JP6699016B2 - 高速ダイセット式通電熱加工装置及びその方法 - Google Patents

高速ダイセット式通電熱加工装置及びその方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6699016B2
JP6699016B2 JP2016179645A JP2016179645A JP6699016B2 JP 6699016 B2 JP6699016 B2 JP 6699016B2 JP 2016179645 A JP2016179645 A JP 2016179645A JP 2016179645 A JP2016179645 A JP 2016179645A JP 6699016 B2 JP6699016 B2 JP 6699016B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
die
punch
sintered
wall
mold
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016179645A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2018044207A (ja
Inventor
光太郎 菊池
光太郎 菊池
繭花 野崎
繭花 野崎
善則 森田
善則 森田
尾崎 公洋
公洋 尾崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
S.S.ALLOY CO.,LTD.
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
S.S.ALLOY CO.,LTD.
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by S.S.ALLOY CO.,LTD., National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST filed Critical S.S.ALLOY CO.,LTD.
Priority to JP2016179645A priority Critical patent/JP6699016B2/ja
Publication of JP2018044207A publication Critical patent/JP2018044207A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6699016B2 publication Critical patent/JP6699016B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Powder Metallurgy (AREA)

Description

本発明は、真空環境又は不活性ガス環境下において導電性及び非導電性を含む複合材料を有する粉末の通電加圧焼結加工による焼結体の生産を短サイクル時間で連続的に行う通電熱加工装置に関する。
焼結加工には常圧焼結と通電焼結があるが、一般的に、常圧焼結は連続生産が実施されているのに対して通電焼結はバッチ式であり連続生産に向いていなかった。そこで通電焼結の連続生産の取り組みが行われている。
例えば、特許文献1には、被焼結粉末を入れた焼結型を上下方向に加圧焼結するための一対の焼結軸と、前記焼結型を密閉するための真空チャンバーを備えた通電加圧焼結装置であって、前記真空チャンバー内において、水平面内で回転自在に設けられ、前記一対の焼結軸の間を周縁部が通過するロータリテーブルと、該ロータリテーブルの周縁部に設けられ、前記一対の焼結軸間に挟まれる焼結型を保持するための型保持部と、前記焼結軸よりもロータリテーブルの回転方向の後方において、前記型保持部で保持された前記焼結型を上下に挟む位置の上下に設けられ、該焼結型を予熱するための一対の予熱軸とからなる通電加圧焼結装置が開示されている。
特開2002−105507号公報
特許文献1の発明は、真空チャンバー内に水平面内で回転自在のロータリテーブル、該ロータリテーブルの回転によって焼結型を上下で電極を配設した焼結部や上下で電極を配設した予熱部等に移動させているので、真空チャンバーの内容積が大型化しこれにより装置全体が大型化し投資額が高いという問題があった。また、焼結型の搬入時や搬出時になると真空チャンバーのゲートを開けて真空チャンバー内の真空を大気圧に戻し、焼結型の搬入後や搬出後に再び真空にすることを1つの焼結体の生産ごとに繰り返しているので、内容積の大きい真空チャンバー内を真空にする時間がかかりすぎるという問題があった。
また、連続生産を可能にするためには焼結型を常温から焼結に必要な温度まで加熱させる必要がある。特許文献1の発明は予熱部と焼結部の2か所のステップを設けて通電により加熱させるので、通電のための装置が複雑化し設備費が高価になるという問題があった。
また、真空チャンバー内で回転するロータリテーブルに焼結型を、搬入ゲートを開いて搬入や搬出をする構造であるので、焼結後の焼結型が冷却するまで焼結型を搬出できないことから、真空チャンバー内で冷却に必要な時間分ロータリテーブルを回転させるために焼結型を多数準備しなければならないという問題もあった。特許文献1の図3には10個の焼結型がロータリテーブルに載置されている。焼結型は連続生産をするためにはロータリテーブル上に載置した数と略同数の段取用の焼結型の数を有するようにしなければならないので、高コストになり企業にとっては通電加圧焼結装置を導入しにくいという問題があった。
本発明はこうした問題に鑑み創案されたもので、焼結型1個で装置の小型化を実現させ設備投資額を安価化でき、かつ連続生産が可能な通電熱加工装置を提供することを課題とする。
請求項1に記載の高速ダイセット式通電熱加工装置1は、上パンチ4及び該上パンチ4の上部に配設した上パンチ電極5を備えた上型2と、前記上パンチ4に対向して配設した下パ ンチ6、該下パンチ6の上部に配設した筒状のダイス7及び該下パンチ6の下部に配設した下パンチ電極8を備えた下型3とを備え、真空状態又は不活性ガス状態下において被焼 結粉末90を加圧かつ加熱して焼結体91を生産する高速ダイセット式通電熱加工装置1であって、上型2に設けられ被焼結粉末90に上方から当接する上パンチ4を囲繞するように設けられた筒状の上部外壁10と、下型3に設けられ被焼結粉末90に下方から当接し前記上パンチ4と上下方向で対向する下パンチ6及び下型3に設けられ被焼結粉末90 に側面から当接する筒状のダイス7を囲繞するように設けられた筒状の下部外壁11と、を備え、前記上型2が上昇端に位置するときには前記上部外壁10の下端と前記下部外壁11の上端とは上下方向で離隔状態にあり、前記上型2の下降により、前記上パンチ4が前記ダイス7内へ嵌入して被焼結粉末90を加圧し、前記上部外壁10が前記下部外壁11内へ嵌入して前記上部外壁10の内周壁面、前記上型2の底面及び前記下型3の上表面で囲われた空間を、又は、前記下部外壁11が前記上部外壁10内へ嵌入して前記下部外壁11の内周壁面、前記上型2の底面及び前記下型3の上表面で囲われた空間を、真空状態又は不活性ガス状態の密閉空間25とすることを特徴とする。
請求項2に記載の高速ダイセット式通電熱加工装置1は、請求項1において、通電経路Dを、上型2は被焼結粉末90と当接する上パンチ4、該上パンチ4の上部と連結され電源と接続された上パンチ電極5とし、下型3は被焼結粉末90と当接するダイス7及び下パンチ6、該下パンチ6の下部と連結され電源と接続された下パンチ電極8とし、前記上パンチ4、上パンチ電極5、ダイス7、下パンチ6及び下パンチ電極8と非通電経路部材との間には絶縁体13を介設したことを特徴とする。
請求項3に記載の高速ダイセット式通電熱加工装置は、請求項1又は2において、前記被焼結粉末を真空環境又は不活性ガス環境下で加圧かつ加熱して生産された焼結物を前記焼結物の底面に当接する下パンチ6を上昇させて前記下型3の上表面まで押し上げる焼結体押し上げ手段と、前記上部外壁10を前記下型3に設けられた嵌入溝34に嵌入する形態の場合に、前記上部外壁10が下降したときに前記上部外壁10に押し下げられた前記下型3内に埋設したストリッパープレート31の上面を前記下型3の上表面まで上昇させる復元手段と、前記押し上げた焼結物を前記下型3の上表面から搬出すると同時に被焼結粉末90を投入する搬出入手段と、を備えたことを特徴とする。
請求項4に記載の高速ダイセット式通電熱加工方法100は、パンチ4及び前記上パンチ4の上部に配設した上パンチ電極5を備えた上型2と、前記上パンチ4に対向して配設した下パンチ6、該下パンチ6の上部に配設した筒状のダイス7及び該下パンチ6の下部に配設した下パンチ電極8を備えた下型3とを備え、真空状態又は不活性ガス状態下において被焼結粉末90を加圧かつ加熱して焼結体91を生産する高速ダイセット式通電熱加工方法100であって、前記上型2の上パンチ4を囲繞するように配設した筒状の上部外壁10の下端と前記下型3のダイス7を囲繞するように配設した筒状の下部外壁11の上端とを上下方向で離隔状態を実現した前記上型2の上昇端時に、前記下パンチ6と前記ダイス7によって形成された焼結型内に被焼結粉末90を投入する粉末投入ステップ101と、前記被焼結粉末90投入後に上型2を、前記上パンチ4を囲繞するように配設した筒状の上部外壁10の内周面を下型3の前記ダイス7を囲繞するように配設した筒状の下部外壁11の外周面に接するように、又は、前記上パンチ4を囲繞するように配設した筒状の上部外壁10の外周面を下型3の前記ダイス7を囲繞するように配設した筒状の下部外壁11の内周面に接するように、下降させて形成された上型2と下型3の間の空間を密閉空間25にし、同時に、上型2に設けた前記上パンチ4を下型3に設けた前記ダイス7内に嵌入させて前記被焼結粉末90に所定の加圧を加える上下型セットステップ102と、前記上下型セット後に、真空ポンプを作動させて前記密閉空間25を真空にし、所定の真空度に到達した後に、又は、不活性ガスを前記密閉空間25に充満させて所定のガス濃度に到達した後に、上パンチ電極5から下パンチ電極8まで所定の電流値の電流を流し、前記被焼結粉末90にかかる荷重が所定の荷重に到達した時から予め設定された通電時間ほど前記所定の電流値の電流を流す加圧通電制御ステップと、上型2が所定の位置まで下降したのを検知すると上型2を上昇させ 、かつ前記下パンチ6を前記ダイス7内で上昇させて焼結体91を下型3の上表面位置まで押し上げる焼結完了ステップ104と、前記上型2を上昇端に位置させて、前記上型2の上パンチ4を囲繞するように配設した筒状の上部外壁10の下端と前記下型3のダイス7を囲繞するように配設した筒状の下部外壁11の上端とを上下方向で離隔状態にして、前記焼結体91を下型3の上表面からの搬出、 及び、次の被焼結粉末90の投入を同時に行う搬出入ステップ105と、を備えることを特徴とする。なお、本発明で所定とはあらかじめ定めるということを意味する。
請求項5に記載の高速ダイセット式通電熱加工方法100は、請求項4において、前記上下型セットステップ102が、下型3に嵌入溝34が形成されている形態の場合は、前記上下型セットステップ102が、前記被焼結粉末90投入後に上型2を、前記上パンチ4を囲繞するように配設した筒状の上部外壁10の内周面を下型3の前記ダイス7を囲繞するように配設した筒状の下部外壁11の外周面に接するように、又は、前記上パンチ4を囲繞するように配設した筒状の上部外壁10の外周面を下型3の前記ダイス7を囲繞するように配設した筒状の下部外壁11の内周面に接するように、かつ下型3の嵌入溝34に埋設された前記ストリッパープレート31を押し下げながら下降させて形成された上型2と下型3の間の空間を密閉空間25にし、同時に、上型2に設けた前記上パンチ4を下型3に設けた前記ダイス7内に嵌入させて前記被焼結粉末90に所定の加圧を加え、前記焼結完了ステップ104が、上型2が所定の位置まで下降したのを検知すると上型2を上昇させ、前記ストリッパープレート31の上面を下型3の上表面位置まで復元させ、かつ前記下パンチ6を前記ダイス7内で上昇させて焼結体91を下型3の上表面位置まで押し上げることを特徴とする。
請求項1に記載の発明は、従来の真空チャンバーの大きさは大きな筐体であり、完成品の焼結体を1個ずつ筐体から取り出すために筐体内を大気圧状態から真空状態にする時間がかかっていたが、本発明はダイセット式の上型2と下型3との上下方向の隙間を真空状態又は不活性ガス状態にすることができたため、真空状態又は不活性ガス状態に要する空間を狭くすることができ、これにより密閉空間25を大気圧状態から極めて短時間で真空状態にすることができるという効果を奏する。
また、真空状態又は不活性ガス状態の空間の大きさを、上下方向の範囲はダイセット式の上型2と下型3との上下方向の隙間であって、さらに横方向の範囲は投入された被焼結粉末90を至近距離で囲繞する範囲に狭くしたので、極めて瞬時に高速に大気圧状態から真空状態又は不活性ガス状態にすることができるという効果を奏する。例えば、従来の通電熱加工装置の真空チャンバーの内容積が10Lに対して本発明の密閉空間25の内容積はわずか0.1Lと約100分の1に縮小化でき、これにより真空引き時間が従来の真空チャンバーの真空引き時間10分に対して、本発明の密閉空間25の真空引き時間は5秒と120分の1に超短縮化を実現できたという際立つ効果を奏する。
請求項2に記載の発明は、通電経路Dを被焼結粉末90に当接する構成部材と該構成部材と連結し電源に接続された構成部位との最小範囲に限定することができたので、非常に小さい範囲に加熱対象を限定できたことにより、非常に小さい範囲の部分を加熱すればいいので熱効率がよい。また、短時間で完成品の焼結体91を取り出し後、瞬時に次の被焼結粉末90を投入できるので、ダイス7、下パンチ6及び上パンチ4の温度が下がりきらない時間内に次の加熱を開始することから短時間で焼結加工に必要な温度に到達し高速に焼結加工ができるという効果を奏する。
請求項3に記載の発明は、従来は焼結加工直後は焼結体が高温のため一定温度まで低下するまでの冷却時間を確保して焼結体を真空チャンバー内から取り出していたが、本発明は下型3内から焼結体91をリフトアップし横方向に押し出す機構を設けたことにより、焼結体91が高温の状態で焼結加工終了後に瞬時に焼結体91を取り出すことを実現させたことから焼結加工の1サイクルを極めて短時間にでき、かつ焼結体91押出後に即被焼結粉末90を投入できるので、真空通電加熱焼結装置ではバッチ生産しかできなかったのを連続生産できるようにしたという顕著な効果を奏する。短サイクルでの連続生産ができるので上パンチ4、ダイス7や下パンチ6の温度が下がりきらないうちに次の加熱を始めるので加熱のための熱エネルギーを抑制できるという効果を奏する。
また、上型2が下降して下型3に嵌入していた部位で穴部が形成された部位において、下パンチ6を該下パンチ6の上面が下型3の上表面高さまで到達するように上昇させ、かつストリッパープレート31の上面が下型3の上表面高さまで到達するように上昇させるので、下型3の上表面に平面が形成されるので、前記焼結体91を下型3の上表面を滑らせながら搬送もできるようになる。
請求項4に記載の発明は、請求項1乃至3のいずれかに記載の発明と同じ効果を奏する。
請求項5に記載の発明は、下型に上型を嵌入させる嵌入溝を形成した形態の場合に、前記焼結体91を下型3の上表面を滑らせながら搬送もできるという効果を奏する。
本発明の高速ダイセット式通電熱加工装置の全体概要図である。 図1における装置の内で昇降部分を黒塗りで示す説明図である。 図1における上型から上部を拡大した説明図である。 図1における下型から下部を拡大した説明図である。 図1における上型と下型の範囲を示すA部を拡大した説明図である。 図5における上型の部分を示すB部の中央における断面説明図である。 図5における下型の部分を示すC部の中央における断面説明図である。 図7における昇降部分を黒塗りで示す説明図である。 図7における上型部分の平面視のD矢視の平面概要図である。 図6に示す上型部分と図7に示す下型部分との位置関係を示す断面説明図である。 被焼結粉末を投入した粉末投入ステップの説明図である。 上型が下降して下型に嵌入した上型嵌入ステップ及び真空加圧通電制御ステップの説明図である。 上型と下型に挟まれた密閉空間の真空状態又は不活性ガス状態を維持する耐熱シール個所の配置説明図である。 上型と下型における絶縁体の配設位置を黒塗りで示す説明図である。 上型から下型に通電される電流の流れを矢印で示す説明図である。 焼結完了ステップを示す説明図である。 搬出入同時ステップを示す説明図である。 本発明の高速ダイセット式通電熱加工方法のフロー図である。 上型と下型のセット形態を示す図で、(a)が上型の外周面が下型の内周面に接する形態の概念図で、(b)が上型の内周面が下型の外周面に接する形態の概念図で、(c)が上型の内周面が下型の外周面に接する形態で上型の嵌入溝が形成された形態の概念図である。
本発明の高速ダイセット式通電熱加工装置1は、上パンチ4や該上パンチ4の上部に配設した上パンチ電極5を備えた上型2と、前記上パンチ4に対向して配設した下パンチ6、該下パンチ6の上部に配設した筒状のダイス7及び該下パンチ6の下部に配設した下パンチ電極8を備えた下型3とを備え、真空状態又は不活性ガス状態下において被焼結粉末90を加圧かつ加熱して焼結体91を生産する高速ダイセット式通電熱加工装置1であって、上型2に設けられ被焼結粉末90に上方から当接する上パンチ4を囲繞するように設けられた筒状の上部外壁10と、下型3に設けられ被焼結粉末90に下方から当接し前記上パンチ4と上下方向で対向する下パンチ6及び下型3に設けられ被焼結粉末90に側面から当接する筒状のダイス7を囲繞するように設けられた筒状の下部外壁11と、を備え、前記上型2の下降により、前記上パンチ4が前記ダイス7内へ嵌入して被焼結粉末90を加圧し、前記上部外壁10が前記下部外壁11内へ嵌入して前記上部外壁10の内周壁面、前記上型2の底面及び前記下型3の上表面で囲われた空間を、又は、前記下部外壁11が前記上部外壁10内へ嵌入して前記下部外壁11の内周壁面、前記上型2の底面及び前記下型3の上表面で囲われた空間を、真空状態又は不活性ガス状態の密閉空間25とする装置である。そして、各構成部材同士を固定させるためにボルト(図示は一部のみ)やノックピン(図示なし)を部位により使用している。
まず、本発明の高速ダイセット式通電熱加工装置1の全体構造を説明する。高速ダイセット式通電熱加工装置1の全体構造は、図1又は図2に示すように、下型3は固定され上型2が昇降するようになっており、従来の焼結加工装置には備えられていた真空チャンバーの筐体が設けられておらず、下型3が固定され上型2が下降して密閉空間25を形成し、該密閉空間25を真空状態又は不活性ガス状態とし、真空状態又は不活性ガス状態で被焼結粉末90を加圧かつ加熱させて完成した焼結体91を下型3からリフトアップさせて焼結体91を押し出すと同時に次の被焼結粉末90を投入するように制御された装置である。前記制御は、図1における制御操作盤9によって行われる。
前記密閉空間25は、上型2と下型3とに囲繞された密閉空間25が形成されればよいので、図12や図19(a)に示すように上部外壁10を下部外壁11内へ嵌入して密閉空間25を形成させる構成でもよいし、図19(b)や(c)に示すように下部外壁11を上部外壁10内へ嵌入して密閉空間25を形成させる構成でもよい。
また、密閉空間25を不活性ガス充満状態にするときに、真空引き後に不活性ガス導入させてもよく、真空引きせずに不活性ガス導入させてもよい。
また、前記被焼結粉末90の加熱は、被焼結粉末90が導電性粉末の場合は被焼結粉末90に直接に通電させて被焼結粉末90を加熱させ、被焼結粉末90がセラミックなどの非導電性粉末の場合はダイス7を通電させ加熱させて被焼結粉末90に伝熱させて被焼結粉末90を加熱させる。
まず、上型2を昇降させる構成について図1において説明する。柱50の最上段に跨設されたクラウン51上に設けられたサーボモータ52の回転力を減速機53で上型2の昇降速度を所定の速度になるように回転力調整し、その回転力をパワーロック54やカップリング55を含む伝動経路を経てボールネジ57に伝動させる。ボールネジ57の回転によるナット部15が昇降するので、このナット部15に上型2を連結させることにより、上型2を昇降自在にすることができる。また、上型2の昇降時はガイド棒58にガイド59を摺動するようにしている。そして、下型3との位置決めは下型3に立設されたガイド棒80に上型2から垂設されたガイド81を摺動させている。上型2が昇降するときに一体となって昇降する部位は、図2において示す昇降部K1で黒色に塗りつぶした範囲である。
前記昇降部K1には、図1乃至図3、図6に示すように、ナット部15、該ナット部15から外方向に延設された昇降用ガイドであるガイド59、前記ナット部15の下端に固定された上パンチホルダー20、該上パンチホルダー20の下に固定された絶縁体13a、該絶縁体13aの下に固定された上パンチ電極5、該上パンチ電極5の中央部で連結された上パンチ4、該上パンチの周囲を囲繞するように設けた絶縁体13c、上パンチ4を囲繞するように設けた上部外壁10、前記上パンチ電極5と前記上部外壁10間に介設した絶縁体13bが含まれる。
次に、下型3に関連する構造を説明する。図1、図2、図4及び図7に示すように、下型3に関連する部位は固定部分と図2に黒塗りで示す昇降部K2を備えている。まず、固定部分は、柱50に固定された梁であるベース75の上側には、下型3の下パンチホルダー21、上型2下降による被焼結粉末90や焼結体91に対する加圧力を測定するロードセル77が固定され、前記ベース75の下側には、サーボモータ70、該サーボモータ70に連結された減速機71、該減速機71の回動を伝動するカンプリング72及びボールネジ73が備えられている。
前記下型3の下パンチホルダー21には図7及び図8に示すように、該下パンチホルダー21の上側で外側に絶縁体13e及び下部外壁11が固定され、該下パンチホルダー21の上側で内側に、絶縁体13e、ダイス押え12、該ダイス押え12の内側に配設したダイス7が連結されて固定されている。該ダイス7内に被焼結粉末90が投入される。
次に、下型3に関する構造における昇降部K2について説明する。図1に示すように、ベッド75から垂設されたサーボモータ70の回転力を減速機71で下型3に設けた下パンチ6の昇降速度を焼結体91搬出に必要な所定の速度になるように回転力調整し、その回転力をカップリング72を含む伝動経路を経てボールネジ73に伝動させる。該ボールネジ73の回転によってナット部76が昇降するので、このナット部76に、図1及び図4に示すようにシャフト41を立設させて連結させることにより、図2及び図8に示した黒塗り部分の昇降部K2が昇降自在となり、図10に示す絶縁体13fと下パンチ電極8との上下方向の広い隙α1が図16に示す狭い隙α2になったりして、下型3の中央部に設けた下パンチ6及び下パンチ電極8を昇降自在にすることができる。また、昇降部K2の昇降時はガイド棒82に前記シャフト41と固定されたガイド穴付板83が摺動するようにしている。
図4、図7及びス図8に示すように、前記シャフト41には上側に向かって絶縁体13g、下パンチ電極8及び下パンチ6が連結されている。よって、下パンチ電極8及び下パンチ6は昇降自在の構造である。したがって、図7及び図8に示すように、被焼結粉末90や焼結物91の底面に当接する下パンチ6は昇降するが、被焼結粉末90や焼結物91の側面に当接するダイス7は常時固定されている。
また、前記上部外壁10の外周面が前記下部外壁11の内周面に摺動しながら下降する形態の場合には、下型3の下部外壁11内の平面視の状態は、図9に示すように、外側から内側の中心に向かって、下部外壁11、ストリッパープレート31、絶縁体13d、ダイス押え12、ダイス7、下パンチ6が配設され、前記下部外壁11、ストリッパープレート31、絶縁体13d、ダイス押え12、ダイス7の外周面は平面視で環状の形状を有し、前記ダイス7の内周面、上パンチ4、下パンチ6は平面視で環状、多角形状、ギア形状など生産する焼結物91の製品形状によって異なる。
図11又は図12に示すように、固定部分のダイス7と昇降部分の下パンチ6により焼結型が形成される。
また、図12や図19(a)に示す形態の場合は、上型2が下降して、上型2の上部外壁10が下型3の下部外壁11内に嵌入する構造としている。そして、前記上型2の上部外壁10に対向するように設けられ前記上部外壁10に当接する下型3の部位がストリッパー30である。該ストリッパー30の構造は、最上部にはストリッパープレート31が設けられ、該ストリッパープレート31の昇降時のガイドとなるストリッパーボルト33、上部外壁10が下降してストリッパープレート31に衝撃的に荷重をかけると該衝撃を緩和させながらストリッパープレート31を下降させたり、上部外壁10の上昇により無荷重になるとストリッパープレート31の上表面の高さを下型3の上表面の高さまで上昇させるストリッパースプリング32を備えている。前記ストリッパープレート31が無荷重のときは、ストリッパープレート31の上表面の高さが下型3の上表面の高さと一致する構造としている。これにより、上型2と下型3とが離隔しているときは下型3の上表面を平らな表面状態にすることができる。
次に、上型2が下降し、前記上部外壁10が前記下部外壁11内へ嵌入すると、前記上部外壁10の内周壁面、前記上型2の底面及び前記下型3の上表面で囲われた空間が密閉空間25として形成される。そして、真空ポンプ(図示なし)を作動させて前記密閉空間25を真空状態にすることができ、又は、不活性ガスを供給して前記密閉空間25を不活性状態にすることができる。
そして、下型3の下部外壁11の内周壁に外周壁を密着させて嵌入した上型2の上部外壁10の内周壁、上型2の底面及び下型3の上表面に囲まれた密閉空間25の真空状態をつくりだしかつ維持させるために、図13に示すように、前記密閉空間25につながるすべての各構成部材間に0リング等の耐熱シール14を配設している。例えば焼結温度に耐えるように耐熱温度が270°のOリングを使用することにより、密閉空間25の真空状態を焼結加工中も維持できる。
次に、通電経路Dを、図15に示すように、上型2は被焼結粉末90と当接する上パンチ4、該上パンチ4の上部と連結され電源と接続された上パンチ電極5とし、下型3は被焼結粉末91と当接するダイス7及び下パンチ6、該下パンチ6の下部と連結され電源と接続された下パンチ電極8とし、前記通電経路Dを構成する部材と非通電経路を構成する部材との間に、図6及び図7に示し、かつ図14に黒塗りで示した絶縁体13a乃至13hを介設している。
例えば、図6に上型2における絶縁体13a乃至13cの配置位置を示し、図7に下型3における絶縁体13d乃至13hの配置位置を示し、図14に上型2が下降したときの絶縁体13a乃至13hの配置位置を黒塗りで示している。上型2においては上パンチ4及び上パンチ電極5は通電経路Dとして、他の非通電経路の構成要素とは絶縁状態となるようにすべての接合部には絶縁体13a乃至13cを介在させている。下型3においては、下パンチ6、ダイス7、ダイス押え12及び下パンチ電極8は通電経路Dとして、他の非通電経路の構成要素とが絶縁状態となるようにすべての接合部には絶縁体13d乃至13hを介在させている。また、各構成部材同士を締結させるために使用するボルトも絶縁性を有するボルトを使用する。
前記絶縁体としては、例えば窒化珪素等の絶縁性を有するセラミックス、ポリイミド等の絶縁性を有する樹脂を使用し、ボルト類ではエポキシガラス等の絶縁性を有する材料からなるボルトを使用する。
通電経路Dは、図15に示すように、被焼結粉末90が導電性粉末の場合は、電源(図示なし)から上パンチ電極5、上パンチ4、被焼結粉末90、ダイス7、下パンチ6、下パンチ電極8から電源に流れる。これにより、被焼結粉末90が加熱される。また、被焼結粉末90が非導電性粉末の場合は、電源(図示なし)から上パンチ電極5、上パンチ4、ダイス7、下パンチ6、下パンチ電極8から電源に流れる。これにより、被焼結粉末90がダイス7からの伝熱により加熱される。
次に、前記被焼結粉末90を真空環境又は不活性ガス環境下で加圧かつ加熱して生産された焼結物91を前記焼結物91の底面に当接する下パンチ6を上昇させて前記下型3の上表面まで押し上げる焼結体押し上げ手段と、前記上部外壁10が下降したときに前記上部外壁10に押し下げられた前記下型3内に埋設したストリッパープレート31の上面を前記下型3の上表面まで上昇させる復元手段と、前記押し上げた焼結物91を前記下型3の上表面から搬出すると同時に被焼結粉末90を投入する搬出入手段と、を備えている。
前記焼結体押し上げ手段は、前記昇降部K2の上昇により下パンチ6の上面を前記下型3の上表面高さまで上昇させる手段であり、前記復元手段は、前記ストリッパー30の構造のストッパースプリング32によりストリッパープレート31の上面を前記下型3の上表面高さまで上昇させる手段である。
そして、前記搬出入手段は、図16及び図17に示すように、搬出部材92が焼結体91を下型3の範囲外のシュート台95まで押出作動などにより搬出し、かつ、下パンチ6上方に次の被焼結粉末90を収納した材料供給部93を位置づけるようにし投下することができる。これにより連続生産が可能になり焼結体一個あたりの生産時間を超短時間にできるので高速生産を実現できる。
次に、本発明の高速ダイセット式通電熱加工装置1の制御について説明する。図1に示すように、制御操作盤9が設けられ、前記制御操作盤9内のシーケンサーによって、上型2の下降指示、上型2の上下方向の位置の読み取り、上型2の下降や上昇の速度制御、真空開始タイミングの制御、被焼結粉末90に加えられた圧力の検知から通電時間の制御、通電の電流値の制御、加圧力の制御、上型2の昇降時間制御、下パンチ6の上昇や下降のタイミング制御、焼結体91の搬出及び被焼結粉末90の供給機器の作動制御を含む制御を行っている。そして、図18に示すように、その制御によって高速ダイセット式通電熱加工方法100が行われる。
本発明の高速ダイセット式通電熱加工方法100は、前記上パンチ4や前記上パンチ4の上部に配設した上パンチ電極5を備えた上型2と、前記上パンチ4に対向して配設した下パンチ6、該下パンチ6の上部に配設した筒状のダイス7及び該下パンチ6の下部に配設した下パンチ電極8を備えた下型3とを備え、真空状態又は不活性ガス状態下において被焼結粉末90を加圧かつ加熱して焼結体91を生産する高速ダイセット式通電熱加工方法100であって、前記下パンチ6と前記ダイス7によって形成された焼結型内に被焼結粉末90を投入する粉末投入ステップ101と、前記被焼結粉末90投入後に上型2を、前記上パンチ4を囲繞するように配設した筒状の上部外壁10の内周面を下型3の前記ダイス7を囲繞するように配設した筒状の下部外壁11の外周面に接するように、又は、前記上パンチ4を囲繞するように配設した筒状の上部外壁10の外周面を下型3の前記ダイス7を囲繞するように配設した筒状の下部外壁11の内周面に接するように、下降させて形成された上型2と下型3の間の空間を密閉空間25にし、同時に、上型2に設けた前記上パンチ4を下型3に設けた前記ダイス7内に嵌入させて前記被焼結粉末90に焼結に必要な所定の加圧を加える上下型セットステップ102と、前記上下型セット後に、真空ポンプを作動させて前記密閉空間25を真空にし、焼結に必要な所定の真空度に到達した後に、又は、不活性ガスを前記密閉空間25に充満させて焼結に必要な所定のガス濃度に到達した後に、上パンチ電極5から下パンチ電極8まで焼結に必要な所定の電流値の電流を流し、前記被焼結粉末90にかかる荷重が焼結に必要な所定の荷重に到達した時から予め設定された通電時間ほど前記焼結に必要な所定の電流値の電流を流す加圧通電制御ステップと、上型2が焼結に必要な所定の位置まで下降したのを検知すると上型2を上昇させ、かつ前記下パンチ6を前記ダイス7内で上昇させて焼結体91を下型3の上表面位置まで押し上げる焼結完了ステップ104と、前記焼結体91を下型3の上表面からの搬出、及び、次の被焼結粉末90の投入を同時に行う搬出入ステップ105と、を備える。
そして、図12、図19(a)又は図19(c)に示すように、下型3に嵌入溝34が形成されている形態の場合は、前記上下型セットステップ102が、前記被焼結粉末90投入後に上型2を、前記上パンチ4を囲繞するように配設した筒状の上部外壁10の内周面を下型3の前記ダイス7を囲繞するように配設した筒状の下部外壁11の外周面に接するように、又は、前記上パンチ4を囲繞するように配設した筒状の上部外壁10の外周面を下型3の前記ダイス7を囲繞するように配設した筒状の下部外壁11の内周面に接するように、かつ下型3の嵌入溝34に埋設された前記ストリッパープレート31を押し下げながら下降させて形成された上型2と下型3の間の空間を密閉空間25にし、同時に、上型2に設けた前記上パンチ4を下型3に設けた前記ダイス7内に嵌入させて前記被焼結粉末90に焼結に必要な所定の加圧を加え、前記焼結完了ステップ104が、上型2が焼結に必要な所定の位置まで下降したのを検知すると上型2を上昇させ、前記ストリッパープレート31の上面を下型3の上表面位置まで復元させ、かつ前記下パンチ6を前記ダイス7内で上昇させて焼結体91を下型3の上表面位置まで押し上げる。
次に、上部外壁10の外周面が下部外壁11の内周面に摺動しながら下降する形態の場合について各ステップを説明する。まず、高速ダイセット式通電熱加工装置1の初期の位置は、図10に示すように、上型2が上昇端の位置に待機し、下型3側は、上部外壁10が下降して当接する部位であるストリッパープレート31の上面が下型3の上表面と同じ高さに待機し、下パンチ6が下降端に位置して下パンチ6が底面を形成し筒状のダイス7が側面を形成した焼結型が形成された状態である。作動開始前の初期状態では下型3の上表面は平らな表面を形成している。
次に、粉末投入ステップ101は、前記下パンチ6と前記ダイス7によって形成された焼結型内に被焼結粉末90を投入する。この投入は、図17に示すように搬出入機構94の材料供給部93から投下される。投入量はあらかじめ所定量に調整されており、その調整された被焼結粉末90が材料供給部93内に収容されている。
次に、上型嵌入ステップ102は、上型2を下降させて、前記上パンチ4を囲繞するように配設した筒状の上部外壁10の外周面を、下型3の前記ダイス7を囲繞するように配設した筒状の下部外壁11の内周面に接するようにかつ下型3に埋設された前記ストリッパープレート31をストリッパースプリング32を圧縮させて押し下げながら嵌入させる。そして形成された上型2と下型3の間の空間を密閉空間25にし、同時に、上型2に設けた前記上パンチ4を下型3に設けた前記ダイス7内に嵌入させて前記被焼結粉末90に焼結に必要な所定の加圧を加える。前記加圧による加圧力はロードセル77により測定され焼結に必要な所定の加圧力となるように制御操作盤9によりサーボモータ52にフィードバック制御をしている。また、加圧により上型2は上下方向で下降していくので、上型2の下降位置を検知している。
次に、加圧通電制御ステップ103は、上型2が焼結に必要な所定の下降位置もしくは焼結に必要な所定の圧力まで降下したタイミングで真空ポンプ(図示なし)を作動させて前記密閉空間25を真空にし、焼結に必要な所定の真空度に到達した後に、又は、不活性ガスを前記密閉空間25に充満させて焼結に必要な所定のガス濃度に到達した後に、上パンチ電極5から下パンチ電極8までの通電経路Dに焼結に必要な所定の電流値の電流を流し、前記被焼結粉末90にかかる荷重が焼結に必要な所定の荷重に到達した時から予め設定された通電時間ほど前記焼結に必要な所定の電流値の電流を流す、あるいは焼結に必要な所定の温度になるまで電流を流す、あるいは焼結に必要な所定の収縮量になるまで電流を流すことにより焼結加工を行う。このときの温度は別に設けた温度センサー(図なし)によって測定する。
次に、焼結完了ステップ104は、焼結に必要な所定の通電時間完了の検知及び上型2が焼結に必要な所定の位置まで下降したのを検知すると上型2を上昇させ、前記ストリッパープレート31に加わる上部外壁10からの圧縮力が無負荷になったのを受けて前記ストリッパープレート31の上面を下型3の上表面位置までストリッパースプリング32の弾性力により復元させ、同時に前記下パンチ6を前記ダイス7内で上昇させて焼結体91を下型3の上表面位置まで押し上げる。これにより、下型3の上表面は全面が平らな表面となり、焼結体91を、ストリッパー30を埋設した穴に落下させずに下型3の上表面を滑らせるか転がせることができ、次の被焼結粉末90がストリッパー30を埋設した穴に入り込むのを防ぐことができる。
次に、搬出入ステップ105は、前記焼結体91を下型3の上表面からの搬出、及び、次の被焼結粉末90の投入を同時に行う。
次に、図17に示すように、焼結体91を下型3の上表面を滑らせて又は転がして押し出すと同時に、次の焼結体生産用の材料である被焼結粉末90を収容した材料供給部93とを備えた搬出入機構94により被焼結粉末90の投入を行う。これにより、連続的に生産を継続させることができる。
1 ダイセット式通電熱加工装置
2 上型
3 下型
4 上パンチ
5 上パンチ電極
6 下パンチ
7 ダイス
8 下パンチ電極
9 制御操作盤
10 上部外壁
11 下部外壁
12 ダイス押え
13 絶縁体
14 耐熱シール
15 ナット部
20 上パンチホルダー
21 下パンチホルダー
25 密閉空間
30 ストリッパー
31 ストリッパープレート
32 ストリッパースプリング
33 ストリッパーボルト
34 嵌入溝
41 シャフト
50 柱
51 クラウン
52 サーボモータ
53 減速機
54 パワーロック
55 カップリング
57 ボールネジ
58 ガイド棒
59 ガイド
70 サーボモータ
71 減速機
72 カップリング
73 ボールネジ
74 シャフト
75 ベッド
76 ナット部
77 ロードセル
80 ガイド棒
81 ガイド
82 ガイド棒
83 ガイド穴付板
90 被焼結粉末
91 焼結体
92 搬出部材
93 材料供給部
94 搬出入機構
95 シュート台
100 高速ダイセット式通電熱加工方法
101 粉末投入ステップ
102 上下型セットステップ
103 加圧通電制御ステップ
104 焼結完了ステップ
105 搬出入ステップ
D 通電経路
K1 昇降部
K2 昇降部

Claims (5)

  1. 上パンチ及び該上パンチの上部に配設した上パンチ電極を備えた上型と、前記上パンチに対向して配設した下パンチ、該下パンチの上部に配設した筒状のダイス及び該下パンチの下部に配設した下パンチ電極を備えた下型とを備え、真空状態又は不活性ガス状態下において被焼結粉末を加圧かつ加熱して焼結体を生産する高速ダイセット式通電熱加工装置であって、
    上型に設けられ被焼結粉末に上方から当接する上パンチを囲繞するように設けられた筒状の上部外壁と、下型に設けられ被焼結粉末に下方から当接し前記上パンチと上下方向で対向する下パンチ及び下型に設けられ被焼結粉末に側面から当接する筒状のダイスを囲繞するように設けられた筒状の下部外壁と、を備え、
    前記上型が上昇端に位置するときには前記上部外壁の下端と前記下部外壁の上端とは上下方向で離隔状態にあり、
    前記上型の下降により、前記上パンチが前記ダイス内へ嵌入して被焼結粉末を加圧し、 前記上部外壁が前記下部外壁内へ嵌入して前記上部外壁の内周壁面、前記上型の底面及び前記下型の上表面で囲われた空間を、又は、前記下部外壁が前記上部外壁内へ嵌入して前記下部外壁の内周壁面、前記上型の底面及び前記下型の上表面で囲われた空間を、真空状態又は不活性ガス状態の密閉空間とすることを特徴とする高速ダイセット式通電熱加工装置。
  2. 通電経路を、上型は被焼結粉末と当接する上パンチ、該上パンチの上部と連結され電源と接続された上パンチ電極とし、下型は被焼結粉末と当接するダイス及び下パンチ、該下パンチの下部と連結され電源と接続された下パンチ電極とし、前記上パンチ、上パンチ電極、ダイス、下パンチ及び下パンチ電極と非通電経路部材との間には絶縁体を介設したことを特徴とする請求項1に記載の高速ダイセット式通電熱加工装置。
  3. 前記被焼結粉末を真空環境又は不活性ガス環境下で加圧かつ加熱して生産された焼結物を前記焼結物の底面に当接する下パンチを上昇させて前記下型の上表面まで押し上げる焼結体押し上げ手段と、
    前記上部外壁を前記下型に設けられた嵌入溝に嵌入する形態の場合に、前記上部外壁が下降したときに前記上部外壁に押し下げられた前記下型内に埋設したストリッパープレートの上面を前記下型の上表面まで上昇させる復元手段と、 前記押し上げた焼結物を前記下型の上表面から搬出すると同時に被焼結粉末を投入する搬出入手段と、を備えたことを特徴とする請求項1又は2に記載の高速ダイセット式通電熱 加工装置。
  4. パンチ及び前記上パンチの上部に配設した上パンチ電極を備えた上型と、前記上パンチに対向して配設した下パンチ、該下パンチの上部に配設した筒状のダイス及び該下パ ンチの下部に配設した下パンチ電極を備えた下型とを備え、真空状態又は不活性ガス状態下において被焼結粉末を加圧かつ加熱して焼結体を生産する高速ダイセット式通電熱加工方法であって、
    前記上型の上パンチを囲繞するように配設した筒状の上部外壁の下端と前記下型のダイスを囲繞するように配設した筒状の下部外壁の上端とを上下方向で離隔状態を実現した前記上型の上昇端時に、前記下パンチと前記ダイスによって形成された焼結型内に被焼結粉末を投入する粉末投入ステップと、
    前記被焼結粉末投入後に上型を、 前記上パンチを囲繞するように配設した筒状の上部外壁の内周面を下型の前記ダイスを囲繞するように配設した筒状の下部外壁の外周面に接するように、又は、前記上パンチを囲繞するように配設した筒状の上部外壁の外周面を下型の前記ダイスを囲繞するように配設した筒状の下部外壁の内周面に接するように、下降させて形成された上型と下型の間の空間を密閉空間にし、同時に、上型に設けた前記上パンチを下型に設けた前記ダイス内に嵌入させて前記被焼結粉末に所定の加圧を加える上下型セットステップと、
    前記上下型セット後に、真空ポンプを作動させて前記密閉空間を真空にし、所定の真空度に到達した後に、又は、不活性ガスを前記密閉空間に充満させて所定のガス濃度に到達した後に、上パンチ電極から下パンチ電極まで所定の電流値の電流を流し、前記被焼結粉末にかかる荷重が所定の荷重に到達した時から予め設定された通電時間ほど前記所定の電流値の電流を流す加圧通電制御ステップと、
    上型が所定の位置まで下降したのを検知すると上型を上昇させ、かつ前記下パンチを前記ダイス内で上昇させて焼結体を下型の上表面位置まで押し上げる焼結完了ステップと、
    前記上型を上昇端に位置させて、前記上型の上パンチを囲繞するように配設した筒状の上部外壁の下端と前記下型のダイスを囲繞するように配設した筒状の下部外壁の上端とを上下方向で離隔状態にして、前記焼結体を下型の上表面からの搬出、及び、次の被焼結粉末の投入を同時に行う搬出入ステップと、を備えることを特徴とする高速ダイセット式通電熱加工方法。
  5. 前記上下型セットステップが、下型に嵌入溝が形成されている形態の場合は、前記被焼結粉末投入後に上型を、前記上パンチを囲繞するように配設した筒状の上部外壁の内周面を下型の前記ダイスを囲繞するように配設した筒状の下部外壁の外周面に接するように、又は、前記上パンチを囲繞するように配設した筒状の上部外壁の外周面を下型の前記ダイスを囲繞するように配設した筒状の下部外壁の内周面に接するように、かつ下型の嵌入溝に埋設された前記ストリッパープレートを押し下げながら下降させて形成された上型と下型の間の空間を密閉空間にし、同時に、上型に設けた前記上パンチを下型に設けた前記ダイス内に嵌入させて前記被焼結粉末に所定の加圧を加え、
    前記焼結完了ステップが、上型が所定の位置まで下降したのを検知すると上型を上昇させ、前記ストリッパープレートの上面を下型の上表面位置まで復元させ、かつ前記下パンチを前記ダイス内で上昇させて焼結体を下型の上表面位置まで押し上げることを特徴とする請求項4に記載の高速ダイセット式通電熱加工方法。
JP2016179645A 2016-09-14 2016-09-14 高速ダイセット式通電熱加工装置及びその方法 Active JP6699016B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016179645A JP6699016B2 (ja) 2016-09-14 2016-09-14 高速ダイセット式通電熱加工装置及びその方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016179645A JP6699016B2 (ja) 2016-09-14 2016-09-14 高速ダイセット式通電熱加工装置及びその方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018044207A JP2018044207A (ja) 2018-03-22
JP6699016B2 true JP6699016B2 (ja) 2020-05-27

Family

ID=61692880

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016179645A Active JP6699016B2 (ja) 2016-09-14 2016-09-14 高速ダイセット式通電熱加工装置及びその方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6699016B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7262425B2 (ja) 2020-06-18 2023-04-21 株式会社日本製鋼所 通電焼結方法及び通電焼結装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2018044207A (ja) 2018-03-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107365057B (zh) 大型玻璃成型物成型装置
RU2745247C1 (ru) Устройство для селективного лазерного спекания
WO2014051014A1 (ja) 成形装置及び成形方法
US3555597A (en) Apparatus for hot pressing refractory materials
US3413392A (en) Hot pressing process
EP3130576B1 (en) Frame integrated vacuum hot press apparatus
WO2004076100A1 (ja) 焼結方法及び装置
JP6403421B2 (ja) 焼結装置および焼結方法
KR20190099043A (ko) 기판 상에서 전자 부품을 신터링하기 위한 신터링 프레스 및 신터링 방법
JP6699016B2 (ja) 高速ダイセット式通電熱加工装置及びその方法
KR101735680B1 (ko) 프레임 일체형 진공 핫 프레스장치
JP4893693B2 (ja) 多層回路基板形成用真空熱プレス装置
WO2014181868A1 (ja) ガラス成形体の製造装置、及び、ガラス成形体の製造方法
CN108098254B (zh) 一种液体火箭发动机端面密封静环的热压装置及方法
KR101791486B1 (ko) 스마트폰 글라스 성형 장치의 상부 금형 가압 구조
KR20180131510A (ko) 동일 경로를 반복하여 이동하는 다수 하부금형과 고정된 위치의 승강식 상부 금형을 이용한 스마트폰 글라스 성형 시스템 및 방법
JP3786647B2 (ja) パルス通電加圧焼結用のダイセット及びパルス通電加圧焼結システム
JP2986480B2 (ja) 放電焼結装置及びその装置を用いて放電焼結を行う方法
JP2004010384A (ja) プレス成形方法およびプレス成形装置
CN111960652A (zh) 热成型设备、热成型方法、玻璃件、壳体和电子设备
KR101645587B1 (ko) 반도체 배선용 Cu-Mg 스퍼터링 타겟의 제조방법
JP6198383B2 (ja) 連続式通電焼結装置
CN109080195B (zh) 一种热等静压用机械式包套去除装置
JP2533959B2 (ja) 光学素子成形装置及び光学素子成形方法
JPH0292833A (ja) ガラスレンズの成形装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180910

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20180910

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190731

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190806

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20190912

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20191113

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20191113

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200324

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200402

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6699016

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250