JP6586023B2 - 加工装置及び加工方法 - Google Patents
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Description
前記回転テーブルの前記回転軸と直交する軸で回転するロール形状部材と、
前記回転テーブルの回転軸の方向について、前記ロール形状部材と前記ワークとを互いに接するように駆動する垂直駆動部と、
前記ロール形状部材と前記ワークとの間に紫外線を照射する紫外線照射源と、
前記ロール形状部材と前記ワークとの間に供給される研磨材と、
前記ロール形状部材と前記ワークとの間に供給され、前記紫外線照射源からの紫外線を散乱させる光散乱体と、を備える。
前記回転テーブルの前記回転軸と直交する軸で回転するロール形状部材と、
前記回転テーブルの回転軸の方向について、前記ロール形状部材と前記ワークとを互いに接するように駆動する垂直駆動部と、
前記ロール形状部材と前記ワークとの間に紫外線を照射する紫外線照射源と、
前記ロール形状部材と前記ワークとの間に供給される研磨材と、
前記ロール形状部材と前記ワークとの間に供給され、前記紫外線照射源からの紫外線を散乱させる光散乱体と、を備える。
前記テープは、前記ロール形状部材とワークとの接触部に供給されてもよい。
前記研磨材のサイズは、前記光散乱体のサイズよりも小さくてもよい。
前記気泡は、前記オゾン水、又は前記過酸化水素水に前記紫外線照射源からの紫外線が照射されることで発生させてもよい。
図1は、本実施の形態で使用する加工装置101の構成を示す概略斜視図である。図1に記載の加工装置101には、ワーク301を回転軸(Y軸)について回転させる回転テーブル201と、ワーク301をX軸方向に直進駆動させる直進駆動部(水平駆動部)202と、ロール形状部材302と、ロール形状部材302をワーク301へY軸方向に駆動し接触加圧させるためのY軸方向駆動部(垂直駆動部)203と、を有する。更に、加工装置101は、ロール形状部材302をZ軸方向に駆動させるZ軸方向駆動部204を有する。ロール形状部材302は、Y軸方向駆動部203上に固定されているテープ駆動ユニット205により、Y軸方向駆動部203でY軸方向に駆動し、ワーク301と接触した際、加圧力制御ユニット206に設定した加圧力でワーク301と接触する。ロール形状部材302は、その中心軸(Z軸)を基準に回転する。このロール形状部材302の回転軸は、回転テーブル201の回転軸と直交する方向であり、本実施の形態では、ロール形状部材302の回転軸はZ軸と一致する。さらに、この加工装置101は、ロール形状部材302とワーク301との間に紫外線を照射する紫外線照射ユニット(紫外線照射源)207と、ロール形状部材302とワーク301との間に供給される研磨材である砥粒402と、ロール形状部材302とワーク301との間に供給され、紫外線照射ユニット207からの紫外線を散乱させる光散乱体501と、を備える。
本実施の形態1に係る加工装置101では、紫外線をワーク301に照射して強酸化剤であるラジカルをワーク301表面に反応させ、ワーク301表面上にワーク301よりも柔らかい酸化物を形成し、除去するという加工メカニズムを用いている。この加工装置101では、上記加工メカニズムを実現するために、紫外線照射ユニット207を設けている。しかし、紫外線照射ユニット207から照射される紫外線は、例えば、図4(a)に示すように中心で強く周辺で弱い強度分布を有する。このため、そのままワーク301とロール形状部材302が接する境界線に沿って照射しても、境界線の中で紫外線の強度バラツキが発生し、これに対応して紫外線照射によって発生する強酸化剤であるラジカルの発生量にもバラツキを生じる。ラジカルの発生量と酸化物の発生量には相関があるために、結果としてワーク301とロール形状部材302とが接する境界部で酸化物が不均一に形成される。そして、結果的に加工除去量が均一にならず、平滑な面が得られないという問題があることを発明者は見出した。
ロール形状部材302は、Y軸方向駆動部(垂直駆動部)203に接続されている。このロール形状部材302は、Y軸方向駆動部203によってY軸方向に移動し、ワーク301の被加工面と接触すると、その接触部は線接触となる。ワーク301とロール形状部材302とを線接触させることにより、面接触の場合では困難であったワーク301とロール形状部材302との接触部への均一な紫外線照射が容易になる。なお、ワーク301をX軸方向に直進駆動させる直進駆動部(水平駆動部)202と、ワーク301をY軸について回転させる回転テーブル201とのそれぞれを制御することにより、ワーク301の全面を加工できる。
研磨材には、例えば、大きさが10μm以下の砥粒402を採用する。砥粒402が大きくなると、テープ401上の近接する砥粒402がワーク301に接触した際、近接した砥粒402のワーク301に接触する部分と接触していない部分との間隔が大きくなる。そのため砥粒402が大きくなればなるほど、砥粒402がワーク301に接触していない領域が広くなる。また、同じ加圧力で加工する場合、砥粒が大きいと砥粒402がワーク301を除去する除去量が大きくなり、かつ加工されない領域が広くなるため、ワーク301の表面の凹凸が大きくなる。そのため砥粒402の大きさは少なくとも10μm以下にする必要がある。砥粒402の大きさが10μmよりも大きいと均一な平面を加工することが非常に困難になるからである。
研磨材である砥粒402には、ワーク301と同じかそれ以上の硬さを有するものを用いる。例えば、炭化珪素(SiC)、GaN、サファイア、ダイヤモンド等を用いることができる。
図2は、図1のロール形状部材302の構成を示す部分拡大図である。テープ401上には研磨材である砥粒402を接着材で固定し、ロール形状部材302とテープ401とが互いに接触するように配置する。この構成により、常に新しいテープ401をワーク301とロール形状部材302との間に供給することができ、加工を進める中での砥粒402の目つぶれによる加工能率の低下を防ぐことが出来る。テープ401は、図3の矢印に示すように移動する。ロール形状部材302は、テープ401の移動量分だけ回転する。テープ401の巻き取りは、図1のテープ駆動ユニット205により行われる。なお、図1において、テープ401の図示は省略している。
B≧A>C
紫外線照射ユニット207は、ロール形状部材302との相対距離を常に一定に保つために、Z軸方向駆動部204に固定される。紫外線照射ユニット207から照射する紫外線の波長は、例えば365nmを採用できるが、これに限られず、ワーク301のバンドギャップ、プランク定数、光速から計算される吸収端波長よりも短い波長であればよい。なお、吸収端波長λ[μm]=h・c/E=1.24/Eの関係がある。ここで、h:プランク定数、c:光速、E:バンドギャップである。また、紫外線照射ユニット207から照射する紫外線は、例えば図4(a)に示すように、上記波長を含む一定の波長範囲にわたる強度分布を有していてもよい。
紫外線照射ユニット207とロール形状部材302との間には、光散乱体501を塗布する光散乱体塗布ユニット208を備えている。この光散乱体塗布ユニット208によって、ワーク301上に光散乱体501を塗布することができる。光散乱体501は、例えば、図3及び図4(b)に示すように、ロール形状部材302とワークとの接触部のz軸に沿って塗布すればよい。
光散乱体501は、ワーク301とロール形状部材302との接触部に供給される。光散乱体501は、強度分布を有する紫外線を受光し、散乱させて、ワーク301に紫外線を均一に照射する。この光散乱体501の構成及び作用について説明する。
光散乱体501の大きさは、10mm以下とする。紫外線の散乱効果はできるだけ加工点近くで発生させないと、紫外線効果が減少してしまう。光散乱体の大きさが10mmよりも大きいと加工点に届く光が著しく減少する。
また、光散乱体501は、研磨材である砥粒402よりもサイズの大きいものを選定する。光散乱体501が砥粒402よりも小さいと、ワーク301とテープ401との接触部に光散乱体501が入り込む可能性があり、これを防止するためである。ワーク301とテープ401との接触部に光散乱体501が入り込むとワーク301の表面に凹凸形状が形成される場合がある。
光散乱体501は、波長150nm以上での透過率の最大値が150nmより短い波長での透過率の最大値よりも大きい材料を用いる。150nm以下の波長で透過率が最大になる材料を用いると、波長が150nmよりも長い紫外光を吸収する量が大きくなる。そのため、材料の劣化が早くなると共に、ワーク301と砥粒402の境界部分に近づけるか、紫外線照射パワーを上げる必要があり、この場合も熱による影響を回避するために装置構成が複雑になる。
なお、本実施の形態1では、研磨材である砥粒402をテープ401に固定したが、これに限られず、テープ401を用いることなくロール形状部材302の表面に砥粒402を直接固定してもよい。
なお、上記の加工装置101の各構成の動作は、プロセッサを含むコントローラにプログラムされた所定のプログラムが実行されることで、制御される。所定のプログラムは、コントローラに備わるメモリに記憶される。
本実施の形態に係る実施例1では、図1のワーク301として、2インチGaNウェハをSUS機材に熱溶融性ワックスで固定したものを使用した。SUS機材は、回転テーブル201上にピン押さえで固定し、回転テーブル201の回転中心と2インチGaNウェハの回転中心との位置ずれが2μm以下となるようにピン押さえの位置を調整した。テープ駆動ユニット205としてテープの巻き取り速度を0.1mm/分から5mm/分まで設定できるユニットを使用した。
また、テープ401は、PET製のテープ下地剤の上に砥粒として粒子径0.5μm〜2μmのダイヤモンドの砥粒402を接着層の上に分散したものを使用した。加圧力制御ユニット206は空気圧で加圧力を制御するエアーシリンダーを用いた。設定空気圧としては0.1MPaから0.6MPaまで設定した。
また、紫外線照射ユニット207には、水銀光源で365nmの紫外線を出力するようにフィルターを選択し、ファイバー先端から約10mmの距離で2000mW/平方cmの光量が出るように調整した。紫外線照射ユニット207とGaNウェハとテープの接触点までの距離は20mmになるように紫外線照射ユニット207の先端部を固定した。
光散乱体501として、30%濃度の過酸化水素水に粒径5μmの合成石英粒子を100mlあたり10gの割合で配合したものを使用した。
ここで砥粒402、ワーク301、光散乱体501の各ビッカース硬度は、砥粒402として使用したダイヤモンドが約70GPa、ワーク301のGaN材料が20GPa、光散乱体501の合成石英が9.7GPaであった。つまり、硬さとして砥粒>ワーク>光散乱体の関係を満たすように各材料を選定した。
また、加工にあたり加圧力制御ユニット206の加圧力は0.4MPaに設定し、ワーク301とダイヤモンド砥粒を具備するテープ401とが接触した位置をゼロ点として、Y軸方向駆動部203をゼロ点からY軸マイナス方向に100μm移動させた位置で加工を行った。
合成石英の粒子である光散乱体501は、4面体以上の面数になるように、合成石英を粉砕した後、両面研磨盤にて約20分研磨を行って作製したものを採用した。合成石英である光散乱体501は、光散乱体塗布ユニット208から毎分10ccの量をワーク301上へ滴下した。
直進駆動部202の駆動領域として、回転テーブル201の回転中心をX=0の位置としてプラス側2.5mm、マイナス側2.5mmの範囲を1分間に1000回往復するように駆動条件を設定し、回転テーブル201は2.5回転/分の速度で回転するように駆動条件を設定した。この条件では、直進駆動部202による相対速度は、5000mm/分であった。回転テーブル201による相対速度は、2インチのGaNを用いたため、回転中心をゼロとして最大で392.5mm/分の差となった。直進駆動部202と回転テーブル201との合算相対速度で9.2%の速度差であった。
この条件で加工し、紫外線照射有りと紫外線照射無しとのそれぞれで目標とする表面粗さRa1nm以下までにかかる時間を測定した。表1に測定した結果を示す。
201 回転テーブル
202 直進駆動部(水平駆動部)
203 Y軸方向駆動部(垂直駆動部)
204 Z軸方向駆動部
205 テープ駆動ユニット
206 加圧力制御ユニット
207 紫外線照射ユニット(紫外線照射源)
208 光散乱体塗布ユニット
301 ワーク
302 ロール形状部材
303 オゾン水又は過酸化水素水
401 テープ
402 砥粒
501 光散乱体
Claims (14)
- ワークを回転軸について回転させる回転テーブルと、
前記回転テーブルの前記回転軸と直交する軸で回転するロール形状部材と、
前記回転テーブルの回転軸の方向について、前記ロール形状部材と前記ワークとを互いに接するように駆動する垂直駆動部と、
前記ロール形状部材と前記ワークとの間に紫外線を照射する紫外線照射源と、
前記ロール形状部材と前記ワークとの間に供給される研磨材と、
前記ロール形状部材と前記ワークとの間に供給され、前記紫外線照射源からの紫外線を散乱させる光散乱体と、を備える加工装置。 - 前記研磨材は、前記ワークよりビッカース硬度が高く、前記光散乱体は、前記ワークよりビッカース硬度が低い、請求項1に記載の加工装置。
- 前記研磨材は、テープに具備され、
前記テープは、前記ロール形状部材とワークとの接触部に供給される、請求項1又は2に記載の加工装置。 - 前記研磨材および前記光散乱体は、共に粒子状であり、
前記研磨材のサイズは、前記光散乱体のサイズよりも小さい、請求項1から3のいずれか一項に記載の加工装置。 - 前記光散乱体は、4面体以上の面数を持つ多面体形状、又は、球状である、請求項1から4のいずれか一項に記載の加工装置。
- 前記光散乱体は、150nm以上、400nm以下の少なくとも一つの波長の光について80%以上、100%未満の透過率を示す、請求項1から5のいずれか一項に記載の加工装置。
- 前記回転テーブルの回転軸と前記ロール形状部材の回転軸とのそれぞれと垂直な方向に前記ロール形状部材と前記回転テーブルとを相対移動させる水平駆動部をさらに備える、請求項1から6のいずれか一項に記載の加工装置。
- 前記光散乱体は、光触媒を含まない、請求項1から7のいずれか一項に記載の加工装置。
- 前記散乱体は、気泡である、請求項1に記載の加工装置。
- オゾン水、又は過酸化水素水を供給する供給口を更に備え、
前記気泡は、前記オゾン水、又は前記過酸化水素水に前記紫外線照射源からの紫外線が照射されることで発生する、請求項9に記載の加工装置。 - 前記紫外線照射源は、前記オゾン水、又は前記過酸化水素水に吸収される第1波長と、前記ワークに吸収される第2波長と、を有する紫外線を照射する、請求項10に記載の加工装置。
- 前記第1波長のピーク波長は253nm、前記第2波長のピーク波長は365nmである、請求項11に記載の加工装置。
- 前記紫外線照射源は、100nm以下400nm以上の波長を除去するフィルタを更に具備する、請求項12に記載の加工装置。
- 請求項1から13のいずれか一項に記載の加工装置を用いてワークの加工を行う加工方法。
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