JP6688102B2 - 電鋳により型を製造することを有する方法 - Google Patents
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Description
1.微細構造を含む第1のモールドからUV硬化樹脂を用いたインプリント法により微細構造が転写された第1の樹脂モールドを製造すること。
2.第1の樹脂モールドから電鋳により微細構造を含む金型を製造すること。
この金型を製造することは、以下のステップを含む。
・第1の樹脂モールドの表面にドライ方式またはウェット方式により導電膜を形成すること。
・導電膜を用いて電鋳めっきすること。
・導電膜を形成することの前に、第1の樹脂モールドの表面を、ヒドロキシルラジカルを含む水であるラジカル水により表面処理すること。表面処理することは、ラジカル水に第1の樹脂モールドを浸漬することを含んでもよい。
9 ≦ Cr ≦ 21 ・・・(1)
15≦ Tr ≦ 25 ・・・(2)
10≦ Hr ≦ 40 ・・・(3)
・金型からインプリント法により微細構造が転写された第2の樹脂モールドを製造すること。
・第2の樹脂モールドからインプリント法によりエッチング対象物である基板上に設けられたレジストに微細構造を転写すること。
・エッチングにより基板に微細構造を形成すること。
・基板上に半導体層を積層して半導体発光素子を製造すること。
15≦ Tr ≦ 25 ・・・(2)
10≦ Hr ≦ 40 ・・・(3)
ただし、ヒドロキシルラジカルの濃度Cr、濃度の単位は、μmol/リットル、温度Tr、温度の単位は℃、ラジカル水の浸漬時間(処理時間)Hr、時間の単位は分である。
Claims (6)
- 微細構造を含む第1のモールドからUV硬化樹脂を用いたインプリント法により前記微細構造が転写された第1の樹脂モールドを製造することと、
前記第1の樹脂モールドから電鋳により前記微細構造を含む金型を製造することとを有する方法であって、
前記金型を製造することは、前記第1の樹脂モールドの表面にドライ方式またはウェット方式により導電膜を形成することと、
前記導電膜を用いて電鋳めっきすることと、
前記導電膜を形成することの前に、前記第1の樹脂モールドの表面を、ヒドロキシルラジカルを含む水であるラジカル水により表面処理することとを含み、
前記表面処理することは、前記ヒドロキシルラジカルの濃度Cr、温度Trの前記ラジカル水に時間Hrだけ前記第1の樹脂モールドを浸漬することを含み、
さらに、前記金型はエッチング対象物のレジストに前記微細構造を転写する第2の樹脂モールドを生成するためのスタンパーであり、前記第1の樹脂モールドは前記スタンパー用のマスターであり、前記スタンパーを前記マスターから剥離することを含む、方法。
9 ≦ Cr ≦ 21
15≦ Tr ≦ 25
10≦ Hr ≦ 40
ただし、濃度の単位は、μmol/リットル、温度の単位は℃、時間の単位は分である。 - 請求項1において、
前記微細構造は、1nmから10μmの凹凸構造を含む、方法。 - 請求項1または2において、
前記微細構造はフォトニック結晶構造を含む、方法。 - 請求項1ないし3のいずれかにおいて、
前記導電膜を形成することは、前記第1の樹脂モールドの表面にウェット方式により導電膜を形成することを含む、方法。 - 請求項1ないし4のいずれかにおいて、
前記金型からインプリント法により前記微細構造が転写された前記第2の樹脂モールドを製造することと、
前記第2の樹脂モールドからインプリント法により前記エッチング対象物である基板上に設けられた前記レジストに前記微細構造を転写することと、
エッチングにより前記基板に前記微細構造を形成することとを有する方法。 - 請求項5において、
前記基板上に半導体層を積層して半導体発光素子を製造することを有する方法。
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WO2023008086A1 (ja) * | 2021-07-29 | 2023-02-02 | 信越ポリマー株式会社 | 粘着性保持治具の製造方法 |
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