JP6704065B2 - 広帯域ミラー - Google Patents
広帯域ミラー Download PDFInfo
- Publication number
- JP6704065B2 JP6704065B2 JP2018554016A JP2018554016A JP6704065B2 JP 6704065 B2 JP6704065 B2 JP 6704065B2 JP 2018554016 A JP2018554016 A JP 2018554016A JP 2018554016 A JP2018554016 A JP 2018554016A JP 6704065 B2 JP6704065 B2 JP 6704065B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- layer
- index layer
- low refractive
- high refractive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/44—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the coatings, e.g. passivation layer or anti-reflective coating
- H01L33/46—Reflective coating, e.g. dielectric Bragg reflector
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/0808—Mirrors having a single reflecting layer
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/58—Optical field-shaping elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2933/00—Details relating to devices covered by the group H01L33/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2933/0008—Processes
- H01L2933/0025—Processes relating to coatings
Description
広帯域反射器 1
外方層 10
発光表面 100
後方表面 101
低屈折率層 11A、11B
パターン化された表面 110
高屈折率層 12
パターン化された表面 120
反射体 13
パターン化されたサファイア表面 14
パターン化された表面 140
吸収体 15
反射率グラフ 40、50
従来技術反射器 8、9
出射光 L
入射光 Li
反射光 Lr
放射強度 R
放射強度 P8、P9
放射強度 P1、P2
Claims (11)
- 広帯域ミラーであり、
外方表面層と、
該外方表面層の下に配置された誘電体層スタックであり、第1低屈折率層と高屈折率層と第2低屈折率層とがこの順に配置されており、前記外方表面層と前記第1低屈折率層とがLEDとして機能する、誘電体層スタックと、
を含み、
前記誘電体層スタックが、前記高屈折率層と隣接する前記第1及び第2低屈折率層の一方との境界において前記高屈折率層の一方側に形成されている少なくとも1つのパターン化された表面と、前記高屈折率層と隣接する前記第1及び第2低屈折率層の他方との境界において前記高屈折率層の他方側に形成されている少なくとも1つのパターン化されていない表面とを含むことを特徴とする、
広帯域ミラー。 - 広帯域ミラーであり、
外方表面層と、
該外方表面層の下に配置された誘電体層スタックであり、前記外方表面層の下に第1低屈折率層が配置されており、前記第1低屈折率層の下に高屈折率層と第2低屈折率層とが交互に配置されており、前記外方表面層と前記第1低屈折率層とがLEDとして機能する、誘電体層スタックと、
を含み、
前記誘電体層スタックが、高屈折率層と隣接する前記第2低屈折率層の一方との境界において前記高屈折率層の一方側に形成されている少なくとも1つのパターン化された表面と、前記高屈折率層の他方側に形成されている少なくとも1つのパターン化されていない表面とを含むことを特徴とする、
広帯域ミラー。 - 請求項1又は2に記載の広帯域ミラーであり、前記誘電体層スタックが反射性バッキング材で終わっている、広帯域ミラー。
- 請求項1乃至3の何れか1項に記載の広帯域ミラーであり、前記誘電体層スタックが500nmから2.0μmの範囲にある厚さを有する、広帯域ミラー。
- 請求項2に記載の広帯域ミラーであり、多くとも15層の誘電体層を含む、広帯域ミラー。
- 請求項1乃至5のうち何れか1項に記載の広帯域ミラーを有する発光ダイオード。
- 広帯域ミラーの製造方法であり、
外方表面層を提供するステップと、
第1低屈折率層と高屈折率層と第2低屈折率層とをこの順に適用するステップであり、前記外方表面層の下に誘電体層スタックを構築し、前記外方表面層と前記第1低屈折率層とがLEDとして機能する、ステップと、
高屈折率層と隣接する前記第1及び第2低屈折率層の一方との境界において前記高屈折率層の一方側に少なくとも1つのパターン化された表面を形成するステップであり、前記高屈折率層と隣接する前記第1及び第2低屈折率層の他方との境界において前記高屈折率層の他方側に少なくとも1つのパターン化されていない表面を形成するステップと、
を含む広帯域ミラーの製造方法。 - 広帯域ミラーの製造方法であり、
外方表面層を提供するステップと、
前記外方表面層の下に第1低屈折率層を配置し、前記第1低屈折率層の下に高屈折率層と第2低屈折率層との交互配置を適用して、前記外方表面層の下に誘電体層スタックを構築するステップであり、前記外方表面層と前記第1低屈折率層とがLEDとして機能する、ステップと、
前記高屈折率層と隣接する前記第2低屈折率層の一方との境界において前記高屈折率層の一方側に少なくとも1つのパターン化された表面を形成するステップであり、前記高屈折率層の他方側に少なくとも1つのパターン化されていない表面を形成するステップと、
を含む広帯域ミラーの製造方法。 - 請求項7又は8に記載の製造方法であり、
前記の少なくとも1つのパターン化された表面を形成するステップが、光電気化学(PEC)エッチングステップ、微細加工エッチングステップ、フォトリソグラフィエッチングステップ及びナノインプリントリソグラフィエッチングステップの何れかを含む、
製造方法。 - 請求項7又は8に記載の製造方法であり、
前記の少なくとも1つのパターン化された表面を形成するステップが、前記パターン化された表面と後続する表面との間の境界において全反射を達成するような規則的な表面構造を形成するステップを含む、
製造方法。 - 請求項7乃至10のうち何れか1項に記載の製造方法であり、
前記誘電体層スタックが、シリコンダイオキサイド層及びシリコンナイトライド層を交互に適用することにより構築される、
製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP16165481 | 2016-04-15 | ||
EP16165481.9 | 2016-04-15 | ||
PCT/EP2017/058098 WO2017178299A1 (en) | 2016-04-15 | 2017-04-05 | Broadband mirror |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019514219A JP2019514219A (ja) | 2019-05-30 |
JP6704065B2 true JP6704065B2 (ja) | 2020-06-03 |
Family
ID=55806161
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018554016A Active JP6704065B2 (ja) | 2016-04-15 | 2017-04-05 | 広帯域ミラー |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11302848B2 (ja) |
EP (1) | EP3443598B1 (ja) |
JP (1) | JP6704065B2 (ja) |
KR (1) | KR101986982B1 (ja) |
CN (1) | CN108886076B (ja) |
WO (1) | WO2017178299A1 (ja) |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5115442A (en) | 1990-04-13 | 1992-05-19 | At&T Bell Laboratories | Top-emitting surface emitting laser structures |
US5726805A (en) * | 1996-06-25 | 1998-03-10 | Sandia Corporation | Optical filter including a sub-wavelength periodic structure and method of making |
JP2003014893A (ja) * | 2001-04-27 | 2003-01-15 | Nikon Corp | 多層膜反射鏡及び露光装置 |
JP4294264B2 (ja) | 2002-04-25 | 2009-07-08 | 有限会社オートクローニング・テクノロジー | 集積型光学素子 |
US20040047039A1 (en) * | 2002-06-17 | 2004-03-11 | Jian Wang | Wide angle optical device and method for making same |
JP2004054197A (ja) | 2002-07-23 | 2004-02-19 | Autocloning Technology:Kk | 可変特性フォトニック結晶導波路 |
JP2004325946A (ja) | 2003-04-25 | 2004-11-18 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 液晶表示装置 |
ATE538491T1 (de) | 2003-10-15 | 2012-01-15 | Nikon Corp | Mehrschichtiger filmreflexionsspiegel, herstellungsverfahren für einen mehrschichtigen filmreflexionsspiegel und belichtungssystem |
JP2005209795A (ja) * | 2004-01-21 | 2005-08-04 | Koito Mfg Co Ltd | 発光モジュール及び灯具 |
CN100379043C (zh) | 2005-04-30 | 2008-04-02 | 中国科学院半导体研究所 | 全角度反射镜结构GaN基发光二极管及制作方法 |
JP2008083599A (ja) * | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Toppan Printing Co Ltd | 光学素子およびそれを用いた表示体 |
EP2291708B1 (en) * | 2008-05-30 | 2020-03-04 | Opalux Incorporated | Tunable bragg stack |
JP5288966B2 (ja) * | 2008-09-22 | 2013-09-11 | ユー・ディー・シー アイルランド リミテッド | 発光素子及びその製造方法、並びに該発光素子を備えるディスプレイ |
EP2264491B1 (en) | 2009-06-15 | 2017-08-09 | CSEM Centre Suisse d'Electronique et de Microtechnique SA - Recherche et Développement | Zero-order diffractive filter and method for manufacturing thereof |
US8158998B2 (en) | 2010-08-18 | 2012-04-17 | High Power Opto, Inc. | High-reflectivity and low-defect density LED structure |
WO2012101393A1 (en) | 2011-01-28 | 2012-08-02 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Surface structure with light reflectance and transmission properties and method of manufacturing same |
US9269870B2 (en) * | 2011-03-17 | 2016-02-23 | Epistar Corporation | Light-emitting device with intermediate layer |
KR101767101B1 (ko) * | 2011-05-23 | 2017-08-24 | 삼성전자주식회사 | 반도체 발광소자 및 그 제조방법 |
US8889517B2 (en) * | 2012-04-02 | 2014-11-18 | Jds Uniphase Corporation | Broadband dielectric reflectors for LED with varying thickness |
FR2991101B1 (fr) * | 2012-05-25 | 2016-05-06 | Saint Gobain | Dispositif a diode electroluminescente organique comportant un support comprenant un element en couches transparent |
CN104813500B (zh) * | 2012-08-22 | 2018-07-24 | 3M创新有限公司 | 透明oled光提取 |
TWI590488B (zh) | 2013-01-25 | 2017-07-01 | 晶元光電股份有限公司 | 具有高效能反射結構之發光元件 |
JP5970660B2 (ja) * | 2013-06-13 | 2016-08-17 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 光取り込みシートおよび光取り込みロッド、ならびにそれらを用いた受光装置、発光装置および光ファイバー用増幅器 |
WO2015023536A1 (en) | 2013-08-12 | 2015-02-19 | 3M Innovative Properties Company | Emissive article with light extraction film |
CN103698826B (zh) | 2013-11-21 | 2015-09-30 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 一种偏振态位相可调控宽光谱反射镜 |
ES2703207T3 (es) | 2014-04-10 | 2019-03-07 | Csem Centre Suisse Delectronique Et De Microtechnique Sa | Cubiertas de transmisión de infrarrojos |
CN106538051A (zh) * | 2014-09-25 | 2017-03-22 | 松下知识产权经营株式会社 | 有机电致发光元件、基材和发光装置 |
-
2017
- 2017-04-05 CN CN201780023785.6A patent/CN108886076B/zh active Active
- 2017-04-05 JP JP2018554016A patent/JP6704065B2/ja active Active
- 2017-04-05 US US16/093,560 patent/US11302848B2/en active Active
- 2017-04-05 KR KR1020187032539A patent/KR101986982B1/ko active IP Right Grant
- 2017-04-05 WO PCT/EP2017/058098 patent/WO2017178299A1/en active Application Filing
- 2017-04-05 EP EP17715491.1A patent/EP3443598B1/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US11302848B2 (en) | 2022-04-12 |
WO2017178299A1 (en) | 2017-10-19 |
JP2019514219A (ja) | 2019-05-30 |
CN108886076B (zh) | 2021-07-13 |
CN108886076A (zh) | 2018-11-23 |
KR20180124153A (ko) | 2018-11-20 |
US20190131498A1 (en) | 2019-05-02 |
KR101986982B1 (ko) | 2019-06-10 |
EP3443598B1 (en) | 2019-08-14 |
EP3443598A1 (en) | 2019-02-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2018088535A5 (ja) | ||
EP2815436B1 (en) | Micro-led array with filters | |
US8354682B2 (en) | Radiation emitting element | |
TWI819258B (zh) | 發光二極體晶片 | |
US6410348B1 (en) | Interface texturing for light-emitting device | |
JP5511114B2 (ja) | 光抽出を向上させた微小発光ダイオードアレイ | |
TWI415294B (zh) | 發光二極體晶片 | |
CN212342655U (zh) | 发光二极管 | |
JP2008047906A5 (ja) | ||
TW201523918A (zh) | Led元件 | |
JP5743890B2 (ja) | 発光デバイスを製作する方法 | |
JP2004524710A (ja) | オプトエレクトロニクス用半導体チップ | |
JP6826395B2 (ja) | 半導体発光素子 | |
JP6704065B2 (ja) | 広帯域ミラー | |
JP2010541215A5 (ja) | ||
TW200935632A (en) | Optoelectronic component | |
US20090189513A1 (en) | LED using thin film dichroic filters | |
JP2017533591A (ja) | 光電子半導体チップ | |
TW202147644A (zh) | 微型發光二極體裝置的增強色彩轉換及校準 | |
JP7357082B2 (ja) | 光学装置および光学装置の製造方法 | |
US11294195B2 (en) | Aperiodic nano-optical array for angular shaping of incoherent emissions | |
KR20190128781A (ko) | 열방사체용 다층박막구조체, 열방사체 및 그의 제조방법 | |
US20230086879A1 (en) | Semiconductor Light Source, Cover Body and Method | |
CN117352621A (zh) | 复合图形衬底、发光二极管及其制作方法 | |
CN102024896A (zh) | 一种发光二极管外延片和其制造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181012 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20181012 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20190305 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190423 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190722 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191008 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191112 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200107 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200205 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200414 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200511 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6704065 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |