JP6649768B2 - Industrial robot - Google Patents

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Description

本発明は、半導体ウエハ等の搬送対象物を搬送する産業用ロボットに関する。   The present invention relates to an industrial robot for transferring a transfer target such as a semiconductor wafer.

従来、半導体ウエハを搬送する産業用ロボットが知られている（たとえば、特許文献１参照）。特許文献１に記載の産業用ロボットは、半導体ウエハが搭載される第１ハンドおよび第２ハンドと、第１ハンドおよび第２ハンドが回動可能に連結されるアームと、アームの基端側が回動可能に連結される本体部とを備えている。第１ハンドと第２ハンドとは、第１ハンドの基端部と第２ハンドの基端部とが上下方向で重なるように、アームの先端側に連結されている。また、この産業用ロボットは、アームに対して第１ハンドを回動させる第１ハンド駆動機構と、アームに対して第２ハンドを回動させる第２ハンド駆動機構とを備えており、第１ハンドと第２ハンドとは、アームに対して個別に回動可能となっている。   2. Description of the Related Art Conventionally, an industrial robot that transports a semiconductor wafer is known (for example, see Patent Document 1). The industrial robot described in Patent Literature 1 has a first hand and a second hand on which a semiconductor wafer is mounted, an arm to which the first hand and the second hand are rotatably connected, and a base end side of the arm that rotates. And a main body movably connected. The first hand and the second hand are connected to the distal end of the arm such that the base end of the first hand and the base end of the second hand overlap in the vertical direction. Further, this industrial robot includes a first hand drive mechanism for rotating the first hand with respect to the arm, and a second hand drive mechanism for rotating the second hand with respect to the arm. The hand and the second hand are individually rotatable with respect to the arm.

特許文献１に記載の産業用ロボットは、半導体製造システムに組み込まれて使用されており、たとえば、半導体ウエハが所定のピッチで上下方向に重なるように収容されるカセットと、半導体ウエハが上下方向で重ならないように配置される処理装置との間で半導体ウエハを搬送する。この場合、第１ハンドの先端側と第２ハンドの先端側とが重なった状態でアームが伸縮してカセットから２枚の半導体ウエハが同時に搬出され、その後、第１ハンドおよび第２ハンドの先端が処理装置側を向くように本体部に対してアームが回動するとともに、第１ハンドの先端側と第２ハンドの先端側とが離れるように第１ハンドおよび第２ハンドが回動してから、アームが伸縮して処理装置に２枚の半導体ウエハが同時に搬入される。   The industrial robot described in Patent Literature 1 is used by being incorporated in a semiconductor manufacturing system. For example, a cassette in which semiconductor wafers are accommodated vertically at a predetermined pitch and a semiconductor wafer is vertically The semiconductor wafer is transferred to and from a processing apparatus arranged so as not to overlap. In this case, the arm expands and contracts in a state where the tip side of the first hand and the tip side of the second hand overlap, and two semiconductor wafers are simultaneously unloaded from the cassette. The arm rotates with respect to the main body so that the head faces the processing device, and the first hand and the second hand rotate so that the distal end of the first hand and the distal end of the second hand are separated from each other. Then, the arm expands and contracts, and two semiconductor wafers are simultaneously loaded into the processing apparatus.

また、第１ハンドの先端側と第２ハンドの先端側とが重なっていない状態でアームが伸縮して処理装置から処理後の２枚の半導体ウエハが同時に搬出され、その後、第１ハンドおよび第２ハンドの先端がカセット側を向くように本体部に対してアームが回動するとともに、第１ハンドの先端側と第２ハンドの先端側とが重なるように第１ハンドおよび第２ハンドが回動してから、アームが伸縮してカセットに２枚の半導体ウエハが同時に搬入される。   Also, the arm expands and contracts in a state where the distal end side of the first hand and the distal end side of the second hand do not overlap, and the two processed semiconductor wafers are simultaneously unloaded from the processing apparatus. The arm rotates with respect to the main body so that the tip of the two hands faces the cassette side, and the first hand and the second hand rotate so that the tip of the first hand and the tip of the second hand overlap. After the movement, the arm expands and contracts, and two semiconductor wafers are simultaneously loaded into the cassette.

特開２０１２−６６３４２号公報JP 2012-66342 A

特許文献１に記載の産業用ロボットが組み込まれて使用される半導体製造システムでは、タクトタイムの短縮化が要求されている。そこで、本発明の課題は、産業用ロボットが組み込まれて使用される半導体製造システム等の製造システムのタクトタイムを短縮することが可能な産業用ロボットを提供することにある。   In a semiconductor manufacturing system in which the industrial robot described in Patent Document 1 is incorporated and used, a reduction in tact time is required. Therefore, an object of the present invention is to provide an industrial robot capable of reducing the tact time of a manufacturing system such as a semiconductor manufacturing system in which the industrial robot is incorporated and used.

上記の課題を解決するため、本発明の産業用ロボットは、搬送対象物が搭載される４個のハンドと、４個のハンドが先端側に回動可能に連結されるアームと、アームの基端側が回動可能に連結される本体部とを備え、４個のハンドは、搬送対象物を保持する保持部を備え、４個のハンドの基端側が上下方向で重なるようにアームに連結されるとともに、アームに対して個別に回動可能となっており、４個のハンドのうちの一番上に配置されるハンドと上から二番目に配置されるハンドとを第１ハンド対とし、残りの２個のハンドを第２ハンド対とすると、第１ハンド対および第２ハンド対のいずれか一方を構成する２個のハンドの保持部は、搬送対象物の端面が当接する当接面を有する端面当接部材と、搬送対象物の端面が当接面に押し付けられるように搬送対象物を押す押付機構とを備え、第１ハンド対および第２ハンド対のいずれか他方を構成する２個のハンドの保持部は、搬送対象物を吸引して保持する吸引孔を備えることを特徴とする。   In order to solve the above problems, an industrial robot according to the present invention includes four hands on which an object to be conveyed is mounted, an arm to which the four hands are pivotally connected to the distal end, and a base of the arm. The four hands are provided with a holding portion for holding an object to be conveyed, and the four hands are connected to the arms such that the base ends of the four hands overlap in the vertical direction. And a hand arranged at the top of the four hands and a hand arranged second from the top as a first hand pair, Assuming that the remaining two hands are a second hand pair, the holding portions of the two hands constituting either one of the first hand pair and the second hand pair have a contact surface with which the end face of the object to be conveyed contacts. And the end face of the object to be conveyed is pressed against the contact face. A pressing mechanism for pressing the object to be conveyed so that the holding part of the two hands constituting one of the first hand pair and the second hand pair has a suction hole for sucking and holding the object to be conveyed. It is characterized by having.

本発明において、押付機構は、たとえば、当接面に向かって搬送対象物の端面を押す押付部と、押付部を駆動するエアシリンダと、押付部の動きを検知する検知機構とを備えている。   In the present invention, the pressing mechanism includes, for example, a pressing unit that presses the end surface of the transport target toward the contact surface, an air cylinder that drives the pressing unit, and a detection mechanism that detects the movement of the pressing unit. .

本発明の産業用ロボットは、基端側が上下方向で重なるようにアームの先端側に連結される４個のハンドを備えており、４個のハンドは、アームに対して個別に回動可能となっている。そのため、本発明では、たとえば、産業用ロボットが半導体製造システムに組み込まれて使用される場合、第１ハンド対を構成する２個のハンドを用いてカセットから処理前の２枚の半導体ウエハ（搬送対象物）を同時に搬出した直後に、第２ハンド対を構成する２個のハンドを用いて処理後の２枚の半導体ウエハをカセットに同時に搬入することが可能になる。また、第２ハンド対を構成する２個のハンドを用いて処理装置から処理後の２枚の半導体ウエハを同時に搬出した直後に、第１ハンド対を構成する２個のハンドを用いて処理前の２枚の半導体ウエハを処理装置に同時に搬入することが可能になる。したがって、本発明では、産業用ロボットが組み込まれて使用される半導体製造システム等の製造システムのタクトタイムを短縮することが可能になる。   The industrial robot of the present invention includes four hands connected to the distal end of the arm such that the base ends overlap in the vertical direction. The four hands can be individually rotated with respect to the arm. Has become. Therefore, according to the present invention, for example, when an industrial robot is used by being incorporated in a semiconductor manufacturing system, two semiconductor wafers (transferred) from a cassette are processed using two hands constituting a first hand pair. Immediately after carrying out the object simultaneously, two processed semiconductor wafers can be simultaneously carried into the cassette by using two hands constituting the second hand pair. Immediately after the two semiconductor wafers after processing are simultaneously unloaded from the processing apparatus using the two hands forming the second hand pair, the two hands forming the first hand pair are used to perform the pre-processing. Can be simultaneously carried into the processing apparatus. Therefore, according to the present invention, it is possible to reduce the tact time of a manufacturing system such as a semiconductor manufacturing system in which an industrial robot is incorporated and used.

ここで、たとえば、本発明の産業用ロボットが半導体製造システムに組み込まれて使用される場合、一般に、カセットに搬入される半導体ウエハ（搬送対象物）のカセット内での位置精度は要求されないが、処理装置に搬入される半導体ウエハの処理装置内での位置精度は要求される。すなわち、カセットに対して半導体ウエハを精度良く搬入する必要はないが、処理装置に対して半導体ウエハを精度良く搬入する必要がある。また、搬送対象物を保持するハンドの保持部が、搬送対象物の端面が当接する当接面を有する端面当接部材と、搬送対象物の端面が当接面に押し付けられるように搬送対象物を押す押付機構とを備えるグリップ型の保持部である場合、搬送対象物の端面を当接面に押し付けることでハンドに搭載される搬送対象物の位置精度を高めることが可能になり、その結果、処理装置に対して半導体ウエハ（搬送対象物）を精度良く搬入することが可能になるが、ハンドの保持部が搬送対象物を吸引して保持する吸引孔を備える吸引型の保持部である場合、ハンドに搭載される搬送対象物の位置精度を高めることは困難であり、その結果、処理装置に対して半導体ウエハ（搬送対象物）を精度良く搬入することは困難になる。したがって、本発明において、４個のハンドの保持部の全てがグリップ型の保持部であれば、処理装置に対して半導体ウエハを精度良く搬入することは可能である。一方で、ハンドの保持部がグリップ型の保持部である場合には、たとえば、エアシリンダ用の空気配管や検知機構用の配線をハンドの保持部まで引き回す必要があるため、ハンドの保持部が吸引型の保持部である場合と比較して、アームとハンドとの連結部分の構成が複雑になる。   Here, for example, when the industrial robot of the present invention is used by being incorporated into a semiconductor manufacturing system, generally, the positional accuracy of the semiconductor wafer (object to be transferred) loaded into the cassette in the cassette is not required, The positional accuracy of the semiconductor wafer carried into the processing apparatus in the processing apparatus is required. That is, it is not necessary to load the semiconductor wafer into the cassette with high accuracy, but it is necessary to load the semiconductor wafer into the processing apparatus with high accuracy. Further, the holding portion of the hand holding the transfer object is an end surface contact member having a contact surface with which the end surface of the transfer object contacts, and the transfer object such that the end surface of the transfer object is pressed against the contact surface. In the case of a grip-type holding unit that has a pressing mechanism that presses the object, it is possible to increase the positional accuracy of the object to be mounted on the hand by pressing the end surface of the object to be abutted against the contact surface, and as a result The semiconductor wafer (object to be transferred) can be carried into the processing apparatus with high precision, but the holding part of the hand is a suction type holding part having a suction hole for sucking and holding the object to be transferred. In this case, it is difficult to increase the positional accuracy of the transfer target mounted on the hand, and as a result, it becomes difficult to accurately load the semiconductor wafer (the transfer target) into the processing apparatus. Therefore, in the present invention, if all of the holding parts of the four hands are grip-type holding parts, it is possible to carry the semiconductor wafer into the processing apparatus with high accuracy. On the other hand, when the holding portion of the hand is a grip-type holding portion, for example, it is necessary to route the air pipe for the air cylinder and the wiring for the detection mechanism to the holding portion of the hand. The structure of the connecting portion between the arm and the hand becomes more complicated than in the case of a suction type holding unit.

本発明では、第１ハンド対および第２ハンド対のいずれか一方を構成する２個のハンドの保持部はグリップ型の保持部であり、第１ハンド対および第２ハンド対のいずれか他方を構成する２個のハンドの保持部は吸引型の保持部である。そのため、本発明では、たとえば、産業用ロボットが半導体製造システムに組み込まれて使用される場合、グリップ型の保持部を備える２個のハンドを用いてカセットから処理前の２枚の半導体ウエハ（搬送対象物）を搬出し、吸引型の保持部を備える２個のハンドを用いて処理後の２枚の半導体ウエハをカセットに搬入するとともに、吸引型の保持部を備える２個のハンドを用いて処理装置から処理後の２枚の半導体ウエハを搬出し、グリップ型の保持部を備える２個のハンドを用いて処理前の２枚の半導体ウエハを処理装置に搬入することで、処理装置に対して半導体ウエハを精度良く搬入することが可能になる。また、本発明では、第１ハンド対および第２ハンド対のいずれか他方を構成する２個のハンドの保持部が吸引型の保持部であるため、４個のハンドの保持部の全てがグリップ型の保持部である場合と比較して、アームと４個のハンドとの連結部分の構成を簡素化することが可能になる。すなわち、本発明では、処理装置等に対して搬送対象物を精度良く搬入することが可能であっても、アームと４個のハンドとの連結部分の構成を簡素化することが可能になる。   In the present invention, the holding units of the two hands constituting one of the first hand pair and the second hand pair are grip-type holding units, and the other of the first hand pair and the second hand pair is used as the holding unit. The holding units of the two hands that constitute the unit are suction-type holding units. For this reason, in the present invention, for example, when an industrial robot is incorporated in a semiconductor manufacturing system and used, two semiconductor wafers (transferred) are processed from a cassette using two hands having grip-type holding units. The target object) is unloaded, and the two processed semiconductor wafers are loaded into the cassette using two hands each having a suction-type holding unit, and also using two hands each including a suction-type holding unit. The two processed semiconductor wafers are unloaded from the processing apparatus, and the two unprocessed semiconductor wafers are loaded into the processing apparatus using two hands having grip-type holding units. Thus, the semiconductor wafer can be carried in with high accuracy. Further, in the present invention, since the holding parts of the two hands constituting one of the first hand pair and the second hand pair are suction type holding parts, all of the holding parts of the four hands are gripped. Compared with the case of the mold holding portion, the configuration of the connecting portion between the arm and the four hands can be simplified. That is, in the present invention, even if it is possible to accurately carry in the object to be transported to the processing device or the like, it is possible to simplify the configuration of the connecting portion between the arm and the four hands.

本発明において、４個のハンドのうちの一番上に配置されるハンドを第１ハンドとし、上から二番目に配置されるハンドを第２ハンドとし、上から三番目に配置されるハンドを第３ハンドとし、一番下に配置されるハンドを第４ハンドとすると、産業用ロボットは、中空状に形成され第１ハンドの基端側部分の下面側が固定される第１中空回動軸と、中空状に形成され第１中空回動軸の外周側にかつ第１中空回動軸と同軸上に配置されるとともに第２ハンドの基端側部分の下面側が固定される第２中空回動軸と、中空状に形成され第２中空回動軸の外周側にかつ第１中空回動軸と同軸上に配置されるとともに第３ハンドの基端側部分の下面側が固定される第３中空回動軸と、中空状に形成され第３中空回動軸の外周側にかつ第１中空回動軸と同軸上に配置されるとともに第４ハンドの基端側部分の下面側が固定される第４中空回動軸とを備え、第１ハンドおよび第２ハンドの保持部は、端面当接部材と押付機構とを備え、第３ハンドおよび第４ハンドの保持部は、搬送対象物を吸引して保持することが好ましい。   In the present invention, the top hand of the four hands is the first hand, the second hand is the second hand, and the third hand is the third hand. Assuming that the third hand is the fourth hand and the lowest hand is the fourth hand, the industrial robot has a first hollow rotary shaft that is formed in a hollow shape and the lower surface of the base end portion of the first hand is fixed. And a second hollow member which is formed in a hollow shape and is disposed on the outer peripheral side of the first hollow rotary shaft and coaxially with the first hollow rotary shaft, and the lower surface side of the base end side portion of the second hand is fixed. A third, which is formed in a hollow shape on the outer peripheral side of the second hollow rotary shaft and coaxially with the first hollow rotary shaft, and is fixed to the lower surface side of the base end side portion of the third hand; A hollow rotary shaft, and a first hollow rotary shaft formed on the outer peripheral side of a third hollow rotary shaft. A fourth hollow rotary shaft disposed on the shaft and fixed to a lower surface side of a base end side portion of the fourth hand, wherein holding portions of the first hand and the second hand each have an end surface contact member and a pressing mechanism. It is preferable that the holding units of the third hand and the fourth hand suck and hold the transport target.

この場合には、たとえば、第１ハンドおよび第２ハンドは、搬送対象物が搭載される搭載部と、搭載部を支持する支持部とを備え、第１ハンドの支持部は、第１ハンドの搭載部と第１ハンドの基端側部分とを繋いでおり、第２ハンドの支持部は、第２ハンドの搭載部と第２ハンドの基端側部分とを繋いでおり、第１ハンドの基端側部分および支持部と、第２ハンドの基端側部分および支持部と、第３ハンドと、第４ハンドとは、中空状になっており、第１ハンドの支持部の内部および第２ハンドの支持部の内部には、エアシリンダおよび検知機構が配置され、第１ハンドの支持部の内部に配置されるエアシリンダ用の空気配管および第１ハンドの支持部の内部に配置される検知機構用の配線は、第１中空回動軸の内周側を通過して第１ハンドの基端側部分の内部に引き込まれ、第１中空回動軸には、第１中空回動軸の径方向で貫通するように、かつ、第１中空回動軸の周方向を長手方向とするスリット状の切欠き部が形成され、切欠き部は、第２中空回動軸の上端よりも上側に配置され、第２ハンドの支持部の内部に配置されるエアシリンダ用の空気配管および第２ハンドの支持部の内部に配置される検知機構用の配線は、第１中空回動軸の内周側を通過した後、切欠き部を通過して第２ハンドの基端側部分の内部に引き込まれ、第３中空回動軸および第４中空回動軸には、第３ハンドの内部に通じる空気孔が形成され、第４中空回動軸には、第４ハンドの内部に通じる空気孔が形成されている。   In this case, for example, the first hand and the second hand include a mounting portion on which the object to be conveyed is mounted, and a support portion that supports the mounting portion, and the support portion of the first hand includes a support portion of the first hand. The mounting portion connects the base portion of the first hand, and the support portion of the second hand connects the mounting portion of the second hand and the base portion of the second hand. The proximal end portion and the support portion, the proximal end portion and the support portion of the second hand, the third hand, and the fourth hand are hollow, and the inside of the support portion of the first hand and the fourth hand portion are formed. An air cylinder and a detection mechanism are arranged inside the support portion of the two hands, and are arranged inside an air pipe for the air cylinder arranged inside the support portion of the first hand and inside the support portion of the first hand. The wiring for the detection mechanism passes through the inner peripheral side of the first hollow rotary shaft, and The first hollow rotary shaft is drawn into the inside of the base end portion, penetrates in the radial direction of the first hollow rotary shaft, and has a circumferential direction of the first hollow rotary shaft as a longitudinal direction. A slit-shaped notch is formed, and the notch is disposed above the upper end of the second hollow rotary shaft, and the air pipe for the air cylinder and the second pipe are disposed inside the support of the second hand. The wiring for the detection mechanism disposed inside the support portion of the two hands passes through the notch after passing through the inner peripheral side of the first hollow rotary shaft, and then passes through the inside of the base end portion of the second hand. The third hollow rotation shaft and the fourth hollow rotation shaft are formed with air holes communicating with the inside of the third hand, and the fourth hollow rotation shaft is formed with air communicating with the inside of the fourth hand. A hole is formed.

このように構成すると、第１中空回動軸の内周側を利用して、第１ハンドの基端側部分の内部へエアシリンダ用の空気配管および検知機構用の配線を引き回すことが可能になる。また、第１中空回動軸の内周側を利用するとともに第１中空回動軸に形成される切欠き部を利用して、第２ハンドの基端側部分の内部へエアシリンダ用の空気配管および検知機構用の配線を引き回すことが可能になる。さらに、第３中空回動軸および第４中空回動軸に形成される空気孔によって第３ハンドの内部に通じる空気の通り道を形成することが可能になり、その結果、第３ハンドの吸引孔から空気を吸引することが可能になる。また、第４中空回動軸に形成される空気孔によって第４ハンドの内部に通じる空気の通り道を形成することが可能になり、その結果、第４ハンドの吸引孔から空気を吸引することが可能になる。したがって、第１ハンドおよび第２ハンドの保持部が吸引型の保持部となっており、第３ハンドおよび第４ハンドの保持部がグリップ型の保持部となっている場合と比較して、アームと４個のハンドとの連結部分の構成を簡素化することが可能になる。   With this configuration, it is possible to route the air pipe for the air cylinder and the wiring for the detection mechanism to the inside of the base end portion of the first hand using the inner peripheral side of the first hollow rotary shaft. Become. In addition, air for the air cylinder is introduced into the base end side portion of the second hand by using the notch formed in the first hollow rotation shaft while using the inner peripheral side of the first hollow rotation shaft. The piping and the wiring for the detection mechanism can be routed. Further, the air holes formed in the third hollow rotation shaft and the fourth hollow rotation shaft make it possible to form a passage for air communicating with the inside of the third hand, and as a result, a suction hole of the third hand. From the air. In addition, the air hole formed in the fourth hollow rotation shaft can form a passage for air that communicates with the inside of the fourth hand. As a result, air can be sucked from the suction hole of the fourth hand. Will be possible. Therefore, the holding portion of the first hand and the second hand is a suction-type holding portion, and as compared with the case where the holding portion of the third hand and the fourth hand is a grip-type holding portion. It is possible to simplify the configuration of the connecting portion between the hand and the four hands.

以上のように、本発明では、産業用ロボットが組み込まれて使用される半導体製造システム等の製造システムのタクトタイムを短縮することが可能になる。   As described above, according to the present invention, the takt time of a manufacturing system such as a semiconductor manufacturing system in which an industrial robot is incorporated and used can be reduced.

本発明の実施の形態にかかる産業用ロボットの平面図である。It is a top view of the industrial robot concerning an embodiment of the invention. 図１に示す産業用ロボットの側面図である。It is a side view of the industrial robot shown in FIG. 図２に示す産業用ロボットの手首部の断面図である。FIG. 3 is a sectional view of a wrist of the industrial robot shown in FIG. 2. 図１に示す第１ハンドの先端側部分の構成を説明するための平面図である。FIG. 2 is a plan view for explaining a configuration of a tip side portion of a first hand shown in FIG. 1. 図４のＥ部の拡大図である。FIG. 5 is an enlarged view of a portion E in FIG. 4. 図３に示す第４中空回動軸の一部分の断面図である。It is sectional drawing of a part of 4th hollow rotation shaft shown in FIG. 図３に示す軸支持部材の断面図である。FIG. 4 is a sectional view of the shaft support member shown in FIG. 3. 図７のＦ−Ｆ方向から軸支持部材の一部を示す図である。FIG. 8 is a view showing a part of the shaft support member from the FF direction in FIG. 7. 図１に示す産業用ロボットの動作を説明するための平面図である。FIG. 2 is a plan view for explaining the operation of the industrial robot shown in FIG. 1. 図１に示す産業用ロボットの動作を説明するための平面図である。FIG. 2 is a plan view for explaining the operation of the industrial robot shown in FIG. 1.

以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態を説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

（産業用ロボットの概略構成）
図１は、本発明の実施の形態にかかる産業用ロボット１の平面図である。図２は、図１に示す産業用ロボット１の側面図である。図３は、図２に示す産業用ロボット１の手首部１１の断面図である。 (Schematic configuration of industrial robot)
FIG. 1 is a plan view of an industrial robot 1 according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a side view of the industrial robot 1 shown in FIG. FIG. 3 is a sectional view of the wrist 11 of the industrial robot 1 shown in FIG.

本形態の産業用ロボット１は、搬送対象物としての半導体ウエハ２を搬送するための水平多関節型ロボットである。この産業用ロボット１は、半導体ウエハ２が搭載される４個のハンド３〜６と、４個のハンド３〜６が回動可能に連結されるアーム７と、アーム７の基端側が回動可能に連結される本体部８とを備えている。以下の説明では、産業用ロボット１を「ロボット１」とし、半導体ウエハ２を「ウエハ２」とする。   The industrial robot 1 of the present embodiment is a horizontal articulated robot for transferring a semiconductor wafer 2 as a transfer target. The industrial robot 1 includes four hands 3 to 6 on which a semiconductor wafer 2 is mounted, an arm 7 to which the four hands 3 to 6 are rotatably connected, and a base end of the arm 7 that rotates. And a main body 8 that is connected to the main body. In the following description, the industrial robot 1 is referred to as “robot 1”, and the semiconductor wafer 2 is referred to as “wafer 2”.

４個のハンド３〜６は、４個のハンド３〜６の基端側が上下方向で重なるようにアーム７の先端側に連結されている。以下、４個のハンド３〜６を区別して表す場合には、４個のハンド３〜６のうちの一番上に配置されるハンド３を「第１ハンド３」とし、上から二番目に配置されるハンド４を「第２ハンド４」とし、上から三番目に配置されるハンド５を「第３ハンド５」とし、一番下に配置されるハンド６を「第４ハンド６」とする。本形態では、第１ハンド３と第２ハンド４とによって第１ハンド対が構成されており、第３ハンド５と第４ハンド６とによって第２ハンド対が構成されている。   The four hands 3 to 6 are connected to the distal end of the arm 7 such that the base ends of the four hands 3 to 6 overlap in the vertical direction. Hereinafter, when the four hands 3 to 6 are distinguished from each other, the hand 3 arranged at the top of the four hands 3 to 6 is referred to as a “first hand 3” and the second hand from the top. The placed hand 4 is referred to as a “second hand 4”, the third placed hand 5 is referred to as a “third hand 5”, and the lowest placed hand 6 is referred to as a “fourth hand 6”. I do. In the present embodiment, a first hand pair is configured by the first hand 3 and the second hand 4, and a second hand pair is configured by the third hand 5 and the fourth hand 6.

本体部８は、略四角柱状に形成されている。本体部８の内部には、アーム７を昇降させるアーム昇降機構（図示省略）が収納されている。アーム７は、第１アーム部９と第２アーム部１０とから構成されている。第１アーム部９および第２アーム部１０は、中空状に形成されている。第１アーム部９の基端側は、本体部８に回動可能に連結されている。第２アーム部１０の基端側は、第１アーム部９の先端側に回動可能に連結されている。また、ロボット１は、本体部８に対して第１アーム部９を回動させる第１アーム駆動機構（図示省略）と、第１アーム部９に対して第２アーム部１０を回動させる第２アーム駆動機構（図示省略）とを備えている。   The main body 8 is formed in a substantially quadrangular prism shape. An arm elevating mechanism (not shown) for elevating the arm 7 is housed inside the main body 8. The arm 7 includes a first arm 9 and a second arm 10. The first arm 9 and the second arm 10 are formed in a hollow shape. The proximal end of the first arm 9 is rotatably connected to the main body 8. The proximal end of the second arm 10 is rotatably connected to the distal end of the first arm 9. The robot 1 has a first arm driving mechanism (not shown) for rotating the first arm 9 relative to the main body 8 and a second arm 10 for rotating the second arm 10 relative to the first arm 9. A two-arm drive mechanism (not shown).

４個のハンド３〜６は、第２アーム部１０の先端側に回動可能に連結されている。ハンド３〜６と第２アーム部１０との連結部は、手首部１１となっている。ハンド３〜６は、アーム７に対して個別に回動可能となっている。また、ハンド３〜６は、上下方向から見たときに共通の回動中心Ｃ１（図１参照）を中心に回動可能となっている。本体部８と第１アーム部９と第２アーム部１０とハンド３〜６とは、上下方向において、下側からこの順番で配置されている。   The four hands 3 to 6 are rotatably connected to the distal end side of the second arm unit 10. A connecting portion between the hands 3 to 6 and the second arm portion 10 is a wrist portion 11. The hands 3 to 6 are individually rotatable with respect to the arm 7. The hands 3 to 6 are rotatable about a common rotation center C1 (see FIG. 1) when viewed from the up and down direction. The main body 8, the first arm 9, the second arm 10, and the hands 3 to 6 are arranged in this order from below in the up-down direction.

また、ロボット１は、第１ハンド３を回動させる第１ハンド駆動機構と、第２ハンド４を回動させる第２ハンド駆動機構と、第３ハンド５を回動させる第３ハンド駆動機構と、第４ハンド６を回動させる第４ハンド駆動機構とを備えている。第１ハンド駆動機構は、モータ１２を備えている。第２ハンド駆動機構は、モータ１３を備えている。また、第３ハンド駆動機構は、モータ１４を備え、第４ハンド駆動機構は、モータ１５を備えている。   The robot 1 also includes a first hand drive mechanism for rotating the first hand 3, a second hand drive mechanism for rotating the second hand 4, and a third hand drive mechanism for rotating the third hand 5. , A fourth hand drive mechanism for rotating the fourth hand 6. The first hand drive mechanism includes a motor 12. The second hand drive mechanism includes a motor 13. Further, the third hand drive mechanism includes a motor 14, and the fourth hand drive mechanism includes a motor 15.

モータ１２、１３は、第１アーム部９と本体部８との連結部分に配置されている。また、モータ１２とモータ１３とは、隣り合うように配置されている。モータ１４、１５は、第２アーム部１０の基端側の内部に配置されている。また、モータ１４とモータ１５とは、隣り合うように配置されている。本形態では、モータ１２、１３が第１アーム部９の基端側に配置されているため、本体部８に対する第１アーム部９の回動時のイナーシャを低減することが可能となっている。また、本形態では、モータ１４、１５が第２アーム部１０の基端側に配置されているため、第１アーム部９に対する第２アーム部１０の回動時のイナーシャを低減することが可能となっている。   The motors 12 and 13 are arranged at a connecting portion between the first arm 9 and the main body 8. Further, the motor 12 and the motor 13 are arranged so as to be adjacent to each other. The motors 14 and 15 are arranged inside the second arm unit 10 on the base end side. Further, the motor 14 and the motor 15 are arranged so as to be adjacent to each other. In the present embodiment, since the motors 12 and 13 are arranged on the base end side of the first arm 9, it is possible to reduce the inertia when the first arm 9 rotates with respect to the main body 8. . Further, in the present embodiment, since the motors 14 and 15 are arranged on the base end side of the second arm unit 10, it is possible to reduce inertia when the second arm unit 10 rotates with respect to the first arm unit 9. It has become.

また、第１ハンド駆動機構は、モータ１２の動力を第１ハンド３に伝達するためのプーリ１６およびベルト１７（図３参照）等を備えている。同様に、第２ハンド駆動機構は、モータ１３の動力を第２ハンド４に伝達するためのプーリ１８およびベルト１９（図３参照）等を備え、第３ハンド駆動機構は、モータ１４の動力を第３ハンド５に伝達するためのプーリ２０およびベルト２１（図３参照）等を備え、第４ハンド駆動機構は、モータ１５の動力を第４ハンド６に伝達するためのプーリ２２およびベルト２３（図３参照）等を備えている。   The first hand drive mechanism includes a pulley 16 and a belt 17 (see FIG. 3) for transmitting the power of the motor 12 to the first hand 3. Similarly, the second hand driving mechanism includes a pulley 18 and a belt 19 (see FIG. 3) for transmitting the power of the motor 13 to the second hand 4, and the third hand driving mechanism uses the power of the motor 14 The fourth hand drive mechanism includes a pulley 20 and a belt 23 (see FIG. 3) for transmitting the power of the motor 15 to the fourth hand 6. (See FIG. 3).

（第１ハンドおよび第２ハンドの構成）
図４は、図１に示す第１ハンド３の先端側部分の構成を説明するための平面図である。図５は、図４のＥ部の拡大図である。 (Configuration of First Hand and Second Hand)
FIG. 4 is a plan view for explaining the configuration of the tip side portion of the first hand 3 shown in FIG. FIG. 5 is an enlarged view of a portion E in FIG.

第１ハンド３および第２ハンド４は、上下方向から見たときに屈曲するように形成されている。具体的には、第１ハンド３および第２ハンド４は、上下方向から見たときに所定の角度で１回屈曲するように形成されている。また、第１ハンド３および第２ハンド４は、上下方向から見たときに所定の軸線を対称軸とする略線対称に形成されている。すなわち、上下方向から見たときの第１ハンド３の屈曲方向と第２ハンド４の屈曲方向とは逆方向となっている。   The first hand 3 and the second hand 4 are formed to bend when viewed from above and below. Specifically, the first hand 3 and the second hand 4 are formed to bend once at a predetermined angle when viewed from above and below. Further, the first hand 3 and the second hand 4 are formed substantially line-symmetrically with a predetermined axis as a symmetric axis when viewed from above and below. That is, the bending direction of the first hand 3 and the bending direction of the second hand 4 when viewed from above and below are opposite to each other.

第１ハンド３は、基端側部分３ａと先端側部分３ｂとによって構成されている。また、第１ハンド３は、上下方向から見たときに基端側部分３ａと先端側部分３ｂとのなす角度が鈍角となるように、１回屈曲しており、全体として略Ｌ形状（あるいは略「く」の字形状）に形成されている。先端側部分３ｂは、ウエハ２が搭載される搭載部としてのウエハ搭載部３ｃと、ウエハ搭載部３ｃを支持する支持部３ｄとから構成されている。支持部３ｄは、基端側部分３ａとウエハ搭載部３ｃとの間に配置されており、基端側部分３ａとウエハ搭載部３ｃと繋いでいる。ウエハ搭載部３ｃの先端側は、二股状に形成されており、上下方向から見たときのウエハ搭載部３ｃの形状は、略Ｙ形状となっている。ウエハ搭載部３ｃは、平板状に形成されている。基端側部分３ａおよび支持部３ｄは、中空状に形成されている。また、基端側部分３ａの内部は、支持部３ｄの内部に通じている。   The first hand 3 includes a base end portion 3a and a front end portion 3b. In addition, the first hand 3 is bent once so that the angle formed between the proximal end portion 3a and the distal end portion 3b when viewed from above and below is an obtuse angle, and is substantially L-shaped as a whole (or It is formed in a substantially “C” shape. The front end portion 3b includes a wafer mounting portion 3c as a mounting portion on which the wafer 2 is mounted, and a support portion 3d for supporting the wafer mounting portion 3c. The support portion 3d is disposed between the base end portion 3a and the wafer mounting portion 3c, and is connected to the base end portion 3a and the wafer mounting portion 3c. The tip side of the wafer mounting portion 3c is formed in a forked shape, and the shape of the wafer mounting portion 3c when viewed from above and below is substantially Y-shaped. The wafer mounting portion 3c is formed in a flat plate shape. The base end portion 3a and the support 3d are formed in a hollow shape. Further, the inside of the proximal end portion 3a communicates with the inside of the support portion 3d.

同様に、第２ハンド４は、基端側部分４ａと先端側部分４ｂとによって構成されている。また、第２ハンド４は、上下方向から見たときに基端側部分４ａと先端側部分４ｂとのなす角度が鈍角となるように、１回屈曲しており、全体として略Ｌ形状（あるいは略「く」の字形状）に形成されている。先端側部分４ｂは、ウエハ２が搭載される搭載部としてのウエハ搭載部４ｃと、ウエハ搭載部４ｃを支持する支持部４ｄとから構成されている。支持部４ｄは、基端側部分４ａとウエハ搭載部４ｃとの間に配置されており、基端側部分４ａとウエハ搭載部４ｃと繋いでいる。ウエハ搭載部４ｃは、ウエハ搭載部３ｃと同形状に形成されている。基端側部分４ａおよび支持部４ｄは、中空状に形成されている。また、基端側部分４ａの内部は、支持部４ｄの内部に通じている。   Similarly, the second hand 4 includes a base end portion 4a and a front end portion 4b. The second hand 4 is bent once so that the angle formed between the proximal end portion 4a and the distal end portion 4b when viewed from the up and down direction is an obtuse angle. It is formed in a substantially “C” shape. The tip side portion 4b includes a wafer mounting portion 4c as a mounting portion on which the wafer 2 is mounted, and a support portion 4d for supporting the wafer mounting portion 4c. The support portion 4d is disposed between the base portion 4a and the wafer mounting portion 4c, and is connected to the base portion 4a and the wafer mounting portion 4c. The wafer mounting section 4c is formed in the same shape as the wafer mounting section 3c. The proximal portion 4a and the support 4d are formed in a hollow shape. Further, the inside of the proximal end portion 4a communicates with the inside of the support portion 4d.

第１ハンド３および第２ハンド４は、ウエハ２を保持する保持部３０を備えている。保持部３０は、図４に示すように、ウエハ２の端面（外周面）が当接する当接面３１ａを有する端面当接部材３１と、ウエハ２の端面が当接面３１ａに押し付けられるようにウエハ２を押す押付機構３２とを備えるグリップ型の保持部である。端面当接部材３１は、二股状に形成されるウエハ搭載部３ｃ、４ｃの先端側の上面に固定されている。すなわち、ウエハ搭載部３ｃ、４ｃには、２個の端面当接部材３１が固定されている。なお、ウエハ搭載部３ｃ、４ｃの基端側の上面の２箇所には、ウエハ２が載置されるウエハ載置部材３３が固定されており、ウエハ２は、端面当接部材３１とウエハ載置部材３３とに搭載される。   The first hand 3 and the second hand 4 include a holding unit 30 that holds the wafer 2. As shown in FIG. 4, the holding portion 30 has an end surface contact member 31 having an abutment surface 31a with which the end surface (outer peripheral surface) of the wafer 2 abuts, and a holding member 30 so that the end surface of the wafer 2 is pressed against the abutment surface 31a. This is a grip-type holding unit including a pressing mechanism 32 for pressing the wafer 2. The end surface contact member 31 is fixed to the upper surface on the distal end side of the bifurcated wafer mounting portions 3c, 4c. That is, two end surface contact members 31 are fixed to the wafer mounting portions 3c and 4c. A wafer mounting member 33 on which the wafer 2 is mounted is fixed to two locations on the upper surface on the base end side of the wafer mounting portions 3c, 4c. It is mounted on the mounting member 33.

押付機構３２は、当接面３１ａに向かってウエハ２の端面（外周面）を押す押付部３４と、押付部３４を駆動するエアシリンダ３５と、押付部３４の動きを検知する検知機構３６とを備えている。押付部３４は、ウエハ２の端面に接触するローラ３７と、ローラ３７を回転可能に保持するローラ保持部材３８とを備えている。検知機構３６は、ローラ保持部材３８に固定される検知板３９と、２個のセンサ４０とを備えている。   The pressing mechanism 32 includes a pressing unit 34 that presses the end surface (outer peripheral surface) of the wafer 2 toward the contact surface 31a, an air cylinder 35 that drives the pressing unit 34, and a detection mechanism 36 that detects the movement of the pressing unit 34. It has. The pressing unit 34 includes a roller 37 that contacts the end surface of the wafer 2 and a roller holding member 38 that rotatably holds the roller 37. The detection mechanism 36 includes a detection plate 39 fixed to the roller holding member 38 and two sensors 40.

ローラ保持部材３８は、細長い略直方体状に形成されている。ローラ保持部材３８の基端側は、エアシリンダ３５のロッドに固定されている。ローラ３７は、ローラ保持部材３８の先端側に保持されている。このローラ３７は、上下方向を回転の軸方向として回転可能となっている。押付部３４は、図５の二点鎖線で示すようにローラ３７がウエハ２の端面に接触して当接面３１ａに向かってウエハ２を押し付ける押付位置と、図５の実線で示すようにローラ３７がウエハ２の端面から離れるように退避する退避位置との間で直線的に移動する。   The roller holding member 38 is formed in an elongated substantially rectangular parallelepiped shape. The base end side of the roller holding member 38 is fixed to a rod of the air cylinder 35. The roller 37 is held on the tip side of a roller holding member 38. The roller 37 is rotatable with the vertical direction as the axis of rotation. The pressing portion 34 has a pressing position at which the roller 37 contacts the end surface of the wafer 2 and presses the wafer 2 toward the contact surface 31a as shown by a two-dot chain line in FIG. 5, and a roller as shown by a solid line in FIG. 37 moves linearly between a retreat position where the retreat position moves away from the end face of the wafer 2.

センサ４０は、互いに対向するように配置される発光素子と受光素子とを有する透過型の光学式センサである。検知板３９には、センサ４０の発光素子と受光素子との間を遮るための遮光部３９ａが形成されている。押付部３４が押付位置にあるときには、２個のセンサ４０のうちの一方のセンサ４０の発光素子と受光素子との間が遮光部３９ａによって遮られ、押付部３４が退避位置にあるときには、２個のセンサ４０のうちの他方のセンサ４０の発光素子と受光素子との間が遮光部３９ａによって遮られる。   The sensor 40 is a transmission type optical sensor having a light emitting element and a light receiving element arranged to face each other. On the detection plate 39, a light-shielding portion 39a for blocking between the light-emitting element and the light-receiving element of the sensor 40 is formed. When the pressing portion 34 is at the pressing position, the light-emitting element and the light receiving element of one of the two sensors 40 are blocked by the light shielding portion 39a, and when the pressing portion 34 is at the retracted position, Between the light emitting element and the light receiving element of the other sensor 40 of the individual sensors 40 is shielded by the light shielding portion 39a.

エアシリンダ３５は、中空状に形成される支持部３ｄ、４ｄの内部に配置されている。ローラ保持部材３８は、ローラ保持部材３８の先端側の一部分を除いて、支持部３ｄ、４ｄの内部に配置されており、検知板３９は、支持部３ｄ、４ｄの内部に配置されている。また、センサ４０は、支持部３ｄ、４ｄの内部に配置されている。すなわち、検知機構３６は、支持部３ｄ、４ｄの内部に配置されている。なお、図５に示すように、支持部３ｄ、４ｄの内部には、直線的に移動するローラ保持部材３８を案内するためのガイドレール４１が固定されている。ガイドレール４１には、ローラ保持部材３８の下面側に固定されるガイドブロック４２が係合している。   The air cylinder 35 is disposed inside the hollow support portions 3d and 4d. The roller holding member 38 is arranged inside the support portions 3d and 4d except for a part on the tip side of the roller holding member 38, and the detection plate 39 is arranged inside the support portions 3d and 4d. Further, the sensor 40 is disposed inside the support portions 3d, 4d. That is, the detection mechanism 36 is disposed inside the support portions 3d, 4d. As shown in FIG. 5, a guide rail 41 for guiding the linearly moving roller holding member 38 is fixed inside the support portions 3d and 4d. A guide block 42 fixed to the lower surface side of the roller holding member 38 is engaged with the guide rail 41.

（第３ハンドおよび第４ハンドの構成）
第３ハンド５および第４ハンド６は、第１ハンド３および第２ハンド４と同様に、上下方向から見たときに屈曲するように形成されている。すなわち、第３ハンド５および第４ハンド６は、上下方向から見たときに所定の角度で１回屈曲するように形成されている。また、第３ハンド５および第４ハンド６は、上下方向から見たときに所定の軸線を対称軸とする略線対称に形成されており、上下方向から見たときの第３ハンド５の屈曲方向と第４ハンド５の屈曲方向とは逆方向となっている。 (Configuration of Third Hand and Fourth Hand)
Like the first hand 3 and the second hand 4, the third hand 5 and the fourth hand 6 are formed so as to bend when viewed from above and below. That is, the third hand 5 and the fourth hand 6 are formed so as to bend once at a predetermined angle when viewed from above and below. In addition, the third hand 5 and the fourth hand 6 are formed substantially in line symmetry with a predetermined axis as a symmetric axis when viewed from above and below, and the third hand 5 is bent when viewed from above and below. The direction is opposite to the bending direction of the fourth hand 5.

第３ハンド５は、基端側部分５ａと先端側部分５ｂとによって構成されている。また、第３ハンド５は、上下方向から見たときに基端側部分５ａと先端側部分５ｂとのなす角度が鈍角となるように、１回屈曲しており、全体として略Ｌ形状（あるいは略「く」の字形状）に形成されている。先端側部分５ｂは、ウエハ２が搭載されるウエハ搭載部５ｃと、ウエハ搭載部５ｃを支持する支持部５ｄとから構成されている。支持部５ｄは、基端側部分５ａとウエハ搭載部５ｃとの間に配置されており、基端側部分５ａとウエハ搭載部５ｃと繋いでいる。   The third hand 5 includes a base end portion 5a and a front end portion 5b. The third hand 5 is bent once so that the angle formed by the proximal end portion 5a and the distal end portion 5b when viewed from above and below is an obtuse angle, and is substantially L-shaped as a whole (or It is formed in a substantially “C” shape. The front end portion 5b includes a wafer mounting portion 5c on which the wafer 2 is mounted and a support portion 5d for supporting the wafer mounting portion 5c. The support portion 5d is arranged between the base end portion 5a and the wafer mounting portion 5c, and is connected to the base end portion 5a and the wafer mounting portion 5c.

同様に、第４ハンド６は、基端側部分６ａと先端側部分６ｂとによって構成されている。また、第４ハンド６は、上下方向から見たときに基端側部分６ａと先端側部分６ｂとのなす角度が鈍角となるように、１回屈曲しており、全体として略Ｌ形状（あるいは略「く」の字形状）に形成されている。先端側部分６ｂは、ウエハ２が搭載されるウエハ搭載部６ｃと、ウエハ搭載部６ｃを支持する支持部６ｄとから構成されている。支持部６ｄは、基端側部分６ａとウエハ搭載部６ｃとの間に配置されており、基端側部分６ａとウエハ搭載部６ｃと繋いでいる。   Similarly, the fourth hand 6 includes a base end portion 6a and a front end portion 6b. The fourth hand 6 is bent once so that the angle formed between the proximal end portion 6a and the distal end portion 6b when viewed from above and below is an obtuse angle, and has a substantially L-shape as a whole (or It is formed in a substantially “C” shape. The distal end portion 6b includes a wafer mounting portion 6c on which the wafer 2 is mounted and a support portion 6d for supporting the wafer mounting portion 6c. The support portion 6d is arranged between the base end portion 6a and the wafer mounting portion 6c, and is connected to the base end portion 6a and the wafer mounting portion 6c.

第３ハンド５は、中空状に形成されている。すなわち、基端側部分５ａ、ウエハ搭載部５ｃおよび支持部５ｄは、基端側部分５ａの内部とウエハ搭載部５ｃの内部と支持部５ｄの内部とが通じる中空状に形成されている。同様に、第４ハンド６は、中空状に形成されている。すなわち、基端側部分６ａ、ウエハ搭載部６ｃおよび支持部６ｄは、基端側部分６ａの内部とウエハ搭載部６ｃの内部と支持部６ｄの内部とが通じる中空状に形成されている。   The third hand 5 is formed in a hollow shape. That is, the base end portion 5a, the wafer mounting portion 5c, and the support portion 5d are formed in a hollow shape that communicates with the inside of the base end portion 5a, the inside of the wafer mounting portion 5c, and the inside of the support portion 5d. Similarly, the fourth hand 6 is formed in a hollow shape. That is, the base portion 6a, the wafer mounting portion 6c, and the support portion 6d are formed in a hollow shape that communicates with the inside of the base portion 6a, the inside of the wafer mounting portion 6c, and the inside of the support portion 6d.

第３ハンド５および第４ハンド６は、ウエハ２を保持する保持部４５を備えている。保持部４５は、ウエハ２を吸引して保持する吸引孔４６（図１参照）を備えている。すなわち、第３ハンド５および第４ハンド６は、吸引型の保持部４５を備えており、ウエハ２を吸引して保持する。吸引孔４６は、ウエハ搭載部５ｃ、６ｃの先端側に形成されている。この吸引孔４６は、中空状に形成されるウエハ搭載部５ｃ、６ｃの内部から上側へ貫通するように形成されている。ウエハ搭載部５ｃに形成される吸引孔４６には、後述の空気配管６４の一端が繋がっている。ウエハ搭載部６ｃに形成される吸引孔４６には、後述の空気配管６２の一端が繋がっている。   The third hand 5 and the fourth hand 6 include a holding unit 45 that holds the wafer 2. The holding section 45 has a suction hole 46 (see FIG. 1) for sucking and holding the wafer 2. That is, the third hand 5 and the fourth hand 6 include the suction-type holding unit 45, and suck and hold the wafer 2. The suction hole 46 is formed on the tip side of the wafer mounting portions 5c and 6c. The suction hole 46 is formed to penetrate upward from inside the wafer mounting portions 5c and 6c formed in a hollow shape. One end of an air pipe 64 described later is connected to the suction hole 46 formed in the wafer mounting portion 5c. One end of an air pipe 62 described later is connected to the suction hole 46 formed in the wafer mounting portion 6c.

（手首部の構成）
図６は、図３に示す中空回動軸５４の一部分の断面図である。図７は、図３に示す軸支持部材５５の断面図である。図８は、図７のＦ−Ｆ方向から軸支持部材５５の一部を示す図である。 (Structure of the wrist)
FIG. 6 is a sectional view of a part of the hollow rotary shaft 54 shown in FIG. FIG. 7 is a sectional view of the shaft support member 55 shown in FIG. FIG. 8 is a view showing a part of the shaft support member 55 from the FF direction in FIG.

手首部１１には、図３に示すように、中空状に形成される第１中空回動軸としての中空回動軸５１と、中空状に形成され中空回動軸５１の外周側に配置されるとともに中空回動軸５１と同軸上に配置される第２中空回動軸としての中空回動軸５２と、中空状に形成され中空回動軸５２の外周側に配置されるとともに中空回動軸５１と同軸上に配置される第３中空回動軸としての中空回動軸５３と、中空状に形成され中空回動軸５３の外周側に配置されるとともに中空回動軸５１と同軸上に配置される第４中空回動軸としての中空回動軸５４とが配置されている。   As shown in FIG. 3, the wrist portion 11 is provided with a hollow rotary shaft 51 formed as a hollow first hollow rotary shaft and a hollow rotary shaft 51 disposed on the outer peripheral side of the hollow rotary shaft 51. A hollow rotary shaft 52 as a second hollow rotary shaft coaxially arranged with the hollow rotary shaft 51; and a hollow rotary shaft 52 formed in a hollow shape and disposed on the outer peripheral side of the hollow rotary shaft 52. A hollow rotary shaft 53 serving as a third hollow rotary shaft disposed coaxially with the shaft 51; and a hollow rotary shaft 53 which is formed in a hollow shape and is disposed on the outer peripheral side of the hollow rotary shaft 53 and is coaxial with the hollow rotary shaft 51. And a hollow rotation shaft 54 as a fourth hollow rotation shaft disposed at the second position.

中空回動軸５１〜５４は、細長い略円筒状に形成されており、中空回動軸５１〜５４の軸方向と上下方向とが一致するように配置されている。また、中空回動軸５１〜５４は、上下方向から見たときに共通の回動中心Ｃ１を中心に回動可能となっている。中空回動軸５１の長さは、中空回動軸５２の長さよりも長くなっている。また、中空回動軸５２の長さは、中空回動軸５３の長さよりも長くなっており、中空回動軸５３の長さは、中空回動軸５４の長さよりも長くなっている。また、中空回動軸５１の上端、中空回動軸５２の上端、中空回動軸５３の上端および中空回動軸５４の上端は、上側からこの順番で配置され、中空回動軸５１の下端、中空回動軸５２の下端、中空回動軸５３の下端および中空回動軸５４の下端は、下側からこの順番で配置されている。   The hollow rotation shafts 51 to 54 are formed in a slender, substantially cylindrical shape, and are arranged so that the axial direction of the hollow rotation shafts 51 to 54 coincides with the vertical direction. Further, the hollow rotation shafts 51 to 54 are rotatable about a common rotation center C1 when viewed from above and below. The length of the hollow rotation shaft 51 is longer than the length of the hollow rotation shaft 52. Further, the length of the hollow rotation shaft 52 is longer than the length of the hollow rotation shaft 53, and the length of the hollow rotation shaft 53 is longer than the length of the hollow rotation shaft 54. The upper end of the hollow rotation shaft 51, the upper end of the hollow rotation shaft 52, the upper end of the hollow rotation shaft 53, and the upper end of the hollow rotation shaft 54 are arranged in this order from the upper side. The lower end of the hollow rotary shaft 52, the lower end of the hollow rotary shaft 53, and the lower end of the hollow rotary shaft 54 are arranged in this order from below.

中空回動軸５１の上端には、第１ハンド３の基端側部分３ａの下面側が固定され、中空回動軸５２の上端には、第２ハンド４の基端側部分４ａの下面側が固定され、中空回動軸５３の上端には、第３ハンド５の基端側部分５ａの下面側が固定され、中空回動軸５４の上端には、第４ハンド６の基端側部分６ａの下面側が固定されている。中空回動軸５１の下端側には、プーリ１６が固定され、中空回動軸５２の下端側には、プーリ１８が固定され、中空回動軸５３の下端側には、プーリ２０が固定され、中空回動軸５４の下端側には、プーリ２２が固定されている。   The lower surface of the proximal portion 3a of the first hand 3 is fixed to the upper end of the hollow rotating shaft 51, and the lower surface of the proximal portion 4a of the second hand 4 is fixed to the upper end of the hollow rotating shaft 52. The lower surface of the base portion 5a of the third hand 5 is fixed to the upper end of the hollow rotation shaft 53, and the lower surface of the base portion 6a of the fourth hand 6 is fixed to the upper end of the hollow rotation shaft 54. Side is fixed. The pulley 16 is fixed to the lower end of the hollow rotation shaft 51, the pulley 18 is fixed to the lower end of the hollow rotation shaft 52, and the pulley 20 is fixed to the lower end of the hollow rotation shaft 53. The pulley 22 is fixed to the lower end of the hollow rotary shaft 54.

図３に示すように、プーリ１６、１８、２０、２２は、第２アーム部１０の先端側の内部に配置されている。すなわち、中空回動軸５１〜５４の下端側部分は、第２アーム部１０の先端側の内部に配置されている。第２アーム部１０の先端側には、円筒状に形成され中空回動軸５４の外周側に配置されるとともに中空回動軸５１と同軸上に配置される軸支持部材５５が固定されている。軸支持部材５５は、第２アーム部１０の上面側に固定されている。   As shown in FIG. 3, the pulleys 16, 18, 20, and 22 are arranged inside the second arm unit 10 on the distal end side. That is, the lower end portions of the hollow rotary shafts 51 to 54 are arranged inside the distal end side of the second arm portion 10. A shaft support member 55, which is formed in a cylindrical shape and is disposed on the outer peripheral side of the hollow rotary shaft 54 and is coaxial with the hollow rotary shaft 51, is fixed to the distal end side of the second arm portion 10. . The shaft support member 55 is fixed to the upper surface side of the second arm unit 10.

第１ハンド３の基端側部分３ａの下面側には、中空状に形成される基端側部分３ａの内部が中空回動軸５１の内周側に通じるように貫通孔３ｅが形成されており、基端側部分３ａの内部と中空回動軸５１の内周側とは、貫通孔３ｅを介して繋がっている。第２ハンド４の基端側部分４ａには、上下方向に貫通する貫通孔４ｅが形成されている。貫通孔４ｅには、中空回動軸５１の上端側部分が挿通されている。第３ハンド５の基端側部分５ａには、上下方向に貫通する貫通孔５ｅが形成されている。貫通孔５ｅには、中空回動軸５１、５２の上端側部分が挿通されている。第４ハンド６の基端側部分６ａには、上下方向に貫通する貫通孔６ｅが形成されている。貫通孔６ｅには、中空回動軸５１〜５３の上端側部分が挿通されている。   A through hole 3 e is formed on the lower surface side of the proximal end portion 3 a of the first hand 3 so that the inside of the hollow proximal end portion 3 a communicates with the inner peripheral side of the hollow rotary shaft 51. In addition, the inside of the base end portion 3a and the inner peripheral side of the hollow rotary shaft 51 are connected via a through hole 3e. A through hole 4e is formed in the base end portion 4a of the second hand 4 so as to penetrate vertically. The upper end portion of the hollow rotary shaft 51 is inserted into the through hole 4e. A through hole 5e is formed in the base end portion 5a of the third hand 5 so as to penetrate in the vertical direction. The upper ends of the hollow rotary shafts 51 and 52 are inserted into the through holes 5e. A through hole 6e is formed in the base end portion 6a of the fourth hand 6 so as to extend vertically. The upper end portions of the hollow rotary shafts 51 to 53 are inserted into the through holes 6e.

第２ハンド４の貫通孔４ｅに挿通される中空回動軸５１の上端側部分には、中空回動軸５１の径方向で中空回動軸５１を貫通するように形成されるとともに中空回動軸５１の周方向を長手方向とするスリット状の切欠き部５１ａが形成されている。この切欠き部５１ａは、中空回動軸５２の上端よりも上側に配置されている。基端側部分４ａの内部には、管状に形成される管状部材５６が固定されている。管状部材５６は、管状部材５６の軸方向と中空回動軸５１の径方向とが一致するように配置されており、管状部材５６の一端側部分は、中空回動軸５１の径方向において切欠き部５１ａに挿通されている。管状部材５６の一端は、中空回動軸５１の内周面よりも内周側に配置されている。   At the upper end portion of the hollow rotary shaft 51 inserted through the through hole 4e of the second hand 4, a hollow rotary shaft 51 is formed so as to penetrate the hollow rotary shaft 51 in the radial direction of the hollow rotary shaft 51 and to be hollowly rotated. A slit-shaped notch 51a having a longitudinal direction in the circumferential direction of the shaft 51 is formed. The notch 51a is disposed above the upper end of the hollow rotary shaft 52. A tubular member 56 formed in a tubular shape is fixed inside the proximal portion 4a. The tubular member 56 is arranged so that the axial direction of the tubular member 56 and the radial direction of the hollow rotary shaft 51 coincide with each other. One end of the tubular member 56 is cut in the radial direction of the hollow rotary shaft 51. It is inserted through the notch 51a. One end of the tubular member 56 is disposed on the inner peripheral side of the inner peripheral surface of the hollow rotary shaft 51.

軸支持部材５５には、軸支持部材５５の下端面から軸支持部材５５の内周面に通じる２個の空気孔５５ａ、５５ｂが形成されている。空気孔５５ａ、５５ｂは、軸支持部材５５の下端面の外周側部分から上側に向かって形成される縦孔と、この縦孔の上端から軸支持部材５５の内周面に向かって形成される横孔とから構成されている。図７、図８に示すように、空気孔５５ａと空気孔５５ｂとは、軸保持部材５５の周方向においてずれている。また、空気孔５５ａの横孔と空気孔５５ｂの横孔とは上下方向においてずれている。   The shaft support member 55 is formed with two air holes 55a and 55b communicating from the lower end surface of the shaft support member 55 to the inner peripheral surface of the shaft support member 55. The air holes 55a and 55b are formed in a vertical hole formed upward from the outer peripheral portion of the lower end surface of the shaft support member 55, and are formed from the upper end of the vertical hole toward the inner peripheral surface of the shaft support member 55. And a horizontal hole. As shown in FIGS. 7 and 8, the air hole 55 a and the air hole 55 b are shifted in the circumferential direction of the shaft holding member 55. The horizontal hole of the air hole 55a and the horizontal hole of the air hole 55b are shifted in the vertical direction.

図３に示すように、空気孔５５ｂの下端には継手５７が固定されており、継手５７には、空気配管５８の一端が接続されている。空気配管５８の他端は、たとえば、本体部８の内部に配置される空気の吸引手段（図示省略）に接続されている。同様に、空気孔５５ａの下端にも継手（図示省略）が固定されており、この継手には、空気配管（図示省略）の一端が接続されている。この空気配管の他端は、たとえば、本体部８の内部に配置される空気の吸引手段（図示省略）に接続されている。   As shown in FIG. 3, a joint 57 is fixed to a lower end of the air hole 55b, and one end of an air pipe 58 is connected to the joint 57. The other end of the air pipe 58 is connected to, for example, an air suction unit (not shown) arranged inside the main body 8. Similarly, a joint (not shown) is also fixed to the lower end of the air hole 55a, and one end of an air pipe (not shown) is connected to this joint. The other end of the air pipe is connected to, for example, air suction means (not shown) arranged inside the main body 8.

図７に示すように、軸支持部材５５の内周面には、空気孔５５ａの横孔が通じる円環状の空気溝５５ｃと、空気孔５５ｂの横孔が通じる円環状の空気溝５５ｄとが形成されている。また、軸支持部材５５の内周面の、空気溝５５ｃの上側、空気溝５５ｄの下側、および、空気溝５５ｃと空気溝５５ｄとの間には、Ｏリング５９が配置される円環状のシール配置溝５５ｅが形成されている。このＯリング５９は、空気溝５５ｃ、５５ｄからの空気の漏れを防止する機能を果たしている。   As shown in FIG. 7, an annular air groove 55c through which the horizontal hole of the air hole 55a communicates and an annular air groove 55d through which the horizontal hole of the air hole 55b communicates are formed on the inner peripheral surface of the shaft support member 55. Is formed. Further, on the inner peripheral surface of the shaft support member 55, an annular O-ring 59 is disposed above the air groove 55c, below the air groove 55d, and between the air groove 55c and the air groove 55d. A seal arrangement groove 55e is formed. The O-ring 59 functions to prevent air from leaking from the air grooves 55c and 55d.

中空回動軸５４には、中空回動軸５４の外周面から中空回動軸５４の内周面に通じる空気孔５４ａが形成されている。空気孔５４ａは、上下方向において空気溝５５ｃと同じ高さに配置されており、中空回動軸５４の外周面に形成される空気孔５４ａの一端は、空気溝５５ｃに通じている。図６に示すように、中空回動軸５４の内周面には、空気孔５４ａの他端が通じる円環状の空気溝５４ｂが形成されている。また、中空回動軸５４の内周面の、空気溝５４ｂの上側、および、空気溝５４ｂの下側には、Ｏリング５９が配置される円環状のシール配置溝５４ｃが形成されている。このＯリング５９は、空気溝５４ｂからの空気の漏れを防止する機能を果たしている。   The hollow rotation shaft 54 has an air hole 54 a formed from the outer peripheral surface of the hollow rotation shaft 54 to the inner peripheral surface of the hollow rotation shaft 54. The air hole 54a is arranged at the same height as the air groove 55c in the vertical direction, and one end of the air hole 54a formed on the outer peripheral surface of the hollow rotary shaft 54 communicates with the air groove 55c. As shown in FIG. 6, an annular air groove 54b through which the other end of the air hole 54a communicates is formed on the inner peripheral surface of the hollow rotary shaft 54. An annular seal arrangement groove 54c in which the O-ring 59 is arranged is formed on the inner peripheral surface of the hollow rotary shaft 54 above the air groove 54b and below the air groove 54b. The O-ring 59 has a function of preventing air from leaking from the air groove 54b.

また、中空回動軸５４には、中空回動軸５４の外周面から中空回動軸５４の上端面に通じる空気孔５４ｄが形成されている。空気孔５４ｄは、中空回動軸５４の外周面から中空回転軸５４の径方向の内側に向かって形成される横孔と、この横孔の径方向内側端から上側に向かって形成される縦孔と、この縦孔の上端から径方向の外側に向かって形成される横孔と、この横孔の径方向外側端から中空回動軸５４の上端面に向かって形成される縦孔とから構成されている。図６に示すように、空気孔５４ａと空気孔５４ｄとは、回動中心軸５４の周方向においてずれている。   Further, an air hole 54 d is formed in the hollow rotary shaft 54 from the outer peripheral surface of the hollow rotary shaft 54 to the upper end surface of the hollow rotary shaft 54. The air hole 54d has a horizontal hole formed from the outer circumferential surface of the hollow rotary shaft 54 toward the radial inside of the hollow rotary shaft 54, and a vertical hole formed upward from the radial inner end of the horizontal hole. A hole, a horizontal hole formed radially outward from the upper end of the vertical hole, and a vertical hole formed toward the upper end surface of the hollow rotary shaft 54 from the radially outer end of the horizontal hole. It is configured. As shown in FIG. 6, the air hole 54a and the air hole 54d are shifted in the circumferential direction of the rotation center shaft 54.

空気孔５４ｄの、中空回動軸５４の外周面から中空回転軸５４の径方向の内側に向かって形成される横孔は、上下方向において空気溝５５ｄと同じ高さに配置されており、中空回動軸５４の外周面に形成されるこの横孔の一端は、空気溝５５ｄに通じている。空気孔５４ｄの上端には、継手６１が固定されている。継手６１は、第４ハンド６の基端側部分６ａの内部に配置されている。継手６１には、空気配管６２の一端が接続されている。空気配管６２の他端は、ウエハ搭載部６ｃに形成される吸引孔４６に接続されており、空気配管６２は、第４ハンド６の内部で引き回されている。   The horizontal hole formed in the air hole 54d from the outer peripheral surface of the hollow rotary shaft 54 toward the radially inner side of the hollow rotary shaft 54 is disposed at the same height as the air groove 55d in the vertical direction. One end of the horizontal hole formed on the outer peripheral surface of the rotating shaft 54 communicates with the air groove 55d. A joint 61 is fixed to the upper end of the air hole 54d. The joint 61 is arranged inside the base end portion 6 a of the fourth hand 6. One end of an air pipe 62 is connected to the joint 61. The other end of the air pipe 62 is connected to a suction hole 46 formed in the wafer mounting portion 6c, and the air pipe 62 is routed inside the fourth hand 6.

中空回動軸５３には、中空回動軸５３の外周面から中空回動軸５３の上端面に通じる空気孔５３ａが形成されている。空気孔５３ａは、中空回動軸５３の外周面から中空回転軸５３の径方向の内側に向かって形成される横孔と、この横孔の径方向内側端から上側に向かって形成される縦孔と、この縦孔の上端から径方向の外側に向かって形成される横孔と、この横孔の径方向外側端から中空回動軸５３の上端面に向かって形成される縦孔とから構成されている。   The hollow rotary shaft 53 has an air hole 53a formed from the outer peripheral surface of the hollow rotary shaft 53 to the upper end surface of the hollow rotary shaft 53. The air hole 53a has a horizontal hole formed from the outer peripheral surface of the hollow rotary shaft 53 toward the radial inside of the hollow rotary shaft 53, and a vertical hole formed upward from the radial inner end of the horizontal hole. A hole, a horizontal hole formed radially outward from the upper end of the vertical hole, and a vertical hole formed toward the upper end surface of the hollow rotary shaft 53 from the radially outer end of the horizontal hole. It is configured.

空気孔５３ａの、中空回動軸５３の外周面から中空回転軸５３の径方向の内側に向かって形成される横孔は、上下方向において空気溝５４ｂと同じ高さに配置されており、中空回動軸５３の外周面に形成されるこの横孔の一端は、空気溝５４ｂに通じている。空気孔５３ａの上端には、継手６３が固定されている。継手６３は、第３ハンド５の基端側部分５ａの内部に配置されている。継手６３には、空気配管６４の一端が接続されている。空気配管６４の他端は、ウエハ搭載部５ｃに形成される吸引孔４６に接続されており、空気配管６４は、第３ハンド５の内部で引き回されている。   The horizontal hole formed in the air hole 53a from the outer peripheral surface of the hollow rotary shaft 53 toward the radially inner side of the hollow rotary shaft 53 is disposed at the same height as the air groove 54b in the vertical direction. One end of the horizontal hole formed on the outer peripheral surface of the rotating shaft 53 communicates with the air groove 54b. A joint 63 is fixed to the upper end of the air hole 53a. The joint 63 is arranged inside the base end portion 5 a of the third hand 5. One end of an air pipe 64 is connected to the joint 63. The other end of the air pipe 64 is connected to a suction hole 46 formed in the wafer mounting portion 5c, and the air pipe 64 is routed inside the third hand 5.

第１ハンド３の支持部３ｄの内部に配置されるエアシリンダ３５用の２本の空気配管７１および支持部３ｄの内部に配置される検知機構３６用の配線（具体的には、センサ４０用の配線）７２は、中空回動軸５１の内周側を通過して第１ハンド３の基端側部分３ａの内部に引き込まれている。具体的には、本体部８から引き出されて、アーム７の内部を通過した空気配管７１および配線７２は、中空回動軸５１の下端から上端に向かって中空回動軸５１の内周側を通過するとともに、貫通孔３ｅを通過して基端側部分３ａの内部に引き込まれている。また、基端側部分３ａの内部に引き込まれた空気配管７１および配線７２は、基端側部分３ａの内部を通過して支持部３ｄの内部まで引き回されている。なお、２本の空気配管７１のうちの一方の空気配管７１は、給気用の配管であり、他方の空気配管７１は、排気用の配管である。また、図４、図５では、配線７２の図示を省略している。   Two air pipes 71 for the air cylinder 35 arranged inside the support 3d of the first hand 3 and wiring for the detection mechanism 36 arranged inside the support 3d (specifically, for the sensor 40) ) 72 is drawn into the base end portion 3 a of the first hand 3 through the inner peripheral side of the hollow rotary shaft 51. Specifically, the air pipe 71 and the wiring 72 drawn out of the main body 8 and passing through the inside of the arm 7 move from the lower end to the upper end of the hollow rotary shaft 51 toward the inner peripheral side of the hollow rotary shaft 51. While passing through, it passes through the through hole 3e and is drawn into the base end portion 3a. The air pipe 71 and the wiring 72 drawn into the inside of the base portion 3a pass through the inside of the base portion 3a and are routed to the inside of the support portion 3d. Note that one of the two air pipes 71 is an air supply pipe, and the other air pipe 71 is an exhaust pipe. 4 and 5, the illustration of the wiring 72 is omitted.

第２ハンド４の支持部４ｄの内部に配置されるエアシリンダ３５用の２本の空気配管７３および支持部４ｄの内部に配置される検知機構３６用の配線（具体的には、センサ４０用の配線）７４は、中空回動軸５１の内周側を通過した後、管状部材５６を通過して第２ハンド４の基端側部分４ａの内部に引き込まれている。すなわち、空気配管７３および配線７４は、中空回動軸５１の内周側を通過した後、切欠き部５１ａを通過して第２ハンド４の基端側部分４ａの内部に引き込まれている。   Two air pipes 73 for the air cylinder 35 disposed inside the support 4d of the second hand 4 and wiring for the detection mechanism 36 disposed inside the support 4d (specifically, for the sensor 40) After passing through the inner peripheral side of the hollow rotary shaft 51, the wiring 74 passes through the tubular member 56 and is drawn into the base end portion 4 a of the second hand 4. That is, the air pipe 73 and the wiring 74 pass through the inner peripheral side of the hollow rotary shaft 51, and then pass through the notch 51 a and are drawn into the base end portion 4 a of the second hand 4.

具体的には、本体部８から引き出されて、アーム７の内部を通過した空気配管７３および配線７４は、中空回動軸５１の下端から上端側に向かって中空回動軸５１の内周側を通過するとともに、管状部材５６を通過して基端側部分４ａの内部に引き込まれている。また、基端側部分４ａの内部に引き込まれた空気配管７３および配線７４は、基端側部分４ａの内部を通過して支持部４ｄの内部まで引き回されている。なお、２本の空気配管７３のうちの一方の空気配管７３は、給気用の配管であり、他方の空気配管７３は、排気用の配管である。   Specifically, the air pipe 73 and the wiring 74 drawn out of the main body 8 and passing through the inside of the arm 7 are connected to the inner peripheral side of the hollow rotary shaft 51 from the lower end to the upper end side of the hollow rotary shaft 51. While passing through the tubular member 56 and being drawn into the proximal end portion 4a. In addition, the air pipe 73 and the wiring 74 drawn into the inside of the base end portion 4a pass through the inside of the base end portion 4a and are routed to the inside of the support portion 4d. One of the two air pipes 73 is an air supply pipe, and the other air pipe 73 is an exhaust pipe.

上述のように、軸支持部材５５には、空気孔５５ａと、空気孔５５ａの横孔が通じる空気溝５５ｃとが形成されている。また、中空回動軸５４には、空気溝５５ｃと同じ高さに配置される空気孔５４ａと、空気孔５４ａが通じる円環状の空気溝５４ｂとが形成されている。さらに、中空回動軸５３には、空気孔５３ａが形成され、空気孔５３ａの、中空回動軸５３の外周面から中空回転軸５４の径方向の内側に向かって形成される横孔は、上下方向において空気溝５４ｂと同じ高さに配置されている。また、空気孔５３ａの上端には、第３ハンド５の基端側部分５ａの内部に配置される継手６３が固定されている。   As described above, the shaft support member 55 is formed with the air hole 55a and the air groove 55c through which the horizontal hole of the air hole 55a communicates. The hollow rotary shaft 54 has an air hole 54a arranged at the same height as the air groove 55c, and an annular air groove 54b through which the air hole 54a communicates. Further, an air hole 53a is formed in the hollow rotation shaft 53, and a lateral hole formed in the air hole 53a from the outer peripheral surface of the hollow rotation shaft 53 toward the radial inside of the hollow rotation shaft 54 is: It is arranged at the same height as the air groove 54b in the vertical direction. Further, a joint 63 disposed inside the base end portion 5a of the third hand 5 is fixed to the upper end of the air hole 53a.

このように、中空回動軸５３、５４および軸支持部材５５には、基端側部分５ａの内部に通じる空気孔５３ａ、５４ａ、５５ａが形成されている。また、空気孔５５ａの下端には、継手および空気配管を介して空気の吸引手段が接続され、空気孔５３ａの上端は、継手６３および空気配管６４を介して、ウエハ搭載部５ｃに形成される吸引孔４６に繋がっており、空気孔５３ａ、５４ａ、５５ａ、空気溝５４ｂ、５５ｃ、継手６３および空気配管６４等によって、ウエハ搭載部５ｃに形成される吸引孔４６でウエハ２を吸引するための空気の吸引路（通り道）が形成されている。   In this manner, the hollow rotary shafts 53 and 54 and the shaft support member 55 are formed with the air holes 53a, 54a and 55a communicating with the inside of the base end portion 5a. Air suction means is connected to the lower end of the air hole 55a through a joint and an air pipe, and the upper end of the air hole 53a is formed in the wafer mounting portion 5c through the joint 63 and the air pipe 64. The suction holes 46 are connected to the suction holes 46, and are used for sucking the wafer 2 through the suction holes 46 formed in the wafer mounting portion 5c by the air holes 53a, 54a, 55a, the air grooves 54b, 55c, the joint 63, the air pipe 64, and the like. An air suction passage (passage) is formed.

また、上述のように、軸支持部材５５には、空気孔５５ｂと、空気孔５５ｂの横孔が通じる空気溝５５ｄとが形成されている。また、中空回動軸５４には、空気溝５５ｄと同じ高さに配置される横孔を有する空気孔５４ｄが形成されている。さらに、空気孔５４ｄの上端には、第４ハンド６の基端側部分６ａの内部に配置される継手６１が固定されている。このように、中空回動軸５４および軸支持部材５５には、基端側部分６ａの内部に通じる空気孔５４ｄ、５５ｂが形成されている。また、空気孔５５ｂの下端には、継手５７および空気配管５８を介して空気の吸引手段が接続され、空気孔５４ｄの上端は、継手６１および空気配管６２を介して、ウエハ搭載部６ｃに形成される吸引孔４６に繋がっている。すなわち、空気孔５４ｄ、５５ｂ、空気溝５５ｄ、継手５７、６１および空気配管５８、６２等によって、ウエハ搭載部６ｃに形成される吸引孔４６でウエハ２を吸引するための吸引路（通り道）が形成されている。   As described above, the shaft support member 55 is formed with the air hole 55b and the air groove 55d through which the horizontal hole of the air hole 55b communicates. An air hole 54d having a horizontal hole disposed at the same height as the air groove 55d is formed in the hollow rotary shaft 54. Further, a joint 61 disposed inside the base end portion 6a of the fourth hand 6 is fixed to the upper end of the air hole 54d. As described above, the hollow rotary shaft 54 and the shaft support member 55 are formed with the air holes 54d and 55b communicating with the inside of the base end portion 6a. Air suction means is connected to the lower end of the air hole 55b through a joint 57 and an air pipe 58, and the upper end of the air hole 54d is formed in the wafer mounting portion 6c through the joint 61 and the air pipe 62. Connected to the suction hole 46 to be formed. That is, a suction path (passage) for sucking the wafer 2 through the suction hole 46 formed in the wafer mounting portion 6c is formed by the air holes 54d and 55b, the air grooves 55d, the joints 57 and 61, and the air pipes 58 and 62. Is formed.

なお、本形態では、空気溝５５ｃの上側、空気溝５５ｄの下側、および、空気溝５５ｃと空気溝５５ｄとの間に配置される３個のＯリング５９と、空気溝５５ｃ、５５ｄとによって、回動中心軸５４と軸支持部材５５との間にロータリージョイント６６が形成されている。また、空気溝５４ｂの上下の両側に配置される２個のＯリング５９と、空気溝５４ｂとによって回動中心軸５４と回動中心軸５３との間にロータリージョイント６７が形成されている。   In the present embodiment, three O-rings 59 disposed above the air groove 55c, below the air groove 55d, and between the air groove 55c and the air groove 55d, and the air grooves 55c and 55d are used. A rotary joint 66 is formed between the rotation center shaft 54 and the shaft support member 55. A rotary joint 67 is formed between the rotation center shaft 54 and the rotation center shaft 53 by the two O-rings 59 arranged on both upper and lower sides of the air groove 54b and the air groove 54b.

（産業用ロボットの概略動作）
図９、図１０は、図１に示すロボット１の動作を説明するための平面図である。 (Schematic operation of industrial robot)
9 and 10 are plan views for explaining the operation of the robot 1 shown in FIG.

本形態のロボット１は、半導体製造システムに組み込まれて使用される。たとえば、ロボット１は、半導体製造システムの入り口に配置されている。この場合、ロボット１は、ウエハ２が所定のピッチで上下方向に重なるように収容されるカセット８１と、ウエハ２が上下方向で重ならないように配置される処理装置８２との間でウエハ２を搬送する。   The robot 1 of the present embodiment is used by being incorporated in a semiconductor manufacturing system. For example, the robot 1 is arranged at an entrance of a semiconductor manufacturing system. In this case, the robot 1 moves the wafer 2 between a cassette 81 in which the wafers 2 are accommodated vertically at a predetermined pitch so as to be vertically overlapped and a processing device 82 arranged so that the wafers 2 do not overlap vertically. Transport.

具体的には、ロボット１は、図９（Ａ）、（Ｂ）に示すように、処理装置８２で処理される前の処理前の２枚のウエハ２を第１ハンド３および第２ハンド４によってカセット８１から同時に搬出する。また、ロボット１は、２枚のウエハ２を第１ハンド３および第２ハンド４によってカセット８１から搬出した直後に、図９（Ｃ）に示すように、処理装置８２で処理された後の処理後の２枚のウエハ２を第３ハンド５および第４ハンド６によってカセット８１へ同時に搬入する。第１ハンド３および第２ハンド４がカセット８１からウエハ２を搬出するときには、第１ハンド３の先端側と第２ハンド４の先端側とが上下方向で重なっている。また、第３ハンド５および第４ハンド６がカセット８１にウエハ２を搬入するときには、第３ハンド５の先端側と第４ハンド６の先端側とが上下方向で重なっている。   Specifically, as shown in FIGS. 9A and 9B, the robot 1 transfers the two wafers 2 before being processed by the processing device 82 to the first hand 3 and the second hand 4. Are carried out of the cassette 81 at the same time. Immediately after the two wafers 2 are unloaded from the cassette 81 by the first hand 3 and the second hand 4, the robot 1 processes the wafer 2 after being processed by the processing device 82, as shown in FIG. 9C. The latter two wafers 2 are simultaneously loaded into the cassette 81 by the third hand 5 and the fourth hand 6. When the first hand 3 and the second hand 4 carry out the wafer 2 from the cassette 81, the distal end of the first hand 3 and the distal end of the second hand 4 overlap in the vertical direction. When the third hand 5 and the fourth hand 6 carry the wafer 2 into the cassette 81, the distal end of the third hand 5 and the distal end of the fourth hand 6 overlap in the vertical direction.

また、ロボット１は、図１０（Ａ）に示すように、処理装置８２で処理された後の処理後の２枚のウエハ２を第３ハンド５および第４ハンド６によって処理装置８２から同時に搬出する。また、ロボット１は、２枚のウエハ２を第３ハンド５および第４ハンド６によって処理装置８２から搬出した直後に、図１０（Ｂ）、（Ｃ）に示すように、処理装置８２で処理される前の処理前の２枚のウエハ２を第１ハンド３および第２ハンド４によって処理装置８２へ同時に搬入する。第３ハンド５および第４ハンド６が処理装置８２からウエハ２を搬出するときには、第３ハンド５の先端側と第４ハンド６の先端側とが上下方向で重なっていない。第１ハンド３および第２ハンド４が処理装置８２にウエハ２を搬入するときには、第１ハンド３の先端側と第２ハンド４の先端側とが上下方向で重なっていない。   Further, as shown in FIG. 10A, the robot 1 simultaneously unloads the processed two wafers 2 from the processing device 82 by the third hand 5 and the fourth hand 6 after being processed by the processing device 82. I do. Immediately after the two wafers 2 are unloaded from the processing device 82 by the third hand 5 and the fourth hand 6, the robot 1 processes the two wafers 2 with the processing device 82 as shown in FIGS. The two wafers 2 before processing are simultaneously loaded into the processing apparatus 82 by the first hand 3 and the second hand 4 before the processing. When the third hand 5 and the fourth hand 6 unload the wafer 2 from the processing device 82, the distal end of the third hand 5 and the distal end of the fourth hand 6 do not overlap in the vertical direction. When the first hand 3 and the second hand 4 carry the wafer 2 into the processing device 82, the tip side of the first hand 3 and the tip side of the second hand 4 do not overlap in the vertical direction.

（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態のロボット１は、アーム７の先端側に連結される４個のハンド３〜６を備えており、４個のハンド３〜６は、アーム７に対して個別に回動可能となっている。そのため、本形態では、上述のように、処理装置８２で処理される前の処理前の２枚のウエハ２を第１ハンド３および第２ハンド４を用いてカセット８１から同時に搬出した直後に、処理装置８２で処理された後の処理後の２枚のウエハ２を第３ハンド５および第４ハンド６を用いてカセット８１へ同時に搬入することができる。また、本形態では、上述のように、第３ハンド５および第４ハンド６を用いて処理後の２枚のウエハ２を処理装置８２から同時に搬出した直後に、第１ハンド３および第２ハンド４を用いて処理前の２枚のウエハ２を処理装置８２へ同時に搬入することができる。したがって、本形態では、ロボット１が組み込まれて使用される半導体製造システムのタクトタイムを短縮することが可能になる。 (Main effects of this embodiment)
As described above, the robot 1 of the present embodiment includes the four hands 3 to 6 connected to the distal end side of the arm 7, and the four hands 3 to 6 are individually provided with respect to the arm 7. It is rotatable. Therefore, in the present embodiment, as described above, immediately after the two wafers 2 before being processed by the processing device 82 are simultaneously unloaded from the cassette 81 using the first hand 3 and the second hand 4, The two processed wafers 2 processed by the processing device 82 can be simultaneously loaded into the cassette 81 using the third hand 5 and the fourth hand 6. In the present embodiment, as described above, immediately after the two processed wafers 2 are simultaneously unloaded from the processing apparatus 82 using the third hand 5 and the fourth hand 6, the first hand 3 and the second hand 4, the two wafers 2 before processing can be simultaneously loaded into the processing apparatus 82. Therefore, in the present embodiment, it is possible to reduce the tact time of the semiconductor manufacturing system in which the robot 1 is incorporated and used.

ここで、一般に、カセット８１の中でのウエハ２の配置位置精度は要求されないが、処理装置８２の中でのウエハ２の配置位置精度は要求される。すなわち、カセット８１に対してウエハ２を精度良く搬入する必要はないが、処理装置８２に対してウエハ２を精度良く搬入する必要がある。本形態では、ウエハ２の端面が当接する当接面３１ａを有する端面当接部材３１と、ウエハ２の端面が当接面３１ａに押し付けられるようにウエハ２を押す押付機構３２とを有するグリップ型の保持部３０を備えた第１ハンド３および第２ハンド４によって、ウエハ２がカセット８１から搬出されるとともに処理装置８２に搬入されている。そのため、本形態では、処理装置８２に搬入されるウエハ２を第１ハンド３および第２ハンド４に精度良く搭載することが可能になり、その結果、処理装置８２に対してウエハ２を精度良く搬入することが可能になる。   Here, generally, the placement position accuracy of the wafer 2 in the cassette 81 is not required, but the placement position accuracy of the wafer 2 in the processing device 82 is required. That is, it is not necessary to load the wafer 2 into the cassette 81 with high accuracy, but it is necessary to load the wafer 2 into the processing device 82 with high accuracy. In this embodiment, a grip type having an end surface contact member 31 having a contact surface 31a with which the end surface of the wafer 2 contacts, and a pressing mechanism 32 for pressing the wafer 2 so that the end surface of the wafer 2 is pressed against the contact surface 31a. The wafer 2 is unloaded from the cassette 81 and loaded into the processing device 82 by the first hand 3 and the second hand 4 having the holding unit 30. Therefore, in the present embodiment, the wafer 2 carried into the processing apparatus 82 can be accurately mounted on the first hand 3 and the second hand 4, and as a result, the wafer 2 can be accurately mounted on the processing apparatus 82. It becomes possible to carry in.

また、吸引型の保持部４５の場合、グリップ型の保持部３０と比較して、第３ハンド５および第４ハンド６に搭載されるウエハ２の位置精度は低下するが、グリップ型の保持部３０のように、手首部１１において２本の空気配管７１、７３および配線７２、７４を引き回す必要がないため、手首部１１の構成を簡素化することが可能になる。本形態では、第３ハンド５および第４ハンド６が吸引型の保持部４５を備えているため、第３ハンド５および第４ハンド６がグリップ型の保持部３０を備えている場合と比較して、手首部１１の構成を簡素化することが可能になる。また、本形態では、吸引孔４６を有する吸引型の保持部４５を備えた第３ハンド５および第４ハンド６によって、ウエハ２が、処理装置８２から搬出されるとともに、カセット８１に搬入されているが、カセット８１では、ウエハ２の搬入位置精度が要求されないため、カセット８１へのウエハ２の搬入位置に起因する問題は生じにくい。   Further, in the case of the suction-type holding unit 45, the positional accuracy of the wafer 2 mounted on the third hand 5 and the fourth hand 6 is lower than that of the grip-type holding unit 30. Since there is no need to route the two air pipes 71 and 73 and the wirings 72 and 74 in the wrist 11 as in the case of 30, the configuration of the wrist 11 can be simplified. In the present embodiment, since the third hand 5 and the fourth hand 6 include the suction-type holding unit 45, the third hand 5 and the fourth hand 6 are compared with the case where the third hand 5 and the fourth hand 6 include the grip-type holding unit 30. Thus, the configuration of the wrist 11 can be simplified. Further, in this embodiment, the third hand 5 and the fourth hand 6 provided with the suction type holding unit 45 having the suction holes 46 allow the wafer 2 to be unloaded from the processing apparatus 82 and loaded into the cassette 81. However, in the cassette 81, since the accuracy of the position at which the wafer 2 is loaded is not required, the problem due to the position at which the wafer 2 is loaded into the cassette 81 is unlikely to occur.

また、本形態では、グリップ型の保持部３０を有する第１ハンド３および第２ハンド４が、吸引型の保持部４５を有する第３ハンド５および第４ハンド６よりも上側に配置されており、中空回動軸５１の内周側を利用して空気配管７１、７３および配線７２、７４が引き回されているため、第３ハンド５および第４ハンド６が第１ハンド３および第２ハンド４よりも上側に配置されている場合と比較して、手首部１１の構成を簡素化することが可能になる。   Further, in the present embodiment, the first hand 3 and the second hand 4 having the grip-type holding unit 30 are disposed above the third hand 5 and the fourth hand 6 having the suction-type holding unit 45. Since the air pipes 71 and 73 and the wirings 72 and 74 are routed using the inner peripheral side of the hollow rotary shaft 51, the third hand 5 and the fourth hand 6 are connected to the first hand 3 and the second hand. The configuration of the wrist 11 can be simplified as compared with the case where the wrist 11 is disposed above the position 4.

（他の実施の形態）
上述した形態は、本発明の好適な形態の一例ではあるが、これに限定されるものではなく本発明の要旨を変更しない範囲において種々変形実施が可能である。 (Other embodiments)
The above-described embodiment is an example of a preferred embodiment of the present invention, but is not limited thereto, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

上述した形態では、第１ハンド３および第２ハンド４がグリップ型の保持部３０を備え、第３ハンド５および第４ハンド６が吸引型の保持部４５を備えているが、第１ハンド３および第２ハンド４が吸引型の保持部４５を備え、第３ハンド５および第４ハンド６がグリップ型の保持部３０を備えていても良い。また、上述した形態では、モータ１４、１５は、第２アーム部１０の基端側の内部に配置されているが、モータ１４、１５は、第１アーム部９の内部に配置されても良い。   In the above-described embodiment, the first hand 3 and the second hand 4 include the grip-type holding unit 30, and the third hand 5 and the fourth hand 6 include the suction-type holding unit 45. The second hand 4 may include the suction-type holding unit 45, and the third hand 5 and the fourth hand 6 may include the grip-type holding unit 30. Further, in the above-described embodiment, the motors 14 and 15 are arranged inside the base end side of the second arm unit 10, but the motors 14 and 15 may be arranged inside the first arm unit 9. .

上述した形態では、アーム７は、第１アーム部９および第２アーム部１０の２個のアーム部によって構成されているが、アーム７は、３個以上のアーム部によって構成されても良い。また、上述した形態では、ロボット１は、ウエハ２を搬送するためのロボットであるが、ロボット１は、液晶用のガラス基板等の他の搬送対象物を搬送するロボットであっても良い。   In the above-described embodiment, the arm 7 is configured by the two arms of the first arm 9 and the second arm 10, but the arm 7 may be configured by three or more arms. Further, in the above-described embodiment, the robot 1 is a robot for transporting the wafer 2, but the robot 1 may be a robot for transporting another transport target such as a glass substrate for liquid crystal.

１ ロボット（産業用ロボット）
２ ウエハ（半導体ウエハ、搬送対象物）
３ ハンド（第１ハンド、第１ハンド対の一部）
３ａ 基端側部分（第１ハンドの基端側部分）
３ｃ 搭載部
３ｄ 支持部
４ ハンド（第２ハンド、第１ハンド対の一部）
４ａ 基端側部分（第２ハンドの基端側部分）
４ｃ 搭載部
４ｄ 支持部
５ ハンド（第３ハンド、第２ハンド対の一部）
５ａ 基端側部分（第３ハンドの基端側部分）
６ ハンド（第４ハンド、第２ハンド対の一部）
６ａ 基端側部分（第４ハンドの基端側部分）
７ アーム
８ 本体部
３０ 保持部
３１ 端面当接部材
３１ａ 当接面
３２ 押付機構
３４ 押付部
３５ エアシリンダ
３６ 検知機構
４５ 保持部
４６ 吸引孔
５１ 中空回動軸（第１中空回動軸）
５１ａ 切欠き部
５２ 中空回動軸（第２中空回動軸）
５３ 中空回動軸（第３中空回動軸）
５３ａ 空気孔
５４ 中空回動軸（第４中空回動軸）
５４ａ、５４ｄ 空気孔
７１ 空気配管（第１ハンドの支持部の内部に配置されるエアシリンダ用の空気配管）
７２ 配線（第１ハンドの支持部の内部に配置される検知機構用の配線）
７３ 空気配管（第２ハンドの支持部の内部に配置されるエアシリンダ用の空気配管）
７４ 配線（第２ハンドの支持部の内部に配置される検知機構用の配線） 1 robot (industrial robot)
2 Wafers (semiconductor wafers, transfer objects)
3 hands (1st hand, part of 1st hand pair)
3a Base end portion (base end portion of first hand)
3c mounting part 3d support part 4 hand (2nd hand, part of 1st hand pair)
4a Base end portion (base end portion of second hand)
4c mounting part 4d support part 5 hand (third hand, part of second hand pair)
5a Base end portion (base end portion of third hand)
6 hands (4th hand, part of 2nd hand pair)
6a Base end portion (base end portion of fourth hand)
Reference Signs List 7 arm 8 main body 30 holding section 31 end face contact member 31a contact surface 32 pressing mechanism 34 pressing section 35 air cylinder 36 detection mechanism 45 holding section 46 suction hole 51 hollow rotary shaft (first hollow rotary shaft)
51a Notch 52 Hollow rotation shaft (second hollow rotation shaft)
53 Hollow rotating shaft (third hollow rotating shaft)
53a air hole 54 hollow rotation shaft (fourth hollow rotation shaft)
54a, 54d Air hole 71 Air pipe (air pipe for air cylinder disposed inside support portion of first hand)
72 Wiring (Wiring for detection mechanism arranged inside support portion of first hand)
73 air piping (air piping for air cylinder arranged inside the support of the second hand)
74 wiring (wiring for the detection mechanism arranged inside the support part of the second hand)

Claims (4)

搬送対象物が搭載される４個のハンドと、４個の前記ハンドが先端側に回動可能に連結されるアームと、前記アームの基端側が回動可能に連結される本体部とを備え、
４個の前記ハンドは、前記搬送対象物を保持する保持部を備え、４個の前記ハンドの基端側が上下方向で重なるように前記アームに連結されるとともに、前記アームに対して個別に回動可能となっており、
４個の前記ハンドのうちの一番上に配置される前記ハンドと上から二番目に配置される前記ハンドとを第１ハンド対とし、残りの２個の前記ハンドを第２ハンド対とすると、
前記第１ハンド対および前記第２ハンド対のいずれか一方を構成する２個の前記ハンドの前記保持部は、前記搬送対象物の端面が当接する当接面を有する端面当接部材と、前記搬送対象物の端面が前記当接面に押し付けられるように前記搬送対象物を押す押付機構とを備え、
前記第１ハンド対および前記第２ハンド対のいずれか他方を構成する２個の前記ハンドの前記保持部は、前記搬送対象物を吸引して保持する吸引孔を備えることを特徴とする産業用ロボット。 The hand includes four hands on which the object to be conveyed is mounted, an arm to which the four hands are rotatably connected to the distal end, and a main body to which the base end of the arm is rotatably connected. ,
The four hands are provided with holding portions for holding the object to be conveyed, are connected to the arms so that the base ends of the four hands overlap in the vertical direction, and are individually rotated with respect to the arms. It is possible to move,
When the uppermost hand and the second uppermost hand among the four hands are a first hand pair, and the remaining two hands are a second hand pair. ,
The holding portions of the two hands constituting one of the first hand pair and the second hand pair have an end surface contact member having a contact surface with which an end surface of the object to be conveyed contacts, A pressing mechanism that presses the transport target so that the end surface of the transport target is pressed against the contact surface,
The holding part of the two hands constituting one of the first hand pair and the second hand pair includes a suction hole for sucking and holding the object to be conveyed. robot. 前記押付機構は、前記当接面に向かって前記搬送対象物の端面を押す押付部と、前記押付部を駆動するエアシリンダと、前記押付部の動きを検知する検知機構とを備えることを特徴とする請求項１記載の産業用ロボット。   The pressing mechanism includes a pressing unit that presses an end surface of the object to be transferred toward the contact surface, an air cylinder that drives the pressing unit, and a detection mechanism that detects a movement of the pressing unit. The industrial robot according to claim 1, wherein ４個の前記ハンドのうちの一番上に配置される前記ハンドを第１ハンドとし、上から二番目に配置される前記ハンドを第２ハンドとし、上から三番目に配置される前記ハンドを第３ハンドとし、一番下に配置される前記ハンドを第４ハンドとすると、
中空状に形成され前記第１ハンドの基端側部分の下面側が固定される第１中空回動軸と、中空状に形成され前記第１中空回動軸の外周側にかつ前記第１中空回動軸と同軸上に配置されるとともに前記第２ハンドの基端側部分の下面側が固定される第２中空回動軸と、中空状に形成され前記第２中空回動軸の外周側にかつ前記第１中空回動軸と同軸上に配置されるとともに前記第３ハンドの基端側部分の下面側が固定される第３中空回動軸と、中空状に形成され前記第３中空回動軸の外周側にかつ前記第１中空回動軸と同軸上に配置されるとともに前記第４ハンドの基端側部分の下面側が固定される第４中空回動軸とを備え、
前記第１ハンドおよび前記第２ハンドの前記保持部は、前記端面当接部材と前記押付機構とを備え、
前記第３ハンドおよび前記第４ハンドの前記保持部は、前記搬送対象物を吸引して保持することを特徴とする請求項２記載の産業用ロボット。 The top hand of the four hands is the first hand, the second hand is the second hand, the second hand is the second hand, and the third hand is the third hand. Assuming that the third hand is the fourth hand, and the lowermost hand is the fourth hand,
A first hollow rotary shaft which is formed in a hollow shape and a lower surface side of a base end side portion of the first hand is fixed, and a hollow formed in an outer peripheral side of the first hollow rotary shaft and the first hollow rotary shaft; A second hollow rotary shaft arranged coaxially with the drive shaft and fixed to the lower surface side of the base end portion of the second hand; and a hollow formed outer peripheral side of the second hollow rotary shaft and A third hollow rotary shaft disposed coaxially with the first hollow rotary shaft and fixed to a lower surface side of a base end portion of the third hand; and a third hollow rotary shaft formed in a hollow shape. A fourth hollow rotating shaft disposed coaxially with the first hollow rotating shaft and fixed to a lower surface side of a base end portion of the fourth hand,
The holding portion of the first hand and the second hand includes the end surface contact member and the pressing mechanism,
The industrial robot according to claim 2, wherein the holding units of the third hand and the fourth hand suck and hold the transport target. 前記第１ハンドおよび前記第２ハンドは、前記搬送対象物が搭載される搭載部と、前記搭載部を支持する支持部とを備え、
前記第１ハンドの前記支持部は、前記第１ハンドの前記搭載部と前記第１ハンドの基端側部分とを繋いでおり、
前記第２ハンドの前記支持部は、前記第２ハンドの前記搭載部と前記第２ハンドの基端側部分とを繋いでおり、
前記第１ハンドの基端側部分および前記支持部と、前記第２ハンドの基端側部分および前記支持部と、前記第３ハンドと、前記第４ハンドとは、中空状になっており、
前記第１ハンドの前記支持部の内部および前記第２ハンドの前記支持部の内部には、前記エアシリンダおよび前記検知機構が配置され、
前記第１ハンドの前記支持部の内部に配置される前記エアシリンダ用の空気配管および前記第１ハンドの前記支持部の内部に配置される前記検知機構用の配線は、前記第１中空回動軸の内周側を通過して前記第１ハンドの基端側部分の内部に引き込まれ、
前記第１中空回動軸には、前記第１中空回動軸の径方向で貫通するように、かつ、前記第１中空回動軸の周方向を長手方向とするスリット状の切欠き部が形成され、
前記切欠き部は、前記第２中空回動軸の上端よりも上側に配置され、
前記第２ハンドの前記支持部の内部に配置される前記エアシリンダ用の空気配管および前記第２ハンドの前記支持部の内部に配置される前記検知機構用の配線は、前記第１中空回動軸の内周側を通過した後、前記切欠き部を通過して前記第２ハンドの基端側部分の内部に引き込まれ、
前記第３中空回動軸および前記第４中空回動軸には、前記第３ハンドの内部に通じる空気孔が形成され、
前記第４中空回動軸には、前記第４ハンドの内部に通じる空気孔が形成されていることを特徴とする請求項３記載の産業用ロボット。 The first hand and the second hand each include a mounting unit on which the transport target is mounted, and a support unit that supports the mounting unit,
The support portion of the first hand connects the mounting portion of the first hand and a base end portion of the first hand,
The support portion of the second hand connects the mounting portion of the second hand and a base end portion of the second hand,
The proximal end portion and the support portion of the first hand, the proximal end portion and the support portion of the second hand, the third hand, and the fourth hand are hollow,
The air cylinder and the detection mechanism are arranged inside the support portion of the first hand and inside the support portion of the second hand,
The air pipe for the air cylinder disposed inside the support section of the first hand and the wiring for the detection mechanism disposed inside the support section of the first hand are the first hollow rotation. It passes through the inner peripheral side of the shaft and is drawn into the base end portion of the first hand,
The first hollow rotary shaft has a slit-shaped notch that penetrates in the radial direction of the first hollow rotary shaft and whose longitudinal direction is the circumferential direction of the first hollow rotary shaft. Formed,
The notch is disposed above an upper end of the second hollow rotation shaft,
The air pipe for the air cylinder disposed inside the support portion of the second hand and the wiring for the detection mechanism disposed inside the support portion of the second hand are the first hollow rotation. After passing through the inner peripheral side of the shaft, it passes through the notch and is drawn into the base end portion of the second hand,
Air holes communicating with the inside of the third hand are formed in the third hollow rotation shaft and the fourth hollow rotation shaft,
The industrial robot according to claim 3, wherein an air hole communicating with the inside of the fourth hand is formed in the fourth hollow rotation shaft.
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