JP5727641B2 - Light transmissive conductive film, method for producing the same, and use thereof - Google Patents

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Description

本発明は、光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途に関する。   The present invention relates to a light-transmitting conductive film, a manufacturing method thereof, and an application thereof.

タッチパネルに搭載される光透過性導電性フィルムとして、プラスチック等からなる光透過性支持層の少なくとも一方の面に、直接又は他の層を介して、酸化インジウムスズ(ITO)等を含有する光透過性導電層を配置した光透過性導電性フィルムが数多く用いられている。   As a light-transmitting conductive film mounted on a touch panel, light transmission containing indium tin oxide (ITO) or the like directly or via another layer on at least one surface of a light-transmitting support layer made of plastic or the like Many light-transmitting conductive films having a conductive conductive layer are used.

上記のフィルムは、光透過性導電層(あるいはさらにその上に層が存在する場合はその層も含めて)をエッチング処理によってパターン化した上で使用されることが多い。このようなフィルムは、光透過性導電層側のフィルム表面の上部から見たときに、光透過性導電層(あるいはその上層)が表面に存在する領域(パターン領域)と、同層が存在せずその下層が露出している領域(エッチング領域)が観察される。パターン形状は例えば短冊状である。このようなフィルムにおいては、パターン形状が視認されてしまう、いわゆる骨見え現象が生じることが知られている。   In many cases, the above-described film is used after a light-transmitting conductive layer (or further including the layer if any) is patterned by an etching process. When such a film is viewed from the top of the film surface on the side of the light-transmitting conductive layer, the same layer does not exist in the region (pattern region) where the light-transmitting conductive layer (or its upper layer) exists on the surface. A region where the lower layer is exposed (etching region) is observed. The pattern shape is, for example, a strip shape. In such a film, it is known that a so-called bone appearance phenomenon occurs in which the pattern shape is visually recognized.

このような骨見え現象は、複数の要因により引き起こされる事象ではあるが、一因としてエッチング加工により引き起こされる局所的変形が寄与していると考えられている。   Although such a bone appearance phenomenon is an event caused by a plurality of factors, it is considered that a local deformation caused by etching processing contributes as one factor.

この骨見え現象を抑制する目的で、局所的変形自体を抑制する目的で、フィルムの基材となる光透過性支持層として十分に厚いもの(例えば188μm程度)を用いることや、別のフィルムをさらに貼り合わせること等が提案されている。しかしながら、近年はフィルムの薄型軽量化(例えば50μm程度)が求められており、そのような手段は採用できない状況にある。   For the purpose of suppressing this bone appearance phenomenon, for the purpose of suppressing local deformation itself, a sufficiently thick layer (for example, about 188 μm) may be used as a light-transmitting support layer as a film substrate, or another film may be used. Further, it has been proposed to bond them together. However, in recent years, there is a demand for thin and light films (for example, about 50 μm), and such means cannot be employed.

そこで、骨見え現象を抑制する目的で、エッチング領域の表面に微細な凹凸を形成することにより、比較的高いヘイズ値を付与して、エッチング領域の見え方をぼかす方法が提案されている(特許文献1)。   Therefore, for the purpose of suppressing the bone appearance phenomenon, a method has been proposed in which fine irregularities are formed on the surface of the etching region to give a relatively high haze value and blur the appearance of the etching region (patent). Reference 1).

特開2012−133771号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-133771

本発明者は、光透過性導電層をパターン化した光透過性導電性フィルムにおいて、骨見え現象を改善する目的で、従来技術にしたがってエッチング領域の表面に微細な凹凸を形成した場合には、骨見え現象は抑制される傾向はみられるものの、これはあくまでフィルム全体を曇らせることによりもたらされる効果であり、骨見え現象のみならず、タッチパネルに搭載して使用する際には表示画像そのものまでもが見えにくくなってしまうという問題があることを見出した。言い換えれば、従来の方法ではヘイズ値が高くなりすぎてタッチパネルに搭載して使用する際には画面の輝度が低下してしまうという問題があることを本発明者は見出した。さらに、本発明者は、従来技術にしたがって同様にエッチング領域の表面に凹凸を形成した場合には、光透過性導電層の電気抵抗値が上昇してしまうという別の問題があることも見出した。   In the light-transmitting conductive film in which the light-transmitting conductive layer is patterned, the present inventor has formed fine irregularities on the surface of the etched region according to the conventional technique for the purpose of improving the bone appearance phenomenon. Although there is a tendency to suppress the bone appearance phenomenon, this is an effect brought about by clouding the entire film, and not only the bone appearance phenomenon but also the display image itself when used on a touch panel. I found that there is a problem that it becomes difficult to see. In other words, the present inventor has found that the conventional method has a problem that the haze value becomes too high and the brightness of the screen is lowered when used on a touch panel. Furthermore, the present inventor has also found that there is another problem that the electrical resistance value of the light-transmitting conductive layer is increased when irregularities are formed on the surface of the etching region in the same manner according to the prior art. .

したがって、本発明は、(1)光透過性導電層がパターン化された際の骨見え現象の抑制度合い、(2)ヘイズ値及び(3)電気抵抗値という三点のバランスが改善された、光透過性導電性フィルムを提供することを課題とする。   Therefore, the present invention has improved the balance of three points of (1) the degree of suppression of the bone appearance phenomenon when the light-transmitting conductive layer is patterned, (2) haze value, and (3) electrical resistance value. An object is to provide a light-transmitting conductive film.

本発明者は、鋭意検討を重ね、比較的曲率の大きい凸曲面を有する複数の突起を有する中間層を、該突起を有する面が対向するように光透過性導電層の下層側に設けることによって、上記課題を解決できることを見出した。より詳細には以下の通りである。上記の通りとすることにより、従来のものと比べてより大きい曲率を有する凸曲面がエッチング領域の表面上に複数存在している状態とすることができる。このことに起因して、乱反射を抑制しつつ界面反射を効果的に揺らがせることができる。さらに、このような形状の突起を設けることにより骨見え現象を抑制しようとする際には、単位面積あたりの突起の数が従来の方法に比べてより少ない数であっても目的を達成できる。このように、結果的にフィルム表面の乱れがより少ない状態、すなわちヘイズ値と電気抵抗値の悪化が従来よりも抑制された状態、を維持しつつ骨見え現象を効果的に抑制できることになる。   The present inventor has conducted intensive studies and provided an intermediate layer having a plurality of protrusions having a convex curved surface having a relatively large curvature on the lower layer side of the light-transmitting conductive layer so that the surfaces having the protrusions face each other. The present inventors have found that the above problems can be solved. More details are as follows. By setting it as above-mentioned, it can be set as the state where multiple convex curved surfaces which have a larger curvature than the conventional one exist on the surface of the etching region. As a result, it is possible to effectively shake the interface reflection while suppressing the irregular reflection. Furthermore, when it is intended to suppress the bone appearance phenomenon by providing the protrusions having such a shape, the object can be achieved even if the number of protrusions per unit area is smaller than that of the conventional method. Thus, as a result, the bone appearance phenomenon can be effectively suppressed while maintaining the state in which the film surface is less disturbed, that is, the state in which the deterioration of the haze value and the electrical resistance value is suppressed as compared with the conventional case.

本発明は、これらの新たな知見に基づいてさらに種々の検討を重ねることにより完成されたものであり、次に掲げるものである。
項1
(A)光透過性支持層;
(B)中間層;及び
(C)光透過性導電層
を含有し、
前記中間層(B)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層(C)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、少なくとも中間層(B)を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって:
前記中間層(B)の光透過性導電層(C)側の面が、凸曲面を有する複数の突起を有し、かつ
前記凸曲面が前記中間層(B)の前記面となす角度θが50°以下であることを特徴とする、光透過性導電性フィルム。
項2
前記中間層(B)の前記表面が前記突起を、1mmあたり100個〜10,000個有する、項1に記載の光透過性導電性フィルム。
項3
前記中間層(B)は、長軸(Major Axis)が1μm〜10μmであり、かつ長軸と短軸とのアスペクト比が1.5以上の扁平な楕円体又は紡錘形の微粒子、及びバインダー成分を含有し、かつ
前記突起が、前記微粒子により形成されるものである、
項1又は2に記載の光透過性導電性フィルム。
項4
前記微粒子及び前記バインダー成分の屈折率差が0.1以下である、項3に記載の光透過性導電性フィルム。
項5
前記突起の、前記中間層(B)の前記面を基準面とする最大高さの平均値が、0.1μm〜1μmである、項1〜項4のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。
項6
少なくとも一部の光透過性導電層(C)がパターン化されており、前記中間層(B)が露出した領域を有する、項1〜項5のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。
項7
項1〜項6のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルムを含有するタッチパネル。
項8
項3〜項6のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルムを製造する方法であって、
(1)前記バインダー成分及び前記微粒子を含有する原料を用いて前記中間層(B)を形成する工程を含有する方法。
項9
前記工程(1)において、下地となる層の上に前記原料を塗布することにより前記中間層(B)を形成する、項8に記載の方法。
The present invention has been completed by further various studies based on these new findings, and is as follows.
Item 1
(A) a light transmissive support layer;
(B) an intermediate layer; and (C) a light transmissive conductive layer,
The intermediate layer (B) is disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers, and the light transmissive conductive layer (C). Is a light transmissive conductive film disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) via at least the intermediate layer (B):
The surface on the light-transmissive conductive layer (C) side of the intermediate layer (B) has a plurality of protrusions having a convex curved surface, and an angle θ between the convex curved surface and the surface of the intermediate layer (B) is A light-transmitting conductive film, characterized by being 50 ° or less.
Item 2
Item 2. The light transmissive conductive film according to Item 1, wherein the surface of the intermediate layer (B) has 100 to 10,000 protrusions per 1 mm 2 .
Item 3
The intermediate layer (B) comprises a flat ellipsoid or spindle-shaped fine particle having a major axis (Major Axis) of 1 μm to 10 μm and an aspect ratio of the major axis to the minor axis of 1.5 or more, and a binder component. Containing, and the protrusion is formed by the fine particles,
Item 3. The light transmissive conductive film according to Item 1 or 2.
Item 4
Item 4. The light transmissive conductive film according to Item 3, wherein a difference in refractive index between the fine particles and the binder component is 0.1 or less.
Item 5
Item 5. The light transmittance according to any one of Items 1 to 4, wherein an average value of maximum heights of the protrusions with respect to the surface of the intermediate layer (B) as a reference surface is 0.1 μm to 1 μm. Conductive film.
Item 6
Item 6. The light-transmitting conductive material according to any one of Items 1 to 5, wherein at least a part of the light-transmitting conductive layer (C) is patterned and has a region where the intermediate layer (B) is exposed. the film.
Item 7
The touchscreen containing the light transmissive conductive film as described in any one of claim | item 1 -6.
Item 8
A method for producing the light transmissive conductive film according to any one of Items 3 to 6,
(1) A method comprising a step of forming the intermediate layer (B) using a raw material containing the binder component and the fine particles.
Item 9
Item 9. The method according to Item 8, wherein in the step (1), the intermediate layer (B) is formed by applying the raw material on a layer serving as a base.

本発明によれば、比較的曲率の大きい複数の凸曲面がエッチング領域の表面上に存在している状態とすることができ、このことに起因して、乱反射を抑制しつつ界面反射を効果的に揺らがせることができる。本発明によれば、このようにしてヘイズ値を適度に抑制しつつ、効果的に骨見え現象を抑制できる。   According to the present invention, a plurality of convex curved surfaces having relatively large curvatures can be present on the surface of the etching region, and as a result, interface reflection is effectively suppressed while suppressing irregular reflection. Can be shaken. According to the present invention, it is possible to effectively suppress the bone appearance phenomenon while appropriately suppressing the haze value.

光透過性支持層(A)の片面に、中間層(B)及び光透過性導電層(C)がこの順で配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the light transmissive conductive film of this invention by which the intermediate | middle layer (B) and the light transmissive conductive layer (C) are arrange | positioned in this order on the single side | surface of a light transmissive support layer (A). . 光透過性支持層(A)の両面に、中間層(B)及び光透過性導電層(C)がこの順で配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the light transmissive conductive film of this invention by which an intermediate | middle layer (B) and a light transmissive conductive layer (C) are arrange | positioned in this order on both surfaces of a light transmissive support layer (A). . 光透過性支持層(A)の一方の面に、第一の中間層(B)及び光透過性導電層(C)がこの順で配置されており、かつ、他方の面に、第二の中間層(B)が直接配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。The first intermediate layer (B) and the light transmissive conductive layer (C) are disposed in this order on one surface of the light transmissive support layer (A), and the second surface is disposed on the other surface. It is sectional drawing which shows the light transmissive conductive film of this invention in which the intermediate | middle layer (B) is directly arrange | positioned. 比較的曲率が大きい複数の凸曲面がエッチング領域の表面上に存在している状態のエッチング領域の断面図である。It is sectional drawing of the etching area | region of the state in which the some convex curve with comparatively large curvature exists on the surface of an etching area | region. 比較的曲率が小さい複数の凸曲面がエッチング領域の表面上に存在している状態のエッチング領域の断面図である。It is sectional drawing of the etching area | region in the state in which the some convex curve with comparatively small curvature exists on the surface of an etching area | region. 中間層(B)に一部が埋まっている微粒子が中間層(B)の表面から突出している状態を示す上面図、側面図及び一部拡大図である。FIG. 4 is a top view, a side view, and a partially enlarged view showing a state in which fine particles partially embedded in the intermediate layer (B) protrude from the surface of the intermediate layer (B). 扁平な楕円体の微粒子の外観を示す三面図である。It is a three-view figure which shows the external appearance of the fine particle of a flat ellipsoid. 扁平な紡錘形の微粒子の外観を示す三面図である。It is a trihedral view showing the appearance of flat spindle-shaped fine particles. 割平面が球の中心を通らない球欠形状の微粒子の外観を示す三面図である。It is a trihedral view showing the appearance of a spherically-shaped fine particle whose split plane does not pass through the center of the sphere. 異形粒子により形成される突起を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the processus | protrusion formed by irregularly shaped particle | grains. 中間層(B)の下層に設けられている突起により形成される突起を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the protrusion formed of the protrusion provided in the lower layer of the intermediate | middle layer (B). 型の転写により形成される突起を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the processus | protrusion formed by transcription | transfer of a type | mold. 後加工により形成される突起を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the protrusion formed by post-processing. 光透過性支持層(A)の片面に、中間層(B)、アンダーコート層(D)及び光透過性導電層(C)がこの順で配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。The light-transmitting conductive material of the present invention has an intermediate layer (B), an undercoat layer (D), and a light-transmitting conductive layer (C) arranged in this order on one side of the light-transmitting supporting layer (A). It is sectional drawing which shows a film. 光透過性支持層(A)の両面に、中間層(B)、アンダーコート層(D)及び光透過性導電層(C)がこの順で配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。The light-transmitting conductive material of the present invention, in which an intermediate layer (B), an undercoat layer (D), and a light-transmitting conductive layer (C) are arranged in this order on both surfaces of the light-transmitting support layer (A). It is sectional drawing which shows a film.

1. 光透過性導電性フィルム
本発明の光透過性導電性フィルムは、
(A)光透過性支持層;
(B)中間層;及び
(C)光透過性導電層
を含有し、
前記中間層(B)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層(C)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、少なくとも中間層(B)を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって:
前記中間層(B)の光透過性導電層(C)側の面が、凸曲面を有する複数の突起を有し、かつ
前記凸曲面が前記中間層(B)の前記面となす角度θが50°以下であることを特徴とする、光透過性導電性フィルム
である。
1. Light transmissive conductive film The light transmissive conductive film of the present invention comprises:
(A) a light transmissive support layer;
(B) an intermediate layer; and (C) a light transmissive conductive layer,
The intermediate layer (B) is disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers, and the light transmissive conductive layer (C). Is a light transmissive conductive film disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) via at least the intermediate layer (B):
The surface on the light-transmissive conductive layer (C) side of the intermediate layer (B) has a plurality of protrusions having a convex curved surface, and an angle θ between the convex curved surface and the surface of the intermediate layer (B) is It is a light-transmitting conductive film characterized by being 50 ° or less.

本発明において「光透過性」とは、光を透過させる性質を有する(translucent)ことを意味する。「光透過性」には、透明(transparent)が含まれる。「光透過性」とは、例えば、全光線透過率が80%以上、好ましくは85%以上、より好ましくは87%以上である性質をいう。本発明において全光線透過率は、ヘーズメーター(日本電色社製、商品名:NDH−2000、またはその同等品)を用いてJIS−K−7105に基づいて測定する。   In the present invention, “light-transmitting” means having a property of transmitting light (translucent). “Light transmissivity” includes transparency. “Light transmissivity” means, for example, the property that the total light transmittance is 80% or more, preferably 85% or more, more preferably 87% or more. In the present invention, the total light transmittance is measured based on JIS-K-7105 using a haze meter (trade name: NDH-2000 manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd. or equivalent).

本明細書において、光透過性支持層(A)の一方の面に配置される複数の層のうち二つの層の相対的な位置関係について言及する場合、光透過性支持層(A)を基準にして、光透過性支持層(A)からの距離が大きい一方の層を「上の層」等といい、光透過性支持層(A)からの距離が小さい他方の層を「下の層」等ということがある。   In this specification, when mentioning the relative positional relationship between two layers among a plurality of layers arranged on one surface of the light transmissive support layer (A), the light transmissive support layer (A) is used as a reference. One layer having a large distance from the light transmissive support layer (A) is referred to as “upper layer” and the like, and the other layer having a small distance from the light transmissive support layer (A) is referred to as “lower layer”. And so on.

以下の各層についての説明箇所において特に明記されていない限り、本発明において、各層の厚さは、市販の反射分光膜厚計(大塚電子、FE−3000(製品名)、又はその同等品)を用いて求める。又は、代替的に、市販の透過型電子顕微鏡を用いた観察により求めてもよい。具体的には、ミクロトーム又はフォーカスイオンビームなどを用いて光透過性導電性フィルムをフィルム面に対して垂直方向に薄く切断し、その断面を観察する。   Unless otherwise specified in the following description of each layer, in the present invention, the thickness of each layer is a commercially available reflection spectral film thickness meter (Otsuka Electronics, FE-3000 (product name), or equivalent). Use to find. Alternatively, it may be obtained by observation using a commercially available transmission electron microscope. Specifically, the light-transmitting conductive film is thinly cut in a direction perpendicular to the film surface using a microtome or a focus ion beam, and the cross section is observed.

図1に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層(A)の一方の面に、中間層(B)及び光透過性導電層(C)がこの順で配置されている。   In FIG. 1, the one aspect | mode of the transparent electroconductive film of this invention is shown. In this embodiment, the intermediate layer (B) and the light transmissive conductive layer (C) are arranged in this order on one surface of the light transmissive support layer (A).

図2に、本発明の光透過性導電性フィルムの別の態様を示す。この態様では、光透過性支持層(A)の両方の面に、中間層(B)及び光透過性導電層(C)がこの順で配置されている。   FIG. 2 shows another embodiment of the light transmissive conductive film of the present invention. In this embodiment, the intermediate layer (B) and the light transmissive conductive layer (C) are arranged in this order on both surfaces of the light transmissive support layer (A).

1.1 光透過性支持層(A)
本発明において光透過性支持層とは、光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性導電層を含有する層を支持する役割を果たすものをいう。光透過性支持層(A)としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性支持層として通常用いられるものを用いることができる。
1.1 Light transmissive support layer (A)
In the present invention, the light transmissive support layer refers to a light transmissive conductive film containing a light transmissive conductive layer, which plays a role of supporting the layer containing the light transmissive conductive layer. Although it does not specifically limit as a light transmissive support layer (A), For example, in the light transmissive conductive film for touch panels, what is normally used as a light transmissive support layer can be used.

光透過性支持層(A)の素材は、特に限定されないが、例えば、各種の有機高分子等を挙げることができる。有機高分子としては、特に限定されないが、例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリメタクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、及びポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、及びポリエチレンナフタレート(PEN)等が挙げられる。光透過性支持層(A)の素材は、ポリエステル系樹脂が好ましく、特にPETが好ましい。光透過性支持層(A)は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。   Although the raw material of a light-transmissive support layer (A) is not specifically limited, For example, various organic polymers etc. can be mentioned. The organic polymer is not particularly limited. For example, polyester resin, acetate resin, polyether resin, polycarbonate resin, polyacrylic resin, polymethacrylic resin, polystyrene resin, polyolefin resin, polyimide resin, etc. Examples include resins, polyamide resins, polyvinyl chloride resins, polyacetal resins, polyvinylidene chloride resins, and polyphenylene sulfide resins. Although it does not specifically limit as polyester-type resin, For example, a polyethylene terephthalate (PET), a polyethylene naphthalate (PEN), etc. are mentioned. The material of the light transmissive support layer (A) is preferably a polyester resin, and particularly preferably PET. The light transmissive support layer (A) may be composed of any one of these, or may be composed of a plurality of types.

光透過性支持層(A)の厚さは、特に限定されないが、例えば、2〜300μmの範囲が挙げられる。   Although the thickness of a light-transmissive support layer (A) is not specifically limited, For example, the range of 2-300 micrometers is mentioned.

1.2 中間層(B)
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して中間層(B)が配置されている。中間層(B)は、好ましくは光透過性支持層(A)の面に、直接配置されている。
1.2 Intermediate layer (B)
In the light transmissive conductive film of the present invention, the intermediate layer (B) is disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers. The intermediate layer (B) is preferably disposed directly on the surface of the light transmissive support layer (A).

光透過性支持層(A)の両方の面に、中間層(B)がそれぞれ、直接配置されていてもよい(図3)。   The intermediate layer (B) may be directly disposed on both surfaces of the light transmissive support layer (A) (FIG. 3).

中間層(B)は、光透過性導電層(C)と対向する側の面が、凸曲面を有する複数の突起を有し、かつ前記凸曲面が中間層(B)の前記面となす角度θが50°以下であるという特性を備える。   The intermediate layer (B) has a plurality of protrusions having a convex curved surface on the side facing the light transmissive conductive layer (C), and an angle formed by the convex curved surface and the surface of the intermediate layer (B). It has the characteristic that θ is 50 ° or less.

前記突起は、比較的曲率が大きい(曲面が緩やかな)凸曲面を有しているという特徴を有している。かかる特徴に起因してヘイズ値の上昇を抑制しつつ骨見え現象を抑制できるという優れた効果が得られる。例えば、曲率がより小さい(曲面が急峻な)曲面を有する突起、例えば、球面状突起を替わりに備える中間層(B)を用いた場合に比べてヘイズ値の上昇が抑えられているにもかかわらず、骨見え現象は効果的に抑制されている。前記突起は、上記効果の点で、好ましくは、屈曲面を有さないか実質的に有さないという特徴をさらに備える。   The protrusion has a feature that it has a convex curved surface having a relatively large curvature (a gentle curved surface). Due to such characteristics, an excellent effect of suppressing the bone appearance phenomenon while suppressing an increase in haze value can be obtained. For example, although an increase in haze value is suppressed as compared with a case where a protrusion having a curved surface with a smaller curvature (a sharp curved surface), for example, an intermediate layer (B) having a spherical protrusion instead, is used. The bone appearance phenomenon is effectively suppressed. In view of the above effects, the protrusion preferably further has a feature that it does not have or substantially does not have a bent surface.

この現象は以下のように説明される。中間層(B)を配置することによって、エッチング後に、比較的曲率が大きい複数の凸曲面がエッチング領域の表面上に存在している状態とすることができる。この状態のエッチング領域の断面図を図4に示す。また、本発明と比較するために、比較的曲率が小さい凸曲面がエッチング領域の表面上に存在している状態とした場合のエッチング領域の断面図を図5に示す。図4及び図5のそれぞれには、ある一定角度から入射した光の、エッチング領域の表面における反射光が図示されている。
このように、比較的曲率が大きい凸曲面が表面に導入されている場合、曲率が比較的小さい凸曲面が導入されている場合に比べ、反射光が散乱しにくく、より反射光を一定の範囲に収めやすくなる。このように反射光が散乱しにくい場合は、ヘイズ値の上昇を抑えることができる。また、比較的曲率が大きい凸曲面が表面に導入されている場合であっても、骨見え現象の原因とみられる界面反射を効果的に揺らがせることができる。
This phenomenon is explained as follows. By arranging the intermediate layer (B), a plurality of convex curved surfaces having a relatively large curvature can be present on the surface of the etching region after etching. A cross-sectional view of the etching region in this state is shown in FIG. For comparison with the present invention, FIG. 5 shows a cross-sectional view of an etching region when a convex curved surface having a relatively small curvature is present on the surface of the etching region. Each of FIGS. 4 and 5 shows the light reflected from the surface of the etching region of light incident from a certain angle.
In this way, when a convex curved surface with a relatively large curvature is introduced on the surface, the reflected light is less likely to scatter than when a convex curved surface with a relatively small curvature is introduced, and the reflected light is more in a certain range. Easy to fit in. Thus, when reflected light is hard to scatter, the raise of a haze value can be suppressed. Further, even when a convex curved surface having a relatively large curvature is introduced on the surface, it is possible to effectively fluctuate the interface reflection that is considered to cause the bone appearance phenomenon.

本発明の効果の面では、前記凸曲面が中間層(B)の前記面となす角度θは好ましくは5〜50°であり、より好ましくは15〜30°である。   In terms of the effect of the present invention, the angle θ between the convex curved surface and the surface of the intermediate layer (B) is preferably 5 to 50 °, more preferably 15 to 30 °.

本発明において、前記凸曲面が中間層(B)の前記面となす角度θの測定は、以下の通り行う。
<θの測定方法>
1.エッチング処理による上層の除去(測定の前処理)
光透過性導電性フィルムを20%塩酸に浸漬し、表面抵抗が計測不能になるまでエッチング処理を続ける。
In the present invention, the angle θ formed by the convex curved surface and the surface of the intermediate layer (B) is measured as follows.
<Measurement method of θ>
1. Removal of upper layer by etching process (pre-measurement process)
The light-transmitting conductive film is immersed in 20% hydrochloric acid, and the etching process is continued until the surface resistance cannot be measured.

2.θの測定方法
非接触式三次元表面粗さ計を用いて測定倍率25倍、測定面積283μm×213μmの条件にて3次元の表面形状を測定した。得られた3次元の表面形状から25個の凸曲面を任意に選んだ。それぞれの凸曲面の3次元の表面形状について任意の方向から見ることとし「粗さ測定の基準面と凸曲面とのなす角度」を算出した。算出された25個の「粗さ測定の基準面と凸曲面とのなす角度」を算術平均して、「凸曲面が中間層(B)の光透過性導電層(C)側の面となす角度θ」とした。
2. Method for Measuring θ A three-dimensional surface shape was measured using a non-contact type three-dimensional surface roughness meter under the conditions of a measurement magnification of 25 times and a measurement area of 283 μm × 213 μm. From the obtained three-dimensional surface shape, 25 convex curved surfaces were arbitrarily selected. The three-dimensional surface shape of each convex curved surface was viewed from an arbitrary direction, and the “angle between the roughness measurement reference surface and the convex curved surface” was calculated. The 25 calculated “angles between the roughness measurement reference surface and the convex surface” are arithmetically averaged, and “the convex surface becomes the surface of the intermediate layer (B) on the light-transmissive conductive layer (C) side. Angle θ ”.

本発明の効果の面では、中間層(B)の光透過性導電層(C)と対向する側の面が、前記突起を1mmあたり、100個〜10,000個有していれば好ましく、500〜5,000個有していればより好ましく、1,000〜2,000個有していればさらに好ましい。 In terms of the effect of the present invention, it is preferable that the surface of the intermediate layer (B) facing the light-transmissive conductive layer (C) has 100 to 10,000 protrusions per 1 mm 2. 500 to 5,000 are more preferable, and 1,000 to 2,000 are more preferable.

本発明において、単位面積あたりの突起の数の測定は、以下の通り行う。   In the present invention, the number of protrusions per unit area is measured as follows.

<単位面積あたりの突起の数の測定方法>
1.エッチング処理による上層の除去(測定の前処理)
光透過性導電性フィルムを20%塩酸に浸漬し、表面抵抗が計測不能になるまでエッチング処理を続ける。
<Method for measuring the number of protrusions per unit area>
1. Removal of upper layer by etching process (pre-measurement process)
The light-transmitting conductive film is immersed in 20% hydrochloric acid, and the etching process is continued until the surface resistance cannot be measured.

2.突起の数の測定方法
非接触式三次元表面粗さ計に内蔵された表面解析ソフトを用いて3次元の10点平均粗さ(SRz)を求め、「前記突起を有する中間層(B)の面を基準面とする前記突起の最大高さの平均値」とする。
2. Method for measuring the number of protrusions Using a surface analysis software built in the non-contact type three-dimensional surface roughness meter, the three-dimensional 10-point average roughness (SRz) is obtained, and “the intermediate layer (B) having the protrusions” is calculated. The average value of the maximum heights of the protrusions with the surface as a reference surface.

本発明の効果の面では、前記突起を有する中間層(B)の面を基準面とする前記突起の最大高さの平均値が、0.1μm〜1μmであれば好ましく、0.2μm〜0.6μmであればさらに好ましい。   In terms of the effect of the present invention, the average value of the maximum height of the protrusions with the surface of the intermediate layer (B) having the protrusions as a reference surface is preferably 0.1 μm to 1 μm, preferably 0.2 μm to 0 μm. More preferably, the thickness is 6 μm.

本発明において、突起の最大高さの平均値は、以下の通り算出する。   In the present invention, the average value of the maximum height of the protrusions is calculated as follows.

<突起の最大高さの平均値を算出する方法>
1.エッチング処理による上層の除去(測定の前処理)
光透過性導電性フィルムを20%塩酸に浸漬し、表面抵抗が計測不能になるまでエッチング処理を続ける。
<Method of calculating the average value of the maximum height of the protrusions>
1. Removal of upper layer by etching process (pre-measurement process)
The light-transmitting conductive film is immersed in 20% hydrochloric acid, and the etching process is continued until the surface resistance cannot be measured.

2.突起の最大高さと、その平均値の測定方法
非接触式三次元表面粗さ計を用いて測定倍率25倍、測定面積283μm×213μmの条件にて3次元の表面形状を測定する。非接触式三次元表面粗さ計に内蔵された表面解析ソフトを用いて突起の最大粗さ(SRmax)と、3次元の10点平均粗さ(SRz)を求める。突起の最大粗さ(SRmax)を「前記突起を有する中間層(B)の面を基準面とする前記突起の最大高さ」とし、3次元の10点平均粗さ(SRz)を「前記突起を有する中間層(B)の面を基準面とする前記突起の最大高さ」とする。
2. Measuring method of maximum height of protrusion and average value thereof A three-dimensional surface shape is measured using a non-contact type three-dimensional surface roughness meter under conditions of a measurement magnification of 25 times and a measurement area of 283 μm × 213 μm. The maximum roughness (SRmax) of the protrusion and the three-dimensional 10-point average roughness (SRz) are obtained using surface analysis software incorporated in the non-contact type three-dimensional surface roughness meter. The maximum roughness (SRmax) of the protrusion is “the maximum height of the protrusion with the surface of the intermediate layer (B) having the protrusion as a reference surface”, and the three-dimensional 10-point average roughness (SRz) is “the protrusion. The maximum height of the protrusion with the surface of the intermediate layer (B) having a reference surface as the reference surface.

なお、中間層(B)の表面にアンダーコート層等の数十ナノメートルの厚さの他の層が存在する場合は、当該他の層を除去せずにそのまま当該他の層で覆われた表面の凹凸形状を測定してもよい。   In addition, when another layer having a thickness of several tens of nanometers such as an undercoat layer exists on the surface of the intermediate layer (B), the other layer was directly covered with the other layer without being removed. The uneven shape on the surface may be measured.

前記突起は、特に限定されないが、例えば、中間層(B)に一部が埋まっている微粒子の、中間層(B)の表面から突出している部分に相当するものであってもよい(図6)。
微粒子の形状は、一部に前記の凸曲面を有していればよく、特に限定されないが、例えば楕円体のほか、図7〜9に示した形状等であってもよい。微粒子としては、特に限定されないが、長軸(Major Axis)が1μm〜10μmであり、かつ長径と短径とのアスペクト比が1.5の扁平な楕円体若しくは紡錘形、又はこれらに類似する形状を用いることができる。より具体的には、長軸(Major Axis)が3μm〜6μmであり、かつ長径と短径とのアスペクト比が2以上の楕円体を用いることができる。アスペクト比の上限は特に限定されないが好ましくは10以下である。
The protrusions are not particularly limited, but may correspond to, for example, a portion of fine particles partially embedded in the intermediate layer (B) protruding from the surface of the intermediate layer (B) (FIG. 6). ).
The shape of the fine particles is not particularly limited as long as it has the convex curved surface in part. For example, in addition to an ellipsoid, the shape shown in FIGS. The fine particles are not particularly limited, but a flat ellipsoid or spindle shape having a major axis (Major Axis) of 1 μm to 10 μm and an aspect ratio of a major axis to a minor axis of 1.5, or a shape similar thereto. Can be used. More specifically, an ellipsoid having a major axis (Major Axis) of 3 μm to 6 μm and an aspect ratio of a major axis to a minor axis of 2 or more can be used. The upper limit of the aspect ratio is not particularly limited, but is preferably 10 or less.

別の態様として、前記突起は、中間層(B)に全体が埋まっている上記微粒子又は異形微粒子の形状を反映して、周辺のバインダー成分が隆起することにより形成される突起であってもよい(図10)。この場合の異形形状としては、図10に例示した円錐形状のほか、結果的に同様の突起の形成を助けるものであればよく、特に限定されない。例えば、図10に示すような円錐状の微粒子が中間層(B)に埋まっている場合、バインダー成分の回り込みにより、上述したような比較的曲率が大きい(曲面が緩やかな)凸曲面を有する突起が形成される。   As another aspect, the protrusion may be a protrusion formed by a peripheral binder component being raised, reflecting the shape of the fine particles or irregular fine particles that are entirely embedded in the intermediate layer (B). (FIG. 10). The deformed shape in this case is not particularly limited as long as it has a conical shape illustrated in FIG. For example, when conical fine particles as shown in FIG. 10 are embedded in the intermediate layer (B), the protrusion having a convex curved surface having a relatively large curvature (curved curved surface) as described above due to the wraparound of the binder component. Is formed.

別の態様として、前記突起は、中間層(B)の下層に設けられている突起が中間層(B)の表面に突出したものであってもよい(図11)。また、前記突起は、同様に中間層(B)の下層に設けられている突起であって、中間層(B)に全体が埋まっている突起の形状を反映して、周辺のバインダー成分が隆起することにより形成される突起であってもよい。   As another embodiment, the protrusion may be a protrusion provided on the lower layer of the intermediate layer (B) protruding from the surface of the intermediate layer (B) (FIG. 11). Similarly, the protrusion is a protrusion provided in the lower layer of the intermediate layer (B), and the peripheral binder component is raised to reflect the shape of the protrusion that is entirely embedded in the intermediate layer (B). It may be a projection formed by doing so.

別の態様として、前記突起は、型の転写により中間層(B)の表面に付与されたものであってもよい(図12)。   As another embodiment, the protrusion may be provided on the surface of the intermediate layer (B) by mold transfer (FIG. 12).

別の態様として、前記突起は、中間層(B)を形成した後に、後加工(印刷及びインクジェット等)により中間層(B)の表面に付与されたものであってもよい(図13)。   As another aspect, after forming the intermediate layer (B), the protrusion may be provided on the surface of the intermediate layer (B) by post-processing (printing, inkjet, or the like) (FIG. 13).

本発明において、微粒子の体積平均粒子径は、コールターカウンター式粒度計を用いて、電気抵抗試験方法により測定する。   In the present invention, the volume average particle diameter of the fine particles is measured by an electric resistance test method using a Coulter counter type particle size meter.

本発明において、微粒子の長径と短径とのアスペクト比は以下の通り算出する。   In the present invention, the aspect ratio between the major axis and minor axis of the fine particles is calculated as follows.

エポキシ樹脂中に微粒子を固定した試験片を作成し、試験片を走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて観察する。観察視野内から任意の25個の粒子を選び、それぞれの粒子について観察された粒子の外径の最大長さを測る。なお、観察された粒子数が25個より少ない場合は観察視野を変えるか複数の視野を観察して合計25個の測定値を得る。   A test piece having fine particles fixed in an epoxy resin is prepared, and the test piece is observed using a scanning electron microscope (SEM). Arbitrary 25 particles are selected from within the observation field, and the maximum length of the observed outer diameter of each particle is measured. If the number of particles observed is less than 25, the observation field is changed or a plurality of fields are observed to obtain a total of 25 measurement values.

前記微粒子としては、特に限定されないが、好ましくは透明有機高分子粒子、透明無機粒子及び有機無機ハイブリッド粒子等を使用できる。   The fine particles are not particularly limited, but preferably, transparent organic polymer particles, transparent inorganic particles, organic-inorganic hybrid particles, and the like can be used.

上記において、好ましくは、中間層(B)は、前記微粒子、及びバインダー成分を含有する。バインダー成分としては、特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、メラミン系樹脂及びアルキド系樹脂;並びにシリカ、ジルコニア、チタニア及びアルミナ等のコロイド粒子等が挙げられる。中間層(B)は、これらのうちいずれか単独をバインダー成分として含有していてもよいし、複数種をバインダー成分として含有していてもよい。   In the above, preferably, the intermediate layer (B) contains the fine particles and a binder component. The binder component is not particularly limited, and examples thereof include acrylic resins, silicone resins, melamine resins, and alkyd resins; and colloidal particles such as silica, zirconia, titania, and alumina. The intermediate layer (B) may contain any one of them as a binder component, or may contain a plurality of types as a binder component.

上記において、前記微粒子及び前記バインダー成分の屈折率差が0.1以下であれば好ましい。屈折率差がこの範囲内にあれば、光を透過させた際に、フィルム全面に渡り均一な透過光が得られるため好ましい。屈折率差がこの範囲内となるように適宜材料を選択すればよい。   In the above, it is preferable that the refractive index difference between the fine particles and the binder component is 0.1 or less. If the refractive index difference is within this range, it is preferable because uniform transmitted light can be obtained over the entire surface of the film when light is transmitted. What is necessary is just to select a material suitably so that a refractive index difference may exist in this range.

中間層(B)は、本発明の効果が奏される限り特に限定されないが、前記微粒子に加えてその他の成分をさらに含有していてもよい。その他の成分としては、本発明の効果が奏される限り特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、メラミン系樹脂及びアルキド系樹脂;並びにシリカ、ジルコニア、チタニア及びアルミナ等のコロイド粒子、ケイ素系有機無機ハイブリッド高分子等が挙げられる。中間層(B)は、前記微粒子に加えて、これらのうちいずれか単独をさらに含有していてもよいし、複数種をさらに含有していてもよい。   The intermediate layer (B) is not particularly limited as long as the effects of the present invention are exhibited, but may further contain other components in addition to the fine particles. The other components are not particularly limited as long as the effects of the present invention are exhibited. For example, acrylic resins, silicone resins, melamine resins, and alkyd resins; and colloidal particles such as silica, zirconia, titania, and alumina. And silicon-based organic-inorganic hybrid polymers. In addition to the fine particles, the intermediate layer (B) may further contain any one of them, or may further contain a plurality of types.

中間層(B)の厚さは、0.5〜5μmであり、好ましくは1〜4μm、より好ましくは1〜3μmである。中間層(B)の厚さが0.5μmよりも大きいと、粒子が脱落しにくくなるという利点が得られる。また、中間層(B)の厚さが5μmよりも小さいと、突起高さの均一性が高まるという利点が得られる。   The thickness of the intermediate layer (B) is 0.5 to 5 μm, preferably 1 to 4 μm, more preferably 1 to 3 μm. When the thickness of the intermediate layer (B) is larger than 0.5 μm, there is an advantage that the particles are difficult to drop off. Further, when the thickness of the intermediate layer (B) is smaller than 5 μm, there is an advantage that the uniformity of the protrusion height is increased.

本発明において、中間層(B)の厚さは、次のようにして測定する。透過型電子顕微鏡観察により求める。具体的には、ミクロトーム又はフォーカスイオンビームなどを用いて光透過性導電性フィルムを薄く切断して、その断面を観察する。   In the present invention, the thickness of the intermediate layer (B) is measured as follows. Obtained by observation with a transmission electron microscope. Specifically, a light-transmitting conductive film is cut into thin pieces using a microtome or a focus ion beam, and the cross section is observed.

中間層(B)は、他のさらなる機能を兼ね備える層とすることもできる。例えば、光学調整層としての機能を同時に中間層(B)に付与してもよい。この場合、中間層(B)が例えば、上方が低屈折領域、下方に高屈折率領域がそれぞれ配置されている、境界が明瞭でなくてもよい多層構造を有するものであってもよい。   The intermediate layer (B) can also be a layer having other additional functions. For example, you may provide the function as an optical adjustment layer to an intermediate | middle layer (B) simultaneously. In this case, the intermediate layer (B) may have, for example, a multilayer structure in which the upper portion has a low refractive region and the lower portion has a high refractive index region, and the boundary may not be clear.

中間層(B)を下地となる層の上に配置する方法としては、特に限定されないが、例えば、フィルムに原料を塗布したうえで、熱で硬化する方法、及び紫外線や電子線などの活性エネルギー線で硬化する方法等が挙げられる。生産性の点で、紫外線により硬化する方法が好ましい。   The method for disposing the intermediate layer (B) on the underlying layer is not particularly limited. For example, a method of applying a raw material to a film and then curing with heat, and an active energy such as ultraviolet rays or electron beams. Examples include a method of curing with a wire. From the viewpoint of productivity, a method of curing with ultraviolet rays is preferable.

より具体的には、中間層(B)が前記バインダー成分及び前記微粒子を含有する場合は以下のようにして下地となる層の上に中間層(B)を配置することができる。
(1)前記バインダー成分及び前記微粒子を含有する原料を用いて前記中間層(B)を形成する工程を含有する方法により配置することができる。前記工程(1)において、下地となる層の上に前記原料を塗布することにより前記中間層(B)を形成することがより好ましい。
More specifically, when the intermediate layer (B) contains the binder component and the fine particles, the intermediate layer (B) can be disposed on the underlying layer as follows.
(1) It can arrange | position by the method containing the process of forming the said intermediate | middle layer (B) using the raw material containing the said binder component and the said microparticles | fine-particles. In the step (1), it is more preferable to form the intermediate layer (B) by applying the raw material on a layer serving as a base.

あるいは、前記のような微粒子を使用せず、インプリント等の方法により所望の突起を中間層(B)の表面に設けることもできる。   Alternatively, a desired protrusion can be provided on the surface of the intermediate layer (B) by a method such as imprinting without using the fine particles as described above.

1.3 光透過性導電層(C)
光透過性導電層(C)は、光透過性支持層(A)の一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている。
1.3 Light transmissive conductive layer (C)
The light transmissive conductive layer (C) is disposed on one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers.

本発明において光透過性導電層とは、電気を導通しかつ可視光を透過する役割を果たすものをいう。光透過性導電層(C)としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて光透過性導電層として通常用いられるものを用いることができる。   In the present invention, the light-transmitting conductive layer means a layer that conducts electricity and transmits visible light. Although it does not specifically limit as a light transmissive conductive layer (C), For example, what is normally used as a light transmissive conductive layer in the light transmissive conductive film for touch panels can be used.

光透過性導電層(C)の素材は、特に限定されないが、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化錫及び酸化チタン等が挙げられる。光透過性導電層(C)としては、透明性と導電性を両立する点で酸化インジウムにドーパントをドープしたものを含む光透過性導電層が好ましい。光透過性導電層(C)は、酸化インジウムにドーパントをドープしたものからなる光透過性導電層であってもよい。ドーパントとしては、特に限定されないが、例えば、酸化スズ及び酸化亜鉛、並びにそれらの混合物等が挙げられる。   The material of the light transmissive conductive layer (C) is not particularly limited, and examples thereof include indium oxide, zinc oxide, tin oxide, and titanium oxide. The light transmissive conductive layer (C) is preferably a light transmissive conductive layer containing indium oxide doped with a dopant in terms of achieving both transparency and conductivity. The light transmissive conductive layer (C) may be a light transmissive conductive layer made of indium oxide doped with a dopant. Although it does not specifically limit as a dopant, For example, a tin oxide, a zinc oxide, those mixtures, etc. are mentioned.

光透過性導電層(C)の素材として酸化インジウムに酸化スズをドープしたものを用いる場合は、酸化インジウム(III)(In)に酸化スズ(IV)(SnO)をドープしたもの(tin−doped indium oxide;ITO)が好ましい。この場合、SnOの添加量としては、特に限定されないが、例えば、1〜15重量%、好ましくは2〜10重量%、より好ましくは3〜8重量%等が挙げられる。また、ドーパントの総量が左記の数値範囲を超えない範囲で、酸化インジウムスズにさらに他のドーパントが加えられたものを光透過性導電層(C)の素材として用いてもよい。左記において他のドーパントとしては、特に限定されないが、例えばセレン等が挙げられる。 In the case of using indium oxide doped with tin oxide as the material of the light transmissive conductive layer (C), indium oxide (III) (In 2 O 3 ) doped with tin oxide (IV) (SnO 2 ) (Tin-doped indium oxide; ITO) is preferable. In this case, the addition amount of SnO 2 is not particularly limited, and examples thereof include 1 to 15% by weight, preferably 2 to 10% by weight, and more preferably 3 to 8% by weight. Moreover, you may use as a raw material of a light-transmitting conductive layer (C) what added the other dopant to indium tin oxide in the range which the total amount of a dopant does not exceed the numerical range of the left description. Although it does not specifically limit as another dopant in the left, For example, selenium etc. are mentioned.

光透過性導電層(C)は、上記の各種素材のうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。   The light transmissive conductive layer (C) may be composed of any one of the various materials described above, or may be composed of a plurality of types.

光透過性導電層(C)は、特に限定されないが、結晶体若しくは非晶質体、又はそれらの混合体であってもよい。   The light transmissive conductive layer (C) is not particularly limited, but may be a crystalline or amorphous body, or a mixture thereof.

光透過性導電層(C)を配置する方法は、湿式及び乾式のいずれであってもよく、特に限定されない。光透過性導電層(C)を配置する方法の具体例として、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、CVD法及びパルスレーザーデポジション法等が挙げられる。   The method for disposing the light transmissive conductive layer (C) may be either wet or dry, and is not particularly limited. Specific examples of the method for disposing the light transmissive conductive layer (C) include a sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method, a CVD method, and a pulse laser deposition method.

1.4 アンダーコート層(D)
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層(A)の光透過性導電層(C)が配置されている面に、直接又は一以上の他の層を介してアンダーコート層(D)が配置されていてもよい。アンダーコート層(D)が配置されている場合、少なくとも一方の前記光透過性導電層(C)が、少なくとも前記アンダーコート層(D)及び中間層(B)を介して前記光透過性支持層(A)の前記面に配置されている。この場合、少なくとも一方の前記光透過性導電層(C)が、前記アンダーコート層(D)に隣接して配置されていてもよい。また、この場合、アンダーコート層(D)は通常、中間層(B)よりも光透過性導電層(C)に近い側に配置されている。
1.4 Undercoat layer (D)
The light transmissive conductive film of the present invention has an undercoat layer directly or via one or more other layers on the surface of the light transmissive support layer (A) where the light transmissive conductive layer (C) is disposed. (D) may be arranged. When the undercoat layer (D) is disposed, at least one of the light transmissive conductive layers (C) is disposed at least through the undercoat layer (D) and the intermediate layer (B). It is arranged on the surface of (A). In this case, at least one of the light transmissive conductive layers (C) may be disposed adjacent to the undercoat layer (D). In this case, the undercoat layer (D) is usually disposed closer to the light transmissive conductive layer (C) than the intermediate layer (B).

図4に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層(A)の一方の面に、中間層(B)、アンダーコート層(D)及び光透過性導電層(C)がこの順で互いに隣接して配置されている。   In FIG. 4, the one aspect | mode of the transparent electroconductive film of this invention is shown. In this embodiment, the intermediate layer (B), the undercoat layer (D), and the light transmissive conductive layer (C) are arranged adjacent to each other in this order on one surface of the light transmissive support layer (A). Yes.

図10に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層(A)の両面に、中間層(B)、アンダーコート層(D)及び光透過性導電層(C)がこの順で互いに隣接して配置されている。   In FIG. 10, the one aspect | mode of the transparent electroconductive film of this invention is shown. In this embodiment, the intermediate layer (B), the undercoat layer (D), and the light transmissive conductive layer (C) are arranged adjacent to each other in this order on both surfaces of the light transmissive support layer (A).

図11に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層(A)の一方の面に、第一の中間層(B)、アンダーコート層(D)及び光透過性導電層(C)がこの順で互いに隣接して配置されており、他方の面に、第二の中間層(B)が直接配置されている。   In FIG. 11, the one aspect | mode of the transparent electroconductive film of this invention is shown. In this embodiment, the first intermediate layer (B), the undercoat layer (D), and the light transmissive conductive layer (C) are adjacent to each other in this order on one surface of the light transmissive support layer (A). The second intermediate layer (B) is disposed directly on the other surface.

アンダーコート層(D)の素材は、特に限定されないが、例えば、誘電性を有するものであってもよい。アンダーコート層(D)の素材としては、特に限定されないが、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、炭化ケイ素、シリコンアルコキシド、アルキルシロキサン及びその縮合物、ポリシロキサン、シルセスキオキサン、並びにポリシラザン等が挙げられる。アンダーコート層(D)は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。酸化ケイ素を含有する光透過性下地層が好ましく、酸化ケイ素からなる光透過性下地層がより好ましい。   Although the material of an undercoat layer (D) is not specifically limited, For example, you may have a dielectric property. The material for the undercoat layer (D) is not particularly limited. For example, silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, silicon carbide, silicon alkoxide, alkylsiloxane and its condensate, polysiloxane, silsesquioxane, and Examples include polysilazane. The undercoat layer (D) may be composed of any one of them, or may be composed of a plurality of types. A light-transmitting underlayer containing silicon oxide is preferable, and a light-transmitting underlayer made of silicon oxide is more preferable.

アンダーコート層(D)は、一層が配置されていてもよい。あるいは二層以上が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して配置されていてもよい。   One layer of the undercoat layer (D) may be disposed. Alternatively, two or more layers may be arranged adjacent to each other or separated from each other via other layers.

アンダーコート層(D)の一層あたりの厚さは、15〜40nm等が挙げられる。二層以上が互いに隣接して配置されている場合は互いに隣接している全てのアンダーコート層(D)の合計厚さが上記範囲内であればよい。左記の例示列挙においては後出のものが前出のものよりも好ましい。   As for the thickness per layer of an undercoat layer (D), 15-40 nm etc. are mentioned. When two or more layers are disposed adjacent to each other, the total thickness of all the undercoat layers (D) adjacent to each other may be within the above range. In the example list shown on the left, the following are more preferable than the above.

アンダーコート層(D)を配置する方法としては、湿式及び乾式のいずれでもよく、特に限定されないが、湿式としては例えば、ゾル−ゲル法、及び微粒子分散液若しくはコロイド溶液を塗布する方法等が挙げられる。アンダーコート層(D)を配置する方法として、乾式としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法又はパルスレーザーデポジション法により隣接する層上に積層する方法等が挙げられる。   The method of disposing the undercoat layer (D) may be either wet or dry, and is not particularly limited. Examples of the wet include a sol-gel method and a method of applying a fine particle dispersion or colloid solution. It is done. Examples of the method for disposing the undercoat layer (D) include a method of laminating on an adjacent layer by a sputtering method, an ion plating method, a vacuum deposition method, or a pulse laser deposition method.

1.5 その他の層
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層(A)の中間層(B)及び光透過性導電層(C)が配置されている側の面に、アンダーコート層(D)及び少なくとも1種のその他の層(E)からなる群より選択される少なくとも1種の層がさらに配置されていてもよい。
1.5 Other layers The light-transmitting conductive film of the present invention is provided on the surface of the light-transmitting support layer (A) where the intermediate layer (B) and the light-transmitting conductive layer (C) are disposed. At least one layer selected from the group consisting of the undercoat layer (D) and at least one other layer (E) may be further disposed.

その他の層(E)としては、特に限定されないが、例えば、接着層等が挙げられる。   Although it does not specifically limit as another layer (E), For example, an adhesive layer etc. are mentioned.

接着層とは、二層の間に当該二層と互いに隣接して配置され、当該二層間を互いに接着するために配置される層である。接着層としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて接着層として通常用いられるものを用いることができる。特に限定されないが、例えば、カップリング剤を用いることができる。必要に応じて接着される片方の面又は両方の面に対してより接着性を高める目的でコロナ処理を行ってもよい。   The adhesive layer is a layer that is disposed between two layers so as to be adjacent to each other and to adhere the two layers to each other. Although it does not specifically limit as a contact bonding layer, For example, what is normally used as a contact bonding layer in the transparent conductive film for touchscreens can be used. Although not particularly limited, for example, a coupling agent can be used. Corona treatment may be performed for the purpose of further improving the adhesion to one surface or both surfaces to be bonded as required.

1.6 本発明の光透過性導電性フィルムの用途
本発明の光透過性導電性フィルムは、タッチパネルのために好ましく用いられる。本発明の光透過性導電性フィルムは、特に、静電容量型タッチパネルのためにより好ましく用いられる。抵抗膜方式タッチパネルの製造のために用いられる光透過性導電性フィルムは一般に表面抵抗率(シート抵抗)が160〜1,000Ω/sq程度は必要であるとされる。これに対して静電容量型タッチパネルの製造のために用いられる光透過性導電性フィルムは一般に表面抵抗率が低いほうが有利である。本発明の光透過性導電性フィルムは、抵抗率が低減されており、これにより、静電容量型タッチパネルの製造のために好ましく用いられる。静電容量型タッチパネルについて詳細は、2で説明する通りである。
1.6 Use of light-transmitting conductive film of the present invention The light-transmitting conductive film of the present invention is preferably used for touch panels. The light-transmitting conductive film of the present invention is particularly preferably used for a capacitive touch panel. A light-transmitting conductive film used for manufacturing a resistive touch panel generally requires a surface resistivity (sheet resistance) of about 160 to 1,000 Ω / sq. On the other hand, a light-transmitting conductive film used for manufacturing a capacitive touch panel generally has a lower surface resistivity. The light-transmitting conductive film of the present invention has a reduced resistivity, and is thus preferably used for the production of a capacitive touch panel. The details of the capacitive touch panel are as described in 2.

2. 本発明の静電容量型タッチパネル
本発明の静電容量型タッチパネルは、本発明の光透過性導電性フィルムを含み、さらに必要に応じてその他の部材を含んでなる。
2. Capacitive touch panel of the electrostatic capacitance type touch panel <br/> invention of the present invention comprises a light transmissive, electrically-conductive film of the present invention, comprise other members according to necessity.

本発明の静電容量型タッチパネルの具体的な構成例としては、次のような構成が挙げられる。なお、保護層(1)側が操作画面側を、ガラス(5)側が操作画面とは反対側を向くようにして使用される。
(1)保護層
(2)本発明の光透過性導電性フィルム(Y軸方向)
(3)絶縁層
(4)本発明の光透過性導電性フィルム(X軸方向)
(5)ガラス
本発明の静電容量型タッチパネルは、特に限定されないが、例えば、上記(1)〜(5)、並びに必要に応じてその他の部材を通常の方法に従って組み合わせることにより製造することができる。
Specific examples of the configuration of the capacitive touch panel according to the present invention include the following configurations. The protective layer (1) side is used so that the operation screen side faces, and the glass (5) side faces the side opposite to the operation screen.
(1) Protective layer (2) Light transmissive conductive film of the present invention (Y-axis direction)
(3) Insulating layer (4) Light transmissive conductive film of the present invention (X-axis direction)
(5) Glass Although the capacitive touch panel of the present invention is not particularly limited, for example, it can be produced by combining the above (1) to (5) and other members as required according to a usual method. it can.

3. 本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法
本発明の光透過性導電性フィルムは、それぞれの層について説明した通りそれぞれの層を配置することにより製造することができる。例えば、光透過性支持層(A)の光透過性導電層(C)が配置されている側の面に、下層側から順次配置させてもよいが、配置の順番は特に限定されない。例えば、最初に光透過性支持層(A)ではない層(例えば、光透過性導電層(C))の一方の面に他の層を配置させてもよい。あるいは、一方で2種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより1種の複合層を得てから、又はそれと同時に、他方で同様に2種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより1種の複合層を得て、これらの2種の複合層をさらに互いに隣接するように配置させてもよい。
3. Production method of light transmissive conductive film of the present invention The light transmissive conductive film of the present invention can be produced by disposing each layer as described for each layer. For example, the light-transmissive support layer (A) may be sequentially disposed on the surface on which the light-transmissive conductive layer (C) is disposed from the lower layer side, but the arrangement order is not particularly limited. For example, first, another layer may be disposed on one surface of a layer that is not the light-transmissive support layer (A) (for example, the light-transmissive conductive layer (C)). Alternatively, one composite layer is obtained by arranging two or more layers adjacent to each other on the one hand, or at the same time, two or more layers are similarly disposed adjacent to each other on the other side. Thus, one type of composite layer may be obtained, and these two types of composite layers may be further arranged adjacent to each other.

以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

(実施例1)
光透過性支持層として、PETを用いた。PET表面上に下記に示した塗工液を均一に塗布し樹脂液を乾燥させることにより中間層を形成させた。得られた中間層の厚さは1.5μmであった。中間層の表面に表れた凸曲面の凹凸形状を三次元表面粗さ計を用いて測定し、凸曲面が中間層(B)となす角度θ、単位面積あたりの突起の数、中間層の光透過性導電層(C)側の面を基準面とする最大高さの平均値を求めた。得られた結果を表1に示した。なお、塗工液の調製は次の通り行った。
Example 1
PET was used as the light transmissive support layer. An intermediate layer was formed by uniformly applying the coating liquid shown below on the PET surface and drying the resin liquid. The thickness of the obtained intermediate layer was 1.5 μm. The convex / concave shape of the convex surface appearing on the surface of the intermediate layer is measured using a three-dimensional surface roughness meter, the angle θ between the convex surface and the intermediate layer (B), the number of protrusions per unit area, the light of the intermediate layer The average value of the maximum height with the surface on the transparent conductive layer (C) side as the reference surface was determined. The obtained results are shown in Table 1. The coating solution was prepared as follows.

(塗工液の調製)
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬社製) 75重量部
エポキシアクリレート(日本化薬社製) 20重量部
マクロモノマーAA−6(東亞合成社製) 11重量部
光重合開始剤イルガキュアー184(チバガイギー社製) 7重量部
楕円体のスチレン系樹脂微粒子 1重量部
(体積平均粒子径3μm、アスペクト比2、長軸の長さ4μm、短軸の長さ2μm)
上記成分をブチルセロソルブ35重量部、メチルエチルケトンを94.5重量部の混合溶媒を用いて希釈し、よく攪拌して固形分40%の塗工液を得た。
(Preparation of coating solution)
Dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd.) 75 parts by weight Epoxy acrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd.) 20 parts by weight Macromonomer AA-6 (Toagosei Co., Ltd.) 11 parts by weight Photopolymerization initiator Irgacure 184 (Ciba Geigy) 7 parts by weight Ellipsoidal styrene resin fine particles 1 part by weight (volume average particle diameter 3 μm, aspect ratio 2, major axis length 4 μm, minor axis length 2 μm)
The above components were diluted with a mixed solvent of 35 parts by weight of butyl cellosolve and 94.5 parts by weight of methyl ethyl ketone, and stirred well to obtain a coating solution having a solid content of 40%.

中間層のうえに光学干渉層として厚さ20nmのSiOからなる層(nC=1.460)を形成し、さらにその上に光透過性導電層として酸化インジウムスズからなる層(nD=1.938)を厚さ25nmとなるように成膜した。次いで、150℃で1時間熱処理した。得られた光透過性透明導電フィルムに対して、下記方法に従って「骨見え現象の評価」、「ヘイズ値」、「電気抵抗値」を評価した。 A layer made of SiO 2 (n C = 1.460) having a thickness of 20 nm is formed as an optical interference layer on the intermediate layer, and a layer made of indium tin oxide (n D = n = 4) is further formed thereon as a light-transmitting conductive layer. 1.938) was deposited to a thickness of 25 nm. Subsequently, it heat-processed at 150 degreeC for 1 hour. The obtained transparent transparent conductive film was evaluated for “evaluation of bone appearance phenomenon”, “haze value”, and “electric resistance value” according to the following methods.

(比較例1)
塗工液に含まれる楕円体の微粒子を、球状のスチレン系樹脂微粒子に代えたこと以外は実施例と同様にして光透過性導電フィルムを得た。実施例と同様に評価した結果を表1に示した。
(Comparative Example 1)
A light-transmitting conductive film was obtained in the same manner as in Example except that the ellipsoidal fine particles contained in the coating liquid were replaced with spherical styrene resin fine particles. The results evaluated in the same manner as in Examples are shown in Table 1.

(実施例2〜18及び比較例2〜4)
塗工液に含まれる楕円体の微粒子の形状や配合量、乾燥硬化後厚み、角度θ、粒子個数、粒子寸法、突起高さを変えたこと以外は実施例1と同様にして光透過性導電フィルムを得た。実施例1と同様に評価した結果を表1及び表2に示した。
なお、楕円体形状の粒子は実施例1と同様の楕円体のスチレン系樹脂微粒子(体積平均粒子径3μm、アスペクト比2、長軸の長さ4μm、短軸の長さ2μm)を用い、球形状の粒子は球状のスチレン系樹脂微粒子(体積平均粒子径3μm、アスペクト比1)を用いた。
(Examples 2-18 and Comparative Examples 2-4)
The light-transmitting conductive material is the same as in Example 1, except that the shape and blending amount of the ellipsoidal fine particles contained in the coating liquid, the thickness after drying and curing, the angle θ, the number of particles, the particle size, and the protrusion height are changed. A film was obtained. The results evaluated in the same manner as in Example 1 are shown in Tables 1 and 2.
The ellipsoidal particles used are the same ellipsoidal styrene resin fine particles (volume average particle diameter 3 μm, aspect ratio 2, major axis length 4 μm, minor axis length 2 μm) as in Example 1. Spherical styrenic resin fine particles (volume average particle diameter 3 μm, aspect ratio 1) were used as the shaped particles.

(骨見え現象の評価)
作製した透明導電性積層体を5cm角に切り出し、透明導電層に3mm幅のポリイミドテープを3mmの間隔ができるように平行に8本貼り付けた。次いで、このポリイミドテープを貼り付けた積層体をITOエッチング液(関東化学社製、商品名「ITO−06N」)に1分間浸漬し、ポリイミドテープを貼り付けていない部分のITOを除去し、リンス及び乾燥後にポリイミドテープを剥離することで、3mm間隔で3mm幅のITO膜がパターニングされた積層体を得た。このフィルムを目視観察し、ITOのパターンが「見えない(◎)」、「ほぼ見えない(○)」、及び「少し見える(×)」のいずれかに該当するかを評価した。
(Evaluation of bone appearance phenomenon)
The produced transparent conductive laminate was cut into a 5 cm square, and 8 pieces of 3 mm-wide polyimide tape were attached to the transparent conductive layer in parallel so as to have an interval of 3 mm. Next, the laminate with the polyimide tape attached is immersed in an ITO etching solution (trade name “ITO-06N”, manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) for 1 minute to remove the ITO where the polyimide tape is not attached, and rinse. And the polyimide tape was peeled after drying, and the laminated body by which the ITO film | membrane of 3 mm width was patterned by the 3 mm space | interval was obtained. This film was visually observed to evaluate whether the ITO pattern corresponds to one of “not visible (な い)”, “substantially invisible (◯)”, and “slightly visible (×)”.

(全光線透過率及びヘイズ値)
日本電色社製ヘーズメーター(MDH2000)を用いてJIS K7361−1に準じて測定した。
(Total light transmittance and haze value)
It measured according to JISK7361-1 using the Nippon Denshoku company haze meter (MDH2000).

(電気抵抗値)
表面抵抗は、表面抵抗計(MITSUBISHI CHEMICAL ANALYTECH社製、商品名:Loresta−EP)を用いて、4端子法により測定した。
評価結果を表1及び表2に示した。表1及び表2における「(配合量)*」は、実施例1における粒子の配合量を1重量部としたときの粒子の配合重量部を示している。
(Electric resistance value)
The surface resistance was measured by a four-terminal method using a surface resistance meter (manufactured by MITSUBISHI CHEMICAL ANALYTECH, trade name: Loresta-EP).
The evaluation results are shown in Tables 1 and 2. “(Blending amount) *” in Tables 1 and 2 indicates the part by weight of the particles when the amount of the particles in Example 1 is 1 part by weight.

Figure 0005727641
Figure 0005727641
Figure 0005727641
Figure 0005727641

1 光透過性導電性フィルム
11 光透過性支持層(A)
12 中間層(B)
121 微粒子
122 バインダー
13 光透過性導電層(C)
14 アンダーコート層(D)
15 中間層(B)の下層(光透過性支持層(A)であってもよい)
151 下層の突起
2 型
3 後処理により設けられた突起
1 Light-transmissive conductive film 11 Light-transmissive support layer (A)
12 Middle layer (B)
121 Fine particles 122 Binder 13 Light transmissive conductive layer (C)
14 Undercoat layer (D)
15 Lower layer of intermediate layer (B) (may be light transmissive support layer (A))
151 Lower layer projection 2 Mold 3 Projection provided by post-processing

Claims (9)

(A)光透過性支持層;
(B)中間層;及び
(C)光透過性導電層
を含有し、
前記中間層(B)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層(C)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、少なくとも中間層(B)を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって:
前記中間層(B)の光透過性導電層(C)側の面が、凸曲面を有する複数の突起を有し、
かつ
前記凸曲面が前記中間層(B)の前記面となす角度θが5〜40°であることを特徴とする、光透過性導電性フィルム。
(A) a light transmissive support layer;
(B) an intermediate layer; and (C) a light transmissive conductive layer,
The intermediate layer (B) is disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers, and the light transmissive conductive layer (C). Is a light transmissive conductive film disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) via at least the intermediate layer (B):
The surface on the light-transmissive conductive layer (C) side of the intermediate layer (B) has a plurality of protrusions having a convex curved surface,
And the angle (theta) which the said convex curve makes with the said surface of the said intermediate | middle layer (B) is 5-40 degrees, The light-transmitting conductive film characterized by the above-mentioned.
前記中間層(B)の前記表面が前記突起を、1mmあたり100個〜10,000個有する、請求項1に記載の光透過性導電性フィルム。 The light-transmitting conductive film according to claim 1, wherein the surface of the intermediate layer (B) has 100 to 10,000 protrusions per 1 mm 2 . 前記中間層(B)が、長軸(Major Axis)が1μm〜10μmであり、かつ長径と短径とのアスペクト比が1.5以上の扁平な楕円体またはそれに類似な形状の微粒子、及びバインダー成分を含有し、かつ
前記突起が、前記微粒子により形成されるものである、
請求項1又は2に記載の光透過性導電性フィルム。
The intermediate layer (B) is a flat ellipsoid having a major axis (Major Axis) of 1 μm to 10 μm and an aspect ratio of a major axis to a minor axis of 1.5 or more, or fine particles having a shape similar thereto, and a binder Containing the components, and the protrusions are formed by the fine particles.
The light-transmitting conductive film according to claim 1.
前記微粒子及び前記バインダー成分の屈折率差が0.1以下である、請求項3に記載の光透過性導電性フィルム。 The light-transmitting conductive film according to claim 3, wherein a difference in refractive index between the fine particles and the binder component is 0.1 or less. 前記突起の、前記中間層(B)の前記面を基準面とする最大高さの平均値が、0.1μm〜1μmである、請求項1〜4のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。 The light transmittance as described in any one of Claims 1-4 whose average value of the maximum height which makes the said surface of the said intermediate | middle layer (B) the reference | standard surface of the said protrusion is 0.1 micrometer-1 micrometer. Conductive film. 少なくとも一部の光透過性導電層(C)がパターン化されており、前記中間層(B)が露出した領域を有する、請求項1〜5のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。 The light-transmitting conductive material according to any one of claims 1 to 5, wherein at least a part of the light-transmitting conductive layer (C) is patterned and has a region where the intermediate layer (B) is exposed. the film. 請求項1〜6のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルムを含有するタッチパネル。 A touch panel containing the light transmissive conductive film according to claim 1. 請求項3〜6のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルムを製造する方法であって、
(1)前記バインダー成分及び前記微粒子を含有する原料を用いて前記中間層(B)を形成する工程を含有する方法。
A method for producing the light transmissive conductive film according to any one of claims 3 to 6,
(1) A method comprising a step of forming the intermediate layer (B) using a raw material containing the binder component and the fine particles.
前記工程(1)において、下地となる層の上に前記原料を塗布することにより前記中間層(B)を形成する、請求項8に記載の方法。 The method according to claim 8, wherein in the step (1), the intermediate layer (B) is formed by applying the raw material on a layer serving as a base.
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