JP6585913B2 - 加工治具およびスパッタリングターゲット材の製造方法 - Google Patents
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- 239000013077 target material Substances 0.000 title claims description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 16
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 title claims description 16
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 161
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 125
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 24
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 21
- 239000005060 rubber Substances 0.000 claims description 21
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 17
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 17
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 claims description 6
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 claims description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 claims description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 claims description 3
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 claims description 3
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 claims description 3
- -1 polypropylene Polymers 0.000 claims description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 claims description 3
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 claims description 2
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 claims description 2
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 claims description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229920003049 isoprene rubber Polymers 0.000 claims description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 claims description 2
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 claims description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 37
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 24
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 18
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 15
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 10
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 7
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009694 cold isostatic pressing Methods 0.000 description 4
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 4
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 229920001875 Ebonite Polymers 0.000 description 2
- 229910005191 Ga 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 2
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 229920005646 polycarboxylate Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000006259 organic additive Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B41/00—Component parts such as frames, beds, carriages, headstocks
- B24B41/06—Work supports, e.g. adjustable steadies
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Ceramic Engineering (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Metallurgy (AREA)
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- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
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Description
図1は、第1の実施形態に係る加工治具を備えた加工装置の構成例を示す断面図である。また、図2は、図1に示す加工治具付近を円筒形セラミックスの長手方向側から見たときの断面図である。
BET(Brunauer−Emmett−Teller)法により測定された比表面積(BET比表面積)が4m2/gのZnO粉末25.9質量%と、BET比表面積が7m2/gのIn2O3粉末44.2質量%と、BET比表面積が10m2/gのGa2O3粉末29.9質量%とを配合し、ポット中でジルコニアボールによりボールミル混合して、原料粉末を調製した。
実施例1と同様な方法により作製した焼成体を、全長L2が1000mmになるように切断して円筒形セラミックス10を得た。そして、かかる円筒形セラミックス10に対し、外周面10bを研削加工した後、外周部39の材質がポリアミド樹脂、全長L1が60mm、ロックウェル硬度が120のローラ34を有する加工治具31を用いて、内周面10aの研削加工を行った。加工後の円筒形セラミックス10の外周面10bには、割れやクラックの発生は確認されず、加工後の傷の深さが0.2mmであった。
実施例1と同様な方法により作製した焼成体を、全長L2が1000mmになるように切断して円筒形セラミックス10を得た。そして、かかる円筒形セラミックス10に対し、外周面10bを研削加工した後、外周部39の材質がポリプロピレン樹脂、全長L1が60mm、ロックウェル硬度が81のローラ34を有する加工治具31を用いて、内周面10aの研削加工を行った。加工後の円筒形セラミックス10の外周面10bには割れやクラックの発生は確認されず、加工後の傷の深さが0.3mmであった。
BET法により測定された比表面積(BET比表面積)が5m2/gのSnO2粉末10質量%と、BET比表面積が5m2/gのIn2O3粉末90質量%とを配合し、ポット中でジルコニアボールによりボールミル混合して、原料粉末を調製した。
実施例4と同様な方法により作製した焼成体を、全長L2が1000mmになるように切断して円筒形セラミックス10を得た。そして、かかる円筒形セラミックス10に対し、外周面10bを研削加工した後、外周部39の材質がポリカーボネート樹脂、全長L1が60mm、ロックウェル硬度が125のローラ34を有する加工治具31を用いて、内周面10aの研削加工を行った。加工後の円筒形セラミックス10の外周面10bには、割れやクラックの発生は確認されず、加工後の傷の深さが0.2mmであった。
実施例1と同様な方法により作製した焼成体を、全長L2が500mmになるように切断して円筒形セラミックス10を得た。そして、かかる円筒形セラミックス10に対し、外周面10bを研削加工した後、外周部39の材質がクロロプレンゴム、全長L1が15mm、ゴム硬度が90のローラ34を有する加工治具31を用いて、内周面10aの研削加工を行った。加工後の円筒形セラミックス10の外周面10bには、割れやクラックの発生は確認されず、加工後の傷の深さが0.4mmであった。
実施例1と同様な方法により作製した焼成体を、全長L2が1000mmになるように切断して円筒形セラミックス10を得た。そして、かかる円筒形セラミックス10に対し、外周面10bを研削加工した後、外周部39の材質がクロロプレンゴム、全長L1が60mm、ゴム硬度が90のローラ34を有する加工治具31を用いて、内周面10aの研削加工を行った。加工後の円筒形セラミックス10の外周面10bには、割れやクラックの発生は確認されず、加工後の傷の深さが0.2mmであった。
実施例4と同様な方法により作製した焼成体を、全長L2が1000mmになるように切断して円筒形セラミックス10を得た。そして、かかる円筒形セラミックス10に対し、外周面10bを研削加工した後、外周部39の材質がブタジエンゴム、全長L1が60mm、ゴム硬度が82のローラ34を有する加工治具31を用いて、内周面10aの研削加工を行った。加工後の円筒形セラミックス10の外周面10bには割れやクラックの発生は確認されず、加工後の傷の深さが0.2mmであった。
実施例1と同様な方法により作製した焼成体を、全長L2が500mmになるように切断して円筒形セラミックス10を得た。そして、円筒形セラミックス10に対し、外周面10bを研削加工した後、外周部39の材質がSUS304、全長L1が15mmのローラ34を有する加工治具31を用いて、内周面10aの研削加工を行った。なお、SUS304は、本発明で使用する樹脂やゴムに比べて、かなり硬いものである。加工後の円筒形セラミックス10の外周面10bには、割れやクラックの発生は確認されなかったが、加工後の傷の深さが0.9mmであった。
実施例1と同様な方法により作製した焼成体を、全長L2が1000mmになるように切断して円筒形セラミックス10を得た。そして、円筒形セラミックス10に対し、外周面10bを研削加工した後、外周部39の材質がSUS304、全長L1が10mmのローラ34を有する加工治具31を用いて、内周面10aの研削加工を行った。比較例2では、加工中に円筒形セラミックス10の外周面10bに割れが発生し、加工できなかった。このため加工後の傷の深さは測定できなかった。
実施例4と同様な方法により作製した焼成体を、全長L2が1000mmになるように切断して円筒形セラミックス10を得た。そして、円筒形セラミックス10に対し、外周面10bを研削加工した後、外周部39の材質がSUS304、全長L1が10mmのローラ34を有する加工治具31を用いて、内周面10aの研削加工を行った。加工後の円筒形セラミックス10の外周面10bには、割れやクラックの発生は確認されなかったが、加工後の傷の深さが0.6mmであった。
実施例1と同様な方法により作製した焼成体を、全長L2が1000mmになるように切断して円筒形セラミックス10を得た。そして、円筒形セラミックス10に対し、外周面10bを研削加工した後、外周部39の材質がSUS304、全長L1が60mmのローラ34を有する加工治具31を用いて、内周面10aの研削加工を行った。加工後の円筒形セラミックス10の外周面10bには、割れやクラックの発生は確認されなかったが、加工後の傷の深さが0.9mmであった。
実施例1と同様な方法により作製した焼成体を、全長L2が1000mmになるように切断して円筒形セラミックス10を得た。そして、円筒形セラミックス10に対し、外周面10bを研削加工した後、外周部39の材質がポリアミド樹脂、全長L1が10mm、ロックウェル硬度が120のローラ34を有する加工治具31を用いて、内周面10aの研削加工を行った。加工後の円筒形セラミックス10の外周面10bには、割れやクラックの発生は確認されなかったが、加工後の傷の深さが0.6mmであった。
実施例1と同様な方法により作製した焼成体を、全長L2が1000mmになるように切断して円筒形セラミックス10を得た。そして、円筒形セラミックス10に対し、外周面10bを研削加工した後、外周部39の材質がフッ素樹脂、全長L1が60mm、ロックウェル硬度が50のローラ34を有する加工治具31を用いて、内周面10aの研削加工を行った。加工中に円筒形セラミックス10の外周面10bには、割れやクラックは発生しなかったが、振動が抑制できず、加工できなかった。
実施例1と同様な方法により作製した焼成体を、全長L2が1000mmになるように切断して円筒形セラミックス10を得た。そして、円筒形セラミックス10に対し、外周面10bを研削加工した後、外周部39の材質がクロロプレンゴム、全長L1が60mm、ゴム硬度が60(実施例で使用したものよりも軟質なクロロプレンゴム)のローラ34を有する加工治具31を用いて、内周面10aの研削加工を行った。加工中に円筒形セラミックス10の外周面10bには、割れやクラックは発生しなかったが、振動が抑制できず、加工できなかった。
次に、第2の実施形態に係る加工治具131について、図5を参照して説明する。図5は、第2の実施形態に係る加工治具131を示す、図3と同様な拡大断面図である。
10 円筒形セラミックス
20 回転機構
30 振動抑制機構
31,131 加工治具
34,134 ローラ
35 支持部
36,136 芯材
37,137 ベアリング
38,138 内周部
39,139 外周部
40 砥石
Claims (10)
- 円筒形セラミックスの加工治具であって、
周方向に回転する前記円筒形セラミックスの内周面が加工される際に、前記円筒形セラミックスの外周面に当接されて前記円筒形セラミックスを保持するとともに、前記円筒形セラミックスの回転に従動して回転する回転体を備え、
前記回転体の回転軸方向の長さが15mm以上であり、
かつ、前記回転体の少なくとも外周部の材質が、ロックウェル硬度が80以上125以下の樹脂、あるいはゴム硬度が80以上95以下のゴムである加工治具。 - 前記樹脂が、ポリアミド樹脂、ABS樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリプロピレン樹脂のうち1種以上を含む、請求項1に記載の加工治具。
- 前記ゴムが、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、天然ゴム、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、ウレタンゴムのうち1種以上を含む、請求項1に記載の加工治具。
- 前記回転体の芯材の外側に、前記回転体を回転可能にするベアリングが配置される、請求項1〜3のいずれか1つに記載の加工治具。
- 請求項1〜4のいずれか一つに記載の加工治具を用いて前記円筒形セラミックスを回転可能に保持する保持工程と、
前記加工治具で保持されて回転する前記円筒形セラミックスの内周面を加工する加工工程と
を含む、スパッタリングターゲット材の製造方法。 - 前記円筒形セラミックスの全長が500mm以上である、請求項5に記載のスパッタリングターゲット材の製造方法。
- 前記円筒形セラミックスの全長が750mm以上である、請求項5に記載のスパッタリングターゲット材の製造方法。
- 前記円筒形セラミックスの全長が1000mm以上である、請求項5に記載のスパッタリングターゲット材の製造方法。
- 前記円筒形セラミックスがIn、Zn、Al、Ga、Zr、Ti、Sn、MgおよびSiのうち1種以上を含む、請求項5〜8のいずれか1つに記載のスパッタリングターゲット材の製造方法。
- 前記保持工程は、複数の前記回転体で前記円筒形セラミックスを保持する、請求項5〜9のいずれか1つに記載のスパッタリングターゲット材の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015073454A JP6585913B2 (ja) | 2015-03-31 | 2015-03-31 | 加工治具およびスパッタリングターゲット材の製造方法 |
CN201580074869.3A CN107208258B (zh) | 2015-03-31 | 2015-12-21 | 加工辅助具及溅镀靶材的制造方法 |
KR1020177022816A KR102417294B1 (ko) | 2015-03-31 | 2015-12-21 | 가공 지그 및 스퍼터링 타깃재의 제조 방법 |
PCT/JP2015/085687 WO2016157648A1 (ja) | 2015-03-31 | 2015-12-21 | 加工治具およびスパッタリングターゲット材の製造方法 |
TW105100039A TWI720962B (zh) | 2015-03-31 | 2016-01-04 | 濺鍍靶材的製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015073454A JP6585913B2 (ja) | 2015-03-31 | 2015-03-31 | 加工治具およびスパッタリングターゲット材の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016194096A JP2016194096A (ja) | 2016-11-17 |
JP6585913B2 true JP6585913B2 (ja) | 2019-10-02 |
Family
ID=57006867
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015073454A Active JP6585913B2 (ja) | 2015-03-31 | 2015-03-31 | 加工治具およびスパッタリングターゲット材の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6585913B2 (ja) |
KR (1) | KR102417294B1 (ja) |
CN (1) | CN107208258B (ja) |
TW (1) | TWI720962B (ja) |
WO (1) | WO2016157648A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7165071B2 (ja) * | 2019-02-19 | 2022-11-02 | トーヨーエイテック株式会社 | ホーニング加工機 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58154029U (ja) * | 1982-04-06 | 1983-10-14 | 豊田工機株式会社 | 3点支持振れ止め装置 |
JPS6017949U (ja) * | 1983-02-21 | 1985-02-06 | 豊田工機株式会社 | 薄肉スリ−ブの内面加工用治具 |
KR20010097296A (ko) * | 2000-04-21 | 2001-11-08 | 임성순 | 센터리스 연삭기의 공작물 지지구조 |
JP3960587B2 (ja) * | 2001-12-03 | 2007-08-15 | 株式会社日進製作所 | ホーニング加工方法、ホーニング盤の砥石切込み装置およびホーニング盤 |
JP3866613B2 (ja) * | 2002-05-14 | 2007-01-10 | 有限会社ユズリハ製作所 | 定着ロールの加工装置 |
KR20060043427A (ko) * | 2004-03-05 | 2006-05-15 | 토소가부시키가이샤 | 원통형 스퍼터링 타겟, 세라믹 소결체와 그 제조방법 |
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JP5467735B2 (ja) * | 2007-07-02 | 2014-04-09 | 東ソー株式会社 | 円筒形スパッタリングターゲット |
JP2014148026A (ja) * | 2013-02-04 | 2014-08-21 | Okamoto Machine Tool Works Ltd | 円筒研削装置用のワーク振動抑制装置 |
JP5743031B2 (ja) * | 2013-03-27 | 2015-07-01 | 東レ株式会社 | スイーパーローラーおよびこれを用いたプラスチックフィルムの製造装置ならびに製造方法 |
-
2015
- 2015-03-31 JP JP2015073454A patent/JP6585913B2/ja active Active
- 2015-12-21 WO PCT/JP2015/085687 patent/WO2016157648A1/ja active Application Filing
- 2015-12-21 CN CN201580074869.3A patent/CN107208258B/zh active Active
- 2015-12-21 KR KR1020177022816A patent/KR102417294B1/ko active IP Right Grant
-
2016
- 2016-01-04 TW TW105100039A patent/TWI720962B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016194096A (ja) | 2016-11-17 |
CN107208258B (zh) | 2019-06-28 |
CN107208258A (zh) | 2017-09-26 |
TW201634179A (zh) | 2016-10-01 |
KR20170133320A (ko) | 2017-12-05 |
KR102417294B1 (ko) | 2022-07-05 |
TWI720962B (zh) | 2021-03-11 |
WO2016157648A1 (ja) | 2016-10-06 |
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A621 | Written request for application examination |
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A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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