JPH09179296A - Photopolymerizable composition - Google Patents

Photopolymerizable composition

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JPH09179296A
JPH09179296A JP33482495A JP33482495A JPH09179296A JP H09179296 A JPH09179296 A JP H09179296A JP 33482495 A JP33482495 A JP 33482495A JP 33482495 A JP33482495 A JP 33482495A JP H09179296 A JPH09179296 A JP H09179296A
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JP
Japan
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group
compound
meth
photopolymerizable composition
carbon atoms
Prior art date
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Pending
Application number
JP33482495A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshiyoshi Urano
年由 浦野
Shingo Ikeda
真吾 池田
Etsuko Hino
悦子 檜野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH09179296A publication Critical patent/JPH09179296A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To stably and efficiently produce a color filter excellent in image developability by incorporating an ethylenic compd. having a specified structure. SOLUTION: This compsn. contains a compd. having at least one ethylenically unsatd. double bond, a photopolymn. initiator and a coloring material. The compd. having at least one ethylenically unsatd. double bond is a compd. having an oxycyclohexyloxyphenyl or oxycyclohexyloxycyclohexyl skeleton. This ethylenic compd. preferably has two or more ethylenically unsatd. double bonds at which polymn. is induced in the presence of the photopolymn. initiator. An org. polymer may be added as a binder to this compsn.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は光重合性組成物に関
する。更に詳しくは感光性平版印刷版、エッチングレジ
スト、カラープルーフ、カラーフィルター等に好適に使
用できる光重合性組成物に関する。
The present invention relates to a photopolymerizable composition. More specifically, it relates to a photopolymerizable composition which can be suitably used for a photosensitive lithographic printing plate, an etching resist, a color proof, a color filter and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】カラーフィルターは通常、ブラックマト
リックスを設けたガラス、プラスチックシート等の透明
基板の表面に、赤、緑、青の3種の異なる色相により、
10〜50μm幅のストライプ状、モザイク状等の色パ
ターンを数μmの精度で形成して製造される。カラーフ
ィルターの代表的な製造方法としては、染色法、印刷
法、顔料分散法、電着法等がある。しかし、これらの方
法では、耐熱性が悪い、パターンの位置精度が悪い、生
産コストが高い、生産性が悪い等いずれも一長一短があ
り、用途に応じて各方式が使い分けられている。これら
の方式の内、色材料を含有する光重合性組成物を、ブラ
ックマトリックスを設けた透明基板上に塗布し、画像露
光、現像、熱硬化処理を繰り返すことでカラーフィルタ
ー画像を形成する顔料分散法は、カラーフィルター画素
の位置、膜厚等の精度が高く、寿命が長く、ピンホール
等の欠陥が少ないため、広く採用されている。
2. Description of the Related Art A color filter generally has three different hues of red, green and blue on the surface of a transparent substrate such as glass or plastic sheet provided with a black matrix.
It is manufactured by forming a stripe-shaped or mosaic-shaped color pattern having a width of 10 to 50 μm with an accuracy of several μm. Typical methods for producing a color filter include a dyeing method, a printing method, a pigment dispersion method, and an electrodeposition method. However, these methods have merits and demerits, such as poor heat resistance, poor pattern positional accuracy, high production cost, and poor productivity, and each method is used according to the application. Of these methods, a photopolymerizable composition containing a color material is applied on a transparent substrate provided with a black matrix, and image exposure, development, and heat curing are repeated to form a color filter image. The method is widely used because it has high accuracy in the position of the color filter pixel and film thickness, has a long life, and has few defects such as pinholes.

【0003】このような顔料分散法で用いられる光重合
性組成物には、色材料以外に、通常、有機高分子物質、
エチレン性不飽和二重結合を少なくとも1個有する化合
物、光重合開始系、及び溶剤が含有されている。該エチ
レン性不飽和二重結合を少なくとも1個有する化合物
(以下、「エチレン性化合物」)としては、従来、ポリ
フェノールグリシジルエーテルの(メタ)アクリレート
化合物(特開平7−13331号公報、特開平4−34
0965号公報)がカラーフィルター用に使用されてい
る。尚、本明細書中「(メタ)アクリ〜」は「メタクリ
〜またはアクリ〜」と同義であり、例えば「(メタ)ア
クリレート」は「メタクリレートまたはアクリレート」
と同義である。
In the photopolymerizable composition used in such a pigment dispersion method, in addition to the color material, an organic polymer substance,
It contains a compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, a photopolymerization initiation system, and a solvent. As the compound having at least one ethylenically unsaturated double bond (hereinafter referred to as “ethylenic compound”), a (meth) acrylate compound of polyphenol glycidyl ether has been conventionally used (JP-A-7-13331, JP-A-4-13331). 34
No. 0965) is used for a color filter. In addition, in this specification, "(meth) acry" is synonymous with "methacry" or "acry", and for example, "(meth) acrylate" is "methacrylate or acrylate".
Is synonymous with

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、カラー
フィルター用光重合性組成物には色材料が30%程度含
有されていることから、この色材料により露光時の光が
遮光されるため、画像形成性、感度が充分ではないとい
う問題があった。本発明は、上記従来の問題点を解決
し、高感度で画像形成性に優れ、特にカラーフィルター
用途に好適な光重合性組成物を提供することを目的とす
る。
However, since the photopolymerizable composition for a color filter contains about 30% of a color material, this color material shields light during exposure, which results in image formation. There was a problem that the sex and sensitivity were not sufficient. An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems, and to provide a photopolymerizable composition having high sensitivity and excellent in image forming property, which is particularly suitable for color filter applications.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】しかして、かかる本発明
の目的は、エチレン性不飽和二重結合を少なくとも1個
有する化合物、光重合開始剤及び色材料を含有する光重
合性組成物において、該エチレン性不飽和二重結合を少
なくとも1個有する化合物がオキシシクロヘキシルオキ
シフェニルまたはオキシシクロヘキシルオキシシクロヘ
キシル骨格を有する化合物であることを特徴とする光重
合性組成物により容易に達成される。以下、本発明を詳
細に説明する。
Accordingly, the object of the present invention is to provide a photopolymerizable composition containing a compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, a photopolymerization initiator and a color material. It is easily achieved by a photopolymerizable composition characterized in that the compound having at least one ethylenically unsaturated double bond is oxycyclohexyloxyphenyl or a compound having an oxycyclohexyloxycyclohexyl skeleton. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0006】本発明に使用されるオキシシクロヘキシル
オキシフェニルまたはオキシシクロヘキシルオキシシク
ロヘキシル骨格を有するエチレン性不飽和二重結合を少
なくとも1個有する化合物(以下、「エチレン性化合物
A」)は光重合開始剤の存在下で重合が誘起されるエチ
レン性不飽和二重結合を2個以上分子内に有する化合物
が好ましく、具体的には以下の一般式(1)〜(4)で
示される部分構造のいずれかを分子内に2個以上有する
化合物が好ましい。該エチレン性化合物は透明基板との
接着性、画像形成性を向上させるものである。
The compound having at least one ethylenically unsaturated double bond having an oxycyclohexyloxyphenyl or oxycyclohexyloxycyclohexyl skeleton (hereinafter referred to as "ethylenic compound A") used in the present invention is a photopolymerization initiator. A compound having two or more ethylenically unsaturated double bonds in which the polymerization is induced in the presence thereof is preferable, and specifically, any one of the partial structures represented by the following general formulas (1) to (4) Compounds having two or more in the molecule are preferred. The ethylenic compound improves adhesion to a transparent substrate and image forming property.

【0007】[0007]

【化2】 Embedded image

【0008】Yは水素原子、置換基を有していてもよい
炭素数1〜20のアルキル基(置換基としては水酸基、
炭素数1〜10のアルキルオキシ基、炭素数2〜10の
アルキルオキシカルボニル基、炭素数2〜15のアシル
基、(メタ)アクロイルオキシ基、アシルオキシ基、B
r,Clのハロゲン原子を示す。)、炭素数6〜15の
アリール基、炭素数3〜10のアリル基、水酸基、炭素
数1〜10アルキルオキシ基を示し、R4 は水素原子、
炭素数1〜10のアルキル基を示し、XはCl,Br等
のハロゲン原子を示す。)
Y is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent (a substituent is a hydroxyl group,
An alkyloxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyloxycarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, an acyl group having 2 to 15 carbon atoms, a (meth) acroyloxy group, an acyloxy group, B
Indicates a halogen atom of r or Cl. ), An aryl group having 6 to 15 carbon atoms, an allyl group having 3 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, and an alkyloxy group having 1 to 10 carbon atoms, R 4 is a hydrogen atom,
It represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and X represents a halogen atom such as Cl or Br. )

【0009】該エチレン性化合物(A)の具体的な例と
しては、ハイドロキノン、レゾルシン、ピロガロール等
のポリヒドロキシベンゼン、ビスフェノールA、ブロム
化ビスフェノールA等のビスフェノールA誘導体、ノボ
ラック等の芳香族ポリヒドロキシ化合物及びそれらの核
内水素添加物と1,2エポキシシクロヘキサンを4級ア
ンモニウム条件下付加反応させた後、さらにエピクロル
ヒドリンをアルカリ条件下付加反応させて得られるポリ
グリシジルエーテル化合物と、(メタ)アクリル酸等の
不飽和モノカルボン酸又は不飽和モノカルボン酸クロラ
イドを4級アンモニウム塩等を触媒にして付加反応させ
ることにより得られるエチレン性化合物、或いは、ハイ
ドロキノン、レゾルシン、ピロガロール等のポリヒドロ
キシベンゼン、ビスフェノールA、ブロム化ビスフェノ
ールA、等のビスフェノールA誘導体、ノボラック等の
芳香族ポリヒドロキシ化合物及びそれらの核内水素添加
物の1,2エポキシシクロヘキサン付加物とグリシジル
(メタ)アクリレート、下記[T−1]又は[T−2]
等の構造のエポキシ(メタ)アクリレートを、“SYN
THETIC COMMUNICATION,24(2
1)”3009−3019(1994)等に記載の酸又
はアルカリの触媒を用いて付加反応させることにより得
られる、前記一般式(1)〜(4)で表される置換基を
2個以上有するエチレン性化合物が挙げられ、より具体
的には、例えば、次の(A−1),(A−2),(B−
1),(B−2)等を挙げることが出来る。また前記の
水素添加反応としては、特開平3−107160号公報
等に記載のラネーNi触媒を用いるもの、ロジウム、白
金等の触媒を用いるものを適宜選択して用いることがで
きる。
Specific examples of the ethylenic compound (A) include polyhydroxybenzenes such as hydroquinone, resorcin, and pyrogallol, bisphenol A derivatives such as bisphenol A and brominated bisphenol A, and aromatic polyhydroxy compounds such as novolac. And a polyglycidyl ether compound obtained by addition-reacting the nuclear hydrogenation product with 1,2 epoxycyclohexane under a quaternary ammonium condition, and then further subjecting epichlorohydrin to an addition reaction under an alkaline condition, (meth) acrylic acid, etc. Of the unsaturated monocarboxylic acid or unsaturated monocarboxylic acid chloride obtained by the addition reaction with a quaternary ammonium salt as a catalyst, or a polyhydroxybenzene such as hydroquinone, resorcinol or pyrogallol, or a vinyl chloride. Phenol A, bisphenol A derivatives such as brominated bisphenol A, aromatic polyhydroxy compounds such as novolak, and 1,2 epoxycyclohexane adducts of their hydrogenation in the nucleus and glycidyl (meth) acrylate, the following [T-1 ] Or [T-2]
Epoxy (meth) acrylates having the same structure as "SYN
THETIC COMMUNICATION, 24 (2
1) having two or more substituents represented by the general formulas (1) to (4), which are obtained by addition reaction using an acid or alkali catalyst described in “3009-3019 (1994)” An ethylenic compound is mentioned, More specifically, for example, the following (A-1), (A-2), (B-
1), (B-2), etc. can be mentioned. As the hydrogenation reaction, those using Raney Ni catalyst described in JP-A-3-107160 and the like and those using catalysts such as rhodium and platinum can be appropriately selected and used.

【0010】[0010]

【化3】 Embedded image

【0011】(式中、qは1〜5の整数を表わし、R1
〜R4 ,Z,Y,mは前記と同じ、R 10,R11は水素原
子、炭素数1〜15のアルキル基、炭素数1〜15のア
ルキルオキシ基、炭素数6〜15のアリール基、炭素数
7〜15のアラルキル基、又、R10,R11は互いに、ア
ルキレン基、酸素原子、イオウ原子、等の2価原子を介
して結合し環状構造を形成してもよい、Uは、炭素数1
〜15の置換基を有していてもよいアルキレン基(該置
換基としては、アルキル基、フェニル基、Br,Clの
ハロゲン基を表わす。)、酸素原子、イオウ原子、スル
ホニル基、アミノ基、炭素数1〜15のモノアルキルア
ミノ基、炭素数6〜15のアリール基を表わす。)
(In the formula, q represents an integer of 1 to 5, and R1
~ RFour, Z, Y, m are the same as above, R Ten, R11Is hydrogen field
Child, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms
Rukyloxy group, aryl group having 6 to 15 carbon atoms, carbon number
7 to 15 aralkyl groups, or RTen, R11Each other
Via divalent atoms such as rubylene group, oxygen atom, sulfur atom, etc.
May combine with each other to form a cyclic structure, and U has 1 carbon atom
An alkylene group optionally having a substituent of
As the substituent, an alkyl group, a phenyl group, Br, Cl
Represents a halogen group. ), Oxygen atom, sulfur atom, sulfur atom
Honyl group, amino group, C1-C15 monoalkyl group
It represents a mino group or an aryl group having 6 to 15 carbon atoms. )

【0012】[0012]

【化4】 Embedded image

【0013】(式中、R1 〜R4 ,R10〜R11,Z,
Y,m,q,Uは前記と同じ。)
(Wherein R 1 to R 4 , R 10 to R 11 , Z,
Y, m, q and U are the same as above. )

【0014】[0014]

【化5】 Embedded image

【0015】(式中、q,R1 〜R4 ,X,Y,U,
m,R10,R11は前記と同じ。)
(Wherein q, R 1 to R 4 , X, Y, U,
m, R 10 and R 11 are the same as above. )

【0016】[0016]

【化6】 [Chemical 6]

【0017】(式中、q,R1 〜R4 ,X,Y,U,
m,R10,R11は前記と同じ。)等を挙げることがで
き、さらに具体的な例としては、
(Where q, R 1 to R 4 , X, Y, U,
m, R 10 and R 11 are the same as above. ) And the like, and more specific examples include

【0018】[0018]

【化7】 Embedded image

【0019】[0019]

【化8】 Embedded image

【0020】[0020]

【化9】 Embedded image

【0021】[0021]

【化10】 Embedded image

【0022】等を挙げることが出来る。一方、本発明で
使用するエチレン性化合物としては、前記エチレン性化
合物(A)の他に、現像時の非画線部の溶解性を高め、
高画質の画像を形成させる目的で、エチレン性化合物
(A)以外のエチレン性化合物(B)を併用することが
出来る。
And the like. On the other hand, as the ethylenic compound used in the present invention, in addition to the ethylenic compound (A), the solubility of the non-image area during development is increased,
An ethylenic compound (B) other than the ethylenic compound (A) can be used in combination for the purpose of forming a high quality image.

【0023】該エチレン性化合物(B)の具体的な例と
しては、エチレン性化合物(A)以外のポリグリシジル
エーテル化合物と不飽和モノカルボン酸又は不飽和モノ
カルボン酸クロライドとの付加反応、或いは、ポリヒド
ロキシ化合物とエポキシモノ不飽和カルボン酸エステル
との付加反応で得られるエチレン性化合物、或いは、そ
れら化合物の核内水素添加物、或いは、脂肪族ポリヒド
ロキシ化合物と不飽和カルボン酸との付加反応(エステ
ル反応)で得られるエチレン性化合物であり、具体的な
例としては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ト
リメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタ
エリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリト
ールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリト
ールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサ(メタ)アクリレート、グリセロール(メ
タ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル、こ
れらの例示化合物の(メタ)アクリレートをイタコネー
トに代えたイタコン酸エステル、クロトネートに代えた
クロトン酸エステルもしくはマレエートに代えたマレイ
ン酸エステル等がある。これらのうち、特に、4官能〜
6官能のジペンタエリスリトールポリアクリレートが画
像形成性に優れる点から好ましい。
Specific examples of the ethylenic compound (B) include an addition reaction of a polyglycidyl ether compound other than the ethylenic compound (A) with an unsaturated monocarboxylic acid or an unsaturated monocarboxylic acid chloride, or Ethylenic compounds obtained by the addition reaction of a polyhydroxy compound with an epoxy monounsaturated carboxylic acid ester, or a hydrogenation product in the nucleus of these compounds, or an addition reaction of an aliphatic polyhydroxy compound with an unsaturated carboxylic acid ( Ester reaction), which is an ethylenic compound, and specific examples thereof include ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate,
Trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate , (Meth) acrylic acid esters such as dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, etc., and itaconic acid esters obtained by replacing the (meth) acrylate of these exemplified compounds with itaconate. , Crotonic acid ester in place of crotonate or maleic acid ester in place of maleate. Among these, especially four functional
Hexafunctional dipentaerythritol polyacrylate is preferable from the viewpoint of excellent image forming property.

【0024】前記エチレン性化合物(A)及びエチレン
性化合物(B)の製造に当っては、ポリグリシジルエー
テル化合物、或いは、ポリヒドロキシ化合物と不飽和モ
ノカルボン酸とを反応させる際に、不飽和モノカルボン
酸と共に飽和のモノカルボン酸を付加させ、該エチレン
性化合物の粘性等の物性を制御することもできる。好ま
しいエチレン性化合物(A)とエチレン性化合物(B)
との使用割合は、重量比で、エチレン性化合物(A):
エチレン性化合物(B)=100:0〜10:90、好
ましくは90:10〜20:80、更に好ましくは8
0:20〜30:70である。
In the production of the ethylenic compound (A) and the ethylenic compound (B), when the polyglycidyl ether compound or the polyhydroxy compound is reacted with the unsaturated monocarboxylic acid, the unsaturated monocarboxylic acid is reacted. It is also possible to add a saturated monocarboxylic acid together with a carboxylic acid to control the physical properties such as viscosity of the ethylenic compound. Preferred ethylenic compound (A) and ethylenic compound (B)
The usage ratio of and is, by weight ratio, the ethylenic compound (A):
Ethylenic compound (B) = 100: 0 to 10:90, preferably 90:10 to 20:80, more preferably 8
It is 0:20 to 30:70.

【0025】その他、併用できるエチレン性化合物の例
としては、エチレンビスアクリルアミド等のアクリルア
ミド類、フタル酸ジアリル等のアリルエステル類、ジビ
ニルフタレート等のビニル基含有化合物、不飽和二価カ
ルボン酸とジヒドロキシ化合物との重縮合反応により得
られるポリエステル、不飽和二価カルボン酸とジアミン
との重縮合反応により得られるポリアミド、側鎖に不飽
和結合をもつ二価カルボン酸、例えばイタコン酸、プロ
ピリデンコハク酸、エチリデンマロン酸等とジヒドロキ
シ又はジアミン化合物との縮重合体、側鎖にヒドロキシ
基やハロゲン化メチル基の如き反応活性を有する官能基
を有する重合体、例えば、ポリビニルアルコール、ポリ
(2−ヒドロキシエチルメタクリレート)、ポリエピク
ロルヒドリン等とアクリル酸、メタクリル酸、クロトン
酸等の不飽和カルボン酸との高分子反応により得られる
ポリマー等が挙げられる。
Other examples of ethylenic compounds that can be used in combination include acrylamides such as ethylenebisacrylamide, allyl esters such as diallyl phthalate, vinyl group-containing compounds such as divinyl phthalate, unsaturated divalent carboxylic acids and dihydroxy compounds. Polyester obtained by polycondensation reaction with, a polyamide obtained by polycondensation reaction of unsaturated divalent carboxylic acid and diamine, divalent carboxylic acid having an unsaturated bond in the side chain, for example itaconic acid, propylidene succinic acid, Condensation polymers of ethylidene malonic acid and the like and dihydroxy or diamine compounds, polymers having functional groups having a reactive activity such as a hydroxy group and a methyl halide group in the side chain, for example, polyvinyl alcohol, poly (2-hydroxyethyl methacrylate) ), With polyepichlorohydrin, etc. Acrylic acid, methacrylic acid, polymers obtained by a polymer reaction of an unsaturated carboxylic acid such as crotonic acid.

【0026】本発明組成物中には、成膜性、現像性を改
良する目的で、有機高分子物質を結合剤として添加する
ことができる。この有機高分子物質としては、メチル
(メタ)アクリル酸、エチル(メタ)アクリル酸、プロ
ピル(メタ)アクリル酸、ブチル(メタ)アクリル酸、
2−エチルヘキシル(メタ)アクリル酸、ヒドロキシエ
チル(メタ)アクリル酸、ヒドロキシプロピル(メタ)
アクリル酸、ベンジル(メタ)アクリル酸等の(メタ)
アクリル酸のアルキルエステル;ヒドロキシフェニル
(メタ)アクリル酸、メトキシフェニル(メタ)アクリ
ル酸等の(メタ)アクリル酸の置換基を有していても良
いフェニルエステル;アクリロニトリル;酢酸ビニル、
バーサチック酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビ
ニル、ピバリン酸ビニル等の酸ビニル;スチレン、α−
メチル−スチレン等の共重合体、エピクロロヒドリンと
ビスフェノールAとのポリエーテル、可溶性ナイロン、
ポリビニルアルキルエーテル、ポリアミド、ポリウレタ
ン、ポリエチレンテレフタレートイソフタレート、アセ
チルセルロース及びポリビニルホルマール、ポリビニル
ブチラール等が挙げられる。なお、本明細書において、
「(メタ)アクリル」とは「アクリル又はメタクリル」
を示す。「(メタ)アクリレート」についても同様であ
る。
In the composition of the present invention, an organic polymer substance may be added as a binder for the purpose of improving film-forming property and developability. Examples of the organic polymer substance include methyl (meth) acrylic acid, ethyl (meth) acrylic acid, propyl (meth) acrylic acid, butyl (meth) acrylic acid,
2-ethylhexyl (meth) acrylic acid, hydroxyethyl (meth) acrylic acid, hydroxypropyl (meth)
(Meth) such as acrylic acid, benzyl (meth) acrylic acid
Alkyl ester of acrylic acid; Phenyl ester which may have a substituent of (meth) acrylic acid such as hydroxyphenyl (meth) acrylic acid and methoxyphenyl (meth) acrylic acid; acrylonitrile; vinyl acetate,
Vinyl salts such as vinyl versatate, vinyl propionate, vinyl cinnamate, vinyl pivalate; styrene, α-
Copolymer of methyl-styrene, polyether of epichlorohydrin and bisphenol A, soluble nylon,
Examples thereof include polyvinyl alkyl ether, polyamide, polyurethane, polyethylene terephthalate isophthalate, acetyl cellulose, polyvinyl formal, and polyvinyl butyral. In this specification,
"(Meth) acrylic" means "acrylic or methacrylic"
Is shown. The same applies to “(meth) acrylate”.

【0027】得られる塗膜の皮膜強度、耐塗布溶剤性、
基板接着性を高める目的で、上記有機高分子物質のう
ち、カルボン酸基を有するものの、カルボン酸基の一部
又は全部を、グリシジル(メタ)アクリレート、下記
[T−1]又は[T−2]の構造のエポキシ(メタ)ア
クリレートと反応させて、光重合性の有機高分子物質と
することもできる。
The film strength of the obtained coating film, resistance to coating solvent,
Among the above organic polymer substances, those having a carboxylic acid group are used for the purpose of enhancing the adhesiveness to a substrate. ] It is also possible to react with an epoxy (meth) acrylate having a structure of to form a photopolymerizable organic polymer substance.

【0028】[0028]

【化11】 Embedded image

【0029】本発明において、特に好ましい有機高分子
物質としては、基板への接着性を高める目的で、スチレ
ン、α−メチルスチレン、ベンジル(メタ)アクリレー
ト、ヒドロキシフェニル(メタ)アクリル酸、メトキシ
フェニル(メタ)アクリル酸、ヒドロキシフェニル(メ
タ)アクリルアミド、ヒドロキシフェニル(メタ)アク
リルスルホアミド等のフェニル基を有する共重合モノマ
ーを10〜80モル%、好ましくは20〜70モル%、
より好ましくは30〜60モル%の割合で含有し、その
他(メタ)アクリル酸を2〜50重量%、好ましくは5
〜40重量%、より好ましくは5〜30重量%の割合で
含有する共重合体、或いは、全共重合モノマーに対して
2〜50モル%、好ましくは5〜40モル%、より好ま
しくは10〜30モル%のエポキシ(メタ)アクリレー
トが付加された反応物が望ましい。
In the present invention, particularly preferable organic polymer substances include styrene, α-methylstyrene, benzyl (meth) acrylate, hydroxyphenyl (meth) acrylic acid, methoxyphenyl (for the purpose of enhancing the adhesion to the substrate. 10 to 80 mol%, preferably 20 to 70 mol% of a phenyl group-containing copolymerization monomer such as (meth) acrylic acid, hydroxyphenyl (meth) acrylamide, and hydroxyphenyl (meth) acrylsulfoamide.
It is more preferably contained in a proportion of 30 to 60 mol%, and other (meth) acrylic acid is contained in a proportion of 2 to 50 wt%, preferably 5
To 40% by weight, more preferably 5 to 30% by weight, or 2 to 50% by mole, preferably 5 to 40% by mole, more preferably 10 to 100% by weight based on the total amount of the copolymerized monomers. A reactant with 30 mol% epoxy (meth) acrylate added is desirable.

【0030】このような有機高分子物質の分子量として
は、重量平均分子量(Mw)で1,000〜1000,
000、好ましくは2,000〜500,000、より
好ましくは3,000〜200,000の範囲である。
有機高分子物質のMwがこの範囲より著しく低いと、現
像時に画線部分の膜べりが生じ、逆に有機高分子物質の
Mwが著しく高いと現像時に非画線部の抜け性不良を生
じ易い。
The weight average molecular weight (Mw) of such an organic polymer substance is 1,000 to 1,000,
000, preferably 2,000 to 500,000, more preferably 3,000 to 200,000.
If the Mw of the organic polymer substance is significantly lower than this range, film-slip in the image area will occur during development, and conversely, if the Mw of the organic polymer material is significantly high, defective removal of the non-image area will tend to occur during development. .

【0031】本発明の光重合性組成物に使用される光重
合開始剤としては、下記のような紫外から可視領域に感
度を有するものを、使用する露光光源に応じて、適宜選
択可能である。即ち、本発明において、上記400nm
未満の波長の紫外光を吸収してラジカルを発生する光重
合開始系としては、例えば、ファインケミカル,199
1年,3月1日号Vol 20,No.4,P.16〜
P.26に記載のジアルキルアセトフェノン系,ベンジ
ルジアルキルケタール系,ベンゾイン,ベンゾインアル
キルエーテル系,チオキサントン誘導体,アシルホスフ
ィンオキサイド系等、その他、特開昭58−40302
号公報,特公昭45−37377号公報に記載のヘキサ
アリールビイミダゾール系,s−トリハロメチルトリア
ジン系,特開昭59−152396号公報に記載のチタ
ノセン系等を用いることができる。
As the photopolymerization initiator used in the photopolymerizable composition of the present invention, one having the sensitivity in the ultraviolet to visible region as described below can be appropriately selected according to the exposure light source used. . That is, in the present invention, the above 400 nm
Examples of the photopolymerization initiation system that absorbs ultraviolet light having a wavelength of less than to generate radicals include Fine Chemical, 199
Vol. 1, No. 1, March 1, 1st year. 4, p. 16 ~
P. 26, dialkyl acetophenone type, benzyl dialkyl ketal type, benzoin, benzoin alkyl ether type, thioxanthone derivative, acylphosphine oxide type, etc., and others, JP-A-58-40302.
The hexaarylbiimidazole type, the s-trihalomethyltriazine type described in JP-B No. 45-37377 and the titanocene type described in JP-A No. 59-152396 can be used.

【0032】一方、波長400nm以上500nm以下
の可視光に感応する光重合開始系としては、例えば、ヘ
キサアリールビイミダゾールとラジカル発生剤及び染料
の系(特公昭45−37377号公報)、ヘキサアリー
ルビイミダゾールと(p−ジアルキルアミノベンジリデ
ン)ケトンの系(特開昭47−2528号、特開昭54
−155292号各公報)、環状シス−α−ジカルボニ
ル化合物と染料の系(特開昭48−84183号公
報)、置換トリアジンとメロシアニン色素の系(特開昭
54−151024号公報)、ケトクマリンと活性剤の
系(特開昭52−112681号、特開昭58−155
03号、特開昭60−88005号各公報)、置換トリ
アジンと増感剤の系(特開昭58−29803号、特開
昭58−40302号各公報)、ビイミダゾール、スチ
レン誘導体、チオールの系(特開昭59−56403号
公報)、ジアルキルアミノフェニル基を含有する増感剤
とビイミダゾール(特開平2−69号、特開昭57−1
68088号、特開平5−107761号、特開平5−
210240号、特開平4−288818号各公報)、
有機過酸化物と色素の系(特開昭59−140203
号、特開昭59−189340号各公報)、チタノセン
の(特開昭59−152396号、特開昭61−151
197号、特開昭63−10602号、特開昭63−4
1484号、特開平2−291号、特開平3−1240
3号、特開平3−20293号、特開平3−27393
号、特開平3−52050号各公報)、チタノセンとキ
サンテン色素さらにアミノ基或いはウレタン基を有する
付加重合可能なエチレン性飽和二重結合含有化合物を組
合せた系(特開平4−221958号、特開平4−21
9756号各公報)等が挙げられる。
On the other hand, examples of the photopolymerization initiation system sensitive to visible light having a wavelength of 400 nm or more and 500 nm or less include, for example, a system of hexaarylbiimidazole, a radical generator and a dye (Japanese Examined Patent Publication No. 45-37377), and hexaarylbiimidazole. System of imidazole and (p-dialkylaminobenzylidene) ketone (JP-A-47-2528 and JP-A-54)
No. 155292), a system of a cyclic cis-α-dicarbonyl compound and a dye (JP-A-48-84183), a system of substituted triazine and a merocyanine dye (JP-A-54-151024), and ketocoumarin. Activator system (JP-A-52-112681, JP-A-58-155)
03, JP-A-60-88005), a system of substituted triazine and a sensitizer (JP-A-58-29803, JP-A-58-40302), biimidazole, a styrene derivative, and a thiol. System (JP-A-59-56403), a sensitizer containing a dialkylaminophenyl group and biimidazole (JP-A-2-69, JP-A-57-1).
68088, JP-A-5-107761, and JP-A-5-10761.
No. 210240, JP-A-4-288818),
System of organic peroxide and dye (JP-A-59-140203)
No. 59, JP-A-59-189340), and titanocene (JP-A-59-152396, JP-A-61-151).
197, JP-A-63-10602, JP-A-63-4
1484, JP-A-2-291, JP-A3-1240
3, JP-A-3-20293, JP-A-3-27393.
JP-A-3-52050), a system in which a titanocene and a xanthene dye are combined with an addition-polymerizable ethylenic saturated double bond-containing compound having an amino group or a urethane group (JP-A-4-221958, JP-A-4-221958). 4-21
9756 each gazette) etc. are mentioned.

【0033】波長400nm以上500nm以下の光に
感応する光重合開始系の好適例としては、波長400〜
500nmに吸収を有する増感色素と、2,2′−ビス
(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ
フェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロロ
フェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(p−カルボ
エトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス
(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ
(p−ブロモフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビ
ス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テト
ラ(o,p−ジクロロフェニル)ビイミダゾール等のヘ
キサアリールビイミダゾール、及び、2−メルカプトベ
ンズチアゾール、2−メルカプトベンズオキサゾール、
2−メルカプトベンズイミダゾール等の有機チオール化
合物からなる複合光重合開始剤、或いは、波長400〜
500nmに吸収を有する増感色素とジシクロペンタジ
エニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロ−3−(ピロ
ール−1−イル)−フェニル−1−イル、ジシクロペン
タジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフル
オロフェニル−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−
Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェ
ニル−1−イル等のチタノセン化合物、更に、p−ジエ
チルアミノ安息香酸エチル、ミヒラーズケトン等のジア
ルキルアミノフェニル化合物からなる複合光重合開始剤
が挙げられる。
Suitable examples of the photopolymerization initiation system sensitive to light having a wavelength of 400 nm or more and 500 nm or less include wavelengths of 400 to 400 nm.
Sensitizing dye having absorption at 500 nm, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4 , 4 ', 5,5'-Tetra (p-carboethoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (p-bromophenyl) bi Hexaarylbiimidazoles such as imidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (o, p-dichlorophenyl) biimidazole, and 2-mercaptobenzthiazole, 2 -Mercaptobenzoxazole,
A composite photopolymerization initiator composed of an organic thiol compound such as 2-mercaptobenzimidazole, or a wavelength of 400-
Sensitizing dyes having absorption at 500 nm and dicyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluoro-3- (pyrrol-1-yl) -phenyl-1-yl, dicyclopentadienyl-Ti-bis -2,3,5,6-tetrafluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-
A composite photopolymerization initiator comprising a titanocene compound such as Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophenyl-1-yl and a dialkylaminophenyl compound such as ethyl p-diethylaminobenzoate and Michler's ketone Can be mentioned.

【0034】なお、上記のヘキサビイミダゾールを増感
する色素としては、例えば特開平2−69号公報,特開
昭57−168088号公報,特開平5−107761
号公報、特開平5−210240号公報,特願平4−2
88818号に記載の増感色素を挙げることができる。
また、これらの可視光領域に感応する光重合開始系のう
ち、可視光と共に紫外部にも吸収を持ち、高い感度を示
すものについては、紫外光領域の光源に対する光重合開
始系として利用しても良い。
Examples of the dyes which sensitize the above hexabiimidazole include JP-A-2-69, JP-A-57-168088, and JP-A-5-107761.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-210240, Japanese Patent Application No. 4-2.
The sensitizing dyes described in No. 88818 can be mentioned.
Further, among these photopolymerization initiation systems sensitive to the visible light region, those having a high sensitivity in the ultraviolet region together with visible light are used as a photopolymerization initiation system for a light source in the ultraviolet light region. Is also good.

【0035】このような可視光及び紫外光領域に共に高
い感度を示すものとしては、ヘキサアリールビイミダゾ
ール、或いは、チタノセンを含有する光重合開始系等を
挙げることができる。上記の光重合開始系のうちでは、
ヘキサアリールビイミダゾール、チタノセンを含有する
光重合開始系が高い感度を示すことから好ましく、特
に、チタノセンを含有する光重合開始系であれば、ヘキ
サアリールビイミダゾールを含有する光重合開始系に比
べて、少量で高い感度を示すと共に、高い乾燥条件でも
安定なため、本発明のような、高い色材料濃度を有する
カラーフィルターレジストにはより一層好ましい。
Examples of compounds having high sensitivity in both the visible light region and the ultraviolet light region include a photopolymerization initiation system containing hexaarylbiimidazole or titanocene. Among the above photopolymerization initiation system,
Hexaarylbiimidazole, a photopolymerization initiation system containing titanocene is preferred because it shows high sensitivity, in particular, if the photopolymerization initiation system containing titanocene, compared to the photopolymerization initiation system containing hexaarylbiimidazole Since it shows high sensitivity with a small amount and is stable even under high drying conditions, it is even more preferable for a color filter resist having a high color material concentration as in the present invention.

【0036】前記光重合開始剤組成物の含有量は、光重
合性画像形成材料(色材料を含まない光重合性画像形成
材料)の全固形分に対し、0.1〜40重量%、好まし
くは0.2〜30重量%、より好ましくは0.2〜20
重量%であり、前記エチレン性化合物の含有量は、光重
合性画像形成材料の全固形分に対し、20〜99重量
%、好ましくは50〜95重量%、より好ましくは60
〜90重量%であり、前記有機高分子物質の含有量は、
光重合性画像形成材料の全固形分に対し、0〜80重量
%、好ましくは10〜70重量%、より好ましくは20
〜60重量%である。
The content of the photopolymerization initiator composition is 0.1 to 40% by weight, preferably 0.1 to 40% by weight based on the total solid content of the photopolymerizable image forming material (photopolymerizable image forming material containing no color material). Is 0.2 to 30% by weight, more preferably 0.2 to 20
The content of the ethylenic compound is 20 to 99% by weight, preferably 50 to 95% by weight, and more preferably 60% by weight based on the total solid content of the photopolymerizable image forming material.
Is about 90% by weight, and the content of the organic polymer is
0 to 80% by weight, preferably 10 to 70% by weight, and more preferably 20% by weight based on the total solid content of the photopolymerizable image forming material.
6060% by weight.

【0037】本発明に使用される色材料としては光重合
性組成物用として公知のものが使用可能だが、ブラック
マトリックス用カラーフィルターレジストには黒色の色
材料であり、赤,緑,青用カラーフィルターレジストに
は、それに対応する色材料を使用する。黒色の色材料と
しては、例えば三菱化学社製のMA−7,MA−10
0,MA−220,#5,#10、或いはデグス社製C
olor Black FW200,Color Bl
ack FW2,Printex V等のカーボンブラ
ック、特開平5−311109号公報,特開平6−11
613号公報等に記載の黒鉛、特開平4−32221
9,大日精化工業社製のダイピロキサイドカラーブラッ
ク#9550、及び特開平3−274503号公報等に
記載の無機黒色顔料、特開平2−216102号公報等
に記載のアゾ系ブラック色素等の有機黒色顔料、その
他、赤,緑,青,黄,シアン,マジェンタ等の有機色材
料を混合した黒色顔料等を挙げることができる。
Known color materials for photopolymerizable compositions can be used as the color material used in the present invention, but black color materials are used for the color filter resist for the black matrix, and color materials for red, green and blue are used. A color material corresponding to the filter resist is used. Examples of black color materials include MA-7 and MA-10 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation.
0, MA-220, # 5, # 10, or C manufactured by Degus Co.
color Black FW200, Color Bl
ack FW2, carbon black such as Printex V, JP-A-5-311109, JP-A-6-11
Graphite described in Japanese Patent No. 613, etc., Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-32221
9. Daiiro Seika Kogyo Co., Ltd.'s Daipyroxide color black # 9550, and inorganic black pigments described in JP-A-3-274503 and the like, and azo black dyes described in JP-A-2-216102 and the like. Examples thereof include organic black pigments, and black pigments in which organic color materials such as red, green, blue, yellow, cyan, and magenta are mixed.

【0038】赤,緑,青に対応する色材料としては、具
体的には、ビクトリアピェアブルー(42595)、オ
ーラミン0(41000)、カチロンブリリアントフラ
ビン(ベーシック13)、ローダミン6GCP(451
60)、ローダミンB(45170)、サフラニンOK
70:100(50240)、エリオグラウシンX(4
2080)、No.120/リオノールイエロー(21
090)、リオノールイエローGRO(21090)、
シムラーファーストイエロー8GF(21105)、ベ
ンジジンイエロー4T−564D(21095)、シム
ラーファーストレッド4015(12355)、リオノ
ールレッド7B4401(15850)、ファーストゲ
ンブルーTGR−L(74160)、リオノールブルー
SM(26150)、リオノールブルーES(ピグメン
トブルー15:6、ピグメントブルー1536)、リオ
ノーゲンレッドGD(ピグメントレッド168、ピグメ
ントレッド108)、リオノールグリーン2YS(ピグ
メントグリーン36)等が挙げられる(上記の( )内
の数字は、カラーインデックス(C.I.)を意味す
る)。
Specific examples of color materials corresponding to red, green and blue include Victoria Pear Blue (42595), Auramine 0 (41000), Catillon brilliant flavin (Basic 13) and Rhodamine 6GCP (451).
60), Rhodamine B (45170), Safranine OK
70: 100 (50240), Erioglaucine X (4
2080), No. 120 / Rionol Yellow (21
090), Lionol Yellow GRO (21090),
Shimla Fast Yellow 8GF (21105), Benzidine Yellow 4T-564D (21095), Shimla Fast Red 4015 (12355), Lionol Red 7B4401 (15850), Fastgen Blue TGR-L (74160), Lionol Blue SM (26150). , Rionol Blue ES (Pigment Blue 15: 6, Pigment Blue 1536), Rionogen Red GD (Pigment Red 168, Pigment Red 108), Rionol Green 2YS (Pigment Green 36) and the like (in the above (). Means the color index (C.I.)).

【0039】また、更に他の顔料について(C.I.)
で示すと、例えば、C.I.黄色顔料20,24,8
6,93,109,110,117,125,137,
138,147,148,153,154,166、
C.I.オレンヂ顔料36,43,51,55,59,
61、C.I.赤色顔料9,97,122,123,1
49,168,177,180,192,215,21
6,217,220,223,224,226,22
7,228,240、C.I.バイオレット顔料19,
23,29,30,37,40,50、C.I.青色顔
料15,15:1,15:4,22,60,64,C.
I.緑色顔料7、C.I.ブラウン顔料23,25,2
6等を挙げることができる。
Regarding other pigments (C.I.)
In the case of, for example, C.I. I. Yellow pigment 20, 24, 8
6, 93, 109, 110, 117, 125, 137,
138, 147, 148, 153, 154, 166,
C. I. Orange pigment 36, 43, 51, 55, 59,
61, C.I. I. Red pigment 9,97,122,123,1
49,168,177,180,192,215,21
6,217,220,223,224,226,22
7,228,240, C.I. I. Violet pigment 19,
23, 29, 30, 37, 40, 50, C.I. I. Blue pigment 15, 15: 1, 15: 4, 22, 60, 64, C.I.
I. Green pigment 7, C.I. I. Brown pigment 23,25,2
6 etc. can be mentioned.

【0040】これらの色材料の本発明組成物中の含有量
は次の通りである。即ち、黒のカラーフィルターレジス
トで形成されるブラックマトリックスは、1.0μm以
下、好ましくは0.3〜0.9μm、より好ましくは
0.5〜0.8μmの膜厚に形成した塗膜の、光透過濃
度が2.5以上、好ましくは3.0以上のブラックマト
リックスを形成させるために、レジスト中に含有される
前記黒色の色材料の含有量としては、全固形分に対し、
50〜90重量%、好ましくは60〜80重量%の範囲
である。
The contents of these color materials in the composition of the present invention are as follows. That is, the black matrix formed of the black color filter resist has a thickness of 1.0 μm or less, preferably 0.3 to 0.9 μm, and more preferably 0.5 to 0.8 μm. In order to form a black matrix having a light transmission density of 2.5 or more, preferably 3.0 or more, the content of the black color material contained in the resist is based on the total solid content.
It is in the range of 50 to 90% by weight, preferably 60 to 80% by weight.

【0041】一方、赤,緑,青のレジストで形成される
色材画素は、1.0μm以下、好ましくは0.3〜0.
9μm、より好ましくは0.5〜0.8μmの膜厚に形
成した塗膜の、光透過濃度が1.1以上、好ましくは
1.3以上の色材画素を形成させるために、該レジスト
中に含有される前記赤,緑,青の色材料の添加量として
は、全固形分に対し、50〜90重量%、好ましくは6
0〜80重量%の範囲である。上記の黒,緑,青,赤色
の透過濃度はマクベス濃度計TR−927を用い、各色
に相当する光学フィルターを用いて測定することにより
得られる。
On the other hand, the color material pixels formed of red, green and blue resists are 1.0 μm or less, preferably 0.3 to 0.
In order to form color material pixels having a light transmission density of 1.1 or more, preferably 1.3 or more, a coating film formed to have a film thickness of 9 μm, more preferably 0.5 to 0.8 μm The amount of the red, green, and blue color materials contained in the composition is 50 to 90% by weight, preferably 6% by weight based on the total solid content.
It is in the range of 0 to 80% by weight. The transmission densities of black, green, blue and red can be obtained by measuring with Macbeth densitometer TR-927 and using optical filters corresponding to the respective colors.

【0042】本発明の現像液の対象となるカラーフィル
ターレジストは、このような高い色材料含有率の状態
で、高画質なブラックマトリックス画像又は色材画素を
形成させると共に、各画素上に塗設して形成される色材
光重合性層、或いは、ポリアミド,ポリイミド等の保護
層等の塗布溶剤に対する耐溶剤性、及び、透明基板に対
する高い接着性を与えるものが特に好ましい。このよう
なカラーフィルターレジストは、適当な溶剤を用いて調
液された塗布液として塗布される。
The color filter resist, which is the target of the developing solution of the present invention, forms a high-quality black matrix image or color material pixel in such a state that the content of the color material is high, and is applied on each pixel. A coloring material photopolymerizable layer or a protective layer made of polyamide, polyimide, or the like that provides solvent resistance to a coating solvent and high adhesion to a transparent substrate is particularly preferable. Such a color filter resist is applied as a coating solution prepared by using an appropriate solvent.

【0043】本発明に係るカラーフィルターレジストの
塗布に用いられる溶剤としては、メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメ
チルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、シクロヘキサノン、トルエン、クロ
ロホルム、ジクロロメチン、酢酸エチル、乳酸メチル、
乳酸エチル、メタノール、エタノール、プロパノール、
ブタノール、テトラハイドロフラン等が挙げられる。塗
布液は、これらの溶剤を用いて、カラーフィルターレジ
スト(色材料と光重合性画像形成材料との合計)濃度が
5〜50重量%、好ましくは10〜30重量%の範囲と
なるように調液される。
Solvents used for coating the color filter resist according to the present invention include methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, diethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, toluene, chloroform, dichloro. Methine, ethyl acetate, methyl lactate,
Ethyl lactate, methanol, ethanol, propanol,
Butanol, tetrahydrofuran, etc. are mentioned. The coating solution is prepared using these solvents so that the concentration of the color filter resist (the total of the color material and the photopolymerizable image forming material) is in the range of 5 to 50% by weight, preferably 10 to 30% by weight. Be liquefied.

【0044】次に、本発明のカラーフィルター用光重合
組成物を用いてカラーフィルターを製造する方法につい
て説明する。カラーフィルターの透明基板としては、ポ
リエチレンテレフタレート等のポリエステルやポリプロ
ピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン等のプラスチ
ックシート、或いは、各種ガラス板等を挙げることがで
きる。このような透明基板には、表面の接着性等の物性
を改良するために、必要に応じて、コロナ放電処理、オ
ゾン処理、シランカップリング剤やウレタンポリマー等
の各種ポリマーの薄膜形成処理等を行うことができる。
Next, a method for producing a color filter using the photopolymerizable composition for a color filter of the present invention will be described. Examples of the transparent substrate for the color filter include polyester sheets such as polyethylene terephthalate, plastic sheets such as polypropylene and polyolefin such as polyethylene, and various glass plates. Such a transparent substrate may be subjected to corona discharge treatment, ozone treatment, thin film formation treatment of various polymers such as silane coupling agent and urethane polymer, etc., as necessary to improve physical properties such as surface adhesiveness. It can be carried out.

【0045】なお、透明基板の板厚は、0.05〜10
mm、特に0.1〜7mmの範囲であることが好まし
い。また、各種ポリマーの薄膜形成処理を行う場合に
は、その膜厚は0.01〜10μm、特に0.05〜5
μmの範囲であることが好ましい。この透明基板は、通
常、赤,緑,青の画素画像を形成する前に、予め金属薄
膜、又は前述のブラックマトリックス用光重合性組成物
を利用したブラックマトリックスが設けられる。前者の
例としては、クロム単層又はクロムと酸化クロムの2層
のものが挙げられ、これらを蒸着又はスパッタリング法
等により薄膜を形成した後、その上に、感光性被膜を形
成し、ストライプ、モザイク、トライアングル等の繰り
返しパターンを有するフォトマスクを用いて露光・現像
し、レジスト画像を形成させ、続いて、該薄膜をエッチ
ング処理により、透明基板上にブラックマトリックスを
形成させたものが挙げられる。
The plate thickness of the transparent substrate is 0.05 to 10
mm, particularly preferably in the range of 0.1 to 7 mm. When a thin film forming treatment of various polymers is performed, the film thickness is 0.01 to 10 μm, particularly 0.05 to 5 μm.
It is preferably in the range of μm. This transparent substrate is usually provided with a metal thin film or a black matrix using the above-mentioned photopolymerizable composition for the black matrix before forming the red, green and blue pixel images. Examples of the former include a single layer of chromium or a double layer of chromium and chromium oxide. After forming a thin film of these by vapor deposition or sputtering, a photosensitive film is formed thereon to form stripes, One in which a black matrix is formed on a transparent substrate by exposing and developing using a photomask having a repeating pattern such as mosaic or triangle to form a resist image, and then etching the thin film is mentioned.

【0046】このようにしてブラックマトリックスを設
けた透明基板上に、赤,緑,青のうちの1つの色の色材
料を含有するカラーフィルターレジストを、スピナー,
ワイヤーバー,フローコーター,ダイコーター,ロール
コーター,スプレー等の塗布装置により塗布した後、5
0〜200℃、好ましくは80〜180℃の温度で15
秒〜10分間、好ましくは30秒〜5分間、さらに好ま
しくは120〜160℃の温度で、15秒〜10分間、
好ましくは30秒〜5分間乾燥して当該色材光重合性層
を形成させる。なお、ここで、カラーフィルターレジス
トの塗布液を塗布、乾燥して得られる光重合性層の膜厚
は、好ましくは0.2〜2μm、より好ましくは0.5
〜1μmである。
On the transparent substrate thus provided with the black matrix, a color filter resist containing a color material of one color of red, green and blue is spinner-coated.
After coating with a coating device such as a wire bar, flow coater, die coater, roll coater, or spray, 5
15 at a temperature of 0 to 200 ° C., preferably 80 to 180 ° C.
Seconds to 10 minutes, preferably 30 seconds to 5 minutes, more preferably at a temperature of 120 to 160 ° C. for 15 seconds to 10 minutes,
Preferably, the coloring material photopolymerizable layer is formed by drying for 30 seconds to 5 minutes. Here, the film thickness of the photopolymerizable layer obtained by applying and drying the coating solution of the color filter resist is preferably 0.2 to 2 μm, more preferably 0.5.
11 μm.

【0047】ここで、乾燥温度は、高温なほど透明基板
に対する接着性が向上し、レジスト感度が高くなるが、
一方、高過ぎると光重合開始剤組成物が分解し、熱重合
を誘発して現像不良を起こし易い。反対に、著しく乾燥
温度が低い場合は、感度が低下し、画像形成が困難にな
る。次に、この色材光重合性層上に色材画素用のネガフ
ォトマスクを置き、該フォトマスクを介して、紫外又は
可視等の光源を用いて画像露光する。この際、必要に応
じて酸素による光重合性層の感度の低下を防ぐため、光
重合性層上にポリビニルアルコール層等の酸素遮断層を
塗設した後、露光を行っても良い。
Here, the higher the drying temperature, the higher the adhesion to the transparent substrate and the higher the resist sensitivity.
On the other hand, if it is too high, the photopolymerization initiator composition is decomposed, and thermal polymerization is induced to easily cause development failure. On the other hand, when the drying temperature is extremely low, the sensitivity is lowered and the image formation becomes difficult. Next, a negative photomask for colorant pixels is placed on this colorant photopolymerizable layer, and image exposure is performed through the photomask using a light source such as ultraviolet or visible light. At this time, if necessary, in order to prevent the sensitivity of the photopolymerizable layer from being lowered by oxygen, exposure may be performed after coating an oxygen blocking layer such as a polyvinyl alcohol layer on the photopolymerizable layer.

【0048】続いて、現像液により現像処理を行い透明
基板上に第1の色材画素画像を形成させる。なお、必要
に応じてこの現像処理の前に、光重合層の感度或いはγ
値(階調)を高くする目的で露光試料を70〜200℃
で15秒〜20分間、好ましくは80〜150℃で30
秒〜10分間の熱処理を施すことができる。該現像処理
で用いられる現像液は、アルカリ現像液または、界面活
性剤を含有した中性の現像液が好ましい。アルカリ現像
液は、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、珪酸ナ
トリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム等の無機のアルカリ剤、或いはジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、水酸化テトラアルキルアン
モニウム塩等の有機のアルカリ剤を含有し、必要に応
じ、画質向上、現像時間の短縮等の目的で界面活性剤、
水溶性の有機溶剤、水酸基又はカルボン酸基を有する低
分子化合物等を含有させた水溶液である。
Subsequently, development processing is performed with a developing solution to form a first color material pixel image on the transparent substrate. If necessary, the sensitivity of the photopolymerizable layer or the γ
The exposed sample is 70 to 200 ° C for the purpose of increasing the value (gradation).
15 seconds to 20 minutes, preferably 30 at 80 to 150 ° C
Heat treatment for 10 seconds to 10 minutes can be performed. The developing solution used in the developing treatment is preferably an alkaline developing solution or a neutral developing solution containing a surfactant. The alkaline developer is, for example, an inorganic alkaline agent such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium silicate, potassium silicate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, or an organic alkali agent such as diethanolamine, triethanolamine, or a tetraalkylammonium hydroxide salt. Contains an alkaline agent and, if necessary, a surfactant for the purpose of improving image quality and shortening development time,
It is an aqueous solution containing a water-soluble organic solvent, a low molecular weight compound having a hydroxyl group or a carboxylic acid group, and the like.

【0049】現像液の界面活性剤としては、ナフタレン
スルホン酸ナトリウム基、ベンゼンスルホン酸ナトリウ
ム基を有するアニオン性界面活性剤、ポリアルキレンオ
キシ基を有するノニオン性界面活性剤、テトラアルキル
アンモニウム基を有するカチオン性界面活性剤等を挙げ
ることができ、また、水溶性の有機溶剤としては、エタ
ノール、プロピオンアルコール、ブタノール、メチルセ
ロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレン
グリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレン
グリコール、テトラプロピレングリコール、プロピレン
グリコールモノメチルエーテル等を挙げることができ
る。
As the surfactant of the developing solution, an anionic surfactant having a sodium naphthalenesulfonate group, a sodium benzenesulfonate group, a nonionic surfactant having a polyalkyleneoxy group, a cation having a tetraalkylammonium group. Examples of the water-soluble organic solvent include ethanol, propion alcohol, butanol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, phenyl cellosolve, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, propylene. Examples thereof include glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, tetrapropylene glycol and propylene glycol monomethyl ether.

【0050】また水酸基又はカルボキシ基を有する低分
子化合物としては、1−ナフトール、2−ナフトール、
ピロガロール、安息香酸、コハク酸、グルタル酸等を挙
げることができる。また、中性の現像液は、前記のアニ
オン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤等の界面活性
剤を含有し、さらに必要に応じて、前記と同様の目的
で、前記と同様の水溶性の有機溶剤、水酸基又はカルボ
ン酸基を有する低分子化合物等を含有させた水溶液であ
る。
As the low molecular weight compound having a hydroxyl group or a carboxy group, 1-naphthol, 2-naphthol,
Examples include pyrogallol, benzoic acid, succinic acid, and glutaric acid. Further, the neutral developer contains a surfactant such as the anionic surfactant and the nonionic surfactant described above, and, if necessary, the same water solubility as the above for the same purpose as described above. Is an aqueous solution containing the organic solvent, the low molecular weight compound having a hydroxyl group or a carboxylic acid group, and the like.

【0051】現像処理は、通常、20〜40℃、好まし
くは25〜35℃の現像温度で、浸漬現像、スプレー現
像、ブラシ現像、超音波現像等の方法により行われる。
現像後の試料は、必要に応じて、該試料の上に塗布され
る色材光重合性層、或いは、ポリアミド、ポリイミド等
の保護層の塗布溶剤に対する耐久性、又は、ガラス基板
等の透明基板との接着性を高める目的で、該試料を10
0〜250℃,5〜60分間の熱硬化処理を行うか、或
いは、適正露光量以上の露光量、好ましくは、適正露光
量の1〜10倍の露光量による光硬化処理を施すことが
できる。
The development treatment is usually carried out at a development temperature of 20 to 40 ° C., preferably 25 to 35 ° C. by a method such as immersion development, spray development, brush development and ultrasonic development.
The sample after development is, if necessary, a coloring material photopolymerizable layer applied on the sample, or durability of a protective layer such as polyamide or polyimide against a coating solvent, or a transparent substrate such as a glass substrate. For the purpose of enhancing the adhesiveness with
The heat curing treatment may be performed at 0 to 250 ° C. for 5 to 60 minutes, or the light curing treatment may be performed at an exposure amount equal to or higher than the appropriate exposure amount, preferably 1 to 10 times the appropriate exposure amount. .

【0052】続いて、該試料の上に赤,緑,青のうち他
の2色のカラーフィルターレジストについても前記と同
様にしてそれぞれ塗布・乾燥した後、該試料を、色材画
素用のネガフォトマスクを用いて前記と同様に露光、現
像、必要に応じて熱又は光硬化処理を繰り返し行い、ブ
ラックマトリックス間に3色の画素を形成してカラーフ
ィルターを作製する。このようにして作製されたカラー
フィルターは、このままの状態で、上にITO(透明電
極)が形成され、カラーディスプレーの部品の一部とし
て使用されるが、更にカラーフィルターの表面平滑性、
或いは耐久性を高める目的でポリアミド,ポリイミド等
のトップコート層を設けることもできる。
Subsequently, the other two color filter resists of red, green and blue are coated and dried on the sample in the same manner as described above, and then the sample is applied to a negative for a color material pixel. Using a photomask, exposure, development, and optionally heat or photo-curing treatment are repeated in the same manner as described above to form pixels of three colors between black matrices to produce a color filter. The color filter produced in this way has ITO (transparent electrode) formed on it in this state and is used as a part of a component of a color display.
Alternatively, a top coat layer of polyamide, polyimide or the like may be provided for the purpose of enhancing durability.

【0053】画像露光に使用される光源としては、キセ
ノンランプ,ハロゲンランプ,タングステンランプ,高
圧水銀灯,メタルハライドランプ,中圧水銀灯,低圧水
銀灯等のランプ光源、及びアルゴンイオンレーザー,Y
AGレーザー,エキシマーレーザー,窒素レーザー等の
レーザー光源が挙げられる。これらの光源には、必要と
される照射光の波長領域に応じて、適宜光学フィルター
を使用することもできる。ブラックマトリックスを、黒
の色材料を含有する本発明に係るカラーフィルターレジ
ストを利用して形成する場合には、透明基板上に赤,
緑,青の画素画像を形成する方法と同様の方法を採用す
ることでブラックマトリックスを形成する。この際、ブ
ラックマトリックスを形成する操作を2回以上繰り返す
ことで、ブラックマトリックス画像を積層して、目的の
透過濃度のブラックマトリックス画像を完成させること
も可能である。
As a light source used for image exposure, a lamp light source such as a xenon lamp, a halogen lamp, a tungsten lamp, a high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a medium pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, and an argon ion laser, Y
Laser light sources such as an AG laser, an excimer laser, and a nitrogen laser can be used. An optical filter may be appropriately used for these light sources depending on the required wavelength range of irradiation light. When the black matrix is formed by using the color filter resist of the present invention containing a black color material, red on the transparent substrate,
The black matrix is formed by adopting the same method as the method of forming the green and blue pixel images. At this time, by repeating the operation of forming the black matrix two or more times, it is possible to stack the black matrix images and complete the black matrix image of the desired transmission density.

【0054】以上、ブラックマトリックスが形成された
透明基板上に赤,緑,青の画素画像を形成する方法を説
明したが、赤,緑,青の画素画像形成後にブラックマト
リックスを形成する方法も採用可能である。また、本発
明に係るカラーフィルターレジストを用いて、透明基板
上に、ブラックストライプ、又は、赤,緑,青の色材画
素画像を形成させる際に、該カラーフィルターレジスト
と透明基板との現像画像接着性及び/又は熱硬化画像の
接着性を高める目的で、該透明基板上に色材料を含有し
ない光重合性組成物を光硬化させた光硬化接着層を設け
ることができる。
The method of forming the red, green, and blue pixel images on the transparent substrate on which the black matrix is formed has been described above, but the method of forming the black matrix after forming the red, green, and blue pixel images is also adopted. It is possible. Further, when a black stripe or red, green, and blue color material pixel images are formed on a transparent substrate using the color filter resist according to the present invention, a developed image of the color filter resist and the transparent substrate is formed. For the purpose of enhancing the adhesiveness and / or the adhesiveness of the thermosetting image, a photocurable adhesive layer obtained by photocuring a photopolymerizable composition containing no color material can be provided on the transparent substrate.

【0055】該光硬化接着層に使用される光重合性組成
物に含有している光重合開始剤組成物、エチレン性化合
物、及び必要に応じて用いられる有機高分子物質は、前
記本発明に係るカラーフィルターレジストの構成成分の
中から適宜選択して用いることができ、このような光硬
化接着層は、この光重合性組成物を、通常、上記と同様
の方法により、乾燥膜厚が0.01〜2μm、好ましく
は0.02〜1μmの範囲となるように透明基板上に塗
設した後、該塗布された光重合性組成物層の適正露光量
の1〜10倍の露光量で露光して光硬化させることによ
り、形成することができる。
The photopolymerization initiator composition contained in the photopolymerizable composition used in the photocurable adhesive layer, the ethylenic compound, and the organic polymer substance optionally used are the same as those in the present invention. It can be appropriately selected and used from the constituent components of such a color filter resist, and such a photocurable adhesive layer is obtained by using the photopolymerizable composition in a dry film thickness of 0 by the same method as described above. After being coated on a transparent substrate so as to be in the range of 0.01 to 2 μm, preferably 0.02 to 1 μm, the exposure amount is 1 to 10 times the appropriate exposure amount of the coated photopolymerizable composition layer. It can be formed by exposing and photo-curing.

【0056】更に、また、本発明に係るカラーフィルタ
ーレジストを用いて透明基板上に形成されたブラックス
トライプ、又は、赤,緑,青の色材画素等のレジスト画
像の、経時による透明基板からの剥離、傷などの欠陥の
発生を防ぐ目的で、該レジスト画像を形成させた透明基
板の上に、上記の光硬化接着層の場合と同様の方法によ
り、光硬化層を設けることもできる。
Furthermore, a black stripe formed on a transparent substrate by using the color filter resist according to the present invention, or a resist image such as red, green, and blue color material pixels from the transparent substrate over time. For the purpose of preventing the occurrence of defects such as peeling and scratches, a photocurable layer can be provided on the transparent substrate on which the resist image is formed by the same method as in the case of the photocurable adhesive layer.

【0057】[0057]

【発明の実施の形態】以下に実施例及び比較例を挙げて
本発明を更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を超
えない限り以下の実施例に限定されるものではない。 合成例1(E−1の合成) ビスフェノールA11.4gと1,2−エポキシシクロ
ヘキサン9.8gを冷却環留装置を装着した500ml
の3つ口フラスコに入れ、100℃で攪拌しながら15
時間反応させ、下記のジアルコール化合物(D−1)
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in more detail below with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples unless it exceeds the gist. Synthesis Example 1 (Synthesis of E-1) Bisphenol A (11.4 g) and 1,2-epoxycyclohexane (9.8 g) were installed in a cooling / condensing device (500 ml).
In a 3-necked flask, and stir at 100 ° C for 15
After reacting for a time, the following dialcohol compound (D-1)

【0058】[0058]

【化12】 Embedded image

【0059】を合成した。次に該ジアルコール化合物
(D−1)10gとエピクロロヒドリン177gを混合
した溶液を、テトラメチルアンモニウムハイドロジャン
サルフェイト3.7g、水酸化カリウム168gと水1
20gの混合溶液に20℃以下の反応条件で、攪拌しな
がら1時間かけて滴下した後、さらに20℃以下で5時
間攪拌、室温で5時間攪拌し下記のジグリシジルエーテ
ル化合物(D−2)
Was synthesized. Next, a solution prepared by mixing 10 g of the dialcohol compound (D-1) and 177 g of epichlorohydrin was added to 3.7 g of tetramethylammonium hydrojansulfate, 168 g of potassium hydroxide and 1 part of water.
The mixture was added dropwise to 20 g of a mixed solution under reaction conditions of 20 ° C. or lower over 1 hour with stirring, further stirred at 20 ° C. or lower for 5 hours, and stirred at room temperature for 5 hours, and then the following diglycidyl ether compound (D-2).

【0060】[0060]

【化13】 Embedded image

【0061】を合成した。続いて、該ジグリシジルエー
テル化合物(D−2)25gにアクリル酸7.2g、テ
トラメチルアンモニウムクロライド0.2gとパラメト
キシフェノール0.02gを加え、80℃で攪拌しなが
ら10時間反応させ目的のエチレン性化合物E−1を合
成した。
Was synthesized. Then, to 25 g of the diglycidyl ether compound (D-2), 7.2 g of acrylic acid, 0.2 g of tetramethylammonium chloride and 0.02 g of paramethoxyphenol were added, and the mixture was reacted at 80 ° C. for 10 hours with stirring to obtain the objective. The ethylenic compound E-1 was synthesized.

【0062】合成例2(E−2の合成) ジグリシジルエーテル化合物(D−2)25gにアクリ
ル酸クロライド8.1g、トルエン20g、テトラメチ
ルアンモニウムクロライド0.2gとパラメトキシフェ
ノール0.04gを加え、80℃で攪拌しながら15時
間反応させた後、室温にもどした反応物を炭酸ナトリウ
ム水溶液で中和した後、トルエン層を硫酸ナトリウムで
乾燥、続いてエバポレートすることにより目的の化合物
(E−2)を合成した。
Synthesis Example 2 (Synthesis of E-2) To 25 g of the diglycidyl ether compound (D-2), 8.1 g of acrylic acid chloride, 20 g of toluene, 0.2 g of tetramethylammonium chloride and 0.04 g of paramethoxyphenol were added. After reacting at 80 ° C. for 15 hours while stirring, the reaction product returned to room temperature is neutralized with an aqueous sodium carbonate solution, the toluene layer is dried over sodium sulfate, and then evaporated to evaporate the target compound (E- 2) was synthesized.

【0063】実施例1〜10,比較例1〜4 光重合開始系組成物として下記(i),(ii)の種類及
び配合を採用し、有機高分子物質としては下記αを用
い、エチレン性化合物としては表1に記載のものを用
い、下記配合で黒の色材を含有するブラックマトリック
ス形成用光重合性組成物を調製し、更に、該光重合性組
成物に対して、重量で3.6倍量の0.5mm径ジルコ
ニアビーズを入れたペイントシューカーを用いて17時
間分散を行って、塗布液を調製した。
Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 4 The following types and blends of (i) and (ii) were adopted as the photopolymerization initiation system composition, and the following α was used as the organic polymer substance. The compounds shown in Table 1 were used, and a photopolymerizable composition for forming a black matrix containing a black coloring material was prepared with the following composition, and further 3 parts by weight based on the photopolymerizable composition. A coating solution was prepared by dispersing for 17 hours using a paint shoeker containing zirconia beads having a diameter of 0.5 mm.

【0064】[黒の色材光重合性塗布液組成] 光重合開始剤組成物:表1に記載 有機高分子物質 :表1に記載 エチレン性化合物 :表1に記載 塗布溶剤(シクロヘキサノン):500重量部 黒色顔料(カーボンブラック(三菱化学社製「MA−2
20」)):添加率(顔料濃度)は表1に記載
[Black Coloring Material Photopolymerizable Coating Solution Composition] Photopolymerization initiator composition: described in Table 1 Organic polymer substance: described in Table 1 ethylenic compound: described in Table 1 coating solvent (cyclohexanone): 500 Parts by Weight Black Pigment (Carbon Black (“MA-2 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation”
20 ")): Addition rate (pigment concentration) is shown in Table 1.

【0065】[光重合開始系組成物][Photopolymerization Initiating System Composition]

【0066】[0066]

【化14】 Embedded image

【0067】[0067]

【化15】 Embedded image

【0068】[有機高分子物質][Organic polymer substance]

【0069】[0069]

【化16】 Embedded image

【0070】調製された黒の色材含有光重合性塗布液
を、ガラス基板(コーニング社製No.7059)に表
1に記載の乾燥膜厚になるようにワイヤーバーコーター
により塗布し、乾燥温度150℃で1分間乾燥した。次
に幅30μmで縦330μm、横110μmのピッチで
繰り返すブラックマトリックス用ネガフォトマスクを用
いて、2kW高圧水銀灯により表1に示す適正露光量で
露光した後、0.15重量%の炭酸カリウムと0.5重
量%のノニオン性界面活性剤(日本乳化剤社製:New
col B−15)を含有する水溶液よりなる現像液を
用い、25℃で60秒間浸漬し、続いて、4kg/cm
2 の水洗スプレーによりスプレー水洗を施し、現像処理
を行い、ブラックマトリックスを形成させた後、該試料
を200℃,7分間の熱処理により熱硬化させた。ま
た、同様の方法により、表1に示す評価を行った。
The prepared black colorant-containing photopolymerizable coating solution was applied to a glass substrate (Corning No. 7059) by a wire bar coater so that the dry film thickness shown in Table 1 was obtained, and the drying temperature was adjusted. It was dried at 150 ° C. for 1 minute. Then, using a negative photomask for a black matrix, which is repeated at a pitch of 30 μm in width and 330 μm in length and 110 μm in width, it was exposed by a 2 kW high-pressure mercury lamp at an appropriate exposure amount shown in Table 1, and then 0.15 wt% potassium carbonate and 0 0.5% by weight of nonionic surfactant (Nippon Emulsifier: New
col B-15) is used for the developing solution consisting of an aqueous solution, and it is immersed for 60 seconds at 25 ° C., followed by 4 kg / cm 2.
After spray-washing with the water-washing spray of No. 2 and developing treatment to form a black matrix, the sample was heat-cured by heat treatment at 200 ° C. for 7 minutes. Moreover, the evaluation shown in Table 1 was performed by the same method.

【0071】[0071]

【表1】 [Table 1]

【0072】尚、表1中の各項目の説明は以下の通り。 [エチレン性化合物]The description of each item in Table 1 is as follows. [Ethylene compound]

【0073】[0073]

【化17】 Embedded image

【0074】[0074]

【化18】 Embedded image

【0075】[0075]

【化19】 Embedded image

【0076】[顔料濃度]黒の色材光重合性塗布液の固
形分中に含有されている顔料の割合。 顔料濃度=顔料の重量/全固形分重量
[Pigment Concentration] Ratio of pigment contained in the solid content of the black colorant photopolymerizable coating liquid. Pigment concentration = pigment weight / total solids weight

【0077】[適正露光量]ウグラテストチャートを試
料上に置き、該チャートの上より各種露光量を変化させ
ながら2Kw高圧水銀灯により露光した後、現像処理を
施し、得られたウグラテストチャート画像中の細線画像
の最も細いポジとネガの細線の線幅が同じになる時の露
光量。なお、Fは、感光層が現像処理において全部溶解
するか、或いは、全く溶解しないため、画像が形成され
なかったことを示す。
[Appropriate Exposure Amount] The Ugra test chart was placed on a sample, exposed with a 2 Kw high-pressure mercury lamp while changing various exposure amounts on the chart, and then developed to obtain the Ugla test chart. The amount of exposure when the thinnest positive line of the image and the thin line of the negative have the same line width. In addition, F indicates that an image was not formed because the photosensitive layer was completely dissolved in the developing process or was not dissolved at all.

【0078】[画質]前記と同様の方法により、ガラス
基板上に色材光重合性層塗布液を塗布、乾燥させた後、
ウグラテストチャートを用いて適正露光量で露光し、標
準現像液を用いて現像処理を行い色材画像を形成させ
た。該色材画像の中の細線画像を400倍の顕微鏡で観
察し、再現されている最も細い細線の線幅より、画質を
下記基準で評価した。細い細線が再現するほど良好な画
質を示している。 A:10μm以下の線幅の細線が再現されている。 B:10〜15μmの線幅の細線が再現されている。 C:15〜25μmの線幅の細線が再現されている。 D:25μm以上の線幅の細線が再現されている。
[Image Quality] After applying the coloring material photopolymerizable layer coating liquid on the glass substrate and drying by the same method as described above,
Exposure was performed with an appropriate exposure amount using a Ugura test chart, and development processing was performed using a standard developing solution to form a color material image. The fine line image in the color material image was observed with a microscope of 400 times, and the image quality was evaluated based on the line width of the finest fine line reproduced, according to the following criteria. The finer the fine line, the better the image quality. A: A fine line having a line width of 10 μm or less is reproduced. B: A fine line having a line width of 10 to 15 μm is reproduced. C: A fine line having a line width of 15 to 25 μm is reproduced. D: A fine line having a line width of 25 μm or more is reproduced.

【0079】[透過濃度]マクベス濃度計を用いて、試
料の透過濃度(ABS)を測定した。また、試料の感光
層の膜厚をテンコール・インスツルメンツ社製α−ステ
ップにより測定し、[ ]内に記載した。
[Transmission Density] The transmission density (ABS) of the sample was measured using a Macbeth densitometer. Further, the film thickness of the photosensitive layer of the sample was measured by α-step manufactured by Tencor Instruments Inc. and described in [].

【0080】[0080]

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の光重合性組
成物は、特定の構造を有するエチレン性化合物を含有す
ることにより、画像現像性に優れ、特に、カラーフィル
ターを安定かつ効率効に製造することを可能にする。
As described in detail above, the photopolymerizable composition of the present invention contains an ethylenic compound having a specific structure and thus has excellent image developability. To be able to manufacture.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 3/10 G03F 3/10 B 7/00 503 7/00 503 7/004 505 7/004 505 7/028 7/028 // C08L 33/14 LHT C08L 33/14 LHT ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location G03F 3/10 G03F 3/10 B 7/00 503 7/00 503 7/004 505 7/004 505 7/028 7/028 // C08L 33/14 LHT C08L 33/14 LHT

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 エチレン性不飽和二重結合を少なくとも
1個有する化合物、光重合開始剤及び色材料を含有する
光重合性組成物において、 該エチレン性不飽和二重結合を少なくとも1個有する化
合物がオキシシクロヘキシルオキシフェニルまたはオキ
シシクロヘキシルオキシシクロヘキシル骨格を有する化
合物であることを特徴とする光重合性組成物。
1. A photopolymerizable composition containing a compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, a photopolymerization initiator and a color material, wherein the compound has at least one ethylenically unsaturated double bond. Is a compound having an oxycyclohexyloxyphenyl or oxycyclohexyloxycyclohexyl skeleton, and a photopolymerizable composition.
【請求項2】 エチレン性不飽和二重結合を少なくとも
1個有する化合物が、下記一般式(1)から(4)で示
される部分構造を少なくとも1種有する化合物であるこ
とを特徴とする請求項1記載の光重合性組成物。 【化1】 Yは水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜2
0のアルキル基(置換基としては水酸基、炭素数1〜1
0のアルキルオキシ基、炭素数2〜10のアルキルオキ
シカルボニル基、炭素数2〜15のアシル基、(メタ)
アクロイルオキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン原子を
示す。)、炭素数6〜15のアリール基、炭素数3〜1
0のアリル基、水酸基、炭素数1〜10アルキルオキシ
基を示し、R4 は水素原子、炭素数1〜10のアルキル
基を示し、Xはハロゲン原子を示す。)
2. The compound having at least one ethylenically unsaturated double bond is a compound having at least one partial structure represented by the following general formulas (1) to (4). The photopolymerizable composition according to 1. Embedded image Y is a hydrogen atom or C1 to C2 which may have a substituent.
An alkyl group of 0 (a hydroxyl group as a substituent, a carbon number of 1 to 1)
0 alkyloxy group, C2-10 alkyloxycarbonyl group, C2-15 acyl group, (meth)
An acroyloxy group, an acyloxy group and a halogen atom are shown. ), An aryl group having 6 to 15 carbon atoms, and 3 to 1 carbon atoms
0 represents an allyl group, a hydroxyl group, and an alkyloxy group having 1 to 10 carbon atoms, R 4 represents a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and X represents a halogen atom. )
【請求項3】 色材料として、赤、緑または青色材料を
含有し、乾燥膜厚で1μm以下に塗膜を形成した場合に
光透過濃度が1.1以上であることを特徴とする請求項
1または2記載の光重合性組成物。
3. A light transmission density of 1.1 or more when a coating film is formed to have a dry film thickness of 1 μm or less, which contains a red, green or blue material as a color material. The photopolymerizable composition according to 1 or 2.
【請求項4】 色材料として、黒色材料を含有し、乾燥
膜厚で1μm以下に塗膜を形成した場合に光透過濃度が
2.5以上であることを特徴とする請求項1または2記
載の光重合性組成物。
4. A color material containing a black material and having a light transmission density of 2.5 or more when a coating film having a dry film thickness of 1 μm or less is formed. A photopolymerizable composition.
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