JP6139327B2 - テラヘルツ波分光測定装置及び方法、非線形光学結晶の検査装置及び方法 - Google Patents
テラヘルツ波分光測定装置及び方法、非線形光学結晶の検査装置及び方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6139327B2 JP6139327B2 JP2013168673A JP2013168673A JP6139327B2 JP 6139327 B2 JP6139327 B2 JP 6139327B2 JP 2013168673 A JP2013168673 A JP 2013168673A JP 2013168673 A JP2013168673 A JP 2013168673A JP 6139327 B2 JP6139327 B2 JP 6139327B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- terahertz wave
- measurement
- intensity
- optical crystal
- detected
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 187
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims description 137
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 70
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims description 21
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 title claims description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 243
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 49
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000010408 sweeping Methods 0.000 claims description 4
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 40
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 23
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 18
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 8
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 5
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000010206 sensitivity analysis Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
- G01J3/027—Control of working procedures of a spectrometer; Failure detection; Bandwidth calculation
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/28—Investigating the spectrum
- G01J3/42—Absorption spectrometry; Double beam spectrometry; Flicker spectrometry; Reflection spectrometry
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/35—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
- G01N21/3581—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light using far infrared light; using Terahertz radiation
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
- G01N21/636—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited using an arrangement of pump beam and probe beam; using the measurement of optical non-linear properties
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2203/00—Function characteristic
- G02F2203/13—Function characteristic involving THZ radiation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Description
(a)励起光の出力値のゆらぎ
(b)非線形光学結晶12中に含まれる結晶構造の部分的乱れ、結晶構造の転位や格子欠陥
(c)励起光を照射した際に、非線形光学結晶12内に生じる熱レンズ効果
(d)励起光の出力値の揺らぎによる、励起光の照射時間の経過に伴って非線形光学結晶12内に溜まる熱量の変化
THz測定値の強度補正式=T/S (1)
ここで、T及びSは同時に測定された測定値である。
ベースライン補正式=(T/S)/(TB/SB) (2)
ここで、SBはベースラインTHz測定値TBと同時に測定されたベースラインSHG測定値である。なお、(2)式の補正式は一例であり、(T/TB)×(SB/S)等適宜変更した形で用いてもよい。
12 非線形光学結晶
14 励起光光源
16 フィルタ
18 測定ステージ
20 THz検出器
22 SHG検出器
24 制御部
26 表示操作部
Claims (11)
- 固有の非線形係数を有し、入射された異なる2波長の光から前記非線形係数に応じた和周波発生または差周波発生によるテラヘルツ波と、前記異なる2波長の光の各々が前記非線形係数に応じて波長変換された光高調波の各々とを発生する非線形光学結晶と、
前記非線形光学結晶から発生されたテラヘルツ波を直接、または該テラヘルツ波が照射された測定対象を透過または反射した測定テラヘルツ波を検出する第1検出手段と、
前記非線形光学結晶から発生された、前記異なる2波長の光の各々の第2高調波または第3高調波を検出する第2検出手段と、
前記第1検出手段により検出された測定テラヘルツ波の強度を、前記第2検出手段により検出された第2高調波または第3高調波の強度に基づいて補正した測定値を得る測定手段と、
を含むテラヘルツ波分光測定装置。 - 前記測定手段は、前記第1検出手段により直接検出されたテラヘルツ波をベースラインテラヘルツ波として取得し、該ベースラインテラヘルツ波と同時に検出された前記第2高調波または前記第3高調波をベースライン光高調波として取得し、該ベースラインテラヘルツ波、該ベースライン光高調波、前記測定テラヘルツ波、及び該測定テラヘルツ波と同時に検出された前記第2高調波または前記第3高調波の関係に基づいて、前記補正した測定値を得る請求項1記載のテラヘルツ波分光測定装置。
- 前記測定手段は、前記非線形光学結晶から発生されるテラヘルツ波を周波数掃引しながら前記測定対象に照射することにより検出された前記測定テラヘルツ波、または前記非線形光学結晶から発生される特定周波数のテラヘルツ波を前記測定対象に照射することにより検出された前記測定テラヘルツ波を用いて、前記測定値を得る請求項1または請求項2記載のテラヘルツ波分光測定装置。
- 固有の非線形係数を有し、入射された異なる2波長の光から前記非線形係数に応じた和周波発生または差周波発生によるテラヘルツ波と、前記異なる2波長の光の各々が前記非線形係数に応じて波長変換された光高調波の各々とを発生する非線形光学結晶と、
前記非線形光学結晶から発生されたテラヘルツ波を直接、または該テラヘルツ波が照射された測定対象を透過または反射した測定テラヘルツ波を検出する第1検出手段と、
前記非線形光学結晶から発生された光高調波の少なくとも一方を検出する第2検出手段と、
前記第1検出手段により検出された測定テラヘルツ波の強度を、前記第2検出手段により検出された光高調波の少なくとも一方の強度に基づいて補正した測定値を得る測定手段と、
前記第1検出手段により検出された測定テラヘルツ波の強度と前記第2検出手段により検出された光高調波の少なくとも一方の強度との相関に基づいて、前記非線形光学結晶の損傷の有無を判定する判定手段と、
を含むテラヘルツ波分光測定装置。 - 前記判定手段は、前記第1検出手段により検出された測定テラヘルツ波の強度と前記第2検出手段により検出された光高調波の少なくとも一方の強度との相関係数の絶対値または決定係数が、予め定めた閾値より小さい場合に、前記非線形光学結晶に損傷が生じていると判定する請求項4記載のテラヘルツ波分光測定装置。
- 前記判定手段は、前記第1検出手段により検出された測定テラヘルツ波の強度と前記第2検出手段により検出された光高調波の少なくとも一方の強度との相関係数の絶対値または決定係数と、正常な状態の非線形光学結晶を用いて得られた相関係数の絶対値または決定係数との差分が、予め定めた閾値より大きい場合に、前記非線形光学結晶に損傷が生じていると判定する請求項4記載のテラヘルツ波分光測定装置。
- 前記測定手段は、前記第1検出手段により直接検出されたテラヘルツ波をベースラインテラヘルツ波として取得し、該ベースラインテラヘルツ波と同時に検出された光高調波をベースライン光高調波として取得し、該ベースラインテラヘルツ波、該ベースライン光高調波、前記測定テラヘルツ波、及び該測定テラヘルツ波と同時に検出された前記光高調波の関係に基づいて、前記補正した測定値を得る請求項4〜請求項6のいずれか1項記載のテラヘルツ波分光測定装置。
- 前記第1検出手段により検出された測定テラヘルツ波の強度及び前記第2検出手段により検出された第2高調波または第3高調波の強度のいずれか一方の強度と、正常な状態の非線形光学結晶を用いて得られた測定テラヘルツ波の強度と前記第2高調波または前記第3高調波の強度との関係式とに基づいて得られた他方の強度を示す計算値と、検出された前記他方の強度との差分が、予め定めた閾値より大きい場合に、前記非線形光学結晶に損傷が生じていると判定する判定手段を含む請求項1〜請求項3のいずれか1項記載のテラヘルツ波分光測定装置。
- 固有の非線形係数を有し、入射された異なる2波長の光から前記非線形係数に応じた和周波発生または差周波発生によるテラヘルツ波と、前記異なる2波長の光の各々が前記非線形係数に応じて波長変換された光高調波の各々とを発生する非線形光学結晶から発生されたテラヘルツ波が照射された測定対象を透過または反射した測定テラヘルツ波を検出し、
前記非線形光学結晶から発生された、前記異なる2波長の光の各々の第2高調波または第3高調波を検出し、
検出された測定テラヘルツ波の強度を、検出された第2高調波または第3高調波の強度に基づいて補正した測定値を得る
テラヘルツ波分光測定方法。 - 固有の非線形係数を有し、入射された異なる2波長の光から前記非線形係数に応じた和周波発生または差周波発生によるテラヘルツ波と、前記異なる2波長の光の各々が前記非線形係数に応じて波長変換された光高調波の各々とを発生する非線形光学結晶と、
前記非線形光学結晶から発生されたテラヘルツ波を直接、または該テラヘルツ波が照射された測定対象を透過または反射した測定テラヘルツ波を検出する第1検出手段と、
前記非線形光学結晶から発生された光高調波の少なくとも一方を検出する第2検出手段と、
前記第1検出手段により検出された測定テラヘルツ波の強度と前記第2検出手段により検出された光高調波の少なくとも一方の強度との相関に基づいて、前記非線形光学結晶の損傷の有無を判定する判定手段と、
を含む非線形光学結晶の検査装置。 - 固有の非線形係数を有し、入射された異なる2波長の光から前記非線形係数に応じた和周波発生または差周波発生によるテラヘルツ波と、前記異なる2波長の光の各々が前記非線形係数に応じて波長変換された光高調波の各々とを発生する非線形光学結晶から発生されたテラヘルツ波が照射された測定対象を透過または反射した測定テラヘルツ波を検出し、
前記非線形光学結晶から発生された光高調波の少なくとも一方を検出し、
検出された前記測定テラヘルツ波の強度と検出された前記光高調波の少なくとも一方の強度との相関に基づいて、前記非線形光学結晶の損傷の有無を判定する
非線形光学結晶の検査方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013168673A JP6139327B2 (ja) | 2012-08-30 | 2013-08-14 | テラヘルツ波分光測定装置及び方法、非線形光学結晶の検査装置及び方法 |
US13/975,502 US9091665B2 (en) | 2012-08-30 | 2013-08-26 | Terahertz spectrometry device and method, and nonlinear optical crystal inspection device and method |
EP20130182090 EP2703793B1 (en) | 2012-08-30 | 2013-08-28 | Terahertz spectrometry device and method, and nonlinear optical crystal inspection device and method |
CN201310384997.0A CN103674245B (zh) | 2012-08-30 | 2013-08-29 | 太赫兹光谱测定装置及方法和非线性光学晶体检查装置及方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012190276 | 2012-08-30 | ||
JP2012190276 | 2012-08-30 | ||
JP2013168673A JP6139327B2 (ja) | 2012-08-30 | 2013-08-14 | テラヘルツ波分光測定装置及び方法、非線形光学結晶の検査装置及び方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014062892A JP2014062892A (ja) | 2014-04-10 |
JP6139327B2 true JP6139327B2 (ja) | 2017-05-31 |
Family
ID=49035475
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013168673A Active JP6139327B2 (ja) | 2012-08-30 | 2013-08-14 | テラヘルツ波分光測定装置及び方法、非線形光学結晶の検査装置及び方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9091665B2 (ja) |
EP (1) | EP2703793B1 (ja) |
JP (1) | JP6139327B2 (ja) |
CN (1) | CN103674245B (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102132511B1 (ko) * | 2013-12-04 | 2020-07-09 | 마이크로테크 인스트러먼츠, 인크. | 테라헤르츠 이미지의 고-대비, 근-실시간 습득을 위한 시스템 및 방법 |
JP6333676B2 (ja) * | 2014-09-02 | 2018-05-30 | 浜松ホトニクス株式会社 | 非線形光学結晶及びその製造方法、テラヘルツ波発生装置並びにテラヘルツ波測定装置。 |
EP3206014B1 (en) * | 2014-10-08 | 2020-02-26 | Riken | Optical response measuring device and optical response measuring method |
US9557267B2 (en) * | 2014-10-22 | 2017-01-31 | The Boeing Company | Terahertz imaging via simultaneous surface and sub-surface evaluation via non-linear optical response |
US9557263B2 (en) * | 2014-10-22 | 2017-01-31 | The Boeing Company | Terahertz material evaluation and characterization via material difference frequency generation |
WO2016208048A1 (ja) * | 2015-06-26 | 2016-12-29 | 株式会社日立製作所 | 気体分析装置 |
JP6742527B2 (ja) * | 2017-08-22 | 2020-08-19 | 株式会社日立ハイテク | 遠赤外分光装置、および遠赤外分光方法 |
CN109142266B (zh) * | 2018-07-05 | 2021-11-30 | 中国工程物理研究院电子工程研究所 | 一种太赫兹精细谱探测仪 |
CN110743104B (zh) * | 2019-10-28 | 2023-03-17 | 鲍玉珍 | 太赫兹波理疗终端、用于宫颈癌的太赫兹波理疗系统 |
CN112902835A (zh) * | 2019-12-04 | 2021-06-04 | 阳程科技股份有限公司 | 光学对位检测装置及其检测方法 |
CN114910565B (zh) * | 2022-07-19 | 2022-09-27 | 天津市特种设备监督检验技术研究院(天津市特种设备事故应急调查处理中心) | 一种非线性超声检测中相对非线性系数的修正方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0529695A (ja) | 1991-07-23 | 1993-02-05 | Nippon Steel Corp | レーザ装置 |
GB2360842B (en) | 2000-03-31 | 2002-06-26 | Toshiba Res Europ Ltd | An apparatus and method for investigating a sample |
JP4296070B2 (ja) * | 2003-10-01 | 2009-07-15 | 浜松ホトニクス株式会社 | 位相特性測定装置 |
US7259859B2 (en) * | 2004-01-23 | 2007-08-21 | Hrl Laboratories, Llc | Terahertz modulation spectrometer |
US7605371B2 (en) * | 2005-03-01 | 2009-10-20 | Osaka University | High-resolution high-speed terahertz spectrometer |
WO2007121598A1 (en) * | 2006-04-21 | 2007-11-01 | Eth Zurich | Broadband terahertz radiation generation and detection system and method |
CN101730961A (zh) * | 2007-03-16 | 2010-06-09 | 哈佛大学 | 用于产生太赫兹辐射的方法和设备 |
JP2008268162A (ja) * | 2007-04-18 | 2008-11-06 | Terahertz Laboratory Co | 周波数掃引式テラヘルツスペクトル測定装置 |
JP4996428B2 (ja) * | 2007-11-16 | 2012-08-08 | 独立行政法人理化学研究所 | 薄切片試料の含有水分量測定装置および方法 |
KR20100106392A (ko) * | 2007-12-12 | 2010-10-01 | 고리츠다이가쿠호징 오사카후리츠다이가쿠 | 복합 포토닉 구조 소자, 이 복합 포토닉 구조 소자를 이용한 면 발광 레이저, 파장 변환 소자, 이 파장 변환 소자를 구비한 레이저 가공 장치 |
JP5407794B2 (ja) * | 2009-11-19 | 2014-02-05 | 日本電気株式会社 | テラヘルツ光を用いた物質成分の解析装置及びテラヘルツ光を用いた物質成分の解析方法 |
JP2012068621A (ja) * | 2010-08-24 | 2012-04-05 | Canon Inc | テラヘルツ波発生素子、テラヘルツ波検出素子、及びテラヘルツ時間領域分光装置 |
-
2013
- 2013-08-14 JP JP2013168673A patent/JP6139327B2/ja active Active
- 2013-08-26 US US13/975,502 patent/US9091665B2/en active Active
- 2013-08-28 EP EP20130182090 patent/EP2703793B1/en active Active
- 2013-08-29 CN CN201310384997.0A patent/CN103674245B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014062892A (ja) | 2014-04-10 |
CN103674245B (zh) | 2017-03-01 |
US9091665B2 (en) | 2015-07-28 |
CN103674245A (zh) | 2014-03-26 |
EP2703793A1 (en) | 2014-03-05 |
US20140061474A1 (en) | 2014-03-06 |
EP2703793B1 (en) | 2015-03-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6139327B2 (ja) | テラヘルツ波分光測定装置及び方法、非線形光学結晶の検査装置及び方法 | |
JP5983779B2 (ja) | ガス吸収分光装置及びガス吸収分光方法 | |
US8233150B2 (en) | Sample concentration detector with temperature compensation | |
CN110376125B (zh) | 一种瞬态吸收光谱测量系统和方法 | |
JP5357531B2 (ja) | 情報取得装置及び情報取得方法 | |
US20090027677A1 (en) | Method and gas sensor for performing quartz-enhanced photoacoustic spectroscopy | |
US9012833B2 (en) | Terahertz wave measuring apparatus and measurement method | |
CN108226064B (zh) | 分析装置、计算机可读存储介质和分析方法 | |
US7583369B2 (en) | Fluorescence spectrophotometer | |
JP7135608B2 (ja) | ガス吸収分光装置、及びガス吸収分光方法 | |
US8891085B2 (en) | Gas analyzer | |
US8097859B2 (en) | Oxygen concentration measuring device | |
JP2018169203A (ja) | ガス吸収分光装置及びガス吸収分光法 | |
US11796468B2 (en) | Gas measurement device and gas measurement method | |
CN210071661U (zh) | 一种激光气体分析仪 | |
US12111270B2 (en) | Method of inspecting a wafer and apparatus for performing the same | |
JP2008134076A (ja) | ガス分析装置 | |
JP5501797B2 (ja) | スペクトラム分析装置及びスペクトラム分析方法 | |
JP2006258606A (ja) | 蛍光分析装置 | |
Sreevalsen et al. | Photoacoustic DFB-CW Quantum Cascade Laser based Nitric Oxide sensor for Breath Analyzer | |
JP2019020213A (ja) | 波長変調分光システム、誤差情報生成システム、および波長変調分光方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160614 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170214 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170217 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170407 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170425 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170427 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6139327 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |