JP6587557B2

JP6587557B2 - Exposure illumination apparatus, exposure apparatus and exposure method

Info

Publication number: JP6587557B2
Application number: JP2016033348A
Authority: JP
Inventors: 洋徳川島
Original assignee: V Technology Co Ltd
Current assignee: V Technology Co Ltd
Priority date: 2016-02-24
Filing date: 2016-02-24
Publication date: 2019-10-09
Anticipated expiration: 2036-02-24
Also published as: JP2017151259A

Description

本発明は、露光用照明装置、露光装置及び露光方法に関する。 The present invention relates to an exposure illumination apparatus, an exposure apparatus, and an exposure method.

従来の露光装置では、反射鏡の曲率を補正する曲率補正機構が照明装置に設けられたものがあり、反射鏡を湾曲させて反射鏡のデクリネーション角を変化させることで、露光パターンの形状を補正し、高精度な露光結果を得るものが考案されている（例えば、特許文献１参照。）。 In the conventional exposure apparatus, there is an illumination apparatus provided with a curvature correction mechanism that corrects the curvature of the reflecting mirror. By changing the declination angle of the reflecting mirror by bending the reflecting mirror, the shape of the exposure pattern Has been devised to obtain a highly accurate exposure result (see, for example, Patent Document 1).

また、特許文献２に記載の露光装置では、光学系の経時的な劣化に対応するため、複数の液晶セルを具備した照度分布補正フィルタを備え、各液晶セルを制御して照度分布補正フィルタの光透過率分布を補正し、フライアイレンズの複数のレンズ素子に照射される光の照度分布を迅速に更新し、レチクルに照射される光の照度分布を均一にすることが開示されている。 In addition, the exposure apparatus described in Patent Document 2 includes an illuminance distribution correction filter having a plurality of liquid crystal cells in order to cope with deterioration over time of the optical system, and controls each liquid crystal cell to control the illuminance distribution correction filter. It is disclosed that the light transmittance distribution is corrected, the illuminance distribution of light irradiated to the plurality of lens elements of the fly-eye lens is updated quickly, and the illuminance distribution of light irradiated to the reticle is made uniform.

特開２０１２−１５５０８６号公報JP 2012-155086 A 特開２００６−２１０５５３号公報JP 2006-210553 A

ところで、曲率補正機構（ミラー曲げ機構）によって反射鏡の曲率を補正すると、反射鏡の反射面が凸面状になった部分では、反射光が拡散して照度が低下し（暗くなる）、反射鏡の反射面が凹面状になった部分では、反射光が収束して照度が高まり（明るくなる）、露光面での照度分布がばらつき露光精度に影響を及ぼす可能性がある。特許文献２に記載の露光装置は、照度分布補正フィルタの各液晶セルを制御してレチクルに照射する光の照度分布を均一にする装置であり、反射鏡の曲率補正に起因する照度分布のばらつきについて言及されていない。 By the way, when the curvature of the reflecting mirror is corrected by the curvature correcting mechanism (mirror bending mechanism), the reflected light diffuses and the illuminance decreases (darkens) in the portion where the reflecting surface of the reflecting mirror becomes convex, and the reflecting mirror decreases. In the portion where the reflection surface becomes concave, the reflected light converges and the illuminance increases (becomes brighter), and the illuminance distribution on the exposure surface varies, which may affect the exposure accuracy. The exposure apparatus described in Patent Document 2 is an apparatus that controls each liquid crystal cell of the illuminance distribution correction filter to uniformize the illuminance distribution of light applied to the reticle, and variations in illuminance distribution due to curvature correction of the reflecting mirror. Is not mentioned.

本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、ミラー曲げに起因する露光面での照度分布のばらつきを抑制することができる露光用照明装置、露光装置及び露光方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide an exposure illumination device, an exposure device, and an exposure method that can suppress variations in illuminance distribution on the exposure surface caused by mirror bending. It is to provide.

本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
（１）光源と、
ｐ行、ｑ列（ｐ，ｑは、整数）のマトリックス状に配列された複数のレンズ素子を有し、前記光源からの光を均一にして出射するフライアイレンズと、
反射面の形状を変更可能なミラー曲げ機構を備え、前記フライアイレンズから出射された前記光を反射する反射鏡と、
を備え、
露光パターンが形成されたマスクを介して前記光源からの露光光をワーク上に照射して前記露光パターンを前記ワークに露光転写するための露光用照明装置であって、
前記光源と前記フライアイレンズとの間に配置されて露光面での照度分布を変更可能なワイヤフィルタを更に備え、
前記ワイヤフィルタは、平行に配置された複数本の線材からそれぞれ構成される第１及び第２のワイヤ群を備え、
前記第１及び第２のワイヤ群の前記線材は、互いに直交して、前記フライアイレンズのマトリックスに沿ってそれぞれ配設されてなり、
前記各ワイヤ群の前記線材は、それぞれ前記光の光軸及び前記線材の長手方向に対して直交する方向に移動可能であることを特徴とする露光用照明装置。
（２）前記第１のワイヤ群は、第１の本数の線材からそれぞれ構成されるｐ＋１行のパターンを有し、
前記第２のワイヤ群は、第２の本数の線材からそれぞれ構成されるｑ＋１列のパターンを有し、
前記第１のワイヤ群の線材は、前記線材間の間隔が前記ｐ＋１行のパターンにおいてそれぞれ同じであるように、移動可能であり、
前記第２のワイヤ群の線材は、前記線材間の間隔が前記ｑ＋１列のパターンにおいてそれぞれ同じであるように、移動可能であることを特徴とする（１）に記載の露光用照明装置。
（３）前記ｐ＋１行のパターンは、前記パターン毎に中央部よりも両端部において前記線材間の間隔が広がるように配置され、
前記ｑ＋１列のパターンは、前記パターン毎に中央部よりも両端部において前記線材間の間隔が広がるように配置されることを特徴とする（２）に記載の露光用照明装置。
（４）前記第１のワイヤ群では、前記ｐ＋１行のパターンを構成する全ての線材が、前記光の光軸及び前記線材の長手方向に対して直交する方向に一体で移動可能であり、
前記第２のワイヤ群では、前記ｑ＋１列のパターンを構成する全ての線材が、前記光の光軸及び前記線材の長手方向に対して直交する方向に一体で移動可能であることを特徴とする（２）又は（３）に記載の露光用照明装置。
（５）前記ワイヤフィルタは、前記露光面での照度分布が均一化されるように、前記反射鏡の反射面の形状に応じて、前記各ワイヤ群の線材を前記光の光軸及び前記線材の長手方向に対して直交する方向に移動させることを特徴とする（１）〜（４）のいずれかに記載の露光用照明装置。
（６）前記線材は、その線幅を変更可能であることを特徴とする（１）〜（５）のいずれかに記載の露光用照明装置。
（７）前記ワイヤフィルタは、前記光の光軸に沿って移動可能であることを特徴とする（１）〜（６）のいずれかに記載の露光用照明装置。
（８）前記光源と前記フライアイレンズとの間に配置されて露光面での照度分布を変更可能な光学フィルタを更に備え、
前記光学フィルタは、ｐ＋１行、ｑ＋１列のマトリックス状に配列され、中心部から周辺部に向かって、次第に光透過率が高くなる光透過率分布を持った複数のセルを有し、前記光の光軸に直交する方向に移動可能であることを特徴とする（１）〜（７）のいずれかに記載の露光用照明装置。
（９）マスクを支持するマスク支持部と、
ワークを支持するワーク支持部と、
前記（１）〜（８）のいずれかに記載の露光用照明装置と、
を備え、
前記光源からの露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射して前記マスクの露光パターンを前記ワークに露光転写することを特徴とする露光装置。
（１０）（９）に記載の露光装置を使用し、前記光源からの露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射して前記マスクの露光パターンを前記ワークに露光転写することを特徴とする露光方法。 The above object of the present invention can be achieved by the following constitution.
(1) a light source;
a fly-eye lens having a plurality of lens elements arranged in a matrix of p rows and q columns (p and q are integers), and uniformly emitting light from the light source;
A mirror bending mechanism capable of changing the shape of the reflecting surface, and a reflecting mirror that reflects the light emitted from the fly-eye lens;
With
An exposure illumination device for exposing and transferring the exposure pattern to the workpiece by irradiating the workpiece with exposure light from the light source through a mask on which the exposure pattern is formed,
A wire filter arranged between the light source and the fly-eye lens and capable of changing an illuminance distribution on an exposure surface;
The wire filter includes first and second wire groups each composed of a plurality of wires arranged in parallel,
The wire rods of the first and second wire groups are arranged orthogonally to each other and along the matrix of the fly-eye lens,
The exposure illumination apparatus according to claim 1, wherein the wire of each wire group is movable in a direction orthogonal to an optical axis of the light and a longitudinal direction of the wire.
(2) The first wire group has a pattern of p + 1 rows each composed of a first number of wires.
The second wire group has a pattern of q + 1 columns each composed of a second number of wires.
The wires of the first wire group are movable so that the spacing between the wires is the same in the p + 1 row pattern,
The exposure illumination apparatus according to (1), wherein the wires of the second wire group are movable so that the intervals between the wires are the same in the q + 1 rows of patterns.
(3) The pattern of the (p + 1) -th row is arranged so that the interval between the wire rods is wider at both ends than the center for each pattern,
The exposure illumination device according to (2), wherein the patterns in the q + 1 column are arranged so that the distance between the wire rods is wider at both ends than in the center for each pattern.
(4) In the first wire group, all the wires constituting the pattern of the p + 1 row can move integrally in a direction orthogonal to the optical axis of the light and the longitudinal direction of the wires,
In the second wire group, all the wires constituting the pattern of the q + 1 rows can be integrally moved in a direction orthogonal to the optical axis of the light and the longitudinal direction of the wires. (2) or the exposure illumination apparatus according to (3).
(5) The wire filter is configured such that the wire of each wire group is the optical axis of the light and the wire according to the shape of the reflecting surface of the reflecting mirror so that the illuminance distribution on the exposure surface is made uniform. The exposure illumination device according to any one of (1) to (4), wherein the exposure illumination device is moved in a direction orthogonal to a longitudinal direction of the exposure light.
(6) The exposure illumination device according to any one of (1) to (5), wherein the line width of the wire is changeable.
(7) The exposure illumination device according to any one of (1) to (6), wherein the wire filter is movable along an optical axis of the light.
(8) further comprising an optical filter disposed between the light source and the fly-eye lens and capable of changing an illuminance distribution on an exposure surface;
The optical filter is arranged in a matrix of p + 1 rows and q + 1 columns, and has a plurality of cells having a light transmittance distribution in which light transmittance gradually increases from the central portion toward the peripheral portion, The exposure illumination device according to any one of (1) to (7), which is movable in a direction perpendicular to the optical axis.
(9) a mask support portion for supporting the mask;
A workpiece support section for supporting the workpiece;
The exposure illumination device according to any one of (1) to (8);
With
An exposure apparatus that irradiates the workpiece with exposure light from the light source through the mask and exposes and transfers the exposure pattern of the mask onto the workpiece.
(10) The exposure apparatus according to (9) is used, and exposure light from the light source is irradiated onto the workpiece through the mask, and the exposure pattern of the mask is exposed and transferred to the workpiece. Exposure method.

本発明の露光用照明装置によれば、光源と、ｐ行、ｑ列のマトリックス状に配列された複数のレンズ素子を有するフライアイレンズと、反射面の形状を変更するミラー曲げ機構を備える反射鏡と、互いに直交してフライアイレンズのマトリックスに沿って配設されると共に、光の光軸及び線材の長手方向に対して直交する方向に移動可能にされた複数本の線材から構成される第１及び第２のワイヤ群を有し、光源とフライアイレンズとの間に配置されて露光面での照度分布を変更可能なワイヤフィルタと、を備える。これにより、ワイヤフィルタの第１及び第２のワイヤ群の線材を、光軸及び線材の長手方向に対して直交する方向に移動させて、ミラー曲げ機構による反射面の形状変更に起因する露光面における照度分布のばらつきを補正することができる。 According to the exposure illumination apparatus of the present invention, the reflection includes a light source, a fly-eye lens having a plurality of lens elements arranged in a matrix of p rows and q columns, and a mirror bending mechanism that changes the shape of the reflecting surface. A mirror and a plurality of wire rods arranged perpendicular to each other along a fly-eye lens matrix and movable in a direction perpendicular to the optical axis of light and the longitudinal direction of the wire rod. A wire filter having first and second wire groups and disposed between a light source and a fly-eye lens and capable of changing an illuminance distribution on an exposure surface. As a result, the wire rods of the first and second wire groups of the wire filter are moved in a direction orthogonal to the optical axis and the longitudinal direction of the wire rod, and the exposure surface is caused by the shape change of the reflection surface by the mirror bending mechanism. The variation in the illuminance distribution in can be corrected.

また、本発明の露光装置及び露光方法によれば、マスク支持部で支持されるマスクと、ワーク支持部で支持されるワークと、ミラー曲げ機構による反射面の形状変更に起因する露光面での照度分布のばらつきを補正可能なワイヤフィルタを有する露光用照明装置と、を備え、ワイヤフィルタで補正された光源からの露光光を、マスクを介してワークに照射して露光パターンをワークに露光転写するので、高精度な露光結果が得られる。 Further, according to the exposure apparatus and the exposure method of the present invention, the mask supported by the mask support, the work supported by the work support, and the exposure surface caused by the shape change of the reflection surface by the mirror bending mechanism. And an exposure illumination device having a wire filter capable of correcting variations in illuminance distribution. The exposure light from the light source corrected by the wire filter is irradiated onto the workpiece through a mask, and the exposure pattern is exposed and transferred to the workpiece. Therefore, a highly accurate exposure result can be obtained.

本発明に係る露光装置の正面図である。It is a front view of the exposure apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る露光用照明装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the illuminating device for exposure which concerns on this invention. 露光用照明装置のフライアイレンズとワイヤフィルタを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the fly eye lens and wire filter of the illuminating device for exposure. ワイヤフィルタの平面図である。It is a top view of a wire filter. （ａ）は、露光用照明装置の反射鏡支持構造を示す平面図であり、（ｂ）は（ａ）のＶ−Ｖ線に沿った断面図であり、（ｃ）は、（ａ）のＶ´−Ｖ´線に沿った断面図である。(A) is a top view which shows the reflective mirror support structure of the illuminating device for exposure, (b) is sectional drawing along the VV line of (a), (c) is (a). It is sectional drawing along the V'-V 'line. （ａ）は、光源部から出射した略均一な照度の光をワイヤフィルタにより補正してフライアイレンズの各レンズ素子に入射した場合の各レンズ素子から出射した光の露光面での照度を示す図であり、（ｂ）は、露光面での全体照度のイメージを示す図である。(A) shows the illuminance on the exposure surface of the light emitted from each lens element when light having a substantially uniform illuminance emitted from the light source unit is corrected by the wire filter and is incident on each lens element of the fly-eye lens. It is a figure and (b) is a figure which shows the image of the whole illumination intensity in an exposure surface. （ａ）は、反射鏡がフラットの状態における露光面での照度分布図であり、（ｂ）は、ミラー曲げ機構により反射面の形状変更した状態における露光面での照度分布図であり、（ｃ）は、ワイヤフィルタによる補正後の露光面での照度分布図である。(A) is an illuminance distribution diagram on the exposure surface when the reflecting mirror is flat, and (b) is an illuminance distribution diagram on the exposure surface when the shape of the reflection surface is changed by the mirror bending mechanism. (c) is an illuminance distribution diagram on the exposure surface after correction by the wire filter. （ａ）は、ミラー曲げ機構により形状変更された平面ミラーの反射面の形状を示す斜視図であり、（ｂ）は、平面図である。(A) is a perspective view which shows the shape of the reflective surface of the plane mirror changed shape by the mirror bending mechanism, (b) is a top view. （ａ）は、フライアイレンズ、ワイヤフィルタに加え、更に光学フィルタを備える変形例の露光用照明装置の斜視図であり、（ｂ）は、同一の光透過率分布を有し、マトリックス配置された複数のセルからなる光学フィルタの平面図である。(A) is a perspective view of a modified exposure illumination apparatus including an optical filter in addition to a fly-eye lens and a wire filter, and (b) has the same light transmittance distribution and is arranged in a matrix. It is a top view of the optical filter which consists of a plurality of cells.

以下、本発明に係る露光装置の一実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。図１に示すように、近接露光装置ＰＥは、被露光材としてのワークＷより小さいマスクＭを用い、マスクＭをマスクステージ（マスク支持部）１で保持すると共に、ワークＷをワークステージ（ワーク支持部）２で保持し、マスクＭとワークＷとを近接させて所定の露光ギャップで対向配置した状態で、露光用照明装置３からパターン露光用の光をマスクＭに向けて照射することにより、マスクＭのパターンをワークＷ上に露光転写する。また、ワークステージ２をマスクＭに対してＸ軸方向とＹ軸方向の二軸方向にステップ移動させて、ステップ毎に露光転写が行われる。 Hereinafter, an embodiment of an exposure apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, the proximity exposure apparatus PE uses a mask M smaller than the workpiece W as a material to be exposed, holds the mask M on a mask stage (mask support portion) 1, and holds the workpiece W on a workpiece stage (workpiece). By holding the mask M and the workpiece W close to each other and facing each other with a predetermined exposure gap, the pattern illumination light is irradiated toward the mask M from the exposure illumination device 3. Then, the pattern of the mask M is exposed and transferred onto the workpiece W. Further, the work stage 2 is moved stepwise with respect to the mask M in the two axial directions of the X axis direction and the Y axis direction, and exposure transfer is performed for each step.

ワークステージ２をＸ軸方向にステップ移動させるため、装置ベース４上には、Ｘ軸送り台５ａをＸ軸方向にステップ移動させるＸ軸ステージ送り機構５が設置されている。Ｘ軸ステージ送り機構５のＸ軸送り台５ａ上には、ワークステージ２をＹ軸方向にステップ移動させるため、Ｙ軸送り台６ａをＹ軸方向にステップ移動させるＹ軸ステージ送り機構６が設置されている。Ｙ軸ステージ送り機構６のＹ軸送り台６ａ上には、ワークステージ２が設置されている。ワークステージ２の上面には、ワークＷがワークチャック等で真空吸引された状態で保持される。また、ワークステージ２の側部には、マスクＭの下面高さを測定するための基板側変位センサ１５が配設されている。従って、基板側変位センサ１５は、ワークステージ２と共にＸ、Ｙ軸方向に移動可能である。 In order to move the work stage 2 stepwise in the X-axis direction, an X-axis stage feed mechanism 5 for moving the X-axis feed base 5a stepwise in the X-axis direction is installed on the apparatus base 4. On the X-axis feed base 5a of the X-axis stage feed mechanism 5, a Y-axis stage feed mechanism 6 for step-moving the Y-axis feed base 6a in the Y-axis direction is installed in order to move the work stage 2 stepwise in the Y-axis direction. Has been. The work stage 2 is installed on the Y-axis feed base 6 a of the Y-axis stage feed mechanism 6. On the upper surface of the work stage 2, the work W is held in a state of being sucked by a work chuck or the like. Further, a substrate side displacement sensor 15 for measuring the lower surface height of the mask M is disposed on the side portion of the work stage 2. Therefore, the substrate side displacement sensor 15 can move in the X and Y axis directions together with the work stage 2.

装置ベース４上には、複数（図に示す実施形態では４本）のＸ軸リニアガイドのガイドレール５１がＸ軸方向に配置され、それぞれのガイドレール５１には、Ｘ軸送り台５ａの下面に固定されたスライダ５２が跨架されている。これにより、Ｘ軸送り台５ａは、Ｘ軸ステージ送り機構５の第１リニアモータ２０で駆動され、ガイドレール５１に沿ってＸ軸方向に往復移動可能である。また、Ｘ軸送り台５ａ上には、複数のＹ軸リニアガイドのガイドレール５３がＹ軸方向に配置され、それぞれのガイドレール５３には、Ｙ軸送り台６ａの下面に固定されたスライダ５４が跨架されている。これにより、Ｙ軸送り台６ａは、Ｙ軸ステージ送り機構６の第２リニアモータ２１で駆動され、ガイドレール５３に沿ってＹ軸方向に往復移動可能である。 On the apparatus base 4, a plurality of (four in the embodiment shown in the figure) X-axis linear guide rails 51 are arranged in the X-axis direction, and each guide rail 51 has a lower surface of the X-axis feed base 5 a. A slider 52 fixed to the bridge is straddled. Thereby, the X-axis feed base 5 a is driven by the first linear motor 20 of the X-axis stage feed mechanism 5 and can reciprocate along the guide rail 51 in the X-axis direction. A plurality of guide rails 53 for Y-axis linear guides are arranged on the X-axis feed base 5a in the Y-axis direction. Each guide rail 53 has a slider 54 fixed to the lower surface of the Y-axis feed base 6a. Is straddled. Accordingly, the Y-axis feed base 6 a is driven by the second linear motor 21 of the Y-axis stage feed mechanism 6 and can reciprocate in the Y-axis direction along the guide rail 53.

Ｙ軸ステージ送り機構６とワークステージ２の間には、ワークステージ２を上下方向に移動させるため、比較的位置決め分解能は粗いが移動ストローク及び移動速度が大きな上下粗動装置７と、上下粗動装置７と比べて高分解能での位置決めが可能でワークステージ２を上下に微動させてマスクＭとワークＷとの対向面間のギャップを所定量に微調整する上下微動装置８が設置されている。 Between the Y-axis stage feed mechanism 6 and the work stage 2, since the work stage 2 is moved in the vertical direction, the vertical coarse motion device 7 having a relatively coarse positioning resolution but a large moving stroke and moving speed, and the vertical coarse motion Positioning with high resolution is possible compared with the apparatus 7, and a vertical fine movement apparatus 8 is provided for finely adjusting the gap between the opposing surfaces of the mask M and the work W to a predetermined amount by finely moving the work stage 2 up and down. .

上下粗動装置７は後述の微動ステージ６ｂに設けられた適宜の駆動機構によりワークステージ２を微動ステージ６ｂに対して上下動させる。ワークステージ２の底面の４箇所に固定されたステージ粗動軸１４は、微動ステージ６ｂに固定された直動ベアリング１４ａに係合し、微動ステージ６ｂに対し上下方向に案内される。なお、上下粗動装置７は、分解能が低くても、繰り返し位置決め精度が高いことが望ましい。 The vertical coarse movement device 7 moves the work stage 2 up and down with respect to the fine movement stage 6b by an appropriate drive mechanism provided on the fine movement stage 6b described later. The stage coarse movement shafts 14 fixed at four positions on the bottom surface of the work stage 2 are engaged with linear motion bearings 14a fixed to the fine movement stage 6b, and are guided in the vertical direction with respect to the fine movement stage 6b. In addition, it is desirable that the vertical coarse motion device 7 has high repeated positioning accuracy even if the resolution is low.

上下微動装置８は、Ｙ軸送り台６ａに固定された固定台９と、固定台９にその内端側を斜め下方に傾斜させた状態で取り付けられたリニアガイドの案内レール１０とを備えており、該案内レール１０に跨架されたスライダ１１を介して案内レール１０に沿って往復移動するスライド体１２にボールねじのナット（図示せず）が連結されると共に、スライド体１２の上端面は微動ステージ６ｂに固定されたフランジ１２ａに対して水平方向に摺動自在に接している。 The vertical fine movement device 8 includes a fixed base 9 fixed to the Y-axis feed base 6a, and a linear guide guide rail 10 attached to the fixed base 9 with its inner end inclined obliquely downward. A ball screw nut (not shown) is coupled to a slide body 12 that reciprocates along the guide rail 10 via a slider 11 straddling the guide rail 10, and an upper end surface of the slide body 12. Is in contact with the flange 12a fixed to the fine movement stage 6b so as to be slidable in the horizontal direction.

そして、固定台９に取り付けられたモータ１７によってボールねじのねじ軸を回転駆動させると、ナット、スライダ１１及びスライド体１２が一体となって案内レール１０に沿って斜め方向に移動し、これにより、フランジ１２ａが上下微動する。
なお、上下微動装置８は、モータ１７とボールねじによってスライド体１２を駆動する代わりに、リニアモータによってスライド体１２を駆動するようにしてもよい。 Then, when the screw shaft of the ball screw is rotationally driven by the motor 17 attached to the fixed base 9, the nut, the slider 11 and the slide body 12 are integrally moved along the guide rail 10 in an oblique direction. The flange 12a is finely moved up and down.
Note that the vertical fine movement device 8 may drive the slide body 12 by a linear motor instead of driving the slide body 12 by the motor 17 and the ball screw.

この上下微動装置８は、Ｚ軸送り台６ａのＹ軸方向の一端側（図１の左端側）に１台、他端側に２台、合計３台設置されてそれぞれが独立に駆動制御されるようになっている。これにより、上下微動装置８は、ギャップセンサ２７による複数箇所でのマスクＭとワークＷとのギャップ量の計測結果に基づき、３箇所のフランジ１２ａの高さを独立に微調整してワークステージ２の高さ及び傾きを微調整する。
なお、上下微動装置８によってワークステージ２の高さを十分に調整できる場合には、上下粗動装置７を省略してもよい。 The vertical fine movement device 8 is installed on one end side (left end side in FIG. 1) in the Y-axis direction of the Z-axis feed base 6a and two on the other end side, for a total of three units, and each is independently driven and controlled. It has become so. Accordingly, the vertical fine movement device 8 independently finely adjusts the heights of the three flanges 12 a based on the measurement results of the gap amounts between the mask M and the workpiece W at a plurality of locations by the gap sensor 27, and the workpiece stage 2. Fine-tune the height and inclination of
In addition, when the height of the work stage 2 can be sufficiently adjusted by the vertical fine movement device 8, the vertical coarse movement device 7 may be omitted.

また、Ｙ軸送り台６ａ上には、ワークステージ２のＹ方向の位置を検出するＹ軸レーザ干渉計１８に対向するバーミラー１９と、ワークステージ２のＸ軸方向の位置を検出するＸ軸レーザ干渉計に対向するバーミラー（共に図示せず）とが設置されている。Ｙ軸レーザ干渉計１８に対向するバーミラー１９は、Ｙ軸送り台６ａの一側でＸ軸方向に沿って配置されており、Ｘ軸レーザ干渉計に対向するバーミラーは、Ｙ軸送り台６ａの一端側でＹ軸方向に沿って配置されている。 On the Y-axis feed base 6a, a bar mirror 19 facing the Y-axis laser interferometer 18 that detects the position of the work stage 2 in the Y direction, and an X-axis laser that detects the position of the work stage 2 in the X-axis direction. A bar mirror (both not shown) facing the interferometer is installed. The bar mirror 19 facing the Y-axis laser interferometer 18 is arranged along the X-axis direction on one side of the Y-axis feed base 6a, and the bar mirror facing the X-axis laser interferometer is located on the Y-axis feed base 6a. It is arranged along the Y-axis direction on one end side.

Ｙ軸レーザ干渉計１８及びＸ軸レーザ干渉計は、それぞれ常に対応するバーミラーに対向するように配置されて装置ベース４に支持されている。なお、Ｙ軸レーザ干渉計１８は、Ｘ軸方向に離間して２台設置されている。２台のＹ軸レーザ干渉計１８により、バーミラー１９を介してＹ軸送り台６ａ、ひいてはワークステージ２のＹ軸方向の位置及びヨーイング誤差を検出する。また、Ｘ軸レーザ干渉計により、対向するバーミラーを介してＸ軸送り台５ａ、ひいてはワークステージ２のＸ軸方向の位置を検出する。 The Y-axis laser interferometer 18 and the X-axis laser interferometer are arranged so as to always face the corresponding bar mirrors and supported by the apparatus base 4. Two Y-axis laser interferometers 18 are installed apart from each other in the X-axis direction. The two Y-axis laser interferometers 18 detect the position of the Y-axis feed base 6a and consequently the work stage 2 in the Y-axis direction and the yawing error via the bar mirror 19. In addition, the X-axis laser interferometer detects the position of the X-axis feed base 5a and eventually the work stage 2 in the X-axis direction via the opposing bar mirror.

マスクステージ１は、略長方形状の枠体からなるマスク基枠２４と、該マスク基枠２４の中央部開口にギャップを介して挿入されてＸ，Ｙ，θ方向（Ｘ，Ｙ平面内）に移動可能に支持されたマスクフレーム２５とを備えており、マスク基枠２４は装置ベース４から突設された支柱４ａによってワークステージ２の上方の定位置に保持されている。 The mask stage 1 is inserted in a X, Y, θ direction (in the X, Y plane) by inserting a mask base frame 24 composed of a substantially rectangular frame body and a gap into a central opening of the mask base frame 24. The mask base frame 24 is held at a fixed position above the work stage 2 by a support column 4a protruding from the apparatus base 4.

マスクフレーム２５の中央部開口の下面には、枠状のマスクホルダ２６が設けられている。即ち、マスクフレーム２５の下面には、図示しない真空式吸着装置に接続される複数のマスクホルダ吸着溝が設けられており、マスクホルダ２６が複数のマスクホルダ吸着溝を介してマスクフレーム２５に吸着保持される。 A frame-shaped mask holder 26 is provided on the lower surface of the central opening of the mask frame 25. That is, a plurality of mask holder suction grooves connected to a vacuum suction device (not shown) are provided on the lower surface of the mask frame 25, and the mask holder 26 is sucked to the mask frame 25 through the plurality of mask holder suction grooves. Retained.

マスクホルダ２６の下面には、マスクＭのマスクパターンが描かれていない周縁部を吸着するための複数のマスク吸着溝（図示せず）が開設されており、マスクＭは、マスク吸着溝を介して図示しない真空式吸着装置によりマスクホルダ２６の下面に着脱自在に保持される。 A plurality of mask suction grooves (not shown) are provided on the lower surface of the mask holder 26 for sucking the peripheral portion of the mask M on which the mask pattern is not drawn. The mask M passes through the mask suction grooves. Then, it is detachably held on the lower surface of the mask holder 26 by a vacuum suction device (not shown).

図２に示すように、本実施形態の露光装置ＰＥの露光用照明装置３は、紫外線照射用の光源としてのランプユニット６０と、光路ＥＬの向きを変えるための平面ミラー６３と、露光面での照度分布を変更するためのワイヤフィルタ９０と、照射光路を開閉制御する露光制御用シャッターユニット６４と、露光制御用シャッターユニット６４の下流側に配置され、ランプユニット６０からの光を均一にして出射するフライアイレンズ６５と、フライアイレンズ６５から出射された光路ＥＬの向きを変えるための平面ミラー６６と、高圧水銀ランプ６１からの光を平行光として照射するコリメーションミラー６７と、該平行光をマスクＭに向けて照射する平面ミラー６８と、を備える。 As shown in FIG. 2, the exposure illumination device 3 of the exposure apparatus PE of the present embodiment includes a lamp unit 60 as a light source for ultraviolet irradiation, a flat mirror 63 for changing the direction of the optical path EL, and an exposure surface. A wire filter 90 for changing the illuminance distribution of the light source, an exposure control shutter unit 64 for controlling the opening and closing of the irradiation light path, and a downstream side of the exposure control shutter unit 64 to make the light from the lamp unit 60 uniform. A fly-eye lens 65 that emits light, a plane mirror 66 that changes the direction of the optical path EL that is emitted from the fly-eye lens 65, a collimation mirror 67 that emits light from the high-pressure mercury lamp 61 as parallel light, and the parallel light And a plane mirror 68 that irradiates the mask M toward the mask M.

ランプユニット６０は、例えば高圧水銀ランプ６１と、この高圧水銀ランプ６１から照射された光を集光するリフレクタ６２をそれぞれ複数有する。なお、光源としては、単一の高圧水銀ランプ６１とリフレクタ６２の構成であってもよく、或いは、ＬＥＤによって構成されてもよい。 The lamp unit 60 includes, for example, a plurality of high-pressure mercury lamps 61 and a plurality of reflectors 62 that collect light emitted from the high-pressure mercury lamp 61. In addition, as a light source, the structure of the single high pressure mercury lamp 61 and the reflector 62 may be sufficient, or it may be comprised by LED.

フライアイレンズ６５は、ｐ行、ｑ列（ｐ、ｑは、整数）のマトリックス状に配列された複数のレンズ素子６５ａを備え、リフレクタ６２で集光された光を照射領域においてできるだけ均一な照度分布となるようにして出射する。 The fly-eye lens 65 includes a plurality of lens elements 65a arranged in a matrix of p rows and q columns (p and q are integers), and the illuminance as uniform as possible in the irradiation region of the light collected by the reflector 62 The light is emitted in a distribution.

図３及び図４に示すように、ワイヤフィルタ９０は、複数本の線材９２Ｘが平行にＸ方向にそれぞれ配置されてなる第１のワイヤ群９１Ｘと、複数本の線材９２Ｙが平行にＹ方向にそれぞれ配置されてなる第２のワイヤ群９１Ｙと、から構成されている。第１のワイヤ群９１Ｘの線材９２Ｘと，第２のワイヤ群９１Ｙの線材９２Ｙは、互いに直交するように配置されて、ｐ行、ｑ列のマトリックス状に配列されたフライアイレンズ６５の複数のレンズ素子６５ａに沿って配設されている。線材９２Ｘ，９２Ｙは、ワイヤや、細長く形成された板材などが適用可能であり、その断面形状は、円形、半円形、楕円形、三角形、四角形、その他多角形など、特に限定されない。
なお、図４では、説明のため、図３の線材９２Ｘと線材９２Ｙの本数よりも少なく示されている。 As shown in FIGS. 3 and 4, the wire filter 90 includes a first wire group 91X in which a plurality of wire rods 92X are arranged in parallel in the X direction, and a plurality of wire rods 92Y in parallel in the Y direction. The second wire group 91Y is disposed respectively. The wire rods 92X of the first wire group 91X and the wire rods 92Y of the second wire group 91Y are arranged so as to be orthogonal to each other, and a plurality of fly-eye lenses 65 arranged in a matrix of p rows and q columns. Arranged along the lens element 65a. As the wire rods 92X and 92Y, a wire, an elongated plate member, or the like can be applied, and the cross-sectional shape thereof is not particularly limited, such as a circle, a semicircle, an ellipse, a triangle, a quadrangle, and other polygons.
In FIG. 4, for the sake of explanation, the number of wires 92X and wire 92Y in FIG.

第１のワイヤ群９１Ｘは、線材９２Ｘの両端部が駆動装置９３Ｘにより支持されて、駆動装置９３Ｘにより一体として光路ＥＬ及び線材９２Ｘの長手方向に対して直交する方向（即ち、Ｙ方向）に移動可能に構成されている。また、第２のワイヤ群９１Ｙは、線材９２Ｘの両端部が駆動装置９３Ｙにより支持されて、駆動装置９３Ｙにより一体として光路ＥＬ及び線材９２Ｙの長手方向に対して直交する方向（即ち、Ｘ方向）に移動可能に構成されている。更に、第１及び第２のワイヤ群９１Ｘ，９１Ｙ（ワイヤフィルタ９０）は、光路ＥＬに沿った方向にも移動可能であり、これにより露光面における照度の強さを調節することができる。
なお、図３では、駆動装置９３Ｘ，９３Ｙを模式的に、９２Ｘ，９２Ｙの一端部側のみで示している。
また、駆動装置９３Ｘ，９３Ｙは、ワイヤフィルタ９０を光路ＥＬから退避させる不使用状態の位置へ移動させることもできる。 In the first wire group 91X, both ends of the wire 92X are supported by the driving device 93X, and move integrally in the direction orthogonal to the longitudinal direction of the optical path EL and the wire 92X (ie, the Y direction) by the driving device 93X. It is configured to be possible. In the second wire group 91Y, both ends of the wire 92X are supported by the driving device 93Y, and the driving device 93Y integrally integrates the optical path EL and the longitudinal direction of the wire 92Y (ie, the X direction). It is configured to be movable. Furthermore, the first and second wire groups 91X and 91Y (wire filter 90) can be moved in the direction along the optical path EL, and thereby the intensity of illuminance on the exposure surface can be adjusted.
In FIG. 3, the driving devices 93X and 93Y are schematically shown only on one end side of the 92X and 92Y.
In addition, the driving devices 93X and 93Y can move the wire filter 90 to a non-use position where the wire filter 90 is retracted from the optical path EL.

第１のワイヤ群９１Ｘは、ｐ＋１行（図４の実施例では４行）のパターンＰｘを有する。このうち、1つのパターンＰｘは、第１の本数の線材９２Ｘが、中央部から両端部に掛けて線材９２Ｘ間の間隔ｄ１が徐々に広がるように構成されている。 The first wire group 91X has a pattern Px of p + 1 rows (4 rows in the embodiment of FIG. 4). Among these, one pattern Px is configured such that the distance d1 between the wire rods 92X gradually widens with the first number of wire rods 92X extending from the center to both ends.

第２のワイヤ群９１Ｙは、ｑ＋１列（図４の実施例では４列）のパターンＰｙを有する。このうち、1つのパターンＰｙは、第２の本数の線材９２Ｙが、中央部から両端部に掛けて線材９２Ｙ間の間隔ｄ２が徐々に広がるように構成されている。 The second wire group 91Y has a pattern Py of q + 1 columns (4 columns in the embodiment of FIG. 4). Among these patterns, one pattern Py is configured such that the distance d2 between the wire rods 92Y gradually increases as the second number of wire rods 92Y extends from the center to both ends.

このようなパターンＰｘ，Ｐｙを有するワイヤフィルタ９０は、互いに重ねられて複数（図４の実施例では４行×４列）の領域Ｐを構成し、各領域Ｐの中央部の光透過率が周辺部の光透過率より低い、具体的には、中央部から周辺部に向かって、次第に光透過率が高くなる光透過率分布を有している。
なお、第１及び第２のワイヤ群９１Ｘ，９１Ｙの線材９２Ｘ，９２Ｙは、中央部から両端部に掛けて線材９２Ｘ，９２Ｙ間の間隔ｄ１，ｄ２が徐々に広がるように配置されているが、第１及び第２のワイヤ群９１Ｘ，９１Ｙの線材９２Ｘ，９２Ｙは、中央部よりも両端部において線材９２Ｘ，９２Ｙ間の間隔ｄ１，ｄ２が広がるように配置されるものでもよい。 The wire filters 90 having such patterns Px and Py are overlapped to form a plurality of regions P (4 rows × 4 columns in the embodiment of FIG. 4), and the light transmittance at the center of each region P is It has a light transmittance distribution that is lower than the light transmittance of the peripheral portion, specifically, the light transmittance gradually increases from the central portion toward the peripheral portion.
The wire rods 92X and 92Y of the first and second wire groups 91X and 91Y are arranged so that the distances d1 and d2 between the wire rods 92X and 92Y are gradually widened from the center portion to both ends. The wire rods 92X and 92Y of the first and second wire groups 91X and 91Y may be arranged so that the distances d1 and d2 between the wire rods 92X and 92Y are wider at both ends than the center portion.

更に、第１のワイヤ群９１Ｘの各線材９２Ｘは、第１のワイヤ群９１Ｘを一体に移動する駆動装置９３Ｘの他に、それぞれの線材９２Ｘの端部（例えば、図４の左右端）に設けられた、例えばバイメタルやピエゾ素子などの不図示の駆動機構により、それぞれ独立してＹ方向に移動可能とすることができる。また、第２のワイヤ群９１Ｙの各線材９２Ｙも、第２のワイヤ群９１Ｙを一体に移動する駆動装置９３Ｙの他に、それぞれの線材９２Ｙの端部（例えば、図４の上下端）に設けられた、例えばバイメタルやピエゾ素子などの不図示の駆動機構により、それぞれ独立してＸ方向に移動可能とすることができる。 Furthermore, each wire rod 92X of the first wire group 91X is provided at the end of each wire rod 92X (for example, the left and right ends in FIG. 4) in addition to the driving device 93X that moves the first wire group 91X integrally. The drive mechanism (not shown) such as a bimetal or a piezo element can be independently moved in the Y direction. Also, each wire rod 92Y of the second wire group 91Y is provided at the end of each wire rod 92Y (for example, the upper and lower ends in FIG. 4) in addition to the driving device 93Y that moves the second wire group 91Y integrally. For example, it can be independently moved in the X direction by a drive mechanism (not shown) such as a bimetal or a piezo element.

これにより、第１及び第２のワイヤ群９１Ｘ，９１Ｙの線材９２Ｘ，９２Ｙは、パターンＰｘ、及びパターンＰｙ内における位置を変更することが可能である。また、線材９２Ｘ，９２Ｙ間の間隔ｄ１，ｄ２が、全てのパターンＰｘ及びパターンＰｙにおいてそれぞれ同じになるように線材９２Ｘ，９２Ｙを移動させることで、パターンＰｘ及びパターンＰｙのパターン形状、即ち、光透過率分布を任意に変更することができる。 Accordingly, the positions of the wire rods 92X and 92Y of the first and second wire groups 91X and 91Y can be changed in the pattern Px and the pattern Py. Further, by moving the wires 92X and 92Y so that the distances d1 and d2 between the wires 92X and 92Y are the same in all the patterns Px and Py, the pattern shapes of the patterns Px and Py, that is, the light The transmittance distribution can be arbitrarily changed.

1つのパターンＰｘと1つのパターンＰｙとが重なる領域Ｐの大きさは、フライアイレンズ６５のレンズ素子６５ａの大きさと略同じ大きさとなっており、複数のレンズ素子６５ａがｐ行、ｑ列のマトリックス状に配列されたフライアイレンズ６５に対しては、１行１列だけ大きい、即ち、ｐ＋１行、ｑ＋１列のパターンＰｘ，Ｐｙを有するワイヤフィルタ９０が適用される。これにより、第１のワイヤ群９１Ｘ、及び第２のワイヤ群９１Ｙを光路ＥＬに直交する方向に１パターン分の範囲で移動させても、フライアイレンズ６５のレンズ素子６５ａの全面が、ワイヤフィルタ９０のパターンＰｘ，Ｐｙと対向している。 The size of the region P where one pattern Px and one pattern Py overlap is substantially the same as the size of the lens element 65a of the fly-eye lens 65, and the plurality of lens elements 65a are p rows and q columns. For the fly-eye lenses 65 arranged in a matrix, a wire filter 90 having a pattern Px, Py larger by one row and one column, that is, p + 1 row and q + 1 column is applied. As a result, even if the first wire group 91X and the second wire group 91Y are moved within a range corresponding to one pattern in the direction orthogonal to the optical path EL, the entire surface of the lens element 65a of the fly-eye lens 65 remains on the wire filter. It faces 90 patterns Px and Py.

その他、露光用照明装置３では、ワイヤフィルタ９０と露光制御用シャッターユニット６４の設置順は、逆であってもよい。さらに、フライアイレンズ６５と露光面との間には、ＤＵＶカットフィルタ、偏光フィルタ、バンドパスフィルタが配置されてもよい。 In addition, in the exposure illumination device 3, the installation order of the wire filter 90 and the exposure control shutter unit 64 may be reversed. Further, a DUV cut filter, a polarization filter, and a band pass filter may be disposed between the fly-eye lens 65 and the exposure surface.

また、図５に示すように、平面ミラー６８は、正面視矩形状に形成されたガラス素材からなる。平面ミラー６８は、平面ミラー６８の裏面側に設けられた複数のミラー変形ユニット（ミラー曲げ機構）７０によりミラー変形ユニット保持枠７１に支持されている。 As shown in FIG. 5, the plane mirror 68 is made of a glass material formed in a rectangular shape when viewed from the front. The plane mirror 68 is supported on the mirror deformation unit holding frame 71 by a plurality of mirror deformation units (mirror bending mechanisms) 70 provided on the back side of the plane mirror 68.

各ミラー変形ユニット７０は、平面ミラー６８の裏面に接着剤で固定されるパッド７２と、一端がパッド７２に固定された支持部材７３と、支持部材７３を駆動するアクチュエータ７４と、を備える。 Each mirror deformation unit 70 includes a pad 72 that is fixed to the back surface of the flat mirror 68 with an adhesive, a support member 73 that has one end fixed to the pad 72, and an actuator 74 that drives the support member 73.

支持部材７３には、保持枠７１に対してパッド７２寄りの位置に、±０・５ｄｅｇ以上の屈曲を許容する屈曲機構としてのボールジョイント７６が設けられており、保持枠７１に対して反対側となる他端には、アクチュエータ７４が取り付けられている。 The support member 73 is provided with a ball joint 76 as a bending mechanism that allows bending of ± 0 · 5 deg or more at a position close to the pad 72 with respect to the holding frame 71, and is opposite to the holding frame 71. An actuator 74 is attached to the other end.

さらに、マスク側のアライメントマーク（図示せず）の位置に露光光を反射する平面ミラー６８の各位置の裏面には、複数の接触式センサ７７が取り付けられている。 Further, a plurality of contact sensors 77 are attached to the back surface of each position of the flat mirror 68 that reflects the exposure light at the position of an alignment mark (not shown) on the mask side.

これにより、平面ミラー６８は、信号線８１により各アクチュエータ７４に接続されたミラー制御部８０からの指令に基づいて（図２参照）、接触式センサ７７によって平面ミラー６８の変位量をセンシングしながら、各ミラー変形ユニット７０のアクチュエータ７４を駆動して、各支持部材７３の長さを変えることによって、平面ミラー６８の形状を変更し、反射面の曲率を局部的に変更することで、平面ミラー６８のデクリネーション角を補正することができる。 Thereby, the plane mirror 68 is sensing the displacement amount of the plane mirror 68 by the contact sensor 77 based on a command from the mirror control unit 80 connected to each actuator 74 by the signal line 81 (see FIG. 2). By driving the actuator 74 of each mirror deformation unit 70 and changing the length of each support member 73, the shape of the plane mirror 68 is changed, and the curvature of the reflecting surface is locally changed, thereby the plane mirror 68 declination angles can be corrected.

その際、各ミラー変形ユニット７０には、ボールジョイント７６が設けられているので、支持部側の部分を三次元的に回動可能とすることができ、各パッド７２を平面ミラー６８の表面に沿って傾斜させることができる。このため、各パッド７２と平面ミラー６８との接着剥がれを防止するすると共に、移動量の異なる各パッド７２間における平面ミラー６８の応力が抑制され、平均破壊応力値が小さいガラス素材からなる場合であっても、平面ミラー６８の形状を局部的に変更する際、平面ミラー６８を破損することなく、１０ｍｍオーダーで平面ミラー６８を曲げることができ、曲率を大きく変更することができる。 At this time, each mirror deformation unit 70 is provided with a ball joint 76, so that the portion on the support portion side can be rotated three-dimensionally, and each pad 72 is placed on the surface of the plane mirror 68. Can be tilted along. For this reason, the adhesive peeling between each pad 72 and the plane mirror 68 is prevented, and the stress of the plane mirror 68 between the pads 72 having different movement amounts is suppressed, and the average fracture stress value is made of a small glass material. Even when the shape of the plane mirror 68 is locally changed, the plane mirror 68 can be bent on the order of 10 mm without damaging the plane mirror 68, and the curvature can be greatly changed.

このように構成された露光装置ＰＥでは、露光用照明装置３において、露光時に露光制御用シャッターユニット６４が開制御されると、高圧水銀ランプ６１から照射された光が、平面ミラー６３で反射されてフライアイレンズ６５の入射面に入射される。そして、フライアイレンズ６５の出射面から発せられた光は、平面ミラー６６、コリメーションミラー６７、及び平面ミラー６８によってその進行方向が変えられるとともに平行光に変換される。そして、この平行光は、マスクステージ１に保持されるマスクＭ、さらにはワークステージ２に保持されるワークＷの表面に対して略垂直にパターン露光用の光として照射され、マスクＭのパターンがワークＷ上に露光転写される。 In the exposure apparatus PE configured as described above, when the exposure control shutter unit 64 is controlled to be opened during exposure in the exposure illumination apparatus 3, the light emitted from the high-pressure mercury lamp 61 is reflected by the plane mirror 63. Is incident on the incident surface of the fly-eye lens 65. Then, the light emitted from the exit surface of the fly-eye lens 65 is converted into parallel light while its traveling direction is changed by the plane mirror 66, the collimation mirror 67, and the plane mirror 68. Then, this parallel light is irradiated as light for pattern exposure substantially perpendicularly to the surface of the mask W held on the mask stage 1 and further the work W held on the work stage 2, and the pattern of the mask M is irradiated. It is exposed and transferred onto the workpiece W.

ここで、図２も参照して、ワークＷの露光済みのパターンに対応してワークＷ上に露光転写されるマスクＭのパターンを補正するため、ミラー制御部８０から平面ミラー６８の各アクチュエータ７４に対して駆動信号を伝達すると、各ミラー変形ユニット７０のアクチュエータ７４は、各支持部材７３の長さを変えて、平面ミラー６８の形状を局部的に変更して、平面ミラー６８のデクリネーション角を補正する。 Here, referring also to FIG. 2, in order to correct the pattern of the mask M that is exposed and transferred onto the workpiece W in accordance with the exposed pattern of the workpiece W, each actuator 74 of the plane mirror 68 from the mirror controller 80 is corrected. When the drive signal is transmitted to the actuator 74, the actuator 74 of each mirror deformation unit 70 changes the length of each support member 73, locally changes the shape of the plane mirror 68, and decrements the plane mirror 68. Correct the corners.

このとき、平面ミラー６８の局部的な形状変更により、マスクＭに照射される露光光の照度も局部的に変化する。即ち、露光面における照度分布が悪化し、ワークＷの露光精度に影響を及ぼす可能性がある。具体的には、アクチュエータ７４によって平面ミラー６８が裏面から押されて、平面ミラー６８の反射面が凸面状になった部分では、反射光が拡散して照度が低下する（暗くなる）。また、アクチュエータ７４によって平面ミラー６８の裏面が引かれて、平面ミラー６８の反射面が凹面状になった部分では、反射光が収束して照度が高まる（明るくなる）。 At this time, the illuminance of the exposure light applied to the mask M also locally changes due to the local shape change of the plane mirror 68. That is, the illuminance distribution on the exposure surface is deteriorated, which may affect the exposure accuracy of the workpiece W. Specifically, the plane mirror 68 is pushed from the back surface by the actuator 74 and the reflection surface of the plane mirror 68 becomes convex, so that the reflected light diffuses and the illuminance decreases (darkens). In addition, in the portion where the back surface of the plane mirror 68 is pulled by the actuator 74 and the reflection surface of the plane mirror 68 is concave, the reflected light converges and the illuminance increases (becomes brighter).

一方、中央部の光透過率が周辺部のものより低い複数のパターンＰｘ，Ｐｙを備えたワイヤフィルタ９０は、図６（ａ）に示すように、光路ＥＬに直交する方向（第１のワイヤ群９１ＸはＹ方向，第２のワイヤ群９１ＹはＸ方向）に移動させると、各パターンＰｘ，Ｐｙとが重なる領域Ｐの光透過率が低い部分（中央近傍）を通った光が、フライアイレンズ６５の各レンズ素子６５ａを通って重なり合うことで露光面での照度分布が変化し、露光面での一部の照度が低下する（図６（ｂ））。 On the other hand, the wire filter 90 having a plurality of patterns Px and Py whose light transmittance in the central portion is lower than that in the peripheral portion has a direction (first wire) perpendicular to the optical path EL as shown in FIG. When the group 91X is moved in the Y direction and the second wire group 91Y is moved in the X direction), light passing through a portion (near the center) in the region P where the patterns Px and Py overlap each other has a low fly transmittance. By overlapping through the lens elements 65a of the lens 65, the illuminance distribution on the exposure surface changes, and a part of the illuminance on the exposure surface decreases (FIG. 6B).

このため、ワイヤフィルタ９０を光路ＥＬ上に配置し、平面ミラー６８の形状変更により、露光面における照度が高い部分に対応する各レンズ素子６５ａの部分に、パターンＰｘ，Ｐｙとが重なる領域Ｐの光透過率が低い中央部を対向させるように、ワイヤフィルタ９０（第１及び第２のワイヤ群９１Ｘ，９１Ｙ）を移動させる。これにより、露光面における照度分布のばらつきは、照度が高い部分の照度をワイヤフィルタ９０を用いて低下させることで補正することができ、照度分布を改善することができる。 Therefore, by arranging the wire filter 90 on the optical path EL and changing the shape of the plane mirror 68, the region P where the patterns Px and Py overlap the portions of the lens elements 65a corresponding to the portions with high illuminance on the exposure surface. The wire filter 90 (first and second wire groups 91X and 91Y) is moved so that the central portions having low light transmittance are opposed to each other. Thereby, the variation in the illuminance distribution on the exposure surface can be corrected by reducing the illuminance of the portion with high illuminance using the wire filter 90, and the illuminance distribution can be improved.

また、必要に応じて、第１及び第２のワイヤ群９１Ｘ，９１Ｙの各線材９２Ｘ，９２Ｙの内、必要な線材９２Ｘ，９２Ｙを独立して移動させることにより、パターンＰｘ，Ｐｙとが重なる領域Ｐ内での光透過率を部分的に変更して、光透過率分布を変更することもできる。 Moreover, the area | region where pattern Px, Py overlaps by moving required wire 92X, 92Y independently among each wire 92X, 92Y of 1st and 2nd wire group 91X, 91Y as needed. It is also possible to change the light transmittance distribution by partially changing the light transmittance in P.

なお、フライアイレンズ６５のマトリックス配置されたレンズ素子６５ａの数（目の数）が多くなると平均化されて露光面での照度分布の変化も小さくなる。レンズ素子６５ａは、縦方向に３個以上、横方向に３個以上で並ぶように配置されるものから適宜設定されればよく、ワイヤフィルタ９０のパターンＰｘ，Ｐｙの数も、フライアイレンズ６５の数に応じて適宜設計される。 Note that when the number of lens elements 65a (number of eyes) arranged in a matrix of the fly-eye lens 65 is increased, averaging is performed, and the change in illuminance distribution on the exposure surface is also reduced. The lens elements 65a may be appropriately set from three or more arranged in the vertical direction and three or more in the horizontal direction, and the number of patterns Px and Py of the wire filter 90 is also set to the fly-eye lens 65. It is designed appropriately according to the number.

以下、図７及び図８を用いて、平面ミラー６８を形状変更させた場合に、ワイヤフィルタ９０を用いて照度分布を補正したシミュレーション結果について説明する。
平面ミラー６８がフラット状態（形状変更前）のとき、図７（ａ）に示すように、露光面における露光光の照度分布は、５１．６ｍＷ／ｃｍ^２〜５６.０ｍＷ／ｃｍ^２、平均照度は、５４．２ｍＷ／ｃｍ^２であり、均一度は、４．１０％である。 Hereinafter, simulation results in which the illuminance distribution is corrected using the wire filter 90 when the shape of the plane mirror 68 is changed will be described with reference to FIGS. 7 and 8.
When the flat mirror 68 is in a flat state (before the shape change), as shown in FIG. 7A, the illuminance distribution of the exposure light on the exposure surface is 51.6 mW / cm ^{2 to} 56.0 mW / cm ² and the average illuminance. Is 54.2 mW / cm ² and the uniformity is 4.10%.

ここで、露光パターンの形状を補正するため、図８に示すように、各アクチュエータ７４を、例えば、０〜０．５ｍｍだけ駆動させて平面ミラー６８の形状を局部的に変更して、平面ミラー６８のデクリネーション角を補正する。このときの露光面における露光光の照度分布は、図７（ｂ）に示すように、５２．３６ｍＷ／ｃｍ^２〜５９.０４ｍＷ／ｃｍ^２、平均照度は、５５．２０ｍＷ／ｃｍ^２であり、均一度は、６．００％となって、照度分布のばらつきが大きくなる。 Here, in order to correct the shape of the exposure pattern, as shown in FIG. 8, each actuator 74 is driven by, for example, 0 to 0.5 mm to locally change the shape of the plane mirror 68 to thereby change the plane mirror. 68 declination angle is corrected. The illuminance distribution of the exposure light on the exposure surface at this time is 52.36 mW / cm ^{2 to} 59.04 mW / cm ² and the average illuminance is 55.20 mW / cm ^{2 as shown} in FIG. The uniformity is 6.00%, and the illuminance distribution varies greatly.

このような照度分布の補正は、ワイヤフィルタ９０を略１／４ピッチだけ図中上方に相対移動させて、パターンＰｘとパターンＰｙとが重なる領域Ｐの中央部、即ち光透過率が低くなっている部分を、フライアイレンズ６５の各レンズ素子６５ａの上部に対向させる。これにより、図７（ｃ）に示すように、照度が高い部分の照度が低下して露光面における照度分布は、５２．２７ｍＷ／ｃｍ^２〜５５.９４ｍＷ／ｃｍ^２、平均照度は、５４．１０ｍＷ／ｃｍ^２、均一度は、３．３９％となり、照度分布が全体として均一化され、露光精度が向上する。なお、必要に応じて、ワイヤフィルタ９０を光路ＥＬに沿って移動させてワイヤフィルタ９０とフライアイレンズ６５との距離を調節することで、露光光の強度を調節することができる。 In such correction of the illuminance distribution, the wire filter 90 is relatively moved upward in the drawing by about ¼ pitch, and the central portion of the region P where the pattern Px and the pattern Py overlap, that is, the light transmittance decreases. This portion is opposed to the upper part of each lens element 65a of the fly eye lens 65. Thus, as shown in FIG. 7 (c), the illuminance distribution in the exposure plane to decrease the illuminance of the illuminance is high ^{portion, 52.27mW / cm 2 ~55.94mW / cm} 2, mean illumination is 54. The uniformity is 10 mW / cm ² and the uniformity is 3.39%, the illuminance distribution is made uniform as a whole, and the exposure accuracy is improved. If necessary, the intensity of the exposure light can be adjusted by moving the wire filter 90 along the optical path EL to adjust the distance between the wire filter 90 and the fly-eye lens 65.

以上説明したように、本実施形態の露光用照明装置３によれば、ランプユニット６０と、ｐ行、ｑ列のマトリックス状に配列された複数のレンズ素子６５ａを有するフライアイレンズ６５と、反射面の形状を変更するミラー変形ユニット７０を備える平面ミラー６８と、ランプユニット６０とフライアイレンズ６５との間に配置されて露光面での照度分布を変更可能なワイヤフィルタ９０と、を備える。そして、ワイヤフィルタ９０は、互いに直交して、フライアイレンズ６５のマトリックスに沿って配設されると共に、光路ＥＬ及び線材９２Ｘ，９２Ｙの長手方向に対して直交する方向に移動可能にされた複数本の線材９２Ｘ，９２Ｙからそれぞれ構成される第１及び第２のワイヤ群９１Ｘ，９１Ｙを有する。この結果、ミラー変形ユニット７０による反射面の形状変更に起因する露光面での照度分布のばらつきを、ワイヤフィルタ９０により抑制することができる。 As described above, according to the exposure illumination device 3 of the present embodiment, the lamp unit 60, the fly-eye lens 65 having the plurality of lens elements 65a arranged in a matrix of p rows and q columns, and the reflection A plane mirror 68 including a mirror deformation unit 70 that changes the shape of the surface, and a wire filter 90 that is disposed between the lamp unit 60 and the fly-eye lens 65 and that can change the illuminance distribution on the exposure surface. The wire filter 90 is arranged along the matrix of the fly-eye lens 65 perpendicular to each other and is movable in a direction perpendicular to the optical path EL and the longitudinal direction of the wire rods 92X and 92Y. It has the 1st and 2nd wire groups 91X and 91Y comprised from the wire rods 92X and 92Y, respectively. As a result, variations in the illuminance distribution on the exposure surface caused by the shape change of the reflection surface by the mirror deformation unit 70 can be suppressed by the wire filter 90.

また、第１のワイヤ群９１Ｘは、複数の線材９２Ｘからそれぞれ構成される４行のパターンＰｘを有し、第２のワイヤ群９１Ｙは、複数の線材９２Ｙからそれぞれ構成される４列のパターンＰｙを有し、第１及び第２のワイヤ群９１Ｘ，９１Ｙの線材９２Ｘ，９２Ｙは、それぞれ線材９２Ｘ，９２Ｙ間の間隔ｄ１，ｄ２が４行のパターンＰｘ及び４列のパターンＰｙにおいてそれぞれ同じであるように、移動可能であるので、ミラー変形ユニット７０による反射面の形状変更に起因する露光面での照度分布のばらつきに応じて線材９２Ｘ，９２Ｙを移動させて露光面における照度分布のばらつきを補正することができる。 The first wire group 91X has four rows of patterns Px each composed of a plurality of wires 92X, and the second wire group 91Y has four rows of patterns Py each composed of a plurality of wires 92Y. In the wire rods 92X and 92Y of the first and second wire groups 91X and 91Y, the distances d1 and d2 between the wire rods 92X and 92Y are the same in the four-row pattern Px and the four-row pattern Py, respectively. As described above, since the movable members 92X and 92Y are moved in accordance with the variation in the illuminance distribution on the exposure surface due to the shape change of the reflection surface by the mirror deformation unit 70, the variation in the illuminance distribution on the exposure surface is corrected. can do.

また、パターンＰｘ，Ｐｙ毎に中央部よりも両端部において線材９２Ｘ，９２Ｙ間の間隔ｄ１，ｄ２が広がるように配置されるので、間隔ｄ１，ｄ２が比較的狭い中央部を照度が高い各レンズ素子６５ａの部分と対向させることで、露光面における照度分布のばらつきを補正することができる。 In addition, since each of the patterns Px and Py is arranged so that the distances d1 and d2 between the wire rods 92X and 92Y are wider at both ends than the central part, each lens having high illuminance is provided in the central part where the distances d1 and d2 are relatively narrow. By facing the element 65a, it is possible to correct variations in the illuminance distribution on the exposure surface.

さらに、一対のワイヤ群９１Ｘ，９１Ｙでは、それぞれ、４行のパターンＰｘを構成する全ての線材、及び４列のパターンＰｙを構成する全ての線材が、光路ＥＬ及び線材９２Ｘ，９２Ｙの長手方向に対して直交する方向に一体で移動可能であるので、露光面での照度を補正する位置を容易に調節することができる。 Further, in the pair of wire groups 91X and 91Y, all the wires constituting the four rows of patterns Px and all the wires constituting the four rows of patterns Py are arranged in the longitudinal direction of the optical path EL and the wires 92X and 92Y. On the other hand, since it can be moved integrally in a direction orthogonal to it, the position for correcting the illuminance on the exposure surface can be easily adjusted.

また、ワイヤフィルタ９０は、露光面での照度分布が均一化されるように、平面ミラー６８の反射面の形状に応じて、各ワイヤ群９１Ｘ，９１Ｙの線材９２Ｘ，９２Ｙを光路ＥＬ及び線材９２Ｘ，９２Ｙの長手方向に対して直交する方向に移動させるので、露光面での照度分布のばらつきを、ワイヤフィルタ９０により抑制することができる。 Further, the wire filter 90 converts the wire members 92X and 92Y of the wire groups 91X and 91Y into the optical path EL and the wire member 92X in accordance with the shape of the reflecting surface of the plane mirror 68 so that the illuminance distribution on the exposure surface is made uniform. , 92Y is moved in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the wire 92Y, so that variation in the illuminance distribution on the exposure surface can be suppressed by the wire filter 90.

また、線材９２Ｘ，９２Ｙは、その線幅を変更可能であるので、線材９２Ｘ，９２Ｙの間隔ｄ１，ｄ２を同じ間隔で保持したまま、露光面での照度分布のばらつきを効果的に補正することができる。 Further, since the wire widths of the wire rods 92X and 92Y can be changed, the variation in the illuminance distribution on the exposure surface can be effectively corrected while maintaining the intervals d1 and d2 of the wire rods 92X and 92Y at the same interval. Can do.

更に、ワイヤフィルタ９０は、光路ＥＬに沿って移動可能であるので、露光面における照度の強さを調節することができる。これにより、露光面における照度分布のばらつきを効果的に補正することができる。 Furthermore, since the wire filter 90 is movable along the optical path EL, the intensity of illuminance on the exposure surface can be adjusted. Thereby, the variation in the illuminance distribution on the exposure surface can be corrected effectively.

更にまた、本実施形態の露光装置ＰＥ及び露光方法によれば、マスクステージ１で支持されるマスクＭと、ワークステージ２で支持されるワークＷと、ミラー変形ユニット７０による反射面の形状変更に起因する露光面での照度分布のばらつきを補正可能なワイヤフィルタ９０を有する露光用照明装置３と、を備え、ランプユニット６０からの露光光をワイヤフィルタ９０で補正し、マスクＭを介してワークＷに照射して露光パターンをワークＷに露光転写するので、高精度な露光結果が得られる。 Furthermore, according to the exposure apparatus PE and the exposure method of the present embodiment, the mask M supported by the mask stage 1, the work W supported by the work stage 2, and the reflection surface shape change by the mirror deformation unit 70. And an illumination device for exposure 3 having a wire filter 90 capable of correcting variations in illuminance distribution on the exposure surface caused by the exposure light from the lamp unit 60 is corrected by the wire filter 90 and the work is passed through the mask M. Since the exposure pattern is exposed and transferred onto the workpiece W by irradiating W, a highly accurate exposure result can be obtained.

（変形例）
図９は、上記実施形態で用いたワイヤフィルタに加え、光学フィルタを備える変形例の露光用照明装置の斜視図である。 (Modification)
FIG. 9 is a perspective view of a modified exposure illumination apparatus including an optical filter in addition to the wire filter used in the embodiment.

光学フィルタ１００は、ワイヤフィルタ９０と平行に配置されて、ワイヤフィルタ９０とフライアイレンズ６５との間に配設される。なお、ワイヤフィルタ９０と光学フィルタ１００の配置順は、逆であってもよい。 The optical filter 100 is disposed in parallel with the wire filter 90 and is disposed between the wire filter 90 and the fly-eye lens 65. Note that the arrangement order of the wire filter 90 and the optical filter 100 may be reversed.

光学フィルタ１００は、周囲に設けられたフレーム１０２を駆動装置１０３によって駆動することで、各方向（光路ＥＬに直交する方向、及び光路ＥＬに沿う方向）に移動可能である。また、駆動装置１０３は、光学フィルタ１００を光路ＥＬから退避させる不使用状態の位置へ移動させることもできる。光学フィルタ１００のセル１０１は、フライアイレンズ６５のレンズ素子６５ａの大きさと略同じ大きさであり、ワイヤフィルタ９０と同様に、ｐ＋１行、ｑ＋１列のマトリックス状に配列されている。 The optical filter 100 is movable in each direction (a direction orthogonal to the optical path EL and a direction along the optical path EL) by driving the frame 102 provided in the periphery by the driving device 103. Further, the driving device 103 can move the optical filter 100 to a non-use position where the optical filter 100 is retracted from the optical path EL. The cells 101 of the optical filter 100 are approximately the same size as the lens element 65 a of the fly-eye lens 65, and are arranged in a matrix of p + 1 rows and q + 1 columns, similar to the wire filter 90.

図９（ｂ）に示すように、光学フィルタ１００の複数のセル１０１はそれぞれ、中心部の光透過率が周辺部の光透過率より低い、具体的には、中心部から周辺部に向かって、次第に光透過率が高くなる同一の光透過率分布を有している。光学フィルタ１００は、ワイヤフィルタ９０と同様に、反射面の形状変更により照度が高くなった部分に、各セル１０１の中心部が一致するように、光路ＥＬに直交する方向に移動させて照度が高い部分の照度を低下させることで、照度分布のばらつきを補正することができる。この結果、ミラー変形ユニット７０による反射面の形状変更に起因する露光面での照度分布のばらつきが抑制される。また、光路ＥＬに沿って移動させることで、露光面における照度の強さを調節することができる。 As shown in FIG. 9B, each of the plurality of cells 101 of the optical filter 100 has a light transmittance in the central portion lower than that in the peripheral portion, specifically, from the central portion toward the peripheral portion. The light transmittance distribution has the same light transmittance distribution that gradually increases. As with the wire filter 90, the optical filter 100 is moved in a direction perpendicular to the optical path EL so that the central portion of each cell 101 coincides with the portion where the illuminance is increased by changing the shape of the reflecting surface. By reducing the illuminance of the high portion, it is possible to correct variations in the illuminance distribution. As a result, variation in the illuminance distribution on the exposure surface due to the change in shape of the reflection surface by the mirror deformation unit 70 is suppressed. Moreover, the intensity of the illuminance on the exposure surface can be adjusted by moving along the optical path EL.

なお、中心部から周辺部に向かう光透過率の変化は、線形的変化、正弦波的変化、指数関数的変化など、任意に設定可能である。光透過率分布は、光学フィルタ１００の石英基板にクロムのドットパターンを蒸着するものや、蒸着多層膜により中心から放射状に透過率が変化する光学フィルタなどによって設けることができる。光透過率は、ドットパターンの大きさや密度を変えることで任意に設定することができる。 Note that the change in light transmittance from the central portion toward the peripheral portion can be arbitrarily set such as a linear change, a sinusoidal change, and an exponential change. The light transmittance distribution can be provided by depositing a chromium dot pattern on the quartz substrate of the optical filter 100, or by an optical filter whose transmittance varies radially from the center by the deposited multilayer film. The light transmittance can be arbitrarily set by changing the size and density of the dot pattern.

従って、ワイヤフィルタ９０と光学フィルタ１００のそれぞれの特徴を有効に活用して、連続的に照度分布を変更することが容易な光学フィルタ１００と、露光現場での要望に合わせて線材９２Ｘ，９２Ｙを移動することで、照度分布の調整の自由度が高いワイヤフィルタ９０と、を組み合わせることで、露光面での照度分布のばらつきをより効果的に抑制することが可能となる。 Accordingly, the optical filter 100 that can easily change the illuminance distribution continuously by effectively utilizing the characteristics of the wire filter 90 and the optical filter 100, and the wires 92X and 92Y according to the demands at the exposure site. By moving, by combining with the wire filter 90 having a high degree of freedom in adjusting the illuminance distribution, it is possible to more effectively suppress the variation in the illuminance distribution on the exposure surface.

以上説明したように、変形例の露光用照明装置３によれば、ランプユニット６０とフライアイレンズ６５との間に配置されて露光面での照度分布を変更可能な光学フィルタ１００を、ワイヤフィルタ９０に加えて更に備える。光学フィルタ１００は、４行、４列のマトリックス状に配列され、中心部から周辺部に向かって、次第に光透過率が高くなる光透過率分布を持った複数のセル１０１を有し、光路ＥＬに直交する方向に移動可能であるので、照度分布のばらつきを、ワイヤフィルタ９０と光学フィルタ１００とが協働して補正することができ、ミラー変形ユニット７０による反射面の形状変更に起因する露光面での照度分布のばらつきを、より効果的に抑制することができる。 As described above, according to the exposure illumination device 3 of the modified example, the optical filter 100 that is disposed between the lamp unit 60 and the fly-eye lens 65 and can change the illuminance distribution on the exposure surface is used as the wire filter. In addition to 90, it is further provided. The optical filter 100 is arranged in a matrix of 4 rows and 4 columns, and includes a plurality of cells 101 having a light transmittance distribution in which light transmittance gradually increases from the central portion toward the peripheral portion, and an optical path EL. Therefore, the dispersion of the illuminance distribution can be corrected by the cooperation of the wire filter 90 and the optical filter 100, and the exposure caused by the shape change of the reflecting surface by the mirror deformation unit 70 is possible. Variation in illuminance distribution on the surface can be more effectively suppressed.

尚、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が
可能である。
上記実施形態では、ｐ行、ｑ列のマトリックス状に配列された複数のレンズ素子６５ａを有するフライアイレンズ６５に対して、ワイヤフィルタ９０は、ｐ＋１行、ｑ＋１行のパターンＰｘ，Ｐｙを有するものとしたが、各線材９２Ｘ，９２Ｙをそれぞれ独立して移動させて各パターンＰｘ，Ｐｙ内の光透過率分布を変更すれば、レンズ素子６５ａと同数のｐ行、ｑ列のパターンＰｘ，Ｐｙを有するワイヤフィルタ９０での対応も可能となる。 In addition, this invention is not limited to embodiment mentioned above, A deformation | transformation, improvement, etc. are possible suitably.
In the above embodiment, for the fly-eye lens 65 having a plurality of lens elements 65a arranged in a matrix of p rows and q columns, the wire filter 90 has patterns Px and Py of p + 1 rows and q + 1 rows. However, if the light transmittance distributions in the patterns Px and Py are changed by independently moving the wires 92X and 92Y, the same number of p rows and q columns of patterns Px and Py as the lens elements 65a are obtained. Correspondence with the wire filter 90 is also possible.

また、各ワイヤ群の線材の駆動方法は、上記実施形態のものに限定されず、線材９２Ｘ，９２Ｙ間の間隔ｄ１，ｄ２が、全てのパターンＰｘ及びパターンＰｙで同じになるように移動させれば、任意に設計することができる。例えば、各パターンＰｘ，Ｐｙ内での同じ位置にある線材９２Ｘ，９２Ｙを１つの駆動機構によりユニット化して、ユニット毎に駆動させてもよい。 Further, the driving method of the wire rod of each wire group is not limited to that of the above embodiment, and the distances d1 and d2 between the wire rods 92X and 92Y are moved so as to be the same in all the patterns Px and Py. Any design is possible. For example, the wire rods 92X and 92Y at the same position in each pattern Px and Py may be unitized by one drive mechanism and driven for each unit.

１マスクステージ（マスク支持部）
２ワークステージ（ワーク支持部）
３露光用照明装置
６０ランプユニット（光源）
６５フライアイレンズ
６５ａレンズ素子
６８平面ミラー（反射鏡）
７０ミラー変形ユニット（ミラー曲げ機構）
９０ワイヤフィルタ
９１Ｘ第１のワイヤ群
９１Ｙ第２のワイヤ群
９２Ｘ，９２Ｙ線材
１００光学フィルタ
１０１セル
ｄ１，ｄ２線材間の間隔
ＥＬ光路（光軸）
Ｍマスク
ＰＥ近接露光装置
Ｐｘ，Ｐｙパターン
Ｗワーク 1 Mask stage (mask support part)
2 Work stage (work support part)
3 Exposure illumination device 60 Lamp unit (light source)
65 Fly-eye lens 65a Lens element 68 Flat mirror (reflecting mirror)
70 Mirror deformation unit (mirror bending mechanism)
90 Wire filter 91X First wire group 91Y Second wire group 92X, 92Y Wire rod 100 Optical filter 101 Cell d1, d2 Distance between wires EL Optical path (optical axis)
M Mask PE Proximity exposure device Px, Py Pattern W Work

Claims

A light source;
a fly-eye lens having a plurality of lens elements arranged in a matrix of p rows and q columns (p and q are integers), and uniformly emitting light from the light source;
A mirror bending mechanism capable of changing the shape of the reflecting surface, and a reflecting mirror that reflects the light emitted from the fly-eye lens;
With
An exposure illumination device for exposing and transferring the exposure pattern to the workpiece by irradiating the workpiece with exposure light from the light source through a mask on which the exposure pattern is formed,
A wire filter arranged between the light source and the fly-eye lens and capable of changing an illuminance distribution on an exposure surface;
The wire filter includes first and second wire groups each composed of a plurality of wires arranged in parallel,
The wire rods of the first and second wire groups are arranged orthogonally to each other and along the matrix of the fly-eye lens,
The exposure illumination apparatus according to claim 1, wherein the wire of each wire group is movable in a direction orthogonal to an optical axis of the light and a longitudinal direction of the wire.

The first wire group has a pattern of p + 1 rows each composed of a first number of wires.
The second wire group has a pattern of q + 1 columns each composed of a second number of wires.
The wires of the first wire group are movable so that the spacing between the wires is the same in the p + 1 row pattern,
2. The exposure illumination apparatus according to claim 1, wherein the wires of the second wire group are movable so that the intervals between the wires are the same in the q + 1 rows of patterns.

The pattern of the p + 1 row is arranged so that the interval between the wire rods is wider at both end portions than the central portion for each pattern,
3. The exposure illumination apparatus according to claim 2, wherein the patterns of the q + 1 columns are arranged so that the distance between the wire rods is wider at both end portions than at the central portion for each pattern.

In the first wire group, all the wires constituting the pattern of the p + 1 row can move integrally in a direction orthogonal to the optical axis of the light and the longitudinal direction of the wires,
In the second wire group, all the wires constituting the q + 1 row pattern can be moved integrally in a direction perpendicular to the optical axis of the light and the longitudinal direction of the wires. The illumination device for exposure according to claim 2 or 3.

In the wire filter, the wire rods of the wire groups are arranged in the longitudinal direction of the optical axis of the light and the wire rod according to the shape of the reflecting surface of the reflecting mirror so that the illuminance distribution on the exposure surface is made uniform. The exposure illumination apparatus according to claim 1, wherein the exposure illumination apparatus is moved in a direction perpendicular to the exposure direction.

The exposure illumination device according to claim 1, wherein the wire has a variable line width.

The exposure illumination apparatus according to claim 1, wherein the wire filter is movable along an optical axis of the light.

An optical filter disposed between the light source and the fly-eye lens and capable of changing an illuminance distribution on an exposure surface;
The optical filter is arranged in a matrix of p + 1 rows and q + 1 columns, and has a plurality of cells having a light transmittance distribution in which light transmittance gradually increases from the central portion toward the peripheral portion, 8. The exposure illumination device according to claim 1, wherein the exposure illumination device is movable in a direction perpendicular to the optical axis.

A mask support for supporting the mask;
A workpiece support section for supporting the workpiece;
The illumination device for exposure according to any one of claims 1 to 8,
With
An exposure apparatus that irradiates the workpiece with exposure light from the light source through the mask and exposes and transfers the exposure pattern of the mask onto the workpiece.

An exposure method using the exposure apparatus according to claim 9, wherein the work is irradiated with exposure light from the light source through the mask and the exposure pattern of the mask is exposed and transferred to the work.