JP4920547B2 - Wafer detection device and wafer transfer device - Google Patents

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Description

本発明は、ウエハ検出装置及びウエハ搬送装置に関する。   The present invention relates to a wafer detection device and a wafer transfer device.

半導体製造において、ダイシングの前の円盤状のウエハをハンドリングし、装置間若しくはポッドと装置間で搬送するために専用のロボットが使用される。そのロボットは、ウエハを着実にチャッキングし保持するためのウエハ保持部(ハンド)を有する。そのハンドには、ウエハを確実に載せたか否かを判断するためにウエハ検出用のセンサを装備することが求められている。   In semiconductor manufacturing, a dedicated robot is used to handle a disc-shaped wafer before dicing and transport it between devices or between a pod and a device. The robot has a wafer holder (hand) for steadily chucking and holding the wafer. The hand is required to be equipped with a wafer detection sensor in order to determine whether or not the wafer has been securely loaded.

現在、そのセンサの仕様は多岐にわたり、光電式の他、圧力式、静電容量式、メカ式等が挙げられる。しかし、センサの設置に関しては、ハンド部には最低限の部品のみ配置し、検出部やアンプ部はロボット本体部分に設置し、その間を電線若しくはエアチューブ等で結んでいる構成が一般的である。   Currently, the specifications of the sensor are diverse, and besides the photoelectric type, there are a pressure type, a capacitance type, a mechanical type, and the like. However, regarding the sensor installation, it is common to arrange only the minimum parts in the hand part, the detection part and the amplifier part to be installed in the robot body part, and connect between them with an electric wire or air tube etc. .

近年、ウエハ加工には薄厚化と裏面加工が求められてきており、搬送用ロボットの機能の一つとして、チャッキングしたウエハを180°反転させる機能が求められている。このような機能を備えた場合、ハンドが180°回転するため、センサを接続している電線等がねじれてハンドに絡まったり、電線等に負荷が繰り返し掛かったりして断線等の不具合が発生し、センサが機能不良となる。電線等の引き回し半径を大きく取ることで負荷を軽減し、不具合を回避する方法が考えられるが、周辺設備に引っ掛からないように保護カバーが必要となり、ハンド周辺部が大型化するデメリットがある。また、電線等の屈曲性を高めて耐久性を上げる方法も提案されているが、根本的な対策とは言えない。   In recent years, thinning and back surface processing have been demanded for wafer processing, and as one of the functions of a transfer robot, a function of reversing a chucked wafer by 180 ° is required. When such a function is provided, the hand rotates 180 °, so that the wires connected to the sensor are twisted and entangled with the hand, or a load is repeatedly applied to the wires and the like, causing problems such as disconnection. The sensor malfunctions. Although it is possible to reduce the load and avoid problems by increasing the drawing radius of the wires, there is a demerit that the peripheral part of the hand is enlarged because a protective cover is required so as not to get caught in the peripheral equipment. Moreover, although the method of raising the flexibility of an electric wire etc. and improving durability is proposed, it cannot be said that it is a fundamental measure.

従来、装置本体部に設けられた進退移動可能なアームで基板を保持し、当該基板を搬送する基板搬送装置において、アームに支持された治具に設けられた光センサヘッドの検出情報を、装置本体部に固定された光コネクタ及び治具に設けられた光コネクタを介して伝達する構成が開示されている(例えば、特許文献1参照。)。   2. Description of the Related Art Conventionally, in a substrate transport apparatus that holds a substrate with an arm that can be moved back and forth provided in the apparatus main body and transports the substrate, detection information of an optical sensor head provided in a jig supported by the arm The structure which transmits via the optical connector fixed to the main-body part and the optical connector provided in the jig | tool is disclosed (for example, refer patent document 1).

また、基板を搬送するため、機台上に配置されて回動軸で連結される少なくとも2個のアームを有して構成されるロボットに装着され、前記ロボットで搬送される基板を検出できるように前記ロボット内に配線される光ファイバを、前記回動軸内を挿通して配線する場合のねじれを防止する光伝導ファイバが提案されている(例えば、特許文献2参照。)。特許文献2においては、図9に示すように、光伝導ファイバ71は、同一軸心上に配設された投光ファイバ72と受光ファィバ73とを有するとともに、中間位置の少なくとも一箇所において二体に分離されている。二体に分離された一方の単体光伝導ファイバ71Aは、分離位置において投光ファイバ72Aが受光ファイバ73Aの端面より突出して形成され、他方の単体光伝導ファイバ71Bの投光ファイバ72Bは、一方の投光ファイバ72Aと対向する面において他方の受光ファイバ73Bの端面より内部に引き込まれている。そして、単体光伝導ファイバ71Aと単体光伝導ファイバ71Bとは、非接触の状態で連結するようになっている。
特開2001−156153号公報 特開2002−48936号公報
Further, in order to transport the substrate, it is mounted on a robot having at least two arms arranged on a machine base and connected by a rotating shaft so that the substrate transported by the robot can be detected. In addition, there has been proposed a photoconductive fiber that prevents torsion when an optical fiber wired in the robot is wired through the rotating shaft (see, for example, Patent Document 2). In Patent Document 2, as shown in FIG. 9, a photoconductive fiber 71 includes a light projecting fiber 72 and a light receiving fiber 73 disposed on the same axis, and two bodies at least at one intermediate position. Have been separated. One single photoconductive fiber 71A separated into two bodies is formed such that the projection fiber 72A protrudes from the end face of the light receiving fiber 73A at the separation position, and the single photoconductive fiber 71B of the other single photoconductive fiber 71B The surface facing the light projecting fiber 72A is drawn into the inside from the end surface of the other light receiving fiber 73B. The single photoconductive fiber 71A and the single photoconductive fiber 71B are connected in a non-contact state.
JP 2001-156153 A JP 2002-48936 A

特許文献1に記載の基板搬送装置ではアームに支持された治具が180°回転することに関しては何ら記載がない。また、特許文献2の構成では、投光用光ファイバ及び受光用光ファイバが同軸ファイバとして構成されたものを使用し、回動軸内に挿通して使用するため、この構成をハンドに適用できれば、光ファイバがねじれることを回避できる。しかし、ハンドは、ウエハを保持した状態でウエハ載置部が下向きになるように回転させてもウエハが落下しないようにウエハを保持する必要がある。このような保持には吸着が比較的簡単であるが、本体と離れた状態のハンドに本体側から負圧を作用させるための通路(パイプ又はチューブ)が必要になり、パイプ又はチューブのねじれを防止する必要がある。そのため、ハンドを支持する回動軸にパイプ又はチューブを挿通する必要があり、同軸ファイバを回動軸に挿通することはできず、同軸ファイバが回動軸の回動の影響を回避することはできない。また、同軸ファイバを用いた場合、ハンド側と本体側との光結合において、損失を抑えるのが難しくなるという問題もある。   In the substrate transfer apparatus described in Patent Document 1, there is no description regarding the jig supported by the arm rotating 180 °. Further, in the configuration of Patent Document 2, since a light projecting optical fiber and a light receiving optical fiber are configured as coaxial fibers and used by being inserted into a rotation shaft, this configuration can be applied to a hand. The optical fiber can be prevented from being twisted. However, it is necessary for the hand to hold the wafer so that the wafer does not fall even if the hand is rotated so that the wafer mounting portion faces downward while holding the wafer. Adsorption is relatively simple for such holding, but a passage (pipe or tube) is required to apply negative pressure from the main body side to the hand in a state separated from the main body, and twisting of the pipe or tube is required. There is a need to prevent. Therefore, it is necessary to insert a pipe or tube through the rotation shaft that supports the hand, and the coaxial fiber cannot be inserted through the rotation shaft, and the coaxial fiber avoids the influence of the rotation of the rotation shaft. Can not. In addition, when a coaxial fiber is used, there is a problem that it is difficult to suppress loss in optical coupling between the hand side and the main body side.

本発明は、上記問題を解決するためになされたものであって、その目的はウエハ搬送用のハンドが180°回転する構成のウエハ搬送装置において、ハンドに設けられたウエハ検出用のセンサ部の検出情報を本体側に支障なく伝達することができるウエハ検出装置及びそのウエハ検出装置を備えたウエハ搬送装置を提供することにある。   The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a wafer detection device provided on the hand in a wafer transfer apparatus configured to rotate the wafer transfer hand by 180 °. It is an object of the present invention to provide a wafer detection device capable of transmitting detection information to the main body without any trouble and a wafer transfer device including the wafer detection device.

上記目的を達するため、請求項1に記載の発明は、ウエハを載置する載置部を備えたハンドと、前記ハンドを支持する本体とを備え、前記ハンドは、ウエハの載置部を上向きにした第1状態と、ウエハの載置部を下向きにした第2状態との間で、前記本体に対して回動可能に設けられたウエハ搬送装置に装備されて、前記ウエハの載置部に載置されたウエハの検出を行うウエハ検出装置であって、前記ハンドには、第1光ファイバ及び第2光ファイバが、その第1端部が前記本体と対向する位置で、かつ前記ハンドの回動軸に対して対称位置に配置されるように設けられるとともに第2端部が前記載置部に載置されたウエハに光を出射及び反射光を受光可能に設けられ、前記本体には、前記ハンドが前記第1状態又は前記第2状態に配置された状態において、前記第1光ファイバ及び第2光ファイバの第1端部の端面と対向する位置に投光部及び受光部が配置され、前記受光部の受光量に基づいて前記ウエハの検出を行う検出手段を備えている。   In order to achieve the above object, the invention described in claim 1 includes a hand including a mounting portion for mounting a wafer and a main body that supports the hand, and the hand faces the mounting portion of the wafer upward. Between the first state and the second state in which the wafer mounting portion faces downward, the wafer mounting portion being mounted on a wafer transfer device provided to be rotatable with respect to the main body. A wafer detection apparatus for detecting a wafer placed on the hand, wherein the hand includes a first optical fiber and a second optical fiber, the first end of the hand facing the body, and the hand. The second end portion is provided so as to emit light and receive reflected light on the wafer placed on the placement portion, and is disposed on the main body. The hand is arranged in the first state or the second state. In the state, a light projecting unit and a light receiving unit are disposed at positions facing the end surfaces of the first end portions of the first optical fiber and the second optical fiber, and the wafer is detected based on the amount of light received by the light receiving unit. A detection means is provided.

この構成によれば、ハンドに設けられた第1光ファイバ及び第2光ファイバは、その第1端部がハンドの回動軸に対して対称位置において本体と対向する位置に配置されているので、ハンドが回動(回転)しても本体側の投光部及び受光部と第1光ファイバ及び第2光ファイバの端部とは対向状態が維持され、光の伝達が損なわれることはない。また、ハンドが回転しても光ファイバが絡まることがなく、回転前及び回転後のいずれにおいてもウエハの検出が正確に行われる。   According to this configuration, the first optical fiber and the second optical fiber provided in the hand are arranged at positions where the first end faces the main body at a symmetrical position with respect to the rotation axis of the hand. Even if the hand rotates (rotates), the light projecting unit and the light receiving unit on the main body side and the end portions of the first optical fiber and the second optical fiber are maintained facing each other, and transmission of light is not impaired. . Further, the optical fiber is not entangled even when the hand rotates, and the wafer is detected accurately both before and after the rotation.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記第1光ファイバ及び第2光ファイバは、前記第1端部側の先端に、入射光又は出射光を平行光とするレンズが取り付けられており、前記投光部には出射光を平行光とするレンズが、前記受光部には入射光を平行光とするレンズがそれぞれ取り付けられている。この構成によれば、第1光ファイバ及び第2光ファイバの回動軸に対する対称性の精度が多少悪くても、本体側とハンド側との間における光の伝達のロスを低減させることができる。   According to a second aspect of the invention, in the first aspect of the invention, the first optical fiber and the second optical fiber have incident light or outgoing light as parallel light at a tip on the first end side. A lens is attached, a lens that makes outgoing light parallel light is attached to the light projecting portion, and a lens that makes incident light parallel light is attached to the light receiving portion. According to this configuration, even if the accuracy of symmetry with respect to the rotation axes of the first optical fiber and the second optical fiber is somewhat poor, loss of light transmission between the main body side and the hand side can be reduced. .

請求項3に記載の発明は、請求項1又は請求項2に記載の発明において、前記ハンドにはその両面にウエハの載置部が設けられ、前記第1光ファイバ及び第2光ファイバの第2端部は前記ハンドに対して、前記ハンドの回動軸に対して対称に、かついずれか一方の端部からのウエハへの出射光の反射光が他方の端部に入射可能に配置されている。この構成によれば、ハンドが180°回転して本体の投光部及び受光部に対して、第1光ファイバ及び第2光ファイバの対向状態が逆になった場合も、第1光ファイバ及び第2光ファイバの第2端部がハンドの回動軸に対して対称に配置されているので、ウエハの検出に悪影響を及ぼすことが無い。   According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect of the present invention, the hand is provided with wafer placement portions on both sides thereof, and the first optical fiber and the second optical fiber are provided with the first optical fiber and the second optical fiber. The two end portions are arranged symmetrically with respect to the hand, with respect to the rotation axis of the hand, so that the reflected light of the light emitted from one of the end portions to the wafer can enter the other end portion. ing. According to this configuration, even when the hand rotates 180 ° and the opposed state of the first optical fiber and the second optical fiber is reversed with respect to the light projecting unit and the light receiving unit of the main body, the first optical fiber and Since the second end portion of the second optical fiber is arranged symmetrically with respect to the rotation axis of the hand, the wafer detection is not adversely affected.

請求項4に記載の発明は、請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載の発明において、
前記ハンドは、前記本体側において軸受により回動可能に支持され、かつ回動手段により回動される回動軸の先端側に固定され、前記回動軸には、前記ハンドに前記ウエハを吸着保持するために設けられた吸着部に対して、前記本体に設けられた負圧源の負圧を作用させる通路が形成されている。この構成によれば、ハンドがウエハを吸着保持する構成と、ウエハ検出用の光ファイバによる検出情報を本体側に支障なく伝達する構成とを両立させることが容易になる。
The invention according to claim 4 is the invention according to any one of claims 1 to 3,
The hand is rotatably supported by a bearing on the main body side, and is fixed to a distal end side of a rotating shaft that is rotated by a rotating means, and the wafer is attracted to the hand by the rotating shaft. A passage for applying a negative pressure of a negative pressure source provided in the main body to the suction portion provided for holding is formed. According to this configuration, it is easy to achieve both a configuration in which the hand sucks and holds the wafer and a configuration in which detection information by the optical fiber for wafer detection is transmitted to the main body without any trouble.

請求項5に記載の発明は、請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載のウエハ検出用センサを備えたウエハ搬送装置であって、前記ハンドの回動位置を検出する位置検出手段と、前記位置検出手段によって検出された前記ハンドの位置が前記第1状態及び前記第2状態のいずれかの状態以外における前記第1状態と前記第2状態との間の回動位置にあるとき、前記検出手段の検出結果を無効化する無効化手段と、前記検出手段により前記ウエハが検出されたときに、前記ウエハの搬送を許可する制御手段とを備えている。 According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a wafer transfer apparatus comprising the wafer detection sensor according to any one of the first to fourth aspects, wherein the position detecting means detects the rotational position of the hand. And the position of the hand detected by the position detection means is in a rotational position between the first state and the second state other than the state of either the first state or the second state. , Invalidating means for invalidating the detection result of the detecting means, and control means for permitting transfer of the wafer when the detecting means detects the wafer.

この構成によれば、ハンドの回転中、即ち第1光ファイバ及び第2光ファイバが本体側の投光部及び受光部と対向していない状態では、ハンド側の光ファイバは本体側の投光部及び受光部と光結合状態に無いため、ウエハの検出を正確に行うことができない。しかし、位置検出手段の検出信号に基づき、ハンドの回転中はウエハ検出を行う検出手段の検出結果を無効化することにより、ウエハ搬送の誤動作を防止することができる。   According to this configuration, when the hand is rotating, that is, when the first optical fiber and the second optical fiber are not opposed to the light projecting unit and the light receiving unit on the main body side, the optical fiber on the hand side is projected on the main body side. Therefore, the wafer cannot be detected accurately. However, based on the detection signal of the position detection unit, the malfunction of the wafer transfer can be prevented by invalidating the detection result of the detection unit that detects the wafer while the hand is rotating.

請求項6に記載の発明は、請求項5に記載の発明において、前記ハンドは、前記本体に対して交換可能に複数備えられるとともに、そのうちの一つのハンドが選択されて使用され、前記各ハンドには、前記ウエハ検出装置を構成する前記第1光ファイバ及び第2光ファイバが設けられている。この構成によれば、ウエハ搬送装置の用途によって、同じウエハを同じ方法で保持して搬送するだけでなく、異なる大きさのウエハを搬送したり、同じ大きさのウエハでも異なる方法で保持したりするために、複数種のハンドの中から適正なものを選択して使用する場合、ハンドの変更が容易になる。   According to a sixth aspect of the present invention, in the fifth aspect of the present invention, a plurality of the hands are provided to be exchangeable with respect to the main body, and one of the hands is selected and used. Are provided with the first optical fiber and the second optical fiber constituting the wafer detection apparatus. According to this configuration, depending on the use of the wafer transfer apparatus, not only the same wafer can be held and transferred by the same method, but also different size wafers can be transferred or even the same size wafers can be held by different methods. Therefore, when an appropriate one is selected and used from a plurality of types of hands, the hand can be easily changed.

本発明によれば、ウエハ搬送用のハンドが180°回転する構成のウエハ搬送装置において、ハンドに設けられたウエハ検出用のセンサ部の検出情報を本体側に支障なく伝達することができる。   According to the present invention, in the wafer transfer apparatus configured to rotate the wafer transfer hand by 180 °, the detection information of the wafer detection sensor provided in the hand can be transmitted to the main body without any trouble.

(第1の実施形態)
以下、本発明を具体化した第1の実施形態を図1〜図6にしたがって説明する。
図1(a)に示すように、ウエハ搬送装置11は、多関節アーム12を備えた本体13と、多関節アーム12に支持されるとともにウエハW(図6にのみ図示)を保持するハンド14とを備えている。多関節アーム12は、基台15に設けられた図示しない昇降手段に回動可能に支持された第1アーム16と、第1アーム16の先端に回動可能に支持された第2アーム17と、第2アーム17の先端に回動可能に支持された第3アーム18とを備え、図示しないモータにより水平面内で回動されるようになっている。
(First embodiment)
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
As shown in FIG. 1A, a wafer transfer device 11 includes a main body 13 having a multi-joint arm 12 and a hand 14 that is supported by the multi-joint arm 12 and holds a wafer W (shown only in FIG. 6). And. The articulated arm 12 includes a first arm 16 that is rotatably supported by a lifting means (not shown) provided on the base 15, and a second arm 17 that is rotatably supported at the tip of the first arm 16. The third arm 18 is rotatably supported at the tip of the second arm 17 and is rotated in a horizontal plane by a motor (not shown).

ハンド14は、平面形状略Y字状に形成され、先端にウエハWを載置する載置部19が設けられている。この実施形態では、載置部19はウエハWと平面部で接するように構成されている。ハンド14は、ウエハWの載置部19を上向きにした第1状態と、ウエハWの載置部19を下向きにした第2状態との間で、第3アーム18に対して回動可能、即ち本体13に対して回動可能に設けられている。ハンド14には載置部19にウエハWを吸着保持するための吸着部20が複数設けられている。各吸着部20は、図示しない通路を介してハンド14の基端側から負圧を作用させることが可能に構成されている。   The hand 14 is formed in a substantially Y shape in a planar shape, and is provided with a mounting portion 19 for mounting the wafer W at the tip. In this embodiment, the mounting portion 19 is configured to contact the wafer W at the flat portion. The hand 14 is rotatable with respect to the third arm 18 between a first state in which the mounting unit 19 for the wafer W faces upward and a second state in which the mounting unit 19 for the wafer W faces downward. That is, it is provided so as to be rotatable with respect to the main body 13. The hand 14 is provided with a plurality of suction units 20 for holding the wafer W on the mounting unit 19. Each suction portion 20 is configured to be able to apply a negative pressure from the proximal end side of the hand 14 through a passage (not shown).

図2に示すように、第3アーム18には回動軸21が軸受22により回動可能に支持され、回動軸21の先端側にハンド14の基端側が固定されている。回動軸21には、ハンド14に設けられた吸着部20に対して、本体13に設けられた図示しない負圧源の負圧を作用させる通路21aが形成されている。回動軸21は負圧源に連通するパイプ23にシールリング24を介して連通されている。シールリング24は例えばポリテトラフロロエチレン製で回動軸21との摺動による摩耗が抑制されるようになっている。   As shown in FIG. 2, a rotating shaft 21 is rotatably supported by a bearing 22 on the third arm 18, and the proximal end side of the hand 14 is fixed to the distal end side of the rotating shaft 21. The rotation shaft 21 is formed with a passage 21 a that applies a negative pressure of a negative pressure source (not shown) provided in the main body 13 to the suction portion 20 provided in the hand 14. The rotating shaft 21 is communicated with a pipe 23 communicating with a negative pressure source via a seal ring 24. The seal ring 24 is made of, for example, polytetrafluoroethylene, and wear due to sliding with the rotating shaft 21 is suppressed.

回動軸21には傘歯車25が一体回転可能に固定されている。第3アーム18の上壁外面にはハンド回動用モータ26が固定されており、第3アーム18内に突出するその駆動軸26aには傘歯車25に噛合する傘歯車27が一体回転可能に固定されている。そして、ハンド回動用モータ26の駆動により、傘歯車27を介して傘歯車25と共に回動軸21が回動される。ハンド回動用モータ26及び傘歯車25,27は回動軸21を回動する回動手段を構成する。   A bevel gear 25 is fixed to the rotating shaft 21 so as to be integrally rotatable. A hand rotating motor 26 is fixed to the outer surface of the upper wall of the third arm 18, and a bevel gear 27 meshing with the bevel gear 25 is fixed to the drive shaft 26 a protruding into the third arm 18 so as to be integrally rotatable. Has been. Then, the rotation shaft 21 is rotated together with the bevel gear 25 via the bevel gear 27 by the driving of the hand rotation motor 26. The hand rotating motor 26 and the bevel gears 25 and 27 constitute rotating means for rotating the rotating shaft 21.

次に載置部19に載置されたウエハWの検出を行うウエハ検出装置の構成を説明する。ハンド14には第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29が、その第1端部が本体13と対向する位置、この実施形態では第3アーム18の先端と対向する位置に配置されるように設けられている。また、図3に示すように、第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29の第1端部は、回動軸21に対して対称位置に配置されるように設けられている。この実施形態では両光ファイバ28、29の第1端部及び回動軸21が載置部19と平行な平面上に位置するように配置されている。   Next, the configuration of the wafer detection apparatus that detects the wafer W placed on the placement unit 19 will be described. The first optical fiber 28 and the second optical fiber 29 are arranged in the hand 14 at a position where the first end portion faces the main body 13, in this embodiment, the position opposite the tip of the third arm 18. Is provided. In addition, as shown in FIG. 3, the first end portions of the first optical fiber 28 and the second optical fiber 29 are provided so as to be arranged at symmetrical positions with respect to the rotation shaft 21. In this embodiment, the first end portions of both optical fibers 28 and 29 and the rotation shaft 21 are arranged on a plane parallel to the placement portion 19.

本体13、この実施形態では第3アーム18の先端には、ハンド14が第1状態又は第2状態に配置された状態において、第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29の第1端部の端面と対向する位置に投光部30及び受光部31が配置されている。即ち、投光部30及び受光部31は回動軸21を含む水平面上で回動軸21に対して対称位置に配置されている。   At the tip of the main body 13, in this embodiment, the third arm 18, the first end of the first optical fiber 28 and the second optical fiber 29 in the state where the hand 14 is disposed in the first state or the second state. The light projecting unit 30 and the light receiving unit 31 are arranged at positions facing the end surface. In other words, the light projecting unit 30 and the light receiving unit 31 are arranged symmetrically with respect to the rotation shaft 21 on the horizontal plane including the rotation shaft 21.

第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29は、第1端部側の先端に、入射光又は出射光を平行光とするレンズ32が取り付けられており、投光部30には出射光を平行光とするレンズ33が、受光部31には入射光を平行光とするレンズ34がそれぞれ取り付けられている。   In the first optical fiber 28 and the second optical fiber 29, a lens 32 that converts incident light or outgoing light into parallel light is attached to the tip on the first end side. A lens 33 for light is attached, and a lens 34 for making incident light parallel light is attached to the light receiving unit 31.

第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29は、第2端部が載置部19に載置されたウエハWに光を出射及び反射光を受光可能に設けられている。この実施形態では、両光ファイバ28,29の第2端部はセンサヘッド本体35に接続されている。センサヘッド本体35は特開2004−294291号公報に開示されたものと同様に構成されている。図4(a),(b)に示すように、センサヘッド本体35の前端側に投光用及び受光用の透光部材36が一対設けられている。透光部材36は凸レンズ部36a、反射面36b及び対向端面36cを有し、図4(a)に示すように、対向端面36cが第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29の第2端面と対向するように配置されている。凸レンズ部36aから入射した光は反射面36bで反射して対向端面36cから出射し、対向端面36cから入射した光は反射面36bで反射して凸レンズ部36aから出射するようになっている。   The first optical fiber 28 and the second optical fiber 29 are provided such that the second end portion can emit light and receive reflected light on the wafer W placed on the placement portion 19. In this embodiment, the second ends of both optical fibers 28 and 29 are connected to the sensor head main body 35. The sensor head main body 35 is configured in the same manner as that disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-294291. As shown in FIGS. 4A and 4B, a pair of translucent members 36 for light projection and light reception are provided on the front end side of the sensor head main body 35. The translucent member 36 has a convex lens portion 36a, a reflecting surface 36b, and an opposing end surface 36c, and the opposing end surface 36c is connected to the second end surfaces of the first optical fiber 28 and the second optical fiber 29 as shown in FIG. It arrange | positions so that it may oppose. Light incident from the convex lens portion 36a is reflected by the reflecting surface 36b and emitted from the opposing end surface 36c, and light incident from the opposing end surface 36c is reflected by the reflecting surface 36b and emitted from the convex lens portion 36a.

図4(b)に示すように、両透光部材36は、それぞれの凸レンズ部36aの中心軸がセンサヘッド本体35上方の所定の位置で互いに交差するように、内向きに傾いた状態で配置されている。そして、投光側の透光部材36から出射された光がウエハWの表面で反射して他方の透光部材36に入射するようになっている。   As shown in FIG. 4B, the two light transmitting members 36 are arranged in an inwardly inclined state so that the central axes of the respective convex lens portions 36a intersect each other at a predetermined position above the sensor head main body 35. Has been. The light emitted from the light transmitting member 36 on the light projecting side is reflected by the surface of the wafer W and enters the other light transmitting member 36.

図6(a),(b)に示すように、投光部30に連続する光ファイバ37aと、受光部31に連続する光ファイバ37bは第3アーム18内に設けられた検出コントロール部38に接続されている。なお、図6(a)は、ハンド14が第1状態に配置された場合の第1及び第2光ファイバ28,29と投光部30及び受光部31との関係を示す模式図であり、図6(b)は、ハンド14が第2状態に配置された場合の模式図であり、回動軸21やハンド回動用モータ26等を省略している。     As shown in FIGS. 6A and 6B, the optical fiber 37 a continuous to the light projecting unit 30 and the optical fiber 37 b continuous to the light receiving unit 31 are connected to the detection control unit 38 provided in the third arm 18. It is connected. FIG. 6A is a schematic diagram showing the relationship between the first and second optical fibers 28 and 29 and the light projecting unit 30 and the light receiving unit 31 when the hand 14 is arranged in the first state. FIG. 6B is a schematic diagram when the hand 14 is arranged in the second state, and the rotation shaft 21 and the hand rotation motor 26 are omitted.

図5に示すように、検出コントロール部38には、光ファイバ37aに光を出射する投光素子(発光素子)39aと、光ファイバ37bから出射される光を受光する受光素子39bと、投光素子駆動回路40と、受光素子39bの検出信号を増幅する増幅回路41とが設けられている。投光素子39aとしては、例えば、発光ダイオード(LED)が使用され、受光素子39bとしてはフォトダイオードが使用されている。第1光ファイバ28、第2光ファイバ29、投光部30、受光部31、センサヘッド本体35、光ファイバ37a,37b及び検出コントロール部38によりウエハWの検出を行う検出手段が構成されている。   As shown in FIG. 5, the detection control unit 38 includes a light projecting element (light emitting element) 39a that emits light to an optical fiber 37a, a light receiving element 39b that receives light emitted from the optical fiber 37b, and a light projecting element. An element driving circuit 40 and an amplifier circuit 41 that amplifies the detection signal of the light receiving element 39b are provided. For example, a light emitting diode (LED) is used as the light projecting element 39a, and a photodiode is used as the light receiving element 39b. The first optical fiber 28, the second optical fiber 29, the light projecting unit 30, the light receiving unit 31, the sensor head main body 35, the optical fibers 37 a and 37 b, and the detection control unit 38 constitute detection means for detecting the wafer W. .

本体13にはハンド14の回動位置を検出する位置検出手段42が設けられている。位置検出手段42は、図2に示すように、例えば、第3アーム18の先端に設けられた反射式センサ42aと、ハンド14に設けられた反射板42bとで構成されている。反射式センサ42aは1個設けられ、反射板42bは2個設けられている。反射板42bは、ハンド14が第1状態又は第2の状態に配置された際に、いずれか一方の反射板42bが反射式センサ42aと対向する位置に設けられている。   The main body 13 is provided with position detecting means 42 for detecting the rotational position of the hand 14. As shown in FIG. 2, the position detection unit 42 includes, for example, a reflective sensor 42 a provided at the tip of the third arm 18 and a reflective plate 42 b provided on the hand 14. One reflective sensor 42a is provided, and two reflective plates 42b are provided. The reflective plate 42b is provided at a position where one of the reflective plates 42b faces the reflective sensor 42a when the hand 14 is disposed in the first state or the second state.

図5に示すように、多関節アーム12、ハンド回動用モータ26及び検出コントロール部38を制御する制御装置Cは、CPU43及びメモリ44を有し、図示しない入出力インターフェイスを介して検出コントロール部38及び反射式センサ42aに接続されている。CPU43は検出コントロール部38からの出力信号が予め設定された所定レベル以上の時にウエハWが載置部19上に保持されていると判断する。   As shown in FIG. 5, the control device C that controls the articulated arm 12, the hand rotation motor 26, and the detection control unit 38 includes a CPU 43 and a memory 44, and includes a detection control unit 38 via an input / output interface (not shown). And the reflective sensor 42a. The CPU 43 determines that the wafer W is held on the mounting unit 19 when the output signal from the detection control unit 38 is equal to or higher than a predetermined level set in advance.

CPU43は、反射式センサ42aの検出信号に基づいて、ハンド14の位置が第1状態及び第2状態のいずれかの状態以外の時は、検出コントロール部38の検出結果を無効にする。即ち、CPU43は、位置検出手段42の検出信号に基づいてハンド14の位置が第1状態及び第2状態のいずれかの状態以外のときに、検出手段の検出結果を無効化する無効化手段として機能する。また、CPU43は、検出手段によってウエハWが検出されたときに、ウエハWの搬送を許可する制御手段として機能する。   Based on the detection signal of the reflective sensor 42a, the CPU 43 invalidates the detection result of the detection control unit 38 when the position of the hand 14 is other than the first state or the second state. That is, the CPU 43 serves as an invalidating unit that invalidates the detection result of the detecting unit when the position of the hand 14 is other than the first state or the second state based on the detection signal of the position detecting unit 42. Function. The CPU 43 functions as a control unit that permits transfer of the wafer W when the detection unit detects the wafer W.

また、CPU43は、図示しない入出力インターフェイス及び駆動回路を介してハンド回動用モータ26及び多関節アーム12を駆動するアーム駆動手段45や負圧源に連通するパイプ23の途中に設けられた図示しない電磁弁を制御するようになっている。CPU43は、検出手段によってウエハWが検出された状態において、多関節アーム12の駆動を制御するようになっている。   Further, the CPU 43 is not shown provided in the middle of the pipe 23 communicating with the arm driving means 45 for driving the hand rotation motor 26 and the articulated arm 12 and the negative pressure source via an input / output interface and a drive circuit (not shown). The solenoid valve is controlled. The CPU 43 controls the driving of the articulated arm 12 in a state where the wafer W is detected by the detecting means.

次に前記のように構成されたウエハ搬送装置11の作用を説明する。
ウエハ搬送装置11が、例えば、ウエハWをカセットから取り出して処理装置に搬送する場合、制御装置Cは、ハンド14が第1状態、即ち載置部19が上を向いている状態でウエハWの下方に位置するように多関節アーム12を移動させた後、多関節アーム12を上昇させる。また、電磁弁を駆動させて各吸着部20に吸引作用を発生させる。その後、検出コントロール部38にウエハ検出を行う指令信号を出力する。検出コントロール部38はウエハ検出を行う指令信号を入力すると、投光素子駆動回路40を介して投光素子39aを駆動させる。投光素子39aから出射した光は光ファイバ37aを介して投光部30から第1光ファイバ28へ出射される。投光部30から出射された光は第1光ファイバ28の第1の端部に入射し、第1光ファイバ28によりセンサヘッド本体35へ導かれ、一方の透光部材36からウエハWに向けて出射される。ウエハWに向けて出射された光はウエハWで反射して他方の透光部材36に入射し、第2光ファイバ29を通ってその第1端部から出射して受光部31に入射する。
Next, the operation of the wafer transfer apparatus 11 configured as described above will be described.
For example, when the wafer transfer device 11 takes out the wafer W from the cassette and transfers it to the processing device, the control device C sets the wafer W in the first state, that is, with the placement unit 19 facing upward. After the articulated arm 12 is moved so as to be positioned below, the articulated arm 12 is raised. Further, the electromagnetic valve is driven to cause each suction portion 20 to generate a suction action. Thereafter, a command signal for performing wafer detection is output to the detection control unit 38. When receiving a command signal for wafer detection, the detection control unit 38 drives the light projecting element 39 a via the light projecting element driving circuit 40. The light emitted from the light projecting element 39a is emitted from the light projecting unit 30 to the first optical fiber 28 via the optical fiber 37a. The light emitted from the light projecting unit 30 enters the first end of the first optical fiber 28, is guided to the sensor head main body 35 by the first optical fiber 28, and is directed from one translucent member 36 toward the wafer W. Are emitted. The light emitted toward the wafer W is reflected by the wafer W and enters the other light transmissive member 36, passes through the second optical fiber 29, exits from the first end thereof, and enters the light receiving unit 31.

受光部31に入射した光は光ファイバ37bを通って受光素子39bに入射する。受光素子39bは入射する光の強度に対応する電圧信号を増幅回路41に出力し、増幅回路41はその信号を増幅して出力する。CPU43は、増幅回路41の出力信号、即ち検出コントロール部38の出力信号が設定値以上になるとウエハWが存在すると判断する。そして、ウエハWが存在する場合は、ウエハWの搬送を行う。   The light incident on the light receiving unit 31 enters the light receiving element 39b through the optical fiber 37b. The light receiving element 39b outputs a voltage signal corresponding to the intensity of incident light to the amplifier circuit 41, and the amplifier circuit 41 amplifies the signal and outputs the amplified signal. The CPU 43 determines that the wafer W exists when the output signal of the amplifier circuit 41, that is, the output signal of the detection control unit 38 becomes equal to or higher than a set value. When the wafer W exists, the wafer W is transferred.

ウエハ搬送装置11は、ハンド14の載置部19が上向きの状態、即ち第1状態に限らず、下向きの状態即ち第2状態にしてウエハWを搬送する場合がある。ハンド14を反転させる場合は、多関節アーム12が停止した状態で、ハンド回動用モータ26を駆動させて回動軸21を180°回動させる。ハンド14が回動中は、第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29の第1端部は投光部30及び受光部31と対向しないため、ウエハWの検出を行うことができない。そのため、仮に検出コントロール部38の出力が設定値以上になってもそれは第2光ファイバ29からの出射光に基づく検出信号ではない。CPU43は、反射式センサ42aからハンド14が第1状態又は第2状態にあることの検出信号が出力されている状態以外のときは、検出コントロール部38の検出結果を無効にするため、ハンド14の回動中にウエハ搬送装置11がウエハWの搬送を開始することはない。   The wafer transfer apparatus 11 may transfer the wafer W not only in the upward state, that is, in the first state, but also in the downward state, that is, in the second state. When the hand 14 is reversed, the hand rotating motor 26 is driven to rotate the rotating shaft 21 by 180 ° with the articulated arm 12 stopped. While the hand 14 is rotating, the first end portions of the first optical fiber 28 and the second optical fiber 29 do not face the light projecting unit 30 and the light receiving unit 31, so that the wafer W cannot be detected. Therefore, even if the output of the detection control unit 38 exceeds the set value, it is not a detection signal based on the light emitted from the second optical fiber 29. When the CPU 43 is in a state other than a state in which a detection signal indicating that the hand 14 is in the first state or the second state is output from the reflective sensor 42a, the CPU 43 invalidates the detection result of the detection control unit 38. During the rotation, the wafer transfer device 11 does not start transferring the wafer W.

図6(a)に示す状態(第1状態)からハンド14が回動されるとともに180°回動されてハンド14の反転が完了すると、図6(b)に示す状態(第2状態)になる。第2状態では第1光ファイバ28の第1端部が受光部31と、第2光ファイバ29の第1端部が投光部30と対向する状態になる。そして、投光部30から出射された光は第2光ファイバ29の第1の端部に入射し、第2光ファイバ29によりセンサヘッド本体35へ導かれ、他方の透光部材36からウエハWに向けて出射される。ウエハWに向けて出射された光はウエハWで反射して一方の透光部材36に入射し、第1光ファイバ28を通ってその第1端部から出射して受光部31に入射する。したがって、ウエハWが検出され、CPU43はウエハ搬送装置11によるウエハWの搬送を許可し、多関節アーム12を駆動制御する。そして、多関節アーム12が駆動されてウエハWが所定位置に搬送される。   When the hand 14 is rotated from the state shown in FIG. 6A (first state) and rotated 180 ° to complete the reversal of the hand 14, the state shown in FIG. 6B (second state) is obtained. Become. In the second state, the first end of the first optical fiber 28 faces the light receiving unit 31, and the first end of the second optical fiber 29 faces the light projecting unit 30. The light emitted from the light projecting unit 30 enters the first end of the second optical fiber 29, is guided to the sensor head main body 35 by the second optical fiber 29, and is sent from the other light transmitting member 36 to the wafer W. It is emitted toward The light emitted toward the wafer W is reflected by the wafer W and enters one of the translucent members 36, passes through the first optical fiber 28, exits from the first end thereof, and enters the light receiving unit 31. Therefore, the wafer W is detected, and the CPU 43 allows the wafer transfer device 11 to transfer the wafer W and controls the articulated arm 12 to be driven. Then, the articulated arm 12 is driven and the wafer W is transferred to a predetermined position.

この実施形態によれば、以下に示す効果を得ることができる。
(1)ウエハ検出装置は、本体13に対して回動軸21を介してハンド14を回動可能に支持したウエハ搬送装置11に装備され、ウエハWを載置する載置部19に載置されたウエハWの検出を行う。ハンド14には、第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29が、その第1端部が本体13と対向する位置で、かつ回動軸21に対して対称位置に配置されるように設けられるとともに、第2端部が載置部19に載置されたウエハWに光を出射及び反射光を受光可能に設けられている。本体13には、ハンド14が第1状態又は第2状態に配置された状態において、第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29の第1端部の端面と対向する位置に投光部30及び受光部31が配置され、受光部31の受光量に基づいてウエハWの検出を行う検出手段を備えている。したがって、ハンド14に設けられた第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29は、ハンド14が回動(回転)しても本体13側の投光部30及び受光部31と第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29の端部とは対向状態が維持され、光の伝達が損なわれることはない。また、ハンド14が回転しても光ファイバが絡まることがなく、回転前及び回転後のいずれにおいてもウエハWの検出が正確に行われる。
According to this embodiment, the following effects can be obtained.
(1) The wafer detection device is mounted on the wafer transfer device 11 which supports the main body 13 via the rotation shaft 21 so as to be rotatable, and is mounted on the mounting portion 19 on which the wafer W is mounted. The detected wafer W is detected. The hand 14 is provided with a first optical fiber 28 and a second optical fiber 29 so that the first end thereof is disposed at a position facing the main body 13 and symmetrical with respect to the rotation shaft 21. At the same time, the second end portion is provided so as to emit light and receive reflected light on the wafer W placed on the placement portion 19. In the main body 13, the light projecting unit 30 and the first optical fiber 28 and the second optical fiber 29 are opposed to the end surfaces of the first optical fiber 28 and the second optical fiber 29 when the hand 14 is disposed in the first state or the second state. The light receiving unit 31 is disposed and includes a detecting unit that detects the wafer W based on the amount of light received by the light receiving unit 31. Therefore, the first optical fiber 28 and the second optical fiber 29 provided in the hand 14 are the light projecting unit 30 and the light receiving unit 31 on the main body 13 side and the first optical fiber 28 even if the hand 14 rotates (rotates). And the end state of the second optical fiber 29 is kept opposite, and the transmission of light is not impaired. Further, even if the hand 14 is rotated, the optical fiber is not entangled, and the wafer W is accurately detected both before and after the rotation.

(2)第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29は、第1端部側の先端に、入射光又は出射光を平行光とするレンズ32が取り付けられており、投光部30には出射光を平行光とするレンズ33が、受光部31には入射光を平行光とするレンズ34がそれぞれ取り付けられている。したがって、第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29の回動軸21に対する対称性の精度が多少悪くても、本体13側とハンド14側との間における光の伝達のロスを低減させることができる。   (2) In the first optical fiber 28 and the second optical fiber 29, a lens 32 that makes incident light or outgoing light parallel light is attached to the tip on the first end side. A lens 33 that converts incident light into parallel light and a lens 34 that converts incident light into parallel light are respectively attached to the light receiving unit 31. Therefore, even if the accuracy of the symmetry of the first optical fiber 28 and the second optical fiber 29 with respect to the rotation shaft 21 is somewhat poor, loss of light transmission between the main body 13 side and the hand 14 side can be reduced. it can.

(3)ハンド14が回転して載置部19が反転してもウエハWを落下しないように保持する構成としてウエハWを吸着保持する構成を採用し、ハンド14に設けられた吸着部20に負圧を作用させる通路21aが回動軸21に形成されている。したがって、負圧供給用のチューブやパイプのねじれを抑制することができる。   (3) A configuration in which the wafer W is sucked and held is adopted as a configuration for holding the wafer W so that it does not fall even if the hand 14 rotates and the mounting portion 19 is reversed, and the suction portion 20 provided in the hand 14 is used. A passage 21 a for applying a negative pressure is formed in the rotation shaft 21. Therefore, the twist of the tube and pipe for negative pressure supply can be suppressed.

(4)ハンド14は、本体13側において軸受22により回動可能に支持され、かつ回動手段により回動される回動軸21の先端側に固定され、回動軸21には、ハンド14にウエハWを吸着保持するために設けられた吸着部20に対して、本体13に設けられた負圧源の負圧を作用させる通路21aが形成されている。したがって、ハンド14がウエハWを吸着保持する構成と、ウエハ検出用の光ファイバによる検出情報を本体側に支障なく伝達する構成とを両立させることが容易になる。   (4) The hand 14 is rotatably supported by the bearing 22 on the main body 13 side, and is fixed to the distal end side of the rotating shaft 21 that is rotated by the rotating means. A passage 21 a is formed in which a negative pressure of a negative pressure source provided in the main body 13 is applied to the suction portion 20 provided to hold the wafer W by suction. Therefore, it is easy to achieve both a configuration in which the hand 14 sucks and holds the wafer W and a configuration in which detection information by the optical fiber for wafer detection is transmitted to the main body without any trouble.

(5)ウエハ搬送装置11は、ハンド14の回動位置を検出する位置検出手段42と、位置検出手段42によって検出されたハンド14の位置が第1状態及び第2状態のいずれかの状態以外のとき、検出手段の検出結果を無効化する無効化手段と、検出手段によりウエハWが検出されたときに、ウエハWの搬送を許可する制御手段とを備えている。したがって、ウエハWの検出を正確に行うことができない状態においてはウエハ検出を行う検出手段の検出結果を無効化することにより、ウエハ搬送の誤動作を防止することができる。   (5) The wafer transfer apparatus 11 includes a position detection unit 42 that detects the rotation position of the hand 14, and the position of the hand 14 detected by the position detection unit 42 is not in any of the first state and the second state. In this case, an invalidation unit that invalidates the detection result of the detection unit, and a control unit that permits transfer of the wafer W when the detection unit detects the wafer W are provided. Therefore, in a state where the detection of the wafer W cannot be performed accurately, the detection result of the detection unit that performs the wafer detection is invalidated, thereby preventing a malfunction of the wafer transfer.

(第2の実施形態)
次に第2の実施形態を図7を参照しながら説明する。この実施形態は、ウエハ搬送装置11が交換可能に複数のハンド14を備えるとともに、そのうちの一つのハンド14が選択されて使用される点と、ハンド14が取り外し可能に構成され、選択されたハンド14が回動軸21に一体回転可能に取り付けられる点が前記第1の実施形態と大きく異なっている。その他の構成は第1の実施形態と同じであるため異なる部分について説明する。なお、第1の実施形態と同様の部分については同じ符号を付して詳しい説明を省略する。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment will be described with reference to FIG. In this embodiment, the wafer transfer apparatus 11 includes a plurality of hands 14 that can be exchanged, and one of the hands 14 is selected and used, and the hand 14 is configured to be detachable. The point that 14 is attached to the rotating shaft 21 so as to be integrally rotatable is greatly different from that of the first embodiment. Since other configurations are the same as those of the first embodiment, different portions will be described. In addition, the same code | symbol is attached | subjected about the part similar to 1st Embodiment, and detailed description is abbreviate | omitted.

図7(b)はハンド14の基端部と回動軸21との関係を示す概略断面図であり、図7(a)は(b)のC−C線断面図である。ハンド14の基端部は円柱状に形成されるとともに中心部に回動軸21の挿通孔46が形成されている。挿通孔46は、大径部46a及び小径部46bを有し、ハンド14の基端側に大径部46aが、奥側に小径部46bが位置し、大径部46a及び小径部46bは縮径部を介して連続し、小径部46bに連通するようにパイプ47が設けられている。パイプ47の端部にはシールリング48が配置され、回動軸21は先端がシールリング48に当接する状態で、挿通孔46に挿入される。ハンド14の基端部には大径部46aに連通する溝49a,49bが、周方向の間隔がほぼ同じとなる放射状に形成され、一つの溝49aは他の2つの溝49bより幅広に形成されている。各溝49a,49bには掛止片50a,50bが基端側に設けられた軸を介して溝49a,49b内で回動可能に支持されている。各掛止片50a,50bは基端側から先端側に向かって挿通孔46の中心からの距離が大きくなる斜面が設けられるとともに、先端に掛止部51が形成されている。各掛止片50a,50bは、一端がリング部材52の内面に固定されたばね53により、先端が挿通孔46の中心に向かうように付勢されている。   FIG. 7B is a schematic cross-sectional view showing the relationship between the base end portion of the hand 14 and the rotation shaft 21, and FIG. 7A is a cross-sectional view taken along the line CC of FIG. 7B. A base end portion of the hand 14 is formed in a cylindrical shape, and an insertion hole 46 of the rotation shaft 21 is formed in the center portion. The insertion hole 46 has a large-diameter portion 46a and a small-diameter portion 46b. The large-diameter portion 46a is located on the proximal end side of the hand 14 and the small-diameter portion 46b is located on the back side. The large-diameter portion 46a and the small-diameter portion 46b are contracted. A pipe 47 is provided so as to continue through the diameter portion and communicate with the small diameter portion 46b. A seal ring 48 is disposed at the end of the pipe 47, and the rotating shaft 21 is inserted into the insertion hole 46 with the tip abutting against the seal ring 48. Grooves 49a and 49b communicating with the large-diameter portion 46a are formed radially at the base end portion of the hand 14 so that the circumferential interval is substantially the same, and one groove 49a is formed wider than the other two grooves 49b. Has been. In each of the grooves 49a and 49b, latching pieces 50a and 50b are rotatably supported in the grooves 49a and 49b via a shaft provided on the base end side. Each of the latching pieces 50a and 50b is provided with a slope that increases in distance from the center of the insertion hole 46 from the proximal end side toward the distal end side, and a latching portion 51 is formed at the distal end. Each of the latching pieces 50 a and 50 b is urged by a spring 53 having one end fixed to the inner surface of the ring member 52 so that the tip is directed toward the center of the insertion hole 46.

回動軸21は、外径が小径部46bに嵌挿可能に形成されるとともに、外周部の溝49a,49bと対応する部分に、掛止片50a,50bに当接する係止部54が形成され、掛止片50aに当接する係止部54と反対側にキー部55が形成されている。回動軸21のキー部55が、挿通孔46の縮径部に形成されたキー溝56と係合することにより、ハンド14が回動軸21と確実に一体回転するようになっている。   The rotary shaft 21 is formed so that its outer diameter can be fitted into the small diameter portion 46b, and a locking portion 54 that abuts the latching pieces 50a, 50b is formed in a portion corresponding to the grooves 49a, 49b on the outer peripheral portion. In addition, a key portion 55 is formed on the side opposite to the locking portion 54 that contacts the hooking piece 50a. By engaging the key portion 55 of the rotating shaft 21 with the key groove 56 formed in the reduced diameter portion of the insertion hole 46, the hand 14 is reliably rotated integrally with the rotating shaft 21.

この実施形態のハンド14は、図7(a)に示すように、回動軸21の先端が挿通孔46に挿通されて、3個の掛止片50a,50bが係止部54を介して回動軸21の抜け止めを図った状態で回動軸21に支持される。そして、回動軸21が回動されると、ハンド14が回動軸21と一体に回動される。ハンド14に、その先端側に向かって作用する力、即ち図7(a)における右方向へ作用する力が、ばね53の付勢力に抗する大きさになると、掛止片50a,50bが、係止部54から離間する方向に回動されて、掛止片50a,50bと係止部54との掛け止め状態が解除されて、ハンド14が回動軸21から取り外される。   In the hand 14 of this embodiment, as shown in FIG. 7A, the tip of the rotating shaft 21 is inserted into the insertion hole 46, and the three latching pieces 50 a and 50 b are interposed via the locking portion 54. The rotating shaft 21 is supported by the rotating shaft 21 in a state where the rotating shaft 21 is prevented from being detached. When the rotating shaft 21 is rotated, the hand 14 is rotated integrally with the rotating shaft 21. When the force acting on the hand 14 toward the tip side thereof, that is, the force acting in the right direction in FIG. 7A, is large enough to resist the biasing force of the spring 53, the latching pieces 50 a and 50 b are By rotating in a direction away from the locking portion 54, the locking state between the locking pieces 50 a and 50 b and the locking portion 54 is released, and the hand 14 is detached from the rotation shaft 21.

また、ハンド14を回動軸21に装着する場合は、ハンド14の挿通孔46の中心と、回動軸21の中心とが同軸上になる状態で、かつキー溝56とキー部55が対応する状態で、ハンド14と回動軸21とを相対移動させて回動軸21を挿通孔46に挿入する。挿入途中で係止部54が掛止片50a,50bを回動させて移動し、更に移動すると図7(b)の状態になる。   When the hand 14 is attached to the rotating shaft 21, the center of the insertion hole 46 of the hand 14 and the center of the rotating shaft 21 are coaxial, and the key groove 56 and the key portion 55 correspond to each other. In this state, the hand 14 and the rotation shaft 21 are relatively moved to insert the rotation shaft 21 into the insertion hole 46. During the insertion, the locking portion 54 rotates by moving the latching pieces 50a and 50b, and when it further moves, the state shown in FIG. 7B is obtained.

したがって、この実施形態においては、第1の実施形態における効果(1)〜(5)と同様な効果を有する他に次の効果を有する。
(6)ウエハ搬送装置11の本体13に交換可能に複数のハンド14が備えられるとともに、そのうちの一つのハンド14が選択されて使用される。この構成によれば、ウエハ搬送装置11の用途によって、同じウエハWを同じ方法で保持して搬送するだけでなく、異なる大きさのウエハWを搬送したり、同じ大きさのウエハWでも異なる方法で保持したりするために、複数種のハンド14の中から適正なものを選択して使用する場合、ハンド14の変更が容易になる。
Therefore, this embodiment has the following effects in addition to the same effects as the effects (1) to (5) in the first embodiment.
(6) A plurality of hands 14 are provided in the main body 13 of the wafer transfer device 11 so as to be replaceable, and one of the hands 14 is selected and used. According to this configuration, not only the same wafer W is held and transferred by the same method depending on the use of the wafer transfer apparatus 11, but also a wafer W having a different size or a different method for a wafer W having the same size. For example, when a proper hand is selected from a plurality of types of hands 14 and used, the hand 14 can be easily changed.

(7)ハンド14側に設けられ、ばね53により付勢されるとともに放射方向に回動可能な掛止片50a,50bと、回動軸21側に設けられた係止部54とでハンド14の回動軸21からの抜け止め手段が構成されている。したがって、所定の大きさ以上の力を回動軸21の軸方向で、かつ回動軸21から遠ざかる方向にハンド14に作用させることで回動軸21から容易に取り外すことができる。   (7) The hand 14 is provided with latching pieces 50a and 50b which are provided on the hand 14 side and are urged by the spring 53 and rotatable in the radial direction, and a locking portion 54 provided on the rotating shaft 21 side. A means for preventing the shaft from coming off from the rotation shaft 21 is configured. Therefore, it is possible to easily remove the force from the rotating shaft 21 by applying a force of a predetermined magnitude or more to the hand 14 in the axial direction of the rotating shaft 21 and in a direction away from the rotating shaft 21.

実施形態は前記に限定されるものではなく、例えば次のように構成してもよい。
・ハンド14の両面にウエハWの載置部19を設けてもよい。この場合、いずれの載置部でウエハWを載置した場合でも、両第1及び第2光ファイバ28,29及びセンサヘッド本体35を共用できる構成が好ましい。そのような構成として、例えば、図8(a),(b)に示すセンサヘッド本体35がある。センサヘッド本体35は、第1の実施形態の透光部材36に代えて、対向端面36cと垂直な面に対して、凸レンズ部36a及び反射面36bが面対称に形成された透光部材57を2個備えている。そして、第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29の第2端部はハンド14に対して、回動軸21に対して対称に、かついずれか一方の端部からのウエハWへの出射光の反射光が他方の端部に入射可能に配置されている。この構成によれば、ハンド14が180°回転して本体13の投光部30及び受光部31に対して、第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29の対向状態が逆になった場合も、第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29の第2端部がハンド14の回動軸21に対して対称に配置されるので、ウエハWの検出に悪影響を及ぼすことが無い。
The embodiment is not limited to the above, and may be configured as follows, for example.
A placement unit 19 for the wafer W may be provided on both sides of the hand 14. In this case, it is preferable that both the first and second optical fibers 28 and 29 and the sensor head main body 35 can be shared regardless of the placement part where the wafer W is placed. As such a configuration, for example, there is a sensor head main body 35 shown in FIGS. In the sensor head main body 35, instead of the translucent member 36 of the first embodiment, a translucent member 57 in which a convex lens portion 36a and a reflective surface 36b are formed symmetrically with respect to a surface perpendicular to the opposing end surface 36c. Two are provided. The second end portions of the first optical fiber 28 and the second optical fiber 29 are symmetrical with respect to the rotation axis 21 with respect to the hand 14 and light emitted to the wafer W from either one end portion. The reflected light is arranged to be incident on the other end. According to this configuration, even when the hand 14 is rotated by 180 °, the opposed state of the first optical fiber 28 and the second optical fiber 29 with respect to the light projecting unit 30 and the light receiving unit 31 of the main body 13 is reversed. Since the second end portions of the first optical fiber 28 and the second optical fiber 29 are arranged symmetrically with respect to the rotating shaft 21 of the hand 14, the detection of the wafer W is not adversely affected.

・ハンド14の載置部19に載置されたウエハWを保持する構成は、ウエハWを負圧の吸引作用で吸着保持する構成に限らない。例えば、ウエハWを静電吸着により吸着保持したり、把持位置と解放位置とに移動可能な把持片でウエハWを把持して保持したりする構成としてもよい。静電吸着により吸着保持を行う場合は、静電吸着のための電源供給用の配線を回動軸21の通路21aからハンド14側に導くことにより、ハンド14が180°回動しても支障がない。静電吸着でウエハWを吸着保持する場合、載置部19はウエハWと面接触して吸着するのではなく、複数の突起状の点接触体でウエハWと接触して吸着保持する。把持片でウエハWを把持して保持する構成では、載置部19は面接触する状態でウエハWを支持する。そして、例えば、複数の把持片を、把持位置と解放位置とに移動可能に設けるとともに、ばねで把持側あるいは解放側に付勢し、その付勢力に抗して負圧あるいは圧縮エアを作用させて把持片を作動させる構成や、把持片を電磁ソレノイドで作動させる構成が採用される。   The configuration for holding the wafer W placed on the placement unit 19 of the hand 14 is not limited to the configuration for holding the wafer W by suction with a negative pressure suction action. For example, the wafer W may be attracted and held by electrostatic attraction, or the wafer W may be gripped and held by a gripping piece that can be moved between the gripping position and the release position. In the case where the suction holding is performed by electrostatic attraction, the power supply wiring for electrostatic attraction is guided from the passage 21a of the rotation shaft 21 to the hand 14 side, so that the hand 14 may be rotated by 180 °. There is no. When the wafer W is attracted and held by electrostatic attraction, the mounting portion 19 does not attract the wafer W by contacting the wafer W, but contacts and holds the wafer W by a plurality of protruding point contacts. In the configuration in which the wafer W is gripped and held by the gripping piece, the mounting unit 19 supports the wafer W in a surface contact state. For example, a plurality of gripping pieces are provided so as to be movable between a gripping position and a release position, and are biased to a gripping side or a releasing side by a spring, and negative pressure or compressed air is applied against the biasing force. A configuration in which the grip piece is operated and a configuration in which the grip piece is operated by an electromagnetic solenoid are employed.

・ハンド14の両面に載置部19を設ける場合、ウエハWの保持方法に吸着方法を用いると、ウエハWを吸着しない側の吸着部20からエアが吸引されることにより、ウエハWを吸着している側の吸着力が低下する。したがって、ウエハWの保持方法としては、静電吸着による吸着保持や把持片による把持が好ましい。   In the case where the placement units 19 are provided on both surfaces of the hand 14, if an adsorption method is used as a method for holding the wafer W, the wafer W is adsorbed by sucking air from the adsorption unit 20 on the side that does not adsorb the wafer W. Adsorption power on the side that is on the side is reduced. Therefore, as a method for holding the wafer W, suction holding by electrostatic chucking or gripping by a gripping piece is preferable.

・ウエハ検出装置は、ハンド14の載置部19上に載置されたウエハWを検出する場合に限らず、カセットに収容されているウエハWの位置を認識するために行うマッピング操作の際に使用するマッピング用のセンサに適用してもよい。例えば、載置部19に載置されたウエハ検出用のセンサの他にマッピング用のセンサをハンド14に設けてもよい。マッピング用のセンサは、光をウエハWの周面に向かって出射し、その反射光を受光可能にするため、ハンド14の先端に設けられる。この場合、ハンド14には2組の光ファイバを配置し、本体13側には2組の投光部及び受光部を設ける必要があるが、2組の光ファイバの互いに対応する組同士の第1端部を回動軸21に対して対称位置に配置することにより、ハンド14が180°回動しても支障なく検出が可能になる。   The wafer detection apparatus is not limited to detecting the wafer W placed on the placement unit 19 of the hand 14, but is used for a mapping operation performed to recognize the position of the wafer W stored in the cassette. You may apply to the sensor for mapping to be used. For example, in addition to the wafer detection sensor placed on the placement unit 19, a mapping sensor may be provided in the hand 14. The mapping sensor is provided at the tip of the hand 14 in order to emit light toward the peripheral surface of the wafer W and receive the reflected light. In this case, it is necessary to dispose two sets of optical fibers in the hand 14 and to provide two sets of light projecting units and light receiving units on the main body 13 side. By disposing one end portion at a symmetrical position with respect to the rotation shaft 21, even if the hand 14 is rotated 180 °, detection can be performed without any problem.

・第1及び第2光ファイバ28,29の各第1端部を回動軸21に対して対称位置に配置する場合、各第1端部及び回動軸21が載置面(載置部)と平行な平面上に位置する配置に限らず、各第1端部が回動軸21に対して対称位置であればよく、例えば、載置面と直交する平面上に位置する配置であってもよい。   When the first end portions of the first and second optical fibers 28 and 29 are arranged at symmetrical positions with respect to the rotation shaft 21, the first end portions and the rotation shaft 21 are placed on the placement surface (mounting portion). The first end portion is not limited to the arrangement located on the plane parallel to the rotation axis 21, and may be located on the plane orthogonal to the placement surface. May be.

・第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29を凸レンズ部36aや反射面36bを有する透光部材36を備えたセンサヘッド本体35を介してウエハWに光を出射して反射光を受光(入射)する構成に限らない。例えば、センサヘッド本体35を設けずに、第1及び第2光ファイバ28,29の第2端部の端面から直接ウエハWに光を出射し、反射光を入射するようにしたり、第2端部に凸レンズを取り付けるようにしたりしてもよい。また、光ファイバを用いるセンサの方式は、反射型に限らず透過型やミラー反射型にしてもよい。しかし、透過型やミラー反射型は、ウエハを挟んで光出射部と反対側に受光部あるいはミラーを設ける必要があり、反射型に比較して構造が複雑になる。   The first optical fiber 28 and the second optical fiber 29 are emitted to the wafer W through the sensor head main body 35 having the translucent member 36 having the convex lens portion 36a and the reflecting surface 36b, and the reflected light is received (incident). ). For example, without providing the sensor head main body 35, light is directly emitted from the end surfaces of the second end portions of the first and second optical fibers 28 and 29 to the wafer W to receive reflected light, or the second end. A convex lens may be attached to the part. The sensor system using the optical fiber is not limited to the reflection type, and may be a transmission type or a mirror reflection type. However, the transmission type and the mirror reflection type need to provide a light receiving part or a mirror on the opposite side of the light emitting part across the wafer, and the structure is complicated compared to the reflection type.

・ウエハWの検出やウエハ搬送装置に限らず、液晶パネル、有機ELパネル、プラズマディスプレイパネル等のフラットディスプレイパネルの基板のように薄いガラス板や樹脂板等の板状部材の検出や搬送装置に適用してもよい。   ・ It is not limited to the detection of wafers W and wafer transfer devices, but to the detection and transfer devices of plate-like members such as thin glass plates and resin plates such as substrates of flat display panels such as liquid crystal panels, organic EL panels, and plasma display panels. You may apply.

以下の技術的思想(発明)は前記実施形態から把握できる。
・請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載の発明において、ウエハに代えてフラットディスプレイパネルの基板の検出を行うようにした基板検出装置。
The following technical idea (invention) can be understood from the embodiment.
-The board | substrate detection apparatus which detected the board | substrate of the flat display panel instead of the wafer in the invention as described in any one of Claims 1-4.

(a)はウエハ搬送装置の概略斜視図、(b)は(a)の部分拡大図。(A) is a schematic perspective view of a wafer conveyance apparatus, (b) is the elements on larger scale of (a). 回動軸の支持状態とハンド基端との関係を示す断面図。Sectional drawing which shows the relationship between the support state of a rotating shaft, and a hand base end. (a)は図2のA−A線における断面図、(b)は図2のB−B線における断面図。(A) is sectional drawing in the AA line of FIG. 2, (b) is sectional drawing in the BB line of FIG. (a)はセンサヘッド本体と光ファイバの関係を示す断面図、(b)は一対の透光部材の関係を示す上ケースを外した状態の断面図。(A) is sectional drawing which shows the relationship between a sensor head main body and an optical fiber, (b) is sectional drawing of the state which removed the upper case which shows the relationship between a pair of translucent member. 制御装置と検出手段、位置検出手段等との関係を示すブロック図。The block diagram which shows the relationship between a control apparatus, a detection means, a position detection means, etc. FIG. (a)はハンドが第1状態の場合の投光部及び受光部と第1及び第2光ファイバとの関係を示す模式図、(b)はハンドが第2状態の場合の同様の模式図。(A) is a schematic diagram which shows the relationship between the light projection part and light-receiving part when the hand is in the first state, and the first and second optical fibers, and (b) is the same schematic diagram when the hand is in the second state. . 第2の実施形態を示し、(a)は(b)のC−C断面図、(b)はハンドの基端部と回動軸との関係を示す概略断面図。The 2nd Embodiment is shown, (a) is CC sectional drawing of (b), (b) is a schematic sectional drawing which shows the relationship between the base end part of a hand, and a rotating shaft. 別の実施形態におけるセンサヘッド本体を示し、(a)は図4(a)に対応する断面図、(b)は図4(b)に対応する断面図。The sensor head main body in another embodiment is shown, (a) is sectional drawing corresponding to Fig.4 (a), (b) is sectional drawing corresponding to FIG.4 (b). 従来技術の断面図。Sectional drawing of a prior art.

符号の説明Explanation of symbols

W…ウエハ、11…ウエハ搬送装置、13…本体、14…ハンド、19…載置部、20…吸着部、21…回動軸、21a…通路、22…軸受、28…第1光ファイバ、29…第2光ファイバ、30…投光部、31…受光部、32,33,34…レンズ、35…検出手段を構成するセンサヘッド本体、37a,37b…同じく光ファイバ、38…同じく検出コントロール部、42…位置検出手段。   W ... wafer, 11 ... wafer transfer device, 13 ... main body, 14 ... hand, 19 ... mounting part, 20 ... adsorption part, 21 ... rotating shaft, 21a ... passage, 22 ... bearing, 28 ... first optical fiber, DESCRIPTION OF SYMBOLS 29 ... 2nd optical fiber, 30 ... Light projection part, 31 ... Light-receiving part, 32, 33, 34 ... Lens, 35 ... Sensor head main body which comprises a detection means, 37a, 37b ... Similarly optical fiber, 38 ... Similarly detection control Part, 42... Position detecting means.

Claims (6)

ウエハを載置する載置部を備えたハンドと、前記ハンドを支持する本体とを備え、前記ハンドは、ウエハの載置部を上向きにした第1状態と、ウエハの載置部を下向きにした第2状態との間で、前記本体に対して回動可能に設けられたウエハ搬送装置に装備されて、前記ウエハの載置部に載置されたウエハの検出を行うウエハ検出装置であって、
前記ハンドには、第1光ファイバ及び第2光ファイバが、その第1端部が前記本体と対向する位置で、かつ前記ハンドの回動軸に対して対称位置に配置されるように設けられるとともに第2端部が前記載置部に載置されたウエハに光を出射及び反射光を受光可能に設けられ、前記本体には、前記ハンドが前記第1状態又は前記第2状態に配置された状態において、前記第1光ファイバ及び第2光ファイバの第1端部の端面と対向する位置に投光部及び受光部が配置され、前記受光部の受光量に基づいて前記ウエハの検出を行う検出手段を備えていることを特徴とするウエハ検出装置。
A hand having a mounting portion for mounting a wafer and a main body for supporting the hand, wherein the hand has a first state in which the wafer mounting portion faces upward, and the wafer mounting portion faces downward. A wafer detection device that is mounted on a wafer transfer device provided so as to be rotatable with respect to the main body between the second state and detects a wafer placed on the wafer placement portion. And
The hand is provided with a first optical fiber and a second optical fiber such that the first end of the hand is disposed at a position facing the main body and symmetrical with respect to the rotation axis of the hand. In addition, the second end portion is provided so as to emit light and receive reflected light on the wafer placed on the placement portion, and the hand is disposed in the first state or the second state on the main body. In this state, a light projecting part and a light receiving part are arranged at positions facing the end surfaces of the first end parts of the first optical fiber and the second optical fiber, and the wafer is detected based on the amount of light received by the light receiving part. A wafer detecting apparatus comprising a detecting means for performing.
前記第1光ファイバ及び第2光ファイバは、前記第1端部側の先端に、入射光又は出射光を平行光とするレンズが取り付けられており、前記投光部には出射光を平行光とするレンズが、前記受光部には入射光を平行光とするレンズがそれぞれ取り付けられていることを特徴とする請求項1に記載のウエハ検出装置。   In the first optical fiber and the second optical fiber, a lens that makes incident light or outgoing light parallel light is attached to the tip on the first end side, and the light emitted from the light projecting part is parallel light. The wafer detection apparatus according to claim 1, wherein a lens that makes incident light parallel light is attached to the light receiving unit. 前記ハンドにはその両面にウエハの載置部が設けられ、前記第1光ファイバ及び第2光ファイバの第2端部は前記ハンドに対して、前記ハンドの回動軸に対して対称に、かついずれか一方の端部からのウエハへの出射光の反射光が他方の端部に入射可能に配置されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のウエハ検出装置。   Wafer mounting portions are provided on both sides of the hand, and the second end portions of the first optical fiber and the second optical fiber are symmetrical with respect to the rotation axis of the hand, 3. The wafer detection apparatus according to claim 1, wherein reflected light of light emitted from one of the end portions to the wafer is incident on the other end portion. 4. 前記ハンドは、前記本体側において軸受により回動可能に支持され、かつ回動手段により回動される回動軸の先端側に固定され、前記回動軸には、前記ハンドに前記ウエハを吸着保持するために設けられた吸着部に対して、前記本体に設けられた負圧源の負圧を作用させる通路が形成されていることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載のウエハ検出装置。   The hand is rotatably supported by a bearing on the main body side, and is fixed to a distal end side of a rotating shaft that is rotated by a rotating means, and the wafer is attracted to the hand by the rotating shaft. 4. A passage for applying a negative pressure of a negative pressure source provided in the main body to an adsorbing portion provided for holding is formed. The wafer detection apparatus according to item. 請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載のウエハ検出装置を備えたウエハ搬送装置であって、
前記ハンドの回動位置を検出する位置検出手段と、
前記位置検出手段の検出信号に基づいて前記ハンドの位置が前記第1状態及び前記第2状態のいずれかの状態以外における前記第1状態と前記第2状態との間の回動位置にあるときに、前記検出手段の検出結果を無効化する無効化手段と、
前記検出手段により前記ウエハが検出されたときに、前記ウエハの搬送を許可する制御手段と
を備えることを特徴とするウエハ搬送装置。
A wafer transfer device comprising the wafer detection device according to any one of claims 1 to 4,
Position detecting means for detecting the rotational position of the hand;
When the position of the hand is at a rotational position between the first state and the second state in a state other than either the first state or the second state based on the detection signal of the position detection means. And invalidating means for invalidating the detection result of the detecting means;
A wafer transfer apparatus comprising: control means for permitting transfer of the wafer when the detection means detects the wafer.
前記ハンドは、前記本体に対して交換可能に複数備えられるとともに、そのうちの一つのハンドが選択されて使用され、前記各ハンドには、前記ウエハ検出装置を構成する前記第1光ファイバ及び第2光ファイバが設けられていることを特徴とする請求項5に記載のウエハ搬送装置。   A plurality of hands are provided to be exchangeable with respect to the main body, and one of the hands is selected and used, and each of the hands includes the first optical fiber and the second optical fiber constituting the wafer detection apparatus. 6. The wafer transfer apparatus according to claim 5, wherein an optical fiber is provided.
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