JP6711644B2 - 窒化物半導体の製造基板、及び窒化物半導体の製造方法 - Google Patents
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Description
液相成長によって横方向に結晶成長した隣り合う前記凸状部のそれぞれの側面の互いの裏面がほぼ平坦に繋がるように、複数の前記凸状部のそれぞれの側面を横方向に結晶成長させる結晶成長工程と、を備えていること特徴とする。
そこで、窒化物半導体を横方向に結晶成長する際に、貫通転位が横方向に拡がらないようにするため、結晶成長の初期段階で(10−11)面が形成されないように、予め左右側面が切り立った形状にGaNを形成した場合について検証する実験を実施した。この実験を実施するため、実施例1の窒化物半導体の製造基板、及び実施例1の窒化物半導体の製造基板を用いて実施例2〜5の窒化物半導体のサンプルを用意した。
(1)実施例1では、王水を用いて表面処理しているが、これに限らず、硝酸、硫酸、塩酸、過酸化水素水、及びこれらの酸の混合液を用いて表面処理しても良い。
(2)実施例1〜5では、基板本体に(0001)面を表面にしたサファイアを用いているが、これに限らず、他の面を表面にしたサファイア基板、SiC(炭化ケイ素)、ZnO(酸化亜鉛)、Si(ケイ素)、及びGaN等を用いても良い。
(3)テンプレート基板のGaN層の表面にAlOを積層する代わりにSiO2やSiN(窒化ケイ素)等を積層しても良い。
(4)実施例2〜5では、LPEEを用いて結晶成長しているが、これに限らず、他の液相成長法を用いて結晶成長させて窒化物半導体を製造しても良い。
10B…凸状部
10C…左右側面(側面)
10D…非結晶成長部
Claims (2)
- 基板本体、及び前記基板本体の表面に設けられたGaN層を併せてエッチングして、前記GaN層で形成されて液相成長によって側面が横方向に結晶成長する台形状に形成された複数の凸状部、及び前記基板本体の表面であり、隣り合う前記凸状部の間に設けられ、前記液相成長によって結晶成長しない非結晶成長部を形成し、前記側面から前記非結晶成長部にわたり湾曲して形成する工程と、
液相成長によって横方向に結晶成長した隣り合う前記凸状部のそれぞれの側面の互いの裏面がほぼ平坦に繋がるように、複数の前記凸状部のそれぞれの側面を横方向に結晶成長させる結晶成長工程と、を備えていること特徴とする窒化物半導体の製造方法。 - 前記結晶成長工程を実行した後、熱膨張係数の違いによって生じる応力によって前記基板本体から前記凸状部を分離する冷却工程を備えていることを特徴とする請求項1に記載の窒化物半導体の製造方法。
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