JP6623640B2 - Prepreg - Google Patents

Prepreg

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Description

本発明は、プリプレグに関する。   The present invention relates to a prepreg.

近年、情報通信において用いられるデータ通信の高速化及び大容量化が急激に進められている。そのため、上記の電子機器において、高い周波数特性及び配線多層化を両立したプリント配線基板が要求されている。   2. Description of the Related Art In recent years, data communication used in information communication has been rapidly increased in speed and capacity. Therefore, there is a demand for a printed wiring board that achieves both high frequency characteristics and multi-layered wiring in the above electronic devices.

情報通信に用いられるプリント配線基板には、信号の伝搬遅延の短縮及び伝送損失の低減を実現するために、低誘電率(低Dk)及び低誘電正接(低Df)が要求される。これらの要求を実現するために、プリント配線基板において多層化された配線間の絶縁層として、ポリフェニレンエーテルを含有する樹脂材料が用いられている。ポリフェニレンエーテルは、電気特性(低誘電率・低誘電正接)に優れ、伝送速度の高速化や伝送損失の低減に効果が期待される化合物である。プリント配線基板の高性能化及び多層化のために、このポリフェニレンエーテルを用いたプリプレグの積層体をプリント配線基板に適用する試みがなされている。このようなプリプレグの一例が、特許文献1及び特許文献2に、開示されている。   Printed wiring boards used for information communication are required to have a low dielectric constant (low Dk) and a low dielectric loss tangent (low Df) in order to reduce signal propagation delay and reduce transmission loss. In order to fulfill these requirements, a resin material containing polyphenylene ether is used as an insulating layer between multi-layered wirings in a printed wiring board. Polyphenylene ether is a compound that has excellent electrical properties (low dielectric constant and low dielectric loss tangent) and is expected to be effective in increasing transmission speed and reducing transmission loss. Attempts have been made to apply a prepreg laminate using this polyphenylene ether to a printed wiring board in order to improve the performance and multilayer the printed wiring board. Examples of such a prepreg are disclosed in Patent Documents 1 and 2.

特表2006−516297号公報JP 2006-516297 A 国際公開第2009/041137号International Publication No. 2009/041137

ところで、プリプレグと銅のパターンとを積層して銅張積層板を得る際に、銅のパターン間にボイドが生じないようにプリプレグによって充填できる必要がある。プリプレグには、このようなパターン間に充填のできる程度の成形性が求められる。しかしながら、特許文献1及び特許文献2に開示されたプリプレグでは、最低溶融粘度が大きくなるため、成形性が十分に得られなかった。   By the way, when a prepreg and a copper pattern are laminated to obtain a copper-clad laminate, it is necessary that the prepreg can be filled with the prepreg so that voids do not occur between the copper patterns. The prepreg is required to have such a formability that it can be filled between the patterns. However, in the prepregs disclosed in Patent Literature 1 and Patent Literature 2, the minimum melt viscosity is large, and thus the moldability cannot be sufficiently obtained.

本発明の目的の一つは、低粘度化によりプリプレグの成形性を向上することにある。   An object of the present invention is to improve the moldability of a prepreg by lowering the viscosity.

本発明の一実施形態に係るプリプレグは、ポリフェニレンエーテル及び架橋型硬化剤を含むポリフェニレンエーテル樹脂組成物を含み、前記ポリフェニレンエーテルは一般式(1)
によって表され、且つ数平均分子量が1000以上7000以下であり、前記一般式(1)において、Xはアリール基を示し、(Y)はポリフェニレンエーテル部分を示し、R、R、Rはそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を示し、mは1〜100の整数を示し、nは1〜6の整数を示し、qは1〜4の整数を示し、最低溶融粘度が50000Pa・s以下であることを特徴とする。
A prepreg according to an embodiment of the present invention includes a polyphenylene ether resin composition containing polyphenylene ether and a cross-linking curing agent, wherein the polyphenylene ether has a general formula (1)
And the number average molecular weight is 1,000 or more and 7000 or less. In the general formula (1), X represents an aryl group, (Y) m represents a polyphenylene ether moiety, and R 1 , R 2 , and R 3 Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group or an alkynyl group, m represents an integer of 1 to 100, n represents an integer of 1 to 6, q represents an integer of 1 to 4, and The melt viscosity is 50,000 Pa · s or less.

本発明の一実施形態に係るプリプレグは、数平均分子量が1000以下で、一分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するハロゲン原子を含有しないエポキシ化合物、数平均分子量5000以下のポリフェニレンエーテル、シアネートエステル化合物、前記エポキシ化合物及び前記ポリフェニレンエーテルと硬化剤である前記シアネートエステル化合物との反応を促進させる硬化触媒、及び、ハロゲン系難燃剤を含有する樹脂ワニスを有する熱硬化性樹脂組成物を含み、最低溶融粘度が50,000Pa・s以下であることを特徴とする。   The prepreg according to one embodiment of the present invention has a number average molecular weight of 1000 or less, an epoxy compound containing no halogen atom having at least two epoxy groups in one molecule, a polyphenylene ether having a number average molecular weight of 5000 or less, a cyanate ester. A thermosetting resin composition comprising a compound, a curing catalyst for accelerating the reaction of the epoxy compound and the polyphenylene ether with the cyanate ester compound as a curing agent, and a resin varnish containing a halogen-based flame retardant. The melt viscosity is 50,000 Pa · s or less.

前記ポリフェニレンエーテル樹脂組成物に分散させた、シリカを含むフィラーを含んでもよい。   A filler containing silica dispersed in the polyphenylene ether resin composition may be included.

前記ポリフェニレンエーテルの数平均分子量が3000以下であってもよい。   The number average molecular weight of the polyphenylene ether may be 3000 or less.

前記ポリフェニレンエーテル樹脂組成物の誘電正接Dfが、10GHzにおいて0.007以下であってもよい。   The dielectric loss tangent Df of the polyphenylene ether resin composition may be 0.007 or less at 10 GHz.

本発明によると、低粘度化によりプリプレグの成形性を向上することができる。   According to the present invention, the moldability of the prepreg can be improved by lowering the viscosity.

〈実施形態1〉
以下、本発明に係るプリプレグについて詳細に説明する。但し、本発明のプリプレグは、以下に示す実施形態及び実施例の記載内容に限定して解釈されるものではない。
<Embodiment 1>
Hereinafter, the prepreg according to the present invention will be described in detail. However, the prepreg of the present invention is not construed as being limited to the description of the following embodiments and examples.

[プリプレグの構成]
本発明の実施形態1に係るプリプレグは、ポリフェニレンエーテル及び架橋型硬化剤を含む樹脂組成物と、基材と、を含む。
[Structure of prepreg]
The prepreg according to the first embodiment of the present invention includes a resin composition containing polyphenylene ether and a crosslinkable curing agent, and a base material.

(ポリフェニレンエーテル)
本発明樹脂組成物に含まれるポリフェニレンエーテルは上記の一般式(1)で表され、数平均分子量が1000以上7000以下のものを用いることができる。
(Polyphenylene ether)
The polyphenylene ether contained in the resin composition of the present invention is represented by the above general formula (1) and may have a number average molecular weight of 1,000 to 7000.

上記の一般式(1)において、Xはアリール基を示し、(Y)はポリフェニレンエーテル部分を示し、R〜Rはそれぞれ水素原子、アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を示す。一般式(1)において、nは1以上6以下の整数であり、qは1以上4以下の整数である。ここで、好ましくは、nは1以上4以下の整数であるとよく、さらに好ましくは、nは1又は2であるとよく、理想的にはnは1であるとよい。また、好ましくは、qは1以上3以下の整数であるとよく、さらに好ましくは、qは1又は2であるとよく、理想的にはqは1であるとよい。 In the above general formula (1), X represents an aryl group, (Y) m represents a polyphenylene ether moiety, and R 1 to R 3 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group or an alkynyl group. In the general formula (1), n is an integer of 1 or more and 6 or less, and q is an integer of 1 or more and 4 or less. Here, preferably, n is an integer of 1 or more and 4 or less, more preferably, n is 1 or 2, and ideally, n is 1. Preferably, q is an integer of 1 to 3, and more preferably, q is 1 or 2, and ideally, q is 1.

(アリール基)
一般式(1)におけるアリール基としては、芳香族炭化水素基を用いることができる。具体的には、アリール基として、フェニル基、ビフェニル基、インデニル基、及びナフチル基を用いることができ、好ましくはアリール基を用いるとよい。ここで、アリール基は、上記のアリール基が酸素原子で結合されているジフェニルエーテル基等や、カルボニル基で結合されたベンゾフェノン基等、アルキレン基により結合された2,2−ジフェニルプロパン基等を含んでもよい。また、アリール基は、アルキル基(好適にはC−Cアルキル基、特にメチル基)、アルケニル基、アルキニル基やハロゲン原子など、一般的な置換基によって置換されていてもよい。但し、当該「アリール基」は、酸素原子を介してポリフェニレンエーテル部分に置換されているので、一般的置換基の数の限界は、ポリフェニレンエーテル部分の数に依存する。
(Aryl group)
As the aryl group in the general formula (1), an aromatic hydrocarbon group can be used. Specifically, a phenyl group, a biphenyl group, an indenyl group, and a naphthyl group can be used as the aryl group, and an aryl group is preferably used. Here, the aryl group includes a diphenyl ether group or the like in which the above aryl group is bonded with an oxygen atom, a benzophenone group or the like bonded with a carbonyl group, and a 2,2-diphenylpropane group or the like bonded with an alkylene group. May be. Further, the aryl group may be substituted by a general substituent such as an alkyl group (preferably a C 1 -C 6 alkyl group, particularly a methyl group), an alkenyl group, an alkynyl group and a halogen atom. However, since the "aryl group" is substituted by a polyphenylene ether moiety via an oxygen atom, the limit on the number of general substituents depends on the number of polyphenylene ether moieties.

(ポリフェニレンエーテル部分)
一般式(1)におけるポリフェニレンエーテル部分は以下の一般式(2)で表され、フェニルオキシ繰返し単位からなる。ここで、フェニル基は、一般的な置換基によって置換されていてもよい。
(Polyphenylene ether part)
The polyphenylene ether moiety in the general formula (1) is represented by the following general formula (2) and comprises a phenyloxy repeating unit. Here, the phenyl group may be substituted by a general substituent.

上記の一般式(2)において、R〜Rはそれぞれ水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はアルケニルカルボニル基を示す。一般式(2)において、mは1〜100の整数を示す。ここで、mの値は一般式(1)のポリフェニレンエーテルの数平均分子量が1000以上7000以下となるように調整される。つまり、mは固定値ではなく、ポリフェニレンエーテル樹脂組成物に含まれるポリフェニレンエーテル全体の数平均分子量が1000以上7000以下となるような、ある一定の範囲内の変数であってもよい。 In the above general formula (2), R 4 to R 7 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or an alkenylcarbonyl group. In the general formula (2), m represents an integer of 1 to 100. Here, the value of m is adjusted so that the number average molecular weight of the polyphenylene ether of the general formula (1) is 1,000 or more and 7000 or less. That is, m is not a fixed value but may be a variable within a certain range such that the number average molecular weight of the entire polyphenylene ether contained in the polyphenylene ether resin composition is 1,000 or more and 7000 or less.

ここで、ポリフェニレンエーテルの数平均分子量が7000を超えると、成形時の流動性が低下して多層成形が困難になってしまう。一方、ポリフェニレンエーテルの数平均分子量が1000未満だと、ポリフェニレンエーテル樹脂の本来の優れた誘電特性と耐熱性が得られない可能性がある。より優れた流動性、耐熱性、及び誘電特性を得るためには、ポリフェニレンエーテルの数平均分子量が1200以上5000以下であるとよい。より好ましくは、ポリフェニレンエーテルの数平均分子量が1500以上4500以下であるとよく、さらに好ましくは、ポリフェニレンエーテルの数平均分子量が3000以下である。   Here, when the number average molecular weight of the polyphenylene ether exceeds 7000, the fluidity at the time of molding decreases, and multilayer molding becomes difficult. On the other hand, if the number average molecular weight of the polyphenylene ether is less than 1,000, the original excellent dielectric properties and heat resistance of the polyphenylene ether resin may not be obtained. In order to obtain better fluidity, heat resistance and dielectric properties, the number average molecular weight of the polyphenylene ether is preferably 1200 or more and 5000 or less. More preferably, the number average molecular weight of the polyphenylene ether is 1500 or more and 4500 or less, and further preferably, the number average molecular weight of the polyphenylene ether is 3000 or less.

また、上記の数平均分子量のポリフェニレンエーテルは、架橋型硬化剤とブレンドしたときの相溶性が非常に良好である。換言すると、ポリフェニレンエーテルは数平均分子量が小さいほど混合物との相溶性が高くなる。したがって、相分離に起因した粘度上昇が起きにくく、低分子量である架橋型硬化剤の揮発が抑制される。その結果、ポリフェニレンエーテル樹脂組成物のビアホール等への埋め込み性を向上させることができる。   Further, the polyphenylene ether having the above number average molecular weight has very good compatibility when blended with a cross-linking type curing agent. In other words, the lower the number average molecular weight of polyphenylene ether, the higher the compatibility with the mixture. Therefore, viscosity increase due to phase separation hardly occurs, and volatilization of the low molecular weight cross-linking curing agent is suppressed. As a result, the filling property of the polyphenylene ether resin composition into via holes and the like can be improved.

一般式(2)におけるアルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基は、下記で説明する一般式(1)のアルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基と同様のものを用いることが可能である。ポリフェニレンエーテル部分のアルケニルカルボニル基としては、上記のアルケニル基により置換されたカルボニル基を用いることができる。具体的には、アクリロイル基、メタクリロイル基を用いることができる。   As the alkyl group, alkenyl group and alkynyl group in the general formula (2), those similar to the alkyl group, alkenyl group and alkynyl group in the general formula (1) described below can be used. As the alkenylcarbonyl group in the polyphenylene ether portion, a carbonyl group substituted by the above alkenyl group can be used. Specifically, an acryloyl group and a methacryloyl group can be used.

ここで、一般式(2)におけるポリフェニレンエーテル部分は、置換基R〜Rとしてビニル基、2−プロピレン基(アリル基)、メタクリロイル基、アクリロイル基、2−プロピン基(プロパルギル基)などの不飽和炭化水素含有基を有していてもよい。ポリフェニレンエーテル部分の置換基R〜Rに上記の不飽和炭化水素含有基が備えられていることで、架橋型硬化剤のより顕著な効果を得ることができる。 Here, the polyphenylene ether moiety in the general formula (2) is a substituent such as a vinyl group, a 2-propylene group (allyl group), a methacryloyl group, an acryloyl group, a 2-propyne group (propargyl group) as the substituents R 4 to R 7 . It may have an unsaturated hydrocarbon-containing group. When the substituents R 4 to R 7 of the polyphenylene ether moiety are provided with the above-mentioned unsaturated hydrocarbon-containing group, a more remarkable effect of the crosslinkable curing agent can be obtained.

上記の基を末端に有するポリフェニレンエーテルは、架橋型硬化剤との相互作用が良好である。したがって、比較的少量の架橋型硬化剤を添加するだけで耐熱性を向上させることができ、低誘電率化を実現することができる。   The polyphenylene ether having the above group at the terminal has a good interaction with the crosslinking type curing agent. Therefore, the heat resistance can be improved only by adding a relatively small amount of the crosslinking type curing agent, and a low dielectric constant can be realized.

(アルキル基)
一般式(1)及び一般式(2)におけるアルキル基としては、飽和炭化水素基を用いることができる。上記のアルキル基としては、C−C10アルキル基を用いるとよい。好ましくは、上記のアルキル基としてC−Cアルキル基を用いるとよい。さらに好ましくは、上記のアルキル基としてC−Cアルキル基を用いるとよい。さらに好ましくは、上記のアルキル基としてC−Cアルキル基を用いるとよい。具体的には、アルキル基として、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基を用いることができる。
(Alkyl group)
As the alkyl group in the general formulas (1) and (2), a saturated hydrocarbon group can be used. As the above alkyl group, a C 1 -C 10 alkyl group may be used. Preferably, a C 1 -C 6 alkyl group is used as the above alkyl group. More preferably, a C 1 -C 4 alkyl group may be used as the above-mentioned alkyl group. More preferably, a C 1 -C 2 alkyl group may be used as the above-mentioned alkyl group. Specifically, as the alkyl group, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, and a hexyl group can be used.

(アルケニル基)
一般式(1)及び一般式(2)におけるアルケニル基としては、構造中に少なくとも一つの炭素−炭素二重結合を有する不飽和炭化水素基を用いることができる。上記のアルケニル基としては、C−C10アルケニル基を用いるとよい。好ましくは、上記のアルケニル基としてC−Cアルケニル基を用いるとよい。さらに好ましくは、上記のアルケニル基としてC−Cアルケニル基を用いるとよい。具体的には、アルケニル基として、エチレン基、1−プロピレン基、2−プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基を用いることができる。
(Alkenyl group)
As the alkenyl group in the general formulas (1) and (2), an unsaturated hydrocarbon group having at least one carbon-carbon double bond in the structure can be used. As the alkenyl group, a C 2 -C 10 alkenyl group may be used. Preferably, a C 2 -C 6 alkenyl group is used as the alkenyl group. More preferably, a C 2 -C 4 alkenyl group may be used as the alkenyl group. Specifically, as the alkenyl group, an ethylene group, a 1-propylene group, a 2-propylene group, an isopropylene group, a butylene group, an isobutylene group, a pentylene group, and a hexylene group can be used.

(アルキニル基)
一般式(1)及び一般式(2)におけるアルキニル基としては、構造中に少なくとも一つの炭素−炭素三重結合を有する不飽和炭化水素基を用いることができる。上記のアルキニル基としては、C−C10アルキニル基を用いるとよい。好ましくは、上記のアルキニル基としてC−Cアルキニル基を用いるとよい。さらに好ましくは、上記のアルキニル基としてC2−C4アルキニル基を用いるとよい。具体的には、アルキニル基として、エチン基、1−プロピン基、2−プロピン基、イソプロピン基、ブチン基、イソブチン基、ペンチン基、ヘキシン基を用いることができる。
(Alkynyl group)
As the alkynyl group in the general formulas (1) and (2), an unsaturated hydrocarbon group having at least one carbon-carbon triple bond in the structure can be used. As the alkynyl group, a C 2 -C 10 alkynyl group may be used. Preferably, a C 2 -C 6 alkynyl group is used as the alkynyl group. More preferably, a C2-C4 alkynyl group may be used as the alkynyl group. Specifically, as the alkynyl group, an ethyne group, a 1-propyne group, a 2-propyne group, an isopropyne group, a butyne group, an isobutyne group, a pentyne group, and a hexyne group can be used.

(架橋型硬化剤)
本樹脂組成物に含まれる架橋型硬化剤は、ポリフェニレンエーテルを3次元架橋する硬化剤を用いることができる。具体的には、架橋型硬化剤として、多官能ビニル化合物、ビニルベンジルエーテル系化合物、アリルエーテル系化合物、又はトリアルケニルイソシアヌレートを用いることができる。多官能ビニル化合物は、ジビニルベンゼン、ジビニルナフタレン、ジビニルビフェニルを含む。ビニルベンジルエーテル系化合物は、フェノール及びビニルベンジルクロライドの反応によって合成される。アリルエーテル系化合物は、スチレンモノマー、フェノール、及びアリルクロライドの反応によって合成される。トリアルケニルイソシアヌレートは相溶性が良好であり、トリアリルイソシアヌレート(以下TAIC)又はトリアリルシアヌレート(以下TAC)を用いることができる。
(Cross-linking curing agent)
As the crosslinkable curing agent contained in the present resin composition, a curing agent that three-dimensionally crosslinks polyphenylene ether can be used. Specifically, a polyfunctional vinyl compound, a vinylbenzyl ether-based compound, an allyl ether-based compound, or a trialkenyl isocyanurate can be used as the crosslinkable curing agent. Polyfunctional vinyl compounds include divinylbenzene, divinylnaphthalene, and divinylbiphenyl. Vinyl benzyl ether compounds are synthesized by the reaction of phenol and vinyl benzyl chloride. The allyl ether compound is synthesized by a reaction of a styrene monomer, phenol, and allyl chloride. Trialkenyl isocyanurate has good compatibility, and triallyl isocyanurate (hereinafter, TAIC) or triallyl cyanurate (hereinafter, TAC) can be used.

架橋型硬化剤として、上記の材料の他にも、(メタ)アクリレート化合物(メタクリレート化合物及びアクリレート化合物)を用いることができる。特に、3以上5以下の官能の(メタ)アクリレート化合物を、樹脂組成物全量に対して3質量%以上20質量%以下含有させるとよい。3以上5以下の官能のメタクリレート化合物としては、トリメチロールプロパントリメタクリレート(TMPT)等を用いることができ、一方、3以上5以下の官能のアクリレート化合物としては、トリメチロールプロパントリアクリレート等を用いることができる。上記の架橋型硬化剤を用いることで、樹脂組成物の耐熱性をさらに向上させることができる。   (Meth) acrylate compounds (methacrylate compounds and acrylate compounds) can be used as the cross-linking curing agent in addition to the above materials. In particular, it is preferable that a functional (meth) acrylate compound having a functionality of 3 or more and 5 or less be contained in an amount of 3 to 20 mass% based on the total amount of the resin composition. As the methacrylate compound having a functionality of 3 or more and 5 or less, trimethylolpropane trimethacrylate (TMPT) can be used. On the other hand, as the acrylate compound having a functionality of 3 or more and 5 or less, trimethylolpropane triacrylate or the like can be used. Can be. By using the above-mentioned crosslinking type curing agent, the heat resistance of the resin composition can be further improved.

(メタ)アクリレート化合物の官能が3未満又は5を超えると、官能が3以上5以下の(メタ)アクリレート化合物に比べて耐熱性が低下してしまう。また、官能が3以上5以下の(メタ)アクリレート化合物であっても、含有量が本樹脂組成物全量に対して3質量%未満であると、本樹脂組成物の耐熱性向上の効果を十分に得ることができない。一方で、20質量%を超えると、誘電特性や耐湿性が低下してしまう。   When the functionality of the (meth) acrylate compound is less than 3 or more than 5, the heat resistance is lower than that of a (meth) acrylate compound having a functionality of 3 or more and 5 or less. In addition, even when the (meth) acrylate compound has a functionality of 3 or more and 5 or less, if the content is less than 3% by mass based on the total amount of the present resin composition, the effect of improving the heat resistance of the present resin composition is sufficient. Can not get to. On the other hand, if it exceeds 20% by mass, the dielectric properties and the moisture resistance will decrease.

本樹脂組成物におけるポリフェニレンエーテルと架橋型硬化剤との含有比率は、30/70以上90/10以下とするとよい。好ましくは、上記の含有比率は50/50以上90/10以下とするとよい。さらに好ましくは、上記の含有比率は60/40以上90/10以下とするとよい。   The content ratio of the polyphenylene ether to the crosslinking type curing agent in the present resin composition is preferably 30/70 or more and 90/10 or less. Preferably, the content ratio is 50/50 or more and 90/10 or less. More preferably, the above content ratio is set to be 60/40 or more and 90/10 or less.

ここで、ポリフェニレンエーテルの含有比率が下限よりも小さくなると、樹脂組成物全体の剛性が低くなってしまう。その影響で、樹脂組成物全体の多層化が困難になってしまう。一方、ポリフェニレンエーテルの含有比率が上限よりも大きくなると、樹脂組成物全体の耐熱性が低下してしまう。ポリフェニレンエーテルと架橋型硬化剤との含有比率を上記の範囲に調整することで、良好な樹脂組成物の流動性及び相溶性を得ることができる。したがって、樹脂組成物のビアホール等への埋め込み性を向上させることができる。   Here, when the content ratio of the polyphenylene ether is smaller than the lower limit, the rigidity of the entire resin composition is reduced. Under the influence, it is difficult to form a multilayered resin composition as a whole. On the other hand, when the content ratio of the polyphenylene ether is larger than the upper limit, the heat resistance of the entire resin composition decreases. By adjusting the content ratio of the polyphenylene ether and the cross-linking type curing agent to the above range, good fluidity and compatibility of the resin composition can be obtained. Therefore, the embedding property of the resin composition into a via hole or the like can be improved.

(基材)
本発明のプリプレグに含まれる基材は、例えば、ガラスクロスである。なお、基材は有機物で形成されたものであってもよい。
(Base material)
The base material included in the prepreg of the present invention is, for example, a glass cloth. Note that the substrate may be formed of an organic material.

(その他の添加剤)
本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、未修飾のポリフェニレンエーテル、無機材料又は有機材料の充填材、難燃剤、及び反応開始剤から選択される1以上の添加剤を添加することができる。また、さらにプリント配線基板などの電子機器の製造に用いられる樹脂組成物の一般的な添加成分を添加してもよい。
(Other additives)
The resin composition of the present invention can optionally contain one or more additives selected from unmodified polyphenylene ether, a filler of an inorganic or organic material, a flame retardant, and a reaction initiator. . Further, a general additive component of a resin composition used for manufacturing an electronic device such as a printed wiring board may be added.

(未修飾のポリフェニレンエーテル)
本発明の樹脂組成物は、上記のポリフェニレンエーテルに加え、数平均分子量が9000以上18000以下の未修飾のポリフェニレンエーテルを添加することができる。未修飾のポリフェニレンエーテルを添加することで、樹脂組成物の流動性の制御や耐熱性の向上を実現することができる。また、樹脂組成物中において、充填材などの添加成分の沈殿を抑制することができる。ここで、未修飾のポリフェニレンエーテルとは、分子中に炭素−炭素の不飽和基を有さないポリフェニレンエーテルのことであり、その添加量は、ポリフェニレンエーテルと架橋型硬化剤の合計質量100質量部に対して3質量部以上70質量部以下が好ましい。
(Unmodified polyphenylene ether)
In the resin composition of the present invention, an unmodified polyphenylene ether having a number average molecular weight of 9,000 or more and 18,000 or less can be added in addition to the above-mentioned polyphenylene ether. By adding unmodified polyphenylene ether, control of fluidity of the resin composition and improvement of heat resistance can be realized. Further, precipitation of additional components such as a filler in the resin composition can be suppressed. Here, the unmodified polyphenylene ether is a polyphenylene ether having no carbon-carbon unsaturated group in the molecule, and the added amount thereof is a total mass of 100 parts by mass of the polyphenylene ether and the crosslinking type curing agent. It is preferably 3 parts by mass or more and 70 parts by mass or less.

さらに、耐熱性、接着性、寸法安定性を改良するために、スチレン・ブタジエンブロックコポリマー、スチレン・イソプレンブロックコポリマー、1,2−ポリブタジエン、1,4−ポリブタジエン、マレイン酸変性ポリブタジエン、アクリル酸変性ポリブタジエン、及びエポキシ変性ポリブタジエンから選択される1以上の相溶化剤を用いることができる。   Furthermore, in order to improve heat resistance, adhesion and dimensional stability, styrene-butadiene block copolymer, styrene-isoprene block copolymer, 1,2-polybutadiene, 1,4-polybutadiene, maleic acid-modified polybutadiene, acrylic acid-modified polybutadiene And at least one compatibilizer selected from epoxy-modified polybutadiene.

(充填材)
本樹脂組成物に無機材料の充填材(以降、無機充填材という)を添加することで、本樹脂組成物を用いたプリプレグの熱膨張係数の低減や剛性を向上させることができる。無機充填材としては、シリカ、窒化ホウ素、ワラストナイト、タルク、カオリン、クレー、マイカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア等の金属酸化物、窒化物、珪化物、硼化物等を用いることができる。特に、シリカや窒化ホウ素のような低誘電率充填材を添加することで、樹脂組成物の低誘電率化させることができる。
(Filling material)
By adding a filler of an inorganic material (hereinafter, referred to as an inorganic filler) to the present resin composition, the prepreg using the present resin composition can have a reduced thermal expansion coefficient and improved rigidity. Examples of the inorganic filler include silica, boron nitride, wollastonite, talc, kaolin, clay, mica, alumina, zirconia, titania, and other metal oxides, nitrides, silicides, borides, and the like. In particular, by adding a low dielectric constant filler such as silica or boron nitride, the resin composition can have a low dielectric constant.

本樹脂組成物に有機材料の充填材(以降、有機充填材という)を添加することで、本樹脂組成物を用いたプリプレグの誘電率を低減させることができる。有機充填材としては、フッ素系、ポリスチレン系、ジビニルベンゼン系、ポリイミド系等を用いることができる。フッ素系充填材(フッ素含有化合物の充填材)としては、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリパーフルオロアルコキシ樹脂、ポリフッ化エチレンプロピレン樹脂、ポリテトラフルオロエチレン−ポリエチレン共重合体、ポリフッ化ビニリデン、ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂等を用いることができる。これらは、単独で用いることもでき、複数を組み合わせて用いることもできる。   By adding a filler of an organic material (hereinafter referred to as an organic filler) to the present resin composition, the dielectric constant of a prepreg using the present resin composition can be reduced. As the organic filler, a fluorine-based, polystyrene-based, divinylbenzene-based, polyimide-based, or the like can be used. Examples of the fluorine-based filler (a filler containing a fluorine-containing compound) include polytetrafluoroethylene (PTFE), polyperfluoroalkoxy resin, polyfluoroethylene propylene resin, polytetrafluoroethylene-polyethylene copolymer, polyvinylidene fluoride, and poly (vinylidene fluoride). Chlorotrifluoroethylene resin or the like can be used. These can be used alone or in combination of two or more.

また、有機充填材としては、中空高分子微粒子を用いることができる。特に、中空体のシェルの材質がジビニルベンゼンやジビニルビフェニル等の低誘電率の材質である中空体を用いることで、プリプレグの低誘電率化を実現することができる。   In addition, hollow polymer fine particles can be used as the organic filler. In particular, by using a hollow body whose shell material is a material having a low dielectric constant such as divinylbenzene or divinyl biphenyl, the dielectric constant of the prepreg can be reduced.

無機充填材又は有機充填材としては、平均粒径が10μm以下の微粒子を用いることができる。ここでいう平均粒径とは、添加する充填材のカタログ等の資料に記載された値であってもよく、ランダムに抽出された複数の充填材の平均値又は中央値であってもよい。充填材の平均粒径を上記の条件とすることで、平滑性及び信頼性が高いプリプレグを得ることができる。   Fine particles having an average particle diameter of 10 μm or less can be used as the inorganic filler or the organic filler. The average particle size here may be a value described in a material such as a catalog of the filler to be added, or may be an average value or a median value of a plurality of randomly extracted fillers. By setting the average particle size of the filler to the above condition, a prepreg having high smoothness and high reliability can be obtained.

(難燃剤)
本樹脂組成物に難燃剤を添加することで、本樹脂組成物を用いたプリプレグの耐水性、耐湿性、吸湿耐熱性、及びガラス転移点を向上させることができる。難燃剤としては、臭素化有機化合物、例えば芳香族臭素化合物を用いることができる。具体的には、デカブロモジフェニルエタン、4,4-ジブロモビフェニル、エチレンビステトラブロモフタルイミド等を用いることができる。好ましくは、臭素の含有量が樹脂組成物全量に対して8質量%以上20質量%以下となる量の臭素化有機化合物を含有するとよい。
(Flame retardants)
By adding a flame retardant to the present resin composition, the prepreg using the present resin composition can have improved water resistance, moisture resistance, heat resistance to moisture absorption, and glass transition point. As the flame retardant, a brominated organic compound, for example, an aromatic bromine compound can be used. Specifically, decabromodiphenylethane, 4,4-dibromobiphenyl, ethylenebistetrabromophthalimide, or the like can be used. Preferably, the brominated organic compound is contained in an amount of from 8% by mass to 20% by mass with respect to the total amount of the resin composition.

臭素の含有量が下限よりも小さくなると、プリプレグの難燃性が低下し、UL規格94V−0レベルの難燃性を維持することができなくなってしまう。一方、臭素の含有量が上限よりも大きくなると、プリプレグの加熱時に臭素が解離しやすくなり、プリプレグの耐熱性が低下してしまう。   If the bromine content is lower than the lower limit, the prepreg has low flame retardancy and cannot maintain the UL standard 94V-0 level flame retardancy. On the other hand, when the content of bromine is larger than the upper limit, bromine is easily dissociated when the prepreg is heated, and the heat resistance of the prepreg decreases.

(反応開始剤)
本樹脂組成物に反応開始剤を添加することで、架橋型硬化剤のより顕著な効果を得ることができる。反応開始剤としては、適度な温度及び時間で樹脂組成物の硬化を促進することによって、樹脂組成物の耐熱性等の特性を向上できるものであれば一般的な材料を用いることができる。具体的には、α,α’−ビス(t−ブチルパーオキシ−m−イソプロピル)ベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)−3−ヘキシン、過酸化ベンゾイル、3,3’,5,5’−テトラメチル−1,4−ジフェノキノン、クロラニル、2,4,6−トリ−t−ブチルフェノキシル、t−ブチルペルオキシイソプロピルモノカーボネート、アゾビスイソブチロニトリル等の酸化剤を用いることができる。ここで、必要に応じてカルボン酸金属塩などを添加して、硬化反応をさらに促進させてもよい。
(Reaction initiator)
By adding a reaction initiator to the present resin composition, a more remarkable effect of the crosslinking type curing agent can be obtained. As the reaction initiator, a general material can be used as long as it can improve the properties such as heat resistance of the resin composition by promoting the curing of the resin composition at an appropriate temperature and time. Specifically, α, α′-bis (t-butylperoxy-m-isopropyl) benzene, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) -3-hexyne, benzoyl peroxide , 3,3 ', 5,5'-Tetramethyl-1,4-diphenoquinone, chloranil, 2,4,6-tri-t-butylphenoxyl, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate, azobisisobutyronitrile And the like. Here, if necessary, a metal carboxylate may be added to further promote the curing reaction.

[プリプレグの製造方法]
本発明の実施形態1に係るプリプレグを作製する方法について説明する。まず、ポリフェニレンエーテル、架橋型硬化剤、及び添加剤を有機溶媒と混合し、ワニスを形成する。この有機溶媒としては、臭素化有機化合物を溶解せず、樹脂成分を溶解し、反応に悪影響を及ぼすものでなければ特に限定されない。例えば、メチルエチルケトン等のケトン類、ジブチルエーテル等のエーテル類、酢酸エチル等のエステル類、ジメチルホルムアミド等のアミド類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、トリクロロエチレン等の塩素化炭化水素等の適当な有機溶媒を一種あるいは二種以上を混合して用いられる。ワニスの樹脂固形分の濃度は、ワニスを基材に含浸する作業に応じて適当に調整すればよく、例えば40質量%以上90質量%以下とすることができる。
[Prepreg manufacturing method]
A method for producing a prepreg according to the first embodiment of the present invention will be described. First, a varnish is formed by mixing a polyphenylene ether, a cross-linking curing agent, and an additive with an organic solvent. The organic solvent is not particularly limited as long as it does not dissolve the brominated organic compound but dissolves the resin component and does not adversely affect the reaction. For example, ketones such as methyl ethyl ketone, ethers such as dibutyl ether, esters such as ethyl acetate, amides such as dimethylformamide, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and chlorinated hydrocarbons such as trichloroethylene. Are used alone or in combination of two or more. The concentration of the resin solid content of the varnish may be appropriately adjusted according to the operation of impregnating the base material with the varnish, and may be, for example, from 40% by mass to 90% by mass.

上記のワニスを基材に含浸し、さらに加熱乾燥し有機溶媒を除去させるとともに基材中の樹脂を半硬化させることによって、プリプレグを得ることができる。本発明によるプリプレグにおいて、基材としてはガラスクロスを用いることができる。   A prepreg can be obtained by impregnating the base material with the above varnish, drying by heating and removing the organic solvent and semi-curing the resin in the base material. In the prepreg according to the present invention, a glass cloth can be used as the base material.

基材へのワニスの含浸量は、プリプレグ中の樹脂固形分の質量比率が35質量%以上になるようにするのが好ましい。基材の誘電率は樹脂の誘電率よりも大きいため、このプリプレグを用いて得られたプリント配線基板の誘電率を小さくするには、プリプレグ中の樹脂固形分の含有量を上記の質量比率より多くするとよい。ワニスを含浸させた基材は、80℃以上180℃以下の温度で1分以上10分以下の時間加熱することができる。このとき、プリプレグ中の樹脂組成物の最低溶融粘度が50000Pa・s以下になるように加熱する。例えば、170℃の温度で加熱する場合には、加熱する時間は3分以上10分未満であることが望ましく、5分以上9分以下であることがさらに望ましい。ワニスを含浸させた基材の加熱条件は、上記の条件に限定されないが、プリプレグ中の樹脂組成物の最低溶融粘度が50000Pa・s以下になるように決定する。ここで、プリプレグ中の樹脂組成物の最低溶融粘度とは、室温から200℃の温度範囲における、プリプレグ中の樹脂組成物の溶融粘度の最低値のことである。   The amount of the varnish impregnated into the base material is preferably such that the mass ratio of the resin solid content in the prepreg is 35% by mass or more. Since the dielectric constant of the base material is higher than the dielectric constant of the resin, in order to reduce the dielectric constant of the printed wiring board obtained using this prepreg, the content of the resin solid content in the prepreg is determined by the above mass ratio. It is good to increase. The substrate impregnated with the varnish can be heated at a temperature of 80 ° C. or more and 180 ° C. or less for a time of 1 minute or more and 10 minutes or less. At this time, heating is performed so that the minimum melt viscosity of the resin composition in the prepreg becomes 50,000 Pa · s or less. For example, when heating at a temperature of 170 ° C., the heating time is preferably 3 minutes or more and less than 10 minutes, and more preferably 5 minutes or more and 9 minutes or less. The heating conditions of the substrate impregnated with the varnish are not limited to the above conditions, but are determined so that the minimum melt viscosity of the resin composition in the prepreg is 50,000 Pa · s or less. Here, the minimum melt viscosity of the resin composition in the prepreg is a minimum value of the melt viscosity of the resin composition in the prepreg in a temperature range from room temperature to 200 ° C.

このように形成されたプリプレグ中の樹脂組成物は、10GHzでの誘電率Dkが2.7以下であることが望ましく、2.5以下であることがさらに望ましい。また、10GHzでの誘電正接Dfが0.007以下であることが望ましく、0.005以下であることがさらに望ましい。   The resin composition in the prepreg thus formed preferably has a dielectric constant Dk at 10 GHz of 2.7 or less, more preferably 2.5 or less. The dielectric loss tangent Df at 10 GHz is preferably 0.007 or less, more preferably 0.005 or less.

[プリント配線基板(積層体)の製造方法]
ここでは、上記のようにして作製したプリプレグを用いた積層体の製造方法について説明する。まず、プリプレグを一枚又は複数枚重ね、さらにその上下の両面又は片面に銅箔等の金属箔を重ねて、その積層体を加熱加圧成形する。この成形によって、両面又は片面に金属箔を有する積層体(例えば銅張積層体)を作製することができる。この積層体の金属箔をパターニング及びエッチング加工して回路形成することでプリント配線基板を得ることができる。また、回路が形成された金属箔を間に挟んで複数枚のプリプレグを重ねて加熱加圧成形することで、多層化されたプリント配線基板を作製することができる。
[Manufacturing method of printed wiring board (laminate)]
Here, a method of manufacturing a laminate using the prepreg manufactured as described above will be described. First, one or a plurality of prepregs are stacked, and a metal foil such as a copper foil is stacked on both upper and lower surfaces or one surface thereof, and the laminate is heated and pressed. By this molding, a laminate (for example, a copper-clad laminate) having a metal foil on both sides or one side can be produced. A printed wiring board can be obtained by patterning and etching the metal foil of the laminate to form a circuit. Further, a multilayer printed wiring board can be manufactured by laminating a plurality of prepregs with a metal foil having a circuit formed therebetween and performing heating and press molding.

加熱加圧成形条件は、本発明に係る樹脂組成物の原料の含有比率により異なるが、一般的には170℃以上230℃以下、圧力1.0MPa以上6.0MPa以下(10kg/cm以上60kg/cm以下)の条件で適切な時間、加熱加圧するのが好ましい。 The heat and pressure molding conditions vary depending on the content ratio of the raw materials of the resin composition according to the present invention, but are generally 170 ° C. or more and 230 ° C. or less, and the pressure is 1.0 MPa or more and 6.0 MPa or less (10 kg / cm 2 or more and 60 kg or less). / Cm 2 or less) under the condition of heating and pressurizing for an appropriate time.

上記の積層体に用いられる金属箔としては、表面粗さ(十点平均粗さ:Rz)が2μm以下であり、プリプレグによって樹脂層が形成される側の表面(プリプレグと接触する側の表面)が、防錆や樹脂層との密着性向上のために亜鉛又は亜鉛合金にて処理され、さらにビニル基含有シランカップリング剤などによるカップリング処理がなされた銅箔を用いることができる。このような銅箔は樹脂層(絶縁層)との密着がよく、高周波特性に優れたプリント配線基板が得られる。なお、銅箔を亜鉛又は亜鉛合金にて処理する場合、銅箔の表面に亜鉛や亜鉛合金をめっき法により形成することができる。   The metal foil used in the laminate has a surface roughness (ten-point average roughness: Rz) of 2 μm or less, and has a surface on the side where the resin layer is formed by the prepreg (surface on the side in contact with the prepreg). However, it is possible to use a copper foil that has been treated with zinc or a zinc alloy in order to prevent rust and improve the adhesion to the resin layer, and that has been subjected to a coupling treatment with a vinyl group-containing silane coupling agent or the like. Such a copper foil has good adhesion to a resin layer (insulating layer), and a printed wiring board having excellent high-frequency characteristics can be obtained. When the copper foil is treated with zinc or a zinc alloy, zinc or a zinc alloy can be formed on the surface of the copper foil by a plating method.

このようにして得られた積層体やプリント配線基板は、低Dk及び低Dfを実現することができる。また、成形性、耐水性、耐湿性、吸湿耐熱性、及びガラス転移点が高い積層体やプリント配線基板を得ることができる。特に、プリプレグの最低溶融粘度が50000Pa・s以下であると、良好な成形性が得られる。   The laminate and the printed wiring board thus obtained can realize low Dk and low Df. Further, a laminate or a printed wiring board having high moldability, water resistance, moisture resistance, heat resistance to moisture absorption, and high glass transition point can be obtained. Particularly, when the minimum melt viscosity of the prepreg is 50,000 Pa · s or less, good moldability can be obtained.

〈実施形態2〉
以下、本発明に係るプリプレグについて詳細に説明する。但し、本発明のプリプレグは、以下に示す実施形態及び実施例の記載内容に限定して解釈されるものではない。
<Embodiment 2>
Hereinafter, the prepreg according to the present invention will be described in detail. However, the prepreg of the present invention is not construed as being limited to the description of the following embodiments and examples.

[プリプレグの構成]
本発明の実施形態2に係るプリプレグは、エポキシ化合物、ポリフェニレンエーテル、シアン酸エステル化合物、硬化触媒、及びハロゲン系難燃剤を有する樹脂ワニスからなる樹脂組成物と、基材と、を含む。ここで、エポキシ化合物は、数平均分子量が1000以下で、一分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するハロゲン原子を含有しない。また、ポリフェニレンエーテルは数平均分子量が5000以下である。また、硬化触媒は、エポキシ化合物及びポリフェニレンエーテルと硬化剤であるシアン酸エステル化合物との反応を促進させる。
[Structure of prepreg]
The prepreg according to the second embodiment of the present invention includes a resin composition including a resin varnish having an epoxy compound, a polyphenylene ether, a cyanate ester compound, a curing catalyst, and a halogen-based flame retardant, and a base material. Here, the epoxy compound has a number average molecular weight of 1000 or less and does not contain a halogen atom having at least two epoxy groups in one molecule. The polyphenylene ether has a number average molecular weight of 5000 or less. The curing catalyst promotes the reaction between the epoxy compound and polyphenylene ether and the cyanate ester compound as a curing agent.

(エポキシ化合物)
エポキシ化合物としては、ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物、ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールF型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、ナフタレン型エポキシ化合物、ビフェニル型エポキシ化合物等を用いることができる。これらは、単独で用いることもでき、複数を組み合わせて用いることもできる。上記のうち、特にジシクロペンタジエン型エポキシ化合物、ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールF型エポキシ化合物、ビフェニル型エポキシ化合物がポリフェニレンエーテルとの相溶性が良好であるため好ましい。なお、本樹脂組成物には、ハロゲン化エポキシ化合物を含有しないことが好ましいが、本発明の効果を損なわない範囲であれば、必要に応じて添加してもよい。
(Epoxy compound)
As the epoxy compound, a dicyclopentadiene type epoxy compound, a bisphenol A type epoxy compound, a bisphenol F type epoxy compound, a phenol novolak type epoxy compound, a naphthalene type epoxy compound, a biphenyl type epoxy compound and the like can be used. These can be used alone or in combination of two or more. Of the above, dicyclopentadiene type epoxy compounds, bisphenol A type epoxy compounds, bisphenol F type epoxy compounds, and biphenyl type epoxy compounds are preferred because of their good compatibility with polyphenylene ether. The present resin composition preferably does not contain a halogenated epoxy compound, but may be added as needed as long as the effects of the present invention are not impaired.

本実施形態のプリプレグにおけるエポキシ化合物の含有割合は、エポキシ化合物、ポリフェニレンエーテル、及びシアン酸エステル化合物の成分の合計量に対して、20質量%以上60質量%以下であることが好ましい。より好ましくは、エポキシ化合物の含有割合は30質量%以上50質量%以下であるとよい。エポキシ化合物の含有割合を上記の範囲とすることで、充分な耐熱性と優れた機械的特性及び電気特性を維持することができる。   The content ratio of the epoxy compound in the prepreg of the present embodiment is preferably 20% by mass or more and 60% by mass or less based on the total amount of components of the epoxy compound, the polyphenylene ether, and the cyanate ester compound. More preferably, the content ratio of the epoxy compound is not less than 30% by mass and not more than 50% by mass. By setting the content of the epoxy compound in the above range, sufficient heat resistance and excellent mechanical and electrical properties can be maintained.

(ポリフェニレンエーテル)
ポリフェニレンエーテルとしては、数平均分子量は5000以下であり、好ましくは1500以上4000以下である。
(Polyphenylene ether)
The polyphenylene ether has a number average molecular weight of 5000 or less, preferably 1500 or more and 4000 or less.

ポリフェニレンエーテルの数平均分子量が5000を超えると、流動性が悪くなり、またエポキシ基との反応性も低下してしまう。そのため、硬化反応に長い時間がかかってしまい、硬化系に取り込まれず未反応のものが増加してガラス転移温度が低下し、十分な耐熱性の改善が得られなくなる。   If the number average molecular weight of the polyphenylene ether exceeds 5,000, the fluidity will deteriorate and the reactivity with the epoxy group will decrease. For this reason, a long time is required for the curing reaction, and unreacted ones that are not taken into the curing system increase to lower the glass transition temperature, so that a sufficient improvement in heat resistance cannot be obtained.

本実施形態のプリプレグにおけるポリフェニレンエーテルの含有割合は、エポキシ化合物、ポリフェニレンエーテル、及びシアン酸エステル化合物の成分の合計量に対して、20質量%以上60質量%以下であることが好ましい。より好ましくは、ポリフェニレンエーテルの含有割合は20質量%以上40質量%以下であるとよい。ポリフェニレンエーテルの含有割合が上記の範囲であることで、優れた誘電特性を得ることができる。   The content ratio of the polyphenylene ether in the prepreg of the present embodiment is preferably 20% by mass or more and 60% by mass or less based on the total amount of the epoxy compound, the polyphenylene ether, and the cyanate ester compound. More preferably, the content ratio of the polyphenylene ether is not less than 20% by mass and not more than 40% by mass. When the content ratio of the polyphenylene ether is within the above range, excellent dielectric properties can be obtained.

(シアン酸エステル化合物)
シアン酸エステル化合物としては、1分子中に2個以上のシアネート基を有する化合物を用いることができる。具体的には、2,2−ビス(4−シアナートフェニル)プロパン、ビス(3,5−ジメチル−4−シアナートフェニル)メタン、2,2−ビス(4−シアナートフェニル)エタン等、又はこれらの誘導体等の芳香族系シアン酸エステル化合物等を用いることができる。これらは、単独で用いることもでき、複数を組み合わせて用いることもできる。
(Cyanate compound)
As the cyanate ester compound, a compound having two or more cyanate groups in one molecule can be used. Specifically, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane, bis (3,5-dimethyl-4-cyanatophenyl) methane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) ethane, etc. Alternatively, an aromatic cyanate compound such as a derivative thereof can be used. These can be used alone or in combination of two or more.

シアン酸エステル化合物は、エポキシ樹脂を形成するためのエポキシ化合物の硬化剤として作用し、剛直な骨格を形成する成分である。したがって、高いガラス転移点(Tg)を得ることができる。また、低粘度であるために得られる樹脂ワニスの高流動性を維持することができる。   A cyanate ester compound is a component that acts as a curing agent for an epoxy compound to form an epoxy resin and forms a rigid skeleton. Therefore, a high glass transition point (Tg) can be obtained. In addition, high fluidity of the obtained resin varnish can be maintained because of low viscosity.

本実施形態のプリプレグにおけるシアン酸エステル化合物の含有割合は、エポキシ化合物、ポリフェニレンエーテル、及びシアン酸エステル化合物の成分の合計量に対して、20質量%以上60質量%以下であることが好ましい。より好ましくは、シアン酸エステル化合物の含有割合は20質量%以上40質量%以下であるとよい。シアン酸エステル化合物の含有割合が上記の範囲であることで、十分な耐熱性を得ることができ、基材に対する含浸性に優れ、樹脂ワニス中でも結晶が析出しにくくすることができる。   The content of the cyanate ester compound in the prepreg of the present embodiment is preferably 20% by mass or more and 60% by mass or less based on the total amount of the epoxy compound, the polyphenylene ether, and the cyanate compound. More preferably, the content ratio of the cyanate ester compound is preferably 20% by mass or more and 40% by mass or less. When the content ratio of the cyanate ester compound is in the above range, sufficient heat resistance can be obtained, the impregnation property to the base material is excellent, and crystals can be hardly precipitated even in the resin varnish.

(硬化触媒)
硬化触媒としては、オクタン酸、ステアリン酸、アセチルアセトネート、ナフテン酸、サリチル酸等の有機酸のZn,Cu,Fe等の有機金属塩、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等の3級アミン、2−エチル−4−イミダゾール、4−メチルイミダゾール等のイミダゾール類等を用いることができる。これらは、単独で用いることもでき、複数を組み合わせて用いることもできる。上記のうち、有機金属塩、特にオクタン酸亜鉛がより高い耐熱性が得られるため好ましい。
(Curing catalyst)
As the curing catalyst, organic metal salts such as Zn, Cu and Fe of organic acids such as octanoic acid, stearic acid, acetylacetonate, naphthenic acid and salicylic acid; tertiary amines such as triethylamine and triethanolamine; Imidazoles such as 4-imidazole and 4-methylimidazole can be used. These can be used alone or in combination of two or more. Among the above, organic metal salts, particularly zinc octoate, are preferred because higher heat resistance can be obtained.

本実施形態のプリプレグにおける硬化触媒の含有割合は、例えば有機金属塩を用いる場合には、エポキシ化合物、ポリフェニレンエーテル、及びシアン酸エステル化合物の成分の合計量(100質量部)に対して0.005質量部以上5質量部以下とすることができる。また、例えばイミダゾール類を用いる場合には、硬化触媒の含有割合はエポキシ化合物、ポリフェニレンエーテル、及びシアン酸エステル化合物の成分の合計量(100質量部)に対して0.01質量部以上5質量部以下とすることができる。   In the case of using an organic metal salt, for example, the content ratio of the curing catalyst in the prepreg of the present embodiment is 0.005 to the total amount (100 parts by mass) of the components of the epoxy compound, the polyphenylene ether, and the cyanate ester compound. It can be not less than 5 parts by mass and not more than 5 parts by mass. When imidazoles are used, for example, the content ratio of the curing catalyst is 0.01 to 5 parts by mass based on the total amount (100 parts by mass) of the epoxy compound, polyphenylene ether, and cyanate compound. It can be:

(ハロゲン系難燃剤)
ハロゲン系難燃剤としては、トルエン等の溶媒により調整されるワニス中で溶解しないハロゲン系難燃剤を用いることができる。具体的には、ハロゲン系難燃剤としては、エチレンジペンタブロモベンゼン、エチレンビステトラブロモフタルイミド、デカブロモジフェニルオキサイド、テトラデカブロモジフェノキシベンゼン、ビス(トリブロモフェノキシ)エタン等を用いることができる。上記のうち、特にエチレンジペンタブロモベンゼン、エチレンビステトラブロモフタルイミド、デカブロモジフェニルオキサイド、テトラデカブロモジフェノキシベンゼンは、融点が300℃以上で耐熱性が高いため、プリプレグの耐熱性を向上させることができる。融点が300℃以上の耐熱性が高いハロゲン系難燃剤を用いると、高温時におけるハロゲンの脱離を抑制することができるため、硬化物の分解による耐熱性の低下を抑制することができる。
(Halogen flame retardant)
As the halogen-based flame retardant, a halogen-based flame retardant that does not dissolve in a varnish prepared with a solvent such as toluene can be used. Specifically, ethylene dipentabromobenzene, ethylene bistetrabromophthalimide, decabromodiphenyl oxide, tetradecabromodiphenoxybenzene, bis (tribromophenoxy) ethane, or the like can be used as the halogen-based flame retardant. Among the above, particularly ethylenedipentabromobenzene, ethylenebistetrabromophthalimide, decabromodiphenyloxide, and tetradecabromodiphenoxybenzene have a high heat resistance at a melting point of 300 ° C. or higher, and thus improve the heat resistance of the prepreg. Can be. When a halogen-based flame retardant having a melting point of 300 ° C. or higher and having high heat resistance is used, elimination of halogen at a high temperature can be suppressed, so that a decrease in heat resistance due to decomposition of a cured product can be suppressed.

ハロゲン系難燃剤の分散状態における平均粒子径は、0.1μm以上50μm以下、より好ましくは1μm以上10μm以下であることが耐熱性及び層間の絶縁性を充分に維持できる。なお、上記の平均粒子径は、(株)島津製作所製の粒度分布計(SALD−2100)等により測定することができる。   The average particle size of the halogen-based flame retardant in the dispersed state is 0.1 μm or more and 50 μm or less, more preferably 1 μm or more and 10 μm or less, so that the heat resistance and the insulation between layers can be sufficiently maintained. The above average particle diameter can be measured by a particle size distribution meter (SALD-2100) manufactured by Shimadzu Corporation.

本実施形態のプリプレグにおけるハロゲン系難燃剤の含有割合は、得られる硬化物中の樹脂成分(すなわち、無機成分を除いた成分)全量中にハロゲン濃度が5質量%以上30質量%以下になるような割合で含有させることが好ましい。   The content ratio of the halogen-based flame retardant in the prepreg of the present embodiment is such that the halogen concentration is 5% by mass or more and 30% by mass or less in the total amount of the resin components (that is, components excluding the inorganic components) in the obtained cured product. It is preferable to contain them in an appropriate ratio.

(基材)
本発明のプリプレグに含まれる基材は、例えば、ガラスクロスである。なお、基材は有機物で形成されたものであってもよい。
(Base material)
The base material included in the prepreg of the present invention is, for example, a glass cloth. Note that the substrate may be formed of an organic material.

(充填材)
本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、無機充填材を添加することができる。無機充填材は加熱時の寸法安定性の向上及び難燃性の向上の効果を得ることができる。無機充填材としては、具体的に球状シリカ等のシリカ、アルミナ、タルク、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、酸化チタン、マイカ、ホウ酸アルミニウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム等を用いることができる。また、無機充填材として、エポキシシランタイプ又はアミノシランタイプのシランカップリング剤で表面処理されたものを用いることができる。シランカップリング剤で表面処理された無機充填材を含有することで、吸湿時における耐熱性の向上及び層間の密着性を向上させることができる。
(Filling material)
The resin composition of the present invention may optionally contain an inorganic filler. The inorganic filler can obtain the effects of improving dimensional stability during heating and improving flame retardancy. Specific examples of the inorganic filler include silica such as spherical silica, alumina, talc, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, titanium oxide, mica, aluminum borate, barium sulfate, and calcium carbonate. Further, as the inorganic filler, a material which has been surface-treated with an epoxysilane type or aminosilane type silane coupling agent can be used. By containing an inorganic filler surface-treated with a silane coupling agent, it is possible to improve heat resistance during moisture absorption and adhesion between layers.

本実施形態のプリプレグにおける無機充填材の含有割合は、エポキシ化合物、ポリフェニレンエーテル、及びシアン酸エステル化合物の成分の合計量(100質量部)に対して、10質量部以上100質量部以下になるような割合で含有させるとよい。好ましくは、無機充填材の含有割合を20質量部以上70質量部以下になるような割合で含有させるとよい。より好ましくは、無機充填材の含有割合を20質量部以上50質量部以下になるような割合で含有させるとよい。無機充填材の含有割合を上記の範囲とすることで、流動性や金属箔との密着性を低下させずに寸法安定性を向上させることができる。   The content ratio of the inorganic filler in the prepreg of the present embodiment is 10 parts by mass or more and 100 parts by mass or less based on the total amount (100 parts by mass) of the components of the epoxy compound, the polyphenylene ether, and the cyanate ester compound. It is good to make it contain at an appropriate ratio. Preferably, the content of the inorganic filler is preferably set to a ratio of 20 parts by mass or more and 70 parts by mass or less. More preferably, the content of the inorganic filler may be contained at a ratio of 20 parts by mass or more and 50 parts by mass or less. By setting the content of the inorganic filler in the above range, the dimensional stability can be improved without lowering the fluidity and the adhesion to the metal foil.

本発明の樹脂組成物は、上記の無機充填材以外にも、プリント配線基板などの電子機器の製造に用いられる樹脂組成物の一般的な添加成分を添加してもよい。例えば、熱安定剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤、染料や顔料、滑剤等を添加してもよい。   The resin composition of the present invention may contain, in addition to the above-mentioned inorganic filler, a general additive component of a resin composition used for manufacturing an electronic device such as a printed wiring board. For example, heat stabilizers, antistatic agents, ultraviolet absorbers, flame retardants, dyes and pigments, lubricants and the like may be added.

[プリプレグの製造方法]
本発明の実施形態2に係るプリプレグの本樹脂組成物は、エポキシ化合物、ポリフェニレンエーテル、及びシアン酸エステル化合物の成分は何れも樹脂ワニス中で溶解されたものであり、無機充填材の成分は、前記樹脂ワニス中で溶解されず、分散されているものである。このような樹脂ワニスは、例えば、以下のようにして調製される。
[Prepreg manufacturing method]
The resin composition of the prepreg according to the second embodiment of the present invention is an epoxy compound, polyphenylene ether, and the components of the cyanate ester compound are all dissolved in the resin varnish, the component of the inorganic filler, It is not dissolved but dispersed in the resin varnish. Such a resin varnish is prepared, for example, as follows.

まずは、ポリフェニレンエーテルの樹脂溶液にエポキシ化合物及びシアン酸エステル化合物を所定量溶解させる。この溶解は室温で行われてもよく、加熱しながら行われてもよい。エポキシ化合物及びシアン酸エステル化合物としては、室温でトルエン等の溶媒に溶解する材料を用いることで、樹脂ワニス中で析出物の生成を抑制することができる。   First, a predetermined amount of an epoxy compound and a cyanate ester compound are dissolved in a resin solution of polyphenylene ether. This dissolution may be performed at room temperature or may be performed while heating. By using a material that dissolves in a solvent such as toluene at room temperature as the epoxy compound and the cyanate ester compound, the formation of precipitates in the resin varnish can be suppressed.

ここで、添加剤として無機充填材を添加する場合、充填材を添加した後にボールミル、ビーズミル、プラネタリーミキサー、ロールミル等を用いて、所定の分散状態になるまで分散させることにより、樹脂ワニスが調製される。   Here, when an inorganic filler is added as an additive, a resin varnish is prepared by adding a filler and then dispersing the mixture to a predetermined dispersion state using a ball mill, a bead mill, a planetary mixer, a roll mill, or the like. Is done.

上記のようにして得られた樹脂ワニスを、実施形態1と同様の製造方法で基材に含浸、乾燥させることでプリプレグを得ることができる。また、実施形態1と同様の製造方法でプリント配線基板(積層体)を得ることができる。   A prepreg can be obtained by impregnating and drying the base material with the resin varnish obtained as described above in the same manufacturing method as in the first embodiment. Further, a printed wiring board (laminate) can be obtained by the same manufacturing method as in the first embodiment.

このように形成されたプリプレグ中の樹脂組成物は、10GHzでの誘電率Dkが2.8以下トルエンであることが望ましく、2.6以下であることがさらに望ましい。また、10GHzでの誘電正接Dfが0.009以下であることが望ましく、0.007以下であることがさらに望ましい。   The resin composition in the prepreg thus formed preferably has a dielectric constant Dk at 10 GHz of 2.8 or less, more preferably 2.6 or less. The dielectric loss tangent Df at 10 GHz is preferably 0.009 or less, more preferably 0.007 or less.

以下に、本発明の実施形態1及び実施形態2に係るプリプレグを作製し、最低溶融粘度、誘電率(Dk)、誘電正接(Df)、及び成形性を評価した結果について具体的に説明する。以下に示す実施例1乃至実施例3は実施形態1の実施例に相当し、実施例4乃至実施例7は実施形態2の実施例に相当する。   Hereinafter, the prepregs according to Embodiments 1 and 2 of the present invention are manufactured, and the results of evaluating the minimum melt viscosity, the dielectric constant (Dk), the dielectric loss tangent (Df), and the moldability will be specifically described. Examples 1 to 3 shown below correspond to the examples of the first embodiment, and Examples 4 to 7 correspond to the examples of the second embodiment.

まず、実施例1乃至実施例3、及び比較例1に用いたポリフェニレンエーテルについて説明する。   First, the polyphenylene ether used in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 will be described.

(ポリフェニレンエーテル(1))
攪拌装置、温度計、空気導入管、じゃま板のついた12リットルの縦長反応器にCuBr 3.88g(17.4mmol)、N,N’−ジ−t−ブチルエチレンジアミン 0.75g(4.4mmol)、n−ブチルジメチルアミン 28.04g(277.6mmol)、トルエン 2600gを仕込み、反応温度40℃にて攪拌を行い、あらかじめ2300gのメタノールに溶解させた2,2’、3,3’、5,5’−ヘキサメチル−(1,1’−ビフェノール)−4,4’−ジオール 129.3g(0.48mol)、2,6−ジメチルフェノール233.7g(1.92mol)、2,3,6−トリメチルフェノール 64.9g(0.48mol)、N,N’−ジ−t−ブチルエチレンジアミン 0.51g(2.9mmol)、n−ブチルジメチルアミン 10.90g(108.0mmol)の混合溶液を、窒素と空気とを混合して酸素濃度8%に調整した混合ガスを5.2リットル/minの流速でバブリングを行いながら230分かけて滴下し、攪拌を行った。
(Polyphenylene ether (1))
3.88 g (17.4 mmol) of CuBr 2 and 0.75 g of N, N′-di-t-butylethylenediamine (4.10 g) were placed in a 12-liter vertical reactor equipped with a stirrer, a thermometer, an air introduction tube, and a baffle plate. 4 mmol), 28.04 g (277.6 mmol) of n-butyldimethylamine and 2600 g of toluene were stirred and stirred at a reaction temperature of 40 ° C., and 2,2 ′, 3,3 ′, 12,5 g (0.48 mol) of 5,5'-hexamethyl- (1,1'-biphenol) -4,4'-diol, 233.7 g (1.92 mol) of 2,6-dimethylphenol, 2,3,3 64.9 g (0.48 mol) of 6-trimethylphenol, 0.51 g (2.9 mmol) of N, N'-di-t-butylethylenediamine, n-butyldiamine A mixed solution of 10.90 g (108.0 mmol) of tylamine was dropped over 230 minutes while performing bubbling at a flow rate of 5.2 L / min with a mixed gas obtained by mixing nitrogen and air to adjust the oxygen concentration to 8%. Then, stirring was performed.

滴下終了後、エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム 19.89g(52.3mmol)を溶解した水1500gを加え、反応を停止した。水層と有機層を分液し、有機層を1Nの塩酸水溶液、次いで純水で洗浄した。得られた溶液をエバポレータで50wt%に濃縮し、2官能性フェニレンエーテルオリゴマー体(樹脂「A」)のトルエン溶液を836.5g得た。樹脂「A」の数平均分子量は986、重量平均分子量は1530、水酸基当量が471であった。   After completion of the dropwise addition, 1500 g of water in which 19.89 g (52.3 mmol) of tetrasodium ethylenediaminetetraacetate was dissolved was added to stop the reaction. The aqueous layer and the organic layer were separated, and the organic layer was washed with a 1N aqueous hydrochloric acid solution and then with pure water. The obtained solution was concentrated to 50 wt% by an evaporator to obtain 836.5 g of a toluene solution of a bifunctional phenylene ether oligomer (resin “A”). The resin “A” had a number average molecular weight of 986, a weight average molecular weight of 1,530, and a hydroxyl equivalent of 471.

攪拌装置、温度計、還流管を備えた反応器に樹脂「A」のトルエン溶液 836.5g、ビニルベンジルクロライド(商品名CMS−P;セイミケミカル(株)製) 162.6g、塩化メチレン 1600g、ベンジルジメチルアミン 12.95g、純水 420g、30.5wt% NaOH水溶液 178.0gを仕込み、反応温度40℃で攪拌を行った。24時間攪拌を行った後、有機層を1Nの塩酸水溶液、次いで純水で洗浄した。得られた溶液をエバポレータで濃縮し、メタノール中へ滴下して固形化を行い、濾過により固体を回収、真空乾燥して「ポリフェニレンエーテル(1)」503.5gを得た。「ポリフェニレンエーテル(1)」の数平均分子量は1187、重量平均分子量は1675、ビニル基当量は590g/ビニル基であった。   In a reactor equipped with a stirrer, a thermometer, and a reflux tube, 836.5 g of a toluene solution of the resin “A”, 162.6 g of vinylbenzyl chloride (trade name: CMS-P; manufactured by Seimi Chemical Co., Ltd.), 1600 g of methylene chloride, 12.95 g of benzyldimethylamine, 420 g of pure water and 178.0 g of a 30.5 wt% NaOH aqueous solution were charged, and the mixture was stirred at a reaction temperature of 40 ° C. After stirring for 24 hours, the organic layer was washed with a 1N aqueous hydrochloric acid solution and then with pure water. The obtained solution was concentrated by an evaporator, dropped into methanol for solidification, and the solid was recovered by filtration and dried in vacuo to obtain 503.5 g of “polyphenylene ether (1)”. The “polyphenylene ether (1)” had a number average molecular weight of 1187, a weight average molecular weight of 1675, and a vinyl group equivalent of 590 g / vinyl group.

(ポリフェニレンエーテル(2))
攪拌装置、温度計、空気導入管、じゃま板のついた12リットルの縦長反応器にCuBr 9.36g(42.1mmol)、N,N’−ジ−t−ブチルエチレンジアミン 1.81g(10.5mmol)、n−ブチルジメチルアミン 67.77g(671.0mmol)、トルエン 2600gを仕込み、反応温度40℃にて攪拌を行い、あらかじめ2300gのメタノールに溶解させた2,2’、3,3’、5,5’−ヘキサメチル−(1,1’−ビフェノール)−4,4’−ジオール 129.32g(0.48mol)、2,6−ジメチルフェノール 878.4g(7.2mol)、N,N’−ジ−t−ブチルエチレンジアミン 1.22g(7.2mmol)、n−ブチルジメチルアミン 26.35g(260.9mmol)の混合溶液を、窒素と空気とを混合して酸素濃度8%に調整した混合ガスを5.2リットル/minの流速でバブリングを行いながら230分かけて滴下し、攪拌を行った。
(Polyphenylene ether (2))
9.36 g (42.1 mmol) of CuBr 2 and 1.81 g of N, N′-di-t-butylethylenediamine were placed in a 12-liter vertical reactor equipped with a stirrer, a thermometer, an air introduction tube, and a baffle plate. 5 mmol), 67.77 g (671.0 mmol) of n-butyldimethylamine, and 2600 g of toluene were stirred and stirred at a reaction temperature of 40 ° C., and 2,2 ′, 3,3 ′, 12,532.g (0.48 mol) of 5,5′-hexamethyl- (1,1′-biphenol) -4,4′-diol, 878.4 g (7.2 mol) of 2,6-dimethylphenol, N, N ′ A mixed solution of 1.22 g (7.2 mmol) of di-t-butylethylenediamine and 26.35 g (260.9 mmol) of n-butyldimethylamine, A mixed gas adjusted to an oxygen concentration of 8% by mixing nitrogen and air was added dropwise over 230 minutes while bubbling at a flow rate of 5.2 l / min, followed by stirring.

滴下終了後、エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム 48.06g(126.4mmol)を溶解した水1500gを加え、反応を停止した。水層と有機層を分液し、有機層を1Nの塩酸水溶液、次いで純水で洗浄した。得られた溶液をエバポレータで50wt%に濃縮し、2官能性フェニレンエーテルオリゴマー体(樹脂「B」)のトルエン溶液を1981g得た。樹脂「B」の数平均分子量は1975、重量平均分子量は3514、水酸基当量が990であった。   After the completion of the dropwise addition, 1500 g of water in which 48.06 g (126.4 mmol) of tetrasodium ethylenediaminetetraacetate was dissolved was added to stop the reaction. The aqueous layer and the organic layer were separated, and the organic layer was washed with a 1N aqueous hydrochloric acid solution and then with pure water. The obtained solution was concentrated to 50% by weight using an evaporator to obtain 1981 g of a toluene solution of a bifunctional phenylene ether oligomer (resin “B”). The resin “B” had a number average molecular weight of 1975, a weight average molecular weight of 3,514, and a hydroxyl equivalent of 990.

攪拌装置、温度計、還流管を備えた反応器に樹脂「B」のトルエン溶液 833.4g、ビニルベンジルクロライド(商品名CMS−P;セイミケミカル(株)製) 76.7g、塩化メチレン 1600g、ベンジルジメチルアミン 6.2g、純水 199.5g、30.5wt% NaOH水溶液 83.6gを仕込み、反応温度40℃で攪拌を行った。24時間攪拌を行った後、有機層を1Nの塩酸水溶液、次いで純水で洗浄した。得られた溶液をエバポレータで濃縮し、メタノール中へ滴下して固形化を行い、濾過により固体を回収、真空乾燥して「ポリフェニレンエーテル(2)」450.1gを得た。ビニル「ポリフェニレンエーテル(2)」の数平均分子量は2250、重量平均分子量は3920、ビニル基当量は1189g/ビニル基であった。   In a reactor equipped with a stirrer, a thermometer, and a reflux tube, 833.4 g of a toluene solution of the resin "B", 76.7 g of vinylbenzyl chloride (trade name: CMS-P; manufactured by Seimi Chemical Co., Ltd.), 1600 g of methylene chloride, 6.2 g of benzyldimethylamine, 199.5 g of pure water and 83.6 g of a 30.5 wt% NaOH aqueous solution were charged, and the mixture was stirred at a reaction temperature of 40 ° C. After stirring for 24 hours, the organic layer was washed with a 1N aqueous hydrochloric acid solution and then with pure water. The obtained solution was concentrated by an evaporator, dropped into methanol for solidification, and the solid was recovered by filtration and dried in vacuo to obtain 450.1 g of “polyphenylene ether (2)”. The vinyl “polyphenylene ether (2)” had a number average molecular weight of 2,250, a weight average molecular weight of 3,920, and a vinyl group equivalent of 1,189 g / vinyl group.

次に、実施例1乃至実施例3、及び比較例1のプリプレグ及び誘電率、誘電正接の評価サンプルの製造方法について説明する。   Next, a method for manufacturing a prepreg, a dielectric constant, and a dielectric loss tangent evaluation sample of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 will be described.

[実施例1]
上記のポリフェニレンエーテル(1)を70質量部準備し、溶媒としてトルエンを100質量部加えて80℃にて30分混合、攪拌して完全に溶解した。このようにして得られたポリフェニレンエーテル溶液に対して、架橋型硬化剤として日本化成株式会社製「TAIC」を30質量部、難燃剤として臭素化有機化合物であるエチレンビス(ペンタブロモフェニル)(アルベマール日本株式会社製「SAYTEX8010(商品名)」)を20質量部、及び無機充填材として球状合成(溶融)シリカ(株式会社アドマテックス社製「SC2050(商品名)」)を14質量部、配合した。これらを溶媒であるトルエン中で混合、分散、溶解して固形分65%に希釈して樹脂組成物のワニスを得た。上記の難燃剤が、ポリフェニレンエーテル及びTAICに非反応の臭素化有機化合物であるので、樹脂組成物であるワニス中で、難燃剤はトルエンには溶解せずに分散していた。
[Example 1]
70 parts by mass of the above-mentioned polyphenylene ether (1) was prepared, 100 parts by mass of toluene was added as a solvent, mixed at 80 ° C. for 30 minutes, stirred and completely dissolved. To the polyphenylene ether solution thus obtained, 30 parts by mass of "TAIC" manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd. as a cross-linking curing agent, and brominated organic compound ethylene bis (pentabromophenyl) (albemarl) as a flame retardant 20 parts by mass of "SAYTEX8010 (trade name)" manufactured by Japan Co., Ltd. and 14 parts by mass of spherical synthetic (fused) silica ("SC2050 (trade name)" manufactured by Admatex Co., Ltd.) as an inorganic filler were compounded. . These were mixed, dispersed and dissolved in toluene as a solvent and diluted to a solid content of 65% to obtain a varnish of a resin composition. Since the above-mentioned flame retardant is a brominated organic compound which does not react with polyphenylene ether and TAIC, in the varnish which is a resin composition, the flame retardant was dispersed without being dissolved in toluene.

次に、基材であるガラスクロス(IPC No.#2116)をワニスに含浸させた後、温度170℃、5分間の条件で加熱乾燥し、溶媒を除去して樹脂含有量55質量%のプリプレグを得た。レオメータ粘度測定装置(ARES−G2、TAインスツルメンツ社製)を用いて、昇温速度2℃/minで室温から200℃までのプリプレグ中の樹脂組成物の溶融粘度を測定することによって、最低溶融粘度の評価を行った。評価の結果、プリプレグ中の樹脂組成物の最低溶融粘度は、10000Pa・sであった。また、プリプレグ中の樹脂組成物は、10GHzでの誘電率Dkが2.5であり、10GHzでの誘電正接Dfが0.005であった。なお、樹脂組成物の特性は、ガラスクロスが無い状態で、同様の熱履歴を加えたものを測定して得られた値である。   Next, a varnish was impregnated with a glass cloth (IPC No. # 2116) as a base material, and then heated and dried at 170 ° C. for 5 minutes to remove the solvent and remove the solvent to prepare a prepreg having a resin content of 55% by mass. Got. The lowest melt viscosity is measured by measuring the melt viscosity of the resin composition in the prepreg from room temperature to 200 ° C. at a heating rate of 2 ° C./min using a rheometer viscosity measuring device (ARES-G2, manufactured by TA Instruments). Was evaluated. As a result of the evaluation, the minimum melt viscosity of the resin composition in the prepreg was 10,000 Pa · s. The resin composition in the prepreg had a dielectric constant Dk at 10 GHz of 2.5 and a dielectric loss tangent Df at 10 GHz of 0.005. In addition, the characteristic of the resin composition is a value obtained by measuring a resin composition to which a similar heat history was added without a glass cloth.

このようにして得られたプリプレグを8枚重ね、その両面に35μmの銅箔(三井金属工業株式会社製「3EC−III」)を配置し、圧力30kg/cm、温度210℃で150分間の真空プレスを行い、0.8mmのプリント配線基板用の両面銅張積層板を得た。 Eight prepregs thus obtained are stacked, and 35 μm copper foil (“3EC-III” manufactured by Mitsui Kinzoku Kogyo Co., Ltd.) is placed on both sides thereof, at a pressure of 30 kg / cm 2 and a temperature of 210 ° C. for 150 minutes. Vacuum pressing was performed to obtain a 0.8 mm double-sided copper-clad laminate for a printed wiring board.

この両面銅張積層板の銅箔を除去した試験片を使用し、空洞共振器摂動法による測定装置(アジレントテクノロジー株式会社製「Agilent 8722ES」)を用いて、10GHzの誘電率Dk、誘電正接Dfを測定した。この結果、銅張積層板は、10GHzでの誘電率Dkが3.4であり、10GHzでの誘電正接Dfが0.005であった。   Using a test piece from which the copper foil of the double-sided copper-clad laminate was removed, a dielectric constant Dk of 10 GHz and a dielectric loss tangent Df of 10 GHz were measured using a measuring device by a cavity resonator perturbation method (“Agilent 8722ES” manufactured by Agilent Technologies, Inc.). Was measured. As a result, the dielectric constant Dk at 10 GHz of the copper-clad laminate was 3.4, and the dielectric loss tangent Df at 10 GHz was 0.005.

上記のように得られた両面銅張積層板をコア材として、20mm×20mmの銅抜け部(残銅率:70%)のあるパターンを作製し、内層処理を施したものを準備した。そのコア材の両面に上記のプリプレグ及び銅箔を積層し、圧力30kg/cm、温度210℃で150分間の条件で加熱加圧成形を施した。 Using the double-sided copper-clad laminate obtained as described above as a core material, a pattern having a copper hole of 20 mm × 20 mm (residual copper ratio: 70%) was prepared and subjected to an inner layer treatment. The prepreg and the copper foil were laminated on both surfaces of the core material, and were subjected to heat and pressure molding at a pressure of 30 kg / cm 2 and a temperature of 210 ° C. for 150 minutes.

成形性の評価のため、4層基板(銅配線が4層)の外層側銅箔を全面エッチングした。銅抜け部にプリプレグ中の樹脂が完全に充填しているか、充填不十分(ボイドが確認できる場合を含む)であるかによって成形性を判定した。この判定は、樹脂の透過性を利用して目視によって行う。その成形性の判定の結果、銅抜け部にはプリプレグ中の樹脂が完全に充填され、良好な成形性を有していた。   In order to evaluate the moldability, the outer copper foil of the four-layer substrate (four copper wiring layers) was etched over the entire surface. The moldability was determined based on whether the copper missing portion was completely filled with the resin in the prepreg or insufficiently filled (including the case where voids could be confirmed). This determination is made visually using the permeability of the resin. As a result of the determination of the moldability, the resin in the prepreg was completely filled in the copper-leaved portion, and had good moldability.

[実施例2]
実施例2では、実施例1で用いたポリフェニレンエーテル(1)に代えて、ポリフェニレンエーテル(2)を用いてワニスを作製した。実施例2のワニスの作製方法は実施例1と同様の方法で行った。実施例2では、加熱乾燥の条件を、温度170℃、7分間とした。そして、実施例1と同様の評価を行った。
[Example 2]
In Example 2, a varnish was produced using polyphenylene ether (2) instead of polyphenylene ether (1) used in Example 1. The varnish of Example 2 was manufactured in the same manner as in Example 1. In Example 2, the heating and drying conditions were set at a temperature of 170 ° C. for 7 minutes. Then, the same evaluation as in Example 1 was performed.

実施例2では、最低溶融粘度の評価の結果、プリプレグ中の樹脂組成物の最低溶融粘度は、30000Pa・sであった。また、プリプレグ中の樹脂組成物は、10GHzでの誘電率Dkが2.5であり、10GHzでの誘電正接Dfが0.005であった。銅張積層板は、10GHzでの誘電率Dkが3.4であり、10GHzでの誘電正接Dfが0.005であった。成形性の判定の結果は、銅抜け部にはプリプレグ中の樹脂が完全に充填され、良好な成形性を有していた。   In Example 2, as a result of evaluation of the minimum melt viscosity, the minimum melt viscosity of the resin composition in the prepreg was 30,000 Pa · s. The resin composition in the prepreg had a dielectric constant Dk at 10 GHz of 2.5 and a dielectric loss tangent Df at 10 GHz of 0.005. The copper-clad laminate had a dielectric constant Dk at 10 GHz of 3.4 and a dielectric loss tangent Df at 10 GHz of 0.005. As a result of the determination of the moldability, it was found that the resin in the prepreg was completely filled in the copper-leached portion, and the moldability was good.

[実施例3]
実施例3では、実施例1で用いたポリフェニレンエーテル(1)を用いてワニスを作製した。実施例3のワニスの作製方法は実施例1と同様の方法で行った。実施例3では、加熱乾燥の条件を、温度170℃、9分間とした。そして、実施例1と同様の評価を行った。
[Example 3]
In Example 3, a varnish was produced using the polyphenylene ether (1) used in Example 1. The varnish of Example 3 was manufactured in the same manner as in Example 1. In Example 3, the heating and drying conditions were a temperature of 170 ° C. and 9 minutes. Then, the same evaluation as in Example 1 was performed.

実施例3では、最低溶融粘度の評価の結果、プリプレグ中の樹脂組成物の最低溶融粘度は、50000Pa・sであった。また、プリプレグ中の樹脂組成物は、10GHzでの誘電率Dkが2.5であり、10GHzでの誘電正接Dfが0.005であった。銅張積層板は、10GHzでの誘電率Dkが3.4であり、10GHzでの誘電正接Dfが0.005であった。成形性の判定の結果は、銅抜け部にはプリプレグ中の樹脂が完全に充填され、良好な成形性を有していた。   In Example 3, as a result of evaluation of the minimum melt viscosity, the minimum melt viscosity of the resin composition in the prepreg was 50,000 Pa · s. The resin composition in the prepreg had a dielectric constant Dk at 10 GHz of 2.5 and a dielectric loss tangent Df at 10 GHz of 0.005. The copper-clad laminate had a dielectric constant Dk at 10 GHz of 3.4 and a dielectric loss tangent Df at 10 GHz of 0.005. As a result of the determination of the moldability, it was found that the resin in the prepreg was completely filled in the copper-leached portion, and the moldability was good.

[比較例1]
上記の実施例1乃至実施例3の比較例である比較例1では、実施例1で用いたポリフェニレンエーテル(1)を用いてワニスを作製した。比較例1のワニスの作製方法は実施例1と同様の方法で行った。比較例1では、加熱乾燥の条件を、温度170℃、10分間とした。そして、実施例1と同様の評価を行った。
[Comparative Example 1]
In Comparative Example 1, which is a comparative example of Examples 1 to 3, a varnish was produced using the polyphenylene ether (1) used in Example 1. The varnish of Comparative Example 1 was manufactured in the same manner as in Example 1. In Comparative Example 1, the heating and drying conditions were 170 ° C. for 10 minutes. Then, the same evaluation as in Example 1 was performed.

比較例1では、最低溶融粘度の評価の結果、プリプレグ中の樹脂組成物の最低溶融粘度は、60000Pa・sであった。また、プリプレグ中の樹脂組成物は、10GHzでの誘電率Dkが2.5であり、10GHzでの誘電正接Dfが0.005であった。銅張積層板は、10GHzでの誘電率Dkが3.4であり、10GHzでの誘電正接Dfが0.006であった。成形性の判定の結果は、銅抜け部へのプリプレグ中の樹脂の充填が不十分であり、良好な成形性を示さなかった。   In Comparative Example 1, as a result of the evaluation of the minimum melt viscosity, the minimum melt viscosity of the resin composition in the prepreg was 60000 Pa · s. The resin composition in the prepreg had a dielectric constant Dk at 10 GHz of 2.5 and a dielectric loss tangent Df at 10 GHz of 0.005. The copper-clad laminate had a dielectric constant Dk at 10 GHz of 3.4 and a dielectric loss tangent Df at 10 GHz of 0.006. As a result of the determination of the moldability, the filling of the resin in the prepreg into the copper bleeding portion was insufficient, and good moldability was not shown.

表1に実施例1乃至実施例3、比較例1の構成及び評価結果を示す。   Table 1 shows the configurations and evaluation results of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1.

表1に示すように、最低溶融粘度が高い比較例1に比べて、最低溶融粘度が50000Pa・s以下の実施例1乃至実施例3では、良好な成形性が得られた。   As shown in Table 1, in Examples 1 to 3 in which the minimum melt viscosity was 50,000 Pa · s or less as compared with Comparative Example 1 in which the minimum melt viscosity was high, good moldability was obtained.

続いて、実施例4乃至実施例7、及び比較例2に用いたポリフェニレンエーテル、及びエポキシ化合物について説明する。   Subsequently, the polyphenylene ether and the epoxy compound used in Examples 4 to 7 and Comparative Example 2 will be described.

(ポリフェニレンエーテル(3))
「ポリフェニレンエーテル(3)」として、ポリフェニレンエーテルの末端が水酸基であるポリフェニレンエーテル(SABICイノベーティブプラスチックス社製のSA90)を用いた。「ポリフェニレンエーテル(3)」の数平均分子量は1700である。
(Polyphenylene ether (3))
As the “polyphenylene ether (3)”, a polyphenylene ether having a hydroxyl group at the end of the polyphenylene ether (SA90 manufactured by SABIC Innovative Plastics) was used. The number average molecular weight of “polyphenylene ether (3)” is 1,700.

(エポキシ化合物(1))
エポキシ化合物としては、ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物(DIC株式会社製「エピクロンHP7200(商品名)」)を用いた。エピクロンHP7200の数平均分子量は550である。
(Epoxy compound (1))
As the epoxy compound, a dicyclopentadiene type epoxy compound (“Epiclon HP7200 (trade name)” manufactured by DIC Corporation) was used. Epicron HP7200 has a number average molecular weight of 550.

(エポキシ化合物(2))
エポキシ化合物としては、ナフタレン骨格変性エポキシ樹脂(DIC株式会社製「エピクロンHP4032D(商品名)」)を用いた。エピクロンHP4032Dの数平均分子量は280である。
(Epoxy compound (2))
As the epoxy compound, a naphthalene skeleton-modified epoxy resin ("Epiclon HP4032D (trade name)" manufactured by DIC Corporation) was used. Epicron HP4032D has a number average molecular weight of 280.

次に、実施例4乃至実施例7、及び比較例2のプリプレグ及び誘電率、誘電正接の評価サンプルの製造方法について説明する。   Next, a description will be given of a method of manufacturing a prepreg, a dielectric constant, and a dielectric loss tangent evaluation sample of Examples 4 to 7 and Comparative Example 2.

[実施例4]
上記のポリフェニレンエーテル(3)を30質量部準備し、溶媒としてトルエンを加えて、混合、攪拌して完全に溶解した。このようにして得られたポリフェニレンエーテル溶液に対して、上記のエポキシ化合物(1)を45質量部、及びシアン酸エステル化合物として、2,2−ビス(4−シアナートフェニル)プロパン(三菱ガス化学株式会社製「CA210(商品名)」)を25質量部添加させた後、30分間撹拌して完全に溶解させた。さらに、難燃剤として上記の「SAYTEX8010」を25質量部、及び無機充填材として上記の「SC2050」を24質量部、添加して、これらを溶媒であるトルエン中で混合、分散、溶解して固形分65%に希釈して樹脂組成物のワニスを得た。なお、上記の難燃剤は溶解せず、樹脂ワニス中で1μm以上10μm以下の平均粒子径で分散していた。
[Example 4]
30 parts by mass of the above polyphenylene ether (3) was prepared, toluene was added as a solvent, and the mixture was stirred and completely dissolved. To the polyphenylene ether solution thus obtained, 45 parts by mass of the epoxy compound (1) and 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) as a cyanate ester compound were used. After adding 25 parts by mass of “CA210 (trade name)” manufactured by Co., Ltd., the mixture was stirred for 30 minutes to completely dissolve. Further, 25 parts by weight of the above-mentioned "SAYTEX8010" as a flame retardant and 24 parts by weight of the above-mentioned "SC2050" as an inorganic filler are added, and these are mixed, dispersed, and dissolved in toluene as a solvent to obtain a solid. The resulting mixture was diluted to 65% to obtain a varnish of the resin composition. The flame retardant did not dissolve, but was dispersed in the resin varnish with an average particle diameter of 1 μm or more and 10 μm or less.

次に、基材であるガラスクロス(IPC No.#2116)をワニスに含浸させた後、温度170℃、5分間の条件で加熱乾燥し、溶媒を除去して樹脂含有量55質量%のプリプレグを得た。最低溶融粘度の評価の結果、プリプレグ中の樹脂組成物の最低溶融粘度は、10000Pa・sであった。また、プリプレグ中の樹脂組成物は、10GHzでの誘電率Dkが2.6であり、10GHzでの誘電正接Dfが0.007であった。銅張積層板は、10GHzでの誘電率Dkが3.6であり、10GHzでの誘電正接Dfが0.005であった。成形性の判定の結果は、銅抜け部にはプリプレグ中の樹脂が完全に充填され、良好な成形性を有していた。なお、それぞれの評価は、実施例1と同様である。   Next, a varnish was impregnated with a glass cloth (IPC No. # 2116) as a base material, and then heated and dried at 170 ° C. for 5 minutes to remove the solvent and remove the solvent to prepare a prepreg having a resin content of 55% by mass. Got. As a result of evaluation of the minimum melt viscosity, the minimum melt viscosity of the resin composition in the prepreg was 10,000 Pa · s. The resin composition in the prepreg had a dielectric constant Dk at 10 GHz of 2.6 and a dielectric loss tangent Df at 10 GHz of 0.007. The copper-clad laminate had a dielectric constant Dk at 10 GHz of 3.6 and a dielectric loss tangent Df at 10 GHz of 0.005. As a result of the determination of the moldability, it was found that the resin in the prepreg was completely filled in the copper-leached portion, and the moldability was good. In addition, each evaluation is the same as that of Example 1.

[実施例5]
実施例5では、実施例4で用いたエポキシ化合物(1)に代えて、エポキシ化合物(2)を用いてワニスを作製した。実施例5のワニスの作製方法は実施例4と同様の方法で行った。実施例5では、加熱乾燥の条件を、温度170℃、9分間とした。そして、実施例1と同様の評価を行った。
[Example 5]
In Example 5, a varnish was produced using the epoxy compound (2) in place of the epoxy compound (1) used in Example 4. The varnish of Example 5 was manufactured in the same manner as in Example 4. In Example 5, the heating and drying conditions were a temperature of 170 ° C. and 9 minutes. Then, the same evaluation as in Example 1 was performed.

実施例5では、最低溶融粘度の評価の結果、プリプレグ中の樹脂組成物の最低溶融粘度は、50000Pa・sであった。また、プリプレグ中の樹脂組成物は、10GHzでの誘電率Dkが2.6であり、10GHzでの誘電正接Dfが0.007であった。銅張積層板は、10GHzでの誘電率Dkが3.6であり、10GHzでの誘電正接Dfが0.005であった。成形性の判定の結果は、銅抜け部にはプリプレグ中の樹脂が完全に充填され、良好な成形性を有していた。   In Example 5, as a result of evaluation of the minimum melt viscosity, the minimum melt viscosity of the resin composition in the prepreg was 50,000 Pa · s. The resin composition in the prepreg had a dielectric constant Dk at 10 GHz of 2.6 and a dielectric loss tangent Df at 10 GHz of 0.007. The copper-clad laminate had a dielectric constant Dk at 10 GHz of 3.6 and a dielectric loss tangent Df at 10 GHz of 0.005. As a result of the determination of the moldability, it was found that the resin in the prepreg was completely filled in the copper-leached portion, and the moldability was good.

[実施例6]
実施例6では、実施例4と比較して、ポリフェニレンエーテル(3)が少なく(20質量部)、エポキシ化合物(1)が多い(55質量部)含有比率でワニスを作製した。実施例6のワニスの配合方法以外の作製方法は実施例4と同様の方法で行った。実施例6では、加熱乾燥の条件を、温度170℃、5分間とした。そして、実施例1と同様の評価を行った。
[Example 6]
In Example 6, compared with Example 4, a varnish was produced with a content ratio of polyphenylene ether (3) being small (20 parts by mass) and epoxy compound (1) being large (55 parts by mass). Except for the method of compounding the varnish of Example 6, the production method was the same as that of Example 4. In Example 6, the heating and drying conditions were 170 ° C. for 5 minutes. Then, the same evaluation as in Example 1 was performed.

実施例6では、最低溶融粘度の評価の結果、プリプレグ中の樹脂組成物の最低溶融粘度は、10000Pa・sであった。また、プリプレグ中の樹脂組成物は、10GHzでの誘電率Dkが2.6であり、10GHzでの誘電正接Dfが0.007であった。銅張積層板は、10GHzでの誘電率Dkが3.6であり、10GHzでの誘電正接Dfが0.004であった。成形性の判定の結果は、銅抜け部にはプリプレグ中の樹脂が完全に充填され、良好な成形性を有していた。   In Example 6, as a result of evaluation of the minimum melt viscosity, the minimum melt viscosity of the resin composition in the prepreg was 10,000 Pa · s. The resin composition in the prepreg had a dielectric constant Dk at 10 GHz of 2.6 and a dielectric loss tangent Df at 10 GHz of 0.007. The copper-clad laminate had a dielectric constant Dk at 10 GHz of 3.6 and a dielectric loss tangent Df at 10 GHz of 0.004. As a result of the determination of the moldability, it was found that the resin in the prepreg was completely filled in the copper-leached portion, and the moldability was good.

[実施例7]
実施例7では、実施例5と比較して、ポリフェニレンエーテル(3)が少なく(20質量部)、エポキシ化合物(2)が多い(55質量部)含有比率でワニスを作製した。実施例7のワニスの配合方法以外の作製方法は実施例5と同様の方法で行った。実施例7では、加熱乾燥の条件を、温度170℃、9分間とした。そして、実施例1と同様の評価を行った。
[Example 7]
In Example 7, compared to Example 5, a varnish was produced with a content ratio of polyphenylene ether (3) being small (20 parts by mass) and epoxy compound (2) being large (55 parts by mass). Except for the method of compounding the varnish of Example 7, the production method was the same as that of Example 5. In Example 7, the heating and drying conditions were 170 ° C. for 9 minutes. Then, the same evaluation as in Example 1 was performed.

実施例7では、最低溶融粘度の評価の結果、プリプレグ中の樹脂組成物の最低溶融粘度は、50000Pa・sであった。また、プリプレグ中の樹脂組成物は、10GHzでの誘電率Dkが2.6であり、10GHzでの誘電正接Dfが0.007であった。銅張積層板は、10GHzでの誘電率Dkが3.6であり、10GHzでの誘電正接Dfが0.005であった。成形性の判定の結果は、銅抜け部にはプリプレグ中の樹脂が完全に充填され、良好な成形性を有していた。   In Example 7, as a result of evaluation of the minimum melt viscosity, the minimum melt viscosity of the resin composition in the prepreg was 50,000 Pa · s. The resin composition in the prepreg had a dielectric constant Dk at 10 GHz of 2.6 and a dielectric loss tangent Df at 10 GHz of 0.007. The copper-clad laminate had a dielectric constant Dk at 10 GHz of 3.6 and a dielectric loss tangent Df at 10 GHz of 0.005. As a result of the determination of the moldability, it was found that the resin in the prepreg was completely filled in the copper-leached portion, and the moldability was good.

[比較例2]
上記の実施例4乃至実施例7の比較例である比較例2では、実施例4で用いたポリフェニレンエーテル(3)を用いてワニスを作製した。比較例2のワニスの作製方法は実施例1と同様の方法で行った。比較例2では、加熱乾燥の条件を、温度170℃、10分間とした。そして、実施例1と同様の評価を行った。
[Comparative Example 2]
In Comparative Example 2, which is a comparative example of Examples 4 to 7, a varnish was produced using the polyphenylene ether (3) used in Example 4. The method for producing the varnish of Comparative Example 2 was the same as that of Example 1. In Comparative Example 2, the heating and drying conditions were set at a temperature of 170 ° C. for 10 minutes. Then, the same evaluation as in Example 1 was performed.

比較例2では、最低溶融粘度の評価の結果、プリプレグ中の樹脂組成物の最低溶融粘度は、60000Pa・sであった。また、プリプレグ中の樹脂組成物は、10GHzでの誘電率Dkが2.6であり、10GHzでの誘電正接Dfが0.007であった。銅張積層板は、10GHzでの誘電率Dkが3.6であり、10GHzでの誘電正接Dfが0.008であった。成形性の判定の結果は、銅抜け部へのプリプレグ中の樹脂の充填が不十分であり、良好な成形性を示さなかった。   In Comparative Example 2, as a result of the evaluation of the minimum melt viscosity, the minimum melt viscosity of the resin composition in the prepreg was 60000 Pa · s. The resin composition in the prepreg had a dielectric constant Dk at 10 GHz of 2.6 and a dielectric loss tangent Df at 10 GHz of 0.007. The copper-clad laminate had a dielectric constant Dk at 10 GHz of 3.6 and a dielectric loss tangent Df at 10 GHz of 0.008. As a result of the determination of the moldability, the filling of the resin in the prepreg into the copper bleeding portion was insufficient, and good moldability was not shown.

表2に実施例4乃至実施例7、比較例2の構成及び評価結果を示す。   Table 2 shows configurations and evaluation results of Examples 4 to 7 and Comparative Example 2.

表2に示すように、最低溶融粘度が高い比較例2に比べて、最低溶融粘度が50000Pa・s以下の実施例4乃至実施例7では、良好な成形性が得られた。   As shown in Table 2, better moldability was obtained in Examples 4 to 7 in which the minimum melt viscosity was 50,000 Pa · s or less as compared with Comparative Example 2 in which the minimum melt viscosity was high.

以上のように、本発明の実施例1乃至実施例7に係るプリプレグによると、最低溶融粘度が50000Pa・s以下であり、良好な成形性を実現することができる。   As described above, according to the prepregs according to Examples 1 to 7 of the present invention, the minimum melt viscosity is 50,000 Pa · s or less, and good moldability can be realized.

なお、本発明は上記の実施形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。   The present invention is not limited to the above embodiment, and can be appropriately changed without departing from the gist.

Claims (5)

数平均分子量が1000以下で、一分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するハロゲン原子を含有しない、ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物又はナフタレン骨格変性エポキシ樹脂から選択されるエポキシ化合物、
数平均分子量5000以下であり、末端が水酸基であるポリフェニレンエーテル、
シアネートエステル化合物として2,2-ビス(4-シアナートフェニル)プロパン及び
ハロゲン系難燃剤を含有する樹脂ワニスを有する熱硬化性樹脂組成物を含み、
最低溶融粘度が50,000Pa・s以下であり、且つ
10GHzでの誘電率Dkが2.8以下であり、10GHzでの誘電正接Dfが0.007以下であることを特徴とするプリプレグ。
An epoxy compound having a number average molecular weight of 1,000 or less and containing no halogen atom having at least two epoxy groups in one molecule, selected from dicyclopentadiene-type epoxy compounds or naphthalene skeleton-modified epoxy resins ,
A polyphenylene ether having a number average molecular weight of 5,000 or less and having a terminal hydroxyl group ;
2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane as a cyanate ester compound, and
Including a thermosetting resin composition having a resin varnish containing a halogen-based flame retardant,
Minimum melt viscosity is Ri der following 50,000Pa · s, and
Dielectric constant Dk at 10GHz is 2.8 or less, a prepreg dielectric loss tangent Df at 10GHz is characterized der Rukoto 0.007.
前記樹脂ワニスが、前記エポキシ化合物及び前記ポリフェニレンエーテルと硬化剤である前記シアネートエステル化合物との反応を促進させる硬化触媒をさらに含有することを特徴とする請求項1に記載のプリプレグ。The prepreg according to claim 1, wherein the resin varnish further contains a curing catalyst that promotes a reaction between the epoxy compound and the polyphenylene ether and the cyanate ester compound as a curing agent. 前記熱硬化性樹脂組成物に分散させた、シリカを含むフィラーをさらに含むことを特徴とする請求項1又は2に記載のプリプレグ。 The prepreg according to claim 1 or 2 , further comprising a filler containing silica dispersed in the thermosetting resin composition. 前記ポリフェニレンエーテルの数平均分子量が3000以下であることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一に記載のプリプレグ。 The prepreg according to any one of claims 1 to 3, wherein the polyphenylene ether has a number average molecular weight of 3000 or less. 前記プリプレグを8枚重ね、その両面に35μmの銅箔を配置し、圧力30kg/cmEight sheets of the prepreg are stacked, copper foil of 35 μm is arranged on both sides thereof, and the pressure is 30 kg / cm. 2Two 、温度210℃で150分間の真空プレスを行い、0.8mmのプリント配線基板用の両面銅張積層板を作製して評価した、10GHzでの誘電率Dkが3.6以下であり、10GHzでの誘電正接Dfが0.005以下あることを特徴とする請求項1乃至4の何れか一に記載のプリプレグ。Vacuum pressing was performed at a temperature of 210 ° C. for 150 minutes to produce and evaluate a 0.8 mm double-sided copper-clad laminate for a printed wiring board. The dielectric constant Dk at 10 GHz was 3.6 or less, and the dielectric constant Dk was 10 GHz or less. 5. The prepreg according to claim 1, wherein the dielectric tangent Df of the prepreg is 0.005 or less.
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