JP6677646B2 - 質量流量制御装置の流量をリアルタイムで監視するシステムおよび方法 - Google Patents
質量流量制御装置の流量をリアルタイムで監視するシステムおよび方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6677646B2 JP6677646B2 JP2016556845A JP2016556845A JP6677646B2 JP 6677646 B2 JP6677646 B2 JP 6677646B2 JP 2016556845 A JP2016556845 A JP 2016556845A JP 2016556845 A JP2016556845 A JP 2016556845A JP 6677646 B2 JP6677646 B2 JP 6677646B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mass flow
- flow
- pressure
- flow rate
- control valve
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 17
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 title description 4
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 82
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 26
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 21
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 21
- 238000012795 verification Methods 0.000 claims description 16
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 10
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 claims description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 5
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000009530 blood pressure measurement Methods 0.000 claims description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 8
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17D—PIPE-LINE SYSTEMS; PIPE-LINES
- F17D3/00—Arrangements for supervising or controlling working operations
- F17D3/01—Arrangements for supervising or controlling working operations for controlling, signalling, or supervising the conveyance of a product
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
- G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
- G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
- G05D7/0635—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
- G05D7/0641—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means using a plurality of throttling means
- G05D7/0647—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means using a plurality of throttling means the plurality of throttling means being arranged in series
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17D—PIPE-LINE SYSTEMS; PIPE-LINES
- F17D1/00—Pipe-line systems
- F17D1/02—Pipe-line systems for gases or vapours
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F15/00—Details of, or accessories for, apparatus of groups G01F1/00 - G01F13/00 insofar as such details or appliances are not adapted to particular types of such apparatus
- G01F15/001—Means for regulating or setting the meter for a predetermined quantity
- G01F15/002—Means for regulating or setting the meter for a predetermined quantity for gases
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F25/00—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F25/00—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume
- G01F25/10—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume of flowmeters
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F25/00—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume
- G01F25/10—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume of flowmeters
- G01F25/13—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume of flowmeters using a reference counter
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
- G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
- G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
- G05D7/0635—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F15/00—Details of, or accessories for, apparatus of groups G01F1/00 - G01F13/00 insofar as such details or appliances are not adapted to particular types of such apparatus
- G01F15/005—Valves
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Flow Control (AREA)
- Measuring Volume Flow (AREA)
- Pipeline Systems (AREA)
Description
本願は、「質量流量制御装置の流量をリアルタイムで監視するシステムおよび方法」と題し、代理人整理番号086400−0090(MKSK−0227US)で、2012年1月20日出願の米国特許出願第13/354,988号の一部継続出願であり、「質量流量制御装置の流量をリアルタイムで監視するシステムおよび方法」と題し、代理人整理番号086400−0191(MKS−236US)、2014年3月11日出願の、米国特許出願第14/205,030号に基づくとともに、これらの出願に優先権を主張する。これらの出願の各々の内容全てをここに参照して援用する。
(a)設定点が零の場合、流量制御弁が閉弁され、かつ、流量制御弁より上流の第2の制御弁が開弁され、源からのガスが所定容量を満たすことができるようにする。そして第2の制御弁が閉弁される。
(b)流量の設定点が零から非零値へ変更された場合、第2の制御弁は閉弁に維持され、かつ、流量制御弁は開弁されて、第1の流量計によって測定された流量Qtを流量の設定点まで規制する。
(c)所定期間の間、質量流量制御装置は、下記の関係に従って、圧力信号の減衰率に基づいて、流量を検証する。
Qv=−V[d(P/T)]/dt
ここで、
Qvは、第2の流量計によって決定された検証流量であり、
Vは所定容量であり、
Pは圧力信号によって測定した圧力であり、
Tは温度信号によって測定した温度であり、
d(P/T)/dtは、比率P/Tの一次導関数、すなわち比率P/Tの変化率である;
(d)流量検証後、第2の制御弁が開弁し、質量流量制御装置に流量制御を継続させる。
(a)設定点が零である場合、制御弁128と制御弁112の間の容量が、入力ポート92に接続する源からのガスで満たされるように、下流弁が閉弁され、かつ、上流弁が開弁される。(圧力センサ124が測定した)内側圧力が安定したとき、上流制御弁128が閉弁される。
(b)流量の設定点が零から非零値へ変更された場合、上流制御弁128は閉弁し続けられ、かつ、下流流量制御弁112は開弁されて、制御部110に与えられた流量の設定点に、第1の流量計100の測定に基づいた流量Qtを規制する。
(c)所定期間、質量流量制御装置は、以下の関係式に従う(容量122内の圧力降下としての)圧力信号の減衰率に基づき、流量を検証する。
Qv=−V[d(P/T)]/dt (1)
ここで、Qvは、第2の流量計によって決定された検証流量であり、Vは、容量122の所定容量であり、Pは、圧力センサ124によって測定され、センサ124によって制御部110へ供給される信号によって表される圧力であり、Tは、温度センサ126によって測定され、温度センサ126によって制御部110へ供給される信号によって表される温度であり、d(P/T)/dtは、比率P/Tの一次導関数、すなわち、比率P/Tの変化率である。
一実施形態において、流量計120で流量を測定する所定期間は、約50msと約1000msとの間であるが、これは質量流量制御装置を用いる特定の用途によって異なってもよい。
(d)検証測定に続いて、制御部110によって流量検証値Qvを取得し、メモリ(図示なし)に記憶する。そして、第1の流量計100を利用した流量制御を質量流量制御装置90に継続させるため、上流制御弁128を開弁してもよい。
(1)突入ガスを回避するため、MFCの内側圧力が入力ガスの上流圧力へとゆっくりと上昇するように第2の制御弁を制御することができる。
(2)流量制御期間中に上流圧力障害がある場合、閉ループ圧力制御装置は、第2の制御弁の開度を所定容量内の圧力を規制するように自動的に調整して、質量流量制御装置の流量制御の圧力不感受性能を改善するように質量流量制御装置の出力流量制御に及ぼす入力圧力障害の影響が最小化される。
Claims (17)
- 源から目標へのガスの流量を制御する質量流量制御装置であって、
前記質量流量制御装置を流れるガスの質量流量を検知したガスの温度の差に応じて測定するように構成および配置された熱質量流量計である第1の流量計と、
圧力センサと、前記質量流量制御装置を流れるガスを受け入れる所定容量を規定する構造とを備える第2の流量計であって、前記所定容量から流通可能とされた場合のガスの測定圧力の減衰率に応じて、前記質量流量制御装置を流れるガスの質量流量を計測するように構成および配置された第2の流量計と、
前記質量流量制御装置に流入するガスの流量を選択的に制御するように構成および配置された、前記第1の流量計と前記第2の流量計よりも上流に位置する上流比例制御弁と、
流量の設定点と前記第1の流量計によって測定した流量とに応じて生成された制御信号に応答して、前記質量流量制御装置からのガスの質量流量を制御するように構成および配置された、前記第1の流量計と前記第2の流量計よりも下流に位置する下流比例制御弁と、
前記制御信号を生成し、かつ、以下のように前記第1の流量計により計測された質量流量を検証するように構成および配置されたシステム処理制御部とを備え、
(a)前記流量の設定点が零の場合、前記下流比例制御弁が閉弁され、かつ、前記下流比例制御弁より上流の前記上流比例制御弁が開弁され、前記源からのガスが前記所定容量を満たすことができるようにする。そして前記上流比例制御弁が閉弁される;
(b)前記流量の設定点が零から非零値へ変更された場合、前記上流比例制御弁は閉弁に維持され、前記下流比例制御弁は開弁されて、前記第1の流量計によって測定された流量Qtを前記流量の設定点に規制する;
(c)所定期間の間、前記質量流量制御装置は、下記の関係に従って、圧力信号の減衰率に基づいて、前記流量を検証する:
Qv=−V[d(P/T)]/dt
ここで、
Qvは、前記第2の流量計によって決定された検証流量であり、
Vは前記所定容量であり、
Pは前記圧力信号によって測定した圧力であり、
Tは温度信号によって測定した温度であり、
d(P/T)/dtは、比率P/Tの一次導関数、すなわち比率P/Tの変化率である;
(d)前記流量の検証後、前記上流比例制御弁が開弁し、前記質量流量制御装置に流量制御を継続させ、
前記システム処理制御部は、前記第1の流量計によって測定したガスの質量流量と前記第2の流量計によって測定したガスの質量流量との間の差異が閾値を超える場合、表示を与え、
前記圧力センサと、前記上流比例制御弁と、前記システム処理制御部とが、前記所定容量内の圧力を規制するように構成された閉ループ圧力制御装置を形成するように、さらに構成および配置された質量流量制御装置。 - 前記閉ループ圧力制御装置は、前記所定容量の内部圧力が入力ガスの上流圧力まで突入ガスを回避可能な速さで上昇するように前記上流比例制御弁を調整可能であるように、さらに構成および配置された請求項1に記載の質量流量制御装置。
- 前記閉ループ圧力制御装置は、前記質量流量制御装置が源から目標へのガスの流量を制御している時に、流量制御中の上流圧力障害がある場合、前記閉ループ圧力制御装置が、前記上流比例制御弁の開度を前記所定容量内の圧力を規制するように自動的に調整し、前記質量流量制御装置の流量制御の圧力不感受性能を改善するように前記質量流量制御装置の出力流量制御への前記上流圧力障害の影響が最小化されるようさらに構成および配置された請求項2に記載の質量流量制御装置。
- 前記閉ループ圧力制御装置は、前記質量流量制御装置が源から目標へのガスの流量を制御している時に、流量制御中の上流圧力障害がある場合、前記閉ループ圧力制御装置が、前記上流比例制御弁の開度を前記所定容量内の圧力を規制するように自動的に調整し、前記質量流量制御装置の流量制御の圧力不感受性能を改善するように前記質量流量制御装置の出力流量制御への前記上流圧力障害の影響が最小化されるよう構成および配置された請求項1に記載の質量流量制御装置。
- 前記所定容量を規定する前記構造が、前記第1の流量計、前記第2の流量計、前記上流比例制御弁、および前記下流比例制御弁のうち1つ以上を支持する請求項1に記載の質量流量制御装置。
- 前記上流比例制御弁は、前記下流比例制御弁の上流に位置し、前記所定容量は、ガスが流通可能な前記下流比例制御弁と前記上流比例制御弁との間に位置し、前記質量流量制御装置は、前記所定容量内のガスの温度および圧力を表す圧力信号および温度信号をそれぞれ生成するための圧力センサおよび温度センサをさらに備える、請求項1に記載の質量流量制御装置。
- 前記所定容量は、前記質量流量制御装置内の前記下流比例制御弁および前記上流比例制御弁の間にあり、前記閉ループ圧力制御装置は、(1)前記質量流量制御装置の内側圧力が入力ガスの上流圧力まで突入ガスを回避可能な速さで上昇するように前記上流比例制御弁を制御可能であり、また(2)流量制御期間に上流圧力障害がある場合、前記閉ループ圧力制御装置が、前記上流比例制御弁の開度を前記所定容量内の圧力を規制するように自動的に調整し、前記質量流量制御装置の流量制御の圧力不感受性能を改善するように前記質量流量制御装置の出力流量制御に対する前記上流圧力障害の影響が最小化されるよう構成および配置された請求項6に記載の質量流量制御装置。
- 前記所定期間は約50msと1000msとの間である請求項1に記載の質量流量制御装置。
- 前記質量流量制御装置は、前記検証流量Qvを、前記第1の流量計によって測定した流量Qtと比較するようにさらに構成され、QtとQvとの間の偏差が前記閾値を超える場合は、流量誤差警告信号が供給される請求項1に記載の質量流量制御装置。
- 前記質量流量制御装置は、QvおよびQtの測定値に基づいて自己較正を行うように構成されている請求項9に記載の質量流量制御装置。
- 前記下流比例制御弁は、前記流量の設定点が非零である間は、前記質量流量制御装置を流れる前記流量の設定点の質量流量に応じて、前記質量流量制御装置をガスが流れることができるように制御される請求項1に記載の質量流量制御装置。
- 前記流量の設定点の零への設定に続けて、前記質量流量制御装置は、前記上流比例制御弁を直ちに閉弁するように構成されている請求項1に記載の質量流量制御装置。
- 前記閾値はユーザ設定である請求項1に記載の質量流量制御装置。
- 前記閾値は工場設定である請求項1に記載の質量流量制御装置。
- 前記閾値は、ガスを配送するのに制御部が用いられる処理に対応した質量流量の許容公差に応じて設定される請求項1に記載の質量流量制御装置。
- 源から目標へのガスの流量を制御する圧力不感受性の質量流量制御装置であって、
流量の設定点と、検知したガスの温度の差に応じて測定した前記質量流量制御装置を流れるガスの測定流量とに応じて、質量流量信号を供給するように構成および配置された熱質量流量計である第1の流量計と、
前記質量流量制御装置を流れるガスの流量を、前記第1の流量計により測定した流量に基づいた弁制御信号に応答して制御するように構成および配置された、前記第1の流量計よりも下流に位置する下流比例制御弁と、
前記流量の設定点信号および前記質量流量信号に応じて前記弁制御信号を生成するように構成および配置されたシステム処理制御部と、
前記質量流量制御装置を流れるガスの測定圧力を表す圧力測定信号を供給するように構成および配置された圧力センサと、前記質量流量制御装置を流れるガスを受け入れる所定容量を規定する構造とを備える第2の流量計であって、前記第2の流量計は、前記ガスの前記測定圧力に応じて第2の質量流量信号を供給するように構成および配置された前記第2の流量計と、
前記測定圧力に応じて、前記質量流量制御装置に流入するガスの前記流量を選択的に制御するように構成および前記圧力センサの上流に配置された、前記第1の流量計と前記第2の流量計よりも上流に位置する上流比例制御弁と、を備え、
前記圧力センサと、前記上流比例制御弁と、前記システム処理制御部とが、前記質量流量制御装置に流入する圧力流を規制するように構成された閉ループ圧力制御装置を形成するように、さらに構成および配置され、以下のように前記第1の流量計により計測された質量流量を検証する圧力不感受性の質量流量制御装置。
(a)前記流量の設定点が零の場合、前記下流比例制御弁が閉弁され、かつ、前記下流比例制御弁より上流の前記上流比例制御弁が開弁され、前記源からのガスが前記所定容量を満たすことができるようにする。そして前記上流比例制御弁が閉弁される;
(b)前記流量の設定点が零から非零値へ変更された場合、前記上流比例制御弁は閉弁に維持され、前記下流比例制御弁は開弁されて、前記第1の流量計によって測定された流量Qtを前記流量の設定点に規制する;
(c)所定期間の間、前記質量流量制御装置は、下記の関係に従って、圧力信号の減衰率に基づいて、前記流量を検証する:
Qv=−V[d(P/T)]/dt
ここで、
Qvは、前記第2の流量計によって決定された検証流量であり、
Vは前記所定容量であり、
Pは前記圧力信号によって測定した圧力であり、
Tは温度信号によって測定した温度であり、
d(P/T)/dtは、比率P/Tの一次導関数、すなわち比率P/Tの変化率である;
(d)前記流量の検証後、前記上流比例制御弁が開弁し、前記質量流量制御装置に流量制御を継続させ、
前記システム処理制御部は、前記第1の流量計によって測定したガスの質量流量と前記第2の流量計によって測定したガスの質量流量との間の差異が閾値を超える場合、表示を与える。 - 源から目標へのガスの流量を制御する質量流量制御装置であって、
前記質量流量制御装置を流れるガスの質量流量を検知したガスの温度の差に応じて測定するように構成および配置された熱質量流量計である第1の流量計と、
圧力センサと、前記質量流量制御装置を流れるガスを受け入れる所定容量を規定する構造とを備える第2の流量計であって、前記第2の流量計は、前記所定容量から流通可能とされた場合のガスの測定圧力の減衰率に応じて、前記質量流量制御装置を流れるガスの質量流量を計測および検証するように構成および配置された第2の流量計と、
前記質量流量制御装置に流入するガスの流量を選択的に制御するように構成および配置された、前記第1の流量計と前記第2の流量計よりも上流に位置する上流比例制御弁と、
流量の設定点と前記第1の流量計によって測定した流量とに応じて生成された制御信号に応答して、前記質量流量制御装置からのガスの質量流量を制御するように構成および配置された、前記第1の流量計と前記第2の流量計よりも下流に位置する下流比例制御弁と、
前記制御信号を生成し、かつ、以下のように前記所定容量から流通可能とされたガスの測定圧力の減衰率に応じて、前記質量流量制御装置の質量流量制御の精度を検証するように構成および配置されたシステム処理制御部と、を備え、
(a)前記流量の設定点が零の場合、前記下流比例制御弁が閉弁され、かつ、前記下流比例制御弁より上流の前記上流比例制御弁が開弁され、前記源からのガスが前記所定容量を満たすことができるようにする。そして前記上流比例制御弁が閉弁される;
(b)前記流量の設定点が零から非零値へ変更された場合、前記上流比例制御弁は閉弁に維持され、前記下流比例制御弁は開弁されて、前記第1の流量計によって測定された流量Qtを前記流量の設定点に規制する;
(c)所定期間の間、前記質量流量制御装置は、下記の関係に従って、圧力信号の減衰率に基づいて、前記流量を検証する:
Qv=−V[d(P/T)]/dt
ここで、
Qvは、前記第2の流量計によって決定された検証流量であり、
Vは前記所定容量であり、
Pは前記圧力信号によって測定した圧力であり、
Tは温度信号によって測定した温度であり、
d(P/T)/dtは、比率P/Tの一次導関数、すなわち比率P/Tの変化率である;
(d)前記流量の検証後、前記上流比例制御弁が開弁し、前記質量流量制御装置に流量制御を継続させ、
前記システム処理制御部は、前記第1の流量計によって測定したガスの質量流量と前記第2の流量計によって測定したガスの質量流量との間の差異が閾値を超える場合、表示を与え、
前記所定容量を規定する前記構造は、少なくとも前記第2の流量計および前記上流比例制御弁を支持する取り付けブロックであり、
前記圧力センサと、前記上流比例制御弁と、前記システム処理制御部とが、前記質量流量制御装置に流入する圧力流を規制するように構成された閉ループ圧力制御装置を形成するように、さらに構成および配置された質量流量制御装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US14/205,030 US9557744B2 (en) | 2012-01-20 | 2014-03-11 | System for and method of monitoring flow through mass flow controllers in real time |
US14/205,030 | 2014-03-11 | ||
PCT/US2015/015831 WO2015138085A1 (en) | 2014-03-11 | 2015-02-13 | System for and method of monitoring flow through mass flow controllers in real time |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020044493A Division JP2020098653A (ja) | 2014-03-11 | 2020-03-13 | 質量流量制御装置の流量をリアルタイムで監視するシステムおよび方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017516183A JP2017516183A (ja) | 2017-06-15 |
JP6677646B2 true JP6677646B2 (ja) | 2020-04-08 |
Family
ID=54072261
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016556845A Active JP6677646B2 (ja) | 2014-03-11 | 2015-02-13 | 質量流量制御装置の流量をリアルタイムで監視するシステムおよび方法 |
JP2020044493A Pending JP2020098653A (ja) | 2014-03-11 | 2020-03-13 | 質量流量制御装置の流量をリアルタイムで監視するシステムおよび方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020044493A Pending JP2020098653A (ja) | 2014-03-11 | 2020-03-13 | 質量流量制御装置の流量をリアルタイムで監視するシステムおよび方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP3117137B1 (ja) |
JP (2) | JP6677646B2 (ja) |
KR (1) | KR102303943B1 (ja) |
CN (2) | CN110244780A (ja) |
SG (1) | SG11201607383UA (ja) |
TW (1) | TWI521190B (ja) |
WO (1) | WO2015138085A1 (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105387345A (zh) * | 2015-12-10 | 2016-03-09 | 济南华信自动化工程有限公司 | 一种定量式气体自动切换柜 |
CN109891353A (zh) * | 2016-09-19 | 2019-06-14 | 流体设备系统有限公司 | 用于流量测量的可变限制 |
US10409295B2 (en) * | 2016-12-31 | 2019-09-10 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for enhanced flow detection repeatability of thermal-based mass flow controllers (MFCS) |
CN107908201A (zh) * | 2017-09-25 | 2018-04-13 | 湖南工业大学 | 一种混合气体流量智能控制系统及方法 |
US10927920B2 (en) * | 2017-10-04 | 2021-02-23 | Illinois Tool Works, Inc | Passive damping system for mass flow controller |
CN107676627A (zh) * | 2017-10-26 | 2018-02-09 | 北京华福工程有限公司 | 乙炔加氢制乙烯装置的安全控制方法 |
KR102628015B1 (ko) * | 2017-12-01 | 2024-01-23 | 삼성전자주식회사 | 질량 유량 제어기, 반도체 소자의 제조장치 및 그의 관리방법 |
US10649471B2 (en) | 2018-02-02 | 2020-05-12 | Mks Instruments, Inc. | Method and apparatus for pulse gas delivery with isolation valves |
JP2019200067A (ja) * | 2018-05-14 | 2019-11-21 | 横河電機株式会社 | 測定システム、測定方法及び圧力測定装置 |
CN109681782A (zh) * | 2019-01-07 | 2019-04-26 | 上海嘉麟杰纺织科技有限公司 | 一种智能型自动化流量输送系统 |
JP6687205B1 (ja) * | 2019-02-13 | 2020-04-22 | 株式会社昭和バルブ製作所 | 制御弁装置 |
CN110425429B (zh) * | 2019-09-09 | 2021-04-23 | 山东拙诚智能科技有限公司 | 一种实时监测调压装置阀口状态及对下游流量估算的方法 |
KR102502013B1 (ko) * | 2020-09-18 | 2023-02-21 | 엠케이피 주식회사 | 질량 유량 제어 장치 및 이의 제어방법 |
EP3995791B1 (de) * | 2020-11-04 | 2024-05-29 | Focus-On V.O.F. | Computerimplementiertes verfahren zum betreiben eines fluid-absperrorgans und entsprechendes fluid-absperrorgan |
KR102534971B1 (ko) * | 2020-12-17 | 2023-05-22 | 주식회사 한국가스기술공사 | 유량 컴퓨터의 테스트를 위한 시스템 및 방법 |
CN113717757B (zh) * | 2021-11-03 | 2022-02-08 | 华能(天津)煤气化发电有限公司 | 一种粉煤加压输送的变比例反馈调节方法 |
KR102526253B1 (ko) * | 2021-12-06 | 2023-04-28 | 대우조선해양 주식회사 | 이중 연료 엔진용 연료 오일 유량의 측정 유니트 및 동 유니트를 포함하는 연료 오일 공급 시스템, 그리고 이를 포함하는 선박 |
KR102573651B1 (ko) * | 2021-12-06 | 2023-09-01 | 한화오션 주식회사 | 이중 연료 엔진용 연료 오일 유량의 측정 유니트 및 동 유니트를 포함하는 연료 오일 공급 시스템, 그리고 이를 포함하는 선박 |
CN114935374A (zh) * | 2022-07-26 | 2022-08-23 | 克拉玛依市富城天然气有限责任公司 | 一种油井天然气流量计量过程的控制方法及系统 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03211601A (ja) * | 1990-01-17 | 1991-09-17 | Fujitsu Ltd | ガス流量制御装置 |
US6810308B2 (en) * | 2002-06-24 | 2004-10-26 | Mks Instruments, Inc. | Apparatus and method for mass flow controller with network access to diagnostics |
JP4137666B2 (ja) | 2003-02-17 | 2008-08-20 | 株式会社堀場エステック | マスフローコントローラ |
JP4086057B2 (ja) * | 2004-06-21 | 2008-05-14 | 日立金属株式会社 | 質量流量制御装置及びこの検定方法 |
US7204158B2 (en) * | 2004-07-07 | 2007-04-17 | Parker-Hannifin Corporation | Flow control apparatus and method with internally isothermal control volume for flow verification |
US7296465B2 (en) * | 2005-11-22 | 2007-11-20 | Mks Instruments, Inc. | Vertical mount mass flow sensor |
JP4788920B2 (ja) * | 2006-03-20 | 2011-10-05 | 日立金属株式会社 | 質量流量制御装置、その検定方法及び半導体製造装置 |
WO2008030454A2 (en) * | 2006-09-05 | 2008-03-13 | Celerity, Inc. | Multi-gas flow device |
US7891228B2 (en) * | 2008-11-18 | 2011-02-22 | Mks Instruments, Inc. | Dual-mode mass flow verification and mass flow delivery system and method |
JP2010169657A (ja) * | 2008-12-25 | 2010-08-05 | Horiba Stec Co Ltd | 質量流量計及びマスフローコントローラ |
JP4750866B2 (ja) * | 2009-02-18 | 2011-08-17 | 信越化学工業株式会社 | 石英ガラスの製造方法及び装置 |
US8793082B2 (en) * | 2009-07-24 | 2014-07-29 | Mks Instruments, Inc. | Upstream volume mass flow verification systems and methods |
TWI435196B (zh) * | 2009-10-15 | 2014-04-21 | Pivotal Systems Corp | 氣體流量控制方法及裝置 |
DE102009046758A1 (de) * | 2009-11-17 | 2011-05-19 | Endress + Hauser Process Solutions Ag | Sich selbst überwachende Durchflussmessanordnung und Verfahren zu deren Betrieb |
CN202329700U (zh) * | 2011-12-01 | 2012-07-11 | 于邦仲 | 一种流量传感器控制校正装置 |
US9846074B2 (en) * | 2012-01-20 | 2017-12-19 | Mks Instruments, Inc. | System for and method of monitoring flow through mass flow controllers in real time |
-
2015
- 2015-02-13 KR KR1020167025167A patent/KR102303943B1/ko active IP Right Grant
- 2015-02-13 WO PCT/US2015/015831 patent/WO2015138085A1/en active Application Filing
- 2015-02-13 JP JP2016556845A patent/JP6677646B2/ja active Active
- 2015-02-13 CN CN201910475886.8A patent/CN110244780A/zh active Pending
- 2015-02-13 SG SG11201607383UA patent/SG11201607383UA/en unknown
- 2015-02-13 CN CN201580013227.2A patent/CN106233061B/zh active Active
- 2015-02-13 EP EP15760895.1A patent/EP3117137B1/en active Active
- 2015-02-26 TW TW104106156A patent/TWI521190B/zh active
-
2020
- 2020-03-13 JP JP2020044493A patent/JP2020098653A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017516183A (ja) | 2017-06-15 |
WO2015138085A1 (en) | 2015-09-17 |
EP3117137A1 (en) | 2017-01-18 |
TW201538934A (zh) | 2015-10-16 |
CN110244780A (zh) | 2019-09-17 |
KR102303943B1 (ko) | 2021-09-27 |
SG11201607383UA (en) | 2016-10-28 |
EP3117137A4 (en) | 2017-11-01 |
CN106233061A (zh) | 2016-12-14 |
TWI521190B (zh) | 2016-02-11 |
CN106233061B (zh) | 2019-07-02 |
KR20160132404A (ko) | 2016-11-18 |
EP3117137B1 (en) | 2020-12-16 |
JP2020098653A (ja) | 2020-06-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6677646B2 (ja) | 質量流量制御装置の流量をリアルタイムで監視するシステムおよび方法 | |
US10606285B2 (en) | System for and method of monitoring flow through mass flow controllers in real time | |
JP6702923B2 (ja) | 質量流量コントローラ | |
JP6093019B2 (ja) | 質量流量制御システム | |
US10054959B2 (en) | Real time diagnostics for flow controller systems and methods | |
US9471066B2 (en) | System for and method of providing pressure insensitive self verifying mass flow controller | |
TWI550376B (zh) | 質流控制器及用質流控制器控制氣體之質流率的方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170905 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180904 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180831 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20181203 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190129 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190611 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20190910 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20191111 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191210 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200212 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200313 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6677646 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |