JP4920547B2 - Wafer detection device and wafer transfer device - Google Patents
Wafer detection device and wafer transfer device Download PDFInfo
- Publication number
- JP4920547B2 JP4920547B2 JP2007282175A JP2007282175A JP4920547B2 JP 4920547 B2 JP4920547 B2 JP 4920547B2 JP 2007282175 A JP2007282175 A JP 2007282175A JP 2007282175 A JP2007282175 A JP 2007282175A JP 4920547 B2 JP4920547 B2 JP 4920547B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- hand
- optical fiber
- light
- state
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000001514 detection method Methods 0.000 title claims description 83
- 238000012546 transfer Methods 0.000 title claims description 39
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 112
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 146
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 17
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 10
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 4
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Manipulator (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
本発明は、ウエハ検出装置及びウエハ搬送装置に関する。 The present invention relates to a wafer detection device and a wafer transfer device.
半導体製造において、ダイシングの前の円盤状のウエハをハンドリングし、装置間若しくはポッドと装置間で搬送するために専用のロボットが使用される。そのロボットは、ウエハを着実にチャッキングし保持するためのウエハ保持部(ハンド)を有する。そのハンドには、ウエハを確実に載せたか否かを判断するためにウエハ検出用のセンサを装備することが求められている。 In semiconductor manufacturing, a dedicated robot is used to handle a disc-shaped wafer before dicing and transport it between devices or between a pod and a device. The robot has a wafer holder (hand) for steadily chucking and holding the wafer. The hand is required to be equipped with a wafer detection sensor in order to determine whether or not the wafer has been securely loaded.
現在、そのセンサの仕様は多岐にわたり、光電式の他、圧力式、静電容量式、メカ式等が挙げられる。しかし、センサの設置に関しては、ハンド部には最低限の部品のみ配置し、検出部やアンプ部はロボット本体部分に設置し、その間を電線若しくはエアチューブ等で結んでいる構成が一般的である。 Currently, the specifications of the sensor are diverse, and besides the photoelectric type, there are a pressure type, a capacitance type, a mechanical type, and the like. However, regarding the sensor installation, it is common to arrange only the minimum parts in the hand part, the detection part and the amplifier part to be installed in the robot body part, and connect between them with an electric wire or air tube etc. .
近年、ウエハ加工には薄厚化と裏面加工が求められてきており、搬送用ロボットの機能の一つとして、チャッキングしたウエハを180°反転させる機能が求められている。このような機能を備えた場合、ハンドが180°回転するため、センサを接続している電線等がねじれてハンドに絡まったり、電線等に負荷が繰り返し掛かったりして断線等の不具合が発生し、センサが機能不良となる。電線等の引き回し半径を大きく取ることで負荷を軽減し、不具合を回避する方法が考えられるが、周辺設備に引っ掛からないように保護カバーが必要となり、ハンド周辺部が大型化するデメリットがある。また、電線等の屈曲性を高めて耐久性を上げる方法も提案されているが、根本的な対策とは言えない。 In recent years, thinning and back surface processing have been demanded for wafer processing, and as one of the functions of a transfer robot, a function of reversing a chucked wafer by 180 ° is required. When such a function is provided, the hand rotates 180 °, so that the wires connected to the sensor are twisted and entangled with the hand, or a load is repeatedly applied to the wires and the like, causing problems such as disconnection. The sensor malfunctions. Although it is possible to reduce the load and avoid problems by increasing the drawing radius of the wires, there is a demerit that the peripheral part of the hand is enlarged because a protective cover is required so as not to get caught in the peripheral equipment. Moreover, although the method of raising the flexibility of an electric wire etc. and improving durability is proposed, it cannot be said that it is a fundamental measure.
従来、装置本体部に設けられた進退移動可能なアームで基板を保持し、当該基板を搬送する基板搬送装置において、アームに支持された治具に設けられた光センサヘッドの検出情報を、装置本体部に固定された光コネクタ及び治具に設けられた光コネクタを介して伝達する構成が開示されている(例えば、特許文献1参照。)。 2. Description of the Related Art Conventionally, in a substrate transport apparatus that holds a substrate with an arm that can be moved back and forth provided in the apparatus main body and transports the substrate, detection information of an optical sensor head provided in a jig supported by the arm The structure which transmits via the optical connector fixed to the main-body part and the optical connector provided in the jig | tool is disclosed (for example, refer patent document 1).
また、基板を搬送するため、機台上に配置されて回動軸で連結される少なくとも2個のアームを有して構成されるロボットに装着され、前記ロボットで搬送される基板を検出できるように前記ロボット内に配線される光ファイバを、前記回動軸内を挿通して配線する場合のねじれを防止する光伝導ファイバが提案されている(例えば、特許文献2参照。)。特許文献2においては、図9に示すように、光伝導ファイバ71は、同一軸心上に配設された投光ファイバ72と受光ファィバ73とを有するとともに、中間位置の少なくとも一箇所において二体に分離されている。二体に分離された一方の単体光伝導ファイバ71Aは、分離位置において投光ファイバ72Aが受光ファイバ73Aの端面より突出して形成され、他方の単体光伝導ファイバ71Bの投光ファイバ72Bは、一方の投光ファイバ72Aと対向する面において他方の受光ファイバ73Bの端面より内部に引き込まれている。そして、単体光伝導ファイバ71Aと単体光伝導ファイバ71Bとは、非接触の状態で連結するようになっている。
特許文献1に記載の基板搬送装置ではアームに支持された治具が180°回転することに関しては何ら記載がない。また、特許文献2の構成では、投光用光ファイバ及び受光用光ファイバが同軸ファイバとして構成されたものを使用し、回動軸内に挿通して使用するため、この構成をハンドに適用できれば、光ファイバがねじれることを回避できる。しかし、ハンドは、ウエハを保持した状態でウエハ載置部が下向きになるように回転させてもウエハが落下しないようにウエハを保持する必要がある。このような保持には吸着が比較的簡単であるが、本体と離れた状態のハンドに本体側から負圧を作用させるための通路(パイプ又はチューブ)が必要になり、パイプ又はチューブのねじれを防止する必要がある。そのため、ハンドを支持する回動軸にパイプ又はチューブを挿通する必要があり、同軸ファイバを回動軸に挿通することはできず、同軸ファイバが回動軸の回動の影響を回避することはできない。また、同軸ファイバを用いた場合、ハンド側と本体側との光結合において、損失を抑えるのが難しくなるという問題もある。
In the substrate transfer apparatus described in Patent Document 1, there is no description regarding the jig supported by the arm rotating 180 °. Further, in the configuration of
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであって、その目的はウエハ搬送用のハンドが180°回転する構成のウエハ搬送装置において、ハンドに設けられたウエハ検出用のセンサ部の検出情報を本体側に支障なく伝達することができるウエハ検出装置及びそのウエハ検出装置を備えたウエハ搬送装置を提供することにある。 The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a wafer detection device provided on the hand in a wafer transfer apparatus configured to rotate the wafer transfer hand by 180 °. It is an object of the present invention to provide a wafer detection device capable of transmitting detection information to the main body without any trouble and a wafer transfer device including the wafer detection device.
上記目的を達するため、請求項1に記載の発明は、ウエハを載置する載置部を備えたハンドと、前記ハンドを支持する本体とを備え、前記ハンドは、ウエハの載置部を上向きにした第1状態と、ウエハの載置部を下向きにした第2状態との間で、前記本体に対して回動可能に設けられたウエハ搬送装置に装備されて、前記ウエハの載置部に載置されたウエハの検出を行うウエハ検出装置であって、前記ハンドには、第1光ファイバ及び第2光ファイバが、その第1端部が前記本体と対向する位置で、かつ前記ハンドの回動軸に対して対称位置に配置されるように設けられるとともに第2端部が前記載置部に載置されたウエハに光を出射及び反射光を受光可能に設けられ、前記本体には、前記ハンドが前記第1状態又は前記第2状態に配置された状態において、前記第1光ファイバ及び第2光ファイバの第1端部の端面と対向する位置に投光部及び受光部が配置され、前記受光部の受光量に基づいて前記ウエハの検出を行う検出手段を備えている。 In order to achieve the above object, the invention described in claim 1 includes a hand including a mounting portion for mounting a wafer and a main body that supports the hand, and the hand faces the mounting portion of the wafer upward. Between the first state and the second state in which the wafer mounting portion faces downward, the wafer mounting portion being mounted on a wafer transfer device provided to be rotatable with respect to the main body. A wafer detection apparatus for detecting a wafer placed on the hand, wherein the hand includes a first optical fiber and a second optical fiber, the first end of the hand facing the body, and the hand. The second end portion is provided so as to emit light and receive reflected light on the wafer placed on the placement portion, and is disposed on the main body. The hand is arranged in the first state or the second state. In the state, a light projecting unit and a light receiving unit are disposed at positions facing the end surfaces of the first end portions of the first optical fiber and the second optical fiber, and the wafer is detected based on the amount of light received by the light receiving unit. A detection means is provided.
この構成によれば、ハンドに設けられた第1光ファイバ及び第2光ファイバは、その第1端部がハンドの回動軸に対して対称位置において本体と対向する位置に配置されているので、ハンドが回動(回転)しても本体側の投光部及び受光部と第1光ファイバ及び第2光ファイバの端部とは対向状態が維持され、光の伝達が損なわれることはない。また、ハンドが回転しても光ファイバが絡まることがなく、回転前及び回転後のいずれにおいてもウエハの検出が正確に行われる。 According to this configuration, the first optical fiber and the second optical fiber provided in the hand are arranged at positions where the first end faces the main body at a symmetrical position with respect to the rotation axis of the hand. Even if the hand rotates (rotates), the light projecting unit and the light receiving unit on the main body side and the end portions of the first optical fiber and the second optical fiber are maintained facing each other, and transmission of light is not impaired. . Further, the optical fiber is not entangled even when the hand rotates, and the wafer is detected accurately both before and after the rotation.
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記第1光ファイバ及び第2光ファイバは、前記第1端部側の先端に、入射光又は出射光を平行光とするレンズが取り付けられており、前記投光部には出射光を平行光とするレンズが、前記受光部には入射光を平行光とするレンズがそれぞれ取り付けられている。この構成によれば、第1光ファイバ及び第2光ファイバの回動軸に対する対称性の精度が多少悪くても、本体側とハンド側との間における光の伝達のロスを低減させることができる。 According to a second aspect of the invention, in the first aspect of the invention, the first optical fiber and the second optical fiber have incident light or outgoing light as parallel light at a tip on the first end side. A lens is attached, a lens that makes outgoing light parallel light is attached to the light projecting portion, and a lens that makes incident light parallel light is attached to the light receiving portion. According to this configuration, even if the accuracy of symmetry with respect to the rotation axes of the first optical fiber and the second optical fiber is somewhat poor, loss of light transmission between the main body side and the hand side can be reduced. .
請求項3に記載の発明は、請求項1又は請求項2に記載の発明において、前記ハンドにはその両面にウエハの載置部が設けられ、前記第1光ファイバ及び第2光ファイバの第2端部は前記ハンドに対して、前記ハンドの回動軸に対して対称に、かついずれか一方の端部からのウエハへの出射光の反射光が他方の端部に入射可能に配置されている。この構成によれば、ハンドが180°回転して本体の投光部及び受光部に対して、第1光ファイバ及び第2光ファイバの対向状態が逆になった場合も、第1光ファイバ及び第2光ファイバの第2端部がハンドの回動軸に対して対称に配置されているので、ウエハの検出に悪影響を及ぼすことが無い。 According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect of the present invention, the hand is provided with wafer placement portions on both sides thereof, and the first optical fiber and the second optical fiber are provided with the first optical fiber and the second optical fiber. The two end portions are arranged symmetrically with respect to the hand, with respect to the rotation axis of the hand, so that the reflected light of the light emitted from one of the end portions to the wafer can enter the other end portion. ing. According to this configuration, even when the hand rotates 180 ° and the opposed state of the first optical fiber and the second optical fiber is reversed with respect to the light projecting unit and the light receiving unit of the main body, the first optical fiber and Since the second end portion of the second optical fiber is arranged symmetrically with respect to the rotation axis of the hand, the wafer detection is not adversely affected.
請求項4に記載の発明は、請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載の発明において、
前記ハンドは、前記本体側において軸受により回動可能に支持され、かつ回動手段により回動される回動軸の先端側に固定され、前記回動軸には、前記ハンドに前記ウエハを吸着保持するために設けられた吸着部に対して、前記本体に設けられた負圧源の負圧を作用させる通路が形成されている。この構成によれば、ハンドがウエハを吸着保持する構成と、ウエハ検出用の光ファイバによる検出情報を本体側に支障なく伝達する構成とを両立させることが容易になる。
The invention according to
The hand is rotatably supported by a bearing on the main body side, and is fixed to a distal end side of a rotating shaft that is rotated by a rotating means, and the wafer is attracted to the hand by the rotating shaft. A passage for applying a negative pressure of a negative pressure source provided in the main body to the suction portion provided for holding is formed. According to this configuration, it is easy to achieve both a configuration in which the hand sucks and holds the wafer and a configuration in which detection information by the optical fiber for wafer detection is transmitted to the main body without any trouble.
請求項5に記載の発明は、請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載のウエハ検出用センサを備えたウエハ搬送装置であって、前記ハンドの回動位置を検出する位置検出手段と、前記位置検出手段によって検出された前記ハンドの位置が前記第1状態及び前記第2状態のいずれかの状態以外における前記第1状態と前記第2状態との間の回動位置にあるとき、前記検出手段の検出結果を無効化する無効化手段と、前記検出手段により前記ウエハが検出されたときに、前記ウエハの搬送を許可する制御手段とを備えている。 According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a wafer transfer apparatus comprising the wafer detection sensor according to any one of the first to fourth aspects, wherein the position detecting means detects the rotational position of the hand. And the position of the hand detected by the position detection means is in a rotational position between the first state and the second state other than the state of either the first state or the second state. , Invalidating means for invalidating the detection result of the detecting means, and control means for permitting transfer of the wafer when the detecting means detects the wafer.
この構成によれば、ハンドの回転中、即ち第1光ファイバ及び第2光ファイバが本体側の投光部及び受光部と対向していない状態では、ハンド側の光ファイバは本体側の投光部及び受光部と光結合状態に無いため、ウエハの検出を正確に行うことができない。しかし、位置検出手段の検出信号に基づき、ハンドの回転中はウエハ検出を行う検出手段の検出結果を無効化することにより、ウエハ搬送の誤動作を防止することができる。 According to this configuration, when the hand is rotating, that is, when the first optical fiber and the second optical fiber are not opposed to the light projecting unit and the light receiving unit on the main body side, the optical fiber on the hand side is projected on the main body side. Therefore, the wafer cannot be detected accurately. However, based on the detection signal of the position detection unit, the malfunction of the wafer transfer can be prevented by invalidating the detection result of the detection unit that detects the wafer while the hand is rotating.
請求項6に記載の発明は、請求項5に記載の発明において、前記ハンドは、前記本体に対して交換可能に複数備えられるとともに、そのうちの一つのハンドが選択されて使用され、前記各ハンドには、前記ウエハ検出装置を構成する前記第1光ファイバ及び第2光ファイバが設けられている。この構成によれば、ウエハ搬送装置の用途によって、同じウエハを同じ方法で保持して搬送するだけでなく、異なる大きさのウエハを搬送したり、同じ大きさのウエハでも異なる方法で保持したりするために、複数種のハンドの中から適正なものを選択して使用する場合、ハンドの変更が容易になる。 According to a sixth aspect of the present invention, in the fifth aspect of the present invention, a plurality of the hands are provided to be exchangeable with respect to the main body, and one of the hands is selected and used. Are provided with the first optical fiber and the second optical fiber constituting the wafer detection apparatus. According to this configuration, depending on the use of the wafer transfer apparatus, not only the same wafer can be held and transferred by the same method, but also different size wafers can be transferred or even the same size wafers can be held by different methods. Therefore, when an appropriate one is selected and used from a plurality of types of hands, the hand can be easily changed.
本発明によれば、ウエハ搬送用のハンドが180°回転する構成のウエハ搬送装置において、ハンドに設けられたウエハ検出用のセンサ部の検出情報を本体側に支障なく伝達することができる。 According to the present invention, in the wafer transfer apparatus configured to rotate the wafer transfer hand by 180 °, the detection information of the wafer detection sensor provided in the hand can be transmitted to the main body without any trouble.
(第1の実施形態)
以下、本発明を具体化した第1の実施形態を図1〜図6にしたがって説明する。
図1(a)に示すように、ウエハ搬送装置11は、多関節アーム12を備えた本体13と、多関節アーム12に支持されるとともにウエハW(図6にのみ図示)を保持するハンド14とを備えている。多関節アーム12は、基台15に設けられた図示しない昇降手段に回動可能に支持された第1アーム16と、第1アーム16の先端に回動可能に支持された第2アーム17と、第2アーム17の先端に回動可能に支持された第3アーム18とを備え、図示しないモータにより水平面内で回動されるようになっている。
(First embodiment)
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
As shown in FIG. 1A, a
ハンド14は、平面形状略Y字状に形成され、先端にウエハWを載置する載置部19が設けられている。この実施形態では、載置部19はウエハWと平面部で接するように構成されている。ハンド14は、ウエハWの載置部19を上向きにした第1状態と、ウエハWの載置部19を下向きにした第2状態との間で、第3アーム18に対して回動可能、即ち本体13に対して回動可能に設けられている。ハンド14には載置部19にウエハWを吸着保持するための吸着部20が複数設けられている。各吸着部20は、図示しない通路を介してハンド14の基端側から負圧を作用させることが可能に構成されている。
The
図2に示すように、第3アーム18には回動軸21が軸受22により回動可能に支持され、回動軸21の先端側にハンド14の基端側が固定されている。回動軸21には、ハンド14に設けられた吸着部20に対して、本体13に設けられた図示しない負圧源の負圧を作用させる通路21aが形成されている。回動軸21は負圧源に連通するパイプ23にシールリング24を介して連通されている。シールリング24は例えばポリテトラフロロエチレン製で回動軸21との摺動による摩耗が抑制されるようになっている。
As shown in FIG. 2, a rotating
回動軸21には傘歯車25が一体回転可能に固定されている。第3アーム18の上壁外面にはハンド回動用モータ26が固定されており、第3アーム18内に突出するその駆動軸26aには傘歯車25に噛合する傘歯車27が一体回転可能に固定されている。そして、ハンド回動用モータ26の駆動により、傘歯車27を介して傘歯車25と共に回動軸21が回動される。ハンド回動用モータ26及び傘歯車25,27は回動軸21を回動する回動手段を構成する。
A
次に載置部19に載置されたウエハWの検出を行うウエハ検出装置の構成を説明する。ハンド14には第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29が、その第1端部が本体13と対向する位置、この実施形態では第3アーム18の先端と対向する位置に配置されるように設けられている。また、図3に示すように、第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29の第1端部は、回動軸21に対して対称位置に配置されるように設けられている。この実施形態では両光ファイバ28、29の第1端部及び回動軸21が載置部19と平行な平面上に位置するように配置されている。
Next, the configuration of the wafer detection apparatus that detects the wafer W placed on the
本体13、この実施形態では第3アーム18の先端には、ハンド14が第1状態又は第2状態に配置された状態において、第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29の第1端部の端面と対向する位置に投光部30及び受光部31が配置されている。即ち、投光部30及び受光部31は回動軸21を含む水平面上で回動軸21に対して対称位置に配置されている。
At the tip of the
第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29は、第1端部側の先端に、入射光又は出射光を平行光とするレンズ32が取り付けられており、投光部30には出射光を平行光とするレンズ33が、受光部31には入射光を平行光とするレンズ34がそれぞれ取り付けられている。
In the first
第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29は、第2端部が載置部19に載置されたウエハWに光を出射及び反射光を受光可能に設けられている。この実施形態では、両光ファイバ28,29の第2端部はセンサヘッド本体35に接続されている。センサヘッド本体35は特開2004−294291号公報に開示されたものと同様に構成されている。図4(a),(b)に示すように、センサヘッド本体35の前端側に投光用及び受光用の透光部材36が一対設けられている。透光部材36は凸レンズ部36a、反射面36b及び対向端面36cを有し、図4(a)に示すように、対向端面36cが第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29の第2端面と対向するように配置されている。凸レンズ部36aから入射した光は反射面36bで反射して対向端面36cから出射し、対向端面36cから入射した光は反射面36bで反射して凸レンズ部36aから出射するようになっている。
The first
図4(b)に示すように、両透光部材36は、それぞれの凸レンズ部36aの中心軸がセンサヘッド本体35上方の所定の位置で互いに交差するように、内向きに傾いた状態で配置されている。そして、投光側の透光部材36から出射された光がウエハWの表面で反射して他方の透光部材36に入射するようになっている。
As shown in FIG. 4B, the two
図6(a),(b)に示すように、投光部30に連続する光ファイバ37aと、受光部31に連続する光ファイバ37bは第3アーム18内に設けられた検出コントロール部38に接続されている。なお、図6(a)は、ハンド14が第1状態に配置された場合の第1及び第2光ファイバ28,29と投光部30及び受光部31との関係を示す模式図であり、図6(b)は、ハンド14が第2状態に配置された場合の模式図であり、回動軸21やハンド回動用モータ26等を省略している。
As shown in FIGS. 6A and 6B, the
図5に示すように、検出コントロール部38には、光ファイバ37aに光を出射する投光素子(発光素子)39aと、光ファイバ37bから出射される光を受光する受光素子39bと、投光素子駆動回路40と、受光素子39bの検出信号を増幅する増幅回路41とが設けられている。投光素子39aとしては、例えば、発光ダイオード(LED)が使用され、受光素子39bとしてはフォトダイオードが使用されている。第1光ファイバ28、第2光ファイバ29、投光部30、受光部31、センサヘッド本体35、光ファイバ37a,37b及び検出コントロール部38によりウエハWの検出を行う検出手段が構成されている。
As shown in FIG. 5, the
本体13にはハンド14の回動位置を検出する位置検出手段42が設けられている。位置検出手段42は、図2に示すように、例えば、第3アーム18の先端に設けられた反射式センサ42aと、ハンド14に設けられた反射板42bとで構成されている。反射式センサ42aは1個設けられ、反射板42bは2個設けられている。反射板42bは、ハンド14が第1状態又は第2の状態に配置された際に、いずれか一方の反射板42bが反射式センサ42aと対向する位置に設けられている。
The
図5に示すように、多関節アーム12、ハンド回動用モータ26及び検出コントロール部38を制御する制御装置Cは、CPU43及びメモリ44を有し、図示しない入出力インターフェイスを介して検出コントロール部38及び反射式センサ42aに接続されている。CPU43は検出コントロール部38からの出力信号が予め設定された所定レベル以上の時にウエハWが載置部19上に保持されていると判断する。
As shown in FIG. 5, the control device C that controls the articulated
CPU43は、反射式センサ42aの検出信号に基づいて、ハンド14の位置が第1状態及び第2状態のいずれかの状態以外の時は、検出コントロール部38の検出結果を無効にする。即ち、CPU43は、位置検出手段42の検出信号に基づいてハンド14の位置が第1状態及び第2状態のいずれかの状態以外のときに、検出手段の検出結果を無効化する無効化手段として機能する。また、CPU43は、検出手段によってウエハWが検出されたときに、ウエハWの搬送を許可する制御手段として機能する。
Based on the detection signal of the
また、CPU43は、図示しない入出力インターフェイス及び駆動回路を介してハンド回動用モータ26及び多関節アーム12を駆動するアーム駆動手段45や負圧源に連通するパイプ23の途中に設けられた図示しない電磁弁を制御するようになっている。CPU43は、検出手段によってウエハWが検出された状態において、多関節アーム12の駆動を制御するようになっている。
Further, the
次に前記のように構成されたウエハ搬送装置11の作用を説明する。
ウエハ搬送装置11が、例えば、ウエハWをカセットから取り出して処理装置に搬送する場合、制御装置Cは、ハンド14が第1状態、即ち載置部19が上を向いている状態でウエハWの下方に位置するように多関節アーム12を移動させた後、多関節アーム12を上昇させる。また、電磁弁を駆動させて各吸着部20に吸引作用を発生させる。その後、検出コントロール部38にウエハ検出を行う指令信号を出力する。検出コントロール部38はウエハ検出を行う指令信号を入力すると、投光素子駆動回路40を介して投光素子39aを駆動させる。投光素子39aから出射した光は光ファイバ37aを介して投光部30から第1光ファイバ28へ出射される。投光部30から出射された光は第1光ファイバ28の第1の端部に入射し、第1光ファイバ28によりセンサヘッド本体35へ導かれ、一方の透光部材36からウエハWに向けて出射される。ウエハWに向けて出射された光はウエハWで反射して他方の透光部材36に入射し、第2光ファイバ29を通ってその第1端部から出射して受光部31に入射する。
Next, the operation of the
For example, when the
受光部31に入射した光は光ファイバ37bを通って受光素子39bに入射する。受光素子39bは入射する光の強度に対応する電圧信号を増幅回路41に出力し、増幅回路41はその信号を増幅して出力する。CPU43は、増幅回路41の出力信号、即ち検出コントロール部38の出力信号が設定値以上になるとウエハWが存在すると判断する。そして、ウエハWが存在する場合は、ウエハWの搬送を行う。
The light incident on the
ウエハ搬送装置11は、ハンド14の載置部19が上向きの状態、即ち第1状態に限らず、下向きの状態即ち第2状態にしてウエハWを搬送する場合がある。ハンド14を反転させる場合は、多関節アーム12が停止した状態で、ハンド回動用モータ26を駆動させて回動軸21を180°回動させる。ハンド14が回動中は、第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29の第1端部は投光部30及び受光部31と対向しないため、ウエハWの検出を行うことができない。そのため、仮に検出コントロール部38の出力が設定値以上になってもそれは第2光ファイバ29からの出射光に基づく検出信号ではない。CPU43は、反射式センサ42aからハンド14が第1状態又は第2状態にあることの検出信号が出力されている状態以外のときは、検出コントロール部38の検出結果を無効にするため、ハンド14の回動中にウエハ搬送装置11がウエハWの搬送を開始することはない。
The
図6(a)に示す状態(第1状態)からハンド14が回動されるとともに180°回動されてハンド14の反転が完了すると、図6(b)に示す状態(第2状態)になる。第2状態では第1光ファイバ28の第1端部が受光部31と、第2光ファイバ29の第1端部が投光部30と対向する状態になる。そして、投光部30から出射された光は第2光ファイバ29の第1の端部に入射し、第2光ファイバ29によりセンサヘッド本体35へ導かれ、他方の透光部材36からウエハWに向けて出射される。ウエハWに向けて出射された光はウエハWで反射して一方の透光部材36に入射し、第1光ファイバ28を通ってその第1端部から出射して受光部31に入射する。したがって、ウエハWが検出され、CPU43はウエハ搬送装置11によるウエハWの搬送を許可し、多関節アーム12を駆動制御する。そして、多関節アーム12が駆動されてウエハWが所定位置に搬送される。
When the
この実施形態によれば、以下に示す効果を得ることができる。
(1)ウエハ検出装置は、本体13に対して回動軸21を介してハンド14を回動可能に支持したウエハ搬送装置11に装備され、ウエハWを載置する載置部19に載置されたウエハWの検出を行う。ハンド14には、第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29が、その第1端部が本体13と対向する位置で、かつ回動軸21に対して対称位置に配置されるように設けられるとともに、第2端部が載置部19に載置されたウエハWに光を出射及び反射光を受光可能に設けられている。本体13には、ハンド14が第1状態又は第2状態に配置された状態において、第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29の第1端部の端面と対向する位置に投光部30及び受光部31が配置され、受光部31の受光量に基づいてウエハWの検出を行う検出手段を備えている。したがって、ハンド14に設けられた第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29は、ハンド14が回動(回転)しても本体13側の投光部30及び受光部31と第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29の端部とは対向状態が維持され、光の伝達が損なわれることはない。また、ハンド14が回転しても光ファイバが絡まることがなく、回転前及び回転後のいずれにおいてもウエハWの検出が正確に行われる。
According to this embodiment, the following effects can be obtained.
(1) The wafer detection device is mounted on the
(2)第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29は、第1端部側の先端に、入射光又は出射光を平行光とするレンズ32が取り付けられており、投光部30には出射光を平行光とするレンズ33が、受光部31には入射光を平行光とするレンズ34がそれぞれ取り付けられている。したがって、第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29の回動軸21に対する対称性の精度が多少悪くても、本体13側とハンド14側との間における光の伝達のロスを低減させることができる。
(2) In the first
(3)ハンド14が回転して載置部19が反転してもウエハWを落下しないように保持する構成としてウエハWを吸着保持する構成を採用し、ハンド14に設けられた吸着部20に負圧を作用させる通路21aが回動軸21に形成されている。したがって、負圧供給用のチューブやパイプのねじれを抑制することができる。
(3) A configuration in which the wafer W is sucked and held is adopted as a configuration for holding the wafer W so that it does not fall even if the
(4)ハンド14は、本体13側において軸受22により回動可能に支持され、かつ回動手段により回動される回動軸21の先端側に固定され、回動軸21には、ハンド14にウエハWを吸着保持するために設けられた吸着部20に対して、本体13に設けられた負圧源の負圧を作用させる通路21aが形成されている。したがって、ハンド14がウエハWを吸着保持する構成と、ウエハ検出用の光ファイバによる検出情報を本体側に支障なく伝達する構成とを両立させることが容易になる。
(4) The
(5)ウエハ搬送装置11は、ハンド14の回動位置を検出する位置検出手段42と、位置検出手段42によって検出されたハンド14の位置が第1状態及び第2状態のいずれかの状態以外のとき、検出手段の検出結果を無効化する無効化手段と、検出手段によりウエハWが検出されたときに、ウエハWの搬送を許可する制御手段とを備えている。したがって、ウエハWの検出を正確に行うことができない状態においてはウエハ検出を行う検出手段の検出結果を無効化することにより、ウエハ搬送の誤動作を防止することができる。
(5) The
(第2の実施形態)
次に第2の実施形態を図7を参照しながら説明する。この実施形態は、ウエハ搬送装置11が交換可能に複数のハンド14を備えるとともに、そのうちの一つのハンド14が選択されて使用される点と、ハンド14が取り外し可能に構成され、選択されたハンド14が回動軸21に一体回転可能に取り付けられる点が前記第1の実施形態と大きく異なっている。その他の構成は第1の実施形態と同じであるため異なる部分について説明する。なお、第1の実施形態と同様の部分については同じ符号を付して詳しい説明を省略する。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment will be described with reference to FIG. In this embodiment, the
図7(b)はハンド14の基端部と回動軸21との関係を示す概略断面図であり、図7(a)は(b)のC−C線断面図である。ハンド14の基端部は円柱状に形成されるとともに中心部に回動軸21の挿通孔46が形成されている。挿通孔46は、大径部46a及び小径部46bを有し、ハンド14の基端側に大径部46aが、奥側に小径部46bが位置し、大径部46a及び小径部46bは縮径部を介して連続し、小径部46bに連通するようにパイプ47が設けられている。パイプ47の端部にはシールリング48が配置され、回動軸21は先端がシールリング48に当接する状態で、挿通孔46に挿入される。ハンド14の基端部には大径部46aに連通する溝49a,49bが、周方向の間隔がほぼ同じとなる放射状に形成され、一つの溝49aは他の2つの溝49bより幅広に形成されている。各溝49a,49bには掛止片50a,50bが基端側に設けられた軸を介して溝49a,49b内で回動可能に支持されている。各掛止片50a,50bは基端側から先端側に向かって挿通孔46の中心からの距離が大きくなる斜面が設けられるとともに、先端に掛止部51が形成されている。各掛止片50a,50bは、一端がリング部材52の内面に固定されたばね53により、先端が挿通孔46の中心に向かうように付勢されている。
FIG. 7B is a schematic cross-sectional view showing the relationship between the base end portion of the
回動軸21は、外径が小径部46bに嵌挿可能に形成されるとともに、外周部の溝49a,49bと対応する部分に、掛止片50a,50bに当接する係止部54が形成され、掛止片50aに当接する係止部54と反対側にキー部55が形成されている。回動軸21のキー部55が、挿通孔46の縮径部に形成されたキー溝56と係合することにより、ハンド14が回動軸21と確実に一体回転するようになっている。
The
この実施形態のハンド14は、図7(a)に示すように、回動軸21の先端が挿通孔46に挿通されて、3個の掛止片50a,50bが係止部54を介して回動軸21の抜け止めを図った状態で回動軸21に支持される。そして、回動軸21が回動されると、ハンド14が回動軸21と一体に回動される。ハンド14に、その先端側に向かって作用する力、即ち図7(a)における右方向へ作用する力が、ばね53の付勢力に抗する大きさになると、掛止片50a,50bが、係止部54から離間する方向に回動されて、掛止片50a,50bと係止部54との掛け止め状態が解除されて、ハンド14が回動軸21から取り外される。
In the
また、ハンド14を回動軸21に装着する場合は、ハンド14の挿通孔46の中心と、回動軸21の中心とが同軸上になる状態で、かつキー溝56とキー部55が対応する状態で、ハンド14と回動軸21とを相対移動させて回動軸21を挿通孔46に挿入する。挿入途中で係止部54が掛止片50a,50bを回動させて移動し、更に移動すると図7(b)の状態になる。
When the
したがって、この実施形態においては、第1の実施形態における効果(1)〜(5)と同様な効果を有する他に次の効果を有する。
(6)ウエハ搬送装置11の本体13に交換可能に複数のハンド14が備えられるとともに、そのうちの一つのハンド14が選択されて使用される。この構成によれば、ウエハ搬送装置11の用途によって、同じウエハWを同じ方法で保持して搬送するだけでなく、異なる大きさのウエハWを搬送したり、同じ大きさのウエハWでも異なる方法で保持したりするために、複数種のハンド14の中から適正なものを選択して使用する場合、ハンド14の変更が容易になる。
Therefore, this embodiment has the following effects in addition to the same effects as the effects (1) to (5) in the first embodiment.
(6) A plurality of
(7)ハンド14側に設けられ、ばね53により付勢されるとともに放射方向に回動可能な掛止片50a,50bと、回動軸21側に設けられた係止部54とでハンド14の回動軸21からの抜け止め手段が構成されている。したがって、所定の大きさ以上の力を回動軸21の軸方向で、かつ回動軸21から遠ざかる方向にハンド14に作用させることで回動軸21から容易に取り外すことができる。
(7) The
実施形態は前記に限定されるものではなく、例えば次のように構成してもよい。
・ハンド14の両面にウエハWの載置部19を設けてもよい。この場合、いずれの載置部でウエハWを載置した場合でも、両第1及び第2光ファイバ28,29及びセンサヘッド本体35を共用できる構成が好ましい。そのような構成として、例えば、図8(a),(b)に示すセンサヘッド本体35がある。センサヘッド本体35は、第1の実施形態の透光部材36に代えて、対向端面36cと垂直な面に対して、凸レンズ部36a及び反射面36bが面対称に形成された透光部材57を2個備えている。そして、第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29の第2端部はハンド14に対して、回動軸21に対して対称に、かついずれか一方の端部からのウエハWへの出射光の反射光が他方の端部に入射可能に配置されている。この構成によれば、ハンド14が180°回転して本体13の投光部30及び受光部31に対して、第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29の対向状態が逆になった場合も、第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29の第2端部がハンド14の回動軸21に対して対称に配置されるので、ウエハWの検出に悪影響を及ぼすことが無い。
The embodiment is not limited to the above, and may be configured as follows, for example.
A
・ハンド14の載置部19に載置されたウエハWを保持する構成は、ウエハWを負圧の吸引作用で吸着保持する構成に限らない。例えば、ウエハWを静電吸着により吸着保持したり、把持位置と解放位置とに移動可能な把持片でウエハWを把持して保持したりする構成としてもよい。静電吸着により吸着保持を行う場合は、静電吸着のための電源供給用の配線を回動軸21の通路21aからハンド14側に導くことにより、ハンド14が180°回動しても支障がない。静電吸着でウエハWを吸着保持する場合、載置部19はウエハWと面接触して吸着するのではなく、複数の突起状の点接触体でウエハWと接触して吸着保持する。把持片でウエハWを把持して保持する構成では、載置部19は面接触する状態でウエハWを支持する。そして、例えば、複数の把持片を、把持位置と解放位置とに移動可能に設けるとともに、ばねで把持側あるいは解放側に付勢し、その付勢力に抗して負圧あるいは圧縮エアを作用させて把持片を作動させる構成や、把持片を電磁ソレノイドで作動させる構成が採用される。
The configuration for holding the wafer W placed on the
・ハンド14の両面に載置部19を設ける場合、ウエハWの保持方法に吸着方法を用いると、ウエハWを吸着しない側の吸着部20からエアが吸引されることにより、ウエハWを吸着している側の吸着力が低下する。したがって、ウエハWの保持方法としては、静電吸着による吸着保持や把持片による把持が好ましい。
In the case where the
・ウエハ検出装置は、ハンド14の載置部19上に載置されたウエハWを検出する場合に限らず、カセットに収容されているウエハWの位置を認識するために行うマッピング操作の際に使用するマッピング用のセンサに適用してもよい。例えば、載置部19に載置されたウエハ検出用のセンサの他にマッピング用のセンサをハンド14に設けてもよい。マッピング用のセンサは、光をウエハWの周面に向かって出射し、その反射光を受光可能にするため、ハンド14の先端に設けられる。この場合、ハンド14には2組の光ファイバを配置し、本体13側には2組の投光部及び受光部を設ける必要があるが、2組の光ファイバの互いに対応する組同士の第1端部を回動軸21に対して対称位置に配置することにより、ハンド14が180°回動しても支障なく検出が可能になる。
The wafer detection apparatus is not limited to detecting the wafer W placed on the
・第1及び第2光ファイバ28,29の各第1端部を回動軸21に対して対称位置に配置する場合、各第1端部及び回動軸21が載置面(載置部)と平行な平面上に位置する配置に限らず、各第1端部が回動軸21に対して対称位置であればよく、例えば、載置面と直交する平面上に位置する配置であってもよい。
When the first end portions of the first and second
・第1光ファイバ28及び第2光ファイバ29を凸レンズ部36aや反射面36bを有する透光部材36を備えたセンサヘッド本体35を介してウエハWに光を出射して反射光を受光(入射)する構成に限らない。例えば、センサヘッド本体35を設けずに、第1及び第2光ファイバ28,29の第2端部の端面から直接ウエハWに光を出射し、反射光を入射するようにしたり、第2端部に凸レンズを取り付けるようにしたりしてもよい。また、光ファイバを用いるセンサの方式は、反射型に限らず透過型やミラー反射型にしてもよい。しかし、透過型やミラー反射型は、ウエハを挟んで光出射部と反対側に受光部あるいはミラーを設ける必要があり、反射型に比較して構造が複雑になる。
The first
・ウエハWの検出やウエハ搬送装置に限らず、液晶パネル、有機ELパネル、プラズマディスプレイパネル等のフラットディスプレイパネルの基板のように薄いガラス板や樹脂板等の板状部材の検出や搬送装置に適用してもよい。 ・ It is not limited to the detection of wafers W and wafer transfer devices, but to the detection and transfer devices of plate-like members such as thin glass plates and resin plates such as substrates of flat display panels such as liquid crystal panels, organic EL panels, and plasma display panels. You may apply.
以下の技術的思想(発明)は前記実施形態から把握できる。
・請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載の発明において、ウエハに代えてフラットディスプレイパネルの基板の検出を行うようにした基板検出装置。
The following technical idea (invention) can be understood from the embodiment.
-The board | substrate detection apparatus which detected the board | substrate of the flat display panel instead of the wafer in the invention as described in any one of Claims 1-4.
W…ウエハ、11…ウエハ搬送装置、13…本体、14…ハンド、19…載置部、20…吸着部、21…回動軸、21a…通路、22…軸受、28…第1光ファイバ、29…第2光ファイバ、30…投光部、31…受光部、32,33,34…レンズ、35…検出手段を構成するセンサヘッド本体、37a,37b…同じく光ファイバ、38…同じく検出コントロール部、42…位置検出手段。
W ... wafer, 11 ... wafer transfer device, 13 ... main body, 14 ... hand, 19 ... mounting part, 20 ... adsorption part, 21 ... rotating shaft, 21a ... passage, 22 ... bearing, 28 ... first optical fiber, DESCRIPTION OF
Claims (6)
前記ハンドには、第1光ファイバ及び第2光ファイバが、その第1端部が前記本体と対向する位置で、かつ前記ハンドの回動軸に対して対称位置に配置されるように設けられるとともに第2端部が前記載置部に載置されたウエハに光を出射及び反射光を受光可能に設けられ、前記本体には、前記ハンドが前記第1状態又は前記第2状態に配置された状態において、前記第1光ファイバ及び第2光ファイバの第1端部の端面と対向する位置に投光部及び受光部が配置され、前記受光部の受光量に基づいて前記ウエハの検出を行う検出手段を備えていることを特徴とするウエハ検出装置。 A hand having a mounting portion for mounting a wafer and a main body for supporting the hand, wherein the hand has a first state in which the wafer mounting portion faces upward, and the wafer mounting portion faces downward. A wafer detection device that is mounted on a wafer transfer device provided so as to be rotatable with respect to the main body between the second state and detects a wafer placed on the wafer placement portion. And
The hand is provided with a first optical fiber and a second optical fiber such that the first end of the hand is disposed at a position facing the main body and symmetrical with respect to the rotation axis of the hand. In addition, the second end portion is provided so as to emit light and receive reflected light on the wafer placed on the placement portion, and the hand is disposed in the first state or the second state on the main body. In this state, a light projecting part and a light receiving part are arranged at positions facing the end surfaces of the first end parts of the first optical fiber and the second optical fiber, and the wafer is detected based on the amount of light received by the light receiving part. A wafer detecting apparatus comprising a detecting means for performing.
前記ハンドの回動位置を検出する位置検出手段と、
前記位置検出手段の検出信号に基づいて前記ハンドの位置が前記第1状態及び前記第2状態のいずれかの状態以外における前記第1状態と前記第2状態との間の回動位置にあるときに、前記検出手段の検出結果を無効化する無効化手段と、
前記検出手段により前記ウエハが検出されたときに、前記ウエハの搬送を許可する制御手段と
を備えることを特徴とするウエハ搬送装置。 A wafer transfer device comprising the wafer detection device according to any one of claims 1 to 4,
Position detecting means for detecting the rotational position of the hand;
When the position of the hand is at a rotational position between the first state and the second state in a state other than either the first state or the second state based on the detection signal of the position detection means. And invalidating means for invalidating the detection result of the detecting means;
A wafer transfer apparatus comprising: control means for permitting transfer of the wafer when the detection means detects the wafer.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007282175A JP4920547B2 (en) | 2007-10-30 | 2007-10-30 | Wafer detection device and wafer transfer device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007282175A JP4920547B2 (en) | 2007-10-30 | 2007-10-30 | Wafer detection device and wafer transfer device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009111172A JP2009111172A (en) | 2009-05-21 |
JP4920547B2 true JP4920547B2 (en) | 2012-04-18 |
Family
ID=40779340
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007282175A Expired - Fee Related JP4920547B2 (en) | 2007-10-30 | 2007-10-30 | Wafer detection device and wafer transfer device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4920547B2 (en) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6084618B2 (en) | 2011-09-16 | 2017-02-22 | パーシモン テクノロジーズ コーポレイションPersimmon Technologies, Corp. | Low fluctuation robot |
WO2015112538A1 (en) | 2014-01-21 | 2015-07-30 | Persimmon Technologies, Corp. | Substrate transport vacuum platform |
JP2017507798A (en) * | 2014-03-17 | 2017-03-23 | エフアンドピー ロボテックス アクチェンゲゼルシャフト | Gripper fingers, gripper tips, gripper jaws and robot systems |
KR102322129B1 (en) * | 2019-06-07 | 2021-11-04 | 블루테크코리아 주식회사 | End effector for semiconductor robot |
CN114220748B (en) * | 2022-02-23 | 2022-06-21 | 杭州众硅电子科技有限公司 | Dynamic detection device and chemical mechanical planarization equipment |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01161846A (en) * | 1987-12-18 | 1989-06-26 | Hitachi Ltd | Shifting device |
JPH06318628A (en) * | 1993-05-07 | 1994-11-15 | Fujitsu Ltd | Method and apparatus for transferring component |
JPH08187688A (en) * | 1995-01-09 | 1996-07-23 | Koganei Corp | Fiber interface and robot having this fiber interface |
JP3986116B2 (en) * | 1997-05-23 | 2007-10-03 | 東京エレクトロン株式会社 | Processing equipment |
JP3306398B2 (en) * | 1999-11-29 | 2002-07-24 | 大日本スクリーン製造株式会社 | Substrate transfer device and transfer teaching system |
-
2007
- 2007-10-30 JP JP2007282175A patent/JP4920547B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009111172A (en) | 2009-05-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI694906B (en) | Industrial robot | |
JP4920547B2 (en) | Wafer detection device and wafer transfer device | |
JP4408351B2 (en) | Alignment device | |
JP2018111200A (en) | Device, system and method for supplying end effector | |
EP2859993B1 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
JP5818346B2 (en) | Rotating body rotation range regulating mechanism and industrial robot | |
TWI381474B (en) | Substrate processing apparatus | |
JP2009141027A (en) | Aligner and edge clamp detecting method using the same | |
EP1072359A2 (en) | Semiconductor wafer polishing apparatus | |
KR20010039706A (en) | Semiconductor substrate aligner apparatus and method | |
JP4648161B2 (en) | Double arm row type substrate transfer robot | |
JP2010135401A (en) | Wafer positioning device | |
CN117116824A (en) | Compact wafer transmission system and control method thereof | |
KR101476061B1 (en) | Semiconductor wafers OCR sorter | |
JP6080119B2 (en) | Aligner equipment | |
JP4615149B2 (en) | Wafer notch aligner | |
JP6815211B2 (en) | Panel transfer robot | |
JP7543062B2 (en) | Industrial robot hand, industrial robot | |
JP2018139280A (en) | Positioning device and positioning method | |
US20240152131A1 (en) | Autonomous mobile robot and semiconductor manufacturing equipment including the same | |
JP2023088620A (en) | Industrial robot and method for controlling industrial robot | |
JP2024147150A (en) | robot | |
KR20220044664A (en) | Hand of industrial robot and industrial robot | |
KR20230082037A (en) | industrial robot | |
JP2002048936A (en) | Optical transmission fiber |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100903 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110812 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110824 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111024 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120124 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120201 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4920547 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150210 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150210 Year of fee payment: 3 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150210 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |