JP6685553B2 - 光応答計測装置および光応答計測方法 - Google Patents
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Description
1−1.DFG(差周波生成)を採用する場合
1−1−1.装置の全体構造
まず、本発明の実施形態における一例の装置の全体構成を概説する。装置の全体の構成や動作の概略を説明するために、まず光の対を利用して差周波発生(DFG)による波長変換を利用して計測光を生成する構成を中心に説明する。図1は本発明の実施形態の一例の光応答計測装置100の概略構成を示す模式図である。光応答計測装置100は、大別して、測定対象物50に対して計測光LMを照射する照射系120と、計測光が照射された測定対象物50から得られる検出光LSを受光する受光系160とにより構成される。照射系120は、2波長(第1波長、第2波長)の光を生成する光源122、および波長変換素子(第1波長変換素子126)を備えている。また、受光系160は、別の波長変換素子(第2波長変換素子164)、およびセンサーアレイ(光強度センサーアレイ)168を備えている。必要に応じ、テレスコープ光学系124および162の少なくともいずれかを照射系120および受光系160のいずれかまたはその両方に配置して、ビームサイズの調整といった実施上の変形が行なわれる場合もある。また、適宜にミラー142、誘電体多層膜ミラー144を配置して、計測に適する光路が実現されている。受光系160には、必要に応じ検出光カットフィルター166も配置される。
次に、光応答計測装置100を利用して計測が実施される際の物理現象を、時間の進行順に説明する。図2は、光応答計測装置100を利用して実現される一例の光応答計測方法における現象の推移または操作を示すフローチャートである。図1も引き続き参照して説明する。まず光源122において、光の対LPが生成される(S102)。次に、この光の対LPが第1波長変換素子126に入射され、計測光LMが生成される(S104)。この計測光LMは、第1波長変換素子126の内部で非線形波長変換(例えば差周波生成)により生成される。この際、光の対LPの位相を引き継いでいる光が参照光LRとされる。図1では光の対LPのうち第1波長変換素子126を通り抜けたものが参照光LRとして描かれている。
図1に示した残りの光学素子はこのような現象を適切に生じさせるように適宜配置される。参照光LRが第1波長変換素子126を通過した後の光の対である場合には、図1に示したミラー142、誘電体多層膜ミラー144が利用される。具体的には、第1波長変換素子126からの参照光LRを第2波長変換素子164に導くようにミラー142を配置する。また、誘電体多層膜ミラー144は、参照光LRの光軸と検出光LSの光軸とを一致させながら検出光LSを第2波長変換素子164に導くように配置する。これらミラーの有無や、使用する場合の反射・透過特性や配置は、実際の光路構成に適合させ、参照光LR、計測光LM、検出光LSの波長に応じて選択することができる。同様に、検出光カットフィルター166も配置される。検出光カットフィルター166の特性は、それを透過して漏れる検出光LSの強度や、センサーアレイ168が検出光により受ける影響に応じて、変調済み参照光LDの波長や検出光LSの波長に適合するように調整される。例えば、センサーアレイ168が検出光LSに対して感度をもたないものであるなら、検出光カットフィルター166は不要である。
上述した構造の光応答計測装置100により上述した光応答計測方法を実施し、センサーアレイ168で検出される強度情報を適切に処理すれば、測定対象物50の断層画像を得ることができる。その画像化可能な領域の範囲は、計測光LMが照射される照射範囲Sかつ計測光LMが到達する奥行き方向の深さ限界の範囲のうち、計測光LMとの間でのコヒーレンスを失わない検出光LSが得られるような領域となる。そしてセンサーアレイ168が1次元センサーアレイや2次元センサーアレイなどの異なる位置の光強度を並行して取得しうるセンサーアレイであれば、測定対象物50の照射範囲Sのうちの異なる照射部位おける強度および位相を、スキャンに頼ることなく取得することができる。
次に、測定原理を詳述する。引き続き、差周波発生(DFG)を原理として動作する構成に基づいて説明する。まず、第2波長変換素子164において生じる現象に着目する。第2波長変換素子164に入力される光は、検出光LSと参照光LRである(図1)。これらのうち、参照光LRは光の対LPの一部である。図1では、第1波長変換素子126において計測光LMに変換されず通り抜けた光の対を参照光LRとして利用している。検出光LSと参照光LRは、典型的な動作においては、同一方向で第2波長変換素子164に入射するように光軸が互いに一致させられており、検出光LSの断面の範囲をカバーするように参照光LRの断面の広がりが必要に応じ調整される(断面の範囲について、図示しない)。
第2波長変換素子164と、参照光LRおよび検出光LSのそれぞれの波長との典型的な関係は、コリニア位相整合条件を満たすような関係とされている。この場合、測定対象物50の照射範囲Sに含まれる異なる照射部位からの検出光LSに起因するセンサーアレイ168で測定される強度は、相互に影響を及ぼさず独立して得られる。この点を図3を用いて説明する。
次に、強度測定の対象である変調済み参照光LDについて説明する。図4は本実施形態において参照光LRと検出光LSとを受けた第2波長変換素子164の作用を示す模式図である。第1照射部位RAと第2照射部位RBとの光応答を反映した検出光LSと参照光LRとが第2波長変換素子164に入射しその媒質中で位相整合条件が満たされると、第2波長変換素子164では非線形波長変換が生じる。この際の参照光LRに対する非線形波長変換の作用の程度には、検出光LSの光電界と位相が関与する。
第2波長変換素子164において波長変換のような動作を実現するためには、検出光LSと参照光LRとの間、つまり、検出光を与えるために測定対象物50に照射する計測光と、参照光LRを与える光の対との間において所定の関係が成立していなくてはならない。再び図1を参照しその点について説明する。第1波長変換素子126は、第1波長の光および第2波長の光からなる光の対LPから、差周波生成により計測光LMを生成する。この際、生成される計測光LMの位相は、第1波長の光の位相と第2波長の光の位相とによって決定される。具体的には、計測光LMの位相は、第1波長の光の位相に対してある所定の関係をもち、第2波長の光の位相に対しても、別の所定の条件を満たすこととなる。ここで、波長や周波数が異なる複数の光波の間で位相がある所定の関係をもつとは、一方の光波がある位相分だけ振動する間に他方の光波が別の位相分だけ振動する連続的かつ線形の位相関係が保たれていることをいう。このような定義では、計測光と第1波長の光とがある所定の関係を保ちつつ、計測光と第2波長の光が別の所定の関係をもつことは可能である。
本発明の別の実施形態では、上述したDFGを利用する場合とは異なる非線形光学現象であるOPG(光パラメトリック生成)を採用することにより、上述した動作に準じた動作を実現することもできる。OPGを利用する実施形態の光応答計測装置の構成や動作も図1〜図5に基づいて同様に説明できるため、ここでは1−1の欄における説明とは相異する部分のみを中心に説明する。OPGを利用する実施形態での光源は1つの波長(第1波長)のレーザーとされ、その光(符号LP)はポンプ光として第1波長変換素子126に入射させる。第1波長変換素子126は、ポンプ光から二つの波長を光パラメトリック生成により発生させる材質のものが選択される。第1波長変換素子126でのOPGの動作により生成される光は2つの波長の光であり、非線形光学分野では、信号光およびアイドラー光と呼ばれる。これらのうちの信号光が計測光LM(図1)として使用され、アイドラー光は、ポンプ光の一部とともに参照光LRのために使用される。計測光LMの波長とアイドラー光の波長は、動作原理上は第1波長変換素子126のOPGの動作により決定され、応用上は計測光LMの波長による計測に適する波長(計測波長)になるように選択される。
上述したDFGやOPGは本実施形態に適用されうる現象のうちの典型的な例であり、これらに類似の非線形光学現象を本発明のいずれかの実施形態に適用することができる。本発明の実施形態の一つとして採用することができる一例が、OPGの一種である光注入型パラメトリック生成(injection seeded OPG)と呼ばれる現象である。この光注入型パラメトリック生成では、2つの波長の光が第1波長変換素子126に入力されるため、動作は上述したDFG(差周波生成)を採用する場合と類似の動作となる。本発明の実施形態の一つとして採用することができる別例は、光パラメトリック増幅(OPA)と呼ばれる現象である。OPAは、上述したDFGと同一の動作を、生成する第3の波長の光に着目して呼称するものともいえる。このOPAと呼ぶのは、同時に入れた第2波長(第1波長より長波長のもの)を増幅する動作である、と現象を認識する場合である。光パラメトリック増幅(OPA)と呼ぶ現象は、上述したDFGを採用する実施形態の通りの動作により説明される。
本発明の実施形態の手法は、上述した第2波長変換素子164における作用を実現し、また、そのために第1波長変換素子126にて必要な計測光を生成できる限り、原理的に実施可能である。図6は、本発明の実施形態の光応答計測に使用される代表的な光の対の波長および非線形光学結晶の組合せと、各組み合わせにおいて生成される計測光の波長範囲(周波数範囲)を例示する説明図である。図6に図形的に示した関係は、第1波長変換素子126の材質毎に、光の対の第1波長および第2波長の帯域の組合せとして具体的数値をまとめると表1のようになる。
本発明の各実施形態では、測定対象物50における被検出特徴部Fの形状や位置が位相として測定される。この際、測定対象物50の照射範囲Sのうちの第1照射部位RAと第2照射部位RBとのそれぞれで得られる検出光LSの位相つまり第1位相および第2位相には、それぞれにおける測定対象物50の被検出特徴部Fなど、測定対象物50の内部の侵入方向における構造、特に局所的な内部構造が反映される。このため、第1位相および第2位相を反映した変調済み参照光LDにおける第1強度および第2強度をセンサーアレイ168により測定すれば、スキャンを利用することなく、測定対象物50の内部の被検出特徴部Fにおける微小部分FAとFBとを、並行して測定することができる。
次に本発明の実施形態の光応答の計測手法を利用して断層画像を取得する適用において、周波数スイープによる手法について説明する。本発明の実施形態で測定対象物50内部での断層情報を取得する上で、検出光の波長すなわち周波数をスイープ(掃引)して変調することが有用である。断層情報を取得するために従来のOCTにおいて採用されているSS−OCTに類似した周波数のスイープを検出光LSで生じされば、断層情報を取得することができる。本発明の実施形態において周波数をスイープさせた計測光LMを照射すれば、変調済み参照光LDの強度として、測定対象物50からの検出光LSを異なる波長の計測光LMに基づく測定対象物50からの検出光LSよるものを時間に対応させながらて多数取得することができる。この多数取得した強度からは、フーリエ変換を利用して断層情報が容易に算出される。
120 照射系
122 光源
124 テレスコープ光学系
126 第1波長変換素子
128 変調制御部
142 ミラー
144 誘電体多層膜ミラー
160 受光系
162 テレスコープ光学系
164 第2波長変換素子
166 検出光カットフィルター
168 センサーアレイ
50 測定対象物
LP 光の対またはポンプ光
LR 参照光
LM 計測光
LS、LS_A、LS_B 検出光
LD、LD_A、LD_B 変調済み参照光
F 被検出特徴部
FA、FB 被検出特徴部の微小部分
RA、RB、RC 第1照射部位、第2照射部位、第3照射部位
EA、EB 第2波長変換素子の領域
PA、PB、PC センサー画素
S 照射範囲
Claims (8)
- 第1波長の光および第2波長の光をもつ光の対を生成する光源と、
該光の対が入射され、入射した該光の対との間での位相が維持された計測波長の計測光を生成する第1波長変換素子と、
前記計測光が照射された測定対象物の照射範囲から得た検出光が入射され、前記光の対の位相を該測定対象物の影響を受けることなく引き継いでいる参照光と該検出光に含まれ位相が決定されるべき光とが入射されると変調済み参照光を生成する、該測定対象物から離して配置されている第2波長変換素子と、ここで、前記検出光は、前記照射範囲に含まれる第1照射部位と第2照射部位とにおける前記測定対象物の前記計測光に対する応答を反映する第1位相および第2位相をもっており、前記変調済み参照光は、前記検出光の前記第1位相および前記第2位相のそれぞれに応じて第1の部分的強度および第2の部分的強度が変調されており、前記検出光に含まれ位相が決定されるべき光および前記参照光は、前記変調済み参照光を生成するために、前記第2波長変換素子の内部において前記検出光に含まれ位相が決定されるべき光および前記参照光の間でコリニア位相整合条件が満たされるように互いに位置合せされながら前記第2波長変換素子に入射されるものであり、
前記変調済み参照光が入射され、前記検出光の前記第1位相および前記第2位相それぞれに対応する該変調済み参照光の前記第1の部分的強度および第2の部分的強度を測定するための光強度センサーアレイと
を備えてなる測定対象物の光応答計測装置。 - 前記検出光は、前記測定対象物に入射する前記測定光の反射方向にて受光されるものである、請求項1に記載の測定対象物の光応答計測装置。
- 前記光強度センサーアレイが2次元センサーアレイであり、
前記測定対象物の前記照射範囲が、前記第1照射部位および前記第2照射部位とともに2次元の面をなす第3照射部位を含んでおり、
前記検出光は、該第3照射部位における前記測定対象物の前記計測光に対する応答を反映する第3位相をさらにもっており、
前記変調済み参照光は、前記検出光の前記第3位相にさらに応じて第3の部分的強度が変調されており、
前記光強度センサーアレイが、前記参照光の前記第3の部分的強度を、前記第1の部分的強度および前記第2の部分的強度とともに測定するものであり、
前記照射範囲に含まれる前記測定対象物を対象とする測定をスキャンを伴わずに実行する、請求項1に記載の測定対象物の光応答計測装置。 - 前記第1波長および第2波長の少なくともいずれかの波長を変調する変調制御部をさらに備え、
これにより、前記計測光の波長が変調されて光応答が計測される、請求項1に記載の測定対象物の光応答計測装置。 - 第1波長の光および第2波長の光をもつ光の対を生成するステップと、
該光の対を第1波長変換素子に入射させることにより、該光の対との間での位相が維持された計測波長の計測光を生成するステップと、
測定対象物のある照射範囲に前記計測光を照射し、該照射範囲に含まれる第1照射部位と第2照射部位とにおける該測定対象物の該計測光に対する応答を反映する第1位相および第2位相をもつ検出光を得るステップと、
前記光の対の位相を該測定対象物の影響を受けることなく引き継いでいる参照光と前記検出光とを該測定対象物から離して配置されている第2波長変換素子に入射させ、前記検出光に含まれ位相が決定されるべき光と前記参照光とを該第2波長変換素子に作用させることにより、前記検出光の前記第1位相および前記第2位相のそれぞれに応じて第1の部分的強度および第2の部分的強度が変調された変調済み参照光を得るステップと、ここで前記検出光に含まれ位相が決定されるべき光および前記参照光は、前記変調済み参照光を生成するために、前記第2波長変換素子の内部において前記検出光に含まれ位相が決定されるべき光および前記参照光の間でコリニア位相整合条件が満たされるように互いに位置合せされながら前記第2波長変換素子に入射されるものであり、
該変調済み参照光を光強度センサーアレイに入射させることにより、前記検出光の前記第1位相および前記第2位相それぞれに対応する該変調済み参照光における前記第1の部分的強度および第2の部分的強度を測定するステップと
を含む測定対象物の光応答計測方法。 - 前記検出光は、前記測定対象物に入射する前記測定光の反射方向にて受光されるものである、請求項5に記載の測定対象物の光応答計測方法。
- 前記光強度センサーアレイが2次元センサーアレイであり、
前記測定対象物の前記照射範囲が、前記第1照射部位および前記第2照射部位とともに2次元の面をなす第3照射部位を含んでおり、
前記検出光は、該第3照射部位における前記測定対象物の前記計測光に対する応答を反映する第3位相をさらにもっており、
前記変調済み参照光は、前記検出光の前記第3位相にさらに応じて第3の部分的強度が変調されており、
前記光強度センサーアレイにより、前記参照光の前記第3の部分的強度が、前記第1の部分的強度および前記第2の部分的強度とともに測定され、
前記照射範囲に含まれる前記測定対象物を対象とする測定がスキャンを伴わずに実行される、請求項5に記載の測定対象物の光応答計測方法。 - 前記第1波長および第2波長の少なくともいずれかの波長を変調するステップをさらに含み、
これにより、前記計測光の波長が変調されて光応答が計測される、請求項5に記載の測定対象物の光応答計測方法。
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