JP6714678B2 - シリカ系粉末の不純物洗浄装置およびシリカ系粉末の不純物洗浄方法 - Google Patents
シリカ系粉末の不純物洗浄装置およびシリカ系粉末の不純物洗浄方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6714678B2 JP6714678B2 JP2018230692A JP2018230692A JP6714678B2 JP 6714678 B2 JP6714678 B2 JP 6714678B2 JP 2018230692 A JP2018230692 A JP 2018230692A JP 2018230692 A JP2018230692 A JP 2018230692A JP 6714678 B2 JP6714678 B2 JP 6714678B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silica
- container
- based powder
- cleaning
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 246
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 163
- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims description 122
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 title claims description 119
- 239000012535 impurity Substances 0.000 title claims description 58
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 34
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 43
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 41
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 33
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 24
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 22
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 22
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 22
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 22
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 claims description 15
- 239000002699 waste material Substances 0.000 claims description 15
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 claims description 12
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 11
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 9
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 7
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 2
- 239000003517 fume Substances 0.000 description 2
- 238000007726 management method Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 231100000086 high toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 238000011045 prefiltration Methods 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/14—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by absorption
- B01D53/1456—Removing acid components
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/14—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by absorption
- B01D53/18—Absorbing units; Liquid distributors therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B13/00—Accessories or details of general applicability for machines or apparatus for cleaning
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/08—Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
- B08B3/102—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration with means for agitating the liquid
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
- B08B3/106—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by boiling the liquid
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
- B08B3/12—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B9/00—Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto
- B08B9/08—Cleaning containers, e.g. tanks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄装置は、ハウジングの内部に第1容器が設けられ、内部にシリカ系粉末、酸素を含むガスおよび酸洗浄液(但し、フッ酸を除く)を投入し、前記第1容器の外面に第1加熱手段が設けられ、前記第1容器を加熱し、前記ハウジングに設けられた撹拌器が前記第1容器の内部に収容された溶液を撹拌して前記シリカ系粉末を1次洗浄する第1洗浄機と、
ハウジングの内部に第2容器が設けられ、前記第2容器の内部に前記第1洗浄機で洗浄された前記シリカ系粉末が投入され、前記第2容器の外面に第2加熱手段が設けられ、前記シリカ系粉末を2次洗浄する第2洗浄機と、
前記第1洗浄機に投入される酸素を含むガスをフィルタリングして汚染物質が除去された酸素を含むガスを生成する空気清浄器と、
前記第1洗浄機又は第2洗浄機で発生する排気ガスが伝達され、その排気ガスに含まれている酸化物質を処理する洗浄塔と、を含むことができる。
前記第1洗浄機のケースにモータケースが設けられ、前記モータケースの内部に備えられて動力を生成するモータと、
前記モータから延長されるように設けられ、前記第1容器の内部まで位置し、前記モータから伝達された動力で回転する撹拌棒と、
前記撹拌棒の端部に設けられ、前記第1容器に収容された物質を撹拌する撹拌翼と、をさらに含むことができる。
(a)第1容器にシリカ系粉末、酸洗浄液(但し、フッ酸を除く)および酸素を含むガスを注入し、第1加熱手段が、第1容器を加熱しながら撹拌器を介して前記第1容器に収容された物質を撹拌して前記シリカ系粉末を1次洗浄するステップと、
(b)廃液およびシリカ系粉末を前記第1容器から順に回収し、前記シリカ系粉末を第2容器に注入するステップと、
(c)前記第2容器に超純水を注入し、第2容器の外部に設けられた第2加熱手段を介して前記シリカ系粉末を2次洗浄するステップと、
(d)前記シリカ系粉末に含まれている水分を除去し、シリカ系粉末を回収するステップと、を含むことができる。
110 ハウジング
110a 内部空間
111 排気管
113 T管
115 給気管
120 撹拌器
121 モータ
122 モータケース
123 撹拌棒
124 折り畳み部
125 撹拌翼
130 第1容器
131 第1加熱手段
140 第1ホース
150 第2ホース
200 第2洗浄機
210 ハウジング
210a 内部空間
211 排気管
213 T管
220 第2容器
221 メッシュ網
223 第2加熱手段
300 空気清浄器
400 コントローラ
500 洗浄塔
510 ポンプ部
511 給気管
520 収容部
530 ノズル
540 排気管
Claims (2)
- ハウジングの内部に第1容器が設けられ、内部にシリカ系粉末、酸素を含むガスおよび酸洗浄液(但し、フッ酸を除く)を投入し、前記第1容器の外面に第1加熱手段が設けられ、前記第1容器を加熱し、前記ハウジングに設けられた撹拌器が前記第1容器の内部に収容された溶液を撹拌して前記シリカ系粉末を1次洗浄する第1洗浄機と、
前記ハウジングの内部に第2容器が設けられ、前記第2容器の内部に前記第1洗浄機で洗浄された前記シリカ系粉末が投入され、前記第2容器の外面に第2加熱手段が設けられ、前記シリカ系粉末を2次洗浄する第2洗浄機と、
前記第1洗浄機に投入される酸素を含むガスをフィルタリングして汚染物質が除去された酸素を含むガスを生成する空気清浄器と、
前記第1洗浄機又は第2洗浄機で発生する排気ガスが伝達され、その排気ガスに含まれている酸化物質を処理する洗浄塔と、を含み、
前記第1加熱手段は、セラミックバンドヒーターを含み、
前記第2加熱手段は、超音波発生器を含み、
前記撹拌器は、前記第1洗浄機のケースにモータケースが設けられ、前記モータケースの内部に備えられて動力を生成するモータと、前記モータから延長されるように設けられ、前記第1容器の内部まで位置し、前記モータから伝達された動力で回転する撹拌棒と、前記撹拌棒の端部に設けられ、前記第1容器に収容された物質を撹拌する撹拌翼と、を含み、
前記撹拌棒は、内側に折り畳み部が設けられ、前記撹拌棒が折り畳み式で備えられ、
前記第1容器に蓄積された廃液を回収する、PFAからなる第1ホースと、1次洗浄された前記シリカ系粉末を回収する、PFAからなる第2ホースと、をさらに含み、
前記第1洗浄機は、前記第1容器の近くに設けられ、前記第1容器の外部温度を測定する側温部をさらに含む、シリカ系粉末の不純物洗浄装置。 - (a)第1容器にシリカ系粉末、酸洗浄液(但し、フッ酸を除く)および酸素を含むガスを注入し、第1加熱手段が、前記第1容器を加熱しながら撹拌器を介して前記第1容器に収容された物質を撹拌して前記シリカ系粉末を1次洗浄するステップと、
(b)廃液およびシリカ系粉末を前記第1容器から順に回収し、前記シリカ系粉末を第2容器に注入するステップと、
(c)前記第2容器に超純水を注入し、前記第2容器の外部に設けられた第2加熱手段を介して前記シリカ系粉末を2次洗浄するステップと、
(d)前記シリカ系粉末に含まれている水分を除去し、シリカ系粉末を回収するステップと、を含み、
前記第1加熱手段は、セラミックバンドヒーターを含み、
前記第2加熱手段は、超音波発生器を含み、
前記酸洗浄液は、電子グレード以上の塩酸、硫酸、硝酸のうちいずれか1つであり、
前記酸洗浄液の濃度は、2〜20wt%の範囲であり、
前記酸洗浄液に濃度2wt%未満の過酸化水素を添加し、
前記酸洗浄液は、温度が40℃ないし沸点未満の範囲内で1〜3時間加熱し、
前記(a)ステップは、前記第1容器に収容された前記シリカ系粉末、酸洗浄液および酸素を含むガスを2回以上撹拌し、
前記(b)ステップは、第1ホースを介して酸洗浄液の廃液を回収した後、第2ホースを介して前記シリカ系粉末を回収し、
前記(b)ステップの前記酸洗浄液の廃液およびシリカ系粉末を回収した後、前記第1容器に超純水を注入して前記第1容器を洗浄し、
前記超純水は、前記第1容器の容量の2〜3倍の範囲で注入して前記第1容器を洗浄し、
前記第1容器は、前記シリカ系粉末の不純物除去工程を継続的に繰り返し行った場合、濃度10wt%未満の硝酸で前記第1容器を洗浄し、
前記2次洗浄は、10分周期で伝導度を測定して不純物が0.5μs/cm以下になるまで繰り返し行う、シリカ系粉末の不純物洗浄方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020180111488A KR102110202B1 (ko) | 2018-09-18 | 2018-09-18 | 실리카계 분말의 불순물 세척장치 및 방법 |
KR10-2018-0111488 | 2018-09-18 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020045271A JP2020045271A (ja) | 2020-03-26 |
JP6714678B2 true JP6714678B2 (ja) | 2020-06-24 |
Family
ID=69814352
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018230692A Active JP6714678B2 (ja) | 2018-09-18 | 2018-12-10 | シリカ系粉末の不純物洗浄装置およびシリカ系粉末の不純物洗浄方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6714678B2 (ja) |
KR (1) | KR102110202B1 (ja) |
CN (1) | CN110899219A (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113082809B (zh) * | 2021-04-09 | 2022-12-16 | 东方电气集团科学技术研究院有限公司 | 一种鼓泡搅拌式纳米粉体清洗过滤装置及方法 |
CN113275121A (zh) * | 2021-06-11 | 2021-08-20 | 四川敏田科技发展有限公司 | 一种高纯石英砂制造系统及制造方法 |
KR102602595B1 (ko) | 2021-11-22 | 2023-11-16 | (주)선영시스텍 | 금속 분말 세척장치 |
CN115350999A (zh) * | 2022-08-24 | 2022-11-18 | 米易锦秀机械制造有限公司 | 一种钛白粉尾渣清洗槽 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10226510A (ja) * | 1997-02-07 | 1998-08-25 | Toho Aen Kk | 金属珪素粉体の予備処理方法 |
KR100489931B1 (ko) * | 2002-01-29 | 2005-05-17 | 한국지질자원연구원 | 천연 실리카의 고순도 정제방법 |
KR100719164B1 (ko) * | 2005-05-04 | 2007-05-17 | 에이비앤씨코리아(주) | 건설용 자갈 세척장치 |
CN101121169A (zh) * | 2007-09-10 | 2008-02-13 | 张家港市超声电气有限公司 | 硅料清洗装置中的酸洗槽 |
CN101181997A (zh) * | 2007-11-29 | 2008-05-21 | 晶湛(南昌)科技有限公司 | 一种金属硅材料的制备方法 |
US7905963B2 (en) * | 2008-11-28 | 2011-03-15 | Mitsubishi Materials Corporation | Apparatus and method for washing polycrystalline silicon |
KR101382682B1 (ko) * | 2011-12-20 | 2014-04-10 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 실리콘 정련 장치 및 그 방법 |
KR20130086754A (ko) * | 2012-01-26 | 2013-08-05 | (주)에스피에이시티 | 반도체 및 디스플레이 패널 제조공정용 세정방법 및 그 장치 |
-
2018
- 2018-09-18 KR KR1020180111488A patent/KR102110202B1/ko active IP Right Grant
- 2018-12-10 JP JP2018230692A patent/JP6714678B2/ja active Active
- 2018-12-14 CN CN201811531057.9A patent/CN110899219A/zh not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN110899219A (zh) | 2020-03-24 |
KR20200032791A (ko) | 2020-03-27 |
JP2020045271A (ja) | 2020-03-26 |
KR102110202B1 (ko) | 2020-06-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6714678B2 (ja) | シリカ系粉末の不純物洗浄装置およびシリカ系粉末の不純物洗浄方法 | |
JP4937998B2 (ja) | Hcdガスの除害方法とその装置 | |
KR101747912B1 (ko) | 결정질 실리콘 태양광 폐모듈 재활용 공정 방법 및 이를 수행하는 단일 시스템 | |
CN107073392A (zh) | 废气处理装置 | |
JP2006062948A (ja) | 半導体材料用シリコンの洗浄方法とその多結晶シリコン塊、および洗浄装置 | |
TW201620606A (zh) | 排氣處理裝置、基板處理系統、及處理排氣之方法 | |
CN109226033A (zh) | 石英砂清洗装置 | |
CN109701947A (zh) | 一种多晶硅料的清洗装置和清洗方法 | |
CN107686115A (zh) | 制备白炭黑或高纯度二氧化硅的方法 | |
CN102390832A (zh) | 一种处理三氯氢硅合成过程产生的废弃硅粉的方法 | |
CN106621757B (zh) | 氯硅烷分析废气回收处理装置和处理方法 | |
CN104259160B (zh) | 一种干法清洗多晶硅还原炉的方法 | |
CN207933046U (zh) | 一种氟化钙污泥的综合处理装置 | |
KR101382682B1 (ko) | 실리콘 정련 장치 및 그 방법 | |
CN209680675U (zh) | 一种多晶硅料的清洗装置 | |
KR100898053B1 (ko) | 폐실리콘 슬러지 정제방법 | |
CN203568859U (zh) | 一种硅矿提纯用的酸浸装置 | |
CN101381889A (zh) | 多晶硅的洗净方法和洗净装置以及多晶硅的制造方法 | |
JP2011085566A (ja) | ウラン−アンチモン複合酸化物を含む触媒からのウランの回収を容易にする方法 | |
KR101900801B1 (ko) | 전기집진기 세정시스템 및 세정방법 | |
JP2010158664A (ja) | 三フッ化塩素の除害方法 | |
CN206591315U (zh) | 洗涤装置及具有其的洗衣机 | |
JP2006247620A (ja) | サンプルクーラの洗浄方法 | |
CN212757850U (zh) | 一种晶圆备料间通风系统 | |
CN106238401A (zh) | 硅料无酸清洗方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191008 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200108 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200519 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200605 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6714678 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |