WO2020262695A1 - On-machine development lithographic printing plate original, lithographic printing plate manufacturing method, and lithographic printing method - Google Patents

On-machine development lithographic printing plate original, lithographic printing plate manufacturing method, and lithographic printing method Download PDF

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Abstract

Provided is an on-machine development lithographic printing plate original that has an aluminum support and an image recording layer on the aluminum support. The image recording layer contains: an infrared absorber; a polymerization initiator; a polymerizable compound the molecular weight of which is less than 2500; and a polymer the molecular weight of which is equal to or greater than 2500 and that has a polymerizable group. The polymerizable compound includes a polymerizable compound having seven or more functionalities. Also provided is a lithographic printing plate manufacturing method or a lithographic printing method employing the on-machine development lithographic printing plate original.

Description

機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法On-machine development type lithographic printing plate Original plate, lithographic printing plate manufacturing method, and lithographic printing method
 本開示は、機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法に関する。 This disclosure relates to an on-machine development type lithographic printing plate original plate, a method for producing a lithographic printing plate, and a lithographic printing method.
 一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部(インキ非受容部)として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
 この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層(画像記録層)を設けてなる平版印刷版原版(PS版)が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルムなどの原画を通した露光を行った後、画像記録層の画像部となる部分を残存させ、それ以外の不要な画像記録層をアルカリ性現像液又は有機溶剤によって溶解除去し、親水性の支持体表面を露出させて非画像部を形成する方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。
In general, a lithographic printing plate comprises a lipophilic image portion that receives ink in the printing process and a hydrophilic non-image portion that receives dampening water. In flat plate printing, utilizing the property that water and oil-based ink repel each other, the oil-based image part of the flat plate printing plate is the ink receiving part, and the hydrophilic non-image part is the dampening water receiving part (ink non-receptive part). This is a method in which a difference in the adhesiveness of ink is generated on the surface of a flat plate printing plate, the ink is inlaid only on the image portion, and then the ink is transferred to an object to be printed such as paper for printing.
In order to produce this lithographic printing plate, a lithographic printing plate original plate (PS plate) in which a lipophilic photosensitive resin layer (image recording layer) is provided on a hydrophilic support has been widely used. Normally, after exposing the original plate of a flat plate printing plate through an original image such as a squirrel film, the part that becomes the image part of the image recording layer remains, and the other unnecessary image recording layer is an alkaline developer or organic. A flat plate printing plate is obtained by performing plate making by a method of dissolving and removing with a solvent to expose the surface of a hydrophilic support to form a non-image portion.
 また、地球環境への関心の高まりから、現像処理などの湿式処理に伴う廃液に関する環境課題がクローズアップされている。
 上記の環境課題に対して、現像あるいは製版の簡易化や無処理化が指向されている。簡易な作製方法の一つとしては、「機上現像」と呼ばれる方法が行われている。すなわち、平版印刷版原版を露光後、従来の現像は行わず、そのまま印刷機に装着して、画像記録層の不要部分の除去を通常の印刷工程の初期段階で行う方法である。
In addition, due to growing interest in the global environment, environmental issues related to waste liquids associated with wet treatments such as development treatments have been highlighted.
In response to the above environmental issues, simplification and non-processing of development or plate making are aimed at. As one of the simple manufacturing methods, a method called "machine development" is performed. That is, after the lithographic printing plate original plate is exposed, the conventional development is not performed, and the printing machine is mounted as it is, and unnecessary portions of the image recording layer are removed at the initial stage of the normal printing process.
 従来の平版印刷版原版を使用した印刷方法としては、例えば、特許文献1に記載されたものが挙げられる。
 特許文献1には、アルミニウム支持体上に、印刷インキ及び湿し水の少なくともいずれかを供給することにより現像される画像記録層を有する平版印刷版原版の印刷方法であって、印刷開始時に下記(i)~(v)の工程を、(i)(ii)(iii)(iv)(v)の順又は(i)(iii)(ii)(iv)(v)の順で行うことを特徴とする印刷方法が記載されている。
 (i)平版印刷版原版を画像様に露光した後、印刷機の版胴に装着する。
 (ii)印刷機の湿し水供給手段である水着けローラー、水着けローラーに水を給水するローラー、水量を安定化させるためのローラー、及びメータリングローラーの少なくとものいずれかに、湿し水及び有機溶剤を含む水溶液の少なくともいずれかをスプレー供給する。
 (iii)給水ローラーを回転させる。
 (iv)水着けローラーを平版印刷版原版に接触させ、平版印刷版原版に水着けローラーから湿し水を供給する。
 (v)インキ着けローラーを平版印刷版原版に接触させ、平版印刷版原版にインキ着けローラーから印刷インキを供給し、インキ着けローラーを平版印刷版原版に接触させるのと同時に又は接触させた後に、印刷用紙を供給する。
Examples of the printing method using the conventional planographic printing plate original plate include those described in Patent Document 1.
Patent Document 1 is a printing method of a lithographic printing plate original plate having an image recording layer developed by supplying at least one of printing ink and dampening water on an aluminum support, and is described below at the start of printing. Performing the steps (i) to (v) in the order of (i) (ii) (iii) (iv) (v) or (i) (iii) (ii) (iv) (v). The characteristic printing method is described.
(I) After exposing the planographic printing plate original plate as an image, it is attached to the plate cylinder of the printing machine.
(Ii) Damping water to at least one of a watering roller which is a dampening water supply means of a printing machine, a roller for supplying water to the watering roller, a roller for stabilizing the amount of water, and a metering roller. And at least one of the aqueous solutions containing the organic solvent is spray-supplied.
(Iii) Rotate the water supply roller.
(Iv) The watering roller is brought into contact with the lithographic printing plate original plate, and dampening water is supplied from the watering roller to the lithographic printing plate original plate.
(V) The inking roller is brought into contact with the stencil printing plate original plate, the printing ink is supplied from the inking roller to the stencil printing plate original plate, and the inking roller is brought into contact with the slab printing plate original plate at the same time or after being brought into contact with the original plate. Supply printing paper.
 また、従来の平版印刷版原版としては、例えば、特許文献2に記載されたものが挙げられる。
特許文献2には、親水性表面を有する基板、並びに、上記基板の上記親水性表面に配置されており、1つ又は複数のフリーラジカル重合性化合物と、1つ又は複数の赤外線吸収剤と、以下の構造(I)により表される化合物Aと、以下の構造(II)又は構造(III)により表される1つ又は複数の化合物を化合物Bとしてまとめて含む、赤外線感受性画像形成性層の赤外線への露光によってフリーラジカルを与える開始剤組成物、及び、主ポリマーバインダー含む赤外線感受性画像形成性層を含むネガ型赤外線感受性平版印刷版原版が記載されている。
Further, as a conventional planographic printing plate original plate, for example, those described in Patent Document 2 can be mentioned.
Patent Document 2 describes a substrate having a hydrophilic surface, and one or more free radical polymerizable compounds, one or more infrared absorbers, which are arranged on the hydrophilic surface of the substrate. An infrared-sensitive image-forming layer comprising compound A represented by the following structure (I) and one or more compounds represented by the following structure (II) or structure (III) collectively as compound B. Described are initiator compositions that impart free radicals upon exposure to infrared light, and negative infrared sensitive slab printing plates originals that include an infrared sensitive image-forming layer containing a main polymer binder.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007

(式中、R、R、R、R、R及びRは独立して、2個~9個の炭素原子をそれぞれ有する置換又は非置換のアルキル基あるいは置換又は非置換のアルコキシ基であり、R及びRのうちの少なくとも1つは、R又はRとは異なり、R及びR中の炭素原子の総数とR及びR中の炭素原子の総数との間の差は0~4であり、R及びR中の炭素原子の総数とR及びR中の炭素原子の総数との間の差は0~4であり、X、X及びXは、同じか又は異なるアニオンである)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007

(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are independently substituted or unsubstituted alkyl groups having 2 to 9 carbon atoms, respectively, or substituted or unsubstituted. It is an alkoxy group, and at least one of R 3 and R 4 is different from R 1 or R 2, and is the total number of carbon atoms in R 1 and R 2 and the total number of carbon atoms in R 3 and R 4. The difference between and is 0-4, and the difference between the total number of carbon atoms in R 1 and R 2 and the total number of carbon atoms in R 5 and R 6 is 0-4, X 1 , X 2 and X 3 are the same or different anions)
  特許文献1:特開2013-78851号公報
  特許文献2:特表2019-504780号公報
Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-78851 Patent Document 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2019-504780
 本発明の実施形態が解決しようとする課題は、機上現像性、及び、得られる平版印刷版の着肉性に優れる機上現像型平版印刷版原版を提供することである。
 本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記機上現像型平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法又は平版印刷方法を提供することである。
An object to be solved by the embodiment of the present invention is to provide an on-machine development type lithographic printing plate original plate having excellent on-machine developability and the obtained lithographic printing plate onset property.
An object to be solved by another embodiment of the present invention is to provide a method for producing a lithographic printing plate or a lithographic printing method using the above-mentioned machine-developed lithographic printing plate original plate.
 上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
<1> アルミニウム支持体、及び、上記アルミニウム支持体上に画像記録層を有し、上記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、分子量2,500未満の重合性化合物、及び、分子量2,500以上であり、かつ重合性基を有するポリマーを含み、上記重合性化合物が、7官能以上の重合性化合物を含む機上現像型平版印刷版原版。
<2> 上記平版印刷版原版における上記画像記録層側の最外層表面の空中水滴による水との接触角が、30°~80°である<1>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<3> 上記画像記録層において、上記重合性基を有するポリマーの含有量をMpとし、上記7官能以上の重合性化合物の含有量をMmとした場合、Mm/Mpの値が、0.01以上である<1>又は<2>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<4> 上記重合性基を有するポリマーが、重合性基を有するポリマー粒子を含む<1>~<3>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<5> 上記ポリマー粒子が、親水性基を有する<4>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<6> 上記ポリマー粒子が、上記親水性基として、ポリアルキレンオキシド構造を有する<5>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<7> 上記ポリマー粒子が、上記ポリオキシアルキレンオキシド構造として、ポリプロピレンオキシド構造を有する<6>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<8> 上記ポリマー粒子が、上記ポリオキシアルキレンオキシド構造として、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を少なくとも有する<6>又は<7>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<9> 上記ポリマー粒子が、下記式(Iso)で表されるイソシアネート化合物と水とを少なくとも反応させて得られる構造を有する樹脂を含む<4>~<8>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
The means for solving the above problems include the following aspects.
<1> An aluminum support and an image recording layer on the aluminum support, and the image recording layer is an infrared absorber, a polymerization initiator, a polymerizable compound having a molecular weight of less than 2,500, and a molecular weight of 2. , 500 or more, and contains a polymer having a polymerizable group, and the above-mentioned polymerizable compound is a machine-developed flat plate printing plate original plate containing a polymerizable compound having 7 or more functions.
<2> The on-board development type lithographic printing plate original plate according to <1>, wherein the contact angle with water due to air droplets on the outermost layer surface on the image recording layer side in the lithographic printing plate original plate is 30 ° to 80 °. ..
<3> In the image recording layer, when the content of the polymer having a polymerizable group is Mp and the content of the polymerizable compound having 7 or more functionalities is Mm, the value of Mm / Mp is 0.01. The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <1> or <2> described above.
<4> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <1> to <3>, wherein the polymer having a polymerizable group contains polymer particles having a polymerizable group.
<5> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <4>, wherein the polymer particles have a hydrophilic group.
<6> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <5>, wherein the polymer particles have a polyalkylene oxide structure as the hydrophilic group.
<7> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <6>, wherein the polymer particles have a polypropylene oxide structure as the polyoxyalkylene oxide structure.
<8> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <6> or <7>, wherein the polymer particles have at least a polyethylene oxide structure and a polypropylene oxide structure as the polyoxyalkylene oxide structure.
<9> The above-mentioned one of <4> to <8>, wherein the polymer particles contain a resin having a structure obtained by at least reacting an isocyanate compound represented by the following formula (Iso) with water. On-machine development type lithographic printing plate original plate.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 式(Iso)中、nは0~10の整数を表す。 In the formula (Iso), n represents an integer from 0 to 10.
<10> 上記ポリマー粒子が、上記式(Iso)で表されるイソシアネート化合物と水とを少なくとも反応させて得られる構造を有し、かつポリオキシアルキレン構造として、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有する樹脂を含む<9>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<11> 上記重合性基を有するポリマーが、付加重合型樹脂である<1>~<10>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<12> 上記重合性基を有するポリマーが、スチレン-アクリロニトリル共重合体を含む<1>~<11>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<13> 上記画像記録層が、最外層である<1>~<12>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<14> 上記アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角が、110°以下である<1>~<13>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<15> 上記アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角が、80°以下である<14>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<16> 上記アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角が、50°以下である<15>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<17> 上記アルミニウム支持体上の層が、ヒドロキシカルボン酸又はその塩を含む<1>~<16>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<18> 上記ヒドロキシカルボン酸又はその塩が、ヒドロキシ基を2個以上有する化合物を含む<17>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<19> 上記ヒドロキシカルボン酸又はその塩が、ヒドロキシ基を3個以上有する化合物を含む<17>又は<18>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<20> 上記重合性化合物が、6官能以下の重合性化合物を更に含む<1>~<19>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<21> 上記重合開始剤が、電子受容型重合開始剤を含む<1>~<20>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<22> 上記赤外線吸収剤のLUMO-上記電子受容型重合開始剤のLUMOの値が、0.70eV以下である<21>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<23> 上記電子受容型重合開始剤が、下記式(II)で表される化合物を含む<21>又は<22>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<10> The polymer particles have a structure obtained by at least reacting an isocyanate compound represented by the above formula (Iso) with water, and have a polyethylene oxide structure and a polypropylene oxide structure as polyoxyalkylene structures. The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <9>, which contains a resin.
<11> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <1> to <10>, wherein the polymer having a polymerizable group is an addition polymerization type resin.
<12> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <1> to <11>, wherein the polymer having a polymerizable group contains a styrene-acrylonitrile copolymer.
<13> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <1> to <12>, wherein the image recording layer is the outermost layer.
<14> The on-board developing type according to any one of <1> to <13>, wherein the contact angle with water by the aerial water droplet method on the surface of the aluminum support on the image recording layer side is 110 ° or less. Planographic printing plate original plate.
<15> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <14>, wherein the contact angle with water by the aerial water droplet method on the surface of the aluminum support on the image recording layer side is 80 ° or less.
<16> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <15>, wherein the contact angle with water by the aerial water droplet method on the surface of the aluminum support on the image recording layer side is 50 ° or less.
<17> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <1> to <16>, wherein the layer on the aluminum support contains hydroxycarboxylic acid or a salt thereof.
<18> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <17>, wherein the hydroxycarboxylic acid or a salt thereof contains a compound having two or more hydroxy groups.
<19> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <17> or <18>, wherein the hydroxycarboxylic acid or a salt thereof contains a compound having three or more hydroxy groups.
<20> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <1> to <19>, wherein the polymerizable compound further contains a polymerizable compound having six functions or less.
<21> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <1> to <20>, wherein the polymerization initiator contains an electron-accepting polymerization initiator.
<22> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <21>, wherein the LUMO value of the infrared absorber-the LUMO value of the electron-accepting polymerization initiator is 0.70 eV or less.
<23> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <21> or <22>, wherein the electron-accepting polymerization initiator contains a compound represented by the following formula (II).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 式(II)中、Xはハロゲン原子を表し、Rはアリール基を表す。 In formula (II), X represents a halogen atom and R 3 represents an aryl group.
<24> 上記重合開始剤が、電子供与型重合開始剤を含む<1>~<23>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<25> 上記赤外線吸収剤のHOMO-上記電子供与型重合開始剤のHOMOの値が、0.70eV以下である<24>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<26> 上記画像記録層が、発色剤を更に含む<1>~<25>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<27> 上記発色剤が、酸発色剤である<26>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<28> 上記酸発色剤が、ロイコ色素である<27>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<29> 上記ロイコ色素が、フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素である<28>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<30> 上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素が、下記式(Le-1)~式(Le-3)のいずれかで表される化合物である<29>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<24> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <1> to <23>, wherein the polymerization initiator contains an electron donating type polymerization initiator.
<25> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <24>, wherein the HOMO value of the infrared absorber and the HOMO value of the electron donating polymerization initiator is 0.70 eV or less.
<26> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <1> to <25>, wherein the image recording layer further contains a color former.
<27> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <26>, wherein the color former is an acid color former.
<28> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <27>, wherein the acid color former is a leuco dye.
<29> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <28>, wherein the leuco dye is a leuco dye having a phthalide structure or a fluorine structure.
<30> The machine-developed planographic plate according to <29>, wherein the leuco dye having a phthalide structure or a fluorine structure is a compound represented by any of the following formulas (Le-1) to (Le-3). Printed original plate.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 式(Le-1)~式(Le-3)中、ERGはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、X~Xはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、X~X10はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基を表し、Y及びYはそれぞれ独立に、C又はNを表し、YがNである場合は、Xは存在せず、YがNである場合は、Xは存在せず、Raは、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Rb~Rbはそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表す。 Wherein (Le-1) ~ formula (Le-3), in each ERG independently represents an electron donating group, each X 1 ~ X 4 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a dialkyl anilino group , X 5 to X 10 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a monovalent organic group, Y 1 and Y 2 independently represent C or N, and when Y 1 is N, If X 1 is absent and Y 2 is N, then X 4 is absent, Ra 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, and Rb 1 to Rb 4 are independent alkyl groups. Or represents an aryl group.
<31> 上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素が、下記式(Le-4)~式(Le-6)のいずれかで表される化合物である<29>又は<30>に記載の機上現像型平版印刷版原版。 <31> The machine according to <29> or <30>, wherein the leuco dye having the phthalide structure or the fluorine structure is a compound represented by any of the following formulas (Le-4) to (Le-6). Top-developed lithographic printing plate original plate.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 式(Le-4)~式(Le-6)中、ERGはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、X~Xはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Y及びYはそれぞれ独立に、C又はNを表し、YがNである場合は、Xは存在せず、YがNである場合は、Xは存在せず、Raは、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Rb~Rbはそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表す。 Wherein (Le-4) ~ formula (Le-6), in each ERG independently represents an electron donating group, each X 1 ~ X 4 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a dialkyl anilino group , Y 1 and Y 2 independently represent C or N, and if Y 1 is N, then X 1 does not exist, and if Y 2 is N, then X 4 does not exist and Ra. 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, and Rb 1 to Rb 4 independently represent an alkyl group or an aryl group, respectively.
<32> 上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素が、下記式(Le-7)~式(Le-9)のいずれかで表される化合物である<29>~<31>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。 <32> Any one of <29> to <31>, wherein the leuco dye having the phthalide structure or the fluorine structure is a compound represented by any of the following formulas (Le-7) to (Le-9). The on-board development type lithographic printing plate original plate described in 1.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 式(Le-7)~式(Le-9)中、X~Xはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Y及びYはそれぞれ独立に、C又はNを表し、YがNである場合は、Xは存在せず、YがNである場合は、Xは存在せず、Ra~Raはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Rb~Rbはそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Rc及びRcはそれぞれ独立に、アリール基を表す。 Wherein (Le-7) ~ formula (Le-9), each X 1 ~ X 4 is independently a hydrogen atom, a halogen atom or a dialkyl anilino group, Y 1 and Y 2 are each independently, C or Representing N, when Y 1 is N, X 1 does not exist, when Y 2 is N, X 4 does not exist, and Ra 1 to Ra 4 are independent hydrogen atoms and alkyl, respectively. Represents a group or an alkoxy group, Rb 1 to Rb 4 independently represent an alkyl group or an aryl group, and Rc 1 and Rc 2 each independently represent an aryl group.
<33> Ra~Raがそれぞれ独立に、アルコキシ基である<32>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<34> 上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素が、上記式(Le-8)で表される化合物である<32>又は<33>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<35> X~Xが水素原子であり、Y及びYがCである<34>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<36> Rb及びRbがそれぞれ独立に、アルキル基である<34>又は<35>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<37> 上記赤外線吸収剤が、ハンセンの溶解度パラメータにおけるδdが16以上であり、δpが16以上32以下であり、かつδhがδpの60%以下である有機アニオンを有する<1>~<36>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<38> 上記電子受容型重合開始剤が、ハンセンの溶解度パラメータにおけるδdが16以上であり、δpが16以上32以下であり、かつδhがδpの60%以下である有機アニオンを有する<23>~<25>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<39> 上記画像記録層が、ポリビニルアセタールを更に含有する<1>~<38>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<40> 上記画像記録層が、フルオロ脂肪族基含有共重合体を更に含有する<1>~<39>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<41> 上記フルオロ脂肪族基含有共重合体が、下記式(F1)及び下記式(F2)のいずれかで表される化合物により形成される構成単位を有する<40>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<33> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <32>, wherein each of Ra 1 to Ra 4 is an alkoxy group independently.
<34> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <32> or <33>, wherein the leuco dye having the phthalide structure or the fluorine structure is a compound represented by the above formula (Le-8).
<35> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <34>, wherein X 1 to X 4 are hydrogen atoms and Y 1 and Y 2 are C.
<36> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <34> or <35>, wherein Rb 1 and Rb 2 are independently alkyl groups.
<37> The infrared absorber has an organic anion having δd of 16 or more, δp of 16 or more and 32 or less, and δh of 60% or less of δp in the solubility parameter of Hansen <1> to <36. > The on-board development type lithographic printing plate original plate described in any one of.
<38> The electron-accepting polymerization initiator has an organic anion in which δd in the solubility parameter of Hansen is 16 or more, δp is 16 or more and 32 or less, and δh is 60% or less of δp <23>. The machine-developed planographic printing plate original plate according to any one of <25>.
<39> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <1> to <38>, wherein the image recording layer further contains polyvinyl acetal.
<40> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <1> to <39>, wherein the image recording layer further contains a fluoroaliphatic group-containing copolymer.
<41> The on-machine development according to <40>, wherein the fluoroaliphatic group-containing copolymer has a structural unit formed of a compound represented by any of the following formulas (F1) and (F2). Planographic printing plate original plate.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 式(F1)及び(F2)中、RF1は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、Xは、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、又は-N(RF2)-を表し、mは1~6の整数を表し、nは1~10の整数を表し、lは0~10の整数を表し、RF2は水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を表す。 In formulas (F1) and (F2), R F1 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and X independently represents an oxygen atom, a sulfur atom, or -N ( RF2 )-. m represents an integer of 1 ~ 6, n represents an integer of 1 ~ 10, l represents an integer of 0 ~ 10, R F2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
<42> 上記フルオロ脂肪族基含有共重合体が、ポリ(オキシアルキレン)アクリレート及びポリ(オキシアルキレン)メタクリレートよりなる群から選択される少なくとも1種の化合物により形成される構成単位を更に有する<41>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<43> 上記画像記録層が、上記重合性化合物又は上記重合性基を有するポリマーとして、エチレン性不飽和結合価が5.0mmol/g以上の化合物を含む<1>~<42>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<44> 上記エチレン性不飽和結合価が5.0mmol/g以上の化合物が、下記式(I)で表される化合物である<43>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
 式(I) : X-(Y)  
 式(I)中、Xは水素結合性基を有するn価の有機基を表し、Yは2以上のエチレン性不飽和基を有する1価の基を表し、nは2以上の整数を表し、Xの分子量/(Yの分子量×n)が1以下である。
<45> 上記エチレン性不飽和結合価が5.0mmol/g以上の化合物が、アダクト構造、ビウレット構造、及びイソシアヌレート構造からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を有する<43>又は<44>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<46> 上記重合性化合物が、エチレン性不飽和基を1つ又は2つ有する化合物を含む<1>~<45>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<47> 上記アルミニウム支持体が、アルミニウム板と、上記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを有し、上記マイクロポアの上記陽極酸化皮膜表面における平均径が、10nmを超え100nm以下であり、上記陽極酸化皮膜の上記画像記録層側の表面のL表色系における明度Lの値が、70~100である<1>~<46>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<48> 上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面から深さ10nm~1,000nmの位置までのびる大径孔部と、上記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ20nm~2,000nmの位置までのびる小径孔部とから構成され、上記大径孔部の上記陽極酸化皮膜表面における平均径が、15nm~100nmであり、上記小径孔部の上記連通位置における平均径が、13nm以下である<47>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<49> <1>~<48>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、印刷機上で印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程と、を含む平版印刷版の作製方法。
<50> <1>~<48>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む平版印刷方法。
<42> The fluoroaliphatic group-containing copolymer further has a structural unit formed by at least one compound selected from the group consisting of poly (oxyalkylene) acrylate and poly (oxyalkylene) methacrylate <41. > The on-board development type lithographic printing plate original plate described in.
<43> Any of <1> to <42>, wherein the image recording layer contains a compound having an ethylenically unsaturated bond value of 5.0 mmol / g or more as the polymerizable compound or the polymer having a polymerizable group. The on-board development type lithographic printing plate original plate described in one.
<44> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <43>, wherein the compound having an ethylenically unsaturated bond value of 5.0 mmol / g or more is a compound represented by the following formula (I).
Formula (I): X- (Y) n
In formula (I), X represents an n-valent organic group having a hydrogen-bonding group, Y represents a monovalent group having two or more ethylenically unsaturated groups, and n represents an integer of two or more. The molecular weight of X / (molecular weight of Y × n) is 1 or less.
<45> The compound having an ethylenically unsaturated bond value of 5.0 mmol / g or more has at least one structure selected from the group consisting of an adduct structure, a biuret structure, and an isocyanurate structure <43> or <44> The on-machine development type lithographic printing plate original plate.
<46> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <1> to <45>, wherein the polymerizable compound contains a compound having one or two ethylenically unsaturated groups.
<47> The aluminum support has an aluminum plate and an anodized film of aluminum arranged on the aluminum plate, and the average diameter of the micropores on the surface of the anodized film is more than 10 nm and 100 nm or less. The value of L * a * b * brightness L * in the surface of the anodized film on the image recording layer side is 70 to 100, whichever is one of <1> to <46>. On-board development type lithographic printing plate original plate described in.
<48> The micropore communicates with a large-diameter hole extending from the surface of the anodized film to a depth of 10 nm to 1,000 nm and the bottom of the large-diameter hole, and has a depth of 20 nm to 2 from the communicating position. It is composed of a small-diameter hole extending to a position of 000 nm, the average diameter of the large-diameter hole on the surface of the anodized film is 15 nm to 100 nm, and the average diameter of the small-diameter hole at the communication position is 13 nm. The machine-developed planographic printing plate original plate according to <47> below.
<49> Select from the process of exposing the machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <1> to <48> like an image, and the group consisting of printing ink and dampening water on the printing machine. A method for producing a lithographic printing plate, which comprises a step of supplying at least one of the above and removing an image recording layer of a non-image portion.
<50> The step of exposing the machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <1> to <48> like an image, and at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water. A lithographic printing method including a step of producing a lithographic printing plate by removing an image recording layer of a non-image portion on a printing machine, and a step of printing with the obtained lithographic printing plate.
 本発明の実施形態によれば、機上現像性、及び、得られる平版印刷版の着肉性に優れる機上現像型平版印刷版原版を提供することができる。
 また、本発明の他の実施形態によれば、上記機上現像型平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法又は平版印刷方法を提供することができる。
According to the embodiment of the present invention, it is possible to provide an on-machine development type lithographic printing plate original plate having excellent on-machine developability and the inking property of the obtained lithographic printing plate.
Further, according to another embodiment of the present invention, it is possible to provide a method for producing a lithographic printing plate or a lithographic printing method using the above-mentioned machine-developed lithographic printing plate original plate.
アルミニウム支持体の一実施形態の模式的断面図である。It is a schematic cross-sectional view of one Embodiment of an aluminum support. アルミニウム支持体の別の一実施形態の模式的断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of another embodiment of an aluminum support. アルミニウム支持体の製造方法における電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the alternating waveform current waveform diagram used for the electrochemical roughening process in the manufacturing method of an aluminum support. アルミニウム支持体の製造方法における交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。It is a side view which shows an example of the radial type cell in the electrochemical roughening treatment using alternating current in the manufacturing method of an aluminum support. 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法における交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。It is a side view which shows an example of the radial type cell in the electrochemical roughening treatment using alternating current in the manufacturing method of the aluminum support which has an anodized film.
 以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。
 なお、本明細書において、数値範囲を示す「~」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
 本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
 また、本明細書における基(原子団)の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
 本明細書において、「(メタ)アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念で用いられる語であり、「(メタ)アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの両方を包含する概念として用いられる語である。
 また、本明細書中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。 また、本開示において、「質量%」と「重量%」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
 更に、本開示において、2以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
 また、本開示における重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、特に断りのない限り、TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL、TSKgel G2000HxL(何れも東ソー(株)製の商品名)のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)分析装置により、溶剤THF(テトラヒドロフラン)、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
 本明細書において、「平版印刷版原版」の用語は、平版印刷版原版だけでなく、捨て版原版を包含する。また、「平版印刷版」の用語は、平版印刷版原版を、必要により、露光、現像などの操作を経て作製された平版印刷版だけでなく、捨て版を包含する。捨て版原版の場合には、必ずしも、露光、現像の操作は必要ない。なお、捨て版とは、例えばカラーの新聞印刷において一部の紙面を単色又は2色で印刷を行う場合に、使用しない版胴に取り付けるための平版印刷版原版である。
 以下、本開示を詳細に説明する。
The contents of the present disclosure will be described in detail below. The description of the constituent elements described below may be based on the representative embodiments of the present disclosure, but the present disclosure is not limited to such embodiments.
In addition, in this specification, "-" indicating a numerical range is used in the meaning of including the numerical values described before and after it as a lower limit value and an upper limit value.
In the numerical range described stepwise in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value described in one numerical range may be replaced with the upper limit value or the lower limit value of another numerical range described stepwise. .. Further, in the numerical range described in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value of the numerical range may be replaced with the value shown in the examples.
Further, in the notation of a group (atomic group) in the present specification, the notation that does not describe substitution and non-substitution includes those having no substituent as well as those having a substituent. For example, the "alkyl group" includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
In the present specification, "(meth) acrylic" is a term used in a concept that includes both acrylic and methacrylic, and "(meth) acryloyl" is a term that is used as a concept that includes both acryloyl and methacryloyl. Is.
Further, the term "process" in the present specification is not limited to an independent process, and even if it cannot be clearly distinguished from other processes, the term "process" will be used as long as the intended purpose of the process is achieved. included. Further, in the present disclosure, "% by mass" and "% by weight" are synonymous, and "parts by mass" and "parts by weight" are synonymous.
Further, in the present disclosure, a combination of two or more preferred embodiments is a more preferred embodiment.
Unless otherwise specified, the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) in the present disclosure use columns of TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL, and TSKgel G2000HxL (all are trade names manufactured by Toso Co., Ltd.). It is a molecular weight converted by detecting with a solvent THF (tetrahydrofuran) and a differential refractometer by a gel permeation chromatography (GPC) analyzer and using polystyrene as a standard substance.
In the present specification, the term "lithographic printing plate original plate" includes not only a lithographic printing plate original plate but also a discarded plate original plate. Further, the term "lithographic printing plate" includes not only a lithographic printing plate produced by subjecting a lithographic printing plate original plate through operations such as exposure and development as necessary, but also a discarded plate. In the case of a discarded original plate, exposure and development operations are not always necessary. The discard plate is a planographic printing plate original plate for attaching to an unused plate cylinder when printing a part of the paper surface in a single color or two colors in, for example, color newspaper printing.
Hereinafter, the present disclosure will be described in detail.
(機上現像型平版印刷版原版)
 本開示に係る機上現像型平版印刷版原版(単に「平版印刷版原版」ともいう。)は、アルミニウム支持体、及び、上記アルミニウム支持体上に画像記録層を有し、上記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、分子量2,500未満の重合性化合物、及び、分子量2,500以上であり、かつ重合性基を有するポリマーを含み、上記重合性化合物が、7官能以上の重合性化合物を含む。
 また、本開示に係る機上現像型平版印刷版原版は、ネガ型平版印刷版原版である。
(In-machine development type lithographic printing plate original plate)
The on-machine development type lithographic printing plate original plate (also simply referred to as “lithographic printing plate original plate”) according to the present disclosure has an aluminum support and an image recording layer on the aluminum support, and the image recording layer is formed on the aluminum support. , An infrared absorber, a polymerization initiator, a polymerizable compound having a molecular weight of less than 2,500, and a polymer having a molecular weight of 2,500 or more and having a polymerizable group, and the above polymerizable compound is polymerized with 7 or more functions. Contains sex compounds.
The on-machine development type lithographic printing plate original plate according to the present disclosure is a negative type lithographic printing plate original plate.
 本発明者が鋭意検討した結果、上記構成をとることにより、機上現像性、及び、得られる平版印刷版の着肉性に優れる機上現像型平版印刷版原版を提供できることを見出した。
 上記効果が得られる詳細なメカニズムは不明であるが、以下のように推測される。
 分子量2,500未満の重合性化合物、及び、分子量2,500以上であり、かつ重合性基を有するポリマーを含み、更に上記重合性化合物が、7官能以上の重合性化合物を含むことにより、機上現像性を維持しつつ、硬化時により多くの架橋構造が生じ、画像記録層が硬化してなる画像部の疎水性が向上し、得られる平版印刷版の着肉性に優れ、また、機上現像性に優れる機上現像型平版印刷版原版が得られると推定している。
As a result of diligent studies by the present inventor, it has been found that by adopting the above configuration, it is possible to provide a machine-developing lithographic printing plate original plate having excellent on-machine developability and the resulting lithographic printing plate inlayability.
The detailed mechanism by which the above effect is obtained is unknown, but it is presumed as follows.
By containing a polymerizable compound having a molecular weight of less than 2,500 and a polymer having a molecular weight of 2,500 or more and having a polymerizable group, and the above-mentioned polymerizable compound further containing a polymerizable compound having 7 or more functionalities. While maintaining the top-developing property, more cross-linked structures are formed during curing, the hydrophobicity of the image portion where the image recording layer is cured is improved, and the obtained flat plate printing plate has excellent inking property, and the machine. It is estimated that an on-machine-developing flat plate printing plate original plate with excellent top-developing property can be obtained.
 また、本開示に係る機上現像型平版印刷版原版は、分子量2,500未満の重合性化合物、及び、分子量2,500以上であり、かつ重合性基を有するポリマーを含み、更に上記重合性化合物が、7官能以上の重合性化合物を含むことにより、硬化時により多くの架橋構造が生じ、得られる平版印刷版の耐刷性にも優れる。
 更に、本開示に係る機上現像型平版印刷版原版は、分子量2,500未満の重合性化合物、及び、分子量2,500以上であり、かつ重合性基を有するポリマーを含み、更に上記重合性化合物が、7官能以上の重合性化合物を含むことにより、画像記録層が硬化してなる画像部の疎水性が向上し、画像部と非画像部との色差がより大きく生じ、視認性にも優れる。
Further, the on-machine development type flat plate printing plate original plate according to the present disclosure contains a polymerizable compound having a molecular weight of less than 2,500 and a polymer having a molecular weight of 2,500 or more and having a polymerizable group, and further, the above-mentioned polymerizable property. When the compound contains a polymerizable compound having 7 or more functionalities, more crosslinked structures are formed at the time of curing, and the obtained flat plate printing plate is also excellent in printing resistance.
Further, the on-machine development type flat plate printing plate original plate according to the present disclosure contains a polymerizable compound having a molecular weight of less than 2,500 and a polymer having a molecular weight of 2,500 or more and having a polymerizable group, and further, the above-mentioned polymerizable property. When the compound contains a polymerizable compound having 7 or more functionalities, the hydrophobicity of the image portion formed by curing the image recording layer is improved, the color difference between the image portion and the non-image portion is larger, and the visibility is also improved. Excellent.
<画像記録層>
 本開示に係る平版印刷版原版は、上記アルミニウム支持体上に画像記録層を有し、上記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、分子量2,500未満の重合性化合物、及び、分子量2,500以上であり、かつ重合性基を有するポリマーを含み、上記重合性化合物が、7官能以上の重合性化合物を含む。
 本開示における画像記録層は、ネガ型画像記録層であり、水溶性又は水分散性のネガ型画像記録層であることが好ましい。
 更に、本開示における画像記録層は、着肉性、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、最外層であることが好ましい。
<Image recording layer>
The flat plate printing plate original plate according to the present disclosure has an image recording layer on the aluminum support, and the image recording layer contains an infrared absorber, a polymerization initiator, a polymerizable compound having a molecular weight of less than 2,500, and a molecular weight. It contains a polymer having a molecular weight of 2,500 or more and having a polymerizable group, and the polymerizable compound contains a polymerizable compound having 7 or more functionalities.
The image recording layer in the present disclosure is a negative image recording layer, and is preferably a water-soluble or water-dispersible negative image recording layer.
Further, the image recording layer in the present disclosure is preferably the outermost layer from the viewpoint of fillability, printing resistance, and on-machine developability.
 本開示に係る平版印刷版原版における上記画像記録層側の最外層表面の空中水滴による水との接触角は、着肉性、機上現像性の観点から、20°~85°であることが好ましく、30°~80°であることがより好ましく、40°~70°であることが更に好ましく、50°~65°であることが特に好ましい。
 本開示における上記最外層表面の空中水滴法による水との接触角の測定方法は、以下の方法により測定するものとする。
 測定には、接触角計 DMC-MC3(協和界面化学(株)製)を用いた。平版印刷版原版における画像記録層側の最外層表面に純水1μLを滴下した後、着滴した純水と版面との交点における気液界面の接線と、版面との角度として定義する。また、上記接触角は、同一版上の3箇所において、上記測定を行い、3箇所の値の平均値により算出する。
In the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure, the contact angle with water due to aerial water droplets on the outermost layer surface on the image recording layer side may be 20 ° to 85 ° from the viewpoint of fillability and on-machine developability. It is preferably 30 ° to 80 °, more preferably 40 ° to 70 °, and particularly preferably 50 ° to 65 °.
The method for measuring the contact angle with water by the aerial water droplet method on the outermost layer surface in the present disclosure shall be measured by the following method.
A contact angle meter DMC-MC3 (manufactured by Kyowa Surface Chemistry Co., Ltd.) was used for the measurement. After 1 μL of pure water is dropped on the outermost surface of the image recording layer side of the lithographic printing plate original plate, it is defined as the angle between the tangent line of the gas-liquid interface at the intersection of the dropped pure water and the plate surface and the plate surface. Further, the contact angle is calculated by performing the above measurement at three points on the same plate and calculating the average value of the values at the three points.
 以下、画像記録層に含まれる各成分の詳細について説明する。 The details of each component contained in the image recording layer will be described below.
-赤外線吸収剤-
 上記画像記録層は、赤外線吸収剤を含む。
 赤外線吸収剤としては、顔料及び染料が挙げられる。
 赤外線吸収剤として用いられる染料としては、市販の染料及び例えば、「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
 これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が挙げられる。中でも、シアニン色素が特に好ましい。
-Infrared absorber-
The image recording layer contains an infrared absorber.
Examples of the infrared absorber include pigments and dyes.
As the dye used as the infrared absorber, commercially available dyes and known dyes described in documents such as "Dye Handbook" (edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and metal thiolate complexes. Can be mentioned.
Particularly preferable of these dyes are cyanine pigments, squarylium pigments, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indrenin cyanine pigments. Further, cyanine pigments and indorenin cyanine pigments can be mentioned. Of these, the cyanine pigment is particularly preferable.
 シアニン色素の具体例としては、特開2001-133969号公報の段落0017~0019に記載の化合物、特開2002-023360号公報の段落0016~0021、特開2002-040638号公報の段落0012~0037に記載の化合物、好ましくは特開2002-278057号公報の段落0034~0041、特開2008-195018号公報の段落0080~0086に記載の化合物、特に好ましくは特開2007-90850号公報の段落0035~0043に記載の化合物、特開2012-206495号公報の段落0105~0113に記載の化合物が挙げられる。
 また、特開平5-5005号公報の段落0008~0009、特開2001-222101号公報の段落0022~0025に記載の化合物も好ましく使用することができる。
 顔料としては、特開2008-195018号公報の段落0072~0076に記載の化合物が好ましい。
 また、赤外線露光により分解する赤外線吸収剤(「分解性赤外線吸収剤」ともいう。)も好適に用いることができる。
 赤外線露光により分解する赤外線吸収剤としては、特表2008-544322号公報、国際公開第2016/027886号、国際公開第2017/141882号、又は、国際公開第2018/043259号に記載のものを好適に用いることができる。
Specific examples of the cyanine dye include the compounds described in paragraphs 0017 to 0019 of JP-A-2001-133769, paragraphs 0016 to 0021 of JP-A-2002-0233360, and paragraphs 0012 to 0037 of JP-A-2002-040638. , Preferably the compounds described in paragraphs 0034 to 0041 of JP-A-2002-278057, paragraphs 0080-0086 of JP-A-2008-195018, and particularly preferably paragraphs 0035 of JP-A-2007-90850. Examples thereof include the compounds described in 0043 and the compounds described in paragraphs 0105 to 0113 of JP2012-206495A.
Further, the compounds described in paragraphs 0008 to 0009 of JP-A-5-5005 and paragraphs 0022 to 0025 of JP-A-2001-222101 can also be preferably used.
As the pigment, the compounds described in paragraphs 0072 to 0076 of JP-A-2008-195018 are preferable.
Further, an infrared absorber that decomposes by infrared exposure (also referred to as "degradable infrared absorber") can be preferably used.
As the infrared absorber that decomposes by infrared exposure, those described in Japanese Patent Publication No. 2008-544322, International Publication No. 2016/027886, International Publication No. 2017/141882, or International Publication No. 2018/0432559 are preferable. Can be used for.
 赤外線吸収剤は、1種のみ用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、赤外線吸収剤として顔料と染料とを併用してもよい。
 上記画像記録層中の赤外線吸収剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、0.1質量%~10.0質量%が好ましく、0.5質量%~5.0質量%がより好ましい。
Only one type of infrared absorber may be used, or two or more types may be used in combination. Further, a pigment and a dye may be used in combination as an infrared absorber.
The content of the infrared absorber in the image recording layer is preferably 0.1% by mass to 10.0% by mass, more preferably 0.5% by mass to 5.0% by mass, based on the total mass of the image recording layer. preferable.
-重合開始剤-
 本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層は、重合開始剤を含む。
 また、重合開始剤としては、電子受容型重合開始剤を含むことが好ましく、電子受容型重合開始剤、及び、電子供与型重合開始剤を含むことがより好ましい。
-Polymer initiator-
The image recording layer in the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure contains a polymerization initiator.
The polymerization initiator preferably contains an electron-accepting polymerization initiator, and more preferably contains an electron-accepting polymerization initiator and an electron-donating polymerization initiator.
<<電子受容型重合開始剤>>
 上記画像記録層は、重合開始剤として、電子受容型重合開始剤を含むことが好ましい。
 電子受容型重合開始剤は、赤外線露光により赤外線吸収剤の電子が励起した際に、分子間電子移動で一電子を受容することにより、ラジカル等の重合開始種を発生する化合物である。
 本開示に用いられる電子受容型重合開始剤は、光、熱あるいはその両方のエネルギーによりラジカルやカチオン等の重合開始種を発生する化合物であって、公知の熱重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを適宜選択して用いることができる。
 電子受容型重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が好ましく、オニウム塩化合物がより好ましい。
 また、電子受容型重合開始剤としては、赤外線感光性重合開始剤であることが好ましい。
 電子受容型ラジカル重合開始剤としては、例えば、(a)有機ハロゲン化物、(b)カルボニル化合物、(c)アゾ化合物、(d)有機過酸化物、(e)メタロセン化合物、(f)アジド化合物、(g)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(i)ジスルホン化合物、(j)オキシムエステル化合物、(k)オニウム塩化合物が挙げられる。
<< Electron-accepting polymerization initiator >>
The image recording layer preferably contains an electron-accepting polymerization initiator as the polymerization initiator.
The electron-accepting polymerization initiator is a compound that generates a polymerization initiator such as a radical by accepting one electron by electron transfer between molecules when the electrons of the infrared absorber are excited by infrared exposure.
The electron-accepting polymerization initiator used in the present disclosure is a compound that generates a polymerization initiator such as a radical or a cation by energy of light, heat, or both, and is a known thermal polymerization initiator and has a small bond dissociation energy. A compound having a bond, a photopolymerization initiator and the like can be appropriately selected and used.
As the electron-accepting polymerization initiator, a radical polymerization initiator is preferable, and an onium salt compound is more preferable.
The electron-accepting polymerization initiator is preferably an infrared photosensitive polymerization initiator.
Examples of the electron-accepting radical polymerization initiator include (a) an organic halide, (b) a carbonyl compound, (c) an azo compound, (d) an organic peroxide, (e) a metallocene compound, and (f) an azide compound. , (G) hexaarylbiimidazole compounds, (i) disulfone compounds, (j) oxime ester compounds, and (k) onium salt compounds.
 (a)有機ハロゲン化物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0022~0023に記載の化合物が好ましい。
 (b)カルボニル化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0024に記載の化合物が好ましい。
 (c)アゾ化合物としては、例えば、特開平8-108621号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。
 (d)有機過酸化物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0025に記載の化合物が好ましい。
 (e)メタロセン化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0026に記載の化合物が好ましい。
 (f)アジド化合物としては、例えば、2,6-ビス(4-アジドベンジリデン)-4-メチルシクロヘキサノン等の化合物を挙げることができる。
 (g)ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0027に記載の化合物が好ましい。
 (i)ジスルホン化合物としては、例えば、特開昭61-166544号、特開2002-328465号の各公報に記載の化合物が挙げられる。
 (j)オキシムエステル化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0028~0030に記載の化合物が好ましい。
As the (a) organic halide, for example, the compounds described in paragraphs 0022 to 0023 of JP-A-2008-195018 are preferable.
(B) As the carbonyl compound, for example, the compound described in paragraph 0024 of JP-A-2008-195018 is preferable.
(C) As the azo compound, for example, the azo compound described in JP-A-8-108621 can be used.
(D) As the organic peroxide, for example, the compound described in paragraph 0025 of JP-A-2008-195018 is preferable.
(E) As the metallocene compound, for example, the compound described in paragraph 0026 of JP-A-2008-195018 is preferable.
Examples of the (f) azide compound include compounds such as 2,6-bis (4-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexanone.
(G) As the hexaarylbiimidazole compound, for example, the compound described in paragraph 0027 of JP-A-2008-195018 is preferable.
(I) Examples of the disulfon compound include the compounds described in JP-A-61-166544 and JP-A-2002-328465.
As the (j) oxime ester compound, for example, the compounds described in paragraphs 0028 to 0030 of JP-A-2008-195018 are preferable.
 上記電子受容型重合開始剤の中でも好ましいものとして、硬化性の観点から、オキシムエステル化合物及びオニウム塩化合物が挙げられる。中でも、耐刷性の観点から、ヨードニウム塩化合物、スルホニウム塩化合物又はアジニウム塩化合物が好ましく、ヨードニウム塩化合物又はスルホニウム塩化合物がより好ましく、ヨードニウム塩化合物が特に好ましい。
 これら化合物の具体例を以下に示すが、本開示はこれに限定されるものではない。
Among the above-mentioned electron-accepting polymerization initiators, oxime ester compounds and onium salt compounds are preferable from the viewpoint of curability. Among them, from the viewpoint of printing resistance, an iodonium salt compound, a sulfonium salt compound or an azinium salt compound is preferable, an iodonium salt compound or a sulfonium salt compound is more preferable, and an iodonium salt compound is particularly preferable.
Specific examples of these compounds are shown below, but the present disclosure is not limited thereto.
 ヨードニウム塩化合物の例としては、ジアリールヨードニウム塩化合物が好ましく、特に電子供与性基、例えば、アルキル基又はアルコキシル基で置換されたジフェニルヨードニウム塩化合物がより好ましく、また、非対称のジフェニルヨードニウム塩化合物が好ましい。具体例としては、ジフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-メトキシフェニル-4-(2-メチルプロピル)フェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-(2-メチルプロピル)フェニル-p-トリルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-ヘキシルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-ヘキシルオキシフェニル-2,4-ジエトキシフェニルヨードニウム=テトラフルオロボラート、4-オクチルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=1-ペルフルオロブタンスルホナート、4-オクチルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、ビス(4-t-ブチルフェニル)ヨードニウム=ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。 As an example of the iodonium salt compound, a diaryl iodonium salt compound is preferable, a diphenyl iodonium salt compound substituted with an electron donating group such as an alkyl group or an alkoxyl group is more preferable, and an asymmetric diphenyl iodonium salt compound is preferable. .. Specific examples include diphenyliodonium = hexafluorophosphate, 4-methoxyphenyl-4- (2-methylpropyl) phenyliodonium = hexafluorophosphate, 4- (2-methylpropyl) phenyl-p-tolyliodonium = hexa. Fluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = hexafluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4-diethoxyphenyliodonium = tetrafluoroborate, 4-octyloxy Phenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = 1-perfluorobutane sulfonate, 4-octyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = hexafluorophosphate, bis (4-t-butylphenyl) ) Iodonium = hexafluorophosphate can be mentioned.
 スルホニウム塩化合物の例としては、トリアリールスルホニウム塩化合物が好ましく、特に電子求引性基、例えば、芳香環上の基の少なくとも一部がハロゲン原子で置換されたトリアリールスルホニウム塩化合物が好ましく、芳香環上のハロゲン原子の総置換数が4以上であるトリアリールスルホニウム塩化合物が更に好ましい。具体例としては、トリフェニルスルホニウム=ヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス(4-クロロフェニル)フェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス(4-クロロフェニル)-4-メチルフェニルスルホニウム=テトラフルオロボラート、トリス(4-クロロフェニル)スルホニウム=3,5-ビス(メトキシカルボニル)ベンゼンスルホナート、トリス(4-クロロフェニル)スルホニウム=ヘキサフルオロホスファート、トリス(2,4-ジクロロフェニル)スルホニウム=ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。 As an example of the sulfonium salt compound, a triarylsulfonium salt compound is preferable, and in particular, an electron-attracting group, for example, a triarylsulfonium salt compound in which at least a part of a group on the aromatic ring is substituted with a halogen atom is preferable, and aromatic. A triarylsulfonium salt compound having a total number of halogen atoms substituted on the ring of 4 or more is more preferable. Specific examples include triphenylsulfonium = hexafluorophosphate, triphenylsulfonium = benzoylformate, bis (4-chlorophenyl) phenylsulfonium = benzoylformate, and bis (4-chlorophenyl) -4-methylphenylsulfonium = tetrafluoro. Borate, Tris (4-chlorophenyl) Sulfonium = 3,5-bis (methoxycarbonyl) Benzene Sulfonium, Tris (4-chlorophenyl) Sulfonium = Hexafluorophosphate, Tris (2,4-dichlorophenyl) Sulfonium = Hexafluorophos Fert can be mentioned.
 また、ヨードニウム塩化合物及びスルホニウム塩化合物の対アニオンとしては、スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンが好ましく、スルホンイミドアニオンがより好ましい。
 スルホンアミドアニオンとしては、アリールスルホンアミドアニオンが好ましい。
 また、スルホンイミドアニオンとしては、ビスアリールスルホンイミドアニオンが好ましい。
 スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンの具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記具体例中、Phはフェニル基を、Meはメチル基を、Etはエチル基を、それぞれ表す。
Further, as the counter anion of the iodonium salt compound and the sulfonium salt compound, a sulfonamide anion or a sulfonimide anion is preferable, and a sulfonimide anion is more preferable.
As the sulfonamide anion, an aryl sulfonamide anion is preferable.
Further, as the sulfonimide anion, a bisaryl sulfonimide anion is preferable.
Specific examples of the sulfonamide anion or the sulfonamide anion are shown below, but the present disclosure is not limited thereto. In the specific examples below, Ph represents a phenyl group, Me represents a methyl group, and Et represents an ethyl group.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 また、上記電子受容型重合開始剤は、現像性、及び、得られる平版印刷版におけるUV耐刷性の観点から、下記式(II)で表される化合物を含んでいてもよい。 Further, the electron-accepting polymerization initiator may contain a compound represented by the following formula (II) from the viewpoint of developability and UV printing resistance in the obtained lithographic printing plate.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 式(II)中、Xはハロゲン原子を表し、Rはアリール基を表す。 In formula (II), X represents a halogen atom and R 3 represents an aryl group.
 式(II)におけるXとしては、具体的には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。これらのうち、塩素原子又は臭素原子は、感度に優れるため好ましく、臭素原子が特に好ましい。
 また、式(II)において、Rとしては、感度と保存安定性とのバランスに優れる観点から、アミド基で置換されているアリール基が好ましい。
Specific examples of X in the formula (II) include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. Of these, a chlorine atom or a bromine atom is preferable because it has excellent sensitivity, and a bromine atom is particularly preferable.
Further, in formula (II), R 3, from the viewpoint of excellent balance between sensitivity and storage stability, an aryl group substituted with an amide group.
 上記式(II)で表される電子受容型重合開始剤の具体例としては、下記式に示す化合物などが挙げられるが、本開示はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of the electron-accepting polymerization initiator represented by the above formula (II) include compounds represented by the following formula, but the present disclosure is not limited thereto.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 電子受容型重合開始剤の最低空軌道(LUMO)は、感度、着肉性、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、-3.00eV以下であることが好ましく、-3.02eV以下であることがより好ましい。
 また、下限としては、-3.80eV以上であることが好ましく、-3.60eV以上であることがより好ましい。
The minimum empty orbital (LUMO) of the electron-accepting polymerization initiator is preferably −3.00 eV or less, preferably −3.02 eV, from the viewpoints of sensitivity, fillability, printing resistance, and on-machine developability. The following is more preferable.
Further, as the lower limit, it is preferably -3.80 eV or more, and more preferably -3.60 eV or more.
 本開示において、最高被占軌道(HOMO)及び最低空軌道(LUMO)のMO(分子軌道)エネルギー計算は、以下の方法により行う。
 まず、計算対象となる化合物における遊離の対イオンは計算対象から除外する。例えば、カチオン性の一電子受容型重合開始剤、カチオン性の赤外線吸収剤では対アニオンを、アニオン性の一電子供与型重合開始剤では対カチオンをそれぞれ計算対象から除外する。ここでいう遊離とは、対象とする化合物とその対イオンが共有結合で連結されていないことを意味する。
 量子化学計算ソフトウェアGaussian09を用い、構造最適化はDFT(B3LYP/6-31G(d))で行う。
 MO(分子軌道)エネルギー計算は、上記構造最適化で得た構造でDFT(B3LYP/6-31+G(d,p)/CPCM(solvent=methanol))で行う。
 上記MOエネルギー計算で得られたMOエネルギーEbare(単位:hartree)を以下の公式により、本開示においてHOMO及びLUMOの値として用いるEscaled(単位:eV)へ変換する。
  Escaled=0.823168×27.2114×Ebare-1.07634
 なお、27.2114は単にhartreeをeVに変換するための係数であり、0.823168と-1.07634とは調節係数であり、計算対象となる化合物のHOMOとLUMOとを計算が実測の値に合うように定める。
In the present disclosure, the MO (molecular orbital) energy of the highest occupied orbital (HOMO) and the lowest empty orbital (LUMO) is calculated by the following method.
First, free counterions in the compound to be calculated are excluded from the calculation. For example, the cationic one-electron accepting polymerization initiator and the cationic infrared absorber exclude the counter anion, and the anionic one-electron donating polymerization initiator excludes the counter cation from the calculation target. The term "free" as used herein means that the target compound and its counterion are not covalently linked.
Quantum chemistry calculation software Gaussian09 is used, and structural optimization is performed by DFT (B3LYP / 6-31G (d)).
The MO (molecular orbital) energy calculation is performed by DFT (B3LYP / 6-31 + G (d, p) / CPCM (solvent = methanol)) with the structure obtained by the above structure optimization.
The MO energy Ebare (unit: hartree) obtained by the above MO energy calculation is converted into Escaled (unit: eV) used as the values of HOMO and LUMO in the present disclosure by the following formula.
Escaled = 0.823168 x 27.2114 x Ebare-1.07634
Note that 27.2114 is simply a coefficient for converting hartree to eV, 0.823168 and −1.07634 are adjustment coefficients, and HOMO and LUMO of the compound to be calculated are calculated values. Determine to suit.
 電子受容型重合開始剤の具体例としては、後述する実施例に記載のI-1~I-3が挙げられるが、これらに限定されないことは、言うまでもない。 Specific examples of the electron-accepting polymerization initiator include I-1 to I-3 described in Examples described later, but it goes without saying that the present invention is not limited to these.
 電子受容型重合開始剤は、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 電子受容型重合開始剤の含有量は、画像記録層の全質量に対して、0.1質量%~50質量%であることが好ましく、0.5質量%~30質量%であることがより好ましく、0.8質量%~20質量%であることが特に好ましい。
The electron-accepting polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more.
The content of the electron-accepting polymerization initiator is preferably 0.1% by mass to 50% by mass, more preferably 0.5% by mass to 30% by mass, based on the total mass of the image recording layer. It is preferably 0.8% by mass to 20% by mass, and particularly preferably 0.8% by mass.
-電子受容型重合開始剤と赤外線吸収剤との関係-
 本開示における画像記録層は、感度の向上及びUV版飛び抑制性の観点から、上記電子受容型重合開始剤及び赤外線吸収剤を含有し、赤外線吸収剤のLUMO-上記電子受容型重合開始剤のLUMOの値が、1.00eV以下であることが好ましく、0.70eV以下であることがより好ましく、0.70eV~-0.10eVであることが特に好ましい。
 なお、マイナスの値は、上記電子受容型重合開始剤のLUMOが、赤外線吸収剤のLUMOよりも高くなることを意味する。
-Relationship between electron-accepting polymerization initiator and infrared absorber-
The image recording layer in the present disclosure contains the electron-accepting polymerization initiator and the infrared absorber from the viewpoint of improving sensitivity and suppressing UV plate skipping, and is an infrared absorber LUMO-the electron-accepting polymerization initiator. The value of LUMO is preferably 1.00 eV or less, more preferably 0.70 eV or less, and particularly preferably 0.70 eV to −0.10 eV.
A negative value means that the LUMO of the electron-accepting polymerization initiator is higher than that of the infrared absorber LUMO.
<<電子供与型重合開始剤(重合助剤)>>
 上記画像記録層は、重合開始剤として、電子供与型重合開始剤(「重合助剤」ともいう。)を含むことが好ましく、電子受容型重合開始剤、及び、電子供与型重合開始剤を含むことがより好ましい。
 本開示における電子供与型重合開始剤は、赤外線露光により赤外線吸収剤の電子が励起又は分子内移動した際に、赤外線吸収剤の一電子抜けた軌道に分子間電子移動で一電子を供与することにより、ラジカル等の重合開始種を発生する化合物である。
 電子供与型重合開始剤としては、電子供与型ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
 上記画像記録層は、平版印刷版における耐刷性向上の観点から、以下に説明する電子供与型重合開始剤を含有することがより好ましく、その例として以下の5種が挙げられる。
(i)アルキル又はアリールアート錯体:酸化的に炭素-ヘテロ結合が解裂し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には、ボレート化合物が好ましい。
(ii)N-アリールアルキルアミン化合物:酸化により窒素に隣接した炭素上のC-X結合が解裂し、活性ラジカルを生成するものと考えられる。Xとしては、水素原子、カルボキシル基、トリメチルシリル基又はベンジル基が好ましい。具体的には、例えば、N-フェニルグリシン類(フェニル基に置換基を有していてもいなくてもよい。)、N-フェニルイミノジ酢酸(フェニル基に置換基を有していてもいなくてもよい。)が挙げられる。
(iii)含硫黄化合物:上述のアミン類の窒素原子を硫黄原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。例えばフェニルチオ酢酸(フェニル基に置換基を有していてもいなくてもよい。)が挙げられる。
(iv)含錫化合物:上述のアミン類の窒素原子を錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。
(v)スルフィン酸塩類:酸化により活性ラジカルを生成し得る。具体的は、アリールスルフィン駿ナトリウム等を挙げることができる。
<< Electron donation type polymerization initiator (polymerization aid) >>
The image recording layer preferably contains an electron-donating polymerization initiator (also referred to as a "polymerization aid") as a polymerization initiator, and contains an electron-accepting polymerization initiator and an electron-donating polymerization initiator. Is more preferable.
The electron donating type polymerization initiator in the present disclosure donates one electron by intermolecular electron transfer to an orbit where one electron is missing from the infrared absorber when the electron of the infrared absorber is excited or moved intramolecularly by infrared exposure. This is a compound that generates a polymerization-initiated species such as a radical.
The electron-donating type polymerization initiator is preferably an electron-donating radical polymerization initiator.
From the viewpoint of improving the printing durability of the lithographic printing plate, the image recording layer more preferably contains the electron donating type polymerization initiator described below, and examples thereof include the following five types.
(I) Alkyl or arylate complex: It is considered that the carbon-heterobond is oxidatively cleaved to generate an active radical. Specifically, a borate compound is preferable.
(Ii) N-arylalkylamine compound: It is considered that the CX bond on the carbon adjacent to nitrogen is cleaved by oxidation to generate an active radical. As X, a hydrogen atom, a carboxyl group, a trimethylsilyl group or a benzyl group is preferable. Specifically, for example, N-phenylglycines (which may or may not have a substituent on the phenyl group) and N-phenyliminodiacetic acid (which may or may not have a substituent on the phenyl group). May be mentioned.)
(Iii) Sulfur-containing compound: The above-mentioned amines in which the nitrogen atom is replaced with a sulfur atom can generate an active radical by the same action. For example, phenylthioacetic acid (which may or may not have a substituent on the phenyl group) can be mentioned.
(Iv) Tin-containing compounds: The above-mentioned amines in which the nitrogen atom is replaced with a tin atom can generate active radicals by the same action.
(V) Sulfinates: Oxidation can generate active radicals. Specific examples thereof include arylsulfinic sodium.
 これらの中でも、上記画像記録層は、耐刷性の観点から、ボレート化合物を含有することが好ましい。
 ボレート化合物としては、耐刷性及び発色性の観点から、テトラアリールボレート化合物、又は、モノアルキルトリアリールボレート化合物であることが好ましく、テトラアリールボレート化合物であることがより好ましい。
 ボレート化合物が有する対カチオンとしては、特に制限はないが、アルカリ金属イオン、又は、テトラアルキルアンモニウムイオンであることが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、又は、テトラブチルアンモニウムイオンであることがより好ましい。
Among these, the image recording layer preferably contains a borate compound from the viewpoint of printing resistance.
The borate compound is preferably a tetraaryl borate compound or a monoalkyl triaryl borate compound, and more preferably a tetraaryl borate compound from the viewpoint of print resistance and color development.
The counter cation contained in the borate compound is not particularly limited, but is preferably an alkali metal ion or a tetraalkylammonium ion, and more preferably a sodium ion, a potassium ion, or a tetrabutylammonium ion.
 ボレート化合物として具体的には、ナトリウムテトラフェニルボレートが好ましく挙げられる。 Specifically, sodium tetraphenylborate is preferably mentioned as the borate compound.
 以下に電子供与型重合開始剤の好ましい具体例として、B-1~B-9を示すが、これらに限定されないことは、言うまでもない。また、下記化学式において、Phはフェニル基を表し、Buはn-ブチル基を表す。 B-1 to B-9 are shown below as preferable specific examples of the electron donating type polymerization initiator, but it goes without saying that the present invention is not limited to these. Further, in the following chemical formula, Ph represents a phenyl group and Bu represents an n-butyl group.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 また、本開示に用いられる電子供与型重合開始剤の最高被占軌道(HOMO)は、感度、着肉性、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、-6.00eV以上であることが好ましく、-5.95eV以上であることがより好ましく、-5.93eV以上であることが更に好ましい。
 また、上限としては、-5.00eV以下であることが好ましく、-5.40eV以下であることがより好ましい。
Further, the maximum occupied orbital (HOMO) of the electron donating type polymerization initiator used in the present disclosure is -6.00 eV or more from the viewpoint of sensitivity, fillability, print resistance, and on-machine developability. It is preferably −5.95 eV or higher, more preferably −5.93 eV or higher, and even more preferably −5.93 eV or higher.
The upper limit is preferably −5.00 eV or less, and more preferably −5.40 eV or less.
 電子供与型重合開始剤は、1種のみを添加しても、2種以上を併用してもよい。
 電子供与型重合開始剤の含有量としては、感度及び耐刷性の観点から、画像記録層の全質量に対し、0.01質量%~30質量%であることが好ましく、0.05質量%~25質量%であることがより好ましく、0.1質量%~20質量%であることが更に好ましい。
As the electron donating type polymerization initiator, only one kind may be added, or two or more kinds may be used in combination.
The content of the electron donating type polymerization initiator is preferably 0.01% by mass to 30% by mass, preferably 0.05% by mass, based on the total mass of the image recording layer from the viewpoint of sensitivity and printing resistance. It is more preferably to 25% by mass, and further preferably 0.1% by mass to 20% by mass.
 本開示において、画像記録層が、オニウムイオンと、上述の電子供与型重合開始剤におけるアニオンと、を含む場合、画像記録層は電子受容型重合開始剤及び上記電子供与型重合開始剤を含むものとする。 In the present disclosure, when the image recording layer contains an onium ion and an anion in the above-mentioned electron donating type polymerization initiator, the image recording layer is assumed to contain an electron accepting type polymerization initiator and the above-mentioned electron donating type polymerization initiator. ..
-電子供与型重合開始剤と赤外線吸収剤との関係-
 本開示における画像記録層は、感度、着肉性、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、上記電子供与型重合開始剤及び赤外線吸収剤を含有し、赤外線吸収剤のHOMO-上記電子供与型重合開始剤のHOMOの値が0.70eV以下であることが好ましく、0.70eV~-0.10eVであることがより好ましい。
 なお、マイナスの値は、上記電子供与型重合開始剤のHOMOが、赤外線吸収剤のHOMOよりも高くなることを意味する。
-Relationship between electron donating polymerization initiator and infrared absorber-
The image recording layer in the present disclosure contains the electron donating type polymerization initiator and the infrared absorber from the viewpoints of sensitivity, fillability, printing resistance, and on-machine developability, and the infrared absorber HOMO-the above. The HOMO value of the electron donating polymerization initiator is preferably 0.70 eV or less, and more preferably 0.70 eV to −0.10 eV.
A negative value means that the HOMO of the electron-donating polymerization initiator is higher than that of the infrared absorber HOMO.
-赤外線吸収剤及び電子受容型重合開始剤の好ましい態様-
 本開示における赤外線吸収剤としては、感度、着肉性、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、ハンセンの溶解度パラメータにおけるδdが16以上であり、δpが16~32であり、且つ、δhがδpの60%以下である有機アニオンを有することが好ましい態様である。
 本開示における電子受容型重合開始剤としては、感度、着肉性、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、ハンセンの溶解度パラメータにおけるδdが16以上であり、δpが16~32であり、且つ、δhがδpの60%以下である有機アニオンを有することが好ましい態様である。
-Preferable aspects of infrared absorbers and electron-accepting polymerization initiators-
The infrared absorber in the present disclosure has δd of 16 or more, δp of 16 to 32, and δp in the solubility parameter of Hansen from the viewpoints of sensitivity, fillability, print resistance, and on-machine developability. , Δh is preferably 60% or less of δp and has an organic anion.
The electron-accepting polymerization initiator in the present disclosure has a δd of 16 or more and a δp of 16 to 32 in the solubility parameter of Hansen from the viewpoints of sensitivity, fillability, print resistance, and on-machine developability. It is preferable to have an organic anion in which δh is 60% or less of δp.
 ここで、本開示におけるハンセンの溶解度パラメータにおけるδd、δp及びδhは、ハンセン(Hansen)の溶解度パラメータにおける分散項δd[単位:MPa0.5]及び極性項δp[単位:MPa0.5]を用いる。ここで、ハンセン(Hansen)の溶解度パラメータは、ヒルデブランド(Hildebrand)によって導入された溶解度パラメータを、分散項δd、極性項δp、水素結合項δhの3成分に分割し、3次元空間に表したものである。
 ハンセン(Hansen)の溶解度パラメータの詳細については、Charles M.Hansen著の文献「Hansen Solubility Parameters;A Users Handbook(CRC Press,2007)」に記載されている。
Here, δd, δp and δh in the Hansen solubility parameter in the present disclosure have the dispersion term δd [unit: MPa 0.5 ] and the polarity term δp [unit: MPa 0.5 ] in the Hansen solubility parameter. Use. Here, the solubility parameter of Hansen is expressed in a three-dimensional space by dividing the solubility parameter introduced by Hildebrand into three components of a dispersion term δd, a polar term δp, and a hydrogen bond term δh. It is a thing.
For more information on Hansen's solubility parameters, see Charles M. It is described in the document "Hansen Solubility Parameter; A Users Handbook (CRC Press, 2007)" by Hansen.
 本開示において、上記有機アニオンのハンセンの溶解度パラメータにおけるδd、δp及びδhは、コンピュータソフトウェア「Hansen Solubility Parameters in Practice(HSPiP ver.4.1.07)」を用いることにより、その化学構造から推算した値である。 In the present disclosure, δd, δp and δh in the Hansen solubility parameter of the organic anion are estimated from the chemical structure by using the computer software “Hansen Solubility Parameters in Practice (HSPiP ver. 4.1.07)”. The value.
 ハンセンの溶解度パラメータにおけるδdが16以上であり、δpが16~32であり、且つ、δhがδpの60%以下である有機アニオンの具体例としては、上述したI-1~I-26が好適に挙げられるが、これらに限定されないことは言うまでもない。 The above-mentioned I-1 to I-26 are preferable as specific examples of the organic anion in which δd in the solubility parameter of Hansen is 16 or more, δp is 16 to 32, and δh is 60% or less of δp. Needless to say, it is not limited to these.
-分子量2,500未満の重合性化合物-
 上記画像記録層は、分子量2,500未満の重合性化合物(単に「重合性化合物」ともいう。)を含む。また、上記重合性化合物は、7官能以上の重合性化合物を含む。
 本開示に用いられる重合性化合物は、例えば、ラジカル重合性化合物であっても、カチオン重合性化合物であってもよいが、少なくとも1個のエチレン性不飽和結合を有する付加重合性化合物(エチレン性不飽和化合物)であることが好ましい。エチレン性不飽和化合物としては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個有する化合物であることが好ましく、末端エチレン性不飽和結合を2個以上有する化合物であることがより好ましい。重合性化合物は、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体若しくはオリゴマー、又は、それらの混合物などの化学的形態をもつ。
-Polymerizable compounds with a molecular weight of less than 2,500-
The image recording layer contains a polymerizable compound having a molecular weight of less than 2,500 (also simply referred to as “polymerizable compound”). In addition, the above-mentioned polymerizable compound contains a polymerizable compound having 7 or more functionalities.
The polymerizable compound used in the present disclosure may be, for example, a radical-polymerizable compound or a cationically polymerizable compound, but is an addition-polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated bond (ethyleney). It is preferably an unsaturated compound). The ethylenically unsaturated compound is preferably a compound having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, and more preferably a compound having two or more terminal ethylenically unsaturated bonds. Polymerizable compounds have chemical forms such as, for example, monomers, prepolymers, ie dimers, trimers or oligomers, or mixtures thereof.
 上記重合性化合物は、7官能以上の重合性化合物を含み、機上現像性の観点から、6官能以下の重合性化合物を更に含むことが好ましい。
 また、上記重合性化合物は、着肉性、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、7官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、7官能以上のエチレン性不飽和化合物、及び、6官能以下のエチレン性不飽和化合物を含むことがより好ましい。
 更に、上記重合性化合物は、着肉性、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、10官能以上の重合性化合物を含むことが好ましく、12官能以上の重合性化合物を含むことがより好ましく、15官能以上の重合性化合物を含むことが更に好ましく、15官能以上30官能以下の重合性化合物を含むことが特に好ましい。
The polymerizable compound preferably contains a polymerizable compound having 7 or more functionalities, and further preferably contains a polymerizable compound having 6 or less functionalities from the viewpoint of on-machine developability.
Further, the polymerizable compound preferably contains an ethylenically unsaturated compound having 7 or more functionalities, and an ethylenically unsaturated compound having 7 or more functionalities, from the viewpoints of onset property, printing resistance and on-machine developability. , And it is more preferable to contain an ethylenically unsaturated compound having 6 or less functionalities.
Further, the polymerizable compound preferably contains a polymerizable compound having 10 or more functionalities, and may contain a polymerizable compound having 12 or more functionalities, from the viewpoints of fillability, printing resistance, and on-machine developability. It is more preferable to contain a polymerizable compound having 15 or more functionalities, and it is particularly preferable to contain a polymerizable compound having 15 or more functionalities and 30 or less functionalities.
 重合性化合物の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と多価アルコール化合物とのエステル類、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、及び単官能もしくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン原子、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。これらは、特表2006-508380号公報、特開2002-287344号公報、特開2008-256850号公報、特開2001-342222号公報、特開平9-179296号公報、特開平9-179297号公報、特開平9-179298号公報、特開2004-294935号公報、特開2006-243493号公報、特開2002-275129号公報、特開2003-64130号公報、特開2003-280187号公報、特開平10-333321号公報等に記載されている。 Examples of the polymerizable compound include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters thereof, amides, etc., and are preferably unsuitable. Esters of saturated carboxylic acid and polyhydric alcohol compound, and amides of unsaturated carboxylic acid and polyhydric amine compound are used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxy group, an amino group or a mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or an epoxy, and a monofunctional or polyfunctional group. A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a polyelectron substituent such as an isocyanate group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, an amine or a thiol, and a halogen atom, Substituents of unsaturated carboxylic acid esters or amides having a releasable substituent such as a tosyloxy group with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines and thiols are also suitable. Further, as another example, it is also possible to use a compound group in which the above unsaturated carboxylic acid is replaced with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like. These are JP-A-2006-508380, JP-A-2002-287344, JP-A-2008-256850, JP-A-2001-342222, JP-A-9-179296, JP-A-9-179297. , JP-A-9-179298, JP-A-2004-294935, JP-A-2006-243493, JP-A-2002-275129, JP-A-2003-64130, JP-A-2003-280187, It is described in Kaihei 10-333321.
 多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、1,3-ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド(EO)変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。メタクリル酸エステルとして、テトラメチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ビス〔p-(3-メタクリルオキシ-2-ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス〔p-(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。また、多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリルアミド、1,6-ヘキサメチレンビスアクリルアミド、1,6-ヘキサメチレンビスメタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。 Specific examples of the monomer of the ester of the polyhydric alcohol compound and the unsaturated carboxylic acid include ethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, and propylene glycol diacrylate as acrylic acid esters. Trimethylol propan triacrylate, hexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, sorbitol triacrylate, isocyanurate ethylene oxide (EO) modified triacrylate, polyester acrylate oligomer and the like. As methacrylic acid ester, tetramethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropantrimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl] There are dimethylmethane, bis [p- (methacrylicoxyethoxy) phenyl] dimethylmethane and the like. Specific examples of the amide monomer of the polyvalent amine compound and the unsaturated carboxylic acid include methylenebisacrylamide, methylenebismethacrylamide, 1,6-hexamethylenebisacrylamide, and 1,6-hexamethylenebismethacrylamide. Diethylenetriaminetrisacrylamide, xylylenebisacrylamide, xylylenebismethacrylamide and the like.
 また、イソシアネートとヒドロキシ基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、その具体例としては、例えば、特公昭48-41708号公報に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記式(M)で表されるヒドロキシ基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
 CH=C(RM4)COOCHCH(RM5)OH    (M)
 式(M)中、RM4及びRM5はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Further, a urethane-based addition-polymerizable compound produced by using an addition reaction of isocyanate and a hydroxy group is also suitable, and specific examples thereof include, for example, 2 per molecule described in JP-A-48-41708. A vinyl urethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxy group represented by the following formula (M) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. And so on.
CH 2 = C (R M4) COOCH 2 CH (R M5) OH (M)
In formula (M), RM4 and RM5 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
 また、特開昭51-37193号公報、特公平2-32293号公報、特公平2-16765号公報、特開2003-344997号公報、特開2006-65210号公報に記載のウレタンアクリレート類、特公昭58-49860号公報、特公昭56-17654号公報、特公昭62-39417号公報、特公昭62-39418号公報、特開2000-250211号公報、特開2007-94138号公報に記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類、米国特許第7153632号明細書、特表平8-505958号公報、特開2007-293221号公報、特開2007-293223号公報に記載の親水基を有するウレタン化合物類も好適である。 Further, the urethane acrylates described in JP-A-51-37193, JP-A-2-32293, JP-A-2-16765, JP-A-2003-344997, and JP-A-2006-65210, Ethylene described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-49860, Japanese Patent Publication No. 56-17654, Japanese Patent Publication No. 62-39417, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-39418, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-250211, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-94138. Urethane compounds having an oxide-based skeleton, urethane compounds having a hydrophilic group described in US Pat. No. 7,153,632, JP-A-8-505598, JP-A-2007-293221, JP-A-2007-293223. Kind is also suitable.
-特定化合物B1-
 上記画像記録層は、耐刷性を高める観点から、上記分子量2,500未満の重合性化合物又は後述する分子量が2,500以上であり、かつ重合性基を有するポリマーとして、エチレン性不飽和結合価(「C=C価」ともいう。)が5.0mmol/g以上の化合物(以下、特定化合物B1ともいう。)を含むことが好ましい。
 特定化合物B1のエチレン性不飽和結合価は、5.5mmol/g以上であることが好ましく、6.0mmol/g以上であることがより好ましい。特定化合物B1のエチレン性不飽和結合価の上限は、例えば、10.0mmol/g以下が挙げられ、8.5mmol/g以下であることがより好ましい。
-Specific compound B1-
From the viewpoint of enhancing printing resistance, the image recording layer is an ethylenically unsaturated bond as a polymerizable compound having a molecular weight of less than 2,500 or a polymer having a molecular weight of 2,500 or more and having a polymerizable group, which will be described later. It is preferable to contain a compound having a valence (also referred to as “C = C valence”) of 5.0 mmol / g or more (hereinafter, also referred to as specific compound B1).
The ethylenically unsaturated bond value of the specific compound B1 is preferably 5.5 mmol / g or more, and more preferably 6.0 mmol / g or more. The upper limit of the ethylenically unsaturated bond value of the specific compound B1 is, for example, 10.0 mmol / g or less, and more preferably 8.5 mmol / g or less.
 ここで、本開示における化合物のエチレン性不飽和結合価は、以下の方法にて求める。まず、所定のサンプル量(例えば、0.2g)の化合物について、例えば、熱分解GC/MS、FT-IR、NMR、TOF-SIMS等を用いて、化合物の構造を特定し、エチレン性不飽和基の総量(mmol)を求める。求められたエチレン性不飽和基の総量(mmol)を、化合物のサンプル量(g)にて除することで、化合物におけるエチレン性不飽和結合価が算出される。 Here, the ethylenically unsaturated bond value of the compound in the present disclosure is determined by the following method. First, for a compound having a predetermined sample amount (for example, 0.2 g), the structure of the compound is specified by using, for example, thermal decomposition GC / MS, FT-IR, NMR, TOF-SIMS, etc., and ethylenically unsaturated. Find the total amount (mmol) of the groups. The ethylenically unsaturated bond value of a compound is calculated by dividing the total amount (mmol) of the determined ethylenically unsaturated groups by the sample amount (g) of the compound.
 特定化合物B1は、上記C=C価を満たす観点から、下記式(I)で表される化合物であることが好ましい。
 式(I) : X-(Y)n  
 式(I)中、Xは水素結合性基を有するn価の有機基を表し、Yは2以上のエチレン性不飽和基を有する1価の基を表し、nは2以上の整数を表し、Xの分子量/(Yの分子量×n)が1以下である。
The specific compound B1 is preferably a compound represented by the following formula (I) from the viewpoint of satisfying the above C = C valence.
Formula (I): X- (Y) n
In formula (I), X represents an n-valent organic group having a hydrogen-bonding group, Y represents a monovalent group having two or more ethylenically unsaturated groups, and n represents an integer of two or more. The molecular weight of X / (molecular weight of Y × n) is 1 or less.
 式(I)のXにおける水素結合性基としては特に制限はなく、水素結合可能な基であればよく、水素結合供与性基であっても、水素結合受容型基であっても、その両方であってもよい。上記水素結合性基としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、カルボニル基、スルホニル基、ウレタン基、ウレア基、イミド基、アミド基、スルホンアミド基等が挙げられる。中でも、上記水素結合性基としては、機上現像性及び耐刷性の観点から、ウレタン基、ウレア基、イミド基、アミド基、及びスルホンアミド基からなる群より選ばれた少なくとも1種の基を含むことが好ましく、ウレタン基、ウレア基、イミド基、及びアミド基からなる群より選ばれた少なくとも1種の基を含むことがより好ましく、ウレタン基、ウレア基、及びイミド基からなる群より選ばれた少なくとも1種の基であることが更に好ましく、ウレタン基及びウレア基からなる群より選ばれた少なくとも1種の基を含むことが特に好ましい。 The hydrogen-bonding group in X of the formula (I) is not particularly limited as long as it is a hydrogen-bondable group, and whether it is a hydrogen-bond-donating group or a hydrogen-bond-accepting group, both of them. It may be. Examples of the hydrogen-bonding group include a hydroxy group, a carboxy group, an amino group, a carbonyl group, a sulfonyl group, a urethane group, a urea group, an imide group, an amide group, a sulfonamide group and the like. Among them, the hydrogen-bonding group is at least one group selected from the group consisting of a urethane group, a urea group, an imide group, an amide group, and a sulfonamide group from the viewpoint of on-machine developability and print resistance. It is more preferable to contain at least one group selected from the group consisting of a urethane group, a urea group, an imide group, and an amide group, and more preferably than the group consisting of a urethane group, a urea group, and an imide group. It is more preferably at least one selected group, and particularly preferably containing at least one group selected from the group consisting of urethane groups and urea groups.
 式(I)におけるXは、エチレン性不飽和結合を有しない有機基であることが好ましい。
 また、式(I)におけるXは、機上現像性及び耐刷性の観点から、1価~n価の脂肪族炭化水素基、1価~n価の芳香族炭化水素基、ウレタン結合、ウレア結合、ビウレット結合、及びアロファネート結合からなる群より選ばれた2種以上の構造を組み合わせた基であることが好ましく、1価~n価の脂肪族炭化水素基、1価~n価の芳香族炭化水素基、ウレタン結合、ウレア結合、及びビウレット結合からなる群より選ばれた2種以上の構造を組み合わせた基であることがより好ましい。
X in the formula (I) is preferably an organic group having no ethylenically unsaturated bond.
Further, X in the formula (I) is a monovalent to n-valent aliphatic hydrocarbon group, a monovalent to n-valent aromatic hydrocarbon group, a urethane bond, or a urea from the viewpoint of on-machine developability and printing resistance. It is preferably a group that combines two or more structures selected from the group consisting of a bond, a biuret bond, and an allophanate bond, and is preferably a monovalent to n-valent aliphatic hydrocarbon group and a monovalent to n-valent aromatic group. It is more preferable that the group is a combination of two or more structures selected from the group consisting of a hydrocarbon group, a urethane bond, a urea bond, and a biuret bond.
 式(I)におけるXは、機上現像性及び耐刷性の観点から、多官能イソシアネート化合物が多量化した多量化体(トリメチロールプロパンアダクト体等の多官能アルコール化合物のアダクト体を含む。)から末端のイソシアネート基を除いた基であることが好ましく、二官能イソシアネート化合物が多量化した多量化体(多官能アルコール化合物のアダクト体を含む。)から末端のイソシアネート基を除いた基であることがより好ましく、ヘキサメチレンジイソシアネートが多量化した多量化体(多官能アルコール化合物のアダクト体を含む。)から末端のイソシアネート基を除いた基であることが特に好ましい。 X in the formula (I) is a quantified product in which a polyfunctional isocyanate compound is increased in a large amount (including an adducted body of a polyfunctional alcohol compound such as a trimethylolpropane adduct) from the viewpoint of on-machine developability and print resistance. It is preferable that the group is a group obtained by removing the terminal isocyanate group from the group, and is a group obtained by removing the terminal isocyanate group from a quantifier (including an adduct of a polyfunctional alcohol compound) in which a bifunctional isocyanate compound is abundant. Is more preferable, and a group in which the terminal isocyanate group is removed from a quantifier (including an adduct of a polyfunctional alcohol compound) in which hexamethylene diisocyanate is increased is particularly preferable.
 式(I)におけるXの分子量は、機上現像性及び耐刷性の観点から、100~1,000が好ましく、150~800であることがより好ましく、150~500であることが特に好ましい。 The molecular weight of X in the formula (I) is preferably 100 to 1,000, more preferably 150 to 800, and particularly preferably 150 to 500, from the viewpoint of on-machine developability and print resistance.
 式(I)のYにおけるエチレン性不飽和基としては特に制限はなく、反応性、機上現像性、及び耐刷性の観点から、ビニルフェニル基、ビニルエステル基、ビニルエーテル基、アリル基、(メタ)アクリロキシ基、及び(メタ)アクリルアミド基からなる群より選ばれた少なくとも1種の基であることが好ましい。上記と同様の観点から、式(I)のYにおけるエチレン性不飽和基としては、ビニルフェニル基、(メタ)アクリロキシ基、及び(メタ)アクリルアミド基からなる群より選ばれた少なくとも1種の基であることがより好ましく、(メタ)アクリロキシ基であることが更に好ましい。即ち、式(I)のYにおけるエチレン性不飽和基は、機上現像性及び耐刷性の観点から、(メタ)アクリロキシ基を含むことが好ましい。 The ethylenically unsaturated group in Y of the formula (I) is not particularly limited, and from the viewpoint of reactivity, on-machine developability, and print resistance, a vinylphenyl group, a vinyl ester group, a vinyl ether group, an allyl group, ( It is preferably at least one group selected from the group consisting of a meta) acryloxy group and a (meth) acrylamide group. From the same viewpoint as above, the ethylenically unsaturated group in Y of the formula (I) is at least one group selected from the group consisting of a vinylphenyl group, a (meth) acryloxy group, and a (meth) acrylamide group. Is more preferable, and it is more preferable that it is a (meth) acrylate group. That is, the ethylenically unsaturated group in Y of the formula (I) preferably contains a (meth) acryloxy group from the viewpoint of on-machine developability and print resistance.
 式(I)におけるYは、3つ以上の(メタ)アクリロキシ基を有する基であることが好ましく、5つ以上の(メタ)アクリロキシ基を有する基であることがより好ましく、5つ以上12つ以下の(メタ)アクリロキシ基を有する基であることが更に好ましい。 Y in the formula (I) is preferably a group having three or more (meth) acryloxy groups, more preferably a group having five or more (meth) acryloxy groups, and five or more twelve. It is more preferable that the group has the following (meth) acryloxy group.
 式(I)におけるYは、機上現像性及び耐刷性の観点から、下記式(Y-1)又は式(Y-2)で表される構造を有していてもよい。 Y in the formula (I) may have a structure represented by the following formula (Y-1) or the formula (Y-2) from the viewpoint of on-machine developability and print resistance.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
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 式(Y-1)及び式(Y-2)中、Rは、それぞれ独立に、アクリル基又はメタクリル基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。 In the formula (Y-1) and the formula (Y-2), R independently represents an acrylic group or a methacrylic group, and the wavy line portion represents the bonding position with another structure.
 式(Y-1)又は式(Y-2)においては、Rは全て同じ基であることが好ましい。また、式(Y-1)又は式(Y-2)においては、Rは、アクリル基であることが好ましい。 In the formula (Y-1) or the formula (Y-2), it is preferable that all Rs have the same group. Further, in the formula (Y-1) or the formula (Y-2), R is preferably an acrylic group.
 更に、式(I)におけるn個のYは、全て同じ基であることが好ましい。 Further, it is preferable that the n Ys in the formula (I) are all the same group.
 式(I)におけるYの分子量は、機上現像性及び耐刷性の観点から、200以上1,000以下であることが好ましく、250以上800以下であることがより好ましい。 The molecular weight of Y in the formula (I) is preferably 200 or more and 1,000 or less, and more preferably 250 or more and 800 or less, from the viewpoint of on-machine developability and print resistance.
 式(I)におけるnは2以上の整数であり、機上現像性及び耐刷性の観点から、2~3であることがより好ましい。 N in the formula (I) is an integer of 2 or more, and is more preferably 2 to 3 from the viewpoint of on-machine developability and print resistance.
 Xの分子量/(Yの分子量×n)は1以下であり、機上現像性及び耐刷性の観点から、0.01~0.8であることが好ましく、0.1~0.5であることがより好ましい。 The molecular weight of X / (molecular weight of Y × n) is 1 or less, preferably 0.01 to 0.8, preferably 0.1 to 0.5, from the viewpoint of on-machine developability and print resistance. More preferably.
 特定化合物B1の構造は、上述のように、多官能イソシアネート化合物の多量化体(アダクト体を含む。)の末端イソシアネート基を、エチレン性不飽和基を有する化合物により封止した構造が好ましく挙げられる。中でも、多官能イソシアネート化合物の多量化体としては、2官能イソシアネート化合物の多量化体が好ましい。 As described above, the structure of the specific compound B1 preferably includes a structure in which the terminal isocyanate group of the quantifier (including the adduct) of the polyfunctional isocyanate compound is sealed with a compound having an ethylenically unsaturated group. .. Among them, as the quantifier of the polyfunctional isocyanate compound, the quantifier of the bifunctional isocyanate compound is preferable.
 また、特定化合物B1は、機上現像性及び耐刷性の観点から、多官能イソシアネート化合物が多量化した多量化体の末端イソシアネート基に、ヒドロキシ基(水酸基ともいう)を末端に有する多官能エチレン性不飽和化合物を反応させてなる化合物であることが好ましい。また、上記と同様の観点から、特定化合物B1は、2官能イソシアネート化合物が多量化した多量化体(多官能アルコール化合物のアダクト体を含む)の末端イソシアネート基に、ヒドロキシ基を有する多官能エチレン性不飽和化合物を反応させてなる化合物であることがより好ましい。更に、上記と同様の観点から、特定化合物B1は、ヘキサメチレンジイソシアネートが多量化した多量化体(多官能アルコール化合物のアダクト体を含む)の末端イソシアネート基に、ヒドロキシ基を有する多官能エチレン性不飽和化合物を反応させてなる化合物であることが特に好ましい。 Further, from the viewpoint of on-machine developability and print resistance, the specific compound B1 is a polyfunctional ethylene having a hydroxy group (also referred to as a hydroxyl group) at the end of the terminal isocyanate group of the multimerized product in which the polyfunctional isocyanate compound is increased in quantity. It is preferably a compound obtained by reacting a sex unsaturated compound. Further, from the same viewpoint as above, the specific compound B1 is a polyfunctional ethylenic compound having a hydroxy group at the terminal isocyanate group of a multimeric compound (including an adduct compound of a polyfunctional alcohol compound) in which a difunctional isocyanate compound is increased in quantity. It is more preferable that the compound is obtained by reacting an unsaturated compound. Further, from the same viewpoint as above, the specific compound B1 is a polyfunctional ethylenically non-polyfunctional compound having a hydroxy group at the terminal isocyanate group of the multimer (including the adduct of the polyfunctional alcohol compound) in which hexamethylene diisocyanate is increased. It is particularly preferable that the compound is obtained by reacting a saturated compound.
 上記多官能イソシアネート化合物としては、特に制限はなく、公知のものを用いることができ、脂肪族多官能イソシアネート化合物であってもよいし、芳香族多官能イソシアネート化合物であってもよい。上記多官能イソシアネート化合物としては、具体的には、例えば、1,3-ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、イソホロンジイソシアネート、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、1,3-シクロペンタンジイソシアネート、9H-フルオレン-2,7-ジイソシアネート、9H-フルオレン-9-オン-2,7-ジイソシアネート、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアナート、1,3-フェニレンジイソシアナート、トリレン-2,4-ジイソシアナート、トリレン-2,6-ジイソシアナート、1,3-ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、2,2-ビス(4-イソシアナトフェニル)ヘキサフルオロプロパン、1,5-ジイソシアナトナフタレン、これらのポリイソシアネートのダイマー、トリマー(イソシアヌレート結合)等が好ましく挙げられる。また、上記のポリイソシアネート化合物と公知のアミン化合物とを反応させたビウレット体を用いてもよい。
 また、上記ヒドロキシ基を有する多官能エチレン性不飽和化合物は、ヒドロキシ基を有する3官能以上のエチレン性不飽和化合物であることが好ましく、ヒドロキシ基を有する5官能以上のエチレン性不飽和化合物であることがより好ましい。上記ヒドロキシ基を有する多官能エチレン性不飽和化合物は、ヒドロキシ基を有する多官能(メタ)アクリレート化合物であることが好ましい。
The polyfunctional isocyanate compound is not particularly limited, and known compounds can be used, and may be an aliphatic polyfunctional isocyanate compound or an aromatic polyfunctional isocyanate compound. Specific examples of the polyfunctional isocyanate compound include 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, isophorone diisocyanate, trimethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, and 1,3-. Cyclopentane diisocyanate, 9H-fluorene-2,7-diisocyanate, 9H-fluoren-9-on-2,7-diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 1,3-phenylenediisocyanate, trilen-2 , 4-Diisocyanate, Trilen-2,6-Diisocyanate, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, 2,2-bis (4-isocyanatophenyl) hexafluoropropane, 1,5-di Isocyanatonaphthalene, dimers of these polyisocyanates, trimmers (isocyanurate bonds) and the like are preferably mentioned. Further, a biuret compound obtained by reacting the above polyisocyanate compound with a known amine compound may be used.
The polyfunctional ethylenically unsaturated compound having a hydroxy group is preferably a trifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound having a hydroxy group, and is a pentafunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound having a hydroxy group. Is more preferable. The polyfunctional ethylenically unsaturated compound having a hydroxy group is preferably a polyfunctional (meth) acrylate compound having a hydroxy group.
 特定化合物B1は、機上現像性及び耐刷性の観点から、アダクト構造、ビウレット構造、及びイソシアヌレート構造よりなる群から選ばれた少なくとも1種の構造を有することが好ましい。上記と同様の観点から、特定化合物B1は、トリメチロールプロパンアダクト構造、ビウレット構造、及びイソシアヌレート構造よりなる群から選ばれた少なくとも1種の構造を有することがより好ましく、トリメチロールプロパンアダクト構造を有することが特に好ましい。 The specific compound B1 preferably has at least one structure selected from the group consisting of an adduct structure, a biuret structure, and an isocyanurate structure from the viewpoint of on-machine developability and print resistance. From the same viewpoint as above, it is more preferable that the specific compound B1 has at least one structure selected from the group consisting of a trimethylolpropane adduct structure, a biuret structure, and an isocyanurate structure, and the trimethylolpropane adduct structure is formed. It is particularly preferable to have.
 特定化合物B1は、機上現像性及び耐刷性の観点から、下記式(A-1)~式(A-3)のいずれかで表される構造を有することが好ましく、下記式(A-1)で表される構造を有することがより好ましい。 From the viewpoint of on-machine developability and print resistance, the specific compound B1 preferably has a structure represented by any of the following formulas (A-1) to (A-3), and the following formula (A-). It is more preferable to have the structure represented by 1).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
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 式(A-1)中、RA1は、水素原子、又は、炭素数1~8のアルキル基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。 In the formula (A-1), RA1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and the wavy line portion represents a bond position with another structure.
 式(A-1)におけるRA1は、機上現像性及び耐刷性の観点から、水素原子、又は炭素数1~4のアルキル基であることが好ましく、炭素数1~3のアルキル基であることがより好ましく、メチル基又はエチル基であることが更に好ましく、エチル基であることが特に好ましい。 R A1 in the formula (A1), from the viewpoint of on-press development property and printing durability, a hydrogen atom, or preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms It is more preferably present, more preferably a methyl group or an ethyl group, and particularly preferably an ethyl group.
 特定化合物B1は、機上現像性及び耐刷性の観点から、ウレタン基を有する(メタ)アクリレート化合物、即ち、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーであることが好ましい。 The specific compound B1 is preferably a (meth) acrylate compound having a urethane group, that is, a urethane (meth) acrylate oligomer from the viewpoint of on-machine developability and print resistance.
 特定化合物B1は、エチレン性不飽和結合価が5.0mmol/g以上であれば、ポリエステル結合を有するオリゴマー(以降、ポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマーともいう)であってもよいし、エポキシ残基を有するオリゴマー(以降、エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーともいう)であってもよい。
 ここで、エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマー中のエポキシ残基は、既述の通りである。
The specific compound B1 may be an oligomer having a polyester bond (hereinafter, also referred to as a polyester (meth) acrylate oligomer) as long as the ethylenically unsaturated bond value is 5.0 mmol / g or more, or an epoxy residue may be used. It may be an oligomer having an oligomer (hereinafter, also referred to as an epoxy (meth) acrylate oligomer).
Here, the epoxy residues in the epoxy (meth) acrylate oligomer are as described above.
 特定化合物B1であるポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマーにおけるエチレン性不飽和基の数は、3以上であることが好ましく、6以上であることが更に好ましい。 The number of ethylenically unsaturated groups in the polyester (meth) acrylate oligomer which is the specific compound B1 is preferably 3 or more, and more preferably 6 or more.
 特定化合物B1であるエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、化合物内にヒドロキシ基を含む化合物が好ましい。また、エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーにおけるエチレン性不飽和基の数は、2~6であることが好ましく、2~3であることがより好ましい。上記エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、例えば、エポキシ基を有する化合物にアクリル酸を反応することにより得ることができる。 As the epoxy (meth) acrylate oligomer which is the specific compound B1, a compound containing a hydroxy group in the compound is preferable. The number of ethylenically unsaturated groups in the epoxy (meth) acrylate oligomer is preferably 2 to 6, and more preferably 2 to 3. The epoxy (meth) acrylate oligomer can be obtained, for example, by reacting a compound having an epoxy group with acrylic acid.
 特定化合物B1の分子量(分子量分布を有する場合には、重量平均分子量)としては、1,000超が好ましく、1,100~10,000がより好ましく、1,100~5,000が更に好ましい。 The molecular weight of the specific compound B1 (weight average molecular weight when having a molecular weight distribution) is preferably more than 1,000, more preferably 1,100 to 10,000, and even more preferably 1,100 to 5,000.
 特定化合物B1は、合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。
 特定化合物B1の具体例としては、例えば、以下に挙げる市販品が挙げられるが、本開示にて用いられる特定化合物B1はこれらに限定されるものではない。なお、カッコ内には、エチレン性不飽和基の官能基数(又は平均官能基数)及びC=C価を示した。
 特定化合物B1の具体例としては、新中村化学工業(株)製のU-10HA(官能基数:10、C=C価:8mmol/g)、U-15HA(官能基数:15、C=C価:6mmol/g)、共栄社化学(株)製のUA-510H(官能基数:10、C=C価:8mmol/g)、ダイセル・オルネクス(株)製のKRM8452(官能基数:10、C=C価:7mmol/g)、サートマー社製のCN8885NS(官能基数:9、C=C価:6mmol/g)、CN9013NS(官能基数:9、C=C価:6mmol/g)等のウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーが挙げられる。
 また、特定化合物B1の具体例としては、新中村化学工業(株)製のNKオリゴ EA-7420/PGMAc(官能基数:10~15、C=C価:5mmol/g)、サートマー社製のCN153(C=C価:5mmol/g)等のエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーが挙げられる。
 更に、特定化合物B1の具体例としては、サートマー社製のCN2267(C=C価:5mmol/g)等のポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマーが挙げられる。
As the specific compound B1, a synthetic product or a commercially available product may be used.
Specific examples of the specific compound B1 include, for example, the following commercially available products, but the specific compound B1 used in the present disclosure is not limited thereto. The number of functional groups (or average number of functional groups) and C = C valence of the ethylenically unsaturated group are shown in parentheses.
Specific examples of the specific compound B1 include U-10HA (number of functional groups: 10, C = C value: 8 mmol / g) and U-15HA (number of functional groups: 15, C = C value) manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd. : 6 mmol / g), UA-510H manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. (number of functional groups: 10, C = C value: 8 mmol / g), KRM8452 manufactured by Daicel Ornex Co., Ltd. (number of functional groups: 10, C = C) Urethane (meth) such as CN8885NS (number of functional groups: 9, C = C value: 6 mmol / g) and CN9013NS (number of functional groups: 9, C = C value: 6 mmol / g) manufactured by Sartmer Co., Ltd. Examples include acrylate oligomers.
Specific examples of the specific compound B1 include NK oligo EA-7420 / PGMAC (number of functional groups: 10 to 15, C = C value: 5 mmol / g) manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., and CN153 manufactured by Sartmer Co., Ltd. Epoxy (meth) acrylate oligomers such as (C = C value: 5 mmol / g) can be mentioned.
Further, specific examples of the specific compound B1 include polyester (meth) acrylate oligomers such as CN2267 (C = C value: 5 mmol / g) manufactured by Sartmer.
 特定化合物B1を用いる場合、画像記録層における重合性化合物の全質量に対する上記特定化合物B1の含有量は、10質量%~100質量%であることが好ましく、50質量%~100質量%であることがより好ましく、80質量%~100質量%であることが更に好ましい。 When the specific compound B1 is used, the content of the specific compound B1 in the image recording layer with respect to the total mass of the polymerizable compound is preferably 10% by mass to 100% by mass, preferably 50% by mass to 100% by mass. Is more preferable, and 80% by mass to 100% by mass is further preferable.
-特定化合物B2-
 重合性化合物としては、低分子化合物として、エチレン性不飽和結合基を1つ又は2つ有する化合物(以下、特定化合物B2ともいう。)を含んでいてもよい。
 特定化合物B2が有するエチレン性不飽和基の好ましい態様は、特定化合物B1におけるエチレン性不飽和基と同様である。
 また、特定化合物B2は、機上現像性の低下を抑制する観点から、エチレン性不飽和結合基を2つ有する化合物(即ち、2官能の重合性化合物)であることが好ましい。
-Specific compound B2-
The polymerizable compound may contain, as a low molecular weight compound, a compound having one or two ethylenically unsaturated bonding groups (hereinafter, also referred to as a specific compound B2).
A preferred embodiment of the ethylenically unsaturated group contained in the specific compound B2 is the same as that of the ethylenically unsaturated group in the specific compound B1.
Further, the specific compound B2 is preferably a compound having two ethylenically unsaturated bonding groups (that is, a bifunctional polymerizable compound) from the viewpoint of suppressing a decrease in on-machine developability.
 特定化合物B2としては、機上現像性及び耐刷性の観点から、メタクリレート化合物、即ち、メタクリロキシ基を有する化合物であることが好ましい。 The specific compound B2 is preferably a methacrylate compound, that is, a compound having a methacryloxy group, from the viewpoint of on-machine developability and print resistance.
 特定化合物B2としては、機上現像性の観点から、アルキレンオキシ構造又はウレタン結合を含むことが好ましい。 The specific compound B2 preferably contains an alkyleneoxy structure or a urethane bond from the viewpoint of on-machine developability.
 特定化合物B2の分子量(分子量分布を有する場合には、重量平均分子量)としては、50以上1,000未満であることが好ましく、200~900であることがより好ましく、250~800であることが更に好ましい。 The molecular weight (weight average molecular weight when having a molecular weight distribution) of the specific compound B2 is preferably 50 or more and less than 1,000, more preferably 200 to 900, and more preferably 250 to 800. More preferred.
 特定化合物B2の具体例を以下に挙げるが、本開示にて用いられる特定化合物B2はこれらに限定されるものではない。なお、下記(2)の化合物中、例えば、n+m=10である Specific examples of the specific compound B2 are given below, but the specific compound B2 used in the present disclosure is not limited thereto. In the compound of the following (2), for example, n + m = 10.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
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 特定化合物B2としては、以下に示す市販品を用いてもよいが、本開示にて用いられる特定化合物B2はこれらに限定されるものではない。
 特定化合物B2の具体例としては、新中村化学工業(株)製のBPE-80N(上記(1)の化合物)、BPE-100、BPE-200、BPE-500、サートマー社製のCN104(上記(1)の化合物)等のエトキシ化ビスフェノールAジメタクリレートが挙げられる。
 また、特定化合物B2の具体例としては、新中村化学工業(株)製のA-BPE-10(上記(2)の化合物)、A-BPE-4等のエトキシ化ビスフェノールAジアクリレートが挙げられる。
 更に、特定化合物B2の具体例としては、AZ Electronics社製のFST 510等の2官能メタクリレートが挙げられる。
As the specific compound B2, commercially available products shown below may be used, but the specific compound B2 used in the present disclosure is not limited thereto.
Specific examples of the specific compound B2 include BPE-80N (compound of (1) above) manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., BPE-100, BPE-200, BPE-500, and CN104 manufactured by Sartmer Co., Ltd. Examples thereof include ethoxylated bisphenol A dimethacrylate such as the compound of 1).
Specific examples of the specific compound B2 include ethoxylated bisphenol A diacrylates such as A-BPE-10 (compound of (2) above) manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd. and A-BPE-4. ..
Further, specific examples of the specific compound B2 include bifunctional methacrylate such as FST 510 manufactured by AZ Electronics.
 ここで、上記「FST 510」は、1モルの2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートと2モルのヒドロキシエチルメタクリレートの反応生成物あって、上記(3)の化合物のメチルエチルケトン82質量%溶液である。 Here, the above "FST 510" is a reaction product of 1 mol of 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate and 2 mol of hydroxyethyl methacrylate, and is a solution of the compound of the above (3) in an 82% by mass of methyl ethyl ketone. is there.
 特定化合物B2の含有量は、機上現像性及び耐刷性の観点から、画像記録層の全質量に対して、1質量%~60質量%であることが好ましく、5質量%~55質量%であることがより好ましく、5質量%~50質量%であることが更に好ましい。
 特定化合物B2を用いる場合、画像記録層における重合性化合物の全質量に対する上記特定化合物B2の含有量は、10質量%~100質量%であることが好ましく、50質量%~100質量%であることがより好ましく、80質量%~100質量%であることが更に好ましい。
The content of the specific compound B2 is preferably 1% by mass to 60% by mass, and 5% by mass to 55% by mass, based on the total mass of the image recording layer, from the viewpoint of on-machine developability and print resistance. Is more preferable, and 5% by mass to 50% by mass is further preferable.
When the specific compound B2 is used, the content of the specific compound B2 with respect to the total mass of the polymerizable compound in the image recording layer is preferably 10% by mass to 100% by mass, preferably 50% by mass to 100% by mass. Is more preferable, and 80% by mass to 100% by mass is further preferable.
 重合性化合物の構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、任意に設定できる。
 重合性化合物の含有量は、画像記録層の全質量に対して、5質量%~75質量%であることが好ましく、10質量%~70質量%であることがより好ましく、15質量%~60質量%であることが特に好ましい。
The details of the method of use such as the structure of the polymerizable compound, whether it is used alone or in combination, and the amount of addition can be arbitrarily set.
The content of the polymerizable compound is preferably 5% by mass to 75% by mass, more preferably 10% by mass to 70% by mass, and 15% by mass to 60% by mass with respect to the total mass of the image recording layer. It is particularly preferably by mass%.
 上記画像記録層において、上記重合性基を有するポリマーの含有量をMpとし、上記7官能以上の重合性化合物の含有量をMmとした場合、Mm/Mpの値は、着肉性、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、0.01以上であることが好ましく、0.015以上であることがより好ましく、0.015以上0.2以下であることが更に好ましく、0.015以上0.1以下であることが特に好ましい。 In the image recording layer, when the content of the polymer having a polymerizable group is Mp and the content of the polymerizable compound having 7 or more functionalities is Mm, the values of Mm / Mp are the onset property and printing resistance. From the viewpoint of property and on-machine developability, it is preferably 0.01 or more, more preferably 0.015 or more, further preferably 0.015 or more and 0.2 or less, and 0. It is particularly preferable that it is 015 or more and 0.1 or less.
-分子量が2,500以上であり、かつ重合性基を有するポリマー-
 上記画像記録層は、分子量が2,500以上であり、かつ重合性基を有するポリマー(単に「重合性基を有するポリマー」ともいう。)を含む。
 上記重合性基としては、着肉性、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、エチレン性不飽和基であることが好ましく、(メタ)アクリロキシ基、(メタ)アクリルアミド基、ビニルエステル基、ビニルエーテル基、アリル基、又は、スチリル基(ビニル芳香族基)であることがより好ましく、(メタ)アクリロキシ基、又は、(メタ)アクリルアミド基であることが特に好ましい。
 上記重合性基を有するポリマーの重量平均分子量は、着肉性、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、5,000以上であることが好ましく、10,000以上であることがより好ましく、15,000以上200,000以下であることが特に好ましい。
-A polymer having a molecular weight of 2,500 or more and having a polymerizable group-
The image recording layer contains a polymer having a molecular weight of 2,500 or more and having a polymerizable group (also simply referred to as a "polymer having a polymerizable group").
The polymerizable group is preferably an ethylenically unsaturated group from the viewpoint of fillability, printing resistance and on-machine developability, and is preferably an ethylenically unsaturated group, a (meth) acryloxy group, a (meth) acrylamide group, or a vinyl ester. It is more preferably a group, a vinyl ether group, an allyl group, or a styryl group (vinyl aromatic group), and particularly preferably a (meth) acryloxy group or a (meth) acrylamide group.
The weight average molecular weight of the polymer having a polymerizable group is preferably 5,000 or more, and more preferably 10,000 or more, from the viewpoint of fillability, print resistance, and on-machine developability. It is preferable, and it is particularly preferable that it is 15,000 or more and 200,000 or less.
 上記重合性基を有するポリマーは、特に制限はなく、付加重合型樹脂であっても、重縮合樹脂であってもよいが、着肉性、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、付加重合型樹脂であることが好ましく、アクリル樹脂であることがより好ましい。
 なお、本開示における「アクリル樹脂」とは、ポリマーの全質量に対し、50質量%以上が(メタ)アクリル化合物(例えば、(メタ)アクリレート化合物、(メタ)アクリルアミド化合物、(メタ)アクリロニトリル等)により形成された構成単位を有するポリマーをいうものとし、70質量%以上が(メタ)アクリル化合物により形成された構成単位を有するポリマーであることが好ましく、80質量%以上が(メタ)アクリル化合物により形成された構成単位を有するポリマーであることがより好ましい。
 また、上記重合性基を有するポリマーは、着肉性の観点から、スチレン-アクリロニトリル共重合体を含むことが好ましく、スチレン-アクリロニトリル共重合体粒子を含むことがより好ましい。
The polymer having the above-mentioned polymerizable group is not particularly limited and may be an addition polymerization type resin or a polycondensation resin, but from the viewpoint of meat-forming property, printing resistance and on-machine developability. , The addition polymerization type resin is preferable, and the acrylic resin is more preferable.
The "acrylic resin" in the present disclosure refers to a (meth) acrylic compound (for example, (meth) acrylate compound, (meth) acrylamide compound, (meth) acrylonitrile, etc.) in an amount of 50% by mass or more based on the total mass of the polymer. It means a polymer having a structural unit formed by, and it is preferable that 70% by mass or more is a polymer having a structural unit formed by a (meth) acrylic compound, and 80% by mass or more is a (meth) acrylic compound. More preferably, it is a polymer having the formed structural units.
Further, the polymer having a polymerizable group preferably contains a styrene-acrylonitrile copolymer, and more preferably contains styrene-acrylonitrile copolymer particles, from the viewpoint of carving property.
 また、上記重合性基を有するポリマーの形状は、特に制限はなく、重合性基を有するポリマー粒子であっても、重合性基を有するバインダーポリマーであってもよいが、上記重合性基を有するポリマーは、着肉性、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、重合性基を有するポリマー粒子を含むことが好ましく、上記画像記録層における上記重合性基を有するポリマーの全質量に対する重合性基を有するポリマー粒子の含有量が、50質量%以上であることがより好ましく、65質量%以上であることが更に好ましく、80質量%以上であることが特に好ましく、90質量%以上であることが最も好ましい。 The shape of the polymer having the polymerizable group is not particularly limited, and may be polymer particles having the polymerizable group or a binder polymer having the polymerizable group, but has the polymerizable group. The polymer preferably contains polymer particles having a polymerizable group from the viewpoints of fillability, print resistance, and on-machine developability, with respect to the total mass of the polymer having the polymerizable group in the image recording layer. The content of the polymer particles having a polymerizable group is more preferably 50% by mass or more, further preferably 65% by mass or more, particularly preferably 80% by mass or more, and 90% by mass or more. Most preferably.
 付加重合型樹脂は、着肉性、及び、機上現像性の観点から、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位、及び、アクリロニトリル化合物により形成される構成単位を有することが好ましい。 The addition polymerization type resin preferably has a structural unit formed of an aromatic vinyl compound and a structural unit formed of an acrylonitrile compound from the viewpoint of meat-forming property and on-machine developability.
〔芳香族ビニル化合物により形成される構成単位〕
 付加重合型樹脂は、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位を有する。
 芳香族ビニル化合物としては、芳香環にビニル基が結合した構造を有する化合物であればよいが、スチレン化合物、ビニルナフタレン化合物等が挙げられ、スチレン化合物が好ましく、スチレンがより好ましい。
 スチレン化合物としては、スチレン、p-メチルスチレン、p-メトキシスチレン、β-メチルスチレン、p-メチル-β-メチルスチレン、α-メチルスチレン、及びp-メトキシ-β-メチルスチレン等が挙げられ、スチレンが好ましく挙げられる。
 ビニルナフタレン化合物としては、1-ビニルナフタレン、メチル-1-ビニルナフタレン、β-メチル-1-ビニルナフタレン、4-メチル-1-ビニルナフタレン、4-メトキシ-1-ビニルナフタレン等が挙げられ、1-ビニルナフタレンが好ましく挙げられる。
[Constituent units formed of aromatic vinyl compounds]
The addition polymerization type resin has a structural unit formed of an aromatic vinyl compound.
The aromatic vinyl compound may be a compound having a structure in which a vinyl group is bonded to an aromatic ring, and examples thereof include a styrene compound and a vinylnaphthalene compound, and a styrene compound is preferable, and styrene is more preferable.
Examples of the styrene compound include styrene, p-methylstyrene, p-methoxystyrene, β-methylstyrene, p-methyl-β-methylstyrene, α-methylstyrene, p-methoxy-β-methylstyrene and the like. Styrene is preferred.
Examples of the vinylnaphthalene compound include 1-vinylnaphthalene, methyl-1-vinylnaphthalene, β-methyl-1-vinylnaphthalene, 4-methyl-1-vinylnaphthalene, 4-methoxy-1-vinylnaphthalene and the like. -Vinylnaphthalene is preferably mentioned.
 また、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位としては、下記式A1で表される構成単位が好ましく挙げられる。 Further, as the structural unit formed of the aromatic vinyl compound, the structural unit represented by the following formula A1 is preferably mentioned.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 式A1中、RA1及びRA2はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Arは芳香環基を表し、RA3は置換基を表し、nはArの最大置換基数以下の整数を表す。
 式A1中、RA1及びRA2はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、いずれも水素原子であることが更に好ましい。
 式A1中、Arはベンゼン環又はナフタレン環であることが好ましく、ベンゼン環であることがより好ましい。
 式A1中、RA3はアルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、炭素数1~4のアルキル基又は炭素数1~4のアルコキシ基であることがより好ましく、メチル基又はメトキシ基であることが更に好ましい。
 式A1中、RA3が複数存在する場合、複数のRA3は同一であってもよいし、それぞれ異なっていてもよい。
 式A1中、nは0~2の整数であることが好ましく、0又は1であることがより好ましく、0であることが更に好ましい。
In the formula A1, are each R A1 and R A2 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group, Ar represents an aromatic ring group, R A3 represents a substituent, n represents the maximum number of substituents below integer Ar ..
In the formula A1, RA1 and RA2 are each independently preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, and both are hydrogen atoms. Is more preferable.
In the formula A1, Ar is preferably a benzene ring or a naphthalene ring, and more preferably a benzene ring.
In the formula A1, RA3 is preferably an alkyl group or an alkoxy group, more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and it is a methyl group or a methoxy group. Is more preferable.
When a plurality of RA3s are present in the formula A1, the plurality of RA3s may be the same or different from each other.
In the formula A1, n is preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1, and even more preferably 0.
 付加重合型樹脂における、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位の含有量は、付加重合型樹脂の全質量に対し、15質量%~85質量%であることが好ましく、30質量%~70質量%であることがより好ましい。 The content of the structural unit formed by the aromatic vinyl compound in the addition polymerization type resin is preferably 15% by mass to 85% by mass, preferably 30% by mass to 70% by mass, based on the total mass of the addition polymerization type resin. More preferably.
〔アクリロニトリル化合物により形成される構成単位〕
 付加重合型樹脂は、アクリロニトリル化合物により形成される構成単位を有する。
 アクリロニトリル化合物としては、(メタ)アクリロニトリル等が挙げられ、アクリロニトリルが好ましく挙げられる。
[Constituent unit formed by acrylonitrile compound]
The addition polymerization type resin has a structural unit formed of an acrylonitrile compound.
Examples of the acrylonitrile compound include (meth) acrylonitrile, and acrylonitrile is preferable.
 また、アクリロニトリル化合物により形成される構成単位としては、下記式B1で表される構成単位が好ましく挙げられる。 Further, as the structural unit formed by the acrylonitrile compound, the structural unit represented by the following formula B1 is preferably mentioned.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
 式B1中、RB1は水素原子又はアルキル基を表す。
 式B1中、RB1は水素原子又は炭素数1~4のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、水素原子であることが更に好ましい。
In formula B1, RB1 represents a hydrogen atom or an alkyl group.
In the formula B1, RB1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, and even more preferably a hydrogen atom.
 付加重合型樹脂における、アクリロニトリル化合物により形成される構成単位の含有量は、付加重合型樹脂の全質量に対し、15質量%~85質量%であることが好ましく、30質量%~70質量%であることがより好ましい。 The content of the structural unit formed by the acrylonitrile compound in the addition polymerization type resin is preferably 15% by mass to 85% by mass, preferably 30% by mass to 70% by mass, based on the total mass of the addition polymerization type resin. More preferably.
〔N-ビニル複素環化合物により形成される構成単位〕
 付加重合型樹脂は、耐刷性及び耐薬品性の観点から、N-ビニル複素環化合物により形成される構成単位を更に有することが好ましい。
 N-ビニル複素環化合物としては、例えば、N-ビニルピロリドン、N-ビニルカルバゾール、N-ビニルピロール、N-ビニルフェノチアジン、N-ビニルコハク酸イミド、N-ビニルフタルイミド、N-ビニルカプロラクタム、及びN-ビニルイミダゾールが挙げられ、N-ビニルピロリドンが好ましい。
[Constituent unit formed of N-vinyl heterocyclic compound]
From the viewpoint of printing resistance and chemical resistance, the addition polymerization type resin preferably further has a structural unit formed of the N-vinyl heterocyclic compound.
Examples of the N-vinyl heterocyclic compound include N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, N-vinylpyrrole, N-vinylphenothiazine, N-vinylsuccinimide, N-vinylphthalimide, N-vinylcaprolactam, and N-vinylcaprolactam. Vinyl imidazole is mentioned, and N-vinylpyrrolidone is preferable.
 また、N-ビニル複素環化合物により形成される構成単位としては、下記式C1で表される構成単位が好ましく挙げられる。 Further, as the structural unit formed by the N-vinyl heterocyclic compound, the structural unit represented by the following formula C1 is preferably mentioned.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 式C1中、Arは窒素原子を含む複素環構造を表し、Ar中の窒素原子が*で示した炭素原子と結合する。
 式C1中、Arにより表される複素環構造は、ピロリドン環、カルバゾール環、ピロール環、フェノチアジン環、スクシンイミド環、フタルイミド環、カプロラクタム環、及びイミダゾール環であることが好ましく、ピロリドン環であることがより好ましい。
 また、Arにより表される複素環構造は公知の置換基を有していてもよい。
In the formula C1, Ar N represents a heterocyclic structure containing a nitrogen atom, a nitrogen atom in Ar N is bonded to the carbon atoms indicated by *.
In the formula C1, the heterocyclic structure represented by Ar N is preferably a pyrrolidone ring, a carbazole ring, a pyrrole ring, a phenothiazine ring, a succinimide ring, a phthalimide ring, a caprolactam ring, and an imidazolid ring, and is preferably a pyrrolidone ring. Is more preferable.
Further, the heterocyclic structure represented by Ar N may have a known substituent.
 付加重合型樹脂における、N-ビニル複素環化合物により形成される構成単位の含有量は、付加重合型樹脂の全質量に対し、5質量%~50質量%であることが好ましく、10質量%~40質量%であることがより好ましい。 The content of the structural unit formed by the N-vinyl heterocyclic compound in the addition polymerization type resin is preferably 5% by mass to 50% by mass, preferably 10% by mass or more, based on the total mass of the addition polymerization type resin. More preferably, it is 40% by mass.
〔重合性基を有する構成単位〕
 付加重合型樹脂は、重合性基を有する構成単位を有することが好ましく、エチレン性不飽和基を有する構成単位を有することがより好ましい。
 エチレン性不飽和基としては、特に限定されないが、ビニル基、アリル基、ビニルフェニル基、(メタ)アクリルアミド基、又は、(メタ)アクリロイルオキシ基等が挙げられ、反応性の観点から、(メタ)アクリロイルオキシ基であることが好ましい。
 エチレン性不飽和基を有する構成単位は、高分子反応又は共重合により付加重合型樹脂に導入することができる。具体的には、例えば、メタクリル酸等のカルボキシ基を有する構成単位を導入した重合体に対し、エポキシ基及びエチレン性不飽和基を有する化合物(例えば、グリシジルメタクリレートなど)を反応させる方法、ヒドロキシ基等の活性水素を有する基を有する構成単位を導入した重合体に対し、イソシアネート基及びエチレン性不飽和基を有する化合物(2-イソシアナトエチルメタクリレートなど)を反応させる方法等により導入することができる。
 また、エチレン性不飽和基を有する構成単位は、グリシジル(メタ)アクリレート等のエポキシ基を有する構成単位を導入した重合体に対し、カルボキシ基及びエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させる等の方法により付加重合型樹脂に導入されてもよい。
 更に、エチレン性不飽和基を有する構成単位は、例えば下記式d1又は下記式d2により表される部分構造を含む単量体を用いることにより付加重合型樹脂中に導入されてもよい。具体的には、例えば、上記単量体を少なくとも用いた重合後に、下記式d1又は下記式d2により表される部分構造に対し、塩基化合物を用いた脱離反応によってエチレン性不飽和基を形成することにより、エチレン性不飽和基を有する構成単位が付加重合型樹脂中に導入される。
[Constituent unit having a polymerizable group]
The addition polymerization type resin preferably has a structural unit having a polymerizable group, and more preferably has a structural unit having an ethylenically unsaturated group.
The ethylenically unsaturated group is not particularly limited, and examples thereof include a vinyl group, an allyl group, a vinylphenyl group, a (meth) acrylamide group, a (meth) acryloyloxy group, and the like, and from the viewpoint of reactivity, (meth) ) It is preferably an acrylamide group.
The structural unit having an ethylenically unsaturated group can be introduced into the addition polymerization type resin by a polymer reaction or copolymerization. Specifically, for example, a method of reacting a polymer having a structural unit having a carboxy group such as methacrylic acid with a compound having an epoxy group and an ethylenically unsaturated group (for example, glycidyl methacrylate), a hydroxy group. It can be introduced by a method of reacting a polymer having a structural unit having a group having an active hydrogen such as, etc. with a compound having an isocyanate group and an ethylenically unsaturated group (2-isocyanatoethyl methacrylate, etc.) or the like. ..
Further, the structural unit having an ethylenically unsaturated group is such that a compound having a carboxy group and an ethylenically unsaturated group is reacted with a polymer into which a structural unit having an epoxy group such as glycidyl (meth) acrylate is introduced. It may be introduced into an addition polymerization type resin by a method.
Further, the structural unit having an ethylenically unsaturated group may be introduced into the addition polymerization type resin by using a monomer containing a partial structure represented by the following formula d1 or the following formula d2, for example. Specifically, for example, after polymerization using at least the above-mentioned monomer, an ethylenically unsaturated group is formed on the partial structure represented by the following formula d1 or the following formula d2 by an elimination reaction using a basic compound. By doing so, a structural unit having an ethylenically unsaturated group is introduced into the addition polymerization type resin.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
 式d1及び式d2中、Rは水素原子又はアルキル基を表し、Aはハロゲン原子を表し、Xは-O-又は-NR-を表し、Rは水素原子又はアルキル基を表し、*は他の構造との結合部位を表す。
 式d1及び式d2中、Rは水素原子又はメチル基であることが好ましい。
 式d1及び式d2中、Aは塩素原子、臭素原子、又は、ヨウ素原子であることが好ましい。
 式d1及び式d2中、Xは-O-であることが好ましい。Xが-NR-を表す場合、Rは水素原子又は炭素数1~4のアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
In the formula d1 and wherein d2, R d represents a hydrogen atom or an alkyl group, A d represents a halogen atom, X d is -O- or -NR N - represents, R N represents a hydrogen atom or an alkyl group , * Represent the binding site with other structures.
In formulas d1 and d2, R d is preferably a hydrogen atom or a methyl group.
In the formula d1 and wherein d2, A d is a chlorine atom, a bromine atom, or preferably a iodine atom.
In formulas d1 and d2, X d is preferably —O—. X d is -NR N - when referring to, R N is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom.
 エチレン性不飽和基を有する構成単位としては、例えば、下記式D1により表される構成単位が挙げられる。 Examples of the structural unit having an ethylenically unsaturated group include a structural unit represented by the following formula D1.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
 式D1中、LD1は単結合又は二価の連結基を表し、LD2はm+1価の連結基を表し、XD1及びXD2はそれぞれ独立に、-O-又は-NR-を表し、Rは水素原子又はアルキル基を表し、RD1及びRD2はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、mは1以上の整数を表す。 In formula D1, L D1 represents a single bond or a divalent linking group, L D2 represents an m + 1 valent linking group, and X D1 and X D2 independently represent -O- or -NR N- , respectively. R N represents a hydrogen atom or an alkyl group, in each of R D1 and R D2 independently represent a hydrogen atom or a methyl group, m represents an integer of 1 or more.
 式D1中、LD1は単結合であることが好ましい。LD1が二価の連結基を表す場合、アルキレン基、アリーレン基又はこれらの2以上が結合した二価の基が好ましく、炭素数2~10のアルキレン基又はフェニレン基がより好ましい。
 式D1中、LD2は下記式D2~下記式D6のいずれかにより表される基が好ましい。
 式D1中、XD1及びXD2はいずれも-O-であることが好ましい。また、XD1及びXD2の少なくとも一つが-NR-を表す場合、Rは水素原子又は炭素数1~4のアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
 式D1中、RD1はメチル基であることが好ましい。
 式D1中、m個のRD2のうち少なくとも1つはメチル基であることが好ましい。
 式D1中、mは1~4の整数であることが好ましく、1又は2であることがより好ましく、1であることが更に好ましい。
In the formula D1, LD1 is preferably a single bond. When LD1 represents a divalent linking group, an alkylene group, an arylene group or a divalent group in which two or more of these are bonded is preferable, and an alkylene group or a phenylene group having 2 to 10 carbon atoms is more preferable.
In the formula D1, L D2 is preferably a group represented by any of the following formulas D2 to D6.
In the formula D1, it is preferable that both X D1 and X D2 are −O−. Further, at least one of X D1 and X D2 is -NR N - when referring to, R N is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom.
In the formula D1, RD1 is preferably a methyl group.
In the formula D1, at least one of m R D2 is preferably a methyl group.
In the formula D1, m is preferably an integer of 1 to 4, more preferably 1 or 2, and even more preferably 1.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
 式D2~式D6中、LD3~LD7は二価の連結基を表し、LD5とLD6は異なっていてもよく、*は式D1中のXD1との結合部位を表し、波線部は式D1中のXD2との結合部位を表す。 In formulas D2 to D6, L D3 to L D7 represent divalent linking groups, L D5 and L D6 may be different, and * represents the binding site with X D1 in formula D1 and wavy lines. Represents the binding site with X D2 in the formula D1.
 式D3中、LD3はアルキレン基、アリーレン基、又はこれらが2以上結合した基であることが好ましく、炭素数1~10のアルキレン基、フェニレン基又はこれらが2以上結合した基であることがより好ましい。
 式D4中、LD4はアルキレン基、アリーレン基、又はこれらが2以上結合した基であることが好ましく、炭素数1~10のアルキレン基、フェニレン基又はこれらが2以上結合した基であることがより好ましい。
 式D5中、LD5はアルキレン基、アリーレン基、又はこれらが2以上結合した基であることが好ましく、炭素数1~10のアルキレン基、フェニレン基又はこれらが2以上結合した基であることがより好ましい。
 式D6中、LD6はアルキレン基、アリーレン基、又はこれらが2以上結合した基であることが好ましく、炭素数1~10のアルキレン基、フェニレン基又はこれらが2以上結合した基であることがより好ましい。
 式D7中、LD7はアルキレン基、アリーレン基、又はこれらが2以上結合した基であることが好ましく、炭素数1~10のアルキレン基、フェニレン基又はこれらが2以上結合した基であることがより好ましい。
In the formula D3, LD3 is preferably an alkylene group, an arylene group, or a group in which two or more of these are bonded, and an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, a phenylene group, or a group in which two or more of these are bonded. More preferred.
In the formula D4, LD4 is preferably an alkylene group, an arylene group, or a group in which two or more of these are bonded, and an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, a phenylene group, or a group in which two or more of these are bonded. More preferred.
In the formula D5, LD5 is preferably an alkylene group, an arylene group, or a group in which two or more of these are bonded, and an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, a phenylene group, or a group in which two or more of these are bonded. More preferred.
In the formula D6, LD6 is preferably an alkylene group, an arylene group, or a group in which two or more of these are bonded, and an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, a phenylene group, or a group in which two or more of these are bonded. More preferred.
In the formula D7, LD7 is preferably an alkylene group, an arylene group, or a group in which two or more of these are bonded, and an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, a phenylene group, or a group in which two or more of these are bonded. More preferred.
 エチレン性不飽和基を有する構成単位の具体例を下記に示すが、本開示に係るバインダーポリマーに含まれるエチレン性不飽和基を有する構成単位は、これに限定されるものではない。下記具体例中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。 Specific examples of the structural unit having an ethylenically unsaturated group are shown below, but the structural unit having an ethylenically unsaturated group contained in the binder polymer according to the present disclosure is not limited to this. In the specific examples below, R independently represents a hydrogen atom or a methyl group.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
 付加重合型樹脂における、重合性基を有する構成単位の含有量は、付加重合型樹脂の全質量に対し、5質量%~60質量%であることが好ましく、10質量%~30質量%であることがより好ましい。 The content of the structural unit having a polymerizable group in the addition polymerization type resin is preferably 5% by mass to 60% by mass, preferably 10% by mass to 30% by mass, based on the total mass of the addition polymerization type resin. Is more preferable.
〔酸基を有する構成単位〕
 付加重合型樹脂は、酸基を有する構成単位を含有してもよいが、機上現像性及びインキ着肉性の観点からは、酸基を有する構成単位を含有しないことが好ましい。
 具体的には、付加重合型樹脂における酸基を有する構成単位の含有量は、20質量%以下であることが好ましく、10質量%以下であることがより好ましく、5質量%以下であることが更に好ましい。上記含有量の下限は特に限定されず、0質量%であってもよい。
 また、付加重合型樹脂の酸価は、160mgKOH/g以下であることが好ましく、80mgKOH/g以下であることがより好ましく、40mgKOH/g以下であることが更に好ましい。上記酸価の下限は特に限定されず、0mgKOH/gであってもよい。
 本開示において、酸価はJIS K0070:1992に準拠した測定法により求められる。
[Constituent unit having an acid group]
The addition polymerization type resin may contain a structural unit having an acid group, but from the viewpoint of on-machine developability and ink penetration property, it is preferable not to contain a structural unit having an acid group.
Specifically, the content of the structural unit having an acid group in the addition polymerization type resin is preferably 20% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, and preferably 5% by mass or less. More preferred. The lower limit of the content is not particularly limited and may be 0% by mass.
The acid value of the addition polymerization type resin is preferably 160 mgKOH / g or less, more preferably 80 mgKOH / g or less, and even more preferably 40 mgKOH / g or less. The lower limit of the acid value is not particularly limited, and may be 0 mgKOH / g.
In the present disclosure, the acid value is determined by a measuring method based on JIS K0070: 1992.
〔疎水性基を有する構成単位〕
 付加重合型樹脂は、インキ着肉性の観点から、疎水性基を含む構成単位を含有してもよい。
 上記疎水性基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。
 疎水性基を含む構成単位としては、アルキル(メタ)アクリレート化合物、アリール(メタ)アクリレート化合物、又は、アラルキル(メタ)アクリレート化合物により形成される構成単位が好ましく、アルキル(メタ)アクリレート化合物により形成される構成単位がより好ましい。
 上記アルキル(メタ)アクリレート化合物におけるアルキル基の炭素数は、1~10であることが好ましい。上記アルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、環状構造を有していてもよい。アルキル(メタ)アクリレート化合物としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
 上記アリール(メタ)アクリレート化合物におけるアリール基の炭素数は、6~20であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。また、上記アリール基は公知の置換基を有していてもよい。アリール(メタ)アクリレート化合物としては、フェニル(メタ)アクリレートが好ましく挙げられる。
 上記アラルキル(メタ)アクリレート化合物におけるアルキル基の炭素数は、1~10であることが好ましい。上記アルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、環状構造を有していてもよい。また、上記アラルキル(メタ)アクリレート化合物におけるアリール基の炭素数は、6~20であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。アラルキル(メタ)アクリレート化合物としては、ベンジル(メタ)アクリレートが好ましく挙げられる。
[Constituent unit having a hydrophobic group]
The addition polymerization type resin may contain a structural unit containing a hydrophobic group from the viewpoint of ink penetration.
Examples of the hydrophobic group include an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group and the like.
As the structural unit containing a hydrophobic group, a structural unit formed of an alkyl (meth) acrylate compound, an aryl (meth) acrylate compound, or an aralkyl (meth) acrylate compound is preferable, and the structural unit is formed of an alkyl (meth) acrylate compound. The structural unit is more preferable.
The alkyl group in the alkyl (meth) acrylate compound preferably has 1 to 10 carbon atoms. The alkyl group may be linear or branched, and may have a cyclic structure. Examples of the alkyl (meth) acrylate compound include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, and dicyclopentanyl (meth) acrylate. Can be mentioned.
The aryl group in the aryl (meth) acrylate compound preferably has 6 to 20 carbon atoms, and more preferably a phenyl group. Moreover, the above-mentioned aryl group may have a known substituent. As the aryl (meth) acrylate compound, phenyl (meth) acrylate is preferably mentioned.
The alkyl group in the aralkyl (meth) acrylate compound preferably has 1 to 10 carbon atoms. The alkyl group may be linear or branched, and may have a cyclic structure. The aryl group in the aralkyl (meth) acrylate compound preferably has 6 to 20 carbon atoms, and more preferably a phenyl group. Benzyl (meth) acrylate is preferably mentioned as the aralkyl (meth) acrylate compound.
 付加重合型樹脂における、疎水性基を有する構成単位の含有量は、付加重合型樹脂の全質量に対し、5質量%~50質量%であることが好ましく、10質量%~30質量%であることがより好ましい。 The content of the structural unit having a hydrophobic group in the addition polymerization type resin is preferably 5% by mass to 50% by mass, preferably 10% by mass to 30% by mass, based on the total mass of the addition polymerization type resin. Is more preferable.
〔架橋構造〕
 付加重合型樹脂は、架橋構造を有することが好ましい。
 架橋構造は、特に制限はないが、多官能エチレン性不飽和化合物を重合してなる構成単位、又は、1種以上の反応性基同士が樹脂内で共有結合を形成した構成単位にて重合性樹脂a1に導入されることが好ましい。
 多官能エチレン性不飽和化合物の官能数としては、版飛びの発生の抑制の観点から、2~15であることが好ましく、3~10であることがより好ましく、4~10であることが更に好ましく、5~10であることが特に好ましい。
 また、上記を言い換えると、架橋構造を有する構成単位は、感度の向上及び版飛びの発生の抑制の観点から、2官能性~15官能性分岐単位であることが好ましく、3官能性~10官能性分岐単位であることがより好ましく、4官能性~10官能性分岐単位であることが更に好ましく、5官能性~10官能性分岐単位であることが特に好ましい。
 なお、n官能性分岐単位とは、n本の分子鎖が出ている分岐単位のことをいい、言い換えると、n官能性分岐点(即ち、架橋構造)を有する構成単位のことである。
[Cross-linked structure]
The addition polymerization type resin preferably has a crosslinked structure.
The crosslinked structure is not particularly limited, but is polymerizable with a structural unit formed by polymerizing a polyfunctional ethylenically unsaturated compound or a structural unit in which one or more reactive groups form a covalent bond in the resin. It is preferably introduced into the resin a1.
The functional number of the polyfunctional ethylenically unsaturated compound is preferably 2 to 15, more preferably 3 to 10, and further preferably 4 to 10 from the viewpoint of suppressing the occurrence of plate skipping. It is preferably 5 to 10, and particularly preferably 5 to 10.
In other words, the structural unit having a crosslinked structure is preferably a bifunctional to 15-functional bifurcated unit from the viewpoint of improving sensitivity and suppressing the occurrence of plate skipping, and is preferably trifunctional to 10-functional. It is more preferably a sex-branching unit, further preferably a tetrafunctional to 10-functional bifurcation unit, and particularly preferably a 5-functional to 10-functional bifurcation unit.
The n-functional branching unit refers to a branching unit in which n molecular chains appear, in other words, a structural unit having an n-functional bifurcation point (that is, a crosslinked structure).
 多官能エチレン性不飽和化合物におけるエチレン性不飽和基としては、特に限定されないが、(メタ)アクリロキシ基、(メタ)アクリルアミド基、芳香族ビニル基、マレイミド基等が挙げられる。
 また、上記多官能エチレン性不飽和化合物は、多官能(メタ)アクリレート化合物、又は多官能(メタ)アクリルアミド化合物、又は、多官能芳香族ビニル化合物であることが好ましく、多官能芳香族ビニル化合物であることがより好ましく、ジビニルベンゼンであることが特に好ましい。
The ethylenically unsaturated group in the polyfunctional ethylenically unsaturated compound is not particularly limited, and examples thereof include a (meth) acryloxy group, a (meth) acrylamide group, an aromatic vinyl group, and a maleimide group.
The polyfunctional ethylenically unsaturated compound is preferably a polyfunctional (meth) acrylate compound, a polyfunctional (meth) acrylamide compound, or a polyfunctional aromatic vinyl compound, and is a polyfunctional aromatic vinyl compound. More preferably, it is particularly preferably divinylbenzene.
 多官能(メタ)アクリレート化合物としては、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、1,4-ブタンジオールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリシクロデカンジメチロールジアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス(β-ヒドロキシエチル)イソシアヌレートのトリアクリレート等が挙げられる。
 多官能(メタ)アクリルアミド化合物としては、N,N’-メチレンビスアクリルアミド、N-[トリス(3-アクリルアミドプロポキシメチル)メチル]アクリルアミド等が挙げられる。
 多官能芳香族ビニル化合物としては、ジビニルベンゼン等が挙げられる。
Examples of the polyfunctional (meth) acrylate compound include diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, and 1,6. -Hexanediol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, trimethylolpropane dimethyloldiacrylate, trimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol hexa. Examples thereof include acrylate and triacrylate of tris (β-hydroxyethyl) isocyanurate.
Examples of the polyfunctional (meth) acrylamide compound include N, N'-methylenebisacrylamide, N- [tris (3-acrylamide propoxymethyl) methyl] acrylamide and the like.
Examples of the polyfunctional aromatic vinyl compound include divinylbenzene and the like.
 架橋構造を有する構成単位の炭素数としては、特に制限はないが、8~100であることが好ましく、8~70であることがより好ましい。 The number of carbon atoms of the structural unit having a crosslinked structure is not particularly limited, but is preferably 8 to 100, and more preferably 8 to 70.
 付加重合型樹脂における、架橋構造を有する構成単位の含有量は、付加重合型樹脂の全質量に対し、0.5質量%~30質量%であることが好ましく、1質量%~20質量%であることがより好ましい。 The content of the structural unit having a crosslinked structure in the addition polymerization type resin is preferably 0.5% by mass to 30% by mass, and 1% by mass to 20% by mass, based on the total mass of the addition polymerization type resin. More preferably.
〔その他の構成単位〕
 付加重合型樹脂は、その他の構成単位を更に含有してもよい。その他の構成単位としては、上述の各構成単位以外の構成単位を特に限定なく含有することができ、例えば、アクリルアミド化合物、ビニルエーテル化合物等により形成される構成単位が挙げられる。
 アクリルアミド化合物としては、例えば、(メタ)アクリルアミド、N-メチル(メタ)アクリルアミド、N-エチル(メタ)アクリルアミド、N-プロピル(メタ)アクリルアミド、N-ブチル(メタ)アクリルアミド、N,N’-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N’-ジエチル(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシブチル(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。
 ビニルエーテル化合物としては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、n-ブチルビニルエーテル、tert-ブチルビニルエーテル、2-エチルヘキシルビニルエーテル、n-ノニルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、4-メチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ジシクロペンテニルビニルエーテル、2-ジシクロペンテノキシエチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、ブトキシエチルビニルエーテル、メトキシエトキシエチルビニルエーテル、エトキシエトキシエチルビニルエーテル、メトキシポリエチレングリコールビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、2-ヒドロキシエチルビニルエーテル、2-ヒドロキシプロピルビニルエーテル、4-ヒドロキシブチルビニルエーテル、4-ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールビニルエーテル、クロロエチルビニルエーテル、クロロブチルビニルエーテル、クロロエトキシエチルビニルエーテル、フェニルエチルビニルエーテル、フェノキシポリエチレングリコールビニルエーテル、などが挙げられる。
[Other building blocks]
The addition polymerization type resin may further contain other structural units. As the other structural units, structural units other than the above-mentioned structural units can be contained without particular limitation, and examples thereof include structural units formed of an acrylamide compound, a vinyl ether compound, and the like.
Examples of acrylamide compounds include (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, N-ethyl (meth) acrylamide, N-propyl (meth) acrylamide, N-butyl (meth) acrylamide, and N, N'-dimethyl. Examples thereof include (meth) acrylamide, N, N'-diethyl (meth) acrylamide, N-hydroxyethyl (meth) acrylamide, N-hydroxypropyl (meth) acrylamide, N-hydroxybutyl (meth) acrylamide and the like.
Examples of the vinyl ether compound include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, tert-butyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, n-nonyl vinyl ether, lauryl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, cyclohexyl methyl vinyl ether and 4-methylcyclohexyl. Methyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, dicyclopentenyl vinyl ether, 2-dicyclopentenoxyethyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, butoxyethyl vinyl ether, methoxyethoxyethyl vinyl ether, ethoxyethoxyethyl vinyl ether, methoxypolyethylene glycol vinyl ether, tetrahydroflu Frill vinyl ether, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 4-hydroxymethylcyclohexylmethylvinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, polyethylene glycol vinyl ether, chloroethyl vinyl ether, chlorobutyl vinyl ether, chloroethoxyethyl vinyl ether, Examples thereof include phenylethyl vinyl ether and phenoxypolyethylene glycol vinyl ether.
 付加重合型樹脂における、その他の構成単位の含有量は、付加重合型樹脂の全質量に対し、5質量%~50質量%であることが好ましく、10質量%~30質量%であることがより好ましい。 The content of the other structural units in the addition polymerization type resin is preferably 5% by mass to 50% by mass, more preferably 10% by mass to 30% by mass, based on the total mass of the addition polymerization type resin. preferable.
 付加重合型樹脂の製造方法は、特に限定されず、公知の方法により製造することができる。
 例えば、スチレン化合物と、アクリロニトリル化合物と、分散性基を有するエチレン性不飽和化合物と、必要に応じて上記N-ビニル複素環化合物、上記エチレン性不飽和基を有する構成単位の形成に用いられる化合物、上記酸基を有する構成単位の形成に用いられる化合物、上記疎水性基を有する構成単位の形成に用いられる化合物、及び、上記その他の構成単位の形成に用いられる化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物とを、公知の方法により重合することにより得られる。
The method for producing the addition polymerization type resin is not particularly limited, and the addition polymerization type resin can be produced by a known method.
For example, a styrene compound, an acrylonitrile compound, an ethylenically unsaturated compound having a dispersible group, an N-vinyl heterocyclic compound as required, and a compound used for forming a structural unit having the ethylenically unsaturated group. Selected from the group consisting of the compound used for forming the structural unit having an acid group, the compound used for forming the structural unit having a hydrophobic group, and the compound used for forming the other structural unit. It is obtained by polymerizing at least one compound by a known method.
 上記重合性基を有するポリマー粒子(単に「ポリマー粒子」ともいう。)は、熱可塑性ポリマー粒子、熱反応性ポリマー粒子、重合性基を有するポリマー粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル、及び、ミクロゲル(架橋ポリマー粒子)よりなる群から選ばれることが好ましい。中でも、重合性基を有するポリマー粒子又はミクロゲルが好ましい。特に好ましい実施形態では、ポリマー粒子は少なくとも1つのエチレン性不飽和重合性基を含む。このようなポリマー粒子の存在により、露光部の耐刷性及び未露光部の機上現像性を高める効果が得られる。
 また、ポリマー粒子は、熱可塑性ポリマー粒子であることが好ましい。
The polymer particles having a polymerizable group (also simply referred to as “polymer particles”) include thermoplastic polymer particles, heat-reactive polymer particles, polymer particles having a polymerizable group, and microcapsules containing a hydrophobic compound. It is preferably selected from the group consisting of microgels (crosslinked polymer particles). Of these, polymer particles or microgels having a polymerizable group are preferable. In a particularly preferred embodiment, the polymer particles contain at least one ethylenically unsaturated polymerizable group. The presence of such polymer particles has the effect of enhancing the print resistance of the exposed portion and the on-machine developability of the unexposed portion.
Further, the polymer particles are preferably thermoplastic polymer particles.
 熱可塑性ポリマー粒子としては、1992年1月のResearch Disclosure No.33303、特開平9-123387号公報、同9-131850号公報、同9-171249号公報、同9-171250号公報及び欧州特許第931647号明細書などに記載の熱可塑性ポリマー粒子が好ましい。
 熱可塑性ポリマー粒子を構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマー若しくはコポリマー又はそれらの混合物を挙げることができる。好ましくは、ポリスチレン、スチレン及びアクリロニトリルを含む共重合体、又は、ポリメタクリル酸メチルを挙げることができる。熱可塑性ポリマー粒子の平均粒径は0.01μm~3.0μmが好ましい。
As the thermoplastic polymer particles, Research Disclosure No. 1 of January 1992. The thermoplastic polymer particles described in 33303, JP-A-9-123387, JP-A-9-131850, JP-A-9-171249, JP-A-9-171250, and European Patent No. 931647 are preferable.
Specific examples of the polymer constituting the thermoplastic polymer particles include ethylene, styrene, vinyl chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, vinylidene chloride, acrylonitrile, vinylcarbazole, and a polyalkylene structure. Examples include homopolymers or copolymers of monomers such as acrylates or methacrylates or mixtures thereof. Preferably, a copolymer containing polystyrene, styrene and acrylonitrile, or polymethylmethacrylate can be mentioned. The average particle size of the thermoplastic polymer particles is preferably 0.01 μm to 3.0 μm.
 熱反応性ポリマー粒子としては、熱反応性基を有するポリマー粒子が挙げられる。熱反応性ポリマー粒子は熱反応による架橋及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する。 Examples of the heat-reactive polymer particles include polymer particles having a heat-reactive group. The heat-reactive polymer particles form a hydrophobic region by cross-linking due to a heat reaction and the change of functional groups at that time.
 熱反応性基を有するポリマー粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよいが、重合性基であることが好ましく、その例として、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など)、カチオン重合性基(例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基など)、付加反応を行うイソシアナート基又はそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基(例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など)、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基又はヒドロキシ基などが好ましく挙げられる。 The thermally reactive group in the polymer particles having a thermally reactive group may be a functional group that undergoes any reaction as long as a chemical bond is formed, but a polymerizable group is preferable, and as an example, it is preferable. Eethylene unsaturated groups (eg, acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, allyl group, etc.), cationically polymerizable groups (eg, vinyl group, vinyloxy group, epoxy group, oxetanyl group, etc.) that carry out a radical polymerization reaction, addition reaction Isocyanato group or a block thereof, an epoxy group, a vinyloxy group, a functional group having an active hydrogen atom which is a reaction partner thereof (for example, an amino group, a hydroxy group, a carboxy group, etc.), a carboxy group for performing a condensation reaction, and a Preferred examples thereof include a hydroxy group or an amino group as a reaction partner, an acid anhydride for carrying out a ring-opening addition reaction, and an amino group or a hydroxy group as a reaction partner.
 マイクロカプセルとしては、例えば、特開2001-277740号公報、特開2001-277742号公報に記載のごとく、画像記録層の構成成分の少なくとも一部をマイクロカプセルに内包させたものである。画像記録層の構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。マイクロカプセルを含有する画像記録層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性の構成成分をマイクロカプセル外に含有する構成が好ましい態様である。 As the microcapsules, for example, as described in JP-A-2001-277740 and JP-A-2001-277742, at least a part of the constituent components of the image recording layer is encapsulated in the microcapsules. The constituent components of the image recording layer can also be contained outside the microcapsules. The image recording layer containing the microcapsules is preferably configured such that the hydrophobic constituents are encapsulated in the microcapsules and the hydrophilic constituents are contained outside the microcapsules.
 ミクロゲル(架橋ポリマー粒子)は、その表面又は内部の少なくとも一方に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができる。特に、ラジカル重合性基をその表面に有する反応性ミクロゲルは、得られる平版印刷版原版の感度、及び、得られる平版印刷版の耐刷性の観点から好ましい。 The microgel (crosslinked polymer particles) can contain a part of the constituent components of the image recording layer on at least one of the surface or the inside thereof. In particular, a reactive microgel having a radically polymerizable group on its surface is preferable from the viewpoint of the sensitivity of the obtained lithographic printing plate original plate and the printing durability of the obtained lithographic printing plate.
 画像記録層の構成成分をマイクロカプセル化又はミクロゲル化するには、公知の方法が適用できる。 A known method can be applied to microencapsulate or microgelify the constituents of the image recording layer.
 また、ポリマー粒子としては、得られる平版印刷版の耐刷性、耐汚れ性及び保存安定性の観点から、分子中に2個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られるものが好ましい。
 上記多価フェノール化合物としては、フェノール性ヒドロキシ基を有するベンゼン環を複数有している化合物が好ましい。
 上記活性水素を有する化合物を有する化合物としては、ポリオール化合物、又は、ポリアミン化合物が好ましく、ポリオール化合物がより好ましく、プロピレングリコール、グリセリン及びトリメチロールプロパンよりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物が更に好ましい。
 分子中に2個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られる樹脂の粒子としては、特開2012-206495号公報の段落0032~0095に記載のポリマー粒子が好ましく挙げられる。
Further, as the polymer particles, an adduct of a polyhydric phenol compound having two or more hydroxy groups in the molecule and isophorone diisocyanate from the viewpoint of printing resistance, stain resistance and storage stability of the obtained flat plate printing plate. The one obtained by the reaction of the polyhydric isocyanate compound and the compound having active hydrogen is preferable.
As the multivalent phenol compound, a compound having a plurality of benzene rings having a phenolic hydroxy group is preferable.
As the compound having the above-mentioned compound having active hydrogen, a polyol compound or a polyamine compound is preferable, a polyol compound is more preferable, and at least one compound selected from the group consisting of propylene glycol, glycerin and trimethylolpropane is further preferable. preferable.
Examples of the resin particles obtained by the reaction of the polyhydric phenol compound having two or more hydroxy groups in the molecule, the polyhydric isocyanate compound which is an adduct of isophorone diisocyanate, and the compound having active hydrogen include The polymer particles described in paragraphs 0032 to 0905 of JP-206495 are preferably mentioned.
 更に、ポリマー粒子としては、得られる平版印刷版の耐刷性及び耐溶剤性の観点から、疎水性主鎖を有し、i)上記疎水性主鎖に直接的に結合されたペンダントシアノ基を有する構成ユニット、及び、ii)親水性ポリアルキレンオキシドセグメントを含むペンダント基を有する構成ユニットの両方を含むことが好ましい。
 上記疎水性主鎖としては、アクリル樹脂鎖が好ましく挙げられる。
 上記ペンダントシアノ基の例としては、-[CHCH(C≡N)-]又は-[CHC(CH)(C≡N)-]が好ましく挙げられる。
 また、上記ペンダントシアノ基を有する構成ユニットは、エチレン系不飽和型モノマー、例えば、アクリロニトリル又はメタクリロニトリルから、又は、これらの組み合わせから容易に誘導することができる。
 また、上記親水性ポリアルキレンオキシドセグメントにおけるアルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド又はプロピレンオキシドが好ましく、エチレンオキシドがより好ましい。
 上記親水性ポリアルキレンオキシドセグメントにおけるアルキレンオキシド構造の繰り返し数は、10~100であることが好ましく、25~75であることがより好ましく、40~50であることが更に好ましい。
 疎水性主鎖を有し、i)上記疎水性主鎖に直接的に結合されたペンダントシアノ基を有する構成ユニット、及び、ii)親水性ポリアルキレンオキシドセグメントを含むペンダント基を有する構成ユニットの両方を含む樹脂の粒子としては、特表2008-503365号公報の段落0039~0068に記載のものが好ましく挙げられる。
Further, the polymer particles have a hydrophobic main chain from the viewpoint of printing resistance and solvent resistance of the obtained lithographic printing plate, and i) a pendant cyano group directly bonded to the hydrophobic main chain. It is preferable to include both a constituent unit having and ii) a constituent unit having a pendant group containing a hydrophilic polyalkylene oxide segment.
Acrylic resin chains are preferably mentioned as the hydrophobic main chain.
As an example of the pendant cyano group,-[CH 2 CH (C≡N)-] or-[CH 2 C (CH 3 ) (C≡N)-] is preferably mentioned.
In addition, the constituent unit having the pendant cyano group can be easily derived from an ethylene-based unsaturated monomer such as acrylonitrile or methacrylonitrile, or from a combination thereof.
Further, as the alkylene oxide in the hydrophilic polyalkylene oxide segment, ethylene oxide or propylene oxide is preferable, and ethylene oxide is more preferable.
The number of repetitions of the alkylene oxide structure in the hydrophilic polyalkylene oxide segment is preferably 10 to 100, more preferably 25 to 75, and even more preferably 40 to 50.
Both a constituent unit having a hydrophobic backbone and i) having a pendant cyano group directly attached to the hydrophobic backbone and ii) a constituent unit having a pendant group containing a hydrophilic polyalkylene oxide segment. As the resin particles containing the above, those described in paragraphs 0039 to 0068 of JP-A-2008-503365 are preferably mentioned.
 また、上記ポリマー粒子は、着肉性、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、親水性基を有することが好ましい。
 上記親水性基としては、親水性を有する構造であれば、特に制限はないが、カルボキシ基等の酸基、ヒドロキシ基、アミノ基、シアノ基、ポリアルキレンオキシド構造等が挙げられる。
 中でも、着肉性、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、ポリアルキレンオキシド構造が好ましく、ポリエチレンオキシド構造、ポリプロピレンオキシド構造、又は、ポリエチレン/プロピレンオキシド構造がより好ましい。
 また、機上現像性、及び、機上現像時の現像カス抑制性の観点からは、上記ポリアルキレンオキシド構造として、ポリプロピレンオキシド構造を有することが好ましく、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有することがより好ましい。
 また、上記親水性基としては、耐刷性、着肉性、及び、機上現像性の観点から、シアノ基を有する構成単位、又は、下記式Zで表される基を含むことが好ましく、下記式(AN)で表される構成単位、又は、下記式Zで表される基を含むことがより好ましく、下記式Zで表される基を含むことが特に好ましい。
 *-Q-W-Y 式Z
 式Z中、Qは二価の連結基を表し、Wは親水性構造を有する二価の基又は疎水性構造を有する二価の基を表し、Yは親水性構造を有する一価の基又は疎水性構造を有する一価の基を表し、W及びYのいずれかは親水性構造を有し、*は他の構造との結合部位を表す。
Further, the polymer particles preferably have a hydrophilic group from the viewpoint of fillability, printing resistance, and on-machine developability.
The hydrophilic group is not particularly limited as long as it has a hydrophilic structure, and examples thereof include an acid group such as a carboxy group, a hydroxy group, an amino group, a cyano group, and a polyalkylene oxide structure.
Among them, a polyalkylene oxide structure is preferable, and a polyethylene oxide structure, a polypropylene oxide structure, or a polyethylene / propylene oxide structure is more preferable, from the viewpoints of fillability, printing resistance, and on-machine developability.
Further, from the viewpoint of on-machine developability and ability to suppress development residue during on-machine development, the polyalkylene oxide structure preferably has a polypropylene oxide structure, and may have a polyethylene oxide structure and a polypropylene oxide structure. More preferred.
Further, the hydrophilic group preferably contains a structural unit having a cyano group or a group represented by the following formula Z from the viewpoint of print resistance, fillability and on-machine developability. It is more preferable to include a structural unit represented by the following formula (AN) or a group represented by the following formula Z, and it is particularly preferable to include a group represented by the following formula Z.
* -Q-W-Y formula Z
In formula Z, Q represents a divalent linking group, W represents a divalent group having a hydrophilic structure or a divalent group having a hydrophobic structure, and Y represents a monovalent group having a hydrophilic structure or It represents a monovalent group having a hydrophobic structure, either W or Y has a hydrophilic structure, and * represents a binding site with another structure.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 式(AN)中、RANは、水素原子又はメチル基を表す。 In formula (AN), RAN represents a hydrogen atom or a methyl group.
 上記ポリマー粒子に含まれるポリマーは、耐刷性の観点から、シアノ基を有する化合物により形成される構成単位を含むことが好ましい。
 シアノ基は、通常、シアノ基を有する化合物(モノマー)を用いて、シアノ基を含む構成単位として樹脂Aに導入されることが好ましい。シアノ基を有する化合物としては、アクリロニトリル化合物が挙げられ、(メタ)アクリロニトリルが好適に挙げられる。
 シアノ基を有する構成単位としては、アクリロニトリル化合物により形成される構成単位であることが好ましく、(メタ)アクリロニトリルにより形成される構成単位、すなわち、上記式(AN)で表される構成単位がより好ましい。
 上記ポリマーが、シアノ基を有する構成単位を有するポリマーを含む場合、シアノ基を有する構成単位を有するポリマーにおけるシアノ基を有する構成単位、好ましくは上記式(AN)で表される構成単位の含有量は、耐刷性の観点から、シアノ基を有する構成単位を有するポリマーの全質量に対し、5質量%~90質量%であることが好ましく、20質量%~80質量%であることがより好ましく、30質量%~60質量%であることが特に好ましい。
From the viewpoint of print resistance, the polymer contained in the polymer particles preferably contains a structural unit formed of a compound having a cyano group.
The cyano group is usually preferably introduced into the resin A as a structural unit containing a cyano group by using a compound (monomer) having a cyano group. Examples of the compound having a cyano group include acrylonitrile compounds, and (meth) acrylonitrile is preferable.
The structural unit having a cyano group is preferably a structural unit formed of an acrylonitrile compound, and more preferably a structural unit formed of (meth) acrylonitrile, that is, a structural unit represented by the above formula (AN). ..
When the polymer contains a polymer having a structural unit having a cyano group, the content of the structural unit having a cyano group, preferably the structural unit represented by the above formula (AN), in the polymer having a structural unit having a cyano group. Is preferably 5% by mass to 90% by mass, more preferably 20% by mass to 80% by mass, based on the total mass of the polymer having a structural unit having a cyano group, from the viewpoint of printing resistance. , 30% by mass to 60% by mass is particularly preferable.
 また、上記ポリマー粒子は、着肉性、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、上記式Zで表される基を有するポリマー粒子を含むことが好ましい。 Further, the polymer particles preferably contain polymer particles having a group represented by the above formula Z from the viewpoints of fillability, print resistance, and on-machine developability.
 上記式ZにおけるQは、炭素数1~20の二価の連結基であることが好ましく、炭素数1~10の二価の連結基であることがより好ましい。
 また、上記式ZにおけるQは、アルキレン基、アリーレン基、エステル結合、アミド結合、又は、これらを2以上組み合わせた基であることが好ましく、フェニレン基、エステル結合、又は、アミド結合であることがより好ましい。
Q in the above formula Z is preferably a divalent linking group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably a divalent linking group having 1 to 10 carbon atoms.
Further, Q in the above formula Z is preferably an alkylene group, an arylene group, an ester bond, an amide bond, or a group in which two or more of these are combined, and may be a phenylene group, an ester bond, or an amide bond. More preferred.
 上記式ZのWにおける親水性構造を有する二価の基は、ポリアルキレンオキシ基、又は、ポリアルキレンオキシ基の一方の末端に-CHCHNR-が結合した基であることが好ましい。なお、Rは、水素原子又はアルキル基を表す。
 上記式ZのWにおける疎水性構造を有する二価の基は、-RWA-、-O-RWA-O-、-RN-RWA-NR-、-OC(=O)-RWA-O-、又は、-OC(=O)-RWA-O-であることが好ましい。なお、RWAはそれぞれ独立に、炭素数6~120の直鎖、分岐若しくは環状アルキレン基、炭素数6~120のハロアルキレン基、炭素数6~120のアリーレン基、炭素数6~120のアルカーリレン基(アルキルアリール基から水素原子を1つ除いた二価の基)、又は、炭素数6~120のアラルキレン基を表す。
The divalent group having a hydrophilic structure in W of the above formula Z is preferably a polyalkyleneoxy group or a group in which -CH 2 CH 2 NR W- is bonded to one end of a polyalkyleneoxy group. .. Incidentally, R W represents a hydrogen atom or an alkyl group.
The divalent group having a hydrophobic structure in the W of formula Z, -R WA -, - O -R WA -O -, - R W N-R WA -NR W -, - OC (= O) - It is preferably R WA- O- or -OC (= O) -R WA- O-. The RWAs are independently linear, branched or cyclic alkylene groups having 6 to 120 carbon atoms, haloalkylene groups having 6 to 120 carbon atoms, arylene groups having 6 to 120 carbon atoms, and alcoholylenes having 6 to 120 carbon atoms. It represents a group (a divalent group obtained by removing one hydrogen atom from an alkylaryl group) or an aralkylene group having 6 to 120 carbon atoms.
 上記式ZのYにおける親水性構造を有する一価の基は、-OH、-C(=O)OH、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基、又は、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基の他方の末端に-CHCHN(R)-が結合した基であることが好ましい。
 上記式ZのYにおける疎水性構造を有する一価の基は、炭素数6~120の直鎖、分岐若しくは環状アルキル基、炭素数6~120のハロアルキル基、炭素数6~120のアリール基、炭素数6~120のアルカーリル基(アルキルアリール基)、炭素数6~120のアラルキル基、-ORWB、-C(=O)ORWB、又は、-OC(=O)RWBであることが好ましい。RWBは、炭素数6~20を有するアルキル基を表す。
The monovalent group having a hydrophilic structure in Y of the above formula Z is -OH, -C (= O) OH, a polyalkyleneoxy group having a hydrogen atom or an alkyl group at the end, or a hydrogen atom or alkyl at the end. it is preferably bound group - at the other end of the polyalkyleneoxy group is a group -CH 2 CH 2 N (R W ).
The monovalent group having a hydrophobic structure in Y of the above formula Z is a linear, branched or cyclic alkyl group having 6 to 120 carbon atoms, a haloalkyl group having 6 to 120 carbon atoms, an aryl group having 6 to 120 carbon atoms, and the like. It may be an alcoholyl group (alkylaryl group) having 6 to 120 carbon atoms, an aralkyl group having 6 to 120 carbon atoms, -OR WB , -C (= O) OR WB , or -OC (= O) R WB. preferable. RWB represents an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms.
 上記式Zで表される基を有するポリマー粒子は、着肉性、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、Wが親水性構造を有する二価の基であることがより好ましく、Qがフェニレン基、エステル結合、又は、アミド結合であり、Wは、ポリアルキレンオキシ基であり、Yが、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基であることがより好ましい。 The polymer particles having a group represented by the above formula Z are more preferably divalent groups in which W has a hydrophilic structure from the viewpoints of fillability, print resistance and on-machine developability. It is more preferable that Q is a phenylene group, an ester bond, or an amide bond, W is a polyalkyleneoxy group, and Y is a polyalkyleneoxy group having a hydrogen atom or an alkyl group at the end.
 また、上記ポリマー粒子は、着肉性、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、粒子表面に重合性基を有するポリマー粒子を含むことがより好ましい。
 更に、上記ポリマー粒子は、耐刷性の観点から、親水性基及び重合性基を有するポリマー粒子を含むことが好ましい。
 また、上記重合性基を有するポリマー粒子におけるポリマーは、重合性基を有する構成単位を有することが好ましい。
 更に、高分子反応によりポリマー粒子表面に重合性基を導入してもよい。
Further, it is more preferable that the polymer particles contain polymer particles having a polymerizable group on the particle surface from the viewpoint of fillability, print resistance and on-machine developability.
Further, the polymer particles preferably contain polymer particles having a hydrophilic group and a polymerizable group from the viewpoint of printing resistance.
Further, the polymer in the polymer particles having a polymerizable group preferably has a structural unit having a polymerizable group.
Further, a polymerizable group may be introduced on the surface of the polymer particles by a polymer reaction.
 また、上記ポリマー粒子は、耐刷性、着肉性、特色着肉性、UV版飛び抑制性、機上現像性、機上現像時の現像カス抑制性の観点から、ウレア結合を有する樹脂を含むことが好ましく、下記式(Iso)で表されるイソシアネート化合物と水とを少なくとも反応させて得られる構造を有する樹脂を含むことがより好ましく、下記式(Iso)で表されるイソシアネート化合物と水とを少なくとも反応させて得られる構造を有し、かつポリオキシアルキレン構造として、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有する樹脂を含むことが特に好ましい。また、上記ウレア結合を有する樹脂を含む粒子は、ミクロゲルであることが好ましい。 In addition, the polymer particles are made of a resin having a urea bond from the viewpoints of printing resistance, fleshing property, characteristic fleshing property, UV plate skipping suppressing property, on-machine development property, and developing residue suppressing property during on-machine development. It is preferable to include a resin having a structure obtained by at least reacting an isocyanate compound represented by the following formula (Iso) with water, and an isocyanate compound represented by the following formula (Iso) and water. It is particularly preferable to contain a resin having a structure obtained by at least reacting with and having a polyethylene oxide structure and a polypropylene oxide structure as the polyoxyalkylene structure. Further, the particles containing the resin having a urea bond are preferably microgels.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
 式(Iso)中、nは0~10の整数を表す。 In the formula (Iso), n represents an integer from 0 to 10.
 上記式(Iso)で表されるイソシアネート化合物と水との反応の一例としては、下記に示す反応が挙げられる。なお、下記の例は、n=0、4,4-異性体を使用した例である。
 下記に示すように、上記式(Iso)で表されるイソシアネート化合物と水とを反応させると、水によりイソシアネート基の一部が加水分解し、アミノ基が生じ、生じたアミノ基とイソシアネート基とが反応し、ウレア結合が生成し、二量体が形成される。また、下記反応が繰り返され、ウレア結合を有する樹脂が形成される。
 また、下記反応において、アルコール化合物、アミン化合物等のイソシアネート基と反応性を有する化合物(活性水素を有する化合物)を添加することにより、アルコール化合物、アミン化合物等の構造をウレア結合を有する樹脂に導入することもできる。
 上記活性水素を有する化合物としては、上述したミクロゲルにおいて記載したものが好ましく挙げられる。
An example of the reaction between the isocyanate compound represented by the above formula (Iso) and water is the reaction shown below. The following example is an example using n = 0, 4,4-isomer.
As shown below, when the isocyanate compound represented by the above formula (Iso) is reacted with water, a part of the isocyanate group is hydrolyzed by water to generate an amino group, and the generated amino group and isocyanate group Reacts to form urea bonds and dimers are formed. Further, the following reaction is repeated to form a resin having a urea bond.
Further, in the following reaction, by adding a compound (compound having active hydrogen) reactive with an isocyanate group such as an alcohol compound or an amine compound, the structure of the alcohol compound or the amine compound is introduced into the resin having a urea bond. You can also do it.
As the compound having active hydrogen, those described in the above-mentioned microgel are preferably mentioned.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
 また、上記ウレア結合を有する樹脂は、エチレン性不飽和基を有することが好ましく、下記式(PETA)で表される基を有することがより好ましい。 Further, the resin having a urea bond preferably has an ethylenically unsaturated group, and more preferably has a group represented by the following formula (PETA).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
 式(PETA)中、波線部分は、他の構造との結合位置を表す。 In the formula (PETA), the wavy line part represents the connection position with other structures.
 上記ポリマー粒子の平均粒径は、0.01μm~3.0μmが好ましく、0.03μm~2.0μmがより好ましく、0.10μm~1.0μmが更に好ましい。この範囲で良好な解像度と経時安定性が得られる。
 本開示における上記粒子の平均一次粒径は、光散乱法により測定するか、又は、粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上で粒子の粒径を総計で5,000個測定し、平均値を算出するものとする。なお、非球形粒子については写真上の粒子面積と同一の粒子面積を有する球形粒子の粒径値を粒径とする。
 また、本開示における平均粒径は、特に断りのない限り、体積平均粒径であるものとする。
The average particle size of the polymer particles is preferably 0.01 μm to 3.0 μm, more preferably 0.03 μm to 2.0 μm, and even more preferably 0.10 μm to 1.0 μm. Good resolution and stability over time can be obtained in this range.
The average primary particle size of the particles in the present disclosure is measured by a light scattering method, or an electron micrograph of the particles is taken, and a total of 5,000 particle sizes are measured on the photograph, and the average value is obtained. Shall be calculated. For non-spherical particles, the particle size value of spherical particles having the same particle area as the particle area on the photograph is used as the particle size.
Further, the average particle size in the present disclosure shall be the volume average particle size unless otherwise specified.
 上記画像記録層は、ポリマー粒子を1種単独で含有していても、2種以上を含有していてもよい。
 また、上記画像記録層におけるポリマー粒子の含有量は、着肉性、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、上記画像記録層の全質量に対し、5質量%~90質量%が好ましく、10質量%~90質量%であることがより好ましく、20質量%~90質量%であることが更に好ましく、50質量%~90質量%であることが特に好ましい。
 また、上記画像記録層におけるポリマー粒子の含有量は、着肉性、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、上記画像記録層中の分子量2,500以上の成分の全質量に対し、20質量%~100質量%が好ましく、35質量%~100質量%であることがより好ましく、50質量%~100質量%であることが更に好ましく、80質量%~100質量%であることが特に好ましい。
The image recording layer may contain one type of polymer particles alone, or may contain two or more types of polymer particles.
The content of the polymer particles in the image recording layer is 5% by mass to 90% by mass with respect to the total mass of the image recording layer from the viewpoint of fillability, printing resistance, and on-machine developability. It is preferably 10% by mass to 90% by mass, more preferably 20% by mass to 90% by mass, and particularly preferably 50% by mass to 90% by mass.
Further, the content of the polymer particles in the image recording layer is based on the total mass of the components having a molecular weight of 2,500 or more in the image recording layer from the viewpoints of fillability, printing resistance and on-machine developability. , 20% by mass to 100% by mass, more preferably 35% by mass to 100% by mass, further preferably 50% by mass to 100% by mass, and 80% by mass to 100% by mass. Especially preferable.
 上記画像記録層は、重合性基を有するポリマーとして、バインダーポリマーを含んでいてもよいが、着肉性、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、含まないことが好ましい。
 上記バインダーポリマーは、上記ポリマー粒子以外のポリマー、すなわち、粒子形状でないバインダーポリマーである。
 上記バインダーポリマーとしては、(メタ)アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、又は、ポリウレタン樹脂が好ましい。
The image recording layer may contain a binder polymer as a polymer having a polymerizable group, but it is preferable not to contain the binder polymer from the viewpoint of fillability, print resistance, and on-machine developability.
The binder polymer is a polymer other than the polymer particles, that is, a binder polymer that is not in the form of particles.
As the binder polymer, a (meth) acrylic resin, a polyvinyl acetal resin, or a polyurethane resin is preferable.
 中でも、上記バインダーポリマーは、平版印刷版原版の画像記録層に用いられる公知のバインダーポリマーを好適に使用することができる。一例として、機上現像型の平版印刷版原版に用いられるバインダーポリマー(以下、機上現像用バインダーポリマーともいう。)について、詳細に記載する。
 機上現像用バインダーポリマーとしては、アルキレンオキシド鎖を有するバインダーポリマーが好ましい。アルキレンオキシド鎖を有するバインダーポリマーは、ポリ(アルキレンオキシド)部位を主鎖に有していても側鎖に有していてもよい。また、ポリ(アルキレンオキシド)を側鎖に有するグラフトポリマーでも、ポリ(アルキレンオキシド)含有繰返し単位で構成されるブロックと(アルキレンオキシド)非含有繰返し単位で構成されるブロックとのブロックコポリマーでもよい。
 ポリ(アルキレンオキシド)部位を主鎖に有する場合は、ポリウレタン樹脂が好ましい。ポリ(アルキレンオキシド)部位を側鎖に有する場合の主鎖のポリマーとしては、(メタ)アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ノボラック型フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられ、特に(メタ)アクリル樹脂が好ましい。
Above all, as the binder polymer, a known binder polymer used for the image recording layer of the lithographic printing plate original plate can be preferably used. As an example, a binder polymer (hereinafter, also referred to as a binder polymer for on-machine development) used in a machine-developed planographic printing plate original plate will be described in detail.
As the binder polymer for on-machine development, a binder polymer having an alkylene oxide chain is preferable. The binder polymer having an alkylene oxide chain may have a poly (alkylene oxide) moiety in the main chain or the side chain. Further, it may be a graft polymer having a poly (alkylene oxide) in a side chain, or a block copolymer of a block composed of a poly (alkylene oxide) -containing repeating unit and a block composed of a (alkylene oxide) -free repeating unit.
When the main chain has a poly (alkylene oxide) moiety, a polyurethane resin is preferable. When the main chain polymer has a poly (alkylene oxide) moiety in the side chain, the polymer of the main chain is (meth) acrylic resin, polyvinyl acetal resin, polyurethane resin, polyurea resin, polyimide resin, polyamide resin, epoxy resin, polystyrene resin, novolak type. Examples thereof include phenol resin, polyester resin, synthetic rubber and natural rubber, and (meth) acrylic resin is particularly preferable.
 また、バインダーポリマーの他の好ましい例として、6官能以上10官能以下の多官能チオールを核として、この核に対しスルフィド結合により結合したポリマー鎖を有し、当該ポリマー鎖が重合性基を有する高分子化合物(以下、星型高分子化合物ともいう。)が挙げられる。星型高分子化合物としては、例えば、特開2012-148555号公報に記載の化合物を好ましく用いることができる。 Further, as another preferable example of the binder polymer, a high molecular weight polymer chain having a polyfunctional thiol having 6 or more functionalities and 10 or less functional as a nucleus and being bonded to the nucleus by a sulfide bond, and the polymer chain having a polymerizable group Examples thereof include molecular compounds (hereinafter, also referred to as star-shaped polymer compounds). As the star-shaped polymer compound, for example, the compound described in JP2012-148555 can be preferably used.
 星型高分子化合物は、特開2008-195018号公報に記載のような画像部の皮膜強度を向上するためのエチレン性不飽和結合等の重合性基を、主鎖又は側鎖、好ましくは側鎖に有しているものが挙げられる。重合性基によってポリマー分子間に架橋が形成され、硬化が促進する。
 重合性基としては、(メタ)アクリル基、ビニル基、アリル基、スチリル基などのエチレン性不飽和基やエポキシ基等が好ましく、(メタ)アクリル基、ビニル基、スチリル基が重合反応性の観点でより好ましく、(メタ)アクリル基が特に好ましい。これらの基は高分子反応や共重合によってポリマーに導入することができる。例えば、カルボキシ基を側鎖に有するポリマーとグリシジルメタクリレートとの反応、あるいはエポキシ基を有するポリマーとメタクリル酸などのエチレン性不飽和基含有カルボン酸との反応を利用できる。これらの基は併用してもよい。
The star-shaped polymer compound contains a polymerizable group such as an ethylenically unsaturated bond for improving the film strength of the image portion as described in JP-A-2008-195018, with a main chain or a side chain, preferably a side chain. Examples include those held in the chain. The polymerizable group forms crosslinks between the polymer molecules to promote curing.
As the polymerizable group, an ethylenically unsaturated group such as a (meth) acrylic group, a vinyl group, an allyl group or a styryl group or an epoxy group is preferable, and a (meth) acrylic group, a vinyl group or a styryl group is polymerizable. From the viewpoint, it is more preferable, and a (meth) acrylic group is particularly preferable. These groups can be introduced into the polymer by polymer reaction or copolymerization. For example, a reaction between a polymer having a carboxy group in the side chain and glycidyl methacrylate, or a reaction between a polymer having an epoxy group and an ethylenically unsaturated group-containing carboxylic acid such as methacrylic acid can be used. These groups may be used together.
 バインダーポリマーの分子量は、GPC法によるポリスチレン換算値として重量平均分子量(Mw)が、2,000以上であることが好ましく、5,000以上であることがより好ましく、10,000~300,000であることが更に好ましい。 The molecular weight of the binder polymer preferably has a weight average molecular weight (Mw) of 2,000 or more, more preferably 5,000 or more, and is 10,000 to 300,000 as a polystyrene-equivalent value by the GPC method. It is more preferable to have.
 必要に応じて、特開2008-195018号公報に記載のポリアクリル酸、ポリビニルアルコールなどの親水性ポリマーを併用することができる。また、親油的なポリマーと親水的なポリマーとを併用することもできる。 If necessary, hydrophilic polymers such as polyacrylic acid and polyvinyl alcohol described in JP-A-2008-195018 can be used in combination. In addition, a lipophilic polymer and a hydrophilic polymer can be used in combination.
 本開示において用いられる画像記録層においては、バインダーポリマーを1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
 上記バインダーポリマーは、画像記録層中に任意な量で含有させることができるが、着肉性、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、上記バインダーポリマーを含まないか、又は、上記バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、0質量%を超え20質量%以下であることが好ましく、上記バインダーポリマーを含まないか、又は、上記バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、0質量%を超え10質量%以下であることがより好ましく、上記バインダーポリマーを含まないか、又は、上記バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、0質量%を超え5質量%以下であることが更に好ましく、上記バインダーポリマーを含まないか、又は、上記バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、0質量%を超え2質量%以下であることが特に好ましく、上記バインダーポリマーを含まないことが最も好ましい。
In the image recording layer used in the present disclosure, one type of binder polymer may be used alone, or two or more types may be used in combination.
The binder polymer can be contained in the image recording layer in an arbitrary amount, but from the viewpoint of fillability, print resistance, and on-machine developability, the binder polymer is not contained or the binder polymer is not contained. The content of the binder polymer is preferably more than 0% by mass and 20% by mass or less with respect to the total mass of the image recording layer, and either does not contain the binder polymer or the content of the binder polymer is It is more preferably more than 0% by mass and 10% by mass or less with respect to the total mass of the image recording layer, and the binder polymer is not contained or the content of the binder polymer is the total mass of the image recording layer. It is more preferably more than 0% by mass and 5% by mass or less, and the binder polymer is not contained, or the content of the binder polymer is 0 mass with respect to the total mass of the image recording layer. It is particularly preferable that it exceeds% and 2% by mass or less, and it is most preferable that the binder polymer is not contained.
-重合性基を有さないポリマー-
 上記画像記録層は、重合性基を有さないポリマーを含んでいてもよい。
 上記重合性基を有さないポリマーは、ポリマー粒子であっても、バインダーポリマーであってもよい。
 上記重合性基を有さないポリマーの好ましい態様としては、重合性基を有しない以外、上記重合性基を有するポリマーにおけるポリマーと同様である。
 上記重合性基を有さないポリマーは、画像記録層中に任意な量で含有させることができるが、着肉性、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、上記重合性基を有さないポリマーを含まないか、又は、上記重合性基を有さないポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、0質量%を超え40質量%以下であることが好ましく、上記重合性基を有さないポリマーを含まないか、又は、上記重合性基を有さないポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、0質量%を超え30質量%以下であることがより好ましく、上記重合性基を有さないポリマーを含まないか、又は、上記重合性基を有さないポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、0質量%を超え10質量%以下であることが更に好ましく、上記重合性基を有さないポリマーを含まないか、又は、上記重合性基を有さないポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、0質量%を超え5質量%以下であることが特に好ましく、上記重合性基を有さないポリマーを含まないことが最も好ましい。
-Polymer without polymerizable group-
The image recording layer may contain a polymer having no polymerizable group.
The polymer having no polymerizable group may be polymer particles or a binder polymer.
A preferred embodiment of the polymer having no polymerizable group is the same as that of the polymer in the polymer having a polymerizable group, except that the polymer does not have a polymerizable group.
The polymer having no polymerizable group can be contained in the image recording layer in an arbitrary amount, but from the viewpoint of fillability, print resistance, and on-machine developability, the polymer can be contained. The content of the polymer that does not contain a polymer or does not have a polymerizable group is preferably more than 0% by mass and 40% by mass or less with respect to the total mass of the image recording layer. The content of the polymer that does not contain the polymerizable group or that does not have the polymerizable group is more than 0% by mass and 30% by mass or less with respect to the total mass of the image recording layer. It is more preferable that the polymer does not contain the polymer having no polymerizable group, or the content of the polymer having no polymerizable group is 0% by mass based on the total mass of the image recording layer. It is more preferably more than 10% by mass, and the content of the polymer which does not contain the polymer having no polymerizable group or which does not have the polymerizable group is based on the total mass of the image recording layer. It is particularly preferable that the content is more than 0% by mass and 5% by mass or less, and it is most preferable that the polymer having no polymerizable group is not contained.
 重合性基を有さないポリマーは、例えば、経時による機上現像性の低下を抑制する観点から、ガラス転移温度(Tg)が50℃以上であることが好ましく、70℃以上であることがより好ましく、80℃以上であることが更に好ましく、90℃以上であることが特に好ましい。
 また、バインダーポリマーのガラス転移温度の上限としては、画像記録層への水の浸み込みやすさの観点から、200℃が好ましく、120℃以下がより好ましい。
The polymer having no polymerizable group preferably has a glass transition temperature (Tg) of 50 ° C. or higher, more preferably 70 ° C. or higher, from the viewpoint of suppressing a decrease in on-machine developability over time. It is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 90 ° C. or higher.
The upper limit of the glass transition temperature of the binder polymer is preferably 200 ° C., more preferably 120 ° C. or lower, from the viewpoint of easy water penetration into the image recording layer.
 上記のガラス転移温度を有するバインダーポリマーとしては、経時による機上現像性の低下をより抑制する観点から、ポリビニルアセタールが好ましい。 As the binder polymer having the above glass transition temperature, polyvinyl acetal is preferable from the viewpoint of further suppressing the decrease in on-machine developability with time.
 ポリビニルアセタールは、ポリビニルアルコールのヒドロキシ基をアルデヒドにてアセタール化させて得られた樹脂である。
 特に、ポリビニルアルコールのヒドロキシ基を、ブチルアルデヒドでアセタール化(即ち、ブチラール化)したポリビニルブチラールが好ましい。
 ポリビニルアセタールは、ポリビニルアルコールのヒドロキシ基をアルデヒドにてアセタール化することで、下記(a)で表される構成単位を含むことが好ましい。
Polyvinyl acetal is a resin obtained by acetalizing the hydroxy group of polyvinyl alcohol with an aldehyde.
In particular, polyvinyl butyral in which the hydroxy group of polyvinyl alcohol is acetalized (that is, butyralized) with butyraldehyde is preferable.
The polyvinyl acetal preferably contains a structural unit represented by the following (a) by acetalizing the hydroxy group of polyvinyl alcohol with an aldehyde.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
 ここで、Rとしては、アセタール化に用いられたアルデヒドの残基を表す。
 Rとしては、水素原子、アルキル基等の他、後述するエチレン性不飽和基が挙げられる。
Here, R represents a residue of the aldehyde used for acetalization.
Examples of R include a hydrogen atom, an alkyl group and the like, as well as an ethylenically unsaturated group described later.
 上記(a)で表される構成単位の含有量(上記(a)で表される構成単位に含まれる主鎖のエチレン基量ともいう。また、アセタール化度ともいう。)としては、ポリビニルアセタールの全構成単位(主鎖の全エチレン基量)に対して、50mol%~90mol%が好ましく、55mol%~85mol%がより好ましく、55mol%~80mol%が更に好ましい。
 なお、アセタール化度とは、アセタール基が結合しているエチレン基量(上記(a)で表される構成単位に含まれる主鎖のエチレン基量)を、主鎖の全エチレン基量で除して求めたモル分率を百分率で示した値である。
 また、後述のポリビニルアセタールの各構成単位の含有量においても、同様である。
The content of the structural unit represented by (a) above (also referred to as the amount of ethylene groups in the main chain contained in the structural unit represented by (a) above, and also referred to as the degree of acetalization) is polyvinyl acetal. 50 mol% to 90 mol% is preferable, 55 mol% to 85 mol% is more preferable, and 55 mol% to 80 mol% is further more preferable with respect to the total structural unit (total ethylene group amount of the main chain).
The degree of acetalization is the amount of ethylene groups to which acetal groups are bonded (the amount of ethylene groups in the main chain included in the structural unit represented by (a) above) divided by the total amount of ethylene groups in the main chain. It is a value showing the molar fraction obtained by the above as a percentage.
The same applies to the content of each structural unit of polyvinyl acetal, which will be described later.
 ポリビニルアセタールとしては、更に、機上現像性等の観点から、ヒドロキシ基を有する構成単位を含むことが好ましい。つまり、上記ポリビニルアセタールは、ビニルアルコールに由来する構成単位を含むことが好ましい。
 ヒドロキシ基を有する構成単位としては、下記(b)で表される構成単位が挙げられる。
The polyvinyl acetal preferably further contains a structural unit having a hydroxy group from the viewpoint of on-machine developability and the like. That is, the polyvinyl acetal preferably contains a structural unit derived from vinyl alcohol.
Examples of the structural unit having a hydroxy group include the structural unit represented by the following (b).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
 上記(b)で表される構成単位の含有量(水酸基量ともいう)としては、機上現像性の観点から、ポリビニルアセタールの全構成単位に対して、5mol%~50mol%が好ましく、10mol%~40mol%がより好ましく、20mol%~40mol%が更に好ましい。 The content (also referred to as the amount of hydroxyl groups) of the structural unit represented by (b) above is preferably 5 mol% to 50 mol%, preferably 10 mol%, based on all the structural units of polyvinyl acetal from the viewpoint of on-machine developability. It is more preferably from 40 mol%, still more preferably from 20 mol% to 40 mol%.
 上記ポリビニルアセタールとしては、更に、その他の構成単位を含んでいてもよい。
 その他の構成単位としては、例えば、アセチル基を有する構成単位、具体的には、以下(c)で表される構成単位が挙げられる。
The polyvinyl acetal may further contain other structural units.
Examples of the other structural unit include a structural unit having an acetyl group, specifically, a structural unit represented by the following (c).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
 上記(c)で表される構成単位の含有量(アセチル基量ともいう)としては、ポリビニルアセタールの全構成単位に対して、0.5mol%~10mol%が好ましく、0.5mol%~8mol%がより好ましく、1mol%~3mol%が更に好ましい。 The content (also referred to as the amount of acetyl group) of the structural unit represented by the above (c) is preferably 0.5 mol% to 10 mol%, preferably 0.5 mol% to 8 mol%, based on all the structural units of polyvinyl acetal. Is more preferable, and 1 mol% to 3 mol% is further preferable.
 ここで、上記アセタール化度、アクリレート基量、水酸基量、及びアセチル基量、は、以下のようにして求めることができる。
 即ち、H NMR測定によって、アセタールのメチル又はメチレン部位、アクリレート基のメチル部位、水酸基及びアセチル基のメチル部位のプロトンピーク面積比からmol含有率を算出する。
Here, the degree of acetalization, the amount of acrylate groups, the amount of hydroxyl groups, and the amount of acetyl groups can be determined as follows.
That is, the mol content is calculated from the proton peak area ratios of the methyl or methylene moiety of acetal, the methyl moiety of the acrylate group, and the methyl moiety of the hydroxyl group and the acetyl group by 1 H NMR measurement.
 上記ポリビニルアセタールの重量平均分子量としては、18,000~150,000が好ましい。 The weight average molecular weight of the polyvinyl acetal is preferably 18,000 to 150,000.
 上記ポリビニルアセタールの溶解度パラメータ(SP値ともいう)は、17.5MPa1/2~20.0MPa1/2であることが好ましく、18.0MPa1/2~19.5MPa1/2であることがより好ましい。
 ここで、本開示における「溶解度パラメータ(単位:(MPa)1/2)」は、ハンセン(Hansen)溶解度パラメータを用いるものとする。
 ハンセン(Hansen)溶解度パラメータは、ヒルデブランド(Hildebrand)によって導入された溶解度パラメータを、分散項δd、極性項δp、水素結合項δhの3成分に分割し、3次元空間に表したものであるが、本開示においては溶解度パラメータ(以降、SP値ともいう)をδ(単位:(MPa)1/2)で表し、下記式を用いて算出される値を用いる。
  δ(MPa)1/2=(δd+δp+δh1/2
 なお、この分散項δd、極性項δp、及び水素結合項δhは、ハンセンやその研究後継者らにより多く求められており、Polymer Handbook (fourth edition)、VII-698~711に詳しく掲載されている。また、ハンセンの溶解度パラメータの値の詳細については、Charles M.Hansen著の文献「Hansen Solubility Parameters; A Users Handbook (CRC Press,2007)」に記載されている。
 本開示において、化合物の部分構造におけるハンセン溶解度パラメータは、コンピュータソフトウェア「Hansen Solubility Parameters in Practice(HSPiP ver.4.1.07)」を用いることにより、その化学構造から推算した値を用いることもできる。
 また、本開示においては、化合物が付加重合型、重縮合型等のポリマーである場合は、モノマー単位ごとのSP値をモル分率で掛け合わせた総量で示し、化合物がモノマー単位を有しない低分子化合物である場合は、化合物全体のSP値とする。
 なお、本開示において、ポリマーのSP値は、ポリマーの分子構造からPolymer Handbook (fourth edition)に記載のHoy法により計算してもよい。
Solubility parameter of the polyvinyl acetal (also referred to as SP value) is preferably from 17.5MPa 1/2 ~ 20.0MPa 1/2, to be 18.0MPa 1/2 ~ 19.5MPa 1/2 More preferable.
Here, the “solubility parameter (unit: (MPa) 1/2 )” in the present disclosure uses the Hansen solubility parameter.
The Hansen solubility parameter is a three-dimensional space obtained by dividing the solubility parameter introduced by Hildebrand into three components, a dispersion term δd, a polarity term δp, and a hydrogen bond term δh. In the present disclosure, the solubility parameter (hereinafter, also referred to as SP value) is represented by δ (unit: (MPa) 1/2 ), and a value calculated using the following formula is used.
δ (MPa) 1/2 = (δd 2 + δp 2 + δh 2 ) 1/2
The dispersion term δd, the polarity term δp, and the hydrogen bond term δh are more sought after by Hansen and his successors, and are described in detail in the Polymer Handbook (fourth edition), VII-698-711. .. The details of the value of the solubility parameter of Hansen are described in the document "Hansen Solubility Parameters; A Users Handbook (CRC Press, 2007)" by Charles M. Hansen.
In the present disclosure, the Hansen solubility parameter in the partial structure of the compound can be a value estimated from the chemical structure by using the computer software "Hansen Solubility Parameters in Practice (HSPiP ver.4.1.07)".
Further, in the present disclosure, when the compound is an addition polymerization type, polycondensation type or the like polymer, the SP value for each monomer unit is shown as the total amount multiplied by the molar fraction, and the compound has no monomer unit. If it is a molecular compound, it is the SP value of the entire compound.
In the present disclosure, the SP value of the polymer may be calculated from the molecular structure of the polymer by the Hoy method described in the Polymer Handbook (fourth edition).
 上記ポリビニルアセタールの具体例[P-3]を以下に挙げるが、本開示に用いられるポリビニルアセタールはこれらに限定されるものではない。
 下記構造中、「l」は50mol%~90mol%であり、「m」は0.5mol%~10質量%であり、「n」は5mol%~50mol%であり、「o」は1mol%~15mol%である。
Specific examples [P-3] of the above-mentioned polyvinyl acetal are listed below, but the polyvinyl acetal used in the present disclosure is not limited thereto.
In the structure below, "l" is 50 mol% to 90 mol%, "m" is 0.5 mol% to 10 mass%, "n" is 5 mol% to 50 mol%, and "o" is 1 mol% to 1 mol%. It is 15 mol%.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
 上記ポリビニルアセタールとしては、市販品を用いることができる。
 ポリビニルアセタールの市販品としては、積水化学工業(株)のエスレックシリーズ(具体的には、エスレック BX-L,BX-1,BX-5,BL-7Z,BM-1,BM-5,BH-6,BH-3等)が挙げられる。
As the polyvinyl acetal, a commercially available product can be used.
As a commercial product of polyvinyl acetal, Sekisui Chemical Co., Ltd.'s Eslek series (specifically, Eslek BX-L, BX-1, BX-5, BL-7Z, BM-1, BM-5, BH -6, BH-3, etc.).
 本開示における画像記録層には、フッ素原子を有する樹脂を含有することが好ましく、フルオロ脂肪族基含有共重合体を含有することがより好ましい。
 フッ素原子を有する樹脂、特にフルオロ脂肪族基含有共重合体を用いることで、画像記録層の形成時の発泡による面質異常を抑制し、塗布面状を高めることができ、更に、形成された画像記録層のインキの着肉性を高められる。
 また、フルオロ脂肪族基含有共重合体を含む画像記録層は、階調が高くなり、例えば、レーザー光に対して高感度となり、散乱光、反射光等によるかぶり性が良好で耐刷性に優れる平版印刷版が得られる。
The image recording layer in the present disclosure preferably contains a resin having a fluorine atom, and more preferably contains a fluoroaliphatic group-containing copolymer.
By using a resin having a fluorine atom, particularly a fluoroaliphatic group-containing copolymer, it is possible to suppress surface quality abnormalities due to foaming during formation of the image recording layer, improve the coating surface shape, and further form the image recording layer. The inking property of the ink in the image recording layer can be improved.
In addition, the image recording layer containing the fluoroaliphatic group-containing copolymer has high gradation, for example, high sensitivity to laser light, good fog resistance due to scattered light, reflected light, etc., and excellent printing resistance. An excellent lithographic printing plate can be obtained.
 上記フルオロ脂肪族基含有共重合体は、下記式(F1)及び下記式(F2)のいずれかで表される化合物により形成される構成単位を有することが好ましい。 The fluoroaliphatic group-containing copolymer preferably has a structural unit formed of a compound represented by either the following formula (F1) or the following formula (F2).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
 式(F1)及び(F2)中、RF1は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、Xは、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、又は-N(RF2)-を表し、mは1~6の整数を表し、nは1~10の整数を表し、lは0~10の整数を表し、RF2は水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を表す。 In formulas (F1) and (F2), R F1 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and X independently represents an oxygen atom, a sulfur atom, or -N ( RF2 )-. m represents an integer of 1 ~ 6, n represents an integer of 1 ~ 10, l represents an integer of 0 ~ 10, R F2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
 式(F1)及び(F2)におけるRF2で表される炭素数1~4のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、又はn-ブチル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましい。
 式(F1)及び(F2)におけるXは、酸素原子であることが好ましい。
 式(F1)におけるmは1又は2が好ましく、2がより好ましい。
 式(F1)におけるnは、2、4、6、8、又は10が好ましく、4又は6がより好ましい。
 式(F1)におけるlは、0が好ましい。
The alkyl group having 1 to 4 carbon atoms represented by RF2 in the formulas (F1) and (F2) is preferably a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, or an n-butyl group, preferably a hydrogen atom or a methyl group. Is more preferable.
It is preferable that X in the formulas (F1) and (F2) is an oxygen atom.
The m in the formula (F1) is preferably 1 or 2, and more preferably 2.
N in the formula (F1) is preferably 2, 4, 6, 8, or 10, and more preferably 4 or 6.
The l in the formula (F1) is preferably 0.
 フッ素原子を有する樹脂に用いられるフッ素原子を有するモノマーの具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。 Specific examples of the monomer having a fluorine atom used in the resin having a fluorine atom are shown below, but the present invention is not limited thereto.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
 上記フルオロ脂肪族基含有共重合体は、上記式(F1)及び式(F2)のいずれかで表される化合物から形成される構成単位に加え、ポリ(オキシアルキレン)アクリレート及びポリ(オキシアルキレン)メタクリレートよりなる群から選択される少なくとも1種の化合物により形成される構成単位を更に有することが好ましい。 The fluoroaliphatic group-containing copolymer is composed of poly (oxyalkylene) acrylate and poly (oxyalkylene) in addition to the structural unit formed from the compound represented by any of the above formulas (F1) and (F2). It is preferable to further have a structural unit formed by at least one compound selected from the group consisting of methacrylates.
 上記ポリ(オキシアルキレン)アクリレート及びポリ(オキシアルキレン)メタクリレート中のポリオキシアルキレン基は、-(ORF3-で表すことができ、RF3はアルキル基を表し、xは2以上の整数を表す。RF3としては、直鎖状又は分岐状の炭素数2~4のアルキレン基であることが好ましい。直鎖状又は分岐状の炭素数2~4のアルキレン基としては、-CHCH-、-CHCHCH-、-CH(CH)CH-、又は-CH(CH)CH(CH)-であることが好ましい。xは、2~100の整数が好ましい。
 上記ポリオキシアルキレン基中、x個の「ORF3」は、それぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。つまり、上記ポリオキシアルキレン基は、2種以上の「ORF3」が規則的に又は不規則に結合したものであってもよい。例えば、上記ポリオキシアルキレン基は、直鎖状又は分岐状のオキシプロピレン単位とオキシエチレン単位とが規則的に又は不規則に結合したものであってもよい。より具体的には、上記ポリオキシアルキレン基は、直鎖又は分岐状のオキシプロピレン単位のブロックとオキシエチレン単位のブロックとが結合したものであってもよい。
 なお、ポリオキシアルキレン基中には、1つ又は複数の連結基(例えば、-CONH-Ph-NHCO-、-S-等、ここで、Phはフェニレン基を表す。)を含んでいてもよい。
 上記ポリオキシアルキレン基の分子量は、250~3,000が好ましい。
The polyoxyalkylene group in the poly (oxyalkylene) acrylate and the poly (oxyalkylene) methacrylate can be represented by- (OR F3 ) x- , RF3 represents an alkyl group, and x is an integer of 2 or more. Represent. The RF3 is preferably a linear or branched alkylene group having 2 to 4 carbon atoms. Examples of the linear or branched alkylene group having a carbon number of 2 ~ 4, -CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 CH 2 -, - CH (CH 3) CH 2 -, or -CH (CH 3 ) CH (CH 3 )-preferably. x is preferably an integer of 2 to 100.
Among the polyoxyalkylene groups, x "OR F3 " may be the same or different. That is, the polyoxyalkylene group may be one in which two or more kinds of "OR F3 " are regularly or irregularly bonded. For example, the polyoxyalkylene group may be one in which linear or branched oxypropylene units and oxyethylene units are regularly or irregularly bonded. More specifically, the polyoxyalkylene group may be a combination of a linear or branched block of oxypropylene units and a block of oxyethylene units.
The polyoxyalkylene group may contain one or more linking groups (for example, -CONH-Ph-NHCO-, -S-, etc., where Ph represents a phenylene group). ..
The molecular weight of the polyoxyalkylene group is preferably 250 to 3,000.
 上記ポリ(オキシアルキレン)アクリレート及びポリ(オキシアルキレン)メタクリレートとしては、市販品を用いてもよいし、合成品を用いてもよい。
 上記ポリ(オキシアルキレン)アクリレート及びポリ(オキシアルキレン)メタクリレートは、例えば、ヒドロキシポリ(オキシアルキレン)化合物と、アクリル酸、メタクリル酸、アクリルクロリド、メタクリルクロリド、無水アクリル酸等とを公知の方法で反応させることによって合成することができる。
 上記ヒドロキシポリ(オキシアルキレン)化合物としては、市販品を用いてもよく、例えば、(株)ADEKA製のアデカ(登録商標) プルロニック、(株)ADEKA製のアデカポリエーテル、ユニオン・カーバイド社製のCarbowax(登録商標)、ダウ・ケミカル社製のTriton)、第一工業製薬(株)製のPEG等が挙げられる。
 なお、ポリ(オキシアルキレン)アクリレート及びポリ(オキシアルキレン)メタクリレートとしては、公知の方法で合成した、ポリ(オキシアルキレン)ジアクリレート等を用いてもよい。
As the poly (oxyalkylene) acrylate and the poly (oxyalkylene) methacrylate, a commercially available product or a synthetic product may be used.
The poly (oxyalkylene) acrylate and the poly (oxyalkylene) methacrylate react, for example, with a hydroxypoly (oxyalkylene) compound with acrylic acid, methacrylic acid, acrylic chloride, methacrylic chloride, anhydrous acrylic acid, or the like by a known method. It can be synthesized by letting it.
As the hydroxypoly (oxyalkylene) compound, a commercially available product may be used, for example, ADEKA (registered trademark) Pluronic manufactured by ADEKA Corporation, ADEKA polyether manufactured by ADEKA Corporation, and Union Carbide Corporation. Examples thereof include Carbowax (registered trademark), Triton manufactured by Dow Chemical Corporation, and PEG manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.
As the poly (oxyalkylene) acrylate and the poly (oxyalkylene) methacrylate, poly (oxyalkylene) diacrylate or the like synthesized by a known method may be used.
-発色剤-
 上記画像記録層は、発色剤を含むことが好ましく、酸発色剤を含むことがより好ましい。また、発色剤としては、ロイコ化合物を含むことが好ましい。
 本開示で用いられる「発色剤」とは、光や酸等の刺激により発色又は消色し画像記録層の色を変化させる性質を有する化合物を意味し、また、「酸発色剤」とは、電子受容性化合物(例えば酸等のプロトン)を受容した状態で加熱することにより、発色又は消色し画像記録層の色を変化させる性質を有する化合物を意味する。酸発色剤としては、特に、ラクトン、ラクタム、サルトン、スピロピラン、エステル、アミド等の部分骨格を有し、電子受容性化合物と接触した時に、速やかにこれらの部分骨格が開環若しくは開裂する無色の化合物が好ましい。
-Color former-
The image recording layer preferably contains a color former, and more preferably contains an acid color former. Moreover, it is preferable that the color former contains a leuco compound.
The "color former" used in the present disclosure means a compound having the property of changing the color of the image recording layer by developing or decoloring the color by a stimulus such as light or acid, and the "acid color former" is used. It means a compound having a property of developing or decoloring and changing the color of an image recording layer by heating in a state of receiving an electron-accepting compound (for example, a proton such as an acid). The acid color former has a partial skeleton such as lactone, lactam, salton, spiropyrane, ester, and amide, and when it comes into contact with an electron-accepting compound, these partial skeletons are rapidly ring-opened or cleaved. Compounds are preferred.
 このような酸発色剤の例としては、3,3-ビス(4-ジメチルアミノフェニル)-6-ジメチルアミノフタリド(“クリスタルバイオレットラクトン”と称される。)、3,3-ビス(4-ジメチルアミノフェニル)フタリド、3-(4-ジメチルアミノフェニル)-3-(4-ジエチルアミノ-2-メチルフェニル)-6-ジメチルアミノフタリド、3-(4-ジメチルアミノフェニル)-3-(1,2-ジメチルインドール-3-イル)フタリド、3-(4-ジメチルアミノフェニル)-3-(2-メチルインドール-3-イル)フタリド、3,3-ビス(1,2-ジメチルインドール-3-イル)-5-ジメチルアミノフタリド、3,3-ビス(1,2-ジメチルインドール-3-イル)-6-ジメチルアミノフタリド、3,3-ビス(9-エチルカルバゾール-3-イル)-6-ジメチルアミノフタリド、3,3-ビス(2-フェニルインドール-3-イル)-6-ジメチルアミノフタリド、3-(4-ジメチルアミノフェニル)-3-(1-メチルピロール-3-イル)-6-ジメチルアミノフタリド、 Examples of such acid color formers are 3,3-bis (4-dimethylaminophenyl) -6-dimethylaminophthalide (referred to as "crystal violet lactone") and 3,3-bis (4). -Dimethylaminophenyl) phthalide, 3- (4-dimethylaminophenyl) -3- (4-diethylamino-2-methylphenyl) -6-dimethylaminophthalide, 3- (4-dimethylaminophenyl) -3- ( 1,2-dimethylindole-3-yl) phthalide, 3- (4-dimethylaminophenyl) -3- (2-methylindole-3-yl) phthalide, 3,3-bis (1,2-dimethylindole-) 3-yl) -5-dimethylaminophthalide, 3,3-bis (1,2-dimethylindole-3-yl) -6-dimethylaminophthalide, 3,3-bis (9-ethylcarbazole-3-3) Il) -6-dimethylaminophthalide, 3,3-bis (2-phenylindole-3-yl) -6-dimethylaminophthalide, 3- (4-dimethylaminophenyl) -3- (1-methylpyrrole) -3-yl) -6-dimethylaminophthalide,
 3,3-ビス〔1,1-ビス(4-ジメチルアミノフェニル)エチレン-2-イル〕-4,5,6,7-テトラクロロフタリド、3,3-ビス〔1,1-ビス(4-ピロリジノフェニル)エチレン-2-イル〕-4,5,6,7-テトラブロモフタリド、3,3-ビス〔1-(4-ジメチルアミノフェニル)-1-(4-メトキシフェニル)エチレン-2-イル〕-4,5,6,7-テトラクロロフタリド、3,3-ビス〔1-(4-ピロリジノフェニル)-1-(4-メトキシフェニル)エチレン-2-イル〕-4,5,6,7-テトラクロロフタリド、3-〔1,1-ジ(1-エチル-2-メチルインドール-3-イル)エチレン-2-イル〕-3-(4-ジエチルアミノフェニル)フタリド、3-〔1,1-ジ(1-エチル-2-メチルインドール-3-イル)エチレン-2-イル〕-3-(4-N-エチル-N-フェニルアミノフェニル)フタリド、3-(2-エトキシ-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-n-オクチル-2-メチルインドール-3-イル)フタリド、3,3-ビス(1-n-オクチル-2-メチルインドール-3-イル)フタリド、3-(2-メチル-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-n-オクチル-2-メチルインドール-3-イル)フタリド等のフタリド類、 3,3-bis [1,1-bis (4-dimethylaminophenyl) ethylene-2-yl] -4,5,6,7-tetrachlorophthalide, 3,3-bis [1,1-bis (1,1-bis) 4-Pyrrolidinophenyl) ethylene-2-yl] -4,5,6,7-tetrabromophthalide, 3,3-bis [1- (4-dimethylaminophenyl) -1- (4-methoxyphenyl) Ethylene-2-yl] -4,5,6,7-tetrachlorophthalide, 3,3-bis [1- (4-pyrrolidinophenyl) -1- (4-methoxyphenyl) ethylene-2-yl] -4,5,6,7-tetrachlorophthalide, 3- [1,1-di (1-ethyl-2-methylindole-3-yl) ethylene-2-yl] -3- (4-diethylaminophenyl) ) Phenylide, 3- [1,1-di (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) ethylene-2-yl] -3- (4-N-ethyl-N-phenylaminophenyl) phthalide, 3 -(2-ethoxy-4-diethylaminophenyl) -3- (1-n-octyl-2-methylindole-3-yl) phthalide, 3,3-bis (1-n-octyl-2-methylindole-3) -Ftalides such as phthalide, 3- (2-methyl-4-diethylaminophenyl) -3- (1-n-octyl-2-methylindole-3-yl) phthalide,
 4,4-ビス-ジメチルアミノベンズヒドリンベンジルエーテル、N-ハロフェニル-ロイコオーラミン、N-2,4,5-トリクロロフェニルロイコオーラミン、ローダミン-B-アニリノラクタム、ローダミン-(4-ニトロアニリノ)ラクタム、ローダミン-B-(4-クロロアニリノ)ラクタム、3,7-ビス(ジエチルアミノ)-10-ベンゾイルフェノオキサジン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、4ーニトロベンゾイルメチレンブルー、 4,4-Bis-dimethylaminobenzhydrinbenzyl ether, N-halophenyl-leucooramine, N-2,4,5-trichlorophenylleucooramine, rhodamine-B-anilinolactam, rhodamine- (4-nitroanilino) ) Lactam, Rhodamine-B- (4-chloroanilino) lactam, 3,7-bis (diethylamino) -10-benzoylphenoxazine, benzoyl leucomethylene blue, 4-nitrobenzoyl methylene blue,
 3,6-ジメトキシフルオラン、3-ジメチルアミノ-7-メトキシフルオラン、3-ジエチルアミノ-6-メトキシフルオラン、3-ジエチルアミノ-7-メトキシフルオラン、3-ジエチルアミノ-7-クロロフルオラン、3-ジエチルアミノ-6-メチル-7-クロロフルオラン、3-ジエチルアミノ-6,7-ジメチルフルオラン、3-N-シクロヘキシル-N-n-ブチルアミノ-7-メチルフルオラン、3-ジエチルアミノ-7-ジベンジルアミノフルオラン、3-ジエチルアミノ-7-オクチルアミノフルオラン、3-ジエチルアミノ-7-ジ-n-ヘキシルアミノフルオラン、3-ジエチルアミノ-7-アニリノフルオラン、3-ジエチルアミノ-7-(2’-フルオロフェニルアミノ)フルオラン、3-ジエチルアミノ-7-(2’-クロロフェニルアミノ)フルオラン、3-ジエチルアミノ-7-(3’-クロロフェニルアミノ)フルオラン、3-ジエチルアミノ-7-(2’,3’-ジクロロフェニルアミノ)フルオラン、3-ジエチルアミノ-7-(3’-トリフルオロメチルフェニルアミノ)フルオラン、3-ジ-n-ブチルアミノ-7-(2’-フルオロフェニルアミノ)フルオラン、3-ジ-n-ブチルアミノ-7-(2’-クロロフェニルアミノ)フルオラン、3-N-イソペンチル-N-エチルアミノ-7-(2’-クロロフェニルアミノ)フルオラン、 3,6-dimethoxyfluorane, 3-dimethylamino-7-methoxyfluorane, 3-diethylamino-6-methoxyfluorane, 3-diethylamino-7-methoxyfluorane, 3-diethylamino-7-chlorofluorine, 3 -Diethylamino-6-methyl-7-chlorofluorine, 3-diethylamino-6,7-dimethylfluorane, 3-N-cyclohexyl-Nn-butylamino-7-methylfluorane, 3-diethylamino-7- Dibenzylaminofluorane, 3-diethylamino-7-octylaminofluorane, 3-diethylamino-7-di-n-hexylaminofluorane, 3-diethylamino-7-anilinofluorane, 3-diethylamino-7- ( 2'-fluorophenylamino) fluorane, 3-diethylamino-7- (2'-chlorophenylamino) fluorane, 3-diethylamino-7- (3'-chlorophenylamino) fluorane, 3-diethylamino-7- (2', 3) '-Dichlorophenylamino) fluorane, 3-diethylamino-7- (3'-trifluoromethylphenylamino) fluorane, 3-di-n-butylamino-7- (2'-fluorophenylamino) fluorane, 3-di- n-Butylamino-7- (2'-chlorophenylamino) fluorane, 3-N-isopentyl-N-ethylamino-7- (2'-chlorophenylamino) fluorane,
 3-N-n-ヘキシル-N-エチルアミノ-7-(2’-クロロフェニルアミノ)フルオラン、3-ジエチルアミノ-6-クロロ-7-アニリノフルオラン、3-ジ-n-ブチルアミノ-6-クロロ-7-アニリノフルオラン、3-ジエチルアミノ-6-メトキシ-7-アニリノフルオラン、3-ジ-n-ブチルアミノ-6-エトキシ-7-アニリノフルオラン、3-ピロリジノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-ピペリジノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-モルホリノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-ジメチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-ジエチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-ジ-n-ブチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-ジ-n-ペンチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-エチル-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-n-プロピル-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-n-プロピル-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-n-ブチル-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-n-ブチル-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-イソブチル-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-イソブチル-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-イソペンチル-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-n-ヘキシル-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-シクロヘキシル-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-シクロヘキシル-N-n-プロピルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-シクロヘキシル-N-n-ブチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-シクロヘキシル-N-n-ヘキシルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-シクロヘキシル-N-n-オクチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、 3-Nn-hexyl-N-ethylamino-7- (2'-chlorophenylamino) fluorane, 3-diethylamino-6-chloro-7-anilinofluorane, 3-di-n-butylamino-6- Chloro-7-anilinofluorane, 3-diethylamino-6-methoxy-7-anilinofluorane, 3-di-n-butylamino-6-ethoxy-7-anilinofluorane, 3-pyrrolidino-6- Methyl-7-anilinofluoran, 3-piperidino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-morpholino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-dimethylamino-6-methyl-7- Anilinofluorane, 3-diethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-di-n-butylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-di-n-pentylamino-6 -Methyl-7-anilinofluorane, 3-N-ethyl-N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-Nn-propyl-N-methylamino-6-methyl-7 -Anilinofluorane, 3-Nn-propyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-Nn-butyl-N-methylamino-6-methyl-7-ani Renofluorane, 3-Nn-butyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-isobutyl-N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-isobutyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-isopentyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-Nn- Hexyl-N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-cyclohexyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-cyclohexyl-Nn- Propylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-cyclohexyl-Nn-butylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-cyclohexyl-Nn-hexylamino -6-Methyl-7-anilinofluorane, 3-N-cyclohexyl-Nn-octylamino-6-methyl-7-anilinofluorane,
 3-N-(2’-メトキシエチル)-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(2’-メトキシエチル)-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(2’-メトキシエチル)-N-イソブチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(2’-エトキシエチル)-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(2’-エトキシエチル)-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(3’-メトキシプロピル)-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(3’-メトキシプロピル)-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(3’-エトキシプロピル)-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(3’-エトキシプロピル)-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(2’-テトラヒドロフルフリル)-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(4’-メチルフェニル)-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-ジエチルアミノ-6-エチル-7-アニリノフルオラン、3-ジエチルアミノ-6-メチル-7-(3’-メチルフェニルアミノ)フルオラン、3-ジエチルアミノ-6-メチル-7-(2’,6’-ジメチルフェニルアミノ)フルオラン、3-ジ-n-ブチルアミノ-6-メチル-7-(2’,6’-ジメチルフェニルアミノ)フルオラン、3-ジ-n-ブチルアミノ-7-(2’,6’-ジメチルフェニルアミノ)フルオラン、2,2-ビス〔4’-(3-N-シクロヘキシル-N-メチルアミノ-6-メチルフルオラン)-7-イルアミノフェニル〕プロパン、3-〔4’-(4-フェニルアミノフェニル)アミノフェニル〕アミノ-6-メチル-7-クロロフルオラン、3-〔4’-(ジメチルアミノフェニル)〕アミノ-5,7-ジメチルフルオラン等のフルオラン類、 3-N- (2'-methoxyethyl) -N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (2'-methoxyethyl) -N-ethylamino-6-methyl-7 -Anilinofluorane, 3-N- (2'-methoxyethyl) -N-isobutylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (2'-ethoxyethyl) -N-methylamino -6-Methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (2'-ethoxyethyl) -N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (3'-methoxypropyl) ) -N-Methylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (3'-methoxypropyl) -N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (3'-ethoxypropyl) -N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (3'-ethoxypropyl) -N-ethylamino-6-methyl-7-anilinoflu Oran, 3-N- (2'-tetrahydrofurfuryl) -N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N- (4'-methylphenyl) -N-ethylamino-6- Methyl-7-anilinofluorane, 3-diethylamino-6-ethyl-7-anilinofluorane, 3-diethylamino-6-methyl-7- (3'-methylphenylamino) fluorane, 3-diethylamino-6- Methyl-7- (2', 6'-dimethylphenylamino) fluorane, 3-di-n-butylamino-6-methyl-7- (2', 6'-dimethylphenylamino) fluorane, 3-di-n -Butylamino-7- (2', 6'-dimethylphenylamino) fluorane, 2,2-bis [4'-(3-N-cyclohexyl-N-methylamino-6-methylfluorane) -7-yl Aminophenyl] Propane, 3- [4'-(4-phenylaminophenyl) Aminophenyl] Amino-6-Methyl-7-Chlorofluorane, 3- [4'-(Dimethylaminophenyl)] Amino-5,7 -Fluorans such as dimethylfluorane,
 3-(2-メチル-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-エチル-2-メチルインドール-3-イル)-4-アザフタリド、3-(2-n-プロポキシカルボニルアミノ-4-ジ-n-プロピルアミノフェニル)-3-(1-エチル-2-メチルインドール-3-イル)-4-アザフタリド、3-(2-メチルアミノ-4-ジ-n-プロピルアミノフェニル)-3-(1-エチル-2-メチルインドール-3-イル)-4-アザフタリド、3-(2-メチル-4-ジn-ヘキシルアミノフェニル)-3-(1-n-オクチル-2-メチルインドール-3-イル)-4,7-ジアザフタリド、3,3-ビス(2-エトキシ-4-ジエチルアミノフェニル)-4-アザフタリド、3,3-ビス(1-n-オクチル-2-メチルインドール-3-イル)-4-アザフタリド、3-(2-エトキシ-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-エチル-2-メチルインドール-3-イル)-4-アザフタリド、3-(2-エトキシ-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-オクチル-2-メチルインドール-3-イル)-4又は7-アザフタリド、3-(2-エトキシ-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-エチル-2-メチルインドール-3-イル)-4又は7-アザフタリド、3-(2-ヘキシルオキシ-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-エチル-2-メチルインドール-3-イル)-4又は7-アザフタリド、3-(2-エトキシ-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-エチル-2-フェニルインドール-3-イル)-4又は7-アザフタリド、3-(2-ブトキシ-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-エチル-2-フェニルインドール-3-イル)-4又は7-アザフタリド3-メチル-スピロ-ジナフトピラン、3-エチル-スピロ-ジナフトピラン、3-フェニル-スピロ-ジナフトピラン、3-ベンジル-スピロ-ジナフトピラン、3-メチル-ナフト-(3-メトキシベンゾ)スピロピラン、3-プロピル-スピロ-ジベンゾピラン-3,6-ビス(ジメチルアミノ)フルオレン-9-スピロ-3’-(6’-ジメチルアミノ)フタリド、3,6-ビス(ジエチルアミノ)フルオレン-9-スピロ-3’-(6’-ジメチルアミノ)フタリド等のフタリド類、 3- (2-Methyl-4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) -4-azaphthalide, 3- (2-n-propoxycarbonylamino-4-di-n) -Propylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) -4-azaphthalide, 3- (2-methylamino-4-di-n-propylaminophenyl) -3- (1) -Ethyl-2-methylindole-3-yl) -4-azaphthalide, 3- (2-methyl-4-din-hexylaminophenyl) -3- (1-n-octyl-2-methylindole-3-) Il) -4,7-diazaphthalide, 3,3-bis (2-ethoxy-4-diethylaminophenyl) -4-azaphthalide, 3,3-bis (1-n-octyl-2-methylindole-3-yl) -4-azaphthalide, 3- (2-ethoxy-4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindole-3-yl) -4-azaphthalide, 3- (2-ethoxy-4-diethylaminophenyl) ) -3- (1-octyl-2-methylindole-3-yl) -4 or 7-azaphthalide, 3- (2-ethoxy-4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindole-) 3-Il) -4 or 7-azaphthalide, 3- (2-hexyloxy-4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindole-3-yl) -4 or 7-azaphthalide, 3- (2-Ethyl-4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-phenylindole-3-yl) -4 or 7-azaphthalide, 3- (2-butoxy-4-diethylaminophenyl) -3-( 1-Ethyl-2-phenylindole-3-yl) -4 or 7-azaphthalide 3-methyl-spiro-dinaphthopylane, 3-ethyl-spiro-dinaftopylan, 3-phenyl-spiro-dinaftopylan, 3-benzyl-spiro-dinaftpyran , 3-Methyl-naphtho- (3-methoxybenzo) spiropyrane, 3-propyl-spiro-dibenzopyran-3,6-bis (dimethylamino) fluorene-9-spiryl-3'-(6'-dimethylamino) phthalide , 3,6-Bis (diethylamino) fluorene-9-spiro-3'-(6'-dimethylamino) phthalides and other phthalides,
 その他、2’-アニリノ-6’-(N-エチル-N-イソペンチル)アミノ-3’-メチルスピロ[イソベンゾフラン-1(3H),9’-(9H)キサンテン-3-オン、2’-アニリノ-6’-(N-エチル-N-(4-メチルフェニル))アミノ-3’-メチルスピロ[イソベンゾフラン-1(3H),9’-(9H)キサンテン]-3-オン、3’-N,N-ジベンジルアミノ-6’-N,N-ジエチルアミノスピロ[イソベンゾフラン-1(3H),9’-(9H)キサンテン]-3-オン、2’-(N-メチル-N-フェニル)アミノ-6’-(N-エチル-N-(4-メチルフェニル))アミノスピロ[イソベンゾフラン-1(3H),9’-(9H)キサンテン]-3-オンなどが挙げられる。 In addition, 2'-anilino-6'-(N-ethyl-N-isopentyl) amino-3'-methylspiro [isobenzofuran-1 (3H), 9'-(9H) xanthen-3-one, 2'-anilino -6'-(N-ethyl-N- (4-methylphenyl)) amino-3'-methylspiro [isobenzofuran-1 (3H), 9'-(9H) xanthene] -3-one, 3'-N , N-dibenzylamino-6'-N, N-diethylaminospiro [isobenzofuran-1 (3H), 9'-(9H) xanthene] -3-one, 2'-(N-methyl-N-phenyl) Amino-6'-(N-ethyl-N- (4-methylphenyl)) aminospiro [isobenzofuran-1 (3H), 9'-(9H) xanthene] -3-one and the like can be mentioned.
 中でも、本開示に用いられる発色剤は、発色性の観点から、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、スピロラクトン化合物、及び、スピロラクタム化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物であることが好ましい。
 発色後の色素の色相としては、可視性の観点から、緑、青又は黒であることが好ましい。
Among them, the color former used in the present disclosure is preferably at least one compound selected from the group consisting of a spiropyran compound, a spirooxazine compound, a spirolactone compound, and a spirolactam compound from the viewpoint of color development. ..
From the viewpoint of visibility, the hue of the dye after color development is preferably green, blue or black.
 また、上記酸発色剤は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、ロイコ色素であることが好ましい。
 上記ロイコ色素としては、ロイコ構造を有する色素であれば、特に制限はないが、スピロ構造を有することが好ましく、スピロラクトン環構造を有することがより好ましい。
 また、上記ロイコ色素としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素であることが好ましい。
 更に、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、下記式(Le-1)~式(Le-3)のいずれかで表される化合物であることが好ましく、下記式(Le-2)で表される化合物であることがより好ましい。
Further, the acid coloring agent is preferably a leuco dye from the viewpoint of color developing property and visibility of the exposed portion.
The leuco dye is not particularly limited as long as it has a leuco structure, but preferably has a spiro structure, and more preferably has a spirolactone ring structure.
The leuco dye is preferably a leuco dye having a phthalide structure or a fluorine structure from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion.
Further, the leuco dye having the phthalide structure or the fluorine structure is a compound represented by any of the following formulas (Le-1) to (Le-3) from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion. It is more preferable that the compound is represented by the following formula (Le-2).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
 式(Le-1)~式(Le-3)中、ERGはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、X~Xはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、X~X10はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基を表し、Y及びYはそれぞれ独立に、C又はNを表し、YがNである場合は、Xは存在せず、YがNである場合は、Xは存在せず、Raは、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Rb~Rbはそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表す。 Wherein (Le-1) ~ formula (Le-3), in each ERG independently represents an electron donating group, each X 1 ~ X 4 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a dialkyl anilino group , X 5 to X 10 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a monovalent organic group, Y 1 and Y 2 independently represent C or N, and when Y 1 is N, If X 1 is absent and Y 2 is N, then X 4 is absent, Ra 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, and Rb 1 to Rb 4 are independent alkyl groups. Or represents an aryl group.
 式(Le-1)~式(Le-3)のERGにおける電子供与性基としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、又は、アルキル基であることが好ましく、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルコキシ基、又は、アリーロキシ基であることがより好ましく、モノアルキルモノアリールアミノ基、又は、ジアリールアミノ基であることが更に好ましく、モノアルキルモノアリールアミノ基であることが特に好ましい。
 式(Le-1)~式(Le-3)におけるX~Xはそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、又は、塩素原子であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
 式(Le-2)又は式(Le-3)におけるX~X10はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基又はシアノ基であることが好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、又は、アリーロキシ基であることがより好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又は、アリール基であることが更に好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
 式(Le-1)~式(Le-3)におけるY及びYは、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、少なくとも1方がCであることが好ましく、Y及びYの両方がCであることがより好ましい。
 式(Le-1)~式(Le-3)におけるRaは、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることが特に好ましい。
 式(Le-1)~式(Le-3)におけるRb~Rbはそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
The electron-donating groups in the ERGs of the formulas (Le-1) to (Le-3) include amino groups, alkylamino groups, arylamino groups, and dialkylamino groups from the viewpoint of color development and visibility of the exposed area. A group, a monoalkyl monoarylamino group, a diarylamino group, an alkoxy group, an aryloxy group, or an alkyl group is preferable, and an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a dialkylamino group, or a monoalkyl monoarylamino group. , A diarylamino group, an alkoxy group, or an aryloxy group is more preferable, a monoalkyl monoarylamino group or a diarylamino group is further preferable, and a monoalkyl monoarylamino group is particularly preferable. ..
Formula (Le-1) ~ formula each X 1 ~ X 4 is in (Le-3) independently chromogenic, and, from the viewpoint of visibility of the exposure unit, a hydrogen atom, or, be a chlorine atom preferably , A hydrogen atom is more preferable.
X 5 to X 10 in the formula (Le-2) or the formula (Le-3) are independently, from the viewpoint of color development and visibility of the exposed part, hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, aryl group, respectively. Amino group, alkylamino group, arylamino group, dialkylamino group, monoalkyl monoarylamino group, diarylamino group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group or cyano group. It is preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or an aryloxy group, and more preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, or an aryl group. , A hydrogen atom is particularly preferable.
It is preferable that at least one of Y 1 and Y 2 in the formulas (Le-1) to (Le-3) is C from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion, and Y 1 and Y are Y. It is more preferable that both of 2 are C.
Ra 1 in the formulas (Le-1) to (Le-3) is preferably an alkyl group or an alkoxy group, and more preferably an alkoxy group, from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion. It is preferably a methoxy group, and particularly preferably a methoxy group.
Rb 1 to Rb 4 in the formulas (Le-1) to (Le-3) are preferably hydrogen atoms or alkyl groups independently from the viewpoint of color development and visibility of the exposed part, and are alkyl. It is more preferably a group, and particularly preferably a methyl group.
 また、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、下記式(Le-4)~式(Le-6)のいずれかで表される化合物であることがより好ましく、下記式(Le-5)で表される化合物であることが更に好ましい。 Further, the leuco dye having the phthalide structure or the fluorene structure has the following formulas (Le-4) to the following formulas (Le-4) from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion. The compound represented by any of Le-6) is more preferable, and the compound represented by the following formula (Le-5) is further preferable.
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 式(Le-4)~式(Le-6)中、ERGはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、X~Xはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Y及びYはそれぞれ独立に、C又はNを表し、YがNである場合は、Xは存在せず、YがNである場合は、Xは存在せず、Raは、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Rb~Rbはそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表す。 Wherein (Le-4) ~ formula (Le-6), in each ERG independently represents an electron donating group, each X 1 ~ X 4 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a dialkyl anilino group , Y 1 and Y 2 independently represent C or N, and if Y 1 is N, then X 1 does not exist, and if Y 2 is N, then X 4 does not exist and Ra. 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, and Rb 1 to Rb 4 independently represent an alkyl group or an aryl group, respectively.
 式(Le-4)~式(Le-6)におけるERG、X~X、Y、Y、Ra、及び、Rb~Rbはそれぞれ、式(Le-1)~式(Le-3)におけるERG、X~X、Y、Y、Ra、及び、Rb~Rbと同義であり、好ましい態様も同様である。 ERG, X 1 to X 4 , Y 1 , Y 2 , Ra 1 and Rb 1 to Rb 4 in the formulas (Le-4) to (Le-6) are the formulas (Le-1) to the formulas (Le-1) to Rb 4 , respectively. le-3) ERG in, X 1 ~ X 4, Y 1, Y 2, Ra 1 and have the same meanings as Rb 1 ~ Rb 4, preferable embodiments thereof are also the same.
 更に、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、下記式(Le-7)~式(Le-9)のいずれかで表される化合物であることが更に好ましく、下記式(Le-8)で表される化合物であることが特に好ましい。 Further, the leuco dye having the phthalide structure or the fluorane structure has the following formulas (Le-7) to the following formulas (Le-7) from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion. A compound represented by any of Le-9) is more preferable, and a compound represented by the following formula (Le-8) is particularly preferable.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
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 式(Le-7)~式(Le-9)中、X~Xはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Y及びYはそれぞれ独立に、C又はNを表し、YがNである場合は、Xは存在せず、YがNである場合は、Xは存在せず、Ra~Raはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Rb~Rbはそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Rc及びRcはそれぞれ独立に、アリール基を表す。 Wherein (Le-7) ~ formula (Le-9), each X 1 ~ X 4 is independently a hydrogen atom, a halogen atom or a dialkyl anilino group, Y 1 and Y 2 are each independently, C or Representing N, when Y 1 is N, X 1 does not exist, when Y 2 is N, X 4 does not exist, and Ra 1 to Ra 4 are independent hydrogen atoms and alkyl, respectively. Represents a group or an alkoxy group, Rb 1 to Rb 4 independently represent an alkyl group or an aryl group, and Rc 1 and Rc 2 each independently represent an aryl group.
 式(Le-7)~式(Le-9)におけるX~X、Y及びYは、式(Le-1)~式(Le-3)におけるX~X、Y及びYと同義であり、好ましい態様も同様である。
 式(Le-7)~式(Le-9)におけるRa~Raはそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることが特に好ましい。
 式(Le-7)~式(Le-9)におけるRb~Rbはそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基が置換したアリール基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
 式(Le-8)におけるRc及びRcはそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、フェニル基、又は、アルキルフェニル基であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。
 また、式(Le-8)において、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、X~Xが水素原子であり、Y及びYがCであることが好ましい。
 更に、式(Le-8)において、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、Rb及びRbがそれぞれ独立に、アルキル基又はアルコキシ基が置換したアリール基であることが好ましい。
X 1 - X 4 in formula (Le-7) to Formula (Le-9), Y 1 and Y 2 has the formula (Le-1) X 1 ~ X 4 in ~ formula (Le-3), Y 1 and It has the same meaning as Y 2 , and the preferred embodiment is also the same.
Ra 1 to Ra 4 in the formulas (Le-7) to (Le-9) are preferably alkyl groups or alkoxy groups independently from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion, respectively, and are alkoxy groups. It is more preferably a group, and particularly preferably a methoxy group.
Rb 1 to Rb 4 in the formulas (Le-7) to (Le-9) are independently substituted with a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion. It is preferably a group, more preferably an alkyl group, and particularly preferably a methyl group.
Rc 1 and Rc 2 in the formula (Le-8) are preferably phenyl groups or alkylphenyl groups, and are preferably phenyl groups, independently from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion. Is more preferable.
Further, in the formula (Le-8), it is preferable that X 1 to X 4 are hydrogen atoms and Y 1 and Y 2 are C from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion.
Further, in the formula (Le-8), from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion, it is preferable that Rb 1 and Rb 2 are independently alkyl groups or aryl groups substituted with an alkoxy group.
 式(Le-1)~式(Le-9)におけるアルキル基は、直鎖であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
 また、式(Le-1)~式(Le-9)におけるアルキル基の炭素数は、1~20であることが好ましく、1~8であることがより好ましく、1~4であることが更に好ましく、1又は2であることが特に好ましい。
 式(Le-1)~式(Le-9)におけるアリール基の炭素数は、6~20であることが好ましく、6~10であることがより好ましく、6~8であることが特に好ましい。
The alkyl group in the formulas (Le-1) to (Le-9) may be linear, have a branch, or have a ring structure.
Further, the number of carbon atoms of the alkyl group in the formulas (Le-1) to (Le-9) is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 8, and further preferably 1 to 4. It is preferably 1 or 2, and particularly preferably 1.
The number of carbon atoms of the aryl group in the formulas (Le-1) to (Le-9) is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 10, and particularly preferably 6 to 8.
 また、式(Le-1)~式(Le-9)における一価の有機基、アルキル基、アリール基、ジアルキルアニリノ基、アルキルアミノ基、アルコキシ基等の各基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、シアノ基等が挙げられる。また、これら置換基は、更にこれら置換基により置換されていてもよい。 Further, each group such as a monovalent organic group, an alkyl group, an aryl group, a dialkylanilino group, an alkylamino group and an alkoxy group in the formulas (Le-1) to (Le-9) has a substituent. May be. Substituents include alkyl groups, aryl groups, halogen atoms, amino groups, alkylamino groups, arylamino groups, dialkylamino groups, monoalkyl monoarylamino groups, diarylamino groups, hydroxy groups, alkoxy groups, allyloxy groups and acyl groups. Examples thereof include a group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group and a cyano group. Further, these substituents may be further substituted with these substituents.
 好適に用いられる上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素としては、以下の化合物が挙げられる。なお、Meはメチル基を表す。 Examples of the leuco dye having a phthalide structure or a fluorine structure that are preferably used include the following compounds. In addition, Me represents a methyl group.
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 酸発色剤としては上市されている製品を使用することも可能であり、ETAC、RED500、RED520、CVL、S-205、BLACK305、BLACK400、BLACK100、BLACK500、H-7001、GREEN300、NIRBLACK78、BLUE220、H-3035、BLUE203、ATP、H-1046、H-2114(以上、福井山田化学工業(株)製)、ORANGE-DCF、Vermilion-DCF、PINK-DCF、RED-DCF、BLMB、CVL、GREEN-DCF、TH-107(以上、保土ヶ谷化学(株)製)、ODB、ODB-2、ODB-4、ODB-250、ODB-BlackXV、Blue-63、Blue-502、GN-169、GN-2、Green-118、Red-40、Red-8(以上、山本化成(株)製)、クリスタルバイオレットラクトン(東京化成品工業(株)製)等が挙げられる。これらの市販品の中でも、ETAC、S-205、BLACK305、BLACK400、BLACK100、BLACK500、H-7001、GREEN300、NIRBLACK78、H-3035、ATP、H-1046、H-2114、GREEN-DCF、Blue-63、GN-169、クリスタルバイオレットラクトンが、形成される膜の可視光吸収率が良好のため好ましい。 It is also possible to use commercially available products as the acid color former, ETAC, RED500, RED520, CVL, S-205, BLACK305, BLACK400, BLACK100, BLACK500, H-7001, GREEN300, NIRBLACK78, BLUE220, H. -3035, BLUE203, ATP, H-1046, H-2114 (all manufactured by Fukui Yamada Chemical Industry Co., Ltd.), ORANGE-DCF, Vermilion-DCF, PINK-DCF, RED-DCF, BLMB, CVL, GREEN-DCF , TH-107 (all manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), ODB, ODB-2, ODB-4, ODB-250, ODB-BlackXV, Blue-63, Blue-502, GN-169, GN-2, Green -118, Red-40, Red-8 (all manufactured by Yamamoto Kasei Co., Ltd.), crystal violet lactone (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) and the like. Among these commercially available products, ETAC, S-205, BLACK305, BLACK400, BLACK100, BLACK500, H-7001, GREEN300, NIRBLACK78, H-3035, ATP, H-1046, H-2114, GREEN-DCF, Blue-63. , GN-169, and crystal violet lactone are preferable because the film to be formed has a good visible light absorption rate.
 これらの発色剤は、1種単独で用いてもよいし、2種類以上の成分を組み合わせて使用することもできる。
 発色剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、0.5質量%~10質量%であることが好ましく、1質量%~5質量%であることがより好ましい。
These color formers may be used alone or in combination of two or more kinds of components.
The content of the color former is preferably 0.5% by mass to 10% by mass, and more preferably 1% by mass to 5% by mass, based on the total mass of the image recording layer.
-連鎖移動剤-
 本開示において用いられる画像記録層は、連鎖移動剤を含有してもよい。連鎖移動剤は、平版印刷版における耐刷性の向上に寄与する。
 連鎖移動剤としては、チオール化合物が好ましく、沸点(揮発し難さ)の観点で炭素数7以上のチオールがより好ましく、芳香環上にメルカプト基を有する化合物(芳香族チオール化合物)が更に好ましい。上記チオール化合物は単官能チオール化合物であることが好ましい。
-Chain transfer agent-
The image recording layer used in the present disclosure may contain a chain transfer agent. The chain transfer agent contributes to the improvement of printing durability in the lithographic printing plate.
As the chain transfer agent, a thiol compound is preferable, a thiol having 7 or more carbon atoms is more preferable from the viewpoint of boiling point (difficulty in volatilization), and a compound having a mercapto group on the aromatic ring (aromatic thiol compound) is further preferable. The thiol compound is preferably a monofunctional thiol compound.
 連鎖移動剤として具体的には、下記の化合物が挙げられる。 Specific examples of the chain transfer agent include the following compounds.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
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Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
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Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
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Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
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 連鎖移動剤は、1種のみを添加しても、2種以上を併用してもよい。
 連鎖移動剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、0.01質量%~50質量%が好ましく、0.05質量%~40質量%がより好ましく、0.1質量%~30質量%が更に好ましい。
Only one type of chain transfer agent may be added, or two or more types may be used in combination.
The content of the chain transfer agent is preferably 0.01% by mass to 50% by mass, more preferably 0.05% by mass to 40% by mass, and 0.1% by mass to 30% by mass with respect to the total mass of the image recording layer. % Is more preferable.
-低分子親水性化合物-
 画像記録層は、耐刷性の低下を抑制させつつ機上現像性を向上させるために、低分子親水性化合物を含有してもよい。低分子親水性化合物は、分子量1,000未満の化合物が好ましく、分子量800未満の化合物がより好ましく、分子量500未満の化合物が更に好ましい。
 低分子親水性化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類及びそのエーテル又はエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール、トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等のポリオール類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン等の有機アミン類及びその塩、アルキルスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類及びその塩、アルキルスルファミン酸等の有機スルファミン酸類及びその塩、アルキル硫酸、アルキルエーテル硫酸等の有機硫酸類及びその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類及びその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類及びその塩、ベタイン類等が挙げられる。
-Low molecular weight hydrophilic compound-
The image recording layer may contain a low molecular weight hydrophilic compound in order to improve on-machine developability while suppressing a decrease in printing resistance. The low molecular weight hydrophilic compound is preferably a compound having a molecular weight of less than 1,000, more preferably a compound having a molecular weight of less than 800, and further preferably a compound having a molecular weight of less than 500.
Examples of the low molecular weight hydrophilic compound include, as water-soluble organic compounds, glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, and tripropylene glycol, ethers or ester derivatives thereof, and glycerin. Polyols such as pentaerythritol and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, organic amines such as triethanolamine, diethanolamine and monoethanolamine and salts thereof, organic sulfates such as alkyl sulfonic acid, toluene sulfonic acid and benzene sulfonic acid. Acids and salts thereof, organic sulfamic acids such as alkylsulfamic acid and salts thereof, organic sulfates such as alkylsulfuric acid and alkylether sulfuric acid and salts thereof, organic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid and salts thereof, tartrate acid, oxalic acid, quench Examples thereof include organic carboxylic acids such as acids, malic acids, lactic acids, gluconic acids and amino acids, salts thereof, and betaines.
 低分子親水性化合物としては、ポリオール類、有機硫酸塩類、有機スルホン酸塩類及びベタイン類から選ばれる少なくとも1つを含有させることが好ましい。 As the low molecular weight hydrophilic compound, it is preferable to contain at least one selected from polyols, organic sulfates, organic sulfonates and betaines.
 有機スルホン酸塩類の具体例としては、n-ブチルスルホン酸ナトリウム、n-ヘキシルスルホン酸ナトリウム、2-エチルヘキシルスルホン酸ナトリウム、シクロヘキシルスルホン酸ナトリウム、n-オクチルスルホン酸ナトリウムなどのアルキルスルホン酸塩;5,8,11-トリオキサペンタデカン-1-スルホン酸ナトリウム、5,8,11-トリオキサヘプタデカン-1-スルホン酸ナトリウム、13-エチル-5,8,11-トリオキサヘプタデカン-1-スルホン酸ナトリウム、5,8,11,14-テトラオキサテトラコサン-1-スルホン酸ナトリウムなどのエチレンオキシド鎖を含むアルキルスルホン酸塩;ベンゼンスルホン酸ナトリウム、p-トルエンスルホン酸ナトリウム、p-ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム、p-スチレンスルホン酸ナトリウム、イソフタル酸ジメチル-5-スルホン酸ナトリウム、1-ナフチルスルホン酸ナトリウム、4-ヒドロキシナフチルスルホン酸ナトリウム、1,5-ナフタレンジスルホン酸ジナトリウム、1,3,6-ナフタレントリスルホン酸トリナトリウムなどのアリールスルホン酸塩、特開2007-276454号公報の段落0026~0031及び特開2009-154525号公報の段落0020~0047に記載の化合物等が挙げられる。塩は、カリウム塩、リチウム塩でもよい。 Specific examples of organic sulfonates include alkyl sulfonates such as sodium n-butyl sulfonate, sodium n-hexyl sulfonate, sodium 2-ethylhexyl sulfonate, sodium cyclohexyl sulfonate, and sodium n-octyl sulfonate; 5 , 8,11-Trioxapentadecane-1-sulfonate, 5,8,11-trioxaheptadecane-1-sulfonate, 13-ethyl-5,8,11-trioxaheptadecane-1-sulfon Alkyl sulfonates containing ethylene oxide chains such as sodium acid, sodium 5,8,11,14-tetraoxatetracosan-1-sulfonate; sodium benzenesulfonate, sodium p-toluenesulfonate, p-hydroxybenzenesulfonic acid Sodium, sodium p-styrene sulfonate, sodium dimethyl-5-sulfonate isophthalate, sodium 1-naphthyl sulfonate, sodium 4-hydroxynaphthyl sulfonate, disodium 1,5-naphthalenedi sulfonate, 1,3,6- Examples thereof include aryl sulfonates such as trisodium naphthalene trisulfonate, and compounds described in paragraphs 0026 to 0031 of JP-A-2007-276454 and paragraphs 0020-0047 of JP-A-2009-154525. The salt may be a potassium salt or a lithium salt.
 有機硫酸塩類としては、ポリエチレンオキシドのアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール又は複素環モノエーテルの硫酸塩が挙げられる。エチレンオキシド単位の数は1~4が好ましく、塩はナトリウム塩、カリウム塩又はリチウム塩が好ましい。具体例としては、特開2007-276454号公報の段落0034~0038に記載の化合物が挙げられる。 Examples of organic sulfates include sulfates of alkyl, alkenyl, alkynyl, aryl or heterocyclic monoether of polyethylene oxide. The number of ethylene oxide units is preferably 1 to 4, and the salt is preferably a sodium salt, a potassium salt or a lithium salt. Specific examples include the compounds described in paragraphs 0034 to 0038 of JP-A-2007-276454.
 ベタイン類としては、窒素原子への炭化水素置換基の炭素数が1~5である化合物が好ましく、具体例としては、トリメチルアンモニウムアセタート、ジメチルプロピルアンモニウムアセタート、3-ヒドロキシ-4-トリメチルアンモニオブチラート、4-(1-ピリジニオ)ブチラート、1-ヒドロキシエチル-1-イミダゾリオアセタート、トリメチルアンモニウムメタンスルホナート、ジメチルプロピルアンモニウムメタンスルホナート、3-トリメチルアンモニオ-1-プロパンスルホナート、3-(1-ピリジニオ)-1-プロパンスルホナート等が挙げられる。 As betaines, compounds having 1 to 5 carbon atoms of the hydrocarbon substituent on the nitrogen atom are preferable, and specific examples thereof include trimethylammonium acetate, dimethylpropylammonium acetate, and 3-hydroxy-4-trimethylammonium. Obutyrate, 4- (1-pyridinio) butyrate, 1-hydroxyethyl-1-imidazolioacetate, trimethylammonium methanesulfonate, dimethylpropylammonium methanesulfonate, 3-trimethylammonio-1-propanesulfonate, 3 -(1-Pyridinio) -1-propanesulfonate and the like can be mentioned.
 低分子親水性化合物は疎水性部分の構造が小さくて界面活性作用がほとんどないため、湿し水が画像記録層露光部(画像部)へ浸透して画像部の疎水性や皮膜強度を低下させることがなく、画像記録層のインキ受容性や耐刷性を良好に維持することができる。 Since the low-molecular-weight hydrophilic compound has a small structure of the hydrophobic part and has almost no surface-active action, dampening water permeates the exposed part (image part) of the image recording layer and reduces the hydrophobicity and film strength of the image part. It is possible to maintain good ink acceptability and printing resistance of the image recording layer.
 低分子親水性化合物の含有量は、画像記録層の全質量に対して、0.5質量%~20質量%が好ましく、1質量%~15質量%がより好ましく、2質量%~10質量%が更に好ましい。この範囲で良好な機上現像性と耐刷性が得られる。
 低分子親水性化合物は、1種単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
The content of the low molecular weight hydrophilic compound is preferably 0.5% by mass to 20% by mass, more preferably 1% by mass to 15% by mass, and 2% by mass to 10% by mass with respect to the total mass of the image recording layer. Is more preferable. Good on-machine developability and print resistance can be obtained in this range.
The low molecular weight hydrophilic compound may be used alone or in combination of two or more.
-感脂化剤-
 画像記録層は、着肉性を向上させるために、ホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマー等の感脂化剤を含有してもよい。特に、保護層に無機層状化合物を含有させる場合、これらの化合物は、無機層状化合物の表面被覆剤として機能し、無機層状化合物による印刷途中の着肉性低下を抑制することができる。
 感脂化剤としては、ホスホニウム化合物と、含窒素低分子化合物と、アンモニウム基含有ポリマーとを併用することが好ましく、ホスホニウム化合物と、第四級アンモニウム塩類と、アンモニウム基含有ポリマーとを併用することがより好ましい。
-Fat sensitive agent-
The image recording layer may contain a fat-sensing agent such as a phosphonium compound, a nitrogen-containing low molecular weight compound, and an ammonium group-containing polymer in order to improve the meat-forming property. In particular, when the protective layer contains an inorganic layered compound, these compounds function as a surface coating agent for the inorganic layered compound, and it is possible to suppress a decrease in inking property during printing due to the inorganic layered compound.
As the fat sensitive agent, it is preferable to use a phosphonium compound, a nitrogen-containing low molecular weight compound, and an ammonium group-containing polymer in combination, and the phosphonium compound, a quaternary ammonium salt, and an ammonium group-containing polymer are used in combination. Is more preferable.
 ホスホニウム化合物としては、特開2006-297907号公報及び特開2007-50660号公報に記載のホスホニウム化合物が挙げられる。具体例としては、テトラブチルホスホニウムヨージド、ブチルトリフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、1,4-ビス(トリフェニルホスホニオ)ブタン=ジ(ヘキサフルオロホスファート)、1,7-ビス(トリフェニルホスホニオ)ヘプタン=スルファート、1,9-ビス(トリフェニルホスホニオ)ノナン=ナフタレン-2,7-ジスルホナート等が挙げられる。 Examples of the phosphonium compound include the phosphonium compounds described in JP-A-2006-297907 and JP-A-2007-50660. Specific examples include tetrabutylphosphonium iodide, butyltriphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide, 1,4-bis (triphenylphosphonio) butane-di (hexafluorophosphine), and 1,7-bis (tri). Phenylphosphonio) heptane-sulfate, 1,9-bis (triphenylphosphonio) nonane-naphthalen-2,7-disulfonate and the like can be mentioned.
 含窒素低分子化合物としては、アミン塩類、第四級アンモニウム塩類が挙げられる。また、イミダゾリニウム塩類、ベンゾイミダゾリニウム塩類、ピリジニウム塩類、キノリニウム塩類も挙げられる。中でも、第四級アンモニウム塩類及びピリジニウム塩類が好ましい。具体例としては、テトラメチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、テトラブチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ドデシルトリメチルアンモニウム=p-トルエンスルホナート、ベンジルトリエチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルオクチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルドデシルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、特開2008-284858号公報の段落0021~0037、特開2009-90645号公報の段落0030~0057に記載の化合物等が挙げられる。 Examples of nitrogen-containing low molecular weight compounds include amine salts and quaternary ammonium salts. In addition, imidazolinium salts, benzoimidazolinium salts, pyridinium salts, quinolinium salts and the like can also be mentioned. Of these, quaternary ammonium salts and pyridinium salts are preferable. Specific examples include tetramethylammonium = hexafluorophosphate, tetrabutylammonium = hexafluorophosphate, dodecyltrimethylammonium = p-toluenesulfonate, benzyltriethylammonium = hexafluorophosphate, and benzyldimethyloctylammonium = hexafluorophos. Examples thereof include fert, benzyldimethyldodecylammonium-hexafluorophosphate, compounds described in paragraphs 0021 to 0037 of JP-A-2008-284858 and paragraphs 0030 to 0057 of JP-A-2009-90645.
 アンモニウム基含有ポリマーとしては、その構造中にアンモニウム基を有すればよく、側鎖にアンモニウム基を有する(メタ)アクリレートを共重合成分として5モル%~80モル%含有するポリマーが好ましい。具体例としては、特開2009-208458号公報の段落0089~0105に記載のポリマーが挙げられる。 The ammonium group-containing polymer may have an ammonium group in its structure, and a polymer containing 5 mol% to 80 mol% of a (meth) acrylate having an ammonium group in the side chain as a copolymerization component is preferable. Specific examples include the polymers described in paragraphs 0008-0105 of JP2009-208458A.
 アンモニウム塩含有ポリマーは、特開2009-208458号公報に記載の測定方法に従って求められる還元比粘度(単位:ml/g)の値が、5~120の範囲のものが好ましく、10~110の範囲のものがより好ましく、15~100の範囲のものが特に好ましい。上記還元比粘度を重量平均分子量(Mw)に換算した場合、10,000~150,0000が好ましく、17,000~140,000がより好ましく、20,000~130,000が特に好ましい。 The ammonium salt-containing polymer preferably has a reduced specific viscosity (unit: ml / g) value in the range of 5 to 120, which is obtained according to the measurement method described in JP-A-2009-208458, and is in the range of 10 to 110. Is more preferable, and those in the range of 15 to 100 are particularly preferable. When the reduced specific viscosity is converted into a weight average molecular weight (Mw), it is preferably 10,000 to 150,000, more preferably 17,000 to 140,000, and particularly preferably 20,000 to 130,000.
 以下に、アンモニウム基含有ポリマーの具体例を示す。
(1)2-(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p-トルエンスルホナート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比10/90、Mw4.5万)
(2)2-(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw6.0万)
(3)2-(エチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p-トルエンスルホナート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比30/70、Mw4.5万)
(4)2-(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/2-エチルヘキシルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw6.0万)
(5)2-(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=メチルスルファート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比40/60、Mw7.0万)
(6)2-(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比25/75、Mw6.5万)
(7)2-(ブチルジメチルアンモニオ)エチルアクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw6.5万)
(8)2-(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=13-エチル-5,8,11-トリオキサ-1-ヘプタデカンスルホナート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw7.5万)
(9)2-(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート/2-ヒドロキシ-3-メタクロイルオキシプロピルメタクリレート共重合体(モル比15/80/5、Mw6.5万)
Specific examples of the ammonium group-containing polymer are shown below.
(1) 2- (trimethylammonio) ethyl methacrylate = p-toluenesulfonate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 10/90, Mw 45,000)
(2) 2- (trimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80, Mw 60,000)
(3) 2- (Ethyldimethylammonio) ethyl methacrylate = p-toluenesulfonate / hexyl methacrylate copolymer (molar ratio 30/70, Mw 45,000)
(4) 2- (trimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 2-ethylhexyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80, Mw 60,000)
(5) 2- (trimethylammonio) ethyl methacrylate = methyl sulfate / hexyl methacrylate copolymer (molar ratio 40/60, Mw 7,000,000)
(6) 2- (Butyldimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 25/75, Mw 65,000)
(7) 2- (Butyldimethylammonio) ethyl acrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80, Mw 65,000)
(8) 2- (Butyldimethylammonio) ethyl methacrylate = 13-ethyl-5,8,11-trioxa-1-heptadecanesulfonate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80) , Mw 75,000)
(9) 2- (Butyldimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate / 2-hydroxy-3-methacloyloxypropyl methacrylate copolymer (molar ratio 15/80/5) , Mw 65,000)
 感脂化剤の含有量は、画像記録層の全質量に対して、0.01質量%~30.0質量%が好ましく、0.1質量%~15.0質量%がより好ましく、1質量%~10質量%が更に好ましい。 The content of the oil-sensitive agent is preferably 0.01% by mass to 30.0% by mass, more preferably 0.1% by mass to 15.0% by mass, and 1% by mass with respect to the total mass of the image recording layer. % To 10% by mass is more preferable.
-その他の成分-
 画像記録層には、その他の成分として、界面活性剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機粒子、無機層状化合物等を含有することができる。具体的には、特開2008-284817号公報の段落0114~0159の記載を参照することができる。
-Other ingredients-
The image recording layer may contain, as other components, a surfactant, a polymerization inhibitor, a higher fatty acid derivative, a plasticizer, inorganic particles, an inorganic layered compound and the like. Specifically, the description in paragraphs 0114 to 0159 of JP-A-2008-284817 can be referred to.
-画像記録層の形成-
 本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層は、例えば、特開2008-195018号公報の段落0142~0143に記載のように、必要な上記各成分を公知の溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、塗布液を支持体上にバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することにより形成することができる。
 溶剤としては、公知の溶剤を用いることができる。具体的には、例えば、水、アセトン、メチルエチルケトン(2-ブタノン)、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメーチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、1-メトキシ-2-プロパノール、3-メトキシ-1-プロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3-メトキシプロピルアセテート、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ-ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。溶剤は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。塗布液中の固形分濃度は1~50質量%程度であることが好ましい。
 塗布、乾燥後における画像記録層の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性を得る観点から、0.3g/m~3.0g/mが好ましい。
-Formation of image recording layer-
The image recording layer in the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure is coated by dispersing or dissolving each of the necessary components in a known solvent, for example, as described in paragraphs 0142 to 0143 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-195018. It can be formed by preparing a liquid, applying the coating liquid on the support by a known method such as coating with a bar coater, and drying.
As the solvent, a known solvent can be used. Specifically, for example, water, acetone, methyl ethyl ketone (2-butanone), cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, Propylene glycol monoethyl ether, acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 1-methoxy-2-propanol, 3- Methoxy-1-propanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethyl Examples thereof include formamide, dimethylsulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate and ethyl lactate. The solvent may be used alone or in combination of two or more. The solid content concentration in the coating liquid is preferably about 1 to 50% by mass.
The coating amount (solid content) of the image recording layer after coating and drying varies depending on the application, but from the viewpoint of obtaining good sensitivity and good film characteristics of the image recording layer, 0.3 g / m 2 to 3.0 g / m 2 is preferred.
<アルミニウム支持体>
 本開示に係る平版印刷版原版におけるアルミニウム支持体は、公知の平版印刷版原版用アルミニウム支持体から適宜選択して用いることができる。以下、アルミニウム支持体を単に「支持体」ともいう。
 アルミニウム支持体としては、親水性表面を有するアルミニウム支持体(以下、「親水性アルミニウム支持体」ともいう)が好ましい。
 本開示に係る平版印刷版原版におけるアルミニウム支持体は、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角が、傷汚れ抑制性の観点から、110°以下であることが好ましく、90°以下であることがより好ましく、80°以下であることが更に好ましく、50°以下であることがより更に好ましく、30°以下であることが特に好ましく、20°以下であることがより特に好ましく、10以下であることが最も好ましい。
<Aluminum support>
The aluminum support in the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure can be appropriately selected from known aluminum supports for lithographic printing plate original plates and used. Hereinafter, the aluminum support is also simply referred to as a "support".
As the aluminum support, an aluminum support having a hydrophilic surface (hereinafter, also referred to as “hydrophilic aluminum support”) is preferable.
The aluminum support in the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure has a contact angle with water on the surface of the aluminum support on the image recording layer side by the aerial water droplet method of 110 ° or less from the viewpoint of suppressing scratches and stains. Is more preferable, 90 ° or less is more preferable, 80 ° or less is further preferable, 50 ° or less is further preferable, 30 ° or less is particularly preferable, and 20 ° or less is preferable. Is more particularly preferable, and 10 or less is most preferable.
 本開示において、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角は、以下の方法により測定するものとする。
 平版印刷版原版を画像記録層を除去可能な溶媒(例えば、画像記録層用塗布液で用いた溶媒)に浸漬させ、スポンジ及びコットンの少なくとも一方で画像記録層を掻き取り、画像記録層を溶媒中に溶解させることでアルミニウム支持体の表面を露出させる。
 露出させたアルミニウム支持体の画像記録層側の表面における水との接触角は、測定装置として全自動接触角計(例えば、協和界面化学(株)製DM-501)によって、25℃における表面上の水滴の接触角(0.2秒後)として測定される。
In the present disclosure, the contact angle with water by the aerial water droplet method on the surface of the aluminum support on the image recording layer side shall be measured by the following method.
The lithographic printing plate original plate is immersed in a solvent capable of removing the image recording layer (for example, the solvent used in the coating liquid for the image recording layer), the image recording layer is scraped off at least one of the sponge and cotton, and the image recording layer is used as a solvent. The surface of the aluminum support is exposed by dissolving in it.
The contact angle with water on the surface of the exposed aluminum support on the image recording layer side is measured on the surface at 25 ° C. by a fully automatic contact angle meter (for example, DM-501 manufactured by Kyowa Surface Chemistry Co., Ltd.) as a measuring device. It is measured as the contact angle of water droplets (after 0.2 seconds).
 本開示におけるアルミニウム支持体としては、公知の方法で粗面化処理され、陽極酸化処理されたアルミニウム板が好ましい。即ち、本開示におけるアルミニウム支持体は、アルミニウム板とアルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化被膜とを有することが好ましい。 As the aluminum support in the present disclosure, an aluminum plate that has been roughened and anodized by a known method is preferable. That is, the aluminum support in the present disclosure preferably has an aluminum plate and an anodized film of aluminum arranged on the aluminum plate.
 本開示において用いられるアルミニウム支持体の好ましい態様の一例(本一例に係るアルミニウム支持体を、「支持体(1)」ともいう。)を以下に示す。
 即ち、支持体(1)は、アルミニウム板と、上記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを有し、上記陽極酸化皮膜が、上記アルミニウム板よりも上記画像記録層側に位置し、上記陽極酸化皮膜が、上記画像記録層側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、上記マイクロポアの上記陽極酸化皮膜表面における平均径が10nmを超え100nm以下であり、上記陽極酸化皮膜の上記画像記録層側の表面のL表色系における明度Lの値が、70~100である。
An example of a preferred embodiment of the aluminum support used in the present disclosure (the aluminum support according to this example is also referred to as “support (1)”) is shown below.
That is, the support (1) has an aluminum plate and an anodized film of aluminum arranged on the aluminum plate, and the anodized film is located closer to the image recording layer than the aluminum plate. The anodic oxide film has micropores extending in the depth direction from the surface on the image recording layer side, and the average diameter of the micropores on the surface of the anodic oxide film is more than 10 nm and 100 nm or less, and the anodic oxidation. The value of the brightness L * in the L * a * b * color system of the surface of the film on the image recording layer side is 70 to 100.
 図1は、アルミニウム支持体12aの一実施形態の模式的断面図である。
 アルミニウム支持体12aは、アルミニウム板18とアルミニウムの陽極酸化皮膜20a(以後、単に「陽極酸化皮膜20a」とも称する)とをこの順で積層した積層構造を有する。なお、アルミニウム支持体12a中の陽極酸化皮膜20aが、アルミニウム板18よりも画像記録層側に位置する。つまり、本開示に係る平版印刷版原版は、アルミニウム板上に、陽極酸化皮膜、及び、画像記録層をこの順で少なくとも有することが好ましい。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an embodiment of the aluminum support 12a.
The aluminum support 12a has a laminated structure in which an aluminum plate 18 and an anodized film 20a of aluminum (hereinafter, also simply referred to as “anodized film 20a”) are laminated in this order. The anodized film 20a in the aluminum support 12a is located closer to the image recording layer than the aluminum plate 18. That is, it is preferable that the planographic printing plate original plate according to the present disclosure has at least an anodized film and an image recording layer on an aluminum plate in this order.
-陽極酸化皮膜-
 以下、陽極酸化被膜20aの好ましい態様について説明する。
 陽極酸化皮膜20aは、陽極酸化処理によってアルミニウム板18の表面に作製される皮膜であって、この皮膜は、皮膜表面に略垂直であり、かつ、個々が均一に分布した極微細なマイクロポア22aを有する。マイクロポア22aは、画像記録層側の陽極酸化皮膜20a表面(アルミニウム板18側とは反対側の陽極酸化皮膜20a表面)から厚み方向(アルミニウム板18側)に沿ってのびる。
-Anodized film-
Hereinafter, preferred embodiments of the anodized coating 20a will be described.
The anodized film 20a is a film formed on the surface of the aluminum plate 18 by anodizing treatment, and this film is extremely fine micropores 22a which are substantially perpendicular to the film surface and are uniformly distributed among individuals. Has. The micropores 22a extend from the surface of the anodized film 20a on the image recording layer side (the surface of the anodized film 20a on the side opposite to the aluminum plate 18 side) along the thickness direction (aluminum plate 18 side).
 陽極酸化皮膜20a中のマイクロポア22aの陽極酸化皮膜表面における平均径(平均開口径)は、10nm超え100nm以下であることが好ましい。中でも、耐刷性、耐汚れ性、及び画像視認性のバランスの点から、15nm~60nmがより好ましく、20nm~50nmが更に好ましく、25nm~40nmが特に好ましい。ポア内部の径は、表層よりも広がっても狭まってもよい。
 平均径が10nmを超えれば、耐刷性及び画像視認性が更に優れる。また、平均径が100nm以下であれば場合、耐刷性が更に優れる。
 マイクロポア22aの平均径は、陽極酸化皮膜20a表面を倍率15万倍の電界放出型走査電子顕微鏡(FE-SEM)でN=4枚観察し、得られた4枚の画像において、400nm×600nmの範囲に存在するマイクロポアの径(直径)を50箇所測定し、算術平均値として算出される。
 なお、マイクロポア22aの形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
The average diameter (average opening diameter) of the micropores 22a in the anodized film 20a on the surface of the anodized film is preferably more than 10 nm and 100 nm or less. Among them, from the viewpoint of the balance between printing resistance, stain resistance, and image visibility, 15 nm to 60 nm is more preferable, 20 nm to 50 nm is further preferable, and 25 nm to 40 nm is particularly preferable. The diameter inside the pores may be wider or narrower than the surface layer.
If the average diameter exceeds 10 nm, the printing resistance and image visibility are further excellent. Further, when the average diameter is 100 nm or less, the printing resistance is further excellent.
The average diameter of the micropores 22a is 400 nm × 600 nm in the four images obtained by observing the surface of the anodized film 20a with a field emission scanning electron microscope (FE-SEM) at a magnification of 150,000. The diameter (diameter) of the micropores existing in the range of is measured at 50 points and calculated as an arithmetic average value.
If the shape of the micropore 22a is not circular, the diameter equivalent to the circle is used. The "circle equivalent diameter" is the diameter of a circle when the shape of the opening is assumed to be a circle having the same projected area as the projected area of the opening.
 マイクロポア22aの深さは特に制限されないが、10nm~3,000nmが好ましく、50nm~2,000nmがより好ましく、300nm~1,600nmが更に好ましい。
 なお、上記深さは、陽極酸化皮膜20aの断面の写真(15万倍)をとり、25個以上のマイクロポア22aの深さを測定し、平均した値である。
The depth of the micropore 22a is not particularly limited, but is preferably 10 nm to 3,000 nm, more preferably 50 nm to 2,000 nm, and even more preferably 300 nm to 1,600 nm.
The depth is an average value obtained by taking a photograph (150,000 times) of the cross section of the anodized film 20a and measuring the depths of 25 or more micropores 22a.
 マイクロポア22aの形状は特に制限されず、図1では、略直管状(略円柱状)であるが、深さ方向(厚み方向)に向かって径が小さくなる円錐状であってもよい。また、マイクロポア22aの底部の形状は特に制限されず、曲面状(凸状)であっても、平面状であってもよい。 The shape of the micropore 22a is not particularly limited, and in FIG. 1, it is a substantially straight tubular (substantially cylindrical) shape, but it may be a conical shape whose diameter decreases in the depth direction (thickness direction). The shape of the bottom of the micropore 22a is not particularly limited, and may be curved (convex) or flat.
 アルミニウム支持体12aの画像記録層側の表面(陽極酸化皮膜20aの画像記録層側の表面)のL表色系における明度Lの値は、70~100であることが好ましい。中でも、耐刷性及び画像視認性のバランスがより優れる点で、75~100が好ましく、75~90がより好ましい。
 上記明度Lの測定は、エックスライト(株)製、色彩色差計Spectro Eyeを用いて測定する。
The value of L * a * b * brightness L * in the color system of the surface of the aluminum support 12a on the image recording layer side (the surface of the anodized film 20a on the image recording layer side) is preferably 70 to 100. .. Among them, 75 to 100 is preferable, and 75 to 90 is more preferable, in that the balance between printing resistance and image visibility is more excellent.
The brightness L * is measured using a color difference meter Specro Eye manufactured by X-Light Co., Ltd.
 支持体(1)において、上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面から深さ10nm~1,000nmの位置までのびる大径孔部と、上記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ20nm~2,000nmの位置までのびる小径孔部とから構成され、上記大径孔部の上記陽極酸化皮膜表面における平均径が15nm~150nmであり、上記小径孔部の上記連通位置における平均径が13nm以下である態様(以下、上記態様に係る支持体を、「支持体(2)」ともいう。)も好ましく挙げられる。
 図2は、アルミニウム支持体12aの、図1に示したものとは別の一実施形態の模式的断面図である。
 図2において、アルミニウム支持体12bは、アルミニウム板18と、大径孔部24と小径孔部26とから構成されるマイクロポア22bを有する陽極酸化皮膜20bとを含む。
 陽極酸化皮膜20b中のマイクロポア22bは、陽極酸化皮膜表面から深さ10nm~1000nm(深さD:図2参照)の位置までのびる大径孔部24と、大径孔部24の底部と連通し、連通位置から更に深さ20nm~2,000nmの位置までのびる小径孔部26とから構成される。
 以下に、大径孔部24と小径孔部26について詳述する。
In the support (1), the micropore communicates with the large-diameter hole extending from the surface of the anodic oxide film to a depth of 10 nm to 1,000 nm and the bottom of the large-diameter hole, and is deep from the communication position. It is composed of a small-diameter hole extending from 20 nm to 2,000 nm, and the average diameter of the large-diameter hole on the surface of the anodic oxide film is 15 nm to 150 nm, and the average diameter of the small-diameter hole at the communication position. A mode in which the diameter is 13 nm or less (hereinafter, the support according to the above mode is also referred to as “support (2)”) is also preferably mentioned.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the aluminum support 12a according to an embodiment different from that shown in FIG.
In FIG. 2, the aluminum support 12b includes an aluminum plate 18 and an anodic oxide film 20b having a micropore 22b composed of a large-diameter hole portion 24 and a small-diameter hole portion 26.
The micropores 22b in the anodized film 20b communicate with the large-diameter hole portion 24 extending from the surface of the anodized film to a position at a depth of 10 nm to 1000 nm (depth D: see FIG. 2) and the bottom of the large-diameter hole portion 24. It is composed of a small-diameter hole portion 26 extending from the communication position to a depth of 20 nm to 2,000 nm.
The large-diameter hole portion 24 and the small-diameter hole portion 26 will be described in detail below.
 大径孔部24の陽極酸化皮膜20b表面における平均径は、上述した陽極酸化皮膜20a中のマイクロポア22aの陽極酸化皮膜表面における平均径と同じで、10nm超100nm以下であり、好適範囲も同じである。
 大径孔部24の陽極酸化皮膜20b表面における平均径の測定方法は、陽極酸化皮膜20a中のマイクロポア22aの陽極酸化皮膜表面における平均径の測定方法と同じである。
The average diameter of the large-diameter pore portion 24 on the surface of the anodized film 20b is the same as the average diameter of the micropores 22a in the above-mentioned anodized film 20a on the surface of the anodized film, which is more than 10 nm and 100 nm or less, and the preferable range is also the same. Is.
The method for measuring the average diameter on the surface of the anodic oxide film 20b of the large-diameter hole portion 24 is the same as the method for measuring the average diameter on the surface of the anodic oxide film of the micropores 22a in the anodic oxide film 20a.
 大径孔部24の底部は、陽極酸化皮膜表面から深さ10nm~1,000nm(以後、深さDとも称する)に位置する。つまり、大径孔部24は、陽極酸化皮膜表面から深さ方向(厚み方向)に10nm~1,000nmの位置までのびる孔部である。上記深さは、10nm~200nmが好ましい。
 なお、上記深さは、陽極酸化皮膜20bの断面の写真(15万倍)をとり、25個以上の大径孔部24の深さを測定し、平均した値である。
The bottom of the large-diameter hole portion 24 is located at a depth of 10 nm to 1,000 nm (hereinafter, also referred to as a depth D) from the surface of the anodized film. That is, the large-diameter hole portion 24 is a hole portion extending from the surface of the anodized film to a position of 10 nm to 1,000 nm in the depth direction (thickness direction). The depth is preferably 10 nm to 200 nm.
The depth is an average value obtained by taking a photograph (150,000 times) of the cross section of the anodized film 20b, measuring the depths of 25 or more large-diameter hole portions 24, and averaging them.
 大径孔部24の形状は特に制限されず、例えば、略直管状(略円柱状)、及び、深さ方向(厚み方向)に向かって径が小さくなる円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。 The shape of the large-diameter hole portion 24 is not particularly limited, and examples thereof include a substantially straight tubular shape (substantially cylindrical) and a conical shape whose diameter decreases in the depth direction (thickness direction). preferable.
 小径孔部26は、図2に示すように、大径孔部24の底部と連通して、連通位置より更に深さ方向(厚み方向)に延びる孔部である。
 小径孔部26の連通位置における平均径は、13nm以下が好ましい。中でも、11nm以下が好ましく、10nm以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、5nm以上の場合が多い。
As shown in FIG. 2, the small-diameter hole portion 26 is a hole portion that communicates with the bottom portion of the large-diameter hole portion 24 and extends further in the depth direction (thickness direction) from the communication position.
The average diameter of the small-diameter hole portion 26 at the communication position is preferably 13 nm or less. Of these, 11 nm or less is preferable, and 10 nm or less is more preferable. The lower limit is not particularly limited, but it is often 5 nm or more.
 小径孔部26の平均径は、陽極酸化皮膜20a表面を倍率15万倍のFE-SEMでN=4枚観察し、得られた4枚の画像において、400nm×600nmの範囲に存在するマイクロポア(小径孔部)の径(直径)を測定し、算術平均値として得られる。なお、大径孔部の深さが深い場合は、必要に応じて、陽極酸化皮膜20b上部(大径孔部のある領域)を切削し(例えば、アルゴンガスによって切削)、その後陽極酸化皮膜20b表面を上記FE-SEMで観察して、小径孔部の平均径を求めてもよい。
 なお、小径孔部26の形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
The average diameter of the small-diameter hole portion 26 is such that the surface of the anodized film 20a is observed with N = 4 images by FE-SEM at a magnification of 150,000 times, and in the obtained 4 images, micropores existing in the range of 400 nm × 600 nm. The diameter (diameter) of the (small diameter hole) is measured and obtained as an arithmetic mean value. If the large-diameter hole is deep, the upper part of the anodic oxide film 20b (the region with the large-diameter hole) is cut (for example, cut with argon gas), and then the anodic oxide film 20b is cut. The surface may be observed with the above FE-SEM to obtain the average diameter of the small-diameter holes.
When the shape of the small diameter hole portion 26 is not circular, the diameter equivalent to a circle is used. The "circle equivalent diameter" is the diameter of a circle when the shape of the opening is assumed to be a circle having the same projected area as the projected area of the opening.
 小径孔部26の底部は、上記の大径孔部24との連通位置から更に深さ方向に20nm~2,000nmのびた場所に位置する。言い換えると、小径孔部26は、上記大径孔部24との連通位置から更に深さ方向(厚み方向)にのびる孔部であり、小径孔部26の深さは20nm~2,000nmである。なお、上記深さは、500nm~1,500nmが好ましい。
 なお、上記深さは、陽極酸化皮膜20bの断面の写真(5万倍)をとり、25個以上の小径孔部の深さを測定し、平均した値である。
The bottom portion of the small-diameter hole portion 26 is located at a position extending 20 nm to 2,000 nm in the depth direction from the communication position with the large-diameter hole portion 24. In other words, the small-diameter hole portion 26 is a hole portion that extends further in the depth direction (thickness direction) from the communication position with the large-diameter hole portion 24, and the depth of the small-diameter hole portion 26 is 20 nm to 2,000 nm. .. The depth is preferably 500 nm to 1,500 nm.
The depth is an average value obtained by taking a photograph (50,000 times) of the cross section of the anodized film 20b and measuring the depths of 25 or more small-diameter holes.
 小径孔部26の形状は特に制限されず、例えば、略直管状(略円柱状)、及び、深さ方向に向かって径が小さくなる円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。 The shape of the small-diameter hole portion 26 is not particularly limited, and examples thereof include a substantially straight tubular (approximately cylindrical) shape and a conical shape whose diameter decreases in the depth direction, and a substantially straight tubular shape is preferable.
-アルミニウム支持体の製造方法-
 本開示に用いられるアルミニウム支持体の製造方法としては、例えば、以下の工程を順番に実施する製造方法が好ましい。
・粗面化処理工程:アルミニウム板に粗面化処理を施す工程
・陽極酸化処理工程:粗面化処理されたアルミニウム板を陽極酸化する工程
・ポアワイド処理工程:陽極酸化処理工程で得られた陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させ、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させる工程
 以下、各工程の手順について詳述する。
-Manufacturing method of aluminum support-
As a method for manufacturing the aluminum support used in the present disclosure, for example, a manufacturing method in which the following steps are sequentially performed is preferable.
-Roughening treatment step: A step of roughening an aluminum plate-Anodization treatment step: A step of anodizing an aluminum plate that has been roughened-Pore wide treatment step: Anodizer obtained in an anodization treatment step Step of bringing an aluminum plate having an oxide film into contact with an acid aqueous solution or an alkaline aqueous solution to increase the diameter of micropores in the anodic oxide film The procedure of each step will be described in detail below.
〔粗面化処理工程〕
 粗面化処理工程は、アルミニウム板の表面に、電気化学的粗面化処理を含む粗面化処理を施す工程である。本工程は、後述する陽極酸化処理工程の前に実施されることが好ましいが、アルミニウム板の表面がすでに好ましい表面形状を有していれば、特に実施しなくてもよい。
[Roughening process]
The roughening treatment step is a step of applying a roughening treatment including an electrochemical roughening treatment to the surface of the aluminum plate. This step is preferably carried out before the anodizing treatment step described later, but it may not be carried out in particular as long as the surface of the aluminum plate already has a preferable surface shape.
 粗面化処理は、電気化学的粗面化処理のみを実施してもよいが、電気化学的粗面化処理と機械的粗面化処理及び/又は化学的粗面化処理とを組み合わせて実施してもよい。
 機械的粗面化処理と電気化学的粗面化処理とを組み合わせる場合には、機械的粗面化処理の後に、電気化学的粗面化処理を実施するのが好ましい。
 電気化学的粗面化処理は、硝酸又は塩酸を主体とする水溶液中で、直流又は交流を用いて行われることが好ましい。
 機械的粗面化処理の方法は特に制限されないが、例えば、特公昭50-40047号公報に記載されている方法が挙げられる。
 化学的粗面化処理も特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
The roughening treatment may be carried out only by the electrochemical roughening treatment, but is carried out by combining the electrochemical roughening treatment with the mechanical roughening treatment and / or the chemical roughening treatment. You may.
When the mechanical roughening treatment and the electrochemical roughening treatment are combined, it is preferable to carry out the electrochemical roughening treatment after the mechanical roughening treatment.
The electrochemical roughening treatment is preferably carried out using direct current or alternating current in an aqueous solution mainly containing nitric acid or hydrochloric acid.
The method of mechanical roughening treatment is not particularly limited, and examples thereof include the methods described in Japanese Patent Publication No. 50-40047.
The chemical roughening treatment is also not particularly limited, and known methods can be mentioned.
 機械的粗面化処理の後には、以下の化学エッチング処理を実施するのが好ましい。
 機械的粗面化処理の後に施される化学エッチング処理は、アルミニウム板の表面の凹凸形状のエッジ部分をなだらかにし、印刷時のインキの引っかかりを防止し、印刷版の耐汚れ性を向上させるとともに、表面に残った研磨材粒子等の不要物を除去するために行われる。
 化学エッチング処理としては、酸によるエッチング及びアルカリによるエッチングが挙げられ、エッチング効率の点で特に優れている方法として、アルカリ水溶液を用いる化学エッチング処理(以下、「アルカリエッチング処理」ともいう。)が挙げられる。
After the mechanical roughening treatment, it is preferable to carry out the following chemical etching treatment.
The chemical etching treatment performed after the mechanical roughening treatment smoothes the uneven edges on the surface of the aluminum plate, prevents ink from getting caught during printing, and improves the stain resistance of the printing plate. , It is performed to remove unnecessary substances such as abrasive particles remaining on the surface.
Examples of the chemical etching treatment include etching with an acid and etching with an alkali, and as a method particularly excellent in terms of etching efficiency, a chemical etching treatment using an alkaline aqueous solution (hereinafter, also referred to as “alkali etching treatment”) can be mentioned. Be done.
 アルカリ水溶液に用いられるアルカリ剤は特に制限されないが、例えば、カセイソーダ、カセイカリ、メタケイ酸ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、及び、グルコン酸ソーダが挙げられる。
 アルカリ水溶液は、アルミニウムイオンを含んでいてもよい。
 アルカリ水溶液のアルカリ剤の濃度は、0.01質量%以上が好ましく、3質量%以上がより好ましく、また、30質量%以下が好ましい。
The alkaline agent used in the alkaline aqueous solution is not particularly limited, and examples thereof include caustic soda, caustic potash, sodium metasilicate, sodium carbonate, sodium aluminate, and sodium gluconate.
The alkaline aqueous solution may contain aluminum ions.
The concentration of the alkaline agent in the alkaline aqueous solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and preferably 30% by mass or less.
 アルカリエッチング処理を施した場合、アルカリエッチング処理により生じる生成物を除去するために、低温の酸性水溶液を用いて化学エッチング処理(以下、「デスマット処理」ともいう。)を施すのが好ましい。
 酸性水溶液に用いられる酸は特に制限されないが、例えば、硫酸、硝酸、及び、塩酸が挙げられる。また、酸性水溶液の温度は、20℃~80℃が好ましい。
When the alkaline etching treatment is performed, it is preferable to perform a chemical etching treatment (hereinafter, also referred to as "desmat treatment") using a low-temperature acidic aqueous solution in order to remove the product generated by the alkaline etching treatment.
The acid used in the acidic aqueous solution is not particularly limited, and examples thereof include sulfuric acid, nitric acid, and hydrochloric acid. The temperature of the acidic aqueous solution is preferably 20 ° C to 80 ° C.
 粗面化処理工程としては、A態様又はB態様に示す処理を以下に示す順に実施する方法が好ましい。 As the roughening treatment step, it is preferable to carry out the treatments shown in the A mode or the B mode in the order shown below.
~A態様~
(2)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第1アルカリエッチング処理)
(3)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第1デスマット処理)
(4)硝酸を主体とする水溶液を用いた電気化学的粗面化処理(第1電気化学的粗面化処理)
(5)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第2アルカリエッチング処理)
(6)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第2デスマット処理)
(7)塩酸を主体とする水溶液中で電気化学的粗面化処理(第2電気化学的粗面化処理)
(8)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第3アルカリエッチング処理)
(9)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第3デスマット処理)
~ A aspect ~
(2) Chemical etching treatment using an alkaline aqueous solution (first alkaline etching treatment)
(3) Chemical etching treatment using an acidic aqueous solution (first desmat treatment)
(4) Electrochemical roughening treatment using an aqueous solution mainly composed of nitric acid (first electrochemical roughening treatment)
(5) Chemical etching treatment using an alkaline aqueous solution (second alkaline etching treatment)
(6) Chemical etching treatment using an acidic aqueous solution (second desmat treatment)
(7) Electrochemical roughening treatment in an aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid (second electrochemical roughening treatment)
(8) Chemical etching treatment using an alkaline aqueous solution (third alkaline etching treatment)
(9) Chemical etching treatment using an acidic aqueous solution (third desmat treatment)
~B態様~
(10)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第4アルカリエッチング処理)
(11)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第4デスマット処理)
(12)塩酸を主体とする水溶液を用いた電気化学的粗面化処理(第3電気化学的粗面化処理)
(13)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第5アルカリエッチング処理)
(14)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第5デスマット処理)
~ B mode ~
(10) Chemical etching treatment using an alkaline aqueous solution (fourth alkaline etching treatment)
(11) Chemical etching treatment using an acidic aqueous solution (fourth desmat treatment)
(12) Electrochemical roughening treatment using an aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid (third electrochemical roughening treatment)
(13) Chemical etching treatment using an alkaline aqueous solution (fifth alkaline etching treatment)
(14) Chemical etching treatment using an acidic aqueous solution (fifth desmat treatment)
 上記A態様の(2)の処理前、又は、B態様の(10)の処理前に、必要に応じて、(1)機械的粗面化処理を実施してもよい。 If necessary, (1) mechanical roughening treatment may be carried out before the treatment of (2) of the A aspect or (10) of the B aspect.
 第1アルカリエッチング処理及び第4アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、0.5g/m~30g/mが好ましく、1.0g/m~20g/mがより好ましい。 The amount of the aluminum plate dissolved in the first alkali etching treatment and the fourth alkali etching treatment is preferably 0.5 g / m 2 to 30 g / m 2, and more preferably 1.0 g / m 2 to 20 g / m 2 .
 A態様における第1電気化学的粗面化処理で用いる硝酸を主体とする水溶液としては、直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いる水溶液が挙げられる。例えば、1~100g/Lの硝酸水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、又は、硝酸アンモニウム等を添加して得られる水溶液が挙げられる。
 A態様における第2電気化学的粗面化処理及びB態様における第3電気化学的粗面化処理で用いる塩酸を主体とする水溶液としては、通常の直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いる水溶液が挙げられる。例えば、1g/L~100g/Lの塩酸水溶液に、硫酸を0g/L~30g/L添加して得られる水溶液が挙げられる。なお、この溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、及び、硝酸アンモニウム等の硝酸イオン;塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、及び、塩化アンモニウム等の塩酸イオンを更に添加してもよい。
Examples of the nitric acid-based aqueous solution used in the first electrochemical roughening treatment in the A aspect include an aqueous solution used in the electrochemical roughening treatment using direct current or alternating current. For example, an aqueous solution obtained by adding aluminum nitrate, sodium nitrate, ammonium nitrate or the like to an aqueous nitric acid solution of 1 to 100 g / L can be mentioned.
The aqueous solution mainly containing hydrochloric acid used in the second electrochemical roughening treatment in the A aspect and the third electrochemical roughening treatment in the B aspect is an electrochemical rough surface using ordinary direct current or alternating current. Examples thereof include an aqueous solution used for the chemical treatment. For example, an aqueous solution obtained by adding 0 g / L to 30 g / L of sulfuric acid to a 1 g / L to 100 g / L hydrochloric acid aqueous solution can be mentioned. In addition, nitrate ions such as aluminum nitrate, sodium nitrate and ammonium nitrate; hydrochloric acid ions such as aluminum chloride, sodium chloride and ammonium chloride may be further added to this solution.
 電気化学的粗面化処理の交流電源波形は、サイン波、矩形波、台形波、及び、三角波等を用いることができる。周波数は0.1Hz~250Hzが好ましい。
 図3は、電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。
 図3において、taはアノード反応時間、tcはカソード反応時間、tpは電流が0からピークに達するまでの時間、Iaはアノードサイクル側のピーク時の電流、Icはカソードサイクル側のピーク時の電流、AAはアルミニウム板のアノード反応の電流、CAはアルミニウム板のカソード反応の電流である。台形波において、電流が0からピークに達するまでの時間tpは1ms~10msが好ましい。電気化学的な粗面化に用いる交流の1サイクルの条件が、アルミニウム板のアノード反応時間taとカソード反応時間tcの比tc/taが1~20、アルミニウム板がアノード時の電気量Qcとアノード時の電気量Qaの比Qc/Qaが0.3~20、アノード反応時間taが5ms~1,000ms、の範囲にあるのが好ましい。電流密度は台形波のピーク値で電流のアノードサイクル側Ia、カソードサイクル側Icともに10A/dm~200A/dmが好ましい。Ic/Iaは、0.3~20が好ましい。電気化学的な粗面化が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和は、25C/dm~1,000C/dmが好ましい。
As the AC power supply waveform of the electrochemical roughening treatment, a sine wave, a square wave, a trapezoidal wave, a triangular wave, or the like can be used. The frequency is preferably 0.1 Hz to 250 Hz.
FIG. 3 is a graph showing an example of an alternating waveform current waveform diagram used in the electrochemical roughening process.
In FIG. 3, ta is the anode reaction time, ct is the cathode reaction time, tp is the time from 0 to the peak of the current, Ia is the peak current on the anode cycle side, and Ic is the peak current on the cathode cycle side. , AA is the current of the anode reaction of the aluminum plate, and CA is the current of the cathode reaction of the aluminum plate. In a trapezoidal wave, the time tp from 0 to the peak of the current is preferably 1 ms to 10 ms. The conditions for one cycle of AC used for electrochemical roughening are that the ratio ct / ta of the anode reaction time ta and the cathode reaction time ct of the aluminum plate is 1 to 20, and the amount of electricity Qc and the anode when the aluminum plate is the anode. It is preferable that the ratio Qc / Qa of the amount of electricity Qa at the time is in the range of 0.3 to 20 and the anode reaction time ta is in the range of 5 ms to 1,000 ms. The current density is the peak value of the trapezoidal wave, and is preferably 10 A / dm to 200 A / dm 2 for both the anode cycle side Ia and the cathode cycle side Ic of the current. Ic / Ia is preferably 0.3 to 20. The total amount of electricity furnished to anode reaction of the aluminum plate at the time the electrochemical graining is completed, 25C / dm 2 ~ 1,000C / dm 2 is preferred.
 交流を用いた電気化学的な粗面化には図4に示した装置を用いることができる。
 図4は、交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。
 図4において、50は主電解槽、51は交流電源、52はラジアルドラムローラ、53a及び53bは主極、54は電解液供給口、55は電解液、56はスリット、57は電解液通路、58は補助陽極、60は補助陽極槽、Wはアルミニウム板である。図4中、矢印A1は電解液の給液方向を、矢印A2は電解液の排出方向をそれぞれ示している。である。電解槽を2つ以上用いるときには、電解条件は同じでもよいし、異なっていてもよい。
 アルミニウム板Wは主電解槽50中に浸漬して配置されたラジアルドラムローラ52に巻装され、搬送過程で交流電源51に接続する主極53a及び53bにより電解処理される。電解液55は、電解液供給口54からスリット56を通じてラジアルドラムローラ52と主極53a及び53bとの間の電解液通路57に供給される。主電解槽50で処理されたアルミニウム板Wは、次いで、補助陽極槽60で電解処理される。この補助陽極槽60には補助陽極58がアルミニウム板Wと対向配置されており、電解液55が補助陽極58とアルミニウム板Wとの間の空間を流れるように供給される。
The apparatus shown in FIG. 4 can be used for electrochemical roughening using alternating current.
FIG. 4 is a side view showing an example of a radial cell in an electrochemical roughening treatment using alternating current.
In FIG. 4, 50 is a main electrolytic cell, 51 is an AC power supply, 52 is a radial drum roller, 53a and 53b are main poles, 54 is an electrolytic solution supply port, 55 is an electrolytic solution, 56 is a slit, and 57 is an electrolytic solution passage. 58 is an auxiliary anode, 60 is an auxiliary anode tank, and W is an aluminum plate. In FIG. 4, the arrow A1 indicates the supply direction of the electrolytic solution, and the arrow A2 indicates the discharge direction of the electrolytic solution. Is. When two or more electrolytic cells are used, the electrolysis conditions may be the same or different.
The aluminum plate W is wound around a radial drum roller 52 immersed in the main electrolytic cell 50 and is electrolyzed by the main poles 53a and 53b connected to the AC power supply 51 during the transfer process. The electrolytic solution 55 is supplied from the electrolytic solution supply port 54 to the electrolytic solution passage 57 between the radial drum roller 52 and the main poles 53a and 53b through the slit 56. The aluminum plate W treated in the main electrolytic cell 50 is then electrolyzed in the auxiliary anode tank 60. An auxiliary anode 58 is arranged to face the aluminum plate W in the auxiliary anode tank 60, and the electrolytic solution 55 is supplied so as to flow in the space between the auxiliary anode 58 and the aluminum plate W.
 第2アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、所定の印刷版原版が製造しやすい点で、1.0g/m以上が好ましく、2.0g/m~10g/mがより好ましい。 The amount of the aluminum plate dissolved in the second alkali etching treatment is preferably 1.0 g / m 2 or more, and more preferably 2.0 g / m 2 to 10 g / m 2 in that a predetermined printing plate original plate can be easily produced.
 第3アルカリエッチング処理及び第4アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、所定の印刷版原版が製造しやすい点で、0.01g/m~0.8g/mが好ましく、0.05g/m~0.3g/mがより好ましい。 The amount of the aluminum plate dissolved in the third alkali etching treatment and the fourth alkali etching treatment is preferably 0.01 g / m 2 to 0.8 g / m 2 and 0.05 g in that a predetermined printing plate original plate can be easily produced. / M 2 to 0.3 g / m 2 is more preferable.
 酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第1~第5デスマット処理)では、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸、塩酸、又はこれらの2以上の酸を含む混酸を含む酸性水溶液が好適に用いられる。
 酸性水溶液の酸の濃度は、0.5質量%~60質量%が好ましい。
In the chemical etching treatment (first to fifth desmat treatments) using an acidic aqueous solution, an acidic aqueous solution containing phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromium acid, hydrochloric acid, or a mixed acid containing two or more of these acids is preferably used.
The acid concentration of the acidic aqueous solution is preferably 0.5% by mass to 60% by mass.
〔陽極酸化処理工程〕
 陽極酸化処理工程の手順は、上述したマイクロポアが得られれば特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
 陽極酸化処理工程においては、硫酸、リン酸、及び、シュウ酸等の水溶液を電解浴として用いることができる。例えば、硫酸の濃度は、100g/L~300g/Lが挙げられる。
 陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって適宜設定されるが、例えば、液温5℃~70℃(好ましくは10℃~60℃)、電流密度0.5A/dm~60A/dm(好ましくは5A/dm~60A/dm)、電圧1V~100V(好ましくは5V~50V)、電解時間1秒~100秒(好ましくは5秒~60秒)、及び、皮膜量0.1g/m~5g/m(好ましくは0.2g/m~3g/m)が挙げられる。
[Anodizing process]
The procedure of the anodizing treatment step is not particularly limited as long as the above-mentioned micropores can be obtained, and known methods can be mentioned.
In the anodizing treatment step, aqueous solutions of sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid and the like can be used as the electrolytic bath. For example, the concentration of sulfuric acid is 100 g / L to 300 g / L.
The conditions for the anodic oxidation treatment are appropriately set depending on the electrolytic solution used, and for example, the liquid temperature is 5 ° C. to 70 ° C. (preferably 10 ° C. to 60 ° C.), and the current density is 0.5 A / dm 2 to 60 A / dm 2. (Preferably 5A / dm 2 to 60A / dm 2 ), voltage 1V to 100V (preferably 5V to 50V), electrolysis time 1 to 100 seconds (preferably 5 to 60 seconds), and film amount 0.1 g. / M 2 to 5 g / m 2 (preferably 0.2 g / m 2 to 3 g / m 2 ).
〔ポアワイド処理〕
 ポアワイド処理は、上述した陽極酸化処理工程により形成された陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの径(ポア径)を拡大させる処理(孔径拡大処理)である。
 ポアワイド処理は、上述した陽極酸化処理工程により得られたアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させることにより行うことができる。接触させる方法は特に制限されず、例えば、浸せき法及びスプレー法が挙げられる。
[Pore wide processing]
The pore-wide treatment is a treatment (pore diameter enlargement treatment) for enlarging the diameter (pore diameter) of micropores existing in the anodizing film formed by the above-mentioned anodizing treatment step.
The pore-wide treatment can be carried out by bringing the aluminum plate obtained by the above-mentioned anodizing treatment step into contact with an acid aqueous solution or an alkaline aqueous solution. The method of contact is not particularly limited, and examples thereof include a dipping method and a spraying method.
<下塗り層>
 本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に下塗り層(中間層と呼ばれることもある。)を有することが好ましい。下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性を損なわずに現像性を向上させることに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合に、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ効果も有する。
<Undercoat layer>
The planographic printing plate original plate according to the present disclosure preferably has an undercoat layer (sometimes referred to as an intermediate layer) between the image recording layer and the support. The undercoat layer strengthens the adhesion between the support and the image recording layer in the exposed portion, and makes it easy for the image recording layer to peel off from the support in the unexposed portion, so that the developability is not impaired. Contributes to improving. Further, in the case of infrared laser exposure, the undercoat layer functions as a heat insulating layer, so that the heat generated by the exposure is diffused to the support to prevent the sensitivity from being lowered.
 下塗り層に用いられる化合物としては、支持体表面に吸着可能な吸着性基及び親水性基を有するポリマーが挙げられる。画像記録層との密着性を向上させるために吸着性基及び親水性基を有し、更に架橋性基を有するポリマーが好ましい。下塗り層に用いられる化合物は、低分子化合物でもポリマーであってもよい。下塗り層に用いられる化合物は、必要に応じて、2種以上を混合して使用してもよい。 Examples of the compound used for the undercoat layer include polymers having an adsorptive group and a hydrophilic group that can be adsorbed on the surface of the support. A polymer having an adsorptive group and a hydrophilic group and further having a crosslinkable group is preferable in order to improve the adhesion to the image recording layer. The compound used for the undercoat layer may be a low molecular weight compound or a polymer. As the compound used for the undercoat layer, two or more kinds may be mixed and used as needed.
 下塗り層に用いられる化合物がポリマーである場合、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー及び架橋性基を有するモノマーの共重合体が好ましい。
 支持体表面に吸着可能な吸着性基としては、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、-PO、-OPO、-CONHSO-、-SONHSO-、-COCHCOCHが好ましい。親水性基としては、スルホ基又はその塩、カルボキシ基の塩が好ましい。架橋性基としては、アクリル基、メタクリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、アリル基などが好ましい。
 ポリマーは、ポリマーの極性置換基と、上記極性置換基と対荷電を有する置換基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物との塩形成で導入された架橋性基を有してもよいし、上記以外のモノマー、好ましくは親水性モノマーが更に共重合されていてもよい。
When the compound used for the undercoat layer is a polymer, a copolymer of a monomer having an adsorptive group, a monomer having a hydrophilic group and a monomer having a crosslinkable group is preferable.
Adsorbent groups that can be adsorbed on the surface of the support include phenolic hydroxy groups, carboxy groups, -PO 3 H 2 , -OPO 3 H 2 , -CONHSO 2- , -SO 2 NHSO 2- , -COCH 2 COCH 3 Is preferable. As the hydrophilic group, a sulfo group or a salt thereof, or a salt of a carboxy group is preferable. As the crosslinkable group, an acrylic group, a methacrylic group, an acrylamide group, a methacrylamide group, an allyl group and the like are preferable.
The polymer may have a crosslinkable group introduced by salt formation of the polar substituent of the polymer, a substituent having a pair charge with the polar substituent and a compound having an ethylenically unsaturated bond, and the above. A monomer other than the above, preferably a hydrophilic monomer, may be further copolymerized.
 具体的には、特開平10-282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2-304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物が好適に挙げられる。特開2005-238816号、特開2005-125749号、特開2006-239867号、特開2006-215263号の各公報に記載の架橋性基(好ましくは、エチレン性不飽和結合基)、支持体表面と相互作用する官能基及び親水性基を有する低分子又は高分子化合物も好ましく用いられる。
 より好ましいものとして、特開2005-125749号公報及び特開2006-188038号公報に記載の支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基及び架橋性基を有する高分子ポリマーが挙げられる。
Specifically, a silane coupling agent having an addition-polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A No. 10-282679, and an ethylenic di-ethylene compound described in JP-A-2-304441. A phosphorus compound having a double bond reactive group is preferably used. Crosslinkable groups (preferably ethylenically unsaturated bonding groups) and supports described in JP-A-2005-238816, JP-A-2005-125479, JP-A-2006-239867, and JP-A-2006-215263. Low molecular weight or high molecular weight compounds having functional and hydrophilic groups that interact with the surface are also preferably used.
More preferable examples thereof include polymer polymers having an adsorptive group, a hydrophilic group and a crosslinkable group that can be adsorbed on the surface of the support described in JP-A-2005-125794 and JP-A-2006-188038.
 下塗り層に用いられるポリマー中のエチレン性不飽和結合基の含有量は、ポリマー1g当たり、好ましくは0.1mmol~10.0mmol、より好ましくは0.2mmol~5.5mmolである。
 下塗り層に用いられるポリマーの重量平均分子量(Mw)は、5,000以上が好ましく、1万~30万がより好ましい。
The content of the ethylenically unsaturated bond group in the polymer used for the undercoat layer is preferably 0.1 mmol to 10.0 mmol, more preferably 0.2 mmol to 5.5 mmol per 1 g of the polymer.
The weight average molecular weight (Mw) of the polymer used in the undercoat layer is preferably 5,000 or more, and more preferably 10,000 to 300,000.
〔親水性化合物〕
 下塗り層は、現像性の観点から、親水性化合物を含むことが好ましい。
 親水性化合物としては、特に制限はなく、下塗り層に用いられる公知の親水性化合物を用いることができる。
 親水性化合物としては、カルボキシメチルセルロース、デキストリン等のアミノ基を有するホスホン酸類、有機ホスホン酸、有機リン酸、有機ホスフィン酸、アミノ酸類、並びに、ヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等が好ましく挙げられる。
 また、親水性化合物としては、アミノ基又は重合禁止能を有する官能基と支持体表面と相互作用する基とを有する化合物(例えば、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、2,3,5,6-テトラヒドロキシ-p-キノン、クロラニル、スルホフタル酸、エチレンジアミン四酢酸(EDTA)又はその塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸又はその塩、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸又はその塩、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸又はその塩など)が好ましく挙げられる。
[Hydrophilic compound]
The undercoat layer preferably contains a hydrophilic compound from the viewpoint of developability.
The hydrophilic compound is not particularly limited, and a known hydrophilic compound used for the undercoat layer can be used.
Preferred examples of the hydrophilic compound include phosphonic acids having an amino group such as carboxymethyl cellulose and dextrin, organic phosphonic acid, organic phosphoric acid, organic phosphinic acid, amino acids, and hydrochloride of amine having a hydroxy group.
Further, as the hydrophilic compound, a compound having an amino group or a functional group having a polymerization prohibitive ability and a group interacting with the surface of the support (for example, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO)). , 2,3,5,6-tetrahydroxy-p-quinone, chloranyl, sulfophthalic acid, ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA) or its salt, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid or its salt, dihydroxyethylethylenediaminediacetic acid or its salt, hydroxy (Ethyliminodiacetic acid or a salt thereof, etc.) is preferably mentioned.
 親水性化合物としては、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことが好ましい。
 また、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩は、傷汚れ抑制性の観点から、上記アルミニウム支持体上の層に含まれることが好ましい。また、上記アルミニウム支持体上の層は、画像記録層が形成されている側の層であることが好ましく、また、上記アルミニウム支持体と接する層であることが好ましい。
 上記アルミニウム支持体上の層としては、上記アルミニウム支持体と接する層として、下塗り層又は画像記録層が好ましく挙げられる。また、上記アルミニウム支持体と接する層以外の層、例えば、保護層又は画像記録層に、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩が含まれていてもよい。
 本開示に係る平版印刷版原版において、画像記録層が、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことが好ましい。
 また、本開示に係る平版印刷版原版において、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面が、少なくともヒドロキシカルボン酸又はその塩を含む組成物(例えば、水溶液等)により表面処理される態様も好ましく挙げられる。上記態様である場合、処理されたヒドロキシカルボン酸又はその塩は、アルミニウム支持体と接する画像記録層側の層(例えば、画像記録層又は下塗り層)に含まれた状態で少なくとも一部を検出することができる。
 下塗り層等のアルミニウム支持体と接する画像記録層側の層にヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことにより、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面を親水化することができ、また、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角を110°以下と容易にすることができ、傷汚れ抑制性に優れる。
The hydrophilic compound preferably contains hydroxycarboxylic acid or a salt thereof from the viewpoint of suppressing scratches and stains.
Further, the hydrophilic compound, preferably hydroxycarboxylic acid or a salt thereof, is preferably contained in the layer on the aluminum support from the viewpoint of suppressing scratches and stains. Further, the layer on the aluminum support is preferably a layer on the side where the image recording layer is formed, and is preferably a layer in contact with the aluminum support.
As the layer on the aluminum support, an undercoat layer or an image recording layer is preferably mentioned as a layer in contact with the aluminum support. Further, a layer other than the layer in contact with the aluminum support, for example, a protective layer or an image recording layer may contain a hydrophilic compound, preferably hydroxycarboxylic acid or a salt thereof.
In the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure, it is preferable that the image recording layer contains hydroxycarboxylic acid or a salt thereof from the viewpoint of suppressing scratches and stains.
Further, in the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure, an embodiment in which the surface of the aluminum support on the image recording layer side is surface-treated with a composition containing at least hydroxycarboxylic acid or a salt thereof (for example, an aqueous solution) is also preferably mentioned. Be done. In the above embodiment, at least a part of the treated hydroxycarboxylic acid or a salt thereof is detected in a layer on the image recording layer side (for example, an image recording layer or an undercoat layer) in contact with the aluminum support. be able to.
By containing hydroxycarboxylic acid or a salt thereof in the layer on the image recording layer side in contact with the aluminum support such as the undercoat layer, the surface of the aluminum support on the image recording layer side can be made hydrophilic, and the aluminum support can also be made hydrophilic. The contact angle with water on the surface of the image recording layer side by the aerial water droplet method can be easily set to 110 ° or less, and the scratch stain suppressing property is excellent.
 ヒドロキシカルボン酸とは、1分子中に1個以上のカルボキシ基と1個以上のヒドロキシ基とを有する有機化合物の総称のことであり、ヒドロキシ酸、オキシ酸、オキシカルボン酸、アルコール酸とも呼ばれる(岩波理化学辞典第5版、(株)岩波書店発行(1998)参照)。
 上記ヒドロキシカルボン酸又はその塩は、下記式(HC)で表されるものが好ましい。
  RHC(OH)mhc(COOMHCnhc       式(HC)
 式(HC)中、RHCはmhc+nhc価の有機基を表し、MHCはそれぞれ独立に、水素原子、アルカリ金属又はオニウムを表し、mhc及びnhcはそれぞれ独立に、1以上の整数を表し、nが2以上の場合、MHCは同じでも異なってもよい。
Hydroxycarboxylic acid is a general term for organic compounds having one or more carboxy groups and one or more hydroxy groups in one molecule, and is also called hydroxy acid, oxyic acid, oxycarboxylic acid, or alcoholic acid (). Iwanami Physics and Chemistry Dictionary 5th Edition, published by Iwanami Shoten Co., Ltd. (1998)).
The hydroxycarboxylic acid or a salt thereof is preferably represented by the following formula (HC).
R HC (OH) mhc ( COMM HC ) nhc formula (HC)
In formula (HC), R HC represents a mhc + nhc valent organic group, M HC independently represents a hydrogen atom, an alkali metal or onium, and mhc and nhc each independently represent an integer of 1 or more, n. If is 2 or more, the MHC may be the same or different.
 式(HC)において、RHCで表されるmhc+nhc価の有機基としては、mhc+nhc価の炭化水素基等が挙げられる。炭化水素基は置換基及び/又は連結基を有してもよい。
 炭化水素基としては、脂肪族炭化水素から誘導されるmhc+nhc価の基、例えば、アルキレン基、アルカントリイル基、アルカンテトライル基、アルカンペンタイル基、アルケニレン基、アルケントリイル基、アルケンテトライル基、アルケンペンタイル基、アルキニレン基、アルキントリイル基、アルキンテトライル基、アルキンペンタイル基等、芳香族炭化水素から誘導されるmhc+nhc価の基、例えば、アリーレン基、アレーントリイル基、アレーンテトライル基、アレーンペンタイル基等が挙げられる。ヒドロキシ基及びカルボキシ基以外の置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基等が挙げられる。置換基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1-メチルブチル基、イソヘキシル基、2-エチルヘキシル基、2-メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2-ノルボルニル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、ベンジル基、フェネチル基、α-メチルベンジル基、1-メチル-1-フェニルエチル基、p-メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1-プロペニルメチル基、2-ブテニル基、2-メチルアリル基、2-メチルプロペニルメチル基、2-プロピニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル基等が挙げられる。また、連結基は、水素原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びハロゲン原子よりなる群から選ばれる少なくとも1種の原子により構成されるもので、その原子数は好ましくは1~50である。具体的には、アルキレン基、置換アルキレン基、アリーレン基、置換アリーレン基などが挙げられ、これらの2価の基がアミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合及びエステル結合のいずれかで複数連結された構造を有していてもよい。
In the formula (HC), as the organic group for mhc + NHC value represented by R HC, it includes mhc + NHC valent hydrocarbon group. The hydrocarbon group may have a substituent and / or a linking group.
As the hydrocarbon group, a group having a mhc + nhc valence derived from an aliphatic hydrocarbon, for example, an alkylene group, an alcantryyl group, an alkanetetrayl group, an alcampentile group, an alkenylene group, an arcentryyl group, an alkentetrayl group. Mhc + nhc valent groups derived from aromatic hydrocarbons such as groups, alkenylpentyl groups, alkynylene groups, alkyntriyl groups, alkynetetrayl groups, alkynpentyl groups, etc., such as allylene groups, allenetriyl groups, allenes. Examples thereof include a tetrayl group and an arenepentile group. Examples of the substituent other than the hydroxy group and the carboxy group include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group, an aryl group and the like. Specific examples of the substituent include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, Octadecyl group, eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, Cyclopentyl group, 2-norbornyl group, methoxymethyl group, methoxyethoxyethyl group, allyloxymethyl group, phenoxymethyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1- Methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, cinnamyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group, 2-propynyl group, 2- Butynyl group, 3-butynyl group, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, trill group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group , Methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, phenoxycarbonylphenyl group and the like. The linking group is composed of at least one atom selected from the group consisting of hydrogen atom, carbon atom, oxygen atom, nitrogen atom, sulfur atom and halogen atom, and the number of atoms is preferably 1 to 50. Is. Specific examples thereof include an alkylene group, a substituted alkylene group, an arylene group and a substituted arylene group, and a plurality of these divalent groups are linked by any of an amide bond, an ether bond, a urethane bond, a urea bond and an ester bond. It may have an esterified structure.
 MHCで表されるアルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等が挙げられ、ナトリウムが特に好ましい。オニウムとしてはアンモニウム、ホスホニウム、スルホニウム等が挙げられ、アンモニウムが特に好ましい。
 また、MHCは、傷汚れ抑制性の観点から、アルカリ金属又はオニウムであることが好ましく、アルカリ金属であることがより好ましい。
 mhcとnhcとの総数は、3以上が好ましく、3~8がより好ましく、4~6が更に好ましい。
Examples of the alkali metal represented by MHC include lithium, sodium, potassium and the like, and sodium is particularly preferable. Examples of onium include ammonium, phosphonium, sulfonium and the like, and ammonium is particularly preferable.
Further, M HC, from the viewpoint of scratch stain inhibitory, preferably an alkali metal or an onium, and more preferably an alkali metal.
The total number of mhc and nhc is preferably 3 or more, more preferably 3 to 8, and even more preferably 4 to 6.
 上記ヒドロキシカルボン酸又はその塩は、分子量が600以下であることが好ましく、500以下であることがより好ましく、300以下であることが特に好ましい。また、上記分子量は、76以上であることが好ましい。
 上記ヒドロキシカルボン酸、又は、上記ヒドロキシカルボン酸の塩を構成するヒドロキシカルボン酸は、具体的には、グルコン酸、グリコール酸、乳酸、タルトロン酸、ヒドロキシ酪酸(2-ヒドロキシ酪酸、3-ヒドロキシ酪酸、γ-ヒドロキシ酪酸等)、リンゴ酸、酒石酸、シトラマル酸、クエン酸、イソクエン酸、ロイシン酸、メバロン酸、パントイン酸、リシノール酸、リシネライジン酸、セレブロン酸、キナ酸、シキミ酸、モノヒドロキシ安息香酸誘導体(サリチル酸、クレオソート酸(ホモサリチル酸、ヒドロキシ(メチル)安息香酸)、バニリン酸、シリング酸等)、ジヒドロキシ安息香酸誘導体(ピロカテク酸、レソルシル酸、プロトカテク酸、ゲンチジン酸、オルセリン酸等)、トリヒドロキシ安息香酸誘導体(没食子酸等)、フェニル酢酸誘導体(マンデル酸、ベンジル酸、アトロラクチン酸等)、ヒドロケイヒ酸誘導体(メリロト酸、フロレト酸、クマル酸、ウンベル酸、コーヒー酸、フェルラ酸、シナピン酸、セレブロン酸、カルミン酸等)等が挙げられる。
The hydroxycarboxylic acid or a salt thereof preferably has a molecular weight of 600 or less, more preferably 500 or less, and particularly preferably 300 or less. The molecular weight is preferably 76 or more.
Specific examples of the hydroxycarboxylic acid constituting the hydroxycarboxylic acid or the salt of the hydroxycarboxylic acid include gluconic acid, glycolic acid, lactic acid, tartron acid, and hydroxybutyric acid (2-hydroxybutyric acid, 3-hydroxybutyric acid, γ-Hydroxybutyric acid, etc.), malic acid, tartaric acid, citramal acid, citric acid, isocitrate, leucic acid, mevalonic acid, pantoic acid, ricinolic acid, ricineraidic acid, cerebronic acid, quinic acid, shikimic acid, monohydroxybenzoic acid derivative (Salicylic acid, cleosortic acid (homosalicylic acid, hydroxy (methyl) benzoic acid), vanillic acid, syring acid, etc.), dihydroxybenzoic acid derivatives (pyrocatechuic acid, resorcylic acid, protocatechuic acid, gentidic acid, orceric acid, etc.), trihydroxy Benzoic acid derivatives (such as galvanic acid), phenylacetic acid derivatives (mandelic acid, benzylic acid, atrolactic acid, etc.), hydrosilicic acid derivatives (merilotoic acid, floret acid, kumalic acid, umbelic acid, coffee acid, ferulic acid, cinnapic acid, etc.) Celebronic acid, carmic acid, etc.) and the like.
 これらの中でも、上記ヒドロキシカルボン酸、又は、上記ヒドロキシカルボン酸の塩を構成するヒドロキシカルボン酸としては、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシ基を2個以上有している化合物が好ましく、ヒドロキシ基を3個以上有している化合物がより好ましく、ヒドロキシ基を5個以上有している化合物が更に好ましく、ヒドロキシ基を5個~8個有している化合物が特に好ましい。
 また、カルボキシ基を1個、ヒドロキシ基を2個以上有しているものとしては、グルコン酸、又は、シキミ酸が好ましい。
 カルボキシ基を2個以上、ヒドロキシ基を1個有しているものとしては、クエン酸、又は、リンゴ酸が好ましい。
 カルボキシ基及びヒドロキシ基をそれぞれ2個以上有しているものとしては、酒石酸が好ましい。
 中でも、上記ヒドロキシカルボン酸としては、グルコン酸が特に好ましい。
Among these, as the hydroxycarboxylic acid or the hydroxycarboxylic acid constituting the salt of the hydroxycarboxylic acid, a compound having two or more hydroxy groups is preferable from the viewpoint of suppressing scratches and stains, and a hydroxy group is preferable. A compound having 3 or more hydroxy groups is more preferable, a compound having 5 or more hydroxy groups is further preferable, and a compound having 5 to 8 hydroxy groups is particularly preferable.
Further, as a substance having one carboxy group and two or more hydroxy groups, gluconic acid or shikimic acid is preferable.
Citric acid or malic acid is preferable as having two or more carboxy groups and one hydroxy group.
Tartaric acid is preferable as having two or more carboxy groups and two or more hydroxy groups.
Among them, gluconic acid is particularly preferable as the hydroxycarboxylic acid.
 親水性化合物は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
 下塗り層に親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩を含む場合、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸及びその塩の含有量は、下塗り層の全質量に対し、0.01質量%~50質量%であることが好ましく、0.1質量%~40質量%であることがより好ましく、1.0質量%~30質量%であることが特に好ましい。
The hydrophilic compound may be used alone or in combination of two or more.
When the undercoat layer contains a hydrophilic compound, preferably hydroxycarboxylic acid or a salt thereof, the content of the hydrophilic compound, preferably hydroxycarboxylic acid and its salt is 0.01% by mass or more based on the total mass of the undercoat layer. It is preferably 50% by mass, more preferably 0.1% by mass to 40% by mass, and particularly preferably 1.0% by mass to 30% by mass.
 下塗り層は、上記下塗り層用化合物の他に、経時による汚れ防止のため、キレート剤、第二級又は第三級アミン、重合禁止剤等を含有してもよい。 In addition to the above-mentioned compound for the undercoat layer, the undercoat layer may contain a chelating agent, a secondary or tertiary amine, a polymerization inhibitor, or the like in order to prevent stains over time.
 下塗り層は、公知の方法で塗布される。下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1mg/m~100mg/mが好ましく、1mg/m~30mg/mがより好ましい。 The undercoat layer is applied by a known method. The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably 0.1 mg / m 2 to 100 mg / m 2, and more preferably 1 mg / m 2 to 30 mg / m 2 .
<保護層>
 本開示に係る平版印刷版原版は、アルミニウム支持体が設けられた側とは反対側の画像記録層上に、保護層(オーバーコート層と呼ばれることもある。)を有していてもよい。保護層は酸素遮断により画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層における傷の発生防止及び高照度レーザー露光時のアブレーション防止の機能を有していてもよい。
<Protective layer>
The lithographic printing plate original plate according to the present disclosure may have a protective layer (sometimes referred to as an overcoat layer) on the image recording layer on the side opposite to the side on which the aluminum support is provided. The protective layer may have a function of suppressing an image formation inhibition reaction by blocking oxygen, a function of preventing the occurrence of scratches on the image recording layer, and a function of preventing ablation during high-intensity laser exposure.
 このような特性の保護層については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書及び特公昭55-49729号公報に記載されている。保護層に用いられる酸素低透過性のポリマーとしては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができ、必要に応じて2種類以上を混合して使用することもできる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリ(メタ)アクリロニトリル等が挙げられる。
 変性ポリビニルアルコールとしてはカルボキシ基又はスルホ基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開2005-250216号公報及び特開2006-259137号公報に記載の変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
Protective layers with such properties are described, for example, in US Pat. Nos. 3,458,311 and JP-A-55-49729. As the oxygen low-permeability polymer used for the protective layer, either a water-soluble polymer or a water-insoluble polymer can be appropriately selected and used, and if necessary, two or more kinds may be mixed and used. it can. Specific examples thereof include polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, water-soluble cellulose derivatives, poly (meth) acrylonitrile, and the like.
As the modified polyvinyl alcohol, an acid-modified polyvinyl alcohol having a carboxy group or a sulfo group is preferably used. Specific examples thereof include the modified polyvinyl alcohols described in JP-A-2005-250216 and JP-A-2006-259137.
 保護層は、酸素遮断性を高めるために無機層状化合物を含有することが好ましい。無機層状化合物は、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、天然雲母、合成雲母等の雲母群、式:3MgO・4SiO・HOで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、リン酸ジルコニウム等が挙げられる。
 好ましく用いられる無機層状化合物は雲母化合物である。雲母化合物としては、例えば、式:A(B,C)2-510(OH,F,O)〔ただし、Aは、K、Na、Caのいずれか、B及びCは、Fe(II)、Fe(III)、Mn、Al、Mg、Vのいずれかであり、Dは、Si又はAlである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群が挙げられる。
The protective layer preferably contains an inorganic layered compound in order to enhance oxygen blocking property. Inorganic laminar compound is a particle having a thin tabular shape, for example, natural mica, micas such as synthetic mica, wherein: talc represented by 3MgO · 4SiO · H 2 O, teniolite, montmorillonite, saponite, hectorite Examples include light, zirconium phosphate and the like.
The inorganic layered compound preferably used is a mica compound. Examples of the mica compound include formula: A (B, C) 2-5 D 4 O 10 (OH, F, O) 2 [However, A is any of K, Na, Ca, and B and C are It is any of Fe (II), Fe (III), Mn, Al, Mg, and V, and D is Si or Al. ] Can be mentioned as a group of mica such as natural mica and synthetic mica.
 雲母群においては、天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母及び鱗雲母が挙げられる。合成雲母としてはフッ素金雲母KMg(AlSi10)F、カリ四ケイ素雲母KMg2.5Si10)F等の非膨潤性雲母、及び、NaテトラシリリックマイカNaMg2.5(Si10)F、Na又はLiテニオライト(Na,Li)MgLi(Si10)F、モンモリロナイト系のNa又はLiヘクトライト(Na,Li)1/8Mg2/5Li1/8(Si10)F等の膨潤性雲母等が挙げられる。更に合成スメクタイトも有用である。 In the mica group, natural mica includes muscovite, paragonite, phlogopite, biotite and lepidolite. As synthetic mica, non-swelling mica such as fluorine gold mica KMg 3 (AlSi 3 O 10 ) F 2 , potassium tetrasilicon mica KMg 2.5 Si 4 O 10 ) F 2 , and Na tetrasilic mica Namg 2. 5 (Si 4 O 10 ) F 2 , Na or Li teniolite (Na, Li) Mg 2 Li (Si 4 O 10 ) F 2 , montmorillonite-based Na or Li hectrite (Na, Li) 1/8 Mg 2 / Examples thereof include swelling mica such as 5 Li 1/8 (Si 4 O 10 ) F 2 . In addition, synthetic smectites are also useful.
 上記の雲母化合物の中でも、フッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。すなわち、膨潤性合成雲母は、10Å~15Å(1Å=0.1nm)程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他の粘土鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するために層間にLi、Na、Ca2+、Mg2+等の陽イオンを吸着している。これらの層間に介在している陽イオンは交換性陽イオンと呼ばれ、いろいろな陽イオンと交換し得る。特に、層間の陽イオンがLi、Naの場合、イオン半径が小さいため層状結晶格子間の結合が弱く、水により大きく膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。膨潤性合成雲母はこの傾向が強く、特に好ましく用いられる。 Among the above mica compounds, fluorine-based swelling mica is particularly useful. That is, the swellable synthetic mica has a laminated structure composed of a unit crystal lattice layer having a thickness of about 10 Å to 15 Å (1 Å = 0.1 nm), and the metal atom substitution in the lattice is significantly larger than that of other clay minerals. As a result, the lattice layer causes a positive charge shortage, and in order to compensate for this, cations such as Li + , Na + , Ca 2+ , and Mg 2+ are adsorbed between the layers. The cations intervening between these layers are called exchangeable cations and can be exchanged with various cations. In particular, when the cations between layers are Li + and Na + , the bond between the layered crystal lattices is weak because the ionic radius is small, and the cations swell greatly with water. When a share is applied in that state, it easily cleaves and forms a stable sol in water. Swellable synthetic mica has this tendency and is particularly preferably used.
 雲母化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きい程よい。従って、アスペクト比は、好ましくは20以上であり、より好ましくは100以上、特に好ましくは200以上である。アスペクト比は粒子の厚さに対する長径の比であり、例えば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。 As for the shape of the mica compound, from the viewpoint of diffusion control, the thinner the thickness, the better, and the plane size is better as long as it does not hinder the smoothness of the coated surface and the transmission of active rays. Therefore, the aspect ratio is preferably 20 or more, more preferably 100 or more, and particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the major axis to the thickness of the particles, which can be measured, for example, from a micrograph projection of the particles. The larger the aspect ratio, the greater the effect obtained.
 雲母化合物の粒子径は、その平均長径が、好ましくは0.3μm~20μm、より好ましくは0.5μm~10μm、特に好ましくは1μm~5μmである。粒子の平均の厚さは、好ましくは0.1μm以下、より好ましくは0.05μm以下、特に好ましくは0.01μm以下である。具体的には、例えば、代表的化合物である膨潤性合成雲母の場合、好ましい態様としては、厚さが1nm~50nm程度、面サイズ(長径)が1μm~20μm程度である。 The average major axis of the mica compound is preferably 0.3 μm to 20 μm, more preferably 0.5 μm to 10 μm, and particularly preferably 1 μm to 5 μm. The average thickness of the particles is preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.05 μm or less, and particularly preferably 0.01 μm or less. Specifically, for example, in the case of swellable synthetic mica, which is a typical compound, the preferred embodiment is such that the thickness is about 1 nm to 50 nm and the surface size (major axis) is about 1 μm to 20 μm.
 無機層状化合物の含有量は、保護層の全固形分に対して、1質量%~60質量%が好ましく、3質量%~50質量%がより好ましい。複数種の無機層状化合物を併用する場合でも、無機層状化合物の合計量が上記の含有量であることが好ましい。上記範囲で酸素遮断性が向上し、良好な感度が得られる。また、着肉性の低下を防止できる。 The content of the inorganic layered compound is preferably 1% by mass to 60% by mass, more preferably 3% by mass to 50% by mass, based on the total solid content of the protective layer. Even when a plurality of types of inorganic layered compounds are used in combination, the total amount of the inorganic layered compounds is preferably the above content. Oxygen blocking property is improved in the above range, and good sensitivity can be obtained. In addition, it is possible to prevent deterioration of meat-forming property.
 保護層は可撓性付与のための可塑剤、塗布性を向上させための界面活性剤、表面の滑り性を制御するための無機粒子など公知の添加物を含有してもよい。また、画像記録層において記載した感脂化剤を保護層に含有させてもよい。 The protective layer may contain known additives such as a plasticizer for imparting flexibility, a surfactant for improving coatability, and inorganic particles for controlling the slipperiness of the surface. Further, the protective layer may contain the oil-sensitive agent described in the image recording layer.
 保護層は公知の方法で塗布される。保護層の塗布量(固形分)は、0.01g/m~10g/mが好ましく、0.02g/m~3g/mがより好ましく、0.02g/m~1g/mが特に好ましい。 The protective layer is applied by a known method. The coating amount of the protective layer (solid content) is preferably from 0.01g / m 2 ~ 10g / m 2, more preferably 0.02g / m 2 ~ 3g / m 2, 0.02g / m 2 ~ 1g / m 2 is particularly preferable.
(平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法)
 本開示に係る平版印刷版原版を画像露光して現像処理を行うことで平版印刷版を作製することができる。
 本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程(以下、「露光工程」ともいう。)と、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去する工程(以下、「機上現像工程」ともいう。)と、を含むことが好ましい。
 本開示に係る平版印刷方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程(露光工程)と、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程(機上現像工程)と、得られた平版印刷版により印刷する工程(印刷工程)と、を含むことが好ましい。
 以下、本開示に係る平版印刷版の作製方法、及び、本開示に係る平版印刷方法について、各工程の好ましい態様を順に説明する。なお、本開示に係る平版印刷版原版は、現像液によっても現像可能である。
 以下、平版印刷版の作製方法における露光工程及び機上現像工程について説明するが、本開示に係る平版印刷版の作製方法における露光工程と、本開示に係る平版印刷方法における露光工程とは同様の工程であり、本開示に係る平版印刷版の作製方法における機上現像工程と、本開示に係る平版印刷方法における機上現像工程とは同様の工程である。
 また、上記最外層は、機上現像時において、一部は除去され、一部は画像部の表面に残留又は画像部の内部に印刷インキにより浸透しているものと推定している。
(Planographic printing plate manufacturing method and lithographic printing method)
A lithographic printing plate can be produced by subjecting the original plate of the lithographic printing plate according to the present disclosure to an image and developing the plate.
The method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure comprises a step of exposing the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure to an image (hereinafter, also referred to as an “exposure step”), and a group consisting of printing ink and dampening water. It is preferable to include a step of supplying at least one of the selected ones and removing the image recording layer of the non-image portion on the printing machine (hereinafter, also referred to as “on-machine development step”).
The lithographic printing method according to the present disclosure includes a step of exposing the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure to an image (exposure step) and printing by supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water. It is preferable to include a step of removing the image recording layer of the non-image portion on the machine to produce a lithographic printing plate (on-machine development step) and a step of printing with the obtained lithographic printing plate (printing step).
Hereinafter, preferred embodiments of each step will be described in order with respect to the method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure and the lithographic printing method according to the present disclosure. The lithographic printing plate original plate according to the present disclosure can also be developed with a developing solution.
Hereinafter, the exposure step and the on-machine development step in the lithographic printing plate manufacturing method will be described, but the exposure step in the lithographic printing plate manufacturing method according to the present disclosure and the exposure step in the lithographic printing method according to the present disclosure are the same. It is a step, and the on-machine development step in the lithographic printing plate manufacturing method according to the present disclosure and the on-machine development step in the lithographic printing method according to the present disclosure are the same steps.
Further, it is estimated that a part of the outermost layer is removed at the time of on-machine development, and a part remains on the surface of the image part or permeates into the inside of the image part by printing ink.
<露光工程>
 本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程を含むことが好ましい。本開示に係る平版印刷版原版は、線画像、網点画像等を有する透明原画を通してレーザー露光するかデジタルデータによるレーザー光走査等で画像様に露光されることが好ましい。
 光源の波長は750nm~1,400nmが好ましく用いられる。波長750nm~1,400nmの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。赤外線レーザーに関しては、出力は100mW以上であることが好ましく、1画素当たりの露光時間は20マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は10mJ/cm~300mJ/cmであるのが好ましい。また、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いることが好ましい。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、及びフラットベッド方式等のいずれでもよい。
 画像露光は、プレートセッターなどを用いて常法により行うことができる。機上現像の場合には、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光を行ってもよい。
<Exposure process>
The method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure preferably includes an exposure step of exposing the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure to an image to form an exposed portion and an unexposed portion. The planographic printing plate original plate according to the present disclosure is preferably exposed by laser exposure through a transparent original image having a line image, a halftone dot image, or the like, or by laser light scanning with digital data or the like.
The wavelength of the light source is preferably 750 nm to 1,400 nm. As a light source having a wavelength of 750 nm to 1,400 nm, a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared rays are suitable. Regarding the infrared laser, the output is preferably 100 mW or more, the exposure time per pixel is preferably within 20 microseconds, and the irradiation energy amount is 10 mJ / cm 2 to 300 mJ / cm 2. preferable. Further, it is preferable to use a multi-beam laser device in order to shorten the exposure time. The exposure mechanism may be any of an inner drum method, an outer drum method, a flatbed method and the like.
Image exposure can be performed by a conventional method using a platesetter or the like. In the case of on-machine development, the lithographic printing plate original plate may be mounted on the printing machine and then the image may be exposed on the printing machine.
<機上現像工程>
 本開示に係る平版印刷版の作製方法は、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去する機上現像工程を含むことが好ましい。
 以下に、機上現像方式について説明する。
<In-machine development process>
The method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure involves an on-machine development step of supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water to remove an image recording layer in a non-image area on a printing machine. It is preferable to include it.
The on-machine development method will be described below.
〔機上現像方式〕
 機上現像方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、印刷機上で油性インキと水性成分とを供給し、非画像部の画像記録層が除去されて平版印刷版が作製されることが好ましい。
 すなわち、平版印刷版原版を画像露光後、何らの現像処理を施すことなくそのまま印刷機に装着するか、あるいは、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光し、ついで、油性インキと水性成分とを供給して印刷すると、印刷途上の初期の段階で、非画像部においては、供給された油性インキ及び水性成分のいずれか又は両方によって、未硬化の画像記録層が溶解又は分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。一方、露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。最初に版面に供給されるのは、油性インキでもよく、水性成分でもよいが、水性成分が除去された画像記録層の成分によって汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給することが好ましい。このようにして、平版印刷版原版は印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。油性インキ及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インキ及び湿し水が好適に用いられる。
[In-machine development method]
In the on-machine development method, the image-exposed lithographic printing plate original plate supplies oil-based ink and water-based components on the printing machine, and the image recording layer in the non-image area is removed to produce a lithographic printing plate. Is preferable.
That is, either the flat plate printing plate original plate is mounted on the printing machine as it is without any development processing after the image exposure, or the flat plate printing plate original plate is mounted on the printing machine and then the image is exposed on the printing machine, and then When printing is performed by supplying an oil-based ink and a water-based component, in the non-image area, an uncured image recording layer is formed by either or both of the supplied oil-based ink and the water-based component in the initial stage of printing. It dissolves or disperses and is removed, exposing a hydrophilic surface in that area. On the other hand, in the exposed portion, the image recording layer cured by exposure forms an oil-based ink receiving portion having a lipophilic surface. The first supply to the printing plate may be an oil-based ink or a water-based component, but the oil-based ink is first supplied in terms of preventing contamination by the components of the image recording layer from which the water-based components have been removed. Is preferable. In this way, the lithographic printing plate original plate is developed on the printing machine and used as it is for printing a large number of sheets. As the oil-based ink and the water-based component, ordinary printing ink for lithographic printing and dampening water are preferably used.
 上記本開示に係る平版印刷版原版を画像露光するレーザーとしては、光源の波長は300nm~450nm又は750nm~1,400nmが好ましく用いられる。波長300nm~450nmの光源の場合は、この波長領域に吸収極大を有する増感色素を画像記録層に含有する平版印刷版原版が好ましく用いられ、波長750nm~1,400nmの光源は上述したものが好ましく用いられる。波長300nm~450nmの光源としては、半導体レーザーが好適である。 The wavelength of the light source is preferably 300 nm to 450 nm or 750 nm to 1,400 nm as the laser for image-exposing the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure. In the case of a light source having a wavelength of 300 nm to 450 nm, a lithographic printing plate original plate containing a sensitizing dye having an absorption maximum in this wavelength region in the image recording layer is preferably used, and the light source having a wavelength of 750 nm to 1,400 nm is as described above. It is preferably used. A semiconductor laser is suitable as a light source having a wavelength of 300 nm to 450 nm.
<現像液現像工程>
 本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、現像液により非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程(「現像液現像工程」ともいう。)と、を含む方法であってもよい。
 また、本開示に係る平版印刷方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、現像液により非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む方法であってもよい。
 現像液としては、公知の現像液を用いることができる。
 現像液のpHは、特に制限はなく、強アルカリ現像液であってもよいが、pH2~11の現像液が好ましく挙げられる。pH2~11の現像液としては、例えば、界面活性剤及び水溶性高分子化合物のうち少なくとも1種を含有する現像液が好ましく挙げられる。
 強アルカリ現像液を用いた現像処理においては、前水洗工程により保護層を除去し、次いでアルカリ現像を行い、後水洗工程でアルカリを水洗除去し、ガム液処理を行い、乾燥工程で乾燥する方法が挙げられる。
 また、界面活性剤又は水溶性高分子化合物を含有する上記現像液を用いる場合は、現像-ガム液処理を同時に行うことができる。よって、後水洗工程は特に必要とせず、1液で現像とガム液処理を行った後、乾燥工程を行うことができる。更に、保護層の除去も現像、ガム液処理と同時に行うことができるので、前水洗工程も特に必要としない。現像処理後、スクイズローラー等を用いて余剰の現像液を除去した後、乾燥を行うことが好ましい。
<Developer development process>
The method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure includes a step of exposing the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure to an image, and a step of removing the image recording layer of the non-image portion with a developing solution to prepare a lithographic printing plate ( It may also be a method including "developer development step").
Further, the lithographic printing method according to the present disclosure includes a step of exposing the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure to an image, and a step of removing the image recording layer of the non-image portion with a developing solution to prepare a lithographic printing plate. A method may include a step of printing with the obtained lithographic printing plate.
As the developing solution, a known developing solution can be used.
The pH of the developing solution is not particularly limited and may be a strong alkaline developing solution, but a developing solution having a pH of 2 to 11 is preferable. As the developing solution having a pH of 2 to 11, for example, a developing solution containing at least one of a surfactant and a water-soluble polymer compound is preferable.
In the development process using a strong alkaline developer, a method in which the protective layer is removed by a pre-washing step, then alkaline development is performed, the alkali is washed and removed in a post-washing step, a gum solution treatment is performed, and the drying step is performed. Can be mentioned.
When the developer containing a surfactant or a water-soluble polymer compound is used, the developer-gum solution treatment can be performed at the same time. Therefore, the post-washing step is not particularly required, and the drying step can be performed after the development and the gum liquid treatment are performed with one liquid. Further, since the protective layer can be removed at the same time as the development and the gum solution treatment, the pre-washing step is not particularly required. After the development treatment, it is preferable to remove excess developer using a squeeze roller or the like and then dry.
<印刷工程>
 本開示に係る平版印刷方法は、平版印刷版に印刷インキを供給して記録媒体を印刷する印刷工程を含む。
 印刷インキとしては、特に制限はなく、所望に応じ、種々の公知のインキを用いることができる。また、印刷インキとしては、油性インキ又は紫外線硬化型インキ(UVインキ)が好ましく挙げられる。
 また、上記印刷工程においては、必要に応じ、湿し水を供給してもよい。
 また、上記印刷工程は、印刷機を停止することなく、上記機上現像工程又は上記現像液現像工程に連続して行われてもよい。
 記録媒体としては、特に制限はなく、所望に応じ、公知の記録媒体を用いることができる。
<Printing process>
The lithographic printing method according to the present disclosure includes a printing step of supplying printing ink to a lithographic printing plate to print a recording medium.
The printing ink is not particularly limited, and various known inks can be used as desired. Further, as the printing ink, oil-based ink or ultraviolet curable ink (UV ink) is preferably mentioned.
Further, in the printing process, dampening water may be supplied as needed.
Further, the printing step may be continuously performed in the on-machine development step or the developer development step without stopping the printing machine.
The recording medium is not particularly limited, and a known recording medium can be used as desired.
 本開示に係る平版印刷版原版からの平版印刷版の作製方法、及び、本開示に係る平版印刷方法においては、必要に応じて、露光前、露光中、露光から現像までの間に、平版印刷版原版の全面を加熱してもよい。このような加熱により、画像記録層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や感度の安定化等の利点が生じ得る。現像前の加熱は150℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。上記態様であると、非画像部が硬化してしまう等の問題を防ぐことができる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用することが好ましく、100℃~500℃の範囲であることが好ましい。上記範囲であると、十分な画像強化作用が得られまた、支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を抑制することができる。 In the method for producing a lithographic printing plate from the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure and the lithographic printing method according to the present disclosure, lithographic printing is performed before, during, and between exposure and development as necessary. The entire surface of the plate original may be heated. By such heating, the image formation reaction in the image recording layer is promoted, and advantages such as improvement of sensitivity and printing durability and stabilization of sensitivity can occur. Heating before development is preferably performed under mild conditions of 150 ° C. or lower. In the above aspect, it is possible to prevent problems such as hardening of the non-image portion. It is preferable to use very strong conditions for heating after development, preferably in the range of 100 ° C. to 500 ° C. Within the above range, a sufficient image enhancement effect can be obtained, and problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image portion can be suppressed.
 以下、実施例により本開示を詳細に説明するが、本開示はこれらに限定されるものではない。なお、本実施例において、「%」、「部」とは、特に断りのない限り、それぞれ「質量%」、「質量部」を意味する。なお、高分子化合物において、特別に規定したもの以外は、分子量は重量平均分子量(Mw)であり、構成繰り返し単位の比率はモル百分率である。また、重量平均分子量(Mw)は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法によるポリスチレン換算値として測定した値である。また、平均粒径は、特に断りのない限り、体積平均粒径を意味する。 Hereinafter, the present disclosure will be described in detail by way of examples, but the present disclosure is not limited thereto. In addition, in this Example, "%" and "part" mean "mass%" and "part by mass", respectively, unless otherwise specified. In the polymer compound, the molecular weight is the weight average molecular weight (Mw), and the ratio of the constituent repeating units is a molar percentage, except for those specified specifically. The weight average molecular weight (Mw) is a value measured as a polystyrene-equivalent value by a gel permeation chromatography (GPC) method. Further, the average particle size means a volume average particle size unless otherwise specified.
(実施例1~28)
<支持体の作製>
<<表面処理A>>
〔大径孔部及び小径孔部を有する支持体〕
(A-a)アルカリエッチング処理
 アルミニウム板に、カセイソーダ(水酸化ナトリウム)濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度70℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、1.0g/mであった。
(Examples 1 to 28)
<Preparation of support>
<< Surface Treatment A >>
[Support with large-diameter holes and small-diameter holes]
(Aa) Alkaline Etching Treatment An aqueous solution of caustic soda having a caustic soda (sodium hydroxide) concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass was sprayed onto an aluminum plate at a temperature of 70 ° C. by a spray tube to perform an etching treatment. .. Then, it was washed with water by spraying. The amount of aluminum dissolved on the surface to be subjected to the electrochemical roughening treatment later was 1.0 g / m 2 .
(A-b)酸性水溶液中でのデスマット処理(第1デスマット処理)
 次に、酸性水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸150g/Lの水溶液を用いた。その液温は30℃であった。デスマット液はスプレーにより吹き付けて、3秒間デスマット処理した。その後、水洗処理を行った。
(Ab) Desmat treatment in an acidic aqueous solution (first desmat treatment)
Next, a desmat treatment was performed in an acidic aqueous solution. As the acidic aqueous solution used for the desmat treatment, an aqueous solution of sulfuric acid of 150 g / L was used. The liquid temperature was 30 ° C. The desmat solution was sprayed and treated with desmat for 3 seconds. Then, it was washed with water.
(A-c)塩酸水溶液中での電気化学的粗面化処理
 次に、塩酸濃度14g/L、アルミニウムイオン濃度13g/L、硫酸濃度3g/Lの電解液を用い、交流電流を用いて電解粗面化処理を行った。電解液の液温は30℃であった。アルミニウムイオン濃度は塩化アルミニウムを添加して調整した。交流電流の波形は正と負の波形が対称な正弦波であり、周波数は50Hz、交流電流1周期におけるアノード反応時間とカソード反応時間は1:1、電流密度は交流電流波形のピーク電流値で75A/dmであった。また、電気量はアルミニウム板がアノード反応に預かる電気量の総和で450C/dmであり、電解処理は125C/dmずつ4秒間の通電間隔を開けて4回に分けて行った。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。その後、水洗処理を行った。
(Ac) Electrochemical roughening treatment in hydrochloric acid aqueous solution Next, electrolysis using an electrolytic solution having a hydrochloric acid concentration of 14 g / L, an aluminum ion concentration of 13 g / L, and a sulfuric acid concentration of 3 g / L was used. Roughening treatment was performed. The temperature of the electrolytic solution was 30 ° C. The aluminum ion concentration was adjusted by adding aluminum chloride. The AC current waveform is a sinusoidal wave with symmetrical positive and negative waveforms, the frequency is 50 Hz, the anode reaction time and cathode reaction time in one AC current cycle are 1: 1, and the current density is the peak current value of the AC current waveform. It was 75 A / dm 2 . The total amount of electricity stored in the anodic reaction of the aluminum plate was 450 C / dm 2 , and the electrolysis treatment was carried out in 4 steps with an energization interval of 125 C / dm 2 for 4 seconds. A carbon electrode was used as the counter electrode of the aluminum plate. Then, it was washed with water.
(A-d)アルカリエッチング処理
 電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板を、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度45℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。電気化学的粗面化処理が施された面のアルミニウムの溶解量は0.2g/mであった。その後、水洗処理を行った。
(Ad) Alkaline etching treatment The aluminum plate after the electrochemical roughening treatment is etched by spraying an aqueous solution of caustic soda having a caustic soda concentration of 5% by mass and an aluminum ion concentration of 0.5% by mass with a spray tube at a temperature of 45 ° C. Processing was performed. The dissolved amount of aluminum on the surface subjected to the electrochemical roughening treatment was 0.2 g / m 2 . Then, it was washed with water.
(A-e)酸性水溶液中でのデスマット処理
 次に、酸性水溶液中でのデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、陽極酸化処理工程で発生した廃液(硫酸170g/L水溶液中にアルミニウムイオン5.0g/L溶解)を用いた。液温は30℃であった。デスマット液はスプレーに吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
(Ae) Desmat treatment in an acidic aqueous solution Next, a desmat treatment in an acidic aqueous solution was performed. As the acidic aqueous solution used for the desmat treatment, a waste liquid (aluminum ion 5.0 g / L dissolved in a sulfuric acid 170 g / L aqueous solution) generated in the anodizing treatment step was used. The liquid temperature was 30 ° C. The desmat solution was sprayed on a spray to perform a desmat treatment for 3 seconds.
(A-f)第1段階の陽極酸化処理
 図5に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第1段階の陽極酸化処理を行った。表1に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成した。
(Af) First-stage anodizing treatment The first-stage anodizing treatment was performed using an anodizing apparatus by direct current electrolysis having the structure shown in FIG. Anodizing was performed under the conditions shown in Table 1 to form an anodized film having a predetermined film thickness.
(A-g)ポアワイド処理
 上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、温度35℃、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液に表1に示す条件にて浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。
(Ag) Pore Wide Treatment The anodized aluminum plate is immersed in a caustic soda aqueous solution having a temperature of 35 ° C., a caustic soda concentration of 5% by mass, and an aluminum ion concentration of 0.5% by mass under the conditions shown in Table 1 for pore wide treatment. Was done. Then, it was washed with water by spraying.
(A-h)第2段階の陽極酸化処理
 図5に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第2段階の陽極酸化処理を行った。表1に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成した。
 以上の表面処理Aから、実施例の支持体S1を得た。
(Ah) Second-stage anodizing treatment The second-stage anodizing treatment was performed using an anodizing apparatus by direct current electrolysis having the structure shown in FIG. Anodizing was performed under the conditions shown in Table 1 to form an anodized film having a predetermined film thickness.
From the above surface treatment A, the support S1 of the example was obtained.
 上記で得られた第2陽極酸化処理工程後のマイクロポアを有する陽極酸化皮膜中の大径孔部の陽極酸化皮膜表面における平均径(nm)、小径孔部の連通位置における平均径(nm)、大径孔部及び小径孔部の深さ(nm)、ピット密度(マイクロポアの密度、単位;個/μm)、並びに、小径孔部の底部からアルミニウム板表面までの陽極酸化皮膜の厚み(nm)を、表2にまとめて示す。
 なお、マイクロポアの平均径(大径孔部及び小径孔部の平均径)は、大径孔部表面及び小径孔部表面を倍率15万倍のFE-SEMでN=4枚観察し、得られた4枚の画像において、400nm×600nmの範囲に存在するマイクロポア(大径孔部及び小径孔部)の径を測定し、平均した値である。なお、大径孔部の深さが深く、小径孔部の径が測定しづらい場合、および、小径孔部中の拡径孔部の測定を行う場合は、陽極酸化皮膜上部を切削し、その後各種径を求めた。
 マイクロポアの深さ(大径孔部及び小径孔部の深さ)は、支持体(陽極酸化皮膜)の断面をFE-SEMで観察し(大径孔部深さ観察:15万倍、小径孔部深さ観察:5万倍)、得られた画像において、任意のマイクロポア25個の深さを測定し、平均した値である。
 なお、表1中、第1陽極酸化処理欄の皮膜量(AD)量と第2陽極酸化処理欄の皮膜量(AD)とは、各処理で得られた皮膜量を表す。なお、使用される電解液は、表1中の成分を含む水溶液である。
The average diameter (nm) on the surface of the anodic oxide film of the large-diameter pores in the anodic oxide film having micropores after the second anodic oxidation treatment step obtained above, and the average diameter (nm) at the communication position of the small-diameter pores. , Depth (nm) of large and small holes, pit density (micropore density, unit; piece / μm 2 ), and thickness of anodic oxide film from the bottom of the small holes to the surface of the aluminum plate. (Nm) are summarized in Table 2.
The average diameter of the micropores (average diameter of the large-diameter hole and the small-diameter hole) was obtained by observing the surface of the large-diameter hole and the surface of the small-diameter hole with N = 4 sheets at a magnification of 150,000 times. The diameters of the micropores (large-diameter hole portion and small-diameter hole portion) existing in the range of 400 nm × 600 nm were measured and averaged in the four images obtained. If the depth of the large-diameter hole is deep and it is difficult to measure the diameter of the small-diameter hole, or if the enlarged-diameter hole in the small-diameter hole is to be measured, the upper part of the anodic oxide film is cut, and then Various diameters were calculated.
For the depth of the micropores (depth of the large-diameter hole and the small-diameter hole), observe the cross section of the support (anodic oxide film) with FE-SEM (observation of the depth of the large-diameter hole: 150,000 times, small diameter). (Observation of hole depth: 50,000 times), in the obtained image, the depths of 25 arbitrary micropores were measured and averaged.
In Table 1, the amount of film (AD) in the first anodizing treatment column and the amount of film (AD) in the second anodizing treatment column represent the amount of film obtained in each treatment. The electrolytic solution used is an aqueous solution containing the components in Table 1.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000066
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000066
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000067
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000067
<下塗り層の形成>
 上記支持体上に、下記組成の下塗り層塗布液(1)を乾燥塗布量が23mg/mになるよう塗布して下塗り層を形成した。
<Formation of undercoat layer>
An undercoat layer coating solution (1) having the following composition was applied onto the support so that the dry coating amount was 23 mg / m 2 to form an undercoat layer.
<下塗り層塗布液(1)>
 ・ポリマー(P-1)〔下記構造〕:0.18部
 ・ヒドロキシエチルイミノ二酢酸:0.10部
 ・水:61.4部
<Undercoat layer coating liquid (1)>
-Polymer (P-1) [structure below]: 0.18 parts-Hydroxyethyliminodiacetic acid: 0.10 parts-Water: 61.4 parts
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
<画像記録層の形成>
 下塗り層上に、下記組成の画像記録層塗布液をバー塗布し、120℃で40秒間オーブン乾燥して乾燥塗布量1.0g/mの画像記録層を形成した。
 画像記録層塗布液は表3又は表4に記載の組成で化合物を混合することにより調製した。
 なお、界面活性剤は、後述するフッ素系界面活性剤(1)、低分子親水性化合物は、後述するA-1、バインダーポリマーは、後述するB-1をそれぞれ使用した。
<Formation of image recording layer>
An image recording layer coating solution having the following composition was bar-coated on the undercoat layer and dried in an oven at 120 ° C. for 40 seconds to form an image recording layer having a dry coating amount of 1.0 g / m 2 .
The image recording layer coating liquid was prepared by mixing the compounds with the compositions shown in Table 3 or Table 4.
The surfactant used was the fluorine-based surfactant (1) described later, the low molecular weight hydrophilic compound used A-1 described later, and the binder polymer used B-1 described later.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000069
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000069
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000070
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000070
 表3及び表4に記載の各化合物の詳細を、以下に示す。 Details of each compound shown in Tables 3 and 4 are shown below.
・モノマー
 M-1:下記化合物(分子量2,500未満)を含むウレタンアクリレート、U-15HA(新中村化学工業(株)製)
 M-2:下記化合物(分子量2,500未満)、UA-510H(共栄社化学(株)製)
 M-3:トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート(分子量2,500未満)、A-9300(新中村化学工業(株)製)
 M-4:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(分子量2,500未満)、DPHA(新中村化学工業(株)製)
Monomer M-1: Urethane acrylate containing the following compound (molecular weight less than 2,500), U-15HA (manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.)
M-2: The following compounds (molecular weight less than 2,500), UA-510H (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
M-3: Tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate (molecular weight less than 2,500), A-9300 (manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.)
M-4: Dipentaerythritol hexaacrylate (molecular weight less than 2,500), DPHA (manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
・電子受容型重合開始剤
 I-1:下記化合物、LUMO=-3.02eV、対アニオンのδd=20.9、δp=20.7、δh/δp=48%
 I-2:下記化合物、LUMO=-2.81eV、なお、TsOは、トシレートアニオンを表す。
 I-3:下記化合物、LUMO=-3.02eV
-Electron-accepting polymerization initiator I-1: The following compound, LUMO = -3.02 eV, counter anion δd = 20.9, δp = 20.7, δh / δp = 48%
I-2: The following compounds, LUMO = -2.81eV, Note, TsO - represents a tosylate anion.
I-3: The following compound, LUMO = -3.02 eV
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
・電子供与型重合開始剤
 D-1:下記化合物、HOMO=-6.05eV、なお、Buは、n-ブチル基を表す。
 D-2:下記化合物、HOMO=-5.91eV
-Electron-donated polymerization initiator D-1: The following compound, HOMO = -6.05eV, and Bu represents an n-butyl group.
D-2: The following compound, HOMO = -5.91 eV
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
・赤外線吸収剤
 IR-1:下記化合物、対アニオンのδd=20.9、δp=20.7、δh/δp=48%
 IR-2:下記化合物
 IR-3:下記化合物
-Infrared absorber IR-1: The following compounds, δd = 20.9, δp = 20.7, δh / δp = 48% of the counter anion
IR-2: The following compounds IR-3: The following compounds
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
・発色剤
 C-1:下記に示すロイコ色素(酸発色剤)
 発色剤S-1、S-4、S-6又はS-11~S-14:上述したS-1、S-4、S-6又はS-11~S-14とそれぞれ同じ化合物を使用した。
-Color former C-1: Leuco dye (acid color former) shown below
Color formers S-1, S-4, S-6 or S-11 to S-14: The same compounds as S-1, S-4, S-6 or S-11 to S-14 described above were used. ..
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
・界面活性剤
 フッ素系界面活性剤(1):下記化合物W-1
-Surfactant Fluorosurfactant (1): The following compound W-1
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
・低分子親水性化合物
 A-1:下記化合物
-Low molecular weight hydrophilic compound A-1: The following compounds
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
・溶剤
 2-ブタノン
 1-メトキシ-2-プロパノール
・ Solvent 2-butanone 1-methoxy-2-propanol
・バインダーポリマー
 B-1:下記に示す樹脂
-Binder polymer B-1: Resin shown below
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
 上記バインダーポリマーB-1の調整法を以下に示す。
 三口フラスコに、1-メトキシ-2-プロパノール78部を加え、窒素気流下、70℃とした。そこに、以下に示す滴下液1を2.5時間かけて滴下し、滴下終了後80℃に昇温して2時間撹拌した。更に、以下に示す添加液1を加えて90℃に昇温し、2.5時間撹拌した。
The preparation method of the binder polymer B-1 is shown below.
78 parts of 1-methoxy-2-propanol was added to the three-necked flask, and the temperature was adjusted to 70 ° C. under a nitrogen stream. The dropping liquid 1 shown below was added dropwise thereto over 2.5 hours, and after the completion of the dropping, the temperature was raised to 80 ° C. and the mixture was stirred for 2 hours. Further, the additive solution 1 shown below was added, the temperature was raised to 90 ° C., and the mixture was stirred for 2.5 hours.
-滴下液1-
・メタクリル酸メチル:21.8部
・ブレンマーPME100(メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、日油(株)製):52.1部
・メタクリル酸:14.2部
・ジペンタエリスリトールヘキサキス(3-メルカプトプロピオン酸):2.15部
・V-601(ジメチル 2,2-アゾビス(2-メチルプロピオネート)、富士フイルム和光純薬(株)製):0.38部
・1-メトキシ-2-プロパノール:50.2部
-Dripping liquid 1-
・ Methyl methacrylate: 21.8 parts ・ Blemmer PME100 (methoxypolyethylene glycol methacrylate, manufactured by Nichiyu Co., Ltd.): 52.1 parts ・ Methacrylic acid: 14.2 parts ・ Dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionic acid) ): 2.15 parts, V-601 (dimethyl 2,2-azobis (2-methylpropionate), manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.): 0.38 parts, 1-methoxy-2-propanol: 50.2 copies
-添加液1-
・V-601(富士フイルム和光純薬(株)製):0.038部
・1-メトキシ-2-プロパノール:4.0部
-Additional solution 1-
・ V-601 (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.): 0.038 parts ・ 1-methoxy-2-propanol: 4.0 parts
 上記反応液を25℃まで冷却し、1-メトキシ-2-プロパノール136.6部、4-OH-TEMPO 0.238部、グリシジルメタクリレート25.88部、臭化トリメチルベンジルアンモニウム2.957部を加え、90℃で18時間撹拌した。得られた溶液を室温まで冷却し、1-メトキシ-2-プロパノールで固形分濃度23%に希釈することで、バインダーポリマーB-1が得られた。ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法によるポリスチレン換算値とした重量平均分子量(Mw)は4万であった。 The above reaction solution was cooled to 25 ° C., and 136.6 parts of 1-methoxy-2-propanol, 0.238 parts of 4-OH-TEMPO, 25.88 parts of glycidyl methacrylate, and 2.957 parts of trimethylbenzylammonium bromide were added. , 90 ° C. for 18 hours. The obtained solution was cooled to room temperature and diluted with 1-methoxy-2-propanol to a solid content concentration of 23% to obtain a binder polymer B-1. The weight average molecular weight (Mw) converted into polystyrene by the gel permeation chromatography (GPC) method was 40,000.
・ポリマー粒子
 P-1:下記に示す各構成単位を有するエチレン性不飽和基を有するスチレン-アクリロニトリル共重合体粒子(付加重合型樹脂、分子量2,500以上)
-Polymer particles P-1: Styrene-acrylonitrile copolymer particles having an ethylenically unsaturated group having each of the following structural units (addition polymerization type resin, molecular weight of 2,500 or more)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
 上記エチレン性不飽和基を有するスチレン-アクリロニトリル共重合体粒子P-1の調製法を以下に示す。 The method for preparing the styrene-acrylonitrile copolymer particles P-1 having the ethylenically unsaturated group is shown below.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
 3つ口フラスコにスチレン0.625部、ジビニルベンゼン0.3125部、アクリロニトリル0.5625部、メタクリル酸2.15部、PME-2000(メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、日油(株)製)1.0部、ラウリル硫酸ナトリウム0.009部、蒸留水90部を加え、窒素雰囲気下で撹拌し、70℃に昇温した。次に、過硫酸カリウム0.062部、蒸留水5.0部を加え、4時間撹拌した。その後、90℃に昇温し、2時間撹拌した。上記撹拌終了後、反応液を室温(25℃、以下同様)に放冷し、ポリマー粒子1の分散液を得た。上記分散液中のポリマー粒子のメジアン径は100nmであった。
 得られたポリマー粒子1の分散液100部に炭酸水素ナトリウム0.254部を加えて、系のpHを7.5にした後、90℃に昇温した。その後、TBAB(テトラブチルアンモニウムブロミド)1.5部、4OH-TEMPO(4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-1-オキシル)0.001部、4-HBAGE(4-ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル)10.0部を加え、8時間撹拌した。その後、遠心分離を行い、低分子成分である4-HBAGE、TBAB、4-OH TEMPOを除いた。塗布液を添加して再分散させ、固形分で20質量%になるように調整し、目的の粒子P-1を得た。
0.625 parts of styrene, 0.3125 parts of divinylbenzene, 0.5625 parts of acrylonitrile, 2.15 parts of methacrylic acid, PME-2000 (methoxypolyethylene glycol methacrylate, manufactured by Nichiyu Co., Ltd.) 1.0 in a three-necked flask. , 0.009 part of sodium lauryl sulfate and 90 parts of distilled water were added, and the mixture was stirred under a nitrogen atmosphere and heated to 70 ° C. Next, 0.062 parts of potassium persulfate and 5.0 parts of distilled water were added, and the mixture was stirred for 4 hours. Then, the temperature was raised to 90 ° C., and the mixture was stirred for 2 hours. After the above stirring was completed, the reaction solution was allowed to cool to room temperature (25 ° C., the same applies hereinafter) to obtain a dispersion of polymer particles 1. The median diameter of the polymer particles in the dispersion was 100 nm.
To 100 parts of the obtained dispersion of the polymer particles 1, 0.254 parts of sodium hydrogen carbonate was added to adjust the pH of the system to 7.5, and then the temperature was raised to 90 ° C. After that, 1.5 parts of TBAB (tetrabutylammonium bromide), 0.001 part of 4OH-TEMPO (4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-oxyl), 4-HBAGE (4-hydroxy). Butyl acrylate glycidyl ether) 10.0 parts was added, and the mixture was stirred for 8 hours. Then, centrifugation was performed to remove low molecular weight components 4-HBAGE, TBAB, and 4-OH TEMPO. The coating liquid was added and redispersed, and the solid content was adjusted to 20% by mass to obtain the target particles P-1.
 P-2:エチレン性不飽和基を有するポリウレタン粒子(ミクロゲル、重縮合樹脂、分子量2,500以上) P-2: Polyurethane particles having an ethylenically unsaturated group (microgel, polycondensation resin, molecular weight of 2,500 or more)
 上記エチレン性不飽和基を有するポリウレタン粒子(ミクロゲル)の調製法を以下に示す。 The method for preparing the polyurethane particles (microgels) having the ethylenically unsaturated group is shown below.
<多価イソシアネート化合物(1)の調製>
 イソホロンジイソシアネート17.78g(80mmol)と下記多価フェノール化合物(1)7.35g(20mmol)との酢酸エチル(25.31g)懸濁溶液に、ビスマストリス(2-エチルヘキサノエート)(ネオスタン U-600、日東化成(株)製)43mgを加えて攪拌した。発熱が収まった時点で反応温度を50℃に設定し、3時間攪拌して多価イソシアネート化合物(1)の酢酸エチル溶液(50質量%)を得た。
<Preparation of multivalent isocyanate compound (1)>
Bismuth tris (2-ethylhexanoate) (neostan U) in a suspension solution of ethyl acetate (25.31 g) containing 17.78 g (80 mmol) of isophorone diisocyanate and 7.35 g (20 mmol) of the following polyhydric phenol compound (1). -600, 43 mg manufactured by Nitto Kasei Co., Ltd. was added and stirred. When the exotherm subsided, the reaction temperature was set to 50 ° C., and the mixture was stirred for 3 hours to obtain an ethyl acetate solution (50% by mass) of the polyvalent isocyanate compound (1).
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000082
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000082
<ミクロゲルの調製>
 下記油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を45℃で4時間各藩後、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エン-オクチル酸塩(U-CAT SA102、サンアプロ(株)製)の10質量%水溶液5.20部を加え、室温で30分撹拌し、45℃で24時間静置した。蒸留水で、固形分濃度を20質量%になるように調整し、ミクロゲル(1)の水分散液が得られた。光散乱法により平均粒径を測定したところ、0.28μmであった。
<Preparation of microgel>
The following oil phase components and aqueous phase components were mixed and emulsified at 12,000 rpm for 10 minutes using a homogenizer. After each clan at 45 ° C. for 4 hours, the obtained emulsion was prepared with 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-en-octylate (U-CAT SA102, manufactured by San-Apro Co., Ltd.). 5.20 parts of a mass% aqueous solution was added, the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, and allowed to stand at 45 ° C. for 24 hours. The solid content concentration was adjusted to 20% by mass with distilled water to obtain an aqueous dispersion of microgel (1). When the average particle size was measured by the light scattering method, it was 0.28 μm.
-油相成分-
 (成分1)酢酸エチル:12.0部
 (成分2)トリメチロールプロパン(6モル)とキシレンジイソシアネート(18モル)を付加させ、これに片末端メチル化ポリオキシエチレン(1モル、オキシエチレン単位の繰返し数:90)を付加させた付加体(50質量%酢酸エチル溶液、三井化学(株)製):3.76部
 (成分3)多価イソシアネート化合物(1)(50質量%酢酸エチル溶液として):15.0部
 (成分4)ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(SR-399、サートマー社製)の65質量%酢酸エチル溶液:11.54部
 (成分5)スルホン酸塩型界面活性剤(パイオニンA-41-C、竹本油脂(株)製)の10%酢酸エチル溶液:4.42部
-Oil phase component-
(Component 1) Ethyl acetate: 12.0 parts (Component 2) Trimethylol propane (6 mol) and xylene diisocyanate (18 mol) are added, and one-terminal methylated polyoxyethylene (1 mol, oxyethylene unit) is added thereto. Additive (50% by mass ethyl acetate solution, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) to which the number of repetitions: 90) was added: 3.76 parts (component 3) Polyhydric isocyanate compound (1) (as 50% by mass ethyl acetate solution) ): 15.0 parts (Component 4) 65% by mass ethyl acetate solution of dipentaerythritol pentaacrylate (SR-399, manufactured by Sartomer) 11.54 parts (Component 5) Sulfate-type surfactant (Pionin A) 4-1C, 10% ethyl acetate solution of Takemoto Oil & Fat Co., Ltd .: 4.42 parts
-水相成分-
 蒸留水:46.87部
-Aqueous phase component-
Distilled water: 46.87 parts
 ポリマー粒子18~22:下記方法に作製した粒子18~22 Polymer particles 18-22: Particles 18-22 produced by the following method
<ポリマー粒子18(粒子18)の作製>
-壁材Aの合成-
<Preparation of polymer particles 18 (particles 18)>
-Synthesis of wall material A-
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
 3つ口フラスコに、MR-200(式(Iso)で表される化合物、n=0~10、東ソー(株)製)7.5g、PETA(ペンタエリスリトールトリアクリレート、日本化薬(株)製、SR444)2.5g、及び酢酸エチル10gを加え、室温で撹拌した後、60℃に昇温した。
 次に、3つ口フラスコに、ネオスタンU-600を0.05g加え、3時間加熱撹拌した。その後、室温になるまで冷却し、壁材A(固形分50質量%)を得た。
In a three-necked flask, MR-200 (compound represented by formula (Iso), n = 0 to 10, manufactured by Toso Co., Ltd.) 7.5 g, PETA (pentaerythritol triacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) , SR444), and 10 g of ethyl acetate were added, and the mixture was stirred at room temperature and then heated to 60 ° C.
Next, 0.05 g of Neostan U-600 was added to the three-necked flask, and the mixture was heated and stirred for 3 hours. Then, it cooled to room temperature, and wall material A (solid content 50% by mass) was obtained.
-壁材Bの合成-
 なお、下記式中、Meはメチル基を表す。
-Synthesis of wall material B-
In the following formula, Me represents a methyl group.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
 3つ口フラスコに、D-110N(三井化学(株)製)5.0g、ユニオックスM-4000(日本油脂(株))5.0g、及び酢酸エチル10gを加え、室温で撹拌した後、60℃に昇温した。
 次に、3つ口フラスコに、ネオスタンU-600を0.05g加え、3時間加熱撹拌した。その後、室温になるまで冷却し、壁材B(固形分50質量%)を得た。
To a three-necked flask, 5.0 g of D-110N (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.), 5.0 g of Uniox M-4000 (NOF CORPORATION), and 10 g of ethyl acetate were added, and the mixture was stirred at room temperature. The temperature was raised to 60 ° C.
Next, 0.05 g of Neostan U-600 was added to the three-necked flask, and the mixture was heated and stirred for 3 hours. Then, it cooled to room temperature, and wall material B (solid content 50% by mass) was obtained.
-粒子18の合成-
 アルミカップに、パイオニンA-41-C(竹本油脂(株)製)0.45g、壁材A 14.99g、SR-399E(ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、サートマー社製)7.49g、壁材B 3.78g、及び、酢酸エチル16.56gを添加し、室温で撹拌した。
 その後、アルミカップに、純水46.89gを添加し、ホモジナイザーにより12分間12,000rpmで撹拌した。その後、純水16.64gを更に添加し、45℃に昇温し、4時間加熱撹拌した。
 その後、U-CAT SA 102の10%水溶液5.17gを添加した。次に、恒温槽に容器を入れ、48時間熟成し、粒子18の分散液(固形分20%)を得た。
 粒子18のエチレン性不飽和結合価は2.01mmol/gである。
 また、粒子18のメジアン径は180nmであって、変動係数は29.1%であった。
 粒子18に含まれる樹脂を以下に示す。
 下記樹脂中、各化合物(モノマー)の下の添え字、また、括弧右下の添え字は含有比(質量比)を表す。
-Synthesis of particle 18-
In an aluminum cup, Pionin A-41-C (manufactured by Takemoto Oil & Fat Co., Ltd.) 0.45 g, wall material A 14.99 g, SR-399E (dipentaerythritol pentaacrylate, manufactured by Sartmer) 7.49 g, wall material B 3.78 g and 16.56 g of ethyl acetate were added, and the mixture was stirred at room temperature.
Then, 46.89 g of pure water was added to the aluminum cup, and the mixture was stirred with a homogenizer at 12,000 rpm for 12 minutes. Then, 16.64 g of pure water was further added, the temperature was raised to 45 ° C., and the mixture was heated and stirred for 4 hours.
Then, 5.17 g of a 10% aqueous solution of U-CAT SA 102 was added. Next, the container was placed in a constant temperature bath and aged for 48 hours to obtain a dispersion liquid (solid content 20%) of the particles 18.
The ethylenically unsaturated valency of the particles 18 is 2.01 mmol / g.
The median diameter of the particles 18 was 180 nm, and the coefficient of variation was 29.1%.
The resin contained in the particles 18 is shown below.
In the following resins, the subscripts under each compound (monomer) and the subscripts at the lower right of the parentheses indicate the content ratio (mass ratio).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
<ポリマー粒子19(粒子19)の作製>
-壁材Bの合成-
 粒子18における壁材Bと同様な方法により合成した。
<Preparation of polymer particles 19 (particles 19)>
-Synthesis of wall material B-
It was synthesized by the same method as the wall material B in the particles 18.
-壁材Cの合成- -Synthesis of wall material C-
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000086
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000086
 3つ口フラスコに、上記化合物a1.5g、上記化合物b6.0g、上記化合物c2.5g、及び酢酸エチル10gを加え、室温で撹拌した後、60℃に昇温した。
 次に、3つ口フラスコに、ネオスタンU-600を0.05g加え、3時間加熱撹拌した。その後、室温になるまで冷却し、壁材C(固形分50質量%)を得た。
To a three-necked flask, 1.5 g of the above compound a, 6.0 g of the above compound b, 2.5 g of the above compound c, and 10 g of ethyl acetate were added, stirred at room temperature, and then heated to 60 ° C.
Next, 0.05 g of Neostan U-600 was added to the three-necked flask, and the mixture was heated and stirred for 3 hours. Then, it cooled to room temperature, and wall material C (solid content 50% by mass) was obtained.
-壁材Dの合成- -Synthesis of wall material D-
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000087
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000087
 3つ口フラスコに、D-110N(三井化学(株)製)5.0g、ユニセーフPKA5014-TF(日本油脂(株)製)5.0g、及び酢酸エチル10gを加え、室温で撹拌した後、60℃に昇温した。
 次に、3つ口フラスコに、ネオスタンU-600を0.05g加え、3時間加熱撹拌した。その後、室温になるまで冷却し、壁材D(固形分50質量%)を得た。
To a three-necked flask, 5.0 g of D-110N (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.), 5.0 g of Unisafe PKA5014-TF (manufactured by NOF CORPORATION), and 10 g of ethyl acetate were added, and the mixture was stirred at room temperature. The temperature was raised to 60 ° C.
Next, 0.05 g of Neostan U-600 was added to the three-necked flask, and the mixture was heated and stirred for 3 hours. Then, it cooled to room temperature, and wall material D (solid content 50% by mass) was obtained.
-粒子19の合成-
アルミカップに、パイオニンA-41-C(竹本油脂(株)製)0.45g、壁材C 14.99g、SR-399E 7.49g、壁材B 1.89g、壁材D 1.89g、及び、酢酸エチル16.56gを添加し、室温で撹拌した。
 その後、アルミカップに、純水46.89gを添加し、ホモジナイザーにより12分間12,000rpmで撹拌した。その後、純水16.64gを更に添加し、45℃に昇温し、4時間加熱撹拌した。
 その後、U-CAT SA 102の10%水溶液5.17gを添加した。次に、恒温槽に容器を入れ、48時間熟成し、粒子19の分散液(固形分20%)を得た。
 粒子19のエチレン性不飽和結合価は2.01mmol/gである。
 また、粒子19のメジアン径は200nmであって、変動係数は28.1%であった。
 粒子19に含まれる樹脂を以下に示す。
 下記樹脂中、各化合物(モノマー)の下の添え字、また、括弧右下の添え字は含有比(質量比)を表す。
-Synthesis of particles 19-
In an aluminum cup, Pionin A-41-C (manufactured by Takemoto Oil & Fat Co., Ltd.) 0.45 g, wall material C 14.99 g, SR-399E 7.49 g, wall material B 1.89 g, wall material D 1.89 g, And 16.56 g of ethyl acetate was added, and the mixture was stirred at room temperature.
Then, 46.89 g of pure water was added to the aluminum cup, and the mixture was stirred with a homogenizer at 12,000 rpm for 12 minutes. Then, 16.64 g of pure water was further added, the temperature was raised to 45 ° C., and the mixture was heated and stirred for 4 hours.
Then, 5.17 g of a 10% aqueous solution of U-CAT SA 102 was added. Next, the container was placed in a constant temperature bath and aged for 48 hours to obtain a dispersion liquid (solid content 20%) of the particles 19.
The ethylenically unsaturated valency of particle 19 is 2.01 mmol / g.
The median diameter of the particles 19 was 200 nm, and the coefficient of variation was 28.1%.
The resin contained in the particles 19 is shown below.
In the following resins, the subscripts under each compound (monomer) and the subscripts at the lower right of the parentheses indicate the content ratio (mass ratio).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000088
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000088
<ポリマー粒子20(粒子20)の作製>
-壁材Cの合成-
 粒子19における壁材Cと同様な方法により合成した。
<Preparation of polymer particles 20 (particles 20)>
-Synthesis of wall material C-
It was synthesized by the same method as the wall material C in the particles 19.
-壁材Dの合成-
 粒子19における壁材Dと同様な方法により合成した。
-Synthesis of wall material D-
It was synthesized by the same method as the wall material D in the particles 19.
-粒子20の合成-
 アルミカップに、パイオニンA-41-C(竹本油脂(株)製)0.45g、壁材C 14.99g、SR-399E 7.49g、壁材D3.78g、及び、酢酸エチル16.56gを添加し、室温で撹拌した。
 その後、アルミカップに、純水46.89gを添加し、ホモジナイザーにより12分間12,000rpmで撹拌した。その後、純水16.64gを更に添加し、45℃に昇温し、4時間加熱撹拌した。
 その後、U-CAT SA 102の10%水溶液5.17gを添加した。次に、恒温槽に容器を入れ、48時間熟成し、粒子20の分散液(固形分20%)を得た。
 粒子20のエチレン性不飽和結合価は2.01mmol/gである。
 また、粒子20のメジアン径は195nmであって、変動係数は28.5%であった。
 粒子20に含まれる樹脂を以下に示す。
 下記樹脂中、各化合物(モノマー)の下の添え字、また、括弧右下の添え字は含有比(質量比)を表す。
-Synthesis of particles 20-
In an aluminum cup, 0.45 g of Pionin A-41-C (manufactured by Takemoto Oil & Fat Co., Ltd.), 14.99 g of wall material C, 7.49 g of SR-399E, 3.78 g of wall material D, and 16.56 g of ethyl acetate. It was added and stirred at room temperature.
Then, 46.89 g of pure water was added to the aluminum cup, and the mixture was stirred with a homogenizer at 12,000 rpm for 12 minutes. Then, 16.64 g of pure water was further added, the temperature was raised to 45 ° C., and the mixture was heated and stirred for 4 hours.
Then, 5.17 g of a 10% aqueous solution of U-CAT SA 102 was added. Next, the container was placed in a constant temperature bath and aged for 48 hours to obtain a dispersion liquid (solid content 20%) of the particles 20.
The ethylenically unsaturated valency of the particles 20 is 2.01 mmol / g.
The median diameter of the particles 20 was 195 nm, and the coefficient of variation was 28.5%.
The resin contained in the particles 20 is shown below.
In the following resins, the subscripts under each compound (monomer) and the subscripts at the lower right of the parentheses indicate the content ratio (mass ratio).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000089
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000089
<ポリマー粒子21(粒子21)の作製>
-壁材Aの合成-
 粒子18における壁材Aと同様な方法により合成した。
<Preparation of polymer particles 21 (particles 21)>
-Synthesis of wall material A-
It was synthesized by the same method as the wall material A in the particles 18.
-壁材Bの合成-
 粒子18における壁材Bと同様な方法により合成した。
-Synthesis of wall material B-
It was synthesized by the same method as the wall material B in the particles 18.
-壁材Dの合成-
 粒子19における壁材Dと同様な方法により合成した。
-Synthesis of wall material D-
It was synthesized by the same method as the wall material D in the particles 19.
-粒子21の合成-
 アルミカップに、パイオニンA-41-C(竹本油脂(株)製)0.45g、壁材A 14.99g、SR-399E 7.49g、壁材B 1.89g、壁材D 1.89g、及び、酢酸エチル16.56gを添加し、室温で撹拌した。
 その後、アルミカップに、純水46.89gを添加し、ホモジナイザーにより12分間12,000rpmで撹拌した。その後、純水16.64gを更に添加し、45℃に昇温し、4時間加熱撹拌した。
 その後、U-CAT SA 102の10%水溶液5.17gを添加した。次に、恒温槽に容器を入れ、48時間熟成し、粒子21の分散液(固形分20%)を得た。
 粒子21のエチレン性不飽和結合価は2.01mmol/gである。
 また、粒子21のメジアン径は195nmであって、変動係数は28.5%であった。
 粒子21に含まれる樹脂を以下に示す。
 下記樹脂中、各化合物(モノマー)の下の添え字、また、括弧右下の添え字は含有比(質量比)を表す。また、Meはメチル基を表す。
-Synthesis of particles 21-
In an aluminum cup, Pionin A-41-C (manufactured by Takemoto Oil & Fat Co., Ltd.) 0.45 g, wall material A 14.99 g, SR-399E 7.49 g, wall material B 1.89 g, wall material D 1.89 g, And 16.56 g of ethyl acetate was added, and the mixture was stirred at room temperature.
Then, 46.89 g of pure water was added to the aluminum cup, and the mixture was stirred with a homogenizer at 12,000 rpm for 12 minutes. Then, 16.64 g of pure water was further added, the temperature was raised to 45 ° C., and the mixture was heated and stirred for 4 hours.
Then, 5.17 g of a 10% aqueous solution of U-CAT SA 102 was added. Next, the container was placed in a constant temperature bath and aged for 48 hours to obtain a dispersion liquid (solid content 20%) of the particles 21.
The ethylenically unsaturated valency of the particles 21 is 2.01 mmol / g.
The median diameter of the particles 21 was 195 nm, and the coefficient of variation was 28.5%.
The resin contained in the particles 21 is shown below.
In the following resins, the subscripts under each compound (monomer) and the subscripts at the lower right of the parentheses indicate the content ratio (mass ratio). In addition, Me represents a methyl group.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000090
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000090
<ポリマー粒子22(粒子22)の作製>
-壁材Aの合成-
 粒子18における壁材Aと同様な方法により合成した。
<Preparation of polymer particles 22 (particles 22)>
-Synthesis of wall material A-
It was synthesized by the same method as the wall material A in the particles 18.
-壁材Dの合成-
 粒子19における壁材Dと同様な方法により合成した。
-Synthesis of wall material D-
It was synthesized by the same method as the wall material D in the particles 19.
-粒子22の合成-
 アルミカップに、パイオニンA-41-C(竹本油脂(株)製)0.45g、壁材A 14.99g、SR-399E 7.49g、壁材D 3.78g、及び、酢酸エチル16.56gを添加し、室温で撹拌した。
 その後、アルミカップに、純水46.89gを添加し、ホモジナイザーにより12分間12,000rpmで撹拌した。その後、純水16.64gを更に添加し、45℃に昇温し、4時間加熱撹拌した。
 その後、U-CAT SA 102の10%水溶液5.17gを添加した。次に、恒温槽に容器を入れ、48時間熟成し、粒子22の分散液(固形分20%)を得た。
 粒子22のエチレン性不飽和結合価は2.01mmol/gであり、特定粒子Aに該当する。
 また、粒子22のメジアン径は185nmであって、変動係数は27.5%であった。
 粒子22に含まれる樹脂を以下に示す。
 下記樹脂中、各化合物(モノマー)の下の添え字、また、括弧右下の添え字は含有比(質量比)を表す。
-Synthesis of particles 22-
In an aluminum cup, Pionin A-41-C (manufactured by Takemoto Oil & Fat Co., Ltd.) 0.45 g, wall material A 14.99 g, SR-399E 7.49 g, wall material D 3.78 g, and ethyl acetate 16.56 g. Was added and stirred at room temperature.
Then, 46.89 g of pure water was added to the aluminum cup, and the mixture was stirred with a homogenizer at 12,000 rpm for 12 minutes. Then, 16.64 g of pure water was further added, the temperature was raised to 45 ° C., and the mixture was heated and stirred for 4 hours.
Then, 5.17 g of a 10% aqueous solution of U-CAT SA 102 was added. Next, the container was placed in a constant temperature bath and aged for 48 hours to obtain a dispersion liquid (solid content 20%) of the particles 22.
The ethylenically unsaturated bond value of the particle 22 is 2.01 mmol / g, which corresponds to the specific particle A.
The median diameter of the particles 22 was 185 nm, and the coefficient of variation was 27.5%.
The resin contained in the particles 22 is shown below.
In the following resins, the subscripts under each compound (monomer) and the subscripts at the lower right of the parentheses indicate the content ratio (mass ratio).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000091
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000091
(比較例1)
1.平版印刷版原版(1)の作製
(1)支持体の作製
 厚み0.3mmのアルミニウム板(材質JIS A 1050)の表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間、脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス-水懸濁液(比重1.1g/cm)を用いアルミニウム表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、更に60℃で20質量%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/mであった。
(Comparative Example 1)
1. 1. Preparation of lithographic printing plate original plate (1) (1) Preparation of support In order to remove the rolling oil on the surface of an aluminum plate (material JIS A 1050) with a thickness of 0.3 mm, 50 mass% sodium aluminate aqueous solution was used. After degreasing at ℃ for 30 seconds, sand the aluminum surface using three bundled nylon brushes with a hair diameter of 0.3 mm and a Pamis-water suspension with a median diameter of 25 μm (specific gravity 1.1 g / cm 3 ). It was sharpened and washed well with water. This plate was immersed in a 25 mass% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ° C. for 9 seconds for etching, washed with water, and then further immersed in 20 mass% nitric acid at 60 ° C. for 20 seconds and washed with water. The etching amount on the sand trimming surface at this time was about 3 g / m 2 .
 次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dmであった。その後、スプレーによる水洗を行った。 Next, an electrochemical roughening treatment was continuously performed using an AC voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass aqueous solution of nitric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and a liquid temperature of 50 ° C. The AC power supply waveform is electrochemically roughened using a carbon electrode as a counter electrode using a trapezoidal square wave AC with a TP of 0.8 msec, a duty ratio of 1: 1 and a time from zero to the peak of the current value. Was done. Ferrite was used as the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak value of the current, and 5% of the current flowing from the power supply was diverted to the auxiliary anode. The amount of electricity in nitric acid electrolysis was 175 C / dm 2 when the aluminum plate was an anode. Then, it was washed with water by spraying.
 続いて、塩酸0.5質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dmの条件で、硝酸電解と同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
 次に、この板に15質量%硫酸(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dmで2.5g/mの直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥して支持体(1)を作製した。
 その後、非画像部の親水性を確保するため、支持体(1)に2.5質量%3号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて60℃で10秒間、シリケート処理を施し、その後、水洗して支持体(2)を得た。Siの付着量は10mg/mであった。この基板の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。
Subsequently, nitrate electrolysis was carried out with a 0.5% by mass aqueous solution of hydrochloric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and an electrolytic solution having a liquid temperature of 50 ° C. under the condition of an electric amount of 50 C / dm 2 when the aluminum plate was an anode. The surface was subjected to an electrochemical roughening treatment in the same manner as in the above, and then washed with water by spraying.
Next, a DC anodic oxide film having a current density of 15 A / dm 2 and 2.5 g / m 2 was provided on this plate using 15 mass% aluminum sulfate (containing 0.5 mass% of aluminum ions) as an electrolytic solution, and then washed with water. The support (1) was prepared by drying.
Then, in order to ensure the hydrophilicity of the non-imaged portion, the support (1) was subjected to a silicate treatment at 60 ° C. for 10 seconds using a 2.5 mass% No. 3 sodium silicate aqueous solution, and then washed with water to support it. Body (2) was obtained. The amount of Si adhered was 10 mg / m 2 . The center line average roughness (Ra) of this substrate was measured using a needle having a diameter of 2 μm and found to be 0.51 μm.
(2)下塗り層の形成
 次に、上記支持体(2)上に、下記下塗り層用塗布液(1)を乾燥塗布量が20mg/mになるよう塗布して、以下の実験に用いる下塗り層を有する支持体を作製した。
(2) Formation of Undercoat Layer Next, the following undercoat layer coating solution (1) is applied onto the support (2) so that the dry coating amount is 20 mg / m 2 , and the undercoat used in the following experiment is applied. A support with a layer was made.
<下塗り層用塗布液(1)>
 ・下記構造の下塗り層用化合物(1):0.18g
 ・ヒドロキシエチルイミノ二酢酸:0.10g
 ・メタノール:55.24g
 ・水:6.15g
<Coating liquid for undercoat layer (1)>
-Compound for undercoat layer having the following structure (1): 0.18 g
-Hydroxyethyliminodiacetic acid: 0.10 g
-Methanol: 55.24 g
・ Water: 6.15g
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000092
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000092
(3)画像記録層の形成
 上記のようにして形成された下塗り層上に、下記組成の画像記録層塗布液(1)をバー塗布した後、100℃60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/mの画像記録層を形成した。
 画像記録層塗布液(1)は下記感光液(1)及びミクロゲル液(1)を塗布直前に混合し攪拌することにより得た。
(3) Formation of Image Recording Layer An image recording layer coating liquid (1) having the following composition is bar-coated on the undercoat layer formed as described above, and then dried in an oven at 100 ° C. for 60 seconds. An image recording layer of 1.0 g / m 2 was formed.
The image recording layer coating liquid (1) was obtained by mixing and stirring the following photosensitive liquid (1) and microgel liquid (1) immediately before coating.
<感光液(1)>
 ・バインダーポリマー(1)〔下記構造〕:0.240g
 ・赤外線吸収染料(1)〔下記構造〕:0.030g
 ・重合開始剤(1)〔下記構造〕:0.162g
 ・ラジカル重合性化合物
   トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート
   (NKエステルA-9300、新中村化学工業(株)製):0.192g
 ・低分子親水性化合物
   トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレート:0.062g
 ・低分子親水性化合物(1)〔下記構造〕:0.050g
 ・感脂化剤 ホスホニウム化合物(1)〔下記構造〕:0.055g
 ・感脂化剤
  ベンジル-ジメチル-オクチルアンモニウム・PF塩:0.018g
 ・感脂化剤  アンモニウム基含有ポリマー
   [下記構造、還元比粘度44cSt/(g/ml)]:0.035g
 ・フッ素系界面活性剤(1)〔下記構造〕:0.008g
 ・2-ブタノン:1.091g
 ・1-メトキシ-2-プロパノール:8.609g
<Photosensitive liquid (1)>
-Binder polymer (1) [structure below]: 0.240 g
-Infrared absorbing dye (1) [structure below]: 0.030 g
-Polymerization initiator (1) [structure below]: 0.162 g
-Radical polymerizable compound Tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate (NK ester A-9300, manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.): 0.192 g
-Low molecular weight hydrophilic compound Tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate: 0.062 g
-Low molecular weight hydrophilic compound (1) [structure below]: 0.050 g
-Fat sensitive agent Phosnium compound (1) [Structure below]: 0.055 g
・ Fat sensitive agent Benzyl-dimethyl-octylammonium ・ PF 6 salt: 0.018 g
-Fat sensitive agent Ammonium group-containing polymer [the following structure, reduction specific viscosity 44 cSt / (g / ml)]: 0.035 g
-Fluorine-based surfactant (1) [structure below]: 0.008 g
2-Butanone: 1.091 g
1-Methyl-2-propanol: 8.609 g
<ミクロゲル液(1)>
 ・ミクロゲル(1):2.640g
 ・蒸留水:2.425g
<Microgel solution (1)>
-Microgel (1): 2.640 g
-Distilled water: 2.425 g
 上記の、バインダーポリマー(1)、赤外線吸収染料(1)、重合開始剤(1)、ホスホニウム化合物(1)、低分子親水性化合物、(1)アンモニウム基含有ポリマー、及びフッ素系界面活性剤(1)の構造は、以下に示す通りである。 The above-mentioned binder polymer (1), infrared absorbing dye (1), polymerization initiator (1), phosphonium compound (1), low molecular weight hydrophilic compound, (1) ammonium group-containing polymer, and fluorine-based surfactant ( The structure of 1) is as shown below.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000093
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Figure JPOXMLDOC01-appb-C000094
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-ミクロゲル(1)の合成-
 油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井化学(株)製、タケネートD-110N)10g、ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)製、SR444)3.15g、及びパイオニンA-41C(竹本油脂(株)製)0.1gを酢酸エチル17gに溶解した。水相成分としてクラレポバールPVA-205((株)クラレ製ポリビニルアルコール、けん化度86.5モル%~89.0モル%)の4質量%水溶液40gを調製した。油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分撹拌後、50℃で3時間撹拌した。このようにして得られたミクロゲル液の固形分濃度を、15質量%になるように蒸留水を用いて希釈し、これを上記ミクロゲル(1)とした。ミクロゲルの平均粒径を光散乱法により測定したところ、平均粒径は0.2μmであった。
-Synthesis of microgel (1)-
As oil phase components, trimethylolpropane and xylene diisocyanate adduct (Mitsui Chemicals, Inc., Takenate D-110N) 10 g, pentaerythritol triacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd., SR444) 3.15 g, and 0.1 g of Pionin A-41C (manufactured by Takemoto Oil & Fat Co., Ltd.) was dissolved in 17 g of ethyl acetate. As an aqueous phase component, 40 g of a 4 mass% aqueous solution of Kuraray Poval PVA-205 (polyvinyl alcohol manufactured by Kuraray Co., Ltd., saponification degree of 86.5 mol% to 89.0 mol%) was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified at 12,000 rpm for 10 minutes using a homogenizer. The obtained emulsion was added to 25 g of distilled water, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 50 ° C. for 3 hours. The solid content concentration of the microgel solution thus obtained was diluted with distilled water so as to be 15% by mass, and this was used as the microgel (1). When the average particle size of the microgel was measured by the light scattering method, the average particle size was 0.2 μm.
(4)保護層の形成
 上記画像記録層上に、更に下記組成の保護層塗布液(1)をバー塗布した後、120℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.15g/mの保護層を形成して平版印刷版原版(1)を得た。
(4) Formation of Protective Layer A protective layer coating solution (1) having the following composition is further coated on the image recording layer by a bar, then dried in an oven at 120 ° C. for 60 seconds, and the dry coating amount is 0.15 g / m 2. A lithographic printing plate original plate (1) was obtained by forming a protective layer of.
<保護層用塗布液(1)>
・無機質層状化合物分散液(1):1.5g
・ポリビニルアルコール(日本合成化学工業(株)製CKS50、スルホン酸変性、けん化度99モル%以上、重合度300)6質量%水溶液:0.55g
・ポリビニルアルコール((株)クラレ製PVA-405、けん化度81.5モル%、重合度500)6質量%水溶液:0.03g
・日本エマルジョン(株)製界面活性剤(エマレックス710)1質量%水溶液:0.86g
・イオン交換水:6.0g
<Coating liquid for protective layer (1)>
-Inorganic layered compound dispersion (1): 1.5 g
-Polyvinyl alcohol (CKS50 manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., sulfonic acid modification, saponification degree 99 mol% or more, degree of polymerization 300) 6% by mass aqueous solution: 0.55 g
-Polyvinyl alcohol (PVA-405 manufactured by Kuraray Co., Ltd., saponification degree 81.5 mol%, polymerization degree 500) 6% by mass aqueous solution: 0.03 g
-1% by mass aqueous solution of surfactant (Emarex 710) manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd .: 0.86 g
-Ion-exchanged water: 6.0 g
-無機質層状化合物分散液(1)の調製-
 イオン交換水193.6gに合成雲母ソマシフME-100(コープケミカル(株)製)6.4gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が3μmになるまで分散した。得られた分散粒子のアスペクト比は100以上であった。
-Preparation of inorganic layered compound dispersion (1)-
6.4 g of synthetic mica Somashift ME-100 (manufactured by CO-OP CHEMICAL CO., LTD.) Was added to 193.6 g of ion-exchanged water, and the mixture was dispersed using a homogenizer until the average particle size (laser scattering method) became 3 μm. The aspect ratio of the obtained dispersed particles was 100 or more.
(比較例2)
 0.4μmの平均粗さ(Ra)を得るために塩酸溶液中で電解粗面化処理を施したアルミニウム板から構成される基板を使用してネガ型赤外線感受性平版印刷版原版を調製した。次いで、アルミニウム板に水性リン酸溶液中で陽極酸化処理を施して1.1g/mの酸化膜を形成し、次いで、ポリ(アクリル酸)の後処理水性溶液でコーティングして0.03g/mの乾燥厚さを得た。
(Comparative Example 2)
A negative infrared-sensitive lithographic printing plate precursor was prepared using a substrate composed of an aluminum plate that had been electrolytically roughened in a hydrochloric acid solution in order to obtain an average roughness (Ra) of 0.4 μm. Next, the aluminum plate is anodized in an aqueous phosphoric acid solution to form a 1.1 g / m 2 oxide film, and then coated with a poly (acrylic acid) post-treatment aqueous solution to 0.03 g / m 2. A dry thickness of m 2 was obtained.
 この基板のサンプル上に、以下の表5に示す配合物を使用して赤外線感受性画像形成性層を形成した。各配合物は、下記に示す化合物A及び化合物Bの特定の組み合わせを含んでいた。バーコーターを使用して各配合物を基板上にコーティングし、110℃で40秒間乾燥し、次いで、35℃まで冷却して、得られた赤外線感受性画像形成性層の1.0g/mの乾燥コーティング質量を得、こうして、各配合物を有するネガ型赤外線感受性平版印刷版原版を形成した。 An infrared sensitive image-forming layer was formed on a sample of this substrate using the formulations shown in Table 5 below. Each formulation contained a specific combination of Compound A and Compound B shown below. Each formulation was coated onto a substrate using a bar coater, dried at 110 ° C. for 40 seconds and then cooled to 35 ° C. to obtain 1.0 g / m 2 of the infrared sensitive image-forming layer. A dry coating mass was obtained, thus forming a negative infrared sensitive lithographic printing plate precursor with each formulation.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000095
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000095
 表5における各注釈は、以下の通りである。
 1:ウレタンアクリレート1は、ヘキサメチレンジイソシアネート及びジペンタエリトリトールペンタアクリレートの反応生成物である。
 2:グラフトコポリマー1は、米国特許第7592128号明細書(27段の下部)においてポリマーAに使用されるプロセスにしたがって調製される、質量比70:10:20のアクリロニトリル、ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート及びスチレンから誘導されるコポリマーのn-プロパノール/水の80/20混合物中の21質量%分散物である。
 3:ヒドロキシプロピルメチルセルロース1は、20℃の2%水性溶液中で5mPa秒の粘度を有する、30%のメトキシ化、10%ヒドロキシプロピル化セルロースポリマーである。
 4:アクリレートエステル1は、平均エトキシ鎖長が5であるエトキシル化ペンタエリトリトールテトラアクリレートである。
 5:IR色素1は以下の式により表される化合物である。なお、Phはフェニル基を表す。
Each note in Table 5 is as follows.
1: Urethane acrylate 1 is a reaction product of hexamethylene diisocyanate and dipentaerythritol pentaacrylate.
2: Graft copolymer 1 is prepared according to the process used for Polymer A in US Pat. No. 7,592,128 (bottom of 27 steps), acrylonitrile with a mass ratio of 70:10:20, polyethylene glycol methyl ether methacrylate and A 21% by weight dispersion in an 80/20 mixture of n-propanol / water of a copolymer derived from styrene.
3: Hydroxypropyl methylcellulose 1 is a 30% methoxylated, 10% hydroxypropylated cellulose polymer having a viscosity of 5 mPa seconds in a 2% aqueous solution at 20 ° C.
4: The acrylate ester 1 is an ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate having an average ethoxy chain length of 5.
5: IR dye 1 is a compound represented by the following formula. In addition, Ph represents a phenyl group.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000096
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000096
 6:BYK(登録商標)336は、BYK Chemie(コネティカット州ウォリングフォード)から入手できる25%キシレン/酢酸メトキシプロピル溶液中の修飾ジメチルポリシロキサンコポリマーである。
 化合物A及びB:それぞれ下記に示す化合物である。なお、Phはフェニル基を表す。
6: BYK® 336 is a modified dimethylpolysiloxane copolymer in a 25% xylene / methoxypropyl acetate solution available from BYK Chemie, Wallingford, Connecticut.
Compounds A and B: The compounds shown below, respectively. In addition, Ph represents a phenyl group.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000097
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000097
<評価方法>
-着肉性-
 得られた平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxel PLATESETTER T-6000IIIにより、外面ドラム回転数750rpm、レーザー出力70%、解像度2,400dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像及び20μmドットFMスクリーンの50%網点チャートを含むようにした。
 露光された平版印刷版原版を現像処理することなく、(株)小森コーポレーション製印刷機LITHRONE26の版胴に取り付けた。Ecolity-2(富士フイルム(株)製)/水道水=2/98(容量比)の湿し水とDIC Fusion-G 紅 Nインキ(DICグラフィックス(株)製)とを用い、LITHRONE26の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給し、毎時10,000枚の印刷速度で、特菱アート紙(連量:76.5kg、三菱製紙(株)製)に100枚印刷を行った。
 ベタ画像部におけるインキ濃度を、マクベス濃度計(X-rite社製、exact)を用いて測定し、1.45以上となるまでに要した印刷用紙の枚数をインキ着肉性(印刷初期インキ着肉性)の指標として計測した。枚数が少ないほど、平版印刷版は着肉性に優れるといえる。
-評価基準-
  評価5:100枚以上である
  評価4:50枚以上100枚未満である
  評価3:30枚以上50枚未満である
  評価2:20枚以上30枚未満である
  評価1:20枚未満である
<Evaluation method>
-Caring property-
The obtained planographic printing plate original plate was exposed by a Luxel PLATESETTER T-6000III manufactured by FUJIFILM Corporation equipped with an infrared semiconductor laser under the conditions of an outer drum rotation speed of 750 rpm, a laser output of 70%, and a resolution of 2,400 dpi. The exposed image included a solid image and a 50% halftone dot chart of a 20 μm dot FM screen.
The exposed lithographic printing plate original plate was attached to the plate cylinder of the printing machine LITHRONE26 manufactured by Komori Corporation without developing. Efficiency-2 (manufactured by Fujifilm Co., Ltd.) / Tap water = 2/98 (capacity ratio) of dampening water and DIC Fusion-G red N ink (manufactured by DIC Graphics Co., Ltd.) are used as standard for LITHRONE26. We supply dampening water and ink by the automatic printing start method, and print 100 sheets on Tokubishi Art Paper (ream weight: 76.5 kg, manufactured by Mitsubishi Paper Mills Limited) at a printing speed of 10,000 sheets per hour. It was.
The ink density in the solid image area was measured using a Macbeth densitometer (exact manufactured by X-Rite), and the number of printing papers required to reach 1.45 or higher was determined by the ink fillability (initial printing ink adhesion). It was measured as an index of meatiness). It can be said that the smaller the number of sheets, the better the lithographic printing plate is.
-Evaluation criteria-
Evaluation 5: 100 or more Evaluation 4: 50 or more and less than 100 Evaluation 3: 30 or more and less than 50 Evaluation 2: 20 or more and less than 30 Evaluation 1: Less than 20
-耐刷性-
 得られた平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxel PLATESETTER T-6000IIIにて、外面ドラム回転数1,000rpm、レーザー出力70%、及び、解像度2,400dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像及び20μmドットFM(Frequency Modulation)スクリーンの50%網点チャートを含むようにした。
 得られた露光済み平版印刷版原版を現像処理することなく、(株)小森コーポレーション製印刷機LITHRONE26の版胴に取り付けた。Ecolity-2(富士フイルム(株)製)/水道水=2/98(容量比)の湿し水とValues-G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、LITHRONE26の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時10,000枚の印刷速度で、特菱アート(連量:76.5kg、三菱製紙(株)製)紙に印刷を100枚行った。
 さらに、印刷を続け、ベタ画像の濃度が薄くなり始めたと目視で認められた時点の印刷枚数により、耐刷性を評価した。耐刷性は5万枚印刷できることを基準とし、下式にて耐刷性の指数(耐刷指数)を算出した。
-評価基準-
  耐刷指数(%)=[(印刷終了時の枚数)/(5万枚)]×100
-Print resistance-
The obtained planographic printing plate original plate is exposed to a Luxel PLATESETTER T-6000III manufactured by FUJIFILM Corporation equipped with an infrared semiconductor laser under the conditions of an outer drum rotation speed of 1,000 rpm, a laser output of 70%, and a resolution of 2,400 dpi. did. The exposed image included a solid image and a 50% halftone dot chart of a 20 μm dot FM (Frequency Modulation) screen.
The obtained exposed planographic printing plate original plate was attached to the plate cylinder of a printing machine LITHRONE26 manufactured by Komori Corporation without developing. Using Efficiency-2 (manufactured by Fujifilm Co., Ltd.) / tap water = 2/98 (capacity ratio) of dampening water and Values-G (N) ink ink (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.). After supplying dampening water and ink using the standard automatic printing start method of LITHRONE26 and developing on the machine, Tokuryo Art (ream weight: 76.5 kg, Mitsubishi Paper Mills Limited) at a printing speed of 10,000 sheets per hour. (Manufactured) 100 sheets were printed on paper.
Further, the printing durability was evaluated based on the number of printed sheets at the time when it was visually recognized that the density of the solid image began to decrease as the printing was continued. The print resistance index (print resistance index) was calculated by the following formula based on the fact that 50,000 sheets can be printed.
-Evaluation criteria-
Printing endurance index (%) = [(Number of sheets at the end of printing) / (50,000 sheets)] x 100
-機上現像性-
 得られた平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxel PLATESETTER T-6000IIIにより、外面ドラム回転数750rpm、レーザー出力70%、解像度2400dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像及び20μmドットFMスクリーンの50%網点チャートを含むようにした。
 露光された平版印刷版原版を現像処理することなく、(株)小森コーポレーション製印刷機LITHRONE26の版胴に取り付けた。Ecolity-2(富士フイルム(株)製)/水道水=2/98(容量比)の湿し水とDIC Fusion-G 紅 Nインキ(DICグラフィックス(株)製)とを用い、LITHRONE26の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給し、毎時10,000枚の印刷速度で、特菱アート紙(連量:76.5kg、三菱製紙(株)製)に100枚印刷を行った。
 印刷機上で画像記録層の未露光部の機上現像が完了し、非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を計測し、機上現像性として評価した。枚数が少ない程、機上現像性が良好である。
-評価基準-
  評価5:100枚以上である
  評価4:50枚以上100枚未満である
  評価3:30枚以上50枚未満である
  評価2:20枚以上30枚未満である
  評価1:20枚未満である
-On-board developability-
The obtained planographic printing plate original plate was exposed by a Luxel PLATESETTER T-6000III manufactured by FUJIFILM Corporation equipped with an infrared semiconductor laser under the conditions of an outer drum rotation speed of 750 rpm, a laser output of 70%, and a resolution of 2400 dpi. The exposed image included a solid image and a 50% halftone dot chart of a 20 μm dot FM screen.
The exposed lithographic printing plate original plate was attached to the plate cylinder of the printing machine LITHRONE26 manufactured by Komori Corporation without developing. Efficiency-2 (manufactured by Fujifilm Co., Ltd.) / Tap water = 2/98 (capacity ratio) of dampening water and DIC Fusion-G red N ink (manufactured by DIC Graphics Co., Ltd.) are used as standard for LITHRONE26. We supply dampening water and ink by the automatic printing start method, and print 100 sheets on Tokubishi Art Paper (ream weight: 76.5 kg, manufactured by Mitsubishi Paper Mills Limited) at a printing speed of 10,000 sheets per hour. It was.
The number of printing papers required to complete the on-machine development of the unexposed portion of the image recording layer on the printing machine and to prevent the ink from being transferred to the non-image portion was measured and evaluated as the on-machine developability. The smaller the number, the better the on-machine developability.
-Evaluation criteria-
Evaluation 5: 100 or more Evaluation 4: 50 or more and less than 100 Evaluation 3: 30 or more and less than 50 Evaluation 2: 20 or more and less than 30 Evaluation 1: Less than 20
-視認性(発色性)-
 得られた平版印刷版原版を、水冷式40W赤外線半導体レーザー搭載のCreo社製Trendsetter3244VXにより、出力11.5W、外面ドラム回転数220rpm、解像度2,400dpi(dot per inch、1inch=25.4mm)の条件で露光した。露光は25℃、50%RHの環境下で行った。
 露光直後、及び、露光後暗所(25℃)で2時間保存後、平版印刷版原版の発色を測定した。測定は、コニカミノルタ(株)製分光測色計CM2600dとオペレーションソフトCM-S100Wとを用い、SCE(正反射光除去)方式で行った。発色性は、L表色系のL値(明度)を用い、露光部のL値と未露光部のL値との差ΔLにより評価した。ΔLの値が大きい程、発色性が優れる。
-Visibility (color development)-
The obtained planographic printing plate original plate was subjected to a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser-equipped Creo Trendsetter 3244VX with an output of 11.5 W, an outer drum rotation speed of 220 rpm, and a resolution of 2,400 dpi (dot per inch, 1 inch = 25.4 mm). It was exposed under the conditions. The exposure was performed in an environment of 25 ° C. and 50% RH.
Immediately after the exposure and after storage in a dark place (25 ° C.) for 2 hours after the exposure, the color development of the lithographic printing plate original plate was measured. The measurement was performed by the SCE (specular reflection light removal) method using a spectrocolorimeter CM2600d manufactured by Konica Minolta Co., Ltd. and an operation software CM-S100W. Chromogenic uses the L * a * b * color system of L * value (lightness) was evaluated by the difference ΔL between the L * values of the L * value and the unexposed portions of the exposed portion. The larger the value of ΔL, the better the color development.
-機上現像時における現像カス抑制性(機上現像カス抑制性)-
 上記耐刷性の評価において印刷を行った後、同時に水着けローラ上の除去カスの付着状況を評価した。指標は以下の通りである。
  5:水着けローラ上にカスは見られない。
  4:かすかに水着けローラ上にカスが見られる。
  3:水着けローラ上にカスが見られる。
  2:水着けローラ上にカスが多く見られる。
  1:水着けローラ上にカスが非常に多く見られる。
-Development residue suppression during on-machine development (on-machine development residue suppression)-
In the above evaluation of printing durability, after printing was performed, the state of adhesion of the removal residue on the watering roller was evaluated at the same time. The indicators are as follows.
5: No residue can be seen on the watering roller.
4: Slightly dregs can be seen on the watering roller.
3: Scraps can be seen on the watering roller.
2: Many debris can be seen on the watering roller.
1: Very many debris can be seen on the watering roller.
-水との接触角-
 得られた平版印刷版原版を、水冷式40W赤外線半導体レーザー搭載のCreo社製Trendsetter3244VXにより、出力11.5W、外面ドラム回転数220rpm、解像度2,400dpi(dot per inch、1inch=25.4mm)の条件で露光した。露光は25℃、50%RHの環境下で行った。
 測定には協和界面化学(株)製の接触角計(Model:DMC-MC3)を用いた。上記作製の画像部上に純水1μLを滴下した後、25℃において、着滴した純水と版面との交点における気液界面の接線と、版面との角度として定義した。測定は同一版上で3箇所実施し、平均値をとった。
-Contact angle with water-
The obtained planographic printing plate original plate was subjected to a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser-equipped Creo Trendsetter 3244VX with an output of 11.5 W, an outer drum rotation speed of 220 rpm, and a resolution of 2,400 dpi (dot per inch, 1 inch = 25.4 mm). It was exposed under the conditions. The exposure was performed in an environment of 25 ° C. and 50% RH.
A contact angle meter (Model: DMC-MC3) manufactured by Kyowa Surface Chemistry Co., Ltd. was used for the measurement. After 1 μL of pure water was dropped onto the image portion produced above, it was defined as the angle between the tangent line of the gas-liquid interface at the intersection of the dropped pure water and the plate surface at 25 ° C. The measurement was carried out at three locations on the same plate, and the average value was taken.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000098
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000098
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000099
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000099
 表6及び表7に記載の結果から、本開示に係る平版印刷版原版である実施例1~26の平版印刷版原版は、機上現像性、及び、得られる平版印刷版の着肉性に優れる。
 また、表6及び表7に記載の結果から、本開示に係る平版印刷版原版である実施例1~28の平版印刷版原版は、耐刷性、及び、視認性にも優れる。
 更に、表6及び表7に記載の結果から、式(Le-1)~式(Le-3)のいずれかで表される化合物(ロイコ色素)を画像記録層に含む実施例14~18の平版印刷版原版は、視認性により優れる。
 また更に、表6及び表7に記載の結果から、式(Iso)で表されるイソシアネート化合物と水とを少なくとも反応させて得られる構造を有する樹脂を含むポリマー粒子を画像記録層に含む実施例21~28の平版印刷版原版は、機上現像カス抑制性により優れる。
From the results shown in Tables 6 and 7, the lithographic printing plate original plates of Examples 1 to 26, which are the lithographic printing plate original plates according to the present disclosure, have the on-machine developability and the lithographic printing property of the obtained lithographic printing plate. Excellent.
Further, from the results shown in Tables 6 and 7, the lithographic printing plate original plates of Examples 1 to 28, which are the lithographic printing plate original plates according to the present disclosure, are excellent in printing durability and visibility.
Further, from the results shown in Tables 6 and 7, of Examples 14 to 18 in which the compound (leuco dye) represented by any of the formulas (Le-1) to (Le-3) is contained in the image recording layer. The lithographic printing plate original plate is superior in visibility.
Furthermore, from the results shown in Tables 6 and 7, the image recording layer contains polymer particles containing a resin having a structure obtained by at least reacting an isocyanate compound represented by the formula (Iso) with water. The lithographic printing plate original plates 21 to 28 are excellent in the on-machine development residue suppressing property.
<下塗り層塗布液(2)及び(3)の調製>
 下記組成の下塗り層塗布液(2)及び(3)をそれぞれ調製した。
<Preparation of undercoat layer coating liquids (2) and (3)>
Undercoat layer coating liquids (2) and (3) having the following compositions were prepared, respectively.
-下塗り層塗布液(2)の組成-
・ポリマー(UC-1):0.18部
・界面活性剤(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製):0.03部
・水:28.0部
-Composition of undercoat layer coating liquid (2)-
-Polymer (UC-1): 0.18 parts-Surfactant (Emarex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.): 0.03 parts-Water: 28.0 parts
-下塗り層塗布液(3)の組成-
・ポリマー(UC-1):0.18部
・界面活性剤(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製):0.03部
・親水性化合物:表7に記載の量
・水:28.0部
-Composition of undercoat layer coating liquid (3)-
-Polymer (UC-1): 0.18 parts-Surfactant (Emarex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.): 0.03 parts-Hydrophilic compound: Amount shown in Table 7-Water: 28.0 Department
(実施例29~34)
<平版印刷版原版の作製>
 表8に記載の親水性化合物を表8に記載の量含む表8に記載の下塗り層塗布液を乾燥塗布量が20mg/mになるように塗布して下塗り層を形成した以外は、実施例24と同様にして、実施例29~34の平版印刷版原版をそれぞれ作製した。
 画像記録層塗布液は、ポリマー粒子を塗布直前に混合し撹拌することにより調製した。
(Examples 29 to 34)
<Preparation of lithographic printing plate original plate>
This was carried out except that the undercoat layer coating solution shown in Table 8 containing the hydrophilic compounds shown in Table 8 was applied so that the dry coating amount was 20 mg / m 2 to form an undercoat layer. In the same manner as in Example 24, lithographic printing plate original plates of Examples 29 to 34 were prepared.
The image recording layer coating liquid was prepared by mixing and stirring the polymer particles immediately before coating.
<傷汚れ抑制性評価>
 得られた平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxel PLATESETTER T-6000IIIにて、外面ドラム回転数1,000rpm(revolutions per minute)、レーザー出力70%、及び、解像度2,400dpi(dot per inch)の条件で露光した。露光処理後に、温度25℃、湿度70%RHの環境下にて得られた平版印刷版に引っかき試験機によってキズを付けた。
 この引っかき試験機としては、HEIDON scratching Intersity TESTER HEIDEN-18を使用し、直径0.1mmのサファイア針を用いて、引っ掻き荷重は50(g)とした。キズ付け後の版を現像処理することなく、三菱重工業(株)製ダイヤIF2印刷機の版胴に取り付けた。IF102(富士フイルム(株)製)/水道水=3/97(容量比)の湿し水とValues-G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、ダイヤIF2の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時10,000枚の印刷速度で、特菱アート(連量76.5kg)紙を用いて印刷を行い、キズ付け部が印刷汚れにならないか評価した。また、9点、7点等の中間点については、上限の評価基準の中間である場合に中間点の評価とした。評価基準10点~6点であることが好ましい。結果を表8に示す。
-評価基準-
  10点:キズ付け部が印刷汚れにならない。
  8点:目視では判別できないわずかな印刷汚れがキズ付け部に認められる。
  6点:目視によりわずかな印刷汚れがキズ付け部に認められる。
  4点:目視により印刷汚れがキズ付け部に認められる。
  2点:キズ付け部に明らかな印刷汚れが認められる
<Scratch stain suppression evaluation>
The obtained planographic printing plate original plate was used with a Luxel PLATESETTER T-6000III manufactured by FUJIFILM Corporation equipped with an infrared semiconductor laser, and had an outer drum rotation speed of 1,000 rpm (revolutions per minute), a laser output of 70%, and a resolution of 2, The exposure was performed under the condition of 400 dpi (dot per inch). After the exposure treatment, the lithographic printing plate obtained in an environment of a temperature of 25 ° C. and a humidity of 70% RH was scratched by a scratch tester.
As this scratch tester, HEIDON scratching Intersity TESTER HEIDEN-18 was used, and a sapphire needle having a diameter of 0.1 mm was used, and the scratch load was 50 (g). The scratched plate was attached to the plate cylinder of a diamond IF2 printing machine manufactured by Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. without developing. Dia IF2 using IF102 (manufactured by FUJIFILM Corporation) / tap water = 3/97 (capacity ratio) dampening water and Values-G (N) ink ink (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.) After supplying dampening water and ink and developing on the machine using the standard automatic printing start method of, printing is performed using Tokuryo Art (76.5 kg) paper at a printing speed of 10,000 sheets per hour. , It was evaluated whether the scratched part became a printing stain. In addition, the intermediate points such as 9 points and 7 points were evaluated as intermediate points when they were in the middle of the upper limit evaluation criteria. The evaluation standard is preferably 10 to 6 points. The results are shown in Table 8.
-Evaluation criteria-
10 points: The scratched part does not become a print stain.
8 points: Slight print stains that cannot be visually identified are observed on the scratched part.
6 points: Slight print stains are visually observed on the scratched part.
4 points: Printing stains are visually observed on the scratched part.
2 points: Clear printing stains are found on the scratched part
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000100
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000100
 なお、表8に記載の「表面接触角」は、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角を表す。上記接触角は、上述した方法により測定した。
 また、表8に記載の親水性化合物の詳細を以下に示す。
The "surface contact angle" shown in Table 8 represents the contact angle with water by the aerial water droplet method on the surface of the aluminum support on the image recording layer side. The contact angle was measured by the method described above.
The details of the hydrophilic compounds shown in Table 8 are shown below.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000101
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000101
(実施例35~38)
<下塗り層の形成>
 上記支持体(実施例38は、下記支持体B)上に、上記下塗り層塗布液(1)を乾燥塗布量が23mg/mになるよう塗布して下塗り層を形成した。
(Examples 35 to 38)
<Formation of undercoat layer>
The undercoat layer coating liquid (1) was applied onto the support (support B in Example 38 below) so that the dry coating amount was 23 mg / m 2 to form an undercoat layer.
<画像記録層の形成>
 下塗り層上に、表9に記載の組成の画像記録層塗布液をバー塗布し、120℃で40秒間オーブン乾燥して乾燥塗布量1.0g/mの画像記録層を形成し、平版印刷版原版を作製した。
 画像記録層塗布液は表9に記載の組成で化合物を混合することにより調製した。
 なお、低分子親水性化合物は、上記A-1を使用した。
<Formation of image recording layer>
An image recording layer coating solution having the composition shown in Table 9 is bar-coated on the undercoat layer and dried in an oven at 120 ° C. for 40 seconds to form an image recording layer having a dry coating amount of 1.0 g / m 2 for lithographic printing. A plate original was prepared.
The image recording layer coating liquid was prepared by mixing the compounds with the compositions shown in Table 9.
The above-mentioned A-1 was used as the low molecular weight hydrophilic compound.
 実施例35~38の平版印刷版原版を用い、実施例1と同様に評価を行ったところ、機上現像性、着肉性、耐刷性、視認性、及び、機上現像カス抑制性のいずれも、実施例1と同様の評価結果がそれぞれ得られた。 When the evaluation was performed in the same manner as in Example 1 using the lithographic printing plate original plates of Examples 35 to 38, the on-machine developability, the inking property, the printing resistance, the visibility, and the on-machine development residue suppressing property were evaluated. In each case, the same evaluation results as in Example 1 were obtained.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000102
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000102
 また、支持体B、及び、表9に記載の上述した以外の各成分を以下に示す。 Further, the support B and each component other than those described above shown in Table 9 are shown below.
<支持体Bの作製>
 実施例38においては、以下手順にて、支持体Bを作製した。
<Preparation of support B>
In Example 38, the support B was prepared by the following procedure.
-アルカリエッチング処理-
 アルミニウム板に、カセイソーダ濃度26質量%及びアルミニウムイオン濃度6.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度55℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、3g/mであった。
-Alkaline etching process-
An aqueous solution of caustic soda having a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass was sprayed onto an aluminum plate at a temperature of 55 ° C. to perform an etching treatment. Then, it was washed with water by spraying. The amount of aluminum dissolved on the surface to be subjected to the electrochemical roughening treatment later was 3 g / m 2 .
-酸性水溶液を用いたデスマット処理(第1デスマット処理)-
 次に、酸性水溶液を用いてデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸170g/Lの水溶液を用いた。その液温は30℃であった。酸性水溶液をアルミニウム板にスプレーにて吹き付けて、3秒間デスマット処理を行った。その後、水洗処理を行った。
-Desmat treatment using an acidic aqueous solution (first desmat treatment)-
Next, a desmat treatment was performed using an acidic aqueous solution. As the acidic aqueous solution used for the desmat treatment, an aqueous solution of 170 g / L of sulfuric acid was used. The liquid temperature was 30 ° C. An acidic aqueous solution was sprayed onto an aluminum plate to perform a desmat treatment for 3 seconds. Then, it was washed with water.
-電気化学的粗面化処理-
 次に、塩酸濃度電解液を用い、交流電流を用いて電気化学的粗面化処理を行った。電解液の液温は40℃であった。交流電流の波形は正と負の波形が対称な正弦波であり、周波数は50Hzで行った。また、電気量はアルミニウム板がアノード反応に預かる電気量の総和で300C/dmで行った。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。その後、水洗処理を行った。
-Electrochemical roughening treatment-
Next, an electrochemical roughening treatment was performed using a hydrochloric acid concentration electrolytic solution and an alternating current. The temperature of the electrolytic solution was 40 ° C. The waveform of the alternating current was a sine wave in which the positive and negative waveforms were symmetrical, and the frequency was 50 Hz. The amount of electricity was 300 C / dm 2 , which is the total amount of electricity stored in the anodic reaction of the aluminum plate. A carbon electrode was used as the counter electrode of the aluminum plate. Then, it was washed with water.
-アルカリエッチング処理-
 電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板に、カセイソーダ濃度5質量%及びアルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度35℃でスプレーにより吹き付けてエッチング量が0.1g/m以下となるようエッチング処理を行った。その後、水洗処理を行った。
-Alkaline etching process-
An aqueous solution of caustic soda having a caustic soda concentration of 5% by mass and an aluminum ion concentration of 0.5% by mass is sprayed onto an electrochemically roughened aluminum plate at a temperature of 35 ° C. and the etching amount is 0.1 g / m 2 or less. Etching treatment was performed so as to be. Then, it was washed with water.
-酸性水溶液を用いたデスマット処理-
 次に、酸性水溶液を用いてデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸170g/Lの水溶液を用いた。その液温は30℃であった。酸性水溶液をアルミニウム板にスプレーにて吹き付けて、3秒間デスマット処理を行った。その後、水洗処理を行った。
-Desmat treatment using an acidic aqueous solution-
Next, a desmat treatment was performed using an acidic aqueous solution. As the acidic aqueous solution used for the desmat treatment, an aqueous solution of 170 g / L of sulfuric acid was used. The liquid temperature was 30 ° C. An acidic aqueous solution was sprayed onto an aluminum plate to perform a desmat treatment for 3 seconds. Then, it was washed with water.
-陽極酸化処理-
 硫酸液170g/L、液温度40℃にて、直流電流を用いて、陽極酸化皮膜量が3g/mとなるよう陽極酸化処理を行った。
-Anodizing treatment-
Anodizing was performed at 170 g / L of sulfuric acid solution and 40 ° C. of the solution temperature using a direct current so that the amount of the anodic oxide film was 3 g / m 2 .
<重合性化合物>
 M’-1:下記合成例により合成したウレタンアクリレート、エチレン性不飽和結合価:7.22mmol/g
<Polymerizable compound>
M'-1: Urethane acrylate synthesized according to the following synthesis example, ethylenically unsaturated bond value: 7.22 mmol / g
<M’-1の合成>
 タケネートD-160N(ポリイソシアネート、三井化学(株)製)4.7質量部、アロニックスM-403(水酸基含多官能アクリレート、東亞合成(株)製)タケネートD-160NのNCO価とアロニックスM-403の水酸基価が1:1となる量、t-ブチルベンゾキノン0.02質量部、メチルエチルケトン11.5質量部の混合溶液を65℃に加熱した。反応溶液に、ネオスタンU-600(ビスマス系重縮合触媒、日東化成(株)製)0.11質量部を加え、同温度で4時間加熱した。反応溶液を室温(25℃)まで冷却し、メチルエチルケトンを加えることで、固形分が50質量%のウレタンアクリレート溶液を合成した。
 続いて、リサイクル型GPC(機器:LC908-C60、カラム:JAIGEL-1H-40及び2H-40(日本分析工業(株)製))で、テトラヒドロフラン(THF)溶離液にて、ウレタンアクリレート溶液の分子量分画を実施し、ウレタンアクリレートM’-1を得た。
<Synthesis of M'-1>
Takenate D-160N (polyisocyanate, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) 4.7 parts by mass, Aronix M-403 (hydroxyl-containing polyfunctional acrylate, manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd.) NCO value and Aronix M- of Takenate D-160N A mixed solution of 0.02 parts by mass of t-butylbenzoquinone and 11.5 parts by mass of methyl ethyl ketone was heated to 65 ° C. in an amount such that the hydroxyl value of 403 was 1: 1. To the reaction solution, 0.11 part by mass of Neostan U-600 (bismuth-based polycondensation catalyst, manufactured by Nitto Kasei Co., Ltd.) was added, and the mixture was heated at the same temperature for 4 hours. The reaction solution was cooled to room temperature (25 ° C.), and methyl ethyl ketone was added to synthesize a urethane acrylate solution having a solid content of 50% by mass.
Subsequently, a recycle type GPC (equipment: LC908-C60, column: JAIGEL-1H-40 and 2H-40 (manufactured by Nippon Analytical Industry Co., Ltd.)) was used in a tetrahydrofuran (THF) eluent, and the molecular weight of the urethane acrylate solution was increased. Fractionation was carried out to obtain urethane acrylate M'-1.
<電子受容型重合開始剤>
 I’-1及びI’-2:下記化合物
<赤外線吸収剤>
 D’-1~D’-3:下記化合物
 なお、Buはn-ブチル基を表し、TsOはトシレートアニオンを表す。
<Electron-accepting polymerization initiator>
I'-1 and I'-2: The following compounds <infrared absorber>
D'-1 ~ D'-3: The following compounds Incidentally, Bu represents a n- butyl group, TsO - represents tosylate anion.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000103
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000103
<発色剤>
 S’-1:上述したS-15
 S’-2:上述したS-16
<Color former>
S'-1: S-15 described above
S'-2: S-16 described above
<界面活性剤>
 U’-2:下記ポリマー、フルオロ脂肪族基含有共重合体
<Surfactant>
U'-2: The following polymers, fluoroaliphatic group-containing copolymers
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000104
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000104
<添加剤>
 O’-1:下記化合物
<Additives>
O'-1: The following compounds
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000105
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000105
<ポリマー粒子P-3の作製>
-油相成分の調製-
 WANNATE(登録商標)PM-200(多官能イソシアネート化合物:万華化学社製):6.66gと、タケネート(登録商標)D-116N(トリメチロールプロパン(TMP)とm-キシリレンジイソシアネート(XDI)とポリエチレングリコールモノメチルエーテル(EO90)との付加物(下記構造)の50質量%酢酸エチル溶液:三井化学(株)製):5.46gと、SR399(ジペンタエリスリトールペンタアクリレート:サートマー社製)の65質量%酢酸エチル溶液:11.24gと、酢酸エチル:14.47gと、パイオニン(登録商標)A-41-C(竹本油脂(株)製):0.45gを混合し、室温(25℃)で15分撹拌して油相成分を得た。
<Preparation of polymer particles P-3>
-Preparation of oil phase components-
WANNAME (registered trademark) PM-200 (polyfunctional isocyanate compound: manufactured by Manka Kagaku Co., Ltd.): 6.66 g and Takenate (registered trademark) D-116N (trimethylolpropane (TMP) and m-xylylene diisocyanate (XDI)) 50% by mass ethyl acetate solution of an adduct (structure below) of polyethylene glycol monomethyl ether (EO90): 5.46 g and SR399 (dipentaerythritol pentaacrylate: manufactured by Sartomer). A 65 mass% ethyl acetate solution: 11.24 g, ethyl acetate: 14.47 g, and Pionin (registered trademark) A-41-C (manufactured by Takemoto Oil & Fat Co., Ltd.): 0.45 g were mixed and mixed at room temperature (25 ° C.). ) Was stirred for 15 minutes to obtain an oil phase component.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000106
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000106
-水相成分の準備-
 水相成分として、蒸留水47.2gを準備した。
-Preparation of aqueous phase components-
As an aqueous phase component, 47.2 g of distilled water was prepared.
-マイクロカプセル形成工程-
 油相成分に水相成分を添加して混合し、得られた混合物を、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで16分間乳化させて乳化物を得た。
 得られた乳化物に蒸留水16.8gを添加し、得られた液体を室温で180分撹拌した。
 次いで、撹拌後の液体を45℃に加熱し、液温を45℃に保持した状態で5時間撹拌することにより、上記液体から酢酸エチルを留去した。蒸留水で、固形分濃度を20質量%になるように調整し、ポリマー粒子P-3の水分散液が得られた。P-3の体積平均粒径はレーザー回折/散乱式粒子径分布測定装置LA-920((株)堀場製作所製)により測定したところ、165nmであった。
-Microcapsule forming process-
The aqueous phase component was added to the oil phase component and mixed, and the obtained mixture was emulsified with a homogenizer at 12,000 rpm for 16 minutes to obtain an emulsion.
16.8 g of distilled water was added to the obtained emulsion, and the obtained liquid was stirred at room temperature for 180 minutes.
Next, the stirred liquid was heated to 45 ° C., and the mixture was stirred for 5 hours while maintaining the liquid temperature at 45 ° C. to distill off ethyl acetate from the above liquid. The solid content concentration was adjusted to 20% by mass with distilled water to obtain an aqueous dispersion of polymer particles P-3. The volume average particle size of P-3 was 165 nm as measured by a laser diffraction / scattering type particle size distribution measuring device LA-920 (manufactured by Horiba Seisakusho Co., Ltd.).
<バインダーポリマー>
 P’-1:一部アセチル化されたポリビニルブチラール、積水化学工業(株)製エスレックBL10
<Binder polymer>
P'-1: Partially acetylated polyvinyl butyral, Sekisui Chemical Co., Ltd. Eslek BL10
 2019年6月28日に出願された日本国特許出願第2019-122480号の開示、2019年8月30日に出願された日本国特許出願第2019-158815号の開示、及び、2019年9月18日に出願された日本国特許出願第2019-169811号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
 本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び、技術規格は、個々の文献、特許出願、及び、技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
Disclosure of Japanese Patent Application No. 2019-12480 filed on June 28, 2019, Disclosure of Japanese Patent Application No. 2019-158815 filed on August 30, 2019, and September 2019. The disclosure of Japanese Patent Application No. 2019-169811, filed on the 18th, is incorporated herein by reference in its entirety.
All documents, patent applications, and technical standards described herein are to the same extent as if the individual documents, patent applications, and technical standards were specifically and individually stated to be incorporated by reference. Is incorporated herein by reference.
 18:アルミニウム板、ta:アノード反応時間、tc:カソード反応時間、tp:電流が0からピークに達するまでの時間、Ia:アノードサイクル側のピーク時の電流、Ic:カソードサイクル側のピーク時の電流、AA:アルミニウム板のアノード反応の電流、CA:アルミニウム板のカソード反応の電流、10:平版印刷版原版、12a,12b:アルミニウム支持体、14:下塗り層、16:画像記録層、20a,20b:陽極酸化皮膜、22a,22b:マイクロポア、24:大径孔部、26:小径孔部、D:大径孔部の深さ、50:主電解槽、51:交流電源、52:ラジアルドラムローラ、53a,53b:主極、54:電解液供給口、55:電解液、56:補助陽極、60:補助陽極槽、W:アルミニウム板、A1:給液方向、A2:電解液排出方向、410:陽極酸化処理装置、412:給電槽、414:電解処理槽、416:アルミニウム板、418,426:電解液、420:給電電極、422,428:ローラー、424:ニップローラー、430:電解電極、432:槽壁、434:直流電源 18: Aluminum plate, ta: Anode reaction time, ct: Cathode reaction time, tp: Time from 0 to peak of current, Ia: Peak current on anode cycle side, Ic: Peak time on cathode cycle side Current, AA: Anode reaction current of aluminum plate, CA: Electrode reaction current of aluminum plate, 10: Flat plate printing plate original plate, 12a, 12b: Aluminum support, 14: Undercoat layer, 16: Image recording layer, 20a, 20b: Anodized film, 22a, 22b: Micropore, 24: Large-diameter hole, 26: Small-diameter hole, D: Depth of large-diameter hole, 50: Main electrolytic tank, 51: AC power supply, 52: Radial Drum roller, 53a, 53b: main electrode, 54: electrolyte supply port, 55: electrolyte, 56: auxiliary anode, 60: auxiliary anode tank, W: aluminum plate, A1: liquid supply direction, A2: electrolyte discharge direction , 410: Anodizing device, 412: Power supply tank, 414: Electrolytic treatment tank, 416: Aluminum plate, 418,426: Electrolyte, 420: Power supply electrode, 422,428: Roller, 424: Nip roller, 430: Electrolysis Electrode 432: Tank wall, 434: DC power supply

Claims (50)

  1.  アルミニウム支持体、及び、前記アルミニウム支持体上に画像記録層を有し、
     前記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、分子量2,500未満の重合性化合物、及び、分子量2,500以上であり、かつ重合性基を有するポリマーを含み、
     前記重合性化合物が、7官能以上の重合性化合物を含む
     機上現像型平版印刷版原版。
    It has an aluminum support and an image recording layer on the aluminum support.
    The image recording layer contains an infrared absorber, a polymerization initiator, a polymerizable compound having a molecular weight of less than 2,500, and a polymer having a molecular weight of 2,500 or more and having a polymerizable group.
    An on-machine development type lithographic printing plate original plate in which the polymerizable compound contains a polymerizable compound having 7 or more functionalities.
  2.  前記平版印刷版原版における前記画像記録層側の最外層表面の空中水滴による水との接触角が、30°~80°である請求項1に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The on-board development type lithographic printing plate original plate according to claim 1, wherein the contact angle with water by aerial water droplets on the outermost layer surface on the image recording layer side of the lithographic printing plate original plate is 30 ° to 80 °.
  3.  前記画像記録層において、前記重合性基を有するポリマーの含有量をMpとし、前記7官能以上の重合性化合物の含有量をMmとした場合、Mm/Mpの値が、0.01以上である請求項1又は請求項2に記載の機上現像型平版印刷版原版。 In the image recording layer, when the content of the polymer having a polymerizable group is Mp and the content of the polymerizable compound having 7 or more functionalities is Mm, the value of Mm / Mp is 0.01 or more. The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 1 or 2.
  4.  前記重合性基を有するポリマーが、重合性基を有するポリマー粒子を含む請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The on-board development type lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 3, wherein the polymer having a polymerizable group contains polymer particles having a polymerizable group.
  5.  前記ポリマー粒子が、親水性基を有する請求項4に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 4, wherein the polymer particles have a hydrophilic group.
  6.  前記ポリマー粒子が、前記親水性基として、ポリアルキレンオキシド構造を有する請求項5に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 5, wherein the polymer particles have a polyalkylene oxide structure as the hydrophilic group.
  7.  前記ポリマー粒子が、前記ポリオキシアルキレンオキシド構造として、ポリプロピレンオキシド構造を有する請求項6に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 6, wherein the polymer particles have a polypropylene oxide structure as the polyoxyalkylene oxide structure.
  8.  前記ポリマー粒子が、前記ポリオキシアルキレンオキシド構造として、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を少なくとも有する請求項6又は請求項7に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 6 or 7, wherein the polymer particles have at least a polyethylene oxide structure and a polypropylene oxide structure as the polyoxyalkylene oxide structure.
  9.  前記ポリマー粒子が、下記式(Iso)で表されるイソシアネート化合物と水とを少なくとも反応させて得られる構造を有する樹脂を含む請求項4~請求項8のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001

     式(Iso)中、nは0~10の整数を表す。
    The on-machine development according to any one of claims 4 to 8, wherein the polymer particles contain a resin having a structure obtained by at least reacting an isocyanate compound represented by the following formula (Iso) with water. Planographic printing plate Original plate.
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001

    In the formula (Iso), n represents an integer from 0 to 10.
  10.  前記ポリマー粒子が、前記式(Iso)で表されるイソシアネート化合物と水とを少なくとも反応させて得られる構造を有し、かつポリオキシアルキレン構造として、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有する樹脂を含む請求項9に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The polymer particles have a structure obtained by at least reacting an isocyanate compound represented by the formula (Iso) with water, and include a resin having a polyethylene oxide structure and a polypropylene oxide structure as a polyoxyalkylene structure. The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 9.
  11.  前記重合性基を有するポリマーが、付加重合型樹脂である請求項1~請求項10のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 10, wherein the polymer having a polymerizable group is an addition polymerization type resin.
  12.  前記重合性基を有するポリマーが、スチレン-アクリロニトリル共重合体を含む請求項1~請求項11のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 11, wherein the polymer having a polymerizable group contains a styrene-acrylonitrile copolymer.
  13.  前記画像記録層が、最外層である請求項1~請求項12のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 12, wherein the image recording layer is the outermost layer.
  14.  前記アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角が、110°以下である請求項1~請求項13のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The on-machine development type lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 13, wherein the contact angle with water by the aerial water droplet method on the surface of the aluminum support on the image recording layer side is 110 ° or less. Original version.
  15.  前記アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角が、80°以下である請求項14に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 14, wherein the contact angle with water by the aerial water droplet method on the surface of the aluminum support on the image recording layer side is 80 ° or less.
  16.  前記アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角が、50°以下である請求項15に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 15, wherein the contact angle with water by the aerial water droplet method on the surface of the aluminum support on the image recording layer side is 50 ° or less.
  17.  前記アルミニウム支持体上の層が、ヒドロキシカルボン酸又はその塩を含む請求項1~請求項16のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 16, wherein the layer on the aluminum support contains hydroxycarboxylic acid or a salt thereof.
  18.  前記ヒドロキシカルボン酸又はその塩が、ヒドロキシ基を2個以上有する化合物を含む請求項17に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 17, wherein the hydroxycarboxylic acid or a salt thereof contains a compound having two or more hydroxy groups.
  19.  前記ヒドロキシカルボン酸又はその塩が、ヒドロキシ基を3個以上有する化合物を含む請求項17又は請求項18に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 17 or 18, wherein the hydroxycarboxylic acid or a salt thereof contains a compound having three or more hydroxy groups.
  20.  前記重合性化合物が、6官能以下の重合性化合物を更に含む請求項1~請求項19のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 19, wherein the polymerizable compound further contains a polymerizable compound having six functions or less.
  21.  前記重合開始剤が、電子受容型重合開始剤を含む請求項1~請求項20のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 20, wherein the polymerization initiator contains an electron-accepting polymerization initiator.
  22.  前記赤外線吸収剤のLUMO-前記電子受容型重合開始剤のLUMOの値が、0.70eV以下である請求項21に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 21, wherein the value of LUMO of the infrared absorber-LUMO of the electron-accepting polymerization initiator is 0.70 eV or less.
  23.  前記電子受容型重合開始剤が、下記式(II)で表される化合物を含む請求項21又は請求項22に記載の機上現像型平版印刷版原版。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002

     式(II)中、Xはハロゲン原子を表し、Rはアリール基を表す。
    The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 21 or 22, wherein the electron-accepting polymerization initiator contains a compound represented by the following formula (II).
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002

    In formula (II), X represents a halogen atom and R 3 represents an aryl group.
  24.  前記重合開始剤が、電子供与型重合開始剤を含む請求項1~請求項23のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 23, wherein the polymerization initiator contains an electron donating type polymerization initiator.
  25.  前記赤外線吸収剤のHOMO-前記電子供与型重合開始剤のHOMOの値が、0.70eV以下である請求項24に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 24, wherein the value of HOMO of the infrared absorber-HOMO of the electron donating type polymerization initiator is 0.70 eV or less.
  26.  前記画像記録層が、発色剤を更に含む請求項1~請求項25のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 25, wherein the image recording layer further contains a color former.
  27.  前記発色剤が、酸発色剤である請求項26に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 26, wherein the color former is an acid color former.
  28.  前記酸発色剤が、ロイコ色素である請求項27に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 27, wherein the acid color former is a leuco dye.
  29.  前記ロイコ色素が、フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素である請求項28に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 28, wherein the leuco dye is a leuco dye having a phthalide structure or a fluorine structure.
  30.  前記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素が、下記式(Le-1)~式(Le-3)のいずれかで表される化合物である請求項29に記載の機上現像型平版印刷版原版。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003

     式(Le-1)~式(Le-3)中、ERGはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、X~Xはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、X~X10はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基を表し、Y及びYはそれぞれ独立に、C又はNを表し、YがNである場合は、Xは存在せず、YがNである場合は、Xは存在せず、Raは、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Rb~Rbはそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表す。
    The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 29, wherein the leuco dye having a phthalide structure or a fluorine structure is a compound represented by any of the following formulas (Le-1) to (Le-3). ..
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003

    Wherein (Le-1) ~ formula (Le-3), in each ERG independently represents an electron donating group, each X 1 ~ X 4 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a dialkyl anilino group , X 5 to X 10 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a monovalent organic group, Y 1 and Y 2 independently represent C or N, and when Y 1 is N, If X 1 is absent and Y 2 is N, then X 4 is absent, Ra 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, and Rb 1 to Rb 4 are independent alkyl groups. Or represents an aryl group.
  31.  前記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素が、下記式(Le-4)~式(Le-6)のいずれかで表される化合物である請求項29又は請求項30に記載の機上現像型平版印刷版原版。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004

     式(Le-4)~式(Le-6)中、ERGはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、X~Xはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Y及びYはそれぞれ独立に、C又はNを表し、YがNである場合は、Xは存在せず、YがNである場合は、Xは存在せず、Raは、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Rb~Rbはそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表す。
    The on-board development type according to claim 29 or 30, wherein the leuco dye having a phthalide structure or a fluorine structure is a compound represented by any of the following formulas (Le-4) to (Le-6). Planographic printing plate original plate.
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004

    Wherein (Le-4) ~ formula (Le-6), in each ERG independently represents an electron donating group, each X 1 ~ X 4 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a dialkyl anilino group , Y 1 and Y 2 independently represent C or N, and if Y 1 is N, then X 1 does not exist, and if Y 2 is N, then X 4 does not exist and Ra. 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, and Rb 1 to Rb 4 independently represent an alkyl group or an aryl group, respectively.
  32.  前記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素が、下記式(Le-7)~式(Le-9)のいずれかで表される化合物である請求項29~請求項31のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005

     式(Le-7)~式(Le-9)中、X~Xはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Y及びYはそれぞれ独立に、C又はNを表し、YがNである場合は、Xは存在せず、YがNである場合は、Xは存在せず、Ra~Raはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Rb~Rbはそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Rc及びRcはそれぞれ独立に、アリール基を表す。
    The method according to any one of claims 29 to 31, wherein the leuco dye having a phthalide structure or a fluorine structure is a compound represented by any of the following formulas (Le-7) to (Le-9). On-board development type lithographic printing plate original plate.
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005

    Wherein (Le-7) ~ formula (Le-9), each X 1 ~ X 4 is independently a hydrogen atom, a halogen atom or a dialkyl anilino group, Y 1 and Y 2 are each independently, C or Representing N, when Y 1 is N, X 1 does not exist, when Y 2 is N, X 4 does not exist, and Ra 1 to Ra 4 are independent hydrogen atoms and alkyl, respectively. Represents a group or an alkoxy group, Rb 1 to Rb 4 independently represent an alkyl group or an aryl group, and Rc 1 and Rc 2 each independently represent an aryl group.
  33.  Ra~Raがそれぞれ独立に、アルコキシ基である請求項32に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 32, wherein Ra 1 to Ra 4 are independently alkoxy groups.
  34.  前記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素が、前記式(Le-8)で表される化合物である請求項32又は請求項33に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 32 or 33, wherein the leuco dye having the phthalide structure or the fluorine structure is a compound represented by the formula (Le-8).
  35.  X~Xが水素原子であり、Y及びYがCである請求項34に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 34, wherein X 1 to X 4 are hydrogen atoms and Y 1 and Y 2 are C.
  36.  Rb及びRbがそれぞれ独立に、アルキル基である請求項34又は請求項35に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 34 or 35, wherein Rb 1 and Rb 2 are independently alkyl groups.
  37.  前記赤外線吸収剤が、ハンセンの溶解度パラメータにおけるδdが16以上であり、δpが16以上32以下であり、かつδhがδpの60%以下である有機アニオンを有する請求項1~請求項36のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 Any of claims 1 to 36, wherein the infrared absorber has an organic anion in which δd in the solubility parameter of Hansen is 16 or more, δp is 16 or more and 32 or less, and δh is 60% or less of δp. The machine-developed lithographic printing plate original plate described in item 1.
  38.  前記電子受容型重合開始剤が、ハンセンの溶解度パラメータにおけるδdが16以上であり、δpが16以上32以下であり、かつδhがδpの60%以下である有機アニオンを有する請求項23~請求項25のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 Claims 23 to 23, wherein the electron-accepting polymerization initiator has an organic anion in which δd in the solubility parameter of Hansen is 16 or more, δp is 16 or more and 32 or less, and δh is 60% or less of δp. The machine-developed planographic printing plate original plate according to any one of 25.
  39.  前記画像記録層が、ポリビニルアセタールを更に含有する請求項1~請求項38のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 38, wherein the image recording layer further contains polyvinyl acetal.
  40.  前記画像記録層が、フルオロ脂肪族基含有共重合体を更に含有する請求項1~請求項39のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 39, wherein the image recording layer further contains a fluoroaliphatic group-containing copolymer.
  41.  前記フルオロ脂肪族基含有共重合体が、下記式(F1)及び下記式(F2)のいずれかで表される化合物により形成される構成単位を有する請求項40に記載の機上現像型平版印刷版原版。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006

     式(F1)及び(F2)中、RF1は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、Xは、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、又は-N(RF2)-を表し、mは1~6の整数を表し、nは1~10の整数を表し、lは0~10の整数を表し、RF2は水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を表す。
    The machine-developed lithographic printing according to claim 40, wherein the fluoroaliphatic group-containing copolymer has a structural unit formed of a compound represented by any of the following formulas (F1) and (F2). Original version.
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006

    In formulas (F1) and (F2), R F1 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and X independently represents an oxygen atom, a sulfur atom, or -N ( RF2 )-. m represents an integer of 1 ~ 6, n represents an integer of 1 ~ 10, l represents an integer of 0 ~ 10, R F2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  42.  前記フルオロ脂肪族基含有共重合体が、ポリ(オキシアルキレン)アクリレート及びポリ(オキシアルキレン)メタクリレートよりなる群から選択される少なくとも1種の化合物により形成される構成単位を更に有する請求項41に記載の機上現像型平版印刷版原版。 41. The claim 41, wherein the fluoroaliphatic group-containing copolymer further comprises a structural unit formed of at least one compound selected from the group consisting of poly (oxyalkylene) acrylate and poly (oxyalkylene) methacrylate. On-board development type lithographic printing plate original plate.
  43.  前記画像記録層が、前記重合性化合物又は前記重合性基を有するポリマーとして、エチレン性不飽和結合価が5.0mmol/g以上の化合物を含む請求項1~請求項42のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The method according to any one of claims 1 to 42, wherein the image recording layer contains a compound having an ethylenically unsaturated bond value of 5.0 mmol / g or more as the polymerizable compound or the polymer having a polymerizable group. The above-mentioned on-board development type lithographic printing plate original plate.
  44.  前記エチレン性不飽和結合価が5.0mmol/g以上の化合物が、下記式(I)で表される化合物である請求項43に記載の機上現像型平版印刷版原版。
     式(I) : X-(Y)  
     式(I)中、Xは水素結合性基を有するn価の有機基を表し、Yは2以上のエチレン性不飽和基を有する1価の基を表し、nは2以上の整数を表し、Xの分子量/(Yの分子量×n)が1以下である。
    The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 43, wherein the compound having an ethylenically unsaturated bond value of 5.0 mmol / g or more is a compound represented by the following formula (I).
    Formula (I): X- (Y) n
    In formula (I), X represents an n-valent organic group having a hydrogen-bonding group, Y represents a monovalent group having two or more ethylenically unsaturated groups, and n represents an integer of two or more. The molecular weight of X / (molecular weight of Y × n) is 1 or less.
  45.  前記エチレン性不飽和結合価が5.0mmol/g以上の化合物が、アダクト構造、ビウレット構造、及びイソシアヌレート構造からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を有する請求項43又は請求項44に記載の機上現像型平版印刷版原版。 According to claim 43 or 44, the compound having an ethylenically unsaturated bond value of 5.0 mmol / g or more has at least one structure selected from the group consisting of an adduct structure, a biuret structure, and an isocyanurate structure. The described on-board development type lithographic printing plate original plate.
  46.  前記重合性化合物が、エチレン性不飽和基を1つ又は2つ有する化合物を含む請求項1~請求項45のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 45, wherein the polymerizable compound contains a compound having one or two ethylenically unsaturated groups.
  47.  前記アルミニウム支持体が、アルミニウム板と、前記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを有し、
     前記マイクロポアの前記陽極酸化皮膜表面における平均径が、10nmを超え100nm以下であり、
     前記陽極酸化皮膜の前記画像記録層側の表面のL表色系における明度Lの値が、70~100である請求項1~請求項46のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
    The aluminum support has an aluminum plate and an anodized film of aluminum arranged on the aluminum plate.
    The average diameter of the micropores on the surface of the anodized film is more than 10 nm and 100 nm or less.
    The method according to any one of claims 1 to 46, wherein the value of the lightness L * in the surface of the anodic oxide film on the image recording layer side is 70 to 100 in the L * a * b * color system. Machine-developed planographic printing plate original plate.
  48.  前記マイクロポアが、前記陽極酸化皮膜表面から深さ10nm~1,000nmの位置までのびる大径孔部と、前記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ20nm~2,000nmの位置までのびる小径孔部とから構成され、
     前記大径孔部の前記陽極酸化皮膜表面における平均径が、15nm~100nmであり、
     前記小径孔部の前記連通位置における平均径が、13nm以下である請求項47に記載の機上現像型平版印刷版原版。
    The micropore communicates with a large-diameter hole extending from the surface of the anodized film to a depth of 10 nm to 1,000 nm and the bottom of the large-diameter hole, and has a depth of 20 nm to 2,000 nm from the communicating position. It is composed of a small diameter hole that extends to the position,
    The average diameter of the large-diameter pore portion on the surface of the anodized film is 15 nm to 100 nm.
    The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 47, wherein the average diameter of the small-diameter hole portion at the communication position is 13 nm or less.
  49.  請求項1~請求項48のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、
     印刷機上で印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程と、を含む
     平版印刷版の作製方法。
    The step of exposing the on-machine development type lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 48 like an image, and
    A method for producing a lithographic printing plate, comprising a step of supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water on a printing machine to remove an image recording layer in a non-image area.
  50.  請求項1~請求項48のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、
     印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、
     得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む
     平版印刷方法。
    The step of exposing the on-machine development type lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 48 like an image, and
    A step of supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water to remove the image recording layer of the non-image area on the printing machine to prepare a lithographic printing plate.
    A lithographic printing method including a step of printing with the obtained lithographic printing plate.
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