JP6706571B2 - イグニッションコイル用希土類コバルト系永久磁石及びその製造方法 - Google Patents
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元素Rを、少なくともSmを含む希土類元素とすると、
質量%で、R:23〜27%、Cu:3〜6%(但し、6%は含まず)、Fe:10〜25%、Zr:1.5〜4.0%を含み、残部がCo及び不可避的不純物からなる希土類コバルト系永久磁石であって、
第1のセル相を含むベース層と、
前記ベース層を覆う表面酸化物層と、を備える。
このような構成は、酸素を備える雰囲気中において加熱することによって、製造することができる。そのため、めっき工程や不活性ガス雰囲気中の加熱工程を必要することなく、容易に製造することができる。しかも、酸化物層を表面に形成することができ、微小クラックを起点とする破壊の進展を抑制することができ、良好な機械的強度を有する。
さらに、前記表面酸化物層のFeの含有量は、前記ベース層のFeの含有量と比較して高いことを特徴としてもよい。前記表面酸化物層の厚みは、50〜500nmの範囲内にあることを特徴としてもよい。
また、前記ベース層は、前記表面酸化物層と接触している縞状層を備え、前記縞状層は、前記表面酸化物層との界面に沿うように延びる複数の第1の線状部を含むことを特徴としてもよい。さらに、前記線状部のFeの含有量は、前記ベース層のFeの含有量と比較して高いことを特徴としてもよい。
また、亀裂が前記ベース層に生じており、前記ベース層は、前記亀裂を覆う内部酸化物層をさらに備えることを特徴としてもよい。さらに、前記内部酸化物層が前記亀裂を埋め尽くしていることを特徴としてもよい。
また、前記ベース層は、前記縞状層と接触している遷移層を備え、前記遷移層は、前記縞状層との界面に沿うように延びる複数の第2の線状部と、第2のセル相と、を備えることを特徴としてもよい。
元素Rを、少なくともSmを含む希土類元素とすると、
質量%で、R:23〜27%、Cu:3〜6%(但し、6%は含まず)、Fe:10〜25%、Zr:1.5〜4.0%を含み、残部がCo及び不可避的不純物からなる永久磁石体を、用いた希土類コバルト系永久磁石の製造方法であって、
前記永久磁石体を酸素分圧1〜100%の雰囲気中において熱処理温度200〜600℃で加熱保持することによって、表面酸化物層を前記永久磁石体に形成する工程を備える。
このような構成によれば、酸素分圧1%以上の雰囲気中において加熱することによって、良好な機械的強度を有する希土類コバルト系永久磁石を製造できる。そのため、めっき工程や不活性ガス雰囲気中の加熱工程を必要するとことなく、容易に製造することができる。
さらに、前記表面酸化物層を前記永久磁石体に形成する工程では、前記永久磁石体を大気雰囲気中において加熱保持することを特徴としてもよい。また、前記表面酸化物層を前記永久磁石体に形成する工程では、前記熱処理温度は300〜510℃であることを特徴としてもよい。
図1を参照して、実施の形態1にかかる希土類コバルト系永久磁石について説明する。図1は、実施の形態1にかかる希土類コバルト系永久磁石の表面近傍の断面を示す模式図である。なお、分かり易くするために、図1では、ハッチングの図示を省略した。
次に、図2〜図4を参照して、希土類コバルト系永久磁石10の各変更例について説明する。図2〜図4は、実施の形態1にかかる希土類コバルト系永久磁石の変更例の表面近傍の断面を示す模式図である。分かり易くするために、図2〜図4では、ハッチングの図示を省略した。
図2に示す希土類コバルト系永久磁石20は、希土類コバルト系永久磁石10の変更例である。希土類コバルト系永久磁石20は、縞状層3を備えるところを除いて、希土類コバルト系永久磁石10と同じ構成を有する。縞状層3は、表面酸化物層2と直接接触している。縞状層3は、表面酸化物層2との界面に沿うように延びる複数の線状部31と、ベース層1に含まれるセル相と同じ構成を有するセル相とを含む。複数の線状部31は、希土類コバルト系永久磁石20の断面において、縞模様を示す。なお、線状部31は、希土類コバルト系永久磁石20の内部において、膜状体又はそれに近い形状を有すると考えられる。線状部31は、酸化物である。線状部31のFeの含有量は、ベース層1のFeの含有量と比較して高い。
図3に示す希土類コバルト系永久磁石30は、希土類コバルト系永久磁石10、20の変更例である。希土類コバルト系永久磁石30は、内部酸化物層6を備えるところを除いて、希土類コバルト系永久磁石20と同じ構成を有する。希土類コバルト系永久磁石30には亀裂5が生じている。亀裂5は、希土類コバルト系永久磁石30の表面又は内側、ベース層1、表面酸化物層2、又は縞状層3にあってもよく、その数は、複数であってもよい。亀裂5のサイズ、形状及び方向は、多種多様である。希土類コバルト系永久磁石30は、縞状層3、及び内部酸化物層6を備え、内部酸化物層6は、亀裂5を覆う。内部酸化物層6は、亀裂5の表面の微小クラックを埋めるとよい。また、内部酸化物層6は、亀裂5を埋め尽くすと好ましい。言い換えると、内部酸化物層6は、亀裂5を満たすように埋めると好ましい。
図4に示す希土類コバルト系永久磁石40は、希土類コバルト系永久磁石10、20、30の変更例である。希土類コバルト系永久磁石40は、遷移層4を備えるところを除いて、希土類コバルト系永久磁石30と同じ構成を有する。遷移層4は、縞状層3と接触しており、縞状層3との界面に沿うように延びる複数の線状部31と、ベース層1に含まれるセル相と同じ構成を有するセル相とを含む。遷移層4が含む線状部31の量は、縞状層3が含む線状部31の量と比較して少ない。遷移層4は、縞状層3とベース層1との間に位置しており、遷移層4における線状部31の量は、縞状層3側からベース層1側へ向かって減じるように遷移する傾向にある。ベース層1は、セル相を含む一方で、線状部31をほとんど含んでいない。
次に、図5を参照して実施形態1にかかる永久磁石の製造方法について説明する。図5は、実施の形態1にかかる希土類コバルト系永久磁石の製造方法のフローチャートである。
1[kOe]=103/4π[kA/m] (…換算式1)
1[MGOe]=102/4π[kJ/m3] (…換算式2)
1.0[ton/cm2]=98.0665[MPa] (…換算式3)
1.0[Torr]=133.32[Pa] (…換算式4)
次に、実施の形態1にかかる希土類コバルト系永久磁石の化学組成を決定した理由について説明する。
次に、実施の形態1にかかる希土類コバルト系永久磁石についての実施例1〜5及び比較例1〜5について行った実験について説明する。
続いて、SEM(Scanning Electron Microscope)を用いて、実施例1〜3及び比較例1について断面組織観察を行った。断面組織観察による写真を図6〜8、図18に示す。図6は、実施例1の永久磁石の表面近傍における断面のミクロ組織を示す写真である。図7は、実施例2の永久磁石の表面近傍における断面のミクロ組織を示す写真である。図8は、実施例3の永久磁石の表面近傍における断面のミクロ組織を示す写真である。図18は、比較例1の永久磁石の表面近傍における断面のミクロ組織を示す写真である。
次に、実施例3の永久磁石について、DF−STEM/EDX(Dark Field - Scanning Transmission Electron Microscope / Energy Dispersive X-ray Spectroscopy)を用いて、これらの断面組織における各元素の組成(含有量)を計測し、元素マッピングを行なった。これらの計測した断面組織及びその元素マッピングによる像を図9〜図16に示す。図9は、実施例3の永久磁石のDF−STEMによる像である。図10〜図16は、実施例3の永久磁石の表面の元素マッピングによる像である。
なお、カーボン保護膜P92は、保護膜P9(図6参照)に含まれる一構成要素であり、断面組織観察のために形成したものである。
図10〜図16を用いて、図9に示す断面において、C(炭素)、O(酸素)、Fe、Co、Cu、Zr及びSm、についてそれぞれ元素マッピングした結果について説明する。なお、O(酸素)とC(炭素)は、製造する上で、含有することを避けることのできない不可避的不純物である。図10〜図16に示す像において、濃淡が、元素マッピングの対象となった元素について濃度の高低を示し、淡いほど、その元素について濃度が高いことを示す。
次に、図17を参照して、実施例3の表面近傍における断面のミクロ組織において、各部位の各組成分析の結果について説明する。図17は、実施例3の表面近傍における断面のミクロ組織、及び、化学組成を測定した各部位を示す断面写真である。
次に、実施例6〜11の磁気特性及び機械的強度などを測定した結果について説明する。
1、1a、1b、1c、1f ベース層 11 接触面
2 表面酸化物層 21、21a、21b 濃縮部
2a、2b、2c、2e、2f 表面酸化物層
3、3e、3f 縞状層 31 線状部
4、4f 遷移層
5、5a、5b、5c、5e 亀裂
6、6a、6b、6c、6e 内部酸化物層
S9 製品形状加工ステップ S10 酸化物層形成熱処理ステップ
Claims (11)
- 元素Rを、少なくともSmを含む希土類元素とすると、
質量%で、R:23〜27%、Cu:3〜6%(但し、6%は含まず)、Fe:10〜25%、Zr:1.5〜4.0%を含み、残部がCo及び不可避的不純物からなる希土類コバルト系永久磁石であって、
第1のセル相を含むベース層と、
前記ベース層を覆う表面酸化物層と、を備える、
イグニッションコイル用希土類コバルト系永久磁石。 - 前記表面酸化物層のFeの含有量は、前記ベース層のFeの含有量と比較して高い、
ことを特徴とする請求項1に記載のイグニッションコイル用希土類コバルト系永久磁石。 - 前記表面酸化物層の厚みは、50〜500nmの範囲内にある、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載のイグニッションコイル用希土類コバルト系永久磁石。 - 前記ベース層は、前記表面酸化物層と接触している縞状層を備え、
前記縞状層は、前記表面酸化物層との界面に沿うように延びる複数の第1の線状部を含む、
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載されるイグニッションコイル用希土類コバルト系永久磁石。 - 前記第1の線状部のFeの含有量は、前記ベース層のFeの含有量と比較して高い、
ことを特徴とする請求項4に記載のイグニッションコイル用希土類コバルト系永久磁石。 - 亀裂が前記ベース層に生じており、
前記ベース層は、前記亀裂を覆う内部酸化物層をさらに備える、
ことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載されるイグニッションコイル用希土類コバルト系永久磁石。 - 前記内部酸化物層が前記亀裂を埋め尽くしている、
ことを特徴とする請求項6に記載されるイグニッションコイル用希土類コバルト系永久磁石。 - 前記ベース層は、前記縞状層と接触している遷移層を備え、
前記遷移層は、前記縞状層との界面に沿うように延びる複数の第2の線状部と、第2のセル相と、を備える、
ことを特徴とする請求項4、又は、請求項4を引用する請求項5〜7のいずれか1項に記載されるイグニッションコイル用希土類コバルト系永久磁石。 - 元素Rを、少なくともSmを含む希土類元素とすると、
質量%で、R:23〜27%、Cu:3〜6%(但し、6%は含まず)、Fe:10〜25%、Zr:1.5〜4.0%を含み、残部がCo及び不可避的不純物からなる永久磁石体を、用いた希土類コバルト系永久磁石の製造方法であって、
前記永久磁石体を酸素分圧1〜100%の雰囲気中において熱処理温度200〜600℃で加熱保持することによって、表面酸化物層を前記永久磁石体に形成する工程を備える、
イグニッションコイル用希土類コバルト系永久磁石の製造方法。 - 前記表面酸化物層を前記永久磁石体に形成する工程では、
前記永久磁石体を大気雰囲気中において加熱保持する、
ことを特徴とする請求項9に記載されるイグニッションコイル用希土類コバルト系永久磁石の製造方法。 - 前記表面酸化物層を前記永久磁石体に形成する工程では、
前記熱処理温度は300〜510℃である、
ことを特徴とする請求項10に記載されるイグニッションコイル用希土類コバルト系永久磁石の製造方法。
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