JP6664327B2 - マルチモード光ファイバの設計及び製造 - Google Patents
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Description
本出願は、2014年1月31日に出願された「CWDM-optimized MMF」と題する仮特許出願第61/934223号からの優先権を主張する。
ベンディング:一般的に単にベンディングと呼ばれる、マクロベンディングは、ファイバが、その長さの少なくとも一部に沿って、曲率が相対的に一定であるように曲げられるか、コイル状に巻かれるか、又は渦巻き状に巻かれるときに生じる。対照的に、マイクロベンディングは、特定のファイバの場合に断熱長さスケール内で曲率が著しく(例えば、ファイバ長に沿って約1ミリメートル以下だけ)変化するときに生じる。そのようなマイクロベンドは、例えば、標準的なマイクロベンディング試験においてファイバを紙やすりに押し込むことによって形成される。
図1A、図1B及び図1Cに示されるように、本発明の幾つかの実施形態によれば、マルチモードのシリカ光ファイバ10が、環状で低屈折率のクラッディング領域10.4によって包囲される相対的に高い屈折率(ncore)のケイ酸塩コア領域10.1を備える。クラッディング領域10.4は、内側クラッディング領域10.2(屈折率nic)を包囲する外側クラッディング領域10.3(屈折率noc)を含み、内側クラッディング領域が更にコア領域10.1を包囲する。したがって、内側クラッディング領域10.2は、コア領域10.1の外縁10.6(r=rcore)から外側クラッディング領域10.3の内縁10.7(r=roc)まで延在する。設計によるが、外側クラッディング領域10.3は、内側クラッディング領域10.2の屈折率より低い屈折率を有することができる、すなわち、noc<nic(図1B)であるか、内側クラッディング領域10.2の屈折率より高い屈折率を有することができる、すなわち、noc’>nic(図1C)であるか、又は内側クラッディング領域10.2の屈折率に実質的に等しい、すなわち、noc’〜noc(図示せず)である。
以下の説明は、CWDMシステムにおいて使用するためのMMFに適用可能である本発明の例示的な実施形態による設計手法を記述する。しかしながら、他の適用例において使用するためのMMFの設計にも同じ手法が容易に適用できることは当業者には明らかであろう。
連続性制約パラメーターμを選択するために、種々の方法を採用することができる。1つの手法は、ダウンドープ外側クラッディング領域を考慮に入れながら、開口数要件を達成するために、検討中のドーパントがもっぱら使用されると仮定することによって開始する(同様の手法が、アップドープ外側クラッディング領域及び非ドープ外側クラッディング領域のような他の設計にも適用される)。開口数及び例示的なダウンドープ要件を用いて、ファイバ軸におけるドーパント濃度、及びコア領域と内側クラッディング領域との間の界面におけるドーパント濃度を容易に決定することができる。
本発明の幾つかの例示的な実施形態を詳細に説明する前に、本発明によるMMFプリフォーム12.5及び/又はMMF光ファイバ12.6を製作するための設計及び作製システム12を表す図12を参照することが有益である。より具体的には、種々の設計及び性能特性は通常、あらかじめわかっており、これらの特性は入力としてコンピューター(又はコンピューターシステム)12.1に与えられる。例示的な性能特性入力12.11は、実効モード帯域幅(EMBc)及びモード遅延差(DMD)のいずれか(又は両方)を含む。設計入力は、MMFの特定の適用例の場合に、開口数(NA)12.12及び帯域幅(Λ)12.13を含む。他の設計入力は、ファイバの種々の領域にドープすることに関連付けられるドーパントデータ12.14、すなわち、ドーパントの種類(例えば、Ge、P、Al及び/又はその酸化物、並びにF)、屈折率とドーパントとの間の関係、ドープされることになる領域(例えば、コア、トレンチ、内側クラッディング及び/又は外側クラッディング領域)を含む。最後に、任意の構造的特徴12.15(例えば、トレンチのようなクラッディング機構)もコンピューター12.1に入力され、コンピューターは、上記で説明されたように、式(7)〜式(9)に従って、これら全ての入力を処理する。
コンピューター12.1にプログラミングされた設計プロセスは、一般的に、以下に説明される段階的手順に従う。その手順は、ダウンドープクラッディング領域10.4(図1A)を有するMMFの設計を記述するが、アップドープ外側クラッディング領域、又は非ドープ外側クラッディング領域、又はトレンチ領域を有するMMFのような他のMMFの設計にも原理的に同じく適用することができる(ダウンドープクラッディング領域、又は単にダウンドープMMFという言い回しは、クラッディング領域全体(内側クラッディング領域及び外側クラッディング領域の両方)の屈折率が純粋シリカの屈折率より低いことを意味する)。
ステップ1:以下の量があらかじめわかっている。
a.ファイバデルタ
b.クラッディング屈折率差がΔnclad=nclad−nsとして与えられる。ただし、ncladはクラッディング領域の屈折率であり、nsは波長λdにおける純粋シリカの屈折率である。ncladはnsより高くするか、若しくは低くすることができるか、又はnsに等しくすることができることに留意されたい。
c.広帯域MMFが設計されることになる波長窓の上限及び下限(λL,λU)。
d.屈折率の二乗がドーパント濃度に比例すると仮定する。すなわち、
e.ファイバ軸上のGeO2を除く全てのドーパントの濃度を選択する。製造可能性に基づく既知の最大限界を用いて、これらのドーパント濃度を推定する。後に、これらのドーパント濃度の異なる値に関して設計が繰り返される。
ステップ2:ファイバ軸におけるドーパント濃度及びクラッディング領域内のドーパント濃度を決定する。
a.Δncladから、クラッディング領域内のフッ素濃度、XF,cladを以下のように求める。
ステップ4:以下の最適化問題を設定する。
ステップ5:ステップ4の最適化問題がコンピューター12.1によって数値的に解かれる。
ステップ6:ステップ1において規定された入力パラメーターに関して設計を繰り返す。
以下の例では、ファイバのスペクトル幅を広げるために、主(又は基本)モードグループへの材料分散寄与を低減するように、本発明による例示的な広帯域シリカMMF設計が構成される。
この実施例は、コア領域がGe、P及びFをドープされる場合の広帯域シリカMMFの設計を記述する。コア領域は低屈折率外装管内に堆積され、その後、外装管を圧潰して、コアロッドを形成する。
この実施例は、コア領域がGe及びFをドープされる場合の広帯域シリカMMFの設計を記述する。コア領域は低屈折率(−0.010DN)シリカ外装管内に形成され、その後、外装管は圧潰され、コアロッドが形成される。
図9Aに示されるファイバ屈折率プロファイルでは、13.2μm径方向位置付近にある、コア領域の中央部分は正味0の屈折率差を有する。任意の著しいドーパント量のGe又はFのいずれかをほとんど欠いているとき、この領域は、著しいドーパント濃度を含む周囲の領域より実質的に高い粘性を有する。相対的に粘性が低い領域間に挟まれる高粘性領域は、プリフォーム圧潰中に曲がり、変形する。さらに、コア領域の中央における著しい粘性不一致は、ファイバ減衰も大きくする。
CWDM最適化MMFは、図11に示される屈折率プロファイルによって例示されるように、クラッディング領域(通常、内側クラッディング領域)内にトレンチを導入することによって曲げに対して最適化することができる。当該技術分野において既知であるように、トレンチの位置、幅及び屈折率深さは、曲がったファイバ内の帯域幅を保持し、曲げによって引き起こされる減衰も低減するように選択することができる。トレンチは、曲がったファイバ内のモード構造を保持するための役割も果たすので、トレンチを追加しても、CWDMに適用するための広いスペクトル幅は劣化しない。
水素によって引き起こされる減衰を更に低減するために、水素拡散速度を遅くする気密コーティングを、本発明のCWDM最適化MMFに塗布することができる。気密コーティングは、例示的には、炭素、金属又は窒化シリコンから形成される。
Claims (15)
- 横断面及び長手方向軸を有し、所定の波長範囲Λ内の波長λにおいて広帯域動作のために構成される、コア領域と、
前記コア領域を包囲するクラッディング領域と、
を備える広帯域マルチモードファイバにおいて、
前記コア領域及び前記クラッディング領域は、前記コア領域内の前記軸に沿った光放射の伝搬を複数の横モードにおいて同時にサポートするように構成され、
前記コア領域は複数のドーパントを共ドープされ、前記ドーパントの濃度及び分布は、前記コア領域の屈折率が径方向において漸次的に移行し、波長に対するz(r,λ)のばらつきが低減されるように、前記コア領域の前記横断面内で径方向において変更され、ただし、
- 前記ファイバは、シリカを含み、CWDMシステムにおいて動作するために設計され、NA〜0.2を有し、
前記コア領域は、Ge、P及びFを共ドープされ、α=2.08±0.1を有する放物線屈折率プロファイルを有し、約50μmの直径を有し、
前記Geドーパントの前記屈折率プロファイルは、前記軸における最大値から約14μmの半径における0まで漸次的に移行し、
前記Pドーパントの前記屈折率プロファイルは、前記軸から約14μmの半径まで基本的に均一であり、その後、約19μmの半径における0まで漸次的に移行し、
前記Fドーパントの前記屈折率プロファイルは、前記軸から約19μmの半径まで基本的に均一であり、その後、約25μmの半径における0まで漸次的に移行する、請求項1に記載のファイバ。 - 前記ファイバは、シリカを含み、CWDMシステムにおいて動作するために設計され、NA〜0.2を有し、
前記コア領域は、Ge及びFを共ドープされ、α=2.08±0.1を有する放物線屈折率プロファイルを有し、約50μmの直径を有し、
前記Geドーパントの前記屈折率プロファイルは、前記軸における最大値から約13μmの半径における0まで漸次的に移行し、
前記Fドーパントの前記屈折率プロファイルは、前記軸から約13μmの半径まで基本的に均一であり、その後、約25μmの半径における0まで漸次的に移行する、請求項1に記載のファイバ。 - 前記ファイバの前記屈折率プロファイルは10μm〜15μmの径方向部分において基本的に正味0の屈折率差を有し、前記径方向部分は前記径方向部分を包囲する領域より高いシリカ粘性を有し、
前記径方向部分は、該部分の粘性を低減するためにPをドープされる、請求項7に記載のファイバ。 - 前記ドーパントの前記濃度及び前記分布は、波長に対するz(r,λ)のばらつきが最小化されるように、前記コア領域の前記横断面内で径方向において変更される、請求項1に記載のファイバ。
- 光ファイバを作製する方法であって、
(a)少なくともコア領域、内側クラッディング領域及び外側クラッディング領域を含む、前記ファイバの所望の性能特性を決定するステップと、
(b)前記ファイバの所望の構造特性を決定するステップと、
(c)前記ファイバの開口数及び帯域幅を決定するステップと、
(d)前記ファイバの前記コア領域に組み込まれることになるドーパントを決定するステップと、
(e)波長に対するz(r,λ)のばらつきを低減することによって前記ドーパントのそれぞれのドーパント濃度プロファイルを生成する数値最適化コードを設定するステップであって、
(f)前記ドーパント濃度プロファイルを、光ファイバプリフォームのコア領域内の各ドーパントの濃度が、前記ステップ(e)で生成されるドーパント濃度プロファイルに対応する、該光ファイバプリフォームを製作する堆積システムに与えるステップと、
を含み、
前記ステップ(e)において、波長に対するz(r,λ)のばらつきは以下のように低減され、
- 前記プリフォームから光ファイバを延伸するステップを更に含む、請求項10に記載の方法。
- 前記ステップ(e)は、波長に対するz(r,λ)のばらつきを最小化することによって前記ドーパントのそれぞれのドーパント濃度プロファイルを生成する数値最適化コードを設定することを含む、請求項10に記載の方法。
- 前記ファイバはCWDMシステムにおいて使用するのに適したマルチモードファイバである、請求項11に記載の方法。
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