JP4796890B2 - Planographic printing plate precursor and planographic printing method - Google Patents

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Description

本発明は感光性組成物、平版印刷版原版及び平版印刷方法に関し、特に、平版印刷版原
版の画像形成層に用いた場合、現像性、感度、耐刷性が向上する感光性組成物、それを用
いた平版印刷版原版及び平版印刷方法に関する。
The present invention relates to a photosensitive composition, a lithographic printing plate precursor, and a lithographic printing method, and in particular, when used in an image forming layer of a lithographic printing plate precursor, a photosensitive composition having improved developability, sensitivity, and printing durability, and The present invention relates to a lithographic printing plate precursor and a lithographic printing method.

一般に、平版印刷版は、印刷過程でインクを受容する親油性の画像部と湿し水を受容す
る親水性の非画像部とから成る。従来の平版印刷版は、親水性支持体上に親油性の感光性
樹脂層を設けたPS版に、リスフィルムを介してマスク露光した後、非画像部を現像液に
よって溶解除去することにより製版することが普通であった。
近年では、コンピューターが画像をデジタル情報として電子的に処理し、蓄積して、出
力する。従って、デジタル画像情報に応じた画像形成処理は、レーザー光のような指向性
の高い活性放射線を用いる走査露光により、リスフィルムを介することなく、平版印刷版
原版に対して直接画像形成を行うことが望ましい。このようにデジタル画像情報からリス
フィルムを介さずに印刷版を製版する技術は、コンピューター・トゥー・プレート(CT
P)と呼ばれている。
従来のPS版による印刷版の製版方法を、コンピューター・トゥー・プレート(CTP
)技術で実施しようとすると、レーザー光の波長領域と感光性樹脂の感光波長領域とが一
致しないという問題がある。
In general, a lithographic printing plate is composed of an oleophilic image portion that receives ink in the printing process and a hydrophilic non-image portion that receives dampening water. Conventional lithographic printing plates are made by exposing a non-image area to a PS plate having a lipophilic photosensitive resin layer on a hydrophilic support through a lith film and then dissolving and removing the non-image area with a developer. It was normal to do.
In recent years, computers electronically process, store, and output images as digital information. Therefore, the image forming process according to the digital image information is to directly form an image on the lithographic printing plate precursor without using a lith film by scanning exposure using a highly directional active radiation such as laser light. Is desirable. In this way, the technology for making a printing plate from digital image information without using a lithographic film is a computer-to-plate (CT).
P).
A conventional plate-making method using a PS plate is a computer-to-plate (CTP).
If the technique is to be implemented, there is a problem that the wavelength region of the laser beam does not match the photosensitive wavelength region of the photosensitive resin.

また、従来のPS版では、露光の後、非画像部を溶解除去する工程(現像処理)が不可
欠である。さらに、現像処理された印刷版を水洗したり、界面活性剤を含有するリンス液
で処理したり、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で処理する後処理工程も必要
であった。これらの付加的な湿式の処理が不可欠であるという点は、従来のPS版の大き
な検討課題となっている。前記のデジタル処理によって製版工程の前半(画像形成処理)
が簡素化されても、後半(現像処理)が煩雑な湿式処理では、簡素化による効果が不充分
である。
特に近年は、地球環境への配慮が産業界全体の大きな関心事となっている。環境への配
慮からも、より中性域に近い現像液での処理や少ない廃液が課題として挙げられている。
更に湿式の後処理は、簡素化するか、乾式処理に変更することが望ましい。
Further, in the conventional PS plate, a step (development process) for dissolving and removing the non-image portion after exposure is indispensable. Furthermore, a post-processing step of washing the developed printing plate with water, treating it with a rinsing liquid containing a surfactant, or treating with a desensitizing liquid containing gum arabic or starch derivatives is also necessary. The point that these additional wet treatments are indispensable is a big problem for the conventional PS plate. The first half of the plate making process by the above digital processing (image forming process)
However, in the wet process where the latter half (development process) is complicated, the effect of the simplification is insufficient.
Particularly in recent years, consideration for the global environment has become a major concern for the entire industry. In consideration of the environment, processing with a developing solution closer to the neutral range and a small amount of waste liquid are cited as problems.
Furthermore, it is desirable to simplify the wet post-treatment or change to a dry treatment.

そこで、処理工程をなくす方法の一つに、露光済みの印刷原版を印刷機のシリンダーに
装着し、シリンダーを回転しながら湿し水とインキを供給することによって、印刷原版の
非画像部を除去する機上現像と呼ばれる方法がある。すなわち、印刷原版を露光後、その
まま印刷機に装着し、通常の印刷過程の中で処理が完了する方式である。
このような機上現像に適した平版印刷版原版は、湿し水やインキ溶剤に可溶な画像形成
層を有し、しかも、明室に置かれた印刷機上で現像されるのに適した明室取り扱い性を有
することが必要とされる。
従来のPS版では、このような要求を満足することは、実質的に不可能であった。
Therefore, one way to eliminate the processing process is to remove the non-image area of the printing original plate by mounting the exposed printing original plate on the cylinder of the printing press and supplying dampening water and ink while rotating the cylinder. There is a method called on-press development. That is, after the printing original plate is exposed, it is mounted on a printing machine as it is, and the processing is completed in a normal printing process.
Such a lithographic printing plate precursor suitable for on-press development has an image forming layer soluble in dampening water or an ink solvent, and is suitable for development on a printing press placed in a bright room. It is necessary to have good light room handling.
In the conventional PS plate, it is practically impossible to satisfy such a requirement.

そこで、このような要求を満足するために、親水性バインダーポリマー中に熱可塑性疎
水性重合体微粒子を分散させた画像形成層を親水性支持体上に設けた平版印刷版原版が提
案されている(例えば、特許文献1参照)。その製版に際しては、赤外線レーザーで露光
して、光熱変換により生じた熱で熱可塑性疎水性重合体微粒子を合体(融着)させて画像
形成した後、印刷機のシリンダー上に版を取り付け、湿し水及びインキの少なくともいず
れかを供給することにより機上現像できる。この平版印刷版原版は感光域が赤外領域であ
ることにより、明室での取り扱い性も有している。
しかし、熱可塑性疎水性重合体微粒子を合体(融着)させて形成する画像は、強度が不
充分で、印刷版としての耐刷性に問題がある。
Therefore, in order to satisfy such requirements, a lithographic printing plate precursor in which an image forming layer in which thermoplastic hydrophobic polymer fine particles are dispersed in a hydrophilic binder polymer is provided on a hydrophilic support has been proposed. (For example, refer to Patent Document 1). In making the plate, it is exposed with an infrared laser, and the thermoplastic hydrophobic polymer fine particles are coalesced (fused) with heat generated by photothermal conversion to form an image. On-press development can be performed by supplying at least one of water and ink. This lithographic printing plate precursor also has handleability in a bright room because the photosensitive region is an infrared region.
However, an image formed by coalescence (fusion) of thermoplastic hydrophobic polymer fine particles has insufficient strength and has a problem in printing durability as a printing plate.

また、熱可塑性微粒子に代えて、重合性化合物を内包するマイクロカプセルを含む平版
印刷版原版が提案されている(例えば、特許文献2〜7参照)。このような提案にかかる
原版では、重合性化合物の反応により形成されるポリマー画像が微粒子の融着により形成
される画像よりも強度に優れているという利点がある。
また、重合性化合物は反応性が高いため、マイクロカプセルを用いて隔離しておく方法
が多く提案されている(例えば、特許文献2〜7参照)。そして、マイクロカプセルのシ
ェルには、熱分解性のポリマーを使用することが提案されている。
In addition, a lithographic printing plate precursor including microcapsules encapsulating a polymerizable compound in place of the thermoplastic fine particles has been proposed (see, for example, Patent Documents 2 to 7). The original plate according to such a proposal has an advantage that the polymer image formed by the reaction of the polymerizable compound is superior in strength to the image formed by fusing fine particles.
In addition, since a polymerizable compound has high reactivity, many methods for isolating it using microcapsules have been proposed (see, for example, Patent Documents 2 to 7). It has been proposed to use a thermally decomposable polymer for the shell of the microcapsule.

特許2938397号公報Japanese Patent No. 2938397 特開2000−211262号公報JP 2000-2111262 A 特開2001−277740号公報JP 2001-277740 A 特開2002−29162号公報JP 2002-29162 A 特開2002−46361号公報JP 2002-46361 A 特開2002−137562号公報JP 2002-137562 A 特開2002−326470号公報JP 2002-326470 A

しかしながら、上記特許文献2〜7に記載の従来の平版印刷版原版では、レーザー露光
により形成される画像の現像性、感度および耐刷性のすべてが十分でなく、また、中性域
に近い現像液での処理や少ない廃液等の課題があった。
本発明の目的は、上記従来の技術の欠点を克服し、レーザー光による書き込みが可能で
、印刷機のシリンダー上に取り付け、湿し水および/またはインキにより機上現像が可能
であり、また、酸性から中性域で現像可能であり、その現像性、感度および耐刷性が優れ
た平版印刷版原版を提供することができる感光性組成物、それを用いた平版印刷版原版及
び平版印刷方法を提供することである。
However, in the conventional lithographic printing plate precursors described in Patent Documents 2 to 7, all of the developability, sensitivity and printing durability of the image formed by laser exposure are not sufficient, and development close to the neutral region There were problems such as treatment with liquid and little waste liquid.
The object of the present invention is to overcome the drawbacks of the prior art described above, write with a laser beam, mounted on a cylinder of a printing press, and capable of on-press development with dampening water and / or ink, Photosensitive composition capable of providing a lithographic printing plate precursor that can be developed in an acidic to neutral range and has excellent developability, sensitivity, and printing durability, and lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same Is to provide.

本発明者は、上記課題を達成すべく鋭意検討を重ねた結果、平版印刷版原版の画像形成層を形成する感光性組成物中に、下記一般式(3)で表される化合物を含有させることにより、上記目的が達成されることを見出し、本発明を成すに至った。
すなわち、本発明は、以下の通りである。
(1)表面親水性の支持体上に、下記一般式(3)で表される化合物を含有する画像形成層を設けた平版印刷版原版。
As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned problems, the inventor contains a compound represented by the following general formula (3) in the photosensitive composition forming the image forming layer of the lithographic printing plate precursor. As a result, the inventors have found that the above object can be achieved, and have accomplished the present invention.
That is, the present invention is as follows.
(1) A lithographic printing plate precursor in which an image forming layer containing a compound represented by the following general formula (3) is provided on a surface hydrophilic support.

式中、カチオン部とは、+電荷を有する官能基から成る部分であり、アニオン部とは、
−電荷を有する官能基から成る部分であり、a、bは1〜20の自然数を表し、m、p、
はそれぞれ1〜6の自然数を表し、Cはm/Cp=1となる数を表す。
In the formula, the cation moiety is a moiety composed of a functional group having a positive charge, and the anion moiety is
-A portion composed of a functional group having a charge, a and b represent natural numbers of 1 to 20, m, p,
Represents a natural number of 1 to 6 and C represents a number where m / Cp = 1.

(2)該画像形成層が更にラジカル重合性化合物を含有することを特徴とする前記(1)記載の平版印刷版原版。
)該画像形成層が更に赤外線吸収剤を含有することを特徴とする前記(1)又は(2)記載の平版印刷版原版。
)該画像形成層上に保護層を設けたことを特徴とする前記()〜()記載の平版印刷版原版。
)pHが10以下の水溶液により現像可能であることを特徴とする前記()〜()記載の平版印刷版原版。
)画像形成後、何ら処理することなく印刷機に装着し印刷することが可能な前記()〜()記載の平版印刷版原版。
(2) said that the image forming layer is further characterized by containing a radical polymerizable compound (1) Symbol mounting the lithographic printing plate precursor.
( 3 ) The lithographic printing plate precursor as described in (1) or (2) above, wherein the image forming layer further contains an infrared absorber.
( 4 ) The lithographic printing plate precursor as described in ( 1 ) to ( 3 ) above, wherein a protective layer is provided on the image forming layer.
( 5 ) The lithographic printing plate precursor as described in ( 1 ) to ( 4 ) above, which can be developed with an aqueous solution having a pH of 10 or less.
( 6 ) The lithographic printing plate precursor as described in ( 1 ) to ( 4 ) above, which can be mounted on a printing press and printed without any processing after image formation.

)前記()〜()の何れかに記載の平版印刷版原版を、印刷機に装着し、レーザーで画像様に露光した後、又は、レーザーで画像様に露光した後、印刷機に装着し、該平版印刷版原版に、印刷インキと湿し水とを供給して、該画像形成層の未露光部分を除去し、印刷する平版印刷方法。
)露光から現像までの間に、さらに、露光された平版印刷版原版を加熱処理することを特徴とする前記()記載の平版印刷版の作製方法。
( 7 ) The lithographic printing plate precursor according to any one of ( 1 ) to ( 6 ) above is mounted on a printing press and imagewise exposed with a laser, or imagewise exposed with a laser and then printed. A lithographic printing method comprising: mounting on a machine; supplying printing ink and fountain solution to the lithographic printing plate precursor to remove unexposed portions of the image forming layer and printing.
( 8 ) The method for preparing a lithographic printing plate as described in ( 7 ) above, wherein the exposed lithographic printing plate precursor is further subjected to heat treatment between exposure and development.

本発明の感光性組成物によれば、平版印刷版原版の画像形成層に用いることにより、該
平版印刷版原版が、赤外線および半導体レーザー露光による書き込みが可能で、かつ、印
刷機のシリンダー上に取り付け、湿し水および/またはインキにより該画像形成層の未露
光部分を除去し、機上現像が可能であり、また、酸性から中性域で現像可能であり、その
現像性、感度が優れたものとすることができ、また耐刷性に優れたものとすることができ
る。
According to the photosensitive composition of the present invention, the use of the lithographic printing plate precursor in the image forming layer allows the lithographic printing plate precursor to be written by infrared and semiconductor laser exposure, and on the cylinder of the printing press. The unexposed portion of the image-forming layer can be removed by mounting, fountain solution and / or ink, and can be developed on-machine, and can be developed in an acidic to neutral range, and its developability and sensitivity are excellent. In addition, it can be excellent in printing durability.

以下、本発明の平版印刷版原版及び平版印刷方法について詳細に説明する。なお本発明は、上記(1)〜(8)に記載の平版印刷版原版及び平版印刷方法に関するものであるが、本明細書には、参考の為、その他の事項についても記載する。
まず、本発明の感光性組成物の特徴である、一般式(1)又は(2)で表される化合物について説明する。
It will be described in detail below flat plate printing plate precursor and a lithographic printing method of the present invention. The present invention relates to the lithographic printing plate precursor and the lithographic printing method described in the above (1) to (8), but other matters are also described in this specification for reference.
First, the compound represented by the general formula (1) or (2), which is a feature of the photosensitive composition of the present invention, will be described.

一般式(1)及び(2)における重合性基とは、ラジカル重合する官能基であれば何れ
も好適に使用することができる。かかるラジカル重合する官能基としては、アクリル酸エ
ステル基、メタクリル酸エステル基、イタコン酸エステル基、マレイン酸エステル基、フ
マル酸エステル基、アクリル酸アミド基、メタクリル酸アミド基、イタコン酸アミド基、
マレイン酸アミド基、フマル酸アミド基、ビニルエーテル基、ビニルエステル基、ビニル
フェニル基、ビニルカルボニル基、及びこれらの誘導体などが挙げられる。中でもアクリ
ル酸エステル基、メタクリル酸エステル基、イタコン酸エステル基、マレイン酸エステル
基、フマル酸エステル基、アクリル酸アミド基、ビニルエーテル基、ビニルエステル基、
ビニルフェニル基、が好ましく、アクリル酸エステル基、メタクリル酸エステル基、が特
に好ましい。
As the polymerizable group in the general formulas (1) and (2), any functional group capable of radical polymerization can be preferably used. Such radical polymerizing functional groups include acrylic acid ester groups, methacrylic acid ester groups, itaconic acid ester groups, maleic acid ester groups, fumaric acid ester groups, acrylic acid amide groups, methacrylic acid amide groups, itaconic acid amide groups,
Examples thereof include a maleic acid amide group, a fumaric acid amide group, a vinyl ether group, a vinyl ester group, a vinyl phenyl group, a vinyl carbonyl group, and derivatives thereof. Among them, acrylic acid ester group, methacrylic acid ester group, itaconic acid ester group, maleic acid ester group, fumaric acid ester group, acrylic acid amide group, vinyl ether group, vinyl ester group,
A vinylphenyl group is preferable, and an acrylate group and a methacrylate group are particularly preferable.

一般式(1)におけるカチオン部とは、+電荷を有する官能基を含む部分である。かか
る+電荷はN+、S+、O+、I+、P+により形成されることが好ましく、N+、P+
により形成されることがより好ましい。
一般式(1)におけるXn-とは、n価のアニオン化合物である。かかるアニオン化合物
としては、ハロゲンアニオン、ハロゲンオキソ酸アニオン(ClO4-、IO3-、BrO3-
等)、ハロゲノ錯イオン(BF4 -、PF6 -、AlCl4 -等)、硫酸アニオン、硝酸アニオ
ン、リン酸アニオン、ボレートアニオン、カルボン酸アニオン、スルホン酸アニオン、ホ
スホン酸アニオン、金属錯体アニオン([Fe(CN)64-等)等が挙げられる。中で
もスルホン酸アニオン、カルボン酸アニオン、ホスホン酸アニオンが好ましい。
The cation moiety in the general formula (1) is a moiety including a functional group having a positive charge. Such + charges are preferably formed by N +, S +, O +, I +, P +, and N +, P +
More preferably, it is formed by.
X n− in the general formula (1) is an n-valent anion compound. Such anion compounds include halogen anions, halogen oxoacid anions (ClO 4− , IO 3− , BrO 3−).
), Halogeno complex ions (BF 4 , PF 6 , AlCl 4 −, etc.), sulfate anion, nitrate anion, phosphate anion, borate anion, carboxylate anion, sulfonate anion, phosphonate anion, metal complex anion ( [Fe (CN) 6 ] 4- etc.) And the like. Of these, a sulfonate anion, a carboxylate anion, and a phosphonate anion are preferable.

一般式(2)におけるアニオン部とは、−電荷を有する官能基を含む部分である。かか
る−電荷は、カルボン酸アニオン、スルホン酸アニオン、ホスホン酸アニオン、リン酸ア
ニオン、硫酸アニオン、ボレートアニオン、により形成されることが好ましく、カルボン
酸アニオン、スルホン酸アニオン、ホスホン酸アニオン、リン酸アニオンにより形成され
ることがより好ましい。
The anion moiety in the general formula (2) is a moiety including a functional group having a −charge. Such a charge is preferably formed by a carboxylate anion, a sulfonate anion, a phosphonate anion, a phosphate anion, a sulfate anion, a borate anion, and a carboxylate anion, a sulfonate anion, a phosphonate anion, a phosphate anion. More preferably, it is formed by.

一般式(2)におけるMq+とは、q価のカチオン化合物である。かかるカチオン化合物
としては、アルカリ金属カチオン(Li+、Na+、K+等)、アルカリ土類金属カチオン
(Mg2+、Ca2+等)、IIB族金属カチオン(Zn2+等)、IIIB族金属カチオン(
Al3+等)、IVB族金属カチオン(Sn2+等)、遷移金属カチオン(Fe2+、Fe3+
Ni2+、Cu2+、Co2+、Ag+等)、金属錯体カチオン([Fe(bpy)32+等)、
アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、ヨードニウムカチオン、スルホニウムカ
チオン、ジアゾニウムカチオン、ピリジニウムカチオン、オキソニウムカチオン、等が挙
げられる。中でもアンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、ピリジニウムカチオン
、アルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチオン、遷移金属カチオン、IIB族金属
カチオン、IIIB族金属カチオン、IVB族金属カチオンが好ましく、アンモニウムカ
チオン、ホスホニウムカチオン、アルカリ土類金属カチオン、遷移金属カチオンがより好
ましい。
In the general formula (2), M q + is a q-valent cation compound. Examples of such cationic compounds include alkali metal cations (Li + , Na + , K + etc.), alkaline earth metal cations (Mg 2+ , Ca 2+ etc.), IIB group metal cations (Zn 2+ etc.), IIIB group Metal cations (
Al 3+ etc.), group IVB metal cations (Sn 2+ etc.), transition metal cations (Fe 2+ , Fe 3+ ,
Ni 2+ , Cu 2+ , Co 2+ , Ag +, etc.), metal complex cations ([Fe (bpy) 3 ] 2+, etc.),
Examples include ammonium cation, phosphonium cation, iodonium cation, sulfonium cation, diazonium cation, pyridinium cation, and oxonium cation. Among them, ammonium cation, phosphonium cation, pyridinium cation, alkali metal cation, alkaline earth metal cation, transition metal cation, group IIB metal cation, group IIIB metal cation, group IVB metal cation are preferable, ammonium cation, phosphonium cation, alkaline earth More preferred are metal cations and transition metal cations.

本発明に用いられる一般式(1)又は(2)で表される化合物は、上記に記載されるよ
うな重合性基と+電荷又は−電荷を有する官能基を既存の連結基により連結した化合物で
あれば何れも好適に使用することができる。かかる化合物として好ましいものは、一般式
(1)又は(2)で表される化合物全体で2つ以上の重合性基を有する化合物である。以
下に一般式(1)又は(2)で表される化合物の具体例を示す。本発明はこれらに限定さ
れるものではない。
The compound represented by the general formula (1) or (2) used in the present invention is a compound in which a polymerizable group as described above and a functional group having + charge or −charge are linked by an existing linking group. Any of them can be suitably used. What is preferable as such a compound is a compound having two or more polymerizable groups in the whole compound represented by the general formula (1) or (2). Specific examples of the compound represented by the general formula (1) or (2) are shown below. The present invention is not limited to these.

次に本発明に用いられる一般式(3)で表される化合物について説明する。   Next, the compound represented by the general formula (3) used in the present invention will be described.

式中、カチオン部とは、+電荷を有する官能基から成る部分であり、アニオン部とは、
−電荷を有する官能基から成る部分であり、a、bは1〜20の自然数を表し、m、p、
はそれぞれ1〜6の自然数を表し、Cはm/Cp=1となる数を表す。
In the formula, the cation moiety is a moiety composed of a functional group having a positive charge, and the anion moiety is
-A portion composed of a functional group having a charge, a and b represent natural numbers of 1 to 20, m, p,
Represents a natural number of 1 to 6 and C represents a number where m / Cp = 1.

本発明に用いられる一般式(3)で表される化合物は、上記一般式(1)で表される化
合物の重合性基とカチオン部を有するカチオン化合物と上記一般式(2)で表される化合
物の重合性基とアニオン部を有するアニオン化合物がイオン対を形成した化合物であれば
いずれも好適に使用することができる。本発明に用いられる一般式(3)で表される化合
物の具体例を以下に示す。本発明はこれらに限定されるものではない。
The compound represented by the general formula (3) used in the present invention is represented by the cationic compound having a polymerizable group and a cation moiety of the compound represented by the general formula (1) and the general formula (2). Any compound in which the polymerizable group of the compound and the anion compound having an anion portion form an ion pair can be suitably used. Specific examples of the compound represented by the general formula (3) used in the present invention are shown below. The present invention is not limited to these.

本発明に用いられる一般式(1)、(2)、又は(3)で表される化合物の分子量は、
3000以下が好ましく、2000以下がより好ましい。
本発明に用いられる一般式(1)、(2)、又は(3)で表される化合物は、それぞれ
単独で使用しても良く、2種以上を混合して使用しても良い。
本発明に用いられる一般式(1)、(2)、又は(3)で表される化合物の感光性組成
物への含有率は、感光性組成物全固形分に対して0.1質量%以上50質量%以下が好ま
しく、0.5質量%以上30質量%以下がより好ましい。
The molecular weight of the compound represented by the general formula (1), (2), or (3) used in the present invention is:
3000 or less is preferable and 2000 or less is more preferable.
The compounds represented by the general formula (1), (2) or (3) used in the present invention may be used alone or in combination of two or more.
The content of the compound represented by the general formula (1), (2), or (3) used in the present invention in the photosensitive composition is 0.1% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive composition. The content is preferably 50% by mass or less and more preferably 0.5% by mass or more and 30% by mass or less.

(IM−577の合成)
3−スルホプロピルメタクリレートカリウム塩:12.32g、2−メタクリロイルオ
キシエチルトリメチルアンモニウムクロリド(75%水溶液):13.85g、水:25
gを混合して完全に溶解させた。同溶液をアセトン:1Lに注ぎ、そのまま30分間攪拌
した。得られた混合溶液をろ過した後、減圧下にて濃縮すると、IM−577(94.4
質量%水溶液):23.25gが得られた。
(Synthesis of IM-577)
3-sulfopropyl methacrylate potassium salt: 12.32 g, 2-methacryloyloxyethyltrimethylammonium chloride (75% aqueous solution): 13.85 g, water: 25
g was mixed and dissolved completely. The solution was poured into 1 L of acetone and stirred as it was for 30 minutes. The obtained mixed solution was filtered and then concentrated under reduced pressure to obtain IM-577 (94.4).
Mass% aqueous solution): 23.25 g was obtained.

(IM−454の合成)
p−キシリレンジブロミド:13.20g、メタクリル酸−2−ジエチルアミノエチル
:20.38g、イソプロパノール:100mL、p−メトキシフェノール:10mgを
混合し、還流下2時間攪拌した。2時間後、室温まで冷却し、析出した白色固体をろ過し
て10℃以下に冷却したイソプロパノール:10mLで洗浄した。減圧下にて乾燥し、I
M−454:26.98gを白色固体として得た。
(Synthesis of IM-454)
p-Xylylene dibromide: 13.20 g, methacrylic acid-2-diethylaminoethyl: 20.38 g, isopropanol: 100 mL, p-methoxyphenol: 10 mg were mixed and stirred under reflux for 2 hours. Two hours later, the mixture was cooled to room temperature, and the precipitated white solid was filtered and washed with 10 mL of isopropanol cooled to 10 ° C. or lower. Dry under reduced pressure, I
M-454: 26.98 g was obtained as a white solid.

(IM−580の合成)
IM−454:6.35gをメタノール:10mLに溶解させた。同溶液に、3−スル
ホプロピルメタクリレートカリウム塩:7.39gを水:30mLに溶かした水溶液を加
え、室温下にて3時間攪拌した。3時間後、減圧下にてメタノールを除去し、得られた水
溶液をクロロホルム:50mLにて抽出した。同クロロホルム溶液と3−スルホプロピル
メタクリレートカリウム塩:7.39gを水:30mLに溶かした水溶液を混合し、室温
下にて30分間攪拌した後、クロロホルム相を分離して減圧濃縮するとIM−580:8
.0gが得られた。
(Synthesis of IM-580)
IM-454: 6.35 g was dissolved in methanol: 10 mL. To this solution, an aqueous solution in which 7.39 g of potassium 3-sulfopropyl methacrylate was dissolved in 30 mL of water was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. After 3 hours, methanol was removed under reduced pressure, and the resulting aqueous solution was extracted with chloroform: 50 mL. The chloroform solution and an aqueous solution prepared by dissolving 7.39 g of 3-sulfopropyl methacrylate potassium salt in water: 30 mL were mixed and stirred at room temperature for 30 minutes, and then the chloroform phase was separated and concentrated under reduced pressure to obtain IM-580: 8
. 0 g was obtained.

(IM−046の合成)
テトラメチレンビス(トリフェニルホスホニウム)ブロミド:7.41gをメタノール
:30mLに研濁させ加熱して溶解させた。室温まで冷ました同溶液に、3−スルホプロ
ピルメタクリレートカリウム塩:7.39gを水:30mLに溶かした水溶液を加え、室
温下にて2時間攪拌した。2時間後、減圧下にてメタノールを除去し、得られた水溶液を
クロロホルム:50mLにて抽出した。同クロロホルム溶液と3−スルホプロピルメタク
リレートカリウム塩:7.39gを水:30mLに溶かした水溶液を混合し、室温下にて
30分間攪拌した後、クロロホルム相を分離し、更に3−スルホプロピルメタクリレート
カリウム塩:7.39gを水:30mLに溶かした水溶液と混合して30分間攪拌した。
クロロホルム相を分離して減圧濃縮するとIM−046:9.86gが得られた。
(Synthesis of IM-046)
Tetramethylenebis (triphenylphosphonium) bromide: 7.41 g was suspended in methanol: 30 mL and dissolved by heating. To the same solution cooled to room temperature, an aqueous solution in which 7.39 g of potassium 3-sulfopropyl methacrylate was dissolved in 30 mL of water was added, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. After 2 hours, methanol was removed under reduced pressure, and the resulting aqueous solution was extracted with chloroform: 50 mL. The chloroform solution and an aqueous solution of 7.39 g of 3-sulfopropyl methacrylate potassium salt in water: 30 mL were mixed and stirred at room temperature for 30 minutes, and then the chloroform phase was separated. Salt: 7.39 g was mixed with an aqueous solution in 30 mL of water and stirred for 30 minutes.
The chloroform phase was separated and concentrated under reduced pressure to obtain IM-046: 9.86 g.

本発明の感光性組成物は、上記一般式(1)、(2)又は(3)で表される化合物とと
もに、ラジカル重合開始剤、バインダーポリマー、増感色素を含有している。
The photosensitive composition of this invention contains the radical polymerization initiator, the binder polymer, and the sensitizing dye with the compound represented by the said General formula (1), (2) or (3).

〔ラジカル重合開始剤〕
本発明の感光性組成物に用いられるラジカル重合開始剤は、光または熱エネルギーによ
りラジカルを発生し、重合性不飽和基を有する化合物の重合を開始、促進する化合物であ
る。このようなラジカル発生剤としては、公知のラジカル重合開始剤や結合解離エネルギ
ーの小さな結合を有する化合物などから、適宜、選択して用いることができる。
上記のラジカルを発生する化合物としては、例えば、有機ハロゲン化合物、カルボニル
化合物、有機過酸化物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサア
リールビイミダゾール化合物、有機ホウ素化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル
化合物、オニウム塩化合物、が挙げられる。
[Radical polymerization initiator]
The radical polymerization initiator used in the photosensitive composition of the present invention is a compound that generates radicals by light or thermal energy and initiates and accelerates polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group. As such a radical generator, a known radical polymerization initiator or a compound having a bond having a small bond dissociation energy can be appropriately selected and used.
Examples of the compounds that generate radicals include organic halogen compounds, carbonyl compounds, organic peroxides, azo polymerization initiators, azide compounds, metallocene compounds, hexaarylbiimidazole compounds, organic boron compounds, disulfone compounds, and oximes. Examples thereof include ester compounds and onium salt compounds.

上記有機ハロゲン化合物としては、具体的には、若林等、「Bull Chem.So
c Japan」42、2924(1969)、米国特許第3,905,815号明細書
、特公昭46−4605号、特開昭48−36281号、特開53−133428号、特
開昭55−32070号、特開昭60−239736号、特開昭61−169835号、
特開昭61−169837号、特開昭62−58241号、特開昭62−212401号
、特開昭63−70243号、特開昭63−298339号の公報、M.P.Hutt,
"Journal of Heterocyclic Chemistry",1(No.
3)(1970)に記載の化合物が挙げられる。中でも、トリハロメチル基が置換したオ
キサゾール化合物およびS−トリアジン化合物が好適である。
Specific examples of the organic halogen compound include Wakabayashi et al., “Bull Chem.
c Japan "42, 2924 (1969), U.S. Pat. No. 3,905,815, JP-B 46-4605, JP-A 48-36281, JP-A 53-133428, JP-A 55-32070. JP, 60-609736, JP 61-169835,
JP-A-61-169837, JP-A-62-258241, JP-A-62-212401, JP-A-63-70243, JP-A-63-298339, P. Hutt,
“Journal of Heterocyclic Chemistry”, 1 (No.
3) The compound as described in (1970) is mentioned. Of these, oxazole compounds and S-triazine compounds substituted with a trihalomethyl group are preferred.

より好適には、すくなくとも一つのモノ、ジ、またはトリハロゲン置換メチル基が、s
−トリアジン環に結合したs−トリアジン誘導体およびオキサジアゾール環に結合したオ
キサジアゾール誘導体が挙げられる。具体的には、例えば、2,4,6−トリス(モノク
ロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−
ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2―n−プロピル−4,6−ビス(トリク
ロロメチル)−s−トリアジン、2−(α,α,β−トリクロロエチル)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3,4−エポキシフェニル)−4、6−
ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔1−(p−メトキシフェニル)−2
,4−ブタジエニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−スチ
リル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシスチリ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−i−プロピルオ
キシスチリル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシナフチ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニルチオ−4,6
−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ベンジルチオ−4,6−ビス(トリ
クロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジブロモメチル)−s−トリア
ジン、2,4,6−トリス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6
−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メトキシ−4,6−ビス(トリブロ
モメチル)−s−トリアジンや下記化合物等が挙げられる。
More preferably, at least one mono, di, or trihalogen substituted methyl group is s
-An s-triazine derivative bonded to a triazine ring and an oxadiazole derivative bonded to an oxadiazole ring. Specifically, for example, 2,4,6-tris (monochloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -S-triazine, 2-methyl-4,6-
Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-n-propyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (α, α, β-trichloroethyl) -4,6-bis (trichloro Methyl) -s-triazine, 2- (3,4-epoxyphenyl) -4, 6-
Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [1- (p-methoxyphenyl) -2
, 4-Butadienyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-styryl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxystyryl) -4,6 -Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (pi-propyloxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (Trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-phenylthio-4,6
-Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-benzylthio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dibromomethyl) -s-triazine, 2,4,6 -Tris (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6
Examples include -bis (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methoxy-4,6-bis (tribromomethyl) -s-triazine, the following compounds, and the like.

上記カルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、2−メチルベンゾ
フェノン、3−メチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2−クロロベンゾフ
ェノン、4−ブロモベンゾフェノン、2−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン
誘導体、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセト
フェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドトキシ−2−メチル
フェニルプロパノン、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル−(p−イソプロピルフェニル
)ケトン、1−ヒドロキシ−1−(p−ドデシルフェニル)ケトン、2−メチル−(4'
−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノ−1−プロパノン、1,1,1−トリクロ
ロメチル−(p−ブチルフェニル)ケトン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、
2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサント
ン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイ
ソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、p−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ル、p−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることがで
きる。
Examples of the carbonyl compound include benzophenone, Michler ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, 2-carboxybenzophenone and other benzophenone derivatives, 2,2-dimethoxy- 2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, α-hydroxy-2-methylphenylpropanone, 1-hydroxy-1-methylethyl- (p-isopropylphenyl) ketone, 1- Hydroxy-1- (p-dodecylphenyl) ketone, 2-methyl- (4 ′
Acetophenone derivatives such as-(methylthio) phenyl) -2-morpholino-1-propanone, 1,1,1-trichloromethyl- (p-butylphenyl) ketone, thioxanthone,
Thioxanthone derivatives such as 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, ethyl p-dimethylaminobenzoate, p- Examples thereof include benzoic acid ester derivatives such as ethyl diethylaminobenzoate.

上記アゾ化合物としては例えば、特開平8−108621号公報に記載のアゾ化合物等
を使用することができる。
As the azo compound, for example, an azo compound described in JP-A-8-108621 can be used.

上記有機過酸化物としては、例えば、トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、ア
セチルアセトンパーオキサイド、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)−3,3
,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)シクロ
ヘキサン、2,2−ビス(tert−ブチルパーオキシ)ブタン、tert−ブチルハイ
ドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロ
パーオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、1,
1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、tert−ブチルクミルパー
オキサイド、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチ
ルパーオキシ)ヘキサン、2,5−オキサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸
化ベンゾイル、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシ
ジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシ
エチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ
(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、tert−ブチルパー
オキシアセテート、tert−ブチルパーオキシピバレート、tert−ブチルパーオキ
シネオデカノエート、tert−ブチルパーオキシオクタノエート、tert−ブチルパ
ーオキシラウレート、ターシルカーボネート、3,3',4,4'−テトラ−(t−ブチル
パーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3',4,4'−テトラ−(t−ヘキシルパ
ーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3',4,4'−テトラ−(p−イソプロピル
クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、カルボニルジ(t−ブチルパーオキシ二
水素二フタレート)、カルボニルジ(t−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート)等が
挙げられる。
Examples of the organic peroxide include trimethylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tert-butylperoxy) -3,3.
, 5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tert-butylperoxy) cyclohexane, 2,2-bis (tert-butylperoxy) butane, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroper Oxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide, 1,
1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, tert-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexane, 2,5-oxa Noyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate, dimethoxy Isopropyl peroxycarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, tert-butyl peroxyacetate, tert-butyl peroxypivalate, tert-butyl peroxyneodecanoate, ter -Butyl peroxyoctanoate, tert-butyl peroxylaurate, tersyl carbonate, 3,3 ', 4,4'-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4 '-Tetra- (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, carbonyldi (t-butylperoxydihydrogen diphthalate) , Carbonyldi (t-hexylperoxydihydrogen diphthalate) and the like.

上記メタロセン化合物としては、特開昭59−152396号公報、特開昭61−15
1197号公報、特開昭63−41484号公報、特開平2−249号公報、特開平2−
4705号公報、特開平5−83588号公報記載の種々のチタノセン化合物、例えば、
ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−
ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−
2,4−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,
4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,
3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス
−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエ
ニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエ
ニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペン
タジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチ
ルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1
−イル、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(ピル−1−
イル)フェニル)チタニウム、特開平1−304453号公報、特開平1−152109
号公報記載の鉄−アレーン錯体等が挙げられる。
Examples of the metallocene compounds include JP-A-59-152396 and JP-A-61-15.
No. 1197, JP-A 63-41484, JP-A 2-249, JP-A 2-
Various titanocene compounds described in Japanese Patent No. 4705 and JP-A-5-83588, for example,
Di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-
Bis-2,6-difluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-
2,4-di-fluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,
4,6-trifluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,
3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl -Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl- Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophen-1
-Yl, bis (cyclopentadienyl) -bis (2,6-difluoro-3- (pyr-1-
Yl) phenyl) titanium, JP-A-1-304453, JP-A-1-152109
And iron-arene complexes described in the Japanese Patent Publication.

上記ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平6−29285号
公報、米国特許第3,479,185号、同第4,311,783号、同第4,622,
286号の明細書等に記載の種々の化合物、具体的には、2,2'−ビス(o−クロロフ
ェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−ブ
ロモフェニル))4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(
o,p−ジクロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,
2'−ビス(o−クロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラ(m−メトキシフェニル
)ビイジダゾール、2,2'−ビス(o,o'−ジクロロフェニル)−4,4',5,5'−
テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4',5,
5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−メチルフェニル)−4,4'
,5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−トリフルオロフェニル
)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
Examples of the hexaarylbiimidazole compound include Japanese Patent Publication No. 6-29285, U.S. Pat. Nos. 3,479,185, 4,311,783, and 4,622.
Various compounds described in the specification of No. 286, specifically, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′- Bis (o-bromophenyl)) 4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (
o, p-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,
2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4', 5 , 5'-
Tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-nitrophenyl) -4,4 ′, 5
5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-methylphenyl) -4,4 ′
, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-trifluorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, and the like.

上記有機ホウ素化合物としては、例えば、特開昭62−143044号、特開昭62−
150242号、特開平9−188685号、特開平9−188686号、特開平9−1
88710号、特開2000−131837号、特開2002−107916号の公報、
特許第2764769号明細書、特開2002−116539号公報、および、Kunz
,Martin"Rad Tech'98.Proceeding April 19−2
2,1998,Chicago"等に記載される有機ホウ酸塩、特開平6−157623
号公特開平6−175564号公報、特開平6−175561号公報に記載の有機ホウ素
スルホニウム錯体あるいは有機ホウ素オキソスルホニウム錯体、特開平6−175554
号公報、特開平6−175553号公報に記載の有機ホウ素ヨードニウム錯体、特開平9
−188710号公報に記載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平6−348011号
公報、特開平7−128785号公報、特開平7−140589号公報、特開平7−3エ
ステル化合物としては、J.C.S. Perkin II (1979 )1653-1660)、J.C.S.Perkin II (1979)
156-162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995)202-232、特開200
0−66385号公報記載の化合物、特開2000−80068号公報記載の化合物が挙
げられる。具体例としては、下記の構造式で示される化合物が挙げられる。
Examples of the organoboron compound include, for example, JP-A-62-143044 and JP-A-62-2.
150242, JP-A-9-188865, JP-A-9-188686, JP-A-9-1
No. 88710, JP-A No. 2000-131737, JP-A No. 2002-107916,
Japanese Patent No. 2764769, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-116539, and Kunz
Martin "Rad Tech '98. Proceeding April 19-2.
2, 1998, Chicago "etc., JP-A-6-157623
Organoboron sulfonium complexes or organoboron oxosulfonium complexes described in JP-A-6-175564 and JP-A-6-175561, JP-A-6-175554
And organoboron iodonium complexes described in JP-A-6-175553, JP-A-9
As the organoboron phosphonium complex described in JP-A-188710, JP-A-6-348011, JP-A-7-128785, JP-A-7-140589, JP-A-7-3 ester compounds, JCS Perkin II ( (1979) 1653-1660), JCSPerkin II (1979)
156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 202-232, JP200
Examples thereof include compounds described in JP-A 0-66385 and compounds described in JP-A 2000-80068. Specific examples include compounds represented by the following structural formula.

上記オニウム塩化合物としては、例えば、S.I.Schlesinger,Phot
ogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,
Polymer,21,423(1980)に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,0
69,055号明細書、特開平4−365049号公報等に記載のアンモニウム塩、米国
特許第4,069,055号、同第4,069,056号の明細書に記載のホスホニウム
塩、欧州特許第104、143号、米国特許第339,049号、同第410,201号
,580号、同第3,604,581号の明細書に記載のスルホニウム塩、J.V.Cr
ivello et al,Macromolecules,10(6),1307(1
977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,P
olymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩
、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing
ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等のオニ
ウム塩等が挙げられる。
Examples of the onium salt compound include S.I. I. Schlesinger, Photo
ogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Bal et al,
Polymer, 21, 423 (1980), diazonium salt, US Pat. No. 4,0
69,055, JP-A-4-365049, etc., phosphonium salts described in US Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,056, European patents No. 104,143, U.S. Pat. Nos. 339,049, 410,201,580 and 3,604,581, the sulfonium salts described in J. Pat. V. Cr
ivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1
977), J. et al. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , P
polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing
Examples include onium salts such as arsonium salts described in ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988).

本発明において、これらのオニウム塩は酸発生剤ではなく、イオン性のラジカル重合開
始剤として機能する。
In the present invention, these onium salts function not as acid generators but as ionic radical polymerization initiators.

本発明において好適に用いられるオニウム塩は、下記一般式(RI−I)〜(RI−II
I)で表されるオニウム塩である。
The onium salts preferably used in the present invention are represented by the following general formulas (RI-I) to (RI-II).
An onium salt represented by I).

式(RI−I)中、Ar11は置換基を1〜6個有していてもよい炭素数20以下のアリ
ール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12の
アルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1
〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜1
2のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキ
ルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホ
ニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられ
る。Z11 -は1価の陰イオンを表し、具体的には、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘ
オロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、
硫酸イオンが挙げられる。中でも安定性の面から、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホス
フェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオンおよびスルフィン酸
イオンが好ましい。
In the formula (RI-I), Ar 11 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and a carbon number. 1-12 alkenyl groups, C1-C12 alkynyl groups, C1-C12 aryl groups, C1
-12 alkoxy group, C1-C12 aryloxy group, halogen atom, C1-C1
2 alkylamino groups, C1-C12 dialkylamino groups, C1-C12 alkylamide groups or arylamide groups, carbonyl groups, carboxyl groups, cyano groups, sulfonyl groups, C1-C12 thioalkyl groups And a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 11 represents a monovalent anion, specifically, a halogen ion, a perchlorate ion, a hemoborate ion, a sulfonate ion, a sulfinate ion, a thiosulfonate ion,
A sulfate ion is mentioned. Among these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion and sulfinate ion are preferable from the viewpoint of stability.

式(RI−II)中、Ar21およびAr22は、各々独立に置換基を1〜6個有していても
よい炭素数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜12のアル
キル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜1
2のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハ
ロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基
、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキ
シル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12の
チオアリール基が挙げられる。Z21 -は1価の陰イオンを表す。具体的には、ハロゲンイ
オン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイ
オン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙
げられる。中でも、安定性、反応性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェー
トイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カ
ルボン酸イオンが好ましい。
In the formula (RI-II), Ar 21 and Ar 22 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include 1 to 1 carbon atoms. 12 alkyl groups, C1-C12 alkenyl groups, C1-C12 alkynyl groups, C1-C1
2 aryl groups, C1-C12 alkoxy groups, C1-C12 aryloxy groups, halogen atoms, C1-C12 alkylamino groups, C1-C12 dialkylamino groups, C1-C1 12 alkylamide groups or arylamide groups, carbonyl groups, carboxyl groups, cyano groups, sulfonyl groups, thioalkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, and thioaryl groups having 1 to 12 carbon atoms. Z 21 - represents a monovalent anion. Specific examples include halogen ions, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, thiosulfonate ions, and sulfate ions. Among these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, and carboxylate ion are preferable from the viewpoint of stability and reactivity.

式(RI−III)中、R31、R32およびR33は、各々独立に置換基を1〜6個有して
いてもよい炭素数20以下のアリール基、アルキル基、アルケニル基、またはアルキニル
基を表す。中でも反応性、安定性の面から好ましいのは、アリール基である。置換基とし
ては、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12の
アルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1
〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1
〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド
基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオア
ルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z31 -は1価の陰イオンを表
す。具体例としては、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイ
オン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオス
ルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも安定性、反応性の面から、過塩素酸イ
オン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸
イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。より好ましいものとして特
開2001−343742号公報記載のカルボン酸イオン、特に好ましいものとして特開
2002−148790号公報記載のカルボン酸イオンが挙げられる。
In the formula (RI-III), R 31 , R 32 and R 33 are each independently an aryl group, alkyl group, alkenyl group or alkynyl having 20 or less carbon atoms, which may have 1 to 6 substituents. Represents a group. Among them, an aryl group is preferable from the viewpoint of reactivity and stability. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, 1 carbon
~ 12 aryloxy group, halogen atom, C1-C12 alkylamino group, carbon number 1
-12 dialkylamino group, C1-C12 alkylamide group or arylamide group, carbonyl group, carboxyl group, cyano group, sulfonyl group, C1-C12 thioalkyl group, C1-C12 thioaryl group Is mentioned. Z 31 - represents a monovalent anion. Specific examples include halogen ions, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, thiosulfonate ions, and sulfate ions. Among these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, and carboxylate ion are preferable from the viewpoints of stability and reactivity. More preferred are the carboxylate ions described in JP-A No. 2001-343742, and particularly preferred are the carboxylate ions described in JP-A No. 2002-148790.

ラジカル重合開始剤としては、上記に限定されないが、特に反応性、安定性の面から、
トリアジン系開始剤、有機ハロゲン化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダ
ゾール化合物、有機ホウ素化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物が好まし
く、より好ましくはトリアジン系開始剤、有機ハロゲン化合物、メタロセン化合物、ヘキ
サアリールビイミダゾール化合物、オニウム塩化合物である。
本発明の感光性組成物を平版印刷版原版の画像形成層に用いる場合には、該ラジカル重
合開始剤は、該画像形成層全固形分に対し0.1〜50質量%が好ましく、より好ましく
は0.5〜30質量%、特に好ましくは0.8〜20質量%の割合で添加することができ
る。
The radical polymerization initiator is not limited to the above, but particularly from the viewpoint of reactivity and stability,
Triazine-based initiators, organic halogen compounds, metallocene compounds, hexaarylbiimidazole compounds, organic boron compounds, oxime ester compounds, and onium salt compounds are preferable, and triazine-based initiators, organic halogen compounds, metallocene compounds, hexaarylbi compounds are more preferable. These are imidazole compounds and onium salt compounds.
When the photosensitive composition of the present invention is used for an image forming layer of a lithographic printing plate precursor, the radical polymerization initiator is preferably 0.1 to 50% by weight, more preferably based on the total solid content of the image forming layer. Can be added at a ratio of 0.5 to 30% by mass, particularly preferably 0.8 to 20% by mass.

〔増感色素〕
本発明の感光性組成物に用いられる増感色素としては、使用する用途等に応じて適宜選
択されるものであり、特に限定されるものではないが、例えば、赤外線吸収剤や、360
nm〜450nmの光を吸収する増感色素等が挙げられる。
[Sensitizing dye]
The sensitizing dye used in the photosensitive composition of the present invention is appropriately selected according to the application to be used, and is not particularly limited. For example, an infrared absorber or 360 is used.
Examples thereof include sensitizing dyes that absorb light of nm to 450 nm.

[赤外線吸収剤]
赤外線吸収剤は、赤外線レーザーに対する感度を高めるために用いられる成分である。
該赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有している。本発明において使
用される赤外線吸収剤は、波長760〜1200nmに吸収極大を有する染料又は顔料で
あるのが好ましい。
[Infrared absorber]
An infrared absorber is a component used to increase sensitivity to an infrared laser.
The infrared absorber has a function of converting absorbed infrared rays into heat. The infrared absorber used in the present invention is preferably a dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 to 1200 nm.

染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45
年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属
錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワ
リリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
Examples of the dye include commercially available dyes and, for example, “Dye Handbook” (edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, Showa 45).
The publicly known thing described in literature, such as an annual publication, can be utilized. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.

好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−8435
6号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173
696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等の公報に記載さ
れているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開
昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭
60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号
等の公報に記載されているスクワリリウム色素、英国特許第434,875号明細書記載
のシアニン染料等を挙げることができる。
Preferred dyes include, for example, JP-A-58-125246 and JP-A-59-8435.
6, cyanine dyes described in JP-A-60-78787, JP-A-58-173
No. 696, JP-A 58-181690, JP-A 58-194595, etc., methine dyes, JP-A 58-112793, JP-A 58-224793, JP-A 59- 48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744 and the like, and naphthoquinone dyes described in JP-A-58-112792, etc. Examples thereof include squarylium dyes and cyanine dyes described in British Patent No. 434,875.

また、米国特許第5,156,938号明細書記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いら
れ、また、米国特許第3,881,924号明細書記載の置換されたアリールベンゾ(チ
オ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号公報(米国特許第4,327,169号
明細書)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−2
20143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、
同59−146063号、同59−146061号公報に記載されているピリリウム系化
合物、特開昭59−216146号公報記載のシアニン色素、米国特許第4,283,4
75号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5
−19702号公報に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染
料として好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(
II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
In addition, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) described in US Pat. No. 3,881,924 is also suitable. ) Pyrylium salt, trimethine thiapyrylium salt described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, and 58-2
20143, 59-41363, 59-84248, 59-84249,
Pyryllium compounds described in JP-A-59-146063 and JP-A-59-146061, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, US Pat. No. 4,283,4
No. 75, pentamethine thiopyrylium salt, etc., and Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5
A pyrylium compound disclosed in JP-A-19702 is also preferably used. In addition, as another preferred example of the dye, U.S. Pat. No. 4,756,993 describes formula (I), (
Mention may be made of the near-infrared absorbing dyes described as II).

また、上記赤外線吸収色素の好ましい他の例としては、以下に例示するような特開20
02−278057号公報記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
Moreover, as another preferable example of the infrared absorbing dye, JP-A-20
Specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-02-278057.

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、
ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。さら
に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい一つの例として
下記一般式(I)で示されるシアニン色素が挙げられる。
Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes,
Examples include pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferred, and one particularly preferred example is a cyanine dye represented by the following general formula (I).

一般式(I)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、X2−L1又は以下に示
す基を表す。ここで、X2は酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を示し、L1は、炭素原子
数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1
〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、
Seを示す。Xa-は後述するZa-と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基、
リール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。
In the general formula (I), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh 2, X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or 1 carbon atom containing a hetero atom.
-12 hydrocarbon groups are shown. Here, the hetero atom means N, S, O, a halogen atom,
Se is shown. Xa is defined in the same manner as Za described later, and R a is a hydrogen atom, an alkyl group,
It represents a substituent selected from a reel group, a substituted or unsubstituted amino group, and a halogen atom.

1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。記録層塗布
液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ま
しく、更に、R1とR2とは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好
ましい。
R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the recording layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳
香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン
環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、
ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞ
れ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレ
ぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していても。R5、R6、R7及びR8は、そ
れぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を
示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za-は、対アニオンを示
す。ただし、一般式(I)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基
を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa-は必要ない。好ましいZa-は、記録層塗布
液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン
、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、
過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンで
ある。
Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Preferred substituents include hydrocarbon groups having 12 or less carbon atoms,
Examples thereof include a halogen atom and an alkoxy group having 12 or less carbon atoms. Y 1 and Y 2 may be the same as or different from each other, may be the same or different from each other and each may be a sulfur atom or a dialkyl methyl having 12 or less carbon atoms, and may have a substituent. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Za represents a counter anion. However, Za is not necessary when the cyanine dye represented by formula (I) has an anionic substituent in its structure and neutralization of charge is not necessary. Preferred Za is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably, from the storage stability of the recording layer coating solution.
Perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, and aryl sulfonate ion.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(I)で示されるシアニン色素の具
体例としては、特開2001−133969号公報の段落番号[0017]〜[0019
]に記載されたものを挙げることができる。
Specific examples of the cyanine dye represented by formula (I) that can be suitably used in the present invention include paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969.
] Can be mentioned.

また、特に好ましい他の例としてさらに、前記した特開2002−278057号公報
に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
Further, other particularly preferable examples include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057 described above.

本発明において使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I
.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技
術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に
記載されている顔料が利用できる。
Examples of the pigment used in the present invention include commercially available pigments and color indexes (C.I.
. ) Handbook, “Latest Pigment Handbook” (edited by the Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Applied Technology” (published by CMC, 1986), “Printing Ink Technology”, published by CMC, published in 1984) Is available.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫
色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げ
られる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔
料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオ
インジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、
ロソ顔料、ニトロ顔料、天然料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる
。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。
Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments ,
Loso pigments, nitro pigments, natural materials, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処
理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反
応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と
応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応
用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。
These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は0.01〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05〜1μmの範
囲にあることがさらに好ましく、特に0.1〜1μmの範囲にあることが好ましい。この
範囲で、顔料分散物の感光性組成物中での良好な安定性と均一性が得られる。
The particle diameter of the pigment is preferably in the range of 0.01 to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 to 1 μm. Within this range, good stability and uniformity of the pigment dispersion in the photosensitive composition can be obtained.

顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術
が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル
、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技
術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。
As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

これらの赤外線吸収剤はマイクロカプセルに内包させて添加することもできる。   These infrared absorbers can be added by being encapsulated in microcapsules.

添加量としては、本発明の感光性組成物をネガ型の平版印刷版原版の画像形成層とした
際に、該画像形成層の波長760nm〜1200nmの範囲における極大吸収波長での吸
光度が、反射測定法で0.3〜1.3の範囲にあるように添加することが好ましく、より
好ましくは、0.4〜1.2の範囲である。この範囲で、画像形成層の深さ方向での均一
な重合反応が進行し、良好な画像部の膜強度と支持体に対する密着性が得られる。
画像形成層の吸光度は、画像形成層に添加する赤外線吸収剤の量と画像形成層の厚みに
より調整することができる。吸光度の測定は常法により行うことができる。測定方法とし
ては、例えば、アルミニウム等の反射性の支持体上に、乾燥後の塗布量が平版印刷版とし
て必要な範囲において適宜決定された厚みの画像形成層を形成し、反射濃度を光学濃度計
で測定する方法、積分球を用いた反射法により分光光度計で測定する方法等が挙げられる
As the addition amount, when the photosensitive composition of the present invention is used as an image forming layer of a negative lithographic printing plate precursor, the absorbance at the maximum absorption wavelength in the wavelength range of 760 nm to 1200 nm of the image forming layer is reflected. It is preferable to add so that it may exist in the range of 0.3-1.3 by a measuring method, More preferably, it is the range of 0.4-1.2. Within this range, a uniform polymerization reaction proceeds in the depth direction of the image forming layer, and good film strength of the image area and adhesion to the support can be obtained.
The absorbance of the image forming layer can be adjusted by the amount of the infrared absorber added to the image forming layer and the thickness of the image forming layer. Absorbance can be measured by a conventional method. As a measuring method, for example, on a reflective support such as aluminum, an image forming layer having a thickness appropriately determined in a range in which the coating amount after drying is necessary as a lithographic printing plate is formed, and the reflection density is set to the optical density. And a method of measuring with a spectrophotometer by a reflection method using an integrating sphere.

[360nm〜450nmの光を吸収する増感色素]
360nm〜450nmの光を吸収する増感色素としては、例えば、下記一般式(I)
に示されるメロシアニン色素類、下記一般式(II)で示されるベンゾピラン類、クマリ
ン類、下記一般式(III)で表される芳香族ケトン類、下記一般式(IV)で表される
アントラセン類、等を挙げることができる。
[Sensitizing dye absorbing light of 360 nm to 450 nm]
As a sensitizing dye that absorbs light of 360 nm to 450 nm, for example, the following general formula (I)
A merocyanine dye represented by the following general formula (II), a benzopyran represented by the following general formula (II), a coumarin, an aromatic ketone represented by the following general formula (III), an anthracene represented by the following general formula (IV), Etc.

(式中、AはS原子もしくは、NR6を表し、R6は一価の非金属原子団を表し、Yは隣接
するAおよび、隣接炭素原子と共同して色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表し、
X1、X2はそれぞれ独立に、一価の非金属原子団を表し、X1、X2は互いに結合して色素
の酸性核を形成してもよい。)
(In the formula, A represents an S atom or NR 6 , R 6 represents a monovalent non-metallic atomic group, Y represents a basic nucleus of the dye in cooperation with the adjacent A and the adjacent carbon atom. Represents a non-metallic atomic group,
X1, X 2 each independently represents a monovalent non-metallic atomic group, X 1, X 2 may be bonded to form an acidic nucleus of the dye together. )

(式中、=Zは、カルボニル基、チオカルボニル基、イミノ基または上記部分構造式(
I')で表されるアルキリデン基を表し、X1、X2は一般式(II)と同義であり、R7
12はそれぞれ独立に一価の非金属原子団を表す。)
(In the formula, = Z represents a carbonyl group, a thiocarbonyl group, an imino group, or the partial structural formula (
I ′) represents an alkylidene group, and X 1 and X 2 have the same meaning as in general formula (II), and R 7 to
R 12 each independently represents a monovalent nonmetallic atomic group. )

(式中Ar3は、置換基を有していてもよい芳香族基またはヘテロ芳香族基を表し、R13
は一価の非金属原子団を表す。より好ましいR13は、芳香族基またはヘテロ芳香族基であ
って、Ar3とR13が互いに結合して環を形成してもよい。)
(In the formula, Ar 3 represents an aromatic group or a heteroaromatic group which may have a substituent, and R 13
Represents a monovalent nonmetallic atomic group. R 13 is more preferably an aromatic group or a heteroaromatic group, and Ar 3 and R 13 may be bonded to each other to form a ring. )

(式中、X3、X4、R14〜R21はそれぞれ独立に、1価の非金属原子団を表し、より好ま
しいX3、X4はハメットの置換基定数が負の電子供与性基である。)
一般式(I)から(IV)における、X1からX4、R6からR21で表される一価の非金
属原子団の好ましい例としては、水素原子、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、
デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基
、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、イソペン
チル基、ネオペンチル基、1-メチルブチル基、イソヘキシル基、2-エチルヘキシル基、
2-メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2-ノルボルニル基、クロ
ロメチル基、ブロモメチル基、2-クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメ
チル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチ
ルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル
基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、N-
シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、N-フェニルカルバモイルオキシエチル基
、アセチルアミノエチル基、N-メチルベンゾイルアミノプロピル基、2-オキソエチル基
、2-オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリル
オキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル
基、N-メチルカルバモイルエチル基、N,N-ジプロピルカルバモイルメチル基、N-(
メトキシフェニル)カルバモイルエチル基、N-メチル-N-(スルホフェニル)カルバモ
イルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、N-エ
チルスルファモイルメチル基、N,N-ジプロピルスルファモイルプロピル基、N-トリル
スルファモイルプロピル基、N-メチル-N-(ホスフォノフェニル)スルファモイルオク
チル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、
ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチル基、メチルホスフォナトブチ
ル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシ
プロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α-メチルベン
ジル基、1-メチル-1-フェニルエチル基、p-メチルベンジル基、シンナミル基、アリル
基、1-プロペニルメチル基、2-ブテニル基、2-メチルアリル基、2-メチルプロペニル
メチル基、2-プロピニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基等)、アリール基(例えば
、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニ
ル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェ
ニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシ
フェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル
基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、
カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基
、フェノキシカルボニルフェニル基、N-フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル基
、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフェニル基
、ホスフォナトフェニル基等)、ヘテロアリール基(例えば、チオフェン、チアスレン、
フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサジン、ピロール
、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン
、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、インダゾール、プリン、キノリジン
、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カル
バゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミジン、フェナンスロリン、
フタラジン、フェナルザジン、フェノキサジン、フラザン、フェノキサジン等)、アルケ
ニル基(例えばビニル基、1-プロペニル基、1-ブテニル基、シンナミル基、2-クロロ-
1-エテニル基、等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、1-プロピニル基、1-ブチ
ニル基、トリメチルシリルエチニル基等)、ハロゲン原子(-F、-Br、-Cl、-I)、
ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N-アルキルアミノ基、
N,N-ジアルキルアミノ基、N-アリールアミノ基、N,N-ジアリールアミノ基、N-ア
ルキル-N-アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N-アルキルカ
ルバモイルオキシ基、N-アリールカルバモイルオキシ基、N,N-ジアルキルカルバモイ
ルオキシ基、N,N-ジアリールカルバモイルオキシ基、N-アルキル-N-アリールカルバ
モイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシル
アミノ基、N-アルキルアシルアミノ基、N-アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N′
-アルキルウレイド基、N',N'-ジアルキルウレイド基、N'-アリールウレイド基、N'
,N'-ジアリールウレイド基、N'-アルキル-N'-アリールウレイド基、N-アルキルウレ
イド基、N-アリールウレイド基、N'-アルキル-N-アルキルウレイド基、N'-アルキル-
N-アリールウレイド基、N',N'-ジアルキル-N-アルキルウレイド基、N′,N′-ジ
アルキル-N-アリールウレイド基、N'-アリール-N-アルキルウレイド基、N'-アリール
-N-アリールウレイド基、N',N'-ジアリール-N-アルキルウレイド基、N′,N′-ジ
アリール-N-アリールウレイド基、N'-アルキル-N'-アリール-N-アルキルウレイド基
、N'-アルキル-N'-アリール-N-アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基
、アリーロキシカルボニルアミノ基、N-アルキル-N-アルコキシカルボニルアミノ基、
N-アルキル-N-アリーロキシカルボニルアミノ基、N-アリール-N-アルコキシカルボニ
ルアミノ基、N-アリール-N-アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基
、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル
基、N-アルキルカルバモイル基、N,N-ジアルキルカルバモイル基、N-アリールカル
バモイル基、N,N-ジアリールカルバモイル基、N-アルキル-N-アリールカルバモイル
基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリー
ルスルホニル基、スルホ基(-SO3H)およびその共役塩基基(以下、スルホナト基と称
す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N-
アルキルスルフィナモイル基、N,N-ジアルキルスルフィナモイル基、N-アリールスル
フィナモイル基、N,N-ジアリールスルフィナモイル基、N-アルキル-N-アリールスル
フィナモイル基、スルファモイル基、N-アルキルスルファモイル基、N,N-ジアルキル
スルファモイル基、N-アリールスルファモイル基、N,N-ジアリールスルファモイル基
、N-アルキル-N-アリールスルファモイル基、ホスフォノ基(-PO32)およびその共
役塩基基(以下、ホスフォナト基と称す)、ジアルキルホスフォノ基(-PO3(alkyl)2
、ジアリールホスフォノ基(-PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノ基(-PO3(
alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノ基(-PO3H(alkyl))およびその共役塩基基
(以後、アルキルホスフォナト基と称す)、モノアリールホスフォノ基(-PO3H(aryl)
)およびその共役塩基基(以後、アリールホスフォナト基と称す)、ホスフォノオキシ基
(-OPO32)およびその共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基と称す)、ジアル
キルホスフォノオキシ基(-OPO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノオキシ基(-OP
3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノオキシ基(-OPO3(alkyl)(aryl))、モノ
アルキルホスフォノオキシ基(-OPO3H(alkyl))およびその共役塩基基(以後、アル
キルホスフォナトオキシ基と称す)、モノアリールホスフォノオキシ基(-OPO3H(ary
l))およびその共役塩基基(以後、アリールフォスホナトオキシ基と称す)、シアノ基、
ニトロ基、等が挙げられ、以上の置換基のうち、水素原子、アルキル基、アリール基、ハ
ロゲン原子、アルコキシ基、アシル基が特に好ましい。
(In the formula, X 3 , X 4 and R 14 to R 21 each independently represent a monovalent non-metallic atomic group, and more preferable X 3 and X 4 are electron donating groups having a negative Hammett's substituent constant. .)
Preferred examples of the monovalent nonmetallic atomic group represented by X 1 to X 4 and R 6 to R 21 in the general formulas (I) to (IV) include a hydrogen atom, an alkyl group (for example, a methyl group, Ethyl group,
Propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group,
Decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, hexadecyl, octadecyl, eicosyl, isopropyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, isopentyl, neopentyl, 1-methylbutyl, isohexyl A 2-ethylhexyl group,
2-methylhexyl, cyclohexyl, cyclopentyl, 2-norbornyl, chloromethyl, bromomethyl, 2-chloroethyl, trifluoromethyl, methoxymethyl, methoxyethoxyethyl, allyloxymethyl, phenoxymethyl Group, methylthiomethyl group, tolylthiomethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N-
Cyclohexylcarbamoyloxyethyl group, N-phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl group, allyloxycarbonyl Butyl group, chlorophenoxycarbonylmethyl group, carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group, N, N-dipropylcarbamoylmethyl group, N- (
Methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylmethyl group, sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N-dipropylsulfamoyl Propyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoyloctyl group, phosphonobutyl group, phosphonatohexyl group, diethylphosphonobutyl group,
Diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobutyl group, tolylphosphonohexyl group, tolylphosphonatohexyl group, phosphonooxypropyl group, phosphonatoxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α- Methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, cinnamyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group, 2 -Propynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, etc.), aryl group (eg, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, chloro Methylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, etho Shifeniru group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxy hydroxyphenyl group, methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, methylaminophenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group,
Carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxyphenylcarbonyl group, phenoxycarbonylphenyl group, N-phenylcarbamoylphenyl group, phenyl group, cyanophenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl Group), heteroaryl group (for example, thiophene, thiathrene,
Furan, pyran, isobenzofuran, chromene, xanthene, phenoxazine, pyrrole, pyrazole, isothiazole, isoxazole, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, indolizine, isoindolizine, indoyl, indazole, purine, quinolidine, isoquinoline, phthalazine, Naphthyridine, quinazoline, cinolin, pteridine, carbazole, carboline, phenanthrine, acridine, perimidine, phenanthroline,
Phthalazine, phenazazine, phenoxazine, furazane, phenoxazine, etc.), alkenyl groups (eg vinyl, 1-propenyl, 1-butenyl, cinnamyl, 2-chloro-
1-ethenyl group, etc.), alkynyl group (eg, ethynyl group, 1-propynyl group, 1-butynyl group, trimethylsilylethynyl group, etc.), halogen atom (—F, —Br, —Cl, —I),
Hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group,
N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyl group Oxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N- Alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N ′
-Alkylureido group, N ′, N′-dialkylureido group, N′-arylureido group, N ′
, N′-Diarylureido group, N′-alkyl-N′-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N′-alkyl-N-alkylureido group, N′-alkyl-
N-arylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-alkylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-arylureido group, N′-aryl-N-alkylureido group, N′-aryl
-N-arylureido group, N ', N'-diaryl-N-alkylureido group, N', N'-diaryl-N-arylureido group, N'-alkyl-N'-aryl-N-alkylureido group N′-alkyl-N′-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group,
N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxy Carbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group Group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfo group (—SO 3 H) and its conjugate base group (hereinafter referred to as sulfonate group), alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N—
Alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N -Alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group ( -PO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as “phosphonate group”), dialkylphosphono group (—PO 3 (alkyl) 2 )
, Diarylphosphono group (—PO 3 (aryl) 2 ), alkylaryl phosphono group (—PO 3 (
alkyl) (aryl)), monoalkyl phosphono group (—PO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonate group), monoaryl phosphono group (—PO 3 H (aryl))
) And its conjugate base group (hereinafter referred to as aryl phosphonate group), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphonateoxy group), dialkylphosphonooxy group ( -OPO 3 (alkyl) 2 ), diarylphosphonooxy group (-OP
O 3 (aryl) 2 ), alkylaryl phosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkyl phosphonooxy group (—OPO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter alkyl) Phosphonatooxy group), monoarylphosphonooxy group (—OPO 3 H (ary
l)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as arylphosphonateoxy group), cyano group,
A nitro group, and the like. Among these substituents, a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an alkoxy group, and an acyl group are particularly preferable.

一般式(I)に於けるYが隣接するAおよび、隣接炭素原子と共同して形成する色素の
塩基性核としては、5、6、7員の含窒素、あるいは含硫黄複素環が挙げられ、好ましく
は5、6員の複素環がよい。
Examples of the basic nucleus of the dye formed together with A adjacent to Y and the adjacent carbon atom in the general formula (I) include 5-, 6-, and 7-membered nitrogen-containing or sulfur-containing heterocycles. A 5- or 6-membered heterocyclic ring is preferable.

含窒素複素環の例としては例えば、L.G.Brooker et al., J. Am. Chem. Soc.,73,5326-
5358(1951).および参考文献に記載されるメロシアニン色素類における塩基性核を構成す
るものとして知られるものをいずれも好適に用いることができる。具体例としては、チア
ゾール類(例えば、チアゾール、4-メチルチアゾール、4ーフェニルチアゾール、5-メ
チルチアゾール、5-フェニルチアゾール、4,5-ジメチルチアゾール、4,5-ジフェ
ニルチアゾール、4,5-ジ(p-メトキシフェニルチアゾール)、4-(2-チエニル)チ
アゾール、等)、ベンゾチアゾール類(例えば、ベンゾチアゾール、4-クロロベンゾチ
アゾール、5-クロロベンゾチアゾール、6-クロロベンゾチアゾール、7-クロロベンゾ
チアゾール、4-メチルベンゾチアゾール、5-メチルベンゾチアゾール、6-メチルベン
ゾチアゾール、5-ブロモベンゾチアゾール、4-フェニルベンゾチアゾール、5-フェニ
ルベンゾチアゾール、4-メトキシベンゾチアゾール、5-メトキシベンゾチアゾール、6
-メトキシベンゾチアゾール、5-ヨードベンゾチアゾール、6-ヨードベンゾチアゾール
、4-エトキシベンゾチアゾール、5-エトキシベンゾチアゾール、テトラヒドロベンゾチ
アゾール、5,6-ジメトキシベンゾチアゾール、5,6-ジオキシメチレンベンゾチアゾ
ール、5-ヒドロキシベンゾチアゾール、6-ヒドロキシベンゾチアゾール、6ージメチル
アミノベンゾチアゾール、5-エトキシカルボニルベンゾチアゾール等)、ナフトチアゾ
ール類(例えば、ナフト[1,2]チアゾール、ナフト[2,1]チアゾール、5-メト
キシナフト[2,1]チアゾール、5-エトキシナフト[2,1]チアゾール、8-メトキ
シナフト[1,2]チアゾール、7-メトキシナフト[1,2]チアゾール等)、チアナ
フテノ-7’,6’,4,5-チアゾール類(例えば、4’-メトキシチアナフテノ-7’,
6’,4,5-チアゾール等)、オキサゾール類(例えば、4-メチルオキサゾール、5-
メチルオキサゾール、4-フェニルオキサゾール、4,5-ジフェニルオキサゾール、4-
エチルオキサゾール、4,5-ジメチルオキサゾール、5-フェニルオキサゾール等)、ベ
ンゾオキサゾール類(ベンゾオキサゾール、5-クロロベンゾオキサゾール、5-メチルベ
ンゾオキサゾール、5-フェニルベンゾオキサゾール、6-メチルベンゾオキサゾール、5
,6-ジメチルベンゾオキサゾール、4,6-ジメチルベンゾオキサゾール、6-メトキシ
ベンゾオキサゾール、5-メトキシベンゾオキサゾール、4-エトキシベンゾオキサゾール
、5-クロロベンゾオキサゾール、6-メトキシベンゾオキサゾール、5-ヒドロキシベン
ゾオキサゾール、6-ヒドロキシベンゾオキサゾール等)、ナフトオキサゾール類(例え
ば、ナフト[1,2]オキサゾール、ナフト[2,1]オキサゾール等)、セレナゾール
類(例えば、4-メチルセレナゾール、4-フェニルセレナゾール等)、ベンゾセレナゾー
ル類(例えば、ベンゾセレナゾール、5-クロロベンゾセレナゾール、5-メトキシベンゾ
セレナゾール、5-ヒドロキシベンゾセレナゾール、テトラヒドロベンゾセレナゾール等
)、ナフトセレナゾール類(例えば、ナフト[1,2]セレナゾール、ナフト[2,1]
セレナゾール等)、チアゾリン類(例えば、チアゾリン、4-メチルチアゾリン等)、2-
キノリン類(例えば、キノリン、3-メチルキノリン、5-メチルキノリン、7-メチルキ
ノリン、8-メチルキノリン、6-クロロキノリン、8-クロロキノリン、6-メトキシキノ
リン、6-エトキシキノリン、6-ヒドロキシキノリン、8-ヒドロキシキノリン等)、4-
キノリン類(例えば、キノリン、6-メトキシキノリン、7-メチルキノリン、8-メチル
キノリン等)、1-イソキノリン類(例えば、イソキノリン、3,4-ジヒドロイソキノリ
ン、等)、3-イソキノリン類(例えば、イソキノリン等)、ベンズイミダゾール類(例
えば、1,3-ジエチルベンズイミダゾール、1-エチル-3-フェニルベンズイミダゾール
等)、3,3-ジアルキルインドレニン類(例えば、3,3-ジメチルインドレニン、3,
3,5,-トリメチルインドレニン、3,3,7,-トリメチルインドレニン等)、2-ピ
リジン類(例えば、ピリジン、5-メチルピリジン等)、4-ピリジン(例えば、ピリジン
等)等を挙げることができる。
Examples of nitrogen-containing heterocycles include, for example, LGBrooker et al., J. Am. Chem. Soc., 73,5326-
Any of those known to constitute a basic nucleus in the merocyanine dyes described in 5358 (1951). And references can be suitably used. Specific examples include thiazoles (for example, thiazole, 4-methylthiazole, 4-phenylthiazole, 5-methylthiazole, 5-phenylthiazole, 4,5-dimethylthiazole, 4,5-diphenylthiazole, 4,5- Di (p-methoxyphenylthiazole), 4- (2-thienyl) thiazole, etc.), benzothiazoles (eg, benzothiazole, 4-chlorobenzothiazole, 5-chlorobenzothiazole, 6-chlorobenzothiazole, 7- Chlorobenzothiazole, 4-methylbenzothiazole, 5-methylbenzothiazole, 6-methylbenzothiazole, 5-bromobenzothiazole, 4-phenylbenzothiazole, 5-phenylbenzothiazole, 4-methoxybenzothiazole, 5-methoxybenzo Thiazole, 6
-Methoxybenzothiazole, 5-iodobenzothiazole, 6-iodobenzothiazole, 4-ethoxybenzothiazole, 5-ethoxybenzothiazole, tetrahydrobenzothiazole, 5,6-dimethoxybenzothiazole, 5,6-dioxymethylenebenzothiazole 5-hydroxybenzothiazole, 6-hydroxybenzothiazole, 6-dimethylaminobenzothiazole, 5-ethoxycarbonylbenzothiazole, etc.), naphthothiazoles (for example, naphtho [1,2] thiazole, naphtho [2,1] thiazole 5-methoxynaphtho [2,1] thiazole, 5-ethoxynaphtho [2,1] thiazole, 8-methoxynaphtho [1,2] thiazole, 7-methoxynaphtho [1,2] thiazole, etc.), thianaphtheno-7 ', 6', 4,5-thiazoles For example, 4'-methoxy Chiana Fute Bruno -7 ',
6 ', 4,5-thiazole, etc.), oxazoles (for example, 4-methyloxazole, 5-
Methyloxazole, 4-phenyloxazole, 4,5-diphenyloxazole, 4-
Ethyl oxazole, 4,5-dimethyloxazole, 5-phenyloxazole, etc.), benzoxazoles (benzoxazole, 5-chlorobenzoxazole, 5-methylbenzoxazole, 5-phenylbenzoxazole, 6-methylbenzoxazole, 5
, 6-dimethylbenzoxazole, 4,6-dimethylbenzoxazole, 6-methoxybenzoxazole, 5-methoxybenzoxazole, 4-ethoxybenzoxazole, 5-chlorobenzoxazole, 6-methoxybenzoxazole, 5-hydroxybenzoxazole , 6-hydroxybenzoxazole, etc.), naphthoxazoles (eg, naphtho [1,2] oxazole, naphtho [2,1] oxazole, etc.), selenazoles (eg, 4-methylselenazole, 4-phenylselenazole, etc.) ), Benzoselenazoles (eg, benzoselenazole, 5-chlorobenzoselenazole, 5-methoxybenzoselenazole, 5-hydroxybenzoselenazole, tetrahydrobenzoselenazole, etc.), naphthoselenazoles (eg, Shift [1,2] selenazole, naphtho [2,1]
Selenazole etc.), thiazolines (eg thiazoline, 4-methylthiazoline etc.), 2-
Quinolines (eg, quinoline, 3-methylquinoline, 5-methylquinoline, 7-methylquinoline, 8-methylquinoline, 6-chloroquinoline, 8-chloroquinoline, 6-methoxyquinoline, 6-ethoxyquinoline, 6-hydroxy Quinoline, 8-hydroxyquinoline, etc.), 4-
Quinolines (eg, quinoline, 6-methoxyquinoline, 7-methylquinoline, 8-methylquinoline, etc.), 1-isoquinolines (eg, isoquinoline, 3,4-dihydroisoquinoline, etc.), 3-isoquinolines (eg, Isoquinoline, etc.), benzimidazoles (eg, 1,3-diethylbenzimidazole, 1-ethyl-3-phenylbenzimidazole, etc.), 3,3-dialkylindolenines (eg, 3,3-dimethylindolenine, 3 ,
3,5, -trimethylindolenine, 3,3,7, -trimethylindolenine, etc.), 2-pyridines (for example, pyridine, 5-methylpyridine, etc.), 4-pyridine (for example, pyridine, etc.), etc. be able to.

また、含硫黄複素環の例としては、例えば、特開平3-296759号公報記載の色素
類におけるジチオール部分構造をあげることができる。
Examples of the sulfur-containing heterocycle include a dithiol partial structure in dyes described in JP-A-3-296759.

具体例としては、ベンゾジチオール類(例えば、ベンゾジチオール、5-t-ブチルベン
ゾジチオール、5-メチルベンゾジチオール等)、ナフトジチオール類(例えば、ナフト
[1,2]ジチオール、ナフト[2,1]ジチオール等)、ジチオール類(例えば、4,
5-ジメチルジチオール類、4-フェニルジチオール類、4-メトキシカルボニルジチオー
ル類、4,5-ジメトキシカルボニルベンゾジチオール類、4,5-ジトリフルオロメチル
ジチオール、4,5-ジシアノジチオール、4-メトキシカルボニルメチルジチオール、4
-カルボキシメチルジチオール等を挙げることができる。
Specific examples include benzodithiols (eg, benzodithiol, 5-t-butylbenzodithiol, 5-methylbenzodithiol, etc.), naphthodithiols (eg, naphtho [1,2] dithiol, naphtho [2,1] Dithiol, etc.), dithiols (for example, 4,
5-dimethyldithiols, 4-phenyldithiols, 4-methoxycarbonyldithiols, 4,5-dimethoxycarbonylbenzodithiols, 4,5-ditrifluoromethyldithiol, 4,5-dicyanodithiol, 4-methoxycarbonylmethyl Dithiol, 4
-Carboxymethyldithiol etc. can be mentioned.

以上、述べた複素環に関する説明に用いた記述は、便宜上、慣例上、複素環母骨格の名
称を用いたが、増感色素の塩基性骨格部分構造をなす場合は例えばベンゾチアゾール骨格
の場合は3−置換−2(3H)−ベンゾチアゾリリデン基のように、不飽和度を一つ下げ
たアルキリデン型の置換基形で導入される。
As mentioned above, for the sake of convenience, the description used in the description of the heterocyclic ring has conventionally used the name of the heterocyclic mother skeleton, but when forming the basic skeleton partial structure of the sensitizing dye, for example, in the case of the benzothiazole skeleton It is introduced in the form of an alkylidene-type substituent with one degree of unsaturation, such as a 3-substituted-2 (3H) -benzothiazolidene group.

360nmから450nmの波長域に吸収極大を持つ化合物としての増感色素のうち、
高感度の観点からより好ましい色素は下記一般式(V)で表される色素である。
Among sensitizing dyes as compounds having an absorption maximum in a wavelength region of 360 nm to 450 nm,
A dye more preferable from the viewpoint of high sensitivity is a dye represented by the following general formula (V).

(一般式(V)中、Aは置換基を有してもよい芳香族環またはヘテロ環を表し、Xは酸素
原子、硫黄原子または=N(R3)をあらわす。R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、
水素原子または一価の非金属原子団を表し、AとR1およびR2とR3はそれぞれ互いに、
脂肪族性または芳香族性の環を形成するため結合してもよい。)
一般式(V)について更に詳しく説明する。R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、
水素原子または、一価の非金属原子団であり、好ましくは、置換もしくは非置換のアルキ
ル基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もし
くは非置換のヘテロアリール基、置換もしくは非置換のアルコキシ基、置換もしくは非置
換のアルキルチオ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子を表す。
(In the general formula (V), A represents an aromatic ring or a hetero ring which may have a substituent, and X represents an oxygen atom, a sulfur atom or ═N (R 3 ). R 1 , R 2 and R 3 is independently
Represents a hydrogen atom or a monovalent non-metallic atomic group, and A and R 1 and R 2 and R 3 are
They may be joined to form an aliphatic or aromatic ring. )
The general formula (V) will be described in more detail. R 1 , R 2 and R 3 are each independently
A hydrogen atom or a monovalent nonmetallic atomic group, preferably a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heteroaryl group, A substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted alkylthio group, a hydroxyl group, and a halogen atom are represented.

1、R2およびR3の好ましい例について具体的に述べる。好ましいアルキル基の例と
しては、炭素原子数が1から20までの直鎖状、分岐状、および環状のアルキル基を挙げ
ることができ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペン
チル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ド
デシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピ
ル基、イソブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1
-メチルブチル基、イソヘキシル基、2-エチルヘキシル基、2-メチルヘキシル基、シク
ロヘキシル基、シクロペンチル基、2-ノルボルニル基を挙げることができる。これらの
中では、炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状、なら
びに炭素原子数5から10までの環状のアルキル基がより好ましい。
Preferable examples of R 1 , R 2 and R 3 will be specifically described. Examples of preferable alkyl groups include linear, branched, and cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, Butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, hexadecyl, octadecyl, eicosyl, isopropyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1
-Methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, 2-norbornyl group. Of these, linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, branched alkyl groups having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkyl groups having 5 to 10 carbon atoms are more preferable.

置換アルキル基の置換基としては、水素を除く一価の非金属原子団が用いられ、好まし
い例としては、ハロゲン原子(-F、-Br、-Cl、-I)、ヒドロキシル基、アルコキシ
基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ
基、アリールジチオ基、アミノ基、N-アルキルアミノ基、N,N-ジアルキルアミノ基、
N-アリールアミノ基、N,N-ジアリールアミノ基、N-アルキル-N-アリールアミノ基
、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N-アルキルカルバモイルオキシ基、N-アリ
ールカルバモイルオキシ基、N,N-ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N-ジアリー
ルカルバモイルオキシ基、N-アルキル-N-アリールカルバモイルオキシ基、アルキルス
ルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N-アルキルアシ
ルアミノ基、N-アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N'-アルキルウレイド基、N',
N'-ジアルキルウレイド基、N′-アリールウレイド基、N',N'-ジアリールウレイド基
、N'-アルキル-N'-アリールウレイド基、N-アルキルウレイド基、N-アリールウレイ
ド基、N'-アルキル-N-アルキルウレイド基、N′-アルキル-N-アリールウレイド基、
N',N'-ジアルキル-N-アルキルウレイド基、N',N'-ジアルキル-N-アリールウレイ
ド基、N'-アリール-N-アルキルウレイド基、N'-アリール-N-アリールウレイド基、N
',N'-ジアリール-N-アルキルウレイド基、N',N'-ジアリール-N-アリールウレイド
基、N'-アルキル-N'-アリール-N-アルキルウレイド基、N'-アルキル-N'-アリール-
N-アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミ
ノ基、N-アルキル-N-アルコキシカルボニルアミノ基、N-アルキル-N-アリーロキシカ
ルボニルアミノ基、N-アリール-N-アルコキシカルボニルアミノ基、N-アリール-N-ア
リーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカ
ルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N-アルキルカルバモイル基
、N,N-ジアルキルカルバモイル基、N-アリールカルバモイル基、N,N-ジアリール
カルバモイル基、N-アルキル-N-アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、
アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(-
SO3H)およびその共役塩基基(以下、スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニル
基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N-アルキルスルフィナモイル基
、N,N-ジアルキルスルフィナモイル基、N-アリールスルフィナモイル基、N,N-ジ
アリールスルフィナモイル基、N-アルキル-N-アリールスルフィナモイル基、スルファ
モイル基、N-アルキルスルファモイル基、N,N-ジアルキルスルファモイル基、N-ア
リールスルファモイル基、N,N-ジアリールスルファモイル基、N-アルキル-N-アリー
ルスルファモイル基、ホスフォノ基(-PO32)およびその共役塩基基(以下、ホスフ
ォナト基と称す)、ジアルキルホスフォノ基(-PO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノ
基(-PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノ基(-PO3(alkyl)(aryl))、モノア
ルキルホスフォノ基(-PO3H(alkyl))およびその共役塩基基(以後、アルキルホスフ
ォナト基と称す)、モノアリールホスフォノ基(-PO3H(aryl))およびその共役塩基基
(以後、アリールホスフォナト基と称す)、ホスフォノオキシ基(-OPO32)および
その共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスフォノオキシ基
(-OPO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノオキシ基(-OPO3(aryl)2)、アルキル
アリールホスフォノオキシ基(-OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノオキ
シ基(-OPO3H(alkyl))およびその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナトオキシ
基と称す)、モノアリールホスフォノオキシ基(-OPO3H(aryl))およびその共役塩基
基(以後、アリールフォスホナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニトロ基、アリール基、
ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。
As the substituent of the substituted alkyl group, a monovalent nonmetallic atomic group excluding hydrogen is used, and preferred examples include halogen atoms (—F, —Br, —Cl, —I), hydroxyl groups, alkoxy groups, Aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group,
N-arylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkyl Carbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-aryl Acylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′,
N'-dialkylureido group, N'-arylureido group, N ', N'-diarylureido group, N'-alkyl-N'-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N' -Alkyl-N-alkylureido groups, N'-alkyl-N-arylureido groups,
N ′, N′-dialkyl-N-alkylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-arylureido group, N′-aryl-N-alkylureido group, N′-aryl-N-arylureido group, N
', N'-diaryl-N-alkylureido group, N', N'-diaryl-N-arylureido group, N'-alkyl-N'-aryl-N-alkylureido group, N'-alkyl-N ' -Aryl-
N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N- Arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, alkylsulfinyl group,
Arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfo group (-
SO 3 H) and its conjugate base group (hereinafter referred to as sulfonate group), alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N- Arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N -Arylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group (-PO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphonate group) ), dialkyl phosphono group (-PO 3 (alkyl) 2) , diaryl phosphono group (-PO 3 (aryl) 2) , alkylaryl A phosphono group (-PO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkyl phosphono group (-PO 3 H (alkyl)) and its conjugated base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonophenyl group), monoaryl phosphono group ( -PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as aryl phosphonate group), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphonateoxy group) , Dialkyl phosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) 2 ), diaryl phosphonooxy group (—OPO 3 (aryl) 2 ), alkylaryl phosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) (aryl)), mono Alkylphosphonooxy group (—OPO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as alkylphosphonatooxy group), monoarylphosphonooxy group (—OPO 3 H (aryl)) and its conjugate base Group (hereinafter referred to as arylphosphonatooxy group), cyano group, nitro group, aryl group,
A heteroaryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group are mentioned.

これらの置換基における、アルキル基の具体例としては、前述のアルキル基が挙げられ
、アリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キ
シリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチ
ルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェ
ノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェ
ニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基
、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、
エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、N-フェニルカルバ
モイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェ
ニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基等を挙げることができる。
Specific examples of the alkyl group in these substituents include the above-described alkyl groups, and specific examples of the aryl group include a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, a tolyl group, a xylyl group, a mesityl group, and a cumenyl group. , Chlorophenyl group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, methylamino Phenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group,
Examples thereof include an ethoxyphenylcarbonyl group, a phenoxycarbonylphenyl group, an N-phenylcarbamoylphenyl group, a phenyl group, a cyanophenyl group, a sulfophenyl group, a sulfonatophenyl group, a phosphonophenyl group, and a phosphonatophenyl group.

1、R2およびR3として好ましいヘテロアリール基としては、窒素、酸素、硫黄原子
の少なくとも一つを含有する単環、もしくは多環芳香族環が用いられ、特に好ましいヘテ
ロアリール基の例としては、例えば、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベ
ンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサジン、ピロール、ピラゾール、イソチア
ゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソイ
ンドリジン、インドイール、インダゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラ
ジン、ナフチリジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、
フェナンスリン、アクリジン、ペリミジン、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザ
ジン、フェノキサジン、フラザン、フェノキサジンや等があげられ、これらは、さらにベ
ンゾ縮環してもよく、また置換基を有していてもよい。
As the preferred heteroaryl group as R 1 , R 2 and R 3 , a monocyclic or polycyclic aromatic ring containing at least one of nitrogen, oxygen and sulfur atoms is used. Examples of particularly preferred heteroaryl groups Is, for example, thiophene, thiathrene, furan, pyran, isobenzofuran, chromene, xanthene, phenoxazine, pyrrole, pyrazole, isothiazole, isoxazole, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, indolizine, isoindolizine, indolizine, indazole, indazole, Purine, quinolidine, isoquinoline, phthalazine, naphthyridine, quinazoline, sinoline, pteridine, carbazole, carboline,
Examples thereof include phenanthrine, acridine, perimidine, phenanthroline, phthalazine, phenazazine, phenoxazine, furazane, phenoxazine, and the like. These may be further benzo-fused or may have a substituent.

また、R1、R2およびR3として好ましいアルケニル基の例としては、ビニル基、1-プ
ロペニル基、1-ブテニル基、シンナミル基、2-クロロ-1-エテニル基、等が挙げられ、
アルキニル基の例としては、エチニル基、1-プロピニル基、1-ブチニル基、トリメチル
シリルエチニル基等が挙げられる。アシル基(G1CO-)におけるG1としては、水素
、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙げることができる。これら置換基の内、更
により好ましいものとしてはハロゲン原子(-F、-Br、-Cl、-I)、アルコキシ基、
アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、N-アルキルアミノ基、N,N-ジア
ルキルアミノ基、アシルオキシ基、N-アルキルカルバモイルオキシ基、N-アリールカル
バモイルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキ
シカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N-アルキルカルバモイ
ル基、N,N-ジアルキルカルバモイル基、N-アリールカルバモイル基、N-アルキル-N
-アリールカルバモイル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、N-アルキルス
ルファモイル基、N,N-ジアルキルスルファモイル基、N-アリールスルファモイル基、
N-アルキル-N-アリールスルファモイル基、ホスフォノ基、ホスフォナト基、ジアルキ
ルホスフォノ基、ジアリールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキルホスフ
ォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリールホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、
ホスフォナトオキシ基、アリール基、アルケニル基が挙げられる。
Examples of preferable alkenyl groups as R 1 , R 2 and R 3 include vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, cinnamyl group, 2-chloro-1-ethenyl group, and the like.
Examples of the alkynyl group include ethynyl group, 1-propynyl group, 1-butynyl group, trimethylsilylethynyl group and the like. Examples of G1 in the acyl group (G1CO-) include hydrogen and the above alkyl groups and aryl groups. Among these substituents, more preferred are a halogen atom (—F, —Br, —Cl, —I), an alkoxy group,
Aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, acyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, acylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl Group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N-alkyl-N
-Arylcarbamoyl group, sulfo group, sulfonate group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group,
N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group, phosphonate group, dialkyl phosphono group, diaryl phosphono group, monoalkyl phosphono group, alkyl phosphonate group, monoaryl phosphono group, aryl phosphonate group, Phosphonooxy group,
A phosphonatooxy group, an aryl group, and an alkenyl group are mentioned.

一方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述の炭素数1から20までのア
ルキル基上の水素原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基としたものを挙げることが
でき、好ましくは炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐
状ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキレン基を挙げることができる。
On the other hand, examples of the alkylene group in the substituted alkyl group include divalent organic residues obtained by removing any one of the hydrogen atoms on the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Can include linear alkylene groups having 1 to 12 carbon atoms, branched chains having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkylene groups having 5 to 10 carbon atoms.

該置換基とアルキレン基を組み合わせることにより得られるR1、R2およびR3として
好ましい置換アルキル基の、具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、2-ク
ロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、
アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基
、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチル
オキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、N-シクロヘキシルカルバモイルオキシエ
チル基、N-フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、N-メチル
ベンゾイルアミノプロピル基、2-オキソエチル基、2-オキソプロピル基、カルボキシプ
ロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェ
ノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、N-メチルカルバモイルエチル基、
N,N-ジプロピルカルバモイルメチル基、N-(メトキシフェニル)カルバモイルエチル
基、N-メチル-N-(スルホフェニル)カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホ
ナトブチル基、スルファモイルブチル基、N-エチルスルファモイルメチル基、N,N-ジ
プロピルスルファモイルプロピル基、N-トリルスルファモイルプロピル基、N-メチル-
N-(ホスフォノフェニル)スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォ
ナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチ
ルホスフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、ト
リルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル
基、ベンジル基、フェネチル基、α-メチルベンジル基、1-メチル-1-フェニルエチル基
、p-メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1-プロペニルメチル基、2-ブテニ
ル基、2-メチルアリル基、2-メチルプロペニルメチル基、2-プロピニル基、2-ブチニ
ル基、3-ブチニル基、等を挙げることができる。
Specific examples of preferable substituted alkyl groups as R 1 , R 2 and R 3 obtained by combining the substituent with an alkylene group include chloromethyl group, bromomethyl group, 2-chloroethyl group, trifluoromethyl group, methoxy Methyl group, methoxyethoxyethyl group,
Allyloxymethyl group, phenoxymethyl group, methylthiomethyl group, tolylthiomethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl group, N -Phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl group, allyloxycarbonylbutyl group, chlorophenoxycarbonylmethyl Group, carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group,
N, N-dipropylcarbamoylmethyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylmethyl group, sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfuric group Famoylmethyl group, N, N-dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group, N-methyl-
N- (phosphonophenyl) sulfamoyloctyl group, phosphonobutyl group, phosphonatohexyl group, diethylphosphonobutyl group, diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobutyl group, tolylphosphono Hexyl group, tolylphosphonatohexyl group, phosphonooxypropyl group, phosphonatooxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, cinnamyl Group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, and the like.

1、R2およびR3として好ましいアリール基の具体例としては、1個から3個のベン
ゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽和環が縮合環を形成したものを挙
げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナント
リル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙げることができ、これ
らのなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
Specific examples of preferred aryl groups as R 1 , R 2 and R 3 include those in which 1 to 3 benzene rings form a condensed ring, and those in which a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring form a condensed ring. Specific examples include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenaphthenyl group, and a fluorenyl group, and among these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferable. .

1、R2およびR3として好ましい置換アリール基の具体例としては、前述のアリール
基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を有するものが用
いられる。好ましい置換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに先
に置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。この様な、置
換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチ
ル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロ
メチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフ
ェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル
基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチ
ルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオ
キシフェニル基、N-シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、N-フェニルカルバ
モイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、N-メチルベンゾイルアミノフェ
ニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニ
ルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、N-
メチルカルバモイルフェニル基、N,N-ジプロピルカルバモイルフェニル基、N-(メト
キシフェニル)カルバモイルフェニル基、N-メチル-N-スルホフェニル)カルバモイル
フェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、N
-エチルスルファモイルフェニル基、N,N-ジプロピルスルファモイルフェニル基、N-
トリルスルファモイルフェニル基、N-メチル-N-(ホスフォノフェニル)スルファモイ
ルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォノフ
ェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホス
フォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、ア
リル基、1-プロペニルメチル基、2-ブテニル基、2-メチルアリルフェニル基、2-メチ
ルプロペニルフェニル基、2-プロピニルフェニル基、2-ブチニルフェニル基、3-ブチ
ニルフェニル基、等を挙げることができる。
Specific examples of preferred substituted aryl groups as R 1 , R 2 and R 3 include those having a monovalent non-metallic atomic group excluding hydrogen as a substituent on the ring-forming carbon atom of the aryl group described above. . Examples of preferred substituents include the alkyl groups, substituted alkyl groups, and those previously shown as substituents in the substituted alkyl group. Preferred examples of such a substituted aryl group include biphenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, fluorophenyl group, chloromethylphenyl group, trifluoromethylphenyl group. Hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, methoxyethoxyphenyl group, allyloxyphenyl group, phenoxyphenyl group, methylthiophenyl group, tolylthiophenyl group, ethylaminophenyl group, diethylaminophenyl group, morpholinophenyl group, acetyloxyphenyl group, Benzoyloxyphenyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyphenyl group, N-phenylcarbamoyloxyphenyl group, acetylaminophenyl group, N-methylbenzoylaminophenyl group, carboxy Eniru group, methoxycarbonylphenyl group, allyloxycarbonyl phenyl group, chlorophenoxy carbonyl phenyl group, carbamoyl phenyl group, N-
Methylcarbamoylphenyl group, N, N-dipropylcarbamoylphenyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylphenyl group, N-methyl-N-sulfophenyl) carbamoylphenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, sulfamoyl Phenyl group, N
-Ethylsulfamoylphenyl group, N, N-dipropylsulfamoylphenyl group, N-
Tolylsulfamoylphenyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoylphenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, diethylphosphonophenyl group, diphenylphosphonophenyl group, methylphosphonophenyl Group, methylphosphonatophenyl group, tolylphosphonophenyl group, tolylphosphonophenyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallylphenyl group, 2-methylpropenylphenyl group, 2- A propynylphenyl group, a 2-butynylphenyl group, a 3-butynylphenyl group, and the like can be given.

次に、一般式(V)におけるAについて説明する。Aは置換基を有してもよい芳香族環
またはヘテロ環を表し、置換基を有してもよい芳香族環またはヘテロ環の具体例としては
、一般式(V)中のR1、R2およびR3で記載したものと同様のものが挙げられる。
Next, A in the general formula (V) will be described. A represents an aromatic ring or a hetero ring which may have a substituent. Specific examples of the aromatic ring or hetero ring which may have a substituent include R 1 and R in the general formula (V). similar to those described in 2 and R 3 can be exemplified.

上記一般式(V)で表される増感色素は、上に示したような酸性核や、活性メチレン基
を有する酸性核と、置換、もしくは非置換の、芳香族環またはヘテロ環との縮合反応によ
って得られるが、これらは特公昭59-28329号公報を参照して合成することができ
る。
The sensitizing dye represented by the general formula (V) is a condensation of an acidic nucleus as shown above or an acidic nucleus having an active methylene group with a substituted or unsubstituted aromatic ring or heterocyclic ring. Although obtained by reaction, these can be synthesized with reference to JP-B-59-28329.

以下に一般式(V)で表される化合物の好ましい具体例(D1)から(D41)を示す
。また、酸性核と塩基性核を結ぶ2重結合による異性体については、どちらかの異性体に
限定されるものではない。
Preferred specific examples (D1) to (D41) of the compound represented by the general formula (V) are shown below. In addition, an isomer with a double bond connecting an acidic nucleus and a basic nucleus is not limited to either isomer.

上記360nm〜450nmの光を吸収する増感色素は、感光性組成物の全成分中の1
.0〜10.0質量%の範囲で使用されるのが好ましい。より好ましくは1.5〜5.0
質量%の範囲である。
The sensitizing dye that absorbs light of 360 nm to 450 nm is 1 in all components of the photosensitive composition.
. It is preferably used in the range of 0 to 10.0% by mass. More preferably 1.5 to 5.0
It is the range of mass%.

〔バインダーポリマー〕
本発明の感光性組成物に使用可能なバインダーポリマーとしては、非水溶性ポリマーが
好ましく用いられる。さらに、本発明に使用可能な疎水性バインダーポリマーは、カルボ
キシル基、スルホン基、リン酸基などの酸基を実質的に含有しないものが好ましく、バイ
ンダーポリマーの酸価(ポリマー1gあたりの酸含率を化学等量数で表したもの)は、0
.3meq/g以下であることが好ましく、さらに好ましくは、0.1meq/g以下で
ある。
[Binder polymer]
As the binder polymer that can be used in the photosensitive composition of the present invention, a water-insoluble polymer is preferably used. Furthermore, the hydrophobic binder polymer that can be used in the present invention preferably contains substantially no acid group such as a carboxyl group, a sulfone group, and a phosphoric acid group. The acid value of the binder polymer (the acid content per gram of polymer) Is expressed as a chemical equivalent number) is 0
. It is preferably 3 meq / g or less, and more preferably 0.1 meq / g or less.

すなわち、本発明に使用可能なバインダーポリマーは、水およびpH10以上の水溶液
に対し不溶(疎水性)であることが好ましく、バインダーポリマーの水およびpH10以
上の水溶液に対する溶解度が、0.5質量%以下であることが好ましく、さらに好ましく
は、0.1質量%以下である。このようなバインダーポリマーを用いることによって、画
像形成層の膜強度、耐水性および着肉性が向上して、耐刷性の向上が得られる。
That is, the binder polymer that can be used in the present invention is preferably insoluble (hydrophobic) in water and an aqueous solution of pH 10 or higher, and the solubility of the binder polymer in water and an aqueous solution of pH 10 or higher is 0.5% by mass or less. Preferably, it is 0.1% by mass or less. By using such a binder polymer, the film strength, water resistance and fillability of the image forming layer are improved, and the printing durability is improved.

バインダーポリマーとしては、本発明の感光性組成物の性能を損なわない限り、好まし
くは、上記範囲であれば、従来公知のものを制限なく使用でき、皮膜性を有する線状有機
ポリマーが好ましい。
As long as it does not impair the performance of the photosensitive composition of this invention as a binder polymer, if it is the said range, a conventionally well-known thing can be used without a restriction | limiting, The linear organic polymer which has film property is preferable.

このようなバインダーポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹
脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、スチレン系樹
脂、ポリエステル樹脂から選ばれる高分子が好ましい。なかでも、アクリル樹脂が好まし
く、(メタ)アクリル酸エステル共重合体が好ましい。より具体的には、(メタ)アクリ
ル酸アルキルまたはアラルキルエステルと(メタ)アクリル酸エステルのエステル残基(
−COOR)のRに−CH2CH2O−単位または−CH2CH2NH−単位を含む(メタ)
アクリル酸エステルとの共重合体が特に好ましい。上記(メタ)アクリル酸アルキルエス
テルの好ましいアルキル基は、炭素数1〜5のアルキル基であり、メチル基がより好まし
い。好ましい(メタ)アクリル酸アラルキルエステルとしては、(メタ)アクリル酸ベン
ジルが挙げられる。
As an example of such a binder polymer, a polymer selected from an acrylic resin, a polyvinyl acetal resin, a polyurethane resin, a polyamide resin, an epoxy resin, a methacrylic resin, a styrene resin, and a polyester resin is preferable. Especially, an acrylic resin is preferable and a (meth) acrylic acid ester copolymer is preferable. More specifically, (meth) acrylic acid alkyl or aralkyl ester and (meth) acrylic acid ester residue (
To R of the -COOR) contains a -CH 2 CH 2 O- unit or a -CH 2 CH 2 NH- unit (meth)
A copolymer with an acrylate ester is particularly preferred. The preferable alkyl group of the (meth) acrylic acid alkyl ester is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and a methyl group is more preferable. Preferable (meth) acrylic acid aralkyl esters include benzyl (meth) acrylate.

さらに、バインダーポリマーは、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性をもたせ
ることができる。
バインダーポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官
能基を高分子の主鎖中または側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導
入してもよいし、高分子反応によって導入してもよい。
ここで架橋性基とは、感光性組成物を露光した際に該組成物中で起こるラジカル重合反
応の過程で高分子バインダーを架橋させる基のことである。このような機能の基であれば
特に限定されないが、例えば、付加重合反応し得る官能基としてエチレン性不飽和結合基
、アミノ基、エポキシ基等が挙げられる。また光照射によりラジカルになり得る官能基で
あってもよく、そのような架橋性基としては、例えば、チオール基、ハロゲン基、オニウ
ム塩構造等が挙げられる。なかでも、エチレン性不飽和結合基が好ましく、下記一般式(
1)〜(3)で表される官能基が特に好ましい。
Further, the binder polymer can be cross-linked in order to improve the film strength of the image area.
In order to impart crosslinkability to the binder polymer, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond may be introduced into the main chain or side chain of the polymer. The crosslinkable functional group may be introduced by copolymerization or may be introduced by a polymer reaction.
Here, the crosslinkable group is a group that crosslinks the polymer binder in the course of a radical polymerization reaction that occurs in the composition when the photosensitive composition is exposed. Although it will not specifically limit if it is a group of such a function, For example, an ethylenically unsaturated bond group, an amino group, an epoxy group etc. are mentioned as a functional group which can be addition-polymerized. Moreover, the functional group which can become a radical by light irradiation may be sufficient, and as such a crosslinkable group, a thiol group, a halogen group, an onium salt structure etc. are mentioned, for example. Among these, an ethylenically unsaturated bond group is preferable, and the following general formula (
The functional groups represented by 1) to (3) are particularly preferable.

上記一般式(1)において、Rl〜R3はそれぞれ独立に、1価の有機基を表すが、R1
としては、好ましくは、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ
、なかでも、水素原子、メチル基がラジカル反応性の高いことから好ましい。また、R2
、R3は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、カルボキシル基、アル
コキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基
、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有し
てもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有しても
よいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有しても
よいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アル
コキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール
基がラジカル反応性の高いことから好ましい。
In the general formula (1), R 1 to R 3 each independently represents a monovalent organic group, but R 1
Preferred examples include a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent. Among them, a hydrogen atom and a methyl group are preferable because of high radical reactivity. R 2
And R 3 each independently has a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an alkyl group which may have a substituent, or a substituent. An aryl group which may have a substituent, an aryloxy group which may have a substituent, an alkylamino group which may have a substituent, an aryl which may have a substituent Examples include an amino group, an alkylsulfonyl group that may have a substituent, and an arylsulfonyl group that may have a substituent. Among them, a hydrogen atom, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, and A preferable alkyl group and an aryl group which may have a substituent are preferable because of high radical reactivity.

Xは、酸素原子、硫黄原子、またはN(R12)−を表し、R12は、水素原子、または1
価の有機基を表す。ここで、R12は、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、
なかでも、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基がラジカル反応性が高いこと
から好ましい。
ここで、導入し得る置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリ
ール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、
アリールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シ
アノ基、アミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基などが挙げられる。
X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or N (R 12 ) —, and R 12 represents a hydrogen atom or 1
Represents a valent organic group. Here, R 12 includes an alkyl group which may have a substituent, and the like.
Of these, a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, and an isopropyl group are preferable because of high radical reactivity.
Here, examples of the substituent that can be introduced include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a halogen atom, an amino group, an alkylamino group,
Arylamino group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, sulfo group, nitro group, cyano group, amide group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group and the like can be mentioned.

上記一般式(2)において、R4〜R8は、それぞれ独立に1価の有機基を表すが、R4
〜R8は、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カル
ボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有して
もよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ
基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、
置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、
置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カル
ボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有し
てもよいアリール基が好ましい。
In the general formula (2), R 4 to R 8 is each independently a monovalent organic group, R 4
To R 8 is preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a dialkylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an alkyl group which may have a substituent, An aryl group that may have a substituent, an alkoxy group that may have a substituent, an aryloxy group that may have a substituent, an alkylamino group that may have a substituent,
An arylamino group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent,
Examples include an arylsulfonyl group which may have a substituent. Among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent Is preferred.

導入し得る置換基としては、一般式(1)と同様のものが例示される。また、Yは、酸
素原子、硫黄原子、またはN(R12)−を表す。R12は、一般式(1)のR12の場合と同
義であり、好ましい例も同様である。
Examples of the substituent that can be introduced are the same as those in the general formula (1). Y represents an oxygen atom, a sulfur atom, or N (R 12 ) —. R 12 has the same meaning as R 12 in general formula (1), and preferred examples are also the same.

上記一般式(3)において、R9としては、好ましくは、水素原子または置換基を有し
てもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基がラジカル反応性の
高いことから好ましい。R10、R11は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミ
ノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニト
ロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、
置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を
有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有し
てもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げ
られ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有して
もよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基がラジカル反応性の高いことから好
ましい。
In the general formula (3), R 9 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent. Among them, a hydrogen atom or a methyl group has high radical reactivity. preferable. R 10 and R 11 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a dialkylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, or an alkyl group which may have a substituent. An aryl group which may have a substituent,
An alkoxy group that may have a substituent, an aryloxy group that may have a substituent, an alkylamino group that may have a substituent, an arylamino group that may have a substituent, a substituent Examples include an alkylsulfonyl group that may have, an arylsulfonyl group that may have a substituent, and the like. Among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkyl group that may have a substituent, and a substituent An aryl group which may have a group is preferable because of high radical reactivity.

ここで、導入し得る置換基としては、一般式(1)と同様のものが例示される。また、
Zは、酸素原子、硫黄原子、−N(R13)−、または置換基を有してもよいフェニレン基
を表す。R13としては、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、メ
チル基、エチル基、イソプロピル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
上記の中でも、側鎖に架橋性基を有する(メタ)アクリル酸共重合体およびポリウレタ
ンがより好ましい。
Here, examples of the substituent that can be introduced are the same as those in the general formula (1). Also,
Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, —N (R 13 ) —, or an optionally substituted phenylene group. Examples of R 13 include an alkyl group which may have a substituent. Among them, a methyl group, an ethyl group, and an isopropyl group are preferable because of high radical reactivity.
Among these, (meth) acrylic acid copolymers having a crosslinkable group in the side chain and polyurethane are more preferable.

架橋性を有するバインダーポリマーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル(
重合開始ラジカルまたは重合性化合物の重合過程の生長ラジカル)が付加し、ポリマー間
で直接にまたは重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が
形成されて硬化する。または、ポリマー中の原子(例えば、官能性架橋基に隣接する炭素
原子上の水素原子)がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、そ
れが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。
For example, the binder polymer having a crosslinkable property has a free radical (
A polymerization initiating radical or a growth radical in the polymerization process of the polymerizable compound) is added, and addition polymerization is performed directly between polymers or via a polymerization chain of the polymerizable compound, and a crosslink is formed between the polymer molecules to be cured. Alternatively, atoms in the polymer (eg, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to the functional bridging group) are abstracted by free radicals to form polymer radicals that are bonded to each other so that crosslinking between the polymer molecules occurs. Forms and cures.

バインダーポリマー中の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽
和二重結合の含有量)は、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0
mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mm
olである。
The content of the crosslinkable group in the binder polymer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 10.0 per 1 g of the binder polymer.
mmol, more preferably 1.0-7.0 mmol, most preferably 2.0-5.5 mm
ol.

また、本発明の感光性組成物を平版印刷版原版の画像形成層に用いた場合、水溶液に対
する現像性向上という観点からバインダーポリマーは親水的であることが好ましく、さら
に耐刷性向上という観点からバインダーポリマーは画像形成層中に含まれる重合性化合物
と相溶性が良いことが重要であり、すなわち親油的であることが好ましい。このような見
地から本発明では、現像性と耐刷性を向上させるため疎水性バインダーポリマー中に親水
性基と親油性基とを共重合させることも有効である。親水性基としては、例えば、ヒドロ
キシ基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、エチレンオキシ基、ヒドロキシプロ
ピル基、ポリオキシエチル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミ
ノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基等の親水性基を有するも
のが好適に挙げられる。
Further, when the photosensitive composition of the present invention is used for an image forming layer of a lithographic printing plate precursor, the binder polymer is preferably hydrophilic from the viewpoint of improving developability with respect to an aqueous solution, and from the viewpoint of improving printing durability. It is important that the binder polymer has good compatibility with the polymerizable compound contained in the image forming layer, that is, it is preferably oleophilic. From such a viewpoint, in the present invention, it is also effective to copolymerize a hydrophilic group and a lipophilic group in a hydrophobic binder polymer in order to improve developability and printing durability. Examples of the hydrophilic group include a hydroxy group, a carboxylate group, a hydroxyethyl group, an ethyleneoxy group, a hydroxypropyl group, a polyoxyethyl group, a polyoxypropyl group, an amino group, an aminoethyl group, an aminopropyl group, and an ammonium group. And those having a hydrophilic group such as an amide group or a carboxymethyl group.

バインダーポリマーは、質量平均分子量が5000以上であるのが好ましく、1万〜3
0万であるのがより好ましく、また、数平均分子量が1000以上であるのが好ましく、
2000〜25万であるのがより好ましい。多分散度(質量平均分子量/数平均分子量)
は、1.1〜10であるのが好ましい。
バインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等の
いずれでもよいが、ランダムポリマーであるのが好ましい。
疎水性バインダーポリマーは単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。
疎水性バインダーポリマーの含有量は、感光性組成物の全固形分に対して、5〜90質
量%であり、10〜70質量%であるのが好ましく、10〜60質量%であるのがより好
ましい。この範囲内で、本発明の感光性組成物を平版印刷版原版の画像形成層に用いた場
合、良好な画像部の強度と画像形成性が得られる。
The binder polymer preferably has a mass average molecular weight of 5,000 or more and 10,000 to 3
More preferably, the number average molecular weight is 1,000 or more.
More preferably, it is 2000-250,000. Polydispersity (mass average molecular weight / number average molecular weight)
Is preferably 1.1-10.
The binder polymer may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer, and the like, but is preferably a random polymer.
The hydrophobic binder polymer may be used alone or in combination of two or more.
Content of hydrophobic binder polymer is 5-90 mass% with respect to the total solid of a photosensitive composition, It is preferable that it is 10-70 mass%, and it is more that it is 10-60 mass%. preferable. Within this range, when the photosensitive composition of the present invention is used in the image forming layer of a lithographic printing plate precursor, good image area strength and image formability can be obtained.

〔共増感剤〕
ある種の添加剤を用いることで、本発明の感光性組成物の感度をさらに向上させること
ができる。そのような化合物を、本発明では共増感剤という。これらの作用機構は、明確
ではないが、多くは次のような化学プロセスに基づくものと考えられる。すなわち、先述
の光重合開始系の光吸収により開始される光反応、と、それに引き続く付加重合反応の過
程で生じる様々な中間活性種(ラジカル、過酸化物、酸化剤、還元剤等)と、共増感剤が
反応し、新たな活性ラジカルを生成するものと推定される。これらは、大きくは、(a)
還元されて活性ラジカルを生成しうるもの、(b)酸化されて活性ラジカルを生成しうる
もの、(c)活性の低いラジカルと反応し、より活性の高いラジカルに変換するか、もし
くは連鎖移動剤として作用するもの、に分類できるが、個々の化合物がこれらのどれに属
するかに関しては、通説がない場合も多い。
[Co-sensitizer]
By using a certain kind of additive, the sensitivity of the photosensitive composition of the present invention can be further improved. Such a compound is referred to as a co-sensitizer in the present invention. These mechanisms of action are not clear, but many are thought to be based on the following chemical processes. That is, a photoreaction initiated by light absorption of the above-described photopolymerization initiation system, and various intermediate active species (radicals, peroxides, oxidizing agents, reducing agents, etc.) generated in the course of the subsequent addition polymerization reaction, It is presumed that the co-sensitizer reacts to generate a new active radical. These are broadly: (a)
Those that can be reduced to produce active radicals, (b) those that can be oxidized to produce active radicals, (c) react with less active radicals to convert to more active radicals, or chain transfer agents However, there are many cases where there is no general explanation as to which of these compounds each belongs to.

(a)還元されて活性ラジカルを生成する化合物
炭素−ハロゲン結合を有する化合物:還元的に炭素−ハロゲン結合が解裂し、活性ラジ
カルを発生すると考えられる。具体的には、例えば、トリハロメチル−s−トリアジン類
や、トリハロメチルオキサジアゾール類等が好適に使用できる。
窒素−窒素結合を有する化合物:還元的に窒素−窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発
生すると考えられる。具体的にはヘキサアリールビイミダゾール類等が好適に使用される

酸素−酸素結合を有する化合物:還元的に酸素−酸素結合が解裂し、活性ラジカルを発
生すると考えられる。具体的には、例えば、有機過酸化物類等が好適に使用される。
オニウム化合物:還元的に炭素−ヘテロ結合や、酸素−窒素結合が解裂し、活性ラジカ
ルを発生すると考えられる。具体的には例えば、ジアリールヨードニウム塩類、トリアリ
ールスルホニウム塩類、N−アルコキシピリジニウム(アジニウム)塩類等が好適に使用
される。
フェロセン、鉄アレーン錯体類:還元的に活性ラジカルを生成しうる。
(A) Compound that is reduced to produce an active radical Compound having a carbon-halogen bond: It is considered that the carbon-halogen bond is reductively cleaved to generate an active radical. Specifically, for example, trihalomethyl-s-triazines and trihalomethyloxadiazoles can be preferably used.
Compound having nitrogen-nitrogen bond: It is considered that the nitrogen-nitrogen bond is reductively cleaved to generate an active radical. Specifically, hexaarylbiimidazoles and the like are preferably used.
Compound having oxygen-oxygen bond: It is considered that the oxygen-oxygen bond is reductively cleaved to generate an active radical. Specifically, for example, organic peroxides are preferably used.
Onium compounds: It is considered that carbon-hetero bonds and oxygen-nitrogen bonds are reductively cleaved to generate active radicals. Specifically, for example, diaryliodonium salts, triarylsulfonium salts, N-alkoxypyridinium (azinium) salts and the like are preferably used.
Ferrocene and iron arene complexes: An active radical can be reductively generated.

(b)酸化されて活性ラジカルを生成する化合物
アルキルアート錯体:酸化的に炭素−ヘテロ結合が解裂し、活性ラジカルを生成すると
考えられる。具体的には例えば、トリアリールアルキルボレート類が好適に使用される。
アルキルアミン化合物:酸化により窒素に隣接した炭素上のC−X結合が解裂し、活性
ラジカルを生成するものと考えられる。Xとしては、水素原子、カルボキシル基、トリメ
チルシリル基、ベンジル基等が好適である。具体的には、例えば、エタノールアミン類、
N−フェニルグリシン類、N−トリメチルシリルメチルアニリン類等が挙げられる。
含硫黄、含錫化合物:上述のアミン類の窒素原子を硫黄原子、錫原子に置き換えたもの
が、同様の作用により活性ラジカルを生成しうる。また、S−S結合を有する化合物もS
−S解裂による増感が知られる。
α−置換メチルカルボニル化合物:酸化により、カルボニル−α炭素間の結合解裂によ
り、活性ラジカルを生成しうる。また、カルボニルをオキシムエーテルに変換したものも
同様の作用を示す。具体的には、2−アルキル−1−[4−(アルキルチオ)フェニル]
−2−モルフォリノプロノン−1類、並びに、これらと、ヒドロキシアミン類とを反応し
たのち、N−OHをエーテル化したオキシムエーテル類をあげることができる。
スルフィン酸塩類:還元的に活性ラジカルを生成しうる。具体的は、アリールスルフィ
ン酸ナトリウム等を挙げることができる。
(B) Compound which is oxidized to generate an active radical Alkylate complex: It is considered that a carbon-hetero bond is oxidatively cleaved to generate an active radical. Specifically, for example, triarylalkyl borates are preferably used.
Alkylamine compound: It is considered that the C—X bond on carbon adjacent to nitrogen is cleaved by oxidation to generate an active radical. X is preferably a hydrogen atom, a carboxyl group, a trimethylsilyl group, a benzyl group or the like. Specifically, for example, ethanolamines,
N-phenylglycine, N-trimethylsilylmethylaniline, etc. are mentioned.
Sulfur-containing and tin-containing compounds: Compounds in which the nitrogen atoms of the above-described amines are replaced with sulfur atoms and tin atoms can generate active radicals by the same action. A compound having an S—S bond is also S.
Sensitization due to -S cleavage is known.
α-Substituted methylcarbonyl compound: An active radical can be generated by oxidative cleavage of the carbonyl-α carbon bond. Moreover, what converted carbonyl into the oxime ether also shows the same effect | action. Specifically, 2-alkyl-1- [4- (alkylthio) phenyl]
Examples include -2-morpholinopronone-1 and oxime ethers obtained by reacting these with hydroxyamines and then etherifying N-OH.
Sulfinic acid salts: An active radical can be reductively generated. Specific examples include sodium arylsulfinate.

(c)ラジカルと反応し高活性ラジカルに変換、もしくは連鎖移動剤として作用する化合

ラジカルと反応し高活性ラジカルに変換、もしくは連鎖移動剤として作用する化合物と
しては、例えば、分子内にSH、PH、SiH、GeHを有する化合物群が用いられる。
これらは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化
された後、脱プロトンすることによりラジカルを生成しうる。具体的には、例えば、2−
メルカプトベンズイミダゾール類等が挙げられる。
(C) Compounds that react with radicals to convert to highly active radicals or act as chain transfer agents Compounds that react with radicals to convert to highly active radicals or act as chain transfer agents include, for example, SH, PH in the molecule , SiH, and GeH are used.
These can donate hydrogen to low-activity radical species to generate radicals, or can be oxidized and then deprotonated to generate radicals. Specifically, for example, 2-
And mercaptobenzimidazoles.

これらの共増感剤のより具体的な例は、例えば、特開平9−236913号公報中に、
感度向上を目的とした添加剤として、多く記載されている。以下に、その一部を例示する
が、本発明はこれらに限定されるものはない。
More specific examples of these cosensitizers are disclosed in, for example, JP-A-9-236913.
Many are described as additives for the purpose of improving sensitivity. Some examples are shown below, but the present invention is not limited thereto.

これらの共増感剤に関しても、先の増感色素と同様、さらに、本発明の感光性組成物の
特性を改良するための様々な化学修飾を行うことも可能である。例えば、増感色素やチタ
ノセン、付加重合性不飽和化合物その他のラジカル発生パートとの結合、親水性部位の導
入、相溶性向上、結晶析出抑制のための置換基導入、密着性を向上させる置換基導入、ポ
リマー化等の方法が利用できる。これらの共増感剤は、単独でまたは2種以上併用して用
いることができる。使用量はエチレン性不飽和二重結合を有する化合物100質量部に対
し0.05〜100質量部、好ましくは1〜80質量部、さらに好ましくは3〜50質量
部の範囲が適当である。
These cosensitizers can also be subjected to various chemical modifications for improving the characteristics of the photosensitive composition of the present invention, as in the case of the above sensitizing dyes. For example, bonds with sensitizing dyes, titanocene, addition-polymerizable unsaturated compounds and other radical generating parts, introduction of hydrophilic sites, compatibility improvement, introduction of substituents to suppress crystal precipitation, substituents that improve adhesion Methods such as introduction and polymerization can be used. These co-sensitizers can be used alone or in combination of two or more. The amount used is 0.05 to 100 parts by mass, preferably 1 to 80 parts by mass, and more preferably 3 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the compound having an ethylenically unsaturated double bond.

また、本発明の感光性組成物は、上記一般式(1)、(2)又は(3)で表される化合
物とともに、ラジカル重合性モノマーを併用することが好ましい。
Moreover, it is preferable that the photosensitive composition of this invention uses a radically polymerizable monomer together with the compound represented by the said general formula (1), (2) or (3).

本発明の感光性組成物に用いることができるラジカル重合性モノマーは、少なくとも一
個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和
結合を少なくとも1個、好ましく2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物
群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定
無く用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、
3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的
形態をもつ。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、ア
クリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)
や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価
アルコール化合物とのカルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。
また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボ
ン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類あるいはエポキ
シ類との付加反応物、および単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等
も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有す
る不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、
アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置
換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアル
コール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上
記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置
き換えた化合物群を使用することも可能である。
The radical polymerizable monomer that can be used in the photosensitive composition of the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and has at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably 2 It is selected from compounds having at least one. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These are, for example, monomers, prepolymers, i.e. dimers,
It has chemical forms such as trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.)
And esters thereof and amides. Preferably, amides of a carboxylic acid of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound and an aliphatic polyvalent amine compound are used.
In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and a monofunctional or polyfunctional compound. A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, unsaturated carboxylic acid esters or amides having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group, and monofunctional or polyfunctional alcohols,
Addition reaction products with amines and thiols, as well as unsaturated carboxylic acid esters or amides having leaving groups such as halogen groups and tosyloxy groups, and monofunctional or polyfunctional alcohols, amines and thiols A substitution reaction product with is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例とし
ては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレング
リコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコール
ジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパント
リ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、
ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テ
トラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタ
エリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビト
ールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレ
ト、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌー
ト、イソシアヌール酸エチレンオキシド(EO)変性トリアクリレート、ポリエステルア
クリレートオリゴマー等がある。
Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate,
Hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate Sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanate, isocyanuric acid ethylene oxide (EO) modified triacrylate, polyester acrylate oligomer, and the like.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエ
チレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメ
チロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサン
ジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリト
ールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリス
リトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトー
ルトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリ
ルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタ
クリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。
Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコ
ールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオール
ジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイ
タコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、
エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタ
エリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロ
トン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとして
は、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリス
リトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate. As crotonic acid ester,
Examples include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritolotonate and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭51−47334号、特開昭57−19
6231号の各公報に記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号
、特開昭59−5241号、特開平2−226149号の各公報に記載の芳香族系骨格を
有するもの、特開平1−165613号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用
いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。
Examples of other esters include, for example, Japanese Patent Publication No. 51-47334, Japanese Patent Laid-Open No. 57-19.
The aliphatic alcohol esters described in JP 6231 and the aromatic skeletons described in JP 59-5240, JP 59-5241, and JP 2-226149 Those having an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例とし
ては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキ
サメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジ
エチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレン
スメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭
54−21726号公報記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。
Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylenemethacrylamide and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B No. 54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化
合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報
に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(A)
で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビ
ニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
In addition, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable. The polyisocyanate compound having the following general formula (A)
And vinyl urethane compounds containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule to which a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the formula (1) is added.

CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH (A)
(ただし、R4およびR5は、HまたはCH3を示す。)
CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (A)
(However, R 4 and R 5 represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号公報、特公平2−32293号公報、特公平2−16
765号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−4986
0号公報、特公昭56−17654号公報、特公昭62−39417号公報、特公昭62
−39418号公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適で
ある。更に、特開昭63−277653号公報、特開昭63−260909号公報、特開
平1−105238号公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する
付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成
物を得ることができる。
JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16
No. 765, urethane acrylates as described in Japanese Patent Publication No. 765, and Japanese Patent Publication No. 58-4986.
No. 0, JP-B 56-17654, JP-B 62-39417, JP-B 62
Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in Japanese Patent No. -39418 are also suitable. Furthermore, addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 are used. Depending on the case, it is possible to obtain a photopolymerizable composition excellent in the photosensitive speed.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭
52−30490号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポ
キシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公
平1−40337号、特公平1−40336号各公報に記載の特定の不飽和化合物や、特
開平2−25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。ま
た、ある場合には、特開昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有
する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜3
08ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているも
のも使用することができる。
Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-A-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. In addition, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, JP-B-1-40336, and vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493 are also included. Can be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, 300-3
Those introduced as photocurable monomers and oligomers on page 08 (1984) can also be used.

これらの重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の
詳細は、最終的な感光性組成物の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のよ
うな観点から選択される。
感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能
以上が好ましい。また、硬化物の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更
に、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル
、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感度と強度の
両方を調節する方法も有効である。
About these polymeric compounds, the details of usage methods, such as the structure, single use, combined use, and addition amount, can be arbitrarily set according to the performance design of the final photosensitive composition. For example, it is selected from the following viewpoints.
From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the cured product, those having three or more functionalities are preferable, and further, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrene compound, vinyl ether compound). A method of adjusting both sensitivity and intensity by using a combination of these materials is also effective.

また、感光性組成物中の他の成分(例えばバインダーポリマー、ラジカル重合開始剤、
着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、重合性化合物の選択・使用法は重要な要因で
あり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうること
がある。
In addition, other components in the photosensitive composition (for example, a binder polymer, a radical polymerization initiator,
The selection and use of polymerizable compounds is also an important factor for compatibility and dispersibility with colorants, etc. For example, compatibility is improved by using low-purity compounds or using two or more types in combination. There is something that can be done.

上記の重合性化合物は、本発明の感光性組成物の全固形分に対して、好ましくは5〜8
0質量%、更に好ましくは25〜75質量%の範囲で使用される。また、これらは単独で
用いても2種以上併用してもよい。そのほか、重合性化合物の使用法は、酸素に対する重
合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配
合、添加量を任意に選択できる。
The polymerizable compound is preferably 5 to 8 with respect to the total solid content of the photosensitive composition of the present invention.
It is used in the range of 0% by mass, more preferably 25-75% by mass. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, as for the method of using the polymerizable compound, an appropriate structure, blending, and addition amount can be arbitrarily selected from the viewpoints of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging property, refractive index change, surface tackiness, and the like.

(その他の感光性組成物成分)
本発明の感光性組成物には、さらに、必要に応じて種々の添加剤を含有させることがで
きる。以下、それらについて説明する。
(Other photosensitive composition components)
The photosensitive composition of the present invention can further contain various additives as necessary. These will be described below.

〔界面活性剤〕
本発明の感光性組成物において、平版印刷版原版の画像形成層に用いる場合には、現像
性の促進および塗布面状を向上させるために界面活性剤を用いるのが好ましい。界面活性
剤としては、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面
活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられる。界面活性剤は、単独で用いてもよく、2種
以上を組み合わせて用いてもよい。
[Surfactant]
In the photosensitive composition of the present invention, when used in the image forming layer of a lithographic printing plate precursor, it is preferable to use a surfactant in order to promote developability and improve the coated surface. Examples of the surfactant include nonionic surfactants, anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, and fluorosurfactants. Surfactant may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

本発明に用いられるノニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いる
ことができる。例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンア
ルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリ
オキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステ
ル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、
プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、ショ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分
エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エス
テル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エ
ステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン
類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリア
ルキルアミンオキシド、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールとポリプロピ
レングリコールの共重合体が挙げられる。
The nonionic surfactant used for this invention is not specifically limited, A conventionally well-known thing can be used. For example, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters, pentaerythritol Fatty acid partial esters,
Propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters, polyoxyethylenated castor oil , Polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N, N-bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamine, triethanolamine fatty acid ester, trialkylamine oxide, polyethylene glycol, polyethylene And a copolymer of glycol and polypropylene glycol.

本発明に用いられるアニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いる
ことができる。例えば、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸
塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンス
ルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオ
キシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリン
ナトリウム塩、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸
塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステ
ル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド
硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポ
リオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル
塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンア
ルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の部分
けん化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホ
ン酸塩ホルマリン縮合物類が挙げられる。
The anionic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known anionic surfactants can be used. For example, fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonates, alkane sulfonates, dialkyl sulfosuccinate esters, linear alkyl benzene sulfonates, branched alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl phenoxy poly Oxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated beef oil, fatty acid alkyl esters Sulfates, alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alcohol Ruphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphates, styrene / maleic anhydride Examples thereof include partial saponification products of polymers, partial saponification products of olefin / maleic anhydride copolymers, and naphthalene sulfonate formalin condensates.

本発明に用いられるカチオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いる
ことができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチ
レンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。
本発明に用いられる両性界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いること
ができる。例えば、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、ア
ミノ硫酸エステル類、イミタゾリン類が挙げられる。
なお、上記界面活性剤の中で、「ポリオキシエチレン」とあるものは、ポリオキシメチ
レン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン等の「ポリオキシアルキレン」に読み
替えることもでき、本発明においては、それらの界面活性剤も用いることができる。
The cationic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known cationic surfactants can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.
The amphoteric surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known amphoteric surfactants can be used. Examples thereof include carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfuric esters, and imidazolines.
Of the above surfactants, the term “polyoxyethylene” can be read as “polyoxyalkylene” such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, polyoxybutylene, etc. These surfactants can also be used.

更に好ましい界面活性剤としては、分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素
系界面活性剤が挙げられる。このようなフッ素系界面活性剤としては、例えば、パーフル
オロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキル
リン酸エステル等のアニオン型;パーフルオロアルキルベタイン等の両性型;パーフルオ
ロアルキルトリメチルアンモニウム塩等のカチオン型;パーフルオロアルキルアミンオキ
サイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基および
親水性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基を含有するオリ
ゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基を含有するオリゴマー、パー
フルオロアルキル基および親油性基を含有するウレタン等のノニオン型が挙げられる。ま
た、特開昭62−170950号、同62−226143号および同60−168144
号の公報に記載されているフッ素系界面活性剤も好適に挙げられる。
More preferable surfactants include fluorine-based surfactants containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Examples of such fluorosurfactants include anionic types such as perfluoroalkyl carboxylates, perfluoroalkyl sulfonates, and perfluoroalkyl phosphates; amphoteric types such as perfluoroalkyl betaines; Cation type such as trimethylammonium salt; perfluoroalkylamine oxide, perfluoroalkylethylene oxide adduct, oligomer containing perfluoroalkyl group and hydrophilic group, oligomer containing perfluoroalkyl group and lipophilic group, perfluoroalkyl Nonionic types such as an oligomer containing a group, a hydrophilic group and a lipophilic group, and a urethane containing a perfluoroalkyl group and a lipophilic group. JP-A-62-170950, JP-A-62-226143 and JP-A-60-168144.
Fluorosurfactants described in the publication of No. are also preferably mentioned.

界面活性剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
界面活性剤の含有量は、感光性組成物の全固形分に対して、0.001〜10質量%で
あるのが好ましく、0.01〜7質量%であるのがより好ましい。
Surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types.
The content of the surfactant is preferably 0.001 to 10% by mass and more preferably 0.01 to 7% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive composition.

<親水性ポリマー>
本発明の感光性組成物においては、現像性の向上、マイクロカプセルの分散安定性の向
上などのため親水性ポリマーを含有させることができる。
親水性ポリマーとしては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボキシレート
基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロ
ピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カ
ルボキシメチル基、スルホン酸基、リン酸基等の親水性基を有するものが好適に挙げられ
る。
<Hydrophilic polymer>
In the photosensitive composition of the present invention, a hydrophilic polymer can be contained in order to improve developability and microcapsule dispersion stability.
Examples of the hydrophilic polymer include hydroxy group, carboxyl group, carboxylate group, hydroxyethyl group, polyoxyethyl group, hydroxypropyl group, polyoxypropyl group, amino group, aminoethyl group, aminopropyl group, ammonium group, Preferred examples include those having a hydrophilic group such as an amide group, carboxymethyl group, sulfonic acid group, and phosphoric acid group.

具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カルボキシメチ
ルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、
酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリ
ル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタ
クリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリ
マーおよびコポリマー、ヒドロキシピロピルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリ
マー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブ
チルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートの
ホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリ
マー類、ポリビニルアルコール類、加水分解度が60モル%以上、好ましくは80モル%
以上である加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリ
ルアミドのホモポリマーおよびポリマー、N−メチロールアクリルアミドのホモポリマー
およびコポリマー、ポリビニルピロリドン、アルコール可溶性ナイロン、2,2−ビス−
(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンとのポリエーテル等が挙げ
られる。
Specific examples include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate,
Vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids and salts thereof, polymethacrylic acids and salts thereof, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, hydroxy Homopolymers and copolymers of pyrrole methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxybutyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxybutyl acrylate, polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, water Decomposition degree is 60 mol% or more, preferably 80 mol%
Hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, homopolymers and copolymers of acrylamide, homopolymers and polymers of methacrylamide, homopolymers and copolymers of N-methylol acrylamide, polyvinyl pyrrolidone, alcohol soluble nylon, 2 , 2-bis-
And polyether of (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin.

親水性ポリマーは、質量平均分子量が5000以上であるのが好ましく、1万〜30万
であるのがより好ましい。親水性ポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グ
ラフトポリマー等のいずれでもよい。
親水性ポリマーの感光性組成物への含有量は、感光性組成物全固形分の20質量%以下
が好ましく、10質量%以下がより好ましい。
The hydrophilic polymer preferably has a mass average molecular weight of 5000 or more, more preferably 10,000 to 300,000. The hydrophilic polymer may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer, and the like.
The content of the hydrophilic polymer in the photosensitive composition is preferably 20% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, based on the total solid content of the photosensitive composition.

〔着色剤〕
本発明の感光性組成物は、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤を添加する
ことができる。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイル
ピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オ
イルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化
学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555
)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI
145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52
015)等、および特開昭62−293247号公報に記載されている染料を挙げること
ができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタン等
の顔料も好適に用いることができる。
これらの着色剤は、本発明の感光性組成物を平版印刷版原版の画像形成層に用いた場合
、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好ましい。なお
、添加量は、感光性組成物に対し、0.01〜10質量%の割合が好ましい。
[Colorant]
In the photosensitive composition of the present invention, a dye having a large absorption in the visible light region and an image colorant can be added. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (orientated chemistry) Industrial Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555)
), Methyl violet (CI42535), ethyl violet, rhodamine B (CI)
145170B), malachite green (CI42000), methylene blue (CI52)
015) and the like, and dyes described in JP-A-62-293247. Also, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, titanium oxide, etc. can be suitably used.
When the photosensitive composition of the present invention is used for the image forming layer of the lithographic printing plate precursor, it is preferable to add these colorants since the image portion and the non-image portion can be easily distinguished after image formation. In addition, the addition amount has a preferable ratio of 0.01-10 mass% with respect to the photosensitive composition.

〔重合禁止剤〕
本発明の感光性組成物には、使用中または保存中において、ラジカル重合性化合物の不
要な熱重合を防止するために、少量の熱重合防止剤を添加するのが好ましい。
熱重合防止剤としては、例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−
ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4
′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4
−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミ
ンアルミニウム塩が好適に挙げられる。
熱重合防止剤の添加量は、感光性組成物の全固形分に対して、約0.01〜約5質量%
であるのが好ましい。
(Polymerization inhibitor)
It is preferable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor to the photosensitive composition of the present invention in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the radical polymerizable compound during use or storage.
Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-
Butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4
'-Thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4
-Methyl-6-t-butylphenol) and N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salts are preferred.
The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is about 0.01 to about 5% by mass relative to the total solid content of the photosensitive composition.
Is preferred.

〔高級脂肪酸誘導体等〕
本発明の感光性組成物には、酸素による重合阻害を防止するために、ベヘン酸やベヘン
酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で塗布層の表面に
偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、感光性組成物の全固形分に対して、約
0.1〜約10質量%であるのが好ましい。
[Higher fatty acid derivatives, etc.]
In order to prevent polymerization inhibition by oxygen, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide is added to the photosensitive composition of the present invention, and it is applied to the surface of the coating layer during the drying process after coating. It may be unevenly distributed. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.1 to about 10% by mass relative to the total solid content of the photosensitive composition.

〔可塑剤〕
本発明の感光性組成物は可塑剤を含有してもよい。可塑剤としては、例えば、ジメチル
フタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオ
クチルフタレート、オクチルカプリルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリ
デシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリルフタ
レート等のフタル酸エステル類;ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリルエチル
グリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート
、トリエチレングリコールジカプリル酸エステル等のグリコールエステル類;トリクレジ
ルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類;ジイソブチルアジペ
ート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジオクチルア
ゼレート、ジブチルマレエート等の脂肪族二塩基酸エステル類;ポリグリシジルメタクリ
レート、クエン酸トリエチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル等が
好適に挙げられる。可塑剤の含有量は、感光性組成物の全固形分に対して、約30質量%
以下であるのが好ましい。
[Plasticizer]
The photosensitive composition of the present invention may contain a plasticizer. Examples of the plasticizer include phthalates such as dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diisobutyl phthalate, dioctyl phthalate, octyl capryl phthalate, dicyclohexyl phthalate, ditridecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisodecyl phthalate, diallyl phthalate; Glycol esters such as glycol phthalate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, triethylene glycol dicaprylate; Phosphate esters such as tricresyl phosphate and triphenyl phosphate Diisobutyl adipate, dioctyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, dioct Ruazereto, aliphatic dibasic acid esters such as dibutyl maleate; polyglycidyl methacrylate, triethyl citrate, glycerin triacetyl ester, butyl laurate in. The content of the plasticizer is about 30% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive composition.
It is preferable that:

〔無機微粒子〕
本発明の感光性組成物は、平版印刷版原版の画像形成層とした場合、画像部の硬化皮膜
強度向上のために、無機微粒子を含有してもよい。無機微粒子としては、例えば、シリカ
、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化チタン、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウム
またはこれらの混合物が好適に挙げられる。これらは光熱変換性でなくても、皮膜の強化
、表面粗面化による界面接着性の強化等に用いることができる。無機微粒子は、平均粒径
が5nm〜10μmであるのが好ましく、0.5〜3μmであるのがより好ましい。上記
範囲内であると、感光性組成物中に安定に分散して、膜強度を十分に保持し、印刷時の汚
れを生じにくい親水性に優れる非画像部を形成することができる。
[Inorganic fine particles]
When the photosensitive composition of the present invention is used as an image forming layer of a lithographic printing plate precursor, it may contain inorganic fine particles in order to improve the strength of the cured film in the image area. As the inorganic fine particles, for example, silica, alumina, magnesium oxide, titanium oxide, magnesium carbonate, calcium alginate or a mixture thereof can be preferably mentioned. Even if they are not photothermally convertible, they can be used for strengthening the film, enhancing interfacial adhesion by surface roughening, and the like. The inorganic fine particles preferably have an average particle size of 5 nm to 10 μm, and more preferably 0.5 to 3 μm. Within the above range, it is possible to form a non-image portion excellent in hydrophilicity that is stably dispersed in the photosensitive composition, sufficiently retains the film strength, and hardly causes stains during printing.

上述したような無機微粒子は、コロイダルシリカ分散物等の市販品として容易に入手す
ることができる。
無機微粒子の含有量は、感光性組成物の全固形分に対して、20質量%以下であるのが
好ましく、10質量%以下であるのがより好ましい。
The inorganic fine particles as described above can be easily obtained as a commercial product such as a colloidal silica dispersion.
The content of the inorganic fine particles is preferably 20% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, based on the total solid content of the photosensitive composition.

〔低分子親水性化合物〕
本発明の感光性組成物は、平版印刷版原版の画像形成層とした場合、機上現像性向上の
ため、親水性低分子化合物を含有しても良い。親水性低分子化合物としては、例えば、水
溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール
等のグリコール類及びそのエーテル又はエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリ
トール等のポリヒドロキシ類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンモノエタノー
ルアミン等の有機アミン類及びその塩、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有
機スルホン酸類及びその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類及びその塩、酒石
酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸
類及びその塩等が挙げられる。
[Low molecular hydrophilic compounds]
When the photosensitive composition of the present invention is used as an image forming layer of a lithographic printing plate precursor, it may contain a hydrophilic low molecular weight compound for improving on-press developability. Examples of the hydrophilic low-molecular compound include water-soluble organic compounds such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol and the like, and ether or ester derivatives thereof, glycerin, Polyhydroxys such as pentaerythritol, organic amines such as triethanolamine and diethanolamine monoethanolamine and salts thereof, organic sulfonic acids such as toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid and salts thereof, organic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid and the like Examples thereof include organic carboxylic acids such as salts thereof, tartaric acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid, and amino acids, and salts thereof.

本発明の感光性組成物は、画像形成層として、表面親水性の支持体上に設けることによ
り、平版印刷版原版とすることができる。
本発明の感光性組成物を平版印刷版原版の画像形成層に適用させる方法として、いくつ
かの態様を用いることができる。一つは、例えば、特開2002−287334号公報に
記載のごとく、該構成成分を適当な溶媒に溶解して塗布する態様であり、もう一つは、例
えば、特開2001−277740号公報、特開2001−277742号公報に記載の
ごとく、画像形成層の構成成分をマイクロカプセルに内包させて画像形成層に含有させる
態様(マイクロカプセル型感光−感熱層)である。さらに、マイクロカプセル型画像形成
層において、該構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。マイクロ
カプセル型画像形成層においては、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包させ、親
水性構成成分をマイクロカプセル外に含有させることがより好ましい態様である。
The photosensitive composition of the present invention can be used as a lithographic printing plate precursor by providing it as an image forming layer on a surface hydrophilic support.
As a method for applying the photosensitive composition of the present invention to the image forming layer of a lithographic printing plate precursor, several embodiments can be used. One is an aspect in which the constituent components are dissolved and applied in a suitable solvent as described in, for example, JP-A-2002-287334, and the other is, for example, JP-A-2001-277740, As described in JP-A-2001-277742, it is an embodiment (microcapsule type photosensitive-thermosensitive layer) in which the constituent components of the image forming layer are encapsulated in microcapsules and contained in the image forming layer. Further, in the microcapsule type image forming layer, the constituent component may be contained outside the microcapsule. In the microcapsule type image forming layer, it is a more preferable embodiment that the hydrophobic constituent component is encapsulated in the microcapsule and the hydrophilic constituent component is contained outside the microcapsule.

上記の画像形成層構成成分をマイクロカプセル化する方法としては、公知の方法が適用
できる。例えばマイクロカプセルの製造方法としては、米国特許第2800457号、同
第2800458号明細書にみられるコアセルベーションを利用した方法、米国特許第3
287154号の各明細書、特公昭38−19574号、同42−446号の各公報にみ
られる界面重合法による方法、米国特許第3418250号、同第3660304号明細
書にみられるポリマーの析出による方法、米国特許第3796669号明細書に見られる
イソシアナートポリオール壁材料を用いる方法、米国特許第3914511号明細書に見
られるイソシアナート壁材料を用いる方法、米国特許第4001140号、同第4087
376号、同第4089802号の各明細書にみられる尿素―ホルムアルデヒド系又は尿
素ホルムアルデヒド−レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許第40254
45号明細書にみられるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁
材を用いる方法、特公昭36−9163号、同51−9079号の各公報にみられるモノ
マー重合によるin situ法、英国特許第930422号、米国特許第311140
7号明細書にみられるスプレードライング法、英国特許第952807号、同第9670
74号の各明細書にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに限定されるものでは
ない。
As a method for microencapsulating the above-mentioned image forming layer constituent components, known methods can be applied. For example, as a method for producing a microcapsule, a method using coacervation found in US Pat. Nos. 2,800,547 and 2,800,498, US Pat.
No. 287154, JP-B-38-19574, JP-A-42-446, a method based on an interfacial polymerization method, US Pat. Nos. 3,418,250 and 3,660,304, by precipitation of a polymer. US Pat. No. 3,796,669, US Pat. No. 3,796,669, US Pat. No. 3,914,511, US Pat. No. 3,914,511, US Pat.
No. 376, No. 4089802, a method using a urea-formaldehyde-based or urea-formaldehyde-resorcinol-based wall forming material, US Pat. No. 40254
No. 45, a method using a wall material such as melamine-formaldehyde resin, hydroxycellulose, etc., an in situ method by monomer polymerization shown in JP-B Nos. 36-9163 and 51-9079, British Patent No. 930422, US Pat. No. 3,111,140
No. 7 spray drying method, British Patent Nos. 952807 and 9670
Although there is an electrolytic dispersion cooling method or the like found in each specification of No. 74, it is not limited thereto.

本発明に用いられる好ましいマイクロカプセル壁は、3次元架橋を有し、溶剤によって
膨潤する性質を有するものである。このような観点から、マイクロカプセルの壁材は、ポ
リウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、及びこれらの
混合物が好ましく、特に、ポリウレア及びポリウレタンが好ましい。また、マイクロカプ
セル壁に、前記バインダーポリマー導入可能なエチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を
有する化合物を導入しても良い。
上記のマイクロカプセルの平均粒径は、0.01〜3.0μmが好ましい。0.05〜
2.0μmがさらに好ましく、0.10〜1.0μmが特に好ましい。この範囲内で良好
な解像度と経時安定性が得られる。
また、本発明においては、上述した画像形成層の各成分、特に好ましくは各上記赤外線
吸収剤が、それぞれ、樹脂微粒子に内包されている態様とすることもできる。
このような態様は、各成分を溶媒に溶解した後、高分子溶液(好ましくは高分子水溶液
)とホモジナイザー等を用いて混合して得られる樹脂微粒子分散液を調製し、これを用い
ることにより達成できる。
A preferable microcapsule wall used in the present invention has a three-dimensional cross-linking and has a property of swelling with a solvent. From such a viewpoint, the wall material of the microcapsule is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and particularly preferably polyurea and polyurethane. Further, a compound having a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond capable of introducing the binder polymer may be introduced into the microcapsule wall.
The average particle size of the microcapsules is preferably 0.01 to 3.0 μm. 0.05 ~
2.0 μm is more preferable, and 0.10 to 1.0 μm is particularly preferable. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.
In the present invention, each component of the above-described image forming layer, particularly preferably each of the above-described infrared absorbers, may be included in resin fine particles.
Such an embodiment is achieved by preparing a resin fine particle dispersion obtained by dissolving each component in a solvent and then mixing it with a polymer solution (preferably a polymer aqueous solution) and a homogenizer or the like. it can.

この際用いることができる上記溶媒としては、酢酸エチル、メチルエチルケトン(ME
K)、ジイソプロピルエーテル、ジクロロメタン、クロロホルム、トルエン、ジクロロエ
タン、これらの混合溶媒を挙げることができる。
また、上記高分子としては、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリアクリル酸、ポリ
アクリル酸ナトリウム、ポリアクリルアミド、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸ナト
リウム、ポリメタクリルアミド、ポリスチレンスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸ナト
リウム、アクリル酸−アクリル酸メチルコポリマー、メタクリル酸−メタクリル酸メチル
コポリマー、スチレン−スチレンスルホン酸ナトリウムコポリマー等が挙げられるが、こ
れに限定されるものではない。
これらの溶剤は、単独または混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは
1〜50質量%である。
Examples of the solvent that can be used at this time include ethyl acetate, methyl ethyl ketone (ME
K), diisopropyl ether, dichloromethane, chloroform, toluene, dichloroethane, and mixed solvents thereof.
Examples of the polymer include polyvinyl alcohol (PVA), polyacrylic acid, sodium polyacrylate, polyacrylamide, polymethacrylic acid, polysodium methacrylate, polymethacrylamide, polystyrene sulfonic acid, sodium polystyrene sulfonate, acrylic acid. Examples include, but are not limited to, methyl acrylate copolymer, methacrylic acid-methyl methacrylate copolymer, styrene-sodium styrene sulfonate copolymer and the like.
These solvents are used alone or in combination. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.

本発明の感光性組成物を用いた画像形成層は、同一または異なる上記各成分を同一また
は異なる溶剤に分散、または溶かした塗布液を複数調製し、複数回の塗布、乾燥を繰り返
して形成することも可能である。
また塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像形成層塗布量(固形分)は、用途によって
異なるが、一般的に0.3〜3.0g/m2が好ましい。この範囲内で、良好な感度と画
像形成層の良好な皮膜特性が得られる。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布
、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアナイフ塗布、ブレード塗
布、ロール塗布等を挙げられる。
The image-forming layer using the photosensitive composition of the present invention is formed by preparing a plurality of coating solutions in which the same or different components are dispersed or dissolved in the same or different solvents, and repeatedly applying and drying a plurality of times. It is also possible.
The coating amount (solid content) of the image forming layer on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, but generally 0.3 to 3.0 g / m 2 is preferable. Within this range, good sensitivity and good film properties of the image forming layer can be obtained.
Various methods can be used as a coating method. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

〔保護層〕
本発明の感光性組成物を画像形成層に用いた平版印刷版原版(以下、本発明の平版印刷
版原版とも称する)には、露光時の重合反応を妨害する酸素の拡散侵入を遮断するため、
画像形成層上に保護層(酸素遮断層)を設けることが好ましい。本発明に用いられる保護
層は25℃、1気圧下における酸素透過性Aが1.0≦A≦20(mL/m2・day)
であることが好ましい。酸素透過性Aが1.0(mL/m2・day)未満で極端に低い
場合は、製造時・生保存時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不要なカブ
リ、画線の太りが生じたりという問題を生じる。逆に、酸素透過性Aが20(mL/m2
・day)を超えて高すぎる場合は感度の低下を招く。酸素透過性Aは、より好ましくは
1.5≦A≦12(mL/m2・day)、更に好ましくは2.0≦A≦10.0(mL
/m2・day)の範囲である。また、保護層に望まれる特性としては、上記酸素透過性
以外に、さらに、露光に用いる光の透過は実質阻害せず、画像形成層との密着性に優れ、
か、露光後の現像工程で容易に除去できることが望ましい。この様な保護層に関する工夫
が従来なされており、米国特許第3,458,311号明細書、特公昭55−49729
号公報に詳しく記載されている。
[Protective layer]
The lithographic printing plate precursor using the photosensitive composition of the present invention for the image forming layer (hereinafter also referred to as the lithographic printing plate precursor of the present invention) is used to block the diffusion and penetration of oxygen that interferes with the polymerization reaction during exposure. ,
A protective layer (oxygen barrier layer) is preferably provided on the image forming layer. The protective layer used in the present invention has an oxygen permeability A of 1.0 ≦ A ≦ 20 (mL / m 2 · day) at 25 ° C. and 1 atm.
It is preferable that When the oxygen permeability A is extremely low at less than 1.0 (mL / m 2 · day), unnecessary polymerization reaction occurs at the time of production and raw storage, and unnecessary fogging and image streaking occur during image exposure. The problem that fatness arises arises. Conversely, the oxygen permeability A is 20 (mL / m 2
-If it is too high exceeding (day), the sensitivity is lowered. The oxygen permeability A is more preferably 1.5 ≦ A ≦ 12 (mL / m 2 · day), and further preferably 2.0 ≦ A ≦ 10.0 (mL
/ M 2 · day). In addition to the oxygen permeability described above, the properties desired for the protective layer further do not substantially inhibit the transmission of light used for exposure, and have excellent adhesion to the image forming layer.
It is also desirable that it can be easily removed in the development process after exposure. A device for such a protective layer has been conventionally used. US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729
It is described in detail in the Gazette.

保護層に使用できる材料としては例えば、比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を
用いることが好ましく、具体的には、ポリビニルアルコール、ビニルアルコール/フタル
酸ビニル共重合体、酢酸ビニル/ビニルアルコール/フタル酸ビニル共重合体、酢酸ビニル/クロトン酸共重合体、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミドなどのような水溶性ポリマーが挙げられ、これらは単独または混合して使用できる。これらの内、ポリビニルアルコールを主成分として用いることが、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にもっとも良好な結果を与える。
As a material that can be used for the protective layer, for example, a water-soluble polymer compound having relatively excellent crystallinity is preferably used. Specifically, polyvinyl alcohol, vinyl alcohol / vinyl phthalate copolymer, vinyl acetate / vinyl are used. Examples include water-soluble polymers such as alcohol / vinyl phthalate copolymer, vinyl acetate / crotonic acid copolymer, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, polyacrylic acid, and polyacrylamide. Or they can be mixed. Of these, the use of polyvinyl alcohol as the main component gives the best results in terms of basic properties such as oxygen barrier properties and development removability.

保護層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するための
、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテル、およびアセ
タールで置換されていても良い。また、同様に一部が他の共重合成分を有していても良い
。ポリビニルアルコールの具体例としては71〜100モル%加水分解され、重合繰り返
し単位が300から2400の範囲のものをあげることができる。具体的には、株式会社
クラレ製のPVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PV
A−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PV
A−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA
−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、
PVA−220E、PVA−224E、PVA−405、PVA−420、PVA−61
3、L−8等が挙げられ、これらは単独または混合して使用できる。好ましい態様として
はポリビニルアルコールの保護層中の含有率が20〜95質量%、より好ましくは、30
90質量%である。
The polyvinyl alcohol used for the protective layer may be partially substituted with an ester, an ether, and an acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for having necessary oxygen barrier properties and water solubility. Similarly, some of them may have other copolymer components. Specific examples of polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis rate of 71 to 100 mol% and a polymerization repeating unit in the range of 300 to 2400. Specifically, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PV
A-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PV
A-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA
-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E,
PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA-420, PVA-61
3, L-8 and the like, and these can be used alone or in combination. As a preferred embodiment, the content of polyvinyl alcohol in the protective layer is 20 to 95% by mass, more preferably 30%.
90% by mass.

また、公知の変性ポリビニルアルコールも好ましく用いることができる。例えば、カル
ボキシル基、スルホ基等のアニオンで変性されたアニオン変性部位、アミノ基、アンモニ
ウム基等のカチオンで変性されたカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性
部位等種々の親水性変性部位をランダムに有す各種重合度のポリビニルアルコール、前記
のアニオン変性部位、前記のカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性部位
、更にはアルコキシル変性部位、スルフィド変性部位、ビニルアルコールと各種有機酸と
のエステル変性部位、前記アニオン変性部位とアルコール類等とのエステル変性部位、エ
ポキシ変性部位等種々の変性部位をポリマー鎖末端に有す各種重合度のポリビニルアルコ
ール等が挙げられる。
Moreover, well-known modified polyvinyl alcohol can also be used preferably. For example, various hydrophilic modification sites such as anion modification sites modified with anions such as carboxyl groups and sulfo groups, cation modification sites modified with cations such as amino groups and ammonium groups, silanol modification sites, and thiol modification sites are randomly selected. Polyvinyl alcohol having various degrees of polymerization, the anion-modified site, the cation-modified site, the silanol-modified site, the thiol-modified site, the alkoxyl-modified site, the sulfide-modified site, and the ester modification of vinyl alcohol and various organic acids. Examples thereof include polyvinyl alcohol having various polymerization degrees having various modified sites such as a site, an ester-modified site of the anion-modified site and alcohols, an epoxy-modified site, and the like.

ポリビニルアルコールと混合して使用する成分としてはポリビニルピロリドンまたはそ
の変性物が酸素遮断性、現像除去性といった観点から好ましく、保護層中の含有率が3.
5〜80質量%、好ましくは10〜60質量%、さらに好ましくは15〜30質量%であ
る。
As a component to be used by mixing with polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone or a modified product thereof is preferable from the viewpoints of oxygen barrier properties and development removability, and the content in the protective layer is 3.
It is 5-80 mass%, Preferably it is 10-60 mass%, More preferably, it is 15-30 mass%.

保護層の成分(PVAの選択、添加剤の使用)、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性
の他、カブリ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。一般には使用するPVAの加水
解率が高い程(保護層中の未置換ビニルアルコール単位含率が高い程)、膜厚が厚い程酸
素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。上記ポリビニルアルコール(PVA)等の
(共)重合体の分子量は、2000〜1000万の範囲のものが使用でき、好ましくは2
万〜300万範囲のものが適当である。
Components of the protective layer (selection of PVA, use of additives), coating amount, and the like are selected in consideration of fogging, adhesion, and scratch resistance in addition to oxygen barrier properties and development removability. In general, the higher the hydrolysis rate of the PVA used (the higher the content of the unsubstituted vinyl alcohol unit in the protective layer), the higher the film thickness, the higher the oxygen barrier property and the more advantageous in terms of sensitivity. The molecular weight of the (co) polymer such as polyvinyl alcohol (PVA) can be in the range of 2000 to 10 million, preferably 2
A range of 10,000 to 3,000,000 is appropriate.

保護層の他の組成物として、グリセリン、ジプロピレングリコール等を(共)重合体に
対して数質量%相当量添加して可撓性を付与することができ、また、アルキル硫酸ナトリ
ウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤;アルキルアミノカルボン
酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤;ポリオキシエチレンアルキル
フェニルエーテル等の非イオン界面活性剤を(共)重合体に対して数質量%添加すること
ができる。
As another composition of the protective layer, glycerin, dipropylene glycol and the like can be added in an amount corresponding to several mass% with respect to the (co) polymer to provide flexibility. Anionic surfactants such as sodium acid salts; amphoteric surfactants such as alkylaminocarboxylates and alkylaminodicarboxylates; nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkylphenyl ethers to the (co) polymer Mass% can be added.

また、画像部との密着性や、耐傷性も版の取り扱い上極めて重要である。すなわち、水
溶性ポリマーからなる親水性の層を親油性の画像形成層に積層すると、接着力不足による
膜剥離が発生しやすく、離部分が酸素の重合阻害により膜硬化不良などの欠陥を引き起こ
す。これに対し、これら2層間の接着性を改良すべく種々の提案がなされている。例えば
米国特許出願番号第292,501号、米国特許出願番号第44,563号には、主にポ
リビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジョンまたは水不溶
性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体などを20〜60質量%混合し、画像形
成層の上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明
における保護層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用することができる。この
ような保護層の塗布方法については、例えば米国特許第3,458,311号明細書、特
公昭55−49729号公報に詳しく記載されている。
In addition, adhesion to the image area and scratch resistance are extremely important in handling the plate. That is, when a hydrophilic layer made of a water-soluble polymer is laminated on an oleophilic image forming layer, film peeling due to insufficient adhesion tends to occur, and the separated portion causes defects such as poor film hardening due to inhibition of oxygen polymerization. On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesion between these two layers. For example, in U.S. Patent Application No. 292,501 and U.S. Patent Application No. 44,563, an acrylic emulsion or a water-insoluble vinyl pyrrolidone-vinyl acetate copolymer is contained in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesiveness can be obtained by mixing 20 to 60% by mass and laminating on the image forming layer. Any of these known techniques can be applied to the protective layer in the present invention. Such a coating method for the protective layer is described in detail in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and Japanese Patent Publication No. 55-49729.

さらに本発明の平版印刷版原版における保護層には、酸素遮断性や画像形成層表面保護
性を向上させる目的で、無機質の層状化合物を含有させることも好ましい。ここで無機質
の層状化合物とは、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、下記一般式
A(B,C)2-5410(OH,F,O)2
[ただし、AはK,Na,Caの何れか、BおよびCはFe(II),Fe(III)
,Mn,Al,Mg,Vの何れかであり、DはSiまたはAlである。]で表される天然
雲母、合成雲母等の雲母群、式3MgO・4SiO・H2Oで表されるタルク、テニオラ
イト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、りん酸ジルコニウムなどが挙げら
れる。
Further, the protective layer in the lithographic printing plate precursor according to the invention preferably contains an inorganic layered compound for the purpose of improving oxygen barrier properties and image forming layer surface protection. Here, the inorganic layered compound is a particle having a thin flat plate shape. For example, the following general formula A (B, C) 2-5 D 4 O 10 (OH, F, O) 2
[However, A is any of K, Na, and Ca, B and C are Fe (II), Fe (III)
, Mn, Al, Mg, or V, and D is Si or Al. And mica groups such as natural mica and synthetic mica, talc, teniolite, montmorillonite, saponite, hectorite, zirconium phosphate and the like represented by the formula 3MgO.4SiO.H 2 O.

上記雲母群においては、天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母および
鱗雲母が挙げられる。また、合成雲母としては、フッ素金雲母KMg3 (AlSi310
)F2、カリ四ケイ素雲母KMg2.5 Si410)F2等の非膨潤性雲母、およびNaテト
ラシリリックマイカNaMg2.5 (Si410)F2、NaまたはLiテニオライト(N
a,Li)Mg2 Li(Si4 10)F2、モンモリロナイト系のNaまたはLiヘクト
ライト(Na,Li)1/8 Mg2 /5Li1/8 (Si410)F2等の膨潤性雲母等が挙げら
れる。更に合成スメクタイトも有用である。
In the mica group, examples of natural mica include muscovite, soda mica, phlogopite, biotite and sericite. As the synthetic mica, fluorine phlogopite KMg 3 (AlSi 3 O 10
) F 2 , Potassium tetrasilicon mica KMg 2.5 Si 4 O 10 ) Non-swelling mica such as F 2 , and Na tetrasilicic mica NaMg 2.5 (Si 4 O 10 ) F 2 , Na or Li teniolite (N
a, Li) Mg 2 Li ( Si 4 O 10) F 2, montmorillonite of Na or Li hectorite (Na, Li) 1/8 Mg 2 /5 Li 1/8 (Si 4 O 10) F 2 , etc. Examples include swelling mica. Synthetic smectite is also useful.

本発明においては、上記の無機質の層状化合物の中でも、合成の無機質の層状化合物で
あるフッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。すなわち、この膨潤性合成雲母や、モンモ
リロナイト、サポナイト、ヘクトライト、ベントナイト等の膨潤性粘度鉱物類等は、10
〜15Å程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他
の粘度鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するた
めに層間にNa+、Ca2+、Mg2+等の陽イオンを吸着している。これらの層間に介在し
いる陽イオンは交換性陽イオンと呼ばれ、いろいろな陽イオンと交換する。特に層間の陽
イオンがLi+ 、Na+ の場合、イオン半径が小さいため層状結晶格子間の結合が弱く、
質量比で5/1〜1/100であることが好ましい。複数種の無機質の層状化合物を併用
した場合でも、これら無機質の層状化合物の合計の量が上記の質量比であることが好まし
い。
In the present invention, among the inorganic layered compounds, fluorine-based swellable mica, which is a synthetic inorganic layered compound, is particularly useful. That is, this swelling synthetic mica and swellable viscosity minerals such as montmorillonite, saponite, hectorite, bentonite, etc.
It has a laminated structure composed of unit crystal lattice layers with a thickness of about ˜15 mm, and the substitution of metal atoms in the lattice is significantly larger than other viscosity minerals. As a result, the lattice layer is deficient in positive charges, and cations such as Na + , Ca 2+ and Mg 2+ are adsorbed between the layers in order to compensate for this. The cations present between these layers are called exchangeable cations and exchange with various cations. In particular, when the cation between the layers is Li + or Na + , the bond between the layered crystal lattices is weak because the ionic radius is small,
The mass ratio is preferably 5/1 to 1/100. Even when a plurality of types of inorganic layered compounds are used in combination, the total amount of these inorganic layered compounds is preferably the above-described mass ratio.

次に、保護層に用いる無機質層状化合物の一般的な分散方法の例について述べる。まず
、水100質量部に先に無機質層状化合物の好ましいものとして挙げた膨潤性の層状化合
物を5〜10質量部添加し、充分水になじませ、膨潤させた後、分散機にかけて分散する
。ここで用いる分散機としては、機械的に直接力を加えて分散する各種ミル、大きな剪断
力を有する高速攪拌型分散機、高強度の超音波エネルギーを与える分散機等が挙げられる
。具体的には、ボールミル、サンドグラインダーミル、ビスコミル、コロイドミル、ホモ
ジナイザー、ティゾルバー、ポリトロン、ホモミキサー、ホモブレンダー、ケディミル、
ジェットアジター、毛細管式乳化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポールマ
ン笛を有する乳化装置等が挙げられる。上記の方法で分散した無機質層状化合物の5〜1
0質量%の分散物は高粘度あるいはゲル状であり、保存安定性は極めて良好である。この
分散物を用いて保護層塗布液を調製する際には、水で希釈し、充分攪拌した後、バインダ
ー溶液と配合して調製するのが好ましい。
Next, an example of a general dispersion method of the inorganic layered compound used for the protective layer will be described. First, 5 to 10 parts by mass of the swellable layered compound mentioned above as a preferred inorganic layered compound is added to 100 parts by mass of water, and the mixture is thoroughly swelled and swollen, and then dispersed by a disperser. Examples of the disperser used here include various mills that disperse mechanically by applying a direct force, a high-speed stirring disperser having a large shearing force, and a disperser that provides high-intensity ultrasonic energy. Specifically, ball mills, sand grinder mills, visco mills, colloid mills, homogenizers, tisol bars, polytrons, homomixers, homoblenders, ketdy mills,
Examples thereof include a jet agitator, a capillary emulsifying device, a liquid siren, an electrostrictive ultrasonic generator, and an emulsifying device having a Paulman whistle. 5 to 1 of the inorganic layered compound dispersed by the above method
The dispersion of 0% by mass is highly viscous or gelled, and the storage stability is very good. When preparing a protective layer coating solution using this dispersion, it is preferably prepared by diluting with water and stirring sufficiently, and then blending with a binder solution.

この保護層塗布液には、上記無機質層状化合物の他に、塗布性を向上させための界面活
性剤や皮膜の物性改良のための水溶性可塑剤などの公知の添加剤を加えることができる。
水溶性の可塑剤としては、例えば、プロピオンアミド、シクロヘキサンジオール、グリ
セリン、ソルビトール等が挙げられる。また、水溶性の(メタ)アクリル系ポリマーを加
えることもできる。さらに、この塗布液には、画像形成層との密着性、塗布液の経時安定
性を向上するための公知の添加剤を加えてもよい。
In addition to the inorganic layered compound, known additives such as a surfactant for improving the coating property and a water-soluble plasticizer for improving the physical properties of the film can be added to the protective layer coating solution.
Examples of the water-soluble plasticizer include propionamide, cyclohexanediol, glycerin, sorbitol and the like. A water-soluble (meth) acrylic polymer can also be added. Furthermore, a known additive for improving the adhesion to the image forming layer and the temporal stability of the coating solution may be added to the coating solution.

このように調製された保護層塗布液を、支持体上に備えられた画像形成層の上に塗布し
、乾燥して保護層を形成する。塗布溶剤はバインダーとの関連において適宜選択すること
ができるが、水溶性ポリマーを用いる場合には、蒸留水、精製水を用いることが好ましい
。保護層の塗布方法は、特に制限されるものではなく、米国特許第3,458,311号
明細書または特公昭55−49729号公報に記載されている方法など公知の方法を適用
することができる。具体的には、例えば、保護層は、ブレード塗布法、エアナイフ塗布法
、グラビア塗布法、ロールコーティング塗布法、スプレー塗布法、ディップ塗布法、バー
塗布法等が挙げられる。
The protective layer coating solution thus prepared is applied onto the image forming layer provided on the support and dried to form a protective layer. The coating solvent can be appropriately selected in relation to the binder, but when a water-soluble polymer is used, it is preferable to use distilled water or purified water. The method for applying the protective layer is not particularly limited, and a known method such as the method described in US Pat. No. 3,458,311 or Japanese Patent Publication No. 55-49729 can be applied. . Specific examples of the protective layer include blade coating, air knife coating, gravure coating, roll coating coating, spray coating, dip coating, and bar coating.

保護層の塗布量としては、乾燥後の塗布量で、0.05〜10g/m2 の範囲であるこ
とが好ましく、無機質の層状化合物を含有する場合には、0.1〜0.5g/m2の範囲
であることがさらに好ましく、無機質の層状化合物を含有しない場合には、0.5〜5g
/m2の範囲であることがさらに好ましい。
The coating amount of the protective layer is preferably in the range of 0.05 to 10 g / m 2 in terms of the coating amount after drying. When the inorganic layered compound is contained, 0.1 to 0.5 g / More preferably in the range of m 2 , 0.5 to 5 g when no inorganic layered compound is contained.
More preferably, it is in the range of / m 2 .

〔支持体〕
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体は、特に限定されず、寸度的に安定な板状
な親水性支持体であればよい。例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、
亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、
プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等)、上述した金属がラミネートされまたは蒸着された紙ま
たはプラスチックフィルム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエステルフィ
ルムおよびアルミニウム板が挙げられる。中でも、寸法安定性がよく、比較的安価である
アルミニウム板が好ましい。
[Support]
The support used for the lithographic printing plate precursor according to the invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate-like hydrophilic support. For example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum,
Zinc, copper, etc.), plastic films (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate,
Cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), paper or plastic film on which the above-mentioned metal is laminated or vapor-deposited. Preferable supports include a polyester film and an aluminum plate. Among these, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is preferable.

アルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む合金板、または、アルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜にプラスチックがラミ
ネートされているものである。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マ
ンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金
中の異元素の含有量は10質量%以下であるのが好ましい。本発明においては、純アルミ
ニウム板が好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、
わずかに異元素を含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定されるもの
ではなく、公知公用の素材のものを適宜利用することができる。
The aluminum plate is a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of different elements, or a plastic laminated on a thin film of aluminum or an aluminum alloy. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is preferably 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology.
It may contain a slightly different element. The composition of the aluminum plate is not specified, and a publicly known material can be used as appropriate.

支持体の厚さは0.1〜0.6mmであるのが好ましく、0.15〜0.4mmである
のがより好ましく、0.2〜0.3mmであるのが更に好ましい。
The thickness of the support is preferably from 0.1 to 0.6 mm, more preferably from 0.15 to 0.4 mm, and even more preferably from 0.2 to 0.3 mm.

アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施すの
が好ましい。表面処理により、親水性の向上および画像形成層と支持体との密着性の確保
が容易になる。アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち、所望により、表面の圧延油を
除去するための界面活性剤、有機溶剤、アルカリ性水溶液等による脱脂処理が行われる。
アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗
面化処理、電気化学的粗面化処理(電気化学的に表面を溶解させる粗面化処理)、化学的
粗面化処理(化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理)が挙げられる。
Prior to using the aluminum plate, it is preferable to perform a surface treatment such as roughening treatment or anodizing treatment. By the surface treatment, it becomes easy to improve hydrophilicity and secure adhesion between the image forming layer and the support. Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like for removing rolling oil on the surface is performed as desired.
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, mechanical surface roughening treatment, electrochemical surface roughening treatment (surface roughening treatment for dissolving the surface electrochemically), chemical treatment, etc. Surface roughening treatment (roughening treatment that chemically selectively dissolves the surface).

機械的粗面化処理の方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バ
フ研磨法等の公知の方法を用いることができる。
電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸等の酸を含有する電解液中
で交流または直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭54−63902号公報に
記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。
As a method for the mechanical surface roughening treatment, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used.
Examples of the electrochemical surface roughening treatment include a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Another example is a method using a mixed acid as described in JP-A-54-63902.

粗面化処理されたアルミニウム板は、必要に応じて、水酸化カリウム、水酸化ナトリウ
ム等の水溶液を用いてアルカリエッチング処理を施され、更に、中和処理された後、所望
により、耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施される。
アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成さ
せる種々の電解質の使用が可能である。一般的には、硫酸、塩酸、シュウ酸、クロム酸ま
たはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決め
られる。
陽極酸化処理の条件は、用いられる電解質により種々変るので一概に特定することはで
きないが、一般的には、電解質濃度1〜80質量%溶液、液温度5〜70℃、電流密度5
〜60A/d m2 、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分であるのが好ましい。形成
される陽極酸化皮膜の量は、1.0〜5.0g/m2 であるのが好ましく、1.5〜4.
0g/m2 であるのがより好ましい。この範囲内で、良好な耐刷性と平版印刷版の非画像
部の良好な耐傷性が得られる。
The surface-roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide, sodium hydroxide or the like, if necessary, further neutralized, and if desired, wear resistant. In order to increase the anodic oxidation treatment.
As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.
The conditions for anodizing treatment vary depending on the electrolyte used and cannot be specified in general. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5
-60 A / dm 2 , voltage 1-100 V, electrolysis time 10 seconds to 5 minutes are preferred. The amount of the anodic oxide film to be formed is preferably 1.0 to 5.0 g / m 2 , and 1.5 to 4.
More preferably, it is 0 g / m 2 . Within this range, good printing durability and good scratch resistance of the non-image area of the lithographic printing plate can be obtained.

本発明で用いられる支持体としては、上記のような表面処理をされ陽極酸化皮膜を有す
る基板そのままでもよいが、上層との接着性、親水性、汚れ難さ、断熱性などの一層改良
のため、必要に応じて、特開2001−253181号や特開2001−322365号
の公報に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理、マイクロポアの封孔処
理、および親水性化合物を含有する水溶液に浸漬する表面親水化処理などを適宜選択して
行うことができる。もちろんこれら拡大処理、封孔処理は、これらに記載のものに限られ
たものではなく従来公知の何れも方法も行うことができる。
As the support used in the present invention, the substrate having the above-mentioned surface treatment and having an anodized film may be used as it is, but for further improvement in adhesion to the upper layer, hydrophilicity, resistance to contamination, heat insulation and the like. If necessary, it contains a micropore enlargement treatment, a micropore sealing treatment, and a hydrophilic compound described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-253181 and 2001-322365. A surface hydrophilization treatment immersed in an aqueous solution can be selected as appropriate. Of course, these enlargement processing and sealing processing are not limited to those described above, and any conventionally known method can be performed.

封孔処理としては、蒸気封孔のほかフッ化ジルコン酸の単独処理、フッ化ナトリウムに
よる処理など無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、塩化リチウムを添加し
た蒸気封孔、熱水による封孔処理でも可能である。
なかでも、無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、水蒸気による封孔処理
および熱水による封孔処理が好ましい。
Sealing treatment includes vapor sealing, single treatment with zirconic fluoride, treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound such as treatment with sodium fluoride, vapor sealing with addition of lithium chloride, sealing with hot water. Hole processing is also possible.
Of these, sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound, sealing treatment with water vapor, and sealing treatment with hot water are preferable.

親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、
同第3,280,734号および同第3,902,734号の明細書に記載されているよ
うなアルカリ金属シリケート法がある。この方法においては、支持体をケイ酸ナトリウム
等の水溶液で浸漬処理し、または電解処理する。そのほかに、特公昭36−22063号
公報に記載されているフッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、米国特許第3,276
,868号、同第4,153,461号および同第4,689,272号の明細書に記載
されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等が挙げられる。
As hydrophilization treatment, U.S. Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461,
There are alkali metal silicate methods as described in the specifications of US Pat. Nos. 3,280,734 and 3,902,734. In this method, the support is immersed in an aqueous solution such as sodium silicate or electrolytically treated. In addition, the method of treating with potassium zirconate fluoride described in JP-B 36-22063, US Pat. No. 3,276
No. 868, No. 4,153,461 and No. 4,689,272, and the like.

本発明の支持体としてポリエステルフィルムなど表面の親水性が不十分な支持体を用い
る場合は、親水層を塗布して表面を親水性にすることが望ましい。親水層としては、特開
2001−199175号公報に記載の、ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、珪
素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモンお
よび遷移金属から選択される少なくとも一つの元素の酸化物または水酸化物のコロイドを
含有する塗布液を塗布してなる親水層や、特開2002−79772号公報に記載の、有
機親水性ポリマーを架橋あるいは疑似架橋することにより得られる有機親水性マトリック
スを有する親水層や、ポリアルコキシシラン、チタネート、ジルコネートまたはアルミネ
ートの加水分解、縮合反応からなるゾル−ゲル変換により得られる無機親水性マトリック
スを有する親水層、あるいは、金属酸化物を含有する表面を有する無機薄膜からなる親水
層が好ましい。中でも、珪素の酸化物または水酸化物のコロイドを含有する塗布液を塗布
してなる親水層が好ましい。
When using a support with insufficient surface hydrophilicity such as a polyester film as the support of the present invention, it is desirable to apply a hydrophilic layer to make the surface hydrophilic. As the hydrophilic layer, at least one element selected from beryllium, magnesium, aluminum, silicon, titanium, boron, germanium, tin, zirconium, iron, vanadium, antimony, and a transition metal described in JP-A-2001-199175 A hydrophilic layer formed by coating a coating solution containing a colloid of oxide or hydroxide, or organic hydrophilicity obtained by crosslinking or pseudo-crosslinking an organic hydrophilic polymer described in JP-A-2002-79772 A hydrophilic layer having a hydrophilic matrix, a hydrophilic layer having an inorganic hydrophilic matrix obtained by sol-gel conversion comprising hydrolysis, condensation reaction of polyalkoxysilane, titanate, zirconate or aluminate, or a metal oxide A hydrophilic layer made of an inorganic thin film having a surface is preferred. Arbitrariness. Among these, a hydrophilic layer formed by applying a coating solution containing a silicon oxide or a hydroxide colloid is preferable.

また、本発明の支持体としてポリエステルフィルム等を用いる場合には、支持体の親水
性層側または反対側、あるいは両側に、帯電防止層を設けるのが好ましい。帯電防止層を
支持体と親水性層との間に設けた場合には、親水性層との密着性向上にも寄与する。帯電
防止層としては、特開2002−79772号公報に記載の、金属酸化物微粒子やマット
剤を分散したポリマー層等が使用できる。
Moreover, when using a polyester film etc. as a support body of this invention, it is preferable to provide an antistatic layer in the hydrophilic layer side of a support body, the opposite side, or both sides. In the case where the antistatic layer is provided between the support and the hydrophilic layer, it also contributes to improving the adhesion with the hydrophilic layer. As the antistatic layer, a polymer layer in which metal oxide fine particles or a matting agent are dispersed as described in JP-A-2002-79772 can be used.

支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであるのが好ましい。この範囲内で
、画像形成層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られる。
また、支持体の色濃度としては、反射濃度値として0.15〜0.65であるのが好ま
しい。この範囲内で、画像露光時のハレーション防止による良好な画像形成性と現像後の
良好な検版性が得られる。
The support preferably has a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. Within this range, good adhesion to the image forming layer, good printing durability and good stain resistance can be obtained.
The color density of the support is preferably 0.15 to 0.65 as the reflection density value. Within this range, good image formability by preventing halation during image exposure and good plate inspection after development can be obtained.

〔下塗り層〕
本発明の平版印刷版原版においては、支持体上に重合性基を含有する化合物の下塗り層
を設けることが好ましい。下塗り層が用いられるときは、画像形成層は下塗り層の上に設
けられる。下塗り層は、露光部においては支持体と画像形成層との密着性を強化し、また
、未露光部においては、画像形成層の支持体からの剥離を生じやすくさせるため、現像性
が向上する。
(Undercoat layer)
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, it is preferable to provide an undercoat layer of a compound containing a polymerizable group on a support. When an undercoat layer is used, the image forming layer is provided on the undercoat layer. The undercoat layer enhances the adhesion between the support and the image forming layer in the exposed portion, and in the unexposed portion, the image forming layer is easily peeled off from the support, so that the developability is improved. .

下塗り層としては、具体的には、特開平10−282679号公報に記載されている付
加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2−
304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物などが好適
に挙げられる。特に好ましい化合物として、メタクリル基、アリル基などの重合性基とス
ルホン酸基、リン酸基、リン酸エステル基などの支持体吸着性基を有する化合物が挙げら
れる。重合性基と支持体吸着性基に加えてエチレンオキシド基などの親水性付与基を有す
る化合物も好適な化合物として挙げることができる。
下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1〜100mg/m2であるのが好ましく、1〜
30mg/m2であるのがより好ましい。
Specific examples of the undercoat layer include a silane coupling agent having an addition-polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A-10-282679,
The phosphorus compound etc. which have the ethylenic double bond reactive group of 304441 gazette etc. are mentioned suitably. Particularly preferred compounds include compounds having a polymerizable group such as a methacryl group and an allyl group and a support-adsorbing group such as a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, and a phosphoric acid ester group. A compound having a hydrophilicity-imparting group such as an ethylene oxide group in addition to the polymerizable group and the support-adsorbing group can also be exemplified as a suitable compound.
The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably 0.1 to 100 mg / m 2 ,
More preferably, it is 30 mg / m 2 .

〔バックコート層〕
支持体に表面処理を施した後または下塗り層を形成させた後、必要に応じて、支持体の
裏面にバックコートを設けることができる。
[Back coat layer]
After the surface treatment is performed on the support or after the undercoat layer is formed, a back coat can be provided on the back surface of the support, if necessary.

バックコートとしては、例えば、特開平5−45885号公報に記載されている有機高
分子化合物、特開平6−35174号公報に記載されている有機金属化合物または無機金
属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適に挙げ
られる。中でも、Si(OCH3 4 、Si(OC2 5 4 、Si(OC3 7 4
i(OC4 9 4 等のケイ素のアルコキシ化合物を用いるのが、原料が安価で入手しや
すい点で好ましい。
Examples of the back coat include hydrolysis and polycondensation of organic polymer compounds described in JP-A-5-45885, organometallic compounds or inorganic metal compounds described in JP-A-6-35174. A coating layer made of a metal oxide obtained in this manner is preferred. Among them, Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 S
It is preferable to use silicon alkoxy compounds such as i (OC 4 H 9 ) 4 because the raw materials are inexpensive and easily available.

〔露光〕
(1)本発明の平版印刷版原版は、赤外線レーザーで画像様に露光して用いる。この際用
いられる赤外線レーザーは、特に限定されないが、波長760〜1200nmの赤外線を
放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適に挙げられる。赤外線レーザーの出力は
、100mW以上であるのが好ましい。また、露光時間を短縮するため、マルチビームレ
ーザーデバイスを用いるのが好ましい。
〔exposure〕
(1) The lithographic printing plate precursor according to the invention is used after imagewise exposure with an infrared laser. Although the infrared laser used in this case is not particularly limited, a solid laser and a semiconductor laser that emit infrared rays having a wavelength of 760 to 1200 nm are preferable. The output of the infrared laser is preferably 100 mW or more. In order to shorten the exposure time, it is preferable to use a multi-beam laser device.

1画素あたりの露光時間は、20μ秒以内であるのが好ましい。また、照射エネルギー
量は、10〜300mJ/cm2 であるのが好ましい。
(2)他方、レーザー光源としては、405nmあるいは830nmの半導体レーザー、
FD−YAGレーザーなどが用いられる。近年、システムコスト、取扱性の観点から、4
05nmの半導体レーザーを搭載したCTPシステムが普及している。
The exposure time per pixel is preferably within 20 μsec. Moreover, it is preferable that irradiation energy amount is 10-300 mJ / cm < 2 >.
(2) On the other hand, as a laser light source, a 405 nm or 830 nm semiconductor laser,
An FD-YAG laser or the like is used. In recent years, from the viewpoint of system cost and handleability, 4
CTP systems equipped with 05 nm semiconductor lasers are in widespread use.

本発明の平版印刷版原版の製版方法は、上述の平版印刷版原版を、360nm〜450
nmの範囲に発振波長を有する光源を搭載したインナードラム露光装置を用いて露光する
製版方法により、露光装置は、光源の出射する光ビームの光ビームスポット形状が、光ビ
ームを常光線と異常光線とに等光量で平行に分割し、その2つのビームスポットが一部重
なるように隣接して副走査方向に並んでおり、前記平版印刷版原版をインナードラム露光
装置に載置した後、前記光ビームスポット形状の露光により画像記録を行うことも可能で
ある。
The plate-making method of the lithographic printing plate precursor according to the invention is obtained by changing the above-described lithographic printing plate precursor from 360 nm to 450 nm.
By the plate making method using an inner drum exposure apparatus equipped with a light source having an oscillation wavelength in the range of nm, the exposure apparatus has a light beam spot shape of a light beam emitted from the light source, and the light beam is an ordinary ray and an extraordinary ray. And the two beam spots are arranged adjacent to each other in the sub-scanning direction so that they partially overlap each other, and after the lithographic printing plate precursor is placed on an inner drum exposure device, the light It is also possible to perform image recording by exposure with a beam spot shape.

上記製版プロセスについて、さらに詳述する。
本発明においては、上記の通り、露光工程の後、直ちに現像処理を行ってもよいが、露光工程と現像工程との間に加熱処理工程を設けることもできる。この加熱処理は、耐刷性を向上させ、さらに画像硬化度の版面内での均一性を高める効果があり、その条件はそれら効果のある範囲で適宜設定することができる。加熱手段としては、慣用の対流オーブン、IR照射装置、IRレーザー、マイクロ波装置、ウィスコンシンオーブン等を挙げることができる。具体的には、版面到達温度が70〜150℃の範囲で、1秒〜5分間の間で保持することにより行なうことができる。好ましくは80℃〜140℃で5〜1分間、より好ましくは90℃〜130℃で10〜30秒間である。この範囲であると上記の効果を効率よく得られ、また熱による印刷版の変形などの悪影響が無い点で好ましい。
また、本発明においては上述の露光工程および、好ましくは加熱処理工程の後に、現像処理工程が施され、平版印刷版を得る。露光工程に用いられるプレートセッタ、加熱処理に用いられる加熱処理手段および現像処理工程に使用される現像装置はお互いに接続されて、自動的に連続処理されることが好ましい。具体的にはプレートセッタと、現像装置がコンベアなどの運搬手段によって結合されている製版ラインである。プレートセッタと現像装置の間に加熱処理手段が入っていても良く、加熱手段と現像装置は一体の装置となっていても良い。
The plate making process will be further described in detail.
In the present invention, as described above, the development treatment may be performed immediately after the exposure step, but a heat treatment step may be provided between the exposure step and the development step. This heat treatment has the effect of improving the printing durability and further improving the uniformity of the image curing degree within the plate surface, and the conditions can be appropriately set within the range where these effects are present. Examples of the heating means include a conventional convection oven, an IR irradiation device, an IR laser, a microwave device, a Wisconsin oven, and the like. Specifically, it can be carried out by holding the plate surface temperature in the range of 70 to 150 ° C. for 1 second to 5 minutes. Preferably, the temperature is 80 ° C to 140 ° C for 5 to 1 minute, more preferably 90 ° C to 130 ° C for 10 to 30 seconds. This range is preferable in that the above effect can be obtained efficiently and there is no adverse effect such as deformation of the printing plate due to heat.
In the present invention, a development processing step is performed after the above-described exposure step and preferably the heat treatment step to obtain a lithographic printing plate. The plate setter used in the exposure process, the heat treatment means used in the heat treatment, and the developing device used in the development process are preferably connected to each other and automatically continuously processed. Specifically, it is a plate making line in which a plate setter and a developing device are coupled by a conveying means such as a conveyor. A heat treatment unit may be provided between the plate setter and the developing device, and the heating unit and the developing device may be integrated.

使用する印刷版が作業環境における周囲の光の影響を受け易い場合は、上記の製版ラインがフィルタまたはカバーなどで遮光されていることが好ましい。
上記のように画像形成した後、紫外線光などの活性光線で全面露光を行い、画像部の硬化促進を行っても良い。該全面露光時の光源としては、例えば、カーボンアーク灯、水銀灯、ガリウム灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、タングステンランプ、各種レーザー光などが挙げられる。さらに、十分な耐刷性を得るためには全面露光量としては少なくとも10mJ/cm2以上が好ましく、より好ましくは100mJ/cm2以上である。
上記全面露光時に同時に加熱を行ってもよく、加熱を行うことによりさらに耐刷性の向上が認められる。加熱装置としては、慣用の対流オーブン、IR照射装置、IRレーザー、マイクロ波装置、ウィスコンシンオーブン等を挙げることができる。このとき版面温度は30℃〜150℃であることが好ましく、より好ましくは、35〜130℃であり、更に好ましくは、40〜120℃である。
When the printing plate to be used is easily affected by ambient light in the work environment, it is preferable that the plate making line is shielded by a filter or a cover.
After the image is formed as described above, the entire surface may be exposed with an actinic ray such as ultraviolet light to accelerate the curing of the image area. Examples of the light source for the entire surface exposure include a carbon arc lamp, a mercury lamp, a gallium lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a tungsten lamp, and various laser lights. Further, in order to obtain a sufficient printing durability, the overall exposure is preferably at least 10 mJ / cm 2 or more, more preferably 100 mJ / cm 2 or more.
Heating may be performed simultaneously with the entire surface exposure, and further improvement in printing durability is recognized by heating. Examples of the heating device include a conventional convection oven, an IR irradiation device, an IR laser, a microwave device, a Wisconsin oven, and the like. At this time, the plate surface temperature is preferably 30 ° C to 150 ° C, more preferably 35 ° C to 130 ° C, and still more preferably 40 ° C to 120 ° C.

〔印刷方法〕
本発明の平版印刷版原版は、上記(1)の場合、赤外線レーザーで画像様に露光し、前
述の方法により全面加熱した後、なんらの現像処理工程を経ることなく油性インキと水性
成分とを供給して印刷することができる。
[Printing method]
In the case of the above (1), the lithographic printing plate precursor of the present invention is imagewise exposed with an infrared laser and heated entirely by the above-described method, and then the oil-based ink and the aqueous component are mixed without any development processing steps. Can be supplied and printed.

具体的には、平版印刷版原版を赤外線レーザーで露光し、版全面をオーブンにて加熱し
た後、現像処理工程を経ることなく印刷機に装着して印刷する方法、平版印刷版原版を印
刷機に装着した後、印刷機上において赤外線レーザーで露光し、印刷機上において版全面
を加熱した後、現像処理工程を経ることなく印刷する方法等が挙げられる。
Specifically, the lithographic printing plate precursor is exposed with an infrared laser, and the entire surface of the plate is heated in an oven, and then mounted on a printing press without passing through a development processing step. And a method of printing without passing through a development processing step after exposing the entire surface of the plate on the printing machine.

例えば、ネガ型の機上現像型平版印刷版原版の一態様では、平版印刷版原版を赤外線レ
ーザーで画像様に露光した後、湿式現像処理工程等の現像処理工程を経ることなく水性成
分と油性インキとを供給して印刷すると、画像形成層の露光部においては、露光により硬
化した画像形成層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。一方、未露光部
においては、供給された水性成分および/または油性インキによって、未硬化の画像形成
層が溶解しまたは分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。
For example, in an embodiment of a negative on-press development type lithographic printing plate precursor, an aqueous component and an oily composition are exposed without undergoing a development processing step such as a wet development processing step after exposing the lithographic printing plate precursor imagewise with an infrared laser. When ink is supplied and printing is performed, in the exposed portion of the image forming layer, the image forming layer cured by exposure forms an oil-based ink receiving portion having a lipophilic surface. On the other hand, in the unexposed area, the uncured image forming layer is dissolved or dispersed and removed by the supplied aqueous component and / or oil-based ink, and a hydrophilic surface is exposed in that area.

その結果、水性成分は露出した親水性の表面に付着し、油性インキは露光領域の感光−
感熱層に着肉し、印刷が開始される。ここで、最初に版面に供給されるのは、水性成分で
もよく、油性インキでもよいが、水性成分が未露光部の感光−感熱層により汚染されるこ
とを防止する点で、最初に油性インキを供給するのが好ましい。水性成分および油性イン
キとしては、通常の平版印刷用の湿し水と印刷インキが用いられる。
このようにして、平版印刷版原版はオフセット印刷機上で機上現像され、そのまま多数
枚の印刷に用いられる。
As a result, the aqueous component adheres to the exposed hydrophilic surface, and the oil-based ink is exposed to the photosensitive region in the exposed area.
The heat-sensitive layer is deposited and printing is started. Here, an aqueous component or an oil-based ink may be first supplied to the plate surface, but the oil-based ink is firstly used in order to prevent the aqueous component from being contaminated by the light-sensitive layer in the unexposed area. Is preferably supplied. As the aqueous component and oil-based ink, a dampening water and printing ink for ordinary lithographic printing are used.
In this way, the lithographic printing plate precursor is subjected to on-press development on an offset printing machine and used as it is for printing a large number of sheets.

また、上記(2)の場合、本発明の平版印刷版原版の製版方法では、露光後、擦り部材
を備えた自動処理機により、pHが2〜10の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦るこ
とにより、非露光部の画像形成層を除去して平版印刷版を得る。
本発明においては、上述のように、露光処理された平版印刷版原版は、必要に応じ、露
光から現像までの間に、全面を加熱してもよい。このような加熱により、画像形成層中の
画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や、感度の安定化といった利点が生じ得る
。また、画像形成層の上に保護層を有する場合は、現像処理前に水洗処理を行うことも好
ましい。
なお、本発明において、擦り処理後の平版印刷版を、引き続いて、水洗、乾燥処理、不
感脂化処理することも任意に可能である。不感脂化処理では、公知の不感脂化液を用いる
ことができる。
In the case of the above (2), in the plate-making method of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, after exposure, the plate surface is rubbed with a rubbing member in the presence of a developer having a pH of 2 to 10 by an automatic processor equipped with a rubbing member. By rubbing, the image forming layer in the non-exposed area is removed to obtain a lithographic printing plate.
In the present invention, as described above, the exposed lithographic printing plate precursor may be entirely heated between exposure and development as necessary. By such heating, an image forming reaction in the image forming layer is promoted, and advantages such as improvement in sensitivity and printing durability and stabilization of sensitivity may occur. In addition, when a protective layer is provided on the image forming layer, it is also preferable to perform a water washing treatment before the development treatment.
In the present invention, the lithographic printing plate after the rubbing treatment can be optionally washed with water, dried and desensitized. In the desensitizing treatment, a known desensitizing solution can be used.

以下、実施例によって本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例2〜3、5、7〜8、11、13〜17及び22は「参考例」と読み替えるものとする。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these. In addition, Examples 2-3, 5, 7-8, 11, 13-17, and 22 shall be read as “reference examples”.

〔実施例1〕
(親水性支持体の作製)
厚さ0.3mmのJIS−A−1050に従うアルミニウム板を用い、下記に示す工程
(a)〜(k)をこの順序で実施して処理した。
[Example 1]
(Preparation of hydrophilic support)
Using an aluminum plate according to JIS-A-1050 having a thickness of 0.3 mm, the following steps (a) to (k) were performed in this order.

(a)機械的粗面化処理
比重1.12の研磨剤(ケイ砂)と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム
の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った
。研磨剤の平均粒径は8μm、最大粒径は50μmであった。ナイロンブラシの材質は6
・10ナイロン、毛長50mm、毛の直径は0.3mmであった。ナイロンブラシはΦ3
00mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは3本使
用した。ブラシ下部の2本の支持ローラ(Φ200mm)の距離は300mmであった。
ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板
に押さえつける前の負荷に対して7kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方
向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は200rpmであった
(A) Mechanical surface roughening treatment While supplying a suspension of abrasive (silica sand) having a specific gravity of 1.12 and water as an abrasive slurry to the surface of aluminum, it is mechanically rotated by a rotating nylon nylon brush. Roughening was performed. The average particle size of the abrasive was 8 μm, and the maximum particle size was 50 μm. The material of nylon brush is 6
10 nylon, hair length 50 mm, hair diameter was 0.3 mm. Nylon brush is Φ3
A hole was made in a 00 mm stainless steel tube so that it was densely planted. Three rotating brushes were used. The distance between the two support rollers (Φ200 mm) at the bottom of the brush was 300 mm.
The brush roller was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 7 kW plus with respect to the load before the brush roller was pressed against the aluminum plate. The rotating direction of the brush was the same as the moving direction of the aluminum plate. The rotation speed of the brush was 200 rpm.

(b)アルカリエッチング処理
得られたアルミニウム板に温度70℃のNaOH水溶液(濃度26質量%、アルミニウ
ムイオン濃度6.5質量%)をスプレーしてエッチング処理を行い、アルミニウム板を6
g/m2 溶解した。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
(c)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で
、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。前記デスマット
に用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃
液を用いた。
(B) Alkali etching treatment The obtained aluminum plate was sprayed with an aqueous NaOH solution at a temperature of 70 ° C. (concentration: 26 mass%, aluminum ion concentration: 6.5 mass%) to carry out an etching treatment.
Dissolved in g / m 2 . Thereafter, washing with water was performed using well water.
(C) Desmutting treatment The desmutting treatment was performed by spraying with a 1% by mass aqueous solution of nitric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 0.5% by mass of aluminum ions), and then washed with water by spraying. The nitric acid aqueous solution used for the desmut was the waste liquid from the step of electrochemical surface roughening using alternating current in nitric acid aqueous solution.

(d)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電
解液は、硝酸10.5g/リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リットル)、温
度50℃であった。交流電源波形は電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0
.8ms、DUTY比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電
気化学的な粗面化処理を行った。補助陽極にはフェライトを用いた。使用した電解槽はラ
ジアルセルタイプのものを使用した。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2 、電気
量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で220C/dm2 であった。補助陽極には
電源から流れる電流の5%を分流させた。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行
った。
(D) Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a nitric acid 10.5 g / liter aqueous solution (aluminum ion 5 g / liter) at a temperature of 50 ° C. AC power supply waveform has zero time TP until the current value reaches the peak from zero
. Using a trapezoidal rectangular wave alternating current for 8 ms, a DUTY ratio of 1: 1, an electrochemical roughening treatment was performed using a carbon electrode as a counter electrode. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell used was a radial cell type. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 220 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. Thereafter, washing with water was performed using well water.

(e)アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%
でスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.20g/m2
解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化を行ったときに生成した水酸化アルミニウ
ムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエ
ッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。エッチン
グ量は、3.5g/m2 であった。
(f)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度15質量%水溶液(アルミニウムイオンを4.5質量%含む。)
で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーで水洗した。
前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化
を行う工程の廃液を用いた。
(E) Alkaline etching treatment An aluminum plate is made of caustic soda concentration of 26% by mass and aluminum ion concentration of 6.5% by mass.
The etching process by spraying is performed at 32 ° C., 0.20 g / m 2 of aluminum plate is dissolved, and the aluminum hydroxide produced when electrochemical roughening is performed using alternating current in the previous stage is mainly used. The smut component was removed, and the edge portion of the generated pit was melted to smooth the edge portion. Thereafter, washing with water was performed using well water. The etching amount was 3.5 g / m 2 .
(F) Desmutting treatment A 15% by mass aqueous solution of nitric acid having a temperature of 30 ° C. (including 4.5% by mass of aluminum ions)
Then, the desmut treatment was performed by spraying, and then washed with water using well water.
The nitric acid aqueous solution used for the desmut was the waste liquid from the step of electrochemical surface roughening using alternating current in nitric acid aqueous solution.

(g)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電
解液は、塩酸7.5g/リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リットル含む。)
、温度35℃であった。交流電源波形は矩形波であり、カーボン電極を対極として電気化
学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽はラジアルセ
ルタイプのものを使用した。電流密度は電流のピーク値で25A/dm2 、電気量はアル
ミニウム板が陽極時の電気量の総和で50C/dm2 であった。その後、井水を用いてス
プレーによる水洗を行った。
(h)アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%
でスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.10g/m2
解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミ
ニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解し
てエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
(G) Electrochemical surface roughening treatment An electrochemical surface roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time is a 7.5 g / liter aqueous solution of hydrochloric acid (containing 5 g / liter of aluminum ions).
The temperature was 35 ° C. The AC power supply waveform was a rectangular wave, and an electrochemical surface roughening treatment was performed using a carbon electrode as a counter electrode. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell used was a radial cell type. The current density was 25 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 50 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. Thereafter, washing with water was performed using well water.
(H) Alkaline etching treatment An aluminum plate is made with caustic soda concentration of 26% by mass and aluminum ion concentration of 6.5% by mass.
Etching treatment by spraying at 32 ° C., dissolving 0.10 g / m 2 of aluminum plate, and mainly using aluminum hydroxide produced when electrochemical surface roughening treatment was performed using alternating current in the previous stage. The smut component to be removed was removed, and the edge portion of the generated pit was melted to smooth the edge portion. Thereafter, washing with water was performed using well water.

(i)デスマット処理
温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)
デスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
(j)陽極酸化処理
電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも硫酸濃度170g/リットル(ア
ルミニウムイオンを0.5質量%含む。)、温度は43℃であった。その後、井水を用い
,てスプレーによる水洗を行った。電流密度はともに約30A/dm2 であった。最終的
な化皮膜量は2.7g/m2 であった。
(k)アルカリ金属ケイ酸塩処理
得られたアルミニウム板を温度30℃の3号ケイ酸ソーダ1質量%水溶液の処理層中へ
、10秒間、浸漬することでアルカリ金属ケイ酸塩処理(シリケート処理)を行った。そ
の後、井水を用いたスプレーによる水洗を行うことにより、アルミニウム支持体を作製し
。その際のシリケート付着量はいずれも3.6mg/m2 であった。
(I) Desmutting treatment An aqueous solution containing 25% by mass of sulfuric acid at a temperature of 60 ° C. (containing 0.5% by mass of aluminum ions)
A desmut treatment was performed, and then water was washed by spraying using well water.
(J) Anodizing treatment As the electrolytic solution, sulfuric acid was used. All electrolytes had a sulfuric acid concentration of 170 g / liter (containing 0.5 mass% of aluminum ions), and the temperature was 43 ° C. Then use well water
Then, water washing by spray was performed. Both current densities were about 30 A / dm 2 . The final chemical film coating amount was 2.7 g / m 2 .
(K) Alkali metal silicate treatment An alkali metal silicate treatment (silicate treatment) was performed by immersing the obtained aluminum plate in a treatment layer of a 1 mass% aqueous solution of sodium silicate No. 3 at a temperature of 30 ° C. for 10 seconds. ) Then, the aluminum support body is produced by performing the water washing by the spray using well water. The amount of silicate adhering at that time was 3.6 mg / m 2 .

平版印刷版原版(1)の作成
(下層の形成)
得られた支持体上に、下記高分子化合物(1)で表される共重合体(質量平均分子量3
5000)のメタノール溶液をワイヤーバーで塗布し、80℃で60秒間乾燥して下層を
形成した。塗布量は、0.01g/m2 であった。
Creation of lithographic printing plate precursor (1) (formation of lower layer)
On the obtained support, a copolymer represented by the following polymer compound (1) (mass average molecular weight 3
5000) methanol solution was applied with a wire bar and dried at 80 ° C. for 60 seconds to form a lower layer. The coating amount was 0.01 g / m 2 .

(画像形成層の形成)
引き続いて、下記組成の画像形成層塗布液(1)をバー塗布した後、70℃、60秒で
オーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の画像形成層を形成して平版印刷版用原版(
1)を得た。
(Formation of image forming layer)
Subsequently, the image-forming layer coating solution (1) having the following composition was bar-coated and then oven-dried at 70 ° C. for 60 seconds to form an image-forming layer having a dry coating amount of 1.0 g / m 2 to form a lithographic printing plate. Original version (
1) was obtained.

画像形成層塗布液(1)
・下記バインダーポリマー(1) 0.50g
・重合性化合物 1.00g
イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート
(新中村化学工業(株)製、NKエステルM−315)
・下記重合開始剤(1) 0.20g
・下記赤外線吸収剤(1) 0.05g
・IM−577(固形分として) 0.18g
・下記フッ素系界面活性剤(1) 0.05g
・1−メトキシ−2−プロパノール 18.00g
Image forming layer coating solution (1)
・ The following binder polymer (1) 0.50 g
・ Polymerizable compound 1.00g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK ester M-315)
・ The following polymerization initiator (1) 0.20 g
・ The following infrared absorber (1) 0.05 g
・ IM-577 (as solid content) 0.18g
・ The following fluorosurfactant (1) 0.05g
・ 1-Methoxy-2-propanol 18.00g

〔実施例2〕
平版印刷版原版(2)の作成
画像形成層塗布液(1)を以下の画像形成層塗布液(2)に変更した以外は平版印刷版
原版(1)と同様にして平版印刷版原版(2)を作成した。得られた平版印刷版原版の画
像形成層は0.9g/m2の塗布量を有していた。
[Example 2]
Preparation of lithographic printing plate precursor (2) A lithographic printing plate precursor (2) in the same manner as the lithographic printing plate precursor (1) except that the image forming layer coating solution (1) is changed to the following image forming layer coating solution (2). )created. The image forming layer of the obtained lithographic printing plate precursor had a coating amount of 0.9 g / m 2 .

画像形成層塗布液(2)
・上記バインダーポリマー(1) 0.50g
・重合性化合物 1.00g
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート
・上記重合開始剤(1) 0.20g
・上記赤外線吸収剤(1) 0.05g
・IM−454 0.12g
・下記フッ素系界面活性剤(1) 0.05g
・1−メトキシ−2−プロパノール 18.00g
Image forming layer coating solution (2)
・ Binder polymer (1) 0.50g
・ Polymerizable compound 1.00g
Dipentaerythritol pentaacrylate ・ The above polymerization initiator (1) 0.20 g
・ The above infrared absorbing agent (1) 0.05 g
・ IM-454 0.12g
・ The following fluorosurfactant (1) 0.05g
・ 1-Methoxy-2-propanol 18.00g

〔実施例3〕
平版印刷版原版(3)の作成
画像形成層塗布液(1)を以下の画像形成層塗布液(3)に変更した以外は平版印刷版
原版(1)と同様にして平版印刷版原版(3)を作成した。得られた平版印刷版原版の画
像形成層は1.1g/m2の塗布量を有していた。
Example 3
Preparation of the lithographic printing plate precursor (3) The lithographic printing plate precursor (3) was prepared in the same manner as the lithographic printing plate precursor (1) except that the image forming layer coating solution (1) was changed to the following image forming layer coating solution (3). )created. The image forming layer of the obtained lithographic printing plate precursor had a coating amount of 1.1 g / m 2 .

画像形成層塗布液(3)
・上記バインダーポリマー(1) 0.50g
・重合性化合物 0.50g
イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート
(新中村化学工業(株)製、NKエステルM−315)
・上記重合開始剤(1) 0.20g
・上記赤外線吸収剤(1) 0.05g
・IM−046 0.60g
・下記フッ素系界面活性剤(1) 0.05g
・1−メトキシ−2−プロパノール 18.00g
Image forming layer coating solution (3)
・ Binder polymer (1) 0.50g
・ Polymerizable compound 0.50g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK ester M-315)
・ The above polymerization initiator (1) 0.20 g
・ The above infrared absorbing agent (1) 0.05 g
・ IM-046 0.60g
・ The following fluorosurfactant (1) 0.05g
・ 1-Methoxy-2-propanol 18.00g

〔実施例4〕
平版印刷版原版(4)の作成
画像形成層塗布液(1)を以下の画像形成層塗布液(4)に変更した以外は平版印刷版
原版(1)と同様にして平版印刷版原版(4)を作成した。得られた平版印刷版原版の画
像形成層は1.0g/m2の塗布量を有していた。
Example 4
Preparation of lithographic printing plate precursor (4) The lithographic printing plate precursor (4) was prepared in the same manner as the lithographic printing plate precursor (1) except that the image forming layer coating solution (1) was changed to the following image forming layer coating solution (4). )created. The image forming layer of the obtained lithographic printing plate precursor had a coating amount of 1.0 g / m 2 .

画像形成層塗布液(4)
・上記バインダーポリマー(1) 0.50g
・上記重合開始剤(1) 0.20g
・上記赤外線吸収剤(1) 0.05g
・IM−580 1.00g
・下記フッ素系界面活性剤(1) 0.05g
・1−メトキシ−2−プロパノール 18.00g
Image forming layer coating solution (4)
・ Binder polymer (1) 0.50g
・ The above polymerization initiator (1) 0.20 g
・ The above infrared absorbing agent (1) 0.05 g
・ IM-580 1.00g
・ The following fluorosurfactant (1) 0.05g
・ 1-Methoxy-2-propanol 18.00g

〔実施例5〕
平版印刷版原版(5)の作成
画像形成層塗布液(1)を以下の画像形成層塗布液(5)に変更した以外は平版印刷版
原版(1)と同様にして平版印刷版原版(5)を作成した。得られた平版印刷版原版の画
像形成層は1.0g/m2の塗布量を有していた。
Example 5
Preparation of lithographic printing plate precursor (5) A lithographic printing plate precursor (5) was prepared in the same manner as the lithographic printing plate precursor (1) except that the image forming layer coating solution (1) was changed to the following image forming layer coating solution (5). )created. The image forming layer of the obtained lithographic printing plate precursor had a coating amount of 1.0 g / m 2 .

画像形成層塗布液(5)
・上記バインダーポリマー(1) 0.50g
・重合性化合物 1.00g
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート
・上記重合開始剤(1) 0.20g
・上記赤外線吸収剤(1) 0.05g
・IM−029 0.15g
・下記フッ素系界面活性剤(1) 0.05g
・1−メトキシ−2−プロパノール 18.00g
Image forming layer coating solution (5)
・ Binder polymer (1) 0.50g
・ Polymerizable compound 1.00g
Dipentaerythritol pentaacrylate ・ The above polymerization initiator (1) 0.20 g
・ The above infrared absorbing agent (1) 0.05 g
・ IM-029 0.15g
・ The following fluorosurfactant (1) 0.05g
・ 1-Methoxy-2-propanol 18.00g

〔比較例1〕
平版印刷版原版(6)の作成
画像形成層塗布液(1)を以下の画像形成層塗布液(6)に変更した以外は平版印刷版
原版(1)と同様にして平版印刷版原版(6)を作成した。得られた平版印刷版原版の画
像形成層は1.0g/m2の塗布量を有していた。
[Comparative Example 1]
Preparation of lithographic printing plate precursor (6) The lithographic printing plate precursor (6) was prepared in the same manner as the lithographic printing plate precursor (1) except that the image forming layer coating solution (1) was changed to the following image forming layer coating solution (6). )created. The image forming layer of the obtained lithographic printing plate precursor had a coating amount of 1.0 g / m 2 .

画像形成層塗布液(6)
・上記バインダーポリマー(1) 0.50g
・重合性化合物 1.18g
イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート
(新中村化学工業(株)製、NKエステルM−315)
・下記重合開始剤(1) 0.20g
・下記赤外線吸収剤(1) 0.05g
・下記フッ素系界面活性剤(1) 0.05g
・1−メトキシ−2−プロパノール 18.00g
Image forming layer coating solution (6)
・ Binder polymer (1) 0.50g
・ Polymerizable compound 1.18 g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK ester M-315)
・ The following polymerization initiator (1) 0.20 g
・ The following infrared absorber (1) 0.05 g
・ The following fluorosurfactant (1) 0.05g
・ 1-Methoxy-2-propanol 18.00g

〔比較例2〕
平版印刷版原版(7)の作成
画像形成層塗布液(1)を以下の画像形成層塗布液(7)に変更した以外は平版印刷版
原版(1)と同様にして平版印刷版原版(7)を作成した。得られた平版印刷版原版の画
像形成層は1.0g/m2の塗布量を有していた。
[Comparative Example 2]
Preparation of lithographic printing plate precursor (7) The lithographic printing plate precursor (7) was prepared in the same manner as the lithographic printing plate precursor (1) except that the image forming layer coating solution (1) was changed to the following image forming layer coating solution (7). )created. The image forming layer of the obtained lithographic printing plate precursor had a coating amount of 1.0 g / m 2 .

画像形成層塗布液(7)
・上記バインダーポリマー(1) 0.50g
・重合性化合物 1.12g
・上記重合開始剤(1) 0.20g
・上記赤外線吸収剤(1) 0.05g
・下記フッ素系界面活性剤(1) 0.05g
・1−メトキシ−2−プロパノール 18.00g
Image forming layer coating solution (7)
・ Binder polymer (1) 0.50g
・ Polymerizable compound 1.12 g
・ The above polymerization initiator (1) 0.20 g
・ The above infrared absorbing agent (1) 0.05 g
・ The following fluorosurfactant (1) 0.05g
・ 1-Methoxy-2-propanol 18.00g

〔実施例6〕
平版印刷版原版(8)の作成
(下層の形成)
上記のようにして得られたアルミ支持体上に、上記高分子化合物(1)で表される共重
合体(質量平均分子量35000)のメタノール溶液をワイヤーバーで塗布し、80℃で
60秒間乾燥して下層を形成した。塗布量は、0.02g/m2 であった。
Example 6
Preparation of lithographic printing plate precursor (8) (formation of lower layer)
On the aluminum support obtained as described above, a methanol solution of the copolymer (mass average molecular weight 35000) represented by the polymer compound (1) was applied with a wire bar, and dried at 80 ° C. for 60 seconds. To form a lower layer. The coating amount was 0.02 g / m 2 .

(マイクロカプセル(1)の合成)
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井武
田ケミカル(株)製、タケネートD−110N)10g、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート(日本化薬(株)製、SR444)3.15g、下記の赤外線吸収剤(2)0.3
5g、及びパイオニンA−41C(竹本油脂(株)製) 0.1gを酢酸エチル17gに溶
解した。水相成分としてPVA−205の4質量%水溶液40gを調製した。油相成分及
び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12000rpmで10分間乳化した。得
られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、40℃で3時間攪拌した
。このようにして得られたマイクロカプセル液(1)の固形分濃度を、20質量%になる
ように蒸留水を用いて希釈した。平均粒径はいずれも0.3μmであった。
(Synthesis of microcapsule (1))
As an oil phase component, trimethylolpropane and xylene diisocyanate adduct (manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd., Takenate D-110N) 10 g, pentaerythritol triacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., SR444) 3.15 g, The following infrared absorber (2) 0.3
5 g and 0.1 g of Pionein A-41C (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) were dissolved in 17 g of ethyl acetate. As an aqueous phase component, 40 g of a 4% by mass aqueous solution of PVA-205 was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to 25 g of distilled water, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 40 ° C. for 3 hours. The microcapsule liquid (1) thus obtained was diluted with distilled water so that the solid content concentration became 20% by mass. All of the average particle diameters were 0.3 μm.

(画像形成層の形成)
引き続いて、下記組成の画像形成層塗布液(8)をバー塗布した後、70℃、60秒で
オーブン乾燥し、乾燥塗布量1.1g/m2の画像形成層を形成して平版印刷版用原版(
8)を得た。
(Formation of image forming layer)
Subsequently, an image-forming layer coating solution (8) having the following composition was bar-coated, followed by oven-drying at 70 ° C. for 60 seconds to form an image-forming layer having a dry coating amount of 1.1 g / m 2 to form a lithographic printing plate. Original version (
8) was obtained.

画像形成層塗布液(8)
・上記バインダーポリマー(1) 0.50g
・重合性化合物 1.00g
イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート
(新中村化学工業(株)製、NKエステルM−315)
・上記重合開始剤(1) 0.20g
・上記赤外線吸収剤(2) 0.05g
・上記マイクロカプセル液(1) 2.00g
・IM−577(固形分として) 0.15g
・下記フッ素系界面活性剤(1) 0.05g
・1−メトキシ−2−プロパノール 18.00g
Image forming layer coating solution (8)
・ Binder polymer (1) 0.50g
・ Polymerizable compound 1.00g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK ester M-315)
・ The above polymerization initiator (1) 0.20 g
・ 0.05 g of the above infrared absorber (2)
・ Microcapsule liquid (1) 2.00g
・ IM-577 (as solid content) 0.15g
・ The following fluorosurfactant (1) 0.05g
・ 1-Methoxy-2-propanol 18.00g

〔実施例7〕
平版印刷版原版(9)の作成
画像形成層塗布液(8)を以下の画像形成層塗布液(9)に変更した以外は平版印刷版
原版(8)と同様にして平版印刷版原版(9)を作成した。得られた平版印刷版原版の画
像形成層は1.1g/m2の塗布量を有していた。
Example 7
Preparation of lithographic printing plate precursor (9) The lithographic printing plate precursor (9) was prepared in the same manner as the lithographic printing plate precursor (8) except that the image forming layer coating solution (8) was changed to the following image forming layer coating solution (9). )created. The image forming layer of the obtained lithographic printing plate precursor had a coating amount of 1.1 g / m 2 .

画像形成層塗布液(9)
・上記バインダーポリマー(1) 0.50g
・重合性化合物 0.80g
イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート
(新中村化学工業(株)製、NKエステルM−315)
・上記重合開始剤(1) 0.20g
・上記赤外線吸収剤(1) 0.05g
・上記マイクロカプセル液(1) 2.00g
・IM−046 0.35g
・下記フッ素系界面活性剤(1) 0.05g
・1−メトキシ−2−プロパノール 18.00g
Image forming layer coating solution (9)
・ Binder polymer (1) 0.50g
・ Polymerizable compound 0.80g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK ester M-315)
・ The above polymerization initiator (1) 0.20 g
・ The above infrared absorbing agent (1) 0.05 g
・ Microcapsule liquid (1) 2.00g
・ IM-046 0.35g
・ The following fluorosurfactant (1) 0.05g
・ 1-Methoxy-2-propanol 18.00g

〔比較例3〕
平版印刷版原版(10)の作成
画像形成層塗布液(8)を以下の画像形成層塗布液(10)に変更した以外は平版印刷
版原版(8)と同様にして平版印刷版原版(10)を作成した。得られた平版印刷版原版
の画像形成層は1.0g/m2の塗布量を有していた。
[Comparative Example 3]
Preparation of lithographic printing plate precursor (10) The lithographic printing plate precursor (10) was prepared in the same manner as the lithographic printing plate precursor (8) except that the image forming layer coating solution (8) was changed to the following image forming layer coating solution (10). )created. The image forming layer of the obtained lithographic printing plate precursor had a coating amount of 1.0 g / m 2 .

画像形成層塗布液(10)
・上記バインダーポリマー(1) 0.50g
・重合性化合物 1.15g
イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート
(新中村化学工業(株)製、NKエステルM−315)
・上記重合開始剤(1) 0.20g
・上記赤外線吸収剤(1) 0.05g
・上記マイクロカプセル液(1) 2.00g
・下記フッ素系界面活性剤(1) 0.05g
・1−メトキシ−2−プロパノール 18.00g
Image forming layer coating solution (10)
・ Binder polymer (1) 0.50g
・ Polymerizable compound 1.15 g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK ester M-315)
・ The above polymerization initiator (1) 0.20 g
・ The above infrared absorbing agent (1) 0.05 g
・ Microcapsule liquid (1) 2.00g
・ The following fluorosurfactant (1) 0.05g
・ 1-Methoxy-2-propanol 18.00g

〔実施例8〕
平版印刷版原版(11)の作成
(下層の形成)
上記のようにして得られたアルミ支持体上に、上記高分子化合物(1)で表される共重
合体(質量平均分子量35000)のメタノール溶液をワイヤーバーで塗布し、80℃で
60秒間乾燥して下層を形成した。塗布量は、0.02g/m2 であった。
(画像形成層の形成)
下塗層を有する上記支持体上に、下記組成の画像形成層塗布液(11)をバー塗布した後
、100℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.1g/m2の画像形成層を形成した
。画像形成層塗布液(11)は、下記感光液(1)およびマイクロカプセル液(2)を塗
布直前に混合し攪拌することにより得た。
Example 8
Preparation of lithographic printing plate precursor (11) (formation of lower layer)
On the aluminum support obtained as described above, a methanol solution of the copolymer (mass average molecular weight 35000) represented by the polymer compound (1) was applied with a wire bar, and dried at 80 ° C. for 60 seconds. To form a lower layer. The coating amount was 0.02 g / m 2 .
(Formation of image forming layer)
An image-forming layer coating solution (11) having the following composition is bar-coated on the support having an undercoat layer, and then oven-dried at 100 ° C. for 60 seconds to form an image having a dry coating amount of 1.1 g / m 2 . A layer was formed. The image forming layer coating solution (11) was obtained by mixing and stirring the following photosensitive solution (1) and microcapsule solution (2) immediately before coating.

感光液(1)
・上記バインダーポリマー(1) 0.162g
・上記重合開始剤(1) 0.160g
・下記重合開始剤(2) 0.180g
・下記赤外線吸収剤(3) 0.020g
・重合性化合物 0.385g
アロニックスM−215(東亜合成(株)製)
・IM−454 0.060g
・上記フッ素系界面活性剤(1) 0.044g
・メチルエチルケトン 1.091g
・1−メトキシ−2−プロパノール 8.210g
Photosensitive solution (1)
・ The binder polymer (1) 0.162 g
・ The above polymerization initiator (1) 0.160 g
・ The following polymerization initiator (2) 0.180 g
・ The following infrared absorber (3) 0.020 g
・ Polymerizable compound 0.385 g
Aronix M-215 (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)
・ IM-454 0.060g
・ 0.044 g of the above fluorosurfactant (1)
・ Methyl ethyl ketone 1.091g
・ 1-methoxy-2-propanol 8.210 g

マイクロカプセル液(2)
・下記の通り合成したマイクロカプセル(2) 2.640g
・水 2.425g
Microcapsule liquid (2)
-Microcapsule (2) synthesized as follows: 2.640 g
・ Water 2.425g

マイクロカプセル(2)の合成
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井武
田ケミカル(株)製、タケネートD−110N、75質量%酢酸エチル溶液)10g、アロ
ニックスSR−399(東亞合成(株)製)6.00g、パイオニンA−41C(竹本油
脂(株)製) 0.12gを酢酸エチル16.67gに溶解した。水相成分としてPVA−
205の4質量%水溶液37.5gを調製した。油相成分および水相成分を混合し、ホモ
ジナイザーを用いて12000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水2
5gに添加し、室温で30分攪拌後、40℃で2時間攪拌した。このようにして得られた
マイクロカプセル液の固形分濃度を、15質量%になるように蒸留水を用いて希釈した。
平均粒径は0.2μmであった。
Synthesis of microcapsule (2) As an oil phase component, trimethylolpropane and xylene diisocyanate adduct (manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd., Takenate D-110N, 75 mass% ethyl acetate solution) 10 g, Aronix SR-399 ( Toagosei Co., Ltd.) 6.00 g and Pionein A-41C (Takemoto Yushi Co., Ltd.) 0.12 g were dissolved in ethyl acetate 16.67 g. PVA- as water phase component
37.5 g of a 4% by weight aqueous solution of 205 was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to distilled water 2
The mixture was added to 5 g, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 40 ° C. for 2 hours. The microcapsule solution thus obtained was diluted with distilled water so that the solid content concentration was 15% by mass.
The average particle size was 0.2 μm.

上記の画像形成層上に下記保護層塗布液(1)をバー塗布した後、125℃75秒でオ
ーブン乾燥し、乾燥塗布量0.15g/m2の保護層を形成して平版印刷版原版を得た。
The following protective layer coating solution (1) is bar-coated on the image forming layer, followed by oven drying at 125 ° C. for 75 seconds to form a protective layer having a dry coating amount of 0.15 g / m 2 to form a lithographic printing plate precursor Got.

保護層塗布液(1)
・ポリビニルアルコール(6質量%水溶液) 2.24g
(株)クラレ製PVA105、ケン化度98.5モル%、重合度500)
・ポリビニルピロリドン(K30) 0.0053g
・界面活性剤(花王(株)製エマレックス710)1質量%水溶液 2.15g
・鱗状合成雲母(3.4質量%水分散物) 3.75g
(UNICOO(株)製MEB3L、平均粒径1〜5μmΦ)
・蒸留水 10.60g
Protective layer coating solution (1)
・ Polyvinyl alcohol (6% by mass aqueous solution) 2.24 g
Kuraray PVA105, degree of saponification 98.5 mol%, degree of polymerization 500)
・ Polyvinylpyrrolidone (K30) 0.0053g
-Surfactant (Emalex 710 manufactured by Kao Corporation) 1 mass% aqueous solution 2.15 g
Scale-like synthetic mica (3.4% by mass aqueous dispersion) 3.75 g
(MEB3L manufactured by UNICOO Co., Ltd., average particle diameter of 1 to 5 μmΦ)
・ Distilled water 10.60g

〔実施例9〕
平版印刷版原版(12)の作成
感光液(1)を以下の感光液(2)に変更した以外は平版印刷版原版(11)と同様に
して平版印刷版原版(12)を作成した。得られた平版印刷版原版の画像形成層は1.2
g/m2の塗布量を有していた。
Example 9
Preparation of lithographic printing plate precursor (12) A lithographic printing plate precursor (12) was prepared in the same manner as the lithographic printing plate precursor (11) except that the photosensitive solution (1) was changed to the following photosensitive solution (2). The resulting lithographic printing plate precursor had an image forming layer of 1.2.
The coating amount was g / m 2 .

感光液(2)
・上記バインダーポリマー(1) 0.162g
・上記重合開始剤(1) 0.160g
・上記重合開始剤(2) 0.180g
・上記赤外線吸収剤(3) 0.020g
・重合性化合物 0.185g
アロニックスM−215(東亜合成(株)製)
・IM−580 0.260g
・上記フッ素系界面活性剤(1) 0.044g
・メチルエチルケトン 1.091g
・1−メトキシ−2−プロパノール 8.210g
Photosensitive solution (2)
・ The binder polymer (1) 0.162 g
・ The above polymerization initiator (1) 0.160 g
-0.180 g of the above polymerization initiator (2)
・ 0.020 g of the above infrared absorber (3)
・ Polymerizable compound 0.185g
Aronix M-215 (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)
・ IM-580 0.260g
・ 0.044 g of the above fluorosurfactant (1)
・ Methyl ethyl ketone 1.091g
・ 1-methoxy-2-propanol 8.210 g

〔比較例4〕
平版印刷版原版(13)の作成
感光液(1)を以下の感光液(3)に変更した以外は平版印刷版原版(11)と同様に
して平版印刷版原版(13)を作成した。得られた平版印刷版原版の画像形成層は1.0
g/m2の塗布量を有していた。
[Comparative Example 4]
Preparation of lithographic printing plate precursor (13) A lithographic printing plate precursor (13) was prepared in the same manner as the lithographic printing plate precursor (11) except that the photosensitive solution (1) was changed to the following photosensitive solution (3). The resulting lithographic printing plate precursor has an image forming layer of 1.0.
The coating amount was g / m 2 .

感光液(3)
・上記バインダーポリマー(1) 0.162g
・上記重合開始剤(1) 0.160g
・重合開始剤(2) 0.180g
・上記赤外線吸収剤(3) 0.020g
・重合性化合物 0.385g
アロニックスM−215(東亜合成(株)製)
・上記フッ素系界面活性剤(1) 0.044g
・メチルエチルケトン 1.091g
・1−メトキシ−2−プロパノール 8.210g
Photosensitizer (3)
・ The binder polymer (1) 0.162 g
・ The above polymerization initiator (1) 0.160 g
・ Polymerization initiator (2) 0.180 g
・ 0.020 g of the above infrared absorber (3)
・ Polymerizable compound 0.385 g
Aronix M-215 (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)
・ 0.044 g of the above fluorosurfactant (1)
・ Methyl ethyl ketone 1.091g
・ 1-methoxy-2-propanol 8.210 g

2.露光および印刷
上記各平版印刷版原版を水冷式40W赤外線半導体レーザー搭載のCreo社製Tre
ndsetter3244VXにて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、解像度
2400dpiの条件で露光した。得られた露光済み原版を現像処理することなく、ハイ
デルベルグ社製印刷機SOR−Mのシリンダーに取り付けた。湿し水(EU−3(富士写
真フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比
))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業社製)とを用い、湿し水と
インクを供給した後、毎時6000枚の印刷速度で印刷を行った。
2. Exposure and printing The above-mentioned lithographic printing plate precursors are manufactured by Creo Corporation equipped with a water-cooled 40W infrared semiconductor laser.
The exposure was performed using an ndsetter 3244VX under conditions of an output of 9 W, an outer drum rotation speed of 210 rpm, and a resolution of 2400 dpi. The obtained exposed original plate was attached to a cylinder of a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg without developing. Dampening solution (EU-3 (Etch solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) / Water / isopropyl alcohol = 1/89/10 (volume ratio)) and TRANS-G (N) black ink (Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) After supplying dampening water and ink, printing was performed at a printing speed of 6000 sheets per hour.

3.評価
(1)現像性
画像記録層の未露光部の印刷機上での機上現像が完了し、印刷用紙にインキが転写しな
い状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として計測した。
(2)耐刷性
上述したように、印刷枚数を増やしていくと徐々に画像記録層が磨耗しインキ受容性が
低下するため、印刷用紙におけるインキ濃度が低下した。インキ濃度(反射濃度)が印刷
開始時よりも0.1低下したときの印刷枚数により、耐刷性を評価した。
各実施例及び比較例について(1)、(2)の評価結果を表2に示す。
3. Evaluation (1) Developability The on-machine developability is the number of print sheets required until the on-press development on the printing press of the unexposed portion of the image recording layer is completed and the ink is not transferred to the print paper. Measured.
(2) Printing durability As described above, as the number of printed sheets was increased, the image recording layer was gradually worn out and the ink acceptability was lowered, so that the ink density in the printing paper was lowered. Printing durability was evaluated by the number of printed sheets when the ink density (reflection density) was reduced by 0.1 from the start of printing.
Table 2 shows the evaluation results of (1) and (2) for each example and comparative example.

表1より明らかなように、本発明の一般式(1)、(2)又は(3)で表される化合物
を用いることにより、使用していない平版印刷版原版に比べて現像性と耐刷性が向上する
As is clear from Table 1, by using the compound represented by the general formula (1), (2) or (3) of the present invention, developability and printing durability compared to a lithographic printing plate precursor not used. Improves.

〔実施例10〕
(支持体の作製)
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質1050)の表面の圧延油を除去するため、1
0質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間、脱脂処理を施した後、毛径
0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1
.1g/cm3)を用いアルミニウム表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を
45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後
、さらに60℃で20質量%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面の
エッチング量は約3g/m2であった。
Example 10
(Production of support)
In order to remove rolling oil on the surface of an aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.3 mm, 1
After degreasing treatment at 50 ° C. for 30 seconds using a 0 mass% sodium aluminate aqueous solution, three bundle-planted nylon brushes having a bristle diameter of 0.3 mm and a pumice-water suspension having a median diameter of 25 μm (specific gravity 1
. 1 g / cm 3 ), and the aluminum surface was grained and washed thoroughly with water. This plate was etched by being immersed in a 25 mass% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ° C for 9 seconds, washed with water, further immersed in 20 mass% nitric acid at 60 ° C for 20 seconds, and washed with water. The etching amount of the grained surface at this time was about 3 g / m 2 .

次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このと
きの電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温5
0℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.
8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として
電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電
流のピーク値で30A/dm2、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。
硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dm2であった

その後、スプレーによる水洗を行った。
Next, an electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time is a 1% by mass aqueous solution of nitric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions), a liquid temperature of 5
It was 0 ° C. In the AC power supply waveform, the time TP until the current value reaches the peak from zero is 0.
An electrochemical roughening treatment was performed using a trapezoidal rectangular wave alternating current of 8 msec, a duty ratio of 1: 1, and a carbon electrode as a counter electrode. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode.
The amount of electricity in the nitric acid electrolysis was 175 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode.
Then, water washing by spraying was performed.

次に、塩酸0.5質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50
℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dm2の条件で、硝酸電解と
同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
この板を15質量%硫酸(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流
密度15A/dm2で2.5g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥した。
このようにして得た支持体表面の中心線平均粗さRa(JIS B0601)を直径2
μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。
Next, a 0.5 mass% hydrochloric acid aqueous solution (containing 0.5 mass% aluminum ions), a liquid temperature of 50
An electrolytic surface roughening treatment was performed in the same manner as in nitric acid electrolysis under the conditions of an electrolytic amount of 50 ° C./dm 2 when the aluminum plate was an anode when the aluminum plate was an anode, and then washed with water by spraying. .
The plate was provided with a DC anodized film of 2.5 g / m 2 at a current density of 15 A / dm 2 using 15% by mass sulfuric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions) as an electrolytic solution, then washed with water and dried.
The centerline average roughness Ra (JIS B0601) of the surface of the support thus obtained is 2 in diameter.
It was 0.51 μm when measured using a μm needle.

更に、下記下塗り液(1)をバー塗布した後、80℃、10秒でオーブン乾燥し、乾燥
塗布量が10mg/m2になるよう塗布し、以下の実験に用いる下塗り層を有する支持体を
作製した。
Furthermore, after applying the following undercoat liquid (1) to a bar, it was oven-dried at 80 ° C. for 10 seconds to apply a dry coating amount of 10 mg / m 2 , and a support having an undercoat layer used in the following experiments. Produced.

<下塗り液(1)>
・下塗り化合物(1) 0.017g
・メタノール 9.00g
・水 1.00g
<Undercoat liquid (1)>
・ Undercoat compound (1) 0.017 g
・ Methanol 9.00 g
・ Water 1.00g

平版印刷版原版(14)の作成
上記の下塗り層を付与した支持体上に、下記組成の画像形成層塗布液(14)をバー塗
布した後、70℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.1g/m2の感光層を形成し
、この上に下記組成よりなる保護層塗布液(2)を、乾燥塗布量が0.75g/m2とな
るようにバーを用いて塗布した後、125℃、70秒で間乾燥して平版印刷版原版(14
)を得た。
Preparation of lithographic printing plate precursor (14) On the support provided with the above-mentioned undercoat layer, an image-forming layer coating solution (14) having the following composition was bar-coated and then oven-dried at 70 ° C for 60 seconds, followed by dry coating. A photosensitive layer having an amount of 1.1 g / m 2 was formed, and a protective layer coating solution (2) having the following composition was applied thereon using a bar so that the dry coating amount was 0.75 g / m 2 . After that, it is dried at 125 ° C. for 70 seconds, and then the planographic printing plate precursor (14
)

(画像形成層塗布液(14))
・下記バインダーポリマー(1) 0.54g
・重合性化合物 0.40g
イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート
(東亜合成(株)製、アロニックスM−315)
・重合性化合物
エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート 0.08g
(日本化薬(株)製、SR9035、EO付加モル数15、分子量1000)
・下記増感色素(1) 0.06g
・下記重合開始剤(1) 0.18g
・下記連鎖移動剤(1) 0.07g
・ε―フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
(顔料:15質量部、分散剤 バインダーポリマー(1):10質量部、
溶剤 シクロヘキサノン/メトキシプロピルアセテート
/1−メトキシ−2−プロパ ノール
=15質量部/20質量部/40質量部)
・熱重合禁止剤 0.01g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・下記水溶性フッ素系界面活性剤(1) 0.001g
・IM−577 0.05g
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
・メチルエチルケトン 8.0g
(Image forming layer coating solution (14))
-0.54g of the following binder polymer (1)
・ Polymerizable compound 0.40g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., Aronix M-315)
・ Polymerizable compound Ethoxylated trimethylolpropane triacrylate 0.08 g
(Nippon Kayaku Co., Ltd., SR9035, EO addition mole number 15, molecular weight 1000)
・ The following sensitizing dye (1) 0.06 g
・ The following polymerization initiator (1) 0.18 g
・ The following chain transfer agent (1) 0.07 g
・ 0.40 g of ε-phthalocyanine pigment dispersion
(Pigment: 15 parts by mass, dispersant Binder polymer (1): 10 parts by mass,
Solvent cyclohexanone / methoxypropyl acetate / 1-methoxy-2-propanol = 15 parts by mass / 20 parts by mass / 40 parts by mass)
・ Thermal polymerization inhibitor 0.01g
N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt, the following water-soluble fluorosurfactant (1) 0.001 g
・ IM-577 0.05g
・ 3.5 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Methyl ethyl ketone 8.0g

(保護層塗布液(2))
ポリビニルアルコール(ケン化度98モル%、重合度500) 40g
ポリビニルピロリドン(分子量5万) 5g
ポリ(ビニルピロリドン/酢酸ビニル(1/1))分子量7万 0.5g
界面活性剤(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製)0.5g
水 950g
(Protective layer coating solution (2))
Polyvinyl alcohol (saponification degree 98 mol%, polymerization degree 500) 40 g
Polyvinylpyrrolidone (molecular weight 50,000) 5g
Poly (vinyl pyrrolidone / vinyl acetate (1/1)) molecular weight 70,000 0.5g
Surfactant (Emalex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.) 0.5g
950g of water

さらに、保護層の酸素透過率を以下の条件で測定したところ、上記保護層の酸素透過率
は、3.8ml/(m2・day・atom)であった。
Furthermore, when the oxygen permeability of the protective layer was measured under the following conditions, the oxygen permeability of the protective layer was 3.8 ml / (m 2 · day · atom).

〔実施例11〕
平版印刷版原版(15)の作成
画像形成層塗布液(14)を以下に示す画像形成層塗布液(15)に変更した以外は平
版印刷版原版(14)と同様にして平版印刷版原版(15)を作成した。得られた平版印
刷版原版(15)の画像形成層は1.1g/m2乾燥塗布量を有していた。
Example 11
Preparation of lithographic printing plate precursor (15) A lithographic printing plate precursor (15) was prepared in the same manner as the lithographic printing plate precursor (14) except that the image forming layer coating solution (14) was changed to the image forming layer coating solution (15) shown below. 15) was created. The image forming layer of the obtained lithographic printing plate precursor (15) had a dry coating amount of 1.1 g / m 2 .

(画像形成層塗布液(15))
・上記バインダーポリマー(1) 0.54g
・重合性化合物 0.48g
イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート
(東亜合成(株)製、アロニックスM−315)
・上記増感色素(1) 0.06g
・上記重合開始剤(1) 0.18g
・上記連鎖移動剤(1) 0.07g
・ε―フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
(顔料:15質量部、分散剤 バインダーポリマー(1):10質量部、
溶剤 シクロヘキサノン/メトキシプロピルアセテート/1−メトキシ−
2−プロパノール=15質量部/20質量部/40質量部)
・熱重合禁止剤 0.01g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・上記水溶性フッ素系界面活性剤(1) 0.001g
・IM−454 0.05g
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
・メチルエチルケトン 8.0g
(Image forming layer coating solution (15))
・ Binder polymer (1) 0.54g
・ Polymerizable compound 0.48g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., Aronix M-315)
-0.06 g of the above sensitizing dye (1)
・ The above polymerization initiator (1) 0.18 g
・ The chain transfer agent (1) 0.07 g
・ 0.40 g of ε-phthalocyanine pigment dispersion
(Pigment: 15 parts by mass, dispersant Binder polymer (1): 10 parts by mass,
Solvent cyclohexanone / methoxypropyl acetate / 1-methoxy-
2-propanol = 15 parts by mass / 20 parts by mass / 40 parts by mass)
・ Thermal polymerization inhibitor 0.01g
N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt-The above water-soluble fluorosurfactant (1) 0.001 g
・ IM-454 0.05g
・ 3.5 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Methyl ethyl ketone 8.0g

〔実施例12〕
平版印刷版原版(16)の作成
画像形成層塗布液(14)を以下に示す画像形成層塗布液(16)に変更した以外は平
版印刷版原版(14)と同様にして平版印刷版原版(16)を作成した。得られた平版印
刷版原版(16)の画像形成層は1.2g/m2乾燥塗布量を有していた。
Example 12
Preparation of lithographic printing plate precursor (16) A lithographic printing plate precursor (14) was prepared in the same manner as the lithographic printing plate precursor (14) except that the image forming layer coating solution (14) was changed to the image forming layer coating solution (16) shown below. 16) was prepared. The image forming layer of the obtained lithographic printing plate precursor (16) had a dry coating amount of 1.2 g / m 2 .

(画像形成層塗布液(16))
・上記バインダーポリマー(1) 0.54g
・上記増感色素(1) 0.06g
・上記重合開始剤(1) 0.18g
・上記連鎖移動剤(1) 0.07g
・ε―フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
(顔料:15質量部、分散剤 バインダーポリマー(1):10質量部、
溶剤 シクロヘキサノン/メトキシプロピルアセテート/1−メトキシ−
2−プロパノール=15質量部/20質量部/40質量部)
・熱重合禁止剤 0.01g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・上記水溶性フッ素系界面活性剤(1) 0.001g
・IM−580 0.53g
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
・メチルエチルケトン 8.0g
(Image forming layer coating solution (16))
・ Binder polymer (1) 0.54g
-0.06 g of the above sensitizing dye (1)
・ The above polymerization initiator (1) 0.18 g
・ The chain transfer agent (1) 0.07 g
・ 0.40 g of ε-phthalocyanine pigment dispersion
(Pigment: 15 parts by mass, dispersant Binder polymer (1): 10 parts by mass,
Solvent cyclohexanone / methoxypropyl acetate / 1-methoxy-
2-propanol = 15 parts by mass / 20 parts by mass / 40 parts by mass)
・ Thermal polymerization inhibitor 0.01g
N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt-The above water-soluble fluorosurfactant (1) 0.001 g
・ IM-580 0.53g
・ 3.5 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Methyl ethyl ketone 8.0g

〔実施例13〕
平版印刷版原版(17)の作成
画像形成層塗布液(14)を以下に示す画像形成層塗布液(17)に変更した以外は平
版印刷版原版(14)と同様にして平版印刷版原版(17)を作成した。得られた平版印
刷版原版(17)の画像形成層は1.1g/m2乾燥塗布量を有していた。
Example 13
Preparation of lithographic printing plate precursor (17) A lithographic printing plate precursor (14) was prepared in the same manner as the lithographic printing plate precursor (14) except that the image forming layer coating solution (14) was changed to the image forming layer coating solution (17) shown below. 17) was created. The image forming layer of the resulting lithographic printing plate precursor (17) had a dry coating amount of 1.1 g / m 2 .

(画像形成層塗布液(17))
・上記バインダーポリマー(1) 0.54g
・重合性化合物 0.30g
イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート
(東亜合成(株)製、アロニックスM−315)
・上記増感色素(1) 0.06g
・上記重合開始剤(1) 0.18g
・上記連鎖移動剤(1) 0.07g
・ε―フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
(顔料:15質量部、分散剤 バインダーポリマー(1):10質量部、溶
剤 シクロヘキサノン/メトキシプロピルアセテート/1−メトキシ−2
−プロパノール=15質量部/20質量部/40質量部)
・熱重合禁止剤 0.01g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・上記水溶性フッ素系界面活性剤(1) 0.001g
・IM−046 0.23g
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
・メチルエチルケトン 8.0g
(Image forming layer coating solution (17))
・ Binder polymer (1) 0.54g
・ Polymerizable compound 0.30g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., Aronix M-315)
-0.06 g of the above sensitizing dye (1)
・ The above polymerization initiator (1) 0.18 g
・ The chain transfer agent (1) 0.07 g
・ 0.40 g of ε-phthalocyanine pigment dispersion
(Pigment: 15 parts by mass, dispersant Binder polymer (1): 10 parts by mass, dissolved
Agent Cyclohexanone / Methoxypropyl Acetate / 1-Methoxy-2
-Propanol = 15 parts by mass / 20 parts by mass / 40 parts by mass)
・ Thermal polymerization inhibitor 0.01g
N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt-The above water-soluble fluorosurfactant (1) 0.001 g
・ IM-046 0.23g
・ 3.5 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Methyl ethyl ketone 8.0g

〔実施例14〕
平版印刷版原版(18)の作成
画像形成層塗布液(14)を以下に示す画3.5g像形成層塗布液(18)に変更した
以外は平版印刷版原版(14)と同様にして平版印刷版原版(18)を作成した。得られ
た平版印刷版原版(18)の画像形成層は1.1g/m2乾燥塗布量を有していた。
Example 14
Preparation of the lithographic printing plate precursor (18) The lithographic printing plate precursor (14) was prepared in the same manner as the lithographic printing plate precursor (14) except that the image forming layer coating solution (14) was changed to the 3.5 g image forming layer coating solution (18) shown below. A printing plate precursor (18) was prepared. The image forming layer of the obtained lithographic printing plate precursor (18) had a dry coating amount of 1.1 g / m 2 .

(画像形成層塗布液(18))
・上記バインダーポリマー(1) 0.54g
・重合性化合物 0.40g
イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート
(東亜合成(株)製、アロニックスM−315)
・重合性化合物 0.08g
エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート
(日本化薬(株)製、SR9035、EO付加モル数15、
分子量 1000)
・上記増感色素(1) 0.06g
・上記重合開始剤(1) 0.18g
・上記連鎖移動剤(1) 0.07g
・ε―フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
(顔料:15質量部、分散剤 バインダーポリマー(1):10質量部、
溶剤 シクロヘキサノン/メトキシプロピルアセテート/
1−メトキシ−2−プロパノール
=15質量部/20質量部/40質量部)
・熱重合禁止剤 0.01g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・上記水溶性フッ素系界面活性剤(1) 0.001g
・IM−029 0.23g
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
・メチルエチルケトン 8.0g
(Image forming layer coating solution (18))
・ Binder polymer (1) 0.54g
・ Polymerizable compound 0.40g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., Aronix M-315)
・ Polymerizable compound 0.08g
Ethoxylated trimethylolpropane triacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., SR9035, EO addition mole number 15,
Molecular weight 1000)
-0.06 g of the above sensitizing dye (1)
・ The above polymerization initiator (1) 0.18 g
・ The chain transfer agent (1) 0.07 g
・ 0.40 g of ε-phthalocyanine pigment dispersion
(Pigment: 15 parts by mass, dispersant Binder polymer (1): 10 parts by mass,
Solvent cyclohexanone / methoxypropyl acetate /
1-methoxy-2-propanol
= 15 parts by mass / 20 parts by mass / 40 parts by mass)
・ Thermal polymerization inhibitor 0.01g
N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt-The above water-soluble fluorosurfactant (1) 0.001 g
・ IM-029 0.23g
・ 3.5 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Methyl ethyl ketone 8.0g

〔比較例5〕
平版印刷版原版(19)の作成
画像形成層塗布液(14)を以下に示す画像形成層塗布液(19)に変更した以外は平
版印刷版原版(14)と同様にして平版印刷版原版(19)を作成した。得られた平版印
刷版原版(19)の画像形成層は1.0g/m2乾燥塗布量を有していた。
[Comparative Example 5]
Preparation of lithographic printing plate precursor (19) A lithographic printing plate precursor (14) was prepared in the same manner as the lithographic printing plate precursor (14) except that the image forming layer coating solution (14) was changed to the image forming layer coating solution (19) shown below. 19) was created. The image forming layer of the obtained lithographic printing plate precursor (19) had a dry coating amount of 1.0 g / m 2 .

(画像形成層塗布液(19))
・上記バインダーポリマー(1) 0.54g
・重合性化合物 0.40g
イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート
(東亜合成(株)製、アロニックスM−315)
・重合性化合物 0.08g
エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート
(日本化薬(株)製、SR9035、EO付加モル数15、
分子量 1000)
・下記増感色素(1) 0.06g
・下記重合開始剤(1) 0.07g
・ε−フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
(顔料:15質量部、分散剤 バインダーポリマー(1):10質量部、
溶剤 シクロヘキサノン/メトキシプロピルアセテート
/1−メトキシ−2−プロパノール
=15質量部/20質量部/40質量部)
・熱重合禁止剤 0.01g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・下記水溶性フッ素系界面活性剤(1) 0.001g
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
・メチルエチルケトン 8.0g
(Image forming layer coating solution (19))
・ Binder polymer (1) 0.54g
・ Polymerizable compound 0.40g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., Aronix M-315)
・ Polymerizable compound 0.08g
Ethoxylated trimethylolpropane triacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., SR9035, EO addition mole number 15,
Molecular weight 1000)
・ The following sensitizing dye (1) 0.06 g
-0.07 g of the following polymerization initiator (1)
・ 0.40 g of ε-phthalocyanine pigment dispersion
(Pigment: 15 parts by mass, dispersant Binder polymer (1): 10 parts by mass,
Solvent cyclohexanone / methoxypropyl acetate
/ 1-methoxy-2-propanol
= 15 parts by mass / 20 parts by mass / 40 parts by mass)
・ Thermal polymerization inhibitor 0.01g
N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt ・ The following water-soluble fluorosurfactant (1) 0.001 g
・ 3.5 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Methyl ethyl ketone 8.0g

〔実施例15〕
平版印刷版原版(20)の作成
上記画像形成層塗布液(14)を下記組成の画像形成層塗布液(20)に変更した以外
は、平版印刷版原版(14)の作製と同様にして、平版印刷版原版(20)を得た。得ら
れた平版印刷版原版(20)の画像形成層は1.1g/m2乾燥塗布量を有していた。
Example 15
Preparation of lithographic printing plate precursor (20) Except for changing the image forming layer coating solution (14) to an image forming layer coating solution (20) having the following composition, the same procedure as in the preparation of the lithographic printing plate precursor (14) was performed. A lithographic printing plate precursor (20) was obtained. The image forming layer of the obtained lithographic printing plate precursor (20) had a dry coating amount of 1.1 g / m 2 .

<画像形成層塗布液(20)>
・上記重合開始剤(1) 0.20g
・上記増感色素(1) 0.10g
・上記バインダーポリマー(1) 3.00g
・重合性化合物 6.20g
イソシアヌル酸EO変性ジアクリレート
(東亜合成(株)製アロニックスM−215)
・ロイコクリスタルバイオレット 0.20g
・上記のフッ素系界面活性剤(1) 0.10g
・下記のマイクロカプセル液(3) 25.00g
・IM−039 0.11g
・メチルエチルケトン 35.00g
・1−メトキシ−2−プロパノール 35.00g
<Image forming layer coating solution (20)>
・ The above polymerization initiator (1) 0.20 g
-Sensitizing dye (1) 0.10 g
・ Binder polymer (1) 3.00 g
・ Polymerizable compound 6.20 g
Isocyanuric acid EO-modified diacrylate (Aronix M-215 manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)
・ Royco Crystal Violet 0.20g
・ 0.10 g of the above-mentioned fluorosurfactant (1)
・ The following microcapsule liquid (3) 25.00 g
・ IM-039 0.11g
・ Methyl ethyl ketone 35.00g
・ 1-methoxy-2-propanol 35.00g

(マイクロカプセル(3)の合成)
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井武
田ケミカル(株)製、タケネートD−110N)10g、イソシアヌル酸EO変性ジアクリ
レート(東亜合成(株)製アロニックスM−215)4.15g、およびパイオニンA−
41C(竹本油脂(株)製)0.1gを酢酸エチル17gに溶解した。水相成分としてPV
A−205の4質量%水溶液40gを調製した。油相成分および水相成分を混合し、ホモ
ジナイザーを用いて12000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水2
5gに添加し、室温で30分攪拌後、40℃で3時間攪拌した。このようにして得られた
マイクロカプセル液(3)の固形分濃度を、20質量%になるように蒸留水を用いて希釈
した。平均粒径は0.25μmであった。
(Synthesis of microcapsule (3))
As oil phase components, trimethylolpropane and xylene diisocyanate adduct (Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd., Takenate D-110N) 10 g, isocyanuric acid EO-modified diacrylate (Toa Gosei Co., Ltd. Aronix M-215) 4 .15 g, and Pionein A-
0.1 g of 41C (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) was dissolved in 17 g of ethyl acetate. PV as water phase component
40 g of a 4% by mass aqueous solution of A-205 was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to distilled water 2
The mixture was added to 5 g, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 40 ° C. for 3 hours. The microcapsule liquid (3) thus obtained was diluted with distilled water so that the solid content concentration became 20% by mass. The average particle size was 0.25 μm.

〔実施例16〕
平版印刷版原版(21)の作成
上記画像形成層塗布液(14)を下記組成の画像形成層塗布液(21)に変更した以外
は、平版印刷版原版(14)の作製と同様にして、平版印刷版原版(21)を得た。得ら
れた平版印刷版原版(21)の画像形成層は1.2g/m2乾燥塗布量を有していた。
Example 16
Preparation of lithographic printing plate precursor (21) Except that the image forming layer coating solution (14) was changed to an image forming layer coating solution (21) having the following composition, the same procedure as in the preparation of the lithographic printing plate precursor (14) was performed. A lithographic printing plate precursor (21) was obtained. The image forming layer of the obtained lithographic printing plate precursor (21) had a dry coating amount of 1.2 g / m 2 .

<画像形成層塗布液(21)>
・上記重合開始剤(1) 0.20g
・上記増感色素(1) 0.10g
・上記バインダーポリマー(1) 3.00g
・重合性化合物 6.00g
イソシアヌル酸EO変性ジアクリレート
(東亜合成(株)製アロニックスM−215)
・ロイコクリスタルバイオレット 0.20g
・上記のフッ素系界面活性剤(1) 0.10g
・上記のマイクロカプセル液(3) 25.00g
・IM−521 0.31g
・メチルエチルケトン 35.00g
・1−メトキシ−2−プロパノール 35.00g
<Image forming layer coating solution (21)>
・ The above polymerization initiator (1) 0.20 g
-Sensitizing dye (1) 0.10 g
・ Binder polymer (1) 3.00 g
・ Polymerizable compound 6.00 g
Isocyanuric acid EO-modified diacrylate (Aronix M-215 manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)
・ Royco Crystal Violet 0.20g
・ 0.10 g of the above-mentioned fluorosurfactant (1)
・ The above microcapsule liquid (3) 25.00 g
・ IM-521 0.31g
・ Methyl ethyl ketone 35.00g
・ 1-methoxy-2-propanol 35.00g

〔実施例17〕
平版印刷版原版(22)の作成
上記画像形成層塗布液(14)を下記組成の画像形成層塗布液(22)に変更した以外
は、平版印刷版原版(14)の作製と同様にして、平版印刷版原版(22)を得た。得ら
れた平版印刷版原版(22)の画像形成層は1.1g/m2乾燥塗布量を有していた。
Example 17
Preparation of lithographic printing plate precursor (22) Except that the image forming layer coating solution (14) was changed to an image forming layer coating solution (22) having the following composition, the same procedure as in the preparation of the lithographic printing plate precursor (14) was performed. A lithographic printing plate precursor (22) was obtained. The image forming layer of the obtained lithographic printing plate precursor (22) had a dry coating amount of 1.1 g / m 2 .

<画像形成層塗布液(22)>
・上記重合開始剤(1) 0.20g
・上記増感色素(1) 0.10g
・上記バインダーポリマー(1) 3.00g
・重合性化合物 5.80g
イソシアヌル酸EO変性ジアクリレート
(東亜合成(株)製アロニックスM−215)
・ロイコクリスタルバイオレット 0.20g
・上記のフッ素系界面活性剤(1) 0.10g
・上記のマイクロカプセル液(3) 35.00g
・IM−366 0.51g
・メチルエチルケトン 35.00g
・1−メトキシ−2−プロパノール 35.00g
<Image forming layer coating solution (22)>
・ The above polymerization initiator (1) 0.20 g
-Sensitizing dye (1) 0.10 g
・ Binder polymer (1) 3.00 g
・ Polymerizable compound 5.80 g
Isocyanuric acid EO-modified diacrylate (Aronix M-215 manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)
・ Royco Crystal Violet 0.20g
・ 0.10 g of the above-mentioned fluorosurfactant (1)
・ The above microcapsule liquid (3) 35.00 g
・ IM-366 0.51g
・ Methyl ethyl ketone 35.00g
・ 1-methoxy-2-propanol 35.00g

〔実施例18〕
平版印刷版原版(23)の作成
上記画像形成層塗布液(14)を下記組成の画像形成層塗布液(23)に変更した以外
は、平版印刷版原版(14)の作製と同様にして、平版印刷版原版(23)を得た。得ら
れた平版印刷版原版(23)の画像形成層は1.2g/m2乾燥塗布量を有していた。
Example 18
Preparation of lithographic printing plate precursor (23) Except that the image forming layer coating solution (14) was changed to the image forming layer coating solution (23) having the following composition, A lithographic printing plate precursor (23) was obtained. The image forming layer of the obtained lithographic printing plate precursor (23) had a dry coating amount of 1.2 g / m 2 .

<画像形成層塗布液(23)>
・上記重合開始剤(1) 0.20g
・上記増感色素(1) 0.10g
・上記バインダーポリマー(1)
・ロイコクリスタルバイオレット 0.20g
・上記のフッ素系界面活性剤(1) 0.10g
・上記のマイクロカプセル液(3) 25.00g
・IM−615 6.31g
・メチルエチルケトン 35.00g
・1−メトキシ−2−プロパノール 35.00g
<Image forming layer coating solution (23)>
・ The above polymerization initiator (1) 0.20 g
-Sensitizing dye (1) 0.10 g
・ Binder polymer (1)
・ Royco Crystal Violet 0.20g
・ 0.10 g of the above-mentioned fluorosurfactant (1)
・ The above microcapsule liquid (3) 25.00 g
・ IM-615 6.31g
・ Methyl ethyl ketone 35.00g
・ 1-methoxy-2-propanol 35.00g

〔比較例6〕
平版印刷版原版(24)の作成
上記画像形成層塗布液(14)を下記組成の画像形成層塗布液(24)に変更した以外
は、平版印刷版原版(14)の作製と同様にして、平版印刷版原版(24)を得た。得ら
れた平版印刷版原版(24)の画像形成層は1.0g/m2乾燥塗布量を有していた。
[Comparative Example 6]
Preparation of lithographic printing plate precursor (24) Except that the image forming layer coating solution (14) was changed to an image forming layer coating solution (24) having the following composition, A lithographic printing plate precursor (24) was obtained. The image forming layer of the obtained lithographic printing plate precursor (24) had a dry coating amount of 1.0 g / m 2 .

<画像形成層塗布液(24)>
・上記重合開始剤(1) 0.20g
・上記増感色素(1) 0.10g
・上記バインダーポリマー(1) 3.00g
・重合性化合物 6.00g
イソシアヌル酸EO変性ジアクリレート
(東亜合成(株)製アロニックスM−215)
・ロイコクリスタルバイオレット 0.20g
・上記のフッ素系界面活性剤(1) 0.10g
・上記のマイクロカプセル液(3) 25.00g
・メチルエチルケトン 35.00g
・1−メトキシ−2−プロパノール 35.00g
<Image forming layer coating solution (24)>
・ The above polymerization initiator (1) 0.20 g
-Sensitizing dye (1) 0.10 g
・ Binder polymer (1) 3.00 g
・ Polymerizable compound 6.00 g
Isocyanuric acid EO-modified diacrylate (Aronix M-215 manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)
・ Royco Crystal Violet 0.20g
・ 0.10 g of the above-mentioned fluorosurfactant (1)
・ The above microcapsule liquid (3) 25.00 g
・ Methyl ethyl ketone 35.00g
・ 1-methoxy-2-propanol 35.00g

〔実施例19〕
平版印刷版原版(25)の作成
上記画像形成層塗布液(14)を下記組成の画像形成層塗布液(25)に変更し、上記
保護層塗布液(2)を下記組成の保護層塗布液(3)に変更し、乾燥塗布量が0.2g/
2となるようにバーを用いて塗布した以外は、平版印刷版原版(14)の作製と同様に
して、平版印刷版原版(25)を得た。得られた平版印刷版原版(25)の画像形成層は
1.1g/m2乾燥塗布量を有していた。
Example 19
Preparation of planographic printing plate precursor (25) The image forming layer coating solution (14) is changed to an image forming layer coating solution (25) having the following composition, and the protective layer coating solution (2) is protected layer having the following composition. Change to (3), the dry coating amount is 0.2 g /
A lithographic printing plate precursor (25) was obtained in the same manner as in the production of the lithographic printing plate precursor (14) except that it was applied using a bar so as to be m 2 . The image forming layer of the resulting lithographic printing plate precursor (25) had a dry coating amount of 1.1 g / m 2 .

<画像形成層塗布液(25)>
・上記バインダーポリマー(1) 0.54g
・重合性化合物 0.25g
イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート
(東亜合成(株)製、アロニックスM−315)
・上記増感色素(1) 0.06g
・上記重合開始剤(1) 0.18g
・上記連鎖移動剤(1) 0.07g
・ε―フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
(顔料:15質量部、分散剤 バインダーポリマー(1):10質量部、
溶剤 シクロヘキサノン/メトキシプロピルアセテート
/1−メトキシ−2−プロパノール
=15質量部/20質量部/40質量部)
・熱重合禁止剤 0.01g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・上記水溶性フッ素系界面活性剤(1) 0.001g
・IM−573 0.28g
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
・メチルエチルケトン 8.0g
<Image forming layer coating solution (25)>
・ Binder polymer (1) 0.54g
・ Polymerizable compound 0.25g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., Aronix M-315)
-0.06 g of the above sensitizing dye (1)
・ The above polymerization initiator (1) 0.18 g
・ The chain transfer agent (1) 0.07 g
・ 0.40 g of ε-phthalocyanine pigment dispersion
(Pigment: 15 parts by mass, dispersant Binder polymer (1): 10 parts by mass,
Solvent cyclohexanone / methoxypropyl acetate
/ 1-methoxy-2-propanol
= 15 parts by mass / 20 parts by mass / 40 parts by mass)
・ Thermal polymerization inhibitor 0.01g
N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt-The above water-soluble fluorosurfactant (1) 0.001 g
・ IM-573 0.28g
・ 3.5 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Methyl ethyl ketone 8.0g

保護層塗布液(3)
・下記雲母分散液(1) 13.00g
・ポリビニルアルコール(ケン化度98モル%、重合度500) 1.30g
・2−エチルヘキシルスルホコハク酸ソーダ 0.20g
・ポリ(ビニルピロリドン/酢酸ビニル=1/1)分子量7万 0.05g
・界面活性剤(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製) 0.05g
・水 33.00g
Protective layer coating solution (3)
・ The following mica dispersion (1): 13.00 g
Polyvinyl alcohol (saponification degree 98 mol%, polymerization degree 500) 1.30 g
-Sodium 2-ethylhexyl sulfosuccinate 0.20 g
・ Poly (vinyl pyrrolidone / vinyl acetate = 1/1) molecular weight 70,000 g
・ Surfactant (Emalex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.) 0.05g
・ Water 33.00g

(雲母分散液(1)の調製)
水368gに合成雲母(「ソマシフME−100」:コープケミカル社製、アスペクト
比:1000以上)32gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法
)0.5μmになるまで分散し、雲母分散液(1)を得た。
(Preparation of mica dispersion (1))
To 368 g of water, 32 g of synthetic mica (“Somasif ME-100”: manufactured by Co-op Chemical Co., Ltd., aspect ratio: 1000 or more) is added and dispersed using an homogenizer until the average particle size (laser scattering method) is 0.5 μm. A mica dispersion (1) was obtained.

〔実施例20〕
平版印刷版原版(26)の作成
上記画像形成層塗布液(25)を下記組成の画像形成層塗布液(26)に変更した以外
は、平版印刷版原版(25)の作製と同様にして、平版印刷版原版(26)を得た。得ら
れた平版印刷版原版(26)の画像形成層は1.2g/m2乾燥塗布量を有していた。
Example 20
Preparation of lithographic printing plate precursor (26) Except that the image forming layer coating solution (25) was changed to an image forming layer coating solution (26) having the following composition, the production of the lithographic printing plate precursor (25) was performed, A lithographic printing plate precursor (26) was obtained. The image forming layer of the obtained lithographic printing plate precursor (26) had a dry coating amount of 1.2 g / m 2 .

<画像形成層塗布液(26)>
・上記バインダーポリマー(1) 0.54g
・重合性化合物 0.30g
イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート
(東亜合成(株)製、アロニックスM−315)
・上記増感色素(1) 0.06g
・上記重合開始剤(1) 0.18g
・上記連鎖移動剤(1) 0.07g
・ε−フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
(顔料:15質量部、分散剤 バインダーポリマー(1):10質量部、
溶剤 シクロヘキサノン/メトキシプロピルアセテート
/1−メトキシ−2−プロパノール
=15質量部/20質量部/40質量部)
・熱重合禁止剤 0.01g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・上記水溶性フッ素系界面活性剤(1) 0.001g
・IM−611 0.23g
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
・メチルエチルケトン 8.0g
<Image forming layer coating solution (26)>
・ Binder polymer (1) 0.54g
・ Polymerizable compound 0.30g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., Aronix M-315)
-0.06 g of the above sensitizing dye (1)
・ The above polymerization initiator (1) 0.18 g
・ The chain transfer agent (1) 0.07 g
・ 0.40 g of ε-phthalocyanine pigment dispersion
(Pigment: 15 parts by mass, dispersant Binder polymer (1): 10 parts by mass,
Solvent cyclohexanone / methoxypropyl acetate
/ 1-methoxy-2-propanol
= 15 parts by mass / 20 parts by mass / 40 parts by mass)
・ Thermal polymerization inhibitor 0.01g
N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt-The above water-soluble fluorosurfactant (1) 0.001 g
・ IM-611 0.23g
・ 3.5 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Methyl ethyl ketone 8.0g

〔実施例21〕
平版印刷版原版(27)の作成
上記画像形成層塗布液(25)を下記組成の画像形成層塗布液(27)に変更した以外
は、平版印刷版原版(25)の作製と同様にして、平版印刷版原版(27)を得た。得ら
れた平版印刷版原版(27)の画像形成層は1.1g/m2乾燥塗布量を有していた。
Example 21
Preparation of lithographic printing plate precursor (27) Except that the image forming layer coating solution (25) was changed to an image forming layer coating solution (27) having the following composition, A lithographic printing plate precursor (27) was obtained. The image forming layer of the resulting lithographic printing plate precursor (27) had a dry coating amount of 1.1 g / m 2 .

<画像形成層塗布液(27)>
・上記バインダーポリマー(1) 0.54g
・重合性化合物 0.40g
イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート
(東亜合成(株)製、アロニックスM−315)
・上記増感色素(1) 0.06g
・上記重合開始剤(1) 0.18g
・上記連鎖移動剤(1) 0.07g
・ε−フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
(顔料:15質量部、分散剤 バインダーポリマー(1):10質量部、
溶剤 シクロヘキサノン/メトキシプロピルアセテート
/1−メトキシ−2−プロパノール
=15質量部/20質量部/40質量部)
・熱重合禁止剤 0.01g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・上記水溶性フッ素系界面活性剤(1) 0.001g
・IM−667 0.13g
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
・メチルエチルケトン 8.0g
<Image forming layer coating solution (27)>
・ Binder polymer (1) 0.54g
・ Polymerizable compound 0.40g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., Aronix M-315)
-0.06 g of the above sensitizing dye (1)
・ The above polymerization initiator (1) 0.18 g
・ The chain transfer agent (1) 0.07 g
・ 0.40 g of ε-phthalocyanine pigment dispersion
(Pigment: 15 parts by mass, dispersant Binder polymer (1): 10 parts by mass,
Solvent cyclohexanone / methoxypropyl acetate
/ 1-methoxy-2-propanol
= 15 parts by mass / 20 parts by mass / 40 parts by mass)
・ Thermal polymerization inhibitor 0.01g
N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt-The above water-soluble fluorosurfactant (1) 0.001 g
・ IM-667 0.13g
・ 3.5 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Methyl ethyl ketone 8.0g

〔比較例7〕
平版印刷版原版(28)の作成
上記画像形成層塗布液(25)を下記組成の画像形成層塗布液(28)に変更した以外
は、平版印刷版原版(25)の作製と同様にして、平版印刷版原版(28)を得た。得ら
れた平版印刷版原版(28)の画像形成層は1.1g/m2乾燥塗布量を有していた。
[Comparative Example 7]
Preparation of lithographic printing plate precursor (28) Except for changing the image forming layer coating solution (25) to an image forming layer coating solution (28) having the following composition, A lithographic printing plate precursor (28) was obtained. The image forming layer of the obtained lithographic printing plate precursor (28) had a dry coating amount of 1.1 g / m 2 .

<画像形成層塗布液(28)>
・上記バインダーポリマー(1) 0.54g
・重合性化合物 0.53g
イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート
(東亜合成(株)製、アロニックスM−315)
・上記増感色素(1) 0.06g
・上記重合開始剤(1) 0.18g
・上記連鎖移動剤(1) 0.07g
・ε−フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
(顔料:15質量部、分散剤 バインダーポリマー(1):10質量部、
溶剤 シクロヘキサノン/メトキシプロピルアセテート
/1−メトキシ−2−プロパノール
=15質量部/20質量部/40質量部)
・熱重合禁止剤 0.01g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・上記水溶性フッ素系界面活性剤(1) 0.001g
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
・メチルエチルケトン 8.0g
<Image forming layer coating solution (28)>
・ Binder polymer (1) 0.54g
・ Polymerizable compound 0.53g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., Aronix M-315)
-0.06 g of the above sensitizing dye (1)
・ The above polymerization initiator (1) 0.18 g
・ The chain transfer agent (1) 0.07 g
・ 0.40 g of ε-phthalocyanine pigment dispersion
(Pigment: 15 parts by mass, dispersant Binder polymer (1): 10 parts by mass,
Solvent cyclohexanone / methoxypropyl acetate
/ 1-methoxy-2-propanol
= 15 parts by mass / 20 parts by mass / 40 parts by mass)
・ Thermal polymerization inhibitor 0.01g
N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt-The above water-soluble fluorosurfactant (1) 0.001 g
・ 3.5 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Methyl ethyl ketone 8.0g

〔実施例22〕
平版印刷版原版(29)の作成
下記支持体3上に、下記組成の画像形成層塗布液(29)をバー塗布した後、70℃、
60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.1g/m2の画像形成層を形成し、この上に上記
組成よりなる保護層塗布液(2)を、乾燥塗布量が0.75g/m2となるようにバーを
用いて塗布した後、125℃、70秒で間乾燥して平版印刷版原版(29)を得た。
[Example 22]
Preparation of lithographic printing plate precursor (29) On the following support 3, an image forming layer coating solution (29) having the following composition was applied by bar coating, followed by 70 ° C,
Oven-dried in 60 seconds to form an image forming layer having a dry coating amount of 1.1 g / m 2 , and a protective layer coating solution (2) having the above composition is formed on the image forming layer, and the dry coating amount is 0.75 g / m 2. After coating using a bar, the plate was dried at 125 ° C. for 70 seconds to obtain a lithographic printing plate precursor (29).

<画像形成層塗布液(29)>
・下記バインダーポリマー(1) 0.54g
・重合性化合物 0.40g
イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート
(東亜合成(株)製、アロニックスM−315)
・重合性化合物 0.08g
エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート
(日本化薬(株)製、SR9035、EO付加モル数15、
分子量1000)
・下記増感色素(1) 0.06g
・下記重合開始剤(1) 0.18g
・下記連鎖移動剤(1) 0.07g
・ε―フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
(顔料:15質量部、分散剤 バインダーポリマー(1):10質量部、
溶剤 シクロヘキサノン/メトキシプロピルアセテート
/1−メトキシ−2−プロパノール
=15質量部/20質量部/40質量部)
・熱重合禁止剤 0.01g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・下記水溶性フッ素系界面活性剤(1) 0.001g
・IM−021 0.05g
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
・メチルエチルケトン 8.0g
<Image forming layer coating solution (29)>
-0.54g of the following binder polymer (1)
・ Polymerizable compound 0.40g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., Aronix M-315)
・ Polymerizable compound 0.08g
Ethoxylated trimethylolpropane triacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., SR9035, EO addition mole number 15,
Molecular weight 1000)
・ The following sensitizing dye (1) 0.06 g
・ The following polymerization initiator (1) 0.18 g
・ The following chain transfer agent (1) 0.07 g
・ 0.40 g of ε-phthalocyanine pigment dispersion
(Pigment: 15 parts by mass, dispersant Binder polymer (1): 10 parts by mass,
Solvent cyclohexanone / methoxypropyl acetate / 1-methoxy-2-propanol = 15 parts by mass / 20 parts by mass / 40 parts by mass)
・ Thermal polymerization inhibitor 0.01g
N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt ・ The following water-soluble fluorosurfactant (1) 0.001 g
・ IM-021 0.05g
・ 3.5 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Methyl ethyl ketone 8.0g

支持体3の作製
厚さ0.3mmのアルミニウム板を10質量%水酸化ナトリウムに60℃で25秒間浸
漬してエッチングし、流水で水洗後、20質量%硝酸で中和洗浄し、次いで水洗した。こ
れを正弦波の交番波形電流を用いて1質量%硝酸水溶液中で300クーロン/dm2の陽
極時電気量で電解粗面化処理を行った。引き続いて1質量%水酸化ナトリウム水溶液中に
40℃で5秒間浸漬後30質量%の硫酸水溶液中に浸漬し、60℃で40秒間デスマット
処理した後、20質量%硫酸水溶液中、電流密度2A/dm2の条件で陽極酸化皮膜の厚
さが2.7g/m2になるように、2分間陽極酸化処理した。その表面の中心線平均粗さ
(Ra)を測定したところ、0.3μmであった。
Production of Support 3 An aluminum plate having a thickness of 0.3 mm was etched by being immersed in 10% by weight sodium hydroxide at 60 ° C. for 25 seconds, washed with running water, neutralized and washed with 20% by weight nitric acid, and then washed with water. . This was subjected to an electrolytic surface roughening treatment in a 1% by mass nitric acid aqueous solution using a sinusoidal alternating waveform current at an anode time electricity of 300 coulomb / dm 2 . Subsequently, after dipping in a 1% by mass aqueous sodium hydroxide solution at 40 ° C. for 5 seconds and then in a 30% by mass sulfuric acid aqueous solution and desmutting at 60 ° C. for 40 seconds, the current density in a 20% by mass sulfuric acid aqueous solution was 2A / current density. Anodization was performed for 2 minutes so that the thickness of the anodized film was 2.7 g / m 2 under the condition of dm 2 . The centerline average roughness (Ra) of the surface was measured and found to be 0.3 μm.

このように処理されたアルミニウム板に、下記下塗り液(2)をバー塗布した後、80
℃、20秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量が10mg/m2になるよう塗布し、支持体を作
製した。
After applying the following undercoat liquid (2) to the aluminum plate thus treated with a bar, 80
It was oven-dried at 20 ° C. for 20 seconds, and coated so that the dry coating amount was 10 mg / m 2 to prepare a support.

下塗り液(2)
・下記ゾル液 100g
・メタノール 900g
Undercoat liquid (2)
・ 100g of the following sol solution
・ Methanol 900g

(ゾル液)
・ホスマーPE(ユニケミカル(株)製) 5g
・メタノール 45g
・水 10g
・85質量%リン酸 5g
・テトラエトキシシラン 20g
・3−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン 15g
(Sol solution)
・ Hosmer PE (Unichemical Co., Ltd.) 5g
・ Methanol 45g
・ Water 10g
・ 85% phosphoric acid 5g
・ Tetraethoxysilane 20g
・ 3-Methacryloxypropyltrimethoxysilane 15g

〔実施例23〕
平版印刷版原版(30)作成
上記画像形成層塗布液(29)を下記組成の画像形成層塗布液(30)に変更した以外
は、平版印刷版原版(29)の作製と同様にして、平版印刷版原版(30)を得た。得ら
れた平版印刷版原版(30)の画像形成層は1.1g/m2乾燥塗布量を有していた。
Example 23
Preparation of lithographic printing plate precursor (30) A lithographic printing plate precursor (29) is prepared in the same manner as the preparation of a lithographic printing plate precursor (29) except that the image forming layer coating solution (29) is changed to an image forming layer coating solution (30) having the following composition. A printing plate precursor (30) was obtained. The image forming layer of the obtained lithographic printing plate precursor (30) had a dry coating amount of 1.1 g / m 2 .

<画像形成層塗布液(30)>
・上記バインダーポリマー(1) 0.54g
・重合性化合物 0.10g
イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート
(東亜合成(株)製、アロニックスM−315)
・上記増感色素(1) 0.06g
・上記重合開始剤(1) 0.18g
・上記連鎖移動剤(1) 0.07g
・ε−フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
(顔料:15質量部、分散剤 バインダーポリマー(1):10質量部、
溶剤 シクロヘキサノン/メトキシプロピルアセテート
/1−メトキシ−2−プロパノール
=15質量部/20質量部/40質量部)
・熱重合禁止剤 0.01g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・上記水溶性フッ素系界面活性剤(1) 0.001g
・IM−615 0.43g
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
・メチルエチルケトン 8.0g
<Image forming layer coating solution (30)>
・ Binder polymer (1) 0.54g
・ Polymerizable compound 0.10g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., Aronix M-315)
-0.06 g of the above sensitizing dye (1)
・ The above polymerization initiator (1) 0.18 g
・ The chain transfer agent (1) 0.07 g
・ 0.40 g of ε-phthalocyanine pigment dispersion
(Pigment: 15 parts by mass, dispersant Binder polymer (1): 10 parts by mass,
Solvent cyclohexanone / methoxypropyl acetate
/ 1-methoxy-2-propanol
= 15 parts by mass / 20 parts by mass / 40 parts by mass)
・ Thermal polymerization inhibitor 0.01g
N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt-The above water-soluble fluorosurfactant (1) 0.001 g
・ IM-615 0.43g
・ 3.5 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Methyl ethyl ketone 8.0g

〔比較例8〕
平版印刷版原版(31)作成
上記画像形成層塗布液(29)を下記組成の画像形成層塗布液(31)に変更した以外
は、平版印刷版原版(29)の作製と同様にして、平版印刷版原版(31)を得た。得ら
れた平版印刷版原版(31)の画像形成層は1.0g/m2乾燥塗布量を有していた。
[Comparative Example 8]
Preparation of lithographic printing plate precursor (31) A lithographic printing plate precursor (29) is prepared in the same manner as the preparation of a lithographic printing plate precursor (29) except that the image forming layer coating solution (29) is changed to an image forming layer coating solution (31) having the following composition. A printing plate precursor (31) was obtained. The image forming layer of the obtained lithographic printing plate precursor (31) had a dry coating amount of 1.0 g / m 2 .

<画像形成層塗布液(31)>
・上記バインダーポリマー(1) 0.54g
・重合性化合物 0.53g
イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート
(東亜合成(株)製、アロニックスM−315)
・上記増感色素(1) 0.06g
・上記重合開始剤(1) 0.18g
・上記連鎖移動剤(1) 0.07g
・ε−フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
(顔料:15質量部、分散剤 バインダーポリマー(1):10質量部、
溶剤 シクロヘキサノン/メトキシプロピルアセテート
/1−メトキシ−2−プロパノール
=15質量部/20質量部/40質量部)
・熱重合禁止剤 0.01g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・上記水溶性フッ素系界面活性剤(1) 0.001g
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
・メチルエチルケトン 8.0g
<Image forming layer coating solution (31)>
・ Binder polymer (1) 0.54g
・ Polymerizable compound 0.53g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., Aronix M-315)
-0.06 g of the above sensitizing dye (1)
・ The above polymerization initiator (1) 0.18 g
・ The chain transfer agent (1) 0.07 g
・ 0.40 g of ε-phthalocyanine pigment dispersion
(Pigment: 15 parts by mass, dispersant Binder polymer (1): 10 parts by mass,
Solvent cyclohexanone / methoxypropyl acetate
/ 1-methoxy-2-propanol
= 15 parts by mass / 20 parts by mass / 40 parts by mass)
・ Thermal polymerization inhibitor 0.01g
N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt-The above water-soluble fluorosurfactant (1) 0.001 g
・ 3.5 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Methyl ethyl ketone 8.0g

〔実施例10〜23、比較例5〜8〕
(1)露光、現像および印刷
上記平版印刷版原版(22)〜(44)各々について、出力100mWの405nm半
導体レーザーを用いて、エネルギー密度を変えて画像様露光を行った。
その後、下記組成の現像液(1)を用い、図1に示す構造の自動現像処理機にて、現像
処理を実施した。現像液のpHは、約5であった。自動現像処理機は、回転ブラシロール
を2本有する自動処理機であり、回転ブラシロールとしては、1本目のブラシロールに、
ポリブチレンテレフタレート製の繊維(毛の直径200μm、毛の長さ17mm)を植え
込んだ外径90mmのブラシロールを用い、搬送方向と同一方向に毎分200回転(ブラ
シの先端の周速0.94m/sec)させ、2本目のブラシロールには、ポリブチレンテ
レフタレート製の繊維(毛の直径200μm、毛の長さ17mm)を植え込んだ外径60
mmのブラシロールを用い、搬送方向と反対方向に毎分200回転(ブラシの先端の周速
0.63m/sec)させた。
現像液は、循環ポンプによりスプレーパイプからシャワーリングして、版面に供給した
。現像液のタンク容量は、10リットルであった。
[Examples 10 to 23, Comparative Examples 5 to 8]
(1) Exposure, development and printing For each of the above lithographic printing plate precursors (22) to (44), imagewise exposure was performed using a 405 nm semiconductor laser with an output of 100 mW while changing the energy density.
Thereafter, the developing solution (1) having the following composition was used, and development processing was carried out with an automatic developing processor having a structure shown in FIG. The pH of the developer was about 5. The automatic processor is an automatic processor having two rotating brush rolls, and the rotating brush roll is a first brush roll,
Using a 90 mm outer diameter brush roll in which fibers made of polybutylene terephthalate (hair diameter: 200 μm, hair length: 17 mm) were used, and rotated 200 times per minute in the same direction as the conveying direction (peripheral speed of the brush tip: 0.94 m) / Sec), and the second brush roll has an outer diameter 60 in which fibers made of polybutylene terephthalate (hair diameter 200 μm, hair length 17 mm) are implanted.
Using a brush roll of mm, it was rotated 200 times per minute in the direction opposite to the conveying direction (peripheral speed of the brush tip 0.63 m / sec).
The developer was showered from the spray pipe with a circulation pump and supplied to the plate surface. The tank capacity of the developer was 10 liters.

現像液(1)
・水 100.00g
・ベンジルアルコール 1.00g
・ポリオキシエチレンナフチルエーテル
(オキシエチレン平均数n=13) 1.00g
・ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩 0.50g
・アラビアガム 1.00g
・エチレングリコール 0.50g
・第1リン酸アンモニウム 0.05g
・クエン酸 0.05g
・エチレンジアミンテトラアセテート4ナトリウム塩 0.05g
Developer (1)
・ Water 100.00g
・ Benzyl alcohol 1.00g
・ Polyoxyethylene naphthyl ether (oxyethylene average number n = 13) 1.00 g
・ Dioctylsulfosuccinate sodium salt 0.50 g
・ Arabic gum 1.00g
・ Ethylene glycol 0.50g
・ Primary ammonium phosphate 0.05g
・ Citric acid 0.05g
・ Ethylenediaminetetraacetate tetrasodium salt 0.05g

次いで、現像後の平版印刷版を、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mに取り付け、湿
し水(EU−3(富士写真フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=
1/89/10(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(
株)製)とを用い、毎時6000枚の印刷速度で印刷を行った。
Subsequently, the developed lithographic printing plate is attached to a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg, and dampening water (EU-3 (Etchi solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) / Water / isopropyl alcohol =
1/89/10 (volume ratio)) and TRANS-G (N) black ink (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.)
And a printing speed of 6000 sheets per hour.

(2)評価
先に作製した平版印刷版原版を用いて、現像性、感度、耐刷性を下記のように評価した
。結果を表2に示す。
<現像性>
上記現像条件において、平版印刷版原版の非画像部を完全に除去するために必要な搬送
速度により現像性を評価した。搬送速度が速い程、現像性が高いことを示す。
<感度>
上記の通り100枚印刷を行って、非画像部にインキ汚れがない印刷物が得られたこと
を確認した後、続けて500枚の印刷を行った。合計600枚目の印刷物において、画像
部のインキ濃度にムラがない露光量を感度として計測した。
<耐刷性>
上述したように、印刷枚数を増やしていくと徐々に画像記録層が磨耗しインキ受容性が
低下するため、印刷用紙におけるインキ濃度が低下した。インキ濃度(反射濃度)が印刷
開始時よりも0.1低下したときの印刷枚数により、耐刷性を評価した。
(2) Evaluation Using the lithographic printing plate precursor prepared previously, the developability, sensitivity, and printing durability were evaluated as follows. The results are shown in Table 2.
<Developability>
Under the above development conditions, the developability was evaluated based on the conveyance speed necessary for completely removing the non-image portion of the lithographic printing plate precursor. The faster the conveyance speed, the higher the developability.
<Sensitivity>
After 100 sheets were printed as described above and it was confirmed that a printed matter having no ink stains in the non-image area was obtained, 500 sheets were printed continuously. In the total 600th printed matter, the exposure amount with no unevenness in the ink density in the image area was measured as sensitivity.
<Print durability>
As described above, as the number of printed sheets is increased, the image recording layer gradually wears and the ink acceptability is lowered, so that the ink density in the printing paper is lowered. Printing durability was evaluated by the number of printed sheets when the ink density (reflection density) was reduced by 0.1 from the start of printing.

〔実施例24〕
平版印刷版原版(14)を、実施例10と同様に画像露光を行った後、30秒以内に、平版印刷版原版をオーブンに入れ、熱風を吹き付けて平版印刷版原版の全面を加熱し、110℃に、15秒間保持した。その後、30秒以内に、実施例10と同様の現像処理及び印刷を実施した。
加熱処理することで、現像性は130cm/minと変化せず、感度は0.05mJ/cmとなり、耐刷性は11万枚になった。
Example 24
The lithographic printing plate precursor (14) was image-exposed in the same manner as in Example 10, and within 30 seconds, the lithographic printing plate precursor was placed in an oven and hot air was blown to heat the entire surface of the lithographic printing plate precursor. Hold at 110 ° C. for 15 seconds. Thereafter, the same development processing and printing as in Example 10 were performed within 30 seconds.
By the heat treatment, the developability did not change to 130 cm / min, the sensitivity was 0.05 mJ / cm 2 , and the printing durability was 110,000 sheets.

〔実施例25〕
平版印刷版原版(14)をFUJIFILM Electronic Imaging Ltd 製Violet半導体レーザープレートセッターVx9600(InGaN系半導体レーザー405nm±10nm発光/出力30mWを搭載)により画像露光を実施した。画像は、解像度2438dpiで、富士写真フイルム(株)製FMスクリーン(TAFFETA 20)を用い、35%の平網を、版面露光量0.05mJ/cm2で描画した。露光後の平版印刷版原版を画像露光後、30秒以内に、富士写真フイルム(株)製自動現像機LP1250PLXを用いて、現像処理を実施した。前記自動現像機は、加熱ユニット/水洗ユニット/現像ユニット/リンスユニット/フィニッシングユニットの順番に構成されており、加熱ユニットの加熱条件は、100℃、10秒間で行い、水洗ユニット、現像ユニット、リンスユニット/フィニッシングユニットの全ての浴には、前記現像液(2)を仕込んで実施した。現像液の温度は、28℃であり、平版印刷版の搬送は、搬送速度130cm/minで行った。
現像処理後に、平版印刷版の非画像部および画像を目視で確認したところ、非画像部での感光層の残存はなく、ムラのない均一な平網画像が形成された。さらに、この平版印刷版を上記の印刷条件で印刷したところ、非画像部の汚れなく、ムラのない均一な平網画像の良好な印刷物が11万枚得られた。
Example 25
The lithographic printing plate precursor (14) was subjected to image exposure using a Violet semiconductor laser plate setter Vx9600 (equipped with InGaN semiconductor laser 405 nm ± 10 nm emission / output 30 mW) manufactured by FUJIFILM Electronic Imaging Ltd. The image was drawn using a FM screen (TAFFETA 20) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. with a resolution of 2438 dpi, and a 35% flat screen was drawn with a plate exposure of 0.05 mJ / cm 2 . Within 30 seconds after image exposure of the exposed lithographic printing plate precursor, development processing was carried out using an automatic processor LP1250PLX manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. The automatic processor is configured in the order of heating unit / washing unit / developing unit / rinsing unit / finishing unit. The heating condition of the heating unit is 100 ° C. for 10 seconds, and the washing unit, developing unit, rinsing unit All the baths in the unit / finishing unit were charged with the developer (2). The temperature of the developer was 28 ° C., and the planographic printing plate was transported at a transport speed of 130 cm / min.
After development, the non-image area and the image of the lithographic printing plate were visually confirmed. As a result, the photosensitive layer did not remain in the non-image area, and a uniform flat net image without unevenness was formed. Further, when this lithographic printing plate was printed under the above-mentioned printing conditions, 110,000 sheets of good printed matter having a uniform flat net image with no non-image area stains and no unevenness were obtained.

表2等より明らかなように、本発明の一般式(1)、(2)又は(3)で表される化合物を用いることで用いていない平版印刷版原版に比べて現像性、感度、耐刷性が向上する。   As is clear from Table 2 and the like, the developability, sensitivity, and resistance to resistance of the lithographic printing plate precursor not used by using the compound represented by the general formula (1), (2) or (3) of the present invention are improved. Printability is improved.

自動現像処理機の構造を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of an automatic developing processor.

符号の説明Explanation of symbols

61 回転ブラシロール
62 受けロール
63 搬送ロール
64 搬送ガイド板
65 スプレーパイプ
66 管路
67 フィルター
68 給版台
69 排版台
70 現像液タンク
71 循環ポンプ
72 版
61 Rotating brush roll 62 Receiving roll 63 Conveying roll 64 Conveying guide plate 65 Spray pipe 66 Pipe line 67 Filter 68 Feeding plate 69 Discharging plate 70 Developer tank 71 Circulating pump 72 Plate

Claims (8)

表面親水性の支持体上に、記一般式(3)で表される化合物を含有する画像形成層を設けた平版印刷版原版。

式中、カチオン部とは、+電荷を有する官能基から成る部分であり、アニオン部とは、−電荷を有する官能基から成る部分であり、a、bは1〜20の自然数を表し、m、p、はそれぞれ1〜6の自然数を表し、Cはm/Cp=1となる数を表す。
On the surface hydrophilic support, a lithographic printing plate precursor provided with an image forming layer containing a compound represented by the following general formula (3).

In the formula, the cation part is a part composed of a functional group having a + charge, the anion part is a part composed of a functional group having a − charge, a and b represent natural numbers of 1 to 20, m , P each represents a natural number of 1 to 6, and C represents a number where m / Cp = 1.
該画像形成層が更にラジカル重合性化合物を含有することを特徴とする請求項に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1 , wherein the image forming layer further contains a radical polymerizable compound. 該画像形成層が更に赤外線吸収剤を含有することを特徴とする請求項1又は2に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1 or 2 , wherein the image forming layer further contains an infrared absorber. 該画像形成層上に保護層を設けたことを特徴とする請求項3のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 3, wherein a protective layer is provided on the image forming layer. pHが10以下の水溶液により現像可能であることを特徴とする請求項4のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 4, which can be developed with an aqueous solution having a pH of 10 or less. 画像形成後、何ら処理することなく印刷機に装着し印刷することが可能な請求項4のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 4, which can be mounted on a printing machine and printed without any processing after image formation. 請求項の何れか1項に記載の平版印刷版原版を、印刷機に装着し、レーザーで画像様に露光した後、又は、レーザーで画像様に露光した後、印刷機に装着し、該平版印刷版原版に、印刷インキと湿し水とを供給して、該画像形成層の未露光部分を除去し、印刷する平版印刷方法。 The lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 6 is mounted on a printing press and imagewise exposed with a laser, or imagewise exposed with a laser and then mounted on a printing press. A lithographic printing method in which printing ink and fountain solution are supplied to the lithographic printing plate precursor to remove an unexposed portion of the image forming layer and print. 露光から現像までの間に、さらに、露光された平版印刷版原版を加熱処理することを特徴とする請求項記載の平版印刷版の作製方法。 8. The method for producing a lithographic printing plate according to claim 7 , further comprising heat-treating the exposed lithographic printing plate precursor between exposure and development.
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