JP6589050B2 - Bonding apparatus and bonding method - Google Patents

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Description

本発明は、ボンディング装置及びボンディング方法に関する。   The present invention relates to a bonding apparatus and a bonding method.

ウェハに含まれる複数のダイを基板にボンディングするボンディング装置では、ウェハ保持部に保持されたウェハからピックアップしたダイを、ボンディングヘッドによって基板にボンディングする。ウェハに含まれる複数のダイは、複数のグレード毎に分類されており、一つの基板には、同一のグレードに属する複数のダイがボンディングされる。例えば、特許文献1には、ウェハ保持部からウェハを取り外すことなく当該ウェハ上の複数のグレードを有する各ダイの全てを、それぞれ対応する基板にボンディングする技術が開示されている。   In a bonding apparatus that bonds a plurality of dies contained in a wafer to a substrate, the die picked up from the wafer held by the wafer holding unit is bonded to the substrate by a bonding head. A plurality of dies included in the wafer are classified into a plurality of grades, and a plurality of dies belonging to the same grade are bonded to one substrate. For example, Patent Document 1 discloses a technique for bonding all dies having a plurality of grades on a wafer to a corresponding substrate without removing the wafer from the wafer holding unit.

しかしながら、特許文献1に開示された構成によれば、単一の搬送レーンにおいて2つのグレードのダイをそれぞれ対応する基板にボンディングする場合、基板供給部と基板搬出部の各位置が統一されておらず、グレード毎のボンディングを簡易かつ効率良く行うことができない場合があった。他方で、2つのグレードのダイを2つの搬送レーン及び2つのボンディングヘッドを用いて処理を行うと、処理するグレードの数の割にはボンディング装置が比較的大型化する懸念がある。   However, according to the configuration disclosed in Patent Document 1, when bonding two grade dies to corresponding substrates in a single transport lane, the positions of the substrate supply unit and the substrate carry-out unit are not unified. In some cases, bonding for each grade cannot be performed easily and efficiently. On the other hand, when two grade dies are processed using two transport lanes and two bonding heads, there is a concern that the bonding apparatus becomes relatively large for the number of grades to be processed.

特開2013−65711号公報JP 2013-65711 A

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、簡易な機構によって効率良くグレード単位でダイを基板にボンディングできるボンディング装置及びボンディング方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a bonding apparatus and a bonding method capable of bonding a die to a substrate in a grade unit efficiently by a simple mechanism.

本発明の一態様に係るボンディング装置は、複数のグレードに区分される複数のダイを有するウェハを保持するウェハ保持部と、ウェハ保持部から搬送されたダイを基板にボンディングするボンディングヘッドと、ボンディングヘッドによってボンディングするために基板を搬送する搬送レーンと、搬送レーンの一方端に設けられたローダ部と、搬送レーンの他方端に設けられたアンローダ部と、前記ウェハにおける複数のグレード毎にダイを分類したマッピング情報に基づいて、ウェハの各ダイを当該ダイのグレードに対応する基板にボンディングするボンディング制御部とを備え、ローダ部及びアンローダ部のそれぞれは、複数の基板収容体を収容し、複数の基板収容体は、それぞれ同一のグレードに属する複数の基板を収容し、複数の基板は、それぞれ同一のグレードに属する複数のダイがボンディングされるものであり、ボンディング制御部は、ローダ部の基板収容体から搬送レーンに搬送された少なくとも1つの基板について、(i)ボンディングヘッドによって基板の全てのダイがボンディング完了した場合、基板をダイ実装済基板としてアンローダ部の基板収容体に送り、他方、(ii)ボンディングヘッドによって基板の全てのダイがボンディング完了していない場合、基板をダイ未実装基板としてローダ部の基板収容体に戻す。   A bonding apparatus according to an aspect of the present invention includes a wafer holding unit that holds a wafer having a plurality of dies classified into a plurality of grades, a bonding head that bonds a die conveyed from the wafer holding unit to a substrate, and a bonding A transport lane for transporting a substrate for bonding by a head, a loader unit provided at one end of the transport lane, an unloader unit provided at the other end of the transport lane, and a die for each of a plurality of grades in the wafer A bonding control unit for bonding each die of the wafer to a substrate corresponding to the grade of the die based on the classified mapping information, and each of the loader unit and the unloader unit accommodates a plurality of substrate containers. Each of the substrate containers accommodates a plurality of substrates belonging to the same grade, The plate is formed by bonding a plurality of dies belonging to the same grade, and the bonding control unit applies (i) a bonding head to at least one substrate transferred from the substrate container of the loader unit to the transfer lane. If all the dies on the substrate have been bonded, the substrate is sent as a die-mounted substrate to the substrate container of the unloader unit, while (ii) if all the dies on the substrate have not been bonded by the bonding head, It returns to the board | substrate container of a loader part as a die unmounting board | substrate.

上記構成によれば、ボンディング制御部が、ローダ部の基板収容体から搬送レーンに搬送された少なくとも1つの基板について、ボンディングヘッドによって基板の全てのダイがボンディング完了した場合、当該基板をダイ実装済基板としてアンローダ部の基板収容体に送り、他方、ボンディングヘッドによって基板の全てのダイがボンディング完了していない場合、当該基板をダイ未実装基板としてローダ部の基板収容体に戻すように構成されている。したがって、ダイ未実装基板とダイ実装済基板を画一的に処理することができ、簡易な機構によって効率良くグレード単位でダイを基板にボンディングできる。   According to the above configuration, when the bonding control unit completes bonding of all the dies of the substrate by the bonding head for at least one substrate transported from the substrate container of the loader unit to the transport lane, the substrate has been die-mounted. The substrate is sent to the substrate container of the unloader unit as a substrate, and on the other hand, when all the dies on the substrate are not bonded by the bonding head, the substrate is returned to the substrate container of the loader unit as a die unmounted substrate. Yes. Therefore, the die unmounted substrate and the die mounted substrate can be processed uniformly, and the die can be efficiently bonded to the substrate in units of grade by a simple mechanism.

上記ボンディング装置において、ボンディングヘッドは、ウェハ保持部から搬送されたダイを、基板上、又は、基板にボンディング済みのダイ上にボンディングしてもよい。   In the above bonding apparatus, the bonding head may bond the die transported from the wafer holding unit on the substrate or a die that has been bonded to the substrate.

上記ボンディング装置において、ボンディングヘッドは、第1ボンディングヘッドと、第1ボンディングヘッドよりもアンローダ部側に配置された第2ボンディングヘッドとを含み、ボンディング制御部は、第1及び第2ボンディングヘッドのそれぞれに対して(i)又は(ii)を行ってもよい。   In the above bonding apparatus, the bonding head includes a first bonding head and a second bonding head disposed closer to the unloader part than the first bonding head, and the bonding control unit includes each of the first and second bonding heads. (I) or (ii) may be performed.

上記ボンディング装置において、ボンディング制御部は、アンローダ部側に配置された第2ボンディングヘッドに対して優先的に(i)を行ってもよい。   In the bonding apparatus, the bonding control unit may preferentially perform (i) on the second bonding head disposed on the unloader unit side.

上記ボンディング装置において、ボンディング制御部は、マッピング情報に基づいて、ローダ部の基板収容体から搬送レーンに搬送された同一のグレードに属する複数の基板について、第1及び第2ボンディングヘッドによって(i)又は(ii)を行ってもよい。   In the above bonding apparatus, the bonding control unit uses the first and second bonding heads (i) for a plurality of substrates belonging to the same grade transferred from the substrate container of the loader unit to the transfer lane based on the mapping information. Alternatively, (ii) may be performed.

上記ボンディング装置において、ボンディング制御部は、マッピング情報に基づいて、ローダ部の基板収容体から搬送レーンに搬送された互いに異なるグレードに属する複数の基板について、第1及び第2ボンディングヘッドによって(i)又は(ii)を行ってもよい。   In the above bonding apparatus, the bonding control unit uses the first and second bonding heads (i) for a plurality of substrates belonging to different grades transferred from the substrate container of the loader unit to the transfer lane based on the mapping information. Alternatively, (ii) may be performed.

上記ボンディング装置において、マッピング情報は、ウェハの各ダイを第1又は第2グレードに分類する情報を含んでもよい。   In the bonding apparatus, the mapping information may include information for classifying each die of the wafer into the first or second grade.

上記ボンディング装置において、ボンディング制御部は、ウェハ保持部に保持されたウェハの第1グレードに対して(i)又は(ii)を行い、その後、ウェハ保持部に保持されたウェハの第2グレードに対して(i)又は(ii)を行ってもよい。   In the bonding apparatus, the bonding control unit performs (i) or (ii) on the first grade of the wafer held on the wafer holding unit, and then changes to the second grade of the wafer held on the wafer holding unit. On the other hand, (i) or (ii) may be performed.

上記ボンディング装置において、ローダ部又はアンローダ部は、階層が異なる複数のデッキを有し、複数のデッキは、第1グレードに属する基板収容体を収容する第1デッキと、第2グレードに属する基板収容体を収容する第2デッキとを含んでもよい。   In the bonding apparatus, the loader unit or the unloader unit includes a plurality of decks having different levels, and the plurality of decks includes a first deck that accommodates a substrate container belonging to the first grade, and a substrate that belongs to the second grade. And a second deck containing the body.

上記ボンディング装置において、ローダ部又はアンローダ部は、製造設備における所定のレーンに従って走行する自動搬送機構にアクセスして基板収容体をロード又はアンロードしてもよい。   In the above bonding apparatus, the loader unit or the unloader unit may load or unload the substrate container by accessing an automatic transport mechanism that travels according to a predetermined lane in the manufacturing facility.

上記ボンディング装置において、複数のウェハを収容するウェハローダ部をさらに含み、ボンディング制御部は、ウェハ保持部に保持されたウェハにおいてボンディングすべき全てのダイがボンディング完了した場合、ウェハを処理済ウェハとしてウェハローダ部に戻し、ウェハローダ部から他のウェハをウェハ保持部に送ってもよい。   The bonding apparatus further includes a wafer loader unit that accommodates a plurality of wafers, and the bonding control unit sets the wafer as a processed wafer when all the dies to be bonded are completed in the wafer held by the wafer holding unit. The wafer loader unit may return another wafer to the wafer holding unit.

上記ボンディング装置において、搬送レーンは単一レーンであってもよい。   In the above bonding apparatus, the transport lane may be a single lane.

本発明の一態様に係るボンディング方法は、複数のグレードに区分される複数のダイを有するウェハを保持するウェハ保持部と、ウェハ保持部から搬送されたダイを基板にボンディングするボンディングヘッドと、ボンディングヘッドによってボンディングするために基板を搬送する搬送レーンと、搬送レーンの一方端に設けられたローダ部と、搬送レーンの他方端に設けられたアンローダ部と、前記ウェハにおける複数のグレード毎にダイを分類したマッピング情報に基づいて、ウェハの各ダイを当該ダイのグレードに対応する基板にボンディングするボンディング制御部と備えるボンディング装置を用いたボンディング方法であって、ローダ部及びアンローダ部のそれぞれは、複数の基板収容体を収容し、複数の基板収容体は、それぞれ同一のグレードに属する複数の基板を収容し、複数の基板は、それぞれ同一のグレードに属する複数のダイがボンディングされるものであり、方法は、ローダ部の基板収容体から搬送レーンに搬送された少なくとも1つの基板について、(i)ボンディングヘッドによって基板の全てのダイがボンディング完了した場合、基板をダイ実装済基板としてアンローダ部の基板収容体に送り、他方、(ii)ボンディングヘッドによって基板の全てのダイがボンディング完了していない場合、基板をダイ未実装基板としてローダ部の基板収容体に戻す。   A bonding method according to an aspect of the present invention includes a wafer holding unit that holds a wafer having a plurality of dies classified into a plurality of grades, a bonding head that bonds a die conveyed from the wafer holding unit to a substrate, and a bonding A transport lane for transporting a substrate for bonding by a head, a loader unit provided at one end of the transport lane, an unloader unit provided at the other end of the transport lane, and a die for each of a plurality of grades in the wafer A bonding method using a bonding apparatus including a bonding control unit for bonding each die of a wafer to a substrate corresponding to the grade of the die based on the classified mapping information, and each of the loader unit and the unloader unit includes a plurality of A plurality of substrate containers, respectively. A plurality of substrates belonging to one grade are accommodated, and the plurality of substrates are bonded to a plurality of dies belonging to the same grade, and the method is conveyed from the substrate container of the loader unit to the conveyance lane. For at least one substrate, (i) when all the dies of the substrate are completed by the bonding head, the substrate is sent as a die-mounted substrate to the substrate container of the unloader unit, while (ii) all of the substrates are bonded by the bonding head. If the bonding of the die is not completed, the substrate is returned to the substrate container of the loader unit as a die unmounted substrate.

上記構成によれば、ローダ部の基板収容体から搬送レーンに搬送された少なくとも1つの基板について、ボンディングヘッドによって基板の全てのダイがボンディング完了した場合、当該基板をダイ実装済基板としてアンローダ部の基板収容体に送り、他方、ボンディングヘッドによって基板の全てのダイがボンディング完了していない場合、当該基板をダイ未実装基板としてローダ部の基板収容体に戻す。したがって、ダイ未実装基板とダイ実装済基板を画一的に処理することができ、簡易な機構によって効率良くグレード単位でダイを基板にボンディングできる。   According to the above configuration, when all the dies of the substrate are completed by the bonding head for at least one substrate transported from the substrate container of the loader unit to the transport lane, the substrate is used as a die-mounted substrate in the unloader unit. On the other hand, when all the dies of the substrate are not completely bonded by the bonding head, the substrate is returned to the substrate container of the loader unit as a die unmounted substrate. Therefore, the die unmounted substrate and the die mounted substrate can be processed uniformly, and the die can be efficiently bonded to the substrate in units of grade by a simple mechanism.

本発明によれば、簡易な機構によって効率良くグレード単位でダイを基板にボンディングできるボンディング装置及びボンディング方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the bonding apparatus and bonding method which can bond die | dye to a board | substrate by a grade unit efficiently with a simple mechanism can be provided.

図1は、本発明の実施形態に係るボンディング装置の平面図である。FIG. 1 is a plan view of a bonding apparatus according to an embodiment of the present invention. 図2は、本発明の実施形態に係るボンディング装置の断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the bonding apparatus according to the embodiment of the present invention. 図3は、本発明の実施形態に係るボンディング装置をY軸方向から見たときの概略図である。FIG. 3 is a schematic view when the bonding apparatus according to the embodiment of the present invention is viewed from the Y-axis direction. 図4は、本発明の実施形態に係るボンディング装置のX軸方向から見たときの概略図である。FIG. 4 is a schematic view when the bonding apparatus according to the embodiment of the present invention is viewed from the X-axis direction. 図5は、本発明の実施形態に係るボンディング方法を示すフローチャートである。FIG. 5 is a flowchart illustrating a bonding method according to an embodiment of the present invention. 図6は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例1を示す図である。FIG. 6 is a diagram illustrating Example 1 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図7は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例1を示す図である。FIG. 7 is a diagram illustrating Example 1 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図8は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例1を示す図である。FIG. 8 is a diagram illustrating Example 1 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図9は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例1を示す図である。FIG. 9 is a diagram illustrating Example 1 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図10は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例1を示す図である。FIG. 10 is a diagram illustrating Example 1 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図11は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例1を示す図である。FIG. 11 is a diagram illustrating Example 1 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図12は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例1を示す図である。FIG. 12 is a diagram illustrating Example 1 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図13は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例1を示す図である。FIG. 13 is a diagram illustrating Example 1 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図14は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例1を示す図である。FIG. 14 is a diagram illustrating Example 1 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図15は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例1を示す図である。FIG. 15 is a diagram illustrating Example 1 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図16は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例1を示す図である。FIG. 16 is a diagram illustrating Example 1 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図17は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例1を示す図である。FIG. 17 is a diagram illustrating Example 1 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図18は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例1を示す図である。FIG. 18 is a diagram illustrating Example 1 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図19は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例1を示す図である。FIG. 19 is a diagram illustrating Example 1 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図20は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例1を示す図である。FIG. 20 is a diagram illustrating Example 1 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図21は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例1を示す図である。FIG. 21 is a diagram illustrating Example 1 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図22は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例1を示す図である。FIG. 22 is a diagram illustrating Example 1 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図23は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例1を示す図である。FIG. 23 is a diagram illustrating Example 1 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図24は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例1を示す図である。FIG. 24 is a diagram illustrating Example 1 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図25は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例1を示す図である。FIG. 25 is a diagram illustrating Example 1 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図26は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例2を示す図である。FIG. 26 is a diagram illustrating Example 2 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図27は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例2を示す図である。FIG. 27 is a diagram illustrating Example 2 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図28は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例2を示す図である。FIG. 28 is a diagram illustrating Example 2 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図29は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例2を示す図である。FIG. 29 is a diagram illustrating Example 2 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図30は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例2を示す図である。FIG. 30 is a diagram illustrating Example 2 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図31は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例2を示す図である。FIG. 31 is a diagram illustrating Example 2 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図32は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例2を示す図である。FIG. 32 is a diagram illustrating Example 2 of the bonding method according to the embodiment of the present invention. 図33は、本発明の実施形態に係るボンディング方法の実施例2を示す図である。FIG. 33 is a diagram illustrating Example 2 of the bonding method according to the embodiment of the present invention.

以下に本発明の実施の形態を説明する。以下の図面の記載において、同一又は類似の構成要素は同一又は類似の符号で表している。図面は例示であり、各部の寸法や形状は模式的なものであり、本願発明の技術的範囲を当該実施の形態に限定して解するべきではない。   Embodiments of the present invention will be described below. In the following description of the drawings, the same or similar components are denoted by the same or similar reference numerals. The drawings are exemplary, the dimensions and shapes of each part are schematic, and the technical scope of the present invention should not be construed as being limited to the embodiments.

図1〜図4を参照しつつ本実施形態に係るボンディング装置を説明する。図1は本実施形態に係るボンディング装置1の平面図を模式的に示したものである。図2はウェハのダイの搬送経路に着目したボンディング装置1の断面図を示したものである。図3及び図4はボンディング装置1の一部を示したものである。   The bonding apparatus according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 1 schematically shows a plan view of a bonding apparatus 1 according to the present embodiment. FIG. 2 is a cross-sectional view of the bonding apparatus 1 focusing on the wafer die transfer path. 3 and 4 show a part of the bonding apparatus 1.

図1に示すように本実施形態に係るボンディング装置1は、ウェハローダ部10と、ウェハ保持部12と、第1及び第2ボンディングヘッド20a,20bと、搬送レーン30と、搬送レーン30の一方端に設けられたローダ部40と、搬送レーン30の他方端に設けられたアンローダ部50と、ボンディング動作を制御するボンディング制御部60(図2参照)とを備える。以下の説明においては、ボンディング対象面に平行な方向をXY軸方向とし、ボンディング対象面に垂直な方向をZ軸方向として説明する。   As shown in FIG. 1, the bonding apparatus 1 according to this embodiment includes a wafer loader unit 10, a wafer holding unit 12, first and second bonding heads 20 a and 20 b, a transfer lane 30, and one end of the transfer lane 30. , An unloader unit 50 provided at the other end of the transport lane 30, and a bonding control unit 60 (see FIG. 2) for controlling the bonding operation. In the following description, a direction parallel to the bonding target surface will be described as an XY axis direction, and a direction perpendicular to the bonding target surface will be described as a Z axis direction.

ボンディング装置1は、ウェハ70のダイ72を基板80にボンディングするための半導体製造装置である。ダイ72は、集積回路パターンが形成された表面と、当該表面とは反対の裏面を有しており、以下に説明するボンディング装置1は、ダイ72の裏面が基板80に対向するようにダイ72を基板80にボンディングする。このようなボンディング装置1はダイボンディング装置と呼ばれる。   The bonding apparatus 1 is a semiconductor manufacturing apparatus for bonding a die 72 of a wafer 70 to a substrate 80. The die 72 has a front surface on which an integrated circuit pattern is formed and a back surface opposite to the front surface. The bonding apparatus 1 described below has the die 72 so that the back surface of the die 72 faces the substrate 80. Is bonded to the substrate 80. Such a bonding apparatus 1 is called a die bonding apparatus.

ウェハ70に含まれる複数のダイ72は、通常、複数のグレード毎に分類されており、グレード単位でダイ72が基板80にボンディングされる。基板80には複数のダイ72がボンディングされる。   The plurality of dies 72 included in the wafer 70 are generally classified into a plurality of grades, and the dies 72 are bonded to the substrate 80 in units of grades. A plurality of dies 72 are bonded to the substrate 80.

具体的には基板80は複数のダイ72がボンディングされる複数のダイボンディング領域を備えている。各ダイボンディング領域においては、少なくとも1つ以上のダイ72がボンディング可能であってもよい。すなわち、基板80の一つのダイボンディング領域のボンディング済みのダイ72上に他のダイ72がボンディングされてもよい。一つの基板80には同一のグレードに属する複数のダイ72がボンディングされる。   Specifically, the substrate 80 includes a plurality of die bonding regions to which a plurality of dies 72 are bonded. In each die bonding region, at least one or more dies 72 may be bondable. That is, another die 72 may be bonded onto the bonded die 72 in one die bonding region of the substrate 80. A plurality of dies 72 belonging to the same grade are bonded to one substrate 80.

本実施形態においては、ウェハ70は、第1グレードに属する少なくとも1つのダイ74と、第2グレード(例えば第1グレードよりも特性が劣るグレード)に属する少なくとも1つのダイ76とを含む。ウェハ70内における第1及び第2グレードの各ダイの比率は、特に限定されるわけではないが、例えば第1グレードが第2グレードよりも過半数を占めるような比率であってもよい。図1に示す例では、第1グレードに属するダイ74と第2グレードに属するダイ76の比率を3:1にしている。なお、グレードの分類は電気的特性などの所定の特性条件を満たすか否かによって決めることができる。   In the present embodiment, the wafer 70 includes at least one die 74 belonging to the first grade and at least one die 76 belonging to the second grade (for example, a grade having characteristics inferior to those of the first grade). The ratio of the first and second grade dies in the wafer 70 is not particularly limited. For example, the ratio may be such that the first grade occupies a majority of the second grade. In the example shown in FIG. 1, the ratio of the die 74 belonging to the first grade and the die 76 belonging to the second grade is 3: 1. The grade classification can be determined depending on whether or not a predetermined characteristic condition such as an electric characteristic is satisfied.

ウェハローダ部10(例えばウェハマガジン)は複数のウェハ70を収容するように構成されている。ウェハローダ部10は、例えば、各ウェハ70をXY軸方向に平行に支持しつつ、Z軸方向に複数のウェハ70を積層して収容する。なお、ウェハローダ部10には、既にダイシング工程が終了し、それぞれ複数の個片に分離された複数のダイを有するウェハ70が収容される。   The wafer loader unit 10 (for example, a wafer magazine) is configured to accommodate a plurality of wafers 70. The wafer loader unit 10 accommodates, for example, a plurality of wafers 70 stacked in the Z-axis direction while supporting each wafer 70 in parallel with the XY-axis direction. In the wafer loader unit 10, the dicing process has already been completed, and a wafer 70 having a plurality of dies separated into a plurality of individual pieces is accommodated.

ウェハ保持部12は、ウェハ搬送ツール(図示しない)によってウェハローダ部10から搬送されたウェハ70を保持するように構成されている。ウェハ保持部12は、例えば、ウェハ70を真空吸着すること又はフィルム上にウェハ70を貼り付けることによって、複数のダイ72を保持する。   The wafer holding unit 12 is configured to hold the wafer 70 transferred from the wafer loader unit 10 by a wafer transfer tool (not shown). For example, the wafer holding unit 12 holds the plurality of dies 72 by vacuum-sucking the wafer 70 or attaching the wafer 70 onto a film.

ウェハ保持部12に保持されたウェハ70の各ダイ72は、基板80にボンディングされるために、ピックアップツール14によって一旦中間ステージ16に搬送されてもよい(図2参照)。この場合、例えば、ウェハ保持部12の下方からフィルム越しにダイ72を突き上げるとともに、ピックアップツール14によって上方からフィルム上のダイ72を吸着し、ダイ72を中間ステージ16に搬送する。あるいは、ダイ72を突き上げる代わりに、ウェハ保持部12における搬送すべきダイ72の周辺領域を下方へ移動させてもよい。   Each die 72 of the wafer 70 held by the wafer holding unit 12 may be temporarily transferred to the intermediate stage 16 by the pickup tool 14 in order to be bonded to the substrate 80 (see FIG. 2). In this case, for example, the die 72 is pushed up through the film from below the wafer holding unit 12, the die 72 on the film is sucked from above by the pickup tool 14, and the die 72 is conveyed to the intermediate stage 16. Alternatively, instead of pushing up the die 72, the peripheral area of the die 72 to be transported in the wafer holding unit 12 may be moved downward.

中間ステージ14は、ウェハ保持部12と同様の保持手段によってダイ72を保持することができる。なお、ウェハ保持部12、ピックアップツール14及び中間ステージ16は、図示しないリニアモータなどの駆動機構により少なくともXY軸方向に移動可能に構成されていてもよい。   The intermediate stage 14 can hold the die 72 by holding means similar to the wafer holding unit 12. The wafer holding unit 12, the pickup tool 14, and the intermediate stage 16 may be configured to be movable at least in the XY axis directions by a driving mechanism such as a linear motor (not shown).

本実施形態に係るボンディング装置1は、複数のボンディングヘッドとして、第1及び第2ボンディングヘッド20a,20bを備えている。複数のボンディングヘッドを設けることによって複数の基板に対するボンディングを並行して行うことができる。   The bonding apparatus 1 according to this embodiment includes first and second bonding heads 20a and 20b as a plurality of bonding heads. By providing a plurality of bonding heads, bonding to a plurality of substrates can be performed in parallel.

第1及び第2ボンディングヘッド20a,20bは、ウェハ保持部12からピックアップされて中間ステージ14に搬送されたダイ72を基板80にボンディングする。図1に示すように、第1ボンディングヘッド20aは搬送レーン30の方向においてローダ部40側に配置され、第2ボンディングヘッド20bは搬送レーン30の方向においてアンローダ部50側に配置されている。第1及び第2ボンディングヘッド20a,20bは互いに同様の構成を備えていてもよい。   The first and second bonding heads 20 a and 20 b bond the die 72 picked up from the wafer holding unit 12 and transferred to the intermediate stage 14 to the substrate 80. As shown in FIG. 1, the first bonding head 20 a is disposed on the loader unit 40 side in the direction of the transport lane 30, and the second bonding head 20 b is disposed on the unloader unit 50 side in the direction of the transport lane 30. The first and second bonding heads 20a and 20b may have the same configuration.

図2を参照しつつ第1ボンディングヘッド20aを例に挙げて説明すると、第1ボンディングヘッド20aには、Z軸駆動機構21を介してボンディングツール22が取り付けられ、またボンディングツール22から所定の距離だけ離れた位置に撮像部24が取り付けられている。第1ボンディングヘッド20aはXYテーブル26によってXY軸方向に移動可能となっており、これによりボンディングツール22及び撮像部24は互いに所定の距離を維持しつつ共にXY軸方向に移動する。   The first bonding head 20a will be described as an example with reference to FIG. 2. A bonding tool 22 is attached to the first bonding head 20a via a Z-axis drive mechanism 21, and a predetermined distance from the bonding tool 22 is provided. The imaging unit 24 is attached at a position separated by a distance. The first bonding head 20a can be moved in the XY-axis direction by the XY table 26, whereby the bonding tool 22 and the imaging unit 24 move in the XY-axis direction while maintaining a predetermined distance from each other.

なお、図2に示す例では、ボンディングツール22と撮像部24が両方ともボンディングヘッド20aに固定された態様を示しているが、撮像部24は必ずしもボンディングヘッド20aに固定されていなくてもよく、ボンディングツール22とは独立して移動可能であってもよい。   In the example shown in FIG. 2, the bonding tool 22 and the imaging unit 24 are both fixed to the bonding head 20a. However, the imaging unit 24 is not necessarily fixed to the bonding head 20a. It may be movable independently of the bonding tool 22.

ボンディングツール22は、例えばダイ72を吸着保持するコレットである。このようなコレットは、直方体形状又は円錐台形状に構成されてダイ72の集積回路パターンが形成された表面側からダイ72の外縁に接触保持するように構成されている。ボンディングツール22であるコレットはZ軸方向と平行な中心軸を有しており、Z軸駆動機構21及びXYテーブル26によってZ軸方向及びXY軸方向にそれぞれ移動可能となっている。   The bonding tool 22 is, for example, a collet that holds the die 72 by suction. Such a collet is configured to have a rectangular parallelepiped shape or a truncated cone shape, and is configured to contact and hold the outer edge of the die 72 from the surface side where the integrated circuit pattern of the die 72 is formed. The collet as the bonding tool 22 has a central axis parallel to the Z-axis direction, and can be moved in the Z-axis direction and the XY-axis direction by the Z-axis drive mechanism 21 and the XY table 26, respectively.

ボンディングツール22は、図示しないθ軸駆動機構及びチルト駆動機構を介してボンディングヘッド22aに取り付けられており、これらの駆動機構によってZ軸回りの回転及びチルト方向(傾斜方向)に可動となっている。これらの構成によって、ボンディングツール22は、中間ステージ16に配置されるダイ72を上方にピックアップし、当該ピックアップしたダイ72を中間ステージ14から搬送ツール30へ搬送し、ダイ72を当該表面とは反対の裏面が基板80に対向する向きに基板80にボンディングすることができる。   The bonding tool 22 is attached to the bonding head 22a via a θ-axis drive mechanism and a tilt drive mechanism (not shown), and is movable in the rotation and tilt directions (tilt direction) around the Z-axis by these drive mechanisms. . With these configurations, the bonding tool 22 picks up the die 72 arranged on the intermediate stage 16 upward, conveys the picked die 72 from the intermediate stage 14 to the conveyance tool 30, and the die 72 is opposite to the surface. Can be bonded to the substrate 80 so that the back surface thereof faces the substrate 80.

ボンディングツール22による中間ステージ16からのダイ72のピックアップ手段は、ウェハ保持部12からのダイ72のピックアップ手段と同様であってもよい。   The means for picking up the die 72 from the intermediate stage 16 by the bonding tool 22 may be the same as the means for picking up the die 72 from the wafer holding unit 12.

撮像部24は、中間ステージ16に配置されたダイ72の画像情報を取得する。撮像部24は、Z軸方向に平行な光軸を有しており、中間ステージ16の作業面を撮像できるように構成されている。撮像部24は、XY軸方向に移動可能であり、例えば、ボンディングツール22によってダイ72をピックアップする直前に、中間ステージ16の上方に移動して中間ステージ16上のダイ72(集積回路パターンが形成された表面)の画像情報を取得する。撮像部24によって取得した画像情報に基づいて、ボンディングツール22によってダイ72を正確にピックアップ及び搬送することができる。   The imaging unit 24 acquires image information of the die 72 disposed on the intermediate stage 16. The imaging unit 24 has an optical axis parallel to the Z-axis direction, and is configured to image the work surface of the intermediate stage 16. The imaging unit 24 can move in the X and Y axis directions. For example, immediately before the die 72 is picked up by the bonding tool 22, the imaging unit 24 moves above the intermediate stage 16 to form a die 72 (an integrated circuit pattern is formed on the intermediate stage 16. Image information of the obtained surface). Based on the image information acquired by the imaging unit 24, the die 72 can be accurately picked up and conveyed by the bonding tool 22.

以上説明した第1ボンディングヘッド20aの構成は、第2ボンディングヘッド20bについても同様であってもよい。   The configuration of the first bonding head 20a described above may be the same for the second bonding head 20b.

図1に戻り、搬送レーン30は、第1及び第2ボンディングヘッド20a,20bによってボンディングするために基板80を搬送するように構成されている。搬送レーン30は単一方向に一つずつの基板80を搬送する単一レーンであってもよい。図1に示す例では搬送レーン30はX軸方向に基板80を搬送する。   Returning to FIG. 1, the transport lane 30 is configured to transport the substrate 80 for bonding by the first and second bonding heads 20a and 20b. The transport lane 30 may be a single lane that transports one substrate 80 at a time in a single direction. In the example shown in FIG. 1, the transport lane 30 transports the substrate 80 in the X-axis direction.

搬送レーン30は、第1ボンディングヘッド20aがボンディングするための領域30aと、第2ボンディングヘッド20bがボンディングするための領域30bとを有する。各領域には少なくとも1つの基板80が搬送される(図1に示す例では各領域に一つの基板80が搬送されている)。   The transport lane 30 has a region 30a for bonding the first bonding head 20a and a region 30b for bonding the second bonding head 20b. At least one substrate 80 is transferred to each region (in the example shown in FIG. 1, one substrate 80 is transferred to each region).

ローダ部40及びアンローダ部50のそれぞれは、複数の基板収容体90(例えば基板マガジン)を収容するように構成されている。各基板収容体90は、複数の基板80を収容するように構成されている。基板収容体90は、例えば、各基板80をXY軸方向に平行に支持しつつ、Z軸方向に複数の基板80を積層して収容する。一つの基板収容体90には同一のグレードに属する複数の基板80が収容される。   Each of the loader unit 40 and the unloader unit 50 is configured to accommodate a plurality of substrate containers 90 (for example, substrate magazines). Each substrate container 90 is configured to accommodate a plurality of substrates 80. The substrate container 90 accommodates, for example, a plurality of substrates 80 stacked in the Z-axis direction while supporting each substrate 80 in parallel with the XY-axis direction. One substrate container 90 accommodates a plurality of substrates 80 belonging to the same grade.

ローダ部40には、これからボンディングされるべき複数の基板80を収容した基板収容体90がロードされ、アンローダ部50には既にボンディングが終わった複数の基板80を収容した基板収容体がアンロードされる。本実施形態に係るボンディング装置においてはローダ部40及びアンローダ部50を実質的に同様の構成とすることができる。   The loader unit 40 is loaded with a substrate container 90 that houses a plurality of substrates 80 to be bonded, and the unloader unit 50 is unloaded with a substrate container that houses a plurality of substrates 80 that have already been bonded. The In the bonding apparatus according to the present embodiment, the loader unit 40 and the unloader unit 50 can have substantially the same configuration.

以下においては説明の便宜上、第1グレードに属するダイ74がボンディングされる基板及びそれが収容される基板収容体を基板84及び基板収容体94とし、第2グレードに属するダイ76がボンディングされる基板及びそれが収容される基板収容体を基板86及び基板収容体96とする。また、ダイ、基板及び基板収容体について、グレードを問わずに総称したものをダイ72、基板80及び基板収容体90とする。   In the following, for convenience of explanation, the substrate to which the die 74 belonging to the first grade is bonded and the substrate accommodating body in which the die 74 is accommodated are referred to as the substrate 84 and the substrate accommodating body 94, and the substrate to which the die 76 belonging to the second grade is bonded. The substrate container in which the substrate is accommodated is referred to as a substrate 86 and a substrate container 96. The die 72, the substrate 80, and the substrate container 90 are collectively referred to as the die 72, the substrate 80, and the substrate container 90 regardless of the grade.

図3及び図4も参照しつつ、ローダ部40及びアンローダ部50についてさらに説明する。図3はボンディング装置1をY軸方向から見たときの概略図であり、図4はボンディング装置1をX軸方向から見たときの概略図である。   The loader unit 40 and the unloader unit 50 will be further described with reference to FIGS. 3 and 4. 3 is a schematic view when the bonding apparatus 1 is viewed from the Y-axis direction, and FIG. 4 is a schematic view when the bonding apparatus 1 is viewed from the X-axis direction.

図3に示すように、ローダ部40又はアンローダ部50は、製造設備における所定のレーン17に従って走行する自動搬送機構18にアクセスして基板収容体90をロード又はアンロードするように構成されている。自動搬送機構18は、例えばOHT(OverheadHoist Transfer)である。OHTは、製造設備の天井に設置した軌道(レーン17)を走行し、ベルト駆動で上下するホイスト機構を備えており、これによって人手を介することなく直接的にローダ部40又はアンローダ部50にアクセスし、基板収容体90をロード又はアンロードすることができる。   As shown in FIG. 3, the loader unit 40 or the unloader unit 50 is configured to load or unload the substrate container 90 by accessing the automatic transport mechanism 18 that travels according to a predetermined lane 17 in the manufacturing facility. . The automatic transport mechanism 18 is, for example, an OHT (Overhead Hoist Transfer). The OHT has a hoist mechanism that travels on a track (lane 17) installed on the ceiling of the manufacturing facility and moves up and down by belt drive, thereby directly accessing the loader unit 40 or the unloader unit 50 without human intervention. Then, the substrate container 90 can be loaded or unloaded.

図3及び図4に示すように、ローダ部40は、Z軸方向に階層が異なる複数のデッキを有している。例えば、ローダ部40は、第1グレード及び第2グレードに属する基板収容体94,96を排出する排出デッキ42と、第1グレードに属する基板収容体94を収容する第1デッキ44と、第2グレードに属する基板収容体96を収容する第2デッキ46とを有する。これらの各デッキには一つ又は複数の基板収容体90が収容される。   As shown in FIGS. 3 and 4, the loader unit 40 has a plurality of decks having different levels in the Z-axis direction. For example, the loader unit 40 includes a discharge deck 42 that discharges the substrate containers 94 and 96 belonging to the first grade and the second grade, a first deck 44 that accommodates the substrate containers 94 belonging to the first grade, and a second deck. And a second deck 46 for accommodating a substrate container 96 belonging to a grade. Each of these decks accommodates one or a plurality of substrate containers 90.

図4に示すように、自動搬送機構18がZ軸方向に上下することによって、自動搬送機構18が搬送した基板収容体94,96をそれぞれ対応する第1デッキ42又は第2デッキ44に振り分けることができる。ローダ部40は、自動搬送機構18がアクセスする側とは反対側(図4に示す例ではY軸方向の反対側)において、Z軸方向に基板収容体90を上下させることが可能となっており、これにより基板収容体90を複数のデッキの各階層(最上層、中間層及び最下層)にわたって搬送することができる。   As shown in FIG. 4, when the automatic transport mechanism 18 moves up and down in the Z-axis direction, the substrate containers 94 and 96 transported by the automatic transport mechanism 18 are distributed to the corresponding first deck 42 or second deck 44, respectively. Can do. The loader unit 40 can move the substrate container 90 up and down in the Z-axis direction on the side opposite to the side accessed by the automatic transport mechanism 18 (the side opposite to the Y-axis direction in the example shown in FIG. 4). Thus, the substrate container 90 can be transported over each level (the uppermost layer, the intermediate layer, and the lowermost layer) of the plurality of decks.

本実施形態では、搬送レーン30はZ軸方向において第1デッキ42と同じ階層(中間層)に位置しており、基板収容体90を第1デッキ42と同じ中間層に移動させ、これにより搬送レーン30に対する基板80の受け渡しを行うことができるようになっている。   In the present embodiment, the transport lane 30 is located in the same layer (intermediate layer) as the first deck 42 in the Z-axis direction, and the substrate container 90 is moved to the same intermediate layer as the first deck 42, thereby transporting it. The substrate 80 can be transferred to the lane 30.

ローダ部40についてさらに詳述すると、図1に示す例では、排出デッキ42は領域42b,42cを有し、第1デッキ44は領域44b,44cを有し、第2デッキ46は領域46b,46cを有しており、各領域には一つの基板収容体90が収容される。自動搬送機構18によってローダ部に供給される基板収容体90は、Z軸方向に異なる階層に位置する領域44a又は領域46aを経由して、第1デッキ44又は第2デッキ46に振り分けられる。   The loader unit 40 will be described in more detail. In the example shown in FIG. 1, the discharge deck 42 has areas 42b and 42c, the first deck 44 has areas 44b and 44c, and the second deck 46 has areas 46b and 46c. One substrate container 90 is accommodated in each region. The substrate container 90 supplied to the loader unit by the automatic transport mechanism 18 is distributed to the first deck 44 or the second deck 46 via the region 44a or the region 46a located at different levels in the Z-axis direction.

各デッキの基板収容体90は、Z軸方向に異なる階層に位置する領域42d,44d,46dに移動可能となっており、第1デッキ44と同じ階層である領域44dを経由して搬送レーン30に対する基板80の受け渡しを行うことができる。   The substrate container 90 of each deck can be moved to areas 42d, 44d, 46d located in different levels in the Z-axis direction, and the transport lane 30 passes through the area 44d which is the same level as the first deck 44. The board | substrate 80 with respect to can be delivered.

アンローダ部50は、ローダ部40の構成と同様の構成を有していてもよい。例えば、アンローダ部50は、第1及び第2グレードに属する基板収容体94,96を排出する排出デッキ52と、第1グレードに属する基板収容体94を収容する第1デッキ54と、第2グレードに属する基板収容体96を収容する第2デッキ56とを有する。これらの各デッキには一つ又は複数の基板収容体90が収容される。自動搬送機構18が搬送した基板収容体90の振り分け、各デッキ間における基板収容体90の搬送、及び、搬送レーン30に対する基板80の受け渡しは、上記ローダ部40についての説明が当てはまる。   The unloader unit 50 may have a configuration similar to that of the loader unit 40. For example, the unloader unit 50 includes a discharge deck 52 that discharges the substrate containers 94 and 96 belonging to the first and second grades, a first deck 54 that accommodates the substrate containers 94 belonging to the first grade, and a second grade. And a second deck 56 that accommodates the substrate container 96 belonging to the above. Each of these decks accommodates one or a plurality of substrate containers 90. The description of the loader unit 40 applies to the distribution of the substrate containers 90 conveyed by the automatic conveyance mechanism 18, the conveyance of the substrate containers 90 between the decks, and the delivery of the substrates 80 to the conveyance lane 30.

アンローダ部50についてさらに詳述すると、図1に示す例では、排出デッキ52は領域52b,52cを有し、第1デッキ54は領域54b,54cを有し、第2デッキ56は領域56b,56cを有しており、各領域には一つの基板収容体90が収容される。自動搬送機構18によってアンローダ部に供給される基板収容体90は、Z軸方向に異なる階層に位置する領域54a又は領域56aを経由して、第1デッキ54又は第2デッキ56に振り分けられる。   The unloader unit 50 will be described in more detail. In the example shown in FIG. 1, the discharge deck 52 has areas 52b and 52c, the first deck 54 has areas 54b and 54c, and the second deck 56 has areas 56b and 56c. One substrate container 90 is accommodated in each region. The substrate container 90 supplied to the unloader unit by the automatic transport mechanism 18 is distributed to the first deck 54 or the second deck 56 via the region 54a or the region 56a located at different levels in the Z-axis direction.

各デッキの基板収容体90は、Z軸方向に異なる階層に位置する領域52d,54d,56dに移動可能となっており、第1デッキ54と同じ階層である領域54dを経由して搬送レーン30に対する基板80の受け渡しを行うことができる。   The substrate container 90 of each deck is movable to areas 52d, 54d, and 56d located in different levels in the Z-axis direction, and the transport lane 30 passes through the area 54d that is the same level as the first deck 54. The board | substrate 80 with respect to can be delivered.

図2に示すように、ボンディング制御部60は、ボンディング装置1によるボンディングのための必要な処理を制御する。ボンディング制御部60は、第1及び第2ボンディングヘッド20a,20bによるボンディング処理、ウェハ保持部12に保持されるウェハ70の交換処理、並びに、ダイ72、基板80及び基板収容体90の搬送処理を制御することを含む。ボンディング制御部60は、それらの処理に必要な範囲でボンディング装置1の各構成との間で信号の送受信が可能に接続され当該各構成の動作を制御する。   As shown in FIG. 2, the bonding control unit 60 controls necessary processing for bonding by the bonding apparatus 1. The bonding control unit 60 performs bonding processing by the first and second bonding heads 20a and 20b, replacement processing of the wafer 70 held by the wafer holding unit 12, and conveyance processing of the die 72, the substrate 80, and the substrate container 90. Including controlling. The bonding control unit 60 is connected to each component of the bonding apparatus 1 so as to be able to transmit and receive signals within a range necessary for these processes, and controls the operation of each component.

本実施形態においては、ボンディング制御部60は、記憶部62に格納されたマッピング情報に基づいて、ボンディングのための必要な処理を制御する。マッピング情報は、既に説明したウェハ70の各ダイ72におけるグレードに関する情報である。   In the present embodiment, the bonding control unit 60 controls necessary processing for bonding based on the mapping information stored in the storage unit 62. The mapping information is information relating to the grade of each die 72 of the wafer 70 already described.

ボンディング制御部60は、搬送レーンに搬送された少なくとも1つの基板80について、第1及び第2ボンディングヘッド20a,20bによって、基板80の全てのダイ72がボンディング完了した場合、当該基板80をダイ実装済基板としてアンローダ部50の基板収容体90に送るように構成されている。   When at least one substrate 80 transported to the transport lane is bonded to all the dies 72 of the substrate 80 by the first and second bonding heads 20a and 20b, the bonding control unit 60 mounts the substrate 80 on the die. It is comprised so that it may send to the board | substrate container 90 of the unloader part 50 as a finished board | substrate.

他方、ボンディング制御部60は、第1及び第2ボンディングヘッド20a,20bによって、基板80の全てのダイ72がボンディング完了していない場合、当該基板80をダイ未実装基板としてローダ部40の基板収容体80に戻すように構成されている。なお、かかる制御の詳細は後述のボンディング方法において説明する。   On the other hand, when all the dies 72 of the substrate 80 have not been bonded by the first and second bonding heads 20a and 20b, the bonding control unit 60 accommodates the substrate of the loader unit 40 using the substrate 80 as a die unmounted substrate. It is configured to return to the body 80. Details of such control will be described in the bonding method described later.

また、ボンディング制御部60には、制御情報を入力するための操作部(図示しない)と、制御情報を出力するための表示部(図示しない)が接続されており、これにより作業者が表示部によって画面を認識しながら操作部によって必要な制御情報を入力することができるようになっている。   The bonding control unit 60 is connected to an operation unit (not shown) for inputting control information and a display unit (not shown) for outputting control information. The necessary control information can be input by the operation unit while recognizing the screen.

なお、ボンディング制御部60は、CPU及びメモリなどを備えるコンピュータ装置であり、メモリ(記憶部62)には予めボンディングに必要な処理を行うためのボンディングプログラムやその他の必要な情報(上記マッピング情報を含む)が格納される。ボンディング制御部60は、後述するボンディング方法に関わる各工程を実行可能に構成されている(例えば各工程をコンピュータに実行させるためのプログラムを備える)。   The bonding control unit 60 is a computer device including a CPU and a memory. The memory (storage unit 62) stores in advance a bonding program for performing processing necessary for bonding and other necessary information (the mapping information described above). Is stored). The bonding control unit 60 is configured to be able to execute each process related to a bonding method described later (for example, a program for causing a computer to execute each process).

次に、図5を参照しつつ本実施形態に係るボンディング方法を説明する。図5は本実施形態に係るボンディング方法を説明するためのフローチャートである。本実施形態に係るボンディング方法は上記ボンディング装置1を用いて行うことができる。   Next, the bonding method according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a flowchart for explaining the bonding method according to the present embodiment. The bonding method according to this embodiment can be performed using the bonding apparatus 1 described above.

まず、ローダ部40及びアンローダ部50に基板収容体90を供給する(S10)。具体的には、ローダ部40には、ボンディングするために複数の基板80を収容した基板収容体90をロードし、アンローダ部50には、ボンディングを終えた複数の基板80をアンロードするために空の基板収容体90を供給する。基板収容体90は自動搬送機構18によってローダ部40及びアンローダ部50に供給することができる。   First, the substrate container 90 is supplied to the loader unit 40 and the unloader unit 50 (S10). Specifically, the loader unit 40 is loaded with a substrate container 90 containing a plurality of substrates 80 for bonding, and the unloader unit 50 is unloaded with a plurality of bonded substrates 80. An empty substrate container 90 is supplied. The substrate container 90 can be supplied to the loader unit 40 and the unloader unit 50 by the automatic transport mechanism 18.

次に、ローダ部40の基板収容体90から基板80を搬送レーン30に搬送する(S11)。具体的には、基板収容体90を領域44dに移動させ、領域44dに配置した基板収容体90から少なくとも1つの基板80を搬送レーン30に搬送する。   Next, the substrate 80 is transferred from the substrate container 90 of the loader unit 40 to the transfer lane 30 (S11). Specifically, the substrate container 90 is moved to the region 44d, and at least one substrate 80 is transported to the transport lane 30 from the substrate container 90 disposed in the region 44d.

この間、ウェハローダ部10に収容された複数のウェハ70のうちいずれかのウェハ70を取り出し、ウェハ保持部12に保持させる。既に説明したとおり、ウェハ70に含まれる複数のダイ72は複数のグレード毎に分類されており、かかるグレード毎の分類はマッピング情報としてボンディング制御部60の記憶部62に格納されている。したがって、ボンディング制御部60は、ウェハ保持部12に保持されるウェハ70毎に、当該ウェハ70のマッピング情報を記憶部62から読み出し、マッピング情報に基づいてボンディング制御を行う。   During this time, any one of the plurality of wafers 70 accommodated in the wafer loader unit 10 is taken out and held in the wafer holding unit 12. As already described, the plurality of dies 72 included in the wafer 70 are classified into a plurality of grades, and the classification for each grade is stored in the storage unit 62 of the bonding control unit 60 as mapping information. Therefore, the bonding control unit 60 reads the mapping information of the wafer 70 from the storage unit 62 for each wafer 70 held by the wafer holding unit 12, and performs bonding control based on the mapping information.

次に、基板80に複数のダイ72をボンディングする(S12)。ボンディング制御部60がマッピング情報に基づいて、搬送レーン30に搬送された基板80のグレード毎に、対応するグレードの複数のダイ72を基板80にボンディングする。この場合、第1及び第2ボンディングヘッド20a,20bによって、搬送レーン30に搬送された複数の基板80を並行してボンディング処理してもよい。第1及び第2ボンディングヘッド20a,20bはそれぞれ同時に又は順番にボンディングしてもよい。   Next, a plurality of dies 72 are bonded to the substrate 80 (S12). The bonding control unit 60 bonds a plurality of dies 72 of the corresponding grade to the substrate 80 for each grade of the substrate 80 transferred to the transfer lane 30 based on the mapping information. In this case, the plurality of substrates 80 transferred to the transfer lane 30 may be bonded in parallel by the first and second bonding heads 20a and 20b. The first and second bonding heads 20a and 20b may be bonded simultaneously or sequentially.

第1及び第2ボンディングヘッド20a,20bは、それぞれ同一のグレードを並行してボンディングしてもよいし、あるいは異なるグレードを並行してボンディングしてもよい。具体的には、搬送レーン30に第1グレードに属する2つの基板84を搬送し、第1及び第2ボンディングヘッド20a,20bによって、第1グレードに属する複数のダイ74を各基板84の複数のダイボンディング領域にボンディングしてもよい。   The first and second bonding heads 20a and 20b may bond the same grade in parallel, or may bond different grades in parallel. Specifically, the two substrates 84 belonging to the first grade are transported to the transport lane 30, and the plurality of dies 74 belonging to the first grade are transferred to the plurality of dies on each substrate 84 by the first and second bonding heads 20 a and 20 b. Bonding may be performed in the die bonding region.

あるいは、搬送レーン30に第1及び第2グレードに属する各基板84,86を搬送し、第1及び第2ボンディングヘッド20a,20bの一方によって、第1グレードに属する複数のダイ74を基板84の複数のダイボンディング領域にボンディングし、第1及び第2ボンディングヘッド20a,20bの他方によって、第2グレードに属する複数のダイ76を基板86の複数のダイボンディング領域にボンディングしてもよい。なお、既に述べたとおり、一つのダイボンディング領域には複数のダイ74を積層させてボンディングしてもよい。   Alternatively, the substrates 84 and 86 belonging to the first and second grades are conveyed to the conveyance lane 30, and a plurality of dies 74 belonging to the first grade are transferred to the substrate 84 by one of the first and second bonding heads 20 a and 20 b. A plurality of dies 76 belonging to the second grade may be bonded to a plurality of die bonding regions of the substrate 86 by the other of the first and second bonding heads 20a and 20b. As already described, a plurality of dies 74 may be stacked and bonded in one die bonding region.

そして、基板80にボンディングされるべき全てのダイ72がボンディングされた場合、当該基板80をアンローダ部50へ送る(S13 YES及びS14)。すなわち、基板80の複数のダイボンディング領域の全てがダイ74で満たされ、基板80がダイ実装済基板と判断される場合、当該基板80をアンローダ部50の領域54dに配置した基板収容体90に収容する。   When all the dies 72 to be bonded to the substrate 80 are bonded, the substrate 80 is sent to the unloader unit 50 (S13 YES and S14). That is, when all of the plurality of die bonding regions of the substrate 80 are filled with the die 74 and the substrate 80 is determined to be a die mounted substrate, the substrate 80 is disposed in the region 54d of the unloader unit 50. Accommodate.

第1及び第2ボンディングヘッド20a,20bによって複数の基板80を並行処理する場合、例えばアンローダ部50側に配置された第2ボンディングヘッド20bに対してダイ実装済基板の生成を優先的に行ってもよい。   When the plurality of substrates 80 are processed in parallel by the first and second bonding heads 20a and 20b, for example, a die-mounted substrate is preferentially generated with respect to the second bonding head 20b disposed on the unloader unit 50 side. Also good.

他方、基板80にボンディングされるべき全てのダイ72がボンディングされていない場合、当該基板80をローダ部40へ戻す(S13 NO及びS15)。すなわち、基板80の複数のダイボンディング領域にダイ74が全くボンディングされていない又は複数のダイボンディング領域の一部のみにダイ74がボンディングされており、ダイ74のボンディングの余地があるとして、基板80がダイ未実装基板と判断される場合、当該基板80をローダ部40の領域44dに配置した基板収容体90に収容する。   On the other hand, when all the dies 72 to be bonded to the substrate 80 are not bonded, the substrate 80 is returned to the loader unit 40 (S13 NO and S15). That is, it is assumed that the die 74 is not bonded at all to the plurality of die bonding regions of the substrate 80 or the die 74 is bonded to only a part of the plurality of die bonding regions, and there is room for bonding of the die 74. Is determined to be a die-unmounted substrate, the substrate 80 is accommodated in the substrate accommodating body 90 disposed in the region 44d of the loader unit 40.

最後に、ボンディングすべき他のダイ72及び基板80が存在するか否かを判断し(S16)、ボンディングすべき他のダイ72及び基板80が存在すると判断した場合、ステップS11に戻る(S16 YES)。   Finally, it is determined whether or not there is another die 72 and substrate 80 to be bonded (S16). If it is determined that there is another die 72 and substrate 80 to be bonded, the process returns to step S11 (S16 YES). ).

このときボンディング制御部60は、ウェハ保持部12に保持されたウェハ70に含まれる全てのダイ74のボンディングを終えた場合、当該ウェハ70を処理済みウェハとしてウェハローダ部10に戻し、ウェハローダ部10から他のウェハ70をウェハ保持部12に送る。このようにして、ウェハローダ部10に収容された複数のウェハ70の全てのダイ72のボンディングが終了し、ボンディングすべき他のダイ72及び基板80が存在しないと判断した場合、本実施形態に係るボンディング方法を終了する(S16 NO)。   At this time, when the bonding control unit 60 finishes bonding of all the dies 74 included in the wafer 70 held by the wafer holding unit 12, the bonding control unit 60 returns the wafer 70 to the wafer loader unit 10 as a processed wafer. Another wafer 70 is sent to the wafer holder 12. In this way, when it is determined that the bonding of all the dies 72 of the plurality of wafers 70 accommodated in the wafer loader unit 10 is completed and there is no other die 72 and substrate 80 to be bonded, the present embodiment is concerned. The bonding method is terminated (S16 NO).

以上のとおり、本実施形態によれば、ローダ部40の基板収容体90から搬送レーン30に搬送された少なくとも1つの基板80について、第1及び第2ボンディングヘッド20a,20bによって基板80の全てのダイ72がボンディング完了した場合、当該基板80をダイ実装済基板としてアンローダ部50の基板収容体90に送り、他方、第1及び第2ボンディングヘッド20a,20bによって基板80の全てのダイ72がボンディング完了していない場合、当該基板80をダイ未実装基板としてローダ部40の基板収容体90に戻すように構成されている。   As described above, according to the present embodiment, all of the substrates 80 in the first and second bonding heads 20a and 20b are used for at least one substrate 80 transferred from the substrate container 90 of the loader unit 40 to the transfer lane 30. When the bonding of the die 72 is completed, the substrate 80 is sent as a die-mounted substrate to the substrate container 90 of the unloader unit 50, and all the dies 72 of the substrate 80 are bonded by the first and second bonding heads 20a and 20b. If not completed, the substrate 80 is returned to the substrate container 90 of the loader unit 40 as a die-unmounted substrate.

したがって、ダイ未実装基板とダイ実装済基板を画一的に処理することができ、簡易な機構によって効率良くグレード単位でダイ72を基板80にボンディングできる。   Therefore, the die unmounted substrate and the die mounted substrate can be processed uniformly, and the die 72 can be efficiently bonded to the substrate 80 in units of grade by a simple mechanism.

次に、本実施形態に係るボンディング装置1を用いたボンディング方法の実施例について説明する。以下の各実施例は、ボンディング制御部60がマッピング情報に基づいてボンディング装置1の各構成を制御することによって行うことができる。   Next, an example of a bonding method using the bonding apparatus 1 according to the present embodiment will be described. Each of the following embodiments can be performed by the bonding control unit 60 controlling each configuration of the bonding apparatus 1 based on the mapping information.

以下の各実施例では、基板収容体に収容可能な基板の数が3つである場合を例に説明する。また、基板84a〜84iは第1グレードに属する複数のダイ74がボンディングされる基板を示し、基板86a〜86cは第2グレードに属する複数のダイ76がボンディングされる基板を示すものとする。   In the following embodiments, a case where the number of substrates that can be accommodated in the substrate container is three will be described as an example. The substrates 84a to 84i are substrates to which a plurality of dies 74 belonging to the first grade are bonded, and the substrates 86a to 86c are substrates to which a plurality of dies 76 belonging to the second grade are bonded.

(実施例1)
図6〜図25を参照して実施例1について説明する。本実施例では、搬送レーン30上に同一のグレードに属する複数の基板を搬送し、第1及び第2ボンディングヘッド20a,20bがいずれも同じグレードに属するダイを基板にボンディングする。
Example 1
Example 1 will be described with reference to FIGS. In this embodiment, a plurality of substrates belonging to the same grade are transferred onto the transfer lane 30, and the first and second bonding heads 20a and 20b both bond dies belonging to the same grade to the substrate.

本実施例においては、各図に示されるとおり、実施例1の一連の工程において、ローダ部40及びアンローダ部50における各基板収容体の配置は同じである。また、ローダ部40及びアンローダ部50のそれぞれにおいて複数の基板収容体は、それらの移動経路が重ならなければ同時に移動させればよい。本実施例は以下の(1)〜(4)の各一連の工程に分けられる。   In the present embodiment, as shown in each drawing, the arrangement of the substrate containers in the loader unit 40 and the unloader unit 50 is the same in the series of steps of the first embodiment. Further, in each of the loader unit 40 and the unloader unit 50, the plurality of substrate containers may be moved at the same time if their movement paths do not overlap. This embodiment is divided into a series of steps (1) to (4) below.

(1)最初に、図6〜図11を参照しつつ、最初のウェハ70における第1グレードに属する複数のダイ74を基板84にボンディングし、当該基板84を基板収容体94に収容するまでの一連の工程を説明する。   (1) First, referring to FIGS. 6 to 11, a plurality of dies 74 belonging to the first grade in the first wafer 70 are bonded to the substrate 84, and the substrate 84 is accommodated in the substrate accommodating body 94. A series of steps will be described.

まず、図6に示すように、自動搬送機構18によってローダ部40及びアンローダ部50に第1グレードに属する基板収容体94を供給する。具体的には、ローダ部40において、第1グレードに属する複数の基板84a,84b,84cを収容した基板収容体94を領域44aに供給し、アンローダ部50において、空の基板収容体94を領域54aに供給する。この間、ウェハローダ部10に収容した複数のウェハ70のうち、一枚のウェハ70をウェハ保持部12に搬送させるために待機させる。ウェハ70には、第1グレードに属する複数のダイ74(図6では12個)と、第2グレードに属する複数のダイ76(図6では4個)とが含まれている。   First, as shown in FIG. 6, a substrate container 94 belonging to the first grade is supplied to the loader unit 40 and the unloader unit 50 by the automatic transport mechanism 18. Specifically, in the loader unit 40, a substrate container 94 containing a plurality of substrates 84a, 84b, 84c belonging to the first grade is supplied to the region 44a, and in the unloader unit 50, an empty substrate container 94 is disposed in the region. 54a. During this time, among the plurality of wafers 70 accommodated in the wafer loader unit 10, one wafer 70 is put on standby to be transferred to the wafer holding unit 12. The wafer 70 includes a plurality of dies 74 (12 in FIG. 6) belonging to the first grade and a plurality of dies 76 (four in FIG. 6) belonging to the second grade.

次に、図7に示すように、ローダ部40において、基板収容体94を第1デッキ44上の領域44bを経て領域44cに移動させ、他方、アンローダ部50において、基板収容体94を第1デッキ54上の領域54bを経て領域54cに移動させる。   Next, as shown in FIG. 7, in the loader unit 40, the substrate container 94 is moved to the region 44 c via the region 44 b on the first deck 44, while the substrate loader 94 is moved to the first region in the unloader unit 50. It moves to the area 54c through the area 54b on the deck 54.

これと同時に、自動搬送機構18によってローダ部40及びアンローダ部50に第2グレードに属する基板収容体96を供給する。具体的には、ローダ部40において、第2グレードに属する複数の基板86a,86b,86cを収容した基板収容体96を領域44aに供給し、アンローダ部50において、空の基板収容体96を領域54aに供給する。なお、これらの基板収容体の移動処理と並行して、ウェハ70をウェハローダ部10からウェハ保持部12に搬送する。   At the same time, the automatic transport mechanism 18 supplies the substrate container 96 belonging to the second grade to the loader unit 40 and the unloader unit 50. Specifically, in the loader unit 40, the substrate container 96 containing a plurality of substrates 86a, 86b, 86c belonging to the second grade is supplied to the region 44a, and in the unloader unit 50, the empty substrate container 96 is disposed in the region. 54a. In parallel with the movement process of the substrate container, the wafer 70 is transferred from the wafer loader unit 10 to the wafer holding unit 12.

次に、図8に示すように、ローダ部40において、基板収容体94を領域44dに移動させ、他方、アンローダ部50において、基板収容体94を領域54dに移動させる。そして、ローダ部40において、基板収容体94に収容される3つの基板84a〜84cのうち、基板84aを搬送レーン30の領域30aに搬送し、基板84bを搬送レーン30の領域30bに搬送する。なお、図8に示すように、各基板84a,84bにはそれぞれ複数のダイボンディング領域(図8では各基板8個のダイボンディング領域)が設けられている。   Next, as shown in FIG. 8, in the loader unit 40, the substrate container 94 is moved to the region 44d, and in the unloader unit 50, the substrate container 94 is moved to the region 54d. In the loader unit 40, among the three substrates 84 a to 84 c accommodated in the substrate container 94, the substrate 84 a is transported to the region 30 a of the transport lane 30, and the substrate 84 b is transported to the region 30 b of the transport lane 30. As shown in FIG. 8, each substrate 84a, 84b is provided with a plurality of die bonding regions (eight bonding regions for each substrate in FIG. 8).

またこの間、ローダ部40において、基板収容体96を領域46aを経て第2デッキ46の領域46bに移動させ、他方、アンローダ部50において、基板収容体96を領域56aを経て第2デッキ56の領域56bに移動させる。   During this time, the loader unit 40 moves the substrate container 96 through the region 46a to the region 46b of the second deck 46, while the unloader unit 50 moves the substrate container 96 through the region 56a to the region of the second deck 56. Move to 56b.

次に、図9に示すように、第2ボンディングヘッド20bによって、ウェハ保持部12から搬送されたウェハ70における第1グレードに属する複数のダイ74を、領域30bに搬送された基板84aの全てのダイボンディング領域にボンディングする。   Next, as shown in FIG. 9, the plurality of dies 74 belonging to the first grade in the wafer 70 transferred from the wafer holding unit 12 by the second bonding head 20b are transferred to all the substrates 84a transferred to the region 30b. Bond to the die bonding area.

この間、ローダ部40において、基板収容体96を第2デッキ46の領域46cに移動させるとともに、他方、アンローダ部50において、基板収容体96を第2デッキ56の領域56cに移動させる。さらに、自動搬送機構18によってローダ部40及びアンローダ部50に後続の第1グレードに属する基板収容体94を供給する。具体的には、ローダ部40において、第1グレードに属する複数の基板84d,84e,84fを収容した後続の基板収容体94を領域44aに供給し、アンローダ部50において、空の後続の基板収容体94を領域54aに供給する。   During this time, the substrate container 96 is moved to the region 46 c of the second deck 46 in the loader unit 40, while the substrate container 96 is moved to the region 56 c of the second deck 56 in the unloader unit 50. Further, the automatic transport mechanism 18 supplies the substrate container 94 belonging to the subsequent first grade to the loader unit 40 and the unloader unit 50. Specifically, the loader unit 40 supplies the subsequent substrate container 94 containing the plurality of substrates 84d, 84e, 84f belonging to the first grade to the region 44a, and the unloader unit 50 stores the empty subsequent substrate. Body 94 is supplied to region 54a.

その後、図10に示すように、ウェハ70の第1グレードに属するダイ74のボンディングを引き続き行う。すなわち、第1ボンディングヘッド20aによって、ウェハ70の第1グレードに属する残りの複数のダイ74を、領域30aにおける基板84bの一部のダイボンディング領域にボンディングする。こうして、ウェハ保持部12上のウェハ70における第1グレードに属するダイ74を全てボンディングする。   Thereafter, as shown in FIG. 10, the bonding of the die 74 belonging to the first grade of the wafer 70 is continued. That is, the remaining plurality of dies 74 belonging to the first grade of the wafer 70 are bonded to a part of the die bonding region of the substrate 84b in the region 30a by the first bonding head 20a. In this way, all the dies 74 belonging to the first grade in the wafer 70 on the wafer holding unit 12 are bonded.

この結果、搬送レーン30には、複数のダイボンディング領域の全てにダイ74がボンディングされた基板84aと、複数のダイボンディング領域の一部に未だボンディングする余地が残っている基板84bが存在する。その後、実装済基板である基板84aは領域30bからアンローダ部50へ送り、他方、ダイ未実装基板である基板84bは領域30aからローダ部40に戻す。またボンディング処理の間、ローダ部40において、後続の基板収容体94を第1デッキの領域44bに移動させ、他方、アンローダ部50において、後続の基板収容体94を第1デッキの領域54bに移動させる。   As a result, the transfer lane 30 includes the substrate 84a in which the die 74 is bonded to all of the plurality of die bonding regions and the substrate 84b in which room for bonding still remains in a part of the plurality of die bonding regions. Thereafter, the substrate 84a which is a mounted substrate is sent from the region 30b to the unloader unit 50, while the substrate 84b which is a die-unmounted substrate is returned from the region 30a to the loader unit 40. During the bonding process, the loader unit 40 moves the subsequent substrate container 94 to the first deck region 44b, and the unloader unit 50 moves the subsequent substrate container 94 to the first deck region 54b. Let

こうして図11に示すように、アンローダ部50の領域54dの基板収容体94には、全てのダイボンディング領域にダイ74がボンディングされた基板84a(実装済基板)が収容され、他方、ローダ部40の領域44dの基板収容体94には、一部のダイボンディング領域にダイ74がボンディングされた基板84b(ダイ未実装基板)が収容される。   Thus, as shown in FIG. 11, the substrate container 94 in the region 54 d of the unloader unit 50 accommodates the substrate 84 a (mounted substrate) in which the die 74 is bonded to all the die bonding regions, while the loader unit 40. The substrate container 94 in the region 44d accommodates a substrate 84b (die unmounted substrate) in which a die 74 is bonded to a part of the die bonding region.

基板84a,84bをローダ部40又はアンローダ部50に移動させる間、ローダ部40において後続の基板収容体94を第1デッキ44の領域44cに移動させ、他方、アンローダ部50において後続の基板収容体94を第1デッキ54の領域54cに移動させる。   While the substrates 84a and 84b are moved to the loader unit 40 or the unloader unit 50, the subsequent substrate container 94 is moved to the area 44c of the first deck 44 in the loader unit 40, while the subsequent substrate container is moved in the unloader unit 50. 94 is moved to the area 54 c of the first deck 54.

以上のとおり、最初のウェハ70における第1グレードに属する複数のダイ74を基板84a,84bにボンディングし、各基板84a,84bをローダ部40又はアンローダ部50の基板収容体94に収容することができる。   As described above, the plurality of dies 74 belonging to the first grade in the first wafer 70 can be bonded to the substrates 84a and 84b, and the substrates 84a and 84b can be accommodated in the substrate container 94 of the loader unit 40 or the unloader unit 50. it can.

(2)次に、図12〜図15を参照しつつ、最初のウェハ70における第2グレードに属する複数のダイ76を基板86にボンディングし、当該基板86を基板収容体96に収容するまでの一連の工程を説明する。   (2) Next, referring to FIG. 12 to FIG. 15, a plurality of dies 76 belonging to the second grade in the first wafer 70 are bonded to the substrate 86 and the substrate 86 is accommodated in the substrate container 96. A series of steps will be described.

図12に示すように、ローダ部40において、各基板収容体94を第1デッキ44の領域44b,44cに移動させ、他方、アンローダ部50において、各基板収容体94を第1デッキ54の領域54b,54cに移動させる。またこの間、ローダ部40において、基板収容体96を領域46dに移動させ、他方、アンローダ部50において、基板収容体96を領域56dに移動させる。   As shown in FIG. 12, in the loader unit 40, each substrate container 94 is moved to the regions 44 b and 44 c of the first deck 44, while in the unloader unit 50, each substrate container 94 is moved to the region of the first deck 54. Move to 54b, 54c. During this time, the loader unit 40 moves the substrate container 96 to the region 46d, and the unloader unit 50 moves the substrate container 96 to the region 56d.

その後さらに、図13に示すように、ローダ部40において、基板収容体96を領域44dに移動させ、他方、アンローダ部50において、基板収容体96を領域54dに移動させる。そして、ローダ部40において、基板収容体96に収容される3つの基板86a〜86cのうち、基板86aを搬送レーン30の領域30bに搬送する。なお、図13に示すように、基板86aにはそれぞれ複数のダイボンディング領域(図13では8個のダイボンディング領域)が設けられている。   Thereafter, as shown in FIG. 13, the substrate container 96 is moved to the region 44d in the loader unit 40, and the substrate container 96 is moved to the region 54d in the unloader unit 50. In the loader unit 40, among the three substrates 86 a to 86 c accommodated in the substrate container 96, the substrate 86 a is transported to the region 30 b of the transport lane 30. As shown in FIG. 13, the substrate 86a is provided with a plurality of die bonding regions (eight die bonding regions in FIG. 13).

次に、図14に示すように、第2ボンディングヘッド20bによって、ウェハ保持部12から搬送されたウェハ70における第2グレードに属する複数のダイ76を、領域30bに搬送された基板86aの一部のダイボンディング領域にボンディングする。こうして、ウェハ保持部12上のウェハ70における第2グレードに属するダイ76を全てボンディングする。この結果、搬送レーン30には、複数のダイボンディング領域の一部に未だボンディングする余地が残っている基板86aが存在する。その後、ダイ未実装基板である基板86aは領域30bからローダ部40に戻す。   Next, as shown in FIG. 14, a plurality of dies 76 belonging to the second grade in the wafer 70 transferred from the wafer holding unit 12 by the second bonding head 20b are part of the substrate 86a transferred to the region 30b. Bond to the die bonding area. In this way, all the dies 76 belonging to the second grade in the wafer 70 on the wafer holding unit 12 are bonded. As a result, in the transfer lane 30, there is a substrate 86a in which room for bonding still remains in a part of the plurality of die bonding regions. Thereafter, the substrate 86a which is a die-unmounted substrate is returned from the region 30b to the loader unit 40.

こうして図15に示すように、ローダ部40の領域44dの基板収容体96には、一部のダイボンディング領域にダイ76がボンディングされた基板86a(ダイ未実装基板)が収容される。またこの間、第1グレード及び第2グレードの各ダイ74,76を全てボンディングし終えたウェハ70は、処理済みウェハとして、ウェハ保持部12からウェハローダ部10へ移動される。   Thus, as shown in FIG. 15, the substrate housing 96 in the region 44d of the loader unit 40 accommodates the substrate 86a (die unmounted substrate) in which the die 76 is bonded to a part of the die bonding region. During this time, the wafer 70 that has been bonded to the first-grade and second-grade dies 74 and 76 is moved from the wafer holding unit 12 to the wafer loader unit 10 as a processed wafer.

以上のとおり、最初のウェハ70における第2グレードに属する複数のダイ76を基板86a,86bにボンディングし、各基板86a,86bをローダ部40の基板収容体96に収容することができる。   As described above, the plurality of dies 76 belonging to the second grade in the first wafer 70 can be bonded to the substrates 86 a and 86 b, and the substrates 86 a and 86 b can be accommodated in the substrate container 96 of the loader unit 40.

(3)さらに、図16〜図20を参照しつつ、後続のウェハ70における第1グレードに属する複数のダイ74を基板84にボンディングし、当該基板84を基板収容体94に収容するまでの一連の工程を説明する。   (3) Further, referring to FIGS. 16 to 20, a series of processes until a plurality of dies 74 belonging to the first grade in the subsequent wafer 70 are bonded to the substrate 84 and the substrate 84 is accommodated in the substrate accommodating body 94. The process will be described.

図16に示すように、ローダ部40において、基板収容体96を領域46dを経由して第2デッキ46の領域46cに移動させ、他方、アンローダ部50において、基板収容体96を領域56dを経由して第2デッキ56の領域56cに移動させる。またこの間、後続のウェハ70をウェハローダ部10からウェハ保持部12に搬送する。   As shown in FIG. 16, in the loader unit 40, the substrate container 96 is moved to the region 46c of the second deck 46 via the region 46d. On the other hand, in the unloader unit 50, the substrate container 96 is moved via the region 56d. Then, it is moved to the area 56 c of the second deck 56. During this time, the subsequent wafer 70 is transferred from the wafer loader unit 10 to the wafer holding unit 12.

次に、図17に示すように、ローダ部40において、各基板収容体94を領域44c,44dに移動させ、他方、アンローダ部50において、各基板収容体94を領域54c,54dに移動させる。そして、ローダ部40において、領域54dの基板収容体94から、基板84cを搬送レーン30の領域30aに搬送し、基板84bを搬送レーン30の領域30bに搬送する。なお、図17に示すように、基板84bには既に一部のダイボンディング領域にダイ74がボンディングされている。また基板84cにはそれぞれ複数のダイボンディング領域(図17では8個のダイボンディング領域)が設けられている。   Next, as shown in FIG. 17, in the loader unit 40, each substrate container 94 is moved to the regions 44c and 44d, and in the unloader unit 50, each substrate container 94 is moved to the regions 54c and 54d. In the loader unit 40, the substrate 84c is transferred from the substrate container 94 in the region 54d to the region 30a in the transfer lane 30, and the substrate 84b is transferred to the region 30b in the transfer lane 30. As shown in FIG. 17, the die 74 is already bonded to a part of the die bonding region of the substrate 84b. Each substrate 84c is provided with a plurality of die bonding regions (eight die bonding regions in FIG. 17).

図18に示すように、第2ボンディングヘッド20bによって、ウェハ保持部12から搬送された後続のウェハ70における第1グレードに属する複数のダイ74を、領域30bに搬送された基板84bの残りの一部のダイボンディング領域にボンディングする。その後、図19に示すように、後続のウェハ70の第1グレードに属するダイ74のボンディングを引き続き行う。   As shown in FIG. 18, a plurality of dies 74 belonging to the first grade in the subsequent wafer 70 transferred from the wafer holding unit 12 by the second bonding head 20b are transferred to the remaining one of the substrates 84b transferred to the region 30b. Bonding to the die bonding area of the part. Thereafter, as shown in FIG. 19, the bonding of the die 74 belonging to the first grade of the subsequent wafer 70 is continued.

すなわち、第1ボンディングヘッド20aによって、後続のウェハ70の第1グレードに属する残りの複数のダイ74を、領域30aにおける基板84cの全てのダイボンディング領域にボンディングする。こうして、ウェハ保持部12上の後続のウェハ70における第1グレードに属するダイ74を全てボンディングする。   That is, the remaining plurality of dies 74 belonging to the first grade of the subsequent wafer 70 are bonded to all the die bonding regions of the substrate 84c in the region 30a by the first bonding head 20a. In this way, all the dies 74 belonging to the first grade in the subsequent wafer 70 on the wafer holding unit 12 are bonded.

この結果、搬送レーン30には、複数のダイボンディング領域の全てにダイ74がボンディングされた各基板84b,84cが存在する。その後、実装済基板である各基板84b,84cは搬送レーン30からアンローダ部50へ送られる。   As a result, the transfer lane 30 includes the substrates 84b and 84c in which the die 74 is bonded to all of the plurality of die bonding regions. Thereafter, the boards 84b and 84c, which are mounted boards, are sent from the transport lane 30 to the unloader unit 50.

こうして図20に示すように、アンローダ部50の領域54dの基板収容体94には、全てのダイボンディング領域にダイ74がボンディングされた基板84b,84c(実装済基板)が追加で収容される。この結果、基板収容体94は、実装済基板である基板84a〜84cによって満たされ、他に基板が収容する余地がない状態となる。   In this way, as shown in FIG. 20, the substrates 84b and 84c (mounted substrates) in which the dies 74 are bonded to all the die bonding regions are additionally accommodated in the substrate accommodating body 94 in the region 54d of the unloader section 50. As a result, the substrate container 94 is filled with the substrates 84a to 84c, which are mounted substrates, and there is no other room for the substrate to be accommodated.

以上のとおり、後続のウェハ70における第1グレードに属する複数のダイ74を基板84b,84cにボンディングし、各基板84b,84cをアンローダ部50の基板収容体94に収容することができる。   As described above, the plurality of dies 74 belonging to the first grade in the subsequent wafer 70 can be bonded to the substrates 84 b and 84 c, and the substrates 84 b and 84 c can be accommodated in the substrate container 94 of the unloader unit 50.

(4)最後に、図21〜図25を参照しつつ、後続のウェハ70における第2グレードに属する複数のダイ74を基板86にボンディングし、当該基板86を基板収容体96に収容するまでの一連の工程を説明する。   (4) Finally, referring to FIGS. 21 to 25, a plurality of dies 74 belonging to the second grade in the subsequent wafer 70 are bonded to the substrate 86, and the substrate 86 is accommodated in the substrate accommodating body 96. A series of steps will be described.

図21に示すように、ローダ部40において、空の基板収容体94を領域42dに移動させ、他方、アンローダ部50において、実装済基板である基板84a〜84cによって満たされた基板収容体94を領域52dに移動させる。さらに、自動搬送機構18によってローダ部40及びアンローダ部50に後続の第1グレードに属する基板収容体94を供給する。具体的には、ローダ部40において、第1グレードに属する複数の基板84g,84h,84iを収容した後続の基板収容体94を領域44aに供給し、アンローダ部50において、空の後続の基板収容体94を領域54aに供給する。   As shown in FIG. 21, in the loader unit 40, the empty substrate container 94 is moved to the region 42d. On the other hand, in the unloader unit 50, the substrate container 94 filled with the substrates 84a to 84c, which are mounted substrates, is moved. Move to region 52d. Further, the automatic transport mechanism 18 supplies the substrate container 94 belonging to the subsequent first grade to the loader unit 40 and the unloader unit 50. Specifically, the loader unit 40 supplies the subsequent substrate container 94 containing the plurality of substrates 84g, 84h, 84i belonging to the first grade to the region 44a, and the unloader unit 50 stores the empty subsequent substrate. Body 94 is supplied to region 54a.

次に、図22に示すように、ローダ部40において、後続の基板収容体94を第1デッキの領域44bに移動させ、他方、アンローダ部50において、後続の基板収容体94を第1デッキの領域54bに移動させる。またこの間、ローダ部40において、空の基板収容体94を排出デッキ42上の領域42cを経由して領域42bに移動させ、他方、アンローダ部50において、実装済基板である基板84a〜84cによって満たされた基板収容体94を排出デッキ52上の領域52cを経由して領域52bに移動させる。その後、自動搬送機構18によってローダ部40及びアンローダ部50から各排出デッキ42,52に配置された各基板収容体94を排出する。   Next, as shown in FIG. 22, in the loader unit 40, the subsequent substrate container 94 is moved to the first deck region 44b, while in the unloader unit 50, the subsequent substrate container 94 is moved to the first deck. Move to region 54b. During this time, in the loader unit 40, the empty substrate container 94 is moved to the region 42b via the region 42c on the discharge deck 42, while the unloader unit 50 is filled with the substrates 84a to 84c that are mounted substrates. The substrate holder 94 thus moved is moved to the area 52 b via the area 52 c on the discharge deck 52. Thereafter, the substrate transporters 94 disposed on the discharge decks 42 and 52 are discharged from the loader unit 40 and the unloader unit 50 by the automatic transport mechanism 18.

こうして、アンローダ部50から第1グレードに属するダイ74が全てボンディングされた実装済基板である基板84a〜84cをアンロードすることができる。また同時に、ローダ部40から空の基板収容体94を回収することができる。   In this manner, the substrates 84a to 84c, which are mounted substrates on which all the dies 74 belonging to the first grade are bonded, can be unloaded from the unloader section 50. At the same time, the empty substrate container 94 can be recovered from the loader unit 40.

次に、図23に示すように、ローダ部40において、基板収容体96を領域46dを経由して領域44dに移動させ、他方、アンローダ部50において、基板収容体96を領域56dを経由して領域54dに移動させる。そして、ローダ部40において、基板収容体96に収容される3つの基板86a〜86cのうち、基板86aを搬送レーン30の領域30bに搬送する。なお、図23に示すように、基板86aには既に一部のダイボンディング領域にダイ76がボンディングされている。   Next, as shown in FIG. 23, in the loader unit 40, the substrate container 96 is moved to the region 44d via the region 46d. On the other hand, in the unloader unit 50, the substrate container 96 is moved via the region 56d. Move to region 54d. In the loader unit 40, among the three substrates 86 a to 86 c accommodated in the substrate container 96, the substrate 86 a is transported to the region 30 b of the transport lane 30. As shown in FIG. 23, a die 76 is already bonded to a part of the die bonding region on the substrate 86a.

次に、図24に示すように、第2ボンディングヘッド20bによって、ウェハ保持部12から搬送された後続のウェハ70における第2グレードに属する複数のダイ76を、領域30bに搬送された基板86aの残りの一部のダイボンディング領域にボンディングする。   Next, as shown in FIG. 24, the plurality of dies 76 belonging to the second grade in the subsequent wafer 70 transferred from the wafer holding unit 12 by the second bonding head 20b are transferred to the region 86b of the substrate 86a. Bonding to the remaining part of the die bonding area.

こうして、ウェハ保持部12上の後続のウェハ70における第2グレードに属するダイ76を全てボンディングする。この結果、搬送レーン30の領域30bには、複数のダイボンディング領域の全てにダイ76がボンディングされた基板86aが存在する。その後、実装済基板である基板86aは搬送レーン30からアンローダ部50へ送られる。   In this way, all the dies 76 belonging to the second grade in the subsequent wafer 70 on the wafer holding unit 12 are bonded. As a result, the substrate 86a in which the die 76 is bonded to all of the plurality of die bonding regions exists in the region 30b of the transfer lane 30. Thereafter, the board 86 a that is a mounted board is sent from the transfer lane 30 to the unloader unit 50.

こうして図25に示すように、アンローダ部50の領域54dの基板収容体96には、全てのダイボンディング領域にダイ76がボンディングされた基板86a(実装済基板)が収容される。またこの間、第1グレード及び第2グレードの各ダイ74,76を全てボンディングし終えた後続のウェハ70は処理済みウェハとして、ウェハ保持部12からウェハローダ部10へ移動される。   Thus, as shown in FIG. 25, the substrate housing 96 in the region 54d of the unloader section 50 accommodates the substrate 86a (mounted substrate) in which the die 76 is bonded to all the die bonding regions. During this time, the subsequent wafer 70 after bonding all the first-grade and second-grade dies 74 and 76 is moved from the wafer holding unit 12 to the wafer loader unit 10 as a processed wafer.

以上のとおり、後続のウェハ70における第2グレードに属する複数のダイ76を基板86aにボンディングし、基板86aをアンローダ部50の基板収容体96に収容することができる。   As described above, the plurality of dies 76 belonging to the second grade in the subsequent wafer 70 can be bonded to the substrate 86a, and the substrate 86a can be accommodated in the substrate accommodating body 96 of the unloader section 50.

(実施例2)
図26〜図33を参照して実施例2について説明する。本実施例では、搬送レーン30上に異なるグレードに属する複数の基板を搬送し、第1及び第2ボンディングヘッド20a,20bが互いに異なるグレードに属するダイを基板にボンディングする。なお、以下に示す実施例2では、図6〜図18に示される一連の工程までは上記実施例1で説明した内容と同じである。
(Example 2)
A second embodiment will be described with reference to FIGS. In the present embodiment, a plurality of substrates belonging to different grades are conveyed onto the conveyance lane 30, and the first and second bonding heads 20a and 20b bond dies belonging to different grades to the substrate. In Example 2 shown below, the series of steps shown in FIGS. 6 to 18 are the same as those described in Example 1 above.

図18に示されるように、搬送レーン30の領域30bにおける基板84bが実装済基板であり、かつ、搬送レーン30の領域30aにおける基板84cがダイ未実装基板である場合であって、ダイ未実装基板である基板84cにおける第1グレードに属するボンディングすべきダイ74の残りの個数(図18では8個)が、ウェハ70における第2グレードに属するダイ76の残りの個数(図18では4個)を上回るという条件において、本実施例の処理を行うことが好ましい。このような実施例1又は実施例2の切り替えは、マッピング情報に基づいてボンディング制御部60が実行する。   As shown in FIG. 18, the substrate 84b in the region 30b of the transport lane 30 is a mounted substrate, and the substrate 84c in the region 30a of the transport lane 30 is a die unmounted substrate, The remaining number of dies 74 to be bonded belonging to the first grade in the substrate 84c (8 in FIG. 18) is the remaining number of dies 76 belonging to the second grade in the wafer 70 (four in FIG. 18). It is preferable to perform the processing of the present embodiment under the condition that it exceeds. The switching between the first embodiment and the second embodiment is performed by the bonding control unit 60 based on the mapping information.

上記条件に基づいて実施例2に切り替えることにより、後述する図30に示されるように、第1グレードに属する基板84cを実装済基板としつつ、異なるグレードである第2グレードに属する基板86bを未実装基板とすることができる。したがって、第1グレードに属する基板84cをアンローダ部50へ送ると同時に、第2グレードに属する基板86bをローダ部40に送ることができるため、異なるグレードに属する基板を搬送レーン30に滞留させることなく迅速に退避させることができる。よって、処理効率を落とすことなく異なるグレードに属する各基板をボンディングすることができる。   By switching to the second embodiment based on the above conditions, as shown in FIG. 30 to be described later, the board 84c belonging to the first grade is set as the mounted board, while the board 86b belonging to the second grade which is a different grade is not changed. It can be a mounting substrate. Therefore, since the substrate 84c belonging to the first grade can be sent to the unloader unit 50 and at the same time the substrate 86b belonging to the second grade can be sent to the loader unit 40, a substrate belonging to a different grade can be retained in the transport lane 30. It can be evacuated quickly. Therefore, it is possible to bond the substrates belonging to different grades without reducing the processing efficiency.

具体的に実施例2の一連の工程を説明すると、まず、図26に示すように、複数のダイボンディング領域の全てにダイ74がボンディングされた基板84bを実装済基板としてアンローダ部50に送る。またこれと同時に、第1グレードに属するダイ74がボンディングされるべき基板84cを領域30aから領域30bに移動させる。   Specifically, a series of steps of Example 2 will be described. First, as shown in FIG. 26, a substrate 84b in which dies 74 are bonded to all of a plurality of die bonding regions is sent to the unloader unit 50 as a mounted substrate. At the same time, the substrate 84c to which the die 74 belonging to the first grade is to be bonded is moved from the region 30a to the region 30b.

こうして図27に示すように、アンローダ部50の領域54dの基板収容体94には、全てのダイボンディング領域にダイ74がボンディングされた基板84b(実装済基板)が追加で収容される。この結果、基板収容体94は、実装済基板である基板84a,84bが収容される。また、第2ボンディングヘッド20bによって、後続のウェハ70の第1グレードに属するダイ74を、領域30bにおける基板84cにボンディングする。そしてこの間、ローダ部40において、各基板収容体94を領域44b,44cに移動させる。   In this way, as shown in FIG. 27, the substrate accommodating body 94 in the region 54d of the unloader section 50 additionally accommodates a substrate 84b (mounted substrate) in which the die 74 is bonded to all the die bonding regions. As a result, the substrate container 94 accommodates the substrates 84a and 84b, which are mounted substrates. Further, the die 74 belonging to the first grade of the subsequent wafer 70 is bonded to the substrate 84c in the region 30b by the second bonding head 20b. During this time, in the loader unit 40, each substrate container 94 is moved to the regions 44b and 44c.

その後、図28に示すように、ウェハ70の第1グレードに属するダイ74のボンディングを引き続き行う。すなわち、第2ボンディングヘッド20bによって、ウェハ70の第1グレードに属する複数のダイ74を、領域30bにおける基板84cのダイボンディング領域にボンディングする。またこの間、ローダ部40において、基板収容体96を領域46を経由して領域44dに移動させる。   Thereafter, as shown in FIG. 28, bonding of the die 74 belonging to the first grade of the wafer 70 is continued. That is, the plurality of dies 74 belonging to the first grade of the wafer 70 are bonded to the die bonding region of the substrate 84c in the region 30b by the second bonding head 20b. During this time, the substrate container 96 is moved to the region 44 d via the region 46 in the loader unit 40.

さらに、図29に示すように、引き続き、第2ボンディングヘッド20bによって、ウェハ70の第1グレードに属する複数のダイ74を、領域30bにおける基板84cのダイボンディング領域にボンディングする。またこの間、ローダ部40において、基板収容体96に収容される3つの基板86a〜86cのうち、基板86bを搬送レーン30の領域30aに搬送する。なお、図29に示すように、基板86bには複数のダイボンディング領域(図29では8個のダイボンディング領域)が設けられている。   Further, as shown in FIG. 29, the plurality of dies 74 belonging to the first grade of the wafer 70 are subsequently bonded to the die bonding region of the substrate 84c in the region 30b by the second bonding head 20b. During this time, among the three substrates 86 a to 86 c accommodated in the substrate accommodating body 96, the loader unit 40 conveys the substrate 86 b to the region 30 a of the conveyance lane 30. As shown in FIG. 29, the substrate 86b is provided with a plurality of die bonding regions (eight die bonding regions in FIG. 29).

その後、図30に示すように、引き続き、第2ボンディングヘッド20bによるボンディングを行い、後続のウェハ70における第1グレードに属する複数のダイ74を、領域30bに搬送された基板84cの全てのダイボンディング領域にボンディングする。   Thereafter, as shown in FIG. 30, the second bonding head 20b is subsequently bonded, and the plurality of dies 74 belonging to the first grade in the subsequent wafer 70 are all bonded to the substrate 84c transferred to the region 30b. Bond to the area.

また、第2ボンディングヘッド20bによる第1グレードのボンディングと同時に、第1ボンディングヘッド20aによって、後続のウェハ70の第2グレードに属する複数のダイ76を、領域30aにおける基板84bの一部のダイボンディング領域にボンディングする。こうして、ウェハ保持部12上の後続のウェハ70における第1及び第2グレードに属するダイ74,76を全てボンディングする。   Simultaneously with the first grade bonding by the second bonding head 20b, a plurality of dies 76 belonging to the second grade of the subsequent wafer 70 are bonded to a part of the substrate 84b in the region 30a by the first bonding head 20a. Bond to the area. In this way, all the dies 74 and 76 belonging to the first and second grades of the subsequent wafer 70 on the wafer holding unit 12 are bonded.

この結果、搬送レーン30には、複数のダイボンディング領域の全てにダイ74がボンディングされた基板84c(第1グレードに属する実装済基板)と、複数のダイボンディング領域の一部に未だボンディングする余地が残っている基板86b(第2グレードに属するダイ未実装基板)とが存在する。その後、ダイ実装済基板である基板84cは領域30bからアンローダ部50へ送り、他方、ダイ未実装基板である基板86bは領域30aからローダ部40に戻す。   As a result, the transfer lane 30 includes a substrate 84c (a mounted substrate belonging to the first grade) in which the die 74 is bonded to all of the plurality of die bonding regions, and room for bonding to a part of the plurality of die bonding regions. There remains a substrate 86b (die unmounted substrate belonging to the second grade). Thereafter, the substrate 84c which is a die-mounted substrate is sent from the region 30b to the unloader unit 50, while the substrate 86b which is a die-unmounted substrate is returned from the region 30a to the loader unit 40.

こうして図31に示すように、アンローダ部50の領域54dの基板収容体94には、全てのダイボンディング領域にダイ74がボンディングされた基板84c(実装済基板)が追加で収容され、他方、ローダ部40の領域44dの基板収容体96には、一部のダイボンディング領域にダイ76がボンディングされた基板86b(ダイ未実装基板)が追加で収容される。   In this way, as shown in FIG. 31, the substrate container 94 in the region 54d of the unloader section 50 additionally stores a substrate 84c (mounted substrate) in which the die 74 is bonded to all the die bonding regions, while the loader The substrate container 96 in the region 44d of the section 40 additionally accommodates a substrate 86b (die unmounted substrate) in which the die 76 is bonded to a part of the die bonding region.

基板86b,84cをローダ部40又はアンローダ部50に移動させる間、第1グレード及び第2グレードの各ダイ74,76を全てボンディングし終えたウェハ70は、処理済みウェハとして、ウェハ保持部12からウェハローダ部10へ移動される。   While the substrates 86b and 84c are moved to the loader unit 40 or the unloader unit 50, the wafer 70 in which all of the first-grade and second-grade dies 74 and 76 have been bonded is treated as a processed wafer from the wafer holding unit 12. It is moved to the wafer loader unit 10.

次に、図32に示すように、ローダ部40において、基板収容体96を領域46dを経由して第2デッキ46の領域46cに移動させる。またこの間、後続のウェハ70をウェハローダ部10からウェハ保持部12に搬送する。その後、図33に示すように、ローダ部40において、各基板収容体94を領域44d及び領域44cに移動させる。こうして、ローダ部40及びアンローダ部50における各基板収容体の配置を同じにすることができる。   Next, as shown in FIG. 32, in the loader unit 40, the substrate container 96 is moved to the region 46c of the second deck 46 via the region 46d. During this time, the subsequent wafer 70 is transferred from the wafer loader unit 10 to the wafer holding unit 12. Thereafter, as shown in FIG. 33, in the loader unit 40, each substrate container 94 is moved to the region 44d and the region 44c. Thus, the arrangement of the substrate containers in the loader unit 40 and the unloader unit 50 can be made the same.

なお、本実施例における図32以降の処理は、上記実施例1で説明した図21以降の処理を適用することができる。   In addition, the process after FIG. 21 demonstrated in the said Example 1 can apply the process after FIG. 32 in a present Example.

本発明は、上記実施形態に限定されることなく種々に変形して適用することが可能である。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be variously modified and applied.

上記実施形態では、ダイ72の裏面が基板80に対向するようにダイ72を基板80にダイボンディングする態様を説明したが、本発明においてはダイの集積回路パターンが形成された表面を基板に対向する向きにボンディングしてもよい。すなわち、ダイを基板にフェースダウンボンディングしてもよい。   In the above-described embodiment, the embodiment has been described in which the die 72 is die-bonded to the substrate 80 so that the back surface of the die 72 faces the substrate 80. In the present invention, the surface on which the integrated circuit pattern of the die is formed faces the substrate. Bonding may be performed in the direction to be performed. That is, the die may be face-down bonded to the substrate.

また、上記実施形態では第1及び第2ボンディングヘッド20a,20bによってボンディングする態様を説明したが、本発明においてはボンディングヘッドは1つでもよいし、あるいは、3つ以上のボンディングヘッドを適用してもよい。   In the above embodiment, the first and second bonding heads 20a and 20b are bonded. However, in the present invention, one bonding head may be used, or three or more bonding heads may be applied. Also good.

また、上記実施形態では単一の搬送レーンを用いる態様を説明したが、本発明においては複数の搬送レーンの適用を妨げるものではなく、例えばウェハのグレードの数が3以上であれば2つの搬送レーンを適用してもよい。これによれば、グレードの数の割にはボンディング装置の大型化を抑えることができる。   In the above-described embodiment, a mode in which a single transfer lane is used has been described. However, in the present invention, application of a plurality of transfer lanes is not hindered. For example, if the number of wafer grades is 3 or more, two transfers are performed. Lanes may be applied. According to this, the enlargement of the bonding apparatus can be suppressed for the number of grades.

また、上記実施形態ではウェハのダイのグレードの数が2つである態様を説明したが、例えば3以上であってもよい。   Further, in the above-described embodiment, the mode in which the number of wafer die grades is two has been described, but it may be three or more, for example.

なお、基板は複数のダイがボンディングされた後にそれぞれ個片に切断されるものを用いてもよいし、あるいは、基板における複数のダイがボンディングされる領域はボンディング前に予め個々の部材に分離されていてもよい。   The substrate may be one that is cut into individual pieces after bonding a plurality of dies, or the region of the substrate where the plurality of dies are bonded is separated into individual members before bonding. It may be.

上記発明の実施形態を通じて説明された実施の態様は、用途に応じて適宜に組み合わせて、又は変更若しくは改良を加えて用いることができ、本発明は上述した実施形態の記載に限定されるものではない。そのような組み合わせ又は変更若しくは改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。   Embodiments described through the embodiments of the present invention can be used in appropriate combination according to the application, or can be used with modifications or improvements, and the present invention is not limited to the description of the above-described embodiments. Absent. It is apparent from the description of the scope of claims that the embodiments added with such combinations or changes or improvements can be included in the technical scope of the present invention.

1…ボンディング装置
10…ウェハローダ部
12…ウェハ保持部
14…ピックアップツール
16…中間ステージ
17…レーン
18…自動搬送機構
20a…第1ボンディングヘッド
20b…第2ボンディングヘッド
21…Z軸駆動機構
22…ボンディングツール
24…撮像部
26…XYテーブル
30…搬送レーン
40…ローダ部
42…排出デッキ
44…第1デッキ
46…第2デッキ
50…アンローダ部
52…排出デッキ
54…第1デッキ
56…第2デッキ
60…ボンディング制御部
70…ウェハ
72…ダイ
74…ダイ(第1グレード)
76…ダイ(第2グレード)
80…基板
84…基板(第1グレード)
86…基板(第2グレード)
90…基板収容体
94…基板収容体(第1グレード)
96…基板収容体(第2グレード)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Bonding apparatus 10 ... Wafer loader part 12 ... Wafer holding part 14 ... Pick-up tool 16 ... Intermediate stage 17 ... Lane 18 ... Automatic conveyance mechanism 20a ... 1st bonding head 20b ... 2nd bonding head 21 ... Z-axis drive mechanism 22 ... Bonding Tool 24 ... Imaging unit 26 ... XY table 30 ... Transport lane 40 ... Loader unit 42 ... Discharge deck 44 ... First deck 46 ... Second deck 50 ... Unloader unit 52 ... Discharge deck 54 ... First deck 56 ... Second deck 60 ... Bonding control unit 70 ... Wafer 72 ... Die 74 ... Die (first grade)
76 ... Die (2nd grade)
80 ... Substrate 84 ... Substrate (first grade)
86 ... Substrate (second grade)
90 ... Substrate container 94 ... Substrate container (first grade)
96 ... Substrate container (second grade)

Claims (13)

複数のグレードに区分される複数のダイを有するウェハを保持するウェハ保持部と、
前記ウェハ保持部から搬送された前記ダイを基板にボンディングするボンディングヘッドと、
前記ボンディングヘッドによってボンディングするために前記基板を搬送する搬送レーンと、
前記搬送レーンの一方端に設けられたローダ部と、
前記搬送レーンの他方端に設けられたアンローダ部と、
前記ウェハにおける複数のグレード毎にダイを分類したマッピング情報に基づいて、前記ウェハの前記各ダイを当該ダイのグレードに対応する前記基板にボンディングするボンディング制御部と
を備え、
前記ローダ部及び前記アンローダ部のそれぞれは、複数の基板収容体を収容し、
前記複数の基板収容体は、それぞれ同一のグレードに属する複数の基板を収容し、
前記複数の基板は、それぞれ同一のグレードに属する複数のダイがボンディングされるものであり、
前記ボンディング制御部は、前記ローダ部の前記基板収容体から前記搬送レーンに搬送された少なくとも1つの基板について、(i)前記ボンディングヘッドによって前記基板の全てのダイがボンディング完了した場合、前記基板をダイ実装済基板として前記アンローダ部の前記基板収容体に送り、他方、(ii)前記ボンディングヘッドによって前記基板の全てのダイがボンディング完了していない場合、前記基板をダイ未実装基板として前記ローダ部の前記基板収容体に戻す、ボンディング装置。
A wafer holding unit for holding a wafer having a plurality of dies divided into a plurality of grades;
A bonding head for bonding the die conveyed from the wafer holding unit to a substrate;
A transport lane for transporting the substrate for bonding by the bonding head;
A loader portion provided at one end of the transport lane;
An unloader provided at the other end of the transport lane;
A bonding control unit for bonding each die of the wafer to the substrate corresponding to the grade of the die, based on mapping information that classifies the die for each of a plurality of grades in the wafer;
Each of the loader unit and the unloader unit accommodates a plurality of substrate containers,
The plurality of substrate containers each house a plurality of substrates belonging to the same grade,
The plurality of substrates are each bonded to a plurality of dies belonging to the same grade,
The bonding control unit, for at least one substrate transported from the substrate container of the loader unit to the transport lane, (i) when all the dies of the substrate have been bonded by the bonding head, As a die-mounted substrate, it is sent to the substrate container of the unloader unit. On the other hand, (ii) when all the dies of the substrate have not been bonded by the bonding head, the substrate is regarded as a die-unmounted substrate. A bonding apparatus for returning to the substrate container.
前記ボンディングヘッドは、前記ウェハ保持部から搬送された前記ダイを、前記基板上、又は、前記基板にボンディング済みのダイ上にボンディングする、請求項1記載のボンディング装置。   The bonding apparatus according to claim 1, wherein the bonding head bonds the die transported from the wafer holding unit onto the substrate or a die that has been bonded to the substrate. 前記ボンディングヘッドは、第1ボンディングヘッドと、前記第1ボンディングヘッドよりも前記アンローダ部側に配置された第2ボンディングヘッドとを含み、
前記ボンディング制御部は、前記第1及び第2ボンディングヘッドのそれぞれに対して前記(i)又は(ii)を行う、請求項1記載のボンディング装置。
The bonding head includes a first bonding head and a second bonding head disposed on the unloader part side of the first bonding head,
The bonding apparatus according to claim 1, wherein the bonding control unit performs (i) or (ii) on each of the first and second bonding heads.
前記ボンディング制御部は、前記アンローダ部側に配置された前記第2ボンディングヘッドに対して優先的に前記(i)を行う、請求項3記載のボンディング装置。   The bonding apparatus according to claim 3, wherein the bonding control unit preferentially performs the step (i) with respect to the second bonding head disposed on the unloader unit side. 前記ボンディング制御部は、前記マッピング情報に基づいて、前記ローダ部の前記基板収容体から前記搬送レーンに搬送された同一のグレードに属する複数の基板について、前記第1及び第2ボンディングヘッドによって前記(i)又は(ii)を行う、請求項3記載のボンディング装置。   The bonding control unit uses the first and second bonding heads for the plurality of substrates belonging to the same grade transferred from the substrate container of the loader unit to the transfer lane based on the mapping information. The bonding apparatus according to claim 3, wherein i) or (ii) is performed. 前記ボンディング制御部は、前記マッピング情報に基づいて、前記ローダ部の前記基板収容体から前記搬送レーンに搬送された互いに異なるグレードに属する複数の基板について、前記第1及び第2ボンディングヘッドによって前記(i)又は(ii)を行う、請求項3記載のボンディング装置。   Based on the mapping information, the bonding control unit uses the first and second bonding heads for the plurality of substrates belonging to different grades transferred from the substrate container of the loader unit to the transfer lane. The bonding apparatus according to claim 3, wherein i) or (ii) is performed. 前記マッピング情報は、前記ウェハの各ダイを第1又は第2グレードに分類する情報を含む、請求項1記載のボンディング装置。   The bonding apparatus according to claim 1, wherein the mapping information includes information for classifying each die of the wafer into a first or second grade. 前記ボンディング制御部は、前記ウェハ保持部に保持された前記ウェハの前記第1グレードに対して前記(i)又は(ii)を行い、その後、前記ウェハ保持部に保持された前記ウェハの前記第2グレードに対して前記(i)又は(ii)を行う、請求項7記載のボンディング装置。   The bonding control unit performs the (i) or (ii) on the first grade of the wafer held by the wafer holding unit, and then the first of the wafer held by the wafer holding unit. The bonding apparatus according to claim 7, wherein (i) or (ii) is performed for two grades. 前記ローダ部又は前記アンローダ部は、階層が異なる複数のデッキを有し、
前記複数のデッキは、前記第1グレードに属する前記基板収容体を収容する第1デッキと、前記第2グレードに属する前記基板収容体を収容する第2デッキとを含む、請求項7記載のボンディング装置。
The loader unit or the unloader unit has a plurality of decks having different levels,
The bonding according to claim 7, wherein the plurality of decks include a first deck that houses the substrate container belonging to the first grade, and a second deck that houses the substrate container belonging to the second grade. apparatus.
前記ローダ部又は前記アンローダ部は、製造設備における所定のレーンに従って走行する自動搬送機構にアクセスして前記基板収容体をロード又はアンロードする、請求項1記載のボンディング装置。   The bonding apparatus according to claim 1, wherein the loader unit or the unloader unit loads or unloads the substrate container by accessing an automatic conveyance mechanism that travels according to a predetermined lane in a manufacturing facility. 複数の前記ウェハを収容するウェハローダ部をさらに含み、
前記ボンディング制御部は、前記ウェハ保持部に保持された前記ウェハにおいてボンディングすべき全てのダイがボンディング完了した場合、前記ウェハを処理済ウェハとして前記ウェハローダ部に戻し、前記ウェハローダ部から他のウェハを前記ウェハ保持部に送る、請求項1記載のボンディング装置。
It further includes a wafer loader unit that accommodates a plurality of the wafers,
The bonding control unit returns the wafer to the wafer loader unit as a processed wafer when all the dies to be bonded to the wafer held in the wafer holding unit are bonded, and another wafer is transferred from the wafer loader unit. The bonding apparatus according to claim 1, wherein the bonding apparatus sends the wafer to the wafer holding unit.
前記搬送レーンは単一レーンである、請求項1から11のいずれか一項に記載のボンディング装置。   The bonding apparatus according to claim 1, wherein the transport lane is a single lane. 複数のグレードに区分される複数のダイを有するウェハを保持するウェハ保持部と、
前記ウェハ保持部から搬送された前記ダイを基板にボンディングするボンディングヘッドと、
前記ボンディングヘッドによってボンディングするために前記基板を搬送する搬送レーンと、
前記搬送レーンの一方端に設けられたローダ部と、
前記搬送レーンの他方端に設けられたアンローダ部と、
前記ウェハにおける複数のグレード毎にダイを分類したマッピング情報に基づいて、前記ウェハの前記各ダイを当該ダイのグレードに対応する前記基板にボンディングするボンディング制御部と
を備えるボンディング装置を用いたボンディング方法であって、
前記ローダ部及び前記アンローダ部のそれぞれは、複数の基板収容体を収容し、
前記複数の基板収容体は、それぞれ同一のグレードに属する複数の基板を収容し、
前記複数の基板は、それぞれ同一のグレードに属する複数のダイがボンディングされるものであり、
前記方法は、前記ローダ部の前記基板収容体から前記搬送レーンに搬送された少なくとも1つの基板について、(i)前記ボンディングヘッドによって前記基板の全てのダイがボンディング完了した場合、前記基板をダイ実装済基板として前記アンローダ部の前記基板収容体に送り、他方、(ii)前記ボンディングヘッドによって前記基板の全てのダイがボンディング完了していない場合、前記基板をダイ未実装基板として前記ローダ部の前記基板収容体に戻す、ボンディング方法。
A wafer holding unit for holding a wafer having a plurality of dies divided into a plurality of grades;
A bonding head for bonding the die conveyed from the wafer holding unit to a substrate;
A transport lane for transporting the substrate for bonding by the bonding head;
A loader portion provided at one end of the transport lane;
An unloader provided at the other end of the transport lane;
A bonding method using a bonding apparatus including a bonding control unit for bonding each die of the wafer to the substrate corresponding to the grade of the die based on mapping information in which dies are classified for each of a plurality of grades in the wafer. Because
Each of the loader unit and the unloader unit accommodates a plurality of substrate containers,
The plurality of substrate containers each house a plurality of substrates belonging to the same grade,
The plurality of substrates are each bonded to a plurality of dies belonging to the same grade,
In the method, for at least one substrate transported from the substrate container of the loader unit to the transport lane, (i) when all the dies of the substrate have been bonded by the bonding head, the substrate is die-mounted. Sent to the substrate container of the unloader unit as a finished substrate, and (ii) when all the dies of the substrate have not been bonded by the bonding head, the substrate is used as a die-unmounted substrate and the loader unit A bonding method for returning to the substrate container.
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