JP6714678B2 - シリカ系粉末の不純物洗浄装置およびシリカ系粉末の不純物洗浄方法 - Google Patents

シリカ系粉末の不純物洗浄装置およびシリカ系粉末の不純物洗浄方法 Download PDF

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Description

本発明は、シリカ系粉末の不純物洗浄装置および方法に関する。より詳しくは、シリカ粉末の表面に形成された汚染物質を洗浄して汚染物質を除去するためのシリカ系粉末の不純物洗浄装置および方法に関する。
近年、光通信分野、半導体産業分野などに用いられる石英ガラス製品の純度に対しては非常に厳しい管理が行われている。
このような高純度の石英ガラスは、天然石英を粉砕して取得した砂状の天然石英粉(又はサンド(sand)という。)を原料として用いてガラス製品の材料を製造する方法と、四塩化ケイ素の酸水素炎の中での分解で発生した蒸気を基板に付着および成長させて得られた蒸気を用いてガラス製品の材料を製造する方法とがある。
このようなシリカ粉末は、1000℃を超える耐熱性および耐化学性を有しており、半導体業界において、るつぼ、洗浄槽、治具、光ファイバー、光学材料の原料として幅広く用いられている。その中で半導体製品の高集積化が進んでおり、それに応じて不純物に対する要求レベルも日々高まっており、且つシリカ粉末の不純物に対する管理レベルも厳しくなっており、不純物を除去することができる洗浄方法についても活発に研究されてきている。
これにより、通常の技術者らは、フッ酸洗浄法、熱ハロゲン(塩素ガス)処理工法などで不純物を除去しており、その中でも、フッ酸洗浄法が不純物を洗浄する効果面においては優れているが、フッ酸洗浄法は、シリカの表面を損傷させるためシリカ粉末の損失があり、毒性が強く、ヒュームガスおよび廃液などによって処理工程が複雑になる問題点がある。
又、熱ハロゲン処理工法を用いて不純物を除去する方法は、腐食性の強い塩素ガスを用いるため、その不純物を処理するための設備は耐腐食性の材料からなる必要があるので、設備の設置時、コストが高くなり、設備の過程も多少複雑であり、又、蓄積された汚染物質の洗浄時は、チューブを分離して酸洗浄した後、再設置する工程が多少複雑で工程管理に困難が伴うという問題点がある。
さらに、フッ酸洗浄法および熱ハロゲン処理工法は、毒性が非常に強い物質で不純物を除去するため、環境処理や管理の費用が高くなり、大量化又は工業化に多くの困難が伴う。
したがって、このような問題点を解決するために、洗浄時シリカ系粉末の損失および環境処理費用を最小化し、洗浄容器の汚染除去が容易な洗浄法と付加的に洗浄を行う洗浄容器に、異物を含む汚染物質が外部から流れ込むことを防止する洗浄法が必要である。
本発明の目的は、シリカ粉末の表面に形成された汚染物質を洗浄して汚染物質を除去するためのシリカ系粉末の不純物洗浄装置および方法を提供することにある。
上記の課題を解決するために、
本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄装置は、ハウジングの内部に第1容器が設けられ、内部にシリカ系粉末、酸素を含むガスおよび酸洗浄液(但し、フッ酸を除く)を投入し、前記第1容器の外面に第1加熱手段が設けられ、前記第1容器を加熱し、前記ハウジングに設けられた撹拌器が前記第1容器の内部に収容された溶液を撹拌して前記シリカ系粉末を1次洗浄する第1洗浄機と、
ハウジングの内部に第2容器が設けられ、前記第2容器の内部に前記第1洗浄機で洗浄された前記シリカ系粉末が投入され、前記第2容器の外面に第2加熱手段が設けられ、前記シリカ系粉末を2次洗浄する第2洗浄機と、
前記第1洗浄機に投入される酸素を含むガスをフィルタリングして汚染物質が除去された酸素を含むガスを生成する空気清浄器と、
前記第1洗浄機又は第2洗浄機で発生する排気ガスが伝達され、その排気ガスに含まれている酸化物質を処理する洗浄塔と、を含むことができる。
又、本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄装置において、前記第1容器は、例えば、高純度の合成石英からなる。
又、本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄装置において、前記第1加熱手段は、セラミックバンドヒーターを含むことができる。
又、本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄装置において、前記第2加熱手段は、超音波発生器を含むことができる。
又、本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄装置において、前記撹拌器は、
前記第1洗浄機のケースにモータケースが設けられ、前記モータケースの内部に備えられて動力を生成するモータと、
前記モータから延長されるように設けられ、前記第1容器の内部まで位置し、前記モータから伝達された動力で回転する撹拌棒と、
前記撹拌棒の端部に設けられ、前記第1容器に収容された物質を撹拌する撹拌翼と、をさらに含むことができる。
又、本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄装置において、前記撹拌棒は、内側に折り畳み部が設けられ、前記撹拌棒を折り畳み式で備えることができる。
又、本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄装置において、前記第1容器に蓄積された廃液を回収する、PFAからなる第1ホースと、1次洗浄された前記シリカ系粉末を回収する、PFAからなる第2ホースと、をさらに含むことができる。
又、本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄装置において、前記第1洗浄機は、前記第1容器の近くに設けられ、前記第1容器の外部温度を測定する側温部をさらに含むことができる。
又、本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄装置において、前記第1洗浄機のハウジング又は第2洗浄機のハウジングは、プラスチックからなり、内部が密閉される構造からなることができる。
又、本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄装置において、前記第2容器の内部に備えられ、耐化学性に優れた材料からなり、50μmのメッシュからなる前記シリカ系粉末を濾過するメッシュ網をさらに含むことができる。
又、本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄方法は、
(a)第1容器にシリカ系粉末、酸洗浄液(但し、フッ酸を除く)および酸素を含むガスを注入し、第1加熱手段が、第1容器を加熱しながら撹拌器を介して前記第1容器に収容された物質を撹拌して前記シリカ系粉末を1次洗浄するステップと、
(b)廃液およびシリカ系粉末を前記第1容器から順に回収し、前記シリカ系粉末を第2容器に注入するステップと、
(c)前記第2容器に超純水を注入し、第2容器の外部に設けられた第2加熱手段を介して前記シリカ系粉末を2次洗浄するステップと、
(d)前記シリカ系粉末に含まれている水分を除去し、シリカ系粉末を回収するステップと、を含むことができる。
又、本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄方法において、前記(a)ステップは、空気清浄器で汚染物質を除去した酸素を用いることができる。
又、本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄方法において、前記酸洗浄液は、例えば、電子グレード以上の塩酸、硫酸、硝酸のうちいずれか1つである。
又、本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄方法において、前記酸洗浄液の濃度は、例えば、2〜20wt%の範囲である。
又、本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄方法において、前記酸洗浄液に濃度2wt%未満の過酸化水素を添加することができる。
又、本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄方法において、前記酸洗浄液は、温度が40℃ないし沸点未満の範囲内で1〜3時間加熱することができる。
又、本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄方法において、前記(a)ステップは、前記第1容器に収容された前記シリカ系粉末、酸洗浄液および酸素を2回以上撹拌することができる。
又、本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄方法において、前記(b)ステップは、第1ホースを介して酸洗浄液の廃液を回収した後、第2ホースを介して前記シリカ系粉末を回収することができる。
又、本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄方法において、前記(b)ステップの前記酸洗浄液の廃液およびシリカ系粉末を回収した後、前記第1容器に超純水を注入して第1容器を洗浄することができる。
又、本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄方法において、前記超純水は、前記第1容器の容量の2〜3倍の範囲で注入して前記第1容器を洗浄することができる。
又、本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄方法において、前記第1容器は、前記シリカ系粉末の不純物除去工程を継続的に繰り返し行った場合、濃度10wt%未満の硝酸で前記第1容器を洗浄することができる。
又、本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄方法において、前記2次洗浄は、10分周期で伝導度を測定して不純物が0.5μs/cm以下になるまで繰り返し行うことができる。
本発明の一実施例によると、シリカ系粉末を洗浄する際に粉末の一部が損失することを防止し、環境処理費用を最小化し、異物を含む汚染物質が洗浄機の内部へ流れ込むことを防止することができる。
本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄装置を示す概略図である。 本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄装置の空気清浄器および第1洗浄機を示す側面図である。 本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄装置の第1洗浄機、第2洗浄機および洗浄塔を示す側面図である。 本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄方法を示すブロック図である。
以下、本発明の一実施例を添付の図面を参照して詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄装置は、シリカ系粉末を1次洗浄する第1洗浄機100と、シリカ系粉末を2次洗浄する第2洗浄機200と、浄化された酸素を生成する空気清浄器300と、第1洗浄機100および第2洗浄機200で生成された酸化物質を処理する洗浄塔500と、を含む。
第1洗浄機100は、ハウジング110の内部に空間110aが備えられ、内部空間110aに第1容器130および第1加熱手段131が設けられ、ハウジング110の外部から内部に向けるように撹拌器120が設けられる構造からなる。
ハウジング110は、プラスチックからなり、内部が密閉される構造であって、外部から異物が内部空間110aに浸透することを防止し、シリカ系粉末の洗浄時に外部に存在する異物がシリカ系粉末と撹拌されることを防止することができる。
又、ハウジング110は、一面、例えば、図面上の上部に排気管111および給気管115が設けられ、空気清浄器300で生成された酸素を給気管115を介して第1洗浄機100に供給したり、第1洗浄機100で1次洗浄が完了した後発生した酸化物質を排気管111を介して排出することができる。
給気管115は、空気清浄器300で浄化された酸素が移動しながら汚染されることを防止するために、内部に前置フィルタおよびHEPAフィルタを含むフィルタ部(図示せず)を設け、パーティクルの流れ込みを防止することができる。
このようなハウジング110は、側面に撹拌器120が設けられており、第1容器130に収容された物質を撹拌することができる。
撹拌器120は、ハウジング110の一側、例えば、図2を基準に左側面に傾斜して設けられ、一側、例えば、図面上の左側に設けるが、撹拌棒123が内側に貫通するように設けられ、第1容器130の内部に位置するように設けられ、第1容器130に収容された物質を撹拌できるように構成される。
このような撹拌器120は、ハウジング110の外部に突出するようにモータ121が設けられ、モータ121の外周面にモータケース122が設けられる構造からなり、モータ121から延長されるように撹拌棒123が設けられ、モータ121から伝達された動力で撹拌棒123を回転させることができる。
撹拌棒123は、フッ素樹脂の中で耐熱温度が200℃以上であるPTFE、PFAを選択して構成され、一端部にモータ121が連結され、他端部に撹拌翼125が設けられ、撹拌翼125が第1容器130の内部に位置するように設けられ、撹拌翼125を介して第1容器130に収容されている物質が撹拌されるように構成される。
又、撹拌棒123は、所定の部位に折り畳み部124が設けられて折り畳み式で構成することができる。
第1容器130は、酸洗浄液による不純物溶出汚染の流れ込みを防止するために、耐熱性を有する高純度の材料を選定することが望ましく、本発明では、高純度の合成石英又はフッ素樹脂を用いることができる。
このような第1容器130は、内部に物質(本発明では、酸洗浄液、シリカ系粉末、浄化された酸素)を収容した後、加熱および撹拌により、シリカ系粉末の1次洗浄が行われ、外部に設けられた第1加熱手段131を介して第1容器130を加熱することができる。
第1加熱手段131は、第1容器130の内部に収容された物質を加熱してシリカ系粉末を容易に洗浄することができるように構成されたものであり、図2を基準に説明すると、側部および下部に第1加熱手段131を設けて第1容器130を均一に加熱する構造からなる。
又、第1加熱手段131は、フッ素樹脂でライニングされた材料からなるヒーター又はセラミック材料からなるヒーターのうちいずれか1つを備えることが望ましいが、本発明では、第1加熱手段131の継続使用により、第1加熱手段131の一部が劣化して不純物が溶出されて汚染されることを防止するために、セラミックからなるバンドヒーターを用いる。
又、第1容器130は、第1加熱手段131との間に側温部(図示せず)がさらに設けられ、第1容器130と第1加熱手段131との間に形成された空間の温度を測定することができる。
このような第1洗浄機100は、第1容器130で1次洗浄が完了した後、第1容器130に収容されている酸洗浄液の廃液およびシリカ系粉末を順に回収するため、酸洗浄液の廃液を回収する第1ホース140およびシリカ系粉末を回収する第2ホース150をさらに含むことができる。
第1ホース140および第2ホース150は、ハウジング110の外部から内部に貫通するように設けられ、第1容器130に収容されている酸洗浄液の廃液およびシリカ系粉末を外部で回収することができるように構成され、耐化学性および耐熱性に優れ、耐熱温度が250℃以上のPFAからなる。
一方、第2洗浄機200は、ハウジング210の内部に空間210aが備えられ、内部空間210aに第2容器220および第2加熱手段223が設けられ、第1洗浄100で1次洗浄が完了したシリカ系粉末の2次洗浄を行うことができる。
ハウジング210は、プラスチックからなり、内部が密閉される構造からなり、外部から異物が内部空間210aに浸透することを防止し、シリカ系粉末の洗浄時に外部に存在する異物がシリカ系粉末と撹拌されることを防止することができる。
又、ハウジング210は、一面、例えば、図面上の上部に排気管211が設けられ、第1洗浄機100で1次洗浄が完了した後に発生した酸化物質を排気管211を介して排出することができる。
ここで、第1洗浄機100に設けられた排気管111および第2洗浄機200に設けられた排気管211は、T管113を介して相互に連結され、第1洗浄機100および第2洗浄機200で形成される酸化物質が洗浄塔500に移動できる構造からなる。
このような第2洗浄機200は、内部に第2容器220が設けられ、第2容器220の一面、例えば、図面上の下部に第2加熱手段223が設けられ、第2加熱手段223が第2容器220を加熱して第2容器220に収容された物質を加熱する。
第2容器220は、第1容器130と同一の材料、すなわち、高純度の合成石英からなり、内部にメッシュ網221が備えられてシリカ系粉末を濾過してシリカ系粉末を容易に回収できるように構成される。
メッシュ網221は、第2容器220の内部に備えられ、上下に移動できる構造からなり、コントローラ400を介してメッシュ網221を操作することができる。
又、メッシュ網221は、耐化学性に優れたPE、PPおよびフッ素樹脂のうちいずれか1つの材料からなり、又、50μmのメッシュからなり、シリカ系粉末のみがメッシュ網221に収容されるように構成される。
又、第2容器220は、コントローラ400を介して上下に移動が可能に構成され、第2容器220で2次洗浄が完了した後、シリカ系粉末を容易に回収することができるように構成される。
第2加熱手段223は、超音波を生成する超音波発生器で構成され、超音波発生器から生成された超音波が継続的に第2容器220に伝達されてシリカ系粉末を超音波洗浄を行うことができる。
一方、洗浄塔500は、第1洗浄機100および第2洗浄機200から発生する排気ガスが伝達され、その排気ガスに含まれている酸化物質を処理する構造からなり、シリカ系粉末を洗浄する際に発生する酸化物質、例えば、第1洗浄機100で発生する酸化物質(塩酸、硝酸、硫酸)および1次洗浄後残存した酸化物質を第2洗浄機200で2次洗浄し、第2洗浄機で2次洗浄た後、残存した酸化物質が排気ガスに含まれている。
このような洗浄塔500は、ポンプ部510を介して、第1洗浄機100および第2洗浄機200で発生した排気ガスが容易に洗浄塔500の内部に流れ込むように構成され、ポンプ部510と洗浄塔500との間には、別の給気管511が設けられる。
又、洗浄塔500は、その内部に、排気ガスに含まれている酸化物質を収容する収容部520が設けられており、収容部520の上部に水を噴射するノズル530が配設され、収容部520に収容された酸化物質は、ノズル530を介して水を噴射して処理される構造からなる。
酸化物質を処理する際に発生する排気ガスは、排気管540を介して排出される。一方、本発明の一実施例に係るシリカ系粉末の不純物洗浄方法において、第1洗浄機100を介してシリカ系粉末を1次洗浄するステップ(S100)と、シリカ系粉末を第2洗浄機200に注入するステップ(S200)と、第2洗浄機200を介してシリカ系粉末を2次洗浄するステップ(S300)と、シリカ系粉末に含まれている水分を除去して回収するステップ(S400)と、を含む。
第1洗浄機100で1次洗浄するステップは、第1容器130にシリカ系粉末、酸洗浄液および酸素を順に注入し、第1加熱手段131が第1容器130を加熱しながら第1洗浄機100に設けられた撹拌器120を介してシリカ系粉末、酸洗浄液および酸素を撹拌してシリカ系粉末を1次洗浄する。
ここで、第1洗浄機100に注入する酸素は、空気清浄器300で汚染物質が除去されて浄化された酸素であり、酸素を浄化してシリカ系粉末に不純物が流れ込むことを防止することができる。
酸洗浄液は、電子グレード以上の塩酸、硫酸、および硝酸のうちいずれか1つを選択して注入することができ、本発明では、加熱時の反応性ヒュームガスの有害性を考慮して塩酸を選択して用いることができる。
又、酸洗浄液は、酸の濃度が2〜20wt%の範囲で備えられ、酸の濃度が高いほど洗浄効果は上昇するが、20wt%を超えてもそれ以上の洗浄効果は上昇せず、洗浄時間が長くなるという欠点があり、20wt%以内に設定することが望ましい。
又、酸洗浄液は、化学物質管理法によって酸の濃度が10wt%を超えると、有害化学物質として選定されるので、10wt%未満に設定することが望ましく、本発明では、5〜9wt%の範囲内に設定することが望ましい。
さらに、酸の洗浄液は、過酸化水素を添加すると、酸洗浄液に残存する金属成分が除去され、効率性および排水処理問題などを考慮すると、2wt%未満で添加することが望ましい。
このような酸洗浄液は、温度が40℃ないし沸点未満の範囲内で1〜3時間加熱してシリカ系粉末を1次洗浄を行うことができる。
つまり、1次洗浄ステップ(S100)は、第1容器に収容されたシリカ系粉末、酸洗浄液および浄化された酸素を加熱および撹拌して洗浄を行い、シリカ系粉末が酸洗浄液および酸素と容易に撹拌が行われるように、2回以上撹拌を行うことができる。
1次洗浄ステップ(S100)を行った後、第1ホース140および第2ホース150を介して酸洗浄液の廃液およびシリカ系粉末を第1容器130から回収(S200)し、第1ホース140を介して酸洗浄液の廃液のみを回収し、第2ホース150を介してシリカ系粉末のみを回収することにより、ホースに残存する廃液がシリカ系粉末に含まれることを予め防止することができる。
第1容器130は、酸洗浄液の廃液およびシリカ系粉末をそれぞれ回収した後、第1容器130に超純水を注入して第1容器130を洗浄して、1次洗浄する際に発生した不純物が第1容器130を汚染することを予め防止し、第1容器130の2〜3倍の容量だけ超純水を注入して第1容器130を十分な量で洗浄することができる。
しかしながら、第1容器130は、シリカ系粉末の不純物除去工程を継続的に繰り返し行った場合は、超純水の代わりに濃度10wt%未満の硝酸で洗浄することにより、第1容器130の内部表面に蓄積された不純物を洗浄することが望ましい。
一方、第2容器220にシリカ系粉末を注入し、さらに超純水を注入した後、第2加熱手段223を介して超音波洗浄を行い、シリカ系粉末に残存する不純物に対して2次洗浄を行う(S300)。
第2容器220は、1次洗浄を完了したシリカ系粉末および超純水を収容してシリカ系粉末に残存する酸基(より詳しくは、酸洗浄液によって1次洗浄して残存する酸基)およびシリカ系粉末から溶出された残存する不純物を超純水ですすぎ洗浄することにより、上記した酸基および不純物を洗浄する。
すすぎ洗浄は、超音波洗浄を行いながら、一定時間ごとにすすいだ超純水を排水し、本発明では10分間隔で排水を行う。
シリカ系粉末は、すすぎ洗浄を行った後の超純水の伝導度を測定して不純物が0.5μs/cm以下になるまで繰り返し行い、不純物が0.5μs/cm以下になったらシリカ系粉末に含まれている水分(超純水)を除去して第2容器220から回収する(S400)。
シリカ系粉末に含まれている水分は、メッシュ網221を介して除去し、前記メッシュ網は、50μmの大きさに製作してシリカ系粉末のみを濾過するように構成することができる。
100 第1洗浄機
110 ハウジング
110a 内部空間
111 排気管
113 T管
115 給気管
120 撹拌器
121 モータ
122 モータケース
123 撹拌棒
124 折り畳み部
125 撹拌翼
130 第1容器
131 第1加熱手段
140 第1ホース
150 第2ホース
200 第2洗浄機
210 ハウジング
210a 内部空間
211 排気管
213 T管
220 第2容器
221 メッシュ網
223 第2加熱手段
300 空気清浄器
400 コントローラ
500 洗浄塔
510 ポンプ部
511 給気管
520 収容部
530 ノズル
540 排気管

Claims (2)

  1. ハウジングの内部に第1容器が設けられ、内部にシリカ系粉末、酸素を含むガスおよび酸洗浄液(但し、フッ酸を除く)を投入し、前記第1容器の外面に第1加熱手段が設けられ、前記第1容器を加熱し、前記ハウジングに設けられた撹拌器が前記第1容器の内部に収容された溶液を撹拌して前記シリカ系粉末を1次洗浄する第1洗浄機と、
    前記ハウジングの内部に第2容器が設けられ、前記第2容器の内部に前記第1洗浄機で洗浄された前記シリカ系粉末が投入され、前記第2容器の外面に第2加熱手段が設けられ、前記シリカ系粉末を2次洗浄する第2洗浄機と、
    前記第1洗浄機に投入される酸素を含むガスをフィルタリングして汚染物質が除去された酸素を含むガスを生成する空気清浄器と、
    前記第1洗浄機又は第2洗浄機で発生する排気ガスが伝達され、その排気ガスに含まれている酸化物質を処理する洗浄塔と、を含み、
    前記第1加熱手段は、セラミックバンドヒーターを含み、
    前記第2加熱手段は、超音波発生器を含み、
    前記撹拌器は、前記第1洗浄機のケースにモータケースが設けられ、前記モータケースの内部に備えられて動力を生成するモータと、前記モータから延長されるように設けられ、前記第1容器の内部まで位置し、前記モータから伝達された動力で回転する撹拌棒と、前記撹拌棒の端部に設けられ、前記第1容器に収容された物質を撹拌する撹拌翼と、を含み、
    前記撹拌棒は、内側に折り畳み部が設けられ、前記撹拌棒が折り畳み式で備えられ、
    前記第1容器に蓄積された廃液を回収する、PFAからなる第1ホースと、1次洗浄された前記シリカ系粉末を回収する、PFAからなる第2ホースと、をさらに含み、
    前記第1洗浄機は、前記第1容器の近くに設けられ、前記第1容器の外部温度を測定する側温部をさらに含む、シリカ系粉末の不純物洗浄装置。
  2. (a)第1容器にシリカ系粉末、酸洗浄液(但し、フッ酸を除く)および酸素を含むガスを注入し、第1加熱手段が、前記第1容器を加熱しながら撹拌器を介して前記第1容器に収容された物質を撹拌して前記シリカ系粉末を1次洗浄するステップと、
    (b)廃液およびシリカ系粉末を前記第1容器から順に回収し、前記シリカ系粉末を第2容器に注入するステップと、
    (c)前記第2容器に超純水を注入し、前記第2容器の外部に設けられた第2加熱手段を介して前記シリカ系粉末を2次洗浄するステップと、
    (d)前記シリカ系粉末に含まれている水分を除去し、シリカ系粉末を回収するステップと、を含み、
    前記第1加熱手段は、セラミックバンドヒーターを含み、
    前記第2加熱手段は、超音波発生器を含み、
    前記酸洗浄液は、電子グレード以上の塩酸、硫酸、硝酸のうちいずれか1つであり、
    前記酸洗浄液の濃度は、2〜20wt%の範囲であり、
    前記酸洗浄液に濃度2wt%未満の過酸化水素を添加し、
    前記酸洗浄液は、温度が40℃ないし沸点未満の範囲内で1〜3時間加熱し、
    前記(a)ステップは、前記第1容器に収容された前記シリカ系粉末、酸洗浄液および酸素を含むガスを2回以上撹拌し、
    前記(b)ステップは、第1ホースを介して酸洗浄液の廃液を回収した後、第2ホースを介して前記シリカ系粉末を回収し、
    前記(b)ステップの前記酸洗浄液の廃液およびシリカ系粉末を回収した後、前記第1容器に超純水を注入して前記第1容器を洗浄し、
    前記超純水は、前記第1容器の容量の2〜3倍の範囲で注入して前記第1容器を洗浄し、
    前記第1容器は、前記シリカ系粉末の不純物除去工程を継続的に繰り返し行った場合、濃度10wt%未満の硝酸で前記第1容器を洗浄し、
    前記2次洗浄は、10分周期で伝導度を測定して不純物が0.5μs/cm以下になるまで繰り返し行う、シリカ系粉末の不純物洗浄方法。
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