエコーを計測するマルチエコーシーケンスを用いることも可能である。この場合、第二エコー以降のエコーについても、第一エコーと同じ位相エンコードを付与することで、TEの異なる各エコーの画像を取得することができる。これにより上記変形例2と同様に、被検体パラメータの推定精度を高めることができる。
<変形例4>
本実施形態では、第一のパラメータ推定S803で、B1、T1、T2*、及びaを算出し、第二のパラメータ推定S804で、a(a’)とT2を算出したが、T2*とT2以外のパラメータについては、いずれの処理で推定してもよい。但し、一方の処理で推定したパラメータを他方の推定処理に用いることで、未知数の数を減らし、必要な画像の数(例えばスピンエコーの数)を減らすことができ、撮影時間を短縮できる。
以上、本発明の変形例を説明したが、これら変形例は技術的に矛盾しない限り適宜組み合わせて適用することも可能である。また本発明は上述した実施形態及びその変形例に限定されず、実施形態で示した要素のいくつかを省略したり、付加的な要素を追加したりすることも本発明に包含される。
100:MRI装置、101:静磁場を発生するマグネット、102:傾斜磁場コイル、104:シーケンサ、105:傾斜磁場電源、106:高周波磁場発生器、107:送受信コイル、108:受信器、109:計算機、111:ディスプレイ、112:記憶装置、210:制御部、230:演算部。

Claims (10)

  1. 被検体に高周波磁場及び傾斜磁場を印加し、被検体が発する核磁気共鳴信号を計測する計測部と、
    パルスシーケンスに従って前記計測部を制御する制御部と、
    前記計測部が取得した核磁気共鳴信号と前記パルスシーケンスの信号関数とを用いて、前記被検体の特性に関わる被検体パラメータのパラメータ値を算出するパラメータ算出部と、を備え、
    前記制御部は、前記パルスシーケンスとして、1回の励起用高周波磁場の印加後に、グラディエントエコー及びスピンエコーを含む、少なくとも2種の核磁気共鳴信号を計測するパルスシーケンスを用いて前記計測部を制御し、
    前記パラメータ算出部は、前記グラディエントエコーを用いて、みかけの横緩和時間T2*を含む1以上の被検体パラメータのパラメータ値を算出し、前記スピンエコーを用いて、横緩和時間(真の横緩和時間)T2を含む1以上の被検体パラメータのパラメータ値を算出し、前記みかけの横緩和時間T2*を算出する際に、前記パルスシーケンスについて多数の撮像条件を設定した数値シミュレーションによって予め生成した信号関数を用いることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
  2. 請求項1に記載の磁気共鳴イメージング装置であって、
    前記パルスシーケンスの信号関数を生成する信号関数生成部をさらに備えることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
  3. 請求項1に記載の磁気共鳴イメージング装置であって、
    前記パラメータ算出部は、前記みかけの横緩和時間T2*を算出する際に算出した前記みかけの横緩和時間T2*以外の被検体パラメータと前記スピンエコーとを用いて、前記横緩和時間(真の横緩和時間)T2を算出することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
  4. 請求項1に記載の磁気共鳴イメージング装置であって、
    前記パルスシーケンスは、RF−spoiled−GEシーケンスに反転RFパルスを追加した撮影シーケンスであることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
  5. 請求項1に記載の磁気共鳴イメージング装置であって、
    前記制御部は、予め定めた複数の撮影パラメータの、パラメータ値の組み合わせが異なる複数のパラメータセットを用いて、複数の計測を行うよう前記計測部を制御することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
  6. 請求項5に記載の磁気共鳴イメージング装置であって、
    予め定めた前記複数のパラメータセットを格納する記憶部をさらに備えることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
  7. 請求項5に記載の磁気共鳴イメージング装置であって、
    前記複数の撮影パラメータは、前記励起高周波磁場のフリップ角(FA)、前記励起用高周波磁場の位相増加分(θ)、及び、パルスシーケンスの繰り返し時間(TR)のいずれか一つを含むことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
  8. グラディエントエコー計測とそれに続くスピンエコー計測とを含むパルスシーケンスを、撮影パラメータの値を変えて複数回実行することによって取得したエコー信号を用いて被検体の特性に関わる被検体パラメータの計算画像を生成する方法であって、
    複数回の撮影で得た前記グラディエントエコーと前記パルスシーケンスの信号関数とを用いてみかけの横緩和時間T2*を含む2以上の被検体パラメータを算出し、
    複数回の撮影で得た前記スピンエコーと、グラディエントエコー計測後の信号関数とを用いて横緩和時間(真の横緩和時間)T2を算出し、
    前記みかけの横緩和時間T2*を算出する際に、前記パルスシーケンスについて多数の撮像条件を設定した数値シミュレーションによって予め生成した信号関数を用いることを特徴とする計算画像生成方法。
  9. 請求項8に記載の計算画像生成方法であって、
    前記パルスシーケンスの信号関数を生成するステップをさらに含むことを特徴とする計算画像生成方法。
  10. 請求項8に記載の計算画像生成方法であって、
    前記横緩和時間(真の横緩和時間)T2の算出において、前記みかけの横緩和時間T2*の算出の際に算出した前記みかけの横緩和時間T2*以外の被検体パラメータを用いることを特徴とする計算画像生成方法。
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