JP6134419B1 - Light transmissive conductive film and light transmissive film with hard coat - Google Patents
Light transmissive conductive film and light transmissive film with hard coat Download PDFInfo
- Publication number
- JP6134419B1 JP6134419B1 JP2016085948A JP2016085948A JP6134419B1 JP 6134419 B1 JP6134419 B1 JP 6134419B1 JP 2016085948 A JP2016085948 A JP 2016085948A JP 2016085948 A JP2016085948 A JP 2016085948A JP 6134419 B1 JP6134419 B1 JP 6134419B1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- light
- light transmissive
- conductive film
- hard coat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
Abstract
【課題】光透過性導電性フィルムにおいて、骨見え現象を抑制することを課題とする。【解決手段】(A)光透過性導電層;(B)光透過性支持層;及び(C)ハードコート層が直接又は一以上の他の層を介してこの順に配置されている光透過性導電性フィルムであって、前記ハードコート層(C)の前記光透過性支持層(B)とは反対側の面と、光透過性導電層(A)をエッチング液で溶解させて取り除いた面との複合弾性率差の絶対値が10GPa以上であることを特徴とする光透過性導電性フィルム。【選択図】なしAn object of the present invention is to suppress a bone appearance phenomenon in a light-transmitting conductive film. (A) a light-transmitting conductive layer; (B) a light-transmitting support layer; and (C) a light-transmitting layer in which a hard coat layer is arranged in this order directly or via one or more other layers. A conductive film, a surface of the hard coat layer (C) opposite to the light transmissive support layer (B), and a surface obtained by dissolving the light transmissive conductive layer (A) with an etching solution and removing it. A light-transmitting conductive film, characterized in that the absolute value of the difference in composite elastic modulus with respect to is 10 GPa or more. [Selection figure] None
Description
本発明は、光透過性導電性フィルム、及びハードコート付き光透過性フィルム
に関する。
The present invention relates to a light-transmitting conductive film and a light-transmitting film with a hard coat.
タッチパネルに搭載される導電性フィルムとして、光透過性導電性フィルムが使用されている。光透過性導電性フィルムは、プラスチックからなる光透過性支持層の上に酸化インジウムスズ(ITO)等からなる光透過性導電層等を積層されている。光透過性導電性フィルムは、通常、光透過性導電層側をタッチパネルの操作面側を向けてタッチパネルに配置されている。光透過性導電性フィルムには、光透過性支持層表面の傷つきを防止する目的で、ハードコート層と呼ばれる、比較的表面硬度の高い層が設けられている。 As the conductive film mounted on the touch panel, a light transmissive conductive film is used. In the light transmissive conductive film, a light transmissive conductive layer made of indium tin oxide (ITO) or the like is laminated on a light transmissive support layer made of plastic. The light transmissive conductive film is usually disposed on the touch panel with the light transmissive conductive layer side facing the operation surface side of the touch panel. The light-transmitting conductive film is provided with a layer having a relatively high surface hardness, called a hard coat layer, for the purpose of preventing scratches on the surface of the light-transmitting support layer.
タッチセンサーとして用いるために、光透過性導電性フィルムは、光透過性導電層にエッチング処理を行ってセンサー電極用パターンを形成した上でタッチパネルに搭載されている。センサー電極用パターンが形成された光透過性導電性フィルムでは、フィルム表面を見たときにセンサー電極用パターンが視認されること(いわゆる骨見え現象;pattern visibility)が知られている。ところで、光透過性導電層にエッチング処理を行ってセンサー電極用パターンを形成した光透過性導電性フィルムは、理由は不明であるが電極用パターンの形状に起因して、センサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じることがあった。 In order to use as a touch sensor, the light-transmitting conductive film is mounted on the touch panel after forming a sensor electrode pattern by etching the light-transmitting conductive layer. In a light-transmitting conductive film in which a sensor electrode pattern is formed, it is known that the sensor electrode pattern is visually recognized when the film surface is viewed (so-called bone visibility phenomenon). By the way, the light-transmitting conductive film in which the light-transmitting conductive layer is etched to form the sensor electrode pattern is unclear for reasons of the shape of the electrode pattern. In some cases, the reflected light reflected by the lens is distorted.
なお、光透過性導電性フィルムの熱収縮率を抑制してフィルムに皺が発生しにくくする技術が提案されている(特許文献1)。また、ハードコート層に関する発明として、ハードコート層の平均厚みを0.05μm〜10μmとし、ナノインデンターを用いた押し込み量が0.2μm程度の光透過性導電性フィルム(特許文献2)や、タッチパネル端部領域での筆記耐久性に着目した光透過性導電性フィルム(特許文献3)などがある。しかしながら、いずれの技術も、電極用パターンの形状に起因して、センサー電極用パターンの表面の反射光に歪みが生じるという上記の現象を解決するものではなかった。 In addition, the technique which suppresses the thermal contraction rate of a light transmissive conductive film and makes it difficult to generate | occur | produce a wrinkle on a film is proposed (patent document 1). Moreover, as invention regarding a hard-coat layer, the average thickness of a hard-coat layer shall be 0.05 micrometer-10 micrometers, and the indentation amount using a nano indenter is about 0.2 micrometer (patent document 2), There is a light-transmitting conductive film (Patent Document 3) that focuses on the writing durability in the end region of the touch panel. However, none of the techniques solves the above phenomenon that the reflected light on the surface of the sensor electrode pattern is distorted due to the shape of the electrode pattern.
光透過性導電性フィルムにおいて、電極用パターンの形状に起因して、センサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じる現象を抑制することを課題とする。 It is an object of the present invention to suppress a phenomenon that distortion occurs in reflected light reflected on the surface of a sensor electrode pattern due to the shape of the electrode pattern in the light transmissive conductive film.
本発明者らが上記課題を解決するべく研究を進める中で、センサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じる現象は、次の理由に因るものと考えられた。すなわち、光透過性導電層を有する部分と有しない部分とで各層間に働く応力に微小な差が生じてしまい、これにより光透過性導電性フィルムの変形、さらには反射の歪みが生じてしまうのではないかと考えられた。本発明者らは、この知見に基づいてさらに鋭意検討を重ね、センサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じる現象の原因パラメータを特定し、かつ定量化することにより、確実にセンサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じる現象を低減できることを新たに見出した。本発明は、次に掲げるものである。
項1.
(A)光透過性導電層;
(B)光透過性支持層;及び
(C)ハードコート層
が直接又は一以上の他の層を介してこの順に配置されている光透過性導電性フィルムであって、前記ハードコート層(C)の前記光透過性支持層(B)とは反対側の面と、光透過性導電層(A)をエッチング液で溶解させて取り除いた面との複合弾性率差の絶対値が
10GPa以上であることを特徴とする光透過性導電性フィルム。
項2.
前記光透過性支持層(B)が、厚み20〜75μmのポリエステルフィルムである、項1に記載の光透過性導電性フィルム。
項3.
さらに、
(D)光学干渉層
を含有し、前記光透過性導電層(A)が、少なくとも前記光学干渉層(D)を介して、前記光透過性支持層(B)の一方の面に配置されている、項1又は2に記載の光透過性導電性フィルム。
As the inventors proceeded with researches to solve the above problems, the phenomenon in which the reflected light reflected by the surface of the sensor electrode pattern was distorted was considered to be due to the following reason. That is, a slight difference occurs in the stress acting between each layer between the portion having the light-transmitting conductive layer and the portion not having the light-transmitting conductive layer, which causes deformation of the light-transmitting conductive film and further distortion of reflection. It was thought that. Based on this knowledge, the present inventors have conducted further intensive studies, and by identifying and quantifying the causal parameters of the phenomenon in which the reflected light reflected by the surface of the sensor electrode pattern is distorted, the sensor is reliably It was newly found that the phenomenon of distortion in the reflected light reflected from the surface of the electrode pattern can be reduced. The present invention is as follows.
Item 1.
(A) a light transmissive conductive layer;
(B) a light transmissive support layer; and (C) a light transmissive conductive film in which the hard coat layer is arranged in this order directly or via one or more other layers, wherein the hard coat layer (C ) Of the composite elastic modulus difference between the surface opposite to the light transmissive support layer (B) and the surface obtained by dissolving the light transmissive conductive layer (A) with an etching solution is 10 GPa or more. A light-transmitting conductive film characterized by being.
Item 2.
Item 2. The light transmissive conductive film according to Item 1, wherein the light transmissive support layer (B) is a polyester film having a thickness of 20 to 75 µm.
Item 3.
further,
(D) An optical interference layer is contained, and the light transmissive conductive layer (A) is disposed on one surface of the light transmissive support layer (B) through at least the optical interference layer (D). Item 3. The light transmissive conductive film according to Item 1 or 2.
本発明によれば、センサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じる現象を抑制できる。より詳細には、定量的な判断に基づく設計により、センサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じる現象が抑制されたフィルムを確実に得ることができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the phenomenon in which distortion arises in the reflected light reflected on the surface of the pattern for sensor electrodes can be suppressed. More specifically, by a design based on quantitative judgment, it is possible to reliably obtain a film in which the phenomenon of distortion in reflected light reflected from the surface of the sensor electrode pattern is suppressed.
1. 光透過性導電性フィルム
本発明の光透過性導電性フィルムは、
(A)光透過性導電層;
(B)光透過性支持層;及び
(C)ハードコート層
が直接又は一以上の他の層を介してこの順に配置されている光透過性導電性フィルムであって、前記ハードコート層(C)の前記光透過性支持層(B)とは反対側の面と、光透過性導電層(A)をエッチング液で溶解させて取り除いた部分との複合弾性率差の絶対値が
10GPa以上であることを特徴とする光透過性導電性フィルム。
である。
1. Light transmissive conductive film The light transmissive conductive film of the present invention is
(A) a light transmissive conductive layer;
(B) a light transmissive support layer; and (C) a light transmissive conductive film in which the hard coat layer is arranged in this order directly or via one or more other layers, wherein the hard coat layer (C ) Of the composite elastic modulus difference between the surface opposite to the light transmissive support layer (B) and the portion where the light transmissive conductive layer (A) is dissolved and removed with an etching solution is 10 GPa or more. A light-transmitting conductive film characterized by being.
It is.
本明細書において、光透過性支持層(B)の一方の面に配置される複数の層のうち二つの層の相対的な位置関係について言及する場合、光透過性支持層(B)を基準にして、光透過性支持層(B)からの距離が大きい一方の層を「上の」又は「外側の」層等ということがある。 In this specification, when mentioning the relative positional relationship between two layers among a plurality of layers arranged on one surface of the light transmissive support layer (B), the light transmissive support layer (B) is used as a reference. Thus, one layer having a large distance from the light transmissive support layer (B) may be referred to as an “upper” or “outer” layer.
本発明において「光透過性」とは、光を透過させる性質を有する(translucent)ことを意味する。「光透過性」には、透明(transparent)が含まれる。「光透過性」とは、例えば、全光線透過率が80%以上、好ましくは85%以上、より好ましくは88%以上である性質をいう。本発明において全光線透過率は、ヘーズメーター(日本電色社製、商品名:NDH−2000、またはその同等品)を用いてJIS−K−7105に基づいて測定する。 In the present invention, “light-transmitting” means having a property of transmitting light (translucent). “Light transmissivity” includes transparency. “Light transmissivity” means, for example, the property that the total light transmittance is 80% or more, preferably 85% or more, more preferably 88% or more. In the present invention, the total light transmittance is measured based on JIS-K-7105 using a haze meter (trade name: NDH-2000 manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd. or equivalent).
本発明において、光透過性導電層(A)、ハードコート層(C)及び光学干渉層(D)の光学厚さと屈折率は光干渉計算により算出する。具体的には、これらの層と屈折率が相違する適当な熱可塑性フィルム基板上に光透過性導電層(A)、ハードコート層(C)又は光学干渉層(D)のいずれかを単層で形成した積層フィルムをそれぞれ用意し、これらの積層フィルムに形成された単層部分の厚みをあらかじめ測定する。次いで、上記積層面の光反射スペクトル上に光干渉効果に基づいて発現する反射率の極大ピークもしくは極小ピークの波長とそのピーク反射率の値を用いて、これらの層に関する光学シミュレーションに必要なパラメータを算出する。ハードコート層(C)を裏面に有する光透過性支持層(B)の表側の面に、必要に応じて光学干渉層(D)、及び光透過性導電層(A)をこの順に形成することにより本発明の光透過性導電性フィルムを得る過程で、ハードコート層(C)が形成されたフィルム(ハードコート付き支持フィルム)、光透過性支持層(B)の上に必要に応じて光学干渉層(D)がさらに形成されたフィルム、及び最終的に得られる光透過性導電性フィルムを順に得る。得られたそれぞれのフィルムについて最上面の光反射スペクトル上に光干渉効果に基づいて発現する反射率の極大ピーク又は極小ピークの波長とそれらのピークにおける反射率の値に基づいて、必要に応じて光学干渉層(D)及び光透過性導電層(A)の光学厚さ及び屈折率を光干渉計算により算出する。 In the present invention, the optical thickness and refractive index of the light transmissive conductive layer (A), the hard coat layer (C), and the optical interference layer (D) are calculated by optical interference calculation. Specifically, any one of the light transmissive conductive layer (A), the hard coat layer (C), and the optical interference layer (D) is formed on a suitable thermoplastic film substrate having a refractive index different from those of these layers. Each of the laminated films formed in (1) is prepared, and the thickness of the single layer portion formed on these laminated films is measured in advance. Next, using the wavelength of the maximum peak or minimum peak of the reflectance expressed based on the light interference effect on the light reflection spectrum of the laminated surface and the value of the peak reflectance, parameters necessary for optical simulation regarding these layers Is calculated. An optical interference layer (D) and a light transmissive conductive layer (A) are formed in this order on the front side surface of the light transmissive support layer (B) having the hard coat layer (C) on the back surface, if necessary. In the process of obtaining the light-transmitting conductive film of the present invention, the film on which the hard coat layer (C) is formed (support film with a hard coat), the optical if necessary on the light-transmitting support layer (B) A film on which the interference layer (D) is further formed and a light-transmitting conductive film finally obtained are obtained in this order. Based on the wavelength of the maximum peak or minimum peak of the reflectance expressed based on the light interference effect on the light reflection spectrum of the top surface of each obtained film and the value of the reflectance at those peaks, as necessary The optical thickness and refractive index of the optical interference layer (D) and the light transmissive conductive layer (A) are calculated by optical interference calculation.
反射率はサンプルの裏面に黒色テープを貼り、分光光度計(島津製作所製UV−3101PC、又はその同等品)を用いて5度正反射を測定する。また、計算はWVASE32(J.A.Woollam社製、又はその同等品)で行う。 As for the reflectance, black tape is attached to the back surface of the sample, and regular reflection at 5 degrees is measured using a spectrophotometer (UV-3101PC manufactured by Shimadzu Corporation or equivalent). The calculation is performed with WVASE32 (manufactured by JA Woollam or equivalent).
なお、本発明において、屈折率は特に言及しない限り、550nmの波長の光についての屈折率とする。 In the present invention, the refractive index is the refractive index for light having a wavelength of 550 nm unless otherwise specified.
1.1 光透過性支持層(B)
本発明において光透過性支持層とは、光透過性導電層を含有する導電性フィルムにおいて、光透過性導電層を含む層を支持する役割を果たすものをいう。光透過性支持層(B)は、屈折率が1.6から1.7の光透過性高分子フィルムであれば特に限定されないが、例えば、タッチパネル等に用いる光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性支持層として通常用いられるものを用いることができる。
1.1 Light transmissive support layer (B)
In the present invention, the light transmissive support layer refers to a conductive film containing a light transmissive conductive layer that plays a role of supporting a layer including the light transmissive conductive layer. The light transmissive support layer (B) is not particularly limited as long as it is a light transmissive polymer film having a refractive index of 1.6 to 1.7. For example, in a light transmissive conductive film used for a touch panel or the like, As the permeable support layer, those usually used can be used.
光透過性支持層(B)の素材は、特に限定されないが、例えば、各種の有機高分子を挙げることができる。例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリメタクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂及びポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)及びポリエチレンナフタレート(PEN)等が挙げられる。ポリエーテル系樹脂としては、ポリエーテルスルホン系樹脂等が挙げられる。光透過性支持層(B)の素材は、ポリエステル系樹脂及びポリオレフィン系樹脂が好ましい。ポリエステル系樹脂としては、特にPETが好ましい。ポリオレフィン系樹脂としては、特にシクロオレフィンポリマー(COP)が好ましい。 Although the raw material of a light-transmissive support layer (B) is not specifically limited, For example, various organic polymers can be mentioned. For example, polyester resin, acetate resin, polyether resin, polycarbonate resin, polyacrylic resin, polymethacrylic resin, polystyrene resin, polyolefin resin, polyimide resin, polyamide resin, polyvinyl chloride resin And polyacetal resins, polyvinylidene chloride resins, polyvinyl alcohol resins, polyarylate resins, and polyphenylene sulfide resins. Although it does not specifically limit as polyester-type resin, For example, a polyethylene terephthalate (PET), a polyethylene naphthalate (PEN), etc. are mentioned. Examples of polyether resins include polyether sulfone resins. The material of the light transmissive support layer (B) is preferably a polyester resin or a polyolefin resin. As the polyester resin, PET is particularly preferable. As the polyolefin resin, a cycloolefin polymer (COP) is particularly preferable.
光透過性支持層(B)は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。 The light transmissive support layer (B) may be composed of any one of these, or may be composed of a plurality of types.
光透過性支持層(B)の厚さは、75μm以下であり、好ましくは12〜65μm、より好ましくは20〜50μmである。光透過性支持層(B)の厚さをこれらの下限値以上とすることによって、光透過性導電性フィルムに十分な機械的強度を付与できる。また、タッチパネルの軽量化、薄膜化の要望から光透過性導電性フィルムとしては、非常に薄い厚さであることが要求される。このように光透過性導電性フィルムとして通常要求される厚さを達成するためには、光透過性支持層(B)の厚さを上記の上限値以下とすることが好ましい。なお、光透過性支持層(B)の厚さが薄いほど、本発明の課題である、反射像の歪みを抑制が必要である。 The thickness of the light transmissive support layer (B) is 75 μm or less, preferably 12 to 65 μm, more preferably 20 to 50 μm. By setting the thickness of the light transmissive support layer (B) to be equal to or greater than these lower limit values, sufficient mechanical strength can be imparted to the light transmissive conductive film. In addition, the light-transmitting conductive film is required to have a very thin thickness because of the demand for weight reduction and thinning of the touch panel. Thus, in order to achieve the thickness normally required for the light-transmitting conductive film, it is preferable to set the thickness of the light-transmitting support layer (B) to the upper limit value or less. In addition, it is necessary to suppress the distortion of the reflected image, which is a problem of the present invention, as the thickness of the light transmissive support layer (B) is thinner.
1.2 光透過性導電層(A)
光透過性導電層(A)は電極用パターン形状を有していてもよい。電極用パターン形状としては、特に限定されず、通常採用されうる形状の中から幅広く選択できる。例えば、櫛状、外形がひし形の電極を鎖状につなげた形状、及び外形が円形の電極を鎖状につなげた形状等が挙げられる。特に限定されないが、櫛状のように基本単位となる形状の繰り返し形状を有する場合、繰り返し形状同士の間隔は、0.1μm〜50μm、好ましくは0.3μm〜20μmである。本明細書において、光透過性導電性フィルムを光透過性導電層(A)側から見たときに、電極用パターン形状が存在する部分のことをパターン部分、その他の部分を非パターン部分ということがある。
1.2 Light transmissive conductive layer (A)
The light transmissive conductive layer (A) may have an electrode pattern shape. The pattern shape for the electrode is not particularly limited, and can be widely selected from shapes that can be usually employed. Examples include a comb shape, a shape in which electrodes having a rhombus shape are connected in a chain shape, and a shape in which electrodes having a circular shape are connected in a chain shape. Although not particularly limited, in the case of having a repeating shape that is a basic unit such as a comb shape, the interval between the repeating shapes is 0.1 μm to 50 μm, preferably 0.3 μm to 20 μm. In this specification, when the light-transmitting conductive film is viewed from the light-transmitting conductive layer (A) side, a portion where the electrode pattern shape exists is a pattern portion, and the other portion is a non-pattern portion. There is.
電極用パターン形状は、特に限定されないが、通常エッチング処理により得られる。エッチング処理の方法は、特に限定されないが、公知の方法を適用することができ、例えば、以下の方法等によって電極用パターン形状を得ることができる。 The electrode pattern shape is not particularly limited, but is usually obtained by etching. The etching method is not particularly limited, and a known method can be applied. For example, the electrode pattern shape can be obtained by the following method or the like.
成膜及びアニール(150℃、1時間)後、スクリーン印刷にてレジスト印刷を行う。続いてUV露光し、酸エッチングによりレジストが乗っていない箇所の透明導電層を溶かす。さらに、アルカリエッチングにより残っているレジストを剥がす。その後、アニール(130℃、40分)し、ガラスにOCAで貼り合せる。 After film formation and annealing (150 ° C., 1 hour), resist printing is performed by screen printing. Subsequently, UV exposure is performed, and the transparent conductive layer where no resist is placed is dissolved by acid etching. Further, the remaining resist is removed by alkali etching. Then, it anneals (130 degreeC, 40 minutes), and is bonded to glass by OCA.
レーザー顕微鏡を用いて測定される電極用パターン形状の段差は、0.2μm〜1.2μmであることが好ましい。本発明において、レーザー顕微鏡を用いた段差の測定は、レーザー顕微鏡(KEYENCE製、VK−9510又はその同等品)を用いて電極パターン表面を測定した結果に基づき、解析ソフト(VK Analyzer(KEYENCE製)、又はその同等品)により算出する。 It is preferable that the level | step difference of the electrode pattern shape measured using a laser microscope is 0.2 micrometer-1.2 micrometers. In the present invention, the step difference measurement using a laser microscope is based on the result of measuring the electrode pattern surface using a laser microscope (manufactured by KEYENCE, VK-9510 or equivalent), and analysis software (VK Analyzer (manufactured by KEYENCE)). Or equivalent).
本発明の光透過性導電性フィルムは、電極用パターン形状が形成された場合、後述する複合弾性率差の絶対値が特定範囲であることと相まって、電極用パターンの形状に起因する、センサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じる現象をより抑制することができる。この効果の点で、レーザー顕微鏡を用いて測定される電極用パターン形状の段差は、好ましくは0.2μm〜1.2μmであり、より好ましくは0.5μm〜1.0μmである。 When the electrode pattern shape is formed, the light-transmitting conductive film of the present invention is a sensor electrode caused by the shape of the electrode pattern, coupled with the fact that the absolute value of the composite elastic modulus difference described later is in a specific range. The phenomenon that distortion occurs in the reflected light reflected on the surface of the pattern for use can be further suppressed. In terms of this effect, the step of the electrode pattern shape measured using a laser microscope is preferably 0.2 μm to 1.2 μm, more preferably 0.5 μm to 1.0 μm.
光透過性導電層(A)は導電性物質を含有する。導電性物質としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル等に用いる光透過性導電性フィルムにおいて通常用いられる導電性物質を用いることができる。 The light transmissive conductive layer (A) contains a conductive substance. Although it does not specifically limit as an electroconductive substance, For example, the electroconductive substance normally used in the transparent electroconductive film used for a touchscreen etc. can be used.
光透過性導電層(A)は、好ましくは、金属酸化物を含有する。 The light transmissive conductive layer (A) preferably contains a metal oxide.
光透過性導電層(A)の素材は、特に限定されないが、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化錫及び酸化チタン等が挙げられる。光透過性導電層(A)としては、光透過性と導電性を両立する点で酸化インジウムにドーパントをドープしたものを含む光透過性導電層が好ましい。光透過性導電層(A)は、酸化インジウムにドーパントをドープしたものからなる光透過性導電層であってもよい。ドーパントとしては、特に限定されないが、例えば、酸化スズ及び酸化亜鉛、並びにそれらの混合物等が挙げられる。 The material of the light transmissive conductive layer (A) is not particularly limited, and examples thereof include indium oxide, zinc oxide, tin oxide, and titanium oxide. The light transmissive conductive layer (A) is preferably a light transmissive conductive layer containing indium oxide doped with a dopant in terms of achieving both light transparency and conductivity. The light transmissive conductive layer (A) may be a light transmissive conductive layer made of indium oxide doped with a dopant. Although it does not specifically limit as a dopant, For example, a tin oxide, a zinc oxide, those mixtures, etc. are mentioned.
光透過性導電層(A)の素材として酸化インジウムに酸化スズをドープしたものを用いる場合は、酸化インジウム(III)(In2O3)に酸化スズ(IV)(SnO2)をドープしたもの(tin−doped indium oxide;ITO)が好ましい。この場合、SnO2の添加量としては、特に限定されないが、例えば、1〜15重量%、好ましくは2〜10重量%、より好ましくは3〜8重量%等が挙げられる。また、ドーパントの総量が左記の数値範囲を超えない範囲で、酸化インジウムスズにさらに他のドーパントが加えられたものを光透過性導電層(A)の素材として用いてもよい。左記において他のドーパントとしては、特に限定されないが、例えばセレン等が挙げられる。 In the case of using indium oxide doped with tin oxide as the material of the light transmissive conductive layer (A), indium oxide (III) (In 2 O 3 ) doped with tin (IV) oxide (SnO 2 ) (Tin-doped indium oxide; ITO) is preferable. In this case, the addition amount of SnO 2 is not particularly limited, and examples thereof include 1 to 15% by weight, preferably 2 to 10% by weight, and more preferably 3 to 8% by weight. Moreover, you may use as a raw material of a transparent conductive layer (A) what added the other dopant to indium tin oxide in the range which the total amount of a dopant does not exceed the numerical range of the left. Although it does not specifically limit as another dopant in the left, For example, selenium etc. are mentioned.
光透過性導電層(A)は、上記の各種素材のうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。 The light transmissive conductive layer (A) may be composed of any one of the various materials described above, or may be composed of a plurality of types.
光透過性導電層(A)は、特に限定されないが、結晶体若しくは非晶質体、又はそれらの混合体であってもよい。 The light transmissive conductive layer (A) is not particularly limited, but may be a crystalline or amorphous body, or a mixture thereof.
光透過性導電層(A)の厚さは、特に限定されないが、通常は5〜50nmであり、好ましくは10〜40nm、より好ましくは12〜35nm、さらに好ましくは15〜30nmである。 Although the thickness of a light-transmissive conductive layer (A) is not specifically limited, Usually, it is 5-50 nm, Preferably it is 10-40 nm, More preferably, it is 12-35 nm, More preferably, it is 15-30 nm.
光透過性導電層(A)を形成する方法としては、特に限定されないが、例えば、イオンプレーティング法、スパッタリング法、真空蒸着法、CVD法、及びパルスレーザーデポジション法等が挙げられる。これらのうち、タッチパネル用途に低抵抗で大面積の均質な膜を安定に生産するという観点において、スパッタリング法が好ましい。 The method for forming the light transmissive conductive layer (A) is not particularly limited, and examples thereof include an ion plating method, a sputtering method, a vacuum deposition method, a CVD method, and a pulse laser deposition method. Among these, the sputtering method is preferable from the viewpoint of stably producing a uniform film having a low resistance and a large area for touch panel applications.
光透過性導電層(A)を形成する方法としては、導電性物質を焼成する工程を含有する方法が好ましい。焼成方法としては、特に限定されないが、例えばスパッタリング等を行う際のドラム加熱や、熱風式焼成炉、遠赤外線焼成炉などを例として挙げることができる。焼成温度は、特に限定されないが、通常は30〜250℃であり、好ましくは50〜200℃、より好ましくは80〜180℃、さらに好ましくは100〜160℃である。焼成時間は、好ましくは3分〜180分、より好ましくは5分〜120分、さらに好ましくは10分〜90分である。焼成を行う雰囲気としては、真空下、大気、窒素やアルゴンなどの不活性ガス、酸素、若しくは水素添加窒素等、又はこれらのうち二種以上の組合せが挙げられる。導電性物質を焼成することにより、導電性物質の結晶化が促進される。 As a method for forming the light transmissive conductive layer (A), a method including a step of baking a conductive material is preferable. Although it does not specifically limit as a baking method, For example, the drum heating at the time of performing sputtering etc., a hot-air-type baking furnace, a far-infrared baking furnace, etc. can be mentioned as an example. Although a calcination temperature is not specifically limited, Usually, it is 30-250 degreeC, Preferably it is 50-200 degreeC, More preferably, it is 80-180 degreeC, More preferably, it is 100-160 degreeC. The firing time is preferably 3 minutes to 180 minutes, more preferably 5 minutes to 120 minutes, and even more preferably 10 minutes to 90 minutes. As an atmosphere for performing the firing, an atmosphere, an inert gas such as nitrogen or argon, oxygen, hydrogenated nitrogen, or a combination of two or more of these can be given under vacuum. By firing the conductive material, crystallization of the conductive material is promoted.
1.3 ハードコート層(C)
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層(B)の前記光透過性導電層(A)とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介してハードコート層(C)が形成されている。これにより、後述する複合弾性率差の絶対値が特定範囲であることと相まって、電極用パターンの形状に起因する、センサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じる現象を効果的に抑制することができる。なお、ハードコート層(C)は光透過性支持層(B)に形成された密着層の上に形成されていてもよい。
1.3 Hard coat layer (C)
The light transmissive conductive film of the present invention is hard-coated directly or via one or more other layers on the surface of the light transmissive support layer (B) opposite to the light transmissive conductive layer (A). A layer (C) is formed. This effectively eliminates the phenomenon that the reflected light reflected from the surface of the sensor electrode pattern is distorted due to the shape of the electrode pattern, coupled with the fact that the absolute value of the composite elastic modulus difference described later is within a specific range. Can be suppressed. The hard coat layer (C) may be formed on the adhesion layer formed on the light transmissive support layer (B).
一層のハードコート層(C)が光透過性支持層(B)の上に配置されていてもよい。また、二層以上のハードコート層(C)が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して光透過性支持層(B)の上に配置されていてもよい。 One hard coat layer (C) may be disposed on the light-transmissive support layer (B). Further, two or more hard coat layers (C) may be disposed on the light-transmitting support layer (B) adjacent to each other or separated from each other via other layers.
本発明においてハードコート層とは、プラスチック表面の傷つきを防止する役割を果たすものをいう。ハードコート層(C)としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル等に用いる光透過性導電性フィルムにおいてハードコート層として通常用いられるものを用いることができる。 In the present invention, the hard coat layer means a layer that prevents the plastic surface from being damaged. Although it does not specifically limit as a hard-coat layer (C), For example, what is normally used as a hard-coat layer in the transparent electroconductive film used for a touchscreen etc. can be used.
ハードコート層(C)の素材は、特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂及びアルキド系樹脂等が挙げられる。ハードコート層(C)の素材としては、さらに、シリカ、ジルコニア、チタニア及びアルミナ等のコロイド粒子等を上記樹脂中に分散させたものも挙げられる。ハードコート層(C)は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。ハードコート層(C)としては、ジルコニア粒子を分散したアクリル樹脂が好ましい。 The material of the hard coat layer (C) is not particularly limited, and examples thereof include acrylic resins, silicone resins, urethane resins, melamine resins, and alkyd resins. Examples of the material of the hard coat layer (C) further include those obtained by dispersing colloidal particles such as silica, zirconia, titania and alumina in the resin. The hard coat layer (C) may be composed of any one of them, or may be composed of a plurality of types. As the hard coat layer (C), an acrylic resin in which zirconia particles are dispersed is preferable.
本発明において、ハードコート層(C)のナノインデンター硬さは、以下のようにして測定する。ナノインデンター(TI 950(Hysitron社製)又はその同等品)を用い、23℃、50%RHの環境下にて、押し込みモードで「押し込み量:50nm、押しこみ速度10nm/秒」の条件で、探針(BerkovichprobeTI−0039(Hysitron社製)又はその同等品)を用いて測定する。具体的には、一度表面に針を触れさせて距離を認識させ、5秒かけて表面から50nm持ち上げる。その後10秒かけて装置上100nm押し込み、押し込んだまま2秒保持し、その後10nm/secの速度で針を抜く。一連の操作により得た測定値を、ハードコート層(C)の複合弾性率とする。 In the present invention, the nanoindenter hardness of the hard coat layer (C) is measured as follows. Using a nanoindenter (TI 950 (manufactured by Hystron) or equivalent) under the conditions of “push-in amount: 50 nm, push-in speed 10 nm / sec” in the push-in mode in an environment of 23 ° C. and 50% RH. , Using a probe (Berkovich probe TI-0039 (manufactured by Hysitron) or equivalent). Specifically, the surface is once touched to recognize the distance and lifted 50 nm from the surface over 5 seconds. After that, it is pushed in by 100 nm on the apparatus over 10 seconds, held for 2 seconds while being pushed in, and then the needle is pulled out at a speed of 10 nm / sec. The measured value obtained by a series of operations is defined as the composite elastic modulus of the hard coat layer (C).
ハードコート層(C)の複合弾性率を調整するためには、ハードコート層(C)を形成する際に添加するウレタン又は重合開始剤の量を増減させるか、あるいは露光量を増減する等の方法で硬さを制御すればよい。 In order to adjust the composite elastic modulus of the hard coat layer (C), the amount of urethane or polymerization initiator added when forming the hard coat layer (C) is increased or decreased, or the exposure amount is increased or decreased. The hardness may be controlled by a method.
また、本発明の光透過性導電性フィルムは、ハードコート層(C)の前記光透過性支持層(B)とは反対側の面と、光透過性導電層(A)をエッチング液で溶解させて取り除いた面(すなわち、光透過性導電層(A)の、下側((B)光透過性支持層側)に隣接する面)との複合弾性率差の絶対値が10GPa以上である場合に、骨見えの改善効果が特に優れるという効果を奏する。この効果の点で、前記複合弾性率差の絶対値が12GPa以上であればより好ましく、15GPa以上であればさらに好ましい。特に限定されないが、前記複合弾性率差の絶対値は、通常20GPa以下である。 The light transmissive conductive film of the present invention is obtained by dissolving the surface of the hard coat layer (C) opposite to the light transmissive support layer (B) and the light transmissive conductive layer (A) with an etching solution. The absolute value of the composite elastic modulus difference between the removed surface (that is, the surface adjacent to the lower side of the light transmissive conductive layer (A) ((B) the light transmissive support layer side)) is 10 GPa or more. In this case, the effect of improving bone appearance is particularly excellent. In view of this effect, the absolute value of the composite elastic modulus difference is more preferably 12 GPa or more, and further preferably 15 GPa or more. Although not particularly limited, the absolute value of the composite elastic modulus difference is usually 20 GPa or less.
ハードコート層(C)を配置する方法としては、特に限定されないが、例えば、フィルムに塗布して、熱で硬化する方法、紫外線や電子線などの活性エネルギー線で硬化する方法等が挙げられる。生産性の点で、紫外線により硬化する方法が好ましい。 The method of disposing the hard coat layer (C) is not particularly limited, and examples thereof include a method of applying to a film and curing with heat, a method of curing with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams, and the like. From the viewpoint of productivity, a method of curing with ultraviolet rays is preferable.
1.4 光学干渉層(D)
本発明の光透過性導電性フィルムは、さらに、
(D)光学干渉層
を含有し、前記光透過性導電層(A)が、少なくとも前記光学干渉層(D)を介して、前記光透過性支持層(B)の一方の面に配置されていてもよい。
光学干渉層(D)の素材は、特に限定されないが、例えば、誘電性を有するものであってもよい。光学干渉層(D)の素材としては、特に限定されないが、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、炭化ケイ素、シリコンアルコキシド、アルキルシロキサン及びその縮合物、ポリシロキサン、シルセスキオキサン、ポリシラザン等が挙げられる。光学干渉層(D)は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。酸化ケイ素を含む光学干渉層(D)が好ましく、酸化ケイ素からなる光学干渉層(D)がより好ましい。
1.4 Optical interference layer (D)
The light transmissive conductive film of the present invention further includes:
(D) An optical interference layer is contained, and the light transmissive conductive layer (A) is disposed on one surface of the light transmissive support layer (B) through at least the optical interference layer (D). May be.
The material of the optical interference layer (D) is not particularly limited, but may be, for example, a dielectric material. The material of the optical interference layer (D) is not particularly limited. For example, silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, silicon carbide, silicon alkoxide, alkylsiloxane and its condensate, polysiloxane, silsesquioxane, polysilazane. Etc. The optical interference layer (D) may be composed of any one of them, or may be composed of a plurality of types. An optical interference layer (D) containing silicon oxide is preferable, and an optical interference layer (D) made of silicon oxide is more preferable.
一層の光学干渉層(D)が、他の層(例えばハードコート層)の上に配置されていてもよい。また、二層以上の光学干渉層(D)が、互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間してハードコート層の上に配置されていてもよい。例えば二層が互いに隣接して配置されている場合、光透過性支持層(B)側にSiO2からなる光透過性下地層(C−1)を配置し、光透過性導電層(A)側にSiOx(x=1.0〜2.0)からなる光透過性下地層(C−2)を配置する態様が挙げられる。なお、光学干渉層と隣接してハードコート層が形成されている場合は、ハードコート層より屈折率が高い高屈折率干渉層およびハードコートより屈折率が低い低屈折率干渉層の少なくとも二層が設けられていることがより好ましい。 One optical interference layer (D) may be disposed on another layer (for example, a hard coat layer). Two or more optical interference layers (D) may be arranged on the hard coat layer adjacent to each other or separated from each other via other layers. For example, when two layers are disposed adjacent to each other, a light transmissive underlayer (C-1) made of SiO 2 is disposed on the light transmissive support layer (B) side, and the light transmissive conductive layer (A). manner of placing light-transmitting base layer made of SiO x (x = 1.0~2.0) on the side of the (C-2) can be mentioned. When a hard coat layer is formed adjacent to the optical interference layer, at least two layers of a high refractive index interference layer having a higher refractive index than the hard coat layer and a low refractive index interference layer having a lower refractive index than the hard coat layer Is more preferably provided.
光学干渉層(D)の一層あたりの厚さは、10〜100nm等が挙げられる。二層以上が互いに隣接して配置されている場合は互いに隣接している全ての光学干渉層(D)の合計厚さが上記範囲内であればよい。高屈折率干渉層と低屈折率干渉層の二層の光学干渉層を設ける場合は、高屈折率干渉層の厚みは30nm〜50nmであることが好ましく、低屈折率干渉層の厚み10nm〜50nmであることが好ましい。 As for the thickness per layer of an optical interference layer (D), 10-100 nm etc. are mentioned. When two or more layers are disposed adjacent to each other, the total thickness of all the optical interference layers (D) adjacent to each other may be within the above range. When two optical interference layers of a high refractive index interference layer and a low refractive index interference layer are provided, the thickness of the high refractive index interference layer is preferably 30 nm to 50 nm, and the thickness of the low refractive index interference layer is 10 nm to 50 nm. It is preferable that
光学干渉層(D)の屈折率は、本発明の光透過性導電性フィルムが目的とする用途に使用できる限り特に限定されないが、例えば、1.4〜1.5が好ましい。高屈折率干渉層と低屈折率干渉層の二層の光学干渉層を設ける場合は、高屈折率干渉層の屈折率は1.6〜1.7であることが好ましく、低屈折率干渉層の屈折率は1.45〜1.55であることが好ましい。 The refractive index of the optical interference layer (D) is not particularly limited as long as it can be used for the intended purpose of the light-transmitting conductive film of the present invention. For example, 1.4 to 1.5 is preferable. When two optical interference layers, a high refractive index interference layer and a low refractive index interference layer, are provided, the refractive index of the high refractive index interference layer is preferably 1.6 to 1.7, and the low refractive index interference layer The refractive index is preferably 1.45 to 1.55.
光学干渉層(D)を配置するための方法としては、湿式及び乾式のいずれでもよく、特に限定されないが、湿式としては例えば、ゾル−ゲル法、微粒子分散液、コロイド溶液を塗布する方法等が挙げられる。 The method for disposing the optical interference layer (D) may be either a wet method or a dry method, and is not particularly limited. Examples of the wet method include a sol-gel method, a fine particle dispersion, and a method of applying a colloid solution. Can be mentioned.
光学干渉層(D)を配置する方法として、乾式としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、パルスレーザーデポジション法により隣接する層上に積層する方法等が挙げられる。 Examples of the method for disposing the optical interference layer (D) include a dry method such as a method of laminating on an adjacent layer by a sputtering method, an ion plating method, a vacuum deposition method, or a pulse laser deposition method.
1.5 その他の層
本発明の光透過性導電性フィルムは、ハードコート層(C)が裏面に形成された光透過性支持層(B)の反対側の面に、光透過性導電層(A)及び必要に応じて光学干渉層(D)と、さらに、それらと異なる少なくとも1種のその他の層(E)とが配置されていてもよい。
1.5 Other layers The light-transmitting conductive film of the present invention has a light-transmitting conductive layer (C) on the surface opposite to the light-transmitting support layer (B) on which the hard coat layer (C) is formed on the back surface. A) and, if necessary, an optical interference layer (D) and at least one other layer (E) different from them may be arranged.
その他の層(E)としては、特に限定されないが、例えば、前記密着層のほか、接着層等が挙げられる。 Although it does not specifically limit as another layer (E), For example, an adhesive layer other than the said contact | adherence layer is mentioned.
密着層としては、特に限定されないが、例えば、シリコン、チタン、錫及び亜鉛からなる群より選択される少なくとも一種の金属若しくはその合金を含む金属酸化物層、又はポリエステル等の樹脂からなる樹脂層等が挙げられる。 The adhesion layer is not particularly limited. For example, a metal oxide layer containing at least one metal selected from the group consisting of silicon, titanium, tin and zinc, or an alloy thereof, or a resin layer made of a resin such as polyester, etc. Is mentioned.
接着層は、接着したい二層の間に当該二層と互いに隣接して配置される。接着層としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル等に用いる光透過性導電性フィルムにおいて接着層として通常用いられるものを用いることができる。接着層は、単層の接着層であってもよいし、二層以上の接着層であってもよい。 The adhesive layer is disposed adjacent to each other between the two layers to be bonded. Although it does not specifically limit as an adhesive layer, For example, what is normally used as an adhesive layer in the transparent electroconductive film used for a touchscreen etc. can be used. The adhesive layer may be a single adhesive layer or two or more adhesive layers.
1.6 本発明の光透過性導電性フィルムの用途
本発明の光透過性導電性フィルムは、骨見え現象が抑制できるので、例えば静電容量型タッチパネル用光透過性導電性フィルムとして好ましい。タッチパネルについて詳細は、2で説明する通りである。
1.6 Use of the light-transmitting conductive film of the present invention The light-transmitting conductive film of the present invention is preferable as a light-transmitting conductive film for a capacitive touch panel, for example, because it can suppress the bone appearance phenomenon. Details of the touch panel are as described in 2.
2.本発明のタッチパネル
本発明の静電容量型タッチパネルは、本発明の光透過性導電性フィルムを含み、さらに必要に応じてその他の部材を含んでなる。
2. Touch Panel of the Present Invention The capacitive touch panel of the present invention includes the light-transmitting conductive film of the present invention, and further includes other members as necessary.
本発明の静電容量型タッチパネルの具体的な構成例としては、次のような構成が挙げられる。なお、保護層(1)側が操作画面側を、ガラス(5)側が操作画面とは反対側を向くようにして使用される。 Specific examples of the configuration of the capacitive touch panel according to the present invention include the following configurations. The protective layer (1) side is used so that the operation screen side faces, and the glass (5) side faces the side opposite to the operation screen.
(1)保護層
(2)本発明の光透過性導電性フィルム(Y軸方向)
(3)絶縁層
(4)本発明の光透過性導電性フィルム(X軸方向)
(5)ガラス
本発明の静電容量型タッチパネルは、特に限定されないが、例えば、上記(1)〜(5)、並びに必要に応じてその他の部材を通常の方法に従って組み合わせることにより製造することができる。
(1) Protective layer (2) Light transmissive conductive film of the present invention (Y-axis direction)
(3) Insulating layer (4) Light transmissive conductive film of the present invention (X-axis direction)
(5) Glass Although the capacitive touch panel of the present invention is not particularly limited, for example, it can be produced by combining the above (1) to (5) and other members as required according to a usual method. it can.
3.本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法
本発明の光透過性導電性フィルムは、たとえば、ハードコート層(C)を裏面に有する光透過性支持層(B)の反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して、光透過性導電層(A)を配置する方法により製造できる。
3. Production method of light transmissive conductive film of the present invention The light transmissive conductive film of the present invention is, for example, on the opposite surface of the light transmissive support layer (B) having the hard coat layer (C) on the back surface. It can be manufactured by a method of disposing the light-transmissive conductive layer (A) directly or through one or more other layers.
以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.
実施例1
<光透過性導電性フィルムの製造方法>
次のようにして本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
Example 1
<Method for producing light transmissive conductive film>
The light transmissive conductive film of the present invention was obtained as follows.
厚さ50μmのPET樹脂基材(nA=1.66)の易接着処理側の表面の上に、下記したアクリレート系樹脂を含む光反応性塗工液を塗布し、加熱乾燥後に紫外線を照射してハードコート層を形成し、本発明のハードコート付き支持フィルムを得た。 A photoreactive coating solution containing the following acrylate-based resin is applied on the surface of the 50 μm thick PET resin substrate (n A = 1.66) on the easy adhesion treatment side, and irradiated with ultraviolet rays after heat drying. Then, a hard coat layer was formed to obtain a support film with a hard coat of the present invention.
[光反応性塗工液の調製]
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬社製) 75重量部
エポキシアクリレート(日本化薬社製) 20重量部
マクロモノマーAA−6(東亞合成社製) 11重量部
光重合開始剤イルガキュアー(登録商標)184(チバガイギー社製) 7重量部
スチレン系樹脂微粒子(平均粒径1μm) 0.3重量部
上記成分をブチルセロソルブ35重量部、メチルエチルケトン94.5重量部の混合溶媒を用いて希釈し、よく攪拌して固形分40%の塗工液を得た。
[Preparation of photoreactive coating solution]
Dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd.) 75 parts by weight Epoxy acrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd.) 20 parts by weight Macromonomer AA-6 (Toagosei Co., Ltd.) 11 parts by weight Photopolymerization initiator Irgacure (registered trademark) 184 (manufactured by Ciba-Geigy) 7 parts by weight Styrenic resin fine particles (average particle size 1 μm) 0.3 parts by weight The above components are diluted with a mixed solvent of 35 parts by weight of butyl cellosolve and 94.5 parts by weight of methyl ethyl ketone, and stirred well. Thus, a coating solution having a solid content of 40% was obtained.
次いで、ハードコート層が形成されていない側のPET樹脂基材の上に光学干渉層としてジルコニア粒子を含んだ厚さ42nmのアクリレート系樹脂からなる層(nC1=1.68)および厚さの33.5nmのアクリレート系樹脂からなる層(nC2=1.49)を形成した。次いで、その上に密着性向上のためのSiOx層を介して光透過性導電層として酸化インジウムスズ(ITO)からなる層(nD=1.87)を厚さ26nmとなるように成膜して、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。なお、ターゲット材として酸化インジウム:97重量%及び酸化スズ:3重量%からなる焼結体材料を用いた。また、DCマグネトロンスパッタリング法により、ハードコート層の上にSiOx層を形成し、その上に、酸化インジウムスズ層を形成した。 Next, a layer (n C1 = 1.68) composed of a acrylate-based resin having a thickness of 42 nm containing zirconia particles as an optical interference layer on the PET resin substrate on the side where the hard coat layer is not formed, and a thickness of A layer (n C2 = 1.49) made of 33.5 nm acrylate resin was formed. Next, a layer made of indium tin oxide (ITO) (n D = 1.87) is formed as a light-transmitting conductive layer through the SiO x layer for improving the adhesion so as to have a thickness of 26 nm. Thus, a light transmissive conductive film of the present invention was obtained. In addition, the sintered compact material which consists of indium oxide: 97 weight% and tin oxide: 3 weight% was used as a target material. Further, the DC magnetron sputtering method, an SiO x layer was formed on the hard coat layer, was formed thereon an indium tin oxide layer.
<評価方法>
<骨見え評価方法>
光透過性導電性フィルムの光透過性導電層の上にポリイミドテープを貼り付けた積層体をITOエッチング液(関東化学社製、商品名「ITO−06N」)に1分間浸漬し、ポリイミドテープを貼り付けていない部分のITOを除去し、洗浄及び乾燥後にポリイミドテープを剥離することで、4mm間隔で1.5mm幅のラインアンドスペースでITO膜がパターニングされた光透過性導電性フィルムを得た。次いで、作製した光透過性導電性フィルムを乾燥オーブンに入れて130℃で40分間加熱した。
<Evaluation method>
<Bone appearance evaluation method>
The laminate with the polyimide tape affixed on the light transmissive conductive layer of the light transmissive conductive film is immersed in an ITO etching solution (trade name “ITO-06N” manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) for 1 minute, and the polyimide tape is The light-transmitting conductive film in which the ITO film was patterned with a line-and-space of 1.5 mm width at intervals of 4 mm was obtained by removing the unattached portion of ITO and removing the polyimide tape after washing and drying. . Next, the produced light-transmitting conductive film was put in a drying oven and heated at 130 ° C. for 40 minutes.
乾燥オーブンから取り出された光透過性導電性フィルムを室温に達するまで放置した後、縦45mm、横45mmの大きさに切り出し、光透過性導電層に縦40mm、横40mmサイズの透明接着フィルム(EW1502−A1、エリエールテクセル社製)を介して縦50mm、横80mmサイズで厚さ1mmのガラスに貼り付けた。次いで、同様のエッチング方法により、ITO膜が格子間隔4mmで1.5mm幅の格子模様にパターニングされた縦45mm、横45mmの大きさの光透過性導電性フィルムを得た。 The light-transmitting conductive film taken out from the drying oven is allowed to stand until it reaches room temperature, and then cut into a size of 45 mm in length and 45 mm in width, and a transparent adhesive film having a size of 40 mm in length and 40 mm in width (EW1502) -A1, manufactured by Eliere Texel Co., Ltd.) and attached to glass having a size of 50 mm length and 80 mm width and 1 mm thickness. Next, by the same etching method, a light transmissive conductive film having a size of 45 mm in length and 45 mm in width was obtained by patterning the ITO film into a grid pattern having a grid interval of 4 mm and a width of 1.5 mm.
ガラスに貼り付けられている光透過性導電性フィルムの上に、透明接着フィルム(EW1502−A1、エリエールテクセル社製)を介してITO膜が格子間隔4mmで1.5mm幅の格子模様にパターニングされた光透過性導電性フィルムを光透過性導電層側から貼り付けた。得られたガラス付きフィルムに白色灯、蛍光灯、LEDランプを光源とする光をそれぞれあてて反射像を観察し、歪みの有無を観察した。なお、評価基準は次のとおりとした。
○○ 白色灯、蛍光灯、及びLEDランプの光をそれぞれあてた時にいずれも骨見えなし
○ 白色灯及び蛍光灯の光をそれぞれあてた時にいずれも骨見えなし、LEDランプの光をあてた時に骨見えあり
△ 白色灯の光をあてた時に骨見えなし、蛍光灯及びLEDランプの光をそれぞれあてた時にいずれも骨見えあり
× 白色灯、蛍光灯、及びLEDランプの光をそれぞれあてた時にいずれも骨見えあり
On the light-transmitting conductive film attached to the glass, an ITO film is patterned into a 1.5 mm wide grid pattern with a grid spacing of 4 mm via a transparent adhesive film (EW1502-A1, manufactured by Eliere Techcel). The light transmissive conductive film was attached from the light transmissive conductive layer side. The resulting glass-coated film was irradiated with light using a white light, a fluorescent light, and an LED lamp as a light source, and the reflected image was observed to observe the presence or absence of distortion. The evaluation criteria were as follows.
○○ Bone is not visible when white light, fluorescent light, and LED lamp light is applied. ○ Bone is not visible when light from white light and fluorescent light is applied, and LED light is applied. Bone is visible △ Bone is not visible when the light from the white light is applied, Bone is visible when the light from the fluorescent light and the LED lamp is applied respectively × When the light from the white light, fluorescent light and the LED lamp is applied Both bones are visible
骨見え評価方法にて得られたガラス付きフィルムについて、次の試験を行った。
<ハードコート層の硬さの測定方法>
ナノインデンター(TI 950 Hysitron社製) を用い、23℃ 50%RHの環境下で 押し込みモードで、押し込み量50nm、押しこみ速度10nm/秒、の条件で、 探針(Berkovich probe TI−0039、 Hysitron社製)を用いて、実施例、および比較例で得られた光透過性導電性フィルムについて、光透過性導電層が配置される側を表側、その反対側を裏側として、表側はITOエッチング液で光透過性導電層を取り除いた面と、裏面それぞれの面について複合弾性率(GPa)を測定した。なお、表側の測定箇所はパターン形状を有する光透過性導電層ではなく、光透過性導電層が取り除かれた部分である。具体的な測定方法としては、一度表面に針を触れさせ距離を認識させ、5秒かけ表面から50nm持ち上げた。その後10秒かけ装置上100nm押し込み、押し込んだまま2秒保持しその後10nm/secの速度で針を抜いた。一連の操作により得た裏側の測定値から表側の測定値を引いた値を、「複合弾性率差」とした。
The following test was performed on the film with glass obtained by the bone appearance evaluation method.
<Measurement method of hardness of hard coat layer>
Using a nanoindenter (manufactured by TI 950 Hystron) in an indentation mode in an environment of 23 ° C. and 50% RH, under the conditions of an indentation amount of 50 nm and an indentation speed of 10 nm / sec, a probe (Berkovich probe TI-0039, Using the light-transmitting conductive films obtained in Examples and Comparative Examples, the side on which the light-transmitting conductive layer is disposed is the front side, the opposite side is the back side, and the front side is ITO etched. The composite elastic modulus (GPa) was measured for each of the surface from which the light-transmitting conductive layer was removed with the liquid and the back surface. In addition, the measurement location on the front side is not a light-transmitting conductive layer having a pattern shape but a portion where the light-transmitting conductive layer is removed. As a specific measuring method, the surface was once touched to recognize the distance and lifted from the surface by 50 nm over 5 seconds. Then, 100 nm was pushed on the apparatus over 10 seconds, held for 2 seconds while being pushed in, and then the needle was pulled out at a speed of 10 nm / sec. A value obtained by subtracting the measured value on the front side from the measured value on the back side obtained by a series of operations was defined as “composite modulus difference”.
実施例2〜14、比較例1〜8
ハードコート層を変え複合弾性率を表1に記載した硬さのハードコートに変えたこと以外は実施例1と同様にして光透過性導電性フィルムを作製した。なお、実施例4〜6、実施例10〜14、比較例1〜5ではスチレン系樹脂微粒子を含まない光反応性塗布液を用いてハードコート層を形成した。
Examples 2-14, Comparative Examples 1-8
A light-transmitting conductive film was produced in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer was changed and the composite elastic modulus was changed to a hard coat having the hardness shown in Table 1. In Examples 4 to 6, Examples 10 to 14, and Comparative Examples 1 to 5, a hard coat layer was formed using a photoreactive coating solution that did not contain styrenic resin fine particles.
表1(実施例)及び表2(比較例)に示した通り、特定の硬さのハードコート層を備えたハードコート付き支持フィルムを用いた光透過性導電性フィルムであることにより、エッチングされた光透過性導電性フィルムの光透過性導電性層の表面で反射する反射像の歪みを抑制できる。特に、裏側の複合弾性率から表側の複合弾性率を引いた値(表1及び2の「複合弾性率差」)の絶対値が10GPa以上である場合に、優れた骨見え改善効果がみられることが判った。 As shown in Table 1 (Example) and Table 2 (Comparative Example), it is etched by being a light-transmitting conductive film using a support film with a hard coat provided with a hard coat layer having a specific hardness. The distortion of the reflected image reflected on the surface of the light transmissive conductive layer of the light transmissive conductive film can be suppressed. In particular, when the absolute value of the value obtained by subtracting the composite elastic modulus on the front side from the composite elastic modulus on the back side (the “composite elastic modulus difference” in Tables 1 and 2) is 10 GPa or more, an excellent bone appearance improving effect is observed. I found out.
Claims (3)
(B)光透過性支持層;及び
(C)ハードコート層
が直接又は一以上の他の層を介してこの順に配置されている光透過性導電性フィルムであって、前記ハードコート層(C)の前記光透過性支持層(B)とは反対側の面と、光透過性導電層(A)をエッチング液で溶解させて取り除いた面との複合弾性率差の絶対値が
10GPa以上であることを特徴とする光透過性導電性フィルム。 (A) a light transmissive conductive layer;
(B) a light transmissive support layer; and (C) a light transmissive conductive film in which the hard coat layer is arranged in this order directly or via one or more other layers, wherein the hard coat layer (C ) Of the composite elastic modulus difference between the surface opposite to the light transmissive support layer (B) and the surface obtained by dissolving the light transmissive conductive layer (A) with an etching solution is 10 GPa or more. A light-transmitting conductive film characterized by being.
(D)光学干渉層
を含有し、前記光透過性導電層(A)が、少なくとも前記光学干渉層(D)を介して、前記光透過性支持層(B)の一方の面に配置されている、請求項1又は2に記載の光透過性導電性フィルム。 further,
(D) An optical interference layer is contained, and the light transmissive conductive layer (A) is disposed on one surface of the light transmissive support layer (B) through at least the optical interference layer (D). The light-transmitting conductive film according to claim 1 or 2.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016085948A JP6134419B1 (en) | 2016-04-22 | 2016-04-22 | Light transmissive conductive film and light transmissive film with hard coat |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016085948A JP6134419B1 (en) | 2016-04-22 | 2016-04-22 | Light transmissive conductive film and light transmissive film with hard coat |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6134419B1 true JP6134419B1 (en) | 2017-05-24 |
JP2017193142A JP2017193142A (en) | 2017-10-26 |
Family
ID=58745723
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016085948A Active JP6134419B1 (en) | 2016-04-22 | 2016-04-22 | Light transmissive conductive film and light transmissive film with hard coat |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6134419B1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110728083A (en) * | 2019-08-27 | 2020-01-24 | 西安电子科技大学 | Simulation analysis method of composite conductive film, electronic device and storage medium thereof |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005014572A (en) * | 2003-06-30 | 2005-01-20 | Teijin Ltd | Transparent and conductive laminate showing excellent edge push durability |
JP2005174665A (en) * | 2003-12-09 | 2005-06-30 | Sony Corp | Transparent conductive film and touch panel, and manufacturing method therefor |
JP2007042283A (en) * | 2003-10-08 | 2007-02-15 | Teijin Ltd | Transparent conductive lamination body and transparent touch panel |
JP2008041364A (en) * | 2006-08-03 | 2008-02-21 | Nitto Denko Corp | Transparent conductive laminate and touch panel equipped with it |
WO2008088059A1 (en) * | 2007-01-16 | 2008-07-24 | Teijin Limited | Transparent conductive multilayer body and touch panel made of the same |
JP2010002567A (en) * | 2008-06-19 | 2010-01-07 | Konica Minolta Business Technologies Inc | Intermediate transfer body |
JP2011175397A (en) * | 2010-02-24 | 2011-09-08 | Sony Corp | Electrode film, electrode film manufacturing method, and coordinate input device |
JP2011194587A (en) * | 2010-03-17 | 2011-10-06 | Konica Minolta Holdings Inc | Gas barrier film, method of manufacturing the same, organic photoelectric conversion element using the same, and solar cell |
JP2012022047A (en) * | 2010-07-12 | 2012-02-02 | Vision Development Co Ltd | Hard coat film including diamond fine particle containing silicon and/or fluorine |
JP2013169711A (en) * | 2012-02-21 | 2013-09-02 | Toyota Industries Corp | Resin laminate |
JP2014025061A (en) * | 2012-06-22 | 2014-02-06 | Jsr Corp | Hard coat film |
JP2014168938A (en) * | 2013-03-05 | 2014-09-18 | Kaneka Corp | Transparent laminate |
JP2015183168A (en) * | 2014-03-26 | 2015-10-22 | リンテック株式会社 | Hard coat film, transparent conductive film, and capacitive touch panel |
WO2015186694A1 (en) * | 2014-06-04 | 2015-12-10 | リンテック株式会社 | Gas barrier laminated body, method for producing same, member for electronic device, and electronic device |
-
2016
- 2016-04-22 JP JP2016085948A patent/JP6134419B1/en active Active
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005014572A (en) * | 2003-06-30 | 2005-01-20 | Teijin Ltd | Transparent and conductive laminate showing excellent edge push durability |
JP2007042283A (en) * | 2003-10-08 | 2007-02-15 | Teijin Ltd | Transparent conductive lamination body and transparent touch panel |
JP2005174665A (en) * | 2003-12-09 | 2005-06-30 | Sony Corp | Transparent conductive film and touch panel, and manufacturing method therefor |
JP2008041364A (en) * | 2006-08-03 | 2008-02-21 | Nitto Denko Corp | Transparent conductive laminate and touch panel equipped with it |
WO2008088059A1 (en) * | 2007-01-16 | 2008-07-24 | Teijin Limited | Transparent conductive multilayer body and touch panel made of the same |
JP2010002567A (en) * | 2008-06-19 | 2010-01-07 | Konica Minolta Business Technologies Inc | Intermediate transfer body |
JP2011175397A (en) * | 2010-02-24 | 2011-09-08 | Sony Corp | Electrode film, electrode film manufacturing method, and coordinate input device |
JP2011194587A (en) * | 2010-03-17 | 2011-10-06 | Konica Minolta Holdings Inc | Gas barrier film, method of manufacturing the same, organic photoelectric conversion element using the same, and solar cell |
JP2012022047A (en) * | 2010-07-12 | 2012-02-02 | Vision Development Co Ltd | Hard coat film including diamond fine particle containing silicon and/or fluorine |
JP2013169711A (en) * | 2012-02-21 | 2013-09-02 | Toyota Industries Corp | Resin laminate |
JP2014025061A (en) * | 2012-06-22 | 2014-02-06 | Jsr Corp | Hard coat film |
JP2014168938A (en) * | 2013-03-05 | 2014-09-18 | Kaneka Corp | Transparent laminate |
JP2015183168A (en) * | 2014-03-26 | 2015-10-22 | リンテック株式会社 | Hard coat film, transparent conductive film, and capacitive touch panel |
WO2015186694A1 (en) * | 2014-06-04 | 2015-12-10 | リンテック株式会社 | Gas barrier laminated body, method for producing same, member for electronic device, and electronic device |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110728083A (en) * | 2019-08-27 | 2020-01-24 | 西安电子科技大学 | Simulation analysis method of composite conductive film, electronic device and storage medium thereof |
CN110728083B (en) * | 2019-08-27 | 2021-05-18 | 西安电子科技大学 | Simulation analysis method of composite conductive film, electronic device and storage medium thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017193142A (en) | 2017-10-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN107004463B (en) | Transparent conductive film and touch sensor using same | |
JP5425351B1 (en) | Light transmissive conductive film, method for producing the same, and use thereof | |
JP6577886B2 (en) | Light transmissive conductive film, film roll thereof, and touch panel having the same | |
JP5651259B2 (en) | LAMINATED FILM, FILM ROLL THEREOF, LIGHT TRANSMITTING CONDUCTIVE FILM OBTAINED FROM THE SAME, AND TOUCH PANEL USING THE SAME | |
JP5767744B1 (en) | Light transmissive conductive film and touch panel having the same | |
JP5986981B2 (en) | Light transmissive conductive film and capacitive touch panel having the same | |
JP5876892B2 (en) | LAMINATED FILM, FILM ROLL THEREOF, LIGHT TRANSMITTING CONDUCTIVE FILM OBTAINED FROM THE SAME | |
JP6134419B1 (en) | Light transmissive conductive film and light transmissive film with hard coat | |
JP6666688B2 (en) | Light transmitting conductive film and light transmitting film with hard coat | |
JP6637286B2 (en) | Light transmitting conductive film and light transmitting film with hard coat | |
JP2015230510A (en) | Touch panel sensor substrate, touch panel sensor and display device | |
JP5987045B2 (en) | Light transmissive conductive film, method for producing the same, and use thereof | |
JP6397203B2 (en) | Conductive film, method for producing the same, and touch panel containing the same | |
JP2016150578A (en) | Light transmitting conductive film, method for production thereof and use thereof | |
JP5564145B1 (en) | Light transmissive conductive film, method for producing the same, and use thereof | |
JP5845332B1 (en) | Light transmissive conductive film and evaluation method thereof | |
JP2014186279A (en) | Light-transmitting conductive film and touch panel having the same | |
JP6475461B2 (en) | Light transmissive conductive film | |
JP6687389B2 (en) | Light-transmissive conductive film, manufacturing method thereof and use thereof | |
JP2015075655A (en) | Light-transmitting conductive film | |
JP2016182814A (en) | Light-transmitting conductive film and evaluation method of the same | |
JP2015061745A (en) | Light transmitting conductive film, manufacturing method thereof, and use thereof | |
JP2014041567A (en) | Light transmissive film for electromagnetic wave shield, manufacturing method of the same, and touch panel with display device including the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170411 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170421 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6134419 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |