TW202147644A - 微型發光二極體裝置的增強色彩轉換及校準 - Google Patents
微型發光二極體裝置的增強色彩轉換及校準 Download PDFInfo
- Publication number
- TW202147644A TW202147644A TW110120373A TW110120373A TW202147644A TW 202147644 A TW202147644 A TW 202147644A TW 110120373 A TW110120373 A TW 110120373A TW 110120373 A TW110120373 A TW 110120373A TW 202147644 A TW202147644 A TW 202147644A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- light
- reflector
- container
- pixel
- layer
- Prior art date
Links
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 title claims description 89
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 113
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 claims description 16
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 claims description 14
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 2
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 21
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 12
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 8
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 8
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 7
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 5
- 238000003491 array Methods 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 2
- 238000001127 nanoimprint lithography Methods 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 1
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 230000000739 chaotic effect Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/58—Optical field-shaping elements
- H01L33/60—Reflective elements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L25/075—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00
- H01L25/0753—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00 the devices being arranged next to each other
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/44—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the coatings, e.g. passivation layer or anti-reflective coating
- H01L33/46—Reflective coating, e.g. dielectric Bragg reflector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/483—Containers
- H01L33/486—Containers adapted for surface mounting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/50—Wavelength conversion elements
- H01L33/501—Wavelength conversion elements characterised by the materials, e.g. binder
- H01L33/502—Wavelength conversion materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/50—Wavelength conversion elements
- H01L33/501—Wavelength conversion elements characterised by the materials, e.g. binder
- H01L33/502—Wavelength conversion materials
- H01L33/504—Elements with two or more wavelength conversion materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2933/00—Details relating to devices covered by the group H01L33/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2933/0008—Processes
- H01L2933/0025—Processes relating to coatings
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2933/00—Details relating to devices covered by the group H01L33/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2933/0083—Periodic patterns for optical field-shaping in or on the semiconductor body or semiconductor body package, e.g. photonic bandgap structures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/50—Wavelength conversion elements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/58—Optical field-shaping elements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
一種像素,包含一第一子像素。該第一子像素包含一LED層,該LED層包含一發光材料,該發光材料經組態以發射具有泵浦波長的泵浦光。一容器層具有一容器表面,該容器表面包含一第一容器孔,該第一容器孔界定穿過該容器層延伸的一第一容器容積。設置在該第一容器容積中的一第一色彩轉換層經組態以接收來自該LED層的泵浦光並發射一第一轉換波長的第一轉換光。一第一透鏡在該第一容器孔之上設置於該容器層上,具有包含一第一凸表面的一外側面。與該第一凸表面一致的一第一反射器包含一第一反射器,該第一反射器經組態以反射該泵浦波長的光並透射該第一轉換波長的光;及一第二反射器,該第二反射器經組態以反射該泵浦波長的光及該第一轉換波長的光二者。
Description
本揭露係關於發光二極體(Light Emitting Diodes,LED)及LED陣列領域。
微型LED陣列通常定義為具有100 x 100 μm2
或更小的大小的LED陣列。微型LED陣列係適合在多種裝置中使用的自發光微型顯示器或投影機,諸如智慧型手錶、頭戴式顯示器、抬頭顯示器、攝錄影機、視野取景器、多點激發源及微微型投影機。
在許多應用中,藉由使用能夠發射具有一定波長範圍的光的微型LED陣列來提供色彩顯示器或投影機是有用的。例如,色彩顯示器可包含在共用基板上具有複數個像素的微型LED陣列,其中每個像素可輸出不同色彩之光之組合。例如,像素可輸出紅光、綠光及藍光之組合。這一般藉由均利用包含複數個子像素的像素的兩種方法中之一種來達成,該複數個子像素各自發射不同色彩之光。在一種方法中,每個子像素可包含經組態以發射不同波長之光的微型LED。在另一種方法中,每個子像素中的微型LED可發射相同波長之光且可設置有色彩轉換材料。色彩轉換材料可將較高能量之光(泵浦光(pump light))轉換成較低能量之光(轉換光),從而改變由子像素發射的光之色彩。光轉換材料之實例係磷光體及量子點。
與光轉換材料之使用相關聯的一挑戰係高效地將光自泵浦波長轉換為轉換光波長。例如,色彩轉換材料可吸收一些轉換光,從而降低效率。另一挑戰係自裝置僅萃取轉換光,因為色彩轉換材料可能太薄而不能將所有泵浦光轉換為轉換光。若有任何泵浦光自微型LED洩漏,則微型LED之色彩純度便會降低。
為了藉由減少泵浦光洩漏來達成良好色彩飽和度,常用方法使用濾光器將泵浦光反射回微型LED以進行再循環或使用高帶通濾光器吸收泵浦光。此種濾光器之一個實例係反射泵浦光並透射轉換光的分佈式布拉格反射器(Bragg Reflector)。在「Optical cross-talk reduction in a quantum dot-based full-colour micro-light-emitting- diode display by a lithographic-fabricated photoresist mold」 (Photonics 25 Research,第5卷,第5期,2017年10月)中,將UV微型LED陣列用作量子點(Quantum Dot,QD)之高效激發源。為了減少子像素之間的光學串擾,使用簡單的微影術方法及光阻劑來製造一模具,該模具由用於添加QD的開口及用於減少串擾的阻擋壁組成。分佈式布拉格反射器(Distributed Bragg Reflector,DBR)經設置於QD之上以反射透過QD的UV光,由此增加QD之光發射。DBR亦用於藉由防止泵浦光透過LED來增加LED之色彩純度。
為了進一步減少泵浦光洩漏,LED中之設置色彩轉換材料的部分可加襯有經組態以吸收泵浦光的材料。在「Monolithic Red/Green/Blue Micro-LEDs with HBR and DBR structures」 (Guan-Syun Chen等人,IEEE Photonics Technology Letters,第30卷,第3期,2018年2月1日)中,將具有阻光能力的黑矩陣光阻劑旋塗至微型LED上。黑矩陣光阻劑可阻擋自包括紅色或綠色量子點的藍色微型LED之側面發射的藍光。因此,相鄰LED之間的藍光串擾由黑矩陣光阻劑減少。然而,因為入射於每個子像素之內壁上的所有可見光被吸收,所以大大降低了轉換效率。
亦可使用附加濾色器,在該等附加濾色器中,著色劑與阻色劑混合併用作微型LED之濾光器。染料之選擇可有助於濾色器之亮度(「Development of Color Resists Containing Novel Dyes for Liquid Crystal Displays」,Sumitomo Kagaku,第2013卷)。
與微型LED之使用相關聯的進一步挑戰係改良微型LED發射顯示器耦接至投影透鏡或中繼透鏡之效率。僅在透鏡之接受角內的光可被使用,而剩餘的光則被損耗。微型LED通常以接近具有120度全寬半高值(full-width half maximum,FWHM)的朗伯發射(Lambertian emission)的角度分佈發射光。透鏡之接受角由其F數判定,該F數對於典型投影透鏡可能係在接受角分別為11.3°及9.5°情況下的F/2.5或F/3。由朗伯微型LED發射的光之僅2.7%在±9.5°內,所以97.3%的光作為雜散光被損耗且收集光之效率非常低。
用於增強發射效率的一方法係在LED表面上引入隨機奈米紋理化,其中光波長比例的特徵導致光的無秩序行為及增加的發射效率(Applied Physics Letters 63,1993年,第2174-2176頁)。相似地,可將光波長數量級的週期圖案或非週期圖案引入至LED之發射表面或內部界面,其中干涉效應增加光萃取(美國專利第5,779,924 A號及美國專利第6,831,302 B1號)。然而,粗糙化在光散逸產生損耗之前會產生多次內部反射。
達成校準常常依賴次級光學元件,該等次級光學元件通常由微型透鏡陣列組成,其中每個微型透鏡與單獨微型LED對齊以校準發射光(例如,US2009115970、US2007146655及US2009050905 A1)。此等微型透鏡必須與LED陣列精確地對齊。
將LED之側壁成形可改良製造並增加光萃取(例如,美國專利第7,598,149 B2號)。蝕刻平台以形成主動層位於其中的拋物線形平台結構亦可校準所發射的光(US2015236201 A1及US2017271557 A1)。光自平台之內表面反射並自與平台相對的發射表面離開LED。此方法具有損壞主動層之風險,且難以在蝕刻平台時獲得平滑表面處理,因此在主動層之平台側面上存在粗糙度,這降低可能的準直度。
需要校準由微型LED發射的光,使得FWHM減小且光收集效率增加。亦需要進一步改良包含色彩轉換材料的微型LED之色彩純度以及效率。
在此背景下,提供了:
一種像素,包含:一第一子像素,其中該第一子像素包含:
一LED層,該LED層包含一發光材料,該發光材料經組態以自一發光表面發射泵浦光,該泵浦光具有一泵浦波長;
一容器層,該容器層具有一容器表面,該容器表面包含一第一容器孔,該第一容器孔界定穿過該容器層延伸的一第一容器容積;
一第一色彩轉換層,該第一色彩轉換層經設置於該第一容器容積中且經組態以接收來自該LED層之該發光表面的光,其中該第一色彩轉換層包含一第一色彩轉換材料,該第一色彩轉換材料經組態以吸收該泵浦波長的光並發射一第一轉換波長的第一轉換光;
一第一透鏡,該第一透鏡在該第一容器孔之上設置於該容器層上,包含鄰近該色彩轉換層的一內側面及一外側面,其中該外側面包含一第一凸表面;
一第一反射器總成,該第一反射器總成鄰近該第一透鏡之該外側面且與該第一凸表面一致,該第一反射器總成包含:
一第一反射器,該第一反射器經組態以反射該泵浦波長的光並透射該第一轉換波長的光;及
一第二反射器,該第二反射器經組態以反射該泵浦波長的光及該第一轉換波長的光二者;
其中該第二反射器包含一第一子像素反射器孔且其中該第一反射器填充該第一子像素反射器孔。
以此方式,可藉由反射未被色彩轉換材料轉換的任何泵浦光以使得它進入色彩轉換材料並具有另一次機會被轉換來增加子像素之色彩飽和度。泵浦波長的光可多次穿過色彩轉換材料的次數與光被轉換為轉換波長的光所花費的次數一樣多。由於光僅可經由反射器孔發射出,因此亦可增加子像素之光學效率。以此方式,發射光束得以校準,從而增加可由光收集裝置捕獲的發射光之比例,因為在光收集裝置之收集角度內的發射光束之比例增加。
該像素可進一步包含一第二子像素,其中該第二子像素包含:
一LED層,該LED層包含一發光材料,該發光材料經組態以自一發光表面發射泵浦光,該泵浦光具有該泵浦波長;
一容器層,該容器層具有一容器表面,該容器表面包含一第二容器孔,該第二容器孔界定穿過該容器層延伸的一第二容器容積;
一第二色彩轉換層,該第二色彩轉換層經設置於該第二容器容積中且經組態以接收來自該LED層之該發光表面的光,其中該第二色彩轉換層包含一第二色彩轉換材料,該第二色彩轉換材料經組態以吸收該泵浦波長的光並發射一第二轉換波長的第二轉換光;
一第二透鏡,該第二透鏡在該第二容器孔之上設置於該容器層上,包含鄰近該色彩轉換層的一內側面及一外側面,其中該外側面包含一第二凸表面;
一第二反射器總成,該第二反射器總成鄰近該第二透鏡之該外側面且與該第二凸表面一致,該第二反射器總成包含:
一第三反射器,該第三反射器經組態以反射該泵浦波長的光並透射該第二轉換波長的光;及
一第四反射器,該第四反射器經組態以反射該泵浦波長的光及該第二轉換波長的光二者;
其中該第四反射器包含一第二子像素反射器孔且其中該第三反射器填充該第二子像素反射器孔。
有利地,一種像素可包含複數個子像素,該等子像素具有不同的色彩轉換材料使得該像素包含具有本揭露之子像素之增加的色彩飽和度及光學效率的不同色彩的子像素。
該像素可進一步包含:一第三子像素,該第三子像素發射該泵浦波長的光,其中該第三子像素包含:
一LED層,該LED層包含一發光材料,該發光材料經組態以自一發光表面發射泵浦光,該泵浦光具有該泵浦波長;
一容器層,該容器層具有一容器表面,該容器表面包含一第三容器孔,該第三容器孔界定穿過該容器層的一第三容器容積;
一透鏡,該透鏡在該第三容器孔之上設置於該容器層上,包含鄰近該容器層的一內側面及一外側面,其中該外側面包含一第三凸表面;
一第三反射器總成,該第三反射器總成鄰近該第三透鏡之該外側面且與該第三凸表面一致,該第三反射器總成包含:
一第五反射器,該第五反射器經組態以反射泵浦光,其中該第五反射器包含一第三子像素反射器孔。
以此方式,該像素可包括係泵浦光之色彩且仍然具有本揭露之子像素之增加的光學效率的子像素。
該第一反射器之一中心軸及該第二反射器之一中心軸與該凸表面之一中心軸係對齊的。
有利地,經校準的光束因此具有與該容器層的法線平行的一中心軸。
該第一反射器可包含一積層結構。
該第一反射器可包含交替的較高折射率層及較低折射率層。
以此方式,該第一反射器對該第一轉換波長的光之反射率可降低。
該第一反射器可包含複數個TiO2
層及SiO2
層。
有利地,具有此結構的第一反射器可具有小於5%的對第一轉換波長的光之反射率。
該第一反射器可包含分佈式布拉格反射器。
以此方式,該第一反射器可透射轉換波長的光並反射泵浦波長的光。
該第二反射器可包含一金屬材料。
以此方式,該第二反射器可反射所有可見波長的光,使得它反射泵浦波長的光及第一轉換波長的光二者。
該容器容積可包含反射內側壁。
有利地,這可藉由增加透過容器孔離開容器容積的由LED層之發光表面發射的光之比例來增加子像素之光萃取效率。
該容器孔之面積可至少等於該LED層之該發射表面之面積。
該容器容積之一內側壁可相對於該LED層之發光表面的法線形成至少35°且不大於85°或較佳地不大於60°的角度。
有利地,這可藉由增加被朝向容器孔反射的入射於內側壁上的光之比例來增加子像素之光萃取效率。以此方式,增加了透過容器孔離開容器容積的由LED層之發光表面發射的光之比例。
該容器孔可以係圓形,使得該容器容積類似於一截頭倒圓錐,或該容器孔可以係矩形,使得該容器容積類似於一截頭倒四角錐。
以此方式,該容器容積可經設計以藉由具有傾斜內側壁及在該容器層之平面中具有形狀可能例如與LED層之發光表面相同的一橫剖面來增加光學效率。
該透鏡可以係半球形。
有利地,由反射器中之一者在凸表面處反射的光可沿著與入射路徑相同或相似的路徑被反射,使得增加入射於色彩轉換材料上的反射光之比例。以此方式,增加了隨後被轉換為轉換波長的光的泵浦波長的反射光之比例。
該透鏡之該凸表面可以係橢圓形或抛物線形。
以此方式,由反射器中之一者反射的光可隨後被再次自反射器中之一者反射,使得它入射於色彩轉換材料上。
該透鏡之一特性尺寸可以係該容器層之平面中的該孔之一特性尺寸的至少兩倍大。
有利地,自容器孔之邊緣發射的光入射於凸表面上的角度可減小,使得在光被反射的情況下,其反射路徑與其入射路徑相似且入射於色彩轉換材料上的反射光之比例增加。
該像素可進一步包含:一轉換光反射器積層,該轉換光反射器積層位於該LED層與該色彩轉換層之間的一界面處。
以此方式,藉由增加被朝向容器孔反射的容器容積中的光之比例來增加子像素之光學效率。
透射穿過該第一反射器的該轉換波長的光之全寬半高值可小於60°或較佳地小於50°。
以此方式,藉由校準發射光束使得在光收集裝置之收集角度內的發射光束之比例增加來增加子像素至光收集裝置之耦接效率。
該第一反射器對該泵浦波長的光之反射率可大於95%或較佳地100%。
有利地,這藉由減少自子像素發射的泵浦波長的光之量來增加子像素之色彩飽和度。
該第一反射器對該轉換波長的光之反射率可小於10%或較佳地小於5%。
有利地,這可藉由增加由第一反射器透射的入射於第一反射器上的該轉換波長的光之比例來增加子像素之光學效率。
該轉換波長可長於該泵浦波長。
該色彩轉換層可包含一量子點材料。
該泵浦波長可以係藍色且該第一轉換波長可以係包含紅色及綠色的一色彩群中之一第一色彩群。
該第二轉換波長可以係該色彩群中之一第二色彩群。
該第三子像素之該容器容積可填充有一半透明材料。
以此方式,該像素可包含一RGB (紅色、綠色、藍色)三重態。
第1圖中指示出像素10之共用子像素組態。像素10可包含第一子像素100、第二子像素200及第三子像素300,其中該第一子像素、該第二子像素及該第三子像素可發射不同波長之光。例如,第一子像素100可以係紅色,第二子像素200可以係綠色且第三子像素300可以係藍色。根據本揭露之一實施例,像素10可設置成其中每個子像素包含發光二極體且其中至少一個發光二極體包括色彩轉換材料。如此,像素10亦包括根據本揭露之一實施例的發光二極體。
根據本揭露之一實施例的發光二極體在第2C圖中被例示為第一子像素100。第2A圖及第2B圖展示出子像素100之部分以幫助闡明描述。參照第2A圖,子像素100可包含光產生層,該光產生層包含經組態以輸出泵浦光的半導體接合面,使得可認為光產生層包含泵浦光LED 110。泵浦光LED 110可包含具有第一摻雜區域及第二摻雜區域(未展示出)的半導體材料。第一摻雜區域與第二摻雜區域之間的界面(未展示出)可包含複數個量子井且可經組態以在施加電流時產生光。泵浦光LED 110可包含III族氮化物。光產生層可製造於基板上,且泵浦光LED 110之與基板相對的側面可包含泵浦光LED 110之發光表面111。
泵浦光LED 110經組態以產生具有泵浦光波長的光。在一實例中,泵浦光之波長可對應於藍色可見光。在一些實施例中,泵浦光之波長可為至少440 nm及/或不大於470 nm。特別地,泵浦光之波長可為至少450 nm及/或不大於460 nm。在本揭露中,在LED係描述為發射具有一定波長的光的情況下,認為該波長係由具有最高強度(尖峰強度)的LED發射的光之波長。泵浦光之波長可由存在於第一摻雜區域與第二摻雜區域之間的界面處的量子井判定。
泵浦光LED 110包含在基本層410內。基本層410可包含阻光材料。子像素100包含設置於基本層410上的容器層420。在一實施例中,容器層420可由金屬製成。例如,容器層420可由鋁製造而成。容器層420之與容器層420之鄰近基本層410的側面相對的側面界定容器表面421,該容器表面421包含容器孔121。容器孔121界定穿過容器層420直至泵浦光LED 110之發光表面111的容器容積120。容器容積之內側壁122可圍繞泵浦光LED 110之發光表面111,使得容器容積120總體與泵浦光LED 110對齊。容器容積120之與容器孔121相對的側面可包含泵浦光LED 110之發光表面111。在其中容器層420係由金屬製成一實施例中,內側壁122是反射性的,使得入射於內側壁122上的由泵浦光LED 110之發光表面111發射的光可被反射至少一次且隨後經由容器孔發射出。在其中容器層420不由金屬製成一實施例中,內側壁122可用反射塗層塗佈。在一實施例中,在容器層420與包含基本層410及LED 110的晶圓之間可存在用於電氣隔離的薄層。例如,薄層可以係厚度為近似100 nm的介電質鈍化層。
在某些實施例中,容器孔121可具有至少與泵浦光LED 110之發光表面111之面積相等的面積。在某些實施例中,容器容積120之鄰近泵浦光LED 110之發光表面111的側面可具有至少與泵浦光LED 110之發光表面111之面積相等的面積。容器容積120之中心軸可與泵浦光LED 110之中心軸對齊。容器孔121之面積可至少與容器容積120之鄰近泵浦光LED 110之發光表面111的側面之面積相等。
容器孔121可以多種不同形狀設置。例如,容器孔121可以係橢圓形、矩形、六角形或任何形式的規則或不規則多邊形。在一些實施例中,容器孔121之形狀可對應於泵浦光LED 110之發光表面111之形狀。在一些其他實施例中,容器孔121之形狀可不同於泵浦光LED 110之發光表面111之形狀。取決於容器孔121之形狀,容器容積120可包含一或多個內側壁122。例如,對於橢圓形容器孔121,容器容積120可包含單個連續內側壁122。對於矩形容器孔121,容器容積120可包含四個內側壁122。內側壁122之數目可與容器孔121之形狀所具有的側面之數目相等。
在某些實施例中,容器孔121可具有至少與泵浦光LED 110之發光表面111之面積相等的面積。在某些實施例中,容器容積120之鄰近泵浦光LED 110之發光表面111的側面可具有至少與泵浦光LED 110之發光表面111之面積相等的面積。容器容積120之中心軸可與泵浦光LED 110之中心軸對齊。容器孔121之面積可至少與容器容積120之鄰近泵浦光LED 110之發光表面111的側面之面積相等。
參照第2B圖,子像素100可進一步包含在容器表面421上在容器孔121之上設置的第一透鏡140。第一透鏡140可包含在容器表面421上且在容器孔421之上設置的內側面、及形成凸表面141的外側面。第一透鏡140係為了減少在子像素100與外部環境之間的界面處被全內反射的轉換光之量而提供。在某一實施例中,凸表面141可以係半球形。在下文,透鏡140之內側面及外側面可描述為透鏡之相反側面,即使透鏡140之外側面明顯接合透鏡之內側面且因此兩個側面並不總是相反的。透鏡140之外側面可以90°或更小的角度接合透鏡140之內側面。
子像素100之容器容積120可填充有第2C圖中所例示的色彩轉換層130,該色彩轉換層130將泵浦波長的光轉換為第一轉換波長的光。以此方式,色彩轉換層130經組態以將泵浦光轉換為第一轉換光。色彩轉換層之發光表面131可以係色彩轉換層之與色彩轉換層之鄰近泵浦光LED 110之發光表面111的側面相對的側面。色彩轉換層130之發光表面131以及容器表面421可在相同平面中。泵浦光LED 110可發射藍光,如以上所描述。第一色彩轉換材料130可將藍光轉換為紅光。第一色彩轉換材料130可經組態以將具有至少440 nm及/或不大於480 nm泵浦波長的光轉換為具有至少600 nm及/或不大於650 nm第一轉換波長的光。
在一些實施例中,色彩轉換材料130可包含量子點。在一些實施例中,色彩轉換材料130可包含磷光體。在一些實施例中,色彩轉換材料130可包含有機半導體。在一些實施例中,色彩轉換材料130可包含量子點、有機半導體及磷光體之組合。對於具有表面積超過1 mm2
的容器容積的LED及LED陣列,較大粒度的磷光體可以是有利的。對於具有表面積小於1 mm2
的容器容積的LED及LED陣列(例如微型LED),由於粒度較小,使用包含量子點或有機半導體的色彩轉換層可以是有利的。包括量子點的色彩轉換材料係技術人員已知的。用作色彩轉換層的合適量子點之進一步細節可見於至少Guan-Syun Chen等人的「Monolithic Red/Green/Blue Micro-LEDs with HBR and DBR structures」中。
內側壁122可以是反射性的,使得入射於內側壁122上的光之較大比例將被反射回容器容積120中(相對於光吸收側壁而言)。因此,可自LED萃取在自色彩轉換材料130的所有方向上產生的轉換光之較大比例。在容器層420不由金屬製成的情況下,內側壁122可用諸如薄膜金屬(例如Al或Ag)的反射材料塗佈。
子像素100可進一步包含設置於第一透鏡140之凸表面141上的至少一個反射器層。設置於第一透鏡140上的第一反射器142可經組態以反射泵浦波長的光並透射第一轉換波長的光。第二反射器143可經設置於第一透鏡140上,該第二反射器143經組態以反射泵浦波長的光及第一轉換波長的光二者。第二反射器143可包含反射器孔,其中第一反射器142填充反射器孔。第一反射器及第二反射器可各自符合第一子像素之透鏡之凸表面之部分。如此,第一反射器142及第二反射器143具有凸表面,且因此以大於45°的入射角入射於第一反射器142上的轉換光之比例相對於平面的第一反射器較小。因此,被全內反射的入射於第一反射器142上的轉換光之比例可減小。如此,入射於第一反射器142上的轉換光之較大比例可透射穿過第一反射器142,從而增加子像素100之萃取效率。
在下文,具有泵浦波長的光可稱為泵浦光,即使它不直接由泵浦光LED 110發射亦是如此。例如,已由第一反射器142發射且入射於色彩轉換材料130上的泵浦波長的光可稱為泵浦光。相似地,具有第一轉換波長的任何光可稱為第一轉換光,即使它不直接自色彩轉換材料130發射亦是如此。例如,已自第二反射器143反射的第一轉換波長的光可稱為第一轉換光。
第一反射器142可在第一透鏡140之凸表面141上定中心,使得第一反射器142之中心軸可與第一透鏡140之中心軸對齊。第二反射器143之中心反射器孔亦可與第一反射器142之中心軸及第一透鏡140之中心軸對齊。第一透鏡140之整個凸表面141可由第一反射器142及第二反射器143中之至少一者覆蓋。
透鏡可包含光學透明材料。例如,透鏡可包含矽氧、SiO2
或其他介電材料。透鏡可使用壓印微影術用例如UV固化混合聚合物材料(諸如來自「的Micro Resist Technology GmbH」Ormoclear (RTM))來製造。透鏡亦可使用樹脂來印刷。
容器孔121、221、321可具有係容器孔121、221、321之最大尺寸的特性尺寸D0
。例如,對於圓形容器孔121、221、321,D0
係圓形之直徑。對於正方形容器孔121、221、321,D0
係對角的角至角距離。透鏡140、240、340可具有係透鏡140、240、340之平行於容器表面的最大橫剖面之直徑的特性尺寸D1
。D1
可以係透鏡140、240、340之鄰近容器表面421的平坦側面之直徑。D1
可大於D0
。較佳地,D1
可以係D0
之大小的至少兩倍。
像素10可包含以陣列佈置的第一子像素100、第二子像素200及第三子像素300,其中至少一個子像素與第2C圖中所例示的子像素相似。例如,參照第3圖,子像素10可包含與子像素100相似的第一子像素100及第二子像素200。
子像素10可包含光產生層,該光產生層包含半導體接合面陣列。每個半導體接合面經組態以輸出泵浦光,使得可認為光產生層係泵浦光LED 110、210及310之陣列。每個泵浦光LED 110、210及310可包含具有第一摻雜區域及第二摻雜區域(未展示出)的半導體材料。第一摻雜區域與第二摻雜區域之間的界面(未展示出)可包含複數個量子井且可經組態以在施加電流時產生光。每個泵浦光LED 110、210及310可包含III族氮化物。光產生層可製造於基板上,且每個泵浦光LED 110、210及310之與基板相對的側面可包含泵浦光LED 110、210及310之發光表面111、211及311。
泵浦光LED 110、210及310包含在基本層410內。基本層410可包含阻光材料。第3圖中所展示的像素10進一步包含設置於基本層410上的容器層420。在一實施例中,容器層420可由金屬製成。例如,容器層420可由鋁製造而成。容器層420之與容器層420之鄰近基本層410的側面相對的側面界定容器表面421,該容器表面421包含複數個容器孔121、221及321。每個容器孔121、221及321界定穿過容器層421直至每個泵浦光LED 110、210及310之發光表面111、211及311的容器容積120、220及320。容器容積之內側壁122、222及322可圍繞泵浦光LED 110、210及310之發光表面111、211及311中之每一者,使得容器容積120、220及320總體與泵浦光LED 110、210及310對齊。容器容積120、220及320之與容器孔121、221及321相對的側面可包含泵浦光LED 110、210或310之發光表面111、211或311。每個容器孔121、221及321、容器容積120、220及320以及內側壁122、222及322與以上參照第2圖所描述的彼等相似。
參照第3B圖,子像素100、200及300可各自進一步包含在其各別容器孔121、221、321之上設置於容器表面421上透鏡140、240、340,如以上所描述。透鏡140、240、340具有位於透鏡140、240、340之與色彩轉換層相對的側面上的凸表面141、241、341。透鏡係為了減少在子像素與外部環境之間的界面處被全內反射的轉換光之量而提供。在某一實施例中,凸表面141、241、341可以係半球形。
容器容積120、220及320中之至少一者可填充有色彩轉換層。在第3B圖所展示的實施例中,泵浦光LED 110、210、310可以係藍色,使得子像素100可以係紅色,子像素200可以係綠色且子像素300可以係藍色。第一子像素100之第一容器容積120可填充有將泵浦光轉換為第一轉換光的第一色彩轉換層130。第二子像素220之第二容器容積220可填充有將泵浦光轉換為第二轉換光的第二色彩轉換層230。該等容器容積中之至少一者可不包括任何色彩轉換層,使得子像素輸出泵浦光。例如,第三容器容積320可不填充或可填充有透明材料或可對泵浦波長的光透明的半透明材料330。例如,半透明材料330可對藍色可見光透明。色彩轉換層之與色彩轉換層之鄰近泵浦光LED 110、210、310之發光表面的側面相對的側面可在與容器表面421相同的平面中。泵浦光LED 110、210及310可發射藍光,如以上所描述。第一色彩轉換材料130可將藍光轉換為紅光,且第二色彩轉換材料230可將藍光轉換為綠光。第一色彩轉換材料130及第二色彩轉換材料230可經組態以轉換具有至少440 nm及/或不大於480 nm波長的泵浦光。第一色彩轉換材料130可經組態以將泵浦光轉換為具有至少600 nm及/或不大於650 nm波長的第一轉換光。第二色彩轉換材料230可經組態以將泵浦光轉換為具有至少500 nm及/或不大於550 nm波長的第二轉換光。
像素10可進一步包含設置於每個透鏡140、240、340之凸表面141、241、341上的至少一個反射器層。如上,第一子像素100可包含設置於第一透鏡140上經組態以反射泵浦光並透射第一轉換光的第一反射器142、及設置於第一透鏡140上經組態以反射泵浦光及第一轉換光的第二反射器143。第二反射器143可包含反射器孔,其中第一反射器142填充反射器孔。
第二子像素200可包含設置於第二透鏡240上經組態以反射泵浦光並透射第二轉換光的第三反射器242、及設置於第二透鏡240上經組態以反射泵浦光及第二轉換光的第四反射器243。第四反射器243可包含反射器孔,其中第三反射器242填充反射器孔。
第三子像素300可包含設置於第三透鏡340上經組態以反射泵浦光的第五反射器343,其中第五反射器343包含反射器孔。
第一反射器142及第二反射器143可與第一子像素100之第一透鏡140之第一凸表面141之部分一致,且第三反射器242及第四反射器243可與第二子像素200之第二透鏡240之第二凸表面241之部分一致,且第五反射器343可與第三子像素300之第三透鏡340之第三凸表面341之一部分一致。
第4圖展示出子像素100之光線追蹤圖,其中透鏡340之凸表面341係半球形。如第4a圖所例示,自容器孔321之中心發射出的光線以凸表面341的法線入射入射於凸表面341上。光線透射穿過凸表面341而沒有折射。如第4b圖所例示,更接近容器孔321之邊緣發射出的光線以小但有限的入射角入射於凸表面341上,且光線在透射穿過凸表面341時遠離凸表面341的法線被折射。光線與凸表面341之法線所成的入射角可小於30°。以高於臨界值的入射角入射於凸表面341上的光線可被全內反射(未例示出)。
第5圖例示出在第一子像素100、第二子像素200及第三子像素300在第一透鏡140、第二透鏡240及第三透鏡340上不具有任何反射器的情況下來自該等子像素的光發射。參照第一子像素100,由泵浦光LED 110發射的泵浦光之一定比例由第一色彩轉換材料130轉換為第一轉換光,使得第一色彩轉換材料130發射第一轉換波長的第一轉換光131 (由具有格子圖案的箭頭指示)。由於微型LED中使用薄色彩轉換材料,泵浦光之一定比例透射穿過色彩轉換材料130而不轉換為第一轉換光,因此泵浦光132以泵浦光波長自第一色彩轉換材料130發射(由白色箭頭指示)。泵浦光之未轉換的比例可小於泵浦光之轉換為第一轉換光131的比例。相似地,對於第二子像素200,由泵浦光LED 210發射的泵浦光之一定比例由第二色彩轉換材料230轉換為第一轉換光,使得色彩轉換材料230發射第二轉換波長的第二轉換光231 (由具有格子圖案的箭頭指示)。泵浦光之一定比例透射穿過第二色彩轉換材料230而不被轉換為第二轉換光,因此泵浦光232以泵浦光波長自第二色彩轉換材料230發射(由白色箭頭指示)。第三子像素300僅發射泵浦光波長的泵浦光331。
第6圖表示由第5圖之子像素中之每一者發射的光之發射光譜。第6A圖例示出第一子像素100之發射光譜,在第一子像素100包含將泵浦光轉換為紅色轉換光的色彩轉換材料的一實施例中,因此由第一子像素100發射的光預期係紅色。正如預期的,最大強度之中心位於630 nm波長處,但存在中心位於對應於泵浦光波長的450 nm處的一較小尖峰。相似地,第二子像素200 (第6B圖)預期係綠色,但除了中心位於540 nm處的尖峰之外,亦存在中心位於泵浦光波長處的一較小尖峰。僅發射泵浦光的第三子像素300具有單個尖峰(第6C圖)。因此,第一子像素100及第二子像素200之色彩飽和度低於第三子像素300之色彩飽和度。第7圖展示出在透鏡上不具有任何反射器的子像素100之發射分佈,該發射分佈接近朗伯分佈且具有近似120°的全寬半高值(full-width half-maximum,FWHM)。例如像素耦接至光學系統時的光收集效率因此將為低。例如,對於接受角為±10°的透鏡,將收集由具有朗伯分佈的LED發射的光之僅3%。
第8圖例示出來自根據本揭露之一實施例的像素10的光發射,如以上參照第3B圖所描述。參照第一子像素100,第一反射器142透射第一轉換光131並反射泵浦光132。第二反射器143反射第一轉換光131及泵浦光132二者。因此,與不具有反射器的子像素(如第5圖所例示)相比,由第一子像素100發射的光具有更高的色彩飽和度。由於光僅可經由反射器孔發射出,因此光束亦得以校準。所反射的泵浦光可進行再循環,因為它可入射於第一色彩轉換材料130上且具有第二次機會被轉換為然後可由第一色彩轉換材料130發射的第一轉換光。由第二反射器143反射的第一轉換光亦可進行再循環。容器之容器表面421及內側壁122可以是反射性的,使得由第一反射器142及第二反射器143反射的任何光隨後可被反射至少一次以使得它入射於第一透鏡142之凸表面141上。因此,光萃取效率可得到改良。
相似地,第二子像素200包含透射第二轉換光231並反射泵浦光232的第三反射器242。第四反射器243反射第二轉換光231及泵浦光232二者。第三子像素300僅包含具有反射器孔的第五反射器343,其中第五反射器343反射泵浦光且泵浦光經由孔發射出。
第9圖表示每個子像素(第9A圖對應於第一子像素100,第9B圖對應於第二子像素200且第9C圖對應於第三子像素300)之發射光譜。在此實施例中,第一子像素100及第二子像素200包含分別將藍色泵浦光轉換為紅光及綠光的色彩轉換材料。第三子像素300不包含色彩轉換材料且發射藍光。與第6圖所展示的發射光譜形成對比,三個子像素中之每一者僅具有單個尖峰發射。特別地,第一子像素100及第二子像素在它們的發射光譜中在藍色波長處不具有尖峰,這表示已發射出最小泵浦光。第10圖展示出與第8圖所展示的發射分佈相似的子像素100之發射分佈。該發射分佈由於光僅透過反射器孔發射出而比第7圖中的發射分佈窄且具有近似50°的FWHM。
以上所描述的實施例中的第一透鏡140、第二透鏡240及第三透鏡340係半球形。因此,自容器孔121、221、321之中心發射出的光以透鏡140、240、340之凸表面141、241、341的法線入射於凸表面141、241、341上。所反射的任何光具有與入射路徑相同的反射路徑,使得反射光在容器孔121、221、321處在其發射出的相同點處入射。這避免反射光聚焦於特定區域上並遠離其他區域,且因此可允許更高效地再循環反射光以增加子像素100、200、300之光萃取效率。例如,色彩轉換材料130、230可不將所有泵浦光轉換為轉換光且可發射一些泵浦光。此泵浦光132、232可由位於透鏡140、240之凸表面141、241上的反射器142、143、242、243中之一者沿其入射路徑反射,使得再進入色彩轉換材料130、230。泵浦光然後可在其在色彩轉換材料130、230內的第二次旅程中轉換為轉換光,且隨後作為轉換光131、231自色彩轉換材料130、230發射出。轉換光亦可自反射器143、243中之一者反射,使得其再進入色彩轉換材料130、230。轉換光透過瑞立散射(Rayleigh scattering)進行散射。透過容器孔121、221進入容器容積120、220的光之至多50%可在隨後由內側壁122、222或泵浦光LED 110、210之發光表面111、211上的塗層(之後描述)反射之後透過容器孔121、221發射出。在如第三子像素300中那樣不存在色彩轉換材料的情況下,進入容器容積320的光之至多70%可透過容器孔321發射出。
自不是位於容器孔之中心處的一點發射出的光可在與凸表面141、241、341的法線所成的有限角下入射於凸表面141、241、341上,使得在光被反射的情況下,反射路徑與入射路徑不相同。反射光可在其發射出的不同點處入射於容器孔上。一些反射光可入射於容器表面上並被第二次反射。
由反射器142、143、242、243中之一者反射的泵浦光在一些情況下可自容器表面421反射出或者可不在其穿過色彩轉換材料130、230的第二次旅程中轉換為轉換光。泵浦光然後可第二次入射於凸表面141、241上且可再次由位於透鏡140、240之凸表面141、241上的反射器142、143、242、243中之一者反射。已在凸表面141、241、341處被第二次反射的泵浦光可沿其入射路徑反射或以其他方式反射,使得其第三次再進入色彩轉換材料130、230或使得其自容器表面421反射。理論上,只要光保持未轉換,此循環就可持續。每次旅程自色彩轉換材料130、230的發射位置可由於在色彩轉換材料130、230內的反射不同而不同,使得光在每種情況下可不跟隨相同的路徑穿過透鏡。相似地,轉換光可自第二反射器143或第四反射器243中之一者反射且可第二次入射於色彩轉換材料130、230上或可自容器表面421反射。自色彩轉換材料130、230第二次發射出或自容器表面421反射的轉換光可第二次入射於透鏡140、240之凸表面141、241上。在轉換光入射於反射器孔上的情況下,轉換光可透射穿過第一反射器142或第三反射器242且可離開透鏡。在轉換光不入射於反射器孔上的情況下,轉換光可自第二反射器及第四反射器被第二次反射。理論上,該循環可持續直至轉換光入射於反射器孔上且離開子像素為止。
如以上所描述,容器容積120、220之內側壁122、222是反射性的,使得再進入色彩轉換材料的光可被反射至少一次且隨後可經由容器孔發射出。自容器孔121、221、321之中心發射出的光可在與透鏡140、240、340之凸表面141、241、341的法線所成的有限角下入射於凸表面141、241、341上。因此,光之反射路徑可與入射路徑不相同。為達成再循環光之效率,因此有益的是使容器孔之特性尺寸D0
小於透鏡之特性尺寸D1
,使得自容器孔121、221、321之邊緣發射的光可接近透鏡140、240、340之凸表面141、241、341的法線入射於凸表面141、241、341上。較佳地,D1
可以係D0
之大小的至少兩倍。
在其中透鏡140、240及340不係半圓形的一實施例中,所反射的光之行為可不同。在以上所描述的其中透鏡140、240及340係半圓形的實例中,在凸表面141、241、341處反射的光在接近入射路徑的路徑上被反射,使得反射光入射於容器孔121、221、321上。在第11圖所展示的一替代實施例中,透鏡140、240、340可以係橢圓形或抛物線形。考慮第一子像素100,自容器孔121之中心以與容器孔的法線所成的小角度發射的光可以接近凸表面141的法線入射於第一反射器142上。若被反射,則反射路徑接近入射路徑且光入射於容器孔121上。自容器孔121之中心發射以與容器孔121的法線所成的較大角度的光可入射於第二反射器143之一部分上,在這種情況下凸表面141之曲率半徑小於第一反射器141處的曲率半徑。光入射於凸表面141上的角度可產生與入射路徑不相似的反射路徑,使得反射光入射於凸表面上且可被第二次反射。隨後反射的光然後可入射於容器孔上。
在另一實施例中,第三子像素300之第三透鏡340之形狀可與第一子像素100之第一透鏡140及第二子像素200之第二透鏡240不同。在其中第三容器容積320為空(而非含有半透明材料330)的一實施例中,自容器孔321發射的光線之分佈可不同於自其中容器容積120及220填充有色彩轉換材料130及230的子像素100及200之容器孔發射的光線之分佈。可適當地例如使第一子像素100及第二子像素200具有半球形透鏡140及240,而第三子像素300具有橢圓形或抛物線形透鏡340。
為簡單起見,將僅參照子像素100更詳細地描述此實施例之子像素之結構。將理解,第二子像素200在各方面均與第一子像素100相似,不同之處在於第二色彩轉換材料230可將泵浦光轉換為與第一色彩轉換材料不同的轉換波長。
第二反射器143可由金屬製成,使得其反射所有可見光。例如,第二反射器143可由銀或鋁製成。第一反射器142可類似於帶阻濾波器起作用,使得第一反射器在自較低帶阻波長至較高帶阻波長(λ1
)的波長範圍內具有帶阻,在該帶阻中實質上所有的光都被第一反射器142反射。第一反射器142之反射率在第12圖中展示出。帶阻之中心位於中心波長(λ0
)上,使得較高帶阻波長(λ1
)及較低帶阻波長與中心波長等距。對於短於較低帶阻波長的波長,第一反射器142具有較低帶通,在該較低帶通中光總體透射穿過第一反射器142。相似地,對於長於較高帶阻波長(λ1
)的波長,第一反射器142具有較高帶通,在該較高帶通中光總體透射穿過第一反射器142。第12圖例示出具有420 nm中心波長(λ0
)使得較低帶阻波長小於所繪製的波長範圍的第一反射器142之反射率。點線及短劃線表示對於不同入射角的第一反射器142之反射率(點線對應於30°入射角,短劃線對應於20°且點劃線對應於0°)。作為參照,藍色LED之發射之中心將位於455 nm處。
第一反射器142可包含積層結構,如GB 1911008.9所揭示及下文所描述。該結構在第13圖中例示出。第一反射器142包含第一界面層510、複數個交替的第一積層520及第二積層530以及第二界面層540。複數個交替的第一積層520及第二積層530形成第一反射器142之中心部分。第一積層(H) 520具有第一折射率(nH
),且第二積層(L) 530具有第二折射率(nL
),其中第一折射率高於第二折射率。第一折射率高於第二折射率。在一些實施例中,第一折射率為至少2,且第二折射率為不大於1.8。例如,第一積層(H) 520可包含折射率為約2.6的TiO2
,且第二積層(L) 530可包含折射率為約1.5的SiO2
。
第一積層(H)具有第一厚度(tH
),且第二積層(L)具有第二厚度(tL
)。每個積層之厚度係在法向於各別積層之主表面的方向上測量的厚度。為了將第一反射器142之反射特性定製成反射泵浦光,第一積層及第二積層(L)中的每一者具有為帶阻中心波長之四分之一的厚度折射率乘積。亦即,對於第一積層(H),第一厚度(tH
)與第一折射率(nH
)之乘積等於λ0
/4。相似地,對於第二積層(L),第二厚度(tL
)與第二折射率(nL
)之乘積等於λ0
/4。一般而言,第一積層(H) 520可具有介於5 nm與50 nm之間的第一厚度(tH
)。第二積層(L) 530可具有介於10 nm與100 nm之間的第二厚度(tL
)。
複數個第一積層(H) 520及第二積層(L) 530可以交替方式疊堆於彼此之頂部上,以便形成第一反射器142之中心部分。第一反射器142之中心部分可由至少三個層形成,第二積層(L) 530形成中心配置(LHL配置)之外層。在一些實施例中,可設置至少5個交替層,第二積層(L) 530形成中心配置(LHLHL)之外層。在一些實施例中,可提供17個交替層,第二積層(L) 530形成中心配置(LHL...LHL)之外層。
在第一反射器142之中心部分之相反側上提供第一界面層510及第二界面層540。第一界面層510及第二界面層540中之每一者可包含與第一積層(H) 520相同的材料,且因此第一界面層510及第二界面層540可具有與第一積層(H) 520相同的折射率(nL
)。第一界面層及第二界面層可具有各別的第三折射率及第四折射率(n3
、n4
)以及各別的第三厚度及第四厚度(t3
、t4
)。第一界面層及第二界面層可具有等於泵浦光波長之八分之一的厚度折射率乘積(例如,n3
t3
=λ0
/ 8)。
當第一反射器142之該等層(第一積層520及第二積層530以及第一界面層510及第二界面層540)具有與光波長無關的折射率時,出於本揭露之目的將該層之折射率認為係該層在第一反射器142之中心波長(λ0
)下的折射率。第一反射器142之該等層具有經組態以反射具有455 nm波長的泵浦光的厚度。第一反射器142之中心波長λ0
為420 nm。
第12圖中所展示的第一反射器142之反射率係根據其中第一反射器142之中心部分包含13個交替的SiO2
及TiO2
積層(520及530)及兩個TiO2
界面層(510及540)的實施例。在一特定實施例中,厚度可如下:
層 | 材料 | 厚度(nm) |
1 | TiO2 | 20 |
2 | SiO2 | 71 |
3 | TiO2 | 40 |
4 | SiO2 | 71 |
5 | TiO2 | 40 |
6 | SiO2 | 71 |
7 | TiO2 | 40 |
8 | SiO2 | 71 |
9 | TiO2 | 40 |
10 | SiO2 | 71 |
11 | TiO2 | 40 |
12 | SiO2 | 71 |
13 | TiO2 | 40 |
14 | SiO2 | 71 |
15 | TiO2 | 20 |
第一反射器142亦可包含分佈式布拉格反射器(Distributed Bragg Reflector,DBR)。DBR之反射率之一實例在第14圖中展示出。對於具有如上所描述的積層結構的較高帶通的第一反射器142,反射率可低於DBR。特別地,對於介於0°與30°之間的入射角,具有積層結構的第一反射器142之反射率在綠色至紅色可見光譜中低於5%。因此,無論入射角如何,具有積層結構的第一反射器142 (第12圖及第13圖)將不反射與第14圖之DBR一樣多的轉換光。因此,與DBR (第14圖)相比,結合具有積層結構的第一反射器142 (第12圖及第13圖)的綠色或紅色LED將更高效地萃取轉換光。
在一些實施例中,LED陣列10亦可結合轉換光反射器積層。轉換光反射器積層可設置於子像素100、200之泵浦光LED 110、210與色彩轉換層之間。轉換光反射器積層可經設置以藉由將轉換光朝向透鏡140、240之凸表面141、241反射來增加自容器容積120、220萃取的轉換光之比例。轉換光反射器積層亦可經組態以藉由將轉換光反射回至泵浦光LED 110、210 (遠離容器容積120、220)來透射泵浦光LED 10、210中產生的泵浦光,以便不會降低LED之總體效率。如此,轉換光反射器積層亦可為經組態以透射泵浦光並反射轉換光的帶阻濾波器形式。如此,轉換光反射器積層具有經組態以反射中心位於第二波長上的轉換光的帶阻。在一些實施例中,第二波長可等於轉換光波長,但在其他實施例中,轉換光反射器積層可經組態成使得例如轉換光波長落在第二波長與較低帶阻波長之間。轉換光反射器積層可包含第三界面層、複數個交替的第三反射器層及第四反射器層以及第四界面層。第三界面層可具有第五折射率(n5
)及第五厚度(t5
)。
複數個交替的第三反射器層及第四反射器層形成轉換光反射器積層之中心部分。第三反射器層(H)具有第六折射率n6
,且第四反射器層(L)具有第七折射率n7
。第三反射器層(H)具有第六厚度t6
,且第四反射器層(L)具有第七厚度t7
。第五折射率及第七折射率低於第六折射率。在一些實施例中,第六折射率為至少2,而第五折射率及第七折射率為不大於1.8。例如,第三反射器層(H)可包含TiO2 (在420 nm處的折射率為約2.60),而第四反射器層(L)可包含SiO2 (在420 nm處的折射率為約1.48)。
為了將轉換光反射器積層之反射特性定製成反射轉換光,第三反射器層及第四反射器層中之每一者在法向於發光表面111的方向上具有厚度折射率乘積,使得轉換光反射器積層之帶阻經組態以反射轉換光。例如,在一些實施例中,厚度折射率乘積可經選擇成等於各別色彩轉換材料之轉換光波長之四分之一。例如,在其中色彩轉換材料係組態以將泵浦光轉換為具有610 nm波長的轉換光一實施例中,第三反射器層(H)中之每一個可具有約58 nm的厚度且第四反射器層(L)中之每一個可具有101 nm的厚度。
在轉換光反射器積層之該等層(即,第三反射器層及第四反射器層以及第三界面層及第四界面層)具有與光波長無關的折射率時,出於本揭露之目的將該層之折射率認為係該層在轉換光反射器積層之第二波長(中心波長)下的折射率。複數個第四反射器層(L)及複數個第三反射器層(H)以交替方式疊堆於彼此之頂部上,以便形成轉換光反射器積層之中心部分。轉換光反射器積層之中心部分可由至少3個層形成,第三反射器層(H)形成中心部分(HLH配置)之外層。在一些實施例中,可提供至少5個交替層(HLHLH)。在一實例中,中心部分包含19個交替層(HLH….HLH)。
在轉換光反射器積層之中心部分之相反側上提供第三界面層及第四界面層。第三界面層及第四界面層中之每一者可包含與第三反射器積層相同的材料(即,第三界面層及第四界面層可具有與第三折射率相同的折射率)。第三界面層及第四界面層可具有等於中心波長之八分之一的厚度折射率乘積。
在一些實施例中,轉換光反射器積層可經設置用於僅結合色彩轉換材料130、230的子像素。替代地,轉換光反射器積層可經設置以覆蓋泵浦光LED 110、210、310中之每一者之發光表面111、211、311中之全部。藉由跨所有泵浦光LED 110、210、310提供轉換光反射器積層,有可能在減少圖案化步驟的情況下形成轉換光反射器積層,從而使LED陣列之製造更高效。
在一些實施例中,抗反射層可設置於第一反射器142、242之上。抗反射層經組態以減少在第一反射器142、242之第二界面層與像素10之外部環境(通常為空氣)之間的界面處的轉換光之反射。在一些實施例中,抗反射層包含所具有的折射率小於第一反射器142、242之第二界面層之折射率的材料。例如,抗反射層可包含具有小於1.6的折射率的材料。例如,抗反射層可包含SiO2
。在一些實施例中,抗反射層具有轉換光波長之四分之一的厚度。如此,抗反射層之厚度可經組態以減少由第一反射器142、242透射的轉換光之反射。因此,抗反射層可經提供以便進一步增加LED至轉換光萃取效率。
在以上所描述的實施例中,內側壁122法向於容器表面421。例如,對於圓形容器孔121,容器容積120將係圓柱形。在替代實施例中,內側壁122可以是傾斜的,使得容器孔121之面積大於容器容積120之自泵浦光LED 110之發光表面111發射的光進入容器容積120所在的側面之面積。內側壁122與發光表面111之間的角度可以係銳角。一實例在第15圖中例示出,為簡單起見,未展示出透鏡140。如之前那樣,容器孔121可以係任何規則或不規則多邊形,且內側壁122之數目可等於內側壁122之數目。例如,容器容積之形狀可類似於截頭倒圓錐或截頭倒四角錐。
所具有的容器容積120、220、320具有傾斜內側壁122、222、322的子像素可具有增加的光學效率,因為入射於內側壁122、222、322上且經反射的光之較大部分可被朝向容器孔121、221、321引導。傾斜內側壁122、222、322亦將產生子像素陣列之較大節距及因此較低顯示解析度,因為容器孔121、221、321必定大於泵浦光LED 110、210、310之發光表面111、211、311。因此,內側壁122、222、322相對於容器表面421的法線的角度是增加的光學效率與降低的顯示解析度之間的折衷。在一些實施例中,每個容器容積120、220、320之內側壁122、222、322可相對於容器表面421的法線以至少35°的角度傾斜。藉由提供至少35°的角度,每個容器孔121、221、321可具有使得LED陣列之像素節距不會變得過大的面積。在一些實施例中,每個容器容積120、220、320之側壁122、222、322可相對於容器表面421的法線以不大於85°的角度傾斜。在一些實施例中,以不大於85°或不大於60°的角度設置內側壁122、222、322可增加LED之光學效率,因為轉換光之較大比例可被朝向容器孔121、221、321引導。如以上所描述,內側壁122、222、322可以是反射性的,使得入射於內側壁122、222、322上的光之較大比例將被反射回容器容積120、220、320中(相對於光吸收側壁而言)。因此,可自LED萃取在自色彩轉換材料的所有方向上產生的轉換光之較大比例。在容器層420不由金屬製成的情況下,內側壁122、222、322可用諸如薄膜金屬(例如Al或Ag)的反射材料塗佈。
第16圖例示出本揭露之包含呈陣列的九個子像素的一實施例之平面圖,其中容器孔121、221、321係正方形且透鏡140、240、340之橫剖面係圓形。該陣列可包含多於或少於九個子像素。在一實施例中,顯示器可包含像素10,每個像素包含係紅色的第一子像素100、係綠色的第二子像素200及係藍色的第三子像素300。在其他實施例中,子像素之顏色可不同。在一實施例中,像素10可以是單色的且可包含具有藍色泵浦光LED及相同色彩轉換材料的複數個子像素。
參照第17圖,根據本揭露之一實施例的製造像素10之方法可如下。可在藍色LED的LED晶圓上沉積容器層420 (例如鋁) (第17A圖)。沉積可以係蒸發法或物理氣相沉積。然後可藉由乾蝕刻使用硬遮罩圖案來對容器層420進行蝕刻以達成容器容積(第17B圖)。可用色彩轉換材料(用於紅色及綠色子像素)或半透明材料(用於藍色像素)填充容器容積。這可使用奈米印刷法或藉由微影術來大城,其中色彩轉換材料或半透明材料與光可界定基質材料混合。平坦化步驟去除過量材料。經填充的容器容積在第17C圖中例示出。然後可使用奈米壓印微影術(nano imprint lithography,NIL)來製造圓頂透鏡(第17D圖)。
可以若干種方式添加反射器層。結果在第18圖中展示出,第18圖例示出第一子像素100之透鏡140及反射器142、143。在第一種方法中,使用蒸發法將所有圓頂透鏡部分金屬化(以使第二反射器、第四反射器及第五反射器包含反射器孔)。然後使用原子層沉積向藍色子像素除外的所有子像素施加積層反射器(透射轉換光並反射泵浦光的第一反射器及第三反射器)。如第18A圖所例示,這導致第二反射器定位於透鏡與第一反射器之間。在第二種方法中,首先沉積積層反射器,然後將透鏡部分金屬化。如第18B圖所例示,這導致第一反射器142位於透鏡140與第二反射器143之間。當藉由使用遮罩或藉由在沉積後蝕刻所沉積的層來沉積積層反射器時,可省略第三子像素(藍色)。第一子像素及第二子像素(紅色及綠色)之圓頂透鏡可被完全塗佈。在另一實施例中,可僅在金屬化反射器之反射器孔中設置積層反射器,如第18C圖所例示,使得第一子像素及第二子像素之圓頂透鏡部分地由積層反射器塗佈。在另一實施例中,圓頂透鏡可在積層反射器中部分地塗佈,使得在積層反射器與金屬化反射器之間存在重疊,該重疊可以是有限的但小於第18A圖或第18B圖中所例示的重疊。
10:像素
100:第一子像素
200:第二子像素
300:第三子像素
110:泵浦光LED
111:發光表面
120:容器容積
121:容器孔
122:內側壁
130:色彩轉換層
131:發光表面
140:第一透鏡
141:凸表面
142:第一反射器
143:第二反射器
210:泵浦光LED
211:發光表面
220:容器容積
221:容器孔
222:內側壁
230:第二色彩轉換層
231:第二轉換光
240:第二透鏡
241:第二凸表面
242:第三反射器
243:第四反射器
310:泵浦光LED
311:發光表面
320:容器容積
321:容器孔
322:內側壁
330:半透明材料
331:泵浦光
340:第三透鏡
341:第三凸表面
343:第五反射器
410:基本層
420:容器層
421:容器表面
510:第一界面層
520:第一積層
530:第二積層
540:第二界面層
現將參照隨附圖式僅藉由實例來描述本揭露之一特定實施例。
第1圖展示出共用子像素配置。
第2圖展示出根據本揭露的子像素之示意性橫剖面。
第2A圖展示出子像素之容器容積及泵浦光LED,第2B圖展示出透鏡在子像素之容器孔之上的放置,且第2C圖展示出包含色彩轉換材料及設置在透鏡上的反射器的完整子像素。
第3圖展示出根據本揭露的像素之示意性橫剖面。第3A圖展示出像素之容器容積及泵浦光LED,且第3B圖展示出完整像素。
第4圖例示出光線離開透鏡時的折射。第4A圖展示出自容器孔之中心發射出的光線,且第4B圖展示出更接近容器孔之邊緣發射出的光線。
第5圖例示出在每個子像素上包含透鏡但沒有反射器的像素之泵浦光及轉換光之路徑。
第6圖例示出第5圖之子像素之發射光譜,其中泵浦光LED係藍色。第6A圖對應於包含將藍光轉換為紅光的色彩轉換材料的子像素,第6B圖對應於包含將藍光轉換為綠光的色彩轉換材料的子像素,且第6C圖對應於不具有色彩轉換材料的子像素。
第7圖展示出第5圖之子像素之發射分佈。
第8圖例示出根據本揭露的像素之泵浦光及轉換光之路徑,該像素在每個子像素上包含半球形透鏡及反射器。
第9圖例示出第8圖之子像素之發射光譜,其中泵浦光LED係藍色。第9A圖對應於包含將藍光轉換為紅光的色彩轉換材料的子像素,第9B圖對應於包含將藍光轉換為綠光的色彩轉換材料的子像素,且第9C圖對應於不具有色彩轉換材料的子像素。
第10圖展示出第8圖之子像素之發射分佈。
第11圖例示出根據本揭露的像素之泵浦光及轉換光之路徑,該像素在每個子像素上包含拋物線形或橢圓形透鏡及反射器。
第12圖展示出根據本揭露的積層反射器之反射率。
第13圖展示出根據本揭露的積層反射器之結構之示意圖。
第14圖展示出分佈式布拉格反射器之反射率。
第15圖展示出根據本揭露的子像素之示意性橫剖面,其中容器容積包含傾斜內側壁。
第16圖展示出根據本揭露的複數個子像素之示意性平面圖。
第17圖例示出製造根據本揭露的像素之步驟中之一些。第17A圖展示出所沉積的容器層,第17B圖展示出圖案化容器層,第17C圖展示出填充有色彩轉換材料或透明材料的容器容積,且第17D圖展示出位於容器孔之上的透鏡。
第18圖例示出反射器結構之實例。第18A圖展示出首先在透鏡上沉積包含反射器孔的第二反射器,然後沉積第一反射器並塗佈整個凸表面。第18B圖展示出首先在透鏡上沉積第一反射器,塗佈整個凸表面且然後沉積包含反射器孔的第二反射器。第18C圖例示出其中僅在第二反射器之反射器孔中設置第一反射器且反射器之間具有小的重疊的一實例。
國內寄存資訊(請依寄存機構、日期、號碼順序註記)
無
國外寄存資訊(請依寄存國家、機構、日期、號碼順序註記)
無
100:第一子像素
110:泵浦光LED
111:發光表面
130:色彩轉換層
131:發光表面
140:第一透鏡
141:凸表面
142:第一反射器
143:第二反射器
410:基本層
420:容器層
421:容器表面
Claims (25)
- 一種像素,包含:一第一子像素,其中該第一子像素包含: 一LED層,該LED層包含一發光材料,該發光材料經組態以自一發光表面發射泵浦光,該泵浦光具有一泵浦波長; 一容器層,該容器層具有一容器表面,該容器表面包含一第一容器孔,該第一容器孔界定穿過該容器層延伸的一第一容器容積; 一第一色彩轉換層,該第一色彩轉換層經設置於該第一容器容積中且經組態以接收來自該LED層之該發光表面的光,其中該第一色彩轉換層包含一第一色彩轉換材料,該第一色彩轉換材料經組態以吸收該泵浦波長的光並發射一第一轉換波長的第一轉換光; 一第一透鏡,該第一透鏡在該第一容器孔之上設置於該容器層上,包含鄰近該色彩轉換層的一內側面及一外側面,其中該外側面包含一第一凸表面; 一第一反射器總成,該第一反射器總成鄰近該第一透鏡之該外側面且與該第一凸表面一致,該第一反射器總成包含: 一第一反射器,該第一反射器經組態以反射該泵浦波長的光並透射該第一轉換波長的光;及 一第二反射器,該第二反射器經組態以反射該泵浦波長的光及該第一轉換波長的光二者; 其中該第二反射器包含一第一子像素反射器孔且其中該第一反射器填充該第一子像素反射器孔。
- 如請求項1所述之像素,進一步包含:一第二子像素,其中該第二子像素包含: 一LED層,該LED層包含一發光材料,該發光材料經組態以自一發光表面發射泵浦光,該泵浦光具有該泵浦波長; 一容器層,該容器層具有一容器表面,該容器表面包含一第二容器孔,該第二容器孔界定穿過該容器層延伸的一第二容器容積; 一第二色彩轉換層,該第二色彩轉換層經設置於該第二容器容積中且經組態以接收來自該LED層之該發光表面的光,其中該第二色彩轉換層包含一第二色彩轉換材料,該第二色彩轉換材料經組態以吸收該泵浦波長的光並發射一第二轉換波長的第二轉換光; 一第二透鏡,該第二透鏡在該第二容器孔之上設置於該容器層上,包含鄰近該色彩轉換層的一內側面及一外側面,其中該外側面包含一第二凸表面; 一第二反射器總成,該第二反射器總成鄰近該第二透鏡之該外側面且與該第二凸表面一致,該第二反射器總成包含: 一第三反射器,該第三反射器經組態以反射該泵浦波長的光並透射該第二轉換波長的光;及 一第四反射器,該第四反射器經組態以反射該泵浦波長的光及該第二轉換波長的光二者; 其中該第四反射器包含一第二子像素反射器孔且其中該第三反射器填充該第二子像素反射器孔。
- 如請求項2所述之像素,進一步包含:一第三子像素,該第三子像素發射該泵浦波長的光,其中該第三子像素包含: 一LED層,該LED層包含一發光材料,該發光材料經組態以自一發光表面發射泵浦光,該泵浦光具有該泵浦波長; 一容器層,該容器層具有一容器表面,該容器表面包含一第三容器孔,該第三容器孔界定穿過該容器層的一第三容器容積; 一透鏡,該透鏡在該第三容器孔之上設置於該容器層上,包含鄰近該容器層的一內側面及一外側面,其中該外側面包含一第三凸表面; 一第三反射器總成,該第三反射器總成鄰近該第三透鏡之該外側面且與該第三凸表面一致,該第三反射器總成包含: 一第五反射器,該第五反射器經組態以反射泵浦光,其中該第五反射器包含一第三子像素反射器孔。
- 如請求項1所述之像素,其中該第一反射器之一中心軸及該第二反射器之一中心軸與該凸表面之一中心軸係對齊的。
- 如請求項1至4中任一項所述之像素,其中該第一反射器及該第三反射器中之一或二者包含一積層結構。
- 如請求項5所述之像素,其中該第一反射器及該第三反射器中之一或二者包含交替的較高折射率層及較低折射率層。
- 如請求項6所述之像素,其中該第一反射器及該第三反射器中之一或多者包含複數個TiO2 層及SiO2 層。
- 如請求項1至4中任一項所述之像素,其中該第一反射器及該第三反射器中之一或二者包含一分佈式布拉格反射器。
- 如請求項1至4中任一項所述之像素,其中該第二反射器、該第四反射器及該第五反射器中之至少一者包含一金屬材料。
- 如請求項1至4中任一項所述之像素,其中該第一容器容積、該第二容器容積及該第三容器容積中之至少一者包含反射內側壁。
- 如請求項1至4中任一項所述之像素,其中該第一容器孔、該第二容器孔及該第三容器孔中之至少一者之面積至少等於該LED層之該發射表面之面積。
- 如請求項1至4中任一項所述之像素,其中該第一容器容積、該第二容器容積及該第三容器容積中之至少一者之一內側壁相對於該LED層之發光表面的法線形成至少35°且不大於85°或較佳地不大於60°的角度。
- 如請求項12所述之像素,其中該第一容器孔、該第二容器孔及該第三容器孔中之至少一者係圓形,使得對應的容器容積類似於一截頭倒圓錐,或其中該第一容器孔、該第二容器孔及該第三容器孔中之至少一者係矩形,使得對應的容器容積類似於一截頭倒四角錐。
- 如請求項1至4中任一項所述之像素,其中該第一透鏡、該第二透鏡及該第三透鏡係半球形。
- 如請求項1至4中任一項所述之像素,其中該第一凸表面、該第二凸表面及該第三凸表面中之至少一者係橢圓形或抛物線形。
- 如請求項1至4中任一項所述之像素,其中該透鏡之一特性尺寸係該容器層之平面中的該孔之一特性尺寸的至少兩倍大。
- 如請求項1至4中任一項所述之像素,進一步包含:一轉換光反射器積層,該轉換光反射器積層位於該LED層與該色彩轉換層之間的一界面處。
- 如請求項1至4中任一項所述之像素,其中透射穿過該第一反射器及該第三反射器中之一或二者的該轉換波長的光之全寬半高值小於60°或較佳地小於50°。
- 如請求項1至4中任一項所述之像素,其中該第一反射器及該第三反射器中之一或二者對該泵浦波長的光之反射率大於95%或較佳地100%。
- 如請求項1至4中任一項所述之像素,其中該第一反射器及該第三反射器中之一或二者對該轉換波長的光之反射率小於10%或較佳地小於5%。
- 如請求項1至4中任一項所述之像素,其中該轉換波長長於該泵浦波長。
- 如請求項1至4中任一項所述之像素,其中該第一色彩轉換材料及該第二色彩轉換材料中之一或二者包含一量子點材料。
- 如請求項1至4中任一項所述之像素,其中該泵浦波長係藍色且該第一轉換波長係包含紅色及綠色的一色彩群中之一第一色彩群。
- 如請求項23所述之像素,當從屬於請求項2或從屬於請求項2的任何請求項時,其中該第二轉換波長係該色彩群中之一第二色彩群。
- 如請求項3所述之像素,其中該第三子像素之該容器容積填充有一半透明材料。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB2008437.2A GB2595715B (en) | 2020-06-04 | 2020-06-04 | Enhanced colour conversion and collimation of micro-LED devices |
GB2008437.2 | 2020-06-04 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202147644A true TW202147644A (zh) | 2021-12-16 |
TWI779644B TWI779644B (zh) | 2022-10-01 |
Family
ID=71616085
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW110120373A TWI779644B (zh) | 2020-06-04 | 2021-06-04 | 微型發光二極體裝置的增強色彩轉換及校準 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20230246004A1 (zh) |
EP (1) | EP4162525A1 (zh) |
JP (1) | JP2023528491A (zh) |
KR (1) | KR20230018465A (zh) |
CN (1) | CN115956292A (zh) |
GB (1) | GB2595715B (zh) |
TW (1) | TWI779644B (zh) |
WO (1) | WO2021244967A1 (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114665047A (zh) * | 2022-05-20 | 2022-06-24 | 镭昱光电科技(苏州)有限公司 | 显示器件及其制备方法 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5779924A (en) | 1996-03-22 | 1998-07-14 | Hewlett-Packard Company | Ordered interface texturing for a light emitting device |
AU747281B2 (en) * | 1998-06-08 | 2002-05-09 | Karlheinz Strobl | Efficient light engine systems, components and methods of manufacture |
GB0302580D0 (en) | 2003-02-05 | 2003-03-12 | Univ Strathclyde | MICRO LEDs |
US6831302B2 (en) | 2003-04-15 | 2004-12-14 | Luminus Devices, Inc. | Light emitting devices with improved extraction efficiency |
US7777235B2 (en) * | 2003-05-05 | 2010-08-17 | Lighting Science Group Corporation | Light emitting diodes with improved light collimation |
US20070146655A1 (en) | 2005-12-28 | 2007-06-28 | Zili Li | Compact projection display with emissive imager |
US20090050905A1 (en) | 2007-08-20 | 2009-02-26 | Abu-Ageel Nayef M | Highly Efficient Light-Emitting Diode |
US20090115970A1 (en) | 2007-11-02 | 2009-05-07 | Jabil Circuit, Inc. | High efficiency compact oled microdisplay projection engine |
JP5446670B2 (ja) * | 2009-09-28 | 2014-03-19 | 岩崎電気株式会社 | Ledユニット |
CN103283048B (zh) * | 2010-12-29 | 2017-04-12 | 3M创新有限公司 | 远程荧光粉led的构造 |
GB201215632D0 (en) | 2012-09-03 | 2012-10-17 | Infiniled Ltd | Optical device |
GB201420452D0 (en) * | 2014-11-18 | 2014-12-31 | Mled Ltd | Integrated colour led micro-display |
GB201420860D0 (en) | 2014-11-24 | 2015-01-07 | Infiniled Ltd | Micro-LED device |
WO2016146658A1 (en) * | 2015-03-16 | 2016-09-22 | Plessey Semiconductors Limited | Light emitting diode chip and a method for the manufacture of a light emitting diode chip |
US10297581B2 (en) * | 2015-07-07 | 2019-05-21 | Apple Inc. | Quantum dot integration schemes |
US10222681B2 (en) * | 2016-11-07 | 2019-03-05 | Limileds LLC | Segmented light or optical power emitting device with fully converting wavelength converting material and methods of operation |
EP3698407A4 (en) * | 2017-10-19 | 2021-07-14 | Tectus Corporation | ULTRA-DENSE LED PROJECTOR |
US10748879B2 (en) * | 2018-02-28 | 2020-08-18 | Sharp Kabushiki Kaisha | Image display device and display |
CN109256456B (zh) * | 2018-09-19 | 2020-04-10 | 福州大学 | 一种实现Micro-LED显示出光效率提升和窜扰降低的微结构及其制造方法 |
KR20200051197A (ko) * | 2018-11-05 | 2020-05-13 | 삼성전자주식회사 | 발광 소자 |
GB2586066B (en) * | 2019-08-01 | 2021-09-08 | Plessey Semiconductors Ltd | Light emitting diode with improved colour purity |
-
2020
- 2020-06-04 GB GB2008437.2A patent/GB2595715B/en active Active
-
2021
- 2021-05-28 EP EP21730815.4A patent/EP4162525A1/en active Pending
- 2021-05-28 KR KR1020227046071A patent/KR20230018465A/ko unknown
- 2021-05-28 CN CN202180039530.5A patent/CN115956292A/zh active Pending
- 2021-05-28 JP JP2022574628A patent/JP2023528491A/ja active Pending
- 2021-05-28 WO PCT/EP2021/064359 patent/WO2021244967A1/en unknown
- 2021-05-28 US US18/008,066 patent/US20230246004A1/en active Pending
- 2021-06-04 TW TW110120373A patent/TWI779644B/zh active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114665047A (zh) * | 2022-05-20 | 2022-06-24 | 镭昱光电科技(苏州)有限公司 | 显示器件及其制备方法 |
CN114665047B (zh) * | 2022-05-20 | 2022-09-23 | 镭昱光电科技(苏州)有限公司 | 显示器件及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI779644B (zh) | 2022-10-01 |
JP2023528491A (ja) | 2023-07-04 |
KR20230018465A (ko) | 2023-02-07 |
US20230246004A1 (en) | 2023-08-03 |
GB202008437D0 (en) | 2020-07-22 |
CN115956292A (zh) | 2023-04-11 |
EP4162525A1 (en) | 2023-04-12 |
WO2021244967A1 (en) | 2021-12-09 |
GB2595715A (en) | 2021-12-08 |
GB2595715B (en) | 2022-08-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN112185268B (zh) | 图像显示元件 | |
US20170141162A1 (en) | Display panel and apparatus including the same | |
US11456288B2 (en) | Image display element | |
TWI754988B (zh) | 具有改良色純度之發光二極體 | |
CN113380842A (zh) | 图像显示元件 | |
US20080024053A1 (en) | Three-dimensional structure, light emitting element including the structure, and method for manufacturing the structure | |
WO2022188107A1 (zh) | 显示基板以及显示装置 | |
TWI779644B (zh) | 微型發光二極體裝置的增強色彩轉換及校準 | |
JP2013016464A (ja) | 表示装置 | |
TWI830395B (zh) | 顯示裝置 | |
TWI825873B (zh) | 光源裝置以及光源裝置的製作方法 | |
CN114078399B (zh) | 一种显示面板、增强型偏光片模组及显示装置 | |
CN114093998B (zh) | 一种发光二极管、显示面板、显示装置及制备方法 | |
US8729581B2 (en) | Light guide for LED source | |
TWI836956B (zh) | 顯示裝置 | |
US20230086879A1 (en) | Semiconductor Light Source, Cover Body and Method | |
CN220914234U (zh) | 一种微显示芯片 | |
TWI811754B (zh) | 顯示裝置 | |
KR101986982B1 (ko) | 광대역 미러 | |
TW202324796A (zh) | 包括顏色轉換材料及光提取結構之發光裝置及其製造方法 | |
CN117174733A (zh) | 显示装置 | |
WO2021254642A1 (en) | Pixel structure for electronic display, and electronic device comprising such display |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GD4A | Issue of patent certificate for granted invention patent |