JP6621570B2 - Lithographic printing plate precursor and lithographic printing plate preparation method - Google Patents

Lithographic printing plate precursor and lithographic printing plate preparation method Download PDF

Info

Publication number
JP6621570B2
JP6621570B2 JP2019529772A JP2019529772A JP6621570B2 JP 6621570 B2 JP6621570 B2 JP 6621570B2 JP 2019529772 A JP2019529772 A JP 2019529772A JP 2019529772 A JP2019529772 A JP 2019529772A JP 6621570 B2 JP6621570 B2 JP 6621570B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
lithographic printing
printing plate
plate precursor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019529772A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2019013268A1 (en
Inventor
洋平 石地
洋平 石地
啓介 野越
啓介 野越
稲崎 毅
毅 稲崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=65001685&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP6621570(B2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Application granted granted Critical
Publication of JP6621570B2 publication Critical patent/JP6621570B2/en
Publication of JPWO2019013268A1 publication Critical patent/JPWO2019013268A1/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1041Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by modification of the lithographic properties without removal or addition of material, e.g. by the mere generation of a lithographic pattern
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/10Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by inorganic compounds, e.g. pigments
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/04Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/08Developable by water or the fountain solution
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers

Description

本開示は、平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法に関する。   The present disclosure relates to a lithographic printing plate precursor and a method for producing a lithographic printing plate.

一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部(インキ非受容部)として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層(画像記録層)を設けてなる平版印刷版原版(PS版)が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルムなどの原画を通した露光を行った後、画像記録層の画像部となる部分を残存させ、それ以外の不要な画像記録層をアルカリ性現像液又は有機溶剤によって溶解除去し、親水性の支持体表面を露出させて非画像部を形成する方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。
In general, a lithographic printing plate comprises an oleophilic image area that receives ink in the printing process and a hydrophilic non-image area that receives dampening water. Lithographic printing utilizes the property that water and oil-based inks repel each other, so that the oleophilic image area of the lithographic printing plate is the ink receiving area and the hydrophilic non-image area is dampened with the water receiving area (ink non-receiving area). As described above, a difference in ink adhesion is caused on the surface of a lithographic printing plate, and after ink is applied only to an image portion, the ink is transferred to a printing medium such as paper and printed.
In order to produce this lithographic printing plate, a lithographic printing plate precursor (PS plate) in which an oleophilic photosensitive resin layer (image recording layer) is provided on a hydrophilic support has been widely used. Usually, the lithographic printing plate precursor is exposed through an original image such as a lithographic film, and then the portion that becomes the image portion of the image recording layer is left, and the other unnecessary image recording layer is made an alkaline developer or organic A lithographic printing plate is obtained by performing plate making by a method of dissolving and removing with a solvent and exposing a hydrophilic support surface to form a non-image portion.

また、地球環境への関心の高まりから、現像処理などの湿式処理に伴う廃液に関する環境課題がクローズアップされている。
上記の環境課題に対して、現像あるいは製版の簡易化や無処理化が指向されている。簡易な作製方法の一つとしては、「機上現像」と呼ばれる方法が行われている。すなわち、平版印刷版原版を露光後、従来の現像は行わず、そのまま印刷機に装着して、画像記録層の不要部分の除去を通常の印刷工程の初期段階で行う方法である。
従来の平版印刷版原版としては、例えば、米国特許出願公開第2009/0047599号明細書、又は、米国特許出願公開第2013/0052582号明細書に記載されたものが挙げられる。
In addition, due to growing interest in the global environment, environmental issues related to waste liquids associated with wet processing such as development processing have been highlighted.
For the above environmental problems, simplification and no processing of development or plate making are directed. As one simple manufacturing method, a method called “on-press development” is performed. That is, after the exposure of the lithographic printing plate precursor, conventional development is not performed, but it is mounted on a printing machine as it is, and unnecessary portions of the image recording layer are removed at the initial stage of a normal printing process.
Examples of conventional lithographic printing plate precursors include those described in US Patent Application Publication No. 2009/0047599 or US Patent Application Publication No. 2013/0052582.

平版印刷版においては、版の印刷可能な枚数(以下、「耐刷性」ともいう。)に優れた平版印刷版が求められている。
本発明者らは、鋭意検討した結果、米国特許出願公開第2009/0047599号明細書、又は、米国特許出願公開第2013/0052582号明細書に記載の平版印刷版原版では、得られる平版印刷版の耐刷性が不十分であり、また、露光部分の発色も不十分であるという問題点が存在することを見出した。
In the planographic printing plate, a planographic printing plate excellent in the number of printable plates (hereinafter also referred to as “printing durability”) is required.
As a result of intensive studies, the present inventors have found that the lithographic printing plate precursor described in US Patent Application Publication No. 2009/0047599 or US Patent Application Publication No. 2013/0052582 is a lithographic printing plate to be obtained. It has been found that there is a problem that the printing durability of the ink is insufficient and the color of the exposed part is also insufficient.

本発明の実施形態が解決しようとする課題は、耐刷性に優れる平版印刷版が得られ、発色性に優れる平版印刷版原版を提供することである。
本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法を提供することである。
The problem to be solved by the embodiments of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor having excellent printing durability and a lithographic printing plate precursor having excellent color development.
The problem to be solved by another embodiment of the present invention is to provide a method for preparing a lithographic printing plate using the lithographic printing plate precursor.

上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
<1> 親水性支持体上に画像記録層を有し、上記画像記録層が、重合開始剤、赤外線吸収剤、重合性化合物、及び、酸発色剤を含み、上記赤外線吸収剤が、下記式1で表される化合物を含む平版印刷版原版。
Means for solving the above problems include the following aspects.
<1> It has an image recording layer on a hydrophilic support, and the image recording layer contains a polymerization initiator, an infrared absorber, a polymerizable compound, and an acid color former, and the infrared absorber has the following formula: A lithographic printing plate precursor comprising a compound represented by 1.

及びRはそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、R及びRは互いに連結して環を形成してもよく、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、R及びRはそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Y及びYはそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、−NR−又はジアルキルメチレン基を表し、Ar及びArはそれぞれ独立に、後述する−Xを有していてもよいベンゼン環又はナフタレン環を形成する基を表し、Aは、−NR10、−X−L又は後述する−Xを表し、R及びR10はそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基又はアリールスルホニル基を表し、Xは酸素原子又は硫黄原子を表し、Lは炭化水素基、ヘテロアリール基、又は、熱若しくは赤外線露光によりXとの結合が開裂する基を表し、Zaは電荷を中和する対イオンを表し、Ar及びArの少なくとも一方に、下記式2で表される基を有する。
−X 式2
Xは、ハロゲン原子、−C(=O)−X−R11、−C(=O)−NR1213、−O−C(=O)−R14、−CN、−SONR1516、又は、パーフルオロアルキル基を表し、Xは、単結合又は酸素原子を表し、R11及びR14はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、R12、R13、R15及びR16はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。
R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group, R 1 and R 2 may be linked to each other to form a ring, and R 3 to R 6 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group. R 7 and R 8 each independently represents an alkyl group or an aryl group, Y 1 and Y 2 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, —NR 0 — or a dialkylmethylene group, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a group which forms a benzene ring or a naphthalene ring which may have -X described later, and A 1 represents -NR 9 R 10 , -X 1 -L 1 or described later. represents -X to each R 9 and R 10 are independently an alkyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group, or an arylsulfonyl group, X 1 is an oxygen atom or a sulfur atom, L 1 represents a hydrocarbon , Heteroaryl group, or represents a bond cleaves group of X 1 by the heat or infrared exposure, Za represents a counter ion for neutralizing the electric charge, at least one of Ar 1 and Ar 2, by the following formula 2 Having the group represented.
-X Formula 2
X is a halogen atom, —C (═O) —X 2 —R 11 , —C (═O) —NR 12 R 13 , —O—C (═O) —R 14 , —CN, —SO 2 NR 15 R 16 or a perfluoroalkyl group, X 2 represents a single bond or an oxygen atom, R 11 and R 14 each independently represents an alkyl group or an aryl group, R 12 , R 13 , R 15 and R 16 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.

<2> 上記式1において、Ar及びArの一方のみに、上記式2で表される基を有する、上記<1>に記載の平版印刷版原版。
<3> 上記式2のXが、フッ素原子、塩素原子又は−C(=O)OR17である、上記<1>又は<2>に記載の平版印刷版原版。
なお、R17は、アルキル基又はアリール基を表す。
<4> 上記式1において、Aが−NR1819又は−S−R20である、上記<2>又は<3>に記載の平版印刷版原版。
なお、R18及びR19はそれぞれ独立に、アリール基を表し、R20は炭化水素基又はヘテロアリール基を表す。
<5> 上記式1で表される化合物のHOMOと上記重合開始剤のうち少なくとも1つの化合物のHOMOとの差が、0.60eV以下である、上記<1>〜<4>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版。
<6> 上記重合開始剤が、ボレート化合物である、上記<1>〜<5>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版。
<7> 上記ボレート化合物が、テトラアリールボレート化合物又はモノアルキルトリアリールボレート化合物である、上記<6>に記載の平版印刷版原版。
<8> 上記重合開始剤が、電子供与型重合開始剤及び電子受容型重合開始剤を含む上記<1>〜<7>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版。
<9> 上記酸発色剤が、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、スピロラクトン化合物、及び、スピロラクタム化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物である、上記<1>〜<8>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版。
<10> 上記Zaが、炭素原子を含む有機アニオンである、上記<1>〜<9>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版。
<11> 上記Zaが、スルホンイミドアニオンである、上記<1>〜<10>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版。
<12> 上記<1>〜<11>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版を、画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する工程、及び、
印刷インキ及び湿し水の少なくとも一方を供給して上記未露光部を除去する工程を含む
平版印刷版の作製方法。
<2> The lithographic printing plate precursor as described in <1> above, wherein in the formula 1, only one of Ar 1 and Ar 2 has a group represented by the formula 2.
<3> The lithographic printing plate precursor as described in <1> or <2> above, wherein X in the formula 2 is a fluorine atom, a chlorine atom or —C (═O) OR 17 .
R 17 represents an alkyl group or an aryl group.
<4> The lithographic printing plate precursor as described in <2> or <3> above, wherein in the formula 1, A 1 is —NR 18 R 19 or —S—R 20 .
R 18 and R 19 each independently represents an aryl group, and R 20 represents a hydrocarbon group or a heteroaryl group.
<5> Any one of the above <1> to <4>, wherein the difference between the HOMO of the compound represented by Formula 1 and the HOMO of at least one of the polymerization initiators is 0.60 eV or less. The lithographic printing plate precursor described in 1.
<6> The lithographic printing plate precursor as described in any one of <1> to <5>, wherein the polymerization initiator is a borate compound.
<7> The lithographic printing plate precursor as described in <6>, wherein the borate compound is a tetraarylborate compound or a monoalkyltriarylborate compound.
<8> The lithographic printing plate precursor as described in any one of <1> to <7>, wherein the polymerization initiator includes an electron donating polymerization initiator and an electron accepting polymerization initiator.
<9> Any of the above <1> to <8>, wherein the acid color former is at least one compound selected from the group consisting of a spiropyran compound, a spirooxazine compound, a spirolactone compound, and a spirolactam compound. The lithographic printing plate precursor as described in one.
<10> The lithographic printing plate precursor as described in any one of <1> to <9>, wherein Za is an organic anion containing a carbon atom.
<11> The lithographic printing plate precursor as described in any one of <1> to <10>, wherein Za is a sulfonimide anion.
<12> The step of exposing the lithographic printing plate precursor according to any one of the above <1> to <11> imagewise to form an exposed portion and an unexposed portion; and
A method for preparing a lithographic printing plate comprising a step of supplying at least one of printing ink and fountain solution to remove the unexposed portion.

本発明の実施形態によれば、耐刷性に優れる平版印刷版が得られ、発色性に優れる平版印刷版原版を提供することができる。
また、本発明の他の実施形態によれば、上記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法を提供することができる。
According to the embodiment of the present invention, a lithographic printing plate having excellent printing durability can be obtained, and a lithographic printing plate precursor having excellent color development can be provided.
According to another embodiment of the present invention, a method for producing a lithographic printing plate using the lithographic printing plate precursor can be provided.

以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、数値範囲を示す「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
また、本明細書における基(原子団)の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
本明細書において、「(メタ)アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念で用いられる語であり、「(メタ)アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの両方を包含する概念として用いられる語である。
また、本明細書中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。 また、本開示において、「質量%」と「重量%」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
更に、本開示において、2以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
また、本開示における重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、特に断りのない限り、TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL、TSKgel G2000HxL(何れも東ソー(株)製の商品名)のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)分析装置により、溶媒THF(テトラヒドロフラン)、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
本明細書において、「平版印刷版原版」の用語は、平版印刷版原版だけでなく、捨て版原版を包含する。また、「平版印刷版」の用語は、平版印刷版原版を、必要により、露光、現像などの操作を経て作製された平版印刷版だけでなく、捨て版を包含する。捨て版原版の場合には、必ずしも、露光、現像の操作は必要ない。なお、捨て版とは、例えばカラーの新聞印刷において一部の紙面を単色又は2色で印刷を行う場合に、使用しない版胴に取り付けるための平版印刷版原版である。
以下、本開示を詳細に説明する。
Hereinafter, the contents of the present disclosure will be described in detail. The description of the constituent elements described below may be made based on typical embodiments of the present disclosure, but the present disclosure is not limited to such embodiments.
In addition, in this specification, "-" which shows a numerical range is used by the meaning which includes the numerical value described before and behind that as a lower limit and an upper limit.
Moreover, in the description of groups (atomic groups) in this specification, the description that does not indicate substitution and non-substitution includes those that have a substituent as well as those that do not have a substituent. For example, the “alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
In this specification, “(meth) acryl” is a term used in a concept including both acryl and methacryl, and “(meth) acryloyl” is a term used as a concept including both acryloyl and methacryloyl. It is.
In addition, the term “process” in this specification is not limited to an independent process, and even if it cannot be clearly distinguished from other processes, the term is used as long as the intended purpose of the process is achieved. included. In the present disclosure, “mass%” and “weight%” are synonymous, and “part by mass” and “part by weight” are synonymous.
Furthermore, in the present disclosure, a combination of two or more preferred embodiments is a more preferred embodiment.
In addition, the weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) in the present disclosure use columns of TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL, and TSKgel G2000HxL (all trade names manufactured by Tosoh Corporation) unless otherwise specified. The molecular weight was detected by a gel permeation chromatography (GPC) analyzer using a solvent THF (tetrahydrofuran) and a differential refractometer and converted using polystyrene as a standard substance.
In the present specification, the term “lithographic printing plate precursor” includes not only a lithographic printing plate precursor but also a discarded plate precursor. Further, the term “lithographic printing plate” includes not only a lithographic printing plate prepared by subjecting a lithographic printing plate precursor to operations such as exposure and development, but also a discarded plate. In the case of a discarded original plate, exposure and development operations are not necessarily required. The discarded plate is a lithographic printing plate precursor to be attached to a plate cylinder that is not used when, for example, printing a part of paper in single color or two colors in color newspaper printing.
Hereinafter, the present disclosure will be described in detail.

(平版印刷版原版)
本開示に係る平版印刷版原版は、親水性支持体上に画像記録層を有し、上記画像記録層が、重合開始剤、赤外線吸収剤、重合性化合物、及び、酸発色剤を含み、上記赤外線吸収剤が、下記式1で表される化合物を含む。
また、本開示に係る平版印刷版原版は、機上現像用平版印刷版原版として好適に用いることができる。
(Lithographic printing plate precursor)
The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure has an image recording layer on a hydrophilic support, and the image recording layer contains a polymerization initiator, an infrared absorber, a polymerizable compound, and an acid color former, An infrared absorber contains the compound represented by following formula 1.
Moreover, the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure can be suitably used as a lithographic printing plate precursor for on-press development.

及びRはそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、R及びRは互いに連結して環を形成してもよく、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、R及びRはそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Y及びYはそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、−NR−又はジアルキルメチレン基を表し、Ar及びArはそれぞれ独立に、後述する−Xを有していてもよいベンゼン環又はナフタレン環を形成する基を表し、Aは、−NR10、−X−L又は後述する−Xを表し、R及びR10はそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基又はアリールスルホニル基を表し、Xは酸素原子又は硫黄原子を表し、Lは炭化水素基、ヘテロアリール基、又は、熱若しくは赤外線露光によりXとの結合が開裂する基を表し、Zaは電荷を中和する対イオンを表し、Ar及びArの少なくとも一方に、下記式2で表される基を有する。
−X 式2
Xは、ハロゲン原子、−C(=O)−X−R11、−C(=O)−NR1213、−O−C(=O)−R14、−CN、−SONR1516、又は、パーフルオロアルキル基を表し、Xは、単結合又は酸素原子を表し、R11及びR14はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、R12、R13、R15及びR16はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。
R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group, R 1 and R 2 may be linked to each other to form a ring, and R 3 to R 6 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group. R 7 and R 8 each independently represents an alkyl group or an aryl group, Y 1 and Y 2 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, —NR 0 — or a dialkylmethylene group, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a group which forms a benzene ring or a naphthalene ring which may have -X described later, and A 1 represents -NR 9 R 10 , -X 1 -L 1 or described later. represents -X to each R 9 and R 10 are independently an alkyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group, or an arylsulfonyl group, X 1 is an oxygen atom or a sulfur atom, L 1 represents a hydrocarbon , Heteroaryl group, or represents a bond cleaves group of X 1 by the heat or infrared exposure, Za represents a counter ion for neutralizing the electric charge, at least one of Ar 1 and Ar 2, by the following formula 2 Having the group represented.
-X Formula 2
X is a halogen atom, —C (═O) —X 2 —R 11 , —C (═O) —NR 12 R 13 , —O—C (═O) —R 14 , —CN, —SO 2 NR 15 R 16 or a perfluoroalkyl group, X 2 represents a single bond or an oxygen atom, R 11 and R 14 each independently represents an alkyl group or an aryl group, R 12 , R 13 , R 15 and R 16 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.

上述したように、本発明者らは、従来の平版印刷版原版では、得られる平版印刷版の耐刷性が不十分であり、また、露光部分の発色も不十分であるという問題点が存在することを見出した。
また、酸発色剤の分解を促進するため、酸基を有する赤外線吸収剤を用いた場合は、耐刷性に劣るだけでなく、未露光部分においても一部酸発色剤が分解するため、露光前に一部発色が生じており、露光後の色の差が小さく、発色性にも劣ることを、本発明者らは見出した。
As described above, the present inventors have a problem that conventional lithographic printing plate precursors have insufficient printing durability of the obtained lithographic printing plate and insufficient color development at exposed portions. I found out.
In addition, in order to accelerate the decomposition of the acid color former, when using an infrared absorber having an acid group, not only is the printing durability inferior, but the acid color former is also partially decomposed in the unexposed part, The present inventors have found that partial color development has occurred before, the color difference after exposure is small, and the color developability is also poor.

本発明者らが鋭意検討した結果、上記構成をとることにより、耐刷性に優れる平版印刷版が得られ、発色性に優れる平版印刷版原版を提供できることを見出した。
上記効果が得られる詳細なメカニズムは不明であるが、以下のように推測される。
式1で表される化合物は、酸基でない特定の電子求引性基−Xを特定の位置に有するため、−Xを特定の位置に有しない化合物と比較し、上記式1で表される化合物のHOMO(最高被占軌道)が低下しており、上記式1で表される化合物のHOMOと重合開始剤のうち少なくとも1つの化合物のHOMOとの差が小さくなっていると推定している。
特定の電子求引性基−Xを特定の位置に有する上記式1で表される化合物と、重合開始剤を併用することにより、露光時において、重合開始剤から上記式1で表される化合物へ電子移動が生じ、重合開始剤の分解により、酸等が生じるため、酸発色剤の露光分解率が向上し、発色性に優れると推定している。更に、重合開始剤が、電子供与型重合開始剤及び電子受容型重合開始剤を含み、上記式1で表される化合物、重合性化合物、及び、酸発色剤を含有することにより、より耐刷性が向上すると推定している。
As a result of intensive studies by the present inventors, it has been found that a lithographic printing plate having excellent printing durability can be obtained by adopting the above configuration, and a lithographic printing plate precursor having excellent color development can be provided.
Although the detailed mechanism by which the above effect is obtained is unknown, it is presumed as follows.
Since the compound represented by Formula 1 has a specific electron-withdrawing group -X that is not an acid group at a specific position, the compound represented by Formula 1 is compared with a compound that does not have -X at a specific position. It is estimated that the HOMO (maximum occupied orbital) of the compound is lowered, and the difference between the HOMO of the compound represented by the above formula 1 and the HOMO of at least one of the polymerization initiators is reduced. .
A compound represented by the above formula 1 from the polymerization initiator at the time of exposure by using a compound represented by the above formula 1 having a specific electron withdrawing group -X at a specific position and a polymerization initiator. It is presumed that the exposure decomposition rate of the acid color former is improved and the color developability is excellent, because the electron transfer occurs and the decomposition of the polymerization initiator causes an acid or the like. Furthermore, when the polymerization initiator contains an electron donating polymerization initiator and an electron accepting polymerization initiator, and contains a compound represented by the above formula 1, a polymerizable compound, and an acid color former, printing durability is further improved. Is estimated to improve.

<画像記録層>
本開示に係る平版印刷版原版は、重合開始剤、赤外線吸収剤、重合性化合物、及び、酸発色剤を含む画像記録層を有し、上記赤外線吸収剤が、下記式1で表される化合物を含む。
本開示に用いられる画像記録層は、ネガ型画像記録層であることが好ましく、水溶性又は水分散性のネガ型画像記録層であることがより好ましい。
本開示に係る平版印刷版原版は、機上現像性の観点から、画像記録層の未露光部が湿し水及び印刷インキの少なくともいずれかにより除去可能であることが好ましい。
以下、画像記録層に含まれる各成分の詳細について説明する。
<Image recording layer>
A lithographic printing plate precursor according to the present disclosure has an image recording layer containing a polymerization initiator, an infrared absorber, a polymerizable compound, and an acid color former, and the infrared absorber is a compound represented by the following formula 1. including.
The image recording layer used in the present disclosure is preferably a negative image recording layer, and more preferably a water-soluble or water-dispersible negative image recording layer.
In the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure, it is preferable that the unexposed portion of the image recording layer can be removed with at least one of dampening water and printing ink from the viewpoint of on-press developability.
Details of each component included in the image recording layer will be described below.

−式1で表される化合物−
本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層は、赤外線吸収剤を含み、上記赤外線吸収剤は、上記式1で表される化合物を含む。
赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機能と赤外線により励起して後述の重合開始剤に電子移動及びエネルギー移動の少なくともいずれかを行う機能を有する。本開示において使用される赤外線吸収剤は、波長750nm〜1,400nmに吸収極大を有する染料であることが好ましい。
-Compound represented by Formula 1-
The image recording layer in the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure contains an infrared absorber, and the infrared absorber contains a compound represented by Formula 1 above.
The infrared absorber has a function of converting the absorbed infrared light into heat and a function of exciting at least one of electron transfer and energy transfer to the polymerization initiator described later. The infrared absorbent used in the present disclosure is preferably a dye having an absorption maximum at a wavelength of 750 nm to 1,400 nm.

Ar及びArはそれぞれ独立に、ベンゼン環又はナフタレン環を形成する基を表す。上記ベンゼン環及びナフタレン環上には、−X以外の置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、カルボキシ基、カルボキシレート基、スルホ基、スルホネート基、及び、これらを組み合わせた基等が挙げられるが、アルキル基であることが好ましい。
また、式1においては、Ar及びArの少なくとも一方に、上記式2で表される基を有し、耐刷性、発色性、及び、画像記録層の形成に用いる塗布液の経時における保存安定性(経時安定性)の観点から、Ar及びArの一方のみに、上記式2で表される基を有することが好ましい。
Ar 1 and Ar 2 each independently represent a group that forms a benzene ring or a naphthalene ring. The benzene ring and naphthalene ring may have a substituent other than -X. Examples of the substituent include alkyl groups, alkoxy groups, aryloxy groups, amino groups, alkylthio groups, arylthio groups, carboxy groups, carboxylate groups, sulfo groups, sulfonate groups, and combinations of these. A group is preferred.
Further, in Formula 1, at least one of Ar 1 and Ar 2 has the group represented by Formula 2 above, and the printing durability, color developability, and the coating solution used for forming the image recording layer over time From the viewpoint of storage stability (stability over time), it is preferable that only one of Ar 1 and Ar 2 has a group represented by Formula 2 above.

式2におけるXは、ハロゲン原子、−C(=O)−X−R11、−C(=O)−NR1213、−O−C(=O)−R14、−CN、−SONR1516、又は、パーフルオロアルキル基を表し、耐刷性、発色性及び経時安定性の観点から、ハロゲン原子、−C(=O)−X−R11、−C(=O)−NR1213、−O−C(=O)−R14、CN、又は、−SONR1516であることが好ましく、ハロゲン原子、−C(=O)−O−R11、−C(=O)−NR1213、又は、−O−C(=O)−R14であることが好ましく、ハロゲン原子、−C(=O)−O−R11、又は、−O−C(=O)−R14であることが更に好ましく、フッ素原子、塩素原子、又は、−C(=O)OR17であることが特に好ましい。X in Formula 2 is a halogen atom, —C (═O) —X 2 —R 11 , —C (═O) —NR 12 R 13 , —O—C (═O) —R 14 , —CN, — SO 2 NR 15 R 16 , or a perfluoroalkyl group, from the viewpoints of printing durability, color developability and stability over time, a halogen atom, —C (═O) —X 2 —R 11 , —C (= O) —NR 12 R 13 , —O—C (═O) —R 14 , CN, or —SO 2 NR 15 R 16 is preferred, and a halogen atom, —C (═O) —O—R 11 , —C (═O) —NR 12 R 13 , or —O—C (═O) —R 14 , preferably a halogen atom, —C (═O) —O—R 11 , or more preferably -O-C (= O) -R 14, fluorine atom, chlorine atom, or, -C (= O) O It is particularly preferred is 17.

は、単結合又は酸素原子を表し、酸素原子であることが好ましい。
11及びR14はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基であることが好ましく、炭素数1〜12のアルキル基であることがより好ましい。
12、R13、R15及びR16はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基であることが好ましく、水素原子又は炭素数1〜12のアルキル基であることがより好ましく、炭素数1〜12のアルキル基であることが更に好ましい。
17は、アルキル基又はアリール基を表し、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基であることが好ましく、炭素数1〜12のアルキル基であることがより好ましい。
X 2 represents a single bond or an oxygen atom, and is preferably an oxygen atom.
R 11 and R 14 each independently represent an alkyl group or an aryl group, preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. More preferably.
R 12 , R 13 , R 15 and R 16 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Are preferable, a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms is more preferable, and an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms is still more preferable.
R 17 represents an alkyl group or an aryl group, preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.

は、−NR10、−X−L又は−Xを表し、耐刷性、発色性及び経時安定性の観点から、−NR10又は−X−Lであることが好ましく、−NR1819、−S−R20であることがより好ましい。
及びR10はそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基又はアリールスルホニル基を表し、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基であることが好ましく、炭素数1〜12のアルキル基であることがより好ましい。
は酸素原子又は硫黄原子を表し、Lが炭化水素基又はヘテロアリール基である場合は、硫黄原子であることが好ましく、Lが熱若しくは赤外線露光によりXとの結合が開裂する基であることが好ましい。
は炭化水素基、ヘテロアリール基、又は、熱若しくは赤外線露光によりXとの結合が開裂する基を表し、耐刷性の観点からは、炭化水素基又はヘテロアリール基が好ましく、アリール基又はヘテロアリール基がより好ましく、ヘテロアリール基が更に好ましい。
また、Lは、発色性及び経時における退色抑制性の観点からは、熱若しくは赤外線露光によりXとの結合が開裂する基が好ましい。
熱若しくは赤外線露光によりXとの結合が開裂する基については、後述する。
18及びR19はそれぞれ独立に、アリール基を表し、炭素数6〜20のアリール基であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。
20は炭化水素基又はヘテロアリール基を表し、アリール基又はヘテロアリール基が好ましく、ヘテロアリール基がより好ましい。
A 1 represents -NR 9 R 10 , -X 1 -L 1 or -X, and is -NR 9 R 10 or -X 1 -L 1 from the viewpoints of printing durability, color developability, and stability over time. It is preferable that it is -NR < 18 > R < 19 >, -S-R < 20 >.
R 9 and R 10 each independently represents an alkyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group or an arylsulfonyl group, preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, It is more preferable that it is a C1-C12 alkyl group.
X 1 represents an oxygen atom or a sulfur atom, L 1 is a hydrocarbon group or a heteroaryl group is preferably a sulfur atom, the coupling of L 1 is the X 1 by the heat or infrared exposure cleaved It is preferably a group.
L 1 represents a hydrocarbon group, a heteroaryl group, or a group whose bond with X 1 is cleaved by thermal or infrared exposure, and is preferably a hydrocarbon group or a heteroaryl group from the viewpoint of printing durability. Or a heteroaryl group is more preferable, and a heteroaryl group is still more preferable.
In addition, L 1 is preferably a group in which the bond with X 1 is cleaved by heat or infrared exposure from the viewpoint of color developability and color fading suppression over time.
A group whose bond to X 1 is cleaved by heat or infrared exposure will be described later.
R 18 and R 19 each independently represents an aryl group, preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and more preferably a phenyl group.
R 20 represents a hydrocarbon group or a heteroaryl group, preferably an aryl group or a heteroaryl group, and more preferably a heteroaryl group.

及びR20におけるヘテロアリール基としては、下記の基が好ましく挙げられる。Preferred examples of the heteroaryl group for L 1 and R 20 include the following groups.

〜R10、及びRにおけるアルキル基は、炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、炭素数1〜15のアルキル基がより好ましく、炭素数1〜10のアルキル基が更に好ましい。上記アルキル基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、及び、2−ノルボルニル基を挙げられる。
これらアルキル基の中でも、メチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基が特に好ましい。
The alkyl group in R 1 to R 10 and R 0 is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, and still more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. The alkyl group may be linear, branched or a ring structure.
Specifically, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group Group, eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl Group and 2-norbornyl group.
Among these alkyl groups, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group is particularly preferable.

また、上記アルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基の例としては、アルコキシ基、アリーロキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、カルボキシ基、カルボキシレート基、スルホ基、スルホネート基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、及び、これらを組み合わせた基等が挙げられる。   The alkyl group may have a substituent. Examples of substituents include alkoxy groups, aryloxy groups, amino groups, alkylthio groups, arylthio groups, halogen atoms, carboxy groups, carboxylate groups, sulfo groups, sulfonate groups, alkyloxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, and Examples include a combination of these.

、R10、R18、R19及びRにおけるアリール基としては、炭素数6〜30のアリール基が好ましく、炭素数6〜20のアリール基がより好ましく、炭素数6〜12のアリール基が更に好ましい。
また、上記アリール基は、置換基を有していてもよい。置換基の例としては、アルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、カルボキシ基、カルボキシレート基、スルホ基、スルホネート基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、及び、これらを組み合わせた基等が挙げられる。
上記アリール基としては具体的には、例えば、フェニル基、ナフチル基、p−トリル基、p−クロロフェニル基、p−フルオロフェニル基、p−メトキシフェニル基、p−ジメチルアミノフェニル基、p−メチルチオフェニル基、p−フェニルチオフェニル基等が挙げられる。
これらアリール基の中で、フェニル基、p−メトキシフェニル基、p−ジメチルアミノフェニル基、ナフチル基が好ましい。
The aryl group in R 9 , R 10 , R 18 , R 19 and R 0 is preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Groups are more preferred.
The aryl group may have a substituent. Examples of substituents include alkyl groups, alkoxy groups, aryloxy groups, amino groups, alkylthio groups, arylthio groups, halogen atoms, carboxy groups, carboxylate groups, sulfo groups, sulfonate groups, alkyloxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups. And a combination of these.
Specific examples of the aryl group include phenyl, naphthyl, p-tolyl, p-chlorophenyl, p-fluorophenyl, p-methoxyphenyl, p-dimethylaminophenyl, and p-methylthio. A phenyl group, p-phenylthiophenyl group, etc. are mentioned.
Of these aryl groups, a phenyl group, a p-methoxyphenyl group, a p-dimethylaminophenyl group, and a naphthyl group are preferable.

及びRは、連結して環を形成していることが好ましい。
及びRが連結して環を形成する場合、好ましい環員数は5又は6員環が好ましく、6員環がより好ましい。また、R及びRが連結して環は、エチレン性不飽和結合を有していてもよい炭化水素環であることが好ましい。
R 1 and R 2 are preferably connected to form a ring.
When R 1 and R 2 are linked to form a ring, the preferred number of ring members is preferably a 5- or 6-membered ring, more preferably a 6-membered ring. Also, by connecting R 1 and R 2 ring is preferably have an ethylenically unsaturated bond is also substituted hydrocarbon ring.

及びYはそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、−NR−又はジアルキルメチレン基を表し、−NR−又は ジアルキルメチレン基が好ましく、ジアルキルメチレン基がより好ましい。
は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、アルキル基であることが好ましい。
Y 1 and Y 2 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, —NR 0 — or a dialkylmethylene group, preferably —NR 0 — or a dialkylmethylene group, and more preferably a dialkylmethylene group.
R 0 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and is preferably an alkyl group.

及びRは、同じ基であることが好ましい。
また、R及びRはそれぞれ独立に、直鎖アルキル基又は末端にスルホネート基を有するアルキル基であることが好ましく、メチル基、エチル基又は末端にスルホネート基を有するブチル基であることがより好ましい。
また、上記スルホネート基の対カチオンは、式1中の窒素原子上のカチオンであってもよいし、アルカリ金属カチオンやアルカリ土類金属カチオンであってもよい。
更に、式1で表される化合物の水溶性をさせる観点から、R及びRはそれぞれ独立に、アニオン構造を有するアルキル基であることが好ましく、カルボキシレート基又はスルホネート基を有するアルキル基であることがより好ましく、末端にスルホネート基を注するアルキル基であることが更に好ましい。
また、式1で表される化合物の極大吸収波長を長波長化し、また、発色性及び平版印刷版における耐刷性の観点から、R及びRはそれぞれ独立に、芳香環を有するアルキル基であることが好ましく、末端に芳香環を有するアルキル基であることがより好ましく、2−フェニルエチル基、2−ナフタレニルエチル基、又は、2−(9−アントラセニル)エチル基であることが特に好ましい。
R 7 and R 8 are preferably the same group.
R 7 and R 8 are each independently preferably a linear alkyl group or an alkyl group having a sulfonate group at the terminal, more preferably a methyl group, an ethyl group or a butyl group having a sulfonate group at the terminal. preferable.
The counter cation of the sulfonate group may be a cation on a nitrogen atom in Formula 1, or may be an alkali metal cation or an alkaline earth metal cation.
Furthermore, from the viewpoint of making the compound represented by Formula 1 water-soluble, R 7 and R 8 are each independently preferably an alkyl group having an anion structure, and an alkyl group having a carboxylate group or a sulfonate group. More preferably, it is an alkyl group in which a sulfonate group is poured at the terminal.
Further, the maximum absorption wavelength of the compound represented by Formula 1 is lengthened, and R 7 and R 8 are each independently an alkyl group having an aromatic ring from the viewpoint of color developability and printing durability in a lithographic printing plate. It is preferable that it is an alkyl group having an aromatic ring at the end, and it is a 2-phenylethyl group, a 2-naphthalenylethyl group, or a 2- (9-anthracenyl) ethyl group. Particularly preferred.

〜Rはそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、水素原子であることが好ましい。R 3 to R 6 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group, and is preferably a hydrogen atom.

Zaは、電荷を中和する対イオンを表し、アニオン種を示す場合は、スルホネートイオン、カルボキシレートイオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、過塩素酸塩イオン、スルホンアミドアニオン、スルホンイミドアニオン等が挙げられる。カチオン種を示す場合は、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン又はスルホニウムイオンが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン又はスルホニウムイオンがより好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン又はアンモニウムイオンが更に好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン又はトリアルキルアンモニウムイオンが特に好ましい。
中でも、Zaは、耐刷性及び発色性の観点から、炭素原子を含む有機アニオンであることが好ましく、スルホネートイオン、カルボキシレートイオン、スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンであることがより好ましく、スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンであることが更に好ましく、スルホンイミドアニオンであることが特に好ましい。
〜R、R、A、Ar、Ar、Y及びYは、アニオン構造やカチオン構造を有していてもよく、R〜R、R、A、Ar、Ar、Y及びYの全てが電荷的に中性の基であれば、Zaは一価の対アニオンであるが、例えば、R〜R、R、A、Ar、Ar、Y及びYに2以上のアニオン構造を有する場合、Zaは対カチオンにもなり得る。
また、式1において、Za以外の部分が電荷的に中性であれば、Zaはなくともよい。
Za represents a counter ion that neutralizes the charge, and when an anion species is indicated, sulfonate ion, carboxylate ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, perchlorate ion, sulfonamide anion, sulfonimide anion Etc. In the case of indicating a cationic species, alkali metal ions, alkaline earth metal ions, ammonium ions, pyridinium ions or sulfonium ions are preferable, sodium ions, potassium ions, ammonium ions, pyridinium ions or sulfonium ions are more preferable, sodium ions, potassium ions Ions or ammonium ions are more preferred, and sodium ions, potassium ions or trialkylammonium ions are particularly preferred.
Among these, Za is preferably an organic anion containing a carbon atom, more preferably a sulfonate ion, a carboxylate ion, a sulfonamide anion or a sulfonimide anion from the viewpoint of printing durability and color development. An anion or a sulfonimide anion is more preferable, and a sulfonimide anion is particularly preferable.
R 1 to R 8 , R 0 , A 1 , Ar 1 , Ar 2 , Y 1 and Y 2 may have an anion structure or a cation structure, and R 1 to R 8 , R 0 , A 1 , If Ar 1 , Ar 2 , Y 1 and Y 2 are all neutral groups, Za is a monovalent counter anion. For example, R 1 to R 8 , R 0 , A 1 , When Ar 1 , Ar 2 , Y 1 and Y 2 have two or more anion structures, Za can also be a counter cation.
In Formula 1, if the portion other than Za is neutral in terms of charge, Za may not be present.

スルホンアミドアニオンとしては、アリールスルホンアミドアニオンが好ましい。
また、スルホンイミドアニオンとしては、ビスアリールスルホンイミドアニオンが好ましい。
スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンの具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記具体例中、Phはフェニル基を、Meはメチル基を、Etはエチル基を、それぞれ表す。
As the sulfonamide anion, an arylsulfonamide anion is preferable.
Moreover, as a sulfonimide anion, a bisaryl sulfonimide anion is preferable.
Specific examples of the sulfonamide anion or the sulfonimide anion are shown below, but the present disclosure is not limited thereto. In the following specific examples, Ph represents a phenyl group, Me represents a methyl group, and Et represents an ethyl group.

上記熱又は赤外線露光によりXとの結合が開裂する基は、発色性の観点から、下記式1−1〜式1−7のいずれかで表される基であることが好ましく、下記式1−1〜式1−3のいずれかで表される基であることがより好ましい。The group whose bond to X 1 is cleaved by heat or infrared exposure is preferably a group represented by any one of the following formulas 1-1 to 1-7 from the viewpoint of color developability. A group represented by any one of -1 to Formula 1-3 is more preferable.

式1−1〜式1−7中、●は、式1中のXとの結合部位を表し、R10はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、−OR14、−NR1516又は−SR17を表し、R11はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、R12はアリール基、−OR14、−NR1516、−SR17、−C(=O)R18、−OC(=O)R18又はハロゲン原子を表し、R13はアリール基、アルケニル基、アルコキシ基又はオニウム基を表し、R14〜R17はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、R18はそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基、−OR14、−NR1516又は−SR17を表し、Zは電荷を中和する対イオンを表す。In Formula 1-1 to Formula 1-7, ● represents a bonding site with X 1 in Formula 1, and each R 10 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, —OR 14 , -NR < 15 > R < 16 > or -SR < 17 >, R < 11 > represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group each independently, R < 12 > is an aryl group, -OR < 14 >, -NR < 15 > R < 16 >,-SR < 17 >, -C (= O) R 18, represents an -OC (= O) R 18, or halogen atom, R 13 is an aryl group, an alkenyl group, an alkoxy group or an onium group, in each of R 14 to R 17 independently, Represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, each of R 18 independently represents an alkyl group, an aryl group, —OR 14 , —NR 15 R 16 or —SR 17 , and Z 1 represents a counter ion that neutralizes charges. The It is.

10、R11及びR14〜R18がアルキル基である場合の好ましい態様は、R〜R及びRにおけるアルキル基の好ましい態様と同様である。
10及びR13におけるアルケニル基の炭素数は、1〜30であることが好ましく、1〜15であることがより好ましく、1〜10であることが更に好ましい。
10〜R18がアリール基である場合の好ましい態様は、Rにおけるアリール基の好ましい態様と同様である。
A preferred embodiment of the case R 10, R 11 and R 14 to R 18 is an alkyl group are the same as the preferred embodiment of the alkyl group in R 2 to R 9 and R 0.
The carbon number of the alkenyl group in R 10 and R 13 is preferably 1-30, more preferably 1-15, and still more preferably 1-10.
A preferred embodiment in which R 10 to R 18 are aryl groups is the same as the preferred embodiment of the aryl group in R 0 .

発色性の観点から、式1−1におけるR10は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、−OR14、−NR1516又は−SR17であることが好ましく、アルキル基、−OR14、−NR1516又は−SR17であることがより好ましく、アルキル基又は−OR14であることが更に好ましく、−OR14であることが特に好ましい。
また、式1−1におけるR10がアルキル基である場合、上記アルキル基は、α位にアリールチオ基又はアルキルオキシカルボニル基を有するアルキル基であることが好ましい。
式1−1におけるR10が−OR14である場合、R14は、アルキル基であることが好ましく、炭素数1〜8のアルキル基であることがより好ましく、イソプロピル基又はt−ブチル基であることが更に好ましく、t−ブチル基であることが特に好ましい。
From the viewpoint of color development, R 10 in Formula 1-1 is preferably an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, —OR 14 , —NR 15 R 16 or —SR 17 , and an alkyl group, —OR 14 , It is more preferably —NR 15 R 16 or —SR 17 , further preferably an alkyl group or —OR 14 , and particularly preferably —OR 14 .
When R 10 in Formula 1-1 is an alkyl group, the alkyl group is preferably an alkyl group having an arylthio group or an alkyloxycarbonyl group at the α-position.
When R 10 in Formula 1-1 is —OR 14 , R 14 is preferably an alkyl group, more preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and an isopropyl group or a t-butyl group. More preferably, it is particularly preferably a t-butyl group.

発色性の観点から、式1−2におけるR11は、水素原子であることが好ましい。
また、発色性の観点から、式1−2におけるR12は、−C(=O)OR14、−OC(=O)OR14又はハロゲン原子であることが好ましく、−C(=O)OR14又は−OC(=O)OR14であることがより好ましい。式1−2におけるR12が−C(=O)OR14又は−OC(=O)OR14である場合、R14は、アルキル基であることが好ましい。
From the viewpoint of color developability, R 11 in Formula 1-2 is preferably a hydrogen atom.
From the viewpoint of color developability, R 12 in Formula 1-2 is preferably —C (═O) OR 14 , —OC (═O) OR 14 or a halogen atom, and —C (═O) OR. 14 or —OC (═O) OR 14 is more preferable. When R 12 in Formula 1-2 is —C (═O) OR 14 or —OC (═O) OR 14 , R 14 is preferably an alkyl group.

発色性の観点から、式1−3におけるR11はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、また、式1−3における少なくとも1つのR11が、アルキル基であることがより好ましい。
また、R11におけるアルキル基は、炭素数1〜10のアルキル基であることが好ましく、炭素数3〜10のアルキル基であることがより好ましい。
更に、R11におけるアルキル基は、分岐を有するアルキル基、又は、シクロアルキル基であることが好ましく、第二級又は第三級アルキル基、又は、シクロアルキル基であることがより好ましく、イソプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、又は、t−ブチル基であることが更に好ましい。
また、発色性の観点から、式1−3におけるR13は、アリール基、アルコキシ基又はオニウム基であることが好ましく、p−ジメチルアミノフェニル基又はピリジニウム基であることがより好ましく、ピリジニウム基であることが更に好ましい。
13におけるオニウム基としては、ピリジニウム基、アンモニウム基、スルホニウム基等が挙げられる。オニウム基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、及び、これらを組み合わせた基等が挙げられるが、アルキル基、アリール基及びこれらを組み合わせた基であることが好ましい。
中でも、ピリジニウム基が好ましく、N−アルキル−3−ピリジニウム基、N−ベンジル−3−ピリジニウム基、N−(アルコキシポリアルキレンオキシアルキル)−3−ピリジニウム基、N−アルコキシカルボニルメチル−3−ピリジニウム基、N−アルキル−4−ピリジニウム基、N−ベンジル−4−ピリジニウム基、N−(アルコキシポリアルキレンオキシアルキル)−4−ピリジニウム基、N−アルコキシカルボニルメチル−4−ピリジニウム基、又は、N−アルキル−3,5−ジメチル−4−ピリジニウム基がより好ましく、N−アルキル−3−ピリジニウム基、又は、N−アルキル−4−ピリジニウム基が更に好ましく、N−メチル−3−ピリジニウム基、N−オクチル−3−ピリジニウム基、N−メチル−4−ピリジニウム基、又は、N−オクチル−4−ピリジニウム基が特に好ましく、N−オクチル−3−ピリジニウム基、又は、N−オクチル−4−ピリジニウム基が最も好ましい。
また、R13がピリジニウム基である場合、対アニオンとしては、スルホネートイオン、カルボキシレートイオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、p−トルエンスルホネートイオン、過塩素酸塩イオン等が挙げられ、p−トルエンスルホネートイオン、又は、ヘキサフルオロホスフェートイオンが好ましい。
From the viewpoint of color developability, each R 11 in Formula 1-3 is preferably independently a hydrogen atom or an alkyl group, and more preferably at least one R 11 in Formula 1-3 is an alkyl group. preferable.
Moreover, the alkyl group in R 11 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 3 to 10 carbon atoms.
Furthermore, the alkyl group in R 11 is preferably a branched alkyl group or a cycloalkyl group, more preferably a secondary or tertiary alkyl group or a cycloalkyl group, and an isopropyl group. , Cyclopentyl group, cyclohexyl group, or t-butyl group is more preferable.
From the viewpoint of color development, R 13 in Formula 1-3 is preferably an aryl group, an alkoxy group or an onium group, more preferably a p-dimethylaminophenyl group or a pyridinium group, and a pyridinium group. More preferably it is.
Examples of the onium group for R 13 include a pyridinium group, an ammonium group, and a sulfonium group. The onium group may have a substituent. Examples of the substituent include alkyl groups, alkoxy groups, aryloxy groups, amino groups, alkylthio groups, arylthio groups, halogen atoms, carboxy groups, sulfo groups, alkyloxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, and combinations of these. However, an alkyl group, an aryl group, and a group obtained by combining these are preferable.
Among these, a pyridinium group is preferable, and an N-alkyl-3-pyridinium group, an N-benzyl-3-pyridinium group, an N- (alkoxypolyalkyleneoxyalkyl) -3-pyridinium group, and an N-alkoxycarbonylmethyl-3-pyridinium group. N-alkyl-4-pyridinium group, N-benzyl-4-pyridinium group, N- (alkoxypolyalkyleneoxyalkyl) -4-pyridinium group, N-alkoxycarbonylmethyl-4-pyridinium group, or N-alkyl -3,5-dimethyl-4-pyridinium group is more preferable, N-alkyl-3-pyridinium group or N-alkyl-4-pyridinium group is more preferable, N-methyl-3-pyridinium group, N-octyl -3-pyridinium group, N-methyl-4-pyridinium group Or, particularly preferably N- octyl-4-pyridinium group, N- octyl-3-pyridinium group or, N- octyl-4-pyridinium group is most preferred.
When R 13 is a pyridinium group, examples of the counter anion include sulfonate ion, carboxylate ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, p-toluenesulfonate ion, perchlorate ion, and the like. -Toluene sulfonate ions or hexafluorophosphate ions are preferred.

発色性の観点から、式1−4におけるR10は、アルキル基又はアリール基であることが好ましく、2つのR10のうち、一方がアルキル基、他方がアリール基であることがより好ましい。
発色性の観点から、式1−5におけるR10は、アルキル基又はアリール基であることが好ましく、アリール基であることがより好ましく、p−メチルフェニル基であることが更に好ましい。
発色性の観点から、式1−6におけるR10はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基であることが好ましく、メチル基又はフェニル基であることがより好ましい。
発色性の観点から、式1−7におけるZは、電荷を中和する対イオンであればよく、化合物全体として、上記Zaに含まれてもよい。
は、スルホネートイオン、カルボキシレートイオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、p−トルエンスルホネートイオン、又は、過塩素酸塩イオンであることが好ましく、p−トルエンスルホネートイオン、又は、ヘキサフルオロホスフェートイオンであることがより好ましい。
From the viewpoint of color developability, R 10 in Formula 1-4 is preferably an alkyl group or an aryl group, more preferably one of two R 10 is an alkyl group and the other is an aryl group.
From the viewpoint of coloring property, R 10 in Formula 1-5 is preferably an alkyl group or an aryl group, more preferably an aryl group, and still more preferably a p-methylphenyl group.
From the viewpoint of color development, each R 10 in Formula 1-6 is preferably independently an alkyl group or an aryl group, and more preferably a methyl group or a phenyl group.
From the viewpoint of color developability, Z 1 in Formula 1-7 may be a counter ion that neutralizes charge, and may be contained in Za as a whole compound.
Z 1 is preferably sulfonate ion, carboxylate ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, p-toluenesulfonate ion or perchlorate ion, and p-toluenesulfonate ion or hexafluoro More preferably, it is a phosphate ion.

また、上記熱若しくは赤外線露光によりXとの結合が開裂する基は、式1−8で表される基であることが特に好ましい。Further, the group whose bond with X 1 is cleaved by the above-described heat or infrared exposure is particularly preferably a group represented by Formula 1-8.

式1−8中、●は、式1中のXとの結合部位を表し、R19及びR20はそれぞれ独立に、アルキル基を表し、Za’は、電荷を中和する対イオンを表す。In Formula 1-8, ● represents a binding site with X 1 in Formula 1, R 19 and R 20 each independently represent an alkyl group, and Za ′ represents a counter ion that neutralizes charge. .

式1−8におけるピリジニウム環とR20を含む炭化水素基との結合位置は、ピリジニウム環の3位又は4位であることが好ましく、ピリジニウム環の4位であることがより好ましい。
19及びR20におけるアルキル基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
また、上記アルキル基は、置換基を有していてもよく、置換基としては、アルコキシ基、及び、末端アルコキシポリアルキレンオキシ基が好ましく挙げられる。
19は、炭素数1〜12のアルキル基であることが好ましく、炭素数1〜12の直鎖アルキル基であることがより好ましく、炭素数1〜8の直鎖アルキル基であることが更に好ましく、メチル基又はn−オクチル基であることが特に好ましい。
20は、炭素数1〜8のアルキル基であることが好ましく、炭素数3〜8の分岐アルキル基であることがより好ましく、イソプロピル基又はt−ブチル基であることが更に好ましく、イソプロピル基であることが特に好ましい。
Za’は、電荷を中和する対イオンであればよく、化合物全体として、上記Zaに含まれてもよい。
Za’は、スルホネートイオン、カルボキシレートイオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、p−トルエンスルホネートイオン、又は、過塩素酸塩イオンであることが好ましく、p−トルエンスルホネートイオン、又は、ヘキサフルオロホスフェートイオンであることがより好ましい。
The bonding position between the pyridinium ring in Formula 1-8 and the hydrocarbon group containing R 20 is preferably the 3-position or 4-position of the pyridinium ring, and more preferably the 4-position of the pyridinium ring.
The alkyl group in R 19 and R 20 may be linear, branched or a ring structure.
The alkyl group may have a substituent, and preferred examples of the substituent include an alkoxy group and a terminal alkoxy polyalkyleneoxy group.
R 19 is preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and further a linear alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. A methyl group or an n-octyl group is particularly preferable.
R 20 is preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a branched alkyl group having 3 to 8 carbon atoms, still more preferably an isopropyl group or a t-butyl group, and an isopropyl group It is particularly preferred that
Za ′ may be any counter ion that neutralizes charge, and may be contained in Za as a whole compound.
Za ′ is preferably a sulfonate ion, a carboxylate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, a p-toluenesulfonate ion, or a perchlorate ion, and a p-toluenesulfonate ion or hexafluoro More preferably, it is a phosphate ion.

以下に式1で表される化合物の好ましい具体例として、母核構造A−1〜A−54、対アニオンB−1〜B−10及び対カチオンC−1〜C−3を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、式1で表される化合物の具体例は、母核構造A−1〜A−9、A−11〜A−20及びA−22〜A−54と、対アニオンB−1〜B−10とをそれぞれ1つずつ組み合わせた化合物、並びに、母核構造A−10及びA−21と対カチオンC−1〜C−3とをそれぞれ1つずつ組み合わせた化合物である。   Specific examples of the compound represented by the formula 1 include mother nucleus structures A-1 to A-54, counter anions B-1 to B-10, and counter cations C-1 to C-3. The invention is not limited to this. Specific examples of the compound represented by Formula 1 include mother nucleus structures A-1 to A-9, A-11 to A-20 and A-22 to A-54, and counter anions B-1 to B-. 10 and a compound obtained by combining one each of the mother nucleus structures A-10 and A-21 and the counter cations C-1 to C-3.

式1で表される化合物の作製方法は、特に制限はなく、公知のシアニン色素の作製方法を参照し、作製することができる。また、国際公開第2016/027886号に記載の方法も好適に用いることができる。   The method for producing the compound represented by Formula 1 is not particularly limited, and can be produced by referring to a known method for producing a cyanine dye. Moreover, the method described in International Publication No. 2016/027886 can also be suitably used.

上記式1で表される化合物赤外線吸収剤のHOMOと後述する重合開始剤のうち少なくとも1つの化合物のHOMOとの差(ΔE)は、耐刷性及び発色性の観点から、0.60eV以下であることが好ましく、0.30eV以上0.60eV以下であることがより好ましく、0.40eV以上0.58eV以下であることが更に好ましく、0.45eV以上0.57eV以下であることが特に好ましい。
また、上記式1で表される化合物赤外線吸収剤のHOMOと電子供与型重合開始剤のHOMOとの差(ΔE)は、耐刷性及び発色性の観点から、0.60eV以下であることが好ましく、0.30eV以上0.60eV以下であることがより好ましく、0.40eV以上0.58eV以下であることが更に好ましく、0.45eV以上0.57eV以下であることが特に好ましい。
The difference (ΔE) between the HOMO of the compound infrared absorber represented by the above formula 1 and the HOMO of at least one of the polymerization initiators described later is 0.60 eV or less from the viewpoint of printing durability and color developability. Preferably, it is 0.30 eV or more and 0.60 eV or less, more preferably 0.40 eV or more and 0.58 eV or less, and particularly preferably 0.45 eV or more and 0.57 eV or less.
In addition, the difference (ΔE) between the HOMO of the compound infrared absorber represented by the above formula 1 and the HOMO of the electron donating polymerization initiator is 0.60 eV or less from the viewpoint of printing durability and color developability. Preferably, it is 0.30 eV or more and 0.60 eV or less, more preferably 0.40 eV or more and 0.58 eV or less, and particularly preferably 0.45 eV or more and 0.57 eV or less.

本開示における化合物のHOMOの計算方法は、以下の方法により行うものとする。
まず、計算対象となる化合物における対アニオンは無視する。
量子化学計算ソフトウェアGaussian09を用い、構造最適化はDFT(B3LYP/6-31G(d))で行う。
MO(分子軌道)エネルギー計算は、上記構造最適化で得た構造でDFT(B3LYP/6-31+G(d,p)/CPCM(solvent=methanol))で行う。
上記MOエネルギー計算で得られたMOエネルギーEpre(単位:hartree)を以下の公式で、本開示においてHOMOの値として用いるEaft(単位:eV)へ変換する。
Eaft=0.823168×27.2114×Epre−1.07634
なお、27.2114は単にhartreeをeVに変換するための係数であり、0.823168と−1.07634とは調節係数であり、計算対象となる化合物のHOMOを計算が実測の値に合うように決めた。
式1で表される化合物のHOMOとボレート化合物等の重合開始剤のHOMOとの差分からΔEを求める。多くの場合は、式1で表される化合物のHOMOのほうが、重合開始剤のHOMOよりも大きく、ΔE=式1で表される化合物のHOMO−重合開始剤のHOMOである。
The calculation method of HOMO of a compound in the present disclosure is performed by the following method.
First, the counter anion in the compound to be calculated is ignored.
The structure optimization is performed by DFT (B3LYP / 6-31G (d)) using quantum chemical calculation software Gaussian09.
The MO (molecular orbital) energy calculation is performed by DFT (B3LYP / 6-31 + G (d, p) / CPCM (solvent = methanol)) with the structure obtained by the above structure optimization.
The MO energy Epre (unit: hartree) obtained by the MO energy calculation is converted into Eaft (unit: eV) used as a HOMO value in the present disclosure by the following formula.
Eaft = 0.823168 × 27.2114 × Epre−1.07634
Note that 27.2114 is simply a coefficient for converting hartree to eV, and 0.823168 and -1.07634 are adjustment coefficients so that the calculation of the HOMO of the compound to be calculated matches the actually measured value. Decided.
ΔE is determined from the difference between the HOMO of the compound represented by Formula 1 and the HOMO of a polymerization initiator such as a borate compound. In many cases, the HOMO of the compound represented by Formula 1 is larger than the HOMO of the polymerization initiator, and ΔE = HOMO of the compound represented by Formula 1—HOMO of the polymerization initiator.

式1で表される化合物は、1種のみ用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、赤外線吸収剤として顔料と染料とを併用してもよい。
上記画像記録層中の赤外線吸収剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、0.1質量%〜10.0質量%が好ましく、0.5質量%〜5.0質量%がより好ましい。
また、上記画像記録層中の式1で表される化合物の含有量は、画像記録層の全質量に対し、0.1質量%〜10.0質量%が好ましく、0.5質量%〜5.0質量%がより好ましい。
As for the compound represented by Formula 1, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together. Moreover, you may use together a pigment and dye as an infrared absorber.
The content of the infrared absorber in the image recording layer is preferably 0.1% by mass to 10.0% by mass, more preferably 0.5% by mass to 5.0% by mass with respect to the total mass of the image recording layer. preferable.
The content of the compound represented by Formula 1 in the image recording layer is preferably 0.1% by mass to 10.0% by mass, and preferably 0.5% by mass to 5% with respect to the total mass of the image recording layer. 0.0 mass% is more preferable.

−他の赤外線吸収剤−
上記画像記録層は、上記式1で表される化合物以外の他の赤外線吸収剤を含んでいてもよい。
他の赤外線吸収剤としては、顔料及び上記式1で表される化合物以外の染料が挙げられる。
他の赤外線吸収剤として用いられる染料としては、市販の染料及び例えば、「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が挙げられる。中でも、シアニン色素が特に好ましい。
-Other infrared absorbers-
The image recording layer may contain an infrared absorber other than the compound represented by Formula 1 above.
Other infrared absorbers include pigments and dyes other than the compound represented by Formula 1 above.
As dyes used as other infrared absorbers, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes Is mentioned.
Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes can be mentioned. Among these, cyanine dyes are particularly preferable.

シアニン色素の具体例としては、特開2001−133969号公報の段落0017〜0019に記載の化合物、特開2002−023360号公報の段落0016〜0021、特開2002−040638号公報の段落0012〜0037に記載の化合物、好ましくは特開2002−278057号公報の段落0034〜0041、特開2008−195018号公報の段落0080〜0086に記載の化合物、特に好ましくは特開2007−90850号公報の段落0035〜0043に記載の化合物、特開2012−206495号公報の段落0105〜0113に記載の化合物が挙げられる。
また、特開平5−5005号公報の段落0008〜0009、特開2001−222101号公報の段落0022〜0025に記載の化合物も好ましく使用することができる。
顔料としては、特開2008−195018号公報の段落0072〜0076に記載の化合物が好ましい。
Specific examples of the cyanine dye include compounds described in paragraphs 0017 to 0019 of JP2001-133969, paragraphs 0016 to 0021 of JP2002-023360, paragraphs 0012 to 0037 of JP2002040406. The compounds described in JP-A-2002-278057, paragraphs 0034 to 0041, JP-A-2008-195018, paragraphs 0080 to 0086, particularly preferably JP-A-2007-90850, paragraph 0035 To 0043 and the compounds described in paragraphs 0105 to 0113 of JP2012-206495A.
Further, compounds described in paragraphs 0008 to 0009 of JP-A-5-5005 and paragraphs 0022 to 0025 of JP-A-2001-222101 can also be preferably used.
As the pigment, compounds described in paragraphs 0072 to 0076 of JP-A-2008-195018 are preferable.

他の赤外線吸収剤は、1種のみ用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、赤外線吸収剤として顔料と染料とを併用してもよい。
上記画像記録層中の他の赤外線吸収剤の含有量は、上記式1で表される化合物の含有量より少ないことが好ましく、上記式1で表される化合物の含有量の50質量%以下であることがより好ましく、上記式1で表される化合物の含有量の20質量%以下であることが更に好ましい。
Other infrared absorbers may be used alone or in combination of two or more. Moreover, you may use together a pigment and dye as an infrared absorber.
The content of the other infrared absorber in the image recording layer is preferably less than the content of the compound represented by the above formula 1, and is 50% by mass or less of the content of the compound represented by the above formula 1. More preferably, it is more preferably 20% by mass or less of the content of the compound represented by Formula 1 above.

−重合開始剤−
上記画像記録層は、重合開始剤を含有する。
本開示に用いられる重合開始剤は、光、熱あるいはその両方のエネルギーによりラジカルやカチオン等の重合開始種を発生する化合物であって、公知の熱重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを適宜選択して用いることができる。
特定の電子求引性基−Xを特定の位置に有する上記式1で表される化合物へ電子移動を促進し、耐刷性及び発色性を向上させる観点から、上記重合開始剤は、電子供与型重合開始剤を含むことが好ましい。
-Polymerization initiator-
The image recording layer contains a polymerization initiator.
The polymerization initiator used in the present disclosure is a compound that generates polymerization initiation species such as radicals and cations by energy of light, heat, or both, and has a known thermal polymerization initiator and a bond with a small bond dissociation energy. A compound, a photopolymerization initiator and the like can be appropriately selected and used.
From the viewpoint of promoting electron transfer to the compound represented by the above formula 1 having a specific electron-withdrawing group -X at a specific position and improving printing durability and color developability, the polymerization initiator is an electron donor. It is preferable to include a mold polymerization initiator.

<<電子供与型重合開始剤>>
電子供与型重合開始剤は、赤外線露光により赤外線吸収剤の電子が励起又は分子内移動した際に、赤外線吸収剤の一電子抜けた軌道に分子間電子移動で一電子を供与することにより、ラジカルを発生する化合物である。
<< Electron-donating polymerization initiator >>
The electron-donating polymerization initiator is a radical by donating one electron by intermolecular electron transfer to an orbit where one electron is missing from the infrared absorber when the electrons of the infrared absorber are excited or moved intramolecularly by infrared exposure. Is a compound that generates

上記画像記録層は、平版印刷版における耐刷性向上の観点から、電子供与型重合開始剤を含有することがより好ましく、その例として以下の5種が挙げられる。
(i)アルキル又はアリールアート錯体:酸化的に炭素−ヘテロ結合が解裂し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には、ボレート化合物が好ましい。
(ii)N−アリールアルキルアミン化合物:酸化により窒素に隣接した炭素上のC−X結合が解裂し、活性ラジカルを生成するものと考えられる。Xとしては、水素原子、カルボキシル基、トリメチルシリル基又はベンジル基が好ましい。具体的には、例えば、N−フェニルグリシン類(フェニル基に置換基を有していてもいなくてもよい。)、N−フェニルイミノジ酢酸(フェニル基に置換基を有していてもいなくてもよい。)が挙げられる。
(iii)含硫黄化合物:上述のアミン類の窒素原子を硫黄原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。例えばフェニルチオ酢酸(フェニル基に置換基を有していてもいなくてもよい。)が挙げられる。
(iv)含錫化合物:上述のアミン類の窒素原子を錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。
(v)スルフィン酸塩類:酸化により活性ラジカルを生成し得る。具体的は、アリールスルフィン駿ナトリウム等を挙げることができる。
The image recording layer preferably contains an electron donating polymerization initiator from the viewpoint of improving printing durability in a lithographic printing plate, and examples thereof include the following five types.
(I) Alkyl or aryl art complex: It is considered that a carbon-hetero bond is oxidatively cleaved to generate an active radical. Specifically, a borate compound is preferable.
(Ii) N-arylalkylamine compound: It is considered that the C—X bond on carbon adjacent to nitrogen is cleaved by oxidation to generate an active radical. X is preferably a hydrogen atom, a carboxyl group, a trimethylsilyl group or a benzyl group. Specifically, for example, N-phenylglycine (the phenyl group may or may not have a substituent), N-phenyliminodiacetic acid (the phenyl group may or may not have a substituent). May be included).
(Iii) Sulfur-containing compounds: those in which the nitrogen atom of the above-described amines is replaced with a sulfur atom can generate active radicals by the same action. Examples thereof include phenylthioacetic acid (the phenyl group may or may not have a substituent).
(Iv) Tin-containing compound: A compound in which the nitrogen atom of the above-described amines is replaced with a tin atom can generate an active radical by the same action.
(V) Sulfinic acid salts: Active radicals can be generated by oxidation. Specific examples include arylsulfin sodium.

これらの中でも、上記画像記録層は、耐刷性及び発色性の観点から、電子供与型重合開始剤として、ボレート化合物を含有することが好ましい。
ボレート化合物としては、耐刷性及び発色性の観点から、テトラアリールボレート化合物、又は、モノアルキルトリアリールボレート化合物であることが好ましく、テトラアリールボレート化合物であることがより好ましい。
ボレート化合物が有する対カチオンとしては、特に制限はないが、アルカリ金属イオン、又は、テトラアルキルアンモニウムイオンであることが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、又は、テトラブチルアンモニウムイオンであることがより好ましい。
Among these, the image recording layer preferably contains a borate compound as an electron-donating polymerization initiator from the viewpoint of printing durability and color developability.
The borate compound is preferably a tetraaryl borate compound or a monoalkyltriaryl borate compound, more preferably a tetraaryl borate compound from the viewpoint of printing durability and color developability.
Although there is no restriction | limiting in particular as a counter cation which a borate compound has, It is preferable that they are an alkali metal ion or a tetraalkylammonium ion, and it is more preferable that they are a sodium ion, a potassium ion, or a tetrabutylammonium ion.

ボレート化合物として具体的には、ナトリウムテトラフェニルボレートが好ましく挙げられる。   Specific examples of the borate compound include sodium tetraphenylborate.

電子供与型重合開始剤は、1種のみを添加しても、2種以上を併用してもよい。
電子供与型重合開始剤の含有量としては、画像記録層の全質量に対し、0.01質量%〜30質量%であることが好ましく、0.05質量%〜25質量%であることがより好ましく、0.1質量%〜20質量%であることが更に好ましい。
Only one kind of electron donating polymerization initiator may be added, or two or more kinds may be used in combination.
The content of the electron donating polymerization initiator is preferably 0.01% by mass to 30% by mass and more preferably 0.05% by mass to 25% by mass with respect to the total mass of the image recording layer. Preferably, it is 0.1 mass%-20 mass%.

<<電子受容型重合開始剤>>
また、上記重合開始剤は、耐刷性及び発色性の観点から、電子受容型重合開始剤を含むことが好ましく、電子供与型重合開始剤及び電子受容型重合開始剤を含むことがより好ましく、電子供与型重合開始剤及び電子受容型重合開始剤からなることが更に好ましい。
電子受容型重合開始剤は、赤外線露光により赤外線吸収剤の電子が励起した際に、分子間電子移動で一電子を受容することにより、ラジカルを発生する化合物である。
<< Electron Accepting Polymerization Initiator >>
The polymerization initiator preferably includes an electron-accepting polymerization initiator from the viewpoint of printing durability and color development, and more preferably includes an electron-donating polymerization initiator and an electron-accepting polymerization initiator. More preferably, it comprises an electron donating polymerization initiator and an electron accepting polymerization initiator.
The electron-accepting polymerization initiator is a compound that generates a radical by accepting one electron by intermolecular electron transfer when electrons of the infrared absorber are excited by infrared exposure.

電子受容型重合開始剤としては、オニウム塩化合物が好ましい。
電子受容型重合開始剤は、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
電子受容型重合開始剤としては、例えば、(a)有機ハロゲン化物、(b)カルボニル化合物、(c)アゾ化合物、(d)有機過酸化物、(e)メタロセン化合物、(f)アジド化合物、(g)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(i)ジスルホン化合物、(j)オキシムエステル化合物、(k)オニウム塩化合物が挙げられる。
As the electron-accepting polymerization initiator, an onium salt compound is preferable.
The electron-accepting polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the electron accepting polymerization initiator include (a) organic halides, (b) carbonyl compounds, (c) azo compounds, (d) organic peroxides, (e) metallocene compounds, (f) azide compounds, (G) hexaarylbiimidazole compounds, (i) disulfone compounds, (j) oxime ester compounds, (k) onium salt compounds.

(a)有機ハロゲン化物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落0022〜0023に記載の化合物が好ましい。
(b)カルボニル化合物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落0024に記載の化合物が好ましい。
(c)アゾ化合物としては、例えば、特開平8−108621号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。
(d)有機過酸化物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落0025に記載の化合物が好ましい。
(e)メタロセン化合物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落0026に記載の化合物が好ましい。
(f)アジド化合物としては、例えば、2,6−ビス(4−アジドベンジリデン)−4−メチルシクロヘキサノン等の化合物を挙げることができる。
(g)ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落0027に記載の化合物が好ましい。
(i)ジスルホン化合物としては、例えば、特開昭61−166544号、特開2002−328465号の各公報に記載の化合物が挙げられる。
(j)オキシムエステル化合物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落0028〜0030に記載の化合物が好ましい。
As the (a) organic halide, for example, compounds described in paragraphs 0022 to 0023 of JP-A-2008-195018 are preferable.
(B) As the carbonyl compound, for example, compounds described in paragraph 0024 of JP-A-2008-195018 are preferable.
(C) As the azo compound, for example, an azo compound described in JP-A-8-108621 can be used.
(D) As the organic peroxide, for example, compounds described in paragraph 0025 of JP-A-2008-195018 are preferable.
As the (e) metallocene compound, for example, the compound described in paragraph 0026 of JP-A-2008-195018 is preferable.
Examples of the (f) azide compound include 2,6-bis (4-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexanone.
(G) As the hexaarylbiimidazole compound, for example, the compound described in paragraph 0027 of JP2008-195018A is preferable.
Examples of (i) disulfone compounds include the compounds described in JP-A Nos. 61-166544 and 2002-328465.
(J) As the oxime ester compound, for example, compounds described in paragraphs 0028 to 0030 of JP-A-2008-195018 are preferable.

上記電子受容型重合開始剤の中でも好ましいものとして、硬化性の観点から、オキシムエステル化合物及びオニウム塩化合物が挙げられる。中でも、耐刷性の観点から、ヨードニウム塩化合物、スルホニウム塩化合物又はアジニウム塩化合物が好ましく、ヨードニウム塩化合物又はスルホニウム塩化合物がより好ましく、ヨードニウム塩化合物が特に好ましい。
これら化合物の具体例を以下に示すが、本開示はこれに限定されるものではない。
Among the electron-accepting polymerization initiators, oxime ester compounds and onium salt compounds are preferable from the viewpoint of curability. Among these, from the viewpoint of printing durability, iodonium salt compounds, sulfonium salt compounds or azinium salt compounds are preferred, iodonium salt compounds or sulfonium salt compounds are more preferred, and iodonium salt compounds are particularly preferred.
Specific examples of these compounds are shown below, but the present disclosure is not limited thereto.

ヨードニウム塩化合物の例としては、ジアリールヨードニウム塩化合物が好ましく、特に電子供与性基、例えば、アルキル基又はアルコキシル基で置換されたジフェニルヨードニウム塩化合物がより好ましく、また、非対称のジフェニルヨードニウム塩化合物が好ましい。具体例としては、ジフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−メトキシフェニル−4−(2−メチルプロピル)フェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−(2−メチルプロピル)フェニル−p−トリルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−ヘキシルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−ヘキシルオキシフェニル−2,4−ジエトキシフェニルヨードニウム=テトラフルオロボラート、4−オクチルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=1−ペルフルオロブタンスルホナート、4−オクチルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウム=ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。   As an example of the iodonium salt compound, a diaryl iodonium salt compound is preferable, and a diphenyl iodonium salt compound substituted with an electron donating group such as an alkyl group or an alkoxyl group is more preferable, and an asymmetric diphenyl iodonium salt compound is preferable. . Specific examples include diphenyliodonium = hexafluorophosphate, 4-methoxyphenyl-4- (2-methylpropyl) phenyliodonium = hexafluorophosphate, 4- (2-methylpropyl) phenyl-p-tolyliodonium = hexa. Fluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = hexafluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4-diethoxyphenyliodonium = tetrafluoroborate, 4-octyloxy Phenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = 1-perfluorobutanesulfonate, 4-octyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = hexafluorophosphate, bis ( -t- butylphenyl) iodonium hexafluorophosphate and the like.

スルホニウム塩化合物の例としては、トリアリールスルホニウム塩化合物が好ましく、特に電子求引性基、例えば、芳香環上の基の少なくとも一部がハロゲン原子で置換されたトリアリールスルホニウム塩化合物が好ましく、芳香環上のハロゲン原子の総置換数が4以上であるトリアリールスルホニウム塩化合物が更に好ましい。具体例としては、トリフェニルスルホニウム=ヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス(4−クロロフェニル)フェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス(4−クロロフェニル)−4−メチルフェニルスルホニウム=テトラフルオロボラート、トリス(4−クロロフェニル)スルホニウム=3,5−ビス(メトキシカルボニル)ベンゼンスルホナート、トリス(4−クロロフェニル)スルホニウム=ヘキサフルオロホスファート、トリス(2,4−ジクロロフェニル)スルホニウム=ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。   As an example of the sulfonium salt compound, a triarylsulfonium salt compound is preferable, and in particular, an electron-withdrawing group, for example, a triarylsulfonium salt compound in which at least a part of groups on the aromatic ring is substituted with a halogen atom is preferable. More preferred are triarylsulfonium salt compounds in which the total number of halogen atoms on the ring is 4 or more. Specific examples include triphenylsulfonium = hexafluorophosphate, triphenylsulfonium = benzoylformate, bis (4-chlorophenyl) phenylsulfonium = benzoylformate, bis (4-chlorophenyl) -4-methylphenylsulfonium = tetrafluoro. Borate, tris (4-chlorophenyl) sulfonium = 3,5-bis (methoxycarbonyl) benzenesulfonate, tris (4-chlorophenyl) sulfonium = hexafluorophosphate, tris (2,4-dichlorophenyl) sulfonium = hexafluorophos Fart.

また、ヨードニウム塩化合物及びスルホニウム塩化合物の対アニオンとしては、スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンが好ましく、スルホンイミドアニオンがより好ましい。
スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンとしては、上述した式1で表される化合物におけるスルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンが好適に挙げられる。
Moreover, as a counter anion of an iodonium salt compound and a sulfonium salt compound, a sulfonamide anion or a sulfonimide anion is preferable, and a sulfonimide anion is more preferable.
Preferable examples of the sulfonamide anion or the sulfonimide anion include the sulfonamide anion or the sulfonimide anion in the compound represented by the formula 1 described above.

電子受容型重合開始剤の含有量は、画像記録層の全質量に対して、0.1質量%〜50質量%であることが好ましく、0.5質量%〜30質量%であることがより好ましく、0.8質量%〜20質量%であることが特に好ましい。   The content of the electron accepting polymerization initiator is preferably 0.1% by mass to 50% by mass and more preferably 0.5% by mass to 30% by mass with respect to the total mass of the image recording layer. It is particularly preferably 0.8% by mass to 20% by mass.

上記重合開始剤が、電子供与型重合開始剤及び電子受容型重合開始剤を含む場合は、電子供与型重合性開始剤と電子受容型重合開始剤とが対塩を形成してもよく、電子供与型重合性開始剤及び電子受容型重合開始剤のそれぞれが塩を形成していてもよい。   When the polymerization initiator includes an electron donating polymerization initiator and an electron accepting polymerization initiator, the electron donating polymerizable initiator and the electron accepting polymerization initiator may form a counter salt, Each of the donor-type polymerizable initiator and the electron-accepting polymerization initiator may form a salt.

−重合性化合物−
上記画像記録層は、重合性化合物を含有する。
本開示に用いられる重合性化合物は、例えば、ラジカル重合性化合物であっても、カチオン重合性化合物であってもよいが、少なくとも1個のエチレン性不飽和結合を有する付加重合性化合物(エチレン性不飽和化合物)であることが好ましい。エチレン性不飽和化合物としては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個有する化合物であることが好ましく、末端エチレン性不飽和結合を2個以上有する化合物であることがより好ましい。重合性化合物は、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体若しくはオリゴマー、又は、それらの混合物などの化学的形態をもつ。
-Polymerizable compound-
The image recording layer contains a polymerizable compound.
The polymerizable compound used in the present disclosure may be, for example, a radical polymerizable compound or a cationic polymerizable compound, but an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated bond (ethylenic compound) An unsaturated compound) is preferable. The ethylenically unsaturated compound is preferably a compound having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, and more preferably a compound having two or more terminal ethylenically unsaturated bonds. The polymerizable compound has a chemical form such as a monomer, a prepolymer, i.e., a dimer, a trimer or an oligomer, or a mixture thereof.

モノマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と多価アルコール化合物とのエステル類、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、及び単官能もしくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン原子、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。これらは、特表2006−508380号公報、特開2002−287344号公報、特開2008−256850号公報、特開2001−342222号公報、特開平9−179296号公報、特開平9−179297号公報、特開平9−179298号公報、特開2004−294935号公報、特開2006−243493号公報、特開2002−275129号公報、特開2003−64130号公報、特開2003−280187号公報、特開平10−333321号公報等に記載されている。   Examples of monomers include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters and amides thereof, preferably unsaturated carboxylic acids. Esters of an acid and a polyhydric alcohol compound and amides of an unsaturated carboxylic acid and a polyamine compound are used. Also, addition reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having a nucleophilic substituent such as hydroxy group, amino group, mercapto group and the like with monofunctional or polyfunctional isocyanates or epoxies, and monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. In addition, an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group and an addition reaction product of a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, further a halogen atom, A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, a compound group in which the unsaturated carboxylic acid is replaced with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like can be used. These are disclosed in JP-T-2006-508380, JP-A-2002-287344, JP-A-2008-256850, JP-A-2001-342222, JP-A-9-179296, JP-A-9-179297. JP-A-9-179298, JP-A-2004-294935, JP-A-2006-243493, JP-A-2002-275129, JP-A-2003-64130, JP-A-2003-280187, It is described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 10-333321.

多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド(EO)変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。メタクリル酸エステルとして、テトラメチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。また、多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビスアクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビスメタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。   Specific examples of the monomer of the ester of a polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, Examples include trimethylolpropane triacrylate, hexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, sorbitol triacrylate, isocyanuric acid ethylene oxide (EO) -modified triacrylate, and polyester acrylate oligomer. Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl] Examples include dimethylmethane and bis [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethylmethane. Specific examples of amide monomers of polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bisacrylamide, methylene bismethacrylamide, 1,6-hexamethylene bisacrylamide, 1,6-hexamethylene bismethacrylamide, Examples include diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, and xylylene bismethacrylamide.

また、イソシアネートとヒドロキシ基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、その具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記式(M)で表されるヒドロキシ基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
CH=C(RM4)COOCHCH(RM5)OH (M)
式(M)中、RM4及びRM5はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Also suitable are urethane-based addition polymerizable compounds produced using an addition reaction of isocyanate and hydroxy groups. Specific examples thereof include, for example, 2 molecules per molecule described in JP-B-48-41708. A vinyl urethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxy group represented by the following formula (M) to a polyisocyanate compound having one or more isocyanate groups Etc.
CH 2 ═C (R M4 ) COOCH 2 CH (R M5 ) OH (M)
In formula (M), R M4 and R M5 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.

また、特開昭51−37193号公報、特公平2−32293号公報、特公平2−16765号公報、特開2003−344997号公報、特開2006−65210号公報に記載のウレタンアクリレート類、特公昭58−49860号公報、特公昭56−17654号公報、特公昭62−39417号公報、特公昭62−39418号公報、特開2000−250211号公報、特開2007−94138号公報に記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類、米国特許第7153632号明細書、特表平8−505958号公報、特開2007−293221号公報、特開2007−293223号公報に記載の親水基を有するウレタン化合物類も好適である。   Further, urethane acrylates described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-A-2003-344997, JP-A-2006-65210, Ethylene described in JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, JP-B-62-39417, JP-B-62-39418, JP-A-2000-250211, and JP-A-2007-94138 Urethane compounds having an oxide-based skeleton, urethane compounds having hydrophilic groups described in US Pat. No. 7,153,632, JP-T 8-505958, JP-A 2007-293221, and JP-A 2007-293223 Are also suitable.

重合性化合物の構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、任意に設定できる。
重合性化合物の含有量は、画像記録層の全質量に対して、5質量%〜75質量%であることが好ましく、10質量%〜70質量%であることがより好ましく、15質量%〜60質量%であることが特に好ましい。
Details of the method of use such as the structure of the polymerizable compound, whether it is used alone or in combination, and the amount added can be arbitrarily set.
The content of the polymerizable compound is preferably 5% by mass to 75% by mass, more preferably 10% by mass to 70% by mass, and more preferably 15% by mass to 60% by mass with respect to the total mass of the image recording layer. It is particularly preferable that the content is% by mass.

−酸発色剤−
上記画像記録層は、酸発色剤を含有する。
本開示で用いられる「酸発色剤」とは、電子受容性化合物(例えば酸等のプロトン)を受容した状態で加熱することにより、発色する性質を有する化合物を意味する。酸発色剤としては、特に、ラクトン、ラクタム、サルトン、スピロピラン、エステル、アミド等の部分骨格を有し、電子受容性化合物と接触した時に、速やかにこれらの部分骨格が開環若しくは開裂する無色の化合物が好ましい。
-Acid color former-
The image recording layer contains an acid color former.
The “acid color former” used in the present disclosure means a compound having a property of developing color when heated in a state of accepting an electron accepting compound (for example, proton such as acid). As the acid color former, in particular, it has a partial skeleton such as lactone, lactam, sultone, spiropyran, ester, amide, and the like. Compounds are preferred.

このような酸発色剤の例としては、3,3−ビス(4−ジメチルアミノフェニル)−6−ジメチルアミノフタリド(”クリスタルバイオレットラクトン”と称される)、3,3−ビス(4−ジメチルアミノフェニル)フタリド、3−(4−ジメチルアミノフェニル)−3−(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)−6−ジメチルアミノフタリド、3−(4−ジメチルアミノフェニル)−3−(1,2−ジメチルインドール−3−イル)フタリド、3−(4−ジメチルアミノフェニル)−3−(2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(1,2−ジメチルインドール−3−イル)−5−ジメチルアミノフタリド、3,3−ビス(1,2−ジメチルインドール−3−イル)−6−ジメチルアミノフタリド、3,3−ビス(9−エチルカルバゾール−3−イル)−6−ジメチルアミノフタリド、3,3−ビス(2−フェニルインドール−3−イル)−6−ジメチルアミノフタリド、3−(4−ジメチルアミノフェニル)−3−(1−メチルピロール−3−イル)−6−ジメチルアミノフタリド、   Examples of such acid color formers include 3,3-bis (4-dimethylaminophenyl) -6-dimethylaminophthalide (referred to as “crystal violet lactone”), 3,3-bis (4- Dimethylaminophenyl) phthalide, 3- (4-dimethylaminophenyl) -3- (4-diethylamino-2-methylphenyl) -6-dimethylaminophthalide, 3- (4-dimethylaminophenyl) -3- (1 , 2-Dimethylindol-3-yl) phthalide, 3- (4-dimethylaminophenyl) -3- (2-methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (1,2-dimethylindole-3) -Yl) -5-dimethylaminophthalide, 3,3-bis (1,2-dimethylindol-3-yl) -6-dimethylaminophthalide, 3,3-bis 9-ethylcarbazol-3-yl) -6-dimethylaminophthalide, 3,3-bis (2-phenylindol-3-yl) -6-dimethylaminophthalide, 3- (4-dimethylaminophenyl)- 3- (1-methylpyrrol-3-yl) -6-dimethylaminophthalide,

3,3−ビス〔1,1−ビス(4−ジメチルアミノフェニル)エチレン−2−イル〕−4,5,6,7−テトラクロロフタリド、3,3−ビス〔1,1−ビス(4−ピロリジノフェニル)エチレン−2−イル〕−4,5,6,7−テトラブロモフタリド、3,3−ビス〔1−(4−ジメチルアミノフェニル)−1−(4−メトキシフェニル)エチレン−2−イル〕−4,5,6,7−テトラクロロフタリド、3,3−ビス〔1−(4−ピロリジノフェニル)−1−(4−メトキシフェニル)エチレン−2−イル〕−4,5,6,7−テトラクロロフタリド、3−〔1,1−ジ(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)エチレン−2−イル〕−3−(4−ジエチルアミノフェニル)フタリド、3−〔1,1−ジ(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)エチレン−2−イル〕−3−(4−N−エチル−N−フェニルアミノフェニル)フタリド、3−(2−エトキシ−4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−n−オクチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(1−n−オクチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3−(2−メチル−4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−n−オクチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド等のフタリド類、   3,3-bis [1,1-bis (4-dimethylaminophenyl) ethylene-2-yl] -4,5,6,7-tetrachlorophthalide, 3,3-bis [1,1-bis ( 4-pyrrolidinophenyl) ethylene-2-yl] -4,5,6,7-tetrabromophthalide, 3,3-bis [1- (4-dimethylaminophenyl) -1- (4-methoxyphenyl) Ethylene-2-yl] -4,5,6,7-tetrachlorophthalide, 3,3-bis [1- (4-pyrrolidinophenyl) -1- (4-methoxyphenyl) ethylene-2-yl] -4,5,6,7-tetrachlorophthalide, 3- [1,1-di (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) ethylene-2-yl] -3- (4-diethylaminophenyl) ) Phthalide, 3- [1,1-di (1-ethyl-2-methyl) Indol-3-yl) ethylene-2-yl] -3- (4-N-ethyl-N-phenylaminophenyl) phthalide, 3- (2-ethoxy-4-diethylaminophenyl) -3- (1-n- Octyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (1-n-octyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, 3- (2-methyl-4-diethylaminophenyl) -3 Phthalides such as-(1-n-octyl-2-methylindol-3-yl) phthalide,

4,4−ビス−ジメチルアミノベンズヒドリンベンジルエーテル、N−ハロフェニル−ロイコオーラミン、N−2,4,5−トリクロロフェニルロイコオーラミン、ローダミン−B−アニリノラクタム、ローダミン−(4−ニトロアニリノ)ラクタム、ローダミン−B−(4−クロロアニリノ)ラクタム、3,7−ビス(ジエチルアミノ)−10−ベンゾイルフェノオキサジン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、4ーニトロベンゾイルメチレンブルー、   4,4-bis-dimethylaminobenzhydrin benzyl ether, N-halophenyl-leucooramine, N-2,4,5-trichlorophenylleucooramine, rhodamine-B-anilinolactam, rhodamine- (4-nitroanilino ) Lactam, rhodamine-B- (4-chloroanilino) lactam, 3,7-bis (diethylamino) -10-benzoylphenoxazine, benzoylleucomethylene blue, 4-nitrobenzoylmethylene blue,

3,6−ジメトキシフルオラン、3−ジメチルアミノ−7−メトキシフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メトキシフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−メトキシフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−クロロフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−クロロフルオラン、3−ジエチルアミノ−6,7−ジメチルフルオラン、3−N−シクロヘキシル−N−n−ブチルアミノ−7−メチルフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−ジベンジルアミノフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−オクチルアミノフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−ジ−n−ヘキシルアミノフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−アニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(2’−フルオロフェニルアミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(2’−クロロフェニルアミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(3’−クロロフェニルアミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(2’,3’−ジクロロフェニルアミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(3’−トリフルオロメチルフェニルアミノ)フルオラン、3−ジ−n−ブチルアミノ−7−(2’−フルオロフェニルアミノ)フルオラン、3−ジ−n−ブチルアミノ−7−(2’−クロロフェニルアミノ)フルオラン、3−N−イソペンチル−N−エチルアミノ−7−(2’−クロロフェニルアミノ)フルオラン、   3,6-dimethoxyfluorane, 3-dimethylamino-7-methoxyfluorane, 3-diethylamino-6-methoxyfluorane, 3-diethylamino-7-methoxyfluorane, 3-diethylamino-7-chlorofluorane, 3 -Diethylamino-6-methyl-7-chlorofluorane, 3-diethylamino-6,7-dimethylfluorane, 3-N-cyclohexyl-Nn-butylamino-7-methylfluorane, 3-diethylamino-7- Dibenzylaminofluorane, 3-diethylamino-7-octylaminofluorane, 3-diethylamino-7-di-n-hexylaminofluorane, 3-diethylamino-7-anilinofluorane, 3-diethylamino-7- ( 2'-fluorophenylamino) fluorane, 3-diethylamino- -(2'-chlorophenylamino) fluorane, 3-diethylamino-7- (3'-chlorophenylamino) fluorane, 3-diethylamino-7- (2 ', 3'-dichlorophenylamino) fluorane, 3-diethylamino-7- ( 3'-trifluoromethylphenylamino) fluorane, 3-di-n-butylamino-7- (2'-fluorophenylamino) fluorane, 3-di-n-butylamino-7- (2'-chlorophenylamino) Fluorane, 3-N-isopentyl-N-ethylamino-7- (2′-chlorophenylamino) fluorane,

3−N−n−ヘキシル−N−エチルアミノ−7−(2’−クロロフェニルアミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−6−クロロ−7−アニリノフルオラン、3−ジ−n−ブチルアミノ−6−クロロ−7−アニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メトキシ−7−アニリノフルオラン、3−ジ−n−ブチルアミノ−6−エトキシ−7−アニリノフルオラン、3−ピロリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ピペリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−モルホリノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジメチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジ−n−ブチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジ−n−ペンチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−エチル−N−メチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−n−プロピル−N−メチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−n−プロピル−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−n−ブチル−N−メチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−n−ブチル−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−イソブチル−N−メチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−イソブチル−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−イソペンチル−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−n−ヘキシル−N−メチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−シクロヘキシル−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−シクロヘキシル−N−n−プロピルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−シクロヘキシル−N−n−ブチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−シクロヘキシル−N−n−ヘキシルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−シクロヘキシル−N−n−オクチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、   3-Nn-hexyl-N-ethylamino-7- (2'-chlorophenylamino) fluorane, 3-diethylamino-6-chloro-7-anilinofluorane, 3-di-n-butylamino-6- Chloro-7-anilinofluorane, 3-diethylamino-6-methoxy-7-anilinofluorane, 3-di-n-butylamino-6-ethoxy-7-anilinofluorane, 3-pyrrolidino-6 Methyl-7-anilinofluorane, 3-piperidino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-morpholino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-dimethylamino-6-methyl-7- Anilinofluorane, 3-diethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-di-n-butylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-di-n Pentylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-ethyl-N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-Nn-propyl-N-methylamino-6 -Methyl-7-anilinofluorane, 3-Nn-propyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-Nn-butyl-N-methylamino-6-methyl -7-anilinofluorane, 3-Nn-butyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-isobutyl-N-methylamino-6-methyl-7-ani Linofluorane, 3-N-isobutyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-isopentyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3- Nn-hexy -N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-cyclohexyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-cyclohexyl-Nn-propyl Amino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-cyclohexyl-Nn-butylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-cyclohexyl-Nn-hexylamino- 6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-cyclohexyl-Nn-octylamino-6-methyl-7-anilinofluorane,

3−N−(2’−メトキシエチル)−N−メチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−(2’−メトキシエチル)−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−(2’−メトキシエチル)−N−イソブチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−(2’−エトキシエチル)−N−メチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−(2’−エトキシエチル)−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−(3’−メトキシプロピル)−N−メチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−(3’−メトキシプロピル)−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−(3’−エトキシプロピル)−N−メチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−(3’−エトキシプロピル)−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−(2’−テトラヒドロフルフリル)−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−(4’−メチルフェニル)−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−エチル−7−アニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−(3’−メチルフェニルアミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−(2’,6’−ジメチルフェニルアミノ)フルオラン、3−ジ−n−ブチルアミノ−6−メチル−7−(2’,6’−ジメチルフェニルアミノ)フルオラン、3−ジ−n−ブチルアミノ−7−(2’,6’−ジメチルフェニルアミノ)フルオラン、2,2−ビス〔4’−(3−N−シクロヘキシル−N−メチルアミノ−6−メチルフルオラン)−7−イルアミノフェニル〕プロパン、3−〔4’−(4−フェニルアミノフェニル)アミノフェニル〕アミノ−6−メチル−7−クロロフルオラン、3−〔4’−(ジメチルアミノフェニル)〕アミノ−5,7−ジメチルフルオラン等のフルオラン類、   3-N- (2′-methoxyethyl) -N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (2′-methoxyethyl) -N-ethylamino-6-methyl-7 -Anilinofluorane, 3-N- (2'-methoxyethyl) -N-isobutylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (2'-ethoxyethyl) -N-methylamino -6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (2'-ethoxyethyl) -N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (3'-methoxypropyl) ) -N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (3'-methoxypropyl) -N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (3′-Ethoxypropyl) -N-me Ruamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (3′-ethoxypropyl) -N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (2′-tetrahydro Furfuryl) -N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (4′-methylphenyl) -N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3- Diethylamino-6-ethyl-7-anilinofluorane, 3-diethylamino-6-methyl-7- (3′-methylphenylamino) fluorane, 3-diethylamino-6-methyl-7- (2 ′, 6′- Dimethylphenylamino) fluorane, 3-di-n-butylamino-6-methyl-7- (2 ′, 6′-dimethylphenylamino) fluorane, 3-di-n-butylamino-7- ( ', 6'-dimethylphenylamino) fluorane, 2,2-bis [4'-(3-N-cyclohexyl-N-methylamino-6-methylfluorane) -7-ylaminophenyl] propane, 3- [ Fluoranes such as 4 ′-(4-phenylaminophenyl) aminophenyl] amino-6-methyl-7-chlorofluorane, 3- [4 ′-(dimethylaminophenyl)] amino-5,7-dimethylfluorane ,

3−(2−メチル−4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−アザフタリド、3−(2−n−プロポキシカルボニルアミノ−4−ジ−n−プロピルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−アザフタリド、3−(2−メチルアミノ−4−ジ−n−プロピルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−アザフタリド、3−(2−メチル−4−ジn−ヘキシルアミノフェニル)−3−(1−n−オクチル−2−メチルインドール−3−イル)−4,7−ジアザフタリド、3,3−ビス(2−エトキシ−4−ジエチルアミノフェニル)−4−アザフタリド、3,3−ビス(1−n−オクチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−アザフタリド、3−(2−エトキシ−4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−アザフタリド、3−(2−エトキシ−4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−オクチル−2−メチルインドール−3−イル)−4又は7−アザフタリド、3−(2−エトキシ−4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4又は7−アザフタリド、3−(2−ヘキシルオキシ−4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4又は7−アザフタリド、3−(2−エトキシ−4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−フェニルインドール−3−イル)−4又は7−アザフタリド、3−(2−ブトキシ−4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−フェニルインドール−3−イル)−4又は7−アザフタリド3−メチル−スピロ−ジナフトピラン、3−エチル−スピロ−ジナフトピラン、3−フェニル−スピロ−ジナフトピラン、3−ベンジル−スピロ−ジナフトピラン、3−メチル−ナフト−(3−メトキシベンゾ)スピロピラン、3−プロピル−スピロ−ジベンゾピラン−3,6−ビス(ジメチルアミノ)フルオレン−9−スピロ−3’−(6’−ジメチルアミノ)フタリド、3,6−ビス(ジエチルアミノ)フルオレン−9−スピロ−3’−(6’−ジメチルアミノ)フタリド等のフタリド類、   3- (2-Methyl-4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) -4-azaphthalide, 3- (2-n-propoxycarbonylamino-4-di-n) -Propylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) -4-azaphthalide, 3- (2-methylamino-4-di-n-propylaminophenyl) -3- (1 -Ethyl-2-methylindol-3-yl) -4-azaphthalide, 3- (2-methyl-4-di-n-hexylaminophenyl) -3- (1-n-octyl-2-methylindole-3- Yl) -4,7-diazaphthalide, 3,3-bis (2-ethoxy-4-diethylaminophenyl) -4-azaphthalide, 3,3-bis (1-n-octyl-2-methylindole- -Yl) -4-azaphthalide, 3- (2-ethoxy-4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) -4-azaphthalide, 3- (2-ethoxy-4) -Diethylaminophenyl) -3- (1-octyl-2-methylindol-3-yl) -4 or 7-azaphthalide, 3- (2-ethoxy-4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2- Methylindol-3-yl) -4 or 7-azaphthalide, 3- (2-hexyloxy-4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) -4 or 7-azaphthalide 3- (2-ethoxy-4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-phenylindol-3-yl) -4 or 7-azaphthalide, 3 (2-butoxy-4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-phenylindol-3-yl) -4 or 7-azaphthalide 3-methyl-spiro-dinaphthopyran, 3-ethyl-spiro-dinaphthopyran, 3 -Phenyl-spiro-dinaphthopyran, 3-benzyl-spiro-dinaphthopyran, 3-methyl-naphtho- (3-methoxybenzo) spiropyran, 3-propyl-spiro-dibenzopyran-3,6-bis (dimethylamino) fluorene-9 Phthalides such as -spiro-3 '-(6'-dimethylamino) phthalide, 3,6-bis (diethylamino) fluorene-9-spiro-3'-(6'-dimethylamino) phthalide,

その他、2’−アニリノ−6’−(N−エチル−N−イソペンチル)アミノ−3’−メチルスピロ[イソベンゾフラン−1(3H),9’−(9H)キサンテン−3−オン、2’−アニリノ−6’−(N−エチル−N−(4−メチルフェニル))アミノ−3’−メチルスピロ[イソベンゾフラン−1(3H),9’−(9H)キサンテン]−3−オン、3’−N,N−ジベンジルアミノ−6’−N,N−ジエチルアミノスピロ[イソベンゾフラン−1(3H),9’−(9H)キサンテン]−3−オン、2’−(N−メチル−N−フェニル)アミノ−6’−(N−エチル−N−(4−メチルフェニル))アミノスピロ[イソベンゾフラン−1(3H),9’−(9H)キサンテン]−3−オンなどが挙げられる。   Others 2'-anilino-6 '-(N-ethyl-N-isopentyl) amino-3'-methylspiro [isobenzofuran-1 (3H), 9'-(9H) xanthen-3-one, 2'-anilino -6 '-(N-ethyl-N- (4-methylphenyl)) amino-3'-methylspiro [isobenzofuran-1 (3H), 9'-(9H) xanthen] -3-one, 3'-N , N-dibenzylamino-6′-N, N-diethylaminospiro [isobenzofuran-1 (3H), 9 ′-(9H) xanthen] -3-one, 2 ′-(N-methyl-N-phenyl) And amino-6 ′-(N-ethyl-N- (4-methylphenyl)) aminospiro [isobenzofuran-1 (3H), 9 ′-(9H) xanthen] -3-one.

中でも、本開示に用いられる酸発色剤は、発色性の観点から、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、スピロラクトン化合物、及び、スピロラクタム化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物であることが好ましい。
発色後の色素の色相としては、可視性の観点から、緑、青又は黒であることが好ましい。
Among these, the acid color former used in the present disclosure is at least one compound selected from the group consisting of a spiropyran compound, a spirooxazine compound, a spirolactone compound, and a spirolactam compound from the viewpoint of color developability. preferable.
The hue of the dye after color development is preferably green, blue or black from the viewpoint of visibility.

酸発色剤としては上市されている製品を使用することも可能であり、ETAC、RED500、RED520、CVL、S−205、BLACK305、BLACK400、BLACK100、BLACK500、H−7001、GREEN300、NIRBLACK78、BLUE220、H−3035、BLUE203、ATP、H−1046、H−2114(以上、福井山田化学工業(株)製)、ORANGE−DCF、Vermilion−DCF、PINK−DCF、RED−DCF、BLMB、CVL、GREEN−DCF、TH−107(以上、保土ヶ谷化学(株)製)、ODB、ODB−2、ODB−4、ODB−250、ODB−BlackXV、Blue−63、Blue−502、GN−169、GN−2、Green−118、Red−40、Red−8(以上、山本化成(株)製)、クリスタルバイオレットラクトン(東京化成品工業(株)製)等が挙げられる。これらの市販品の中でも、ETAC、S−205、BLACK305、BLACK400、BLACK100、BLACK500、H−7001、GREEN300、NIRBLACK78、H−3035、ATP、H−1046、H−2114、GREEN−DCF、Blue−63、GN−169、クリスタルバイオレットラクトンが、形成される膜の可視光吸収率が良好のため好ましい。   It is also possible to use commercially available products as acid color formers, such as ETAC, RED500, RED520, CVL, S-205, BLACK305, BLACK400, BLACK100, BLACK500, H-7001, GREEN300, NIRBLACK78, BLUE220, H -3035, BLUE203, ATP, H-1046, H-2114 (Fukui Yamada Chemical Co., Ltd.), ORANGE-DCF, Vermilion-DCF, PINK-DCF, RED-DCF, BLMB, CVL, GREEN-DCF TH-107 (above, manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), ODB, ODB-2, ODB-4, ODB-250, ODB-BlackXV, Blue-63, Blue-502, GN-169, GN-2, Green -118, Red-40, Red-8 (manufactured by Yamamoto Chemicals Co., Ltd.), crystal violet lactone (manufactured by Tokyo Chemicals Industry Co., Ltd.), and the like. Among these commercial products, ETAC, S-205, BLACK305, BLACK400, BLACK100, BLACK500, H-7001, GREEN300, NIRBLACK78, H-3035, ATP, H-1046, H-2114, GREEN-DCF, Blue-63 , GN-169, and crystal violet lactone are preferable because the formed film has good visible light absorption.

これらの酸発色剤は、1種単独で用いてもよいし、2種類以上の成分を組み合わせて使用することもできる。
酸発色剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、0.5質量%〜10質量%であることが好ましく、1質量%〜5質量%であることがより好ましい。
These acid color formers may be used alone or in combination of two or more components.
The content of the acid color former is preferably 0.5% by mass to 10% by mass, and more preferably 1% by mass to 5% by mass with respect to the total mass of the image recording layer.

−ポリマー粒子−
上記画像記録層は、ポリマー粒子を含有してもよい。
ポリマー粒子は、熱可塑性ポリマー粒子、熱反応性ポリマー粒子、重合性基を有するポリマー粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル、及び、ミクロゲル(架橋ポリマー粒子)よりなる群から選ばれることが好ましい。中でも、重合性基を有するポリマー粒子又はミクロゲルが好ましい。特に好ましい実施形態では、ポリマー粒子は少なくとも1つのエチレン性不飽和重合性基を含む。このようなポリマー粒子の存在により、露光部の耐刷性及び未露光部の機上現像性を高める効果が得られる。
また、ポリマー粒子は、熱可塑性ポリマー粒子であることが好ましい。
-Polymer particles-
The image recording layer may contain polymer particles.
The polymer particles may be selected from the group consisting of thermoplastic polymer particles, thermoreactive polymer particles, polymer particles having a polymerizable group, microcapsules containing a hydrophobic compound, and microgel (crosslinked polymer particles). preferable. Of these, polymer particles or microgels having a polymerizable group are preferred. In particularly preferred embodiments, the polymer particles comprise at least one ethylenically unsaturated polymerizable group. The presence of such polymer particles provides the effect of improving the printing durability of the exposed portion and the on-press developability of the unexposed portion.
The polymer particles are preferably thermoplastic polymer particles.

熱可塑性ポリマー粒子としては、1992年1月のResearch Disclosure No.33303、特開平9−123387号公報、同9−131850号公報、同9−171249号公報、同9−171250号公報及び欧州特許第931647号明細書などに記載の熱可塑性ポリマー粒子が好ましい。
熱可塑性ポリマー粒子を構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマー若しくはコポリマー又はそれらの混合物を挙げることができる。好ましくは、ポリスチレン、スチレン及びアクリロニトリルを含む共重合体、又は、ポリメタクリル酸メチルを挙げることができる。熱可塑性ポリマー粒子の平均粒径は0.01μm〜3.0μmが好ましい。
Thermoplastic polymer particles include Research Disclosure No. 1 of January 1992. 33303, JP-A-9-123387, JP-A-9-131850, JP-A-9-171249, JP-A-9-171250, and European Patent No. 931647 are preferable.
Specific examples of the polymer constituting the thermoplastic polymer particles include ethylene, styrene, vinyl chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, vinylidene chloride, acrylonitrile, vinyl carbazole, and a polyalkylene structure. Mention may be made of homopolymers or copolymers of monomers such as acrylates or methacrylates or mixtures thereof. Preferably, a copolymer containing polystyrene, styrene and acrylonitrile, or polymethyl methacrylate can be used. The average particle diameter of the thermoplastic polymer particles is preferably 0.01 μm to 3.0 μm.

熱反応性ポリマー粒子としては、熱反応性基を有するポリマー粒子が挙げられる。熱反応性ポリマー粒子は熱反応による架橋及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する。   Examples of the thermally reactive polymer particles include polymer particles having a thermally reactive group. The thermoreactive polymer particles form a hydrophobized region by crosslinking due to thermal reaction and a functional group change at that time.

熱反応性基を有するポリマー粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよいが、重合性基であることが好ましく、その例として、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など)、カチオン重合性基(例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基など)、付加反応を行うイソシアナート基又はそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基(例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など)、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基又はヒドロキシ基などが好ましく挙げられる。   The thermally reactive group in the polymer particles having a thermally reactive group may be any functional group that can perform any reaction as long as a chemical bond is formed, but is preferably a polymerizable group. Ethylenically unsaturated group (for example, acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, allyl group, etc.), cationic polymerizable group (for example, vinyl group, vinyloxy group, epoxy group, oxetanyl group, etc.), addition reaction for radical polymerization reaction An isocyanate group or a block thereof, an epoxy group, a vinyloxy group and a functional group having an active hydrogen atom as a reaction partner thereof (for example, an amino group, a hydroxy group, a carboxy group, etc.), a carboxy group that performs a condensation reaction, and Hydroxy group or amino group as reaction partner, acid anhydride for ring-opening addition reaction, and amino as reaction partner Or such hydroxy group are preferably exemplified.

マイクロカプセルとしては、例えば、特開2001−277740号公報、特開2001−277742号公報に記載のごとく、画像記録層の構成成分の少なくとも一部をマイクロカプセルに内包させたものである。画像記録層の構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。マイクロカプセルを含有する画像記録層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性の構成成分をマイクロカプセル外に含有する構成が好ましい態様である。   As the microcapsule, for example, as described in JP-A Nos. 2001-277740 and 2001-277742, at least a part of the constituent components of the image recording layer is encapsulated in the microcapsule. The constituent components of the image recording layer can also be contained outside the microcapsules. The image recording layer containing a microcapsule is preferably configured so that a hydrophobic constituent component is encapsulated in the microcapsule and a hydrophilic constituent component is contained outside the microcapsule.

ミクロゲル(架橋ポリマー粒子)は、その表面又は内部の少なくとも一方に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができる。特に、ラジカル重合性基をその表面に有する反応性ミクロゲルは、画像形成感度や耐刷性の観点から好ましい。   The microgel (crosslinked polymer particles) can contain a part of the constituent components of the image recording layer on at least one of the surface or the inside thereof. In particular, a reactive microgel having a radical polymerizable group on its surface is preferable from the viewpoint of image forming sensitivity and printing durability.

画像記録層の構成成分をマイクロカプセル化又はミクロゲル化するには、公知の方法が適用できる。   A known method can be applied to microencapsulate or microgel the constituent components of the image recording layer.

また、ポリマー粒子としては、耐刷性、耐汚れ性及び保存安定性の観点から、分子中に2個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られるものが好ましい。
上記多価フェノール化合物としては、フェノール性ヒドロキシ基を有するベンゼン環を複数有している化合物が好ましい。
上記活性水素を有する化合物を有する化合物としては、ポリオール化合物、又は、ポリアミン化合物が好ましく、ポリオール化合物がより好ましく、プロピレングリコール、グリセリン及びトリメチロールプロパンよりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物が更に好ましい。
分子中に2個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られる樹脂の粒子としては、特開2012−206495号公報の段落0032〜0095に記載のポリマー粒子が好ましく挙げられる。
In addition, as polymer particles, from the viewpoint of printing durability, stain resistance and storage stability, a polyvalent isocyanate compound which is an adduct of a polyphenol compound having two or more hydroxy groups in the molecule and isophorone diisocyanate And what is obtained by reaction of the compound which has active hydrogen is preferable.
As the polyhydric phenol compound, a compound having a plurality of benzene rings having a phenolic hydroxy group is preferable.
The compound having a compound having active hydrogen is preferably a polyol compound or a polyamine compound, more preferably a polyol compound, and at least one compound selected from the group consisting of propylene glycol, glycerin and trimethylolpropane. preferable.
As resin particles obtained by the reaction of a polyhydric isocyanate compound, which is an adduct of a polyhydric phenol compound having two or more hydroxy groups in the molecule, and isophorone diisocyanate, and a compound having active hydrogen, JP-A 2012 Preferred examples include polymer particles described in paragraphs 0032 to 0095 of JP-206495A.

更に、ポリマー粒子としては、耐刷性及び耐溶剤性の観点から、疎水性主鎖を有し、i)上記疎水性主鎖に直接的に結合されたペンダントシアノ基を有する構成ユニット、及び、ii)親水性ポリアルキレンオキシドセグメントを含むペンダント基を有する構成ユニットの両方を含むことが好ましい。
上記疎水性主鎖としては、アクリル樹脂鎖が好ましく挙げられる。
上記ペンダントシアノ基の例としては、−[CHCH(C≡N)−]又は−[CHC(CH)(C≡N)−]が好ましく挙げられる。
また、上記ペンダントシアノ基を有する構成ユニットは、エチレン系不飽和型モノマー、例えば、アクリロニトリル又はメタクリロニトリルから、又は、これらの組み合わせから容易に誘導することができる。
また、上記親水性ポリアルキレンオキシドセグメントにおけるアルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド又はプロピレンオキシドが好ましく、エチレンオキシドがより好ましい。
上記親水性ポリアルキレンオキシドセグメントにおけるアルキレンオキシド構造の繰り返し数は、10〜100であることが好ましく、25〜75であることがより好ましく、40〜50であることが更に好ましい。
疎水性主鎖を有し、i)上記疎水性主鎖に直接的に結合されたペンダントシアノ基を有する構成ユニット、及び、ii)親水性ポリアルキレンオキシドセグメントを含むペンダント基を有する構成ユニットの両方を含む樹脂の粒子としては、特表2008−503365号公報の段落0039〜0068に記載のものが好ましく挙げられる。
Further, the polymer particles have a hydrophobic main chain from the viewpoint of printing durability and solvent resistance, and i) a structural unit having a pendant cyano group directly bonded to the hydrophobic main chain, and ii) It preferably contains both constituent units with pendant groups containing hydrophilic polyalkylene oxide segments.
As the hydrophobic main chain, an acrylic resin chain is preferably exemplified.
Preferable examples of the pendant cyano group include — [CH 2 CH (C≡N) —] or — [CH 2 C (CH 3 ) (C≡N) —].
The constituent unit having a pendant cyano group can be easily derived from an ethylenically unsaturated monomer such as acrylonitrile or methacrylonitrile, or a combination thereof.
The alkylene oxide in the hydrophilic polyalkylene oxide segment is preferably ethylene oxide or propylene oxide, and more preferably ethylene oxide.
The number of repeating alkylene oxide structures in the hydrophilic polyalkylene oxide segment is preferably 10 to 100, more preferably 25 to 75, and still more preferably 40 to 50.
Both a structural unit having a hydrophobic main chain, i) a pendant cyano group directly bonded to the hydrophobic main chain, and ii) a structural unit having a pendant group including a hydrophilic polyalkylene oxide segment Preferred examples of the resin particles containing include those described in paragraphs 0039 to 0068 of JP-T-2008-503365.

ポリマー粒子の平均粒径は、0.01μm〜3.0μmが好ましく、0.03μm〜2.0μmがより好ましく、0.10μm〜1.0μmが更に好ましい。この範囲で良好な解像度と経時安定性が得られる。
本開示における上記各粒子の平均一次粒径は、光散乱法により測定するか、又は、粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上で粒子の粒径を総計で5,000個測定し、平均値を算出するものとする。なお、非球形粒子については写真上の粒子面積と同一の粒子面積を持つ球形粒子の粒径値を粒径とする。
また、本開示における平均粒径は、特に断りのない限り、体積平均粒径であるものとする。
ポリマー粒子の含有量は、画像記録層の全質量に対し、5質量%〜90質量%が好ましい。
The average particle size of the polymer particles is preferably 0.01 μm to 3.0 μm, more preferably 0.03 μm to 2.0 μm, and still more preferably 0.10 μm to 1.0 μm. Good resolution and stability over time can be obtained within this range.
The average primary particle size of each particle in the present disclosure is measured by a light scattering method, or an electron micrograph of the particle is taken, and the total particle size of the 5,000 particles is measured on the photograph. The value shall be calculated. For non-spherical particles, the particle size value of spherical particles having the same particle area as that on the photograph is used as the particle size.
Moreover, the average particle diameter in this indication shall be a volume average particle diameter unless there is particular notice.
The content of the polymer particles is preferably 5% by mass to 90% by mass with respect to the total mass of the image recording layer.

−バインダーポリマー−
画像記録層は、バインダーポリマーを含有してもよい。
バインダーポリマーとしては、(メタ)アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、又は、ポリウレタン樹脂が好ましい。
-Binder polymer-
The image recording layer may contain a binder polymer.
As the binder polymer, a (meth) acrylic resin, a polyvinyl acetal resin, or a polyurethane resin is preferable.

中でも、バインダーポリマーは平版印刷版原版の画像記録層に用いられる公知のバインダーポリマーを好適に使用することができる。一例として、機上現像型の平版印刷版原版に用いられるバインダーポリマー(以下、機上現像用バインダーポリマーともいう)について、詳細に記載する。
機上現像用バインダーポリマーとしては、アルキレンオキシド鎖を有するバインダーポリマーが好ましい。アルキレンオキシド鎖を有するバインダーポリマーは、ポリ(アルキレンオキシド)部位を主鎖に有していても側鎖に有していてもよい。また、ポリ(アルキレンオキシド)を側鎖に有するグラフトポリマーでも、ポリ(アルキレンオキシド)含有繰返し単位で構成されるブロックと(アルキレンオキシド)非含有繰返し単位で構成されるブロックとのブロックコポリマーでもよい。
ポリ(アルキレンオキシド)部位を主鎖に有する場合は、ポリウレタン樹脂が好ましい。ポリ(アルキレンオキシド)部位を側鎖に有する場合の主鎖のポリマーとしては、(メタ)アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ノボラック型フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられ、特に(メタ)アクリル樹脂が好ましい。
Among these, a known binder polymer used for the image recording layer of the lithographic printing plate precursor can be suitably used as the binder polymer. As an example, a binder polymer (hereinafter, also referred to as an on-press development binder polymer) used in an on-press development type lithographic printing plate precursor will be described in detail.
The binder polymer for on-press development is preferably a binder polymer having an alkylene oxide chain. The binder polymer having an alkylene oxide chain may have a poly (alkylene oxide) moiety in the main chain or in the side chain. Further, it may be a graft polymer having poly (alkylene oxide) in the side chain or a block copolymer of a block composed of a poly (alkylene oxide) -containing repeating unit and a block composed of a (alkylene oxide) -free repeating unit.
When it has a poly (alkylene oxide) moiety in the main chain, a polyurethane resin is preferred. The main chain polymer having a poly (alkylene oxide) moiety in the side chain includes (meth) acrylic resin, polyvinyl acetal resin, polyurethane resin, polyurea resin, polyimide resin, polyamide resin, epoxy resin, polystyrene resin, novolac type Examples thereof include phenol resin, polyester resin, synthetic rubber, and natural rubber, and (meth) acrylic resin is particularly preferable.

また、バインダーポリマーの他の好ましい例として、6官能以上10官能以下の多官能チオールを核として、この核に対しスルフィド結合により結合したポリマー鎖を有し、当該ポリマー鎖が重合性基を有する高分子化合物(以下、星型高分子化合物ともいう。)が挙げられる。星型高分子化合物としては、例えば、特開2012−148555号公報に記載の化合物を好ましく用いることができる。   As another preferred example of the binder polymer, a polyfunctional thiol having 6 to 10 functional groups is used as a nucleus, and a polymer chain bonded to the nucleus through a sulfide bond, and the polymer chain has a polymerizable group. Examples thereof include molecular compounds (hereinafter also referred to as star polymer compounds). As the star polymer compound, for example, compounds described in JP2012-148555A can be preferably used.

星型高分子化合物は、特開2008−195018号公報に記載のような画像部の皮膜強度を向上するためのエチレン性不飽和結合等の重合性基を、主鎖又は側鎖、好ましくは側鎖に有しているものが挙げられる。重合性基によってポリマー分子間に架橋が形成され、硬化が促進する。
重合性基としては、(メタ)アクリル基、ビニル基、アリル基、スチリル基などのエチレン性不飽和基やエポキシ基等が好ましく、(メタ)アクリル基、ビニル基、スチリル基が重合反応性の観点でより好ましく、(メタ)アクリル基が特に好ましい。これらの基は高分子反応や共重合によってポリマーに導入することができる。例えば、カルボキシ基を側鎖に有するポリマーとグリシジルメタクリレートとの反応、あるいはエポキシ基を有するポリマーとメタクリル酸などのエチレン性不飽和基含有カルボン酸との反応を利用できる。これらの基は併用してもよい。
The star polymer compound has a polymerizable group such as an ethylenically unsaturated bond for improving the film strength of the image portion as described in JP-A-2008-195018, the main chain or the side chain, preferably the side chain. What has in a chain | strand is mentioned. Crosslinking is formed between the polymer molecules by the polymerizable group, and curing is accelerated.
The polymerizable group is preferably an ethylenically unsaturated group such as a (meth) acryl group, a vinyl group, an allyl group or a styryl group, or an epoxy group, and a (meth) acryl group, a vinyl group or a styryl group is polymerizable. It is more preferable from the viewpoint, and a (meth) acryl group is particularly preferable. These groups can be introduced into the polymer by polymer reaction or copolymerization. For example, a reaction between a polymer having a carboxy group in the side chain and glycidyl methacrylate, or a reaction between a polymer having an epoxy group and an ethylenically unsaturated group-containing carboxylic acid such as methacrylic acid can be used. These groups may be used in combination.

バインダーポリマーの分子量は、GPC法によるポリスチレン換算値として重量平均分子量(Mw)が、2,000以上であることが好ましく、5,000以上であることがより好ましく、10,000〜300,000であることが更に好ましい。   As for the molecular weight of the binder polymer, the weight average molecular weight (Mw) is preferably 2,000 or more, more preferably 5,000 or more, as a polystyrene conversion value by GPC method, and 10,000 to 300,000. More preferably it is.

必要に応じて、特開2008−195018号公報に記載のポリアクリル酸、ポリビニルアルコールなどの親水性ポリマーを併用することができる。また、親油的なポリマーと親水的なポリマーとを併用することもできる。   If necessary, hydrophilic polymers such as polyacrylic acid and polyvinyl alcohol described in JP-A-2008-195018 can be used in combination. Further, a lipophilic polymer and a hydrophilic polymer can be used in combination.

本開示において用いられる画像記録層においては、バインダーポリマーを1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
バインダーポリマーは、画像記録層中に任意な量で含有させることができるが、バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、1質量%〜90質量%であることが好ましく、5質量%〜80質量%であることがより好ましい。
In the image recording layer used in the present disclosure, the binder polymer may be used alone or in combination of two or more.
The binder polymer can be contained in an arbitrary amount in the image recording layer, but the content of the binder polymer is preferably 1% by mass to 90% by mass with respect to the total mass of the image recording layer. More preferably, it is 5 mass%-80 mass%.

−連鎖移動剤−
本開示において用いられる画像記録層は、連鎖移動剤を含有してもよい。連鎖移動剤は、平版印刷版における耐刷性の向上に寄与する。
連鎖移動剤としては、チオール化合物が好ましく、沸点(揮発し難さ)の観点で炭素数7以上のチオールがより好ましく、芳香環上にメルカプト基を有する化合物(芳香族チオール化合物)が更に好ましい。上記チオール化合物は単官能チオール化合物であることが好ましい。
-Chain transfer agent-
The image recording layer used in the present disclosure may contain a chain transfer agent. The chain transfer agent contributes to the improvement of printing durability in a lithographic printing plate.
The chain transfer agent is preferably a thiol compound, more preferably a thiol having 7 or more carbon atoms from the viewpoint of boiling point (difficult to volatilize), and still more preferably a compound having a mercapto group on the aromatic ring (aromatic thiol compound). The thiol compound is preferably a monofunctional thiol compound.

連鎖移動剤として具体的には、下記の化合物が挙げられる。   Specific examples of the chain transfer agent include the following compounds.

連鎖移動剤は、1種のみを添加しても、2種以上を併用してもよい。
連鎖移動剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、0.01質量%〜50質量%が好ましく、0.05質量%〜40質量%がより好ましく、0.1質量%〜30質量%が更に好ましい。
A chain transfer agent may add only 1 type or may use 2 or more types together.
The content of the chain transfer agent is preferably 0.01% by mass to 50% by mass, more preferably 0.05% by mass to 40% by mass with respect to the total mass of the image recording layer, and 0.1% by mass to 30% by mass. % Is more preferable.

−低分子親水性化合物−
画像記録層は、耐刷性の低下を抑制させつつ機上現像性を向上させるために、低分子親水性化合物を含有してもよい。低分子親水性化合物は、分子量1,000未満の化合物が好ましく、分子量800未満の化合物がより好ましく、分子量500未満の化合物が更に好ましい。
低分子親水性化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類及びそのエーテル又はエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等のポリオール類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン等の有機アミン類及びその塩、アルキルスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類及びその塩、アルキルスルファミン酸等の有機スルファミン酸類及びその塩、アルキル硫酸、アルキルエーテル硫酸等の有機硫酸類及びその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類及びその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類及びその塩、ベタイン類等が挙げられる。
-Low molecular weight hydrophilic compounds-
The image recording layer may contain a low molecular weight hydrophilic compound in order to improve on-press developability while suppressing a decrease in printing durability. The low molecular weight hydrophilic compound is preferably a compound having a molecular weight of less than 1,000, more preferably a compound having a molecular weight of less than 800, and still more preferably a compound having a molecular weight of less than 500.
Examples of the low molecular weight hydrophilic compound include water-soluble organic compounds such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol and the like and ether or ester derivatives thereof, glycerin, Polyols such as pentaerythritol and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, organic amines such as triethanolamine, diethanolamine and monoethanolamine and salts thereof, organic sulfones such as alkylsulfonic acid, toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid Acids and salts thereof, organic sulfamic acids such as alkylsulfamic acid and salts thereof, organic sulfuric acids such as alkylsulfuric acid and alkylethersulfuric acid and salts thereof, phenylphosphonic acid Organic phosphonic acids and salts thereof, tartaric acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid, organic carboxylic acids and salts thereof such as amino acids, betaines, and the like.

低分子親水性化合物としては、ポリオール類、有機硫酸塩類、有機スルホン酸塩類及びベタイン類から選ばれる少なくとも1つを含有させることが好ましい。   The low molecular weight hydrophilic compound preferably contains at least one selected from polyols, organic sulfates, organic sulfonates, and betaines.

有機スルホン酸塩類の具体例としては、n−ブチルスルホン酸ナトリウム、n−ヘキシルスルホン酸ナトリウム、2−エチルヘキシルスルホン酸ナトリウム、シクロヘキシルスルホン酸ナトリウム、n−オクチルスルホン酸ナトリウムなどのアルキルスルホン酸塩;5,8,11−トリオキサペンタデカン−1−スルホン酸ナトリウム、5,8,11−トリオキサヘプタデカン−1−スルホン酸ナトリウム、13−エチル−5,8,11−トリオキサヘプタデカン−1−スルホン酸ナトリウム、5,8,11,14−テトラオキサテトラコサン−1−スルホン酸ナトリウムなどのエチレンオキシド鎖を含むアルキルスルホン酸塩;ベンゼンスルホン酸ナトリウム、p−トルエンスルホン酸ナトリウム、p−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム、p−スチレンスルホン酸ナトリウム、イソフタル酸ジメチル−5−スルホン酸ナトリウム、1−ナフチルスルホン酸ナトリウム、4−ヒドロキシナフチルスルホン酸ナトリウム、1,5−ナフタレンジスルホン酸ジナトリウム、1,3,6−ナフタレントリスルホン酸トリナトリウムなどのアリールスルホン酸塩、特開2007−276454号公報の段落0026〜0031及び特開2009−154525号公報の段落0020〜0047に記載の化合物等が挙げられる。塩は、カリウム塩、リチウム塩でもよい。   Specific examples of organic sulfonates include alkyl sulfonates such as sodium n-butyl sulfonate, sodium n-hexyl sulfonate, sodium 2-ethylhexyl sulfonate, sodium cyclohexyl sulfonate, sodium n-octyl sulfonate; 5 , 8,11-Trioxapentadecane-1-sulfonic acid sodium salt, 5,8,11-trioxaheptadecane-1-sulfonic acid sodium salt, 13-ethyl-5,8,11-trioxaheptadecane-1-sulfone Alkyl sulfonates containing ethylene oxide chains such as sodium acid, sodium 5,8,11,14-tetraoxatetracosane-1-sulfonate; sodium benzenesulfonate, sodium p-toluenesulfonate, p-hydroxybenzenesulfonic acid Nat , Sodium p-styrenesulfonate, dimethyl-5-sulfonate sodium isophthalate, sodium 1-naphthylsulfonate, sodium 4-hydroxynaphthylsulfonate, disodium 1,5-naphthalenedisulfonate, 1,3,6- Examples thereof include aryl sulfonates such as trisodium naphthalene trisulfonate, compounds described in paragraphs 0026 to 0031 of JP-A-2007-276454 and paragraphs 0020 to 0047 of JP-A-2009-154525. The salt may be a potassium salt or a lithium salt.

有機硫酸塩類としては、ポリエチレンオキシドのアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール又は複素環モノエーテルの硫酸塩が挙げられる。エチレンオキシド単位の数は1〜4が好ましく、塩はナトリウム塩、カリウム塩又はリチウム塩が好ましい。具体例としては、特開2007−276454号公報の段落0034〜0038に記載の化合物が挙げられる。   Examples of organic sulfates include sulfates of alkyl, alkenyl, alkynyl, aryl or heterocyclic monoethers of polyethylene oxide. The number of ethylene oxide units is preferably 1 to 4, and the salt is preferably a sodium salt, potassium salt or lithium salt. Specific examples include the compounds described in paragraphs 0034 to 0038 of JP-A-2007-276454.

ベタイン類としては、窒素原子への炭化水素置換基の炭素数が1〜5である化合物が好ましく、具体例としては、トリメチルアンモニウムアセタート、ジメチルプロピルアンモニウムアセタート、3−ヒドロキシ−4−トリメチルアンモニオブチラート、4−(1−ピリジニオ)ブチラート、1−ヒドロキシエチル−1−イミダゾリオアセタート、トリメチルアンモニウムメタンスルホナート、ジメチルプロピルアンモニウムメタンスルホナート、3−トリメチルアンモニオ−1−プロパンスルホナート、3−(1−ピリジニオ)−1−プロパンスルホナート等が挙げられる。   As the betaines, compounds having 1 to 5 carbon atoms of the hydrocarbon substituent on the nitrogen atom are preferable, and specific examples thereof include trimethylammonium acetate, dimethylpropylammonium acetate, 3-hydroxy-4-trimethylammonium. Obtylate, 4- (1-pyridinio) butyrate, 1-hydroxyethyl-1-imidazolioacetate, trimethylammonium methanesulfonate, dimethylpropylammonium methanesulfonate, 3-trimethylammonio-1-propanesulfonate, 3 -(1-pyridinio) -1-propanesulfonate and the like.

低分子親水性化合物は疎水性部分の構造が小さくて界面活性作用がほとんどないため、湿し水が画像記録層露光部(画像部)へ浸透して画像部の疎水性や皮膜強度を低下させることがなく、画像記録層のインキ受容性や耐刷性を良好に維持することができる。   Since low molecular weight hydrophilic compounds have a small hydrophobic part structure and almost no surface activity, dampening water penetrates into the exposed part of the image recording layer (image part) and decreases the hydrophobicity and film strength of the image part. The ink receptivity and printing durability of the image recording layer can be maintained satisfactorily.

低分子親水性化合物の含有量は、画像記録層の全質量に対して、0.5質量%〜20質量%が好ましく、1質量%〜15質量%がより好ましく、2質量%〜10質量%が更に好ましい。この範囲で良好な機上現像性と耐刷性が得られる。
低分子親水性化合物は、1種単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
The content of the low molecular weight hydrophilic compound is preferably 0.5% by mass to 20% by mass, more preferably 1% by mass to 15% by mass with respect to the total mass of the image recording layer, and 2% by mass to 10% by mass. Is more preferable. In this range, good on-press developability and printing durability can be obtained.
A low molecular weight hydrophilic compound may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for it.

−感脂化剤−
画像記録層は、着肉性を向上させるために、ホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマー等の感脂化剤を含有してもよい。特に、保護層に無機層状化合物を含有させる場合、これらの化合物は、無機層状化合物の表面被覆剤として機能し、無機層状化合物による印刷途中の着肉性低下を抑制することができる。
感脂化剤としては、ホスホニウム化合物と、含窒素低分子化合物と、アンモニウム基含有ポリマーとを併用することが好ましく、ホスホニウム化合物と、第四級アンモニウム塩類と、アンモニウム基含有ポリマーとを併用することがより好ましい。
-Grease-sensitizing agent-
The image recording layer may contain a sensitizing agent such as a phosphonium compound, a nitrogen-containing low molecular weight compound, or an ammonium group-containing polymer in order to improve the inking property. In particular, when an inorganic layered compound is contained in the protective layer, these compounds function as a surface coating agent for the inorganic layered compound, and can suppress a decrease in the inking property during printing by the inorganic layered compound.
As the sensitizer, it is preferable to use a phosphonium compound, a nitrogen-containing low molecular weight compound, and an ammonium group-containing polymer in combination, and use a phosphonium compound, a quaternary ammonium salt, and an ammonium group-containing polymer in combination. Is more preferable.

ホスホニウム化合物としては、特開2006−297907号公報及び特開2007−50660号公報に記載のホスホニウム化合物が挙げられる。具体例としては、テトラブチルホスホニウムヨージド、ブチルトリフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、1,4−ビス(トリフェニルホスホニオ)ブタン=ジ(ヘキサフルオロホスファート)、1,7−ビス(トリフェニルホスホニオ)ヘプタン=スルファート、1,9−ビス(トリフェニルホスホニオ)ノナン=ナフタレン−2,7−ジスルホナート等が挙げられる。   Examples of the phosphonium compound include phosphonium compounds described in JP-A-2006-297907 and JP-A-2007-50660. Specific examples include tetrabutylphosphonium iodide, butyltriphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide, 1,4-bis (triphenylphosphonio) butanedi (hexafluorophosphate), 1,7-bis (tri Phenylphosphonio) heptane = sulfate, 1,9-bis (triphenylphosphonio) nonane = naphthalene-2,7-disulfonate, and the like.

含窒素低分子化合物としては、アミン塩類、第四級アンモニウム塩類が挙げられる。また、イミダゾリニウム塩類、ベンゾイミダゾリニウム塩類、ピリジニウム塩類、キノリニウム塩類も挙げられる。中でも、第四級アンモニウム塩類及びピリジニウム塩類が好ましい。具体例としては、テトラメチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、テトラブチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ドデシルトリメチルアンモニウム=p−トルエンスルホナート、ベンジルトリエチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルオクチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルドデシルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、特開2008−284858号公報の段落0021〜0037、特開2009−90645号公報の段落0030〜0057に記載の化合物等が挙げられる。   Examples of nitrogen-containing low molecular weight compounds include amine salts and quaternary ammonium salts. Also included are imidazolinium salts, benzimidazolinium salts, pyridinium salts, and quinolinium salts. Of these, quaternary ammonium salts and pyridinium salts are preferred. Specific examples include tetramethylammonium = hexafluorophosphate, tetrabutylammonium = hexafluorophosphate, dodecyltrimethylammonium = p-toluenesulfonate, benzyltriethylammonium = hexafluorophosphate, benzyldimethyloctylammonium = hexafluorophosphate. And the compounds described in paragraphs 0021 to 0037 of JP2008-284858A, paragraphs 0030 to 0057 of JP2009-90645A, and the like.

アンモニウム基含有ポリマーとしては、その構造中にアンモニウム基を有すればよく、側鎖にアンモニウム基を有する(メタ)アクリレートを共重合成分として5モル%〜80モル%含有するポリマーが好ましい。具体例としては、特開2009−208458号公報の段落0089〜0105に記載のポリマーが挙げられる。   As an ammonium group containing polymer, what is necessary is just to have an ammonium group in the structure, and the polymer which contains 5 mol%-80 mol% of (meth) acrylate which has an ammonium group in a side chain as a copolymerization component is preferable. Specific examples include the polymers described in paragraphs 0089 to 0105 of JP2009-208458A.

アンモニウム塩含有ポリマーは、特開2009−208458号公報に記載の測定方法に従って求められる還元比粘度(単位:ml/g)の値が、5〜120の範囲のものが好ましく、10〜110の範囲のものがより好ましく、15〜100の範囲のものが特に好ましい。上記還元比粘度を重量平均分子量(Mw)に換算した場合、10,000〜150,000が好ましく、17,000〜140,000がより好ましく、20,000〜130,000が特に好ましい。   The ammonium salt-containing polymer preferably has a reduced specific viscosity (unit: ml / g) determined in accordance with the measuring method described in JP-A-2009-208458, in the range of 5 to 120, and in the range of 10 to 110. Are more preferable, and those in the range of 15 to 100 are particularly preferable. When the said reduced specific viscosity is converted into a weight average molecular weight (Mw), 10,000-150,000 are preferable, 17,000-140,000 are more preferable, 20,000-130,000 are especially preferable.

以下に、アンモニウム基含有ポリマーの具体例を示す。
(1)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p−トルエンスルホナート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比10/90、Mw4.5万)
(2)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw6.0万)
(3)2−(エチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p−トルエンスルホナート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比30/70、Mw4.5万)
(4)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/2−エチルヘキシルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw6.0万)
(5)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=メチルスルファート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比40/60、Mw7.0万)
(6)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比25/75、Mw6.5万)
(7)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルアクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw6.5万)
(8)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=13−エチル−5,8,11−トリオキサ−1−ヘプタデカンスルホナート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw7.5万)
(9)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート/2−ヒドロキシ−3−メタクロイルオキシプロピルメタクリレート共重合体(モル比15/80/5、Mw6.5万)
Specific examples of the ammonium group-containing polymer are shown below.
(1) 2- (Trimethylammonio) ethyl methacrylate = p-toluenesulfonate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 10/90, Mw 45,000)
(2) 2- (Trimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80, Mw 60,000)
(3) 2- (Ethyldimethylammonio) ethyl methacrylate = p-toluenesulfonate / hexyl methacrylate copolymer (molar ratio 30/70, Mw 45,000)
(4) 2- (Trimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 2-ethylhexyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80, Mw 60,000)
(5) 2- (Trimethylammonio) ethyl methacrylate = methyl sulfate / hexyl methacrylate copolymer (molar ratio 40/60, Mw 7 million)
(6) 2- (Butyldimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 25/75, Mw 650,000)
(7) 2- (Butyldimethylammonio) ethyl acrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80, Mw 650,000)
(8) 2- (Butyldimethylammonio) ethyl methacrylate = 13-ethyl-5,8,11-trioxa-1-heptadecanesulfonate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80 , Mw75,000)
(9) 2- (butyldimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate / 2-hydroxy-3-methacryloyloxypropyl methacrylate copolymer (molar ratio 15/80/5 , Mw 650,000)

感脂化剤の含有量は、画像記録層の全質量に対して、0.01質量%〜30.0質量%が好ましく、0.1質量%〜15.0質量%がより好ましく、1質量%〜10質量%が更に好ましい。   The content of the sensitizing agent is preferably 0.01% by mass to 30.0% by mass, more preferably 0.1% by mass to 15.0% by mass with respect to the total mass of the image recording layer, and 1% by mass. % To 10% by mass is more preferable.

−その他の成分−
画像記録層には、その他の成分として、界面活性剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機粒子、無機層状化合物等を含有することができる。具体的には、特開2008−284817号公報の段落0114〜0159の記載を参照することができる。
-Other ingredients-
The image recording layer can contain, as other components, a surfactant, a polymerization inhibitor, a higher fatty acid derivative, a plasticizer, inorganic particles, an inorganic layered compound, and the like. Specifically, reference can be made to the descriptions in paragraphs 0114 to 0159 of JP-A-2008-284817.

−画像記録層の形成−
本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層は、例えば、特開2008−195018号公報の段落0142〜0143に記載のように、必要な上記各成分を公知の溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、塗布液を支持体上にバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することにより形成することができる。塗布、乾燥後における画像記録層の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、0.3g/m〜3.0g/mが好ましい。この範囲で、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性が得られる。
溶剤としては、公知の溶剤を用いることができる。具体的には、例えば、水、アセトン、メチルエチルケトン(2−ブタノン)、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメーチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、1−メトキシ−2−プロパノール、3−メトキシ−1−プロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。溶剤は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。塗布液中の固形分濃度は1〜50質量%程度であることが好ましい。
塗布、乾燥後における画像記録層の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性を得る観点から、0.3〜3.0g/m程度が好ましい。
-Formation of image recording layer-
The image recording layer in the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure is applied by dispersing or dissolving the necessary components in a known solvent as described in paragraphs 0142 to 0143 of JP-A-2008-195018, for example. It can be formed by preparing a liquid, applying the coating liquid onto a support by a known method such as bar coater coating, and drying. Coating, the coating amount of the image recording layer after drying (solid content) may be varied according to the intended purpose, 0.3g / m 2 ~3.0g / m 2 is preferred. Within this range, good sensitivity and good film characteristics of the image recording layer can be obtained.
A known solvent can be used as the solvent. Specifically, for example, water, acetone, methyl ethyl ketone (2-butanone), cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, Propylene glycol monoethyl ether, acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 1-methoxy-2-propanol, 3- Methoxy-1-propanol, methoxymethoxy Tanol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone , Methyl lactate, ethyl lactate and the like. A solvent may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together. The solid content concentration in the coating solution is preferably about 1 to 50% by mass.
The coating amount (solid content) of the image recording layer after coating and drying varies depending on the use, but from the viewpoint of obtaining good sensitivity and good film properties of the image recording layer, about 0.3 to 3.0 g / m 2. Is preferred.

<親水性支持体>
本開示に係る平版印刷版原版における親水性支持体(以下、単に「支持体」ともいう。)は、公知の平版印刷版原版用親水性支持体から適宜選択して用いることができる。親水性支持体としては、公知の方法で粗面化処理され、陽極酸化処理されたアルミニウム板が好ましい。
アルミニウム板は更に必要に応じて、特開2001−253181号公報及び特開2001−322365号公報に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理や封孔処理、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、同第3,280,734号及び同第3,902,734号の各明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケートによる表面親水化処理、米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号及び同第4,689,272号の各明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸などによる表面親水化処理を適宜選択して行ってもよい。
支持体は、中心線平均粗さが0.10μm〜1.2μmであることが好ましい。
<Hydrophilic support>
The hydrophilic support (hereinafter also simply referred to as “support”) in the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure can be appropriately selected from known hydrophilic supports for lithographic printing plate precursors. As the hydrophilic support, an aluminum plate which has been roughened and anodized by a known method is preferable.
If necessary, the aluminum plate is further subjected to micropore enlargement treatment or sealing treatment of an anodized film described in JP-A Nos. 2001-253181 and 2001-322365, U.S. Pat. No. 2,714, Surface hydrophilization treatment with alkali metal silicate as described in US Pat. Nos. 066, 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734, US The surface hydrophilization treatment with polyvinyl phosphonic acid as described in the specifications of Patent Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689,272 is appropriately selected. You may go.
The support preferably has a center line average roughness of 0.10 μm to 1.2 μm.

支持体は、必要に応じて、画像記録層とは反対側の面に、特開平5−45885号公報に記載の有機高分子化合物又は特開平6−35174号公報に記載のケイ素のアルコキシ化合物等を含むバックコート層を有していてもよい。   If necessary, the support is provided on the surface opposite to the image recording layer, such as an organic polymer compound described in JP-A-5-45885, or an alkoxy compound of silicon described in JP-A-6-35174. You may have the backcoat layer containing.

<下塗り層>
本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に下塗り層(中間層と呼ばれることもある。)を有することが好ましい。下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性を損なわずに現像性を向上させることに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合に、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ効果も有する。
<Undercoat layer>
The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure preferably has an undercoat layer (sometimes referred to as an intermediate layer) between the image recording layer and the support. The undercoat layer enhances the adhesion between the support and the image recording layer in the exposed area, and easily peels off the image recording layer from the support in the unexposed area. It contributes to improving. In addition, in the case of infrared laser exposure, the undercoat layer functions as a heat insulating layer, and thus has an effect of preventing the heat generated by the exposure from diffusing to the support and lowering the sensitivity.

下塗り層に用いられる化合物としては、支持体表面に吸着可能な吸着性基及び親水性基を有するポリマーが挙げられる。画像記録層との密着性を向上させるために吸着性基及び親水性基を有し、更に架橋性基を有するポリマーが好ましい。下塗り層に用いられる化合物は、低分子化合物でもポリマーであってもよい。下塗り層に用いられる化合物は、必要に応じて、2種以上を混合して使用してもよい。   Examples of the compound used for the undercoat layer include polymers having an adsorptive group and a hydrophilic group that can be adsorbed on the support surface. In order to improve the adhesion to the image recording layer, a polymer having an adsorptive group and a hydrophilic group and further having a crosslinkable group is preferable. The compound used for the undercoat layer may be a low molecular compound or a polymer. The compounds used for the undercoat layer may be used as a mixture of two or more if necessary.

下塗り層に用いられる化合物がポリマーである場合、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー及び架橋性基を有するモノマーの共重合体が好ましい。
支持体表面に吸着可能な吸着性基としては、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、−PO、−OPO、−CONHSO−、−SONHSO−、−COCHCOCHが好ましい。親水性基としては、スルホ基又はその塩、カルボキシ基の塩が好ましい。架橋性基としては、アクリル基、メタクリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、アリル基などが好ましい。
ポリマーは、ポリマーの極性置換基と、上記極性置換基と対荷電を有する置換基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物との塩形成で導入された架橋性基を有してもよいし、上記以外のモノマー、好ましくは親水性モノマーが更に共重合されていてもよい。
When the compound used for the undercoat layer is a polymer, a copolymer of a monomer having an adsorptive group, a monomer having a hydrophilic group, and a monomer having a crosslinkable group is preferable.
Examples of the adsorptive group that can be adsorbed on the support surface include a phenolic hydroxy group, a carboxy group, —PO 3 H 2 , —OPO 3 H 2 , —CONHSO 2 —, —SO 2 NHSO 2 —, —COCH 2 COCH 3. Is preferred. As the hydrophilic group, a sulfo group or a salt thereof, or a salt of a carboxy group is preferable. As the crosslinkable group, an acryl group, a methacryl group, an acrylamide group, a methacrylamide group, an allyl group, and the like are preferable.
The polymer may have a crosslinkable group introduced by salt formation between a polar substituent of the polymer, a substituent having a counter charge with the polar substituent and a compound having an ethylenically unsaturated bond, Other monomers, preferably hydrophilic monomers may be further copolymerized.

具体的には、特開平10−282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2−304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物が好適に挙げられる。特開2005−238816号、特開2005−125749号、特開2006−239867号、特開2006−215263号の各公報に記載の架橋性基(好ましくは、エチレン性不飽和結合基)、支持体表面と相互作用する官能基及び親水性基を有する低分子又は高分子化合物も好ましく用いられる。
より好ましいものとして、特開2005−125749号及び特開2006−188038号公報に記載の支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基及び架橋性基を有する高分子ポリマーが挙げられる。
Specifically, a silane coupling agent having an addition-polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A-10-282679 and an ethylenic compound described in JP-A-2-304441. The phosphorus compound which has a heavy bond reactive group is mentioned suitably. Crosslinkable groups (preferably ethylenically unsaturated bond groups) described in JP 2005-238816 A, JP 2005-12549 A, JP 2006-239867 A, JP 2006-215263 A, and Supports A low molecular or high molecular compound having a functional group interacting with the surface and a hydrophilic group is also preferably used.
More preferable are polymer polymers having an adsorbing group, a hydrophilic group and a crosslinkable group which can be adsorbed on the surface of the support described in JP-A Nos. 2005-125749 and 2006-188038.

下塗り層に用いられるポリマー中のエチレン性不飽和結合基の含有量は、ポリマー1g当たり、好ましくは0.1mmol〜10.0mmol、より好ましくは0.2mmol〜5.5mmolである。
下塗り層に用いられるポリマーの重量平均分子量(Mw)は、5,000以上が好ましく、1万〜30万がより好ましい。
The content of the ethylenically unsaturated bond group in the polymer used for the undercoat layer is preferably 0.1 mmol to 10.0 mmol, more preferably 0.2 mmol to 5.5 mmol per 1 g of the polymer.
The weight average molecular weight (Mw) of the polymer used for the undercoat layer is preferably 5,000 or more, and more preferably 10,000 to 300,000.

下塗り層は、上記下塗り層用化合物の他に、経時による汚れ防止のため、キレート剤、第二級又は第三級アミン、重合禁止剤、アミノ基又は重合禁止能を有する官能基と支持体表面と相互作用する基とを有する化合物(例えば、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、2,3,5,6−テトラヒドロキシ−p−キノン、クロラニル、スルホフタル酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸など)等を含有してもよい。   In addition to the above compound for the undercoat layer, the undercoat layer is a chelating agent, a secondary or tertiary amine, a polymerization inhibitor, an amino group, or a functional group having a polymerization inhibitory ability and a support surface in order to prevent contamination with time. And a compound having a group that interacts with (for example, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO), 2,3,5,6-tetrahydroxy-p-quinone, chloranil, sulfophthalic acid, hydroxy Ethylethylenediaminetriacetic acid, dihydroxyethylethylenediaminediacetic acid, hydroxyethyliminodiacetic acid, and the like).

下塗り層は、公知の方法で塗布される。下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1mg/m〜100mg/mが好ましく、1mg/m〜30mg/mがより好ましい。The undercoat layer is applied by a known method. The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably from 0.1mg / m 2 ~100mg / m 2 , 1mg / m 2 ~30mg / m 2 is more preferable.

<保護層>
本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層の上に保護層(オーバーコート層と呼ばれることもある。)を有することが好ましい。保護層は酸素遮断により画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層における傷の発生防止及び高照度レーザー露光時のアブレーション防止の機能を有する。
<Protective layer>
The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure preferably has a protective layer (sometimes referred to as an overcoat layer) on the image recording layer. In addition to the function of suppressing the image formation inhibition reaction by blocking oxygen, the protective layer has a function of preventing scratches in the image recording layer and preventing ablation during high-illuminance laser exposure.

このような特性の保護層については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書及び特公昭55−49729号公報に記載されている。保護層に用いられる酸素低透過性のポリマーとしては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができ、必要に応じて2種類以上を混合して使用することもできる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリ(メタ)アクリロニトリル等が挙げられる。
変性ポリビニルアルコールとしてはカルボキシ基又はスルホ基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開2005−250216号公報及び特開2006−259137号公報に記載の変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
The protective layer having such characteristics is described in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and Japanese Patent Publication No. 55-49729. As the low oxygen permeability polymer used for the protective layer, either a water-soluble polymer or a water-insoluble polymer can be appropriately selected and used, and two or more types can be mixed and used as necessary. it can. Specific examples include polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, water-soluble cellulose derivatives, poly (meth) acrylonitrile, and the like.
As the modified polyvinyl alcohol, acid-modified polyvinyl alcohol having a carboxy group or a sulfo group is preferably used. Specific examples include modified polyvinyl alcohols described in JP-A-2005-250216 and JP-A-2006-259137.

保護層は、酸素遮断性を高めるために無機層状化合物を含有することが好ましい。無機層状化合物は、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、天然雲母、合成雲母等の雲母群、式:3MgO・4SiO・HOで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、リン酸ジルコニウム等が挙げられる。
好ましく用いられる無機層状化合物は雲母化合物である。雲母化合物としては、例えば、式:A(B,C)2−510(OH,F,O)〔ただし、Aは、K、Na、Caのいずれか、B及びCは、Fe(II)、Fe(III)、Mn、Al、Mg、Vのいずれかであり、Dは、Si又はAlである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群が挙げられる。
The protective layer preferably contains an inorganic layered compound in order to enhance oxygen barrier properties. The inorganic layered compound is a particle having a thin flat plate shape, for example, mica group such as natural mica, synthetic mica, talc, teniolite, montmorillonite, saponite, hector represented by the formula: 3MgO · 4SiO · H 2 O Light, zirconium phosphate, etc. are mentioned.
The inorganic layered compound preferably used is a mica compound. As the mica compound, for example, the formula: A (B, C) 2-5 D 4 O 10 (OH, F, O) 2 [where A is one of K, Na, Ca, B and C are One of Fe (II), Fe (III), Mn, Al, Mg, and V, and D is Si or Al. ] Mica groups such as natural mica and synthetic mica represented by

雲母群においては、天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母及び鱗雲母が挙げられる。合成雲母としてはフッ素金雲母KMg(AlSi10)F、カリ四ケイ素雲母KMg2.5Si10)F等の非膨潤性雲母、及び、NaテトラシリリックマイカNaMg2.5(Si10)F、Na又はLiテニオライト(Na,Li)MgLi(Si10)F、モンモリロナイト系のNa又はLiヘクトライト(Na,Li)1/8Mg2/5Li1/8(Si10)F等の膨潤性雲母等が挙げられる。更に合成スメクタイトも有用である。In the mica group, natural mica includes muscovite, soda mica, phlogopite, biotite, and sericite. As the synthetic mica, non-swelling mica such as fluor-phlogopite mica KMg 3 (AlSi 3 O 10 ) F 2 , potassium tetrasilicon mica KMg 2.5 Si 4 O 10 ) F 2 , and Na tetrasilicic mica NaMg2 . 5 (Si 4 O 10 ) F 2 , Na or Li teniolite (Na, Li) Mg 2 Li (Si 4 O 10 ) F 2 , montmorillonite-based Na or Li hectorite (Na, Li) 1/8 Mg 2 / Examples include swellable mica, such as 5 Li 1/8 (Si 4 O 10 ) F 2 . Synthetic smectite is also useful.

上記の雲母化合物の中でも、フッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。すなわち、膨潤性合成雲母は、10Å〜15Å(1Å=0.1nm)程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他の粘土鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するために層間にLi、Na、Ca2+、Mg2+等の陽イオンを吸着している。これらの層間に介在している陽イオンは交換性陽イオンと呼ばれ、いろいろな陽イオンと交換し得る。特に、層間の陽イオンがLi、Naの場合、イオン半径が小さいため層状結晶格子間の結合が弱く、水により大きく膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。膨潤性合成雲母はこの傾向が強く、特に好ましく用いられる。Of the mica compounds, fluorine-based swellable mica is particularly useful. That is, the swellable synthetic mica has a laminated structure composed of unit crystal lattice layers with a thickness of about 10 to 15 (1Å = 0.1 nm), and the substitution of metal atoms in the lattice is significantly larger than other clay minerals. As a result, the lattice layer is deficient in positive charge, and in order to compensate for this, cations such as Li + , Na + , Ca 2+ , and Mg 2+ are adsorbed between the layers. The cations present between these layers are called exchangeable cations and can be exchanged with various cations. In particular, when the cation between the layers is Li + or Na + , the bond between the layered crystal lattices is weak because the ionic radius is small, and the layer swells greatly with water. If shear is applied in this state, it will be easily cleaved to form a stable sol in water. Swelling synthetic mica has a strong tendency and is particularly preferably used.

雲母化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きい程よい。従って、アスペクト比は、好ましくは20以上であり、より好ましくは100以上、特に好ましくは200以上である。アスペクト比は粒子の厚さに対する長径の比であり、例えば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。   As the shape of the mica compound, from the viewpoint of diffusion control, the thinner the better, the better the plane size as long as the smoothness of the coated surface and the transmittance of actinic rays are not impaired. Accordingly, the aspect ratio is preferably 20 or more, more preferably 100 or more, and particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the major axis to the thickness of the particle, and can be measured, for example, from a projection drawing of a particle by a micrograph. The larger the aspect ratio, the greater the effect that can be obtained.

雲母化合物の粒子径は、その平均長径が、好ましくは0.3μm〜20μm、より好ましくは0.5μm〜10μm、特に好ましくは1μm〜5μmである。粒子の平均の厚さは、好ましくは0.1μm以下、より好ましくは0.05μm以下、特に好ましくは0.01μm以下である。具体的には、例えば、代表的化合物である膨潤性合成雲母の場合、好ましい態様としては、厚さが1nm〜50nm程度、面サイズ(長径)が1μm〜20μm程度である。   The average major axis of the mica compound has a mean major axis of preferably 0.3 μm to 20 μm, more preferably 0.5 μm to 10 μm, and particularly preferably 1 μm to 5 μm. The average thickness of the particles is preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.05 μm or less, and particularly preferably 0.01 μm or less. Specifically, for example, in the case of swellable synthetic mica, which is a representative compound, preferred embodiments have a thickness of about 1 nm to 50 nm and a surface size (major axis) of about 1 μm to 20 μm.

無機層状化合物の含有量は、保護層の全固形分に対して、1質量%〜60質量%が好ましく、3質量%〜50質量%がより好ましい。複数種の無機層状化合物を併用する場合でも、無機層状化合物の合計量が上記の含有量であることが好ましい。上記範囲で酸素遮断性が向上し、良好な感度が得られる。また、着肉性の低下を防止できる。   1 mass%-60 mass% are preferable with respect to the total solid of a protective layer, and, as for content of an inorganic layered compound, 3 mass%-50 mass% are more preferable. Even when a plurality of types of inorganic layered compounds are used in combination, the total amount of the inorganic layered compounds is preferably the above content. Within the above range, the oxygen barrier property is improved and good sensitivity is obtained. Further, it is possible to prevent a decrease in inking property.

保護層は可撓性付与のための可塑剤、塗布性を向上させための界面活性剤、表面の滑り性を制御するための無機粒子など公知の添加物を含有してもよい。また、画像記録層において記載した感脂化剤を保護層に含有させてもよい。   The protective layer may contain known additives such as a plasticizer for imparting flexibility, a surfactant for improving coatability, and inorganic particles for controlling the slipperiness of the surface. Further, the protective layer may contain the sensitizer described in the image recording layer.

保護層は公知の方法で塗布される。保護層の塗布量(固形分)は、0.01g/m〜10g/mが好ましく、0.02g/m〜3g/mがより好ましく、0.02g/m〜1g/mが特に好ましい。The protective layer is applied by a known method. The coating amount of the protective layer (solid content) is preferably from 0.01g / m 2 ~10g / m 2 , more preferably 0.02g / m 2 ~3g / m 2 , 0.02g / m 2 ~1g / m 2 is particularly preferred.

(平版印刷版の作製方法)
本開示に係る平版印刷版原版を画像露光して現像処理を行うことで平版印刷版を作製することができる。
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する工程(以下、「露光工程」ともいう。)、及び、印刷インキ及び湿し水の少なくとも一方を供給して上記未露光部を除去する工程(以下、「機上現像工程」ともいう。)をこの順で含むことが好ましい。
また、本開示に係る平版印刷版の作製方法は、重合開始剤及び重合性化合物を含む本開示に係る平版印刷版原版をレーザーにより画像露光する工程、及び、pH2〜11の1浴現像液により上記画像記録層の未露光部を除去する工程を含むことが好ましい。
以下、本開示に係る平版印刷版の作製方法、及び、本開示に係る平版印刷方法について、各工程の好ましい態様を順に説明する。なお、本開示に係る平版印刷版原版は、現像液によっても現像可能である。
(Preparation method of lithographic printing plate)
A lithographic printing plate can be produced by subjecting the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure to image exposure and development.
The method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure includes a step of exposing the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure imagewise to form an exposed portion and an unexposed portion (hereinafter also referred to as “exposure step”), And it is preferable to include the process (henceforth an "on-press development process") which removes the said unexposed part by supplying at least one of printing ink and dampening water in this order.
The lithographic printing plate production method according to the present disclosure includes a step of image-exposing a lithographic printing plate precursor according to the present disclosure containing a polymerization initiator and a polymerizable compound with a laser, and a one-bath developer having a pH of 2 to 11. It is preferable to include a step of removing an unexposed portion of the image recording layer.
Hereinafter, the preferable aspect of each process is demonstrated in order about the preparation method of the lithographic printing plate which concerns on this indication, and the lithographic printing method which concerns on this indication. Note that the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure can also be developed with a developer.

<露光工程>
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程を含むことが好ましい。本開示に係る平版印刷版原版は、線画像、網点画像等を有する透明原画を通してレーザー露光するかデジタルデータによるレーザー光走査等で画像様に露光されることが好ましい。
光源の波長は750nm〜1,400nmが好ましく用いられる。750nm〜1,400nmの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。赤外線レーザーに関しては、出力は100mW以上であることが好ましく、1画素当たりの露光時間は20マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は10mJ/cm〜300mJ/cmであるのが好ましい。また、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いることが好ましい。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、及びフラットベッド方式等のいずれでもよい。
画像露光は、プレートセッターなどを用いて常法により行うことができる。機上現像の場合には、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光を行ってもよい。
<Exposure process>
The method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure preferably includes an exposure step of exposing the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure imagewise to form an exposed portion and an unexposed portion. The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure is preferably imagewise exposed by laser exposure through a transparent original having a line image, a halftone dot image or the like, or by laser beam scanning by digital data.
The wavelength of the light source is preferably 750 nm to 1,400 nm. As a light source of 750 nm to 1,400 nm, a solid laser and a semiconductor laser emitting infrared rays are suitable. For the infrared laser, the output is preferably more than 100 mW, preferably, the exposure time per pixel is preferably within 20 microseconds, also that the amount of irradiation energy is 10mJ / cm 2 ~300mJ / cm 2 preferable. In order to shorten the exposure time, it is preferable to use a multi-beam laser device. The exposure mechanism may be any of an internal drum system, an external drum system, a flat bed system, and the like.
Image exposure can be performed by a conventional method using a plate setter or the like. In the case of on-press development, the lithographic printing plate precursor may be mounted on a printing press and then image exposure may be performed on the printing press.

<機上現像工程>
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、印刷インキ及び湿し水の少なくとも一方を供給して上記未露光部を除去する機上現像工程を含むことが好ましい。
また、本開示に係る平版印刷版の作製方法は、現像液にて現像する方法(現像液処理方式)で行ってもよい。
以下に、機上現像方式について説明する。
<On-machine development process>
The method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure preferably includes an on-machine development process in which at least one of printing ink and fountain solution is supplied to remove the unexposed portions.
Further, the lithographic printing plate preparation method according to the present disclosure may be performed by a method of developing with a developer (developer processing method).
The on-machine development method will be described below.

−機上現像方式−
機上現像方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、印刷機上で油性インキと水性成分とを供給し、非画像部の画像形成層が除去されて平版印刷版が作製されることが好ましい。
すなわち、平版印刷版原版を画像露光後、何らの現像処理を施すことなくそのまま印刷機に装着するか、あるいは、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光し、ついで、油性インキと水性成分とを供給して印刷すると、印刷途上の初期の段階で、非画像部においては、供給された油性インキ及び水性成分のいずれか又は両方によって、未硬化の画像形成層が溶解又は分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。一方、露光部においては、露光により硬化した画像形成層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。最初に版面に供給されるのは、油性インキでもよく、水性成分でもよいが、水性成分が除去された画像形成層の成分によって汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給することが好ましい。このようにして、平版印刷版原版は印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。油性インキ及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インキ及び湿し水が好適に用いられる。
-On-press development system-
In the on-press development method, an image-exposed lithographic printing plate precursor is supplied with oil-based ink and an aqueous component on the printing machine, and the lithographic printing plate is prepared by removing the image forming layer in the non-image area. Is preferred.
That is, after image exposure of the lithographic printing plate precursor, it is mounted on the printing machine as it is without any development processing, or the lithographic printing plate precursor is mounted on the printing machine and then image-exposed on the printing machine. When an oil-based ink and a water-based component are supplied for printing, an uncured image forming layer is formed in the non-image area at an early stage of printing by either or both of the supplied oil-based ink and water-based component. It is removed by dissolution or dispersion, and a hydrophilic surface is exposed at that portion. On the other hand, in the exposed portion, the image forming layer cured by exposure forms an oil-based ink receiving portion having a lipophilic surface. Oil-based ink or water-based component may be supplied first to the plate surface, but oil-based ink is first supplied in order to prevent the water-based component from being contaminated by components of the image forming layer from which the water-based component has been removed. It is preferable. In this way, the lithographic printing plate precursor is subjected to on-press development on a printing machine and used as it is for printing a large number of sheets. As the oil-based ink and the aqueous component, ordinary lithographic printing ink and fountain solution are preferably used.

上記重合開始剤及び重合性化合物を含む本開示に係る平版印刷版原版を画像露光するレーザーとしては、光源の波長は300nm〜450nm又は750nm〜1,400nmが好ましく用いられる。300nm〜450nmの光源の場合は、この波長領域に吸収極大を有する増感色素を画像記録層に含有する平版印刷版原版が好ましく用いられ、750〜1,400nmの光源は上述したものが好ましく用いられる。300nm〜450nmの光源としては、半導体レーザーが好適である。   As the laser for image exposure of the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure containing the polymerization initiator and the polymerizable compound, the wavelength of the light source is preferably 300 nm to 450 nm or 750 nm to 1,400 nm. In the case of a light source of 300 nm to 450 nm, a lithographic printing plate precursor containing a sensitizing dye having an absorption maximum in this wavelength region in the image recording layer is preferably used, and the above-described light source of 750 to 1,400 nm is preferably used. It is done. As the light source of 300 nm to 450 nm, a semiconductor laser is suitable.

pH2〜11の1浴現像液としては、公知の現像液を用いることができ、例えば、界面活性剤及び水溶性高分子化合物のうち少なくとも1種を含有するpH2〜11の現像液が挙げられる。従来の強アルカリ現像液を用いた現像処理においては、前水洗工程により保護層を除去し、次いでアルカリ現像を行い、後水洗工程でアルカリを水洗除去し、ガム液処理を行い、乾燥工程で乾燥することが必要であった。界面活性剤又は水溶性高分子化合物を含有する上記現像液を用いることにより、現像−ガム液処理を同時に行うことができる。よって、後水洗工程は特に必要とせず、1液で現像とガム液処理を行った後、乾燥工程を行うことができる。更に、保護層の除去も現像、ガム液処理と同時に行うことができるので、前水洗工程も特に必要としない。現像処理後、スクイズローラー等を用いて余剰の現像液を除去した後、乾燥を行うことが好ましい。   As the one-bath developer having a pH of 2 to 11, a known developer can be used. Examples thereof include a developer having a pH of 2 to 11 containing at least one of a surfactant and a water-soluble polymer compound. In the development processing using a conventional strong alkali developer, the protective layer is removed by a pre-water washing step, then alkali development is performed, the alkali is washed and removed by a post-water washing step, the gum solution treatment is performed, and the drying step is performed. It was necessary to do. By using the above-mentioned developer containing a surfactant or a water-soluble polymer compound, development-gum solution treatment can be performed simultaneously. Therefore, the post-water washing step is not particularly required, and the drying step can be performed after the development and gum solution treatment with one solution. Further, since the protective layer can be removed simultaneously with development and gum solution treatment, a pre-water washing step is not particularly required. After the development treatment, it is preferable to dry after removing the excess developer using a squeeze roller or the like.

<印刷工程>
本開示に係る平版印刷方法は、上記機上現像工程において機上現像された平版印刷版に印刷インキを供給して記録媒体を印刷する印刷工程を含む。
印刷インキとしては、特に制限はなく、所望に応じ、種々の公知のインキを用いることができる。また、印刷インキとしては、油性インキ又は紫外線硬化型インキ(UVインキ)が好ましく挙げられ、UVインキがより好ましく挙げられる。
また、上記印刷工程においては、必要に応じ、湿し水を供給してもよい。
また、上記印刷工程は、印刷機を停止することなく、上記機上現像工程に連続して行われてもよい。
記録媒体としては、特に制限はなく、所望に応じ、公知の記録媒体を用いることができる。
<Printing process>
The lithographic printing method according to the present disclosure includes a printing step of printing a recording medium by supplying printing ink to the lithographic printing plate developed on-press in the on-press development step.
The printing ink is not particularly limited, and various known inks can be used as desired. Moreover, as printing ink, oil-based ink or ultraviolet curable ink (UV ink) is mentioned preferably, UV ink is mentioned more preferably.
Moreover, in the said printing process, you may supply dampening water as needed.
The printing process may be performed continuously with the on-press development process without stopping the printing press.
The recording medium is not particularly limited, and a known recording medium can be used as desired.

本開示に係る平版印刷版原版からの平版印刷版の作製方法、及び、本開示に係る平版印刷方法においては、必要に応じて、露光前、露光中、露光から現像までの間に、平版印刷版原版の全面を加熱してもよい。このような加熱により、画像形成層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や感度の安定化等の利点が生じ得る。現像前の加熱は150℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。上記態様であると、非画像部が硬化してしまう等の問題を防ぐことができる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用することが好ましく、100℃〜500℃の範囲であることが好ましい。上記範囲であると、十分な画像強化作用が得られまた、支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を抑制することができる。   In the lithographic printing plate preparation method from the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure and the lithographic printing method according to the present disclosure, the lithographic printing is performed before exposure, during exposure, and between exposure and development, as necessary. The entire surface of the plate precursor may be heated. By such heating, an image forming reaction in the image forming layer is promoted, and advantages such as an improvement in sensitivity and printing durability and a stabilization of sensitivity may occur. Heating before development is preferably performed under mild conditions of 150 ° C. or lower. With the above aspect, problems such as curing of the non-image area can be prevented. It is preferable to use very strong conditions for heating after development, and it is preferable that the temperature is in the range of 100 ° C to 500 ° C. Within the above range, a sufficient image reinforcing action can be obtained, and problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image area can be suppressed.

以下、実施例により本実施形態を詳細に説明するが、本実施形態はこれらに限定されるものではない。なお、高分子化合物において、特別に規定したもの以外は、分子量はゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法によるポリスチレン換算値とした重量平均分子量(Mw)であり、繰り返し単位の比率はモル百分率である。また、「部」、「%」は、特に断りのない限り、「質量部」、「質量%」を意味する。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this embodiment in detail, this embodiment is not limited to these. In the polymer compound, unless otherwise specified, the molecular weight is a weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene converted by a gel permeation chromatography (GPC) method, and the ratio of repeating units is a mole percentage. Further, “part” and “%” mean “part by mass” and “% by mass” unless otherwise specified.

上記式1で表される化合物の合成例を以下に記載する。他の式1で表される化合物も、原料や反応中間体を適宜変更することにより同様にして合成することができる。
また、実施例で使用した式1で表される化合物における母核構造A−1等、及び、対アニオンB−1等は、上述したものと同じ構造のものである。
Synthesis examples of the compound represented by the above formula 1 are described below. Other compounds represented by Formula 1 can also be synthesized in the same manner by appropriately changing raw materials and reaction intermediates.
Moreover, the mother nucleus structure A-1 and the like and the counter anion B-1 and the like in the compound represented by Formula 1 used in the examples have the same structure as described above.

(実施例1〜33及び比較例1〜13)
1.平版印刷版原版Aの作製
(Examples 1-33 and Comparative Examples 1-13)
1. Preparation of lithographic printing plate precursor A

<支持体の作製>
厚さ0.3mmのアルミニウム板(材質JIS A 1050)の表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm)を用いアルミニウム板表面を砂目立てし、水でよく洗浄した。アルミニウム板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、更に60℃で20質量%硝酸水溶液に20秒間浸漬し、水洗した。砂目立て表面のエッチング量は約3g/mであった。
<Production of support>
In order to remove the rolling oil on the surface of an aluminum plate (material JIS A 1050) having a thickness of 0.3 mm, a degreasing treatment was performed at 50 ° C. for 30 seconds using a 10 mass% sodium aluminate aqueous solution, and then the hair diameter was adjusted to 0. The surface of the aluminum plate was grained using three 3 mm bundled nylon brushes and a pumice-water suspension (specific gravity 1.1 g / cm 3 ) having a median diameter of 25 μm and washed well with water. Etching was performed by immersing the aluminum plate in a 25 mass% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ° C for 9 seconds, washing with water, and further immersed in a 20 mass% nitric acid aqueous solution at 60 ° C for 20 seconds, followed by washing with water. The etching amount of the grained surface was about 3 g / m 2 .

次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。電解液は硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温は50℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dmであった。その後、スプレーによる水洗を行った。Next, an electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolyte was a 1% by mass aqueous nitric acid solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions), and the liquid temperature was 50 ° C. The AC power supply waveform is electrochemical roughening treatment using a trapezoidal rectangular wave AC with a time TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave AC. Went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. The amount of electricity in nitric acid electrolysis was 175 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode. Then, water washing by spraying was performed.

続いて、塩酸0.5質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dmの条件で、硝酸電解と同様の方法で電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
次に、アルミニウム板に15質量%硫酸水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dmで2.5g/mの直流陽極酸化皮膜を形成した後、水洗、乾燥して支持体Aを作製した。陽極酸化皮膜の表層における平均ポア径(表面平均ポア径)は10nmであった。
陽極酸化皮膜の表層におけるポア径の測定は、超高分解能型SEM(日立S-900)を使用し、12Vという比較的低加速電圧で、導電性を付与する蒸着処理等を施すこと無しに、表面を15万倍の倍率で観察し、50個のポアを無作為抽出して平均値を求める方法で行った。標準偏差誤差は±10%以下であった。
Subsequently, nitric acid electrolysis was performed with an aqueous solution of 0.5% by mass of hydrochloric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and an electrolytic solution having a liquid temperature of 50 ° C. under the condition of an electric quantity of 50 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode Electrochemical roughening treatment was carried out in the same manner as above, and then water washing by spraying was performed.
Next, a 2.5 g / m 2 direct current anodic oxide film having a current density of 15 A / dm 2 is formed on an aluminum plate as an electrolyte using a 15 mass% aqueous sulfuric acid solution (containing 0.5 mass% of aluminum ions), and then washed with water. The support A was prepared by drying. The average pore diameter (surface average pore diameter) in the surface layer of the anodized film was 10 nm.
The measurement of the pore diameter in the surface layer of the anodized film uses an ultra-high resolution SEM (Hitachi S-900), and without performing a deposition process or the like that imparts conductivity at a relatively low acceleration voltage of 12 V. The surface was observed at a magnification of 150,000 times, and 50 pores were randomly extracted to obtain an average value. The standard deviation error was ± 10% or less.

その後、非画像部の親水性を確保するため、支持体Aに2.5質量%3号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて60℃で10秒間シリケート処理を施した後、水洗して支持体Bを作製した。Siの付着量は10mg/mであった。支持体Bの中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。Thereafter, in order to ensure the hydrophilicity of the non-image area, the support A was subjected to silicate treatment at 60 ° C. for 10 seconds using a 2.5 mass% No. 3 sodium silicate aqueous solution, and then washed with water to obtain the support B. Produced. The adhesion amount of Si was 10 mg / m 2 . When the center line average roughness (Ra) of the support B was measured using a needle having a diameter of 2 μm, it was 0.51 μm.

上記支持体Aの作製において、直流陽極酸化皮膜形成時の電解液を、22質量%リン酸水溶液に変更した以外は、支持体Aの作製方法と同様にして、支持体Cを作製した。陽極酸化皮膜の表層における平均ポア径(表面平均ポア径)上記と同様の方法で測定したところ、25nmであった。   In the production of the support A, a support C was produced in the same manner as the production of the support A, except that the electrolytic solution for forming the DC anodized film was changed to a 22 mass% phosphoric acid aqueous solution. The average pore diameter (surface average pore diameter) in the surface layer of the anodized film was 25 nm as measured by the same method as described above.

その後、非画像部の親水性を確保するため、支持体Cに2.5質量%3号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて60℃で10秒間シリケート処理を施した後、水洗して支持体Dを作製した。Siの付着量は10mg/mであった。支持体Dの中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.52μmであった。Thereafter, in order to ensure the hydrophilicity of the non-image area, the support C was subjected to a silicate treatment at 60 ° C. for 10 seconds using a 2.5 mass% No. 3 sodium silicate aqueous solution, and then washed with water to obtain the support D. Produced. The adhesion amount of Si was 10 mg / m 2 . When the center line average roughness (Ra) of the support D was measured using a needle having a diameter of 2 μm, it was 0.52 μm.

<下塗り層の形成>
後述する表1〜表3に示す支持体上に、下記組成の下塗り層塗布液(1)を乾燥塗布量が23mg/mになるよう塗布して下塗り層を形成した。
<Formation of undercoat layer>
An undercoat layer coating solution (1) having the following composition was applied on a support shown in Tables 1 to 3 to be described later so that the dry coating amount was 23 mg / m 2 to form an undercoat layer.

<下塗り層塗布液(1)>
・ポリマー(P−1)〔下記構造〕:0.18部
・ヒドロキシエチルイミノ二酢酸:0.10部
・水:61.4部
<Undercoat layer coating solution (1)>
Polymer (P-1) [Structure below]: 0.18 parts Hydroxyethyliminodiacetic acid: 0.10 parts Water: 61.4 parts

ポリマーP−1の合成法を以下に記載する。   The synthesis method of polymer P-1 is described below.

(モノマーM−1の合成)
3Lの3つ口フラスコに、アンカミン 1922A(ジエチレングリコールジ(アミノプロピル)エーテル、エアープロダクツ社製)200g(0.91mol)、蒸留水435g及びメタノール410gを加え、5℃まで冷却した。次に安息香酸222.5g(1.82mol)及び4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル(4−OH−TEMPO)25mg(0.15mmol)を加え、メタクリル酸無水物280g(1.82mmol)を、反応液の内温が10℃以下となる様に滴下した。反応液を5℃で6時間撹拌し、次いで25℃にて12時間撹拌した後、リン酸70gを加えpHを3.3に調整した。反応液を10Lのステンレスビーカーに移し、酢酸エチル3.7L、メチル−tertブチルエーテル(MTBE)1.5L及び蒸留水0.65Lを加え、激しく撹拌した後静置した。上層(有機層)を廃棄した後、酢酸エチル1.8Lを加え、激しく撹拌した後静置し、上層を廃棄した。更に、酢酸エチル1.5Lを加え、激しく撹拌した後静置し、上層を廃棄した。次いで、MTBE1.6Lを加え、激しく撹拌した後静置し、上層を廃棄した。得られた水溶液に4−OH−TEMPO62.5mg(0.36mmol)を加えてモノマーM−1の水溶液(固形分換算20.1質量%)を1.2kg得た。
(Synthesis of Monomer M-1)
200 g (0.91 mol) of Ancamine 1922A (diethylene glycol di (aminopropyl) ether, manufactured by Air Products), 435 g of distilled water and 410 g of methanol were added to a 3 L three-necked flask and cooled to 5 ° C. Next, 222.5 g (1.82 mol) of benzoic acid and 25 mg (0.15 mmol) of 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl (4-OH-TEMPO) were added, and methacrylic acid was added. 280 g (1.82 mmol) of anhydride was added dropwise so that the internal temperature of the reaction solution was 10 ° C. or lower. The reaction solution was stirred at 5 ° C. for 6 hours and then stirred at 25 ° C. for 12 hours, and then 70 g of phosphoric acid was added to adjust the pH to 3.3. The reaction solution was transferred to a 10 L stainless beaker, 3.7 L of ethyl acetate, 1.5 L of methyl-tertbutyl ether (MTBE) and 0.65 L of distilled water were added, and the mixture was vigorously stirred and allowed to stand. After discarding the upper layer (organic layer), 1.8 L of ethyl acetate was added, stirred vigorously and allowed to stand, and the upper layer was discarded. Further, 1.5 L of ethyl acetate was added, stirred vigorously and allowed to stand, and the upper layer was discarded. Next, 1.6 L of MTBE was added, and after vigorous stirring, the mixture was allowed to stand and the upper layer was discarded. 4-OH-TEMPO62.5mg (0.36mmol) was added to the obtained aqueous solution, and 1.2kg of monomer M-1 aqueous solution (20.1 mass% of solid content conversion) was obtained.

(モノマーM−2の精製)
ライトエステル P−1M(2−メタクロイロキシエチルアシッドホスフェート、共栄社化学(株)製)420g、ジエチレングリコールジブチルエーテル1,050g及び蒸留水1,050gを分液ロートに加え、激しく撹拌した後静置した。上層を廃棄した後、ジエチレングリコールジブチルエーテル1050gを加え、激しく撹拌した後静置した。上層を廃棄してモノマーM−2の水溶液(固形分換算10.5質量%)を1.3kg得た。
(Purification of monomer M-2)
420 g of light ester P-1M (2-methacryloylethyl acid phosphate, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), 1,050 g of diethylene glycol dibutyl ether and 1,050 g of distilled water were added to a separatory funnel, and the mixture was allowed to stand after vigorous stirring. . After discarding the upper layer, 1050 g of diethylene glycol dibutyl ether was added, and the mixture was vigorously stirred and allowed to stand. The upper layer was discarded, and 1.3 kg of an aqueous solution of monomer M-2 (solid content 10.5% by mass) was obtained.

(ポリマーP−1の合成)
3Lの三口フラスコに、蒸留水を600.6g、モノマーM−1水溶液を33.1g及び下記モノマーM−3を46.1g加え、窒素雰囲気下で55℃に昇温した。次に、以下に示す滴下液Aを2時間掛けて滴下し、30分撹拌した後、VA−046B(和光純薬工業(株)製)3.9gを加え、80℃に昇温し、1.5時間撹拌した。反応液を室温(25℃、以下同様)に戻した後、30質量%水酸化ナトリウム水溶液175gを加え、pHを8.3に調整した。次に、4−OH−TEMPO152.2mgを加え、53℃に昇温した。メタクリル酸無水物66.0gを加えて53℃で3時間撹拌した。室温に戻した後、反応液を10Lのステンレスビーカーに移し、MTBE1,800gを加え、激しく撹拌した後静置し、上層を廃棄した。同様にしてMTBE1,800gによる洗浄操作を更に2回繰り返した後、得られた水層に蒸留水1,700g及び4−OH−TEMPOを212mg加え、均一溶液としてポリマーP−1(固形分換算11.0%)を4.1kg得た。ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法によるポリエチレングリコール換算値とした重量平均分子量(Mw)は20万であった。
(Synthesis of polymer P-1)
To a 3 L three-necked flask, 600.6 g of distilled water, 33.1 g of an aqueous monomer M-1 solution and 46.1 g of the following monomer M-3 were added, and the temperature was raised to 55 ° C. in a nitrogen atmosphere. Next, after dropping the dropping liquid A shown below over 2 hours and stirring for 30 minutes, 3.9 g of VA-046B (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added, the temperature was raised to 80 ° C., 1 Stir for 5 hours. After returning the reaction solution to room temperature (25 ° C., the same applies hereinafter), 175 g of a 30% by mass aqueous sodium hydroxide solution was added to adjust the pH to 8.3. Next, 152.2 mg of 4-OH-TEMPO was added and the temperature was raised to 53 ° C. 66.0 g of methacrylic anhydride was added and stirred at 53 ° C. for 3 hours. After returning to room temperature, the reaction solution was transferred to a 10 L stainless beaker, MTBE 1,800 g was added, vigorously stirred and allowed to stand, and the upper layer was discarded. Similarly, the washing operation with 1,800 g of MTBE was further repeated twice, and then 1,700 g of distilled water and 212 mg of 4-OH-TEMPO were added to the obtained aqueous layer, and polymer P-1 (solid content conversion 11) was obtained as a uniform solution. 4.0%) was obtained. The weight average molecular weight (Mw) in terms of polyethylene glycol by a gel permeation chromatography (GPC) method was 200,000.

−滴下液A−
・上記モノマーM−1水溶液:132.4g
・上記モノマーM−2水溶液:376.9g
・モノマーM−3〔下記構造〕:184.3g
・ブレンマー PME4000(日油(株)製):15.3g
・VA−046B(和光純薬工業(株)製):3.9g
・蒸留水:717.4g
-Drip liquid A-
-Monomer M-1 aqueous solution: 132.4 g
-Monomer M-2 aqueous solution: 376.9 g
Monomer M-3 [following structure]: 184.3 g
・ Blemmer PME4000 (manufactured by NOF Corporation): 15.3 g
・ VA-046B (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.): 3.9 g
・ Distilled water: 717.4g

ブレンマー PME4000:メトキシポリエチレングリコールメタクリレート(オキシエチレン単位の繰り返し数:90)
VA−046B:2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]ジスルフェートジハイドレート
BLEMMER PME4000: Methoxypolyethyleneglycol methacrylate (Repeating number of oxyethylene units: 90)
VA-046B: 2,2′-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane] disulfate dihydrate

<画像記録層の形成>
下塗り層上に、下記組成の画像記録層塗布液(1)をバー塗布し、120℃で40秒間オーブン乾燥して乾燥塗布量1.0g/mの画像記録層を形成した。
画像記録層塗布液(1)は下記感光液(1)及びミクロゲル液を塗布直前に混合し攪拌することにより調製した。
<Formation of image recording layer>
On the undercoat layer, an image recording layer coating solution (1) having the following composition was coated with a bar and oven dried at 120 ° C. for 40 seconds to form an image recording layer having a dry coating amount of 1.0 g / m 2 .
The image recording layer coating solution (1) was prepared by mixing and stirring the following photosensitive solution (1) and microgel solution immediately before coating.

−感光液(1)−
・バインダーポリマー(1)〔下記構造〕:0.125部
・電子受容型重合開始剤〔下記構造〕:0.132部
・表1〜表3に記載の式1で表される化合物又は比較用化合物(赤外線吸収剤):0.033部
・電子供与型重合開始剤〔下記構造〕:0.057部
・酸発色剤〔下記構造〕:0.058部
・重合性化合物
U−15HA(ウレタンアクリレート、新中村化学工業(株)製):0.146部
ATM−4E(エトキシ化ペンタエリトリトールテトラアクリレート、新中村化学工業(株)製):0.078部
・高分子親水性化合物
ヒドロキシプロピルセルロース(HPC−SSL、日本曹達(株)製):0.030部
・低分子親水性化合物(トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート):0.020部
・フッ素系界面活性剤(1)〔下記構造〕:0.008部
・2−ブタノン:1.091部
・1−メトキシ−2−プロパノール:8.609部
-Photosensitive solution (1)-
-Binder polymer (1) [following structure]: 0.125 parts-Electron-accepting polymerization initiator [following structure]: 0.132 parts-Compound represented by formula 1 described in Tables 1 to 3 or for comparison Compound (infrared absorber): 0.033 parts, electron donating polymerization initiator [following structure]: 0.057 parts, acid color former [following structure]: 0.058 parts, polymerizable compound U-15HA (urethane acrylate) Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.): 0.146 parts ATM-4E (ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.): 0.078 parts Hydrophilic polymer hydroxypropyl cellulose ( HPC-SSL, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.): 0.030 part. Low molecular weight hydrophilic compound (tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate): 0.020 part. Fluorosurfactant ( ) Having structure shown below 0.008 parts 2-Butanone 1.091 parts 1-Methoxy-2-propanol: 8.609 parts

−ミクロゲル液−
・ミクロゲル(1):1.64部
・蒸留水:2.425部
-Microgel solution-
Microgel (1): 1.64 parts Distilled water: 2.425 parts

上記感光液(1)に用いたバインダーポリマー(1)、電子受容型重合開始剤、電子供与型重合開始剤及びフッ素系界面活性剤(1)の構造を以下に示す。   The structures of the binder polymer (1), electron-accepting polymerization initiator, electron-donating polymerization initiator, and fluorine-based surfactant (1) used in the photosensitive solution (1) are shown below.

電子供与型重合開始剤I−1〜I−4(下記化合物)   Electron-donating polymerization initiators I-1 to I-4 (the following compounds)

電子供与型重合開始剤D−1〜D−4(下記化合物)   Electron-donating polymerization initiators D-1 to D-4 (the following compounds)

酸発生剤CL−1〜CL−4(下記化合物)   Acid generators CL-1 to CL-4 (the following compounds)

比較用色素化合物A’−1〜A’−7(下記化合物)   Comparative dye compounds A'-1 to A'-7 (the following compounds)

上記バインダーポリマー(1)の調整法を以下に示す。
1Lの三口フラスコに、1−メトキシ−2−プロパノール78gを加え、窒素気流下、70℃とした。そこに、以下に示す滴下液1を2.5時間かけて滴下し、滴下終了後80℃に昇温して2時間撹拌した。更に、以下に示す添加液1を加えて90℃に昇温し、2.5時間撹拌した。
The adjustment method of the said binder polymer (1) is shown below.
To a 1 L three-necked flask, 78 g of 1-methoxy-2-propanol was added, and the temperature was adjusted to 70 ° C. under a nitrogen stream. The dropping liquid 1 shown below was dripped there over 2.5 hours, and it heated up at 80 degreeC after completion | finish of dripping, and stirred for 2 hours. Furthermore, the additive liquid 1 shown below was added, and it heated up at 90 degreeC, and stirred for 2.5 hours.

−滴下液1−
・メタクリル酸メチル:21.8g
・ブレンマーPME100:52.1g
・メタクリル酸:14.2g
・ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−メルカプトプロピオン酸):2.15g
・V−601(和光純薬工業(株)製):0.38g
・1−メトキシ−2−プロパノール:50.2g
-Drip solution 1-
・ Methyl methacrylate: 21.8g
・ Blemmer PME100: 52.1g
・ Methacrylic acid: 14.2 g
Dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionic acid): 2.15 g
・ V-601 (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.): 0.38g
1-methoxy-2-propanol: 50.2 g

−添加液1−
・V−601(ジメチル2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)、和光純薬工業(株)製):0.038g
・1−メトキシ−2−プロパノール:4.0g
-Additive solution 1-
V-601 (dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate), manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.): 0.038 g
1-methoxy-2-propanol: 4.0 g

上記反応液を25℃まで冷却し、1−メトキシ−2−プロパノール136.6g、4−OH−TEMPO 0.238g、グリシジルメタクリレート25.88g、臭化トリメチルベンジルアンモニウム2.957gを加え、90℃で18時間撹拌した。得られた溶液を室温まで冷却し、1−メトキシ−2−プロパノールで固形分濃度23%に希釈することで、バインダーポリマー(1)が得られた。ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法によるポリスチレン換算値とした重量平均分子量(Mw)は4万であった。   The reaction solution was cooled to 25 ° C., 136.6 g of 1-methoxy-2-propanol, 0.238 g of 4-OH-TEMPO, 25.88 g of glycidyl methacrylate, and 2.957 g of trimethylbenzylammonium bromide were added, and the mixture was stirred at 90 ° C. Stir for 18 hours. The resulting solution was cooled to room temperature, and diluted with 1-methoxy-2-propanol to a solid content concentration of 23% to obtain a binder polymer (1). The weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene converted by gel permeation chromatography (GPC) was 40,000.

上記ミクロゲル液に用いたミクロゲル(1)の調製法を以下に示す。   A method for preparing the microgel (1) used in the microgel solution is shown below.

<多価イソシアネート化合物(1)の調製>
イソホロンジイソシアネート17.78g(80mmol)と下記多価フェノール化合物(1)7.35g(20mmol)との酢酸エチル(25.31g)懸濁溶液に、ビスマストリス(2−エチルヘキサノエート)(ネオスタン U−600、日東化成(株)製)43mgを加えて撹拌した。発熱が収まった時点で反応温度を50℃に設定し、3時間撹拌して多価イソシアネート化合物(1)の酢酸エチル溶液(50質量%)を得た。
<Preparation of polyvalent isocyanate compound (1)>
In a suspension of 17.78 g (80 mmol) of isophorone diisocyanate and 7.35 g (20 mmol) of the following polyphenol compound (1) in ethyl acetate (25.31 g), bismuth tris (2-ethylhexanoate) (Neostan U -600, Nitto Kasei Co., Ltd.) 43 mg was added and stirred. When the exotherm had subsided, the reaction temperature was set to 50 ° C., and the mixture was stirred for 3 hours to obtain an ethyl acetate solution (50 mass%) of the polyvalent isocyanate compound (1).

<ミクロゲル(1)の調製>
下記油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を45℃で4時間撹拌後、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン−オクチル酸塩(U−CAT SA102、サンアプロ(株)製)の10質量%水溶液5.20gを加え、室温で30分撹拌し、45℃で24時間静置した。蒸留水で、固形分濃度を20質量%になるように調整し、ミクロゲル(1)の水分散液が得られた。光散乱法により平均粒径を測定したところ、0.28μmであった。
<Preparation of microgel (1)>
The following oil phase component and aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12,000 rpm using a homogenizer. After stirring the obtained emulsion at 45 ° C. for 4 hours, 10 mass of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene-octylate (U-CAT SA102, manufactured by San Apro Co., Ltd.) % Aqueous solution (5.20 g) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and allowed to stand at 45 ° C. for 24 hours. Distilled water was used to adjust the solid content concentration to 20% by mass, and an aqueous dispersion of microgel (1) was obtained. When an average particle diameter was measured by a light scattering method, it was 0.28 μm.

−油相成分−
(成分1)酢酸エチル:12.0g
(成分2)トリメチロールプロパン(6モル)とキシレンジイソシアネート(18モル)を付加させ、これにメチル辺末端ポリオキシエチレン(1モル、オキシエチレン単位の繰返し数:90)を付加させた付加体(50質量%酢酸エチル溶液、三井化学(株)製):3.76g
(成分3)多価イソシアネート化合物(1)(50質量%酢酸エチル溶液として):15.0g
(成分4)ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(SR−399、サートマー社製)の65質量%酢酸エチル溶液:11.54g
(成分5)スルホン酸塩型界面活性剤(パイオニンA−41−C、竹本油脂(株)製)の10%酢酸エチル溶液:4.42g
-Oil phase component-
(Component 1) Ethyl acetate: 12.0 g
(Component 2) An adduct obtained by adding trimethylolpropane (6 mol) and xylene diisocyanate (18 mol) and adding a methyl side terminal polyoxyethylene (1 mol, repeating number of oxyethylene units: 90) to this ( 50 mass% ethyl acetate solution, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.): 3.76 g
(Component 3) Polyvalent isocyanate compound (1) (as 50% by mass ethyl acetate solution): 15.0 g
(Component 4) 65 mass% ethyl acetate solution of dipentaerythritol pentaacrylate (SR-399, manufactured by Sartomer): 11.54 g
(Component 5) 10% ethyl acetate solution of sulfonate type surfactant (Pionin A-41-C, Takemoto Yushi Co., Ltd.): 4.42 g

−水相成分−
蒸留水:46.87g
-Aqueous phase component-
Distilled water: 46.87g

<保護層の形成>
画像記録層上に、下記組成の保護層塗布液をバー塗布し、120℃で60秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量が0.15g/mの保護層を形成して実施例1〜8及び比較例1〜4用の各平版印刷版原版を各々作製した。各平版印刷版原版の作製において使用した支持体、画像記録層塗布液(1)中の式1で表される化合物又は比較化合物を表1にまとめて記載する。
<Formation of protective layer>
On the image recording layer, a protective layer coating solution having the following composition was bar coated and oven dried at 120 ° C. for 60 seconds to form a protective layer having a dry coating amount of 0.15 g / m 2. And each lithographic printing plate precursor for Comparative Examples 1 to 4 was prepared. Table 1 summarizes the support used in the preparation of each lithographic printing plate precursor, the compound represented by Formula 1 in the image recording layer coating solution (1), or the comparative compound.

−保護層塗布液−
・無機層状化合物分散液(1)〔下記〕:1.5部
・ポリビニルアルコール(CKS50、日本合成化学工業(株)製、スルホン酸変性、けん化度99モル%以上、重合度300)6質量%水溶液:0.55部
・ポリビニルアルコール(PVA−405、(株)クラレ製、けん化度81.5モル%、重合度500)6質量%水溶液:0.03部
・界面活性剤(ポリオキシエチレンラウリルエーテル、エマレックス710、日本エマルジョン(株)製)1質量%水溶液:0.86部
・イオン交換水:6.0部
-Protective layer coating solution-
-Inorganic layered compound dispersion (1) [below]: 1.5 parts-Polyvinyl alcohol (CKS50, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., sulfonic acid modification, saponification degree 99 mol% or more, polymerization degree 300) 6% by mass Aqueous solution: 0.55 parts, polyvinyl alcohol (PVA-405, manufactured by Kuraray Co., Ltd., saponification degree: 81.5 mol%, polymerization degree: 500) 6% by weight Aqueous solution: 0.03 parts, surfactant (polyoxyethylene lauryl) Ether, Emalex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.) 1% by weight aqueous solution: 0.86 parts, ion-exchanged water: 6.0 parts

上記保護層塗布液に用いた無機層状化合物分散液(1)の調製法を以下に示す。   A method for preparing the inorganic layered compound dispersion (1) used in the protective layer coating solution is shown below.

<無機層状化合物分散液(1)の調製>
イオン交換水193.6部に合成雲母(ソマシフME−100、コープケミカル(株)製)6.4部を添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が3μmになるまで分散した。得られた分散粒子のアスペクト比は100以上であった。
<Preparation of inorganic layered compound dispersion (1)>
6.4 parts of synthetic mica (Somasif ME-100, manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) was added to 193.6 parts of ion-exchanged water, and dispersed using an homogenizer until the average particle size (laser scattering method) became 3 μm. . The aspect ratio of the obtained dispersed particles was 100 or more.

2.平版印刷版原版Bの作製
上記平版印刷版原版Aの作製において、保護層を塗布しない他は上記平版印刷版原版Aの作製と同様にして、実施例9〜33及び比較例5〜14用の平版印刷版原版Bを各々作製した。
各平版印刷版原版の作製において使用した支持体、画像記録層塗布液(1)中の式1で表される化合物又は比較化合物を表2及び表3にまとめて記載する。
2. Production of lithographic printing plate precursor B In the production of the lithographic printing plate precursor A, the preparation for Examples 9 to 33 and Comparative Examples 5 to 14 was carried out in the same manner as the production of the lithographic printing plate precursor A except that a protective layer was not applied. A lithographic printing plate precursor B was prepared.
Tables 2 and 3 summarize the support used in the preparation of each lithographic printing plate precursor, the compound represented by Formula 1 in the image recording layer coating solution (1), or the comparative compound.

3.平版印刷版原版の評価
上記各平版印刷版原版について、発色性、機上現像性、耐刷性及び経時安定性を以下のようにして評価した。評価結果を表1〜表3に示す。
3. Evaluation of lithographic printing plate precursor The above-described lithographic printing plate precursors were evaluated for color developability, on-press developability, printing durability and stability over time as follows. The evaluation results are shown in Tables 1 to 3.

(1)発色性
平版印刷版原版を、水冷式40W赤外線半導体レーザー搭載のCreo社製Trendsetter3244VXにより、出力11.5W、外面ドラム回転数220rpm、解像度2,400dpi(dot per inch、1inch=25.4mm)の条件で露光した。露光は25℃、50%RHの環境下で行った。
露光直後、及び、露光後暗所(25℃)で2時間保存後、平版印刷版原版の発色を測定した。測定は、コニカミノルタ(株)製分光測色計CM2600dとオペレーションソフトCM−S100Wとを用い、SCE(正反射光除去)方式で行った。発色性は、L表色系のL値(明度)を用い、露光部のL値と未露光部のL値との差ΔLにより評価した。ΔLの値が大きい程、発色性が優れる。
(1) Color development The lithographic printing plate precursor was output by using a Trend setter 3244VX manufactured by Creo with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser, an output of 11.5 W, an outer drum rotation speed of 220 rpm, and a resolution of 2,400 dpi (dot per inch, 1 inch = 25.4 mm). ). The exposure was performed in an environment of 25 ° C. and 50% RH.
The color development of the lithographic printing plate precursor was measured immediately after exposure and after storage for 2 hours in a dark place (25 ° C.) after exposure. The measurement was performed by a SCE (regular reflection light removal) method using a spectrocolorimeter CM2600d manufactured by Konica Minolta Co., Ltd. and operation software CM-S100W. The color developability was evaluated by the difference ΔL between the L * value of the exposed area and the L * value of the unexposed area using the L * value (brightness) of the L * a * b * color system. The larger the value of ΔL, the better the color developability.

(2)機上現像性
平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxel PLATESETTER T−6000IIIにより、外面ドラム回転数750rpm、レーザー出力70%、解像度2,400dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像及び20μmドットFMスクリーンの50%網点チャートを含むようにした。
露光された平版印刷版原版を現像処理することなく、(株)小森コーポレーション製印刷機LITHRONE26の版胴に取り付けた。Ecolity−2(富士フイルム(株)製)/水道水=2/98(容量比)の湿し水とValues−G(N)墨インキ(DICグラフィックス(株)製)とを用い、LITHRONE26の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給し、毎時10,000枚の印刷速度で、特菱アート紙(76.5kg)(三菱製紙(株)製)に100枚印刷を行った。
印刷機上で画像記録層の未露光部の機上現像が完了し、非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を計測し、機上現像性として評価した。枚数が少ない程、機上現像性が良好である。
(2) On-machine developability The lithographic printing plate precursor was exposed under conditions of an external drum rotation speed of 750 rpm, a laser output of 70%, and a resolution of 2,400 dpi using Fujifilm Corporation's Luxel PLASETTER T-6000III equipped with an infrared semiconductor laser. . The exposure image included a solid image and a 50% halftone dot chart of a 20 μm dot FM screen.
The exposed lithographic printing plate precursor was mounted on the plate cylinder of a printing machine LITHRONE 26 manufactured by Komori Corporation without developing. Equality-2 (manufactured by FUJIFILM Corporation) / tap water = 2/98 (volume ratio) dampening water and Values-G (N) black ink (manufactured by DIC Graphics Co., Ltd.) Dampening water and ink were supplied by the standard automatic printing start method, and 100 sheets were printed on Tokishi Art Paper (76.5 kg) (Mitsubishi Paper Co., Ltd.) at a printing speed of 10,000 sheets per hour. .
The on-machine development of the unexposed part of the image recording layer on the printing machine was completed, and the number of printing sheets required until the ink was not transferred to the non-image part was measured and evaluated as on-machine developability. The smaller the number, the better the on-press developability.

(3)油性インキに対する耐刷性
上記機上現像性の評価を行った後、更に印刷を続けた。印刷枚数の増加に伴い徐々に画像記録層が磨耗するため印刷物上のインキ濃度が低下した。印刷物におけるFMスクリーン50%網点の網点面積率をグレタグ濃度計(GretagMacbeth社製)で測定した値が印刷100枚目の測定値よりも5%低下するまでの印刷枚数を計測した。印刷枚数が5万枚の場合を100とする相対耐刷性により評価した。数値が大きい程、耐刷性が良好である。
相対耐刷性=(対象平版印刷版原版の印刷枚数)/50,000 × 100
(3) Printing durability with respect to oil-based ink After the on-press developability was evaluated, printing was further continued. As the number of printed sheets increased, the image recording layer gradually worn out, so that the ink density on the printed material decreased. The number of printed sheets was measured until the dot area ratio of 50% halftone dots of FM screen in the printed matter was measured by a Gretag densitometer (manufactured by GretagMacbeth) was 5% lower than the measured value of the 100th printed sheet. Evaluation was made based on the relative printing durability when the number of printed sheets was 50,000. The larger the value, the better the printing durability.
Relative printing durability = (number of printed target lithographic printing plate precursors) / 50,000 × 100

(4)紫外線硬化型インキ(UVインキ)に対する耐刷性
平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxel PLATESETTER T−6000IIIにより、外面ドラム回転数750rpm、レーザー出力70%、解像度2,400dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像及び20μmドットFMスクリーンの50%網点チャートを含むようにした。
得られた露光済み原版を現像処理することなく、菊判サイズ(636mm×939mm)のハイデルベルグ社製印刷機SX−74のシリンダーに取り付けた。本印刷機には、不織布フィルターと温度制御装置を内蔵する容量100Lの湿し水循環タンクを接続した。湿し水S−Z1(富士フイルム(株)製)2.0%の湿し水80Lを循環装置内に仕込み、印刷インキとしてT&K UV OFS K−HS墨GE−M((株)T&K TOKA製)を用い、標準の自動印刷スタート方法で湿し水とインキを供給した後、毎時10,000枚の印刷速度で特菱アート(76.5kg)紙に印刷を行った。
印刷枚数の増加に伴い徐々に画像記録層が磨耗するため印刷物上のインキ濃度が低下した。印刷物におけるFMスクリーン50%網点の網点面積率をグレタグ濃度計で測定した値が印刷100枚目の測定値よりも5%低下するまでの印刷枚数を計測した。印刷枚数が5万枚の場合を100とする相対耐刷性により評価した。数値が大きい程、耐刷性が良好である。
相対耐刷性=(対象平版印刷版原版の印刷枚数)/50,000×100
(4) Printing durability against ultraviolet curable ink (UV ink) An external drum rotation speed of 750 rpm, laser output of 70%, resolution with a FUJIFILM Luxel PLANETTER T-6000III equipped with an infrared semiconductor laser. The exposure was performed at 2,400 dpi. The exposure image included a solid image and a 50% halftone dot chart of a 20 μm dot FM screen.
The obtained exposed original plate was attached to a cylinder of Heidelberg printing machine SX-74 having a chrysanthemum size (636 mm × 939 mm) without developing. A 100 L dampening water circulation tank containing a nonwoven fabric filter and a temperature control device was connected to the printing press. Dampening water S-Z1 (Fuji Film Co., Ltd.) 2.0% dampening water 80L is charged into the circulation device, and T & K UV OFS K-HS black ink GE-M (manufactured by T & K TOKA Co., Ltd.) is used as printing ink. ), And dampening water and ink were supplied by a standard automatic printing start method, and then printed on Tokishi Art (76.5 kg) paper at a printing speed of 10,000 sheets per hour.
As the number of printed sheets increased, the image recording layer gradually worn out, so that the ink density on the printed material decreased. The number of printed sheets was measured until the value obtained by measuring the dot area ratio of the 50% halftone dot of the FM screen in the printed matter with a Gretag densitometer was 5% lower than the measured value of the 100th printed sheet. Evaluation was made based on the relative printing durability when the number of printed sheets was 50,000. The larger the value, the better the printing durability.
Relative printing durability = (number of target lithographic printing plate precursors printed) / 50,000 × 100

(5)経時安定性
上記平版印刷版原版A及びBの作製に用いた画像記録層塗布液(1)を60℃で1日間加温し、式1で表される化合物又は比較化合物の残存率を高速液体クロマトグラフィー(HPLC)にて測定した。また、60℃で1日間加温した塗布液を用いて平版印刷版原版を作製し、経時安定性の評価を行った。
なお、下記表中、ΔEは、使用した式1で表される化合物又は比較化合物のHOMO軌道エネルギー準位と、電子供与型重合開始剤のHOMO軌道エネルギー準位との差を表す。
(5) Stability over time The image recording layer coating solution (1) used for the preparation of the lithographic printing plate precursors A and B is heated at 60 ° C. for 1 day, and the residual ratio of the compound represented by Formula 1 or the comparative compound Was measured by high performance liquid chromatography (HPLC). Moreover, a lithographic printing plate precursor was prepared using a coating solution heated at 60 ° C. for 1 day, and the stability over time was evaluated.
In the following table, ΔE represents the difference between the HOMO orbital energy level of the compound represented by Formula 1 or the comparative compound used and the HOMO orbital energy level of the electron-donating polymerization initiator.

表1〜表3に記載の結果から、実施例1〜33の本開示に係る平版印刷版原版は、耐刷性、発色性、機上現像性及び経時安定性のいずれも良好である。一方、比較例の平版印刷版原版は、耐刷性、又は、発色性の少なくともいずれかにおいて劣っていることがわかる。   From the results described in Tables 1 to 3, the lithographic printing plate precursors according to the present disclosure of Examples 1 to 33 are all good in printing durability, color developability, on-press development property, and stability over time. On the other hand, it can be seen that the lithographic printing plate precursor of Comparative Example is inferior in at least one of printing durability and color developability.

2017年7月13日に出願された日本国特許出願第2017−137249号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び、技術規格は、個々の文献、特許出願、及び、技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
The disclosure of Japanese Patent Application No. 2017-137249 filed on July 13, 2017 is incorporated herein by reference in its entirety.
All documents, patent applications, and technical standards described in this specification are the same as if each document, patent application, and technical standard were specifically and individually stated to be incorporated by reference. Which is incorporated herein by reference.

Claims (12)

親水性支持体上に画像記録層を有し、
前記画像記録層が、重合開始剤、赤外線吸収剤、重合性化合物、及び、酸発色剤を含み、
前記重合開始剤が、電子供与型重合開始剤を含み、
前記赤外線吸収剤が、下記式1で表される化合物を含み、
前記式1で表される化合物のHOMOと前記電子供与型重合開始剤のうち少なくとも1つの化合物のHOMOとの差が、0.60eV以下である
平版印刷版原版。

及びRはそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、R及びRは互いに連結して環を形成してもよく、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、R及びRはそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Y及びYはそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、−NR−又はジアルキルメチレン基を表し、Ar及びArはそれぞれ独立に、後述する−Xを有していてもよいベンゼン環又はナフタレン環を形成する基を表し、Aは、−NR10、−X−L又は後述する−Xを表し、R及びR10はそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基又はアリールスルホニル基を表し、Xは酸素原子又は硫黄原子を表し、Lは炭化水素基、ヘテロアリール基、又は、熱若しくは赤外線露光によりXとの結合が開裂する基を表し、Zaは電荷を中和する対イオンを表し、Ar及びArの少なくとも一方に、下記式2で表される基を有する。
85
−X 式2
Xは、ハロゲン原子、−C(=O)−X−R11、−C(=O)−NR1213、−O−C(=O)−R14、−CN、−SONR1516、又は、パーフルオロアルキル基を表し、Xは、単結合又は酸素原子を表し、R11及びR14はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、R12、R13、R15及びR16はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。
Having an image recording layer on a hydrophilic support;
The image recording layer contains a polymerization initiator, an infrared absorber, a polymerizable compound, and an acid color former,
The polymerization initiator includes an electron donating polymerization initiator,
The infrared absorber includes a compound represented by the following formula 1,
A lithographic printing plate precursor wherein the difference between the HOMO of the compound represented by Formula 1 and the HOMO of at least one of the electron donating polymerization initiators is 0.60 eV or less.

R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group, R 1 and R 2 may be linked to each other to form a ring, and R 3 to R 6 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group. R 7 and R 8 each independently represents an alkyl group or an aryl group, Y 1 and Y 2 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, —NR 0 — or a dialkylmethylene group, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a group which forms a benzene ring or a naphthalene ring which may have -X described later, and A 1 represents -NR 9 R 10 , -X 1 -L 1 or described later. represents -X to each R 9 and R 10 are independently an alkyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group, or an arylsulfonyl group, X 1 is an oxygen atom or a sulfur atom, L 1 represents a hydrocarbon , Heteroaryl group, or represents a bond cleaves group of X 1 by the heat or infrared exposure, Za represents a counter ion for neutralizing the electric charge, at least one of Ar 1 and Ar 2, by the following formula 2 Having the group represented.
85
-X Formula 2
X is a halogen atom, —C (═O) —X 2 —R 11 , —C (═O) —NR 12 R 13 , —O—C (═O) —R 14 , —CN, —SO 2 NR 15 R 16 or a perfluoroalkyl group, X 2 represents a single bond or an oxygen atom, R 11 and R 14 each independently represents an alkyl group or an aryl group, R 12 , R 13 , R 15 and R 16 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
前記式2のXが、フッ素原子、塩素原子又は−C(=O)OR17である、請求項1に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein X in the formula 2 is a fluorine atom, a chlorine atom, or —C (═O) OR 17 . 前記式1において、Aが−NR1819又は−S−R20である、請求項に記載の平版印刷版原版。
なお、R18及びR19はそれぞれ独立に、アリール基を表し、R20は炭化水素基又はヘテロアリール基を表す。
The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 2 , wherein in Formula 1, A 1 is —NR 18 R 19 or —S—R 20 .
R 18 and R 19 each independently represents an aryl group, and R 20 represents a hydrocarbon group or a heteroaryl group.
前記電子供与型重合開始剤が、ボレート化合物である、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 3 , wherein the electron-donating polymerization initiator is a borate compound. 前記ボレート化合物が、テトラアリールボレート化合物又はモノアルキルトリアリールボレート化合物である、請求項に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 4 , wherein the borate compound is a tetraarylborate compound or a monoalkyltriarylborate compound. 前記重合開始剤が、電子受容型重合開始剤を更に含む請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 5 , wherein the polymerization initiator further comprises an electron-accepting polymerization initiator. 前記酸発色剤が、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、スピロラクトン化合物、及び、スピロラクタム化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物である、請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 The said acid color former is at least 1 sort (s) of compounds chosen from the group which consists of a spiropyran compound, a spirooxazine compound, a spirolactone compound, and a spirolactam compound, The any one of Claims 1-6. Lithographic printing plate precursor. 前記Zaが、炭素原子を含む有機アニオンである、請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 7 , wherein Za is an organic anion containing a carbon atom. 前記Zaが、スルホンイミドアニオンである、請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 8 , wherein Za is a sulfonimide anion. 前記重合性化合物が、ウレタン系付加重合性化合物を含む請求項1〜請求項9のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 9 , wherein the polymerizable compound comprises a urethane-based addition polymerizable compound. 前記重合性化合物が、不飽和カルボン酸と多価アルコール化合物とのエステル類、及び、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド類よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物を含む請求項1〜請求項10のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 The polymerizable compound includes at least one compound selected from the group consisting of esters of unsaturated carboxylic acids and polyhydric alcohol compounds, and amides of unsaturated carboxylic acids and polyvalent amine compounds. Item 11. The lithographic printing plate precursor according to any one of Items 1 to 10 . 請求項1〜請求項11のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を、画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する工程、及び、
印刷インキ及び湿し水の少なくとも一方を供給して前記未露光部を除去する工程を含む
平版印刷版の作製方法。
A step of exposing the lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 11 imagewise to form an exposed portion and an unexposed portion; and
A method for producing a lithographic printing plate comprising a step of supplying at least one of printing ink and fountain solution to remove the unexposed portion.
JP2019529772A 2017-07-13 2018-07-11 Lithographic printing plate precursor and lithographic printing plate preparation method Active JP6621570B2 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017137249 2017-07-13
JP2017137249 2017-07-13
PCT/JP2018/026239 WO2019013268A1 (en) 2017-07-13 2018-07-11 Lithographic printing plate original plate, and method for producing lithographic printing plate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP6621570B2 true JP6621570B2 (en) 2019-12-18
JPWO2019013268A1 JPWO2019013268A1 (en) 2020-01-09

Family

ID=65001685

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019529772A Active JP6621570B2 (en) 2017-07-13 2018-07-11 Lithographic printing plate precursor and lithographic printing plate preparation method

Country Status (6)

Country Link
US (1) US11294279B2 (en)
EP (1) EP3594009B1 (en)
JP (1) JP6621570B2 (en)
CN (1) CN110505962B (en)
BR (1) BR112019022492A2 (en)
WO (1) WO2019013268A1 (en)

Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113382869B (en) * 2019-01-31 2023-02-17 富士胶片株式会社 Lithographic printing plate precursor, method for producing lithographic printing plate, and lithographic printing method
JP7184931B2 (en) * 2019-01-31 2022-12-06 富士フイルム株式会社 Lithographic printing plate precursor, method for preparing lithographic printing plate, and method for lithographic printing
EP3991986A4 (en) * 2019-06-28 2022-09-28 FUJIFILM Corporation Original plate for on-press development type lithographic printing plate, method for fabricating lithographic printing plate, and lithographic printing method
JPWO2020262694A1 (en) * 2019-06-28 2020-12-30
EP3991984A4 (en) * 2019-06-28 2022-08-17 FUJIFILM Corporation Original plate for lithographic printing plate, lithographic printing plate manufacturing method, and lithographic printing method
JP7282885B2 (en) * 2019-06-28 2023-05-29 富士フイルム株式会社 Lithographic printing plate precursor, method for preparing lithographic printing plate, and method for lithographic printing
WO2020262687A1 (en) * 2019-06-28 2020-12-30 富士フイルム株式会社 Planographic printing original plate, method for producing planographic printing plate, and planographic printing method
JP7372324B2 (en) * 2019-06-28 2023-10-31 富士フイルム株式会社 On-press development type lithographic printing plate precursor, method for producing a lithographic printing plate, and lithographic printing method
WO2020262688A1 (en) * 2019-06-28 2020-12-30 富士フイルム株式会社 Lithographic printing plate original plate, method for fabricating lithographic printing plate, and lithographic printing method
CN114144306A (en) * 2019-06-28 2022-03-04 富士胶片株式会社 On-press developable lithographic printing plate precursor, method for producing lithographic printing plate, and lithographic printing method
WO2020262695A1 (en) * 2019-06-28 2020-12-30 富士フイルム株式会社 On-machine development lithographic printing plate original, lithographic printing plate manufacturing method, and lithographic printing method
EP3991989A4 (en) * 2019-06-28 2022-09-28 FUJIFILM Corporation On-press development type lithographic printing original plate, method for producing lithographic printing plate, and lithographic printing method
CN114531860B (en) * 2019-09-30 2024-01-30 富士胶片株式会社 Lithographic printing plate precursor, method for producing lithographic printing plate, and lithographic printing method
JP7408675B2 (en) * 2019-09-30 2024-01-05 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate original plate, method for preparing a planographic printing plate, and planographic printing method
CN114845875A (en) * 2019-12-27 2022-08-02 富士胶片株式会社 Lithographic printing method
EP4082804B1 (en) * 2019-12-27 2024-02-14 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor, method of producing lithographic printing plate, and printing method
US11714354B2 (en) 2020-03-25 2023-08-01 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursor and method of use
CN115697719A (en) 2020-05-29 2023-02-03 富士胶片株式会社 On-press developable lithographic printing plate precursor, method for producing lithographic printing plate, and lithographic printing method
WO2021241519A1 (en) 2020-05-29 2021-12-02 富士フイルム株式会社 On-press-development-type lithographic printing plate precursor, lithographic printing plate production method, and lithographic printing method
EP4159459A4 (en) 2020-05-29 2023-11-08 FUJIFILM Corporation On-press-development-type lithographic printing plate precursor, lithographic printing plate production method, and lithographic printing method
CN115697717A (en) 2020-05-29 2023-02-03 富士胶片株式会社 On-press developable lithographic printing plate precursor, method for producing lithographic printing plate, and lithographic printing method
JP7451702B2 (en) 2020-05-29 2024-03-18 富士フイルム株式会社 laminate
WO2021241688A1 (en) 2020-05-29 2021-12-02 富士フイルム株式会社 Original plate for on-machine development type lithographic printing plate, lithographic printing plate manufacturing method, and lithographic printing method
EP4159455A4 (en) * 2020-05-29 2023-10-04 FUJIFILM Corporation On-press-developing-type lithographic printing plate original plate, lithographic printing plate fabrication method, and lithographic printing method
JP7467629B2 (en) 2020-06-17 2024-04-15 富士フイルム株式会社 On-press development type lithographic printing plate precursor, method for producing lithographic printing plate, and lithographic printing method
JPWO2022019217A1 (en) 2020-07-21 2022-01-27
WO2022025068A1 (en) 2020-07-31 2022-02-03 富士フイルム株式会社 On-press-development-type planographic printing original plate, method for producing planographic printing plate, and planographic printing method
US20240100820A1 (en) 2020-12-16 2024-03-28 Agfa Offset Bv Lithographic Printing Press Make-Ready Method
WO2022138880A1 (en) 2020-12-25 2022-06-30 富士フイルム株式会社 Laminate of negative lithographic printing plate original plate and method for manufacturing negative lithographic printing plate
WO2022163777A1 (en) 2021-01-28 2022-08-04 富士フイルム株式会社 On-press-development-type planographic printing original plate, method for producing planographic printing plate, and planographic printing method
EP4299332A1 (en) 2021-02-26 2024-01-03 FUJIFILM Corporation On-press-development-type planographic printing plate precursor, method for fabricating planographic printing plate, planographic printing method, and coloring agent
WO2023032682A1 (en) 2021-08-31 2023-03-09 富士フイルム株式会社 On-press-developing lithographic printing original plate, method for producing lithographic printing plate, and lithographic printing method
WO2023032681A1 (en) 2021-08-31 2023-03-09 富士フイルム株式会社 Multilayer body
EP4245542A1 (en) 2022-03-18 2023-09-20 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate, and lithographic printing method
CN115318396A (en) * 2022-07-20 2022-11-11 阿坝铝厂 Waste cathode carbon block crushing equipment

Family Cites Families (100)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE507657A (en) 1950-12-06
NL267931A (en) 1960-08-05 1900-01-01
US3280734A (en) 1963-10-29 1966-10-25 Howard A Fromson Photographic plate
US3181461A (en) 1963-05-23 1965-05-04 Howard A Fromson Photographic plate
US3458311A (en) 1966-06-27 1969-07-29 Du Pont Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers
ZA6807938B (en) 1967-12-04
JPS4841708B1 (en) 1970-01-13 1973-12-07
DE2064079C2 (en) 1970-12-28 1982-09-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerizable mixture
JPS5549729B2 (en) 1973-02-07 1980-12-13
DE2361041C3 (en) 1973-12-07 1980-08-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerizable mixture
US3902734A (en) 1974-03-14 1975-09-02 Twm Mfg Co Frames for axle suspension systems
JPS5311314B2 (en) 1974-09-25 1978-04-20
DE2822189A1 (en) 1978-05-20 1980-04-17 Hoechst Ag PHOTOPOLYMERIZABLE MIXTURE
DE2822190A1 (en) 1978-05-20 1979-11-22 Hoechst Ag PHOTOPOLYMERIZABLE MIXTURE
DE3036694A1 (en) 1980-09-29 1982-06-03 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt RUBBER-ELASTIC, ETHYLENICALLY UNSATURATED POLYURETHANE AND MIXTURE CONTAINING THE SAME BY RADIATION
DE3048502A1 (en) 1980-12-22 1982-07-22 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt POLYMERIZABLE MIXTURE BY RADIATION AND RADIATION-SENSITIVE RECORDING MATERIAL MADE THEREOF
DE3406101A1 (en) 1984-02-21 1985-08-22 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt METHOD FOR THE TWO-STAGE HYDROPHILIZING TREATMENT OF ALUMINUM OXIDE LAYERS WITH AQUEOUS SOLUTIONS AND THE USE THEREOF IN THE PRODUCTION OF OFFSET PRINT PLATE CARRIERS
JP2525568B2 (en) 1985-01-18 1996-08-21 富士写真フイルム株式会社 Photosolubilizing composition
JP2655349B2 (en) 1989-05-18 1997-09-17 富士写真フイルム株式会社 Photosensitive lithographic printing plate
JP2988756B2 (en) 1991-04-26 1999-12-13 協和醗酵工業株式会社 Photopolymerization initiator and photopolymerizable composition containing the same
JP2739395B2 (en) 1991-08-19 1998-04-15 富士写真フイルム株式会社 Photosensitive lithographic printing plate
JP2907643B2 (en) 1992-07-16 1999-06-21 富士写真フイルム株式会社 Photosensitive lithographic printing plate and processing method thereof
WO1994017452A1 (en) 1993-01-20 1994-08-04 Agfa-Gevaert Naamloze Vennootschap Photopolymerizable composition of high sensitivity and method for obtaining images therewith
JPH08108621A (en) 1994-10-06 1996-04-30 Konica Corp Image recording medium and image forming method using the medium
EP0770494B1 (en) 1995-10-24 2000-05-24 Agfa-Gevaert N.V. A method for making a lithographic printing plate involving on press development
DE69623140T2 (en) 1995-10-24 2003-03-27 Agfa Gevaert Nv Process for the production of a lithographic printing plate with development taking place on the printing press
DE69613078T2 (en) 1995-11-09 2001-11-22 Agfa Gevaert Nv Heat-sensitive recording element and method for producing a printing form therewith
DE69608522T2 (en) 1995-11-09 2001-01-25 Agfa Gevaert Nv Heat sensitive recording element and method for producing a lithographic printing form therewith
JPH09179296A (en) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp Photopolymerizable composition
JPH09179297A (en) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp Photopolymerizable composition
JPH09179298A (en) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp Photopolymerizable composition
JPH10282679A (en) 1997-04-08 1998-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd Negative type photosensitive planographic printing plate
JP3839552B2 (en) 1997-06-03 2006-11-01 コダックポリクロームグラフィックス株式会社 Printing development photosensitive lithographic printing plate and plate making method thereof
DE69812871T2 (en) 1998-01-23 2004-02-26 Agfa-Gevaert Heat-sensitive recording element and method for producing planographic printing plates therewith
JP2000250211A (en) 1999-03-01 2000-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd Photopolymerizable composition
JP2001133969A (en) 1999-11-01 2001-05-18 Fuji Photo Film Co Ltd Negative type original plate of planographic printing plate
JP2001277740A (en) 2000-01-27 2001-10-10 Fuji Photo Film Co Ltd Original plate for lithographic printing plate
JP2001277742A (en) 2000-01-27 2001-10-10 Fuji Photo Film Co Ltd Original plate for lithographic printing plate
JP4092055B2 (en) 2000-02-09 2008-05-28 三菱製紙株式会社 Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate material
JP2001253181A (en) 2000-03-09 2001-09-18 Fuji Photo Film Co Ltd Original plate for positive type heat sensitive lithographic printing
JP3449342B2 (en) 2000-03-30 2003-09-22 三菱化学株式会社 Photocurable composition, low birefringence optical member and method for producing the same
JP2001322365A (en) 2000-05-16 2001-11-20 Fuji Photo Film Co Ltd Original plate for heat-sensitive lithographic printing
JP2002023360A (en) 2000-07-12 2002-01-23 Fuji Photo Film Co Ltd Negative type image recording material
JP4156784B2 (en) 2000-07-25 2008-09-24 富士フイルム株式会社 Negative-type image recording material and image forming method
JP4319363B2 (en) * 2001-01-15 2009-08-26 富士フイルム株式会社 Negative type image recording material
CN1256624C (en) * 2001-01-15 2006-05-17 富士胶片株式会社 Negative picture recording material and cyanine dye
JP4414607B2 (en) 2001-03-14 2010-02-10 富士フイルム株式会社 Radical polymerizable compound
JP2002287344A (en) 2001-03-27 2002-10-03 Fuji Photo Film Co Ltd Photopolymerizable planographic printing plate
US7261998B2 (en) 2001-04-04 2007-08-28 Eastman Kodak Company Imageable element with solvent-resistant polymeric binder
JP2002328465A (en) 2001-04-27 2002-11-15 Fuji Photo Film Co Ltd Original plate of planographic printing plate
JP2003064130A (en) 2001-08-29 2003-03-05 Fuji Photo Film Co Ltd Photo-polymerizable composition
JP3989270B2 (en) 2002-03-25 2007-10-10 富士フイルム株式会社 Photopolymerizable composition
DE50204080D1 (en) 2002-04-29 2005-10-06 Agfa Gevaert Nv Radiation-sensitive mixture, recording material produced therewith, and method of making a printing plate
DE10255663B4 (en) 2002-11-28 2006-05-04 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Radiation-sensitive elements
EP2093055B1 (en) * 2003-03-26 2012-05-16 FUJIFILM Corporation Lithographic printing method
JP4299032B2 (en) 2003-03-28 2009-07-22 三菱製紙株式会社 Photosensitive lithographic printing plate material
DE602004030519D1 (en) 2003-07-22 2011-01-27 Fujifilm Corp Planographic printing plate precursor and lithographic printing method
CN100400284C (en) * 2003-09-19 2008-07-09 富士胶片株式会社 Lithographic printing method and presensitized plate
JP4644458B2 (en) 2003-09-30 2011-03-02 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor and planographic printing method
JP4351933B2 (en) 2004-03-05 2009-10-28 富士フイルム株式会社 Negative type lithographic printing plate precursor and lithographic printing plate making method using the same
EP1754614B1 (en) 2004-04-09 2009-06-17 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
JP5331288B2 (en) * 2004-04-09 2013-10-30 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor and planographic printing method
US7425406B2 (en) * 2004-07-27 2008-09-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
JP4705817B2 (en) * 2004-07-27 2011-06-22 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor and planographic printing method
JP2006062188A (en) * 2004-08-26 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd Color image forming material and original plate of lithographic printing plate
JP2006065210A (en) 2004-08-30 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive lithographic printing plate
JP2006188038A (en) 2004-12-10 2006-07-20 Fuji Photo Film Co Ltd Original lithographic printing plate and plate manufacturing method
JP2006205397A (en) * 2005-01-25 2006-08-10 Fuji Photo Film Co Ltd On-press developing type lithographic printing-form original plate and lithographic printing method using the same
JP4469734B2 (en) 2005-02-03 2010-05-26 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor
JP5172097B2 (en) 2005-02-28 2013-03-27 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor and method for producing lithographic printing plate precursor
JP2006239867A (en) 2005-02-28 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd Original lithographic printing plate and lithographic printing method
JP2006243493A (en) 2005-03-04 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive lithographic printing plate
JP4393408B2 (en) 2005-03-16 2010-01-06 富士フイルム株式会社 Negative type planographic printing plate precursor
US7153632B1 (en) 2005-08-03 2006-12-26 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive compositions and imageable materials
JP4759343B2 (en) 2005-08-19 2011-08-31 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor and planographic printing method
JP5170960B2 (en) 2005-08-29 2013-03-27 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor and planographic printing method
JP2007118587A (en) * 2005-09-27 2007-05-17 Fujifilm Corp Lithographic printing plate original plate and lithographic printing method
EP1767353B1 (en) * 2005-09-27 2011-04-20 FUJIFILM Corporation Lithographic printing method
JP2007094138A (en) 2005-09-29 2007-04-12 Fujifilm Corp Lithographic printing original plate and plate-making method for the same
JP5238170B2 (en) 2006-03-14 2013-07-17 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor
JP4796890B2 (en) 2006-03-31 2011-10-19 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor and planographic printing method
JP2007293221A (en) 2006-03-31 2007-11-08 Fujifilm Corp Method for making lithographic printing plate and original plate of lithographic printing plate
JP2008195018A (en) 2007-02-15 2008-08-28 Fujifilm Corp Original plate of lithographic printing plate and lithographic printing method
JP4826918B2 (en) 2007-04-03 2011-11-30 三菱化学株式会社 Photopolymerizable composition
JP5046744B2 (en) 2007-05-18 2012-10-10 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor and printing method using the same
JP2008284858A (en) 2007-05-21 2008-11-27 Fujifilm Corp Original plate for lithographic printing plate, and printing method using the same
EP2006738B1 (en) 2007-06-21 2017-09-06 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor
US20090047599A1 (en) * 2007-08-15 2009-02-19 Geoffrey Horne Negative-working imageable elements and methods of use
JP2009090645A (en) 2007-09-20 2009-04-30 Fujifilm Corp Original printing plate of lithographic printing plate and method for printing using it
JP5322537B2 (en) 2007-10-29 2013-10-23 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor
US20100274023A1 (en) 2007-12-20 2010-10-28 Agfa Graphics Nv Novel intermediate compounds for the preparation of meso-substituted cyanine, merocyanine and oxonole dyes
US8084182B2 (en) * 2008-04-29 2011-12-27 Eastman Kodak Company On-press developable elements and methods of use
US8927193B2 (en) 2010-03-19 2015-01-06 Fujifilm Corporation Coloring photosensitive composition, lithographic printing plate precursor and plate making method
JP5645743B2 (en) 2010-04-30 2014-12-24 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor, plate making method thereof, and polyvalent isocyanate compound
JP5205505B2 (en) 2010-12-28 2013-06-05 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor and its planographic printing method
US8722308B2 (en) 2011-08-31 2014-05-13 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
EP2839968B1 (en) * 2012-03-29 2018-07-11 FUJIFILM Corporation Original plate for lithographic printing plate, and method for printing same
JP6285036B2 (en) 2014-08-22 2018-02-28 富士フイルム株式会社 Coloring composition, lithographic printing plate precursor, lithographic printing plate making method, and color former
JP6663734B2 (en) 2016-02-02 2020-03-13 株式会社アリミノ Hairdressing composition
EP3543790B1 (en) * 2016-11-16 2023-12-13 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor, and on-press plate-making method for a planographic printing plate

Also Published As

Publication number Publication date
CN110505962B (en) 2022-01-04
BR112019022492A2 (en) 2020-05-12
EP3594009A1 (en) 2020-01-15
US20200041899A1 (en) 2020-02-06
WO2019013268A1 (en) 2019-01-17
EP3594009B1 (en) 2021-04-21
JPWO2019013268A1 (en) 2020-01-09
EP3594009A4 (en) 2020-05-27
CN110505962A (en) 2019-11-26
US11294279B2 (en) 2022-04-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6621570B2 (en) Lithographic printing plate precursor and lithographic printing plate preparation method
WO2017141882A1 (en) Chromogenic composition, planographic printing original plate, method for producing planographic printing plate, and chromogenic compound
JP2019018412A (en) Lithographic printing plate precursor, plate making method of lithographic printing plate, polymer particle, photosensitive resin composition and resin composition
JP6832431B2 (en) Planographic printing plate original plate, method for producing lithographic printing plate, and color-developing composition
JP7282885B2 (en) Lithographic printing plate precursor, method for preparing lithographic printing plate, and method for lithographic printing
JP2020069790A (en) Lithographic printing plate original plate, method for producing lithographic printing plate and lithographic printing method
JP7293356B2 (en) On-machine development type lithographic printing plate precursor, method for preparing lithographic printing plate, and lithographic printing method
US20210354438A1 (en) Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate, and lithographic printing method
JP7378566B2 (en) On-press development type lithographic printing plate precursor, method for producing a lithographic printing plate, and lithographic printing method
JP2020069789A (en) Lithographic printing plate original plate, method for producing lithographic printing plate and lithographic printing method
US11803124B2 (en) Planographic printing plate precursor, method of preparing planographic printing plate, and planographic printing method
WO2020026808A1 (en) On-press-development-type lithographic printing plate precursor, manufacturing method for lithographic printing plate, and lithographic printing method
JP7062064B2 (en) Machine-developed lithographic printing plate original plate, lithographic printing plate manufacturing method, and lithographic printing method
JP7064596B2 (en) Machine-developed lithographic printing plate original plate, lithographic printing plate manufacturing method, and lithographic printing method
WO2019187728A1 (en) Photosensitive composition, planographic printing plate precursor, and manufacturing method of planographic printing plate
WO2020066377A1 (en) Lithographic-printing-plate original and lithographic-printing-plate manufacturing method
WO2020027069A1 (en) Original plate for on-press developing-type planographic printing plate, planographic printing plate production method, and planographic printing method
WO2020066378A1 (en) Lithographic-printing-plate original and lithographic-printing-plate manufacturing method
WO2020026809A1 (en) On-press-development-type lithographic printing plate precursor granules, on-press-development-type lithographic printing plate precursor, manufacturing method for lithographic printing plate, and lithographic printing method
JP2021053987A (en) Original plate for lithographic printing plate, method of making lithographic printing plate, and lithographic printing method
WO2018230413A1 (en) Lithography original plate, platemaking method for lithography plate, organic polymer particles, and photosensitive resin composition
WO2018159626A1 (en) Curable composition, lithographic printing plate precursor, and method for preparing lithographic printing plate

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190927

A529 Written submission of copy of amendment under article 34 pct

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A5211

Effective date: 20190927

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190927

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20190927

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20191021

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20191029

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20191119

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6621570

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250