JP2018140618A - Lithographic printing original plate, method for manufacturing lithographic printing plate, and printing method - Google Patents

Lithographic printing original plate, method for manufacturing lithographic printing plate, and printing method Download PDF

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睦 松浦
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侑也 宮川
Yuya Miyagawa
侑也 宮川
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic printing original plate excellent in deinking ability after leaving to stand, UV ink plate wearability, and scratch resistance when made as a lithographic printing plate, to provide a method for manufacturing a lithographic printing plate, and to provide a printing method.SOLUTION: A lithographic printing original plate includes an aluminum substrate, an undercoat layer, and an image recording layer in this order. The lithographic printing original plate is such that: the undercoat layer includes a compound including a betaine structure; the aluminum substrate includes an aluminum plate and an aluminum anodic oxide film arranged on the aluminum plate; and the anodic oxide film has prescribed micro pores.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、平版印刷版原版、平版印刷版の製造方法、および、印刷方法に関する。   The present invention relates to a planographic printing plate precursor, a method for producing a planographic printing plate, and a printing method.

近年、平版印刷版は、CTP(コンピュータ・トゥ・プレート)技術によって得られるようになり、それに伴い多数の研究がなされている。
例えば、特許文献1においては、所定のマイクロポアを有する陽極酸化皮膜を含む平版印刷版用支持体を用いた平版印刷版原版が開示されている。
In recent years, lithographic printing plates have been obtained by CTP (computer to plate) technology, and many studies have been made accordingly.
For example, Patent Document 1 discloses a lithographic printing plate precursor using a lithographic printing plate support including an anodized film having a predetermined micropore.

特開2012−158022号公報JP 2012-158022 A

一方で、平版印刷版にしたときの放置払い性のより一層の向上が求められている。なお、以下では、印刷を一時停止して再開したときに生じる損紙の枚数を放置払い性として評価し、損紙の枚数が少ないことを放置払い性が優れるという。
本発明者らが、特許文献1に具体的に記載されている平版印刷版原版の特性について検討を行ったところ、放置払い性が、昨今要求されるレベルを満たしておらず、更なる改良が必要であることを見出した。
また、平版印刷版原版においては、平版印刷版にしたときに耐傷性に優れることも求められる。
さらに、平版印刷版原版においては、平版印刷版にしたときのUV(ultraviolet)インキ耐刷性が優れることも求められている。
なお、UVインキ耐刷性とは、UVインキを使用した場合の耐刷性である。UVインキは通常のインキと異なり、極性が高くまた高粘度でタック性も高い。そのためUVインキは画像部を侵しやすく、UVインキを使用した場合の耐刷性は通常のインキを使用した場合の耐刷性よりも低下しやすい。
On the other hand, there is a demand for further improvement in neglectability when a planographic printing plate is used. In the following, the number of damaged paper sheets generated when printing is paused and restarted is evaluated as neglectability, and the fact that the number of damaged paper sheets is small is said to be excellent in neglectability.
When the present inventors examined the characteristics of the lithographic printing plate precursor specifically described in Patent Document 1, the neglectability does not satisfy the level required recently, and further improvements have been made. I found it necessary.
In addition, the lithographic printing plate precursor is also required to have excellent scratch resistance when converted into a lithographic printing plate.
Furthermore, the lithographic printing plate precursor is also required to have excellent UV (ultraviolet) ink printing durability when formed into a lithographic printing plate.
The UV ink printing durability is printing durability when UV ink is used. Unlike normal ink, UV ink has high polarity, high viscosity, and high tack. For this reason, the UV ink tends to erode the image area, and the printing durability when UV ink is used tends to be lower than the printing durability when ordinary ink is used.

本発明は、上記実情に鑑みて、平版印刷版としたときに放置払い性、UVインキ耐刷性、および、耐傷性に優れる、平版印刷版原版を提供することを目的とする。
また、本発明は、平版印刷版の製造方法、および、印刷方法を提供することも目的とする。
In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor having excellent neglectability, UV ink printing durability, and scratch resistance when used as a lithographic printing plate.
Another object of the present invention is to provide a method for producing a lithographic printing plate and a printing method.

本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、所定の成分を含む下塗り層を用いることにより、上記課題が解決できることを見出した。
すなわち、以下の構成により上記目的を達成することができることを見出した。
As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found that the above problem can be solved by using an undercoat layer containing a predetermined component.
That is, it has been found that the above object can be achieved by the following configuration.

(1) アルミニウム支持体と、下塗り層と、画像記録層とをこの順で含む平版印刷版原版であって、
下塗り層が、ベタイン構造を含む化合物またはポリビニルホスホン酸を含み、
アルミニウム支持体が、アルミニウム板と、アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを含み、
陽極酸化皮膜がアルミニウム板よりも下塗り層側に位置し、
陽極酸化皮膜は、アルミニウム板とは反対側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、
マイクロポアが、陽極酸化皮膜表面から深さ20〜200nmの位置までのびる大径孔部と、大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ500〜2000nmの位置までのびる小径孔部とから構成され、
大径孔部の陽極酸化皮膜表面における平均径が15〜60nmであり、
大径孔部の平均径に対する大径孔部の深さの比が0.3〜13.3であり、
小径孔部の連通位置における平均径が13nm以下である、平版印刷版原版。
(2) ベタイン構造が、後述する式(i)で表される構造である、(1)に記載の平版印刷版原版。
(3) ベタイン構造を含む化合物が、ベタイン構造を有する繰り返し単位と、アルミニウム支持体の表面と相互作用する構造を有する繰り返し単位と、ラジカル重合性反応性基を有する繰り返し単位とを含む高分子である、(1)または(2)に記載の平版印刷版原版。
(4) ベタイン構造を有する繰り返し単位の含有量が、全繰り返し単位に対して、50〜95質量%であり、
アルミニウム支持体の表面と相互作用する構造を有する繰り返し単位の含有量が、全繰り返し単位に対して、1〜40質量%であり、
ラジカル重合性反応性基を有する繰り返し単位の含有量が、全繰り返し単位に対して、1〜30質量%である、(3)に記載の平版印刷版原版。
(5) 大径孔部の陽極酸化皮膜表面における平均径が18〜50nmである、(1)〜(4)のいずれかに記載の平版印刷版原版。
(6) 大径孔部の深さが40〜180nmである、(1)〜(5)のいずれかに記載の平版印刷版原版。
(7) 画像記録層が、酸発色剤を含む、(1)〜(6)のいずれかに記載の平版印刷版原版。
(8) 酸発色剤が、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、スピロラクトン化合物、および、スピロラクタム化合物からなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物である、(7)に記載の平版印刷版原版。
(9) ベタイン構造を有する繰り返し単位の含有量に対する、マイクロポアの大径孔部の深さの比が、0.8〜2.4である、(1)〜(8)のいずれかに記載の平版印刷原版。
(10) (1)〜(9)のいずれかに記載の平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、
画像様露光された平版印刷版原版の未露光部を除去する除去工程と、を含む、平版印刷版の製造方法。
(11) (1)〜(10)のいずれかに記載の平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、
印刷インキおよび湿し水の少なくとも一方を供給して、印刷機上で画像様露光された平版印刷版原版の未露光部を除去し、印刷を行う印刷工程と、を含む、印刷方法。
(1) A lithographic printing plate precursor comprising an aluminum support, an undercoat layer, and an image recording layer in this order,
The undercoat layer comprises a compound having a betaine structure or polyvinylphosphonic acid,
An aluminum support comprising an aluminum plate and an anodized film of aluminum disposed on the aluminum plate;
The anodized film is located on the undercoat layer side of the aluminum plate,
The anodized film has micropores extending in the depth direction from the surface opposite to the aluminum plate,
A micropore has a large-diameter hole extending from the surface of the anodized film to a depth of 20 to 200 nm, a small-diameter hole extending from the communication position to a depth of 500 to 2000 nm, and communicating with the bottom of the large-diameter hole. Consisting of
The average diameter of the large-diameter hole portion on the anodized film surface is 15 to 60 nm,
The ratio of the depth of the large-diameter hole to the average diameter of the large-diameter hole is 0.3 to 13.3,
A lithographic printing plate precursor having an average diameter of 13 nm or less at the communication position of the small-diameter hole.
(2) The lithographic printing plate precursor as described in (1), wherein the betaine structure is a structure represented by the formula (i) described later.
(3) The polymer containing a betaine structure is a polymer containing a repeating unit having a betaine structure, a repeating unit having a structure that interacts with the surface of an aluminum support, and a repeating unit having a radical polymerizable reactive group. A lithographic printing plate precursor as described in (1) or (2).
(4) The content of the repeating unit having a betaine structure is 50 to 95% by mass with respect to all the repeating units,
The content of the repeating unit having a structure that interacts with the surface of the aluminum support is 1 to 40% by mass with respect to all the repeating units,
The lithographic printing plate precursor as described in (3), wherein the content of the repeating unit having a radically polymerizable reactive group is 1 to 30% by mass based on all repeating units.
(5) The lithographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (4), wherein the average diameter of the large-diameter hole portion on the surface of the anodized film is 18 to 50 nm.
(6) The lithographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (5), wherein the depth of the large-diameter hole is 40 to 180 nm.
(7) The lithographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (6), wherein the image recording layer contains an acid color former.
(8) The lithographic printing plate precursor as described in (7), wherein the acid color former is at least one compound selected from the group consisting of spiropyran compounds, spirooxazine compounds, spirolactone compounds, and spirolactam compounds.
(9) The ratio of the depth of the large-diameter hole of the micropore to the content of the repeating unit having a betaine structure is 0.8 to 2.4, or any one of (1) to (8) Lithographic original plate.
(10) An exposure step of exposing the lithographic printing plate precursor according to any one of (1) to (9) imagewise to form an exposed portion and an unexposed portion;
And a removing step of removing an unexposed portion of the lithographic printing plate precursor that has been imagewise exposed.
(11) An exposure step of imagewise exposing the lithographic printing plate precursor according to any one of (1) to (10) to form an exposed portion and an unexposed portion;
A printing process comprising: supplying at least one of printing ink and fountain solution, removing an unexposed portion of the lithographic printing plate precursor imagewise exposed on a printing machine, and performing printing.

本発明によれば、平版印刷版としたときに放置払い性、UVインキ耐刷性、および、耐傷性に優れる、平版印刷版原版を提供できる。
また、本発明によれば、平版印刷版の製造方法、および、印刷方法を提供できる。
According to the present invention, it is possible to provide a lithographic printing plate precursor having excellent neglectability, UV ink printing durability and scratch resistance when used as a lithographic printing plate.
Moreover, according to this invention, the manufacturing method of a lithographic printing plate and the printing method can be provided.

本発明の平版印刷版原版の一実施形態の模式的断面図である。1 is a schematic cross-sectional view of an embodiment of a lithographic printing plate precursor according to the invention. アルミニウム支持体の一実施形態の模式的断面図である。It is a typical sectional view of one embodiment of an aluminum support.

以下に本発明の平版印刷版原版、平版印刷版の製造方法、および、印刷方法について説明する。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、式で表される化合物における基の表記に関して、置換または無置換を記していない場合、その基がさらに置換基を有することが可能な場合には、他に特に規定がない限り、その基は、無置換の基のみならず、置換基を有する基も包含する。例えば、式において、「Rはアルキル基、アリール基または複素環基を表す」との記載があれば、「Rは無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アリール基、置換アリール基、無置換複素環基または置換複素環基を表す」ことを意味する。
Hereinafter, the planographic printing plate precursor, the planographic printing plate production method, and the printing method of the present invention will be described.
In the present specification, a numerical range expressed using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
In addition, in the present specification, regarding the notation of a group in the compound represented by the formula, when substitution or non-substitution is not described, if the group can further have a substituent, there are other special provisions. Unless otherwise specified, the group includes not only an unsubstituted group but also a group having a substituent. For example, in the formula, if there is a description that “R represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group”, “R is an unsubstituted alkyl group, a substituted alkyl group, an unsubstituted aryl group, a substituted aryl group, an unsubstituted group” Represents a heterocyclic group or a substituted heterocyclic group.

図1は、本発明の平版印刷版原版の一実施形態の模式的断面図である。
同図に示す平版印刷版原版10は、アルミニウム支持体12と、下塗り層14と、画像記録層16とを含む。
図2は、アルミニウム支持体12の一実施形態の模式的断面図である。アルミニウム支持体12は、アルミニウム板18とアルミニウムの陽極酸化皮膜20(以後、単に「陽極酸化皮膜20」とも称する)とをこの順で積層した積層構造を有する。なお、アルミニウム支持体12中の陽極酸化皮膜20が、アルミニウム板18よりも下塗り層14側に位置する。つまり、平版印刷版原版10は、アルミニウム板18、陽極酸化皮膜20、下塗り層14、および、画像記録層16をこの順で有する。
陽極酸化皮膜20は、その表面からアルミニウム板18側に向かってのびるマイクロポア22を有し、マイクロポア22は大径孔部24と小径孔部26とから構成される。なお、ここではマイクロポアという用語は、陽極酸化皮膜中のポアを表す一般的に使われる用語であり、ポアのサイズを規定するものではない。
以下では、まず、下塗り層14について説明した後、アルミニウム支持体12および画像記録層16について詳述する。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of one embodiment of a lithographic printing plate precursor according to the present invention.
The planographic printing plate precursor 10 shown in FIG. 1 includes an aluminum support 12, an undercoat layer 14, and an image recording layer 16.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of an embodiment of the aluminum support 12. The aluminum support 12 has a laminated structure in which an aluminum plate 18 and an aluminum anodized film 20 (hereinafter simply referred to as “anodized film 20”) are laminated in this order. The anodic oxide film 20 in the aluminum support 12 is located closer to the undercoat layer 14 than the aluminum plate 18. That is, the lithographic printing plate precursor 10 has the aluminum plate 18, the anodized film 20, the undercoat layer 14, and the image recording layer 16 in this order.
The anodic oxide film 20 has a micropore 22 extending from the surface thereof toward the aluminum plate 18, and the micropore 22 includes a large-diameter hole portion 24 and a small-diameter hole portion 26. Here, the term micropore is a commonly used term representing the pore in the anodized film and does not define the size of the pore.
In the following, first, the undercoat layer 14 will be described, and then the aluminum support 12 and the image recording layer 16 will be described in detail.

<下塗り層>
下塗り層14は、ベタイン構造を含む化合物を含む。
まず、ベタイン構造とは、少なくとも1つのカチオンと少なくとも1つのアニオンを有する構造をいう。なお、通常、カチオンの数とアニオンの数とは等しく、全体として中性であるが、本発明では、カチオンの数とアニオンの数とが等しくない場合は、電荷を打ち消すために、必要な量のカウンターイオンを有することも、ベタイン構造とする。
ベタイン構造は、次に示す式(1)、式(2)、および、式(3)で表される構造のいずれかであることが好ましい。
<Undercoat layer>
The undercoat layer 14 includes a compound having a betaine structure.
First, the betaine structure refers to a structure having at least one cation and at least one anion. Normally, the number of cations and the number of anions are equal and neutral as a whole, but in the present invention, when the number of cations and the number of anions are not equal, the amount necessary to cancel the charge It is also assumed to have a betaine structure.
The betaine structure is preferably any one of structures represented by the following formulas (1), (2), and (3).

式中、Aはアニオンを有する構造を表し、Bはカチオンを有する構造を表し、Lは連結基を表す。*は、連結部位(連結位置)を表す。
は、カルボキシラート、スルホナート、ホスホナート、および、ホスフィナート等のアニオンを有する構造を表すことが好ましく、Bは、アンモニウム、ホスホニウム、ヨードニウム、および、スルホニウム等のカチオンを有する構造を表すことが好ましい。
In the formula, A represents a structure having an anion, B + represents a structure having a cation, and L 0 represents a linking group. * Represents a linking site (linking position).
A preferably represents a structure having anions such as carboxylate, sulfonate, phosphonate, and phosphinate, and B + preferably represents a structure having cations such as ammonium, phosphonium, iodonium, and sulfonium. .

は、連結基を表す。式(1)および式(3)においては、Lとしては二価の連結基が挙げられ、−CO−、−O−、−NH−、二価の脂肪族基、二価の芳香族基、または、それらの組み合わせが好ましい。式(2)においては、Lとしては三価の連結基が挙げられる。
上記連結基は、後述の有してもよい置換基の炭素数を含めて、炭素数30以下の連結基であることが好ましい。
上記連結基の具体例としては、アルキレン基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜10)、並びに、フェニレン基およびキシリレン基等のアリーレン基(好ましくは炭素数5〜15、より好ましくは炭素数6〜10)が挙げられる。
L 0 represents a linking group. In Formula (1) and Formula (3), L 0 includes a divalent linking group, and includes —CO—, —O—, —NH—, a divalent aliphatic group, and a divalent aromatic group. Or a combination thereof. In the formula (2), L 0 includes a trivalent linking group.
The linking group is preferably a linking group having 30 or less carbon atoms, including the carbon number of the substituent that may be described later.
Specific examples of the linking group include an alkylene group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms), and an arylene group such as a phenylene group and a xylylene group (preferably having 5 to 15 carbon atoms, More preferably, C6-C10 is mentioned.

なお、これらの連結基は、置換基をさらに有していてもよい。
置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、シアノ基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアリールアミノ基、および、ジアリールアミノ基が挙げられる。
In addition, these coupling groups may further have a substituent.
Examples of the substituent include a halogen atom, hydroxyl group, carboxyl group, amino group, cyano group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyloxy group, monoalkylamino group, Examples include a dialkylamino group, a monoarylamino group, and a diarylamino group.

ベタイン構造としては、放置払い性、機上現像性、UVインキ耐刷性、および、耐傷性の少なくとも1つがより優れる点(以後、単に「本発明の効果がより優れる点」とも称する)で、式(i)、式(ii)、または、式(iii)で表される構造が好ましく、式(i)で表される構造がより好ましい。*は、連結部位を表す。   As a betaine structure, at least one of neglectability, on-press developability, UV ink printing durability, and scratch resistance is more excellent (hereinafter, also simply referred to as “the effect of the present invention is more excellent”). The structure represented by Formula (i), Formula (ii), or Formula (iii) is preferable, and the structure represented by Formula (i) is more preferable. * Represents a linking site.

式(i)において、RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または、ヘテロ環基を表し、RとRとは互いに連結し、環構造を形成してもよい。
環構造は、酸素原子等のヘテロ原子を有していてもよい。環構造としては、5〜10員環が好ましく、5または6員環がより好ましい。
およびR中の炭素数は、1〜30が好ましく、1〜20がより好ましい。
およびRとして、本発明の効果がより優れる点で、水素原子、メチル基、または、エチル基が好ましい。
In Formula (i), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and R 1 and R 2 are linked to each other. A ring structure may be formed.
The ring structure may have a hetero atom such as an oxygen atom. As the ring structure, a 5- to 10-membered ring is preferable, and a 5- or 6-membered ring is more preferable.
R 1 and the number of carbon atoms in R 2 is preferably 1 to 30, 1 to 20 is more preferable.
As R 1 and R 2 , a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group is preferable in that the effect of the present invention is more excellent.

は、二価の連結基を表し、−CO−、−O−、−NH−、二価の脂肪族基(例えば、アルキレン基)、二価の芳香族基(例えば、フェニレン基)、または、それらの組み合わせが好ましい。
としては、炭素数3〜5の直鎖アルキレン基が好ましい。
L 1 represents a divalent linking group, —CO—, —O—, —NH—, a divalent aliphatic group (for example, an alkylene group), a divalent aromatic group (for example, a phenylene group), Or a combination thereof is preferred.
L 1 is preferably a linear alkylene group having 3 to 5 carbon atoms.

式(i)において、Aは、アニオンを有する構造を表し、カルボキシラート、スルホナート、ホスホナート、または、ホスフィナートが好ましい。
具体的には、以下の構造が挙げられる。
In formula (i), A represents a structure having an anion, and carboxylate, sulfonate, phosphonate or phosphinate is preferable.
Specifically, the following structures are mentioned.

式(i)において、Lが炭素数4または5の直鎖アルキレン基であり、かつ、Aがスルホナートである組み合わせが好ましく、Lが炭素数4の直鎖アルキレン基であり、かつ、Aがスルホナートである組み合わせがより好ましい。 In the formula (i), a combination in which L 1 is a linear alkylene group having 4 or 5 carbon atoms and A is a sulfonate, L 1 is a linear alkylene group having 4 carbon atoms, and a - is more preferred combination is a sulfonate.

式(ii)において、Lは、二価の連結基を表し、−CO−、−O−、−NH−、二価の脂肪族基(例えば、アルキレン基)、二価の芳香族基(例えば、フェニレン基)、または、それらの組み合わせが好ましい。
は、カチオンを有する構造を表し、アンモニウム、ホスホニウム、ヨードニウム、または、スルホニウムを有する構造が好ましい。中でも、アンモニウムまたはホスホニウムを有する構造が好ましく、アンモニウムを有する構造がより好ましい。
カチオンを有する構造としては、例えば、トリメチルアンモニオ基、トリエチルアンモニオ基、トリブチルアンモニオ基、ベンジルジメチルアンモニオ基、ジエチルヘキシルアンモニオ基、(2−ヒドロキシエチル)ジメチルアンモニオ基、ピリジニオ基、N−メチルイミダゾリオ基、N−アクリジニオ基、トリメチルホスホニオ基、トリエチルホスホニオ基、および、トリフェニルホスホニオ基が挙げられる。
In the formula (ii), L 2 represents a divalent linking group, —CO—, —O—, —NH—, a divalent aliphatic group (for example, an alkylene group), a divalent aromatic group ( For example, a phenylene group) or a combination thereof is preferable.
B + represents a structure having a cation, and a structure having ammonium, phosphonium, iodonium, or sulfonium is preferable. Among these, a structure having ammonium or phosphonium is preferable, and a structure having ammonium is more preferable.
Examples of the structure having a cation include trimethylammonio group, triethylammonio group, tributylammonio group, benzyldimethylammonio group, diethylhexylammonio group, (2-hydroxyethyl) dimethylammonio group, pyridinio group, Examples thereof include N-methylimidazolio group, N-acridinio group, trimethylphosphonio group, triethylphosphonio group, and triphenylphosphonio group.

式(iii)において、Lは二価の連結基を表し、−CO−、−O−、−NH−、二価の脂肪族基(例えば、アルキレン基)、二価の芳香族基(例えば、フェニレン基)、または、それらの組み合わせが好ましい。
は、アニオンを有する構造を表し、カルボキシラート、スルホナート、ホスホナート、または、ホスフィナートが好ましく、その詳細および好ましい例は、式(i)におけるAと同様である。
〜Rは、それぞれ独立に、水素原子または置換基(好ましくは炭素数1〜30)を表し、R〜Rの少なくとも1つは、連結部位を表す。
連結部位であるR〜Rの少なくとも1つは、R〜Rの少なくとも1つとしての置換基を介して化合物中の他の部位へ連結してもよいし、単結合により化合物中の他の部位へ直結してもよい。
In the formula (iii), L 3 represents a divalent linking group, and represents —CO—, —O—, —NH—, a divalent aliphatic group (for example, an alkylene group), a divalent aromatic group (for example, , A phenylene group) or a combination thereof.
A represents a structure having an anion, and is preferably carboxylate, sulfonate, phosphonate, or phosphinate, and the details and preferred examples thereof are the same as A in formula (i).
R 3 to R 7 each independently represent a hydrogen atom or a substituent (preferably having 1 to 30 carbon atoms), and at least one of R 3 to R 7 represents a linking site.
At least one of R 3 to R 7 which is a linking site may be linked to another site in the compound via a substituent as at least one of R 3 to R 7 , or in the compound by a single bond It may be directly connected to other parts.

〜Rで表される置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基(シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む)、アルケニル基(シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む)、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基(アニリノ基を含む)、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基、アルキルおよびアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールおよびヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、並びに、シリル基が挙げられる。 Examples of the substituent represented by R 3 to R 7 include a halogen atom, an alkyl group (including a cycloalkyl group and a bicycloalkyl group), an alkenyl group (including a cycloalkenyl group and a bicycloalkenyl group), an alkynyl group, and an aryl group. , Heterocyclic group, cyano group, hydroxyl group, nitro group, carboxyl group, alkoxy group, aryloxy group, silyloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy, amino Group (including anilino group), acylamino group, aminocarbonylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfamoylamino group, alkyl and arylsulfonylamino group, mercapto group, alkylthio group, ant Ruthio group, heterocyclic thio group, sulfamoyl group, sulfo group, alkyl and arylsulfinyl group, alkyl and arylsulfonyl group, acyl group, aryloxycarbonyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, aryl and heterocyclic azo group, imido group , Phosphino group, phosphinyl group, phosphinyloxy group, phosphinylamino group, and silyl group.

上記化合物は、本発明の効果がより優れる点で、ベタイン構造を有する繰り返し単位を含む高分子(以後、単に「特定高分子」とも称する)であることが好ましい。ベタイン構造を有する繰り返し単位としては、式(A1)で表される繰り返し単位が好ましい。   The above compound is preferably a polymer containing a repeating unit having a betaine structure (hereinafter, also simply referred to as “specific polymer”) in that the effect of the present invention is more excellent. The repeating unit having a betaine structure is preferably a repeating unit represented by the formula (A1).

式中、R101〜R103は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、またはハロゲン原子を表す。Lは、単結合、または、二価の連結基を表す。
二価の連結基としては、−CO−、−O−、−NH−、二価の脂肪族基、二価の芳香族基、または、それらの組み合わせが挙げられる。
In formula, R < 101 > -R < 103 > represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogen atom each independently. L represents a single bond or a divalent linking group.
Examples of the divalent linking group include —CO—, —O—, —NH—, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof.

上記組み合わせからなるLの具体例を、以下に挙げる。なお、下記例において左側が主鎖に結合し、右側がXに結合する。
L1:−CO−O−二価の脂肪族基−
L2:−CO−O−二価の芳香族基−
L3:−CO−NH−二価の脂肪族基−
L4:−CO−NH−二価の芳香族基−
L5:−CO−二価の脂肪族基−
L6:−CO−二価の芳香族基−
L7:−CO−二価の脂肪族基−CO−O−二価の脂肪族基−
L8:−CO−二価の脂肪族基−O−CO−二価の脂肪族基−
L9:−CO−二価の芳香族基−CO−O−二価の脂肪族基−
L10:−CO−二価の芳香族基−O−CO−二価の脂肪族基−
L11:−CO−二価の脂肪族基−CO−O−二価の芳香族基−
L12:−CO−二価の脂肪族基−O−CO−二価の芳香族基−
L13:−CO−二価の芳香族基−CO−O−二価の芳香族基−
L14:−CO−二価の芳香族基−O−CO−二価の芳香族基−
L15:−CO−O−二価の芳香族基−O−CO−NH−二価の脂肪族基−
L16:−CO−O−二価の脂肪族基−O−CO−NH−二価の脂肪族基−
Specific examples of L composed of the above combinations are given below. In the following examples, the left side is bonded to the main chain, and the right side is bonded to X.
L1: -CO-O-divalent aliphatic group-
L2: —CO—O—divalent aromatic group—
L3: -CO-NH-divalent aliphatic group-
L4: —CO—NH—divalent aromatic group—
L5: -CO-divalent aliphatic group-
L6: —CO—divalent aromatic group—
L7: -CO-divalent aliphatic group-CO-O-divalent aliphatic group-
L8: -CO-divalent aliphatic group-O-CO-divalent aliphatic group-
L9: -CO-divalent aromatic group-CO-O-divalent aliphatic group-
L10: -CO-divalent aromatic group-O-CO-divalent aliphatic group-
L11: -CO-divalent aliphatic group-CO-O-divalent aromatic group-
L12: -CO-divalent aliphatic group-O-CO-divalent aromatic group-
L13: -CO-divalent aromatic group-CO-O-divalent aromatic group-
L14: -CO-divalent aromatic group-O-CO-divalent aromatic group-
L15: -CO-O-divalent aromatic group-O-CO-NH-divalent aliphatic group-
L16: -CO-O-divalent aliphatic group-O-CO-NH-divalent aliphatic group-

二価の脂肪族基としては、アルキレン基、アルケニレン基、および、アルキニレン基が挙げられる。
二価の芳香族基としては、アリール基が挙げられ、フェニレン基またはナフチレン基が好ましい。
Examples of the divalent aliphatic group include an alkylene group, an alkenylene group, and an alkynylene group.
Examples of the divalent aromatic group include an aryl group, and a phenylene group or a naphthylene group is preferable.

Xは、ベタイン構造を表す。Xは、上述した式(i)、式(ii)、または、式(iii)で表される構造が好ましい。
特に、式(A1)においては、LはL1またはL3であり、Xは式(i)で表される構造であり、式(i)中のAがスルホナート基である組み合わせが好ましい。
X represents a betaine structure. X is preferably a structure represented by the above formula (i), formula (ii), or formula (iii).
Particularly, in the formula (A1), L is L1 or L3, X is a structure represented by formula (i), A in formula (i) - the combination is a sulfonate group.

特定高分子中におけるベタイン構造を有する繰り返し単位の含有量は特に制限されず、20〜95質量%の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、特定高分子を構成する全繰り返し単位に対して、50〜95質量%が好ましく、60〜90質量%がより好ましく、65〜85質量%がさらに好ましい。   The content of the repeating unit having a betaine structure in the specific polymer is not particularly limited, and is often 20 to 95% by mass. From the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent, all the repeating units constituting the specific polymer are included. On the other hand, 50-95 mass% is preferable, 60-90 mass% is more preferable, and 65-85 mass% is further more preferable.

特定高分子は、上記ベタイン構造を有する繰り返し単位以外の他の繰り返し単位を含んでいてもよい。
特定高分子は、アルミニウム支持体の表面と相互作用する構造(以後、単に「相互作用構造」とも称する)を有する繰り返し単位を含んでいてもよい。
相互作用構造としては、例えば、カルボン酸構造、カルボン酸塩構造、スルホン酸構造、スルホン酸塩構造、ホスホン酸構造、ホスホン酸塩構造、リン酸エステル構造、リン酸エステル塩構造、β−ジケトン構造、および、フェノール性水酸基が挙げられ、例えば、下記に示す式で表される構造が挙げられる。中でも、カルボン酸構造、カルボン酸塩構造、スルホン酸構造、スルホン酸塩構造、ホスホン酸構造、ホスホン酸塩構造、リン酸エステル構造、または、リン酸エステル塩構造が好ましい。
The specific polymer may contain a repeating unit other than the repeating unit having the betaine structure.
The specific polymer may include a repeating unit having a structure that interacts with the surface of the aluminum support (hereinafter, also simply referred to as “interaction structure”).
Examples of the interaction structure include a carboxylic acid structure, a carboxylate structure, a sulfonic acid structure, a sulfonate structure, a phosphonic acid structure, a phosphonate structure, a phosphate ester structure, a phosphate ester salt structure, and a β-diketone structure. And a phenolic hydroxyl group, and examples thereof include structures represented by the following formulae. Among these, a carboxylic acid structure, a carboxylate structure, a sulfonic acid structure, a sulfonate structure, a phosphonic acid structure, a phosphonate structure, a phosphate ester structure, or a phosphate ester salt structure is preferable.

上記式中、R11〜R13はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルキニル基、または、アルケニル基を表し、M、MおよびMは、それぞれ独立に、水素原子、金属原子(例えば、Na,Li等のアルカリ金属原子)、または、アンモニウム基を表す。Bは、ホウ素原子を表す。 In the above formula, R 11 to R 13 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkynyl group, or an alkenyl group, and M, M 1 and M 2 each independently represent a hydrogen atom, a metal It represents an atom (for example, an alkali metal atom such as Na or Li) or an ammonium group. B represents a boron atom.

相互作用構造を有する繰り返し単位は、式(A2)で表される繰り返し単位が好ましい。   The repeating unit having an interaction structure is preferably a repeating unit represented by the formula (A2).

式中、R201〜R203は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基(好ましくは炭素数1〜6)、またはハロゲン原子を表す。
Lは単結合、または、二価の連結基を表す。二価の連結基としては、−CO−、−O−、−NH−、二価の脂肪族基、二価の芳香族基、または、それらの組み合わせが挙げられる。
組み合わせからなるLの具体例としては、上記式(A1)と同じもの、および、下記L17およびL18が挙げられる。
L17:−CO−NH−
L18:−CO−O−
L1〜L18の中では、L1〜L4、L17、または、L18が好ましい。
Qは相互作用構造を表し、好ましい態様は上述したものと同じである。
In the formula, R 201 to R 203 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group (preferably having a carbon number of 1 to 6), or a halogen atom.
L represents a single bond or a divalent linking group. Examples of the divalent linking group include —CO—, —O—, —NH—, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof.
Specific examples of L composed of a combination include the same as those in the above formula (A1) and the following L17 and L18.
L17: —CO—NH—
L18: -CO-O-
Among L1 to L18, L1 to L4, L17, or L18 is preferable.
Q represents an interaction structure, and a preferred embodiment is the same as described above.

特定高分子中における相互作用構造を有する繰り返し単位の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、特定高分子を構成する全繰り返し単位に対して、1〜40質量%が好ましく、3〜30質量%がより好ましく、5〜20質量%がさらに好ましい。   The content of the repeating unit having an interaction structure in the specific polymer is not particularly limited, but is 1 to 40% by mass with respect to all the repeating units constituting the specific polymer in that the effect of the present invention is more excellent. Preferably, 3-30 mass% is more preferable, and 5-20 mass% is further more preferable.

特定高分子は、ラジカル重合性反応性基を有する繰り返し単位を含んでいてもよい。
ラジカル重合性反応性基としては、付加重合可能な不飽和結合基(例えば、(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリルアミド基、(メタ)アクリロニトリル基、アリル基、ビニル基、ビニルオキシ基、および、アルキニル基)、および、連鎖移動が可能な官能基(メルカプト基等)が挙げられる。
ラジカル重合性反応性基を有する繰り返し単位を含む特定高分子は、特開2001−312068号公報に記載の方法でラジカル重合性反応性基を導入することで得ることができる。ラジカル重合性反応性基を有する繰り返し単位を含む特定高分子を用いることにより、未露光部では優れた現像性を発現し、露光部では重合によって現像液の浸透性が抑制され、アルミニウム支持体と画像記録層との間の接着性および密着性がさらに向上する。
The specific polymer may contain a repeating unit having a radical polymerizable reactive group.
Radical polymerizable reactive groups include addition-polymerizable unsaturated bond groups (eg (meth) acryloyl group, (meth) acrylamide group, (meth) acrylonitrile group, allyl group, vinyl group, vinyloxy group, and alkynyl). Group) and functional groups capable of chain transfer (such as mercapto groups).
The specific polymer containing a repeating unit having a radically polymerizable reactive group can be obtained by introducing a radically polymerizable reactive group by the method described in JP-A-2001-31068. By using a specific polymer containing a repeating unit having a radically polymerizable reactive group, excellent developability is developed in the unexposed area, and the permeability of the developer is suppressed by polymerization in the exposed area. Adhesiveness and adhesion with the image recording layer are further improved.

特定高分子中におけるラジカル重合性反応性基を有する繰り返し単位の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、特定高分子を構成する全繰り返し単位に対して、1〜30質量%が好ましく、3〜20質量%がより好ましく、5〜15質量%がさらに好ましい。   The content of the repeating unit having a radical polymerizable reactive group in the specific polymer is not particularly limited, but is 1 to 30 with respect to all the repeating units constituting the specific polymer in that the effect of the present invention is more excellent. % By mass is preferable, 3 to 20% by mass is more preferable, and 5 to 15% by mass is further preferable.

下塗り層14中における上記ベタイン構造を有する化合物の含有量は特に制限されないが、下塗り層全質量に対して、80質量%以上が好ましく、90質量%以上がより好ましい。上限としては、100質量%が挙げられる。
下塗り層14には、ベタイン構造を有する化合物以外の他の化合物が含まれていてもよい。
The content of the compound having the betaine structure in the undercoat layer 14 is not particularly limited, but is preferably 80% by mass or more and more preferably 90% by mass or more with respect to the total mass of the undercoat layer. As an upper limit, 100 mass% is mentioned.
The undercoat layer 14 may contain a compound other than the compound having a betaine structure.

<アルミニウム支持体>
上述したように、アルミニウム支持体12は、アルミニウム板18と、アルミニウム板18上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜20とを有する。
<Aluminum support>
As described above, the aluminum support 12 includes the aluminum plate 18 and the aluminum anodic oxide film 20 disposed on the aluminum plate 18.

(アルミニウム板)
アルミニウム板18(アルミニウム支持体)は、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金属であり、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる。アルミニウム板18としては、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし微量の異元素を含む合金板、または、アルミニウム(合金)がラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムもしくは紙が挙げられる。さらに、特公昭48−18327号公報に記載されているようなポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体シートでもかまわない。
(Aluminum plate)
The aluminum plate 18 (aluminum support) is a metal whose main component is aluminum that is dimensionally stable, and is made of aluminum or an aluminum alloy. Examples of the aluminum plate 18 include a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, or a plastic film or paper on which aluminum (alloy) is laminated or deposited. Further, a composite sheet in which an aluminum sheet is bonded to a polyethylene terephthalate film as described in Japanese Patent Publication No. 48-18327 may be used.

アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、および、チタン等があり、合金中の異元素の含有量は10質量%以下である。アルミニウム板18としては、純アルミニウム板が好適であるが、完全に純粋なアルミニウムは製錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含むものでもよい。
アルミニウム板18としては、その組成が限定されるものではなく、公知公用の素材のもの(例えばJIS A 1050、JIS A 1100、JIS A 3103、および、JIS A 3005)を適宜利用できる。
The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium, and the content of foreign elements in the alloy is 10% by mass or less. . As the aluminum plate 18, a pure aluminum plate is suitable, but since completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of smelting technology, it may contain a slightly different element.
The composition of the aluminum plate 18 is not limited, and a publicly known material (for example, JIS A 1050, JIS A 1100, JIS A 3103, and JIS A 3005) can be used as appropriate.

また、アルミニウム板18の幅は400〜2000mm程度、厚みはおよそ0.1〜0.6mm程度が好ましい。この幅または厚みは、印刷機の大きさ、印刷版の大きさ、および、ユーザーの希望により適宜変更できる。   The width of the aluminum plate 18 is preferably about 400 to 2000 mm and the thickness is about 0.1 to 0.6 mm. This width or thickness can be appropriately changed depending on the size of the printing press, the size of the printing plate, and the user's desire.

(陽極酸化皮膜)
陽極酸化皮膜20は、陽極酸化処理によってアルミニウム板18の表面に一般的に作製される、皮膜表面に略垂直であり、個々が均一に分布した極微細なマイクロポア22を有する陽極酸化アルミニウム皮膜を指す。マイクロポア22は、アルミニウム板18とは反対側の陽極酸化皮膜表面から厚み方向(アルミニウム板18側)に沿ってのびる。
(Anodized film)
The anodized film 20 is an anodized aluminum film that is generally produced on the surface of the aluminum plate 18 by an anodizing process and that has an extremely fine micropore 22 that is substantially perpendicular to the film surface and is uniformly distributed. Point to. The micropore 22 extends along the thickness direction (the aluminum plate 18 side) from the surface of the anodized film opposite to the aluminum plate 18.

陽極酸化皮膜20中のマイクロポア22は、陽極酸化皮膜表面から深さ20〜200nm(深さA:図2参照)の位置までのびる大径孔部24と、大径孔部24の底部と連通し、連通位置からさらに深さ500〜2000nmの位置までのびる小径孔部26とから構成される。
以下に、大径孔部24と小径孔部26について詳述する。
The micropores 22 in the anodized film 20 communicate with the large-diameter hole 24 extending from the surface of the anodized film to a depth of 20 to 200 nm (depth A: see FIG. 2) and the bottom of the large-diameter hole 24. The small-diameter hole 26 extends from the communication position to a position having a depth of 500 to 2000 nm.
Below, the large diameter hole part 24 and the small diameter hole part 26 are explained in full detail.

(大径孔部)
大径孔部24の陽極酸化皮膜表面における平均径(平均開口径)は、15〜60nmである。中でも、本発明の効果がより優れる点で、平均径は18〜50nmが好ましく、25〜40nmがより好ましい。
平均径が15nm未満の場合、UVインキ耐刷性が劣る。また、平均径が60nmを超える場合、放置払い性が劣る。
大径孔部24の平均径は、陽極酸化皮膜20表面を倍率15万倍の電界放出型走査電子顕微鏡(FE−SEM)でN=4枚観察し、得られた4枚の画像において、400×600nm2の範囲に存在するマイクロポア(大径孔部)の径(直径)を測定し、平均した値である。
なお、大径孔部24の形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの当該円の直径である。
(Large hole)
The average diameter (average opening diameter) of the large-diameter hole 24 on the surface of the anodized film is 15 to 60 nm. Especially, 18-50 nm is preferable and 25-40 nm is more preferable at the point which the effect of this invention is more excellent.
When the average diameter is less than 15 nm, the UV ink printing durability is poor. Moreover, when an average diameter exceeds 60 nm, neglectability is inferior.
The average diameter of the large-diameter hole 24 was determined by observing N = 4 on the surface of the anodic oxide film 20 with a field emission scanning electron microscope (FE-SEM) with a magnification of 150,000 times. This is a value obtained by measuring and averaging the diameters (diameters) of micropores (large-diameter holes) existing in a range of × 600 nm 2 .
In addition, when the shape of the large diameter hole portion 24 is not circular, an equivalent circle diameter is used. The “equivalent circle diameter” is a diameter of the circle when the shape of the opening is assumed to be a circle having the same projected area as the projected area of the opening.

大径孔部24の底部は、陽極酸化皮膜表面から深さ20〜200nm(以後、深さAとも称する)に位置する。つまり、大径孔部24は、陽極酸化皮膜表面から深さ方向(厚み方向)に20〜200nmのびる孔部である。中でも、本発明の効果がより優れる点で、深さAは、40〜180nmが好ましく、70〜140nmがより好ましい。
深さAが20nm未満の場合、UVインキ耐刷性が劣る。深さAが200nmを超える場合、放置払い性が劣る。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜20の断面の写真(15万倍)をとり、25個以上の大径孔部の深さを測定し、平均した値である。
The bottom of the large-diameter hole 24 is located at a depth of 20 to 200 nm (hereinafter also referred to as depth A) from the surface of the anodized film. That is, the large diameter hole 24 is a hole extending 20 to 200 nm in the depth direction (thickness direction) from the surface of the anodized film. Especially, 40-180 nm is preferable and, as for the depth A, the point which the effect of this invention is more excellent, 70-140 nm is more preferable.
When the depth A is less than 20 nm, the UV ink printing durability is poor. When the depth A exceeds 200 nm, the neglectability is inferior.
In addition, the said depth is the value which took the photograph (150,000 times) of the cross section of the anodic oxide film 20, measured the depth of 25 or more large diameter holes, and averaged it.

下塗り層中の高分子に含まれるベタイン構造を含む繰り返し単位の含有量に対する、大径孔部の深さの比(大径孔部の深さ(nm)/下塗り層中の高分子に含まれるベタイン構造を含む繰り返し単位の含有量(モル%))は特に制限されないが、通常、0.2〜4.0の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、0.8〜2.4が好ましく、0.8〜2.0がより好ましい。   Ratio of depth of large-diameter hole portion to content of repeating unit including betaine structure contained in polymer in undercoat layer (depth of large-diameter hole portion (nm) / included in polymer in undercoat layer) The content of the repeating unit containing a betaine structure (mol%) is not particularly limited, but is usually 0.2 to 4.0 in many cases, and 0.8 to 2. 4 is preferable, and 0.8 to 2.0 is more preferable.

大径孔部24の平均径とその底部が位置する深さAとの関係(深さA/平均径)は、0.3〜13.3の関係を満たす。中でも、本発明の効果がより優れる点で、1.5〜9.0が好ましい。   The relationship (depth A / average diameter) between the average diameter of the large-diameter hole portion 24 and the depth A where the bottom portion is located satisfies the relationship of 0.3 to 13.3. Especially, 1.5-9.0 are preferable at the point which the effect of this invention is more excellent.

大径孔部24の形状は特に限定されず、例えば、略直管状(略円柱状)、および、深さ方向(厚み方向)に向かって径が小さくなる円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。また、大径孔部24の底部の形状は特に限定されず、曲面状(凸状)であっても、平面状であってもよい。
大径孔部24の内径は特に制限されないが、通常、開口部の径と同程度の大きさか、または開口部の径よりも小さい。なお、大径孔部24の内径は、通常、開口部の径よりも1〜10nm程度の差があってもよい。
The shape of the large-diameter hole portion 24 is not particularly limited, and examples thereof include a substantially straight tubular shape (substantially cylindrical shape) and a conical shape whose diameter decreases in the depth direction (thickness direction). preferable. Moreover, the shape of the bottom part of the large diameter hole part 24 is not specifically limited, A curved surface shape (convex shape) may be sufficient, and planar shape may be sufficient.
The inner diameter of the large-diameter hole 24 is not particularly limited, but is usually the same size as the diameter of the opening or smaller than the diameter of the opening. In addition, the internal diameter of the large diameter hole part 24 may have a difference of about 1-10 nm normally from the diameter of an opening part.

(小径孔部)
小径孔部26は、図2に示すように、大径孔部24の底部と連通して、連通位置よりさらに深さ方向(厚み方向)に延びる孔部である。ひとつの小径孔部26は、通常ひとつの大径孔部24と連通するが、2つ以上の小径孔部26がひとつの大径孔部24の底部と連通していてもよい。
小径孔部26の連通位置における平均径は13nm以下である。中でも、11nm以下が好ましく、10nm以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、5nm以上の場合が多い。
平均径が13nmを超える場合、放置払い性が劣る。
(Small hole)
As shown in FIG. 2, the small-diameter hole 26 is a hole that communicates with the bottom of the large-diameter hole 24 and extends further in the depth direction (thickness direction) than the communication position. Although one small diameter hole portion 26 normally communicates with one large diameter hole portion 24, two or more small diameter hole portions 26 may communicate with the bottom of one large diameter hole portion 24.
The average diameter at the communication position of the small diameter hole portion 26 is 13 nm or less. Especially, 11 nm or less is preferable and 10 nm or less is more preferable. The lower limit is not particularly limited, but is often 5 nm or more.
When the average diameter exceeds 13 nm, the neglectability is inferior.

小径孔部26の平均径は、陽極酸化皮膜20表面を倍率15万倍のFE−SEMでN=4枚観察し、得られた4枚の画像において、400×600nmの範囲に存在するマイクロポア(小径孔部)の径(直径)を測定し、平均した値である。なお、大径孔部の深さが深い場合は、必要に応じて、陽極酸化皮膜20上部(大径孔部のある領域)を切削し(例えば、アルゴンガスによって切削)、その後陽極酸化皮膜20表面を上記FE−SEMで観察して、小径孔部の平均径を求めてもよい。
なお、小径孔部26の形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの当該円の直径である。
The average diameter of the small diameter hole portion 26, the anodized film 20 surface was observed N = 4 sheets at a magnification 150,000 × FE-SEM, the four images obtained are present in a range of 400 × 600 nm 2 Micro It is a value obtained by measuring and averaging the diameter (diameter) of the pore (small-diameter hole). In addition, when the depth of the large-diameter hole is deep, the upper part of the anodic oxide film 20 (region with the large-diameter hole) is cut (for example, cut with argon gas) as necessary, and then the anodic oxide film 20 is cut. The surface may be observed with the FE-SEM to determine the average diameter of the small diameter holes.
In addition, when the shape of the small diameter hole part 26 is not circular, an equivalent circle diameter is used. The “equivalent circle diameter” is a diameter of the circle when the shape of the opening is assumed to be a circle having the same projected area as the projected area of the opening.

小径孔部26の底部は、上記の大径孔部24との連通位置(上述した深さAに該当)からさらに深さ方向に500〜2000nmのびた場所に位置する。言い換えると、小径孔部26は、上記大径孔部24との連通位置からさらに深さ方向(厚み方向)にのびる孔部であり、小径孔部26の深さは500〜2000nmである。中でも、本発明の効果がより優れる点で、小径孔部26は連通位置から深さ600〜2000nmの位置までのびることが好ましく、小径孔部26は連通位置から深さ700〜2000nmの位置までのびることがより好ましい。
深さが500nm未満の場合、耐傷性が劣る。深さが2000nmを超える場合、処理時間が長期化し、生産性および経済性に劣る。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜20の断面の写真(5万倍)をとり、25個以上の小径孔部の深さを測定し、平均した値である。
The bottom of the small-diameter hole 26 is located at a location extending 500 to 2000 nm in the depth direction from the communication position with the large-diameter hole 24 (corresponding to the depth A described above). In other words, the small diameter hole portion 26 is a hole portion extending further in the depth direction (thickness direction) from the communication position with the large diameter hole portion 24, and the depth of the small diameter hole portion 26 is 500 to 2000 nm. Especially, it is preferable that the small-diameter hole portion 26 extends from the communication position to a depth of 600 to 2000 nm, and the small-diameter hole portion 26 extends from the communication position to a depth of 700 to 2000 nm in that the effect of the present invention is more excellent. It is more preferable.
When the depth is less than 500 nm, the scratch resistance is poor. When the depth exceeds 2000 nm, the treatment time is prolonged, and the productivity and economy are inferior.
In addition, the said depth is the value which took the photograph (50,000 times) of the cross section of the anodic oxide film 20, measured the depth of 25 or more small diameter holes, and averaged it.

小径孔部26の形状は特に限定されず、略直管状(略円柱状)、および、深さ方向に向かって径が小さくなる円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。また、小径孔部26の底部の形状は特に限定されず、曲面状(凸状)であっても、平面状であってもよい。
小径孔部26の内径は特に制限されないが、通常、連通位置における径と同程度の大きさか、または該径よりも小さくても大きくてもよい。なお、小径孔部26の内径は、通常、開口部の径よりも1〜10nm程度の差があってもよい。
The shape of the small-diameter hole portion 26 is not particularly limited, and includes a substantially straight tubular shape (substantially cylindrical shape) and a conical shape whose diameter decreases in the depth direction, and a substantially straight tubular shape is preferable. Moreover, the shape of the bottom part of the small diameter hole part 26 is not specifically limited, A curved surface shape (convex shape) may be sufficient, and planar shape may be sufficient.
The inner diameter of the small-diameter hole portion 26 is not particularly limited, but is usually the same size as the diameter at the communication position, or may be smaller or larger than the diameter. In addition, the internal diameter of the small diameter hole part 26 may have a difference of about 1-10 nm normally from the diameter of an opening part.

<画像記録層>
画像記録層16としては、印刷インキおよび/または湿し水により除去可能な画像記録層であることが好ましい。
以下、画像記録層16の各構成成分について説明する。
<Image recording layer>
The image recording layer 16 is preferably an image recording layer that can be removed by printing ink and / or fountain solution.
Hereinafter, each component of the image recording layer 16 will be described.

(赤外線吸収剤)
画像記録層16は、赤外線吸収剤を含むことが好ましい。
赤外線吸収剤は、750〜1400nmの波長域に極大吸収を有することが好ましい。特に、機上現像型の平版印刷版原版では、白灯下の印刷機で機上現像される場合があるため、白灯の影響の受けにくい750〜1400nmの波長域に極大吸収を有する赤外線吸収剤を用いることにより、現像性に優れた平版印刷版原版を得ることができる。
赤外線吸収剤としては、染料または顔料が好ましい。
(Infrared absorber)
The image recording layer 16 preferably contains an infrared absorber.
The infrared absorber preferably has a maximum absorption in a wavelength range of 750 to 1400 nm. In particular, since the on-press development type lithographic printing plate precursor may be developed on-press with a printing machine under white light, infrared absorption having a maximum absorption in a wavelength range of 750 to 1400 nm which is not easily affected by white light. By using the agent, a lithographic printing plate precursor excellent in developability can be obtained.
As the infrared absorber, a dye or a pigment is preferable.

染料としては、市販の染料、および、「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知の染料が挙げられる。
染料としては、具体的には、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、および、インドレニンシアニン色素が挙げられる。中でも、シアニン色素またはインドレニンシアニン色素が好ましく、シアニン色素がより好ましく、下記式(a)で表されるシアニン色素がさらに好ましい。
Examples of the dye include commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970).
Specific examples of the dye include cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Among these, a cyanine dye or an indolenine cyanine dye is preferable, a cyanine dye is more preferable, and a cyanine dye represented by the following formula (a) is more preferable.

式(a)   Formula (a)

式(a)中、Xは、水素原子、ハロゲン原子、−N(R)(R10)、−X−L、または、以下に示す基を表す。 In formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -N (R 9 ) (R 10 ), -X 2 -L 1 , or a group shown below.

およびR10は、それぞれ独立に、芳香族炭化水素基、アルキル基、または、水素原子を表し、RとR10とが互いに結合して環を形成してもよい。中でも、フェニル基が好ましい。
は酸素原子または硫黄原子を示し、Lは、ヘテロ原子(N、S、O、ハロゲン原子、Se)を含んでいてもよい炭素数1〜12の炭化水素基を表す。
は後述するZ と同様に定義され、Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、アミノ基、また、ハロゲン原子を表す。
R 9 and R 10 each independently represent an aromatic hydrocarbon group, an alkyl group, or a hydrogen atom, and R 9 and R 10 may be bonded to each other to form a ring. Of these, a phenyl group is preferred.
X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may contain a hetero atom (N, S, O, halogen atom, Se).
X a - is Z a which will be described below - has the same definition as, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an amino group also represent a halogen atom.

およびRは、それぞれ独立に、炭素数1〜12の炭化水素基を表す。また、RとRとは互いに結合し環を形成してもよく、環を形成する際は5員環または6員環を形成していることが好ましい。
ArおよびArは、それぞれ独立に、置換基(例えば、アルキル基)を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環基またはナフタレン環基が好ましい。
およびYは、それぞれ独立に、硫黄原子または炭素数12個以下のジアルキルメチレン基を表す。
およびRは、それぞれ独立に、置換基(例えば、アルコキシ基)を有していてもよい炭素数20個以下の炭化水素基を表す。
、R、RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子または炭素数12個以下の炭化水素基を表す。
また、Zaは、対アニオンを表す。ただし、式(a)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZaは必要ない。Zaとしては、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、または、スルホン酸イオンが挙げられ、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、または、アリールスルホン酸イオンが好ましい。
R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. R 1 and R 2 may be bonded to each other to form a ring, and when forming a ring, a 5-membered ring or a 6-membered ring is preferably formed.
Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent (for example, an alkyl group). As the aromatic hydrocarbon group, a benzene ring group or a naphthalene ring group is preferable.
Y 1 and Y 2 each independently represent a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms.
R 3 and R 4 each independently represent a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms, which may have a substituent (for example, an alkoxy group).
R 5 , R 6 , R 7 and R 8 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms.
Furthermore, Za - represents a counter anion. However, Za is not necessary when the cyanine dye represented by the formula (a) has an anionic substituent in its structure and neutralization of charge is not necessary. Za includes a halide ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, or a sulfonate ion, and a perchlorate ion, a hexafluorophosphate ion, or an aryl sulfonate ion. preferable.

上記赤外線吸収染料は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよく、顔料等の赤外線吸収染料以外の赤外線吸収剤を併用してもよい。顔料としては、特開2008−195018号公報の段落[0072]〜[0076]に記載の化合物が好ましい。   Only 1 type may be used for the said infrared absorption dye, 2 or more types may be used together, and infrared absorbers other than infrared absorption dyes, such as a pigment, may be used together. As the pigment, compounds described in paragraphs [0072] to [0076] of JP-A-2008-195018 are preferable.

赤外線吸収剤の含有量は、画像記録層を構成する全固形分100質量部に対して、0.05〜30質量部が好ましく、0.1〜20質量部がより好ましい。   The content of the infrared absorber is preferably 0.05 to 30 parts by mass, and more preferably 0.1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content constituting the image recording layer.

(重合開始剤)
画像記録層16は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤としては、光、熱またはその両方のエネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を開始する化合物(いわゆる、ラジカル重合開始剤)が好ましい。重合開始剤としては、例えば、光重合開始剤、および、熱重合開始剤が挙げられる。
重合開始剤としては、具体的には、特開2009−255434号公報の段落[0115]〜[0141]に記載される重合開始剤が使用できる。
なお、重合開始剤として、反応性および安定性の点から、オキシムエステル化合物、または、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、および、スルホニウム塩等のオニウム塩が好ましい。
(Polymerization initiator)
The image recording layer 16 preferably contains a polymerization initiator.
As the polymerization initiator, a compound (so-called radical polymerization initiator) that generates a radical by energy of light, heat, or both and starts polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group is preferable. Examples of the polymerization initiator include a photopolymerization initiator and a thermal polymerization initiator.
Specifically, polymerization initiators described in paragraphs [0115] to [0141] of JP-A-2009-255434 can be used as the polymerization initiator.
The polymerization initiator is preferably an oxime ester compound or an onium salt such as a diazonium salt, an iodonium salt, and a sulfonium salt from the viewpoint of reactivity and stability.

重合開始剤の含有量は、画像記録層全質量に対して、0.1〜50質量%が好ましく、0.5〜30質量%がより好ましい。   The content of the polymerization initiator is preferably 0.1 to 50% by mass, and more preferably 0.5 to 30% by mass with respect to the total mass of the image recording layer.

(重合性化合物)
画像記録層16は、重合性化合物を含むことが好ましい。
重合性化合物としては、少なくとも1個のエチレン性不飽和結合を有する付加重合性化合物が好ましい。中でも、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個(好ましくは2個)以上有する化合物がより好ましい。いわゆる、ラジカル重合性化合物がより好ましい。
重合性化合物としては、例えば、特開2009−255434号公報の段落[0142]〜[0163]に例示される重合性化合物が使用できる。
(Polymerizable compound)
The image recording layer 16 preferably contains a polymerizable compound.
As the polymerizable compound, an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated bond is preferable. Among these, compounds having at least one (preferably two) or more terminal ethylenically unsaturated bonds are more preferable. A so-called radical polymerizable compound is more preferable.
As the polymerizable compound, for example, polymerizable compounds exemplified in paragraphs [0142] to [0163] of JP2009-255434A can be used.

また、イソシアネートとヒドロキシル基との付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適である。その具体例としては、特公昭48−41708号公報に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記式(A)で示されるヒドロキシル基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
CH=C(R)COOCHCH(R)OH (A)
(ただし、RおよびRは、HまたはCHを示す。)
A urethane-based addition polymerizable compound produced by using an addition reaction between an isocyanate and a hydroxyl group is also suitable. As a specific example thereof, a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following formula (A) is added to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups per molecule described in JP-B-48-41708. Examples thereof include a vinylurethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in the added molecule.
CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (A)
(However, R 4 and R 5 represent H or CH 3. )

重合性化合物の含有量は、画像記録層全質量に対して、3〜80質量%が好ましく、10〜75質量%がより好ましい。   The content of the polymerizable compound is preferably 3 to 80% by mass and more preferably 10 to 75% by mass with respect to the total mass of the image recording layer.

(バインダーポリマー)
画像記録層16は、バインダーポリマーを含むことが好ましい。
バインダーポリマーとしては、公知のバインダーポリマーが挙げられる。バインダーポリマーとしては、具体的には、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、および、天然ゴムが挙げられる。
バインダーポリマーは、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性を有していてもよい。バインダーポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を高分子の主鎖中または側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよい。
バインダーポリマーとしては、例えば、特開2009−255434号公報の段落[0165]〜[0172]に開示されるバインダーポリマーを使用できる。
(Binder polymer)
The image recording layer 16 preferably contains a binder polymer.
Examples of the binder polymer include known binder polymers. Specific examples of the binder polymer include acrylic resins, polyvinyl acetal resins, polyurethane resins, polyurea resins, polyimide resins, polyamide resins, epoxy resins, methacrylic resins, polystyrene resins, novolac phenolic resins, polyester resins, and synthetic rubbers. And natural rubber.
The binder polymer may have crosslinkability in order to improve the film strength of the image area. In order to impart crosslinkability to the binder polymer, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond may be introduced into the main chain or side chain of the polymer. The crosslinkable functional group may be introduced by copolymerization.
As the binder polymer, for example, binder polymers disclosed in paragraphs [0165] to [0172] of JP-A-2009-255434 can be used.

バインダーポリマーの含有量は、画像記録層全質量に対して、5〜90質量%が好ましく、5〜70質量%がより好ましい。   The content of the binder polymer is preferably 5 to 90% by mass and more preferably 5 to 70% by mass with respect to the total mass of the image recording layer.

(界面活性剤)
画像記録層16は、印刷開始時の機上現像性を促進させるため、および、塗布面状を向上させるために、界面活性剤を含んでいてもよい。
界面活性剤としては、ノニオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、および、フッ素系界面活性剤が挙げられる。
界面活性剤としては、例えば、特開2009-255434号公報の段落[0175]〜[0179]に開示される界面活性剤を使用できる。
(Surfactant)
The image recording layer 16 may contain a surfactant in order to promote on-press developability at the start of printing and to improve the coated surface state.
Examples of the surfactant include nonionic surfactants, anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, and fluorine-based surfactants.
As the surfactant, for example, surfactants disclosed in paragraphs [0175] to [0179] of JP-A-2009-255434 can be used.

界面活性剤の含有量は、画像記録層全質量に対して、0.001〜10質量%が好ましく、0.01〜5質量%がより好ましい。   The content of the surfactant is preferably 0.001 to 10% by mass and more preferably 0.01 to 5% by mass with respect to the total mass of the image recording layer.

画像記録層16は、さらに必要に応じて、上記以外の他の化合物を含んでいてもよい。
他の化合物としては、特開2009−255434号公報の段落[0181]〜[0190]に開示される着色剤、焼き出し剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機微粒子、および、低分子親水性化合物等が挙げられる。
また、他の化合物としては、特開2012−187907号公報の段落[0191]〜[0217]に開示される、疎水化前駆体(熱が加えられたときに画像記録層を疎水性に変換できる微粒子)、低分子親水性化合物、感脂化剤(例えば、ホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマー)、および、連鎖移動剤も挙げられる。
The image recording layer 16 may further contain other compounds than those described above, if necessary.
Examples of other compounds include colorants, bake-out agents, polymerization inhibitors, higher fatty acid derivatives, plasticizers, inorganic fine particles, and low levels disclosed in paragraphs [0181] to [0190] of JP-A-2009-255434. Examples include molecular hydrophilic compounds.
In addition, as other compounds, hydrophobized precursors disclosed in paragraphs [0191] to [0217] of JP 2012-187907 A (the image recording layer can be converted to hydrophobic when heat is applied). Fine particles), low molecular weight hydrophilic compounds, sensitizers (for example, phosphonium compounds, nitrogen-containing low molecular compounds, ammonium group-containing polymers), and chain transfer agents are also included.

<保護層>
本発明の平版印刷版原版は、画像記録層における傷等の発生防止、酸素遮断、および、高照度レーザー露光時のアブレーション防止のため、必要に応じて、画像記録層の上に保護層を含んでいてもよい。
保護層に用いられる材料としては、例えば、特開2009-255434号公報の段落[0213]〜[0227]等に記載される材料(水溶性高分子化合物、無機質の層状化合物等)が挙げられる。
<Protective layer>
The lithographic printing plate precursor according to the present invention includes a protective layer on the image recording layer as necessary in order to prevent the occurrence of scratches in the image recording layer, to block oxygen, and to prevent ablation during high-illuminance laser exposure. You may go out.
Examples of the material used for the protective layer include materials described in paragraphs [0213] to [0227] of JP2009-255434A (water-soluble polymer compounds, inorganic layered compounds, and the like).

<酸発色剤>
本発明の平版印刷版原版は、平版印刷版原版が有する一つ以上の層のうち、少なくとも一つの層が酸発色剤を含むことが好ましい。
上述した下塗り層、画像記録層、および、保護層のいずれの層が酸発色剤を含んでいてもよい。中でも、画像記録層が、酸発色剤を含むことが好ましい。
<Acid color former>
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, at least one of the one or more layers of the lithographic printing plate precursor preferably contains an acid color former.
Any of the above-described undercoat layer, image recording layer, and protective layer may contain an acid color former. Of these, the image recording layer preferably contains an acid color former.

酸発色剤とは、電子受容性化合物(例えば、酸等のプロトン)を受容した状態で加熱することにより、発色する性質を有する化合物を意味する。酸発色剤としては、ラクトン、ラクタム、サルトン、スピロピラン、エステル、または、アミド等の部分骨格を有し、電子受容性化合物と接触した時に、速やかにこれらの部分骨格が開環または開裂する無色の化合物が好ましい。   The acid color former means a compound having a property of developing color by heating in a state of accepting an electron accepting compound (for example, proton such as acid). The acid color former has a partial skeleton such as lactone, lactam, sultone, spiropyran, ester, or amide, and is a colorless that rapidly opens or cleaves these partial skeletons when contacted with an electron accepting compound. Compounds are preferred.

酸発色剤としては、3,3−ビス(4−ジメチルアミノフェニル)−6−ジメチルアミノフタリド(“クリスタルバイオレットラクトン”と称される)、3,3−ビス(4−ジメチルアミノフェニル)フタリド、3−(4−ジメチルアミノフェニル)−3−(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)−6−ジメチルアミノフタリド、3−(4−ジメチルアミノフェニル)−3−(1,2−ジメチルインドール−3−イル)フタリド、3−(4−ジメチルアミノフェニル)−3−(2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(1,2−ジメチルインドール−3−イル)−5−ジメチルアミノフタリド、3,3−ビス(1,2−ジメチルインドール−3−イル)−6−ジメチルアミノフタリド、3,3−ビス(9−エチルカルバゾール−3−イル)−6−ジメチルアミノフタリド、3,3−ビス(2−フェニルインドール−3−イル)−6−ジメチルアミノフタリド、3−(4−ジメチルアミノフェニル)−3−(1−メチルピロール−3−イル)−6−ジメチルアミノフタリド、3,3−ビス〔1,1−ビス(4−ジメチルアミノフェニル)エチレン−2−イル〕−4,5,6,7−テトラクロロフタリド、3,3−ビス〔1,1−ビス(4−ピロリジノフェニル)エチレン−2−イル〕−4,5,6,7−テトラブロモフタリド、3,3−ビス〔1−(4−ジメチルアミノフェニル)−1−(4−メトキシフェニル)エチレン−2−イル〕−4,5,6,7−テトラクロロフタリド、3,3−ビス〔1−(4−ピロリジノフェニル)−1−(4−メトキシフェニル)エチレン−2−イル〕−4,5,6,7−テトラクロロフタリド、3−〔1,1−ジ(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)エチレン−2−イル〕−3−(4−ジエチルアミノフェニル)フタリド、3−〔1,1−ジ(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)エチレン−2−イル〕−3−(4−N−エチル−N−フェニルアミノフェニル)フタリド、3−(2−エトキシ−4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−n−オクチル−2−メチルインドール−3−イル)−フタリド、3,3−ビス(1−n−オクチル−2−メチルインドール−3−イル)−フタリド、3−(2−メチル−4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−n−オクチル−2−メチルインドール−3−イル)−フタリド等のフタリド類、   Examples of the acid color former include 3,3-bis (4-dimethylaminophenyl) -6-dimethylaminophthalide (referred to as “crystal violet lactone”) and 3,3-bis (4-dimethylaminophenyl) phthalide. 3- (4-dimethylaminophenyl) -3- (4-diethylamino-2-methylphenyl) -6-dimethylaminophthalide, 3- (4-dimethylaminophenyl) -3- (1,2-dimethylindole -3-yl) phthalide, 3- (4-dimethylaminophenyl) -3- (2-methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (1,2-dimethylindol-3-yl) -5 -Dimethylaminophthalide, 3,3-bis (1,2-dimethylindol-3-yl) -6-dimethylaminophthalide, 3,3-bis (9-ethyl carbonate) Basol-3-yl) -6-dimethylaminophthalide, 3,3-bis (2-phenylindol-3-yl) -6-dimethylaminophthalide, 3- (4-dimethylaminophenyl) -3- ( 1-methylpyrrol-3-yl) -6-dimethylaminophthalide, 3,3-bis [1,1-bis (4-dimethylaminophenyl) ethylene-2-yl] -4,5,6,7- Tetrachlorophthalide, 3,3-bis [1,1-bis (4-pyrrolidinophenyl) ethylene-2-yl] -4,5,6,7-tetrabromophthalide, 3,3-bis [1 -(4-Dimethylaminophenyl) -1- (4-methoxyphenyl) ethylene-2-yl] -4,5,6,7-tetrachlorophthalide, 3,3-bis [1- (4-pyrrolidino) Phenyl) -1- (4-methoxyphene) ) Ethylene-2-yl] -4,5,6,7-tetrachlorophthalide, 3- [1,1-di (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) ethylene-2-yl] -3- (4-Diethylaminophenyl) phthalide, 3- [1,1-di (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) ethylene-2-yl] -3- (4-N-ethyl-N -Phenylaminophenyl) phthalide, 3- (2-ethoxy-4-diethylaminophenyl) -3- (1-n-octyl-2-methylindol-3-yl) -phthalide, 3,3-bis (1-n -Octyl-2-methylindol-3-yl) -phthalide, 3- (2-methyl-4-diethylaminophenyl) -3- (1-n-octyl-2-methylindol-3-yl) -phthalide, etc. Phthalides,

4,4−ビス−ジメチルアミノベンズヒドリンベンジルエーテル、N−ハロフェニル−ロイコオーラミン、N−2,4,5−トリクロロフェニルロイコオーラミン、ローダミン−B−アニリノラクタム、ローダミン−(4−ニトロアニリノ)ラクタム、ローダミン−B−(4−クロロアニリノ)ラクタム、3,7−ビス(ジエチルアミノ)−10−ベンゾイルフェノオキサジン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、4−ニトロベンゾイルメチレンブルー、   4,4-bis-dimethylaminobenzhydrin benzyl ether, N-halophenyl-leucooramine, N-2,4,5-trichlorophenylleucooramine, rhodamine-B-anilinolactam, rhodamine- (4-nitroanilino ) Lactam, rhodamine-B- (4-chloroanilino) lactam, 3,7-bis (diethylamino) -10-benzoylphenoxazine, benzoylleucomethylene blue, 4-nitrobenzoylmethylene blue,

3,6−ジメトキシフルオラン、3−ジメチルアミノ−7−メトキシフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メトキシフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−メトキシフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−クロロフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−クロロフルオラン、3−ジエチルアミノ−6,7−ジメチルフルオラン、3−N−シクロヘキシル−N−n−ブチルアミノ−7−メチルフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−ジベンジルアミノフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−オクチルアミノフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−ジ−n−ヘキシルアミノフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−アニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(2’−フルオロフェニルアミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(2’−クロロフェニルアミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(3’−クロロフェニルアミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(2’,3’−ジクロロフェニルアミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(3’−トリフルオロメチルフェニルアミノ)フルオラン、3−ジ−n−ブチルアミノ−7−(2’−フルオロフェニルアミノ)フルオラン、3−ジ−n−ブチルアミノ−7−(2’−クロロフェニルアミノ)フルオラン、3−N−イソペンチル−N−エチルアミノ−7−(2’−クロロフェニルアミノ)フルオラン、3−N−n−ヘキシル−N−エチルアミノ−7−(2’−クロロフェニルアミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−6−クロロ−7−アニリノフルオラン、3−ジ−n−ブチルアミノ−6−クロロ−7−アニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メトキシ−7−アニリノフルオラン、3−ジ−n−ブチルアミノ−6−エトキシ−7−アニリノフルオラン、3−ピロリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ピペリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−モルホリノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジメチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジ−n−ブチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジ−n−ペンチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−エチル−N−メチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−n−プロピル−N−メチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−n−プロピル−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−n−ブチル−N−メチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−n−ブチル−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−イソブチル−N−メチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−イソブチル−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−イソペンチル−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−n−ヘキシル−N−メチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−シクロヘキシル−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−シクロヘキシル−N−n−プロピルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−シクロヘキシル−N−n−ブチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−シクロヘキシル−N−n−ヘキシルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−シクロヘキシル−N−n−オクチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−(2’−メトキシエチル)−N−メチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−(2’−メトキシエチル)−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−(2’−メトキシエチル)−N−イソブチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−(2’−エトキシエチル)−N−メチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−(2’−エトキシエチル)−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−(3’−メトキシプロピル)−N−メチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−(3’−メトキシプロピル)−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−(3’−エトキシプロピル)−N−メチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−(3’−エトキシプロピル)−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−(2’−テトラヒドロフルフリル)−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N−(4’−メチルフェニル)−N−エチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−エチル−7−アニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−(3’−メチルフェニルアミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−(2’,6’−ジメチルフェニルアミノ)フルオラン、3−ジ−n−ブチルアミノ−6−メチル−7−(2’,6’−ジメチルフェニルアミノ)フルオラン、3−ジ−n−ブチルアミノ−7−(2’,6’−ジメチルフェニルアミノ)フルオラン、2,2−ビス〔4’−(3−N−シクロヘキシル−N−メチルアミノ−6−メチルフルオラン)−7−イルアミノフェニル〕プロパン、3−〔4’−(4−フェニルアミノフェニル)アミノフェニル〕アミノ−6−メチル−7−クロロフルオラン、3−〔4’−(ジメチルアミノフェニル)〕アミノ−5,7−ジメチルフルオラン等のフルオラン類、   3,6-dimethoxyfluorane, 3-dimethylamino-7-methoxyfluorane, 3-diethylamino-6-methoxyfluorane, 3-diethylamino-7-methoxyfluorane, 3-diethylamino-7-chlorofluorane, 3 -Diethylamino-6-methyl-7-chlorofluorane, 3-diethylamino-6,7-dimethylfluorane, 3-N-cyclohexyl-Nn-butylamino-7-methylfluorane, 3-diethylamino-7- Dibenzylaminofluorane, 3-diethylamino-7-octylaminofluorane, 3-diethylamino-7-di-n-hexylaminofluorane, 3-diethylamino-7-anilinofluorane, 3-diethylamino-7- ( 2'-fluorophenylamino) fluorane, 3-diethylamino- -(2'-chlorophenylamino) fluorane, 3-diethylamino-7- (3'-chlorophenylamino) fluorane, 3-diethylamino-7- (2 ', 3'-dichlorophenylamino) fluorane, 3-diethylamino-7- ( 3'-trifluoromethylphenylamino) fluorane, 3-di-n-butylamino-7- (2'-fluorophenylamino) fluorane, 3-di-n-butylamino-7- (2'-chlorophenylamino) Fluorane, 3-N-isopentyl-N-ethylamino-7- (2′-chlorophenylamino) fluorane, 3-Nn-hexyl-N-ethylamino-7- (2′-chlorophenylamino) fluorane, 3- Diethylamino-6-chloro-7-anilinofluorane, 3-di-n-butylamino-6 Chloro-7-anilinofluorane, 3-diethylamino-6-methoxy-7-anilinofluorane, 3-di-n-butylamino-6-ethoxy-7-anilinofluorane, 3-pyrrolidino-6 Methyl-7-anilinofluorane, 3-piperidino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-morpholino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-dimethylamino-6-methyl-7- Anilinofluorane, 3-diethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-di-n-butylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-di-n-pentylamino-6 -Methyl-7-anilinofluorane, 3-N-ethyl-N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-Nn-propyl-N-methylamino-6-methyl 7-anilinofluorane, 3-Nn-propyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-Nn-butyl-N-methylamino-6-methyl- 7-anilinofluorane, 3-Nn-butyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-isobutyl-N-methylamino-6-methyl-7-anilino Fluorane, 3-N-isobutyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-isopentyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N -N-hexyl-N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-cyclohexyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-cyclohexyl-N -N-Pro Ruamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-cyclohexyl-Nn-butylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-cyclohexyl-Nn-hexylamino- 6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-cyclohexyl-Nn-octylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (2′-methoxyethyl) -N-methyl Amino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (2′-methoxyethyl) -N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (2′-methoxy) Ethyl) -N-isobutylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (2′-ethoxyethyl) -N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N -(2 -Ethoxyethyl) -N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (3'-methoxypropyl) -N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3 -N- (3'-methoxypropyl) -N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (3'-ethoxypropyl) -N-methylamino-6-methyl-7- Anilinofluorane, 3-N- (3′-ethoxypropyl) -N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (2′-tetrahydrofurfuryl) -N-ethylamino -6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (4'-methylphenyl) -N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-diethylamino-6-ethyl-7- Anilinofull Oran, 3-diethylamino-6-methyl-7- (3′-methylphenylamino) fluorane, 3-diethylamino-6-methyl-7- (2 ′, 6′-dimethylphenylamino) fluorane, 3-di-n -Butylamino-6-methyl-7- (2 ', 6'-dimethylphenylamino) fluorane, 3-di-n-butylamino-7- (2', 6'-dimethylphenylamino) fluorane, 2,2 -Bis [4 '-(3-N-cyclohexyl-N-methylamino-6-methylfluorane) -7-ylaminophenyl] propane, 3- [4'-(4-phenylaminophenyl) aminophenyl] amino Fluorans such as -6-methyl-7-chlorofluorane and 3- [4 '-(dimethylaminophenyl)] amino-5,7-dimethylfluorane;

3−(2−メチル−4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−アザフタリド、3−(2−n−プロポキシカルボニルアミノ−4−ジ−n−プロピルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−アザフタリド、3−(2−メチルアミノ−4−ジ−n−プロピルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−アザフタリド、3−(2−メチル−4−ジn−ヘキシルアミノフェニル)−3−(1−n−オクチル−2−メチルインドール−3−イル)−4,7−ジアザフタリド、3,3−ビス(2−エトキシ−4−ジエチルアミノフェニル)−4−アザフタリド、3,3−ビス(1−n−オクチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−アザフタリド、3−(2−エトキシ−4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−アザフタリド、3−(2−エトキシ−4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−オクチル−2−メチルインドール−3−イル)−4または7−アザフタリド、3−(2−エトキシ−4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4または7−アザフタリド、3−(2−ヘキシルオキシ−4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4または7−アザフタリド、3−(2−エトキシ−4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−フェニルインドール−3−イル)−4または7−アザフタリド、3−(2−ブトキシ−4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−フェニルインドール−3−イル)−4または7−アザフタリド3−メチル−スピロ−ジナフトピラン、3−エチル−スピロ−ジナフトピラン、3−フェニル−スピロ−ジナフトピラン、3−ベンジル−スピロ−ジナフトピラン、3−メチル−ナフト−(3−メトキシベンゾ)スピロピラン、3−プロピル−スピロ−ジベンゾピラン−3,6−ビス(ジメチルアミノ)フルオレン−9−スピロ−3’−(6’−ジメチルアミノ)フタリド、3,6−ビス(ジエチルアミノ)フルオレン−9−スピロ−3’−(6’−ジメチルアミノ)フタリド等のフタリド類、   3- (2-Methyl-4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) -4-azaphthalide, 3- (2-n-propoxycarbonylamino-4-di-n) -Propylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) -4-azaphthalide, 3- (2-methylamino-4-di-n-propylaminophenyl) -3- (1 -Ethyl-2-methylindol-3-yl) -4-azaphthalide, 3- (2-methyl-4-di-n-hexylaminophenyl) -3- (1-n-octyl-2-methylindole-3- Yl) -4,7-diazaphthalide, 3,3-bis (2-ethoxy-4-diethylaminophenyl) -4-azaphthalide, 3,3-bis (1-n-octyl-2-methylindole- -Yl) -4-azaphthalide, 3- (2-ethoxy-4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) -4-azaphthalide, 3- (2-ethoxy-4) -Diethylaminophenyl) -3- (1-octyl-2-methylindol-3-yl) -4 or 7-azaphthalide, 3- (2-ethoxy-4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2- Methylindol-3-yl) -4 or 7-azaphthalide, 3- (2-hexyloxy-4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) -4 or 7-azaphthalide 3- (2-Ethoxy-4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-phenylindol-3-yl) -4 or 7-azaphthal 3- (2-butoxy-4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-phenylindol-3-yl) -4 or 7-azaphthalide 3-methyl-spiro-dinaphthopyran, 3-ethyl-spiro -Dinaphthopyran, 3-phenyl-spiro-dinaphthopyran, 3-benzyl-spiro-dinaphthopyran, 3-methyl-naphtho- (3-methoxybenzo) spiropyran, 3-propyl-spiro-dibenzopyran-3,6-bis (dimethylamino) ) Phthalides such as fluorene-9-spiro-3 ′-(6′-dimethylamino) phthalide, 3,6-bis (diethylamino) fluorene-9-spiro-3 ′-(6′-dimethylamino) phthalide,

その他、2’−アニリノ−6’−(N−エチル−N−イソペンチル)アミノ−3’−メチルスピロ[イソベンゾフラン−1(3H),9’−(9H)キサンテン−3−オン、2’−アニリノ−6’−(N−エチル−N−(4−メチルフェニル))アミノ−3’−メチルスピロ[イソベンゾフラン−1(3H),9’−(9H)キサンテン]−3−オン、3’−N,N−ジベンジルアミノ−6’−N,N−ジエチルアミノスピロ[イソベンゾフラン−1(3H),9’−(9H)キサンテン]−3−オン、2’−(N−メチル−N−フェニル)アミノ−6’−(N−エチル−N−(4−メチルフェニル))アミノスピロ[イソベンゾフラン−1(3H),9’−(9H)キサンテン]−3−オン等が挙げられる。   Others 2'-anilino-6 '-(N-ethyl-N-isopentyl) amino-3'-methylspiro [isobenzofuran-1 (3H), 9'-(9H) xanthen-3-one, 2'-anilino -6 '-(N-ethyl-N- (4-methylphenyl)) amino-3'-methylspiro [isobenzofuran-1 (3H), 9'-(9H) xanthen] -3-one, 3'-N , N-dibenzylamino-6′-N, N-diethylaminospiro [isobenzofuran-1 (3H), 9 ′-(9H) xanthen] -3-one, 2 ′-(N-methyl-N-phenyl) Examples include amino-6 ′-(N-ethyl-N- (4-methylphenyl)) aminospiro [isobenzofuran-1 (3H), 9 ′-(9H) xanthen] -3-one.

中でも、酸発色剤としては、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、スピロラクトン化合物、および、スピロラクタム化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物であることが好ましい。
発色後の色素の色相としては、可視性の点から、緑、青または黒であることが好ましい。
Among them, the acid color former is preferably at least one compound selected from the group consisting of spiropyran compounds, spirooxazine compounds, spirolactone compounds, and spirolactam compounds.
The hue of the dye after color development is preferably green, blue or black from the viewpoint of visibility.

酸発色剤としては上市されている製品を使用することも可能であり、ETAC、RED500、RED520、CVL、S−205、BLACK305、BLACK400、BLACK100、BLACK500、H−7001、GREEN300、NIRBLACK78、BLUE220、H−3035、BLUE203、ATP、H−1046、H−2114(以上、福井山田化学工業(株)製)、ORANGE−DCF、Vermilion−DCF、PINK−DCF、RED−DCF、BLMB、CVL、GREEN−DCF、TH−107(以上、保土ヶ谷化学(株)製)、ODB、ODB−2、ODB−4、ODB−250、ODB−BlackXV、Blue−63、Blue−502、GN−169、GN−2、Green−118、Red−40、Red−8(以上、山本化成(株)製)、および、クリスタルバイオレットラクトン(東京化成品工業(株)製)等が挙げられる。これらの市販品の中でも、ETAC、S−205、BLACK305、BLACK400、BLACK100、BLACK500、H−7001、GREEN300、NIRBLACK78、H−3035、ATP、H−1046、H−2114、GREEN−DCF、Blue−63、GN−169、または、クリスタルバイオレットラクトンが、形成される膜の可視光吸収率が良好のため好ましい。   It is also possible to use commercially available products as acid color formers, such as ETAC, RED500, RED520, CVL, S-205, BLACK305, BLACK400, BLACK100, BLACK500, H-7001, GREEN300, NIRBLACK78, BLUE220, H -3035, BLUE203, ATP, H-1046, H-2114 (Fukui Yamada Chemical Co., Ltd.), ORANGE-DCF, Vermilion-DCF, PINK-DCF, RED-DCF, BLMB, CVL, GREEN-DCF TH-107 (above, manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), ODB, ODB-2, ODB-4, ODB-250, ODB-BlackXV, Blue-63, Blue-502, GN-169, GN-2, Green -118, Red-40, Red-8 (manufactured by Yamamoto Chemicals Co., Ltd.), and, crystal violet lactone (manufactured by Tokyo Chemicals Industry Co., Ltd.), and the like. Among these commercial products, ETAC, S-205, BLACK305, BLACK400, BLACK100, BLACK500, H-7001, GREEN300, NIRBLACK78, H-3035, ATP, H-1046, H-2114, GREEN-DCF, Blue-63 , GN-169, or crystal violet lactone is preferable because the formed film has a good visible light absorption rate.

これらの酸発色剤は、1種単独で用いてもよいし、2種類以上の成分を組み合わせて使用することもできる。   These acid color formers may be used alone or in combination of two or more components.

<平版印刷版原版の製造方法>
上述した平版印刷版原版は、公知の方法を組み合わせて製造できる。
まず、上述したアルミニウム支持体は、以下の工程を順番に実施する製造方法が好ましい。
(粗面化処理工程)アルミニウム板に粗面化処理を施す工程
(第1陽極酸化処理工程)粗面化処理されたアルミニウム板を陽極酸化する工程
(ポアワイド処理工程)第1陽極酸化処理工程で得られた陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板を、酸水溶液またはアルカリ水溶液に接触させ、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させる工程
(第2陽極酸化処理工程)ポアワイド処理工程で得られたアルミニウム板を陽極酸化する工程
上記各工程を含むアルミニウム支持体の製造方法の詳細は、特開2012−158022号公報の段落[0044]〜[0094]に記載を参照できる。
<Method for producing planographic printing plate precursor>
The lithographic printing plate precursor described above can be produced by combining known methods.
First, the above-described aluminum support is preferably a manufacturing method in which the following steps are performed in order.
(Roughening treatment step) A step of roughening the aluminum plate (first anodizing step) A step of anodizing the roughened aluminum plate (pore wide treatment step) In the first anodizing step The obtained aluminum plate having an anodized film is brought into contact with an acid aqueous solution or an alkali aqueous solution to increase the diameter of the micropores in the anodized film (second anodizing process). Step of Anodizing Plate The details of the method for producing an aluminum support including the above steps can be found in paragraphs [0044] to [0094] of JP 2012-158022.

下塗り層の製造方法は特に制限されず、例えば、ベタイン構造を有する化合物を含む下塗り層形成用塗布液をアルミニウム支持体の陽極酸化皮膜上に塗布する方法が挙げられる。
下塗り層形成用塗布液には、溶媒が含まれることが好ましい。溶媒としては、水または有機溶媒が挙げられる。
下塗り層形成用塗布液の塗布方法としては、公知の種々の方法が挙げられる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアナイフ塗布、ブレード塗布、および、ロール塗布が挙げられる。
下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1〜100mg/mが好ましく、1〜50mg/mがより好ましい。
The method for producing the undercoat layer is not particularly limited, and examples thereof include a method of applying a coating solution for forming an undercoat layer containing a compound having a betaine structure onto the anodized film of the aluminum support.
The undercoat layer forming coating solution preferably contains a solvent. Examples of the solvent include water or an organic solvent.
As a coating method of the coating liquid for forming the undercoat layer, various known methods can be mentioned. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.
The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably from 0.1~100mg / m 2, 1~50mg / m 2 is more preferable.

画像記録層の製造方法は特に制限されず、例えば、所定の成分(上述した、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物等)を含む画像記録層形成用塗布液を下塗り層上に塗布する方法が挙げられる。
画像記録層形成用塗布液には、溶媒が含まれることが好ましい。溶媒としては、水または有機溶媒が挙げられる。
画像記録層形成用塗布液の塗布方法は、下塗り層形成用塗布液の塗布方法として例示した方法が挙げられる。
画像記録層の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.3〜3.0g/mが好ましい。
The method for producing the image recording layer is not particularly limited. For example, an image recording layer forming coating solution containing predetermined components (the above-described infrared absorber, polymerization initiator, polymerizable compound, etc.) is applied onto the undercoat layer. A method is mentioned.
The image recording layer forming coating solution preferably contains a solvent. Examples of the solvent include water or an organic solvent.
Examples of the method for applying the image recording layer forming coating solution include the methods exemplified as the method for applying the undercoat layer forming coating solution.
The coating amount (solid content) of the image recording layer varies depending on the use, but generally 0.3 to 3.0 g / m 2 is preferable.

保護層の製造方法は特に制限されず、例えば、所定の成分を含む保護層形成用塗布液を画像記録層の上に塗布する方法が挙げられる。
保護層形成用塗布液には、溶媒が含まれることが好ましい。溶媒としては、水または有機溶媒が挙げられる。
画像記録層形成用塗布液の塗布方法は、下塗り層形成用塗布液の塗布方法として例示した方法が挙げられる。
保護層の塗布量は、乾燥後の塗布量で、0.01〜10g/mが好ましく、0.02〜3g/mがより好ましい。
The method for producing the protective layer is not particularly limited, and examples thereof include a method of coating a protective layer-forming coating solution containing a predetermined component on the image recording layer.
The protective layer-forming coating solution preferably contains a solvent. Examples of the solvent include water or an organic solvent.
Examples of the method for applying the image recording layer forming coating solution include the methods exemplified as the method for applying the undercoat layer forming coating solution.
The coating amount of the protective layer is a coating amount after drying is preferably 0.01~10g / m 2, 0.02~3g / m 2 is more preferable.

上記においては下塗り層がベタイン構造を含む化合物を含む態様について述べたが、下塗り層がポリビニルホスホン酸を含む態様で合ってもよい。
ポリビニルホスホン酸を含む下塗り層の製造方法は特に制限されず、例えば、アルミニウム支持体をアルカリ金属珪酸塩水溶液で処理した後に、ポリビニルホスホン酸水溶液有する不飽和酸の重合体の水溶液で処理する方法が挙げられる。
このアルカリ金属珪酸塩水溶液による処理によって、アルミニウム支持体の陽極酸化皮膜上にシリケートを修飾させることができる。次いで、ポリビニルホスホン酸水溶液による処理によって、ポリビニルホスホン酸を修飾させることができる。
In the above description, the embodiment in which the undercoat layer contains a compound containing a betaine structure has been described, but the undercoat layer may be combined in an embodiment containing polyvinylphosphonic acid.
The method for producing the undercoat layer containing polyvinyl phosphonic acid is not particularly limited. For example, there is a method of treating an aluminum support with an aqueous solution of an alkali metal silicate and then treating with an aqueous solution of an unsaturated acid polymer having an aqueous polyvinyl phosphonic acid solution. Can be mentioned.
By the treatment with the alkali metal silicate aqueous solution, the silicate can be modified on the anodized film of the aluminum support. Next, the polyvinylphosphonic acid can be modified by treatment with an aqueous polyvinylphosphonic acid solution.

ここで、アルカリ金属珪酸塩水溶液による処理とは、アルミニウム支持体をアルカリ金属珪酸塩水溶液に所定時間浸漬させることをいう。アルカリ金属珪酸塩水溶液による処理において、好ましい処理時間としては、1秒〜2分、より好ましくは5秒〜40秒であり、好ましいアルカリ金属珪酸塩水溶液の温度は、40〜90℃、より好ましい温度は50〜80℃であり、好ましいアルカリ金属珪酸塩水溶液濃度は、1g/l〜50g/l、より好ましくは5g/l〜30g/lである。
また、ポリビニルホスホン酸水溶液で処理とは、アルミニウム支持体をポリビニルホスホン酸水溶液不飽和酸の重合体の水溶液に所定時間浸漬させることをいう。ポリビニルホスホン酸水溶液で処理において、好ましい処理時間としては、5秒〜2分、より好ましくは10秒〜1分であり、好ましいポリビニルホスホン酸水溶液の水溶液温度は、40〜80℃、より好ましくは50〜75℃であり、好ましいポリビニルホスホン酸水溶液濃度は、0.1g/l〜10g/l、より好ましくは0.2〜5g/lである。また、ポリビニルホスホン酸水溶液は、例えば、硫酸およびリン酸等の酸の添加によって、pHが2.0〜4.5に調整されていることが好ましく、2.5〜3.5に調整されていることがより好ましい。これら重合体の水溶液のpHは、無機酸の添加によって調整されていることが好ましい。
Here, the treatment with the alkali metal silicate aqueous solution means that the aluminum support is immersed in the alkali metal silicate aqueous solution for a predetermined time. In the treatment with the alkali metal silicate aqueous solution, the preferred treatment time is 1 second to 2 minutes, more preferably 5 seconds to 40 seconds, and the preferred temperature of the alkali metal silicate aqueous solution is 40 to 90 ° C., more preferred temperature. Is 50 to 80 ° C., and the preferred alkali metal silicate aqueous solution concentration is 1 g / l to 50 g / l, more preferably 5 g / l to 30 g / l.
The treatment with the aqueous solution of polyvinylphosphonic acid refers to immersing the aluminum support in an aqueous solution of an unsaturated acid polymer of polyvinylphosphonic acid aqueous solution for a predetermined time. In the treatment with the aqueous polyvinylphosphonic acid solution, the preferred treatment time is 5 seconds to 2 minutes, more preferably 10 seconds to 1 minute, and the preferred aqueous solution temperature of the polyvinylphosphonic acid aqueous solution is 40 to 80 ° C., more preferably 50 It is -75 degreeC, and the preferable polyvinylphosphonic acid aqueous solution density | concentration is 0.1 g / l-10 g / l, More preferably, it is 0.2-5 g / l. Moreover, it is preferable that pH of the polyvinylphosphonic acid aqueous solution is adjusted to 2.0-4.5, for example by addition of acids, such as a sulfuric acid and phosphoric acid, and is adjusted to 2.5-3.5. More preferably. The pH of the aqueous solution of these polymers is preferably adjusted by adding an inorganic acid.

アルミニウム支持体の処理に使用されるアルカリ金属珪酸塩としては、例えば、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、および、珪酸リチウムなどが挙げられる。
また、ポリビニルホスホン酸は、ビニルホスホン酸の単独重合体であってもよいし、他の単量体が共重合した共重合体であってもよい。他の単量体としては、例えば、(メタ)アクリル酸などのカルボキシル基を有する不飽和酸、(メタ)アクリルアミド、酢酸ビニル、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリロニトリル、および、スチレンなどが挙げられる。
Examples of the alkali metal silicate used for the treatment of the aluminum support include sodium silicate, potassium silicate, and lithium silicate.
Polyvinylphosphonic acid may be a homopolymer of vinylphosphonic acid or a copolymer obtained by copolymerizing other monomers. Examples of other monomers include unsaturated acids having a carboxyl group such as (meth) acrylic acid, (meth) acrylamide, vinyl acetate, methyl (meth) acrylate, (meth) acrylonitrile, and styrene. Can be mentioned.

ポリビニルホスホン酸を含む下塗り層を形成する具体的な製造方法としては、例えば、アルカリ金属珪酸塩水溶液に浸漬して処理した後、65℃の温水でリンスし、次いで水洗する。次いで、これを、ビニルホスホン酸:メタクリル酸のモル比が2:8、質量平均分子量が5万〜10万、pHが約3.2のポリビニルホスホン酸の水溶液に浸漬して処理し、最後に水洗する方法などが好適に挙げられる。   As a specific manufacturing method for forming an undercoat layer containing polyvinylphosphonic acid, for example, it is immersed in an alkali metal silicate aqueous solution, treated, rinsed with warm water at 65 ° C., and then washed with water. This was then treated by immersing it in an aqueous solution of polyvinylphosphonic acid having a vinylphosphonic acid: methacrylic acid molar ratio of 2: 8, a weight average molecular weight of 50,000 to 100,000, and a pH of about 3.2. A method of washing with water is preferred.

<平版印刷版の製造方法>
次に、平版印刷版原版を用いて平版印刷版を製造する方法について記載する。
平版印刷版の製造方法は、通常、平版印刷版原版を画像様に露光(画像露光)し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、画像様露光された平版印刷版原版の未露光部を除去する工程とを有する。
より具体的には、平版印刷版の製造方法の一つの態様は、平版印刷版原版を画像様に露光(画像露光)し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、pH2〜12の現像液により平版印刷版原版の未露光部を除去する除去工程と、を含む平版印刷版の製造方法が挙げられる。
また、平版印刷版の製造方法の他の一つの態様は、平版印刷版原版を画像様に露光(画像露光)し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、印刷インキおよび湿し水の少なくとも一方を供給して、印刷機上で画像様露光された平版印刷版原版の未露光部を除去する機上現像工程と、を含む平版印刷版の製造方法が挙げられる。
以下、これらの態様について詳述する。
<Method for producing planographic printing plate>
Next, a method for producing a lithographic printing plate using a lithographic printing plate precursor will be described.
In general, a lithographic printing plate is produced by exposing the lithographic printing plate precursor imagewise (image exposure) to form an exposed portion and an unexposed portion; And a step of removing the exposed portion.
More specifically, one embodiment of the method for producing a lithographic printing plate comprises an exposure step of exposing the lithographic printing plate precursor imagewise (image exposure) to form an exposed portion and an unexposed portion, and pH 2-12. And a removing step of removing an unexposed portion of the lithographic printing plate precursor with the developer of lithographic printing plate.
Another aspect of the method for producing a lithographic printing plate is an exposure process in which a lithographic printing plate precursor is exposed imagewise (image exposure) to form an exposed area and an unexposed area, and printing ink and dampening are used. An on-press development process for supplying at least one of water and removing an unexposed portion of the lithographic printing plate precursor imagewise exposed on the printing press.
Hereinafter, these aspects will be described in detail.

平版印刷版の製造方法は、上記平版印刷版原版を、画像様に露光(画像露光)する工程を含む。画像露光は、例えば、線画像または網点画像を有する透明原画を通したレーザー露光、または、デジタルデータによるレーザー光走査で行われる。
光源の波長は、750〜1400nmが好ましい。波長750〜1400nmの光を出射する光源の場合は、この波長領域に吸収を有する増感色素である赤外線吸収剤を画像記録層に含有する平版印刷版原版が好ましく用いられる。
波長750〜1400nmの光を出射する光源としては、赤外線を放射する固体レーザーおよび半導体レーザーが挙げられる。赤外線レーザーに関しては、出力は100mW以上が好ましく、1画素当たりの露光時間は20マイクロ秒以内が好ましく、照射エネルギー量は10〜300mJ/cmが好ましい。また、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いることが好ましい。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、および、フラットベッド方式のいずれでもよい。
画像露光は、プレートセッター等を用いて常法により行うことができる。なお、後述する機上現像方式の場合には、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で平版印刷版原版の画像露光を行ってもよい。
The method for producing a lithographic printing plate includes a step of imagewise exposing (image exposing) the lithographic printing plate precursor. Image exposure is performed, for example, by laser exposure through a transparent original having a line image or a halftone dot image, or by laser light scanning with digital data.
The wavelength of the light source is preferably 750 to 1400 nm. In the case of a light source that emits light having a wavelength of 750 to 1400 nm, a lithographic printing plate precursor containing an infrared absorbent, which is a sensitizing dye having absorption in this wavelength region, in the image recording layer is preferably used.
Examples of the light source that emits light having a wavelength of 750 to 1400 nm include a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared light. Regarding the infrared laser, the output is preferably 100 mW or more, the exposure time per pixel is preferably within 20 microseconds, and the irradiation energy amount is preferably 10 to 300 mJ / cm 2 . In order to shorten the exposure time, it is preferable to use a multi-beam laser device. The exposure mechanism may be any of an internal drum system, an external drum system, and a flat bed system.
Image exposure can be performed by a conventional method using a plate setter or the like. In the case of the on-press development method described later, the lithographic printing plate precursor may be subjected to image exposure on the printing machine after the lithographic printing plate precursor is mounted on the printing machine.

画像露光された平版印刷版原版は、pH2〜12の現像液により未露光部を除去する方式(現像液処理方式)、または、印刷機上で印刷インキおよび湿し水の少なくとも一方により未露光部分を除去する方式(機上現像方式)で現像処理される。   An image-exposed lithographic printing plate precursor is a non-exposed portion by removing a non-exposed portion with a developer having a pH of 2 to 12 (developer processing method) or at least one of printing ink and dampening water on a printing press. The development process is carried out by a method for removing the toner (on-machine development method).

(現像液処理方式)
現像液処理方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、pHが2〜14の現像液により処理され、非露光部の画像記録層が除去されて平版印刷版が製造される。
現像液としては、リン酸基、ホスホン酸基およびホスフィン酸基よりなる群から選ばれる少なくとも1つ以上の酸基と、1つ以上のカルボキシル基とを有する化合物(特定化合物)を含み、pHが5〜10である現像液が好ましい。
以下、現像液の各成分の詳細を説明する。
(Developer processing method)
In the developer processing method, the image-exposed lithographic printing plate precursor is processed with a developer having a pH of 2 to 14, and the image recording layer in the non-exposed area is removed to produce a lithographic printing plate.
The developer includes a compound (specific compound) having at least one acid group selected from the group consisting of a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, and a phosphinic acid group, and one or more carboxyl groups, and has a pH of Developers that are 5-10 are preferred.
Details of each component of the developer will be described below.

特定化合物は、親水性支持体に対して吸着性のあるリン酸基、ホスホン酸基およびホスフィン酸基よりなる群から選ばれる少なくとも1つ以上の酸基と、さらに親水性のカルボキシル基とを有することで平版印刷版の表面を親水化して耐汚れ性、特に耐キズ汚れ性を良化すると考えられる。
特定化合物は、リン酸基またはホスホン酸基を有することが好ましい。
特定化合物におけるリン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基およびカルボキシル基は、カリウムイオンおよびナトリウムイオン等の一価の金属イオンの他、カルシウムイオンおよびマグネシウムイオン等の二価の金属イオン、または、アンモニウムイオン等と塩を形成していてもよい。
The specific compound has at least one acid group selected from the group consisting of a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, and a phosphinic acid group that are adsorbable to a hydrophilic support, and further has a hydrophilic carboxyl group. Thus, it is considered that the surface of the lithographic printing plate is made hydrophilic to improve the stain resistance, particularly the scratch resistance.
The specific compound preferably has a phosphoric acid group or a phosphonic acid group.
Phosphoric acid group, phosphonic acid group, phosphinic acid group and carboxyl group in specific compounds are divalent metal ions such as calcium ion and magnesium ion, as well as monovalent metal ions such as potassium ion and sodium ion, or ammonium A salt may be formed with ions or the like.

特定化合物におけるリン酸基、ホスホン酸基およびホスフィン酸基の総数は、耐キズ汚れ性の点から、1〜4が好ましく、1〜3がより好ましく、1または2がさらに好ましく、1が特に好ましい。
特定化合物におけるカルボキシル基の総数は、耐キズ汚れ性の点から、1〜10が好ましく、2〜10がより好ましく、3〜6がさらに好ましく、3または4が特に好ましい。
特定化合物の総炭素数は、耐キズ汚れ性の点から、3〜50が好ましく、3〜20がより好ましく、4〜12がさらに好ましく、5〜10が特に好ましい。
また、特定化合物は、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基およびカルボキシル基以外の部分が、炭素原子、水素原子、および、必要に応じて、酸素原子からなることが好ましい。
The total number of phosphoric acid groups, phosphonic acid groups and phosphinic acid groups in the specific compound is preferably 1 to 4, more preferably 1 to 3, still more preferably 1 or 2, and particularly preferably 1 from the viewpoint of scratch resistance. .
The total number of carboxyl groups in the specific compound is preferably 1 to 10, more preferably 2 to 10, more preferably 3 to 6, and particularly preferably 3 or 4 from the viewpoint of scratch resistance.
The total carbon number of the specific compound is preferably from 3 to 50, more preferably from 3 to 20, still more preferably from 4 to 12, and particularly preferably from 5 to 10 from the viewpoint of scratch resistance.
Moreover, as for a specific compound, it is preferable that parts other than a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, a phosphinic acid group, and a carboxyl group consist of a carbon atom, a hydrogen atom, and an oxygen atom as needed.

特定化合物は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
特定化合物の含有量は、現像液の全質量に対し、0.1〜10質量%が好ましく、0.3〜8質量%がより好ましく、0.5〜6質量%がさらに好ましい。上記範囲であると、耐キズ汚れ性により優れ、また、得られる平版印刷版の着肉性に優れる。
特定化合物の分子量は、1,000以下が好ましく、600以下がより好ましく、150〜500がさらに好ましい。上記範囲であると、現像液の粘度が適度であり、自動現像機を用いる場合において、現像液成分の自動現像機のローラーへの堆積を抑制し、ローラー汚れを抑制できる。
A specific compound may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
0.1-10 mass% is preferable with respect to the total mass of a developing solution, as for content of a specific compound, 0.3-8 mass% is more preferable, and 0.5-6 mass% is further more preferable. When the content is in the above range, scratch resistance is excellent, and the resulting lithographic printing plate is excellent in fleshing property.
The molecular weight of the specific compound is preferably 1,000 or less, more preferably 600 or less, and even more preferably 150 to 500. When the viscosity is within the above range, the viscosity of the developer is moderate, and when an automatic processor is used, deposition of developer components on the roller of the automatic developer can be suppressed, and roller contamination can be suppressed.

特定化合物として好ましい具体例としては、例えば、以下が挙げられる。   Specific examples preferable as the specific compound include the following.

現像液は、アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、および、ベタイン界面活性剤等の界面活性剤を含んでいてもよい。
中でも、上記現像液は、耐キズ汚れ性および着肉性の点から、アニオン性界面活性剤およびノニオン性界面活性剤よりなる群から選ばれた少なくとも1種を含むことが好ましく、アニオン性界面活性剤およびノニオン性界面活性剤を含むことがより好ましい。
The developer may contain a surfactant such as an anionic surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, and a betaine surfactant.
Among them, the developer preferably contains at least one selected from the group consisting of an anionic surfactant and a nonionic surfactant from the viewpoint of scratch resistance and wear resistance. It is more preferable that an agent and a nonionic surfactant are included.

アニオン性界面活性剤として、下記式(I)で表される化合物が好ましい。
−Y−X (I)
式(I)中、Rは置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、または、アリール基を表す。
アルキル基としては、例えば、炭素数1〜20のアルキル基が好ましい。
シクロアルキル基としては、単環型でもよく、多環型でもよい。単環型としては、炭素数3〜8の単環型シクロアルキル基が好ましい。多環型としては、例えば、アダマンチル基、ノルボルニル基、イソボロニル基、カンファニル基、ジシクロペンチル基、α−ピネル基、または、トリシクロデカニル基が好ましい。
アルケニル基としては、例えば、炭素数2〜20のアルケニル基が好ましい。
アラルキル基としては、例えば、炭素数7〜12のアラルキル基が好ましい。
アリール基としては、例えば、炭素数6〜15のアリール基が好ましい。
As the anionic surfactant, a compound represented by the following formula (I) is preferable.
R 1 -Y 1 -X 1 (I)
In Formula (I), R 1 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, or an aryl group, which may have a substituent.
As an alkyl group, a C1-C20 alkyl group is preferable, for example.
The cycloalkyl group may be monocyclic or polycyclic. As the monocyclic type, a monocyclic cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms is preferable. As the polycyclic type, for example, an adamantyl group, a norbornyl group, an isobornyl group, a camphanyl group, a dicyclopentyl group, an α-pinel group, or a tricyclodecanyl group is preferable.
As the alkenyl group, for example, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms is preferable.
As the aralkyl group, for example, an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms is preferable.
As the aryl group, for example, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms is preferable.

また、置換基としては、水素原子を除く一価の非金属原子団が用いられ、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アミド基、エステル基、アシロキシ基、カルボキシル基、カルボン酸アニオン基、および、スルホン酸アニオン基が挙げられる。   In addition, as the substituent, a monovalent nonmetallic atomic group excluding a hydrogen atom is used, and a halogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyl group, an amide group, an ester group, an acyloxy group, a carboxyl group, Examples thereof include a carboxylic acid anion group and a sulfonic acid anion group.

は、スルホン酸塩基、硫酸モノエステル塩基、カルボン酸塩基、または、リン酸塩基を表す。
は、単結合、−C2n−、−Cn−m2(n−m)OC2m−、−O−(CHCHO)−、−O−(CHCHCHO)−、−CO−NH−、または、これらの2以上の組み合わせからなる二価の連結基を表し、n≧1、n≧m≧0である。
X 1 represents a sulfonate group, a monoester sulfate, a carboxylate group, or a phosphate group.
Y 1 is a single bond, —C n H 2n —, —C nm H 2 (nm) OC m H 2m —, —O— (CH 2 CH 2 O) n —, —O— (CH 2 CH 2 CH 2 O) n —, —CO—NH—, or a divalent linking group composed of a combination of two or more thereof, where n ≧ 1 and n ≧ m ≧ 0.

式(I)で表される化合物としては、耐キズ汚れ性の点から、下記式(I−A)または式(I−B)で表される化合物が好ましい。   The compound represented by the formula (I) is preferably a compound represented by the following formula (IA) or (IB) from the viewpoint of scratch resistance.

式(I−A)および式(I−B)中、RA1〜RA10は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表し、nAは1〜3の整数を表し、XA1およびXA2は、それぞれ独立に、スルホン酸塩基、硫酸モノエステル塩基、カルボン酸塩基またはリン酸塩基を表し、YA1およびYA2は、それぞれ独立に、単結合、−C2n−、−Cn−m2(n−m)OC2m−、−O−(CHCHO)−、−O−(CHCHCHO)−、−CO−NH−、又は、これらを2以上組み合わせた二価の連結基を表し、n≧1およびn≧m≧0を満たし、RA1〜RA5またはRA6〜RA10中、および、YA1またはYA2中の炭素数の総和は3以上である。 In formula (IA) and formula (IB), R A1 to R A10 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group, nA represents an integer of 1 to 3, and X A1 and X A2 represent Each independently represents a sulfonate group, a sulfate monoester base, a carboxylate group or a phosphate group, and Y A1 and Y A2 each independently represent a single bond, —C n H 2n —, —C n-m H 2 (n-m) OC m H 2m -, - O- (CH 2 CH 2 O) n -, - O- (CH 2 CH 2 CH 2 O) n -, - CO-NH-, or they Represents a divalent linking group in which two or more are combined, satisfying n ≧ 1 and n ≧ m ≧ 0, and the number of carbon atoms in R A1 to R A5 or R A6 to R A10 and in Y A1 or Y A2 The sum is 3 or more.

上記式(I−A)または式(I−B)で表される化合物における、RA1〜RA5およびY1A、または、RA6〜RA10およびYA2の総炭素数は、25以下が好ましく、4〜20がより好ましい。上述したアルキル基の構造は、直鎖であってもよく、分岐鎖であってもよい。
式(I−A)または式(I−B)で表される化合物におけるXA1およびXA2は、スルホン酸塩基、または、カルボン酸塩基であることが好ましい。また、XA1およびXA2における塩構造は、アルカリ金属塩が特に水系溶媒への溶解性が良好であり、好ましい。中でも、ナトリウム塩、または、カリウム塩がより好ましい。
また、上記式(I−A)または式(I−B)で表される化合物としては、特開2007−206348号公報の段落0019〜0037の記載を参酌することができる。
さらに、アニオン性界面活性剤としては、特開2006−65321号公報の段落0023〜0028に記載された化合物も好適に挙げられる。
The total number of carbon atoms of R A1 to R A5 and Y 1A or R A6 to R A10 and Y A2 in the compound represented by the above formula (IA) or (IB) is preferably 25 or less. 4-20 are more preferable. The structure of the alkyl group described above may be linear or branched.
X A1 and X A2 in the compound represented by the formula (IA) or the formula (IB) are preferably a sulfonate group or a carboxylate group. As the salt structures in X A1 and X A2 , alkali metal salts are particularly preferable because they have particularly good solubility in aqueous solvents. Among these, a sodium salt or a potassium salt is more preferable.
Moreover, as a compound represented by the said formula (IA) or a formula (IB), description of Paragraphs 0019-0037 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-206348 can be referred.
Further, examples of the anionic surfactant also include compounds described in paragraphs 0023 to 0028 of JP-A-2006-65321.

また、ノニオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンジグリセリン類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル類、トリアルキルアミンオキシド類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、および、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類が挙げられる。
また、アセチレングリコール系とアセチレンアルコール系のオキシエチレン付加物、フッ素系界面活性剤、または、シリコーン系界面活性剤も同様に使用できる。これら界面活性剤は2種以上併用できる。
Nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ether, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters, pentaerythritol fatty acid partial esters. , Propylene glycol monofatty acid ester, sucrose fatty acid partial ester, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial ester, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial ester, polyethylene glycol fatty acid ester, polyglycerin fatty acid partial ester, polyoxyethylene glycerin Fatty acid partial esters, polyoxyethylene diglycerins, fatty acid diethanolamides, N, N-bis-2-hydroxyalkyl Amines, polyoxyethylene alkyl amines, triethanolamine fatty acid esters, trialkylamine oxides, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, and polyoxyethylene - polyoxypropylene block copolymers.
Further, acetylene glycol-based and acetylene alcohol-based oxyethylene adducts, fluorine-based surfactants, or silicone-based surfactants can also be used. Two or more of these surfactants can be used in combination.

ノニオン性界面活性剤としては、下記式(N1)で示されるノニオン性芳香族エーテル系界面活性剤が好ましい。
−Y−O−(AnB−(AmB−H (N1)
式中、Xは置換基を有していてもよい芳香族基を表し、Yは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基を表し、AおよびAは互いに異なる基であって、−CHCHO−または−CHCH(CH)O−を表し、nBおよびmBはそれぞれ独立に、0〜100の整数を表し、ただし、nBとmBとは同時に0ではなく、また、nBおよびmBのいずれかが0である場合には、nBおよびmBは1ではない。
式中、Xの芳香族基としては、フェニル基、ナフチル基、および、アントラニル基が挙げられる。これらの芳香族基は置換基を有していてもよい。置換基としては、炭素数1〜100の有機基が挙げられる。なお、式中、AおよびBがともに存在するとき、ランダムでもブロックの共重合体でもよい。
上記炭素数1〜100の有機基の具体例としては、飽和でも不飽和でよく直鎖でも分岐鎖でもよい脂肪族炭化水素基、および、芳香族炭化水素基が挙げられる。
また、ノニオン界面活性剤としては、特開2006−65321号公報の段落0030〜0040に記載された化合物も好適に用いることができる。
As the nonionic surfactant, a nonionic aromatic ether surfactant represented by the following formula (N1) is preferable.
X N -Y N -O- (A 1 ) nB - (A 2) mB -H (N1)
In the formula, X N represents an aromatic group which may have a substituent, Y N represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and A 1 and A 2 are groups different from each other. , —CH 2 CH 2 O— or —CH 2 CH (CH 3 ) O—, each of nB and mB independently represents an integer of 0 to 100, provided that nB and mB are not 0 at the same time, When either nB or mB is 0, nB and mB are not 1.
Wherein the aromatic group of X N, a phenyl group, a naphthyl group, and include anthranyl group. These aromatic groups may have a substituent. Examples of the substituent include an organic group having 1 to 100 carbon atoms. In the formula, when both A and B are present, they may be random or block copolymers.
Specific examples of the organic group having 1 to 100 carbon atoms include an aliphatic hydrocarbon group which may be saturated or unsaturated and may be linear or branched, and an aromatic hydrocarbon group.
In addition, as the nonionic surfactant, compounds described in paragraphs 0030 to 0040 of JP-A-2006-65321 can also be suitably used.

界面活性剤は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
界面活性剤の含有量は、現像液の全質量に対し、1〜25質量%が好ましく、2〜20質量%がより好ましく、3〜15質量%がさらに好ましく、5〜10質量%が特に好ましい。上記範囲であると、耐キズ汚れ性により優れ、現像カスの分散性に優れ、また、得られる平版印刷版の着肉性に優れる。
また、ノニオン性界面活性剤およびアニオン性界面活性剤を併用する場合、ノニオン性界面活性剤の含有量が、アニオン性界面活性剤の含有量よりも多いことが好ましい。上記態様であると、現像性に優れ、また、耐キズ汚れ性により優れる。
さらに、ノニオン性界面活性剤およびアニオン性界面活性剤を併用する場合、現像性および耐キズ汚れ性の点から、現像液におけるノニオン性界面活性剤の含有量とアニオン性界面活性剤の含有量との質量比(ノニオン性界面活性剤/アニオン性界面活性剤)は、1.2/1.0〜5.0/1.0が好ましく、1.5/1.0〜4.0/1.0がより好ましく、2.0/1.0〜3.0/1.0がさらに好ましい。
Surfactant may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
The content of the surfactant is preferably 1 to 25% by mass, more preferably 2 to 20% by mass, further preferably 3 to 15% by mass, and particularly preferably 5 to 10% by mass with respect to the total mass of the developer. . When it is within the above range, scratch resistance is excellent, development residue dispersibility is excellent, and the resulting lithographic printing plate is excellent in fleshing property.
Moreover, when using together nonionic surfactant and anionic surfactant, it is preferable that content of nonionic surfactant is larger than content of anionic surfactant. In the above embodiment, the developability is excellent, and the scratch resistance is excellent.
Further, when a nonionic surfactant and an anionic surfactant are used in combination, the content of the nonionic surfactant and the content of the anionic surfactant in the developer are from the viewpoint of developability and scratch resistance. The mass ratio (nonionic surfactant / anionic surfactant) is preferably 1.2 / 1.0 to 5.0 / 1.0, and 1.5 / 1.0 to 4.0 / 1. 0 is more preferable, and 2.0 / 1.0 to 3.0 / 1.0 is more preferable.

現像液は、現像液の粘度調整および得られる平版印刷版の版面の保護の点から、水溶性高分子を含んでいてもよい。
水溶性高分子としては、大豆多糖類、変性澱粉、アラビアガム、デキストリン、繊維素誘導体(例えば、カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース等)およびその変性体、プルラン、ポリビニルアルコールおよびその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミドおよびアクリルアミド共重合体、ビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル/無水マレイン酸共重合体、並びに、スチレン/無水マレイン酸共重合体が挙げられる。
The developer may contain a water-soluble polymer from the viewpoint of adjusting the viscosity of the developer and protecting the plate surface of the resulting lithographic printing plate.
Examples of water-soluble polymers include soybean polysaccharide, modified starch, gum arabic, dextrin, fibrin derivatives (eg, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, methylcellulose, etc.) and modified products thereof, pullulan, polyvinyl alcohol and derivatives thereof, polyvinylpyrrolidone, Examples include polyacrylamide and acrylamide copolymers, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymers, vinyl acetate / maleic anhydride copolymers, and styrene / maleic anhydride copolymers.

上記大豆多糖類としては、従来知られているものが使用できる。例えば、市販品として商品名ソヤファイブ(不二製油(株)製)があり、各種グレードのものを使用できる。中でも、10質量%水溶液の粘度が10〜100mPa/secの範囲にあるものが好ましい。   As the soybean polysaccharide, those conventionally known can be used. For example, as a commercial product, there is a trade name Soya Five (manufactured by Fuji Oil Co., Ltd.), and various grades can be used. Among them, a 10% by mass aqueous solution having a viscosity in the range of 10 to 100 mPa / sec is preferable.

上記変性澱粉としては、下記式(III)で表される澱粉が好ましい。式(III)で表される澱粉としては、トウモロコシ、じゃがいも、タピオカ、米、および、小麦のいずれの澱粉も使用できる。これらの澱粉の変性方法としては、酸または酵素等で1分子当たりグルコース残基数5〜30の範囲で分解し、さらにアルカリ中でオキシプロピレンを付加する方法等が挙げられる。   As the modified starch, a starch represented by the following formula (III) is preferable. As the starch represented by the formula (III), any starch of corn, potato, tapioca, rice and wheat can be used. As a method for modifying these starches, there may be mentioned a method of decomposing in the range of 5 to 30 glucose residues per molecule with an acid or an enzyme, and further adding oxypropylene in an alkali.

式中、エーテル化度(置換度)はグルコース単位当たり0.05〜1.2の範囲であり、nは3〜30の整数を表し、mは1〜3の整数を表す。   In the formula, the degree of etherification (degree of substitution) is in the range of 0.05 to 1.2 per glucose unit, n represents an integer of 3 to 30, and m represents an integer of 1 to 3.

上記水溶性高分子化合物としては、大豆多糖類、変性澱粉、アラビアガム、デキストリン、カルボキシメチルセルロース、または、ポリビニルアルコールが好ましい。   As the water-soluble polymer compound, soybean polysaccharide, modified starch, gum arabic, dextrin, carboxymethylcellulose, or polyvinyl alcohol is preferable.

水溶性高分子化合物は、2種以上を併用することもできる。
上記現像液は、水溶性高分子化合物を含まないか、または、水溶性高分子化合物を含む場合は、水溶性高分子化合物の含有量は、現像液の全質量に対し、0質量%を超え1質量%以下であることが好ましく、0質量%を超え0.1質量%以下であることがより好ましく、0質量%を超え0.05質量%以下であることがさらに好ましい。中でも、現像液は、水溶性高分子化合物を含まないことが好ましい。上記態様であると、現像液の粘度が適度であり、自動現像機のローラー部材に現像カスが堆積することを抑制できる。
Two or more water-soluble polymer compounds can be used in combination.
When the developer does not contain a water-soluble polymer compound or contains a water-soluble polymer compound, the content of the water-soluble polymer compound exceeds 0% by mass with respect to the total mass of the developer. The content is preferably 1% by mass or less, more preferably more than 0% by mass and 0.1% by mass or less, and further preferably more than 0% by mass and 0.05% by mass or less. Among these, the developer preferably does not contain a water-soluble polymer compound. In the above embodiment, the viscosity of the developer is moderate and it is possible to suppress the accumulation of development debris on the roller member of the automatic processor.

現像液は、上記の他に、湿潤剤、防腐剤、キレート化合物、消泡剤、有機酸、有機溶剤、無機酸、および、無機塩を含んでいてもよい。   In addition to the above, the developer may contain a wetting agent, an antiseptic, a chelate compound, an antifoaming agent, an organic acid, an organic solvent, an inorganic acid, and an inorganic salt.

湿潤剤としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリエチレングリコール、ブチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、または、ジグリセリンが好ましい。これらの湿潤剤は単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。上記湿潤剤の含有量は、現像液の全質量に対し、0.1〜5質量%が好ましい。   As the wetting agent, ethylene glycol, propylene glycol, triethylene glycol, butylene glycol, hexylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, or diglycerin is preferable. These wetting agents may be used alone or in combination of two or more. The content of the wetting agent is preferably 0.1 to 5% by mass with respect to the total mass of the developer.

防腐剤としては、フェノールまたはその誘導体、ホルマリン、イミダゾール誘導体、デヒドロ酢酸ナトリウム、4−イソチアゾリン−3−オン誘導体、ベンゾイソチアゾリン−3−オン、2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン、ベンズトリアゾール誘導体、アミジングアニジン誘導体、第四級アンモニウム塩類、ピリジン、キノリン、グアニジン等の誘導体、ダイアジン、トリアゾール誘導体、オキサゾール、オキサジン誘導体、ニトロブロモアルコール系の2−ブロモ−2−ニトロプロパン−1,3−ジオール、1,1−ジブロモ−1−ニトロ−2−エタノール、または、1,1−ジブロモ−1−ニトロ−2−プロパノールが好ましい。
防腐剤の含有量は、細菌、カビ、および、酵母に対して、安定に効力を発揮する量であって、細菌、カビ、および、酵母の種類によっても異なるが、現像液の全質量に対し、0.01〜4質量%が好ましい。また、種々のカビ、殺菌に対して効力のあるように2種以上の防腐剤を併用することが好ましい。
Preservatives include phenol or derivatives thereof, formalin, imidazole derivatives, sodium dehydroacetate, 4-isothiazolin-3-one derivatives, benzoisothiazolin-3-one, 2-methyl-4-isothiazolin-3-one, benztriazole derivatives Amiding anidine derivatives, quaternary ammonium salts, derivatives such as pyridine, quinoline, guanidine, diazine, triazole derivatives, oxazole, oxazine derivatives, nitrobromoalcohol-based 2-bromo-2-nitropropane-1,3-diol, 1,1-dibromo-1-nitro-2-ethanol or 1,1-dibromo-1-nitro-2-propanol is preferred.
The content of the preservative is an amount that exerts a stable effect on bacteria, molds, and yeasts, and varies depending on the types of bacteria, molds, and yeasts. 0.01 to 4% by mass is preferable. Moreover, it is preferable to use 2 or more types of preservatives together so that it may be effective with respect to various molds and sterilization.

キレート化合物としては、例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、または、そのナトリウム塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、または、そのナトリウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、または、そのナトリウム塩;ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、または、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、または、そのナトリウム塩;1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム塩、または、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、または、そのナトリウム塩等のような有機ホスホン酸類が挙げられる。上記キレート剤のナトリウム塩またはカリウム塩のかわりに、有機アミンの塩も有効である。
これらキレート剤は、現像液中に安定に存在し、印刷性を阻害しないものであることが好ましい。キレート剤の含有量は、現像液の全質量に対し、0.001〜1.0質量%が好ましい。
Examples of the chelating compound include ethylenediaminetetraacetic acid, potassium salt thereof, or sodium salt thereof; diethylenetriaminepentaacetic acid, potassium salt thereof, or sodium salt thereof; triethylenetetraminehexaacetic acid, potassium salt thereof, or sodium salt thereof. Hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, its potassium salt, or its sodium salt; nitrilotriacetic acid, or its sodium salt; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, its potassium salt, or its sodium salt; Methylenephosphonic acid), potassium salts thereof, sodium salts thereof and the like. Instead of the sodium salt or potassium salt of the chelating agent, an organic amine salt is also effective.
These chelating agents are preferably present stably in the developer and do not impair the printability. As for content of a chelating agent, 0.001-1.0 mass% is preferable with respect to the total mass of a developing solution.

消泡剤としては、例えば、一般的なシリコーン系の自己乳化タイプ、乳化タイプ、および、ノニオン系のHLB(Hydrophilic-Lipophilic Balance)の5以下等の化合物が挙げられる。中でも、シリコーン消泡剤が好ましい。
消泡剤の含有量は、現像液の全質量に対し、0.001〜1.0質量%が好ましい。
Examples of antifoaming agents include general silicone-based self-emulsifying types, emulsifying types, and nonionic HLB (Hydrophilic-Lipophilic Balance) 5 or less compounds. Among these, silicone antifoaming agents are preferable.
The content of the antifoaming agent is preferably 0.001 to 1.0% by mass with respect to the total mass of the developer.

有機酸としては、クエン酸、酢酸、蓚酸、マロン酸、サリチル酸、カプリル酸、酒石酸、リンゴ酸、乳酸、レブリン酸、p−トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、フィチン酸、および、有機ホスホン酸が挙げられる。有機酸は、そのアルカリ金属塩またはアンモニウム塩の形で用いることもできる。有機酸の含有量は、現像液の全質量に対し、0.01〜0.5質量%が好ましい。   Examples of organic acids include citric acid, acetic acid, succinic acid, malonic acid, salicylic acid, caprylic acid, tartaric acid, malic acid, lactic acid, levulinic acid, p-toluenesulfonic acid, xylenesulfonic acid, phytic acid, and organic phosphonic acid. It is done. The organic acid can also be used in the form of its alkali metal salt or ammonium salt. The content of the organic acid is preferably 0.01 to 0.5% by mass with respect to the total mass of the developer.

有機溶剤としては、例えば、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、“アイソパーE、H、G”(エッソ化学(株)製)、ガソリン、および、灯油等)、芳香族炭化水素類(トルエン、および、キシレン等)、ハロゲン化炭化水素(メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、および、モノクロルベンゼン等)、および、極性溶剤が挙げられる。   Examples of the organic solvent include aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, “Isopar E, H, G” (produced by Esso Chemical Co., Ltd.), gasoline, kerosene, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, And xylene), halogenated hydrocarbons (methylene dichloride, ethylene dichloride, trichlene, monochlorobenzene, etc.), and polar solvents.

極性溶剤としては、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、2−エトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコール、テトラエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、メチルフェニルカルビノール、n−アミルアルコール、および、メチルアミルアルコール等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、エチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、および、シクロヘキサノン等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、乳酸メチル、乳酸ブチル、エチレングリコールモノブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールアセテート、ジエチルフタレート、および、レブリン酸ブチル等)、および、その他(トリエチルフォスフェート、トリクレジルフォスフェート、N−フェニルエタノールアミン、および、N−フェニルジエタノールアミン等)が挙げられる。   Polar solvents include alcohols (methanol, ethanol, propanol, isopropanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, 2-ethoxyethanol, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether , Propylene glycol monomethyl ether, polyethylene glycol monomethyl ether, polypropylene glycol, tetraethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monobenzyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, methylphenyl carbinol, n-amyl alcohol, and methyl amyl alcohol ), Ketones (acetone, methyl ethyl ketone, ethyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), esters (ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, benzyl acetate, methyl lactate, butyl lactate, ethylene glycol mono) Butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol acetate, diethyl phthalate, butyl levulinate, etc., and others (triethyl phosphate, tricresyl phosphate, N-phenylethanolamine, N-phenyldiethanolamine, etc.) ).

また、上記有機溶剤が水に不溶な場合は、界面活性剤等を用いて水に可溶化して使用することも可能である。現像液が有機溶剤を含む場合は、安全性および引火性の点から、現像液における溶剤の濃度は、40質量%未満が好ましい。   When the organic solvent is insoluble in water, it can be used after being solubilized in water using a surfactant or the like. When the developer contains an organic solvent, the concentration of the solvent in the developer is preferably less than 40% by mass from the viewpoint of safety and flammability.

無機酸および無機塩としては、リン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、第一リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、硝酸マグネシウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸アンモニウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸アンモニウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウム、硫酸水素ナトリウム、および、硫酸ニッケル等が挙げられる。無機塩の含有量は、現像液の全質量に対し、0.01〜0.5質量%が好ましい。   Examples of inorganic acids and inorganic salts include phosphoric acid, metaphosphoric acid, primary ammonium phosphate, secondary ammonium phosphate, primary sodium phosphate, secondary sodium phosphate, primary potassium phosphate, secondary potassium phosphate, Examples include sodium tripolyphosphate, potassium pyrophosphate, sodium hexametaphosphate, magnesium nitrate, sodium nitrate, potassium nitrate, ammonium nitrate, sodium sulfate, potassium sulfate, ammonium sulfate, sodium sulfite, ammonium sulfite, sodium hydrogen sulfate, nickel sulfate, and the like. The content of the inorganic salt is preferably 0.01 to 0.5% by mass with respect to the total mass of the developer.

現像液は、必要に応じて、上記各成分を水に溶解または分散することによって得られる。現像液の固形分濃度は、2〜25質量%が好ましい。また、現像液としては、濃縮液を作製しておき、使用時に水で希釈して用いることもできる。
また、現像液は、水性の現像液であることが好ましい。
現像液のpHは、5〜10が好ましく、6〜9がより好ましく、7〜9がさらに好ましい。
The developer is obtained by dissolving or dispersing the above components in water as necessary. The solid content concentration of the developer is preferably 2 to 25% by mass. Further, as the developer, a concentrated solution can be prepared and diluted with water at the time of use.
The developer is preferably an aqueous developer.
The pH of the developer is preferably 5 to 10, more preferably 6 to 9, and further preferably 7 to 9.

また、現像液は、現像カスの分散性の点から、アルコール化合物を含むことが好ましい。
アルコール化合物としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、および、ベンジルアルコールが挙げられる。中でも、ベンジルアルコールが好ましい。
アルコール化合物の含有量としては、現像カスの分散性の点から、現像液の全質量に対し、0.01〜5質量%が好ましく、0.1〜2質量%がより好ましく、0.2〜1質量%がさらに好ましい。
The developer preferably contains an alcohol compound from the viewpoint of dispersibility of the development residue.
Examples of the alcohol compound include methanol, ethanol, propanol, isopropanol, and benzyl alcohol. Of these, benzyl alcohol is preferred.
As content of an alcohol compound, 0.01-5 mass% is preferable with respect to the total mass of a developing solution from the point of the dispersibility of development dregs, 0.1-2 mass% is more preferable, 0.2- 1% by mass is more preferable.

現像処理の方法としては、手処理の場合、例えば、スポンジまたは脱脂綿に現像液を十分に含ませ、平版印刷版原版全体を擦りながら処理し、処理終了後は十分に乾燥する方法が好適に挙げられる。浸漬処理の場合は、例えば、現像液の入ったバットまたは深タンクに平版印刷版原版を約60秒間浸して撹拌した後、脱脂綿またはスポンジ等で平版印刷版原版を擦りながら十分乾燥する方法が好適に挙げられる。   As a method for the development processing, in the case of manual processing, for example, a method in which a developer is sufficiently contained in a sponge or absorbent cotton, the lithographic printing plate precursor is processed while being rubbed, and is sufficiently dried after the processing is completed. It is done. In the case of immersion treatment, for example, a method in which a lithographic printing plate precursor is immersed in a vat or deep tank containing a developer for about 60 seconds and stirred, and then sufficiently dried while rubbing the lithographic printing plate precursor with absorbent cotton or a sponge is suitable. It is mentioned in.

現像処理には、構造の簡素化、および、工程を簡略化した装置が用いられることが好ましい。
従来の現像処理においては、前水洗工程により保護層を除去し、次いでアルカリ性現像液により現像を行い、その後、後水洗工程でアルカリを除去し、ガム引き工程でガム処理を行い、乾燥工程で乾燥する。
なお、現像およびガム引きを1液で同時に行うこともできる。ガムとしては、ポリマーが好ましく、水溶性高分子化合物、および、界面活性剤がより好ましい。
さらに、前水洗工程も行うことなく、保護層の除去、現像およびガム引きを1液で同時に行うことが好ましい。また、現像およびガム引きの後に、スクイズローラーを用いて余剰の現像液を除去した後、乾燥を行うことが好ましい。
For the development process, it is preferable to use an apparatus with a simplified structure and a simplified process.
In conventional development processing, the protective layer is removed by the pre-water washing step, then development is performed with an alkaline developer, then the alkali is removed in the post-water washing step, gum treatment is performed in the gumming step, and drying is performed in the drying step. To do.
Note that development and gumming can be simultaneously performed with one liquid. As the gum, a polymer is preferable, and a water-soluble polymer compound and a surfactant are more preferable.
Furthermore, it is preferable to simultaneously perform removal of the protective layer, development, and gumming with one liquid without performing a pre-water washing step. Further, after development and gumming, it is preferable to perform drying after removing excess developer using a squeeze roller.

本処理は、上記現像液に1回浸漬する方法であってもよいし、2回以上浸漬する方法であってもよい。中でも、上記現像液に1回または2回浸漬する方法が好ましい。
浸漬は、現像液が溜まった現像液槽中に露光済みの平版印刷版原版をくぐらせてもよいし、露光済みの平版印刷版原版の版面上にスプレー等から現像液を吹き付けてもよい。
なお、現像液に2回以上浸漬する場合であっても、同じ現像液、または、現像液と現像処理により画像記録層の成分の溶解または分散した現像液(疲労液)とを用いて2回以上浸漬する場合は、1液での現像処理(1液処理)という。
This treatment may be a method of immersing once in the developer, or a method of immersing twice or more. Among them, a method of immersing once or twice in the developer is preferable.
In the immersion, the exposed lithographic printing plate precursor may be passed through a developing solution tank in which the developing solution is accumulated, or the developing solution may be sprayed from a spray or the like onto the plate surface of the exposed lithographic printing plate precursor.
Even in the case of being immersed twice or more in the developer, the same developer or the developer and the developer (fatigue solution) in which the components of the image recording layer are dissolved or dispersed by the development process are used twice. When soaking is described above, it is called development processing with one liquid (one liquid processing).

また、現像処理では、擦り部材を用いることが好ましく、画像記録層の非画像部を除去する現像浴には、ブラシ等の擦り部材が設置されることが好ましい。
現像処理は、常法に従って、好ましくは0℃〜60℃、より好ましくは15℃〜40℃の温度で、例えば、露光処理した平版印刷版原版を現像液に浸漬してブラシで擦る、または、外部のタンクに仕込んだ処理液をポンプで汲み上げてスプレーノズルから吹き付けてブラシで擦る等により行うことができる。これらの現像処理は、複数回続けて行うこともできる。例えば、外部のタンクに仕込んだ現像液をポンプで汲み上げてスプレーノズルから吹き付けてブラシで擦った後に、再度スプレーノズルから現像液を吹き付けてブラシで擦る等により行うことができる。自動現像機を用いて現像処理を行う場合、処理量の増大により現像液が疲労してくるので、補充液または新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させることが好ましい。
In the development processing, it is preferable to use a rubbing member, and it is preferable to install a rubbing member such as a brush in the developing bath for removing the non-image portion of the image recording layer.
The development treatment is preferably performed at a temperature of 0 ° C. to 60 ° C., more preferably 15 ° C. to 40 ° C., for example, by immersing the exposed lithographic printing plate precursor in a developer and rubbing with a brush according to a conventional method, or The treatment liquid charged in the external tank can be pumped up, sprayed from a spray nozzle, and rubbed with a brush. These development processes can be carried out a plurality of times. For example, the developer charged in an external tank can be pumped up, sprayed from a spray nozzle and rubbed with a brush, and then the developer is sprayed again from the spray nozzle and rubbed with a brush. When developing using an automatic developing machine, the developing solution becomes fatigued due to an increase in the amount of processing. Therefore, it is preferable to restore the processing capability using a replenisher or a fresh developing solution.

本開示における現像処理には、従来、PS版(Presensitized Plate)およびCTP(Computer to Plate)用に知られているガムコーターおよび自動現像機も用いることができる。自動現像機を用いる場合、例えば、現像槽に仕込んだ現像液、または、外部のタンクに仕込んだ現像液をポンプで汲み上げてスプレーノズルから吹き付けて処理する方式、現像液が満たされた槽中に液中ガイドロール等によって印刷版を浸漬搬送させて処理する方式、および、実質的に未使用の現像液を一版毎に必要な分だけ供給して処理するいわゆる使い捨て処理方式のいずれの方式も適用できる。どの方式においても、ブラシおよびモルトン等によるこすり機構があるものがより好ましい。例えば、市販の自動現像機(Clean Out Unit C85/C125、Clean−Out Unit+ C85/120、FCF 85V、FCF 125V、FCF News(Glunz & Jensen社製)、および、Azura CX85、Azura CX125、Azura CX150(AGFA GRAPHICS社製)を利用できる。また、レーザー露光部と自動現像機部分とが一体に組み込まれた装置を利用することもできる。   A gum coater and an automatic developing machine conventionally known for PS plates (Presensitized Plate) and CTP (Computer to Plate) can also be used for the development processing in the present disclosure. When using an automatic developing machine, for example, a method in which a developer charged in a developer tank or a developer charged in an external tank is pumped up and sprayed from a spray nozzle, in a tank filled with the developer. Either a method of immersing and transporting a printing plate with a guide roll in liquid, or a so-called disposable processing method of supplying and processing a substantially unused developer for each plate as required Applicable. In any system, those having a rubbing mechanism by a brush, a molton or the like are more preferable. For example, commercially available automatic processors (Clean Out Unit C85 / C125, Clean-Out Unit + C85 / 120, FCF 85V, FCF 125V, FCF News (Glunz & Jensen), and Azura CX85, Azura CX125, Azura CX125, 150 AGFA GRAPHICS Co., Ltd., or an apparatus in which a laser exposure unit and an automatic developing unit are integrated together can be used.

(機上現像方式)
機上現像方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、印刷機上で印刷インキと湿し水とを供給することにより、非画像部の画像記録層が除去されて平版印刷版が製造される。
即ち、平版印刷版原版を画像露光後、なんらの現像液処理を施すことなく、そのまま印刷機に装着するか、または、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光し、ついで、印刷インキと湿し水とを供給して印刷すると、印刷途上の初期の段階で、非画像部においては、供給された印刷インキおよび/または湿し水によって、未露光部の画像記録層が溶解または分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。一方、露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。最初に版面に供給されるのは、印刷インキでもよく、湿し水でもよいが、湿し水が除去された画像記録層成分によって汚染されることを防止する点で、最初に印刷インキを供給することが好ましい。
このようにして、平版印刷版原版は印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。つまり、本発明の印刷方法の一態様としては、平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、印刷インキおよび湿し水の少なくとも一方を供給して、印刷機上で画像様露光された平版印刷版原版の未露光部を除去し、印刷を行う印刷工程とを有する印刷方法が挙げられる。
(On-machine development method)
In the on-press development method, the image-exposed lithographic printing plate precursor is supplied with printing ink and fountain solution on the printing machine, thereby removing the image recording layer in the non-image area and producing a lithographic printing plate. Is done.
In other words, after image exposure of the lithographic printing plate precursor, it is mounted on the printing machine without any developer treatment, or the lithographic printing plate precursor is mounted on the printing machine and image exposure is performed on the printing machine. Then, when printing is performed by supplying printing ink and fountain solution, in the initial stage of printing, in the non-image portion, image recording of the unexposed portion is performed by the supplied printing ink and / or fountain solution. The layer is removed by dissolution or dispersion, and a hydrophilic surface is exposed at that portion. On the other hand, in the exposed portion, the image recording layer cured by exposure forms an oil-based ink receiving portion having a lipophilic surface. Printing ink may be supplied to the printing plate first, or dampening water, but printing ink is supplied first in order to prevent the dampening water from being contaminated by the removed image recording layer components. It is preferable to do.
In this way, the lithographic printing plate precursor is subjected to on-press development on a printing machine and used as it is for printing a large number of sheets. That is, as one aspect of the printing method of the present invention, the lithographic printing plate precursor is exposed imagewise to form an exposed portion and an unexposed portion, and at least one of printing ink and fountain solution is supplied. In addition, there may be mentioned a printing method having a printing step in which an unexposed portion of a lithographic printing plate precursor imagewise exposed on a printing machine is removed and printing is performed.

本発明に係る平版印刷版原版からの平版印刷版の製造方法においては、現像方式を問わず、必要に応じて、画像露光前、画像露光中、または、画像露光から現像処理までの間に、平版印刷版原版の全面を加熱してもよい。   In the method for producing a lithographic printing plate from the lithographic printing plate precursor according to the present invention, regardless of the development method, if necessary, before image exposure, during image exposure, or from image exposure to development processing, The entire surface of the lithographic printing plate precursor may be heated.

以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these.

<<実施例A:実施例1〜19、25、比較例1〜7>>
<アルミニウム支持体の製造>
厚さ0.3mmの材質1Sのアルミニウム合金板に対し、特開2012−158022号公報の段落0126に記載の(A−a)機械的粗面化処理(ブラシグレイン法)から段落0134に記載の(A−i)酸性水溶液中でのデスマット処理を実施した。
次に、特開2012−158022号公報の段落0135に記載の(A−j)第1段階の陽極酸化処理から段落0138に記載の(A−m)第3段階の陽極酸化処理の各処理条件を適宜調整して、後述する表1に示す実施例および比較例の所定の形状の陽極酸化皮膜を形成し、アルミニウム支持体を得た。
なお、全ての処理工程の間には水洗処理を施し、水洗処理の後にはニップローラーで液切りを行った。
<< Example A: Examples 1 to 19, 25, Comparative Examples 1 to 7 >>
<Manufacture of aluminum support>
From the (Aa) mechanical surface roughening treatment (brush grain method) described in paragraph 0126 of JP2012-158022A to the aluminum alloy plate of material 1S having a thickness of 0.3 mm, (Ai) A desmut treatment in an acidic aqueous solution was performed.
Next, each processing condition from (Aj) the first stage anodizing treatment described in paragraph 0135 of JP2012-158022A to (Am) the third stage anodizing treatment described in paragraph 0138. Were appropriately adjusted to form anodized films having predetermined shapes in Examples and Comparative Examples shown in Table 1 to be described later to obtain an aluminum support.
In addition, the water washing process was performed between all the process processes, and the liquid draining was performed with the nip roller after the water washing process.

<下塗り層の形成(その1)>
上記で得られた各アルミニウム支持体上に、下塗り層形成用塗布液Aまたは下塗り層形成用塗布液B、または、下塗り層形成用塗布液Cを乾燥塗布量が20mg/mになるよう塗布して、下塗り層を有するアルミニウム支持体を作製した。
(下塗り層形成用塗布液A)
・下記に記載の高分子:0.50g
・水:500.0g
<Formation of undercoat layer (1)>
On each aluminum support obtained above, the undercoat layer-forming coating solution A, the undercoat layer-forming coating solution B, or the undercoat layer-forming coating solution C is applied so that the dry coating amount is 20 mg / m 2. Thus, an aluminum support having an undercoat layer was produced.
(Undercoat layer forming coating solution A)
-Polymers described below: 0.50 g
・ Water: 500.0g

(下塗り層形成用塗布液B)
・下記に記載の高分子:0.50g
・水:500.0g
(Undercoat layer forming coating solution B)
-Polymers described below: 0.50 g
・ Water: 500.0g

(下塗り層形成用塗布液C)
・下記に記載の高分子:0.50g
・水:500.0g
(Coating liquid C for undercoat layer formation)
-Polymers described below: 0.50 g
・ Water: 500.0g

なお、上記下塗り層形成用塗布液A〜C中の高分子における各構成単位の括弧の右下の数値は、質量%を表す。   In addition, the numerical value of the lower right of the parenthesis of each structural unit in the polymer in the undercoat layer forming coating liquids A to C represents mass%.

<下塗り層の形成(その2)>
上記で得られた各アルミニウム支持体を、4g/Lのポリビニルホスホン酸を含む、40℃の下塗り層形成用塗布液E(pH=1.9)に10秒間浸漬し、20℃のカルシウムイオンを含む脱塩水で2秒間洗浄し、乾燥した。処理後のアルミニウム支持体上のP量およびCa量は、それぞれ25mg/mおよび1.9mg/mであった。
<Formation of undercoat layer (2)>
Each aluminum support obtained above is immersed in a coating solution E for forming an undercoat layer (pH = 1.9) at 40 ° C. containing 4 g / L of polyvinylphosphonic acid for 10 seconds. It was washed with demineralized water containing for 2 seconds and dried. P amount and Ca content of the aluminum support after the treatment, were respectively 25 mg / m 2 and 1.9 mg / m 2.

<画像記録層の形成>
画像記録層形成用塗布液Aまたは画像記録層形成用塗布液Bを下塗り層上にバーコーター塗布した後、100℃にて60秒間でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/mの画像記録層を形成した。
画像記録層形成用塗布液Aは、下記の感光液(1)およびミクロゲル液(1)を混合して得た。
<Formation of image recording layer>
The image recording layer forming coating solution A or the image recording layer forming coating solution B is applied onto the undercoat layer by a bar coater and then oven-dried at 100 ° C. for 60 seconds to obtain an image having a dry coating amount of 1.0 g / m 2 . A recording layer was formed.
The image recording layer forming coating solution A was obtained by mixing the following photosensitive solution (1) and microgel solution (1).

(感光液(1))
・バインダーポリマー(1)〔下記構造〕 0.240g
・赤外線吸収染料(1)〔下記構造〕 0.030g
・重合開始剤(1)〔下記構造〕 0.162g
・ラジカル重合性化合物
トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート
(NKエステルA−9300、新中村化学(株)製) 0.192g
・低分子親水性化合物
トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート 0.062g
・低分子親水性化合物(1)〔下記構造〕 0.050g
・感脂化剤 ホスホニウム化合物(1)〔下記構造〕 0.055g
・感脂化剤
ベンジル−ジメチル−オクチルアンモニウム・PF6塩 0.018g
・感脂化剤 アンモニウム基含有ポリマー
[下記構造、還元比粘度44ml/g] 0.035g
・フッ素系界面活性剤(1)〔下記構造〕 0.008g
・2−ブタノン 1.091g
・1−メトキシ−2−プロパノール 8.609g
(Photosensitive solution (1))
-Binder polymer (1) [the following structure] 0.240 g
Infrared absorbing dye (1) [the following structure] 0.030 g
・ Polymerization initiator (1) [the following structure] 0.162 g
-Radical polymerizable compound Tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate (NK ester A-9300, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 0.192 g
・ Low molecular weight hydrophilic compound Tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate 0.062g
・ Low molecular weight hydrophilic compound (1) [the following structure] 0.050 g
-Sensitizing agent Phosphonium compound (1) [the following structure] 0.055 g
・ Sensitizer Benzyl-dimethyl-octylammonium ・ PF 6 salt 0.018g
-Sensitizing agent Ammonium group-containing polymer [the following structure, reduced specific viscosity 44 ml / g] 0.035 g
・ Fluorosurfactant (1) [The following structure] 0.008g
・ 2-butanone 1.091g
・ 1-methoxy-2-propanol 8.609g

(ミクロゲル液(1))
・ミクロゲル(1) 2.640g
・蒸留水 2.425g
(Microgel solution (1))
・ Microgel (1) 2.640 g
・ Distilled water 2.425g

上記の、バインダーポリマー(1)、赤外線吸収染料(1)、重合開始剤(1)、ホスホニウム化合物(1)、低分子親水性化合物(1)、アンモニウム基含有ポリマー、および、フッ素系界面活性剤(1)の構造は、以下に示す通りである。   Binder polymer (1), infrared absorbing dye (1), polymerization initiator (1), phosphonium compound (1), low molecular weight hydrophilic compound (1), ammonium group-containing polymer, and fluorine-based surfactant The structure of (1) is as shown below.

なお、Meはメチル基を表し、上記バインダーポリマー(1)およびアンモニウム基含有ポリマーの各構成単位の括弧の右下の数字はモル比を表す。   In addition, Me represents a methyl group, and the numbers on the lower right of the parentheses of the constituent units of the binder polymer (1) and the ammonium group-containing polymer represent a molar ratio.

なお、上記フッ素系界面活性剤(1)の各構成単位の括弧の右下の数字はモル比を表し、また、エチレンオキシ単位又はプロピレンオキシ単位の括弧の右下の数値は、繰り返し数を表す。   The number in the lower right of the parentheses of each constituent unit of the fluorosurfactant (1) represents the molar ratio, and the value in the lower right of the parentheses of the ethyleneoxy unit or propyleneoxy unit represents the number of repetitions. .

−ミクロゲル(1)の合成−
下記構造の多官能イソシアナート(三井化学(株)製;75質量%酢酸エチル溶液)4.46g、トリメチロールプロパン(6モル)とキシレンジイソシアナート(18モル)とを付加させ、これにメチル片末端ポリオキシエチレン(1モル、なおオキシエチレン単位の繰り返し数は90)を付加させた付加体(三井化学(株)製;50質量%酢酸エチル溶液)10g、ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)製、SR444)3.15g、および、パイオニンA−41C(竹本油脂(株)製)0.1gを酢酸エチル17gに溶解させ、油相成分を得た。また、ポリビニルアルコール((株)クラレ製PVA−205)の4質量%水溶液40gを調製して、水相成分を得た。
油相成分および水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を蒸留水25gに添加し、得られた溶液を室温で30分間攪拌後、さらに、50℃で3時間攪拌した。得られたミクロゲルの固形分濃度を、15質量%になるように蒸留水を用いて希釈し、これをミクロゲル(1)とした。ミクロゲル(1)の平均粒径を光散乱法により測定したところ、平均粒径は0.2μmであった。
-Synthesis of microgel (1)-
4.46 g of polyfunctional isocyanate (Mitsui Chemicals, Inc .; 75% by mass ethyl acetate solution) having the following structure, trimethylolpropane (6 mol) and xylene diisocyanate (18 mol) were added, and methyl was added thereto. 10 g of adduct (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc .; 50% by mass ethyl acetate solution) to which one-end polyoxyethylene (1 mol, the number of repeating oxyethylene units is 90) is added, pentaerythritol triacrylate (Nippon Kayaku) 3.15 g of SR444 manufactured by Co., Ltd. and 0.1 g of Pionein A-41C (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) were dissolved in 17 g of ethyl acetate to obtain an oil phase component. Moreover, 40 g of 4 mass% aqueous solution of polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd. PVA-205) was prepared, and the water phase component was obtained.
The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to 25 g of distilled water, and the resulting solution was stirred at room temperature for 30 minutes, and further stirred at 50 ° C. for 3 hours. Distilled water was used to dilute the solid content concentration of the obtained microgel to 15% by mass, and this was designated as microgel (1). When the average particle diameter of the microgel (1) was measured by a light scattering method, the average particle diameter was 0.2 μm.

画像記録層形成用塗布液Bとしては、上記感光液(1)に下記の酸発色剤[CL−1]0.029gをさらに加えて、得られた感光液にミクロゲル液(1)を混合して得た。   As the image recording layer forming coating solution B, 0.029 g of the following acid color former [CL-1] was further added to the photosensitive solution (1), and the microgel solution (1) was mixed with the obtained photosensitive solution. I got it.

CL−1: S−205(福井山田化学工業(株)製) CL-1: S-205 (manufactured by Fukui Yamada Chemical Co., Ltd.)

<保護層の形成>
上記画像記録層上に、さらに下記組成の保護層塗布液(1)をバーコーター塗布した後、120℃にて60秒間でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.15g/mの保護層を形成し、平版印刷版原版を作製した。
(保護層塗布液(1))
・無機質層状化合物分散液(1) 1.5g
・ポリビニルアルコール(日本合成化学工業(株)製CKS50、スルホン酸変性、けん化度99モル%以上、重合度300)6質量%水溶液 0.55g
・ポリビニルアルコール((株)クラレ製PVA−405、けん化度81.5モル%、重合度500)6質量%水溶液 0.03g
・日本エマルジョン(株)製界面活性剤
(エマレックス710)1質量%水溶液 0.86g
・イオン交換水 6.0g
<Formation of protective layer>
On the image recording layer, a protective layer coating solution (1) having the following composition was further applied by a bar coater, followed by oven drying at 120 ° C. for 60 seconds to form a protective layer having a dry coating amount of 0.15 g / m 2. Then, a lithographic printing plate precursor was prepared.
(Protective layer coating solution (1))
・ Inorganic layered compound dispersion (1) 1.5 g
・ Polyvinyl alcohol (CKS50, Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., sulfonic acid modification, saponification degree 99 mol% or more, polymerization degree 300) 6% by mass aqueous solution 0.55 g
Polyvinyl alcohol (PVA-405 manufactured by Kuraray Co., Ltd., saponification degree 81.5 mol%, polymerization degree 500) 6% by mass aqueous solution 0.03 g
・ Nippon Emulsion Co., Ltd. surfactant (Emalex 710) 1% by weight aqueous solution 0.86g
・ Ion-exchanged water 6.0g

(無機質層状化合物分散液(1)の調製)
イオン交換水193.6質量部に合成雲母ソマシフME−100(コープケミカル(株)製)6.4質量部を添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が3μmになるまで分散した。得られた分散粒子のアスペクト比は100以上であった。
(Preparation of inorganic layered compound dispersion (1))
6.4 parts by mass of synthetic mica Somasif ME-100 (manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) is added to 193.6 parts by mass of ion-exchanged water, and dispersed using a homogenizer until the average particle size (laser scattering method) becomes 3 μm. did. The aspect ratio of the obtained dispersed particles was 100 or more.

<平版印刷版原版の評価>
(機上現像性)
得られた平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxel PLATESETTER T−6000IIIにて、外面ドラム回転数1000rpm、レーザー出力70%、および、解像度2400dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像および20μmドットFM(Frequency Modulation)スクリーンの50%網点チャートを含むようにした。
得られた露光済み平版印刷版原版を現像処理することなく、(株)小森コーポレーション製印刷機LITHRONE26の版胴に取り付けた。Ecolity−2(富士フイルム(株)製)/水道水=2/98(容量比)の湿し水とValues−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、LITHRONE26の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時10000枚の印刷速度で、特菱アート(76.5kg)紙に印刷を100枚行った。
50%網点チャートの未露光部の印刷機上での機上現像が完了し、網点非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の損紙枚数を機上現像性として計測した。機上現像性のよい方から順に、A(損紙10枚以下)、B(損紙11〜15枚)、C(損紙16〜19枚)、および、D(損紙20以上)で表した。結果を表1に示す。
<Evaluation of planographic printing plate precursor>
(On-press developability)
The resulting lithographic printing plate precursor was exposed with a Luxel PLASETTER T-6000III equipped with an infrared semiconductor laser under the conditions of an external drum rotation speed of 1000 rpm, a laser output of 70%, and a resolution of 2400 dpi. The exposure image includes a solid image and a 50% halftone dot chart of a 20 μm dot FM (Frequency Modulation) screen.
The obtained exposed lithographic printing plate precursor was mounted on a plate cylinder of a printing machine LITHRONE 26 manufactured by Komori Corporation without developing. Equality-2 (manufactured by FUJIFILM Corporation) / tap water = 2/98 (volume ratio) dampening water and Values-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) After dampening water and ink were supplied by the standard automatic printing start method of LITHRONE 26 and developed on the machine, 100 sheets were printed on Tokuhishi Art (76.5 kg) paper at a printing speed of 10,000 sheets per hour.
On-press developability is the number of lost paper on the printing paper required until the on-press development on the printing machine of the unexposed area of the 50% halftone chart is completed and the ink is not transferred to the non-halftone dot image area. As measured. In order from the one having the best on-machine developability, A (10 damaged paper or less), B (11 to 15 damaged paper), C (16 to 19 damaged paper), and D (20 or more damaged paper). did. The results are shown in Table 1.

(放置払い枚数)
上記機上現像終了後、良好な印刷物が得られるようになった後に、印刷を一旦停止し、温度25℃、湿度50%の部屋において、印刷機上で4時間放置して、印刷を再開した時に、汚れのない良好な印刷物が得られるまでに要した印刷用紙の損紙枚数を評価した。放置払い性のよい方から順に、A(損紙75枚以下)、B(損紙76〜200枚)、C(損紙201〜300枚)、および、D(損紙301枚以上)で表した。結果を表1に示す。
(Number of neglected payments)
After the on-press development was completed, good prints were obtained, and then printing was temporarily stopped, and printing was resumed by leaving it on the press for 4 hours in a room at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 50%. In some cases, the number of damaged sheets of printing paper required until a good print with no stain was obtained was evaluated. In order from the one with the best neglectability, it is represented by A (75 sheets or less of damaged paper), B (76 to 200 sheets of damaged paper), C (201 to 300 sheets of damaged paper), and D (301 or more sheets of damaged paper). did. The results are shown in Table 1.

(UVインキ耐刷性)
得られた平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxel PLATESETTER T−6000IIIにて、外面ドラム回転数1,000rpm、レーザー出力70%、および、解像度2,400dpi(dot per inch)の条件で露光した。露光画像には、ベタ画像およびTAFFETA20(FMスクリーン)の3%網点および明朝7ポイントの抜き文字チャートを含むようにした。なお、1inch=25.4mmである。
得られた露光済み平版印刷版原版を現像処理することなく、三菱製ダイヤIF2印刷機の版胴に取り付けた。IF102(富士フイルム(株)製)/水道水=3/97(容量比)の湿し水とGEカートン墨インキ(TOKAインキ(株)製)とを用い、ダイヤIF2の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時10,000枚の印刷速度で、特菱アート(連量76.5kg)紙を用いて印刷を行った。
(UV ink printing durability)
The obtained lithographic printing plate precursor was subjected to an external drum rotation speed of 1,000 rpm, a laser output of 70%, and a resolution of 2,400 dpi (dot per inch) using a Luxel PLANETTER T-6000III manufactured by FUJIFILM Corporation equipped with an infrared semiconductor laser. ). The exposure image included a solid image, a 3% halftone dot of TAFFET A20 (FM screen), and a letter cut chart of 7 points tomorrow. Note that 1 inch = 25.4 mm.
The obtained exposed lithographic printing plate precursor was mounted on a plate cylinder of a Mitsubishi Dia IF2 printing machine without developing. Using IF102 (Fuji Film Co., Ltd.) / Tap water = 3/97 (volume ratio) dampening water and GE Carton ink (TOKA Ink Co., Ltd.), the standard automatic printing start method of Dia IF2 After fountain solution and ink were supplied and developed on the machine, printing was performed using Tokuhishi Art (continuous amount 76.5 kg) paper at a printing speed of 10,000 sheets per hour.

上述の機上現像を行った後、さらに印刷を続けた。印刷枚数を増やしていくと徐々に画像記録層が磨耗するため印刷物上のインキ濃度が低下した。印刷物におけるFMスクリーン3%網点の網点面積率をグレタグ濃度計で計測した値が印刷100枚目の計測値よりも5%低下したときの印刷部数を刷了枚数として耐刷性を評価した。結果を表1に示す。
A:20000枚以上
B:10000枚以上20000枚未満
C:5000枚以上10000枚未満
D:5000枚未満
Printing was continued after the on-press development described above. As the number of printed sheets was increased, the image recording layer was gradually worn out, so that the ink density on the printed material decreased. Printing durability was evaluated using the number of printed copies when the value measured by the Gretag densitometer for the 3% halftone dot area of the FM screen 3% on the printed material was 5% lower than the measured value for the 100th printed sheet. . The results are shown in Table 1.
A: 20000 or more B: 10,000 or more and less than 20000 C: 5000 or more and less than 10,000 D: Less than 5000

(耐傷性)
得られた平版印刷版原版に露光処理および現像処理を行い、温度25℃、湿度70%の環境下にて得られた平版印刷版に引っかき試験機によってキズを付けた。この引っかき試験機としては、HEIDON scratching Intersity TESTER HEIDEN−18を使用し、直径0.1mmのサファイア針を用いて、引っ掻き荷重は50(g)とした。キズ付け後の版を印刷し、キズ付け部が印刷汚れにならないか評価した。結果を表1に示す。
A:印刷汚れにならない
B:目視では判別できないわずかな印刷汚れが認められる
C:目視によりわずかな印刷汚れが認められるが許容範囲である
D:キズ付け部が印刷汚れになる
(Scratch resistance)
The obtained lithographic printing plate precursor was subjected to exposure treatment and development treatment, and the lithographic printing plate obtained in an environment of a temperature of 25 ° C. and a humidity of 70% was scratched by a scratch tester. As this scratch tester, HEIDON scratching Interstitial Tester HEIDEN-18 was used, a sapphire needle having a diameter of 0.1 mm was used, and the scratch load was 50 (g). A plate after scratching was printed, and it was evaluated whether or not the scratched portion became print stains. The results are shown in Table 1.
A: Does not cause printing stains B: Slight printing stains that cannot be visually recognized are observed C: Slight printing stains are recognized by visual inspection, but is acceptable D: Scratched parts become printing stains

表1中の「大径孔部平均径」欄は、大径孔部の陽極酸化皮膜表面における平均径を表し、「小径孔部平均径」欄は、小径孔部の連通位置における平均径を表す。
また、「大径孔部深さ/ベタイン比率」は、(大径孔部の深さ/使用した下塗り層中の高分子に含まれるベタイン構造を有する繰り返し単位のモル%)を表す。
また、「下塗り層種類」欄においては、「A」は下塗り層形成用塗布液Aを使用したことを意図し、「B」は下塗り層形成用塗布液Bを使用したことを意図し、「C」は下塗り層形成用塗布液Cを使用したことを意図し、「E」は下塗り層形成用塗布液Eを使用したことを意図した。
また、「画像記録層」欄においては、「A」は画像記録層形成用塗布液Aを使用したことを意図し、「B」は画像記録層形成用塗布液Bを使用したことを意図する。
In Table 1, the “large diameter hole portion average diameter” column represents the average diameter of the large diameter hole portion on the anodized film surface, and the “small diameter hole portion average diameter” column represents the average diameter at the communication position of the small diameter hole portion. Represent.
Further, “large diameter hole depth / betaine ratio” represents (depth of large diameter hole / mol% of repeating unit having betaine structure contained in polymer in undercoat layer used).
In the “undercoat layer type” column, “A” means that the undercoat layer forming coating solution A is used, and “B” means that the undercoat layer forming coating solution B is used. “C” intended to use the coating liquid C for forming the undercoat layer, and “E” intended to use the coating liquid E for forming the undercoat layer.
In the “image recording layer” column, “A” means that the image recording layer forming coating solution A is used, and “B” means that the image recording layer forming coating solution B is used. .

上記表1に示すように、本発明の平版印刷版原版では、所望の効果が得られた。
中でも、実施例1〜6の比較から、大径孔部の平均径が18〜50(好ましくは、20〜40nm)の場合、より効果が優れることが確認された。
また、実施例1、および、7〜11の比較から、大径孔部の深さが40〜180nm(好ましくは、70〜140nm)の場合、より効果が優れることが確認された。
また、実施例1、7〜11、および、18の比較から、ベタイン構造を有する繰り返し単位の含有量に対する、マイクロポアの大径孔部の深さの比が、0.8〜2.4である場合、より効果が優れることが確認された。
また、実施例1、および、14〜17の比較から、小径孔部の深さが600〜2000nm(好ましくは、700〜2000nm)の場合、より効果が優れることが確認された。
一方、所定の要件を満たさない比較例においては、所望の効果が得られなかった。
As shown in Table 1 above, the lithographic printing plate precursor according to the present invention provided desired effects.
Especially, it was confirmed from the comparison of Examples 1-6 that an effect is more excellent when the average diameter of a large diameter hole part is 18-50 (preferably 20-40 nm).
Moreover, from the comparison of Example 1 and 7-11, when the depth of the large diameter hole part was 40-180 nm (preferably 70-140 nm), it was confirmed that an effect is more excellent.
Moreover, from the comparison of Examples 1, 7 to 11, and 18, the ratio of the depth of the large pore portion of the micropore to the content of the repeating unit having a betaine structure is 0.8 to 2.4. In some cases, it was confirmed that the effect was more excellent.
Moreover, from the comparison of Example 1 and 14-17, when the depth of the small diameter hole part was 600-2000 nm (preferably 700-2000 nm), it was confirmed that an effect is more excellent.
On the other hand, in the comparative example not satisfying the predetermined requirements, the desired effect was not obtained.

<<実施例B:実施例20〜24、比較例8〜12>>
特開2003−211859号公報の段落0537に記載のアルミニウム板の作製から段落0546に記載のデスマット処理まで実施した。
次に、特開2012−158022号公報の段落0135に記載の(A−j)第1段階の陽極酸化処理から段落0138に記載の(A−m)第3段階の陽極酸化処理の各処理条件を適宜調整して、後述する表2に示す実施例および比較例の所定の形状の陽極酸化皮膜を形成し、アルミニウム支持体を得た。
<< Example B: Examples 20-24, Comparative Examples 8-12 >>
From the preparation of the aluminum plate described in paragraph 0537 of JP-A-2003-211859 to the desmut treatment described in paragraph 0546 was performed.
Next, each processing condition from (Aj) the first stage anodizing treatment described in paragraph 0135 of JP2012-158022A to (Am) the third stage anodizing treatment described in paragraph 0138. Were appropriately adjusted to form anodized films having predetermined shapes of Examples and Comparative Examples shown in Table 2 to be described later to obtain an aluminum support.

<下塗り層の形成>
上記で得られた各アルミニウム支持体上に、下塗り層形成用塗布液Dを乾燥塗布量が15mg/m2になるよう塗布して、下塗り層を有するアルミニウム支持体を作製した。
<Formation of undercoat layer>
On each of the aluminum supports obtained above, the undercoat layer-forming coating solution D was applied so that the dry coating amount was 15 mg / m 2 to prepare an aluminum support having an undercoat layer.

(下塗り層形成用塗布液D)
・下記に記載の高分子(Mw:10万) 0.18質量部
・エチレンジアミン四酢酸4ナトリウム 0.10質量部
・ポリオキシエチレンラウリルエーテル 0.03質量部
・水 61.39質量部
(Coating liquid D for undercoat layer formation)
-0.18 parts by mass of the polymer described below (Mw: 100,000)-0.10 parts by mass of tetrasodium ethylenediaminetetraacetate-0.03 parts by mass of polyoxyethylene lauryl ether-61.39 parts by mass of water

なお、上記下塗り層形成用塗布液D中の高分子における各構成単位の括弧の右下の数値は、質量%を表し、また、エチレンオキシ単位の括弧の右下の数値は、繰り返し数を表す。   The numerical value at the lower right of the parenthesis of each structural unit in the polymer in the coating liquid D for forming the undercoat layer represents mass%, and the numerical value at the lower right of the parenthesis of the ethyleneoxy unit represents the number of repetitions. .

<画像記録層の形成>
画像記録層形成用塗布液Cを下塗り層上にバーコーター塗布した後、100℃にて60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/mの画像記録層を形成した。
画像記録層形成用塗布液Cは、下記の感光液(2)およびミクロゲル液(2)を混合して得た。
<Formation of image recording layer>
The image recording layer forming coating solution C was applied onto the undercoat layer by bar coating, and then oven-dried at 100 ° C. for 60 seconds to form an image recording layer having a dry coating amount of 1.0 g / m 2 .
The image recording layer forming coating solution C was obtained by mixing the following photosensitive solution (2) and microgel solution (2).

(感光液(2))
・バインダーポリマー(1)〔下記構造、Mw:50,000、n:エチレンオキサイド(EO)単位数=4〕):0.480質量部
・赤外線吸収剤(1)〔下記構造〕:0.030質量部
・ボレート化合物〔テトラフェニルホウ酸ナトリウム〕:0.014質量部
・ラジカル重合開始剤(1)〔下記構造〕:0.234質量部
・ラジカル重合性化合物〔トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、NKエステルA−9300、新中村化学工業(株)製〕:0.192質量部
・低分子親水性化合物(1)〔トリス(2−ヒロドキシエチル)イソシアヌレート〕:0.052質量部
・アニオン性界面活性剤1〔下記構造〕:0.099質量部
・感脂化剤 ホスホニウム化合物(1)〔下記構造〕:0.12質量部
・感脂化剤 アンモニウム基含有ポリマー[下記構造、還元比粘度44ml/g]:0.035質量部
・感脂化剤 ベンジルジメチルオクチルアンモニウム・PF6塩:0.032質量部
・着色剤 エチルバイオレット[下記構造]:0.030質量部
・フッ素系界面活性剤(1)〔下記構造〕:0.02質量部
・2−ブタノン:1.091質量部
・1−メトキシ−2−プロパノール:8.609質量部
(Photosensitive solution (2))
-Binder polymer (1) [the following structure, Mw: 50,000, n: the number of ethylene oxide (EO) units = 4]): 0.480 parts by mass-Infrared absorber (1) [the following structure]: 0.030 Part by mass / borate compound [sodium tetraphenylborate]: 0.014 part by mass / radical polymerization initiator (1) [following structure]: 0.234 part by mass / radical polymerizable compound [tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate , NK ester A-9300, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.]: 0.192 parts by mass Low molecular weight hydrophilic compound (1) [Tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate]: 0.052 parts by mass Surfactant 1 [following structure]: 0.099 parts by mass / sensitizing agent Phosphonium compound (1) [following structure]: 0.12 parts by weight / sensitizing agent Ammo Um group-containing polymer [structure shown below, reduced specific viscosity 44 ml / g]: 0.035 parts by mass Sensitizer benzyl dimethyl octyl ammonium-PF 6 salt: 0.032 parts by mass Colorant Ethyl Violet [following structure: 0.030 parts by mass-Fluorosurfactant (1) [Structure below]: 0.02 parts by mass-2-butanone: 1.091 parts by mass-1-methoxy-2-propanol: 8.609 parts by mass

(ミクロゲル液(2))
・ミクロゲル(2):1.580質量部
・蒸留水:1.455質量部
(Microgel solution (2))
-Microgel (2): 1.580 parts by mass-Distilled water: 1.455 parts by mass

なお、Meはメチル基を表し、上記バインダーポリマー(1)およびアンモニウム基含有ポリマーの各構成単位の括弧の右下の数字はモル比を表す。   In addition, Me represents a methyl group, and the numbers on the lower right of the parentheses of the constituent units of the binder polymer (1) and the ammonium group-containing polymer represent a molar ratio.

なお、上記フッ素系界面活性剤(1)の各構成単位の括弧の右下の数字はモル比を表し、また、エチレンオキシ単位又はプロピレンオキシ単位の括弧の右下の数値は、繰り返し数を表す。   The number in the lower right of the parentheses of each constituent unit of the fluorosurfactant (1) represents the molar ratio, and the value in the lower right of the parentheses of the ethyleneoxy unit or propyleneoxy unit represents the number of repetitions. .

上記のミクロゲル(2)の合成法は、以下に示す通りである。
−ミクロゲル(2)の合成−
トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナートとの付加体(三井化学ポリウレタン(株)製、タケネートD−110N)10質量部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー・ジャパン(株)製、SR399)5.54質量部およびパイオニンA−41C(竹本油脂(株)製)0.1質量部を酢酸エチル17質量部に溶解して、油相成分を調製した。また、PVA−205の4質量%水溶液40質量部を調製して、水相成分を得た。
油相成分および水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25質量部に添加し、室温(25℃)で30分撹拌後、50℃で3時間撹拌した。このようにして得られたミクロゲルの固形分濃度を、15質量%になるように蒸留水を用いて希釈し、これを上記ミクロゲル(2)とした。ミクロゲル(2)の平均粒径を光散乱法により測定したところ、平均粒径は0.2μmであった。
The method for synthesizing the microgel (2) is as follows.
-Synthesis of microgel (2)-
10 parts by mass of an adduct of trimethylolpropane and xylene diisocyanate (Mitsui Chemical Polyurethane Co., Ltd., Takenate D-110N), dipentaerythritol pentaacrylate (Sartomer Japan Co., Ltd., SR399) 5.54 mass Part and 0.1 part by mass of Pionein A-41C (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) were dissolved in 17 parts by mass of ethyl acetate to prepare an oil phase component. Moreover, 40 mass parts of 4 mass% aqueous solution of PVA-205 was prepared, and the water phase component was obtained.
The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12,000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to 25 parts by mass of distilled water, stirred at room temperature (25 ° C.) for 30 minutes, and then stirred at 50 ° C. for 3 hours. The microgel thus obtained was diluted with distilled water to a solid content concentration of 15% by mass, and this was used as the microgel (2). When the average particle diameter of the microgel (2) was measured by a light scattering method, the average particle diameter was 0.2 μm.

<保護層の形成>
上記画像記録層上に、さらに下記組成の保護層塗布液(2)をバーコーター塗布した後、120℃にて60秒間でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.15g/mの保護層を形成し、平版印刷版原版を作製した。
(保護層塗布液(2))
・無機質層状化合物分散液(1)(上記で得たもの):1.5質量部
・親水性ポリマー(1)(固形分)〔下記構造、Mw:3万〕:0.55質量部
・ポリビニルアルコール(日本合成化学工業(株)製CKS50、スルホン酸変性、けん化度99モル%以上、重合度300)6質量%水溶液:0.10質量部
・ポリビニルアルコール((株)クラレ製PVA−405、けん化度81.5モル%、重合度500)6質量%水溶液:0.03質量部
・界面活性剤(ラピゾールA−80、商品名:日油(株)製)
80質量%水溶液 0.011質量部
・イオン交換水:6.0質量部
<Formation of protective layer>
A protective layer coating solution (2) having the following composition was further applied onto the image recording layer by a bar coater, followed by oven drying at 120 ° C. for 60 seconds to form a protective layer having a dry coating amount of 0.15 g / m 2. Then, a lithographic printing plate precursor was prepared.
(Protective layer coating solution (2))
Inorganic layered compound dispersion (1) (obtained above): 1.5 parts by mass Hydrophilic polymer (1) (solid content) [the following structure, Mw: 30,000]: 0.55 parts by mass Alcohol (Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. CKS50, sulfonic acid modification | denaturation, saponification degree 99 mol% or more, polymerization degree 300) 6 mass% aqueous solution: 0.10 mass part * polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd. PVA-405, Degree of saponification 81.5 mol%, degree of polymerization 500) 6% by mass aqueous solution: 0.03 parts by mass / surfactant (Lapisol A-80, trade name: NOF Corporation)
80% by mass aqueous solution 0.011 part by mass / ion exchange water: 6.0 parts by mass

なお、上記親水性ポリマー(1)の各構成単位の括弧の右下の数字はモル比を表す。   In addition, the number on the lower right of the parenthesis of each structural unit of the hydrophilic polymer (1) represents a molar ratio.

<画像露光>
平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxel PLATESETTER T-6000IIIにて、外面ドラム回転数1000rpm、レーザー出力70%、および、解像度2400dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像および50%網点チャートを含むようにした。
<Image exposure>
The lithographic printing plate precursor was exposed with a Luxel PLANETSETTER T-6000III equipped with an infrared semiconductor laser under the conditions of an external drum rotation speed of 1000 rpm, a laser output of 70%, and a resolution of 2400 dpi. The exposed image included a solid image and a 50% halftone dot chart.

<現像処理>
平版印刷版原版には、特開2009−237162号公報の図2に例示する現像処理装置を用いて現像処理を施し、平版印刷版を得た。
現像処理に用いた現像液は、下記組成の液を使用した。
<Development processing>
The planographic printing plate precursor was subjected to development processing using the development processing apparatus illustrated in FIG. 2 of JP-A-2009-237162 to obtain a planographic printing plate.
A developer having the following composition was used as the developer used in the development treatment.

(現像液)
・アニオン性界面活性剤(ペレックスNBL) 2質量%
・ノニオン性界面活性剤(ニューコールB13) 5質量%
・2−ホスホノブタン−1,2,4−トリカルボン酸(バイヒビットAM(商標)) 2質量%
・ベンジルアルコール 0.8質量%
・消泡剤(ポリジメチルシロキサン、Bluester Silicones社製SILCOLAPSE432) 0.02質量%
・水 90.18 質量%
(Developer)
・ Anionic surfactant (Perex NBL) 2% by mass
-Nonionic surfactant (New Coal B13) 5% by mass
2-phosphonobutane-1,2,4-tricarboxylic acid (Baihibit AM ™) 2% by mass
・ Benzyl alcohol 0.8% by mass
Antifoaming agent (polydimethylsiloxane, SILCOLAPSE432 manufactured by Bluester Silicones) 0.02% by mass
・ Water 90.18% by mass

各実施例20〜24および比較例8〜12にて得られた平版印刷版原版および平版印刷版を用いて、上述したUVインキ耐刷性、放置払い性、および、耐傷性を評価した。表2に結果を示す。
「下塗り層種類」欄においては、「D」は下塗り層形成用塗布液Dを使用したことを意図した。
なお、UVインキ耐刷性の評価においては、上記現像処理によって平版印刷版を三菱製ダイヤIF2印刷機の版胴に取り付け、評価を実施した。
また、放置払い性の評価においては、上記現像処理によって平版印刷版を、上述した放置払い性の評価と同様の条件で放置して、評価を実施した。
また、「画像記録層」欄においては、「C」は画像記録層形成用塗布液Cを使用したことを意図する。
Using the lithographic printing plate precursor and the lithographic printing plate obtained in each of Examples 20 to 24 and Comparative Examples 8 to 12, the above UV ink printing durability, neglectability, and scratch resistance were evaluated. Table 2 shows the results.
In the “undercoat layer type” column, “D” meant that the undercoat layer forming coating solution D was used.
In the evaluation of UV ink printing durability, the lithographic printing plate was attached to the plate cylinder of a Mitsubishi Dia IF 2 printing machine by the above development process, and the evaluation was carried out.
In the evaluation of neglectability, the lithographic printing plate was allowed to stand by the above development process under the same conditions as in the above-described neglectability evaluation.
In the “image recording layer” column, “C” means that the image recording layer forming coating solution C is used.

表2に示すように、本発明の平版印刷版原版では、現像形式を変更しても、所望の効果が得られた。   As shown in Table 2, with the planographic printing plate precursor of the present invention, the desired effect was obtained even if the development format was changed.

10 平版印刷版原版
12 アルミニウム支持体
14 下塗り層
16 画像記録層
18 アルミニウム板
20 陽極酸化皮膜
22 マイクロポア
24 大径孔部
26 小径孔部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Planographic printing plate precursor 12 Aluminum support body 14 Undercoat layer 16 Image recording layer 18 Aluminum plate 20 Anodized film 22 Micropore 24 Large diameter hole part 26 Small diameter hole part

Claims (11)

アルミニウム支持体と、下塗り層と、画像記録層とをこの順で含む平版印刷版原版であって、
前記下塗り層が、ベタイン構造を含む化合物またはポリビニルホスホン酸を含み、
前記アルミニウム支持体が、アルミニウム板と、前記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを含み、
前記陽極酸化皮膜が前記アルミニウム板よりも前記下塗り層側に位置し、
前記陽極酸化皮膜は、前記アルミニウム板とは反対側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、
前記マイクロポアが、前記陽極酸化皮膜表面から深さ20〜200nmの位置までのびる大径孔部と、前記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ500〜2000nmの位置までのびる小径孔部とから構成され、
前記大径孔部の前記陽極酸化皮膜表面における平均径が15〜60nmであり、
前記大径孔部の前記平均径に対する前記大径孔部の深さの比が0.3〜13.3であり、
前記小径孔部の前記連通位置における平均径が13nm以下である、平版印刷版原版。
A lithographic printing plate precursor comprising an aluminum support, an undercoat layer, and an image recording layer in this order,
The undercoat layer comprises a compound having a betaine structure or polyvinylphosphonic acid,
The aluminum support includes an aluminum plate and an anodized aluminum film disposed on the aluminum plate;
The anodized film is located on the undercoat layer side of the aluminum plate,
The anodized film has micropores extending in the depth direction from the surface opposite to the aluminum plate,
The micropore communicates with the large-diameter hole extending from the surface of the anodic oxide film to a depth of 20 to 200 nm and the bottom of the large-diameter hole, and the small diameter extending from the communicating position to a depth of 500 to 2000 nm. It consists of a hole and
The average diameter of the large-diameter hole portion on the surface of the anodized film is 15 to 60 nm,
The ratio of the depth of the large-diameter hole to the average diameter of the large-diameter hole is 0.3 to 13.3,
A lithographic printing plate precursor having an average diameter of 13 nm or less at the communication position of the small-diameter hole.
前記ベタイン構造が、式(i)で表される構造である、請求項1に記載の平版印刷版原版。
およびRは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または、ヘテロ環基を表し、RとRは互いに連結し、環構造を形成してもよい。Lは、連結基を表す。Aは、アニオンを有する構造を表す。*は、結合位置を表す。
The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the betaine structure is a structure represented by the formula (i).
R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and R 1 and R 2 are linked to each other to form a ring structure Also good. L 1 represents a linking group. A represents a structure having an anion. * Represents a binding position.
前記ベタイン構造を含む化合物が、ベタイン構造を有する繰り返し単位と、前記アルミニウム支持体の表面と相互作用する構造を有する繰り返し単位と、ラジカル重合性反応性基を有する繰り返し単位とを含む高分子である、請求項1または2に記載の平版印刷版原版。   The compound containing a betaine structure is a polymer containing a repeating unit having a betaine structure, a repeating unit having a structure that interacts with the surface of the aluminum support, and a repeating unit having a radical polymerizable reactive group. The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1 or 2. 前記ベタイン構造を有する繰り返し単位の含有量が、全繰り返し単位に対して、50〜95質量%であり、
前記アルミニウム支持体の表面と相互作用する構造を有する繰り返し単位の含有量が、全繰り返し単位に対して、1〜40質量%であり、
前記ラジカル重合性反応性基を有する繰り返し単位の含有量が、全繰り返し単位に対して、1〜30質量%である、請求項3に記載の平版印刷版原版。
The content of the repeating unit having the betaine structure is 50 to 95% by mass with respect to all the repeating units,
The content of the repeating unit having a structure that interacts with the surface of the aluminum support is 1 to 40% by mass based on all repeating units,
The lithographic printing plate precursor according to claim 3, wherein the content of the repeating unit having a radical polymerizable reactive group is 1 to 30% by mass based on all repeating units.
前記大径孔部の前記陽極酸化皮膜表面における平均径が18〜50nmである、請求項1〜4のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。   The planographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 4, wherein an average diameter of the large-diameter hole portion on the surface of the anodic oxide film is 18 to 50 nm. 前記大径孔部の深さが40〜180nmである、請求項1〜5のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor according to any one of Claims 1 to 5, wherein the large-diameter hole has a depth of 40 to 180 nm. 前記画像記録層が、酸発色剤を含む、請求項1〜6のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor according to any one of Claims 1 to 6, wherein the image recording layer comprises an acid color former. 前記酸発色剤が、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、スピロラクトン化合物、および、スピロラクタム化合物からなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物である、請求項7に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 7, wherein the acid color former is at least one compound selected from the group consisting of a spiropyran compound, a spirooxazine compound, a spirolactone compound, and a spirolactam compound. 前記ベタイン構造を有する繰り返し単位の含有量に対する、前記マイクロポアの大径孔部の深さの比が、0.8〜2.4である、請求項1〜8のいずれか1項に記載の平版印刷原版。   The ratio of the depth of the large-diameter hole portion of the micropore to the content of the repeating unit having the betaine structure is 0.8 to 2.4, according to any one of claims 1 to 8. Planographic printing plate. 請求項1〜9のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、
画像様露光された前記平版印刷版原版の未露光部を除去する除去工程と、を含む、平版印刷版の製造方法。
An exposure step of imagewise exposing the lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 9 to form an exposed portion and an unexposed portion;
And a removal step of removing an unexposed portion of the lithographic printing plate precursor that has been imagewise exposed.
請求項1〜10のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、
印刷インキおよび湿し水の少なくとも一方を供給して、印刷機上で画像様露光された前記平版印刷版原版の未露光部を除去し、印刷を行う印刷工程と、を含む、印刷方法。
An exposure step of exposing the lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 10 imagewise to form an exposed portion and an unexposed portion;
A printing process comprising: supplying at least one of printing ink and fountain solution, removing an unexposed portion of the lithographic printing plate precursor imagewise exposed on a printing machine, and performing printing.
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