JP6475461B2 - Light transmissive conductive film - Google Patents

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本発明は、光透過性導電性フィルムに関する。   The present invention relates to a light transmissive conductive film.

タッチパネルに搭載される光透過性導電性フィルムとして、プラスチック等からなる光透過性支持層の少なくとも一方の面に、直接又は他の層を介して、酸化インジウムスズ(ITO)等を含有する光透過性導電層を配置した光透過性導電性フィルムが数多く用いられている。   As a light-transmitting conductive film mounted on a touch panel, light transmission containing indium tin oxide (ITO) or the like directly or via another layer on at least one surface of a light-transmitting support layer made of plastic or the like Many light-transmitting conductive films having a conductive conductive layer are used.

上記のフィルムは、光透過性導電層(あるいはさらにその上に層が存在する場合はその層も含めて)をエッチング処理によってパターン化した上で使用されることが多い。このようなフィルムは、光透過性導電層側のフィルム表面の上部から見たときに、光透過性導電層(あるいはその上層)が表面に存在する領域(パターン領域)と、同層が存在せずその下層が露出している領域(エッチング領域)が観察される。パターン形状は例えば短冊状である。このようなフィルムにおいては、パターン形状が視認されてしまう、いわゆる骨見え現象が生じることが知られている。   In many cases, the above-described film is used after a light-transmitting conductive layer (or further including the layer if any) is patterned by an etching process. When such a film is viewed from the top of the film surface on the side of the light-transmitting conductive layer, the same layer does not exist in the region (pattern region) where the light-transmitting conductive layer (or its upper layer) exists on the surface. A region where the lower layer is exposed (etching region) is observed. The pattern shape is, for example, a strip shape. In such a film, it is known that a so-called bone appearance phenomenon occurs in which the pattern shape is visually recognized.

このような骨見え現象は、複数の要因により引き起こされる事象ではあるが、一因としてエッチング加工により引き起こされる局所的変形が寄与していると考えられている。   Although such a bone appearance phenomenon is an event caused by a plurality of factors, it is considered that a local deformation caused by etching processing contributes as one factor.

この骨見え現象を抑制する目的で、すなわち局所的変形自体を抑制する目的で、フィルムの基材となる光透過性支持層として十分に厚いもの(例えば188μm程度)を用いることや、別のフィルムをさらに貼り合わせること等が提案されている。しかしながら、近年はフィルムの薄型軽量化(例えば50μm程度)が求められており、そのような手段は採用できない状況にある。   For the purpose of suppressing this bone appearance phenomenon, that is, for the purpose of suppressing local deformation itself, a sufficiently thick layer (for example, about 188 μm) is used as a light-transmitting support layer as a film base, or another film is used. It has been proposed to further bond the materials. However, in recent years, there is a demand for thin and light films (for example, about 50 μm), and such means cannot be employed.

そこで、骨見え現象を抑制する目的で、基板の透明導電層を形成する側の面にコーティング層を設けることにより、屈折率差を小さくして、エッチング領域の見え方の差を小さくする方法が提案されている(特許文献1)。   Therefore, for the purpose of suppressing the bone visible phenomenon, a method of reducing the difference in the refractive index difference and reducing the difference in the appearance of the etched region by providing a coating layer on the surface of the substrate on which the transparent conductive layer is formed is provided. It has been proposed (Patent Document 1).

国際公開第2006/126604号International Publication No. 2006/126604

本発明は、光透過性導電層がパターン化された際の骨見え現象が従来よりも抑制された光透過性導電性フィルムを提供することを課題とする。   An object of the present invention is to provide a light-transmitting conductive film in which the bone appearance phenomenon when the light-transmitting conductive layer is patterned is suppressed as compared with the prior art.

本発明者らは、鋭意検討を重ね、光透過性導電層が中間層を介して光透過性支持層に配置されているような光透過性導電性フィルムにおいて、中間層として表面に特徴的な網目構造を有するものを用い、かつその網目構造と光透過性導電層が互いに対向するような向きに配置することにより、光透過性導電層をパターン化した光透過性導電性フィルムにおいて、骨見え現象を改善できることを見出した。   The inventors of the present invention have made extensive studies, and in the light transmissive conductive film in which the light transmissive conductive layer is disposed on the light transmissive support layer through the intermediate layer, the surface is characterized as an intermediate layer. In a light-transmitting conductive film in which a light-transmitting conductive layer is patterned by using a material having a network structure and arranging the network structure and the light-transmitting conductive layer so as to face each other, We found that the phenomenon can be improved.

本発明は、これらの新たな知見に基づいてさらに種々の検討を重ねることにより完成されたものであり、次に掲げるものである。
項1.
(A)光透過性支持層;
(B)中間層;及び
(C)光透過性導電層
を含有し、
前記中間層(B)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
少なくとも一つの前記光透過性導電層(C)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、少なくとも中間層(B)を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって、
前記中間層(B)の前記光透過性導電層(C)と対向する面の表面形状が以下の特性を示すことを特徴とする光透過性導電性フィルム:
白色干渉顕微鏡により測定された表面形状を微分解析した微分画像において、
不規則な網目構造が得られ、かつ
以下の工程(1)〜(3)により求められる平均直径Zが、30μm〜200μmである:(1)該網目によって囲まれる領域に内接する真円を、直径が最大となり、かつ複数の真円を配置できるときは境界内に最も密に充填されるように配置する工程;
(2)前記工程(1)により配置された真円の群の合計面積(X)を求め、該真円のうち直径が小さいものから順に、それらの合計面積(Y)が前記合計面積(X)の20%を超えるまで並べる工程;及び
(3)前記(2)により並べられた真円の群を除外した、残りの真円の群の直径を算術平均して平均直径Zを求める工程。
項2.
前記網目構造を構成する線の幅が、500μm〜10μmである、項1に記載の光透過性導電性フィルム。
項3.
前記網目構造を構成する線が、溝で形成されている、項1又は2に記載の光透過性導電性フィルム。
項4.
さらに、
(D)アンダーコート層
を含有し、
前記光透過性支持層(A)の一方の面に、前記中間層(B)を介して配置されている前記光透過性導電層(C)が、少なくとも前記アンダーコート層(D)を介して該中間層(B)に配置されている、項1〜3のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。
項5.
前記アンダーコート層(D)の厚さが、3〜100nmである、項4に記載の光透過性導電性フィルム。
The present invention has been completed by further various studies based on these new findings, and is as follows.
Item 1.
(A) a light transmissive support layer;
(B) an intermediate layer; and (C) a light transmissive conductive layer,
The intermediate layer (B) is disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers, and at least one light transmissive conductive layer. (C) is a light transmissive conductive film disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) via at least the intermediate layer (B),
A light transmissive conductive film, wherein the surface shape of the surface of the intermediate layer (B) facing the light transmissive conductive layer (C) has the following characteristics:
In the differential image obtained by differential analysis of the surface shape measured by the white interference microscope,
Truly (1) inscribed in realm of Ru surrounded by the net-th: irregular network structure is obtained, and the following steps (1) Average diameter Z obtained to (3), is 30 microns to 200 [mu] m Arranging the circles so that they have the greatest diameter and are packed most densely within the boundaries when a plurality of perfect circles can be arranged;
(2) The total area (X) of the group of perfect circles arranged in the step (1) is obtained, and the total area (Y) is the total area (X ) in descending order of the diameter of the perfect circles. And (3) calculating the average diameter Z by arithmetically averaging the diameters of the remaining groups of perfect circles excluding the group of perfect circles arranged in the above (2).
Item 2.
Item 2. The light transmissive conductive film according to Item 1, wherein the width of the lines constituting the network structure is 500 µm to 10 µm.
Item 3.
Item 3. The light transmissive conductive film according to Item 1 or 2, wherein the lines constituting the network structure are formed by grooves.
Item 4.
further,
(D) contains an undercoat layer,
The light-transmitting conductive layer (C) disposed on one surface of the light-transmitting support layer (A) via the intermediate layer (B) is at least interposed via the undercoat layer (D). Item 4. The light transmissive conductive film according to any one of Items 1 to 3, which is disposed in the intermediate layer (B).
Item 5.
Item 5. The light transmissive conductive film according to Item 4, wherein the undercoat layer (D) has a thickness of 3 to 100 nm.

本発明によれば、光透過性導電層をパターン化した光透過性導電性フィルムにおいて、骨見え現象を改善できる。   According to the present invention, the bone appearance phenomenon can be improved in the light transmissive conductive film in which the light transmissive conductive layer is patterned.

光透過性支持層(A)の片面に、中間層(B)及び光透過性導電層(C)がこの順で配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the light transmissive conductive film of this invention by which the intermediate | middle layer (B) and the light transmissive conductive layer (C) are arrange | positioned in this order on the single side | surface of a light transmissive support layer (A). . 光透過性支持層(A)の両面に、中間層(B)及び光透過性導電層(C)がこの順で配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the light transmissive conductive film of this invention by which an intermediate | middle layer (B) and a light transmissive conductive layer (C) are arrange | positioned in this order on both surfaces of a light transmissive support layer (A). . 光透過性支持層(A)の一方の面に、第一の中間層(B)及び光透過性導電層(C)がこの順で配置されており、かつ、他方の面に、第二の中間層(B)が直接配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。The first intermediate layer (B) and the light transmissive conductive layer (C) are disposed in this order on one surface of the light transmissive support layer (A), and the second surface is disposed on the other surface. It is sectional drawing which shows the light transmissive conductive film of this invention in which the intermediate | middle layer (B) is directly arrange | positioned. 本発明の中間層(B)の表面形状を白色干渉顕微鏡により測定した結果を示す図面である。It is drawing which shows the result of having measured the surface shape of the intermediate | middle layer (B) of this invention with the white interference microscope. 図4の図面を微分解析した微分画像である。5 is a differential image obtained by differential analysis of the drawing of FIG. 4. 本発明の中間層(B)の表面形状を評価する方法において、微分画像において真円を配置する様子を示す図である。It is a figure which shows a mode that a perfect circle is arrange | positioned in a differential image in the method of evaluating the surface shape of the intermediate | middle layer (B) of this invention. 本発明の中間層(B)の表面形状を評価する方法において、真円の直径の平均値の求め方を示した図である。It is the figure which showed how to obtain | require the average value of the diameter of a perfect circle in the method of evaluating the surface shape of the intermediate | middle layer (B) of this invention. 光透過性支持層(A)の片面に、中間層(B)、アンダーコート層(D)及び光透過性導電層(C)がこの順で配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。The light-transmitting conductive material of the present invention has an intermediate layer (B), an undercoat layer (D), and a light-transmitting conductive layer (C) arranged in this order on one side of the light-transmitting supporting layer (A). It is sectional drawing which shows a film. 光透過性支持層(A)の両面に、中間層(B)、アンダーコート層(D)及び光透過性導電層(C)がこの順で配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。The light-transmitting conductive material of the present invention, in which an intermediate layer (B), an undercoat layer (D), and a light-transmitting conductive layer (C) are arranged in this order on both surfaces of the light-transmitting support layer (A). It is sectional drawing which shows a film. 光透過性支持層(A)の一方の面に、第一の中間層(B)、アンダーコート層(D)及び光透過性導電層(C)がこの順で互いに隣接して配置されており、かつ他方の面に、第二の中間層(B)が直接配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。The first intermediate layer (B), the undercoat layer (D), and the light transmissive conductive layer (C) are arranged adjacent to each other in this order on one surface of the light transmissive support layer (A). And it is sectional drawing which shows the light transmissive conductive film of this invention by which the 2nd intermediate | middle layer (B) is directly arrange | positioned on the other surface.

1. 光透過性導電性フィルム
本発明の光透過性導電性フィルムは、
(A)光透過性支持層;
(B)中間層;及び
(C)光透過性導電層
を含有し、
前記中間層(B)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
少なくとも一つの前記光透過性導電層(C)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、少なくとも中間層(B)を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって、
前記中間層(B)の前記光透過性導電層(C)と対向する面の表面形状が以下の特性を示すことを特徴とする光透過性導電性フィルム:
白色干渉顕微鏡により測定された表面形状を微分解析した微分画像において、
不規則な網目構造が得られ、かつ
以下の工程(1)〜(3)により求められる平均直径Zが、30μm〜200μmである:
(1)該網目によって囲まれる領域に内接する真円を、直径が最大となり、かつ複数の真円を配置できるときは境界内に最も密に充填されるように配置する工程;
(2)前記工程(1)により配置された真円の群の合計面積(X)を求め、該真円のうち直径が小さいものから順に、それらの合計面積(Y)が前記合計面積(X)の20%を超えるまで並べる工程;及び
(3)前記(2)により並べられた真円の群を除外した、残りの真円の群の直径を算術平均して平均直径Zを求める工程。
1. Light transmissive conductive film The light transmissive conductive film of the present invention comprises:
(A) a light transmissive support layer;
(B) an intermediate layer; and (C) a light transmissive conductive layer,
The intermediate layer (B) is disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers, and at least one light transmissive conductive layer. (C) is a light transmissive conductive film disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) via at least the intermediate layer (B),
A light transmissive conductive film, wherein the surface shape of the surface of the intermediate layer (B) facing the light transmissive conductive layer (C) has the following characteristics:
In the differential image obtained by differential analysis of the surface shape measured by the white interference microscope,
An irregular network structure is obtained, and the average diameter Z determined by the following steps (1) to (3) is 30 μm to 200 μm:
(1) a true circle inscribed in realm of Ru surrounded by the net-th, arranged so as to be most densely packed within the boundary when the diameter is maximized, and can be arranged a plurality of roundness process;
(2) The total area (X) of the group of perfect circles arranged in the step (1) is obtained, and the total area (Y) is the total area (X ) in descending order of the diameter of the perfect circles. And (3) calculating the average diameter Z by arithmetically averaging the diameters of the remaining groups of perfect circles excluding the group of perfect circles arranged in the above (2).

本発明において「光透過性」とは、光を透過させる性質を有する(translucent)ことを意味する。「光透過性」には、透明(transparent)が含まれる。「光透過性」とは、例えば、全光線透過率が80%以上、好ましくは85%以上、より好ましくは87%以上である性質をいう。本発明において全光線透過率は、ヘーズメーター(日本電色社製、商品名:NDH−2000、またはその同等品)を用いてJIS−K−7105に基づいて測定する。   In the present invention, “light-transmitting” means having a property of transmitting light (translucent). “Light transmissivity” includes transparency. “Light transmissivity” means, for example, the property that the total light transmittance is 80% or more, preferably 85% or more, more preferably 87% or more. In the present invention, the total light transmittance is measured based on JIS-K-7105 using a haze meter (trade name: NDH-2000 manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd. or equivalent).

本明細書において、光透過性支持層(A)の一方の面に配置される複数の層のうち二つの層の相対的な位置関係について言及する場合、光透過性支持層(A)を基準にして、光透過性支持層(A)からの距離が大きい一方の層を「上の層」等といい、光透過性支持層(A)からの距離が小さい他方の層を「下の層」等ということがある。   In this specification, when mentioning the relative positional relationship between two layers among a plurality of layers arranged on one surface of the light transmissive support layer (A), the light transmissive support layer (A) is used as a reference. One layer having a large distance from the light transmissive support layer (A) is referred to as “upper layer” and the like, and the other layer having a small distance from the light transmissive support layer (A) is referred to as “lower layer”. And so on.

以下の各層についての説明箇所において特に明記されていない限り、本発明において、各層の厚さは、市販の反射分光膜厚計(大塚電子、FE−3000(製品名)、又はその同等品)を用いて求める。又は、代替的に、市販の透過型電子顕微鏡を用いた観察により求めてもよい。具体的には、ミクロトーム又は収束イオンビームなどを用いて光透過性導電性フィルムをフィルム面に対して垂直方向に薄く切断し、その断面を観察する。   Unless otherwise specified in the following description of each layer, in the present invention, the thickness of each layer is a commercially available reflection spectral film thickness meter (Otsuka Electronics, FE-3000 (product name), or equivalent). Use to find. Alternatively, it may be obtained by observation using a commercially available transmission electron microscope. Specifically, the light-transmitting conductive film is thinly cut in a direction perpendicular to the film surface using a microtome or a focused ion beam, and the cross section is observed.

図1に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層(A)の一方の面に、中間層(B)及び光透過性導電層(C)がこの順で配置されている。   In FIG. 1, the one aspect | mode of the transparent electroconductive film of this invention is shown. In this embodiment, the intermediate layer (B) and the light transmissive conductive layer (C) are arranged in this order on one surface of the light transmissive support layer (A).

図2に、本発明の光透過性導電性フィルムの別の態様を示す。この態様では、光透過性支持層(A)の両方の面に、中間層(B)及び光透過性導電層(C)がこの順で配置されている。   FIG. 2 shows another embodiment of the light transmissive conductive film of the present invention. In this embodiment, the intermediate layer (B) and the light transmissive conductive layer (C) are arranged in this order on both surfaces of the light transmissive support layer (A).

1.1 光透過性支持層(A)
本発明において光透過性支持層とは、光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性導電層を含有する層を支持する役割を果たすものをいう。光透過性支持層(A)としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性支持層として通常用いられるものを用いることができる。
1.1 Light transmissive support layer (A)
In the present invention, the light transmissive support layer refers to a light transmissive conductive film containing a light transmissive conductive layer, which plays a role of supporting the layer containing the light transmissive conductive layer. Although it does not specifically limit as a light transmissive support layer (A), For example, in the light transmissive conductive film for touch panels, what is normally used as a light transmissive support layer can be used.

光透過性支持層(A)の素材は、特に限定されないが、例えば、各種の有機高分子等を挙げることができる。有機高分子としては、特に限定されないが、例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリメタクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、及びポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、及びポリエチレンナフタレート(PEN)等が挙げられる。光透過性支持層(A)の素材は、ポリエステル系樹脂が好ましく、特にPETが好ましい。光透過性支持層(A)は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。   Although the raw material of a light-transmissive support layer (A) is not specifically limited, For example, various organic polymers etc. can be mentioned. The organic polymer is not particularly limited. For example, polyester resin, acetate resin, polyether resin, polycarbonate resin, polyacrylic resin, polymethacrylic resin, polystyrene resin, polyolefin resin, polyimide resin, etc. Examples include resins, polyamide resins, polyvinyl chloride resins, polyacetal resins, polyvinylidene chloride resins, and polyphenylene sulfide resins. Although it does not specifically limit as polyester-type resin, For example, a polyethylene terephthalate (PET), a polyethylene naphthalate (PEN), etc. are mentioned. The material of the light transmissive support layer (A) is preferably a polyester resin, and particularly preferably PET. The light transmissive support layer (A) may be composed of any one of these, or may be composed of a plurality of types.

光透過性支持層(A)の厚さは、特に限定されないが、例えば、2〜300μmの範囲が挙げられる。   Although the thickness of a light-transmissive support layer (A) is not specifically limited, For example, the range of 2-300 micrometers is mentioned.

1.2 中間層(B)
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して中間層(B)が配置されている。
1.2 Intermediate layer (B)
In the light transmissive conductive film of the present invention, the intermediate layer (B) is disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers.

光透過性支持層(A)の両方の面に、中間層(B)がそれぞれ、直接配置されていてもよい(図3)。   The intermediate layer (B) may be directly disposed on both surfaces of the light transmissive support layer (A) (FIG. 3).

中間層(B)は、前記光透過性導電層(C)と対向する面の表面形状が以下の特性を示すことを特徴とする:
白色干渉顕微鏡により測定された表面形状を微分解析した微分画像において、
不規則な網目構造が得られ、かつ
以下の工程(1)〜(3)により求められる平均直径Zが、30μm〜200μmである:(1)該網目によって囲まれる領域に内接する真円を、直径が最大となり、かつ複数の真円を配置できるときは境界内に最も密に充填されるように配置する工程;
(2)前記工程(1)により配置された真円の群の合計面積(X)を求め、該真円のうち直径が小さいものから順に、それらの合計面積(Y)が前記合計面積(X)の20%を超えるまで並べる工程;及び
(3)前記(2)により並べられた真円の群を除外した、残りの真円の群の直径を算術平均して平均直径Zを求める工程。
The intermediate layer (B) is characterized in that the surface shape of the surface facing the light transmissive conductive layer (C) exhibits the following characteristics:
In the differential image obtained by differential analysis of the surface shape measured by the white interference microscope,
Truly (1) inscribed in realm of Ru surrounded by the net-th: irregular network structure is obtained, and the following steps (1) Average diameter Z obtained to (3), is 30 microns to 200 [mu] m Arranging the circles so that they have the greatest diameter and are packed most densely within the boundaries when a plurality of perfect circles can be arranged;
(2) The total area (X) of the group of perfect circles arranged in the step (1) is obtained, and the total area (Y) is the total area (X ) in descending order of the diameter of the perfect circles. And (3) calculating the average diameter Z by arithmetically averaging the diameters of the remaining groups of perfect circles excluding the group of perfect circles arranged in the above (2).

図4及び図5に、上記特性を示す中間層(B)の表面を白色干渉顕微鏡により測定した表面形状の一例、及びその表面を微分解析した微分画像がそれぞれ示してある。図4には、観察エリアの広さ(X軸方向及びY軸報告)、及び当該表面において観察される溝の深さが色相ダイアグラムで示してある。   FIG. 4 and FIG. 5 show an example of a surface shape obtained by measuring the surface of the intermediate layer (B) exhibiting the above characteristics with a white interference microscope, and differential images obtained by differential analysis of the surface, respectively. In FIG. 4, the width of the observation area (reported in the X-axis direction and Y-axis) and the depth of the groove observed on the surface are shown in a hue diagram.

図6に、上記工程(1)により真円を配置しているところの模式図を示す。   FIG. 6 is a schematic view showing a place where a perfect circle is arranged in the step (1).

また、図7に、上記工程(2)により真円を並べているところの模式図を示す。   Further, FIG. 7 shows a schematic diagram in which perfect circles are arranged in the step (2).

中間層(B)の測定しようとする表面が露出していない場合、上記工程(1)〜(3)による測定の事前に、必要に応じて、予め上側に配置されている層を除去することができる。特に限定されないが、例えば、エッチング処理によって上層を除去してもよい。エッチング処理は、特に限定されないが、例えば、以下のようにして行うことができる。光透過性導電性フィルムを20%塩酸に浸漬し、表面抵抗が計測不能になるまでエッチング処理を続ける。   When the surface to be measured of the intermediate layer (B) is not exposed, the layer disposed on the upper side in advance is removed as necessary before the measurement in the above steps (1) to (3). Can do. Although not particularly limited, for example, the upper layer may be removed by an etching process. Although an etching process is not specifically limited, For example, it can carry out as follows. The light-transmitting conductive film is immersed in 20% hydrochloric acid, and the etching process is continued until the surface resistance cannot be measured.

白色干渉顕微鏡による表面形状の測定は、特に限定されないが、非接触表面・層断面形状計測システムを使用して行うことができる。特に限定されないが、そのようなシステムとして、例えば、株式会社菱化システムが製造・販売するVertScan(登録商標)2.0を用いて行うこともできる。これらの機器を使用するうえでは、特に限定されないが、通常は添付されているマニュアルに従うが、必要に応じて使用方法を適宜改変してもよい。   The surface shape measurement by the white interference microscope is not particularly limited, but can be performed using a non-contact surface / layer cross-sectional shape measurement system. Although not particularly limited, as such a system, for example, VertScan (registered trademark) 2.0 manufactured and sold by Ryoka System Co., Ltd. can be used. Although there is no particular limitation on the use of these devices, it is usually according to the attached manual, but the usage method may be appropriately modified as necessary.

表面抵抗は、表面抵抗計(MITSUBISHI CHEMICAL ANALYTECH社製、商品名:Loresta−EP)を用いて、4端子法により測定した。   The surface resistance was measured by a four-terminal method using a surface resistance meter (manufactured by MITSUBISHI CHEMICAL ANALYTECH, trade name: Loresta-EP).

なお、中間層(B)の表面にアンダーコート層等の数十ナノメートルの厚さの他の層が存在する場合は、当該他の層を除去せずにそのまま当該他の層で覆われた表面形状を測定してもよい。   In addition, when another layer having a thickness of several tens of nanometers such as an undercoat layer exists on the surface of the intermediate layer (B), the other layer was directly covered with the other layer without being removed. The surface shape may be measured.

前記網目構造は、特に限定されないが、網目構造を構成する線の幅が、500μm〜10μmであればより好ましい。   The network structure is not particularly limited, but it is more preferable that the width of a line constituting the network structure is 500 μm to 10 μm.

前記網目構造は、特に限定されないが、網目構造を構成する線が溝で形成されていてもよいし、山で形成されていてもよい。   The network structure is not particularly limited, but the lines constituting the network structure may be formed by grooves or peaks.

特に限定されないが、中間層(B)は、いわゆるハードコート層と呼ばれる層としての機能と構成を有するものであってもよい。   Although not particularly limited, the intermediate layer (B) may have a function and a structure as a so-called hard coat layer.

好ましくは、中間層(B)は、微粒子、及びバインダー成分を含有する。   Preferably, the intermediate layer (B) contains fine particles and a binder component.

前記微粒子としては、特に限定されないが、好ましくは透明有機高分子粒子、透明無機粒子及び有機無機ハイブリッド粒子等を使用できる。   The fine particles are not particularly limited, but preferably, transparent organic polymer particles, transparent inorganic particles, organic-inorganic hybrid particles, and the like can be used.

バインダー成分としては、特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、メラミン系樹脂及びアルキド系樹脂;並びにシリカ、ジルコニア、チタニア及びアルミナ等のコロイド粒子等が挙げられる。中間層(B)は、これらのうちいずれか単独をバインダー成分として含有していてもよいし、複数種をバインダー成分として含有していてもよい。   The binder component is not particularly limited, and examples thereof include acrylic resins, silicone resins, melamine resins, and alkyd resins; and colloidal particles such as silica, zirconia, titania, and alumina. The intermediate layer (B) may contain any one of them as a binder component, or may contain a plurality of types as a binder component.

上記において、前記微粒子及び前記バインダー成分の屈折率差が0.1以下であれば好ましい。屈折率差がこの範囲内にあれば、光を透過させた際に、フィルム全面に渡り均一な透過光が得られるため好ましい。屈折率差がこの範囲内となるように適宜材料を選択すればよい。   In the above, it is preferable that the refractive index difference between the fine particles and the binder component is 0.1 or less. If the refractive index difference is within this range, it is preferable because uniform transmitted light can be obtained over the entire surface of the film when light is transmitted. What is necessary is just to select a material suitably so that a refractive index difference may exist in this range.

中間層(B)は、本発明の効果が奏される限り特に限定されないが、前記微粒子に加えてその他の成分をさらに含有していてもよい。その他の成分としては、本発明の効果が奏される限り特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、メラミン系樹脂及びアルキド系樹脂;並びにシリカ、ジルコニア、チタニア及びアルミナ等のコロイド粒子、ケイ素系有機無機ハイブリッド高分子等が挙げられる。中間層(B)は、前記微粒子に加えて、これらのうちいずれか単独をさらに含有していてもよいし、複数種をさらに含有していてもよい。   The intermediate layer (B) is not particularly limited as long as the effects of the present invention are exhibited, but may further contain other components in addition to the fine particles. The other components are not particularly limited as long as the effects of the present invention are exhibited. For example, acrylic resins, silicone resins, melamine resins, and alkyd resins; and colloidal particles such as silica, zirconia, titania, and alumina. And silicon-based organic-inorganic hybrid polymers. In addition to the fine particles, the intermediate layer (B) may further contain any one of them, or may further contain a plurality of types.

中間層(B)の厚さは、0.5〜5μmであり、好ましくは1〜4μm、より好ましくは1〜3μmである。中間層(B)の厚さが0.5μmよりも大きいと、粒子を含んでいる場合は粒子が脱落しにくくなるという利点が得られる。また、中間層(B)の厚さが5μmよりも小さいと、突起高さの均一性が高まるという利点が得られる。   The thickness of the intermediate layer (B) is 0.5 to 5 μm, preferably 1 to 4 μm, more preferably 1 to 3 μm. When the thickness of the intermediate layer (B) is larger than 0.5 μm, there is an advantage that when the particles are contained, the particles are difficult to drop off. Further, when the thickness of the intermediate layer (B) is smaller than 5 μm, there is an advantage that the uniformity of the protrusion height is increased.

本発明において、中間層(B)の厚さは、次のようにして測定する。透過型電子顕微鏡観察により求める。具体的には、ミクロトーム又は収束イオンビームなどを用いて光透過性導電性フィルムを薄く切断して、その断面を観察する。   In the present invention, the thickness of the intermediate layer (B) is measured as follows. Obtained by observation with a transmission electron microscope. Specifically, a light-transmitting conductive film is thinly cut using a microtome or a focused ion beam, and the cross section is observed.

中間層(B)は、他のさらなる機能を兼ね備える層とすることもできる。例えば、光学調整層としての機能を同時に中間層(B)に付与してもよい。この場合、中間層(B)が例えば、上方が低屈折領域、下方に高屈折率領域がそれぞれ配置されている、境界が明瞭でなくてもよい多層構造を有するものであってもよい。   The intermediate layer (B) can also be a layer having other additional functions. For example, you may provide the function as an optical adjustment layer to an intermediate | middle layer (B) simultaneously. In this case, the intermediate layer (B) may have, for example, a multilayer structure in which the upper portion has a low refractive region and the lower portion has a high refractive index region, and the boundary may not be clear.

中間層(B)を下地となる層の上に配置する方法としては、特に限定されないが、例えば、フィルムに原料を塗布したうえで、熱で硬化する方法、及び紫外線や電子線などの活性エネルギー線で硬化する方法等が挙げられる。生産性の点で、紫外線により硬化する方法が好ましい。   The method for disposing the intermediate layer (B) on the underlying layer is not particularly limited. For example, a method of applying a raw material to a film and then curing with heat, and an active energy such as ultraviolet rays or electron beams. Examples include a method of curing with a wire. From the viewpoint of productivity, a method of curing with ultraviolet rays is preferable.

より具体的には、中間層(B)が前記バインダー成分及び前記微粒子を含有する場合は以下のようにして下地となる層の上に中間層(B)を配置することができる。
(1)前記バインダー成分及び前記微粒子を含有する原料を用いて前記中間層(B)を形成する工程を含有する方法により配置することができる。前記工程(1)において、下地となる層の上に前記原料を塗布することにより前記中間層(B)を形成することがより好ましい。
More specifically, when the intermediate layer (B) contains the binder component and the fine particles, the intermediate layer (B) can be disposed on the underlying layer as follows.
(1) It can arrange | position by the method containing the process of forming the said intermediate | middle layer (B) using the raw material containing the said binder component and the said microparticles | fine-particles. In the step (1), it is more preferable to form the intermediate layer (B) by applying the raw material on a layer serving as a base.

あるいは、前記のような微粒子を使用せず、インプリント等の方法により所望の突起を中間層(B)の表面に設けることもできる。   Alternatively, a desired protrusion can be provided on the surface of the intermediate layer (B) by a method such as imprinting without using the fine particles as described above.

1.3 光透過性導電層(C)
光透過性導電層(C)は、光透過性支持層(A)の一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている。
1.3 Light transmissive conductive layer (C)
The light transmissive conductive layer (C) is disposed on one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers.

本発明において光透過性導電層とは、電気を導通しかつ可視光を透過する役割を果たすものをいう。光透過性導電層(C)としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて光透過性導電層として通常用いられるものを用いることができる。   In the present invention, the light-transmitting conductive layer means a layer that conducts electricity and transmits visible light. Although it does not specifically limit as a light transmissive conductive layer (C), For example, what is normally used as a light transmissive conductive layer in the light transmissive conductive film for touch panels can be used.

光透過性導電層(C)の素材は、特に限定されないが、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化錫及び酸化チタン等が挙げられる。光透過性導電層(C)としては、透明性と導電性を両立する点で酸化インジウムにドーパントをドープしたものを含む光透過性導電層が好ましい。光透過性導電層(C)は、酸化インジウムにドーパントをドープしたものからなる光透過性導電層であってもよい。ドーパントとしては、特に限定されないが、例えば、酸化スズ及び酸化亜鉛、並びにそれらの混合物等が挙げられる。   The material of the light transmissive conductive layer (C) is not particularly limited, and examples thereof include indium oxide, zinc oxide, tin oxide, and titanium oxide. The light transmissive conductive layer (C) is preferably a light transmissive conductive layer containing indium oxide doped with a dopant in terms of achieving both transparency and conductivity. The light transmissive conductive layer (C) may be a light transmissive conductive layer made of indium oxide doped with a dopant. Although it does not specifically limit as a dopant, For example, a tin oxide, a zinc oxide, those mixtures, etc. are mentioned.

光透過性導電層(C)の素材として酸化インジウムに酸化スズをドープしたものを用いる場合は、酸化インジウム(III)(In)に酸化スズ(IV)(SnO)をドープしたもの(tin−doped indium oxide;ITO)が好ましい。この場合、SnOの添加量としては、特に限定されないが、例えば、1〜15重量%、好ましくは2〜10重量%、より好ましくは3〜8重量%等が挙げられる。また、ドーパントの総量が左記の数値範囲を超えない範囲で、酸化インジウムスズにさらに他のドーパントが加えられたものを光透過性導電層(C)の素材として用いてもよい。左記において他のドーパントとしては、特に限定されないが、例えばセレン等が挙げられる。 In the case of using indium oxide doped with tin oxide as the material of the light transmissive conductive layer (C), indium oxide (III) (In 2 O 3 ) doped with tin oxide (IV) (SnO 2 ) (Tin-doped indium oxide; ITO) is preferable. In this case, the addition amount of SnO 2 is not particularly limited, and examples thereof include 1 to 15% by weight, preferably 2 to 10% by weight, and more preferably 3 to 8% by weight. Moreover, you may use as a raw material of a light-transmitting conductive layer (C) what added the other dopant to indium tin oxide in the range which the total amount of a dopant does not exceed the numerical range of the left description. Although it does not specifically limit as another dopant in the left, For example, selenium etc. are mentioned.

光透過性導電層(C)は、上記の各種素材のうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。   The light transmissive conductive layer (C) may be composed of any one of the various materials described above, or may be composed of a plurality of types.

光透過性導電層(C)は、特に限定されないが、結晶体若しくは非晶質体、又はそれらの混合体であってもよい。   The light transmissive conductive layer (C) is not particularly limited, but may be a crystalline or amorphous body, or a mixture thereof.

光透過性導電層(C)を配置する方法は、湿式及び乾式のいずれであってもよく、特に限定されない。光透過性導電層(C)を配置する方法の具体例として、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、CVD法及びパルスレーザーデポジション法等が挙げられる。   The method for disposing the light transmissive conductive layer (C) may be either wet or dry, and is not particularly limited. Specific examples of the method for disposing the light transmissive conductive layer (C) include a sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method, a CVD method, and a pulse laser deposition method.

1.4 アンダーコート層(D)
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層(A)の光透過性導電層(C)が配置されている面に、直接又は一以上の他の層を介してアンダーコート層(D)が配置されていてもよい。アンダーコート層(D)が配置されている場合、少なくとも一方の前記光透過性導電層(C)が、少なくとも前記アンダーコート層(D)及び中間層(B)を介して前記光透過性支持層(A)の前記面に配置されている。この場合、少なくとも一方の前記光透過性導電層(C)が、前記アンダーコート層(D)に隣接して配置されていてもよい。また、この場合、アンダーコート層(D)は通常、中間層(B)よりも光透過性導電層(C)に近い側に配置されている。
1.4 Undercoat layer (D)
The light transmissive conductive film of the present invention has an undercoat layer directly or via one or more other layers on the surface of the light transmissive support layer (A) where the light transmissive conductive layer (C) is disposed. (D) may be arranged. When the undercoat layer (D) is disposed, at least one of the light transmissive conductive layers (C) is disposed at least through the undercoat layer (D) and the intermediate layer (B). It is arranged on the surface of (A). In this case, at least one of the light transmissive conductive layers (C) may be disposed adjacent to the undercoat layer (D). In this case, the undercoat layer (D) is usually disposed closer to the light transmissive conductive layer (C) than the intermediate layer (B).

図8に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層(A)の一方の面に、中間層(B)、アンダーコート層(D)及び光透過性導電層(C)がこの順で互いに隣接して配置されている。   In FIG. 8, the one aspect | mode of the transparent electroconductive film of this invention is shown. In this embodiment, the intermediate layer (B), the undercoat layer (D), and the light transmissive conductive layer (C) are arranged adjacent to each other in this order on one surface of the light transmissive support layer (A). Yes.

図9に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層(A)の両面に、中間層(B)、アンダーコート層(D)及び光透過性導電層(C)がこの順で互いに隣接して配置されている。   In FIG. 9, the one aspect | mode of the transparent electroconductive film of this invention is shown. In this embodiment, the intermediate layer (B), the undercoat layer (D), and the light transmissive conductive layer (C) are arranged adjacent to each other in this order on both surfaces of the light transmissive support layer (A).

図10に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層(A)の一方の面に、第一の中間層(B)、アンダーコート層(D)及び光透過性導電層(C)がこの順で互いに隣接して配置されており、他方の面に、第二の中間層(B)が直接配置されている。   In FIG. 10, the one aspect | mode of the transparent electroconductive film of this invention is shown. In this embodiment, the first intermediate layer (B), the undercoat layer (D), and the light transmissive conductive layer (C) are adjacent to each other in this order on one surface of the light transmissive support layer (A). The second intermediate layer (B) is disposed directly on the other surface.

アンダーコート層(D)の素材は、特に限定されないが、例えば、誘電性を有するものであってもよい。アンダーコート層(D)の素材としては、特に限定されないが、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、炭化ケイ素、シリコンアルコキシド、アルキルシロキサン及びその縮合物、ポリシロキサン、シルセスキオキサン、並びにポリシラザン等が挙げられる。アンダーコート層(D)は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。酸化ケイ素を含有する光透過性アンダーコート層が好ましく、酸化ケイ素からなる光透過性アンダーコート層がより好ましい。   Although the material of an undercoat layer (D) is not specifically limited, For example, you may have a dielectric property. The material for the undercoat layer (D) is not particularly limited. For example, silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, silicon carbide, silicon alkoxide, alkylsiloxane and its condensate, polysiloxane, silsesquioxane, and Examples include polysilazane. The undercoat layer (D) may be composed of any one of them, or may be composed of a plurality of types. A light-transmitting undercoat layer containing silicon oxide is preferable, and a light-transmitting undercoat layer made of silicon oxide is more preferable.

アンダーコート層(D)は、一層が配置されていてもよい。あるいは二層以上が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して配置されていてもよい。   One layer of the undercoat layer (D) may be disposed. Alternatively, two or more layers may be arranged adjacent to each other or separated from each other via other layers.

アンダーコート層(D)の一層あたりの厚さは、15〜40nm等が挙げられる。二層以上が互いに隣接して配置されている場合は互いに隣接している全てのアンダーコート層(D)の合計厚さが上記範囲内であればよい。左記の例示列挙においては後出のものが前出のものよりも好ましい。   As for the thickness per layer of an undercoat layer (D), 15-40 nm etc. are mentioned. When two or more layers are disposed adjacent to each other, the total thickness of all the undercoat layers (D) adjacent to each other may be within the above range. In the example list shown on the left, the following are more preferable than the above.

アンダーコート層(D)を配置する方法としては、湿式及び乾式のいずれでもよく、特に限定されないが、湿式としては例えば、ゾル−ゲル法、及び微粒子分散液若しくはコロイド溶液を塗布する方法等が挙げられる。アンダーコート層(D)を配置する方法として、乾式としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法又はパルスレーザーデポジション法により隣接する層上に積層する方法等が挙げられる。   The method of disposing the undercoat layer (D) may be either wet or dry, and is not particularly limited. Examples of the wet include a sol-gel method and a method of applying a fine particle dispersion or colloid solution. It is done. Examples of the method for disposing the undercoat layer (D) include a method of laminating on an adjacent layer by a sputtering method, an ion plating method, a vacuum deposition method, or a pulse laser deposition method.

1.5 その他の層
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層(A)の中間層(B)及び光透過性導電層(C)が配置されている側の面に、アンダーコート層(D)及び少なくとも1種のその他の層(E)からなる群より選択される少なくとも1種の層がさらに配置されていてもよい。
1.5 Other layers The light-transmitting conductive film of the present invention is provided on the surface of the light-transmitting support layer (A) where the intermediate layer (B) and the light-transmitting conductive layer (C) are disposed. At least one layer selected from the group consisting of the undercoat layer (D) and at least one other layer (E) may be further disposed.

その他の層(E)としては、特に限定されないが、例えば、接着層等が挙げられる。   Although it does not specifically limit as another layer (E), For example, an adhesive layer etc. are mentioned.

接着層とは、二層の間に当該二層と互いに隣接して配置され、当該二層間を互いに接着するために配置される層である。接着層としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて接着層として通常用いられるものを用いることができる。特に限定されないが、例えば、カップリング剤を用いることができる。必要に応じて接着される片方の面又は両方の面に対してより接着性を高める目的でコロナ処理を行ってもよい。   The adhesive layer is a layer that is disposed between two layers so as to be adjacent to each other and to adhere the two layers to each other. Although it does not specifically limit as a contact bonding layer, For example, what is normally used as a contact bonding layer in the transparent conductive film for touchscreens can be used. Although not particularly limited, for example, a coupling agent can be used. Corona treatment may be performed for the purpose of further improving the adhesion to one surface or both surfaces to be bonded as required.

1.6 本発明の光透過性導電性フィルムの用途
本発明の光透過性導電性フィルムは、タッチパネルのために好ましく用いられる。本発明の光透過性導電性フィルムは、特に、静電容量型タッチパネルのためにより好ましく用いられる。抵抗膜方式タッチパネルの製造のために用いられる光透過性導電性フィルムは一般に表面抵抗率(シート抵抗)が100〜1,000Ω/sq程度は必要であるとされる。これに対して静電容量型タッチパネルの製造のために用いられる光透過性導電性フィルムは一般に表面抵抗率が低いほうが有利である。本発明の光透過性導電性フィルムは、抵抗率が低減されており、これにより、静電容量型タッチパネルの製造のために好ましく用いられる。静電容量型タッチパネルについて詳細は、2で説明する通りである。
1.6 Use of light-transmitting conductive film of the present invention The light-transmitting conductive film of the present invention is preferably used for touch panels. The light-transmitting conductive film of the present invention is particularly preferably used for a capacitive touch panel. A light-transmitting conductive film used for manufacturing a resistive touch panel generally requires a surface resistivity (sheet resistance) of about 100 to 1,000 Ω / sq. On the other hand, a light-transmitting conductive film used for manufacturing a capacitive touch panel generally has a lower surface resistivity. The light-transmitting conductive film of the present invention has a reduced resistivity, and is thus preferably used for the production of a capacitive touch panel. The details of the capacitive touch panel are as described in 2.

2. 本発明の静電容量型タッチパネル
本発明の静電容量型タッチパネルは、本発明の光透過性導電性フィルムを含み、さらに必要に応じてその他の部材を含んでなる。
2. Capacitive touch panel of the electrostatic capacitance type touch panel <br/> invention of the present invention comprises a light transmissive, electrically-conductive film of the present invention, comprise other members according to necessity.

本発明の静電容量型タッチパネルの具体的な構成例としては、次のような構成が挙げられる。なお、保護層(1)側が操作画面側を、ガラス(5)側が操作画面とは反対側を向くようにして使用される。
(1)保護層
(2)本発明の光透過性導電性フィルム(Y軸方向)
(3)絶縁層
(4)本発明の光透過性導電性フィルム(X軸方向)
(5)ガラス
本発明の静電容量型タッチパネルは、特に限定されないが、例えば、上記(1)〜(5)、並びに必要に応じてその他の部材を通常の方法に従って組み合わせることにより製造することができる。
Specific examples of the configuration of the capacitive touch panel according to the present invention include the following configurations. The protective layer (1) side is used so that the operation screen side faces, and the glass (5) side faces the side opposite to the operation screen.
(1) Protective layer (2) Light transmissive conductive film of the present invention (Y-axis direction)
(3) Insulating layer (4) Light transmissive conductive film of the present invention (X-axis direction)
(5) Glass Although the capacitive touch panel of the present invention is not particularly limited, for example, it can be produced by combining the above (1) to (5) and other members as required according to a usual method. it can.

3. 本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法
本発明の光透過性導電性フィルムは、それぞれの層について説明した通りそれぞれの層を配置することにより製造することができる。例えば、光透過性支持層(A)の光透過性導電層(C)が配置されている側の面に、下層側から順次配置させてもよいが、配置の順番は特に限定されない。例えば、最初に光透過性支持層(A)ではない層(例えば、光透過性導電層(C))の一方の面に他の層を配置させてもよい。あるいは、一方で2種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより1種の複合層を得てから、又はそれと同時に、他方で同様に2種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより1種の複合層を得て、これらの2種の複合層をさらに互いに隣接するように配置させてもよい。
3. Production method of light transmissive conductive film of the present invention The light transmissive conductive film of the present invention can be produced by disposing each layer as described for each layer. For example, the light-transmissive support layer (A) may be sequentially disposed on the surface on which the light-transmissive conductive layer (C) is disposed from the lower layer side, but the arrangement order is not particularly limited. For example, first, another layer may be disposed on one surface of a layer that is not the light-transmissive support layer (A) (for example, the light-transmissive conductive layer (C)). Alternatively, one composite layer is obtained by arranging two or more layers adjacent to each other on the one hand, or at the same time, two or more layers are similarly disposed adjacent to each other on the other side. Thus, one type of composite layer may be obtained, and these two types of composite layers may be further arranged adjacent to each other.

以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
1.実施例1
1.1 ハードコート用材料の調製
光重合剤含有アクリル系オリゴマーにメチルイソブチルケトン(MIBK)を混合して固形分濃度40重量%の塗液を調製した。
1.2 ハードコートフィルムの作成
厚さ50μmのPETフィルム(三菱樹脂製ダイアホイル)の一方の面に1.1で調整した塗液を、バーコーターを用いて塗工し、その塗工膜を、ドライヤーオーブンを用いて、100℃×1分の条件で加熱乾燥した。次いで、乾燥後の塗工膜に対して紫外線を照射することにより(照射量:300mJ/cm)、PETフィルム上に厚さ約1μmのハードコートを設けた。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.
1. Example 1
1.1 Preparation of Hard Coat Material Methyl isobutyl ketone (MIBK) was mixed with a photopolymerizer-containing acrylic oligomer to prepare a coating solution having a solid content concentration of 40% by weight.
1.2 Preparation of Hard Coat Film Apply the coating solution prepared in 1.1 on one side of a 50 μm thick PET film (Mitsubishi Resin Diafoil) using a bar coater. Then, using a dryer oven, it was heated and dried at 100 ° C. for 1 minute. Subsequently, the coated film after drying was irradiated with ultraviolet rays (irradiation amount: 300 mJ / cm 2 ) to provide a hard coat having a thickness of about 1 μm on the PET film.

PETフィルムの他方の面に対しても同一の作業を施すことにより、PETフィルムの両面に厚さ約1μmのハードコートが設けられてなるハードコートフィルムを得た。
1.3 低屈折率層(低屈層)の成膜
得られたハードコートフィルムの一方の面にSi(ボロンドープ)からなるスパッタリング用ターゲット材料を用いて反応性スパッタリングで成膜した。具体的にはチャンバー内を5×10−4Pa以下となるまで真空排気した後にArガスとOガスを2:1で投入しチャンバー内圧力を0.2Paとしスパッタリングを実施した。
1.5 透明導電層の成膜
酸化インジウム:95重量%及び酸化スズ:5重量%からなる焼結体材料をターゲット材として用いて、DCマグネトロンスパッタリング法により、低屈折率層の全面を覆う透明導電層を形成した。具体的には、チャンバー内を5×10−4Pa以下となるまで真空排気した後に、かかるチャンバー内にArガス:95%及び酸素ガス:5%からなる混合ガスを導入し、チャンバー内圧力を0.2〜0.3Paとしてスパッタリングを実施した。尚、最終的に得られる透明導電層の膜厚が20nmとなるように、スパッタリングを実施した。得られた膜を150℃で1時間熱処理した後のシート抵抗値は150Ω/□であった。
1.6 エッチング処理
得られた透明導電層上にパターン化されたフォトレジスト膜を形成した後、フィルム全体を25℃のHCl/HNO/HO混合溶液[HCl:HNO:HO=20:1:30(体積比))の溶液に10分間、浸漬することにより、パターン開口部及びパターン部からなる透明導電層を最表面に有する透明導電性フィルムを得た。
1.7 骨見え評価
パターンニングしたフィルムの骨身えの見え方を目視で評価を実施した。
By performing the same operation on the other side of the PET film, a hard coat film in which a hard coat having a thickness of about 1 μm was provided on both sides of the PET film was obtained.
1.3 Formation of Low Refractive Index Layer (Low Flexion Layer) A film was formed on one surface of the obtained hard coat film by reactive sputtering using a sputtering target material made of Si (boron dope). Specifically, the inside of the chamber was evacuated to 5 × 10 −4 Pa or less, and then Ar gas and O 2 gas were introduced at a ratio of 2: 1, and the pressure in the chamber was 0.2 Pa, and sputtering was performed.
1.5 Film Formation of Transparent Conductive Layer A transparent material covering the entire surface of the low refractive index layer by a DC magnetron sputtering method using a sintered body material made of indium oxide: 95 wt% and tin oxide: 5 wt% as a target material A conductive layer was formed. Specifically, after evacuating the inside of the chamber to 5 × 10 −4 Pa or less, a mixed gas consisting of Ar gas: 95% and oxygen gas: 5% is introduced into the chamber, and the pressure in the chamber is reduced. Sputtering was performed at 0.2 to 0.3 Pa. Sputtering was performed so that the finally obtained transparent conductive layer had a thickness of 20 nm. The sheet resistance after heat-treating the obtained film at 150 ° C. for 1 hour was 150Ω / □.
1.6 Etching Treatment After forming a patterned photoresist film on the obtained transparent conductive layer, the whole film was mixed with HCl / HNO 3 / H 2 O mixed solution [HCl: HNO 3 : H 2 O at 25 ° C. = 20: 1: 30 (volume ratio)) was immersed for 10 minutes to obtain a transparent conductive film having a transparent conductive layer having a pattern opening and a pattern portion on the outermost surface.
1.7 Bone appearance evaluation The appearance of the bone texture of the patterned film was visually evaluated.

パターンが目視でほとんど確認出来ない場合を〇、僅かに確認出来る場合を△、はっきりと確認出来る場合を×とした。
2.実施例2
ハードコートフィルムの作成時の乾燥温度を120℃としてそれ以外は実施例1と同じとした。
3.比較例1
ハードコートフィルム作成時の乾燥温度を70℃としたそれ以外は実施例1と同じにした。
The case where the pattern could hardly be confirmed visually was marked as ◯, the case where the pattern could be slightly confirmed was marked as Δ, and the case where the pattern could be clearly confirmed was marked as x.
2. Example 2
The drying temperature at the time of preparation of the hard coat film was set to 120 ° C., and otherwise the same as in Example 1.
3. Comparative Example 1
Except that the drying temperature at the time of preparing the hard coat film was 70 ° C., it was the same as Example 1.

実施例及び比較例でそれぞれ得られたフィルムの評価結果を表1に示す。   Table 1 shows the evaluation results of the films obtained in Examples and Comparative Examples.

1 光透過性導電性フィルム
11 光透過性支持層(A)
12 中間層(B)
13 光透過性導電層(C)
14 アンダーコート層(D)
15 中間層(B)の下層(光透過性支持層(A)であってもよい)
1 Light-transmissive conductive film 11 Light-transmissive support layer (A)
12 Middle layer (B)
13 Light transmissive conductive layer (C)
14 Undercoat layer (D)
15 Lower layer of intermediate layer (B) (may be light transmissive support layer (A))

Claims (5)

(A)光透過性支持層;
(B)中間層;及び
(C)光透過性導電層
を含有し、
前記中間層(B)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
少なくとも一つの前記光透過性導電層(C)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、少なくとも中間層(B)を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって、
前記中間層(B)の前記光透過性導電層(C)と対向する面の表面形状が以下の特性を示すことを特徴とする光透過性導電性フィルム:
白色干渉顕微鏡により測定された表面形状を微分解析した微分画像において、
不規則な網目構造が得られ、かつ
以下の工程(1)〜(3)により求められる平均直径Zが、30μm〜200μmである:(1)該網目によって囲まれる領域に内接する真円を、直径が最大となり、かつ複数の真円を配置できるときは境界内に最も密に充填されるように配置する工程;
(2)前記工程(1)により配置された真円の群の合計面積(X)を求め、該真円のうち直径が小さいものから順に、それらの合計面積(Y)が前記合計面積(X)の20%を超えるまで並べる工程;及び
(3)前記(2)により並べられた真円の群を除外した、残りの真円の群の直径を算術平均して平均直径Zを求める工程。
(A) a light transmissive support layer;
(B) an intermediate layer; and (C) a light transmissive conductive layer,
The intermediate layer (B) is disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers, and at least one light transmissive conductive layer. (C) is a light transmissive conductive film disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) via at least the intermediate layer (B),
A light transmissive conductive film, wherein the surface shape of the surface of the intermediate layer (B) facing the light transmissive conductive layer (C) has the following characteristics:
In the differential image obtained by differential analysis of the surface shape measured by the white interference microscope,
Irregular network structure is obtained, and an average diameter Z sought to the following steps (1) to (3), are 30Myuemu~200myuemu: (1) a true circle inscribed in the realm of Ru surrounded by the net-th In such a way that, when the diameter is the largest and a plurality of perfect circles can be arranged, the boundary is filled most densely;
(2) The total area (X) of the group of perfect circles arranged in the step (1) is obtained, and the total area (Y) is the total area (X ) in descending order of the diameter of the perfect circles. And (3) calculating the average diameter Z by arithmetically averaging the diameters of the remaining groups of perfect circles excluding the group of perfect circles arranged in the above (2).
前記網目構造を構成する線の幅が、500μm〜10μmである、請求項1に記載の光透過性導電性フィルム。 The light-transmitting conductive film according to claim 1, wherein the line constituting the network structure has a width of 500 μm to 10 μm. 前記網目構造を構成する線が、溝で形成されている、請求項1又は2に記載の光透過性導電性フィルム。 The light-transmitting conductive film according to claim 1 or 2, wherein the lines constituting the network structure are formed by grooves. さらに、
(D)アンダーコート層
を含有し、
前記光透過性支持層(A)の一方の面に、前記中間層(B)を介して配置されている前記光透過性導電層(C)が、少なくとも前記アンダーコート層(D)を介して該中間層(B)に配置されている、請求項1〜3のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。
further,
(D) contains an undercoat layer,
The light-transmitting conductive layer (C) disposed on one surface of the light-transmitting support layer (A) via the intermediate layer (B) is at least interposed via the undercoat layer (D). The light-transmitting conductive film according to any one of claims 1 to 3, which is disposed in the intermediate layer (B).
前記アンダーコート層(D)の厚さが、3〜100nmである、請求項4に記載の光透過性導電性フィルム。 The light-transmitting conductive film according to claim 4, wherein the undercoat layer (D) has a thickness of 3 to 100 nm.
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