JP6707046B2 - 断層像処理装置、方法およびプログラム - Google Patents
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Description
断層像に基づいて、被写体を透過した放射線に含まれる散乱線成分を複数の投影像から除去する散乱線除去手段とを備え、
再構成手段は、散乱線成分が除去された投影像を再構成することにより新たな断層像を生成し、
新たな断層像に基づく複数の投影像からの散乱線成分の除去、および新たな断層像に基づいて散乱線成分が除去された複数の投影像を再構成することによる、さらに新たな断層像の生成を繰り返す繰り返し処理を行うよう、再構成手段および散乱線除去手段を制御する繰り返し手段をさらに備えたことを特徴とするものである。
断層像に基づいて、被写体を透過した放射線に含まれる散乱線成分を複数の投影像から除去し、
散乱線成分が除去された投影像を再構成することにより新たな断層像を生成し、
新たな断層像に基づく複数の投影像からの散乱線成分の除去、および新たな断層像に基づいて散乱線成分が除去された複数の投影像を再構成することによる、さらに新たな断層像の生成を繰り返す繰り返し処理を行うことを特徴とするものである。
記憶された命令を実行するよう構成されたプロセッサであって、放射線源を検出手段に対して相対的に移動させ、放射線源の移動による複数の線源位置において、被写体に放射線を照射することにより撮影された、複数の線源位置のそれぞれに対応する複数の投影像を再構成することにより、被写体の断層像を生成する再構成処理と、
断層像に基づいて、被写体を透過した放射線に含まれる散乱線成分を複数の投影像から除去する散乱線除去処理と、
散乱線成分が除去された投影像を再構成することにより新たな断層像を生成し、新たな断層像に基づく複数の投影像からの散乱線成分の除去、および新たな断層像に基づいて散乱線成分が除去された複数の投影像を再構成することによる、さらに新たな断層像の生成を繰り返す繰り返し処理を行うよう、再構成手段および散乱線除去手段を制御する繰り返し処理とを実行するプロセッサを備えたことを特徴とするものである。
Is(x,y) = Io(x,y)*Sσ(T(x,y)) (2)
S(x,y) = Is(x,y)/(Is(x,y)+Ip(x,y)) (3)
ここで、(x,y)は投影像Piの画素位置の座標、Ip(x,y)は画素位置(x,y)における一次線成分、Is(x,y)は画素位置(x,y)における散乱線成分、Ioi(x,y)は画素位置(x,y)における入射線量、T(x,y)は画素位置(x,y)における体厚、μは被写体Hの線減弱係数、Sσ(T(x,y))は画素位置(x,y)における被写体Hの体厚T(x,y)に応じた散乱の特性を表す畳みこみカーネルである。なお、被写体Hの表面への入射線量Io(x,y)は、どのような値を定義してもS(x,y)を算出する際に除算によってキャンセルされるため、例えば値を1とする等、任意の値とすればよい。
Psi(x,y) =R(x,y) ×Pi(x,y) (5)
なお、投影像Piを複数の周波数帯域に分解し、各周波数帯域毎に変換係数の算出、および変換係数の乗算の処理を行うようにしてもよい。この場合、変換係数が乗算された各周波数帯域の投影像を周波数合成することにより、処理済みの投影像Piを取得する。
そして、式(7)におけるPi(x,y)として、散乱線除去処理が行われた処理済みの投影像Psiを用いることにより、逐次近似再構成の処理と上記繰り返し処理とを組み合わせる。なお、逐次近似再構成法の繰り返し回数は、式(7)により算出される変化量がしきい値Th2未満となるまでとしているが、予め定められた回数としてもよい。また、繰り返し処理における断層像Djと新たな断層像Dsjとの変化量がしきい値Th1未満となるまでとしてもよい。これにより、散乱線の影響をより低減させた、より高画質の断層像を生成することができる。
2 コンピュータ
3 放射線源
4 放射線検出器
8 表示部
9 入力部
21 CPU
22 メモリ
23 ストレージ
31 画像取得部
32 再構成部
33 散乱線除去部
34 繰り返し部
50,51,52 方向
Dj,Dsj,Dfj 断層像
Pi,Psi 投影像
Claims (10)
- 放射線源を検出手段に対して相対的に移動させ、前記放射線源の移動による複数の線源位置において、被写体に放射線を照射することにより撮影された、前記複数の線源位置のそれぞれに対応する複数の投影像を再構成することにより、前記被写体の断層像を生成する再構成手段と、
前記複数の線源位置に応じた前記被写体の体厚に基づいて、前記被写体を透過した放射線に含まれる散乱線成分を推定し、前記複数の投影像から前記散乱線成分を除去する散乱線除去手段とを備え、
前記再構成手段は、前記散乱線成分が除去された投影像を再構成することにより新たな断層像を生成し、
前記新たな断層像に基づく前記複数の投影像からの前記散乱線成分の除去、および該新たな断層像に基づいて前記散乱線成分が除去された複数の投影像を再構成することによる、さらに新たな断層像の生成を繰り返す繰り返し処理を行うよう、前記再構成手段および前記散乱線除去手段を制御する繰り返し手段をさらに備えたことを特徴とする断層像処理装置。 - 前記散乱線除去手段は、前記断層像から前記複数の線源位置に応じた前記被写体の体厚を算出する請求項1記載の断層像処理装置。
- 前記散乱線除去手段は、前記断層像における前記被写体の領域に基づいて、前記複数の線源位置に応じた前記被写体の体厚を算出する請求項2記載の断層像処理装置。
- 前記繰り返し手段は、前記新たな断層像と該新たな断層像が生成される前に生成された断層像との変化量がしきい値未満となったときに、前記繰り返し処理を終了する請求項1から3のいずれか1項記載の断層像処理装置。
- 前記繰り返し手段は、前記繰り返し処理を予め定められた回数行った後に、前記繰り返し処理を終了する請求項1から3のいずれか1項記載の断層像処理装置。
- 前記繰り返し手段は、前記予め定められた回数を前記被写体の体厚が大きいほど多くする請求項5記載の断層像処理装置。
- 前記再構成手段は、逐次近似再構成法により前記断層像を生成する請求項1から6のいずれか1項記載の断層像処理装置。
- 前記散乱線除去手段は、前記投影像の撮影時に前記散乱線成分を除去するために使用が想定される、仮想的なグリッドの特性である仮想グリッド特性に基づいて、前記散乱線除去処理を行う請求項1から7のいずれか1項記載の断層像処理装置。
- 放射線源を検出手段に対して相対的に移動させ、前記放射線源の移動による複数の線源位置において、被写体に放射線を照射することにより撮影された、前記複数の線源位置のそれぞれに対応する複数の投影像を再構成することにより、前記被写体の断層像を生成し、
前記複数の線源位置に応じた前記被写体の体厚に基づいて、前記被写体を透過した放射線に含まれる散乱線成分を推定し、前記複数の投影像から前記散乱線成分を除去し、
前記散乱線成分が除去された投影像を再構成することにより新たな断層像を生成し、
該新たな断層像に基づく前記複数の投影像からの前記散乱線成分の除去、および該新たな断層像に基づいて前記散乱線成分が除去された複数の投影像を再構成することによる、さらに新たな断層像の生成を繰り返す繰り返し処理を行うことを特徴とする断層像処理方法。 - 放射線源を検出手段に対して相対的に移動させ、前記放射線源の移動による複数の線源位置において、被写体に放射線を照射することにより撮影された、前記複数の線源位置のそれぞれに対応する複数の投影像を再構成することにより、前記被写体の断層像を生成する手順と、
前記複数の線源位置に応じた前記被写体の体厚に基づいて、前記被写体を透過した放射線に含まれる散乱線成分を推定し、前記複数の投影像から前記散乱線成分を除去する手順と、
前記散乱線成分が除去された投影像を再構成することにより新たな断層像を生成する手順と、
該新たな断層像に基づく前記複数の投影像からの前記散乱線成分の除去、および該新たな断層像に基づいて前記散乱線成分が除去された複数の投影像を再構成することによる、さらに新たな断層像の生成を繰り返す繰り返し処理を行う手順とをコンピュータに実行させることを特徴とする断層像処理プログラム。
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