KR20230164008A - Powder and method for producing the same, and method for producing the resin composition - Google Patents

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KR20230164008A
KR20230164008A KR1020237028419A KR20237028419A KR20230164008A KR 20230164008 A KR20230164008 A KR 20230164008A KR 1020237028419 A KR1020237028419 A KR 1020237028419A KR 20237028419 A KR20237028419 A KR 20237028419A KR 20230164008 A KR20230164008 A KR 20230164008A
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마사노부 다니구치
히로타다 아라카네
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니끼 쇼꾸바이 카세이 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은, 무공질의 외각의 내부에 공동을 갖는 중공 입자를 포함한 분체에 관한 것이다. 분체의 평균 입자경(D50)은 1.0 내지 10.0㎛이고, 입자경 1.0㎛ 미만의 미소 입자의 함유량이 10체적% 이하이고, 입자경 8.0㎛를 초과하는 조대 입자의 함유량이 20체적% 이하이다. 분체를 물에 현탁시켰을 때, 부유 입자가 0.5 내지 15.0질량%, 현탁 입자가 0 내지 4.0질량%, 침강 입자가 81.0 내지 99.5질량%이다.The present invention relates to a powder containing hollow particles having cavities inside a non-porous outer shell. The average particle diameter (D50) of the powder is 1.0 to 10.0 μm, the content of fine particles with a particle size of less than 1.0 μm is 10% by volume or less, and the content of coarse particles with a particle size of more than 8.0 μm is 20% by volume or less. When the powder is suspended in water, the floating particles are 0.5 to 15.0 mass%, the suspended particles are 0 to 4.0 mass%, and the settled particles are 81.0 to 99.5 mass%.

Description

분체 및 그 제조 방법, 그리고 수지 조성물의 제조 방법Powder and method for producing the same, and method for producing the resin composition

본 발명은, 반도체의 절연 재료의 필러로서 적합한 분체에 관한 것이다. 특히, 무공질의 외각의 내부에 공동을 갖는 중공 입자를 포함하는 분체에 관한 것이다.The present invention relates to powder suitable as a filler for insulating materials of semiconductors. In particular, it relates to a powder containing hollow particles having cavities inside a non-porous outer shell.

근년, 정보 통신에 있어서 고속·대용량화가 진행되고 있다. 그 때문에, 통신 기기에 사용되는 자재에는, 낮은 유전율(저Dk) 및 낮은 유전 정접(저Df)이 요구되고 있다. 예를 들어, 반도체 소자가 실장되는 프린트 배선판에는, 낮은 유전율 및 낮은 유전 정접을 갖는 절연 재료가 요구되고 있다. 절연 재료의 유전율이 높으면 유전 손실이 발생하고, 또한 절연 재료의 유전 정접이 높으면, 유전 손실뿐만 아니라, 발열량이 증대될 우려가 있다.In recent years, high speed and large capacity have been progressing in information communication. Therefore, materials used in communication devices are required to have a low dielectric constant (low Dk) and a low dielectric loss tangent (low Df). For example, printed wiring boards on which semiconductor elements are mounted require insulating materials with a low dielectric constant and low dielectric loss tangent. If the dielectric constant of the insulating material is high, dielectric loss may occur, and if the dielectric loss tangent of the insulating material is high, not only the dielectric loss but also the amount of heat generated may increase.

절연 재료의 저유전율화 및 저유전 정접화를 실현하기 위해, 절연 재료의 주체인 수지 재료의 개발이 행해지고 있다. 이러한 수지 재료로서, 에폭시계 수지, 폴리페닐렌에테르계 수지, 불소계 수지 등이 제안되어 있다(예를 들어, 특허문헌 1 내지 5를 참조).In order to realize low dielectric constant and low dielectric loss tangent of insulating materials, the development of resin materials, which are the main components of insulating materials, is being carried out. As such resin materials, epoxy resins, polyphenylene ether resins, fluorine resins, etc. have been proposed (for example, refer to Patent Documents 1 to 5).

이러한 수지 재료에는, 내구성(강성)이나 내열성 등의 점에서, 필러가 배합된다. 필러로서, 실리카, 질화붕소, 탈크, 카올린, 클레이, 마이카, 알루미나, 지르코니아, 티타니아 등의 금속 산화물을 사용하는 것이 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 3 참조).Fillers are blended into these resin materials for durability (rigidity), heat resistance, etc. As fillers, it is known to use metal oxides such as silica, boron nitride, talc, kaolin, clay, mica, alumina, zirconia, and titania (for example, see Patent Document 3).

WO2009/041137호WO2009/041137 일본 특허 공표 제2006-516297호 공보Japanese Patent Publication No. 2006-516297 일본 특허 공개 제2017-057352호 공보Japanese Patent Publication No. 2017-057352 일본 특허 공개 제2001-288227호 공보Japanese Patent Publication No. 2001-288227 일본 특허 공개 제2019-172962호 공보Japanese Patent Publication No. 2019-172962

필러로서 사용되는 재료 중, 실리카는, 저유전율 및 저유전 정접의 점에서 우수하다. 그러나, 데이터 통신의 대용량화 및 고속 처리화가 급속하게 진행되고 있기 때문에, 더한층의 저유전율화 및 저유전 정접화가 요구되고 있다. 또한, 필러에는, 절연 재료의 제조 프로세스에서의 절연 재료 형성용 액의 여과성 및 주입성을 방해하지 않는 것도 요구되고 있다.Among materials used as fillers, silica is excellent in terms of low dielectric constant and low dielectric loss tangent. However, as data communication capacity and high-speed processing are rapidly progressing, further low dielectric constant and low dielectric loss tangent are required. In addition, the filler is also required not to interfere with the filterability and injectability of the liquid for forming the insulating material in the insulating material manufacturing process.

본 발명자들은, 미소 입자 및 조대 입자를 포함하지 않는 소정 조건을 충족시키는 중공 입자가, 절연 재료의 저유전율화 및 저유전 정접화를 실현할 수 있고, 또한 그 제조 프로세스에서의 절연 재료 형성용 액의 여과성 및 주입성을 방해하지 않는 것을 찾아냈다.The present inventors have found that hollow particles that satisfy predetermined conditions including no fine particles and coarse particles can realize low dielectric constant and low dielectric loss tangent of the insulating material, and that the liquid for forming the insulating material in the manufacturing process can be used. We found one that did not interfere with filterability and injectability.

즉, 본 발명에 의한 분체는, 무공질의 외각의 내부에 공동을 갖는 중공 입자를 포함하고 있고, 평균 입자경(D50)이 1.0 내지 10.0㎛, 입자경 1.0㎛ 미만인 미소 입자의 함유량이 10체적% 이하이고, 입자경 8.0㎛를 초과하는 조대 입자의 함유량이 20체적% 이하이다. 이 분체를 물에 현탁시켰을 때, 부유 입자가 0.5 내지 15.0질량%, 현탁 입자가 0 내지 4.0질량%, 침강 입자가 81.0 내지 99.5질량%이다.That is, the powder according to the present invention contains hollow particles with cavities inside the non-porous outer shell, has an average particle diameter (D50) of 1.0 to 10.0 μm, and has a content of fine particles with a particle diameter of less than 1.0 μm of 10% by volume or less. , the content of coarse particles exceeding 8.0 μm in particle diameter is 20% by volume or less. When this powder is suspended in water, the floating particles are 0.5 to 15.0 mass%, the suspended particles are 0 to 4.0 mass%, and the settled particles are 81.0 to 99.5 mass%.

또한, 본 발명에 의한 분체의 제조 방법은, 규산 알칼리 수용액을 열풍 기류 중에서 분무 건조시켜 입자를 조제하는 제1 공정과, 입자에 포함되는 알칼리를 제거하는 제2 공정과, 알칼리 제거된 입자를 소성하는 제3 공정을 갖고, 제1 공정과 제3 공정 사이에, 입자경 1.0㎛ 미만의 미소 입자 및 입자경 8.0㎛를 초과하는 조대 입자를 제거하는 분급 공정이 마련되어 있다.In addition, the method for producing powder according to the present invention includes a first step of preparing particles by spray-drying an aqueous silicate alkali solution in a hot air stream, a second step of removing alkali contained in the particles, and calcining the particles from which the alkali has been removed. There is a third process, and between the first process and the third process, a classification process is provided to remove fine particles with a particle size of less than 1.0 μm and coarse particles with a particle size of more than 8.0 μm.

본 발명의 분체는, 절연 재료의 저유전율화 및 저유전 정접화를 가능하게 하고, 나아가서는, 반도체의 전송 속도의 고속화나 전송 손실의 저감을 도모할 수 있다. 또한, 반도체의 제조 프로세스에 있어서의 절연 재료 형성용 액의 여과성 및 주입성을 방해하지 않는 것이고, 우수한 절연 재료를 안정적으로 제조할 수 있다.The powder of the present invention enables low dielectric constant and low dielectric loss tangent of insulating materials, and can further improve the transmission speed of semiconductors and reduce transmission loss. In addition, it does not interfere with the filterability and injectability of the liquid for forming the insulating material in the semiconductor manufacturing process, and an excellent insulating material can be stably manufactured.

본 발명의 분체는, 무공질의 외각의 내부에 공동을 갖는 중공 입자를 포함하고 있고, 평균 입자경이 1.0 내지 10.0㎛이다. 또한, 입자경 1.0㎛ 미만의 입자(이하, 미소 입자)의 함유량이 10체적% 이하이고, 입자경 8.0㎛를 초과하는 입자(이하, 조대 입자)의 함유량이 20체적% 이하이다. 이 분체를 물에 현탁시켰을 때, 부유 입자가 0.5 내지 15.0질량%, 현탁 입자가 0 내지 4.0질량%, 침강 입자가 81.0 내지 99.5질량%이다. 본 발명의 분체에는, 중공 입자 외에 소량의 중실 입자도 포함되어 있을 가능성이 있다. 중공 입자의 제조 시에, 예기치 않게 중실 입자도 제작될 가능성이 있기 때문이다. 내부에 공동이 없는 중실 입자는, 비중이 크므로, 기본적으로 침강 입자 중에 잠재되어 있다고 생각된다. 분체에 포함되는 입자의 90질량% 이상이 중공 입자인 것이 바람직하다.The powder of the present invention contains hollow particles with cavities inside a non-porous outer shell, and has an average particle diameter of 1.0 to 10.0 μm. Additionally, the content of particles with a particle diameter of less than 1.0 μm (hereinafter referred to as fine particles) is 10 volume% or less, and the content of particles with a particle diameter exceeding 8.0 μm (hereinafter referred to as coarse particles) is 20 volume% or less. When this powder is suspended in water, the floating particles are 0.5 to 15.0 mass%, the suspended particles are 0 to 4.0 mass%, and the settled particles are 81.0 to 99.5 mass%. The powder of the present invention may contain a small amount of solid particles in addition to hollow particles. This is because, when producing hollow particles, there is a possibility that solid particles may also be produced unexpectedly. Solid particles without cavities inside have a large specific gravity, so they are basically considered to be latent among the sedimented particles. It is preferable that 90% by mass or more of the particles contained in the powder are hollow particles.

여기서, 물에 현탁시켰을 때 수중에 분산되는 입자를 현탁 입자라고 하고, 상층(수면 부근)에 부유하여 존재하는 비중이 가벼운 입자를 부유 입자라고 했다. 이러한 부유 입자는 통상적으로는 공극률이 높다. 따라서, 수지 재료에 배합되는 부유 입자가 증가하면, 수지 제품의 유전율 및 유전 정접이 저하된다.Here, particles dispersed in water when suspended in water were called suspended particles, and particles with a light specific gravity floating in the upper layer (near the water surface) were called suspended particles. These suspended particles typically have a high porosity. Therefore, as the number of suspended particles mixed in the resin material increases, the dielectric constant and dielectric loss tangent of the resin product decrease.

또한, 미소 입자의 함유량을 적게(10체적% 이하) 함으로써, 전체 입자의 총 표면적이 작아진다. 결과적으로, SiOH기량이 적어져, 유전율, 유전 정접화를 낮게 할 수 있다. 또한, 미소 입자가 적은 분체는, 부착성이 낮아져, 유동성이 향상된다. 그 때문에, 취급성이나 분산성도 향상된다. 미소 입자의 함유량은, 8체적% 이하가 바람직하고, 5체적% 이하가 보다 바람직하고, 3체적% 이하가 더욱 바람직하고, 1체적% 이하가 가장 바람직하다.Additionally, by reducing the content of fine particles (10% by volume or less), the total surface area of all particles decreases. As a result, the amount of SiOH radicals decreases, and the dielectric constant and dielectric loss tangent can be lowered. Additionally, powders containing few fine particles have lower adhesion and improved fluidity. Therefore, handling and dispersibility are also improved. The content of microparticles is preferably 8 volume% or less, more preferably 5 volume% or less, further preferably 3 volume% or less, and most preferably 1 volume% or less.

또한, 분체에 포함되는 조대 입자를 적게(20체적% 이하) 함으로써, 분체가 배합된 수지 조성물은, 양호한 여과성이나 주입성을 갖는다. 그 때문에, 이 수지 조성물로 성형된 수지 성형물(수지 제품)은, 양호한 표면 평활성을 구비하고 있다. 또한, 부유 입자의 양을 0.5 내지 15.0질량%로 제어하고 있다. 부유 입자는 통상적으로는 공극률이 높고, 공극률이 높은 중공 입자는, 일반적으로 입자경이 크다. 따라서, 부유 입자의 양을 제어(저감)하는 것은, 조대 입자의 양을 제어(저감)하게 된다. 조대 입자의 함유량은, 15체적% 이하가 바람직하고, 10체적% 이하가 보다 바람직하고, 5체적% 이하가 더욱 바람직하고, 1체적% 이하가 가장 바람직하다.In addition, by reducing the coarse particles contained in the powder (20% by volume or less), the resin composition containing the powder has good filterability and injectability. Therefore, the resin molded article (resin product) molded from this resin composition has good surface smoothness. Additionally, the amount of suspended particles is controlled to 0.5 to 15.0 mass%. Floating particles usually have a high porosity, and hollow particles with a high porosity generally have a large particle diameter. Therefore, controlling (reducing) the amount of floating particles results in controlling (reducing) the amount of coarse particles. The content of coarse particles is preferably 15 volume% or less, more preferably 10 volume% or less, further preferably 5 volume% or less, and most preferably 1 volume% or less.

부유 입자는, 입자경(d)과 외각의 두께(t)의 비(t/d)가 작기 때문에, 입자 강도가 낮은 경향이 있다. 그 때문에, 수지 재료와 입자를 섞는 공정부터 수지 제품을 성형할 때까지의 동안(즉, 제조 프로세스 중)에, 입자가 깨질 우려가 있다. 깨진 입자는, 저유전율화 및 저유전 정접화의 방해가 됨과 함께, 수지 조성물의 유동성을 악화시켜, 수지 제품(성형물)의 균일성을 저하시키거나, 수지 제품의 내부에 보이드를 발생시키거나 하는 요인이 된다. 그러나, 부유 입자의 양을 제어함으로써, 입자의 깨짐을 억제할 수 있다.Floating particles tend to have low particle strength because the ratio (t/d) between the particle diameter (d) and the outer shell thickness (t) is small. Therefore, there is a risk that the particles may break during the process from mixing the resin material and particles to molding the resin product (i.e., during the manufacturing process). Broken particles not only interfere with low dielectric constant and low dielectric loss tangent, but also deteriorate the fluidity of the resin composition, reduce the uniformity of the resin product (molded article), and generate voids inside the resin product. becomes a factor. However, by controlling the amount of suspended particles, particle breakage can be suppressed.

또한, 부유 입자의 양을 제어함으로써, 공극률이 높은 입자가 갖는 바람직한 특성(예를 들어, 저유전율화 및 저유전 정접화)을 확보하면서, 공극률이 높은 입자가 갖는 바람직하지 않은 특성(예를 들어, 깨짐의 발생)이 문제가 없을 정도로 억제할 수 있다. 부유 입자에는, 소경에서도 공극률이 높은 입자가 존재하고 있고, 이러한 입자는, 제조 프로세스에 있어서, 대경 입자에 비해 깨짐이 발생하기 어렵고, 전체로서, 공극률이 높은 입자가 갖는 바람직하지 않은 특성을 최대한 억제할 수 있다. 부유 입자의 함유량은, 0.5 내지 14.0질량%가 바람직하고, 0.5 내지 13.0질량%가 보다 바람직하고, 0.5 내지 12.0질량%가 더욱 바람직하다. 또한, 침강 입자의 함유량은, 82.0 내지 99.5질량%가 바람직하고, 83.0 내지 99.5질량%가 보다 바람직하고, 84.0 내지 99.5질량%가 더욱 바람직하다.Additionally, by controlling the amount of suspended particles, the desirable properties of particles with high porosity (e.g., low dielectric constant and low dielectric loss tangent) are secured while the undesirable properties of particles with high porosity (e.g., , the occurrence of cracks) can be suppressed to the point where there is no problem. Among suspended particles, there are particles with a high porosity even in small diameters. These particles are less likely to break than large-diameter particles during the manufacturing process, and as a whole, the undesirable characteristics of particles with a high porosity are suppressed as much as possible. can do. The content of suspended particles is preferably 0.5 to 14.0 mass%, more preferably 0.5 to 13.0 mass%, and still more preferably 0.5 to 12.0 mass%. Moreover, the content of settled particles is preferably 82.0 to 99.5 mass%, more preferably 83.0 to 99.5 mass%, and even more preferably 84.0 to 99.5 mass%.

또한, 분체의 평균 입자경(D50)은, 1.0 내지 10.0㎛의 범위에 있다. 평균 입자경이 1.0㎛ 미만인 경우, 미소 입자가 많이 포함되어 있기 때문에, 고비표면적(고SiOH기 함유량)이 되어, 우수한 유전 특성이 얻어지기 어렵다. 또한, 평균 입자경이 10㎛를 초과하는 분체는, 반도체 용도로서는 부적합하다. 반도체 용도의 경우, 평균 입자경은, 1.5 내지 10.0㎛가 바람직하고, 2.0 내지 5.0㎛가 보다 바람직하다.Additionally, the average particle diameter (D50) of the powder is in the range of 1.0 to 10.0 μm. When the average particle diameter is less than 1.0 μm, many fine particles are contained, resulting in a high specific surface area (high SiOH group content), making it difficult to obtain excellent dielectric properties. Additionally, powders with an average particle diameter exceeding 10 μm are unsuitable for semiconductor use. In the case of semiconductor use, the average particle diameter is preferably 1.5 to 10.0 μm, and more preferably 2.0 to 5.0 μm.

또한, 최대 입자경(D100)은, 50㎛ 이하가 바람직하고, 40㎛ 이하가 보다 바람직하고, 30㎛ 이하가 더욱 바람직하다. 최대 입자경(D100)은, 평균 입자경(D50)의 10배 이하가 바람직하고, 8배 이하가 보다 바람직하다. 통상적으로는, 2배 이상이고, 본 발명의 요건을 충족시키고 있으면, 5배를 초과해도 된다.Additionally, the maximum particle diameter (D100) is preferably 50 μm or less, more preferably 40 μm or less, and still more preferably 30 μm or less. The maximum particle diameter (D100) is preferably 10 times or less, and more preferably 8 times or less, the average particle diameter (D50). Usually, it is 2 times or more, and may exceed 5 times as long as it satisfies the requirements of the present invention.

또한, 분체의 입도 변동 계수(CV값)는 60% 이하가 적합하다. 이에 의해, 수지 재료에 배합한 경우에, 저유전율화 및 저유전 정접화를 안정적으로 실현할 수 있다. 또한, 수지 제품의 표면 평활성의 향상을 도모할 수 있다. 입도 변동 계수는 55% 이하가 보다 바람직하고, 50% 이하가 더욱 바람직하다.Additionally, the particle size variation coefficient (CV value) of the powder is preferably 60% or less. As a result, when mixed with a resin material, low dielectric constant and low dielectric loss tangent can be stably achieved. Additionally, the surface smoothness of the resin product can be improved. The particle size variation coefficient is more preferably 55% or less, and even more preferably 50% or less.

분체의 공극률은, 10체적% 이상이 바람직하고, 20체적% 이상이 보다 바람직하고, 30체적% 이상이 더욱 바람직하다. 또한, 70체적% 이하가 바람직하고, 60체적% 이하가 보다 바람직하고, 50체적% 이하가 더욱 바람직하고, 40체적% 이하가 가장 바람직하다. 이러한 공극률에 의해, 저유전율화 및 저유전 정접화를 도모할 수 있음과 함께, 입자 강도를 소정 이상으로 유지하여 입자의 깨짐을 효과적으로 억제할 수 있다.The porosity of the powder is preferably 10 volume% or more, more preferably 20 volume% or more, and still more preferably 30 volume% or more. Moreover, 70 volume% or less is preferable, 60 volume% or less is more preferable, 50 volume% or less is still more preferable, and 40 volume% or less is most preferable. With this porosity, it is possible to achieve low dielectric constant and low dielectric loss tangent, and the particle strength can be maintained at a predetermined level or higher to effectively suppress particle cracking.

여기서, 분체를 구성하는 입자는, 실리카를 주성분으로 하는 실리카계 입자가 적합하다. 따라서 분체에 포함되는 중공 입자(외각)는, 실리카 외에, 알루미나, 지르코니아, 티타니아 등의 무기 산화물을 포함하고 있어도 된다. 입자 중의 실리카의 함유량은, 70질량% 이상이 바람직하고, 90질량% 이상이 보다 바람직하고, 95질량% 이상이 더욱 바람직하고, 실질적으로 실리카만을 포함하는 것이 특히 바람직하다.Here, the particles constituting the powder are preferably silica-based particles containing silica as a main component. Therefore, the hollow particles (outer shell) contained in the powder may contain inorganic oxides such as alumina, zirconia, and titania in addition to silica. The content of silica in the particles is preferably 70% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, still more preferably 95% by mass or more, and particularly preferably contains substantially only silica.

[수지 조성물][Resin composition]

상술한 분체와 수지 재료를 배합함으로써, 수지 조성물이 조제된다. 이러한 수지 조성물은, 반도체 등의 전자 재료의 절연 재료 등, 구체적으로는, 프린트 배선판(리지드 기판 및 플렉시블 기판을 포함함)을 형성하기 위한 동장 적층판, 프리프레그, 빌드 업 필름 등에 사용할 수 있다. 또한, 몰드 수지, 몰드 언더필, 언더필 등의 반도체 패키지 관련 재료나, 플렉시블 기판용 접착제 등에 사용할 수 있다.A resin composition is prepared by mixing the above-described powder and the resin material. These resin compositions can be used as insulating materials for electronic materials such as semiconductors, specifically, copper-clad laminates, prepregs, build-up films, etc. for forming printed wiring boards (including rigid substrates and flexible substrates). Additionally, it can be used for semiconductor package-related materials such as mold resin, mold underfill, and underfill, and adhesives for flexible substrates.

수지로서, 일반적으로 반도체 등의 전자 재료에 사용되고 있는 경화성 수지를 사용할 수 있다. 광경화 수지여도 되지만, 열경화 수지가 바람직하다. 경화성 수지로서, 에폭시계 수지, 폴리페닐렌에테르계 수지, 불소계 수지, 폴리이미드계 수지, 비스말레이미드계 수지, 아크릴계 수지, 메타크릴계 수지, 실리콘계 수지, BT 레진, 시아네이트계 수지 등을 들 수 있다. 또한, 에폭시계 수지로서, 비스페놀형 에폭시 수지, 노볼락형 에폭시 수지, 트리페놀알칸형 에폭시 수지, 비페닐 골격을 갖는 에폭시 수지, 나프탈렌 골격을 갖는 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔페놀노볼락 수지, 페놀아르알킬형 에폭시 수지, 글리시딜에스테르형 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지, 복소환형 에폭시 수지, 할로겐화에폭시 수지 등을 예시할 수 있다. 이들 수지는, 단독으로 사용되어도 되고, 2종 이상 혼합하여 사용되어도 된다.As the resin, a curable resin generally used in electronic materials such as semiconductors can be used. Although a photocurable resin may be used, a thermosetting resin is preferable. Examples of the curable resin include epoxy resin, polyphenylene ether resin, fluorine resin, polyimide resin, bismaleimide resin, acrylic resin, methacrylic resin, silicone resin, BT resin, and cyanate resin. You can. In addition, as epoxy resins, bisphenol-type epoxy resins, novolak-type epoxy resins, triphenol alkane-type epoxy resins, epoxy resins with a biphenyl skeleton, epoxy resins with a naphthalene skeleton, dicyclopentadienephenol novolak resins, and phenol Examples include aralkyl-type epoxy resin, glycidyl ester-type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, heterocyclic epoxy resin, and halogenated epoxy resin. These resins may be used individually or may be used in mixture of two or more types.

수지 조성물에는, 분체 A와 경화성 수지 B가, 10/100 내지 95/100의 질량비(A/B)로 포함되는 것이 바람직하다. 이에 의해, 유동성 등의 수지 조성물의 특성을 유지하면서, 필러로서의 기능을 충분히 발휘할 수 있다. 질량비(A/B)는, 30/100 내지 80/100이 보다 바람직하다.The resin composition preferably contains powder A and curable resin B in a mass ratio (A/B) of 10/100 to 95/100. As a result, the function as a filler can be sufficiently exercised while maintaining the characteristics of the resin composition, such as fluidity. The mass ratio (A/B) is more preferably 30/100 to 80/100.

또한, 수지 조성물은, 페놀 화합물, 아민 화합물, 산 무수물 등의 경화제를 포함하는 것이 바람직하다. 경화성 수지에 에폭시 수지를 사용하는 경우, 경화제로서, 1분자 중에 페놀성 수산기를 2개 이상 갖는 수지(비스페놀형 수지, 노볼락 수지, 트리페놀알칸형 수지, 레졸형 페놀 수지, 페놀아르알킬 수지, 비페닐형 페놀 수지, 나프탈렌형 페놀 수지, 시클로펜타디엔형 페놀 수지 등의 페놀 수지) 및 메틸헥사히드로프탈산, 메틸테트라히드로프탈산, 무수 메틸나드산 등의 산 무수물을 들 수 있다. 수지 조성물에는, 필요에 따라, 각종 첨가제(착색제, 응력 완화제, 소포제, 레벨링제, 커플링제, 난연제, 경화 촉진제 등)를 첨가해도 된다.Additionally, the resin composition preferably contains a curing agent such as a phenol compound, amine compound, or acid anhydride. When using an epoxy resin for a curable resin, a resin having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule (bisphenol-type resin, novolak resin, triphenol alkane-type resin, resol-type phenol resin, phenol aralkyl resin, phenol resins such as biphenyl-type phenol resins, naphthalene-type phenol resins, and cyclopentadiene-type phenol resins) and acid anhydrides such as methylhexahydrophthalic acid, methyltetrahydrophthalic acid, and methylnadic anhydride. Various additives (coloring agent, stress reliever, antifoaming agent, leveling agent, coupling agent, flame retardant, curing accelerator, etc.) may be added to the resin composition as needed.

수지 조성물의 제조 방법은, 종래 공지의 방법을 적용할 수 있다. 예를 들어, 경화성 수지, 분체, 경화제, 첨가제 등을 혼합하여, 롤밀 등으로 혼련한다. 얻어진 수지 조성물을 기체에 도포하고, 열, 자외선 등에 의해 경화시킨다.The method for producing the resin composition can be a conventionally known method. For example, curable resin, powder, curing agent, additives, etc. are mixed and kneaded using a roll mill or the like. The obtained resin composition is applied to the base and cured by heat, ultraviolet rays, etc.

[분체의 제조 방법][Powder manufacturing method]

본 발명의 분체의 제조 방법은, 규산 알칼리 수용액을 열풍 기류 중에서 분무 건조시켜 입자를 조제하는 제1 공정과, 조제된 입자에 포함되는 알칼리를 제거하는 제2 공정과, 알칼리 제거된 입자를 소성하는 제3 공정을 갖고, 제1 공정과 제3 공정 사이에, 입자를 분급하여, 입자경 1.0㎛ 미만의 미소 입자 및 입자경 8.0㎛를 초과하는 조대 입자를 제거하는 공정(분급 공정)이 마련되어 있다. 또한, 각 공정 사이에, 건조 공정 등의 그밖의 공정을 마련해도 된다. 이러한 공정에 의해, 상술한 분체를 얻을 수 있다.The method for producing powder of the present invention includes a first step of preparing particles by spray-drying an aqueous silicate alkali solution in a hot air stream, a second step of removing alkali contained in the prepared particles, and baking the alkali-removed particles. There is a third process, and a process (classification process) is provided between the first process and the third process to classify the particles and remove fine particles with a particle size of less than 1.0 μm and coarse particles with a particle size of more than 8.0 μm. Additionally, between each process, other processes such as a drying process may be provided. Through this process, the powder described above can be obtained.

일반적으로, 소성에 의해 입자를 제조하는 경우에는, 입자경을 맞추기 위해, 소성 후에 분급 처리를 행하는 것이 바람직하다고 생각되고 있다. 그러나, 여기서는, 굳이 소성 전에 분급 처리를 행한다. 분급 처리를 행하지 않고 소성 공정을 행하는 경우, 제거되어야 할 미소 입자가 존재한 상태로 소성되어, 미소 입자가 다른 입자와 소결되어 버린다. 그 때문에, 그 후에 분급 처리를 행해도 미소 입자를 제거할 수 없다. 또한, 제거되어야 할 고공극률의 조대 입자도 존재해 버린다. 이 고공극률의 조대 입자는 깨지기 쉽기 때문에, 가열에 의한 수축의 스트레스 등으로 깨질 우려가 있다. 깨짐에 의해 발생한 파편은, 공극이 없는 치밀한 실리카이기 때문에, 저유전율화·저유전 정접화의 방해가 된다. 분급 처리를 소성 전에 행하면, 이들 문제를 피할 수 있다. 그 때문에, 입자의 저유전율화·저유전 정접화가 더 확실하게 실현되어, 데이터 통신의 고속화에 대응한 입자가 얻어진다. 또한, 소성 후에, 다시 분급 처리를 행해도 된다. 이하, 각 공정을 상세하게 설명한다.Generally, when producing particles by firing, it is considered desirable to perform classification treatment after firing in order to adjust the particle diameter. However, here, classification treatment is performed before firing. When the firing process is performed without performing classification treatment, the product is fired with the fine particles to be removed present, and the fine particles are sintered with other particles. Therefore, even if classification treatment is performed thereafter, fine particles cannot be removed. Additionally, coarse particles with high porosity that need to be removed also exist. Since these coarse particles with a high porosity are easy to break, there is a risk of breaking them due to the stress of shrinkage due to heating. Because the fragments generated by cracking are dense silica without voids, they interfere with low dielectric constant and low dielectric loss tangent. These problems can be avoided if classification treatment is performed before firing. Therefore, lowering the dielectric constant and lowering the dielectric loss tangent of the particles can be realized more reliably, and particles corresponding to the increased speed of data communication can be obtained. In addition, after baking, classification processing may be performed again. Hereinafter, each process will be described in detail.

(제 1 공정)(1st process)

본 공정에서는, 규산 알칼리 수용액을 열풍 기류 중에서 분무 건조시켜 실리카계 입자를 조립한다. 또한, 본 공정은, 중공 입자를 얻기 위해 행해지지만, 모든 입자를 중공 입자로 하는 것은 곤란하고, 조립된 실리카계 입자에는, 결과적으로 중실 입자도 포함되어 있을 가능성이 있다. 이 경우, 후술하는 공정을 거쳐서 얻어지는 분체에 중실 입자도 포함되어 있다. 그러나, 분체가 상술한 특성을 구비하고 있으면, 중실 입자가 포함되어 있어도, 기대하는 효과가 얻어진다.In this process, an aqueous silicate alkali solution is spray-dried in a hot air stream to granulate silica-based particles. In addition, although this process is performed to obtain hollow particles, it is difficult to turn all particles into hollow particles, and the granulated silica-based particles may eventually contain solid particles. In this case, the powder obtained through the process described later also contains solid particles. However, if the powder has the above-mentioned properties, the expected effect can be obtained even if solid particles are contained.

규산 알칼리의 SiO2와 M2O(M은 알칼리 금속)의 몰비(SiO2/M2O)는, 1 내지 5가 바람직하고, 2 내지 4가 보다 바람직하다. 이 몰비가 1 미만인 경우는, 알칼리양이 너무 많으므로, 알칼리 제거 공정에서 산세정을 행해도 충분히 제거하는 것이 곤란하다. 또한, 분무 건조품의 조해성이 커지기 때문에, 원하는 중공 입자가 얻어지기 어렵다. 이 몰비가 5를 초과하면, 규산 알칼리의 가용성이 저하되어, 수용액의 조제가 곤란하다. 수용액을 조제할 수 있었다고 해도, 분무 건조에 의해 중공 입자를 형성할 수 없는 경우가 있다.The molar ratio (SiO 2 /M 2 O) of SiO 2 and M 2 O (M is an alkali metal) of alkali silicate is preferably 1 to 5, and more preferably 2 to 4. When this molar ratio is less than 1, the amount of alkali is too large, so it is difficult to sufficiently remove it even if acid washing is performed in the alkali removal step. Additionally, because the deliquescent nature of the spray-dried product increases, it is difficult to obtain the desired hollow particles. When this molar ratio exceeds 5, the solubility of alkali silicate decreases, making it difficult to prepare an aqueous solution. Even if an aqueous solution can be prepared, there are cases where hollow particles cannot be formed by spray drying.

규산 알칼리 수용액의 SiO2로서의 농도는, 1 내지 30질량%가 바람직하고, 5 내지 28질량%가 보다 바람직하다. 1질량% 미만에서도 제조는 가능하지만, 생산성이 현저하게 저하된다. 30질량%를 초과하면, 규산 알칼리 수용액으로서의 안정성이 현저하게 저하되어 고점성이 되어, 분무 건조할 수 없는 경우가 있다. 분무 건조할 수 있었다고 해도, 입자경 분포, 외각의 두께 등이 매우 불균일해져, 얻어진 입자의 용도가 제한되는 경우가 있다. 규산 알칼리로서, 물에 가용인 규산나트륨, 규산칼륨을 사용할 수 있다. 규산나트륨이 바람직하다.The concentration of SiO 2 in the aqueous silicic acid alkali solution is preferably 1 to 30 mass%, and more preferably 5 to 28 mass%. Manufacturing is possible even at less than 1% by mass, but productivity is significantly reduced. If it exceeds 30% by mass, the stability as an aqueous silicate alkali solution decreases significantly, becomes highly viscous, and spray drying may not be possible. Even if spray drying is possible, the particle size distribution, outer shell thickness, etc. become very non-uniform, and the uses of the obtained particles may be limited. As an alkali silicate, sodium silicate and potassium silicate, which are soluble in water, can be used. Sodium silicate is preferred.

분무 건조 방법으로서는, 예를 들어, 회전 디스크법, 가압 노즐법, 2유체 노즐법 등의 종래 공지의 방법을 채용할 수 있다. 여기서는, 2유체 노즐법이 적합하다.As a spray drying method, for example, conventionally known methods such as the rotating disk method, the pressure nozzle method, and the two-fluid nozzle method can be adopted. Here, the two-fluid nozzle method is suitable.

분무 건조에 있어서, 분무 건조기에 있어서의 입구 온도는, 300 내지 600℃가 바람직하고, 350 내지 550℃가 보다 바람직하다. 또한, 출구 온도는, 120 내지 300℃가 바람직하고, 130 내지 250℃가 보다 바람직하다. 이러한 온도 설정에 의해, 중공 입자를 안정적으로 얻을 수 있다.In spray drying, the inlet temperature in the spray dryer is preferably 300 to 600°C, and more preferably 350 to 550°C. Moreover, the outlet temperature is preferably 120 to 300°C, and more preferably 130 to 250°C. By setting this temperature, hollow particles can be obtained stably.

(제2 공정)(2nd process)

이어서, 제1 공정에서 조립된 입자에 포함되는 알칼리를 제거한다. 산을 첨가하여 중화함으로써 제거하는 방법이 적합하다. 입자를 산의 용액에 침지하는 처리가 바람직하다. 이때, 입자 중의 M2O 몰수(Msp)와 산의 몰수(Ma)의 몰비(Ma/Msp)는, 0.6 내지 4.7이 바람직하고, 1 내지 4.5가 더욱 바람직하다. 이 몰비가 0.6 미만인 경우는, M2O에 비해 산의 양이 너무 적다. 그 때문에, 알칼리의 제거와 함께 일어난다고 생각되는 규산의 실리카 골격화가 진행되지 않아, 입자가 부분적으로 용해되거나, 용해된 규산 알칼리가 겔화되는 경우가 있다. 몰비가 4.7을 초과해도 실리카 골격화가 더 진행되는 일은 없고, 산이 과잉이고 경제적이지 않다.Next, the alkali contained in the particles granulated in the first process is removed. A method of removing it by adding acid to neutralize it is suitable. A treatment in which the particles are immersed in a solution of acid is preferred. At this time, the molar ratio (Ma/Msp) of the number of moles of M 2 O in the particles (Msp) and the number of moles of acid (Ma) is preferably 0.6 to 4.7, and more preferably 1 to 4.5. When this molar ratio is less than 0.6, the amount of acid is too small compared to M 2 O. Therefore, the silica skeletonization of silicic acid, which is thought to occur with the removal of alkali, does not proceed, and the particles may partially dissolve, or the dissolved alkali silicic acid may gel. Even if the molar ratio exceeds 4.7, silica skeletonization does not proceed further, and the acid is excessive and is not economical.

또한, 입자의 농도가, SiO2로서 1 내지 30질량%가 되도록 산 수용액에 침지하는 것이 바람직하다. 1질량% 미만인 경우는, 알칼리 제거나 세정성에 문제는 없지만, 제조 효율이 저하된다. 30질량%를 초과하면, 농도가 너무 진하여 알칼리 제거, 세정 효율이 저하되는 경우가 있다. 5 내지 25질량%가 더욱 바람직하다.Additionally, it is preferable to immerse the particles in an aqueous acid solution so that the concentration of the particles is 1 to 30% by mass in terms of SiO 2 . If it is less than 1% by mass, there is no problem with alkali removal or cleanability, but manufacturing efficiency decreases. If it exceeds 30% by mass, the concentration may be too thick and alkali removal and cleaning efficiency may decrease. 5 to 25 mass% is more preferable.

산 수용액에 침지하는 조건은, 알칼리를 원하는 양까지 제거할 수 있으면 특별히 제한은 없고, 통상, 처리 온도는 5 내지 100℃이고, 처리 시간은 0.5 내지 24시간이다. 침지 처리 후, 종래 공지의 방법으로 세정하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 순수로 여과 세정한다. 또한, 필요에 따라, 상기 산 처리 및 세정을 반복해서 행해도 된다.The conditions for immersion in the acid aqueous solution are not particularly limited as long as the alkali can be removed to the desired amount. Usually, the treatment temperature is 5 to 100°C and the treatment time is 0.5 to 24 hours. After the immersion treatment, it is preferable to wash by a conventionally known method. For example, filtration and cleaning with pure water. Additionally, if necessary, the acid treatment and washing may be repeated.

알칼리 제거 후의 알칼리(M)의 잔존량(질량 비율)은, 300ppm 이하가 바람직하고, 200ppm 이하가 보다 바람직하고, 100ppm 이하가 더욱 바람직하다. 본 공정에서 충분히 알칼리를 제거함으로써, 후속 공정에서 입자가 합착되는 것이 방지되어, 소성 공정에서 소결 입자가 발생하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 알칼리의 잔존량(함유량)은, 유전 특성에 영향을 미치는 것이 알려져 있다. 본 공정에서 충분히 알칼리를 제거함으로써, 원료에 규산 알칼리 수용액을 사용한 경우에도, 저유전율화 및 저유전 정접화를 가능하게 하는 입자를 얻을 수 있다.The remaining amount (mass ratio) of alkali (M) after alkali removal is preferably 300 ppm or less, more preferably 200 ppm or less, and still more preferably 100 ppm or less. By sufficiently removing alkali in this process, particles can be prevented from coalescing in subsequent processes, thereby preventing sintered particles from occurring in the firing process. Additionally, it is known that the remaining amount (content) of alkali affects dielectric properties. By sufficiently removing alkali in this process, particles that enable low dielectric constant and low dielectric loss tangent can be obtained even when an aqueous silicate alkali solution is used as the raw material.

또한, 최종 제품(분체를 구성하는 입자)의 알칼리양도 상술한 범위가 바람직하고, 통상, 알칼리 제거 공정 후의 알칼리양과 동등해진다.Additionally, the alkali amount of the final product (particles constituting the powder) is preferably within the above-described range, and is usually equal to the alkali amount after the alkali removal process.

알칼리 잔존량은, 분체를 산으로 용해시킨 것을 시료로 하여, 원자 흡광 광도계를 사용하여 측정할 수 있다. 규산나트륨을 사용한 경우는 Na을 측정하고, 규산칼륨을 사용한 경우는 K을 측정한다. 구체적으로는, 실시예에서 설명한다.The remaining amount of alkali can be measured using an atomic absorption spectrophotometer using a sample obtained by dissolving powder with acid. When sodium silicate is used, Na is measured, and when potassium silicate is used, K is measured. Specifically, it is explained in examples.

본 공정에서 사용하는 산으로서, 무기산(염산, 질산, 황산 등) 및 유기산(아세트산, 타르타르산, 말산 등)을 사용할 수 있다. 무기산이 적합하게 사용되고, 특히, 가수가 큰 황산이 바람직하다.As the acid used in this process, inorganic acids (hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, etc.) and organic acids (acetic acid, tartaric acid, malic acid, etc.) can be used. Inorganic acids are suitably used, and sulfuric acid, which has a large valence, is particularly preferable.

(제3 공정)(Third process)

이어서, 알칼리 제거 처리 후의 입자를 소성한다. 소성 온도는, 600 내지 1200℃가 바람직하고, 900 내지 1100℃가 보다 바람직하다. 소성 온도가 600℃ 미만인 경우는, SiOH기의 잔존량이 많아, 입자의 유전 정접이 높아진다. 그 때문에, 수지에 배합해도, 유전 정접 저감 효과가 얻어지기 어렵다. 소성 온도가 1200℃를 초과한 경우는, 입자끼리가 소결되기 쉬우므로, 이형상의 입자나, 조대 입자가 생성되기 쉽다. 이것은, 수지 조성물의 여과성이나, 주입성이 저하되는 원인이 된다.Next, the particles after the alkali removal treatment are fired. The firing temperature is preferably 600 to 1200°C, and more preferably 900 to 1100°C. When the firing temperature is less than 600°C, the remaining amount of SiOH groups is large, and the dielectric loss tangent of the particles increases. Therefore, even if it is mixed with resin, it is difficult to obtain the dielectric loss tangent reduction effect. When the sintering temperature exceeds 1200°C, the particles are likely to sinter with each other, so particles of odd shapes or coarse particles are likely to be generated. This causes the filterability and injectability of the resin composition to decrease.

(분급 공정)(Classification process)

제1 공정과 제3 공정 사이에 분급 처리를 행함으로써, 미소 입자와 조대 입자를 제거한다. 알칼리 제거 전에 분급 처리를 행하는 경우에는, 중공 입자가 흡습(조해)하여 응집·합착하는 것을 방지하기 위해, 조립 후 즉시 분급 처리를 할 필요가 있다. 또한, 소성 전에 분급 처리를 행하는 경우, 분급 처리를 알칼리 제거 처리에 계속해서 행해도 된다.By performing classification treatment between the first step and the third step, fine particles and coarse particles are removed. When classification treatment is performed before alkali removal, it is necessary to carry out classification treatment immediately after assembly in order to prevent hollow particles from absorbing moisture (deliquescence) and agglomerating and coalescing. In addition, when classification treatment is performed before firing, classification treatment may be performed continuously after alkali removal treatment.

분급 공정에 의해, 미소 입자의 양을 10체적% 이하까지 감소시킨다. 8체적% 이하로 하는 것이 바람직하고, 5체적% 이하로 하는 것이 보다 바람직하고, 3체적% 이하로 하는 것이 더욱 바람직하고, 1체적% 이하로 하는 것이 가장 바람직하다. 또한, 조대 입자의 양을 20체적% 이하까지 감소시킨다. 15체적% 이하로 하는 것이 바람직하고, 10체적% 이하로 하는 것이 보다 바람직하고, 5체적% 이하로 하는 것이 더욱 바람직하고, 1체적% 이하로 하는 것이 가장 바람직하다. 이 분급 공정에 의해, 분체에 존재하는 부유 입자 비율을 소정 범위로 제어할 수 있다. 또한, 통상, 최종 제품의 미소 입자나 조대 입자의 함유량은, 분급 공정 후의 함유량과 큰 변화는 없다.Through the classification process, the amount of fine particles is reduced to 10% by volume or less. It is preferably 8 volume% or less, more preferably 5 volume% or less, even more preferably 3 volume% or less, and most preferably 1 volume% or less. Additionally, the amount of coarse particles is reduced to 20% by volume or less. It is preferably 15 volume% or less, more preferably 10 volume% or less, even more preferably 5 volume% or less, and most preferably 1 volume% or less. Through this classification process, the proportion of suspended particles present in the powder can be controlled to a predetermined range. Additionally, usually, the content of fine particles or coarse particles in the final product does not change significantly from the content after the classification process.

이 분급 공정에서의 분급 처리란, 분체의 입도를 맞추는 것을 목적으로, 입자경에 의해 분체를 나누는 입도 분급을 의미한다. 이 입도 분급의 조작으로서, 유체 분급을 들 수 있고, 유체 분급은 건식 분급과 습식 분급으로 분류할 수 있다.The classification treatment in this classification process refers to particle size classification where the powder is divided by particle size for the purpose of matching the particle size of the powder. An example of this particle size classification operation is fluid classification, and fluid classification can be classified into dry classification and wet classification.

건식 분급에 사용되는 분급기는, 원리적으로, 중력 분급기, 관성 분급기, 원심 분급기로 크게 구별할 수 있다. 관성 분급기나, 원심 분급기를 사용함으로써, 더 정밀한 분급이 가능해진다. 가볍고, 원심력이 가해지기 어려운 입자라도 정밀하게 분급할 수 있는 분급기로서, 닛테츠 고교사제 엘보우 제트, 일본 쓰리엠사제 SG 세퍼레이터, 닛신 엔지니어링사제 에어로파인 클래시파이어, 닛폰 뉴마틱 고교사제 마이크로 스핀을 들 수 있다. 이들 중에서도, 엘보우 제트, 에어로파인 클래시파이어가 바람직하다.Classifiers used in dry classification can, in principle, be broadly divided into gravity classifiers, inertial classifiers, and centrifugal classifiers. By using an inertial classifier or centrifugal classifier, more precise classification is possible. It is a classifier that can precisely classify even particles that are light and difficult to apply centrifugal force, and includes an elbow jet manufactured by Nittetsu Kogyo Corporation, an SG separator manufactured by Japan's 3M Corporation, an Aerofine Classifier manufactured by Nisshin Engineering Corporation, and a micro spindle manufactured by Nippon Pneumatic Corporation. You can. Among these, elbow jet and Aerofine Clashifier are preferred.

습식 분급에 사용되는 분급기는, 원리적으로, 중력 분급기, 원심 분급기로 크게 구별할 수 있다. 원심 분급기를 사용함으로써, 더 정밀한 분급이 가능해진다. 가볍고, 원심력이 가해지기 어려운 입자라도 정밀하게 분급할 수 있는 분급기로서, 닛폰 가가쿠 기카이 고교사제 하이드로 사이클론, 무라타 고교사제 스파클론, 사타케 가가쿠 기카이 고교사제 아이 클래시파이어를 들 수 있다. 이것들 중에서도, 아이 클래시파이어가 바람직하다. 습식 분급에 의하면, 미소 입자의 제거를 행할 때, 비중이 작은 조대 입자를 함께 제거할 수 있어, 분급 효율을 높일 수 있다.In principle, classifiers used for wet classification can be broadly divided into gravity classifiers and centrifugal classifiers. By using a centrifugal classifier, more precise classification is possible. Classifiers that are lightweight and can precisely classify even particles to which centrifugal force is difficult to apply include the Hydro Cyclone manufactured by Nippon Kagaku Kikai Kogyo, the Sparklone manufactured by Murata Kagaku Kogyo, and the Eye Clashifier manufactured by Satake Kagaku Kikai Kogyo. . Among these, Eye Clashifier is preferable. According to wet classification, when removing fine particles, coarse particles with a small specific gravity can be removed together, thereby improving classification efficiency.

미소 입자와 조대 입자의 제거는, 동시에 행해도 되고, 따로따로 나누어 행해도 된다. 따로따로 나누어 행할 때는, 미소 입자의 제거와, 조대 입자의 제거의 어느 쪽을 먼저 행해도 상관없다. 또한, 미소 입자의 제거 및 조대 입자의 제거의 각 처리는, 각각 복수회로 나누어 행해도 된다.The removal of fine particles and coarse particles may be performed simultaneously or separately. When performed separately, it does not matter which of the removal of fine particles or removal of coarse particles is performed first. In addition, each treatment of removal of fine particles and removal of coarse particles may be performed in multiple steps.

또한, 제조 공정 중에, 적절히 건조 처리 공정을 마련해도 된다. 건조 처리는, 알칼리 제거 처리와 분급 처리 사이, 분급 처리와 소성 사이, 그 양쪽, 혹은 알칼리 제거 처리와 소성 사이에 마련할 수 있다. 필요에 따라 복수회 마련해도 된다. 또한, 소성 전에 건조 처리를 행하고, 분급 처리를 건조 처리와 소성 사이에서 행해도 된다. 본 발명의 효과를 더 향수하기 위해서는, 건조 처리 후에 분급 처리를 행하고, 소성하는 것이 바람직하다. 건조 처리로서, 가열 건조가 적합하다. 건조 온도는, 50 내지 400℃가 바람직하고, 50 내지 200℃가 보다 바람직하다. 구체적으로는, 50 내지 200℃ 정도의 저온에서 시간을 들여 건조시키는 방법이나, 온도를 서서히 상승시켜 건조시키는 방법이나, 온도를 몇단계로 나누어 변경하여 건조시키는 방법을 예시할 수 있다.Additionally, during the manufacturing process, a drying treatment process may be provided as appropriate. The drying treatment can be provided between the alkali removal treatment and the classification treatment, between the classification treatment and baking, both, or between the alkali removal treatment and baking. Multiple sessions may be provided as needed. Additionally, drying treatment may be performed before firing, and classification treatment may be performed between drying treatment and baking. In order to further enjoy the effect of the present invention, it is preferable to perform classification treatment and baking after drying treatment. As a drying treatment, heat drying is suitable. The drying temperature is preferably 50 to 400°C, and more preferably 50 to 200°C. Specifically, examples include a method of drying at a low temperature of about 50 to 200°C over time, a method of drying by slowly raising the temperature, or a method of drying by changing the temperature in several stages.

또한, 입자 덩어리를 체 분리하는 체 분리 처리를, 건조 후와 소성 후의 적어도 한쪽에 마련하는 것이 바람직하다. 또한, 입자 덩어리란, 예를 들어 입경이 50㎛를 초과하는 것을 가리키고, 이러한 입자 덩어리를 없애는 눈 크기(메쉬수)의 체를 적절히 사용한다.In addition, it is preferable to provide a sieving treatment to separate the particle lumps at least once after drying and after firing. In addition, particle agglomeration refers to, for example, particle diameter exceeding 50 ㎛, and a sieve with an eye size (mesh number) to remove such particle agglomeration is appropriately used.

실시예Example

이하, 본 발명의 실시예를 구체적으로 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

[실시예 1][Example 1]

물유리 수용액(SiO2/Na2O 몰비 3.2, SiO2 농도 24질량%) 30000g을 사용하여, 2유체 노즐의 한쪽에 0.62㎏/hr의 유량으로, 다른 쪽의 노즐에 공기를 31800L/hr(공/액체적비 63600)의 유량으로, 입구 온도 400℃의 열풍에 분무하여 중공 입자를 조립했다. 여기서, 출구 온도는 150℃였다(제1 공정). 제1 공정에서는, 소량의 중실 입자도 조립될 가능성이 있지만, 중실 입자를 제거하고 다음 공정으로 진행할 필요는 없다.Using 30,000 g of water glass aqueous solution (SiO 2 /Na 2 O molar ratio 3.2, SiO 2 concentration 24 mass%), air was supplied to one side of the two-fluid nozzle at a flow rate of 0.62 kg/hr and 31,800 L/hr (air) to the other nozzle. At a flow rate of /liquid volume ratio of 63600), hollow particles were granulated by spraying with hot air at an inlet temperature of 400°C. Here, the outlet temperature was 150°C (first process). In the first process, there is a possibility that a small amount of solid particles may also be assembled, but there is no need to remove the solid particles and proceed to the next process.

계속해서, 이 중공 입자(즉, 제1 공정에서 조립된 입자) 5000g을 농도 10질량%의 황산 수용액 32000g에 침지하여, 15시간 교반했다. 고형분(SiO2) 농도는 10.2질량%이다. 또한, 황산은 2가의 산이므로, 산의 몰수(Ma)와 알칼리(Na2O)의 몰수(Msp)의 비(Ma/Msp)는 3.3이 된다. 분산액의 온도는 35℃, pH는 3.0이었다. 침지 처리 후, 순수로 여과 세정을 행하였다(제2 공정).Subsequently, 5,000 g of these hollow particles (i.e., particles granulated in the first step) were immersed in 32,000 g of an aqueous sulfuric acid solution with a concentration of 10% by mass, and stirred for 15 hours. The solid content (SiO 2 ) concentration is 10.2 mass%. Additionally, since sulfuric acid is a divalent acid, the ratio (Ma/Msp) of the number of moles of acid (Ma) and the number of moles of alkali (Na 2 O) (Msp) is 3.3. The temperature of the dispersion was 35°C and pH was 3.0. After the immersion treatment, filtration cleaning was performed with pure water (second step).

계속해서, 건조기에서, 120℃에서 24시간 건조 처리했다. 건조 후, 해쇄하여 눈 크기 75㎛의 체에 걸쳐서 입자 덩어리를 제거했다.Subsequently, drying was performed in a dryer at 120°C for 24 hours. After drying, it was pulverized and passed through a sieve with an eye size of 75 μm to remove particle agglomerates.

계속해서, 자사제 사이클론을 사용하여, 분체 수송 라인의 유속을 5m/s로 하여, 건식 원심 분급 처리를 행하였다(제1 분급 공정). 사이클론에 포집되지 않고 통과한 입자, 즉 조대 입자가 제거된 입자를 백 필터에 의해 회수했다. 그 후, 닛테츠 고교사제 엘보우 제트(EJ-15)를 사용하여 건식 관성 분급 처리를 행하였다(제2 분급 공정). 이 장치를 사용하여 분급하면, F분(미분), M분(세분), G분(조분)의 3종류의 입자로 나눌 수 있다. 이때, F분(미분)에 포함되는 미소 입자가 1체적% 이하가 되도록 F 에지 거리를 조정했다. F분을 회수하고, 이후의 공정에서 사용했다.Subsequently, dry centrifugal classification was performed using a cyclone manufactured by the company, with the flow rate of the powder transport line set to 5 m/s (first classification process). Particles that passed through the cyclone without being collected, that is, particles from which coarse particles were removed, were recovered using a bag filter. After that, dry inertial classification was performed using an elbow jet (EJ-15) manufactured by Nittetsu Kogyo Co., Ltd. (second classification process). When classified using this device, it can be divided into three types of particles: F powder (fine powder), M powder (fine powder), and G powder (coarse powder). At this time, the F edge distance was adjusted so that the fine particles contained in the F powder (fine powder) were 1% by volume or less. Portion F was recovered and used in the subsequent process.

회수한 입자를 1000℃에서 10시간 가열 처리함으로써, 중공 입자를 포함하는 분체를 얻었다(제3 공정). 또한, 소성 후, 눈 크기 150㎛의 체에 의해 입자 덩어리를 제거했다.The recovered particles were heat-treated at 1000°C for 10 hours to obtain a powder containing hollow particles (third process). Additionally, after firing, particle lumps were removed using a sieve with an eye size of 150 μm.

얻어진 분체를, 액상 산 무수물 「신니혼 리카사제 리카시드 MH700」, 이미다졸계 에폭시 수지 경화제 「시코쿠 가세이사제 2PHZ-PW」와 함께, 액상 에폭시 수지 「닛테츠 케미컬 & 머티리얼사제 ZX-1059」에 배합했다. 여기서, 「ZX-1059」가 100질량부, 「리카시드 MH700」이 86질량부, 「2PHZ-PW」가 1질량부의 비율로 하고, 배합물의 분체의 비율이 35체적%가 되도록 배합했다. 이 배합물을, 유성 밀로 예비 혼련한 후, 3개 롤로 혼련하여, 페이스트(수지 조성물)를 얻었다. 이 페이스트를 170℃에서 2시간 가열하여 경화시켜, 50㎜×50㎜×1㎜의 판 형상의 수지 성형물(수지 제품)을 얻었다.The obtained powder was added to the liquid epoxy resin "ZX-1059, manufactured by Nittetsu Chemical & Materials," along with the liquid acid anhydride "Likacid MH700, manufactured by Shin-Nippon Rika Co., Ltd." and the imidazole-based epoxy resin hardener, "2PHZ-PW, manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd." It was combined. Here, “ZX-1059” was 100 parts by mass, “Ricacid MH700” was 86 parts by mass, and “2PHZ-PW” was 1 part by mass, and the mixture was mixed so that the powder ratio of the blend was 35% by volume. This blend was pre-kneaded with a planetary mill and then kneaded with three rolls to obtain a paste (resin composition). This paste was cured by heating at 170°C for 2 hours to obtain a plate-shaped resin molded product (resin product) measuring 50 mm x 50 mm x 1 mm.

상술한 바와 같이 하여 얻어진 분체 및 수지 성형물의 물성을 이하와 같이 측정·평가했다. 그 결과를 조제 조건과 함께 표 1에 나타낸다. 다른 실시예나 비교예에서도 마찬가지로 행하였다.The physical properties of the powder and resin molding obtained as described above were measured and evaluated as follows. The results are shown in Table 1 along with the preparation conditions. The same procedure was performed in other examples and comparative examples.

(1) 입자경, 입자량 및 입도 변동 계수(CV값)(1) Particle diameter, particle amount and particle size variation coefficient (CV value)

입도 분석계(세이신 기교사제 레이저 마이크론사이저 LMS-3000)를 사용하여, 건식으로 분체의 입도 분포를 측정했다. 측정 결과로부터, 체적 평균 입자경(D43), 평균 입자경(D50), 최대 입자경(D100)이 얻어졌다. 또한, 이 입도 분포를 분석하여, 8.0㎛를 초과하는 조대 입자와 1.0㎛ 미만의 미소 입자의 체적비율을 각각 산출하여, 조대 입자량 및 미소 입자량으로 했다.The particle size distribution of the powder was measured in a dry manner using a particle size analyzer (Laser Micron Sizer LMS-3000 manufactured by Seishin Kigyo Co., Ltd.). From the measurement results, the volume average particle diameter (D43), average particle diameter (D50), and maximum particle diameter (D100) were obtained. Furthermore, this particle size distribution was analyzed, and the volume ratio of coarse particles exceeding 8.0 μm and fine particles less than 1.0 μm were calculated, respectively, to be the coarse particle amount and the fine particle amount.

입도 변동 계수(CV값)는, 하기 식으로부터 구했다. 개개의 입자의 입자경(Di)은, 건식 레이저 회절·산란법으로 측정했다.The particle size variation coefficient (CV value) was obtained from the following formula. The particle diameter (Di) of each particle was measured by a dry laser diffraction/scattering method.

CV값(%)=(표준 편차(τ)/체적 평균 입자경(D43))×100CV value (%) = (standard deviation (τ) / volume average particle diameter (D43)) × 100

표준 편차(τ)=(ΣXi(Di-D43)^2/ΣXi)^(1/2)Standard deviation (τ)=(ΣXi(Di-D43)^2/ΣXi)^(1/2)

(2) 알칼리 잔존량(2) Alkali remaining amount

분체를 황산·불화 수소산으로 전처리한 후, 염산에 용해시켜, 원자 흡광 광도계(히타치제 Z-2310)를 사용하여 원자 흡광 분석법에 의해 알칼리양을 측정했다. 실시예 1에서는, Na양을 측정했다.The powder was pretreated with sulfuric acid and hydrofluoric acid, then dissolved in hydrochloric acid, and the amount of alkali was measured by atomic absorption spectrometry using an atomic absorption spectrophotometer (Z-2310 manufactured by Hitachi). In Example 1, the amount of Na was measured.

(3) 입자 밀도와 공극률(3) Particle density and porosity

Quantachrome Instruments사제 Ultrapyc 1200e를 사용하여, 가스 피크노미터법에 의해 분체에 포함되는 입자의 밀도의 평균(입자 밀도)을 측정했다. 가스는 질소 가스를 사용했다.The average density (particle density) of particles contained in the powder was measured by the gas pycnometer method using Ultrapyc 1200e manufactured by Quantachrome Instruments. The gas used was nitrogen gas.

이 입자 밀도로부터, 식 「[2.2-(입자 밀도)]/2.2×100」에 의해 공극률(%)을 산출했다. 분체가 실리카 입자로 구성되어 있는 것으로 하여, 이 식에서는, 실리카의 밀도 2.2g/㎤를 사용했다.From this particle density, the porosity (%) was calculated using the formula “[2.2-(particle density)]/2.2×100”. Assuming that the powder is composed of silica particles, a silica density of 2.2 g/cm3 was used in this equation.

(4) 분체의 유전율(Dk) 및 유전 정접(Df)(4) Dielectric constant (Dk) and dielectric loss tangent (Df) of powder

네트워크 애널라이저(안리츠사제, MS46122B)와 공동 공진기(1㎓)를 사용하여 공동 공진기 섭동법에 의해, 유전율(Dk) 및 유전 정접(Df)을 측정했다. ASTMD2520(JIS C2565)에 준거하여 측정했다.The dielectric constant (Dk) and dielectric loss tangent (Df) were measured by the cavity perturbation method using a network analyzer (MS46122B, manufactured by Anritsu) and a cavity resonator (1 GHz). Measurement was made based on ASTMD2520 (JIS C2565).

(5) 물에 현탁시켰을 때의 부유 입자, 현탁 입자 및 침강 입자의 비율(5) Ratio of suspended particles, suspended particles and settled particles when suspended in water

먼저, 5질량%가 되도록 분체와 물을 혼합하여, 10분간의 초음파 처리를 행하였다. 얻어진 분산액을 25℃에서 24시간 정치한 후, 부유 입자, 현탁 입자 및 침강 입자를 각각 회수했다. 계속해서, 각 입자를 105℃에서 24시간 건조시킨 후에 계량하고, 그 비율을 산출했다.First, the powder and water were mixed to 5% by mass, and ultrasonic treatment was performed for 10 minutes. After the obtained dispersion was left standing at 25°C for 24 hours, floating particles, suspended particles, and settled particles were each collected. Subsequently, each particle was dried at 105°C for 24 hours, then weighed, and the ratio was calculated.

(6) 수지 조성물의 여과성(6) Filterability of resin composition

로키 테크노사제 필터(SHP 타입: 30㎛)를 사용하여, 필터가 막힐 때까지의 단위 면적당의 통액량으로 평가했다.A filter (SHP type: 30 μm) manufactured by Loki Techno was used, and evaluation was made based on the amount of liquid passing per unit area until the filter was clogged.

평가 기준은, 이하와 같다.The evaluation criteria are as follows.

◎: ≥1g/㎠◎: ≥1g/㎠

○: 0.5g/㎠ 이상 1.0g/㎠ 미만○: More than 0.5g/㎠ and less than 1.0g/㎠

△: 0.3g/㎠ 이상 0.5g/㎠ 미만△: More than 0.3g/㎠ and less than 0.5g/㎠

×: <0.3g/㎠×: <0.3g/㎠

(7) 수지 조성물의 주입성(7) Injectability of resin composition

20㎛의 갭을 갖는 유리판 사이에 수지 조성물을 주입하고, 25㎜ 충전하는 데 필요로 하는 시간으로 평가했다.The resin composition was injected between glass plates with a gap of 20 μm, and the time required to fill 25 mm was evaluated.

평가 기준은 이하와 같다.The evaluation criteria are as follows.

◎: 200초 이내◎: Within 200 seconds

○: 200초를 초과하고 400초 이내○: Exceeding 200 seconds and within 400 seconds

△: 400초를 초과하고 600초 이내△: Exceeding 400 seconds and within 600 seconds

×: 600초 초과×: More than 600 seconds

(8) 수지 성형물의 유전율(Dk) 및 유전 정접(Df)(8) Dielectric constant (Dk) and dielectric loss tangent (Df) of resin moldings

50㎜×50㎜×1㎜의 판 형상 성형체(수지 성형물)의 유전율(Dk) 및 유전 정접(Df)을, 네트워크 애널라이저(안리츠사제, MS46122B)와 동축 공진기를 사용하여, 9.4㎓로 측정했다. 분체(필러)를 배합하고 있지 않은 수지 성형물과 다음 식을 사용하여 비교하고, 이하의 기준으로 평가했다.The dielectric constant (Dk) and dielectric loss tangent (Df) of a plate-shaped molded body (resin molded product) measuring 50 mm . It was compared with a resin molded product containing no powder (filler) using the following formula, and evaluated based on the following criteria.

유전율(Dk)의 저감률(%)=(분체 배합 없음의 유전율-분체 배합 있음의 유전율)/분체 배합 없음의 유전율×100Reduction rate (%) of dielectric constant (Dk) = (dielectric constant without powder mixing - dielectric constant with powder mixing) / dielectric constant without powder mixing × 100

○: 저감률>0○: Reduction rate>0

△: 저감률=0△: Reduction rate = 0

×: 저감률<0×: Reduction rate<0

유전 정접(Df)의 저감률(%)=(분체 배합 없음의 유전 정접-분체 배합 있음의 유전 정접)/분체 배합 없음의 유전 정접×100Reduction rate (%) of dielectric loss tangent (Df) = (dielectric loss tangent without powder mixing - dielectric loss tangent with powder mixing) / dielectric loss tangent without powder mixing × 100

◎: 저감률 50% 이상◎: Reduction rate of 50% or more

○: 저감률 30% 이상 50% 미만○: Reduction rate 30% or more but less than 50%

△: 저감률 20% 이상 30% 미만△: Reduction rate 20% or more but less than 30%

×: 저감률 20% 미만 ×: Reduction rate less than 20%

[실시예 2][Example 2]

제2 분급 공정에서, 닛신 엔지니어링사제 에어로파인 클래시파이어를 사용하여 건식 원심(반자유 소용돌이) 분급 처리를 행하였다. 분급에 의해 회수된 입자에 포함되는 미소 입자가 1체적% 이하가 되도록, 블레이드의 각도 등을 조정했다. 그 이외는 실시예 1과 마찬가지로 했다.In the second classification process, dry centrifugal (semi-free vortex) classification was performed using an Aerofine Classifier manufactured by Nissin Engineering. The angle of the blade, etc. was adjusted so that the fine particles contained in the particles recovered by classification were 1% by volume or less. Other than that, it was the same as Example 1.

[실시예 3][Example 3]

제2 분급 공정에서, 사타케 가가쿠 기카이 고교사제 아이 클래시파이어를 사용하여 습식 원심 분급 처리를 행하였다. 회수된 입자에 포함되는 미소 입자가 1체적% 이하, 조대 입자가 1체적% 이하가 되도록 분급했다. 그 이외는 실시예 1과 마찬가지로 했다.In the second classification process, wet centrifugal classification was performed using an i-classifier manufactured by Satake Kagaku Kikai Kogyo Co., Ltd. The recovered particles were classified so that the fine particles contained in them were 1% by volume or less, and the coarse particles contained were 1% by volume or less. Other than that, it was the same as Example 1.

[실시예 4][Example 4]

제1 분급 공정, 제2 분급 공정 모두, 닛신 엔지니어링사제 에어로파인 클래시파이어를 사용하여 건식 원심(반자유 소용돌이) 분급 처리를 행하였다. 최초에, 회수된 입자에 포함되는 미소 입자가 10체적% 이하가 되도록, 블레이드의 각도 등을 조정하여 분급하고, 그 후에, 조대 입자가 1체적% 이하가 되도록 조정하여 분급했다. 그 이외는 실시예 1과 마찬가지로 했다.In both the first and second classification processes, dry centrifugal (semi-free vortex) classification was performed using an Aerofine Classifier manufactured by Nissin Engineering. First, the recovered particles were classified by adjusting the angle of the blade so that the fine particles contained in them were 10 volume% or less, and then the coarse particles were adjusted and classified so that they were 1 volume% or less. Other than that, it was the same as Example 1.

[실시예 5][Example 5]

제1 분급 공정, 제2 분급 공정 모두, 사타케 가가쿠 기카이 고교사제 아이 클래시파이어를 사용하여 습식 원심 분급 처리를 행하였다. 최초에, 회수된 입자에 포함되는 미소 입자가 5체적% 이하가 되도록 분급하고, 그 후에, 조대 입자가 1체적% 이하가 되도록 분급했다. 그 이외는 실시예 1과 마찬가지로 했다.In both the first classification process and the second classification process, wet centrifugal classification was performed using an i-classifier manufactured by Satake Kagaku Kikai Kogyo. First, the recovered particles were classified so that the fine particles contained in them were 5% by volume or less, and then they were classified so that the coarse particles were 1% by volume or less. Other than that, it was the same as Example 1.

[비교예 1][Comparative Example 1]

알칼리 제거 처리의 침지 교반 시간을 1.5시간으로 변경하고, 분급 공정을 마련하지 않았다. 그 이외는 실시예 1과 마찬가지로 했다.The immersion and stirring time of the alkali removal treatment was changed to 1.5 hours, and the classification process was not provided. Other than that, it was the same as Example 1.

[비교예 2][Comparative Example 2]

제1 공정에서 분무 건조기의 입구 온도를 250℃로 하고, 알칼리 제거 처리의 침지 교반 시간을 1.5시간으로 하고, 분급 공정을 마련하지 않았다. 그 이외는 실시예 1과 마찬가지로 했다.In the first process, the inlet temperature of the spray dryer was set to 250°C, the immersion stirring time for the alkali removal treatment was set to 1.5 hours, and no classification process was provided. Other than that, it was the same as Example 1.

[비교예 3][Comparative Example 3]

분급 공정에서, 자사제 사이클론을 사용하여, 분체 수송 라인의 유속을 5m/s로 하여 행하여, 사이클론에 포집된 입자를 회수했다. 그 이외는 실시예 1과 마찬가지로 했다.In the classification process, a cyclone manufactured by the company was used, the flow rate of the powder transport line was set to 5 m/s, and the particles collected in the cyclone were recovered. Other than that, it was the same as Example 1.

표 1에 나타낸 바와 같이, 실시예에 관한 분체 및 이 분체가 배합된 수지 성형물은, 유전율 및 유전 정접이 낮다. 또한, 실시예에 관한 분체를 배합한 수지 조성물은, 여과성 및 주입성이 우수하다.As shown in Table 1, the powder according to the examples and the resin molded product mixed with this powder have low dielectric constant and dielectric loss tangent. In addition, the resin composition containing the powder according to the examples is excellent in filterability and injectability.

Claims (7)

무공질의 외각의 내부에 공동을 갖는 중공 입자를 포함하는 분체이며,
상기 분체의 평균 입자경(D50)이 1.0 내지 10.0㎛이고, 입자경 1.0㎛ 미만의 미소 입자의 함유량이 10체적% 이하이고, 입자경 8.0㎛를 초과하는 조대 입자의 함유량이 20체적% 이하이고,
상기 분체를 물에 현탁시켰을 때, 부유 입자가 0.5 내지 15.0질량%, 현탁 입자가 0 내지 4.0질량%, 침강 입자가 81.0 내지 99.5질량%인 것을 특징으로 하는 분체.
It is a powder containing hollow particles with cavities inside a non-porous outer shell,
The average particle diameter (D50) of the powder is 1.0 to 10.0 μm, the content of fine particles with a particle diameter of less than 1.0 μm is 10% by volume or less, and the content of coarse particles with a particle size exceeding 8.0 μm is 20% by volume or less,
A powder characterized in that, when the powder is suspended in water, floating particles are 0.5 to 15.0 mass%, suspended particles are 0 to 4.0 mass%, and settled particles are 81.0 to 99.5 mass%.
제1항에 있어서, 입도 변동 계수(CV값)가 60% 이하인, 분체.The powder according to claim 1, wherein the particle size variation coefficient (CV value) is 60% or less. 제1항 또는 제2항에 기재된 분체를 수지 재료에 배합하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물의 제조 방법.A method for producing a resin composition, comprising mixing the powder according to claim 1 or 2 with a resin material. 규산 알칼리 수용액을 열풍 기류 중에서 분무 건조시켜 입자를 조제하는 제1 공정과,
상기 입자에 포함되는 알칼리를 제거하는 제2 공정과,
상기 알칼리 제거된 입자를 소성하는 제3 공정
을 갖고,
상기 제1 공정과 상기 제3 공정 사이에, 입자경 1.0㎛ 미만의 미소 입자 및 입자경 8.0㎛를 초과하는 조대 입자를 제거하는 분급 공정이 마련된 것을 특징으로 하는 분체의 제조 방법.
A first step of preparing particles by spray drying an aqueous silicate alkali solution in a hot air stream;
A second process of removing alkali contained in the particles,
Third process of baking the alkali-removed particles
With
A method for producing powder, characterized in that between the first step and the third step, a classification step is provided to remove fine particles with a particle size of less than 1.0 μm and coarse particles with a particle size of more than 8.0 μm.
제4항에 있어서, 상기 제2 공정에 있어서, 입자에 포함되는 알칼리양을 300ppm 이하로 저감시키는 것을 특징으로 하는 분체 제조 방법.The powder manufacturing method according to claim 4, wherein in the second step, the amount of alkali contained in the particles is reduced to 300 ppm or less. 제4항 또는 제5항에 있어서, 상기 제3 공정 전에, 상기 중공 입자를 건조시키는 건조 공정이 마련됨과 함께,
상기 건조 공정과 상기 제3 공정 사이에, 상기 분급 공정이 마련된 것을 특징으로 하는 분체의 제조 방법.
The method according to claim 4 or 5, wherein before the third step, a drying step for drying the hollow particles is provided,
A method for producing powder, characterized in that the classification process is provided between the drying process and the third process.
제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 분급 공정에 있어서, 상기 미소 입자와 상기 조대 입자가 습식 분급 처리에 의해 제거되는 것을 특징으로 하는 분체의 제조 방법.The method for producing powder according to any one of claims 4 to 6, wherein in the classification step, the fine particles and the coarse particles are removed by a wet classification treatment.
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