JP6600629B2 - 2,2’−ビスインデニルビフェニル配位子の調製方法およびそのメタロセン錯体 - Google Patents
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Description
R7およびR8の各々が、独立して、H、もしくはアルキルまたはアリールを表すか、R7およびR8が、それらが結合する酸素原子と共に環を形成することがあり、
R9、R10、R11およびR12の全てがHを表す;
を、式(2)の化合物
と反応させて、式(3)の対応する化合物
を形成する工程を有してなる方法によって、達成される。
R1、R2、R3、R4、R5およびR6の各々は、独立して、H、1〜20のC原子を有する炭化水素基、ハロゲン化物、1〜6のC原子を有するアルコキシ基、アルキルスルフィド、アミン、SiまたはB含有基、もしくはP含有基を表すことがあり、H、1〜20のC原子を有する炭化水素基またはハロゲン化物を表すことが好ましい。炭化水素基の例としては、アルキル基、例えば、メチル、エチル、プロピル、例えば、i−プロピルまたはn−プロピル;ブチル、例えば、i−ブチルまたはn−ブチル;ヘキシルおよびデシル;アリール基、例えば、フェニル、メシチル、トリルおよびクメニル;アラルキル基、例えば、ベンジル、ペンタメチルベンジル、キシリル、スチリルおよびトリチル、並びにアルカリル基が挙げられる。その炭化水素基が、1〜6のC原子を有することが好ましく、メチルであることが最も好ましい。ハロゲン化物の例としては、塩化物、臭化物およびフッ化物が挙げられる。1〜6のC原子を有するアルコキシ基の例としては、以下に限られないが、メトキシ、エトキシおよびフェノキシが挙げられる。アルキルスルフィドの例としては、メチルスルフィド、フェニルスルフィドおよびn−ブチルスルフィドが挙げられる。アミンの例としては、ジメチルアミン、n−ブチルアミンが挙げられる。SiまたはB含有基の例としては、トリメチルシリシウム(trimethylsilicium)(Me3Si)およびジエチルホウ素(Et2B)が挙げられる。P含有基の例としては、ジメチルリン(Me2P)およびジフェニルリン(Ph2P)が挙げられる。
R7およびR8の各々が、独立して、H、もしくはアルキル、例えば、環式または非環式アルキル、好ましくはi−プロピルなどの線状アルキル、および/または例えば、1から6のC原子を有するアルキル、またはアリール、例えば、フェニルを表すか、R7およびR8が、それらが結合する酸素原子と共に環を形成することがある、または例えば、R7およびR8が、それらが結合する酸素原子と共にピナコリル環またはジアミノ環を形成することがある。R7およびR8がHを表すか、またはR7およびR8が、それらが結合する酸素原子と共にピナコリル環を形成することが好ましい。
R9、R10、R11およびR12の全てがHを表す。
X5がハロゲン、好ましくは、Cl、BrまたはF、より好ましくはBrを表す。
R7およびR8の各々が、独立して、H、もしくはアルキルまたはアリールを表すか、R7およびR8が、それらが結合する酸素原子と共に環を形成することがあり、
R9、R10、R11およびR12の全てがHを表す;
にも関する。
R7およびR8の各々が、独立して、H、もしくはアルキルまたはアリールを表し、
R9、R10、R11およびR12の全てがHを表す;
を調製する工程であって、式(7)の化合物
R9、R10、R11およびR12の全てがHを表し、
R15およびR16の各々が、独立して、H、アルキルまたはアリールを表す;
を、PGが保護基を表し、LGが離脱基を表す、PG−LGで保護して、式(6)の対応する化合物
を形成する工程、
Pd触媒および塩基の存在下で、溶媒中において、式(6)の化合物を式(5)の化合物
R13およびR14の各々が、独立して、H、アルキルまたはアリールを表す;
と反応させて、式(4)の対応する化合物
を形成する工程、および
式(4)の化合物と、酸との反応によって、式(4)の化合物を脱保護して、式(1)の対応する化合物
R7およびR8の各々が、独立して、H、もしくはアルキルまたはアリールを表し、
R9、R10、R11およびR12の全てがHを表す;
を形成する工程、
を有してなるプロセスによって調製する工程をさらに含む本発明の方法を使用して調製してもよい。
R7およびR8の各々が、独立して、H、もしくはアルキルまたはアリールを表し、
R9、R10、R11およびR12の全てがHを表す;
の調製方法であって、
式(7)の化合物
R9、R10、R11およびR12の全てがHを表し、
R15およびR16の各々が、独立して、H、アルキルまたはアリールを表す;
を、PGが保護基を表し、LGが離脱基を表す、PG−LGで保護して、式(6)の対応する化合物
を形成する工程、
Pd触媒および塩基の存在下で、溶媒中において、式(6)の化合物を式(5)の化合物
R13およびR14の各々が、独立して、H、アルキルまたはアリールを表す;
と反応させて、式(4)の対応する化合物
を形成する工程、および
式(4)の化合物と、酸との反応によって、式(4)の化合物を脱保護して、式(1)の対応する化合物
R7およびR8の各々が、独立して、H、もしくはアルキルまたはアリールを表し、
R9、R10、R11およびR12の全てがHを表す;
を形成する工程、
を有してなる方法に関する。
R7およびR8の各々が、独立して、H、もしくはアルキルまたはアリールを表し、
R9、R10、R11およびR12の全てがHを表す;
に関する。
式(7)の化合物において、X3が、ハロゲン、例えば、F、I、ClまたはBr、好ましくはBrを表す。
式(7)の化合物において、R15およびR16の各々が、独立して、H、アルキル、例えば、1から6の炭素原子のアルキル、例えば、メチル、エチル、t−ブチル、n−プロピルまたはイソプロピル、好ましくはメチルまたはイソプロピル、もしくは、例えば、4から8の炭素原子の環式アルキル;アリール、好ましくはフェニルを表す。R15およびR16の両方がHを表すことが好ましい。
式(5)の化合物において、R13およびR14の各々が、独立して、H、アルキル、例えば、環式アルキルまたは非環式アルキル、例えば、線状アルキル、例えば、1から6のC原子を有するアルキル、例えば、メチル、エチル、t−ブチル、i−プロピルまたはn−ヘキサン;またはアリール、例えば、フェニルを表す。
R7およびR8の各々が、独立して、H、もしくはアルキルまたはアリールを表し、
R9、R10、R11およびR12の全てがHを表す;
を調製する工程であって、マグネシウムおよび酸の存在下で、式(9)の化合物
を式(10)の化合物
B(OR17)3 (10)
式中、R17は、H、または1から6の炭素原子を有するアルキルを表す;
と反応させて、式(1)の対応する化合物を形成する工程を有してなるプロセスによって調製する工程をさらに含む、本発明による方法を使用して調製してもよい。
R7およびR8の各々が、独立して、H、もしくはアルキルまたはアリールを表し、
R9、R10、R11およびR12の全てがHを表す;
の調製方法であって、マグネシウムおよび酸の存在下で、式(9)の化合物
を式(10)の化合物
B(OR17)3 (10)
式中、R17は、H、または1から6の炭素原子を有するアルキルを表す;
と反応させて、式(1)の対応する化合物を形成する工程を有してなる方法に関する。
式(9)の化合物において、X4がハロゲン、例えば、F、I、ClまたはBr、好ましくはBrを表す。
B(OR17)3 (10)
式中、R17は、H、または1から6の炭素原子を有するアルキル、例えば、メチル、n−ブチル、プロピルまたはイソプロピルを表す;
と反応せしめられる。
R7およびR8が、それらが結合する酸素原子と共に環を形成し、
R9、R10、R11およびR12の全てがHを表す;
を調製する工程であって、Pd触媒および塩基の存在下で、溶媒中において、式(12)の化合物
X1およびX2の各々が独立してハロゲンの群から選択され、X1およびX2が同じではないことが好ましい;
を式(5)の化合物
R13およびR14の各々が、独立して、H、アルキルまたはアリールを表す;
と反応させて、式(13)の対応する化合物
を形成する工程、および
ニッケル(II)またはニッケル(0)触媒、このニッケル(II)またはニッケル(0)触媒の配位子、および塩基の存在下で、溶媒中において、式(13)の化合物を式(14)の化合物
R7およびR8が、それらが結合する酸素原子と共に環を形成し、
R9、R10、R11およびR12の全てがHを表す;
を形成する工程を有してなるプロセスによって調製する工程をさらに含む、本発明による方法に関する。
R7およびR8が、それらが結合する酸素原子と共に環を形成する;
の調製方法であって、Pd触媒および塩基の存在下で、溶媒中において、式(12X)の化合物
X1およびX2の各々が独立してハロゲンの群から選択され、X1およびX2が同じではないことが好ましい;
を式(5)の化合物
R13およびR14の各々が、独立して、H、アルキルまたはアリールを表す;
と反応させて、式(13)の対応する化合物
を形成する工程、および
ニッケル(II)またはニッケル(0)触媒、このニッケル(II)またはニッケル(0)触媒の配位子、および塩基の存在下で、溶媒中において、式(13)の化合物を式(14X)の化合物
を有してなる方法に関する。
R9、R10、R11およびR12の全てがHを表す;
に関する。
式(12)の化合物において、X1およびX2の各々が、独立して、ハロゲンの群、例えば、F、Cl、Br、好ましくはClおよびBrから選択されることが好ましい。X1およびX2が同じではないことが好ましい。X1がBrを表し、X2がClを表すことが好ましい。
R7およびR8の各々が、独立して、H、もしくはアルキルまたはアリールを表すか、R7およびR8が、それらが結合する酸素原子と共に環を形成することがあり、
R9、R10、R11およびR12の全てがHを表す;
を、式(15)の対応するメタロセン錯体
Mが、元素の周期表の3、4、5または6族、もしくはランタニド系元素の群からの遷移金属を表し、
Qが、Mに対する陰イオン配位子を表し、
kは、整数であり、かつ陰イオン配位子の数を表す;
に転化させる工程をさらに含んでもよい。
遷移金属Mは、元素の周期表の3、4、5または6族からの、もしくはランタニド系元素の群から選択される。元素の周期表は、the Handbook of Chemistry and Physics, 70th edition, CRC Press, 1989-1990の内表紙に印刷された新しいIUPAC版であると理解される。
Qは、遷移金属Mの陰イオン配位子を表す。この陰イオン配位子は、1種類以上の一価または多価の陰イオン配位子を含んでよい。そのような配位子の例としては、以下に限られないが、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、および例えば、アミン基またはアミド基などの元素の周期表の14、15または16族から選択されたヘテロ原子を有する基;硫黄含有基、例えば、硫化物または亜硫酸塩;リン含有基、例えば、ホスフィンまたは亜リン酸塩が挙げられる。
式(15)のメタロセン錯体におけるQ基の数(式(15)における整数kにより表される)は、遷移金属Mの価数とQ基の価数により決定される。式(15)のメタロセン錯体において、kは、Mの価数から2を引いて、Qの価数で割ったものに等しい。例えば、MがZrを表し、QがClを表す場合、kは2である。
1種類以上のα−オレフィンの重合のための助触媒は、有機金属化合物であって差し支えない。有機金属化合物の金属は、元素の周期表の1、2、12または13族から選択することができる。適切な金属としては、ナトリウム、リチウム、亜鉛、マグネシウム、およびアルミニウムが挙げられ、アルミニウムが好ましい。少なくとも1つの炭化水素基が金属に直接結合して、炭素−金属結合を提供する。そのような化合物に使用される炭化水素基は、好ましくは1〜30の、より好ましくは1〜10の炭素原子を含有する。適切な化合物の例としては、アミルナトリウム、ブチルリチウム、ジエチル亜鉛、塩化ブチルマグネシウム、およびジブチルマグネシウムが挙げられる。例えば、制限するものではなく、トリエチルアルミニウムおよびトリ−イソブチルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニウム化合物;水素化ジイソブチルアルミニウムなどの水素化アルキルアルミニウム;アルキルアルコキシ有機アルミニウム化合物;および塩化ジエチルアルミニウム、塩化ジイソブチルアルミニウム、およびセスキ塩化エチルアルミニウムなどのハロゲン含有有機アルミニウム化合物を含む有機アルミニウム化合物が優先される。アルミノキサンが有機アルミニウム化合物として選択されることが好ましい。メチルアルミノキサン(MAO)が、助触媒として使用されることが最も好ましい。
・ホウ酸ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)[C6H5N(CH3)2H]+[B(C6F5)4]-;
・コバルト酸(III)−ジメチルアニリニウムビス(7,8−ジカルバウンデカホウ酸);
・ホウ酸トリ(n−ブチル)アンモニウムテトラフェニル;
・ホウ酸トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル);
・ホウ酸ジメチルアニリニウムテトラフェニル;
・トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン;および
・ホウ酸テトラキス(ペンタフルオロフェニル)
が挙げられる。
式(15)の触媒錯体は、担持された状態と、担持されていない状態で使用することができる。使用される担体は、触媒の担体材料として知られているどのような担体であってもよい。例えば、本発明の触媒組成物における担体は、有機または無機材料であって差し支えなく、多孔質であることが好ましい。有機材料の例に、架橋または官能化ポリスチレン、PVC、架橋ポリエチレンがある。無機材料の例に、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、MgCl2などの無機塩化物、タルクおよびゼオライトがある。これらの担体の2つ以上の混合物も使用してよい。担体の好ましい粒径は、1から120マイクロメートル、好ましくは20から80マイクロメートルであり、好ましい平均粒径は40から50マイクロメートルである。
溶媒中で、担体材料、および式(15)の触媒錯体(式(15)の化合物としてもここに称されている)を組み合わせて、担持触媒を形成する工程、および
必要に応じて、担持触媒を乾燥させる工程、
をさらに含んでもよい。
オルト−ブロモ−(2−インデニル)ベンゼン(OBPI)またはオルト−ヨード−(2−インデニル)ベンゼン(OIPI)からの[2,2’−ビス(2−インデニル)ビフェニル]の合成プロセス
10mlの丸底フラスコ(RBF)内に、OBPI(0.10g)、Ni(COD)2(0.05g)およびDMF(5ml)を加えた。この混合物をゆっくりと撹拌し、2時で100℃に加熱した。次いで、この溶液のサンプルをHPLC分析にかけた。そのHPLC結果は、フェニルインデン(不純物)の形成および未反応OBPIの存在を示した。[2,2’−ビス(2−インデニル)ビフェニル](所望の生成物)の形成は、微量でさえも検出できなかった。OBPIの代わりにOIPIで同じ反応を行ったが、再び、所望の生成物は得られなかった。
25mlのRBF内に、OBPI(0.5g)および10mlのTHFを加え、−40℃に冷却した。次いで、n−BuLi(2.0ml)をゆっくりと加えた。この添加中、温度が−35℃に上昇した。添加後、この溶液を30分間に亘り−40℃に維持し、次いで、温度をゆっくりと0℃まで上昇させ、水(5ml)をゆっくりと加えた。次いで、ジクロロメタン(10ml)を加えた。2つの相を分離し、有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させた。次いで、溶媒を、ロータリー・エバポレータを使用して蒸留によって最終的に除去した。残留物をHPLC分析にかけた。そのHPLC結果は、所望の生成物の代わりに、フェニルインデン(不純物)しか形成されなかったことを示した。
50mlのRBFに、OIPI(0.1g)、NiBr2(0.68g)、PPh3(0.329g)、Zn(0.02g)およびDMF(10ml)を加えた。反応塊を窒素でパージし、一晩で110℃まで加熱した。反応の進行をTLCでモニタした。所望の生成物の形成が分かった。しかしながら、HPLC分析にかけたサンプルは、所望の生成物が非常に微量しか(3.33%)形成されなかったことを示した。
50mlの密閉管内に、OIPI(0.1g)を加え、220℃まで加熱した。反応をTLCでモニタした。16時間後、所望の生成物が形成された。次いで、サンプルをHPLC分析にかけた。しかしながら、HPLC分析は、5%しか生成物が形成されなかったことを示した。
実施例1.R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R 5 、R 6 、R 7 、R 8 、R 9 、R 10 、R 11 およびR 12 の全てがHを表す、式(1)の化合物の調製;方法1
式(6)の化合物の合成:
式(7)の化合物(10g、49.79ミリモル)、1,8−ジアミノナフタレン(8.66g、57.77ミリモル)およびトルエン(200ml)を、500mlの四つ口丸底フラスコに入れた。得られた溶液を一晩還流し、次いで、薄層クロマトグラフィー(TLC)により検査した。TLCは、反応が完了したことを示した。この後、反応を室温まで冷却し、水(50ml)を加え、層を分離した。有機層を希H2SO4(10%、50ml)で洗浄し、得られた層を分離した。再び、有機層を飽和塩化ナトリウム溶液(100ml)で洗浄し、層を分離し、その後、有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥させ、Rotaエバポレータを使用して、溶媒を除去し、残留物をヘキサン中で結晶化させた。
質量:10.0g(HPLC:99.10%)、収率:63%。
先のように合成した化合物−3(10.05g、31.11ミリモル)、2−インデニルボロン酸(5.97g、37.33ミリモル)、水酸化テトラブチルアンモニウム(メタノール中1M、94.5ml、37.33ミリモル)、[Pd(PPh3)4](約300mmg)およびトルエン(100ml)を、500mlの四つ口フラスコに入れた。得られた溶液を加熱して、4時間に亘り還流し(77〜78℃)、次いで、TLCで検査した。TLCは反応の完了を示し、それゆえ、その反応を5℃に冷却し、希HCl(10%、75ml)およびジクロロメタン(100ml)を加えた。得られた層を分離し、有機層を飽和塩化ナトリウムで洗浄した。続いて、有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥させ、残りの溶媒をRotaエバポレータによって除去し、残留物をヘキサン中で結晶化させた。
質量:6.432g(HPLC:86.55%)、収率:60.6%。
式(4)の先のように合成した化合物(6.432g、17.95ミリモル)およびTHF(65ml)を、250mlの四つ口フラスコに入れ、撹拌を開始した。得られた溶液中に、希H2SO4(1M、20ml)をゆっくりと加えた。添加中、温度が15℃から25℃に上昇した。添加後、反応を1時間に亘り撹拌し、次いで、TLCで検査した。TLCは反応の完了を示し、よって、得られた溶液中に、ジクロロメタン(50ml)を加えた。得られた層を分離し、その後、有機層を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、溶媒を、Rotaエバポレータにより蒸留して除去し、残留物をヘキサン中で結晶化させた。
質量:3.216g(HPLC:90%)、収率:76%。
50mlの四つ口フラスコ内に、以下の成分を入れた:Mg削り屑(0.224g、9.22ミリモル)、テトラヒドロフラン(THF)(15ml)、ホウ酸トリメチル(3.04g、11.07ミリモル)、オルト−ブロモ−(2−インデニル)ベンゼン(OBPI)(1g、3.69ミリモル)、および1,2−ジブロモエタン(2〜3滴)。得られた溶液を35℃まで加熱し、1時間に亘りこの温度に維持した。次いで、これをTLCで検査した。TLCは、出発材料の完全な消費を示した。したがって、加熱を停止し、反応を室温まで冷却し、溶液を希HCl(5%、25ml)に注ぎ入れ、ジクロロメタン(25ml)を加えた。得られた混合物を10分間に亘り撹拌し、形成された層を分離した。有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥させ、溶媒をRotaエバポレータにより回収した。残留物をヘキサン(25ml)で洗浄して、フェニルインデンを除去した。
質量:250mg(HPLC:91%)、収率:28.7%。
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11およびR12の全てがHを表す、式(1)の化合物(1g、4.2ミリモル)、水酸化テトラブチルアンモニウム(メタノール中1M、5.5ml、5.5ミリモル)、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R10、R11およびR12の全てがHを表し、X5がBrを表す、式(2)の化合物(1.37g、5.1ミリモル)、Pd(PPh3)4(触媒、90mg)、および15mlのトルエンを、50mlの四つ口丸底フラスコに入れた。得られた溶液を1時間に亘り還流し(77〜78℃)、生成物が直ちに沈殿し始めた。還流をさらに1時間に亘り続け、次いで、TLCで検査した。TLCは、反応の完了を示した。そして、反応を0〜5℃に冷却し、HCl(10%、10ml)を加え、5分間に亘り撹拌し、溶液を濾過し、残留物を水で洗浄し、オーブン内で乾燥させて、1.31g(HPLCによる97%の純度、収率82%)を得た。しかしながら、Pd(PPh3)4の代わりに、Pd/Cも使用してよい。
工程1:2−インデニルボロン酸(10g、56.7ミリモル)、および1−ブロモ−2−クロロベンゼン(13.03g、68.01ミリモル)、水酸化テトラブチルアンモニウム(メタノール中1M、68ml、68.04ミリモル)、テトラキスパラジウムトリフェニルホスフィン(400mg)並びにトルエン(100ml)を500mlの四つ口フラスコに入れた。得られた溶液を加熱して還流し(78℃〜80℃)、還流をさらに5時間続けた。次いで、サンプルをHPLC分析にかけた。HPLCは反応の完了を示した。そして、加熱を停止し、反応を5℃の温度に冷却した。次いで、希HCl(10%、75ml)を加え、10分間に亘り撹拌し、層を分離し、有機層を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させた。溶媒をRotaエバポレータにより除去して、粗製生成物の2−クロロフェニルインデン(14.2g、HPLCによる純度85%)を得た。その後、粗製2−クロロフェニルインデンを高真空蒸留によって精製した(蒸気温度:165〜175℃、真空0.7〜0.8ミリバール(70〜80Pa))。高真空蒸留後:質量=10g(HPLC=96.6%)、収率:73.7%。
スキーム4において、Pd触媒(Pd(PPh3)4)および塩基(TBAOH=水酸化テトラブチルアンモニウム)の存在下で、溶媒(トルエン)中において、R9、R10、R11およびR12の全てがHを表し、X1がBrを表すし、X2がClを表す、式(12X)の化合物を、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R13およびR14の全てがHを表す、式5の化合物と反応させて、式(13)の対応する化合物を形成し、Ni(COD)2、トリフェニルホスフィンおよび塩基の存在下で、溶媒中において、式(13)の化合物を式14Xの化合物と反応させて、式(1X)の対応する化合物(ここでは、構成単位Xとも称される)を形成する。
構成単位X(8.0g)、構成単位Y、水酸化テトラブチルアンモニウム(25.13ml、メタノール中1M溶液)、テトラキスパラジウムトリフェニルホスフィン(200mg)およびトルエン(120ml)を丸底フラスコに加え、得られた溶液を加熱して、還流し(78℃〜80℃)、生成物が直ちに沈殿し始め、加熱を3時間に亘り続けた。次いで、TLCを使用し、これは、反応の完了を示した。次いで、反応を10℃に冷却し、希HCl(50ml)を加え、10分間に亘り撹拌し、その溶液を濾過し、残留物を水とメタノールで洗浄し、オーブン内で乾燥させて、3gの生成物(2,2’−ビス(2−インデニル)ビフェニル)を得た。
[2,2’−ビス(2−インデニル)ビフェニル]ジルコニウムジクロリド(R1、R2、R3、R4、R5、R6、R9、R10、R11およびR12の全てがHを表し、MがZrを表し、QがClを表し、kが2を表す、式(15)の化合物)を、欧州特許出願公開第1059300A1号明細書の段落[0106]および[0107]の実施例VIIIに記載されたような2,2’−ビス(2−インデニル)ビフェニル(R1、R2、R3、R4、R5、R6、R9、R10、R11およびR12の全てがHを表す、式(3)の化合物)から調製することができる:
「撹拌棒および2,2’−ビス(2−インデニル)ビフェニル(3.84g、10.0ミリモル)が入った100ccのシュレンク管を乾燥雰囲気下に置いた。乾燥エーテル(40ml)を加えた。得られた懸濁液を氷浴によって0℃に冷却し、n−ブチルリチウムの溶液(ヘキサン中1M、12.5ml、20.0ミリモル)を加えた。混合物をゆっくりと室温まで温まらせた。結晶がゆっくりと溶解し、一方で、微細懸濁液が形成された。室温での撹拌を4時間に亘り続けた。
次いで、欧州特許出願公開第1059300A1号明細書の段落[0109]および[0110]に記載されているように、担体上に2,2’−ビス(2−インデニル)ビフェニルジルコニウムジクロリドを配置することができる:
「担持された2,2’−ビス(2−インデニル)ビフェニルジルコニウムジクロリド
シリカ(Grace Davison 2101)を6時間に亘り窒素流下において200℃で加熱した。70mlのトルエンにこのシリカを7.3g加えた。このスラリーを撹拌し、49.4mlの10質量%のメチルアルミノキサン(Albemarleから得た、トルエン中の30質量%溶液から希釈)をゆっくりと加えた。得られたスラリーを室温(20℃)で16時間に亘り撹拌し、その後、溶媒を30℃で蒸発によって除去した。
担持された2,2’−ビス(2−インデニル)ビフェニルジルコニウムジクロリドをジフェニル(2−インデニル)2ZrCl2から調製する改良方法が、国際公開第2013/097936A1号の実施例9に記載されている:
「実施例9.本発明の触媒組成物の大規模調製
室温で、36.968kgの30%メチルアルミノキサン溶液(Al含有量 13.58質量%)に、0.595kgのジフェニル(2−インデニル)2ZrCl2を加え、30分間に亘り撹拌して、活性メタロセンを形成した。43kgのシリカ955に約172kgの乾燥トルエンを加えて、シリカスラリーを形成した。約30℃で、撹拌しながら、シリカスラリーに活性メタロセンを加えた。活性メタロセンを加えた後、温度を50℃まで上昇させた。50℃での2時間後、改質剤Fの全て(改質剤Fは、室温で、9.7kgの乾燥トルエン中の0.059のシクロヘキシルアミンの溶液に、0.114kgの純トリイソブチルアルミニウムをゆっくりと加えることによって、調製した)を加えた。添加後、この混合物を1時間に亘り50℃に維持した。次いで、反応温度を30℃に低下させた。濾過によりトルエンを除去し、得られた触媒組成物を、温度を55℃に上昇させ、温かい窒素流を使用することによって、乾燥させた。この実験に使用したAl/Zr比は約150であった。」
次いで、この担持された2,2’−ビス(2−インデニル)ビフェニルジルコニウムジクロリドは、例えば、国際公開第2013/097936A1号に記載されたように、または例えば、欧州特許出願公開第1059300A1号明細書の実施例X〜IXに記載されているように、重合に使用することができる:
「重合温度(Tp)に加熱しながら、1.3リットルの反応器に、400mlのペンタメチルヘプタン(略称:PMH)、エチレンおよび最後に、25mlの1−オクテンを供給した;圧力は2MPaであった。次に、0.78ml(トルエン中1.6M溶液)のメチルアルミノキサン(Witco)および触媒溶液またはスラリー(トルエン中0.001M溶液を0.125ml)を1分間に亘り室温で予混し、次いで、反応器に供給した。触媒供給容器を100mlのペンタメチルヘプタン(PMH)で洗浄した。反応器内の圧力は、エテンを供給することによって一定に維持した。反応器を冷却することによって、温度の設定値からのそれを、最大で5℃に制限した。10分後、重合を停止し、溶液を流し、50℃の真空下で沸騰させて濃縮することにより、精製した。」
他の実施形態
1.Pd触媒および塩基の存在下で、溶媒中において、式(1)の化合物
R 7 およびR 8 の各々が、独立して、H、もしくはアルキルまたはアリールを表すか、R 7 およびR 8 が、それらが結合する酸素原子と共に環を形成することがあり、
R 9 、R 10 、R 11 およびR 12 の全てがHを表す);
を、式(2)の化合物
と反応させて、式(3)の対応する化合物
を形成する工程を有してなる方法。
2.式(1)の前記化合物
R 7 およびR 8 の各々が、独立して、H、もしくはアルキルまたはアリールを表し、
R 9 、R 10 、R 11 およびR 12 の全てがHを表す);
を調製する工程であって、式(7)の化合物
R 9 、R 10 、R 11 およびR 12 の全てがHを表し、
R 15 およびR 16 の各々が、独立して、H、アルキルまたはアリールを表す);
をPG−LG(式中、PGが保護基を表し、LGが離脱基を表す)で保護して、式(6)の対応する化合物
を形成する工程、
Pd触媒および塩基の存在下で、溶媒中において、式(6)の前記化合物を式(5)の化合物
R 13 およびR 14 の各々が、独立して、H、アルキルまたはアリールを表す);
と反応させて、式(4)の対応する化合物
を形成する工程、および
式(4)の前記化合物と、酸との反応によって、式(4)の該化合物を脱保護して、式(1)の対応する前記化合物
R 7 およびR 8 の各々が、独立して、H、もしくはアルキルまたはアリールを表し、
R 9 、R 10 、R 11 およびR 12 の全てがHを表す);
を形成する工程、
を有してなるプロセスによって調製する工程をさらに含む、実施形態1記載の方法。
3.式(1)の化合物
R 7 およびR 8 の各々が、独立して、H、もしくはアルキルまたはアリールを表し、
R 9 、R 10 、R 11 およびR 12 の全てがHを表す);
を調製する工程であって、マグネシウムおよび酸の存在下で、式(9)の化合物
を式(10)の化合物
B(OR 17 ) 3 (10)
(式中、R 17 は、H、または1から6の炭素原子を有するアルキルを表す);
と反応させて、式(1)の対応する前記化合物を形成する工程を有してなるプロセスによって調製する工程をさらに含む、実施形態1記載の方法。
4.式(1)の前記化合物
R 7 およびR 8 が、それらが結合する酸素原子と共に環を形成し、
R 9 、R 10 、R 11 およびR 12 の全てがHを表す);
を調製する工程であって、Pd触媒および塩基の存在下で、溶媒中において、式(12)の化合物
X 1 およびX 2 の各々が独立してハロゲンの群から選択され、X 1 およびX 2 が同じではないことが好ましい);
を式(5)の化合物
R 13 およびR 14 の各々が、独立して、H、アルキルまたはアリールを表す);
と反応させて、式(13)の前記対応する化合物
を形成する工程、および
ニッケル(II)またはニッケル(0)触媒、該ニッケル(II)またはニッケル(0)触媒の配位子、および塩基の存在下で、溶媒中において、式(13)の前記化合物を式(14)の化合物
R 7 およびR 8 が、それらが結合する酸素原子と共に環を形成し、
R 9 、R 10 、R 11 およびR 12 の全てがHを表す);
を形成する工程を有してなるプロセスによって調製する工程をさらに含む、実施形態1記載の方法。
5.式(3)の前記化合物
R 7 およびR 8 の各々が、独立して、H、もしくはアルキルまたはアリールを表すか、R 7 およびR 8 が、それらが結合する酸素原子と共に環を形成することがあり、
R 9 、R 10 、R 11 およびR 12 の全てがHを表す);
を、式(15)の対応するメタロセン錯体
Mが、元素の周期表の3、4、5または6族、もしくはランタニド系元素の群からの遷移金属を表し、
Qが、Mに対する陰イオン配位子を表し、
kは、整数であり、かつ陰イオン配位子の数を表す);
に転化させる工程をさらに含む、実施形態1から4いずれか記載の方法。
6.式(3)の前記化合物が、有機金属化合物、アミン、金属水素化物、またはアルカリ土類金属を使用して、その対応する二価陰イオンに転化され、その形成された二価陰イオンが、遷移金属Mの化合物と金属交換反応せしめられて、式(15)の対応する前記メタロセン錯体を形成する、実施形態5記載の方法。
7.式(15)の前記メタロセン錯体が[2,2’−ビス(2−インデニル)ビフェニル]ZrCl 2 である、実施形態5または6記載の方法。
8.溶媒中で、担体材料、および式(15)の前記メタロセン錯体を組み合わせて、担持触媒を形成する工程、および
必要に応じて、前記担持触媒を乾燥させる工程、
をさらに含む、実施形態5から7いずれか記載の方法。
9.式(1)の化合物
R 7 およびR 8 の各々が、独立して、H、もしくはアルキルまたはアリールを表し、
R 9 、R 10 、R 11 およびR 12 の全てがHを表す);
の調製方法であって、
式(7)の化合物
R 9 、R 10 、R 11 およびR 12 の全てがHを表し、
R 15 およびR 16 の各々が、独立して、H、アルキルまたはアリールを表す);
をPG−LG(式中、PGが保護基を表し、LGが離脱基を表す)で保護して、式(6)の対応する化合物
を形成する工程、
Pd触媒および塩基の存在下で、溶媒中において、式(6)の前記化合物を式(5)の化合物
R 13 およびR 14 の各々が、独立して、H、アルキルまたはアリールを表す);
と反応させて、式(4)の対応する化合物
を形成する工程、および
式(4)の前記化合物と、酸との反応によって、式(4)の該化合物を脱保護して、式(1)の対応する前記化合物
R 7 およびR 8 の各々が、独立して、H、もしくはアルキルまたはアリールを表し、
R 9 、R 10 、R 11 およびR 12 の全てがHを表す);
を形成する工程、
を有してなる方法。
10.式(1)の化合物
R 7 およびR 8 の各々が、独立して、H、もしくはアルキルまたはアリールを表し、
R 9 、R 10 、R 11 およびR 12 の全てがHを表す);
の調製方法であって、マグネシウムおよび酸の存在下で、式(9)の化合物
を式(10)の化合物
B(OR 17 ) 3 (10)
(式中、R 17 は、H、または1から6の炭素原子を有するアルキルを表す);
と反応させて、式(1)の対応する前記化合物を形成する工程、
を有してなる方法。
11.式(1)の化合物
R 7 およびR 8 が、それらが結合する酸素原子と共に環を形成し、
R 9 、R 10 、R 11 およびR 12 の全てがHを表す);
の調製方法であって、
Pd触媒および塩基の存在下で、溶媒中において、式(12)の化合物
X 1 およびX 2 の各々が独立してハロゲンの群から選択され、X 1 およびX 2 が同じではないことが好ましい);
を式(5)の化合物
R 13 およびR 14 の各々が、独立して、H、アルキルまたはアリールを表す);
と反応させて、式(13)の対応する化合物
を形成する工程、および
ニッケル(II)またはニッケル(0)触媒、該ニッケル(II)またはニッケル(0)触媒の配位子、および塩基の存在下で、溶媒中において、式(13)の前記化合物を式(14)の化合物
R 7 およびR 8 が、それらが結合する酸素原子と共に環を形成し、
R 9 、R 10 、R 11 およびR 12 の全てがHを表す);
を形成する工程を有してなる方法。
12.式(1)の化合物:
R 7 およびR 8 の各々が、独立して、H、もしくはアルキルまたはアリールを表すか、R 7 およびR 8 が、それらが結合する酸素原子と共に環を形成することがあり、
R 9 、R 10 、R 11 およびR 12 の全てがHを表す。
13.式(1)の前記化合物
R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R 5 およびR 6 の各々が、独立して、H、1〜20のC原子を有する炭化水素基、ハロゲン化物、1〜6のC原子を有するアルコキシ基、アルキルスルフィド、アミン、SiまたはB含有基、もしくはP含有基を表し、
R 7 およびR 8 の各々が、独立して、H、もしくはアルキルまたはアリールを表し、
R 9 、R 10 、R 11 およびR 12 の全てがHを表す、実施形態12記載の化合物。
14.式(1)の前記化合物が、式(1X)の化合物
R 9 、R 10 、R 11 およびR 12 の全てがHを表す)
である、実施形態12記載の化合物。
Claims (8)
- Pd触媒および塩基の存在下で、溶媒中において、式(1X)の化合物
R9、R10、R11およびR12の全てがHを表す);
を、式(2)の化合物
と反応させて、式(3)の対応する化合物
を形成する工程を有してなる方法。 - 式(1X)の前記化合物
R9、R10、R11およびR12の全てがHを表す);
を調製する工程をさらに含み、該工程が、
Pd触媒および塩基の存在下で、溶媒中において、式(12)の化合物
X1およびX2の各々が独立してハロゲンの群から選択され、X1およびX2が同じではないことが好ましい);
を式(5)の化合物
R13およびR14の各々が、独立して、H、アルキルまたはアリールを表す);
と反応させて、式(13)の対応する化合物
を形成する工程、および
ニッケル(II)またはニッケル(0)触媒、該ニッケル(II)またはニッケル(0)触媒の配位子、および塩基の存在下で、溶媒中において、式(13)の前記化合物を式(14X)の化合物
R9、R10、R11およびR12の全てがHを表す);
を形成する工程を有してなるプロセスによってなされる、請求項1記載の方法。 - 式(3)の前記化合物
R9、R10、R11およびR12の全てがHを表す);
を、式(15)の対応するメタロセン錯体
Mが、元素の周期表の3、4、5または6族、もしくはランタニド系元素の群からの遷移金属を表し、
Qが、Mに対する陰イオン配位子を表し、
kは、整数であり、かつ陰イオン配位子の数を表す);
に転化させる工程をさらに含む、請求項1または2記載の方法。 - 有機金属化合物、アミン、金属水素化物、またはアルカリ土類金属を使用して、式(3)の前記化合物を、その対応する二価陰イオンに転化させ、その形成された二価陰イオンを、遷移金属Mの化合物と金属交換反応させて、式(15)の対応するメタロセン錯体を形成する、請求項3記載の方法。
- 式(15)の前記メタロセン錯体が[2,2’−ビス(2−インデニル)ビフェニル]ZrCl2である、請求項3または4記載の方法。
- 溶媒中で、担体材料と、式(15)の前記メタロセン錯体とを組み合わせて、担持触媒を形成する工程、および
任意選択で、前記担持触媒を乾燥させる工程、
をさらに含む、請求項3から5いずれか1項記載の方法。 - 式(1X)の化合物
R9、R10、R11およびR12の全てがHを表す);
の調製方法であって、
Pd触媒および塩基の存在下で、溶媒中において、式(12)の化合物
X1およびX2の各々が独立してハロゲンの群から選択され、X1およびX2が同じではないことが好ましい);
を式(5)の化合物
R13およびR14の各々が、独立して、H、アルキルまたはアリールを表す);
と反応させて、式(13)の対応する化合物
を形成する工程、および
ニッケル(II)またはニッケル(0)触媒、該ニッケル(II)またはニッケル(0)触媒の配位子、および塩基の存在下で、溶媒中において、式(13)の前記化合物を式(14X)の化合物
R9、R10、R11およびR12の全てがHを表す);
を形成する工程を有してなる方法。
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