JP6716234B2 - 金属ナノ粒子の製造装置および製造方法 - Google Patents
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Description
既述した実施形態において、図4のフローチャートを参照しながら説明した処理動作等の各ステップは、作業者の手動により実施されるものであってもよいし、制御装置を設けて全自動制御または半自動制御により実施されるものであってもよい。
2 粒子生成室
4 材料供給室(別室)
5 線材送給装置
9 原料
13 連通路
14 連通路開閉弁(連通路開閉装置)
17 開閉扉
18 ドラム部
19 線材繰出部
20 案内部
21 移動装置
24 線材
31 第1位置
32 第2位置
Claims (7)
- アークプラズマにより金属を加熱蒸発させることによって金属ナノ粒子を生成するための粒子生成室と、
前記粒子生成室内に前記加熱蒸発される金属となる線材を送給する線材送給装置と、
前記線材送給装置を収容した材料供給室と、
前記粒子生成室と前記材料供給室とを連通する連通路と、
前記連通路を開閉する連通路開閉装置と、
を備え、
前記線材送給装置は、前記連通路を介して前記粒子生成室内に前記線材を送給するものである、
ことを特徴とする金属ナノ粒子の製造装置。 - 請求項1に記載の金属ナノ粒子の製造装置において、
前記材料供給室に、前記線材送給装置に前記線材を補充するための開閉扉が設けられた、ことを特徴とする金属ナノ粒子の製造装置。 - 請求項1又は2に記載の金属ナノ粒子の製造装置において、
前記材料供給室内の気体を排気し、排気した当該気体と別の気体を材料供給室内に給気する給排気装置を備える、
ことを特徴とする金属ナノ粒子の製造装置。 - 請求項1〜3の何れか1項に記載の金属ナノ粒子の製造装置において、
前記線材送給装置は、
前記線材が巻き付けられるドラム部と、
前記ドラム部から線材を繰り出す線材繰出部と、
前記線材繰出部から繰り出される線材を前記粒子生成室内に案内する案内部と、
前記案内部が前記連通路に挿通され当該案内部の先端部が前記粒子生成室内に配置される第1位置と、前記案内部が前記連通路の開閉位置よりも前記材料供給室側に配置される第2位置との間で、前記案内部を移動させる移動装置と、
を備えることを特徴とする金属ナノ粒子の製造装置。 - アークプラズマにより金属を加熱蒸発させることによって金属ナノ粒子を生成するための粒子生成室と、
前記粒子生成室とは別に設けられた別室と、
前記粒子生成室と前記別室とを連通する連通路と、
前記連通路を開閉する連通路開閉装置と、
を備える金属ナノ粒子の製造装置を用いて行う金属ナノ粒子の製造方法であって、
前記連通路開閉装置により、前記連通路を開状態として、前記別室から前記粒子生成室内に前記加熱蒸発される金属となる線材を送給する線材送給ステップと、
前記連通路開閉装置により、前記連通路を閉状態として、前記別室内の気体を排気し、当該室内に不活性ガス又は空気を給気する換気ステップと、
を含む、ことを特徴とする金属ナノ粒子の製造方法。 - 請求項5に記載の金属ナノ粒子の製造方法において、
前記線材送給ステップにおける線材の送給は、前記別室内に設置された線材送給装置により行われるものであり、
前記換気ステップの後、前記別室内の線材送給装置に線材を補充する線材補充ステップをさらに含む、
ことを特徴とする金属ナノ粒子の製造方法。 - 請求項6に記載の金属ナノ粒子の製造方法において、
前記別室には、前記線材送給装置に前記線材を補充するための開閉扉が設けられており、
前記線材補充ステップでは、前記換気ステップの後、前記開閉扉を開けることにより、形成される開口を通じて前記別室内の線材送給装置に線材を補充する、ことを特徴とする金属ナノ粒子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015227658A JP6716234B2 (ja) | 2015-11-20 | 2015-11-20 | 金属ナノ粒子の製造装置および製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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ID=58816927
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JP2015227658A Active JP6716234B2 (ja) | 2015-11-20 | 2015-11-20 | 金属ナノ粒子の製造装置および製造方法 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP6716234B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102465825B1 (ko) * | 2022-09-06 | 2022-11-09 | 이용복 | 열플라즈마를 이용한 금속분말 제조장치 및 그 제조방법 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5558304A (en) * | 1979-03-19 | 1980-05-01 | Mitsubishi Electric Corp | Producing device of metal powder |
JPS62103307A (ja) * | 1985-10-30 | 1987-05-13 | Hitachi Ltd | 超微粒子の製造装置 |
JP3875437B2 (ja) * | 1999-11-22 | 2007-01-31 | 松下電器産業株式会社 | 溶接用ワイヤ送給装置 |
JP2001181711A (ja) * | 1999-12-17 | 2001-07-03 | Murata Mfg Co Ltd | 金属微粒子の製造方法および製造装置 |
AU2001232063A1 (en) * | 2000-02-10 | 2001-08-20 | Tetronics Limited | Plasma arc reactor for the production of fine powders |
JP2010018825A (ja) * | 2008-07-08 | 2010-01-28 | Japan Atomic Energy Agency | 金属粒子の製造方法および製造装置、並びに製造された金属粒子 |
JP5353181B2 (ja) * | 2008-10-24 | 2013-11-27 | 株式会社Ihi | 溶接ワイヤ送給装置及びレーザ・アークハイブリッド溶接装置 |
JP6116307B2 (ja) * | 2013-03-25 | 2017-04-19 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 集束イオンビーム装置 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017095751A (ja) | 2017-06-01 |
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