JP6687389B2 - Light-transmissive conductive film, manufacturing method thereof and use thereof - Google Patents
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Description
本発明は、光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途に関する。 The present invention relates to a light-transmissive conductive film, a method for producing the same, and uses thereof.
タッチパネルに搭載される光透過性導電性フィルムとして、プラスチック等からなる光透過性支持層の少なくとも一方の面に、直接又は他の層を介して、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等を含有する光透過性導電層を配置した光透過性導電性フィルムが数多く用いられている。 As a light-transmitting conductive film to be mounted on a touch panel, a light-transmitting film containing indium tin oxide (ITO) or the like on at least one surface of a light-transmitting support layer made of plastic or the like, directly or through another layer. A large number of light-transmitting conductive films having a conductive conductive layer are used.
上記のフィルムは、光透過性導電層（あるいはさらにその上に層が存在する場合はその層も含めて）をエッチング処理によってパターン化した上で使用されることが多い。このようなフィルムは、光透過性導電層側のフィルム表面の上部から見たときに、光透過性導電層（あるいはその上層）が表面に存在する領域（パターン領域）と、同層が存在せずその下層が露出している領域（エッチング領域）とが観察される。パターン形状は例えば短冊状である。このようなフィルムにおいては、パターン形状が視認されてしまう、いわゆる骨見え現象が生じることが知られている。 The above-mentioned film is often used after patterning the light-transmissive conductive layer (or the layer including the layer if it is present thereon) by an etching process. When such a film is viewed from above the film surface on the side of the light-transmissive conductive layer, the area where the light-transmissive conductive layer (or the upper layer) is present (pattern area) and the same layer are not present. The area where the lower layer is exposed (etching area) is observed. The pattern shape is, for example, a strip shape. It is known that in such a film, a so-called bone appearance phenomenon occurs in which the pattern shape is visually recognized.
このような骨見え現象は、複数の要因により引き起こされる事象ではあるが、一因としてエッチング加工により引き起こされる局所的変形が寄与していると考えられている。 Such a bone appearance phenomenon is an event caused by a plurality of factors, but it is considered that the local deformation caused by the etching process contributes to the phenomenon.
この骨見え現象を抑制するため、局所的変形自体を抑制する目的で、フィルムの基材となる光透過性支持層として十分に厚いもの（例えば１８８μｍ程度）を用いることや、別のフィルムをさらに貼り合わせること等が提案されている。しかしながら、近年はフィルムの薄型軽量化（例えば５０μｍ程度）が求められており、そのような手段は採用できない状況にある。 In order to suppress this bone appearance phenomenon and the purpose of suppressing local deformation itself, use of a sufficiently thick light-transmitting support layer (for example, about 188 μm) as a base material of the film, or another film It is proposed to bond them together. However, in recent years, there has been a demand for thinner and lighter films (for example, about 50 μm), and such means cannot be adopted.
そこで、骨見え現象を抑制する目的で、基板の透明導電層を形成する側の面にコーティング層を設けることにより、屈折率差を小さくして、エッチング領域の見え方の差を小さくする方法が提案されている（特許文献１）。 Therefore, in order to suppress the bone appearance phenomenon, there is a method of reducing the difference in the refractive index and the difference in the appearance of the etched region by providing a coating layer on the surface of the substrate on which the transparent conductive layer is formed. It has been proposed (Patent Document 1).
本発明者は、光透過性導電層をパターン化した光透過性導電性フィルムにおいて、骨見え現象を改善する目的で、エッチング領域の表面に微細な凹凸を形成することを試みた。
しかし、エッチング領域の表面に微細な凹凸を形成した場合には、骨見え現象は抑制される傾向はみられるものの、これはあくまでフィルム全体を曇らせることによりもたらされる効果であり、骨見え現象のみならず、タッチパネルに搭載して使用する際には表示画像そのものまでもが見えにくくなってしまうという問題があることを見出した。言い換えれば、従来の方法ではヘイズ値が高くなりすぎてタッチパネルに搭載して使用する際には画面の輝度が低下してしまうという問題があることを本発明者は見出した。The present inventor has attempted to form fine irregularities on the surface of the etching region in the light-transmitting conductive film having the light-transmitting conductive layer patterned for the purpose of improving the bone appearance phenomenon.
However, when fine irregularities are formed on the surface of the etching region, the bone appearance phenomenon tends to be suppressed, but this is only an effect brought by clouding the entire film, and if it is only the bone appearance phenomenon. However, they found that there is a problem in that even the display image itself becomes difficult to see when it is mounted on a touch panel and used. In other words, the present inventor has found that the conventional method has a problem that the haze value becomes too high and the brightness of the screen decreases when it is mounted on a touch panel and used.
したがって、本発明は、（１）光透過性導電層がパターン化された際の骨見え現象の抑制度合い及び（２）ヘイズ値のバランスが改善された、光透過性導電性フィルムを提供することを課題とする。 Therefore, the present invention provides a light-transmissive conductive film having (1) a degree of suppression of a bone appearance phenomenon when the light-transmissive conductive layer is patterned, and (2) an improved balance of haze values. Is an issue.
本発明者らは、鋭意検討を重ね、光透過性支持層と光透過性導電層の間、又は光透過性支持層の光透過性導電層とは反対側の面に突起を有する層（突起層）を設け、この突起の形状を、フィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分の割合が比較的高いものとすることにより、乱反射を抑制しつつ界面反射を効果的に揺るがせることができ、ひいてはヘイズ値を抑制しつつ、効果的に骨見え現象を抑制できることを見出した。 The inventors of the present invention have made extensive studies, and a layer having a protrusion between the light-transmissive support layer and the light-transmissive conductive layer or on the surface of the light-transmissive support layer opposite to the light-transmissive conductive layer (projection). By providing a layer) and making the shape of this projection relatively high in the portion where the inclination is 3 ° or more with respect to the main surface direction of the film, interface reflection can be effectively shaken while suppressing irregular reflection. It was found that the bone appearance phenomenon can be effectively suppressed while suppressing the haze value.
本発明は、これらの新たな知見に基づいてさらに種々の検討を重ねることにより完成されたものであり、次に掲げるものである。
項１
（Ａ）光透過性支持層；
（Ｂ）突起層；及び
（Ｃ）光透過性導電層
を含有し、
前記突起層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ突起層（Ｂ）と同じ面に配置されている場合は少なくとも突起層（Ｂ）を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって：
前記突起層（Ｂ）の光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面が、凸曲面を有する複数の突起を有し、かつ
フィルムの主面に直交する面における前記突起（ただし、裾野部分のうちフィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分を突起とみなす）の断面図の、フィルムの主面方向への投影直線の長さＸにおいて、
前記断面図のうち、フィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分の投影直線の長さ合計が占める割合が７０％以上である、光透過性導電性フィルム。
項２
前記突起の頂上が、
平面又は
曲率５×１０５ ｍ−１ 未満の曲面
である、項１に記載の光透過性導電性フィルム。
項３
前記突起層（Ｂ）の前記表面が前記突起を、１ｍｍ２あたり１００個〜１０，０００個有する、項１〜３のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
項４
前記突起の裾野部分のうちフィルムの主面方向に対する斜度が１０°以上の部分を突起とみなす、項１〜３のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
項５
少なくとも一つの前記突起層（Ｂ）が、凸曲面の最大斜度が１５°以下である突起を有する突起層（Ｂ１）である、項１〜４のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
項６
少なくとも一つの前記突起層（Ｂ）が、凸曲面の最大斜度が３０°以上である突起を有する突起層（Ｂ２）であり、かつ少なくとも一つの前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の前記突起層（Ｂ２）とは反対側の面に配置されている、項１〜５のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。The present invention has been completed by further various studies based on these new findings, and is as follows.
(A) Light-transmissive support layer;
(B) a protruding layer; and (C) a light-transmissive conductive layer,
The protrusion layer (B) is disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers, and the light transmissive conductive layer (C). Is disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers, and is disposed on the same surface as the protrusion layer (B). A light-transmissive conductive film disposed at least through a protrusion layer (B), comprising:
The surface of the projection layer (B) opposite to the light-transmissive support layer (A) has a plurality of projections having a convex curved surface, and the projection (provided that the skirt is in the skirt In the cross-sectional view of a portion of which the inclination with respect to the main surface direction of the film is 3 ° or more is regarded as a projection), in the length X of the projected straight line in the main surface direction of the film,
In the cross-sectional view, the light-transmissive conductive film, wherein the total length of the projected straight lines in the portion where the inclination of the film with respect to the main surface direction is 3 ° or more is 70% or more.
The top of the protrusion is
Item 4. The light-transmissive conductive film according to any one of
Item 4
Item 4. The light-transmissive conductive film according to any one of
Item 5
Item 5. The light-transmissive conductive film according to any one of
Item 6
At least one of the protrusion layers (B) is a protrusion layer (B2) having protrusions whose maximum curved surface has a maximum inclination of 30 ° or more, and at least one of the light-transmissive conductive layers (C) is Item 6. The light-transmissive conductive film according to any one of
本発明によれば、乱反射を抑制しつつ界面反射を効果的に揺らがせることができる。本発明によれば、このようにしてヘイズ値を適度に抑制しつつ、効果的に骨見え現象を抑制できる。 According to the present invention, interface reflection can be effectively fluctuated while suppressing irregular reflection. According to the present invention, the bone appearance phenomenon can be effectively suppressed while appropriately suppressing the haze value in this way.
１． 光透過性導電性フィルム
本発明の光透過性導電性フィルムは、
（Ａ）光透過性支持層；
（Ｂ）突起層；及び
（Ｃ）光透過性導電層
を含有し、
前記突起層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ突起層（Ｂ）と同じ面に配置されている場合は少なくとも突起層（Ｂ）を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって：
前記突起層（Ｂ）の光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面が、凸曲面を有する複数の突起を有し、かつ
フィルムの主面に直交する面における前記突起（ただし、裾野部分のうちフィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分を突起とみなす）の断面図の、フィルムの主面方向への投影直線の長さＸにおいて、
前記断面図のうち、フィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分の投影直線の長さ合計が占める割合が７０％以上であることを特徴とする、光透過性導電性フィルム
である。1. Light-transmissive conductive film The light-transmissive conductive film of the present invention comprises
(A) Light-transmissive support layer;
(B) a protruding layer; and (C) a light-transmissive conductive layer,
The protrusion layer (B) is disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers, and the light transmissive conductive layer (C). Is disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers, and is disposed on the same surface as the protrusion layer (B). A light-transmissive conductive film disposed at least through a protrusion layer (B), comprising:
The surface of the projection layer (B) opposite to the light-transmissive support layer (A) has a plurality of projections having a convex curved surface, and the projection (provided that the skirt is in the skirt In the cross-sectional view of a portion of which the inclination with respect to the main surface direction of the film is 3 ° or more is regarded as a projection), in the length X of the projected straight line in the main surface direction of the film,
In the cross-sectional view, the light-transmissive conductive film is characterized in that the proportion of the total length of the projected straight lines in the portion where the inclination of the film with respect to the main surface direction is 3 ° or more is 70% or more. .
本発明において「光透過性」とは、光を透過させる性質を有する（ｔｒａｎｓｌｕｃｅｎｔ）ことを意味する。「光透過性」には、透明（ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ）が含まれる。「光透過性」とは、例えば、全光線透過率が８０％以上、好ましくは８５％以上、より好ましくは８７％以上である性質をいう。本発明において全光線透過率は、ヘーズメーター（日本電色社製、商品名：ＮＤＨ−２０００、またはその同等品）を用いてＪＩＳ−Ｋ−７１０５に基づいて測定する。 In the present invention, “light transmissive” means having a property of transmitting light (translucent). "Light transmissive" includes transparent. The "light transmissivity" means, for example, a property that the total light transmittance is 80% or more, preferably 85% or more, more preferably 87% or more. In the present invention, the total light transmittance is measured based on JIS-K-7105 using a haze meter (trade name: NDH-2000 manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd. or its equivalent).
本明細書において、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に配置される複数の層のうち二つの層の相対的な位置関係について言及する場合、光透過性支持層（Ａ）を基準にして、光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きい一方の層を「上の層」等といい、光透過性支持層（Ａ）からの距離が小さい他方の層を「下の層」等ということがある。 In the present specification, when referring to a relative positional relationship between two layers among a plurality of layers arranged on one surface of the light transmissive support layer (A), the light transmissive support layer (A) is used as a reference. And one layer having a large distance from the light-transmitting support layer (A) is referred to as an “upper layer”, and the other layer having a smaller distance from the light-transmitting support layer (A) is referred to as a “lower layer”. , Etc.
以下の各層についての説明箇所において特に明記されていない限り、本発明において、各層の厚さは、市販の反射分光膜厚計（大塚電子、ＦＥ−３０００、又はその同等品）を用いて求める。又は、代替的に、市販の透過型電子顕微鏡を用いた観察により求めてもよい。具体的には、ミクロトーム又は収束イオンビーム等を用いて光透過性導電性フィルムをフィルム面に対して垂直方向に薄く切断し、その断面を観察する。 In the present invention, the thickness of each layer is obtained by using a commercially available reflection spectroscopic film thickness meter (Otsuka Electronics, FE-3000, or its equivalent) unless otherwise specified in the description of each layer below. Alternatively, it may be obtained by observation using a commercially available transmission electron microscope. Specifically, a light transmissive conductive film is thinly cut in a direction perpendicular to the film surface using a microtome or a focused ion beam, and the cross section is observed.
図１に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、突起層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で配置されている。 FIG. 1 shows one embodiment of the light-transmitting conductive film of the present invention. In this aspect, the protrusion layer (B) and the light-transmissive conductive layer (C) are arranged in this order on one surface of the light-transmissive support layer (A).
図２に、本発明の光透過性導電性フィルムの別の態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の両方の面に、突起層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で配置されている。 FIG. 2 shows another embodiment of the light transmissive conductive film of the present invention. In this aspect, the protrusion layer (B) and the light-transmissive conductive layer (C) are arranged in this order on both surfaces of the light-transmissive support layer (A).
１．１ 光透過性支持層（Ａ）
本発明において光透過性支持層とは、光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性導電層を含有する層を支持する役割を果たすものをいう。光透過性支持層（Ａ）としては、特に限定されず、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性支持層として通常用いられるものを用いることができる。1.1 Light-transmissive support layer (A)
In the present invention, the light-transmissive support layer means a layer that plays a role of supporting the layer containing the light-transmissive conductive layer in the light-transmissive conductive film containing the light-transmissive conductive layer. The light-transmissive support layer (A) is not particularly limited, and for example, a light-transmissive support layer usually used in a light-transmissive conductive film for a touch panel can be used.
光透過性支持層（Ａ）の素材は、特に限定されず、例えば、各種の有機高分子等を挙げることができる。有機高分子としては、特に限定されず、例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリメタクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、及びポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、特に限定されず、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等が挙げられる。光透過性支持層（Ａ）の素材は、ポリエステル系樹脂が好ましく、特にＰＥＴが好ましい。光透過性支持層（Ａ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。 The material of the light-transmitting support layer (A) is not particularly limited, and examples thereof include various organic polymers. The organic polymer is not particularly limited, and examples thereof include polyester resin, acetate resin, polyether resin, polycarbonate resin, polyacrylic resin, polymethacrylic resin, polystyrene resin, polyolefin resin, and polyimide resin. Examples thereof include resins, polyamide-based resins, polyvinyl chloride-based resins, polyacetal-based resins, polyvinylidene chloride-based resins, and polyphenylene sulfide-based resins. The polyester resin is not particularly limited, and examples thereof include polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN). The material of the light transmissive support layer (A) is preferably a polyester resin, and particularly preferably PET. The light transmissive support layer (A) may be composed of any one of these, or may be composed of a plurality of kinds.
光透過性支持層（Ａ）の厚さは、特に限定されず、例えば、２〜３００μｍの範囲が挙げられる。 The thickness of the light-transmissive support layer (A) is not particularly limited and may be, for example, in the range of 2 to 300 μm.
１．２ 突起層（Ｂ）
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して突起層（Ｂ）が配置されている。突起層（Ｂ）は、好ましくは光透過性支持層（Ａ）の面に、直接配置されている。1.2 Protrusion layer (B)
In the light transmissive conductive film of the present invention, the projection layer (B) is arranged on at least one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers. The protrusion layer (B) is preferably arranged directly on the surface of the light transmissive support layer (A).
光透過性支持層（Ａ）の一方の面のみに、突起層（Ｂ）が配置されていてもよく、この場合、突起層（Ｂ）は光透過性導電層（Ｃ）と同じ側に配置されていてもよいし（図１）、光透過性導電層（Ｃ）がない面に配置されていてもよい（図３）。 The protrusion layer (B) may be disposed only on one surface of the light transmissive support layer (A), in which case the protrusion layer (B) is disposed on the same side as the light transmissive conductive layer (C). It may be provided (FIG. 1) or may be arranged on the surface having no light-transmissive conductive layer (C) (FIG. 3).
光透過性支持層（Ａ）の両方の面に、突起層（Ｂ）がそれぞれ配置されていてもよい（図４）。 The protrusion layers (B) may be arranged on both surfaces of the light transmissive support layer (A) (FIG. 4).
突起層（Ｂ）は、光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面が、凸曲面を有する複数の突起を有し、かつフィルムの主面に直交する面における前記突起（ただし、裾野部分のうちフィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分を突起とみなす）の断面図の、フィルムの主面方向への投影直線の長さＸにおいて、前記断面図のうち、フィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分の投影直線の長さ合計が占める割合が７０％以上であるという特性を備える。 The projection layer (B) has a plurality of projections each having a convex curved surface on the surface opposite to the light-transmissive support layer (A), and the projections (provided that the skirt is at the skirt) in a surface orthogonal to the main surface of the film. Of the cross-sectional view of a portion of which the inclination with respect to the principal surface direction of the film is 3 ° or more is regarded as a projection), at the length X of the projected straight line in the principal surface direction of the film, It has a characteristic that the ratio of the total length of the projection straight lines in the portion having the inclination of 3 ° or more with respect to the main surface direction is 70% or more.
特に限定されるものではないが、突起断面図のフィルムの主面方向への投影直線の長さＸは通常、０．１μｍ〜１５μｍである。 Although not particularly limited, the length X of the projection straight line of the projection sectional view in the principal surface direction of the film is usually 0.1 μm to 15 μm.
図５に、フィルムの主面に直交する面における突起の断面図が示してある。図５には、フィルムの主面方向への投影直線の長さＸ、及びフィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分の投影直線の長さｘ１及びｘ２も示してある。すなわち、この図において、ｘ１及びｘ２の合計値は、Ｘの７０％以上である。FIG. 5 shows a cross-sectional view of the protrusion on the surface orthogonal to the main surface of the film. FIG. 5 also shows the length X of the projected straight line in the main surface direction of the film, and the lengths x 1 and x 2 of the projected straight line of the portion having the inclination of 3 ° or more with respect to the main surface direction of the film. That is, in this figure, the total value of x 1 and x 2 is 70% or more of X.
前記突起は、フィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分の割合が比較的高いという特徴を有している。本発明の光透過性導電性フィルムは、この斜度が３°以上の部分において効果的な反射光の散乱が起きるため、乱反射を抑制しつつ界面反射を効果的に揺らがせることができるという優れた効果を奏する。本発明者らの検討により、フィルムの主面方向に対する斜度が３°未満の部分は、反射光の散乱にほとんど寄与しないということが判っている。 The protrusions are characterized in that the proportion of the portion having a slope of 3 ° or more with respect to the main surface direction of the film is relatively high. The light-transmitting conductive film of the present invention is excellent in that it is possible to effectively fluctuate interface reflection while suppressing irregular reflection because effective scattering of reflected light occurs in a portion where the inclination is 3 ° or more. Produce the effect. According to the study by the present inventors, it is known that the portion where the inclination of the film with respect to the main surface direction is less than 3 ° hardly contributes to the scattering of the reflected light.
また、本発明の好ましい態様においては、突起層（Ｂ）の突起の裾野部分のうちフィルムの主面方向に対する斜度が１０°以上の部分を突起とみなす。なお、この態様においても、突起層（Ｂ）の突起は、前記断面図のうち、フィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分の投影直線の長さ合計が占める割合が７０％以上であるという特性を備える。 Further, in a preferred embodiment of the present invention, a portion of the skirt portion of the protrusion of the protrusion layer (B) having an inclination of 10 ° or more with respect to the main surface direction of the film is regarded as a protrusion. Even in this aspect, the projections of the projection layer (B) have a proportion of the total length of the projected straight lines of the portion having an inclination of 3 ° or more with respect to the main surface direction of the film in the cross-sectional view of 70% or more. It has the property of being
本発明の一つの態様においては、少なくとも一つの突起層（Ｂ）が、凸曲面の最大斜度が１５°以下である突起を有する突起層（Ｂ１）である。突起層（Ｂ１）の突起の凸曲面の最大斜度は好ましくは６〜１５°であり、より好ましくは８〜１５°である。突起層（Ｂ１）は、パターン化される光透過性導電層（Ｃ）と同じ側の光透過性支持層（Ａ）の面に配置されていてもよいし、異なる側に配置されていてもよい。 In one aspect of the present invention, at least one protrusion layer (B) is a protrusion layer (B1) having protrusions whose maximum slope of a convex curved surface is 15 ° or less. The maximum inclination of the convex curved surface of the protrusion of the protrusion layer (B1) is preferably 6 to 15 °, more preferably 8 to 15 °. The protrusion layer (B1) may be arranged on the surface of the light-transmissive support layer (A) on the same side as the light-transmissive conductive layer (C) to be patterned, or on the different side. Good.
本発明の一つの態様においては、少なくとも一つの突起層（Ｂ）が、凸曲面の最大斜度が３０°以上である突起を有する突起層（Ｂ２）である。突起層（Ｂ２）の突起の凸曲面の最大斜度は好ましくは３０〜８０°であり、より好ましくは４０〜７０°である。突起層としてこのような突起を有する突起層（Ｂ２）を備える場合、フィルムの見た目が比較的クリアなままとなり、マット感が付与されて見た目が損なわれる現象を緩和できるため有利である。ただし、突起層（Ｂ２）は、パターン化される光透過性導電層（Ｃ）とは反対側の光透過性支持層（Ａ）の面に配置されていることが好ましい。パターン化される光透過性導電層（Ｃ）とは反対側に突起層（Ｂ２）が配置されていると、フィルムにマット感が付与されにくく、見た目が損なわれにくくなる。 In one aspect of the present invention, at least one protrusion layer (B) is a protrusion layer (B2) having protrusions having a maximum convex slope of 30 ° or more. The maximum inclination of the convex curved surface of the protrusion of the protrusion layer (B2) is preferably 30 to 80 °, more preferably 40 to 70 °. When the protrusion layer (B2) having such protrusions is provided as the protrusion layer, the appearance of the film remains relatively clear, and it is advantageous because a matte feeling is imparted and the appearance is impaired. However, the protruding layer (B2) is preferably arranged on the surface of the light-transmissive support layer (A) opposite to the light-transmissive conductive layer (C) to be patterned. When the protrusion layer (B2) is arranged on the side opposite to the light-transmissive conductive layer (C) to be patterned, it is difficult to give a matte feeling to the film and the appearance is not easily damaged.
本発明において、以下に掲げる突起の各種評価は、エッチング処理によって上層を除去（測定の前処理）してから行う。エッチング処理は以下のようにして行う。光透過性導電性フィルムを２０％塩酸に浸漬し、表面抵抗が計測不能になるまでエッチング処理を続ける。 In the present invention, various evaluations of the protrusions listed below are performed after the upper layer is removed by etching (pretreatment for measurement). The etching process is performed as follows. The transparent conductive film is immersed in 20% hydrochloric acid, and the etching treatment is continued until the surface resistance cannot be measured.
本発明において、突起における斜度が３°以上又は１０°以上の部分の割合の測定は、以下の通り行う。
＜斜度の測定方法＞
表面にカーボンを蒸着後、ＦＩＢ−ＳＥＭ（ＦＥＩ社製 Ｈｅｌｉｏｓ ＮａｎｏＬａｂ ６５０、又はその同等品）により観察し、突起部についてＦＩＢ（収束イオンビーム）加工により断面を作製後、断面を観察して突起の高さ、突起径（ただし、裾野部分のうちフィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分を突起とみなす：図５のＸ）、最大斜度θmaxおよび３°以上の斜面（裾野および頂上付近の緩斜面を除く３°以上の斜面を水平面に投影した距離の和：図５のｘ１＋ｘ２）の割合をｎ＝３で求める。In the present invention, the measurement of the ratio of the portion of the protrusion having the inclination of 3 ° or more or 10 ° or more is performed as follows.
<Measurement method of slope>
After depositing carbon on the surface, it is observed by FIB-SEM (Helios NanoLab 650 manufactured by FEI Co., Ltd., or its equivalent), and after the cross section is formed by FIB (focused ion beam) processing, the cross section is observed and the projection is formed. Height, projection diameter (however, of the skirt portion, a portion having a slope of 3 ° or more with respect to the main surface direction of the film is regarded as a protrusion: X in FIG. 5), a maximum slope θmax and a slope of 3 ° or more (skirt and The sum of the distances obtained by projecting slopes of 3 ° or more excluding the gentle slope near the top onto a horizontal plane: x 1 + x 2 in FIG. 5 is calculated as n = 3.
なお、本発明において突起の凸曲面の最大斜度は、断面図の左右の斜面において最大のものを意味する。 In the present invention, the maximum slope of the convex curved surface of the projection means the maximum on the left and right slopes of the sectional view.
上記において、断面の作製時には、より詳細には、凸曲面が概ね最もよく現れるように、かつ断面積が概ね最大となるように突起を切断する。 In the above, when manufacturing the cross-section, more specifically, the projection is cut so that the convex curved surface appears approximately best and the cross-sectional area becomes approximately maximum.
本発明の効果の面では、突起層（Ｂ）の光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面が、前記突起を１ｍｍ２あたり、１００個〜１０，０００個有していれば好ましく、２００〜５，０００個有していればより好ましく、３００〜１，０００個有していればさらに好ましい。From the viewpoint of the effect of the present invention, it is preferable that the surface of the projection layer (B) opposite to the light transmissive support layer (A) has 100 to 10,000 projections per mm 2. , 200 to 5,000 are more preferable, and 300 to 1,000 are more preferable.
本発明において、単位面積あたりの突起の数の測定は、以下の通り行う。 In the present invention, the number of protrusions per unit area is measured as follows.
＜単位面積あたりの突起の数の測定方法＞
レーザー顕微鏡（ＫＥＹＥＮＣＥ社製 ＶＫ−９５００、又はその同等品）を用いて測定倍率１０倍、測定面積１．４１７ｍｍ×０．９８６ｍｍの範囲内の突起数を形状解析ソフトにて求め、１ｍｍ２当たりの突起数に換算する。<Method of measuring the number of protrusions per unit area>
Using a laser microscope (VK-9500 manufactured by KEYENCE, or its equivalent), the number of protrusions within a range of a measurement magnification of 10 times and a measurement area of 1.417 mm × 0.986 mm was obtained with shape analysis software, and per 1 mm 2 Convert to the number of protrusions.
本発明の効果の面では、前記突起を有する突起層（Ｂ）の面を基準面とする前記突起の最大高さの平均値が、０．１μｍ〜１μｍであれば好ましく、０．２μｍ〜０．６μｍであればさらに好ましい。 From the viewpoint of the effect of the present invention, the average value of the maximum heights of the protrusions with the surface of the protrusion layer (B) having the protrusions as a reference surface is preferably 0.1 μm to 1 μm, and 0.2 μm to 0 μm. More preferably, it is 0.6 μm.
本発明において、突起の最大高さの平均値は、以下の通り算出する。 In the present invention, the average value of the maximum heights of the protrusions is calculated as follows.
＜突起の最大高さの平均値を算出する方法＞
非接触式三次元表面粗さ計を用いて測定倍率２５倍、測定面積２８３μｍ×２１３μｍの条件にて３次元の表面形状を測定する。非接触式三次元表面粗さ計に内蔵された表面解析ソフトを用いて突起の最大粗さ（ＳＲｍａｘ）と、３次元の１０点平均粗さ（ＳＲｚ）を求める。突起の最大粗さ（ＳＲｍａｘ）を「前記突起を有する突起層（Ｂ）の面を基準面とする前記突起の最大高さ」とし、３次元の１０点平均粗さ（ＳＲｚ）を「前記突起を有する突起層（Ｂ）の面を基準面とする前記突起の最大高さ」とする。<Method of calculating average value of maximum height of protrusions>
Using a non-contact type three-dimensional surface roughness meter, a three-dimensional surface shape is measured under the conditions of a measurement magnification of 25 times and a measurement area of 283 μm × 213 μm. The maximum roughness (SRmax) of the protrusion and the three-dimensional average roughness of 10 points (SRz) are obtained using the surface analysis software built in the non-contact type three-dimensional surface roughness meter. The maximum roughness (SRmax) of the protrusion is defined as "the maximum height of the protrusion with the surface of the protrusion layer (B) having the protrusion as a reference surface", and the three-dimensional 10-point average roughness (SRz) is defined as "the protrusion. “The maximum height of the protrusion with the surface of the protrusion layer (B) having the above as a reference surface”.
なお、突起層（Ｂ）の表面にアンダーコート層等の数十ナノメートル程度の厚さの他の層が存在する場合は、当該他の層を除去せずにそのまま当該他の層で覆われた表面の凹凸形状を測定してもよい。 If another layer having a thickness of about several tens of nanometers, such as an undercoat layer, is present on the surface of the protrusion layer (B), the other layer is directly covered with the other layer without being removed. The uneven shape of the surface may be measured.
前記突起は、特に限定されず、例えば、突起層（Ｂ）に一部が埋まっている微粒子又は異形微粒子の、突起層（Ｂ）の表面から突出している部分に相当するものであってもよい。 The protrusion is not particularly limited, and may correspond to, for example, a portion of fine particles or irregular-shaped fine particles partially embedded in the protrusion layer (B) protruding from the surface of the protrusion layer (B). .
別の態様として、前記突起は、突起層（Ｂ）に全体が埋まっている上記微粒子又は異形微粒子の形状を反映して、周辺のバインダー成分が隆起することにより形成される突起であってもよい（図６）。このとき、微粒子の形状は、頂上付近に凸曲面を有しているものであればよく、特に限定されず、例えば、球状、回転楕円体等であってもよい。 As another aspect, the protrusions may be protrusions formed by the protrusion of the binder component in the periphery, which reflects the shape of the above-mentioned fine particles or irregular-shaped fine particles which are entirely buried in the projection layer (B). (Fig. 6). At this time, the shape of the fine particles is not particularly limited as long as it has a convex curved surface near the top, and may be, for example, a spherical shape, a spheroid, or the like.
別の態様として、前記突起は、突起層（Ｂ）の下層に設けられている突起が突起層（Ｂ）の表面に突出したものであってもよい（図７）。また、前記突起は、同様に突起層（Ｂ）の下層に設けられている突起であって、突起層（Ｂ）に全体が埋まっている突起の形状を反映して、周辺のバインダー成分が隆起することにより形成される突起であってもよい。 As another aspect, the protrusion may be a protrusion provided on the lower layer of the protrusion layer (B) protruding from the surface of the protrusion layer (B) (FIG. 7). Further, the above-mentioned protrusions are also protrusions provided in the lower layer of the protrusion layer (B), and the binder component in the periphery is raised to reflect the shape of the protrusions entirely embedded in the protrusion layer (B). It may be a protrusion formed by
突起層（Ｂ）が光透過性導電層（Ｃ）の下層側に設けられている場合、光透過性導電層（Ｃ）の導電性の点では、前記突起の頂上がバインダー成分に覆われている方が好ましい。 When the protrusion layer (B) is provided on the lower layer side of the light-transmitting conductive layer (C), the top of the protrusion is covered with the binder component in terms of conductivity of the light-transmitting conductive layer (C). It is better to have
突起層（Ｂ）が光透過性導電層（Ｃ）の下層側に設けられている場合、光透過性導電層（Ｃ）の導電性の点では、前記突起の頂上が平面であるか、あるいは曲率５×１０５ ｍ−１未満の曲面であることが好ましい。When the protrusion layer (B) is provided on the lower layer side of the light-transmissive conductive layer (C), the top of the protrusion is a flat surface in terms of conductivity of the light-transmissive conductive layer (C), or It is preferable that the curved surface has a curvature of less than 5 × 10 5 m −1 .
別の態様として、前記突起は、型の転写により突起層（Ｂ）の表面に付与されたものであってもよい（図８）。 As another aspect, the protrusion may be provided on the surface of the protrusion layer (B) by transfer of a mold (FIG. 8).
別の態様として、前記突起は、突起層（Ｂ）を形成した後に、後加工（印刷及びインクジェット等）により突起層（Ｂ）の表面に付与されたものであってもよい（図９）。 As another aspect, the protrusion may be provided on the surface of the protrusion layer (B) by post-processing (printing, inkjet, etc.) after forming the protrusion layer (B) (FIG. 9).
好ましくは、突起層（Ｂ）は、微粒子、及びバインダー成分を含有する。 Preferably, the protrusion layer (B) contains fine particles and a binder component.
前記微粒子としては、特に限定されず、好ましくは透明有機高分子粒子、透明無機粒子及び有機無機ハイブリッド粒子等を使用できる。 The fine particles are not particularly limited, and preferably transparent organic polymer particles, transparent inorganic particles, organic-inorganic hybrid particles and the like can be used.
バインダー成分としては、特に限定されず、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、メラミン系樹脂及びアルキド系樹脂等が挙げられる。突起層（Ｂ）は、これらのうちいずれか単独をバインダー成分として含有していてもよいし、複数種をバインダー成分として含有していてもよい。 The binder component is not particularly limited, and examples thereof include acrylic resin, silicone resin, melamine resin, and alkyd resin. The protrusion layer (B) may contain any one of these as a binder component, or may contain a plurality of types as a binder component.
上記において、前記微粒子及び前記バインダー成分の屈折率差が０．１以下であれば好ましい。屈折率差がこの範囲内にあれば、光を透過させた際に、フィルム全面に渡り均一な透過光が得られるため好ましい。屈折率差がこの範囲内となるように適宜材料を選択すればよい。 In the above, it is preferable that the difference in refractive index between the fine particles and the binder component is 0.1 or less. When the difference in refractive index is within this range, it is preferable because when transmitting light, uniform transmitted light can be obtained over the entire surface of the film. Materials may be appropriately selected so that the refractive index difference is within this range.
突起層（Ｂ）は、本発明の効果が奏される限り特に限定されず、前記微粒子に加えてその他の成分をさらに含有していてもよい。その他の成分としては、本発明の効果が奏される限り特に限定されず、例えば、シリカ、ジルコニア、チタニア及びアルミナ等のコロイド粒子、並びにケイ素系有機無機ハイブリッド高分子等が挙げられる。突起層（Ｂ）は、前記微粒子に加えて、これらのうちいずれか単独をさらに含有していてもよいし、複数種をさらに含有していてもよい。 The projection layer (B) is not particularly limited as long as the effects of the present invention are exhibited, and may further contain other components in addition to the fine particles. Other components are not particularly limited as long as the effects of the present invention are exhibited, and examples thereof include colloidal particles of silica, zirconia, titania, alumina and the like, and silicon-based organic-inorganic hybrid polymers. The protrusion layer (B) may further contain any one of these in addition to the fine particles, or may further contain a plurality of types.
突起層（Ｂ）の厚さ（突起を含めない厚さ）は、０．５〜５μｍであり、好ましくは１〜４μｍ、より好ましくは１〜３μｍである。突起層（Ｂ）の厚さが０．５μｍよりも大きいと、粒子が脱落しにくくなるという利点が得られる。また、突起層（Ｂ）の厚さが５μmよりも小さいと、突起高さの均一性が高まるという利点が得られる。 The thickness of the protrusion layer (B) (thickness not including protrusions) is 0.5 to 5 μm, preferably 1 to 4 μm, and more preferably 1 to 3 μm. When the thickness of the protrusion layer (B) is larger than 0.5 μm, it is possible to obtain an advantage that particles are less likely to fall off. Further, when the thickness of the protrusion layer (B) is smaller than 5 μm, there is an advantage that the uniformity of the protrusion height is enhanced.
突起が、突起層（Ｂ）に一部又は全部が埋まっている微粒子又は異形微粒子に基づいて形成されるものである場合、突起層（Ｂ）の厚さは、当該微粒子又は異形微粒子の高さよりもわずかに薄いものであれば好ましい。 When the protrusions are formed based on fine particles or irregularly shaped fine particles partially or wholly embedded in the protrusion layer (B), the thickness of the protrusion layer (B) is more than the height of the fine particles or irregularly shaped fine particles. Also, it is preferable if it is slightly thin.
本発明において、突起層（Ｂ）の厚さは、次のようにして測定する。透過型電子顕微鏡観察により求める。具体的には、ミクロトーム又は収束イオンビーム等を用いて光透過性導電性フィルムを薄く切断して、その断面を観察する。 In the present invention, the thickness of the protrusion layer (B) is measured as follows. It is determined by observation with a transmission electron microscope. Specifically, a microtome, a focused ion beam, or the like is used to thinly cut the light-transmitting conductive film, and the cross section is observed.
突起層（Ｂ）は、他のさらなる機能を兼ね備える層とすることもできる。例えば、光学調整層としての機能を同時に突起層（Ｂ）に付与してもよい。この場合、突起層（Ｂ）が例えば、上方が低屈折領域、下方に高屈折率領域がそれぞれ配置されている、境界が明瞭でなくてもよい多層構造を有するものであってもよい。 The protrusion layer (B) can also be a layer having other additional functions. For example, the function as an optical adjustment layer may be simultaneously given to the protrusion layer (B). In this case, the protrusion layer (B) may have a multi-layer structure in which the boundary is not clear, in which the low refractive index region is arranged above and the high refractive index region is arranged below.
突起層（Ｂ）を下地となる層の上に配置する方法としては、特に限定されず、例えば、フィルムに原料を塗布したうえで、熱で硬化する方法、及び紫外線や電子線等の活性エネルギー線で硬化する方法等が挙げられる。生産性の点で、紫外線により硬化する方法が好ましい。 The method for disposing the protrusion layer (B) on the underlying layer is not particularly limited, and examples thereof include a method of coating a film with a raw material and then curing the film by heat, and active energy such as ultraviolet rays and electron beams. Examples include a method of curing with a wire. From the viewpoint of productivity, the method of curing with ultraviolet rays is preferable.
より具体的には、突起層（Ｂ）が前記バインダー成分及び前記微粒子を含有する場合は以下のようにして下地となる層の上に突起層（Ｂ）を配置することができる。
（１）前記バインダー成分及び前記微粒子を含有する原料を用いて前記突起層（Ｂ）を形成する工程を含有する方法により配置することができる。前記工程（１）において、下地となる層の上に前記原料を塗布することにより前記突起層（Ｂ）を形成することがより好ましい。More specifically, when the protrusion layer (B) contains the binder component and the fine particles, the protrusion layer (B) can be arranged on the underlying layer as follows.
(1) It can be arranged by a method including a step of forming the protrusion layer (B) using a raw material containing the binder component and the fine particles. In the step (1), it is more preferable that the protrusion layer (B) is formed by applying the raw material on a layer serving as a base.
あるいは、前記のような微粒子を使用せず、インプリント等の方法により所望の突起を突起層（Ｂ）の表面に設けることもできる。 Alternatively, desired projections may be provided on the surface of the projection layer (B) by a method such as imprinting without using the fine particles as described above.
１．３ 光透過性導電層（Ｃ）
光透過性導電層（Ｃ）は、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている。1.3 Light-transmissive conductive layer (C)
The light transmissive conductive layer (C) is arranged on one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers.
光透過性導電層（Ｃ）は、光透過性支持層（Ａ）の面のうち、突起層（Ｂ）と同じ面に配置されている場合は少なくとも突起層（Ｂ）を介して配置されている。 When the light-transmissive conductive layer (C) is disposed on the same surface of the light-transmissive support layer (A) as the protrusion layer (B), it is disposed at least through the protrusion layer (B). There is.
本発明において光透過性導電層とは、電気を導通しかつ可視光を透過する役割を果たすものをいう。光透過性導電層（Ｃ）としては、特に限定されず、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて光透過性導電層として通常用いられるものを用いることができる。 In the present invention, the light-transmissive conductive layer means a layer that conducts electricity and transmits visible light. The light-transmissive conductive layer (C) is not particularly limited and, for example, a layer that is usually used as a light-transmissive conductive layer in a light-transmissive conductive film for a touch panel can be used.
光透過性導電層（Ｃ）の素材は、特に限定されず、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化錫及び酸化チタン等が挙げられる。光透過性導電層（Ｃ）としては、透明性と導電性を両立する点で酸化インジウムにドーパントをドープしたものを含む光透過性導電層が好ましい。光透過性導電層（Ｃ）は、酸化インジウムにドーパントをドープしたものからなる光透過性導電層であってもよい。ドーパントとしては、特に限定されず、例えば、酸化スズ及び酸化亜鉛、並びにそれらの混合物等が挙げられる。 The material of the light transmissive conductive layer (C) is not particularly limited, and examples thereof include indium oxide, zinc oxide, tin oxide and titanium oxide. The light-transmissive conductive layer (C) is preferably a light-transmissive conductive layer containing indium oxide doped with a dopant in terms of achieving both transparency and conductivity. The light transmissive conductive layer (C) may be a light transmissive conductive layer made of indium oxide doped with a dopant. The dopant is not particularly limited, and examples thereof include tin oxide and zinc oxide, and a mixture thereof.
光透過性導電層（Ｃ）の素材として酸化インジウムに酸化スズをドープしたものを用いる場合は、酸化インジウム（ＩＩＩ）（Ｉｎ２Ｏ３）に酸化スズ（ＩＶ）（ＳｎＯ２）をドープしたもの（ｔｉｎ−ｄｏｐｅｄ ｉｎｄｉｕｍ ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）が好ましい。この場合、ＳｎＯ２の添加量としては、特に限定されず、例えば、１〜１５重量％、好ましくは２〜１０重量％、より好ましくは３〜８重量％等が挙げられる。また、ドーパントの総量が左記の数値範囲を超えない範囲で、酸化インジウムスズにさらに他のドーパントが加えられたものを光透過性導電層（Ｃ）の素材として用いてもよい。左記において他のドーパントとしては、特に限定されず、例えばセレン等が挙げられる。When indium oxide doped with tin oxide is used as the material of the light-transmitting conductive layer (C), indium oxide (III) (In 2 O 3 ) is doped with tin oxide (IV) (SnO 2 ). (Tin-doped indium oxide; ITO) is preferable. In this case, the amount of SnO 2 added is not particularly limited, and examples thereof include 1 to 15% by weight, preferably 2 to 10% by weight, and more preferably 3 to 8% by weight. Further, as long as the total amount of the dopants does not exceed the numerical range shown on the left, indium tin oxide to which another dopant is further added may be used as the material of the light transmissive conductive layer (C). The other dopant in the left column is not particularly limited, and examples thereof include selenium.
光透過性導電層（Ｃ）は、上記の各種素材のうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。 The light-transmissive conductive layer (C) may be made of any one of the various materials described above, or may be made of a plurality of kinds.
光透過性導電層（Ｃ）は、特に限定されず、結晶体若しくは非晶質体、又はそれらの混合体であってもよい。 The light-transmissive conductive layer (C) is not particularly limited, and may be a crystalline body, an amorphous body, or a mixture thereof.
光透過性導電層（Ｃ）を配置する方法は、湿式及び乾式のいずれであってもよく、特に限定されない。光透過性導電層（Ｃ）を配置する方法の具体例として、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法及びパルスレーザーデポジション法等が挙げられる。 The method for disposing the light-transmissive conductive layer (C) may be either wet or dry, and is not particularly limited. Specific examples of the method of disposing the light-transmissive conductive layer (C) include a sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method, a CVD method, a pulse laser deposition method, and the like.
１．４ アンダーコート層（Ｄ）
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ）の光透過性導電層（Ｃ）が配置されている面に、直接又は一以上の他の層を介してアンダーコート層（Ｄ）が配置されていてもよい。アンダーコート層（Ｄ）が配置されている場合、少なくとも一方の前記光透過性導電層（Ｃ）が、少なくとも前記アンダーコート層（Ｄ）を介して前記光透過性支持層（Ａ）の前記面に配置されている。この場合、少なくとも一方の前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記アンダーコート層（Ｄ）に隣接して配置されていてもよい。また、光透過性支持層（Ａ）の同じ面にアンダーコート層（Ｄ）及び突起層（Ｂ）が設けられている場合、アンダーコート層（Ｄ）は通常、突起層（Ｂ）よりも光透過性導電層（Ｃ）に近い側に配置されている。1.4 Undercoat layer (D)
The light-transmitting conductive film of the present invention is an undercoat layer on the surface of the light-transmitting support layer (A) on which the light-transmitting conductive layer (C) is arranged, either directly or through one or more other layers. (D) may be arranged. When the undercoat layer (D) is disposed, at least one of the light-transmissive conductive layers (C) has at least one surface of the light-transmissive support layer (A) via the undercoat layer (D). It is located in. In this case, at least one of the light transmissive conductive layers (C) may be disposed adjacent to the undercoat layer (D). When the undercoat layer (D) and the protrusion layer (B) are provided on the same surface of the light transmissive support layer (A), the undercoat layer (D) is usually lighter than the protrusion layer (B). It is arranged on the side close to the transparent conductive layer (C).
図１０に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、突起層（Ｂ）、アンダーコート層（Ｄ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で互いに隣接して配置されている。 FIG. 10 shows one embodiment of the light-transmitting conductive film of the present invention. In this aspect, the protrusion layer (B), the undercoat layer (D) and the light transmissive conductive layer (C) are arranged adjacent to each other in this order on one surface of the light transmissive support layer (A). There is.
図１１に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の両面に、突起層（Ｂ）、アンダーコート層（Ｄ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で互いに隣接して配置されている。 FIG. 11 shows one embodiment of the light transmissive conductive film of the present invention. In this aspect, the projection layer (B), the undercoat layer (D), and the light-transmissive conductive layer (C) are arranged adjacent to each other in this order on both surfaces of the light-transmissive support layer (A).
図１２に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、第一の突起層（Ｂ）、アンダーコート層（Ｄ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で互いに隣接して配置されており、他方の面に、第二の突起層（Ｂ）が直接配置されている。 FIG. 12 shows one embodiment of the light-transmitting conductive film of the present invention. In this aspect, the first protrusion layer (B), the undercoat layer (D) and the light transmissive conductive layer (C) are adjacent to each other in this order on one surface of the light transmissive support layer (A). The second protrusion layer (B) is directly arranged on the other surface.
アンダーコート層（Ｄ）の素材は、特に限定されず、例えば、誘電性を有するものであってもよい。アンダーコート層（Ｄ）の素材としては、特に限定されず、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、炭化ケイ素、シリコンアルコキシド、アルキルシロキサン及びその縮合物、ポリシロキサン、シルセスキオキサン、並びにポリシラザン等が挙げられる。アンダーコート層（Ｄ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。酸化ケイ素を含有する光透過性下地層が好ましく、酸化ケイ素からなる光透過性下地層がより好ましい。 The material of the undercoat layer (D) is not particularly limited and may be, for example, one having a dielectric property. The material of the undercoat layer (D) is not particularly limited, and examples thereof include silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, silicon carbide, silicon alkoxide, alkyl siloxane and its condensate, polysiloxane, silsesquioxane, and Examples thereof include polysilazane. The undercoat layer (D) may be composed of any one of these, or may be composed of a plurality of kinds. A light-transmitting underlayer containing silicon oxide is preferable, and a light-transmitting underlayer containing silicon oxide is more preferable.
アンダーコート層（Ｄ）は、一層が配置されていてもよい。あるいは二層以上が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して配置されていてもよい。 The undercoat layer (D) may be a single layer. Alternatively, two or more layers may be arranged adjacent to each other or separated from each other via another layer.
アンダーコート層（Ｄ）の一層あたりの厚さは、１５〜４０ｎｍ等が挙げられる。二層以上が互いに隣接して配置されている場合は互いに隣接している全てのアンダーコート層（Ｄ）の合計厚さが上記範囲内であればよい。 The thickness of each undercoat layer (D) is, for example, 15 to 40 nm. When two or more layers are arranged adjacent to each other, the total thickness of all undercoat layers (D) adjacent to each other may be within the above range.
アンダーコート層（Ｄ）を配置する方法としては、湿式及び乾式のいずれでもよく、特に限定されず、湿式としては例えば、ゾル−ゲル法、及び微粒子分散液若しくはコロイド溶液を塗布する方法等が挙げられる。アンダーコート層（Ｄ）を配置する方法として、乾式としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法又はパルスレーザーデポジション法により隣接する層上に積層する方法等が挙げられる。 The method of disposing the undercoat layer (D) may be either wet or dry, and is not particularly limited. Examples of the wet include a sol-gel method, a method of applying a fine particle dispersion liquid or a colloidal solution, and the like. To be As a method for disposing the undercoat layer (D), as a dry method, for example, a method of laminating on the adjacent layer by a sputtering method, an ion plating method, a vacuum vapor deposition method or a pulse laser deposition method, and the like can be mentioned.
１．５ その他の層
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ）の面に、アンダーコート層（Ｄ）及び少なくとも１種のその他の層（Ｅ）からなる群より選択される少なくとも１種の層がさらに配置されていてもよい。1.5 Other Layers The light-transmissive conductive film of the present invention comprises the undercoat layer (D) and at least one other layer (E) on the surface of the light-transmissive support layer (A). At least one layer selected may be further arranged.
その他の層（Ｅ）としては、特に限定されず、例えば、接着層等が挙げられる。 The other layer (E) is not particularly limited, and examples thereof include an adhesive layer and the like.
接着層とは、二層の間に当該二層と互いに隣接して配置され、当該二層間を互いに接着するために配置される層である。接着層としては、特に限定されず、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて接着層として通常用いられるものを用いることができる。特に限定されず、例えば、カップリング剤を用いることができる。必要に応じて接着される片方の面又は両方の面に対してより接着性を高める目的でコロナ処理を行ってもよい。 The adhesive layer is a layer that is arranged between two layers adjacent to the two layers, and is arranged to bond the two layers to each other. The adhesive layer is not particularly limited and, for example, a layer that is usually used as an adhesive layer in a light-transmitting conductive film for a touch panel can be used. There is no particular limitation, and for example, a coupling agent can be used. If necessary, one or both surfaces to be bonded may be subjected to corona treatment for the purpose of further improving the adhesiveness.
１．６ 本発明の光透過性導電性フィルムの用途
本発明の光透過性導電性フィルムは、タッチパネルのために好ましく用いられる。本発明の光透過性導電性フィルムは、特に、静電容量型タッチパネルのためにより好ましく用いられる。抵抗膜方式タッチパネルの製造のために用いられる光透過性導電性フィルムは一般に表面抵抗率（シート抵抗）が１６０〜１，０００Ω／ｓｑ程度は必要であるとされる。これに対して静電容量型タッチパネルの製造のために用いられる光透過性導電性フィルムは一般に表面抵抗率が低いほうが有利である。本発明の光透過性導電性フィルムは、抵抗率が低減されており、これにより、静電容量型タッチパネルの製造のために好ましく用いられる。静電容量型タッチパネルについて詳細は、２で説明する通りである。1.6 Use of Light-Transmissive Conductive Film of the Present Invention The light-transmissive conductive film of the present invention is preferably used for a touch panel. The light-transmitting conductive film of the present invention is more preferably used especially for a capacitive touch panel. It is generally said that the light-transmissive conductive film used for manufacturing a resistive touch panel requires a surface resistivity (sheet resistance) of about 160 to 1,000 Ω / sq. On the other hand, it is generally advantageous that the light-transmissive conductive film used for manufacturing the capacitive touch panel has a low surface resistivity. The light-transmitting conductive film of the present invention has a reduced resistivity, and is therefore preferably used for manufacturing a capacitive touch panel. Details of the capacitive touch panel are as described in 2.
２． 本発明の静電容量型タッチパネル
本発明の静電容量型タッチパネルは、本発明の光透過性導電性フィルムを含み、さらに必要に応じてその他の部材を含んでなる。2. Capacitive touch panel of the electrostatic capacitance type touch panel <br/> invention of the present invention comprises a light transmissive, electrically-conductive film of the present invention, comprise other members according to necessity.
本発明の静電容量型タッチパネルの具体的な構成例としては、次のような構成が挙げられる。なお、保護層（１）側が操作画面側を、ガラス（５）側が操作画面とは反対側を向くようにして使用される。
（１）保護層
（２）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｙ軸方向）
（３）絶縁層
（４）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｘ軸方向）
（５）ガラス
本発明の静電容量型タッチパネルは、特に限定されず、例えば、上記（１）〜（５）、並びに必要に応じてその他の部材を通常の方法に従って組み合わせることにより製造することができる。Specific examples of the configuration of the capacitive touch panel of the present invention include the following configurations. The protective layer (1) side is used so that the operation screen side faces, and the glass (5) side faces the side opposite to the operation screen side.
(1) Protective layer (2) Light-transmissive conductive film of the present invention (Y-axis direction)
(3) Insulating layer (4) Light-transmissive conductive film of the present invention (X-axis direction)
(5) Glass The capacitive touch panel of the present invention is not particularly limited, and may be manufactured by, for example, combining the above (1) to (5) and, if necessary, other members according to a usual method. it can.
３． 本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法
本発明の光透過性導電性フィルムは、それぞれの層について説明した通りそれぞれの層を配置することにより製造することができる。例えば、光透過性支持層（Ａ）の光透過性導電層（Ｃ）が配置されている側の面に、下層側から順次配置させてもよいが、配置の順番は特に限定されない。例えば、最初に光透過性支持層（Ａ）ではない層（例えば、光透過性導電層（Ｃ））の一方の面に他の層を配置させてもよい。あるいは、一方で２種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより１種の複合層を得てから、又はそれと同時に、他方で同様に２種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより１種の複合層を得て、これらの２種の複合層をさらに互いに隣接するように配置させてもよい。3. Method for Manufacturing Light-Transmissive Conductive Film of the Present Invention The light-transmissive conductive film of the present invention can be manufactured by disposing each layer as described for each layer. For example, the light-transmitting support layer (A) may be sequentially arranged on the surface of the light-transmitting conductive layer (C) on the side where the light-transmitting conductive layer (C) is arranged, but the order of arrangement is not particularly limited. For example, first, the other layer may be arranged on one surface of the layer that is not the light-transmissive support layer (A) (for example, the light-transmissive conductive layer (C)). Alternatively, on the one hand one composite layer is obtained by arranging two or more layers adjacent to each other, or at the same time, on the other hand also two or more layers are similarly arranged adjacent to each other. Thus, one kind of composite layer may be obtained, and these two kinds of composite layers may be further arranged so as to be adjacent to each other.
以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
［実施例１］
光透過性支持層として、ＰＥＴを用いた。ＰＥＴ表面に下記に示した塗工液を均一に塗布し樹脂液を乾燥させることにより突起層を形成させた。得られた突起層付きＰＥＴフィルムの表面にカーボンを蒸着後、ＦＩＢ−ＳＥＭ（ＦＥＩ社製 Ｈｅｌｉｏｓ ＮａｎｏＬａｂ ６５０）により観察し、突起部についてＦＩＢ（収束イオンビーム）加工により断面を作製後、断面を観察して突起径（ただし、裾野部分のうちフィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分を突起とみなす）、最大斜度および３°以上の斜面の割合（裾野および頂上付近の緩斜面を除く３°以上の斜面を水平面に投影した距離の左右の和と突起径の比：図１参照のこと）を求めた。また、レーザー顕微鏡（ＫＥＹＥＮＣＥ社製 ＶＫ−９５００）を用いて単位面積当たりの突起数を求めた。得られた結果を表１に示した。なお、塗工液の調製は次の通り行った。
［塗工液の調製］
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製）７５重量部
エポキシアクリレート（日本化薬社製） ２０重量部
マクロモノマーＡＡ−６（東亞合成社製） １１重量部
光重合開始剤イルガキュアー（登録商標）１８４（チバガイギー社製）７重量部
スチレン系樹脂微粒子（平均粒径１μｍ）
上記成分をブチルセロソルブ３５重量部、メチルエチルケトン９４．５重量部の混合溶媒を用いて希釈し、よく攪拌して固形分４０％の塗工液を得た。Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.
[Example 1]
PET was used as the light-transmitting support layer. The projection liquid was formed by uniformly applying the coating liquid shown below on the PET surface and drying the resin liquid. After carbon was vapor-deposited on the surface of the obtained PET film with a protrusion layer, it was observed with FIB-SEM (Helios NanoLab 650 manufactured by FEI), and the cross-section was observed after the protrusion was formed by FIB (focused ion beam) processing. Projection diameter (however, the part of the skirt with a slope of 3 ° or more with respect to the main surface direction of the film is considered as a projection), the maximum slope and the ratio of slopes with a slope of 3 ° or more (the gentle slope near the skirt and the top) The ratio of the sum of the distance on the left and right of the projection of a slope of 3 ° or more, except for, and the projection diameter: see Fig. 1). Further, the number of protrusions per unit area was determined using a laser microscope (VK-9500 manufactured by KEYENCE). The obtained results are shown in Table 1. The coating liquid was prepared as follows.
[Preparation of coating liquid]
Dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku) 75 parts by weight Epoxy acrylate (manufactured by Nippon Kayaku) 20 parts by weight Macromonomer AA-6 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 11 parts by weight Photopolymerization initiator Irgacure (registered trademark) ) 184 (manufactured by Ciba-Geigy) 7 parts by weight Styrenic resin fine particles (
The above components were diluted with a mixed solvent of 35 parts by weight of butyl cellosolve and 94.5 parts by weight of methyl ethyl ketone and stirred well to obtain a coating liquid having a solid content of 40%.
スチレン系樹脂微粒子を０．３重量部とし、突起層の厚さを０．７μｍとした。 The styrene resin fine particles were 0.3 parts by weight, and the thickness of the protrusion layer was 0.7 μm.
突起層のうえに光学干渉層として厚さ２０ｎｍのＳｉＯ２からなる層（ｎC＝１．４６０）を形成し、さらにその上に光透過性導電層として酸化インジウムスズからなる層（ｎD＝１．９３８）を厚さ２５ｎｍとなるように成膜した。次いで、１５０℃で１時間熱処理した。得られた光透過性透明導電フィルムに対して、下記方法に従って「骨見え現象の評価」、「ヘイズ値」、「電気抵抗値」を評価した。
［実施例２］
スチレン系樹脂微粒子を０．１重量部とし、突起層の厚さを０．６μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電フィルムを得た。実施例１と同様に評価した結果を表１に示した。
［実施例３］
スチレン系樹脂微粒子の代わりにインクジェット法によりＰＥＴ表面に紫外線硬化性アクリル樹脂を用いて１μｍ径で高さ１μｍのドットリブをランダムに１ｍｍ２当たり３００個形成した後、紫外線を照射して硬化させた。その後、微粒子抜きの塗工液を塗布して突起層の厚さを０．６５μｍとした。それ以外は実施例１と同様にして光透過性導電フィルムを得た。
［実施例４］
光透過性支持層の一方の面に、スチレン系樹脂微粒子を含まないこと以外は実施例１の突起層と同様の厚さ０．７μｍの層を形成した。さらに、光透過性支持層の他方の面に、スチレン系樹脂微粒子を０．１重量部とし、厚さを０．６μｍとしたこと以外は実施例１の突起層と同様の突起層を形成した。このようにして形成された、スチレン系樹脂微粒子を含まない厚さ０．７μｍの層の上に光学干渉層及び光透過性導電層を形成して光透過性導電フィルムを得た。実施例１と同様に評価した結果を表１に示した。
［実施例５］
光透過性支持層の一方の面にのみ、スチレン系樹脂微粒子を０．１重量部含み、厚さ０．６μｍとしたこと以外は実施例１の突起層と同様の突起層を形成し、他方の面に直接、実施例１と同様にして光学干渉層及び光透過性導電層をこの順で形成して光透過性導電フィルムを得た。実施例１と同様に評価した結果を表１に示した。
［比較例１］
スチレン系樹脂微粒子を１重量部とし、突起層の厚さを０．９μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電フィルムを得た。実施例１と同様に評価した結果を表１に示した。
［比較例２］
スチレン系樹脂微粒子を０．１重量部とし、突起層の厚さを０．４μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電フィルムを得た。実施例１と同様に評価した結果を表１に示した。A layer (n C = 1.460) made of SiO 2 having a thickness of 20 nm is formed as an optical interference layer on the protrusion layer, and a layer made of indium tin oxide (n D =) is further formed thereon as a light transmissive conductive layer. 1.938) was formed into a film having a thickness of 25 nm. Then, it heat-processed at 150 degreeC for 1 hour. The "light-transmitting transparent conductive film" thus obtained was evaluated for "evaluation of bone appearance phenomenon", "haze value", and "electrical resistance value" according to the following methods.
[Example 2]
A light transmissive conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the styrene resin fine particles were 0.1 part by weight and the thickness of the protrusion layer was 0.6 μm. The results of evaluation as in Example 1 are shown in Table 1.
[Example 3]
UV-curable acrylic resin was used on the PET surface instead of the styrene-based resin fine particles to randomly form 300 dot ribs having a diameter of 1 μm and a height of 1 μm per 1 mm 2, and then cured by irradiation with ultraviolet rays. After that, a coating liquid for removing fine particles was applied to adjust the thickness of the protrusion layer to 0.65 μm. A light transmissive conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except for the above.
[Example 4]
A 0.7 μm-thick layer was formed on one surface of the light-transmissive support layer in the same manner as the protrusion layer of Example 1 except that the styrene-based resin fine particles were not contained. Further, a protrusion layer similar to the protrusion layer of Example 1 was formed on the other surface of the light-transmitting support layer, except that the styrene resin fine particles were 0.1 part by weight and the thickness was 0.6 μm. . An optical interference layer and a light-transmitting conductive layer were formed on the 0.7-μm-thick layer containing no styrene resin particles thus formed, to obtain a light-transmitting conductive film. The results of evaluation as in Example 1 are shown in Table 1.
[Example 5]
A protrusion layer similar to the protrusion layer of Example 1 was formed except that only one surface of the light transmissive support layer contained 0.1 part by weight of styrene-based resin fine particles and had a thickness of 0.6 μm. An optical interference layer and a light-transmitting conductive layer were formed in this order directly on the surface in the same manner as in Example 1 to obtain a light-transmitting conductive film. The results of evaluation as in Example 1 are shown in Table 1.
[Comparative Example 1]
A light-transmitting conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the styrene resin fine particles were 1 part by weight and the thickness of the protrusion layer was 0.9 μm. The results of evaluation as in Example 1 are shown in Table 1.
[Comparative Example 2]
A light transmissive conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the styrene resin fine particles were 0.1 part by weight and the thickness of the protrusion layer was 0.4 μm. The results of evaluation as in Example 1 are shown in Table 1.
［実施例６］
スチレン系樹脂微粒子を０．３重量部とし、突起層の厚さを０．５μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電フィルムを得た。実施例１と同様に評価した結果を表２に示した。なお、実施例６以降についてはマット感についての評価も追加的に行った。[Example 6]
A light transmissive conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the styrene resin fine particles were 0.3 parts by weight and the thickness of the protrusion layer was 0.5 μm. Table 2 shows the results of evaluation performed in the same manner as in Example 1. In addition, after Example 6, the matte feeling was additionally evaluated.
［実施例７］
スチレン系樹脂微粒子を０．６重量部とし、突起層の厚さを０．５μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電フィルムを得た。実施例６と同様に評価した結果を表２に示した。[Example 7]
A light transmissive conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the styrene resin fine particles were 0.6 parts by weight and the thickness of the protrusion layer was 0.5 μm. The results of evaluation performed in the same manner as in Example 6 are shown in Table 2.
［実施例８］
スチレン系樹脂微粒子を０．３重量部とし、突起層の厚さを０．４５μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電フィルムを得た。実施例６と同様に評価した結果を表２に示した。[Example 8]
A light transmissive conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the styrene resin fine particles were 0.3 parts by weight and the thickness of the protrusion layer was 0.45 μm. The results of evaluation performed in the same manner as in Example 6 are shown in Table 2.
［実施例９］
スチレン系樹脂微粒子を０．６重量部とし、突起層の厚さを０．４５μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電フィルムを得た。実施例６と同様に評価した結果を表２に示した。[Example 9]
A light transmissive conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the styrene resin fine particles were 0.6 parts by weight and the thickness of the protrusion layer was 0.45 μm. The results of evaluation performed in the same manner as in Example 6 are shown in Table 2.
［実施例１０］
スチレン系樹脂微粒子を０．３重量部とし、突起層の厚さを０．４μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電フィルムを得た。実施例６と同様に評価した結果を表２に示した。[Example 10]
A light transmissive conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the styrene resin fine particles were 0.3 parts by weight and the thickness of the protrusion layer was 0.4 μm. The results of evaluation performed in the same manner as in Example 6 are shown in Table 2.
［実施例１１］
スチレン系樹脂微粒子を０．６重量部とし、突起層の厚さを０．４μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電フィルムを得た。実施例６と同様に評価した結果を表２に示した。[Example 11]
A light-transmitting conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the styrene resin fine particles were 0.6 parts by weight and the thickness of the protrusion layer was 0.4 μm. The results of evaluation performed in the same manner as in Example 6 are shown in Table 2.
［実施例１２］
スチレン系樹脂微粒子を０．３重量部とし、突起層の厚さを０．５μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電フィルムを得た。実施例６と同様に評価した結果を表２に示した。[Example 12]
A light transmissive conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the styrene resin fine particles were 0.3 parts by weight and the thickness of the protrusion layer was 0.5 μm. The results of evaluation performed in the same manner as in Example 6 are shown in Table 2.
［実施例１３］
スチレン系樹脂微粒子を０．６重量部とし、突起層の厚さを０．５μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電フィルムを得た。実施例６と同様に評価した結果を表２に示した。[Example 13]
A light transmissive conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the styrene resin fine particles were 0.6 parts by weight and the thickness of the protrusion layer was 0.5 μm. The results of evaluation performed in the same manner as in Example 6 are shown in Table 2.
突起の評価は以下のようにして行った。各評価の前に、光透過性導電性フィルムを２０％塩酸に浸漬し、表面抵抗が計測不能になるまでエッチング処理を続けて上層を除去した。
［斜面の割合の測定方法］
表面にカーボンを蒸着後、ＦＩＢ−ＳＥＭ（ＦＥＩ社製 Ｈｅｌｉｏｓ ＮａｎｏＬａｂ ６５０）により観察し、突起部についてＦＩＢ（収束イオンビーム）加工により断面を作製後、断面を観察して突起の高さ、突起径（ただし、裾野部分のうちフィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分を突起とみなす：図５のＸ）、最大斜度θmaxおよび３°以上の斜面（裾野および頂上付近の緩斜面を除く３°以上の斜面を水平面に投影した距離の和：図５のｘ１＋ｘ２）の割合をｎ＝３で求めた。
［突起の数の測定方法］
上記と同様にしてエッチング処理により上層を除去した後、レーザー顕微鏡（ＫＥＹＥＮＣＥ社製 ＶＫ−９５００）を用いて測定倍率１０倍、測定面積１．４１７ｍｍ×０．９８６ｍｍの範囲内の突起数を形状解析ソフトにて求め、１ｍｍ２当たりの突起数に換算した。
［骨見え現象の評価］
作製した透明導電性積層体を５ｃｍ角に切り出し、透明導電層に３ｍｍ幅のポリイミドテープを３ｍｍの間隔ができるように平行に８本貼り付けた。次いで、このポリイミドテープを貼り付けた積層体をＩＴＯエッチング液（関東化学社製、商品名「ＩＴＯ−０６Ｎ」）に１分間浸漬し、ポリイミドテープを貼り付けていない部分のＩＴＯを除去し、リンス及び乾燥後にポリイミドテープを剥離することで、３ｍｍ間隔で３ｍｍ幅のＩＴＯ膜がパターニングされた積層体を得た。このフィルムを目視観察し、ＩＴＯのパターンが「見えない（◎）」、「ほぼ見えない（○）」、及び「少し見える（×）」のいずれかに該当するかを評価した。
（全光線透過率及びヘイズ値）
日本電色社製ヘーズメーター（ＭＤＨ２０００）を用いてＪＩＳ Ｋ７３６１−１に準じて測定した。
［電気抵抗値］
表面抵抗は、表面抵抗計（ＭＩＴＳＵＢＩＳＨＩ ＣＨＥＭＩＣＡＬ ＡＮＡＬＹＴＥＣＨ社製、商品名：Ｌｏｒｅｓｔａ−ＥＰ）を用いて、４端子法により測定した。
評価結果を表１に示した。The projections were evaluated as follows. Before each evaluation, the light-transmitting conductive film was dipped in 20% hydrochloric acid, and the upper layer was removed by continuing the etching treatment until the surface resistance could not be measured.
[Measurement method of slope ratio]
After depositing carbon on the surface, it is observed by FIB-SEM (Helios NanoLab 650 manufactured by FEI Co., Ltd.), and the protrusion is formed by FIB (focused ion beam) processing. After that, the height of the protrusion and the protrusion diameter are observed. (However, in the skirt portion, the portion where the inclination with respect to the main surface direction of the film is 3 ° or more is considered as a protrusion: X in Fig. 5), the slope with the maximum inclination θmax and 3 ° or more (the gentle slope near the skirt and the top) The sum of the distances obtained by projecting a slope of 3 ° or more excluding the above on the horizontal plane: x 1 + x 2 in FIG. 5 was determined as n = 3.
[How to measure the number of protrusions]
After removing the upper layer by etching in the same manner as above, using a laser microscope (VK-9500 manufactured by KEYENCE Co., Ltd.), a measurement magnification of 10 times and a shape analysis of the number of protrusions within a measurement area of 1.417 mm × 0.986 mm were performed. It was obtained by software and converted into the number of protrusions per 1 mm 2 .
[Evaluation of bone appearance phenomenon]
The produced transparent electroconductive laminate was cut into a 5 cm square, and eight polyimide tapes each having a width of 3 mm were attached in parallel to the transparent electroconductive layer so as to have an interval of 3 mm. Then, the laminated body to which the polyimide tape is attached is immersed in an ITO etching liquid (Kanto Chemical Co., Inc., trade name "ITO-06N") for 1 minute to remove the ITO on the portion to which the polyimide tape is not attached, and rinse it. Then, the polyimide tape was peeled off after drying to obtain a laminate in which an ITO film having a width of 3 mm and having a width of 3 mm was patterned. This film was visually observed to evaluate whether the ITO pattern corresponds to "invisible (⊚)", "almost invisible (○)", or "slightly visible (x)".
(Total light transmittance and haze value)
It was measured according to JIS K7361-1 using a haze meter (MDH2000) manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd.
[Electrical resistance value]
The surface resistance was measured by a four-terminal method using a surface resistance meter (MITSUBISHI CHEMICAL ANALYTECH, trade name: Loresta-EP).
The evaluation results are shown in Table 1.
一部について、フィルムの見た目が比較的クリアなままか、あるいはマット感が付与されて見た目が損なわれる現象が見られるかを評価した。
［マット感評価］
以下の基準に従い評価した。For some, it was evaluated whether the appearance of the film remained relatively clear, or whether a phenomenon in which a matte feeling was imparted and the appearance was impaired was observed.
[Matt feeling evaluation]
Evaluation was performed according to the following criteria.
クリアに見える：◎
マット感が非常に弱い：○
マット感が弱い：△
マット感が強い：×Looks clear: ◎
Very weak matte feeling: ○
The feeling of matte is weak: △
Strong matte feeling: ×
１ 光透過性導電性フィルム
１１ 光透過性支持層（Ａ）
１２ 突起層（Ｂ）
１２１ 微粒子
１２２ バインダー
１３ 光透過性導電層（Ｃ）
１４ アンダーコート層（Ｄ）
１５ 突起層（Ｂ）の下層（光透過性支持層（Ａ）であってもよい）
１５１ 下層の突起
２ 型
３ 後処理により設けられた突起1 Light-
12 Projection layer (B)
121
14 Undercoat layer (D)
15 Lower layer of the protrusion layer (B) (may be the light transmissive support layer (A))
151
Claims (5)
（Ｂ）突起層；及び
（Ｃ）光透過性導電層
を含有し、
前記突起層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ突起層（Ｂ）と同じ面に配置されている場合は少なくとも突起層（Ｂ）を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって：
前記突起層（Ｂ）の光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面が、凸曲面を有する複数の突起を有し、
フィルムの主面に直交する面における前記突起（ただし、裾野部分のうちフィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分を突起とみなす）の断面図の、フィルムの主面方向への投影直線の長さＸにおいて、
前記断面図のうち、フィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分の投影直線の長さ合計が占める割合が７０％以上であり、かつ
少なくとも一つの前記突起層（Ｂ）が、凸曲面の最大斜度が６〜１５°又は３０〜８０°である突起を有する、
光透過性導電性フィルム。 (A) Light-transmissive support layer;
(B) a protruding layer; and (C) a light-transmissive conductive layer,
The protrusion layer (B) is disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers, and the light transmissive conductive layer (C). Is disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers, and is disposed on the same surface as the protrusion layer (B). A light-transmissive conductive film disposed at least through a protrusion layer (B), comprising:
The surface of the protrusion layer (B) opposite to the light-transmissive support layer (A) has a plurality of protrusions having convex curved surfaces,
Projection of a cross-sectional view of the above-mentioned projection (however, a portion having a slope of 3 ° or more with respect to the main surface direction of the film in the skirt portion is regarded as a projection) in a plane orthogonal to the main surface of the film in the main surface direction of the film At the length X of the straight line,
In the cross-sectional view, the proportion of the total length of the projected straight lines of the portion having a gradient of 3 ° or more with respect to the main surface direction of the film is 70% or more, and at least one of the protrusion layers (B) is convex. Having a protrusion whose maximum inclination of the curved surface is 6 to 15 ° or 30 to 80 °,
Light-transmissive conductive film.
平面又は
曲率５×１０５ ｍ−１未満の曲面
である、請求項１に記載の光透過性導電性フィルム。 The top of the protrusion is
The light-transmissive conductive film according to claim 1, which is a flat surface or a curved surface having a curvature of less than 5 × 10 5 m −1 .
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