JP6583464B2 - Electro-optical device and electronic apparatus - Google Patents

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Description

本発明は、電気光学装置及び電子機器に関する。   The present invention relates to an electro-optical device and an electronic apparatus.

近年、有機発光ダイオード(Organic Light Emitting Diode、以下「OLED」という)素子などの発光素子を用いて画像を表示する電気光学装置が各種提案されている。この電気光学装置では、表示すべき画像の画素に対応して、発光素子やトランジスター等を含む画素回路が設けられる。具体的には、表示すべき画像の画素に対応した複数の画素回路がマトリクス状に設けられるとともに、複数の画素回路を駆動するために、各行に走査線等の制御線が設けられる構成が一般的である。(例えば特許文献1参照)。   In recent years, various electro-optical devices that display an image using a light emitting element such as an organic light emitting diode (OLED) element have been proposed. In this electro-optical device, a pixel circuit including a light emitting element, a transistor, and the like is provided corresponding to a pixel of an image to be displayed. Specifically, in general, a plurality of pixel circuits corresponding to pixels of an image to be displayed are provided in a matrix, and a control line such as a scanning line is provided in each row in order to drive the plurality of pixel circuits. Is. (For example, refer to Patent Document 1).

特開2007−316462号公報JP 2007-316462 A

ところで、近年、電気光学装置に対して、表示サイズの小型化や表示の高精細化が要求されることが多い。この場合には、画素回路を高密度で配置するために、制御線の狭ピッチ化が必要となる。
本発明は上述した事情に鑑みてなされたものであり、その目的の一つは、複数の走査線を含む複数の制御線の高密度での配線を実現し、表示の高精細化または表示サイズの小型化を実現することである。
By the way, in recent years, electro-optical devices are often required to have a smaller display size and higher display resolution. In this case, it is necessary to reduce the pitch of the control lines in order to arrange the pixel circuits with high density.
The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and one of its purposes is to realize high-density wiring of a plurality of control lines including a plurality of scanning lines, and to increase the display resolution or display size. It is to realize the miniaturization of.

上記目的を達成するために本発明に係る電気光学装置は、走査線と、前記走査線と交差するデータ線と、前記走査線と前記データ線との交差に対応して設けられた画素回路と、を備え、前記画素回路は、駆動トランジスターと、ゲートが前記走査線に電気的に接続された書込トランジスターと、前記データ線と前記書込トランジスターとを介して供給されるデータ信号に応じた電荷を保持する第1保持容量と、前記駆動トランジスターを介して供給される電流の大きさに応じた輝度で発光する発光素子と、を有し、前記画素回路が形成される基板の面に垂直な方向から見たときに、前記走査線と、前記駆動トランジスターのゲートとが重なる、ことを特徴とする。
この発明によれば、走査線を駆動トランジスターのゲート上に配線するため、走査線が駆動トランジスターのゲートと交差しないように配線する場合に比べて、走査線を設ける際のスペース的な制約が緩和される。これにより、走査線の狭ピッチ化、配線の高密度化が可能となる。すなわち、本発明によれば、複数の画素回路をより高密度に配置することができ、表示の高精細化及び表示サイズの小型化が可能になる。なお、本発明において、書込トランジスターは、例えば、駆動トランジスターのゲートとデータ線との間に電気的に接続されるものであってもよい。
In order to achieve the above object, an electro-optical device according to the present invention includes a scanning line, a data line intersecting the scanning line, and a pixel circuit provided corresponding to the intersection of the scanning line and the data line. The pixel circuit corresponds to a drive transistor, a write transistor whose gate is electrically connected to the scan line, and a data signal supplied via the data line and the write transistor A first holding capacitor for holding electric charge; and a light emitting element that emits light with a luminance corresponding to a magnitude of current supplied through the driving transistor, and is perpendicular to a surface of the substrate on which the pixel circuit is formed. When viewed from various directions, the scanning line and the gate of the driving transistor overlap each other.
According to the present invention, since the scanning line is wired on the gate of the driving transistor, the space limitation when providing the scanning line is eased compared with the case where the scanning line is wired so as not to intersect the gate of the driving transistor. Is done. Thereby, it is possible to narrow the scanning line pitch and to increase the wiring density. That is, according to the present invention, it is possible to arrange a plurality of pixel circuits at a higher density, and it is possible to increase the display definition and reduce the display size. In the present invention, the write transistor may be electrically connected, for example, between the gate of the drive transistor and the data line.

また、本発明に係る電気光学装置は、走査線を含む1以上の制御線と、前記走査線と交差するデータ線と、前記走査線と前記データ線との交差に対応して設けられた画素回路と、を備え、前記画素回路は、駆動トランジスターと、ゲートが前記走査線に電気的に接続された書込トランジスターと、前記データ線と前記書込トランジスターとを介して供給されるデータ信号に応じた電荷を保持する第1保持容量と、前記駆動トランジスターを介して供給される電流の大きさに応じた輝度で発光する発光素子と、を有し、前記1以上の制御線には、前記画素回路が形成される基板の面に垂直な方向から見たときに、前記駆動トランジスターのゲートと重なる制御線が含まれる、ことを特徴とする。
この発明によれば、制御線を駆動トランジスターのゲート上に配線するため、制御線が駆動トランジスターのゲートと交差しないように配線する場合に比べて、制御線を設ける際のスペース的な制約が緩和される。これにより、制御線の狭ピッチ化、配線の高密度化が可能となる。すなわち、本発明によれば、複数の画素回路をより高密度に配置することができ、表示の高精細化及び表示サイズの小型化が可能になる。
The electro-optical device according to the invention includes one or more control lines including a scanning line, a data line intersecting with the scanning line, and a pixel provided corresponding to the intersection of the scanning line and the data line. The pixel circuit includes: a drive transistor; a write transistor whose gate is electrically connected to the scan line; and a data signal supplied via the data line and the write transistor. A first storage capacitor that holds a corresponding charge, and a light emitting element that emits light with a luminance corresponding to the magnitude of a current supplied through the driving transistor, and the one or more control lines include A control line that overlaps with the gate of the driving transistor when viewed from a direction perpendicular to the surface of the substrate on which the pixel circuit is formed is included.
According to the present invention, since the control line is wired on the gate of the driving transistor, the space restriction when providing the control line is relaxed compared to the case where the control line is not crossed with the gate of the driving transistor. Is done. Thereby, it is possible to reduce the pitch of the control lines and increase the density of the wiring. That is, according to the present invention, it is possible to arrange a plurality of pixel circuits at a higher density, and it is possible to increase the display definition and reduce the display size.

また、上述した電気光学装置は、前記画素回路の動作を制御する走査線駆動回路をさらに備え、前記書込トランジスターは、前記走査線駆動回路が前記走査線に第1電位を供給する場合にオンし、前記走査線駆動回路が前記走査線に第2電位を供給する場合にオフし、前記基板の前記画素回路が形成される面に垂直な方向から見たとき、前記走査線と前記駆動トランジスターのゲートとは重なり、前記走査線駆動回路が、前記走査線に供給する電位を、前記第2電位から前記第1電位に切り替える期間を第1切替期間とし、前記走査線駆動回路が、前記走査線に供給する電位を、前記第1電位から前記第2電位に切り替える期間を第2切替期間としたとき、前記第2切替期間の時間長は、前記第1切替期間の時間長よりも長い、ことが好ましい。   In addition, the electro-optical device described above further includes a scanning line driving circuit that controls the operation of the pixel circuit, and the writing transistor is turned on when the scanning line driving circuit supplies a first potential to the scanning line. When the scanning line driving circuit supplies a second potential to the scanning line, the scanning line driving circuit is turned off, and when viewed from a direction perpendicular to the surface of the substrate on which the pixel circuit is formed, the scanning line and the driving transistor A period during which the scanning line driving circuit switches the potential supplied to the scanning line from the second potential to the first potential is defined as a first switching period, and the scanning line driving circuit includes the scanning line. When the period for switching the potential supplied to the line from the first potential to the second potential is the second switching period, the time length of the second switching period is longer than the time length of the first switching period. Preferably .

駆動トランジスターのゲートと走査線とが平面視して交差する場合、駆動トランジスターのゲートと走査線との間には容量が寄生する。そして、走査線の電位が急激に変動する場合、当該電位変動の影響が駆動トランジスターのゲートに及び、駆動トランジスターのゲートの電位が変化する。
駆動トランジスターは、書込トランジスターがオフする際に決定されたゲート・ソース間の電圧に応じた大きさの電流を発光素子に供給し、発光素子は、当該電流の大きさに応じた輝度で発光する。従って、書込トランジスターがオフする際に(すなわち、発光素子の輝度を規定する電圧に定められた後に)、駆動トランジスターのゲートの電位が変化すると、発光素子は規定された輝度とは異なる輝度で発光してしまい、電気光学装置の表示品質が低下する。
これに対して本発明に係る走査線駆動回路は、書込トランジスターがオフする際の走査線の電位の変化を、オンする際の電位変化に比べて緩やかに変化させる。これにより、書込トランジスターがオフする際の走査線の電位変動が、駆動トランジスターのゲートに伝播することを防止し、規定された輝度で発光素子が発光することを可能とする。すなわち、本発明に係る電気光学装置によれば、表示品位を劣化させることなく、制御線の狭ピッチ化を実現することができる。
When the gate of the driving transistor and the scanning line intersect in plan view, a capacitance is parasitic between the gate of the driving transistor and the scanning line. When the potential of the scanning line changes rapidly, the influence of the potential change affects the gate of the driving transistor and the potential of the gate of the driving transistor changes.
The driving transistor supplies a current having a magnitude corresponding to the voltage between the gate and the source determined when the writing transistor is turned off to the light emitting element, and the light emitting element emits light with luminance corresponding to the magnitude of the current. To do. Therefore, when the writing transistor is turned off (that is, after being set to a voltage that defines the luminance of the light emitting element), when the gate potential of the driving transistor changes, the light emitting element has a luminance different from the prescribed luminance. Light is emitted, and the display quality of the electro-optical device is degraded.
On the other hand, the scanning line driving circuit according to the present invention changes the potential of the scanning line when the writing transistor is turned off more slowly than the potential change when the writing transistor is turned on. Thus, the potential variation of the scanning line when the writing transistor is turned off is prevented from propagating to the gate of the driving transistor, and the light emitting element can emit light with a prescribed luminance. That is, according to the electro-optical device according to the present invention, it is possible to reduce the pitch of the control lines without degrading the display quality.

また、前記画素回路は、前記駆動トランジスターのゲート及びドレインの間に電気的に接続された第1スイッチングトランジスターを備え、前記1以上の制御線は、前記第1スイッチングトランジスターのゲートに電気的に接続される第1制御線を含んでもよい。
この場合、前記第1スイッチングトランジスターは、前記走査線駆動回路が前記第1制御線に第1電位を供給する場合にオンし、前記走査線駆動回路が前記第1制御線に第2電位を供給する場合にオフし、前記基板の前記画素回路が形成される面に垂直な方向から見たとき、前記第1制御線と前記駆動トランジスターのゲートとは重なり、前記走査線駆動回路が、前記第1制御線に供給する電位を、前記第2電位から前記第1電位に切り替える期間を第3切替期間とし、前記走査線駆動回路が、前記第1制御線に供給する電位を、前記第1電位から前記第2電位に切り替える期間を第4切替期間としたとき、前記第4切替期間の時間長は、前記第3切替期間の時間長よりも長い、ことが好ましい。
The pixel circuit includes a first switching transistor electrically connected between a gate and a drain of the driving transistor, and the one or more control lines are electrically connected to a gate of the first switching transistor. The first control line may be included.
In this case, the first switching transistor is turned on when the scanning line driving circuit supplies a first potential to the first control line, and the scanning line driving circuit supplies a second potential to the first control line. And when viewed from a direction perpendicular to the surface of the substrate on which the pixel circuit is formed, the first control line and the gate of the driving transistor overlap, and the scanning line driving circuit A period for switching the potential supplied to one control line from the second potential to the first potential is a third switching period, and the potential supplied to the first control line by the scanning line driving circuit is the first potential. When the period for switching from the second potential to the second potential is the fourth switching period, it is preferable that the time length of the fourth switching period is longer than the time length of the third switching period.

駆動トランジスターのゲートと第1スイッチングトランジスターとが平面視して交差する場合、駆動トランジスターのゲートと第1制御線との間には容量が寄生する。そして、第1制御線の電位が急激に変動する場合、当該電位変動の影響が駆動トランジスターのゲートに及び、駆動トランジスターのゲートの電位が変化する。
ところで、第1スイッチングトランジスターがオンする場合、駆動トランジスターのゲート及びソースが電気的に接続され、駆動トランジスターのゲート・ソース間の電圧が、画素回路毎の閾値電圧のばらつきを補償した値に定められる。従って、第1スイッチングトランジスターがオフする際に(すなわち、閾値補償がなされた後に)、駆動トランジスターのゲートの電位が変化すると、画素回路毎の駆動トランジスターの閾値電圧のばらつきを補償できなくなり、表示の一様性が損なわれる。
これに対してこの態様に係る走査線駆動回路は、第1スイッチングトランジスターがオフする際の第1制御線の電位の変化を、オンする際の電位の変化に比べて緩やかに変化させる。これにより、第1スイッチングトランジスターがオフする際の第1制御線の電位変動が、駆動トランジスターのゲートに伝播することを防止し、駆動トランジスターのゲートの電位が、閾値補償がされた電位から変化することを防止する。すなわち、本発明に係る電気光学装置によれば、駆動トランジスターのゲートの上に第1制御線を配置した場合であっても、表示の一様性を損なうような表示ムラの発生等を防止することができるため、電気光学装置の小型化及び表示の高精細化と、高品位の表示との両立が可能となる。
When the gate of the driving transistor and the first switching transistor intersect in plan view, a capacitance is parasitic between the gate of the driving transistor and the first control line. When the potential of the first control line fluctuates rapidly, the influence of the potential fluctuation affects the gate of the drive transistor, and the potential of the gate of the drive transistor changes.
By the way, when the first switching transistor is turned on, the gate and the source of the driving transistor are electrically connected, and the voltage between the gate and the source of the driving transistor is set to a value that compensates for variations in threshold voltage for each pixel circuit. . Accordingly, when the gate potential of the driving transistor changes when the first switching transistor is turned off (that is, after the threshold compensation is performed), the variation in the threshold voltage of the driving transistor for each pixel circuit cannot be compensated, and the display Uniformity is impaired.
On the other hand, the scanning line driving circuit according to this aspect changes the potential change of the first control line when the first switching transistor is turned off more slowly than the change of the potential when the first switching transistor is turned on. As a result, the potential fluctuation of the first control line when the first switching transistor is turned off is prevented from propagating to the gate of the driving transistor, and the gate potential of the driving transistor changes from the threshold compensated potential. To prevent that. That is, according to the electro-optical device according to the present invention, even when the first control line is arranged on the gate of the driving transistor, the occurrence of display unevenness that impairs the display uniformity is prevented. Therefore, it is possible to achieve both miniaturization of the electro-optical device and high-definition display and high-quality display.

また、前記画素回路は、前記駆動トランジスターと前記発光素子との間に電気的に接続された第2スイッチングトランジスターを備え、前記1以上の制御線は、前記第2スイッチングトランジスターのゲートに電気的に接続される第2制御線を含んでもよい。
この場合、前記第2スイッチングトランジスターは、前記走査線駆動回路が前記第2制御線に第1電位を供給する場合にオンし、前記走査線駆動回路が前記第2制御線に第2電位を供給する場合にオフし、前記基板の前記画素回路が形成される面に垂直な方向から見たとき、前記第2制御線と前記駆動トランジスターのゲートとは重なり、前記走査線駆動回路が、前記第2制御線に供給する電位を、前記第2電位から前記第1電位に切り替える期間を第5切替期間とし、前記走査線駆動回路が、前記第2制御線に供給する電位を、前記第1電位から前記第2電位に切り替える期間を第6切替期間としたとき、前記第5切替期間の時間長は、前記第6切替期間の時間長よりも長い、ことが好ましい。
この態様によれば、第2スイッチングトランジスターがオンする際に第2制御線に生じる電位変動が、駆動トランジスターのゲートに伝播することを防止することが可能となる。これにより、表示品位を劣化させることなく、制御線の狭ピッチ化を実現することができる。
The pixel circuit includes a second switching transistor electrically connected between the driving transistor and the light emitting element, and the one or more control lines are electrically connected to a gate of the second switching transistor. A second control line to be connected may be included.
In this case, the second switching transistor is turned on when the scanning line driving circuit supplies a first potential to the second control line, and the scanning line driving circuit supplies a second potential to the second control line. And when viewed from a direction perpendicular to the surface of the substrate on which the pixel circuit is formed, the second control line and the gate of the driving transistor overlap, and the scanning line driving circuit A period for switching the potential supplied to the second control line from the second potential to the first potential is a fifth switching period, and the potential supplied to the second control line by the scanning line driving circuit is the first potential. When the period for switching from the second potential to the second potential is the sixth switching period, the time length of the fifth switching period is preferably longer than the time length of the sixth switching period.
According to this aspect, it is possible to prevent the potential fluctuation generated in the second control line when the second switching transistor is turned on from propagating to the gate of the driving transistor. Thereby, it is possible to reduce the pitch of the control lines without degrading the display quality.

また、前記画素回路は、所定のリセット電位が供給される給電線と前記発光素子との間に電気的に接続された第3スイッチングトランジスターを備え、前記1以上の制御線は、前記第3スイッチングトランジスターのゲートに電気的に接続される第3制御線を含んでもよい。
この場合、 前記第3スイッチングトランジスターは、前記走査線駆動回路が前記第3制御線に第1電位を供給する場合にオンし、前記走査線駆動回路が前記第3制御線に第2電位を供給する場合にオフし、前記基板の前記画素回路が形成される面に垂直な方向から見たとき、前記第3制御線と前記駆動トランジスターのゲートとは重なり、前記走査線駆動回路が、前記第3制御線に供給する電位を、前記第2電位から前記第1電位に切り替える期間を第7切替期間とし、前記走査線駆動回路が、前記第3制御線に供給する電位を、前記第1電位から前記第2電位に切り替える期間を第8切替期間としたとき、前記第8切替期間の時間長は、前記第7切替期間の時間長よりも長い、ことが好ましい。
この態様によれば、第3スイッチングトランジスターがオフする際に第3制御線に生じる電位変動が、駆動トランジスターのゲートに伝播することを防止することが可能となる。これにより、表示品位を劣化させることなく、制御線の狭ピッチ化を実現することができる。
The pixel circuit includes a third switching transistor electrically connected between the light emitting element and a power supply line to which a predetermined reset potential is supplied, and the one or more control lines are the third switching transistor. A third control line electrically connected to the gate of the transistor may be included.
In this case, the third switching transistor is turned on when the scanning line driving circuit supplies a first potential to the third control line, and the scanning line driving circuit supplies a second potential to the third control line. And when viewed from a direction perpendicular to the surface of the substrate on which the pixel circuit is formed, the third control line and the gate of the driving transistor overlap, and the scanning line driving circuit A period for switching the potential supplied to the three control lines from the second potential to the first potential is a seventh switching period, and the potential supplied to the third control line by the scanning line driving circuit is the first potential. When the period for switching from the second potential to the second potential is the eighth switching period, it is preferable that the time length of the eighth switching period is longer than the time length of the seventh switching period.
According to this aspect, it is possible to prevent the potential fluctuation generated in the third control line when the third switching transistor is turned off from propagating to the gate of the driving transistor. Thereby, it is possible to reduce the pitch of the control lines without degrading the display quality.

また、上述した電気光学装置は、前記データ線に電気的に接続されるデータ線駆動回路と、前記走査線駆動回路及び前記データ線駆動回路の動作を制御する制御回路と、前記データ線に対応して設けられ前記データ線の電位を保持する第2保持容量と、を備え、前記データ線駆動回路は、前記制御回路から所定の初期電位が供給される第1電位線と、前記制御回路から基準電位が供給される第2電位線と、前記データ線に対応して設けられるレベルシフト回路と、を具備し、前記レベルシフト回路は、一方の電極が前記データ線に電気的に接続される第3保持容量と、前記第3保持容量の一方の電極及び前記第1電位線の間に電気的に接続された第1トランジスターと、前記第3保持容量の他方の電極及び前記第2電位線の間に電気的に接続された第2トランジスターと、を備え、第1期間において、前記制御回路は、前記第1トランジスターをオン状態に維持し、前記第1期間が終了後に開始される第2期間において、前記走査線駆動回路は、前記書込トランジスターをオン状態に維持し、前記制御回路は、前記第1トランジスターをオフ状態に維持するとともに、前記第2トランジスターをオン状態に維持し、前記第2期間が終了後に開始される第3期間において、前記走査線駆動回路は、前記書込トランジスターをオン状態に維持し、前記制御回路は、前記第1トランジスター及び前記第2トランジスターをオフ状態に維持し、前記第3保持容量の他方の電極には、前記発光素子の輝度を規定する画像信号に基づく電位が供給される、ことが好ましい。   The electro-optical device described above corresponds to a data line driving circuit electrically connected to the data line, a control circuit for controlling operations of the scanning line driving circuit and the data line driving circuit, and the data line. And a second storage capacitor that holds the potential of the data line. The data line driving circuit includes a first potential line to which a predetermined initial potential is supplied from the control circuit, and A second potential line to which a reference potential is supplied; and a level shift circuit provided corresponding to the data line. The level shift circuit has one electrode electrically connected to the data line. A third storage capacitor; a first transistor electrically connected between one electrode of the third storage capacitor and the first potential line; and another electrode of the third storage capacitor and the second potential line. Electrically connected between The control circuit maintains the first transistor in an on state in the first period, and drives the scanning line in the second period that starts after the first period ends. The circuit maintains the write transistor in an on state, and the control circuit maintains the first transistor in an off state and maintains the second transistor in an on state, starting after the second period ends. In the third period, the scanning line driving circuit maintains the writing transistor in the on state, and the control circuit maintains the first transistor and the second transistor in the off state, and performs the third holding. The other electrode of the capacitor is preferably supplied with a potential based on an image signal that defines the luminance of the light emitting element.

この発明によれば、データ線は、第2保持容量と、第3保持容量とに接続され、第3保持容量の他方の電極には、発光素子の輝度を規定する画像信号に基づく電位が供給される。従って、データ線の電位の変動幅は、第3保持容量の他方の電極に供給される電位の変動幅を、第2保持容量及び第3保持容量の容量比に応じて圧縮した幅となる。すなわち、データ線の電位の変動範囲は、画像信号に基づいた電位の変動範囲に比べて狭められる。これにより、画像信号を細かい精度で刻まなくても、駆動トランジスターのゲートの電位を細かい精度で設定することが可能となる。従って、電流を発光素子に対して精度良く供給することができ、高品位の表示が可能となる。また、データ線の電位変化幅を小さく抑えることができるため、データ線の電位変動に起因するクロストークやムラ等の発生を防止することが可能となる。   According to the present invention, the data line is connected to the second storage capacitor and the third storage capacitor, and the other electrode of the third storage capacitor is supplied with a potential based on the image signal that defines the luminance of the light emitting element. Is done. Therefore, the fluctuation range of the potential of the data line is a width obtained by compressing the fluctuation range of the potential supplied to the other electrode of the third storage capacitor according to the capacitance ratio of the second storage capacitor and the third storage capacitor. That is, the variation range of the potential of the data line is narrower than the variation range of the potential based on the image signal. As a result, the potential of the gate of the driving transistor can be set with fine accuracy without engraving the image signal with fine accuracy. Therefore, current can be supplied to the light emitting element with high accuracy, and high-quality display can be achieved. In addition, since the potential change width of the data line can be suppressed to be small, it is possible to prevent occurrence of crosstalk, unevenness, and the like due to potential fluctuation of the data line.

なお、本発明に係る電気光学装置は、第3保持容量の一方の電極より、データ線を介して、第1保持容量及び第2保持容量に電荷を供給することにより、駆動トランジスターのゲートの電位を決定する。具体的には、駆動トランジスターのゲートの電位は、第1保持容量の容量値、第2保持容量の容量値、及び、第1保持容量及び第2保持容量に対して第3保持容量が供給する電荷量により定められる。仮に、電気光学装置が第2保持容量を備えない場合、駆動トランジスターのゲートの電位は、第1保持容量の容量値と、第3保持容量が供給する電荷により定められる。よって、第1保持容量の容量値が、半導体プロセスの誤差に起因した画素回路毎の相対的なばらつきを有する場合、駆動トランジスターのゲートの電位も画素回路毎にばらつく。この場合、表示ムラが発生し、表示品質が低下する。
これに対して、本発明は、データ線の電位を保持する第2保持容量を備える。第2保持容量は、データ線の各々に対応して設けられるため、画素回路内に設けられる第1保持容量に比べて、大面積の電極を有するように構成することができる。従って、第2保持容量は、第1保持容量に比べて、半導体プロセスの誤差に起因した容量値の相対的なばらつきが小さい。これにより、画素回路毎に駆動トランジスターのゲートの電位がばらつくことを防止することが可能となり、表示ムラの発生を防止した高品位の表示が可能となる。
In the electro-optical device according to the invention, the potential of the gate of the driving transistor is supplied by supplying charge from one electrode of the third storage capacitor to the first storage capacitor and the second storage capacitor via the data line. To decide. Specifically, the gate potential of the driving transistor is supplied from the capacitance value of the first storage capacitor, the capacitance value of the second storage capacitor, and the third storage capacitor to the first storage capacitor and the second storage capacitor. It is determined by the amount of charge. If the electro-optical device does not include the second storage capacitor, the gate potential of the driving transistor is determined by the capacitance value of the first storage capacitor and the charge supplied by the third storage capacitor. Therefore, when the capacitance value of the first storage capacitor has a relative variation for each pixel circuit due to an error in the semiconductor process, the gate potential of the driving transistor also varies for each pixel circuit. In this case, display unevenness occurs and the display quality deteriorates.
In contrast, the present invention includes a second storage capacitor that holds the potential of the data line. Since the second storage capacitor is provided corresponding to each of the data lines, the second storage capacitor can be configured to have a larger area electrode than the first storage capacitor provided in the pixel circuit. Accordingly, the second storage capacitor has a smaller relative variation in the capacitance value due to an error in the semiconductor process than the first storage capacitor. As a result, it is possible to prevent the gate potential of the driving transistor from varying for each pixel circuit, and display with high quality while preventing the occurrence of display unevenness.

また、前記レベルシフト回路は、第4保持容量を備え、前記第1期間の開始から前記第3期間の開始までの期間のうち少なくとも一部において、前記第4保持容量の一方の電極に前記画像信号の示す電位が供給され、前記第3期間において、前記第4保持容量の一方の電極が前記第3保持容量の他方の電極に電気的に接続される、ことが好ましい。   The level shift circuit includes a fourth storage capacitor, and the image is applied to one electrode of the fourth storage capacitor in at least a part of a period from the start of the first period to the start of the third period. It is preferable that a potential indicated by a signal is supplied and that one electrode of the fourth storage capacitor is electrically connected to the other electrode of the third storage capacitor in the third period.

この発明によれば、第1期間及び第2期間において、画像信号が第4保持容量の一方の電極に供給され、一時的に保持されたうえで、第3期間において、第3保持容量を介して駆動トランジスターのゲートに供給される。
仮に、電気光学装置が第4保持容量を備えない場合、駆動トランジスターのゲートに対する画像信号の示す電位を供給する動作の全てを、第3期間において行わなければならず、第3期間を十分に長く設定する必要がある。
これに対して本発明は、第1期間及び第2期間において、画像信号の供給動作と、データ線等の初期化動作とを並行して行うため、1水平走査期間に実行すべき動作についての時間的な制約を緩和することができる。これにより、画像信号の供給動作の低速化が可能になるとともに、データ線等の初期化を行う期間を十分に確保することが可能となる。
また、この発明によれば、画像信号に基づいた電位の変動の大きさを、第1保持容量、第2保持容量、及び、第3保持容量に加えて、第4保持容量を用いて圧縮するため、発光素子に対して電流を細かい精度で供給することが可能となる。
According to the present invention, the image signal is supplied to one electrode of the fourth holding capacitor and temporarily held in the first period and the second period, and then temporarily passed through the third holding capacitor in the third period. And supplied to the gate of the driving transistor.
If the electro-optical device does not include the fourth storage capacitor, all the operations for supplying the potential indicated by the image signal to the gate of the driving transistor must be performed in the third period, and the third period is sufficiently long. Must be set.
On the other hand, in the present invention, since the image signal supply operation and the initialization operation of the data lines and the like are performed in parallel in the first period and the second period, the operation to be performed in one horizontal scanning period is described. Time constraints can be relaxed. As a result, the image signal supply operation can be slowed down, and a sufficient period for initializing the data lines and the like can be secured.
According to the invention, the magnitude of the potential fluctuation based on the image signal is compressed using the fourth holding capacitor in addition to the first holding capacitor, the second holding capacitor, and the third holding capacitor. Therefore, current can be supplied to the light emitting element with fine accuracy.

また、前記走査線駆動回路は、前記第2期間において、前記第1スイッチングトランジスターをオン状態に維持し、前記第2期間以外の期間において、前記第1スイッチングトランジスターをオフ状態に維持し、前記第1期間、前記第2期間、及び、前記第3期間において、前記第3スイッチングトランジスターをオン状態に維持するとともに、前記第2スイッチングトランジスターをオフ状態に維持する、ことが好ましい。   The scanning line driving circuit maintains the first switching transistor in an on state in the second period, maintains the first switching transistor in an off state in a period other than the second period, and In the first period, the second period, and the third period, it is preferable that the third switching transistor is maintained in an on state and the second switching transistor is maintained in an off state.

この発明によれば、第2期間において第1スイッチングトランジスターをオン状態とすることにより、駆動トランジスターのゲートの電位を、駆動トランジスターの閾値電圧に対応した電位とすることができ、画素回路毎の駆動トランジスターの閾値電圧のばらつきを補償することが可能となる。
また、この発明によれば、第1期間〜第3期間において第3スイッチングトランジスターをオン状態とすることにより、発光素子に寄生する容量の保持電圧の影響を抑えることができる。
According to the present invention, by turning on the first switching transistor in the second period, the gate potential of the driving transistor can be set to a potential corresponding to the threshold voltage of the driving transistor, and driving for each pixel circuit is performed. It becomes possible to compensate for variations in the threshold voltage of the transistor.
In addition, according to the present invention, the third switching transistor is turned on in the first period to the third period, so that the influence of the holding voltage of the capacitance parasitic on the light emitting element can be suppressed.

なお、本発明は、電気光学装置のほか、当該電気光学装置を有する電子機器として概念することも可能である。電子機器としては、典型的にはヘッドマウント・ディスプレイ(HMD)や電子ビューファイダーのなどの表示装置が挙げられる。   In addition to the electro-optical device, the present invention can be conceptualized as an electronic apparatus having the electro-optical device. Typically, the electronic device includes a display device such as a head mounted display (HMD) or an electronic viewfinder.

本発明の実施形態に係る電気光学装置の構成を示す斜視図である。1 is a perspective view illustrating a configuration of an electro-optical device according to an embodiment of the invention. 同電気光学装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the same electro-optical apparatus. 同電気光学装置におけるデータ線駆動回路を示す図である。It is a figure which shows the data line drive circuit in the same electro-optical apparatus. 同電気光学装置における画素回路を示す図である。It is a figure which shows the pixel circuit in the same electro-optical apparatus. 同電気光学装置における画素回路の構成を示す平面図である。2 is a plan view illustrating a configuration of a pixel circuit in the electro-optical device. FIG. 同電気光学装置における画素回路の構成を示す部分断面図である。2 is a partial cross-sectional view illustrating a configuration of a pixel circuit in the same electro-optical device. FIG. 同電気光学装置の動作を示すタイミングチャートである。6 is a timing chart showing the operation of the electro-optical device. 同電気光学装置の動作説明図である。FIG. 6 is an operation explanatory diagram of the same electro-optical device. 同電気光学装置のゲートノードの電位変化について説明する図である。It is a figure explaining the potential change of the gate node of the same electro-optical device. 同電気光学装置におけるデータ信号の振幅圧縮を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the amplitude compression of the data signal in the same electro-optical apparatus. 同電気光学装置におけるトランジスターの特性を示す説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram illustrating characteristics of a transistor in the electro-optical device. 変形例1に係る電気光学装置における画素回路の構成を示す平面図である。10 is a plan view illustrating a configuration of a pixel circuit in an electro-optical device according to Modification 1. FIG. 同電気光学装置の動作を示すタイミングチャートである。6 is a timing chart showing the operation of the electro-optical device. 変形例2に係る電気光学装置における画素回路の構成を示す平面図である。10 is a plan view illustrating a configuration of a pixel circuit in an electro-optical device according to Modification Example 2. FIG. 同電気光学装置の動作を示すタイミングチャートである。6 is a timing chart showing the operation of the electro-optical device. 実施形態等に係る電気光学装置を用いたHMDを示す斜視図である。It is a perspective view which shows HMD using the electro-optical apparatus which concerns on embodiment etc. FIG. HMDの光学構成を示す図である。It is a figure which shows the optical structure of HMD.

以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。   Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings.

<実施形態>
図1は、本発明の実施形態に係る電気光学装置1の構成を示す斜視図である。電気光学装置1は、例えばヘッドマウント・ディスプレイにおいて画像を表示するマイクロ・ディスプレイである。
図1に示すように、電気光学装置1は、表示パネル2と、表示パネル2の動作を制御する制御回路3とを備える。表示パネル2は、複数の画素回路と、当該画素回路を駆動する駆動回路とを備える。本実施形態において、表示パネル2が備える複数の画素回路及び駆動回路は、シリコン基板に形成され、画素回路には、発光素子の一例であるOLEDが用いられる。また、表示パネル2は、例えば、表示部で開口する枠状のケース82に収納されるとともに、FPC(Flexible Printed Circuits)基板84の一端が接続される。
FPC基板84には、半導体チップの制御回路3が、COF(Chip On Film)技術によって実装されるとともに、複数の端子86が設けられて、図示省略された上位回路に接続される。
<Embodiment>
FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of an electro-optical device 1 according to an embodiment of the present invention. The electro-optical device 1 is a micro display that displays an image on a head-mounted display, for example.
As shown in FIG. 1, the electro-optical device 1 includes a display panel 2 and a control circuit 3 that controls the operation of the display panel 2. The display panel 2 includes a plurality of pixel circuits and a drive circuit that drives the pixel circuits. In the present embodiment, a plurality of pixel circuits and drive circuits included in the display panel 2 are formed on a silicon substrate, and an OLED which is an example of a light emitting element is used for the pixel circuits. The display panel 2 is housed in, for example, a frame-shaped case 82 that opens at the display unit, and one end of an FPC (Flexible Printed Circuits) substrate 84 is connected.
On the FPC board 84, the control circuit 3 of the semiconductor chip is mounted by COF (Chip On Film) technology, and a plurality of terminals 86 are provided, and are connected to an upper circuit (not shown).

図2は、実施形態に係る電気光学装置1の構成を示すブロック図である。上述のとおり、電気光学装置1は、表示パネル2と、制御回路3とを備える。
制御回路3には、図示省略された上位回路よりデジタルの画像データVideoが同期信号に同期して供給される。ここで、画像データVideoとは、表示パネル2(厳密には、後述する表示部100)で表示すべき画像の画素の階調レベルを例えば8ビットで規定するデータである。また、同期信号とは、垂直同期信号、水平同期信号、及び、ドットクロック信号を含む信号である。
制御回路3は、同期信号に基づいて、各種制御信号を生成し、これを表示パネル2に対して供給する。具体的には、制御回路3は、表示パネル2に対して、制御信号Ctrと、負論理の制御信号/Giniと、正論理の制御信号Grefと、正論理の制御信号Gcplと、これと論理反転の関係にある負論理の制御信号/Gcplと、制御信号Sel(1)、Sel(2)、Sel(3)と、これらの信号に対して論理反転の関係にある制御信号/Sel(1)、/Sel(2)、/Sel(3)と、を供給する。ここで、制御信号Ctrとは、パルス信号や、クロック信号、イネーブル信号など、複数の信号を含む信号である。なお、制御信号Sel(1)、Sel(2)、Sel(3)を、制御信号Selと総称し、制御信号/Sel(1)、/Sel(2)、/Sel(3)を、制御信号/Selと総称する場合がある。
また、制御回路3は、表示パネル2に対して、各種電位を供給する。具体的には、制御回路3は、表示パネル2に対して、所定のリセット電位Vorst、所定の初期電位Vini、所定の基準電位Vref等を供給する。
さらに、制御回路3は、画像データVideoに基づいて、アナログの画像信号Vidを生成する。
具体的には、制御回路3には、画像信号Vidの示す電位、及び、表示パネル2が備える発光素子(後述するOLED130)の輝度を対応付けて記憶したルックアップテーブルが設けられる。そして、制御回路3は、当該ルックアップテーブルを参照することで、画像データVideoに規定される発光素子の輝度に対応した電位を示す画像信号Vidを生成し、これを表示パネル2に対して供給する。
FIG. 2 is a block diagram illustrating a configuration of the electro-optical device 1 according to the embodiment. As described above, the electro-optical device 1 includes the display panel 2 and the control circuit 3.
Digital image data Video is supplied to the control circuit 3 from an upper circuit (not shown) in synchronization with a synchronization signal. Here, the image data Video is data that defines, for example, the 8-bit pixel gradation level of an image to be displayed on the display panel 2 (strictly speaking, the display unit 100 described later). The synchronization signal is a signal including a vertical synchronization signal, a horizontal synchronization signal, and a dot clock signal.
The control circuit 3 generates various control signals based on the synchronization signal and supplies them to the display panel 2. Specifically, the control circuit 3 controls the display panel 2 with a control signal Ctr, a negative logic control signal / Gini, a positive logic control signal Gref, a positive logic control signal Gcpl, The negative logic control signal / Gcpl in the inversion relationship and the control signals Sel (1), Sel (2), Sel (3), and the control signal / Sel (1) in the logic inversion relationship with respect to these signals ), / Sel (2), / Sel (3). Here, the control signal Ctr is a signal including a plurality of signals such as a pulse signal, a clock signal, and an enable signal. The control signals Sel (1), Sel (2), and Sel (3) are collectively referred to as the control signal Sel, and the control signals / Sel (1), / Sel (2), and / Sel (3) / Sel may be collectively called.
The control circuit 3 supplies various potentials to the display panel 2. Specifically, the control circuit 3 supplies the display panel 2 with a predetermined reset potential Vorst, a predetermined initial potential Vini, a predetermined reference potential Vref, and the like.
Further, the control circuit 3 generates an analog image signal Vid based on the image data Video.
Specifically, the control circuit 3 is provided with a lookup table that stores the potential indicated by the image signal Vid and the luminance of a light emitting element (an OLED 130 described later) included in the display panel 2 in association with each other. Then, the control circuit 3 refers to the lookup table to generate an image signal Vid indicating a potential corresponding to the luminance of the light emitting element specified in the image data Video, and supplies this to the display panel 2. To do.

図2に示すように、表示パネル2は、表示部100と、これを駆動する駆動回路(データ線駆動回路10及び走査線駆動回路20)とを備える。
表示部100には、表示すべき画像の画素に対応した画素回路110がマトリクス状に配列されている。詳細には、表示部100において、m行の走査線12が図において横方向(X方向)に延在して設けられ、また、3列毎にグループ化された(3n)列のデータ線14が図において縦方向(Y方向)に延在し、かつ、各走査線12と互いに電気的な絶縁を保って設けられている。そして、m行の走査線12と(3n)列のデータ線14との交差部に対応して画素回路110が設けられている。このため、本実施形態において画素回路110は、縦m行×横(3n)列でマトリクス状に配列されている。
As shown in FIG. 2, the display panel 2 includes a display unit 100 and drive circuits (the data line drive circuit 10 and the scan line drive circuit 20) that drive the display unit 100.
In the display unit 100, pixel circuits 110 corresponding to pixels of an image to be displayed are arranged in a matrix. More specifically, in the display unit 100, m rows of scanning lines 12 are provided extending in the horizontal direction (X direction) in the drawing, and (3n) columns of data lines 14 are grouped every three columns. Are extended in the vertical direction (Y direction) in the figure and are provided so as to be electrically insulated from each scanning line 12. A pixel circuit 110 is provided corresponding to the intersection of the m rows of scanning lines 12 and the (3n) columns of data lines 14. For this reason, in the present embodiment, the pixel circuits 110 are arranged in a matrix form of vertical m rows × horizontal (3n) columns.

ここで、m、nは、いずれも自然数である。走査線12及び画素回路110のマトリクスのうち、行(ロウ)を区別するために、図において上から順に1、2、3、…、(m−1)、m行と呼ぶ場合がある。同様にデータ線14及び画素回路110のマトリクスの列(カラム)を区別するために、図において左から順に1、2、3、…、(3n−1)、(3n)列と呼ぶ場合がある。また、データ線14のグループを一般化して説明するために、1以上n以下の整数jを用いると、左から数えてj番目のグループには、(3j−2)列目、(3j−1)列目及び(3j)列目のデータ線14が属している、ということになる。
なお、同一行の走査線12と同一グループに属する3列のデータ線14との交差に対応した3つの画素回路110は、それぞれR(赤)、G(緑)、B(青)の画素に対応して、これらの3画素が表示すべきカラー画像の1ドットを表現する。すなわち、本実施形態では、RGBに対応したOLEDの発光によって1ドットのカラーを加法混色で表現する構成となっている。
Here, m and n are both natural numbers. In order to distinguish the rows in the matrix of the scanning lines 12 and the pixel circuits 110, they may be referred to as 1, 2, 3,... (M−1), m rows in order from the top in the drawing. Similarly, in order to distinguish the column of the matrix of the data line 14 and the pixel circuit 110, they may be called 1, 2, 3, ..., (3n-1), (3n) columns in order from the left in the figure. . Further, in order to generalize and describe the group of data lines 14, when an integer j of 1 to n is used, the j-th group counted from the left includes the (3j-2) th column, (3j-1). ) And (3j) th column data lines 14 belong.
Note that the three pixel circuits 110 corresponding to the intersection of the scanning lines 12 in the same row and the three columns of data lines 14 belonging to the same group respectively have R (red), G (green), and B (blue) pixels. Correspondingly, these three pixels represent one dot of a color image to be displayed. That is, in the present embodiment, one dot color is expressed by additive color mixing by light emission of an OLED corresponding to RGB.

また、図2に示すように、表示部100において、(3n)列の給電線16が、縦方向に延在し、かつ、各走査線12と互いに電気的な絶縁を保って設けられる。各給電線16には、所定のリセット電位Vorstが共通に給電されている。ここで、給電線16の列を区別するために、図において左から順に1、2、3、…、(3n)、(3n+1)列目の給電線16と呼ぶ場合がある。1列目〜(3n)列目の給電線16の各々は、1列目〜(3n)列目のデータ線14の各々に対応して設けられる。
また、表示パネル2には、1列目〜(3n)列目のデータ線14の各々に対応して、(3n)個の保持容量50が設けられる。保持容量50は2つの電極を有する。保持容量50の一方の電極はデータ線14に接続され、他方の電極は給電線16に接続される。すなわち、保持容量50は、データ線14の電位を保持する第2保持容量として機能する。なお、保持容量50は、互いに隣り合う給電線16及びデータ線14が絶縁体(誘電体)を挟持することで形成されることが好ましい。この場合、互いに隣り合う給電線16とデータ線14との間の距離は、必要とされる大きさの容量が得られるように定められる。なお、以下では、保持容量50の容量値をCdtと表記する。
図2において、保持容量50は、表示部100の外側に設けられているが、これはあくまでも等価回路であり、表示部100の内側に設けてもよい。また、保持容量50は、表示部100の内側から外側にわたって設けられてもよい。
Further, as shown in FIG. 2, in the display unit 100, (3n) columns of feeder lines 16 are provided so as to extend in the vertical direction and to be electrically insulated from each scanning line 12. A predetermined reset potential Vorst is commonly supplied to the power supply lines 16. Here, in order to distinguish the columns of the feeder lines 16, they may be called the feeder lines 16 in the first, second, third,..., (3n), (3n + 1) th columns in order from the left in the drawing. Each of the first to (3n) th column feeder lines 16 is provided corresponding to each of the first to (3n) th column data lines 14.
Further, the display panel 2 is provided with (3n) storage capacitors 50 corresponding to the first to (3n) th column data lines 14. The storage capacitor 50 has two electrodes. One electrode of the storage capacitor 50 is connected to the data line 14, and the other electrode is connected to the feeder line 16. That is, the storage capacitor 50 functions as a second storage capacitor that holds the potential of the data line 14. The storage capacitor 50 is preferably formed by sandwiching an insulator (dielectric) between the power supply line 16 and the data line 14 adjacent to each other. In this case, the distance between the power supply line 16 and the data line 14 adjacent to each other is determined so as to obtain a required capacity. Hereinafter, the capacitance value of the storage capacitor 50 is expressed as Cdt.
In FIG. 2, the storage capacitor 50 is provided outside the display unit 100, but this is only an equivalent circuit and may be provided inside the display unit 100. Further, the storage capacitor 50 may be provided from the inside to the outside of the display unit 100.

走査線駆動回路20は、フレームの期間にわたって走査線12を1行毎に順番に走査するための走査信号Gwrを、制御信号Ctrにしたがって生成する。ここで、1、2、3、…、m行目の走査線12に供給される走査信号Gwrを、それぞれGwr(1)、Gwr(2)、Gwr(3)、…、Gwr(m-1)、Gwr(m)と表記している。
なお、走査線駆動回路20は、走査信号Gwr(1)〜Gwr(m)のほかにも、当該走査信号Gwrに同期した各種制御信号を行毎に生成して表示部100に供給するが、図2においては図示を省略している。また、フレームの期間とは、電気光学装置1が1カット(コマ)分の画像を表示するのに要する期間をいい、例えば同期信号に含まれる垂直同期信号の周波数が120Hzであれば、その1周期分の8.3ミリ秒の期間である。
The scanning line driving circuit 20 generates a scanning signal Gwr for sequentially scanning the scanning lines 12 for each row over the period of the frame according to the control signal Ctr. Here, the scanning signals Gwr supplied to the scanning lines 12 in the 1, 2, 3,..., M-th rows are respectively Gwr (1), Gwr (2), Gwr (3),. ), Gwr (m).
In addition to the scanning signals Gwr (1) to Gwr (m), the scanning line driving circuit 20 generates various control signals synchronized with the scanning signal Gwr for each row and supplies them to the display unit 100. Illustration is omitted in FIG. The frame period is a period required for the electro-optical device 1 to display an image for one cut (frame). For example, if the frequency of the vertical synchronization signal included in the synchronization signal is 120 Hz, the first period is 1. This is a period of 8.3 milliseconds corresponding to the period.

データ線駆動回路10は、(3n)列のデータ線14の各々と1対1に対応して設けられる(3n)個のレベルシフト回路LS、各グループを構成する3列のデータ線14毎に設けられるn個のデマルチプレクサDM、及び、データ信号供給回路70を備える。
データ信号供給回路70は、制御回路3より供給される画像信号Vidと制御信号Ctrとに基づいて、データ信号Vd(1)、Vd(2)、…、Vd(n)を生成する。すなわち、データ信号供給回路70は、データ信号Vd(1)、Vd(2)、…、Vd(n)を時分割多重した画像信号Vidに基づいて、データ信号Vd(1)、Vd(2)、…、Vd(n)を生成する。そして、データ信号供給回路70は、データ信号Vd(1)、Vd(2)、…、Vd(n)を、1、2、…、n番目のグループに対応するデマルチプレクサDMに対して、それぞれ供給する。また、データ信号Vd(1)〜Vd(n)が取り得る電位の最高値をVmaxとし、最低値をVminとする。
The data line driving circuit 10 includes (3n) level shift circuits LS provided in a one-to-one correspondence with each of the (3n) columns of data lines 14 and each of the three columns of data lines 14 constituting each group. N demultiplexers DM and a data signal supply circuit 70 are provided.
The data signal supply circuit 70 generates data signals Vd (1), Vd (2),..., Vd (n) based on the image signal Vid and the control signal Ctr supplied from the control circuit 3. That is, the data signal supply circuit 70 uses the data signals Vd (1), Vd (2),..., Vd (n) based on the image signal Vid that is time-division multiplexed. ... Vd (n) is generated. The data signal supply circuit 70 applies the data signals Vd (1), Vd (2),..., Vd (n) to the demultiplexers DM corresponding to the first, second,. Supply. Further, the maximum potential that can be taken by the data signals Vd (1) to Vd (n) is Vmax, and the minimum value is Vmin.

図3は、デマルチプレクサDMとレベルシフト回路LSとの構成を説明するための回路図である。なお、図3は、j番目のグループに属するデマルチプレクサDMと、当該デマルチプレクサDMに接続された3個のレベルシフト回路LSとを、代表的に表している。なお、以下では、j番目のグループに属するデマルチプレクサDMを、DM(j)と表記する場合がある。   FIG. 3 is a circuit diagram for explaining the configuration of the demultiplexer DM and the level shift circuit LS. FIG. 3 representatively shows the demultiplexer DM belonging to the j-th group and the three level shift circuits LS connected to the demultiplexer DM. Hereinafter, the demultiplexer DM belonging to the j-th group may be referred to as DM (j).

以下では、図2に加えて図3を参照しながら、デマルチプレクサDM及びレベルシフト回路LSの構成について説明する。
図3に示すように、デマルチプレクサDMは、列毎に設けられたトランスミッションゲート34の集合体であり、各グループを構成する3列に、データ信号を順番に供給するものである。ここで、j番目のグループに属する(3j−2)、(3j−1)、(3j)列に対応したトランスミッションゲート34の入力端は互いに共通接続されて、その共通端子にそれぞれデータ信号Vd(j)が供給される。j番目のグループにおいて左端列である(3j−2)列に設けられたトランスミッションゲート34は、制御信号Sel(1)がHレベルであるとき(制御信号/Sel(1)がLレベルであるとき)にオン(導通)する。同様に、j番目のグループにおいて中央列である(3j−1)列に設けられたトランスミッションゲート34は、制御信号Sel(2)がHレベルであるとき(制御信号/Sel(2)がLレベルであるとき)にオンし、j番目のグループにおいて右端列である(3j)列に設けられたトランスミッションゲート34は、制御信号Sel(3)がHレベルであるとき(制御信号/Sel(3)がLレベルであるとき)にオンする。
Hereinafter, the configuration of the demultiplexer DM and the level shift circuit LS will be described with reference to FIG. 3 in addition to FIG.
As shown in FIG. 3, the demultiplexer DM is an aggregate of transmission gates 34 provided for each column, and sequentially supplies data signals to three columns constituting each group. Here, the input terminals of the transmission gates 34 corresponding to the (3j-2), (3j-1), and (3j) columns belonging to the jth group are commonly connected to each other, and the data signal Vd ( j) is supplied. The transmission gate 34 provided in the leftmost column (3j-2) in the j-th group has the control signal Sel (1) at the H level (when the control signal / Sel (1) is at the L level. ) Is turned on (conductive). Similarly, in the j-th group, the transmission gate 34 provided in the (3j−1) column which is the central column has the control signal Sel (2) at the H level (the control signal / Sel (2) is at the L level. The transmission gate 34 provided in the (3j) column which is the rightmost column in the j-th group when the control signal Sel (3) is at the H level (control signal / Sel (3) Is on).

レベルシフト回路LSは、保持容量41、保持容量44、PチャネルMOS型のトランジスター45、NチャネルMOS型のトランジスター43、及び、トランスミッションゲート42の組を列毎に有し、各列のトランスミッションゲート34の出力端から出力されるデータ信号の電位をシフトするものである。
ここで、保持容量44は2つの電極を有する。保持容量44の一方の電極は、対応する列のデータ線14と、トランジスター45のソースまたはドレインの一方とに、電気的に接続される。また、保持容量44の他方の電極は、トランスミッションゲート42の出力端と、トランジスター43のソースまたはドレインの一方とに、ノードh1を介して電気的に接続される。すなわち、保持容量44は、一方の電極がデータ線14に電気的に接続された第3保持容量として機能する。なお、保持容量44の容量値をCrf1とする。
The level shift circuit LS includes a set of a storage capacitor 41, a storage capacitor 44, a P-channel MOS transistor 45, an N-channel MOS transistor 43, and a transmission gate 42 for each column, and the transmission gate 34 of each column. The potential of the data signal output from the output terminal is shifted.
Here, the storage capacitor 44 has two electrodes. One electrode of the storage capacitor 44 is electrically connected to the data line 14 of the corresponding column and one of the source and the drain of the transistor 45. The other electrode of the storage capacitor 44 is electrically connected to the output terminal of the transmission gate 42 and one of the source and drain of the transistor 43 via the node h1. That is, the storage capacitor 44 functions as a third storage capacitor in which one electrode is electrically connected to the data line 14. Note that the capacitance value of the storage capacitor 44 is Crf1.

各列のトランジスター45のソースまたはドレインの他方は、給電線61(第1電位線)に電気的に接続される。また、制御回路3は、各列のトランジスター45のゲートに対して、制御信号/Giniを共通に供給する。このため、トランジスター45は、保持容量44の一方の電極(及びデータ線14)と給電線61とを制御信号/GiniがLレベルのときに電気的に接続し、制御信号/GiniがHレベルのときに電気的に非接続とする。なお、給電線61には、制御回路3から所定の初期電位Viniが供給される。
各列のトランジスター43のソースまたはドレインの他方は、給電線62(第2電位線)に電気的に接続される。また、制御回路3は、各列のトランジスター43のゲートに対して、制御信号Grefを共通に供給する。このため、トランジスター43は、保持容量44の他方の電極及びノードh1と、給電線62とを、制御信号GrefがHレベルのときに電気的に接続し、制御信号GrefがLレベルのときに電気的に非接続とする。なお、給電線62には、制御回路3から基準電位Vrefが供給される。
The other of the source or drain of the transistor 45 in each column is electrically connected to the power supply line 61 (first potential line). The control circuit 3 supplies the control signal / Gini in common to the gates of the transistors 45 in each column. Therefore, the transistor 45 electrically connects one electrode (and the data line 14) of the storage capacitor 44 and the power supply line 61 when the control signal / Gini is at L level, and the control signal / Gini is at H level. Sometimes electrically disconnected. A predetermined initial potential Vini is supplied from the control circuit 3 to the power supply line 61.
The other of the source and the drain of the transistor 43 in each column is electrically connected to the power supply line 62 (second potential line). The control circuit 3 supplies the control signal Gref in common to the gates of the transistors 43 in each column. For this reason, the transistor 43 electrically connects the other electrode of the storage capacitor 44 and the node h1 to the feeder line 62 when the control signal Gref is at the H level, and electrically connects when the control signal Gref is at the L level. Disconnected. The reference potential Vref is supplied from the control circuit 3 to the power supply line 62.

保持容量41は2つの電極を有する。保持容量41の一方の電極は、ノードh2を介してトランスミッションゲート42の入力端に電気的に接続される。また、トランスミッションゲート42の出力端は、ノードh1を介して、保持容量44の他方の電極に電気的に接続される。
制御回路3は、各列のトランスミッションゲート42に対して、制御信号Gcpl及び制御信号/Gcplを共通に供給する。このため、各列のトランスミッションゲート42は、制御信号GcplがHレベルであるとき(制御信号/GcplがLレベルであるとき)に一斉にオンする。
各列の保持容量41の一方の電極は、ノードh2を介して、トランスミッションゲート34の出力端、及び、トランスミッションゲート42の入力端に電気的に接続される。そして、トランスミッションゲート34がオンした際、保持容量41の一方の電極には、トランスミッションゲート34の出力端を介してデータ信号Vd(j)が供給される。すなわち、保持容量41は、一方の電極にデータ信号Vd(j)が供給される第4保持容量として機能する。また、各列の保持容量41の他方の電極は、固定電位である電位Vssが供給される給電線63に共通に接続される。ここで、電位Vssは、論理信号である走査信号や制御信号のLレベルに相当するものであってもよい。なお、保持容量41の容量値をCrf2とする。
The storage capacitor 41 has two electrodes. One electrode of the storage capacitor 41 is electrically connected to the input terminal of the transmission gate 42 via the node h2. The output terminal of the transmission gate 42 is electrically connected to the other electrode of the storage capacitor 44 via the node h1.
The control circuit 3 supplies the control signal Gcpl and the control signal / Gcpl in common to the transmission gates 42 in each column. For this reason, the transmission gates 42 in each column are simultaneously turned on when the control signal Gcpl is at the H level (when the control signal / Gcpl is at the L level).
One electrode of the storage capacitor 41 in each column is electrically connected to the output end of the transmission gate 34 and the input end of the transmission gate 42 via the node h2. When the transmission gate 34 is turned on, the data signal Vd (j) is supplied to one electrode of the storage capacitor 41 via the output terminal of the transmission gate 34. That is, the storage capacitor 41 functions as a fourth storage capacitor in which the data signal Vd (j) is supplied to one electrode. The other electrode of the storage capacitor 41 in each column is connected in common to a power supply line 63 to which a potential Vss that is a fixed potential is supplied. Here, the potential Vss may correspond to an L level of a scanning signal or a control signal that is a logic signal. Note that the capacitance value of the storage capacitor 41 is Crf2.

図4を参照して画素回路110について説明する。各画素回路110については電気的にみれば互いに同一構成なので、ここでは、i行目に位置し、且つ、j番目のグループのうち左端列の(3j−2)列目に位置する、i行(3j−2)列の画素回路110を例にとって説明する。なお、iは、画素回路110が配列する行を一般的に示す場合の記号であって、1以上m以下の整数である。   The pixel circuit 110 will be described with reference to FIG. Since each pixel circuit 110 has the same configuration when viewed electrically, i-th row is located in the i-th row and is located in the (3j-2) th column of the leftmost column in the j-th group. The pixel circuit 110 in the (3j-2) column will be described as an example. Note that i is a symbol for generally indicating a row in which the pixel circuits 110 are arranged, and is an integer of 1 to m.

図4に示されるように、画素回路110は、PチャネルMOS型のトランジスター121〜125と、OLED130と、保持容量132とを含む。この画素回路110には、走査信号Gwr(i)、制御信号Gcmp(i)、Gel(i)、Gorst(i)が供給される。ここで、走査信号Gwr(i)、制御信号Gcmp(i)、Gel(i)、Gorst(i)は、それぞれi行目に対応して走査線駆動回路20によって供給されるものである。
なお、図2では図示省略したが、表示パネル2(表示部100)には、図2において横方向(X方向)に延在するm行の制御線143(第1制御線)、横方向に延在するm行の制御線144(第2制御線)、及び、横方向に延在するm行の制御線145(第3制御線)が設けられる。そして、走査線駆動回路20は、1、2、3、…、m行目の制御線143に対して、それぞれ、制御信号Gcmp(1)、Gcmp(2)、Gcmp(3)、…、Gcmp(m)を供給し、1、2、3、…、m行目の制御線144に対して、それぞれ、制御信号Gel(1)、Gel(2)、Gel(3)、…、Gel(m)を供給し、1、2、3、…、m行目の制御線145に対して、それぞれ、制御信号Gorst(1)、Gorst(2)、Gorst(3)、…、Gorst(m)を供給する。すなわち、走査線駆動回路20は、i行目に位置する(3n)個の画素回路に対して、走査信号Gwr(i)、制御信号Gel(i)、Gcmp(i)、Gorst(i)を、それぞれ、i行目の走査線12、制御線143、144、145を介して、共通に供給する。以下では、走査線12、制御線143、制御線144、及び、制御線145を、「制御線」と総称する場合がある。すなわち、本実施形態に係る表示パネル2には、各行に、走査線12を含む4本の制御線が設けられる。
As shown in FIG. 4, the pixel circuit 110 includes P-channel MOS transistors 121 to 125, an OLED 130, and a storage capacitor 132. The pixel circuit 110 is supplied with a scanning signal Gwr (i), control signals Gcmp (i), Gel (i), and Gorst (i). Here, the scanning signal Gwr (i), the control signals Gcmp (i), Gel (i), and Gorst (i) are respectively supplied by the scanning line driving circuit 20 corresponding to the i-th row.
Although not shown in FIG. 2, the display panel 2 (display unit 100) includes m rows of control lines 143 (first control lines) extending in the horizontal direction (X direction) in FIG. There are provided m rows of control lines 144 (second control lines) and m rows of control lines 145 (third control lines) extending in the lateral direction. The scanning line driving circuit 20 applies control signals Gcmp (1), Gcmp (2), Gcmp (3),..., Gcmp to the control lines 143 in the 1, 2, 3,. (m) is supplied, and control signals Gel (1), Gel (2), Gel (3),..., Gel (m ) And control signals Gorst (1), Gorst (2), Gorst (3),..., Gorst (m) to the control lines 145 in the 1, 2, 3,. Supply. That is, the scanning line driving circuit 20 sends the scanning signal Gwr (i), the control signals Gel (i), Gcmp (i), and Gorst (i) to the (3n) pixel circuits located in the i-th row. These are supplied in common through the scanning line 12 and the control lines 143, 144, and 145 of the i-th row, respectively. Hereinafter, the scanning line 12, the control line 143, the control line 144, and the control line 145 may be collectively referred to as “control lines”. That is, the display panel 2 according to the present embodiment is provided with four control lines including the scanning lines 12 in each row.

トランジスター122は、ゲートがi行目の走査線12に電気的に接続され、ソースまたはドレインの一方が(3j−2)列目のデータ線14に電気的に接続されている。また、保持容量132は2つの電極を有する。トランジスター122は、ソースまたはドレインの他方が、トランジスター121のゲートと、保持容量132の一方の電極と、トランジスター123のソースまたはドレインの一方とに、それぞれ電気的に接続されている。すなわち、トランジスター122は、トランジスター121のゲートとデータ線14との間に電気的に接続され、トランジスター121のゲートとデータ線14との間の電気的な接続を制御する書込トランジスターとして機能する。なお、以下において、トランジスター121のゲート、トランジスター122のソースまたはドレインの他方、トランジスター123のソースまたはドレインの一方、及び、保持容量132の一方の電極を電気的に接続する配線を、(トランジスター121の)ゲートノードgと称する場合がある。
トランジスター121は、ソースが給電線116に電気的に接続され、ドレインがトランジスター123のソースまたはドレインの他方と、トランジスター124のソースとにそれぞれ電気的に接続されている。ここで、給電線116には、画素回路110において電源の高位側となる電位Velが給電される。このトランジスター121は、トランジスター121のゲート及びソース間の電圧に応じた電流を流す駆動トランジスターとして機能する。
トランジスター123は、ゲートが制御線143に電気的に接続され、制御信号Gcmp(i)が供給される。このトランジスター123は、トランジスター121のゲート及びドレインの間の電気的な接続を制御する、第1スイッチングトランジスターとして機能する。
トランジスター124は、ゲートが制御線144に電気的に接続され、制御信号Gel(i)が供給される。また、トランジスター124は、ドレインがトランジスター125のソースとOLED130のアノード130aとにそれぞれ電気的に接続されている。このトランジスター124は、トランジスター121のドレインと、OLED130のアノードとの間の電気的な接続を制御する、第2スイッチングトランジスターとして機能する。
トランジスター125は、ゲートが制御線145に電気的に接続され、制御信号Gorst(i)が供給される。また、トランジスター125のドレインは(3j−2)列目の給電線16に電気的に接続されてリセット電位Vorstに保たれている。このトランジスター125は、給電線16と、OLED130のアノード130aとの間の電気的な接続を制御する第3スイッチングトランジスターとして機能する。
本実施形態において表示パネル2はシリコン基板に形成されるので、トランジスター121〜125の基板電位については電位Velとしている。
なお、上記におけるトランジスター121〜125のソース、ドレインはトランジスター121〜125のチャネル型、電位の関係に応じて入れ替わってもよい。また、トランジスターは薄膜トランジスターであっても電界効果トランジスターであってもよい。
The transistor 122 has a gate electrically connected to the i-th scanning line 12 and a source or drain electrically connected to the data line 14 in the (3j-2) -th column. The storage capacitor 132 has two electrodes. The other of the source and the drain of the transistor 122 is electrically connected to the gate of the transistor 121, one electrode of the storage capacitor 132, and one of the source and the drain of the transistor 123. In other words, the transistor 122 is electrically connected between the gate of the transistor 121 and the data line 14 and functions as a writing transistor that controls the electrical connection between the gate of the transistor 121 and the data line 14. Note that a wiring that electrically connects the gate of the transistor 121, the other of the source and the drain of the transistor 122, one of the source and the drain of the transistor 123, and one electrode of the storage capacitor 132 is referred to as (the transistor 121 ) Sometimes referred to as a gate node g.
The transistor 121 has a source electrically connected to the power supply line 116 and a drain electrically connected to the source of the transistor 123 or the other of the drain and the source of the transistor 124. Here, the power supply line 116 is supplied with a potential Vel that is higher in the power supply in the pixel circuit 110. The transistor 121 functions as a driving transistor that passes a current corresponding to the voltage between the gate and the source of the transistor 121.
The transistor 123 has a gate electrically connected to the control line 143 and is supplied with a control signal Gcmp (i). The transistor 123 functions as a first switching transistor that controls electrical connection between the gate and drain of the transistor 121.
The transistor 124 has a gate electrically connected to the control line 144 and is supplied with a control signal Gel (i). The drain of the transistor 124 is electrically connected to the source of the transistor 125 and the anode 130a of the OLED 130, respectively. The transistor 124 functions as a second switching transistor that controls electrical connection between the drain of the transistor 121 and the anode of the OLED 130.
The transistor 125 has a gate electrically connected to the control line 145 and is supplied with a control signal Gorst (i). The drain of the transistor 125 is electrically connected to the power supply line 16 in the (3j-2) th column and is kept at the reset potential Vorst. The transistor 125 functions as a third switching transistor that controls electrical connection between the power supply line 16 and the anode 130 a of the OLED 130.
In this embodiment, since the display panel 2 is formed on a silicon substrate, the substrate potential of the transistors 121 to 125 is set to the potential Vel.
Note that the sources and drains of the transistors 121 to 125 in the above may be interchanged depending on the channel type and potential relationship of the transistors 121 to 125. The transistor may be a thin film transistor or a field effect transistor.

保持容量132は、一方の電極がトランジスター121のゲートに電気的に接続され、他方の電極が給電線116に電気的に接続される。このため、保持容量132は、トランジスター121のゲート・ソース間の電圧を保持する第1保持容量として機能する。なお、保持容量132の容量値をCpixと表記する。このとき、保持容量50の容量値Cdtと、保持容量44の容量値Crf1と、保持容量132の容量値Cpixとは、
Cdt>Crf1>>Cpix
となるように設定される。すなわち、CdtはCrf1よりも大きく、CpixはCdt及びCrf1よりも十分に小さくなるように設定される。なお、保持容量132としては、トランジスター121のゲートノードgに寄生する容量を用いても良いし、シリコン基板において互いに異なる導電層で絶縁層を挟持することによって形成される容量を用いても良い。
The storage capacitor 132 has one electrode electrically connected to the gate of the transistor 121 and the other electrode electrically connected to the power supply line 116. Therefore, the storage capacitor 132 functions as a first storage capacitor that holds the voltage between the gate and the source of the transistor 121. The capacitance value of the storage capacitor 132 is expressed as Cpix. At this time, the capacitance value Cdt of the storage capacitor 50, the capacitance value Crf1 of the storage capacitor 44, and the capacitance value Cpix of the storage capacitor 132 are:
Cdt >> Crf1 >> Cpix
Is set to be That is, Cdt is set to be larger than Crf1, and Cpix is set to be sufficiently smaller than Cdt and Crf1. Note that as the storage capacitor 132, a capacitor parasitic to the gate node g of the transistor 121 may be used, or a capacitor formed by sandwiching an insulating layer between different conductive layers in a silicon substrate may be used.

OLED130のアノード130aは、画素回路110毎に個別に設けられる画素電極である。これに対して、OLED130のカソードは、画素回路110のすべてにわたって共通に設けられる共通電極118であり、画素回路110において電源の低位側となる電位Vctに保たれている。OLED130は、上記シリコン基板において、アノード130aと光透過性を有するカソードとで白色有機EL層を挟持した素子である。そして、OLED130の出射側(カソード側)にはRGBのいずれかに対応したカラーフィルターが重ねられる。
このようなOLED130において、アノード130aからカソードに電流が流れると、アノード130aから注入された正孔とカソードから注入された電子とが有機EL層で再結合して励起子が生成され、白色光が発生する。このときに発生した白色光は、シリコン基板(アノード130a)とは反対側のカソードを透過し、カラーフィルターによる着色を経て、観察者側に視認される構成となっている。
The anode 130 a of the OLED 130 is a pixel electrode provided individually for each pixel circuit 110. On the other hand, the cathode of the OLED 130 is a common electrode 118 provided in common throughout the pixel circuit 110, and is maintained at the potential Vct that is the lower side of the power supply in the pixel circuit 110. The OLED 130 is an element in which a white organic EL layer is sandwiched between an anode 130a and a light-transmitting cathode in the silicon substrate. A color filter corresponding to any of RGB is superimposed on the emission side (cathode side) of the OLED 130.
In such an OLED 130, when a current flows from the anode 130a to the cathode, holes injected from the anode 130a and electrons injected from the cathode are recombined in the organic EL layer to generate excitons, and white light is generated. appear. The white light generated at this time is transmitted through the cathode on the opposite side to the silicon substrate (anode 130a), and is colored by a color filter so as to be visually recognized by the viewer.

次に、画素回路110の構造について、図5及び図6を参照して説明する。
図5は、i行(3j−2)列の画素回路110の構成を示す平面図である。この、図5は、トップエミッション構造の画素回路110を観察側から平面視した場合の配線構造を示しているが、簡略化のために、OLED130のアノード130a以降に形成される構造体を省略している。また、図6は、図5におけるE−e線で切断した部分断面図である。図6においては、OLED130のアノード130aまでを示し、以降の構造体を省略している。なお、図5及び図6では、各層、各部材、各領域などを認識可能な大きさとするために、縮尺を異ならせている場合がある。
Next, the structure of the pixel circuit 110 will be described with reference to FIGS.
FIG. 5 is a plan view showing the configuration of the pixel circuit 110 in i row (3j-2) column. FIG. 5 shows a wiring structure when the pixel circuit 110 having the top emission structure is viewed in plan from the observation side, but for simplicity, a structure formed after the anode 130a of the OLED 130 is omitted. ing. 6 is a partial cross-sectional view taken along line Ee in FIG. In FIG. 6, only the anode 130a of the OLED 130 is shown, and the subsequent structures are omitted. In FIGS. 5 and 6, the scales may be different in order to make each layer, each member, each region, etc. recognizable.

図6に示すように、画素回路110を構成する各要素は、シリコン基板150上に形成される。本実施形態では、シリコン基板150としてP型半導体基板を用いる。シリコン基板150には、ほぼ全面にわたってNウェル160が形成されている。なお、図5においては、平面視したときに、トランジスター121〜125の設けられる領域を容易に把握できるように、Nウェル160のうち、トランジスター121〜125の設けられる領域及びその近傍のみを、ハッチングを付して示している。
Nウェル160には、N型拡散層(図示せず)を介して電位Velが給電される。このため、トランジスター121〜125の基板電位は電位Velとなっている。
As shown in FIG. 6, each element constituting the pixel circuit 110 is formed on a silicon substrate 150. In this embodiment, a P-type semiconductor substrate is used as the silicon substrate 150. In the silicon substrate 150, an N well 160 is formed over almost the entire surface. In FIG. 5, only the region of the N-well 160 where the transistors 121-125 are provided and the vicinity thereof are hatched so that the region where the transistors 121-125 are provided can be easily grasped when viewed in plan. Is shown.
The potential Vel is supplied to the N well 160 via an N-type diffusion layer (not shown). For this reason, the substrate potentials of the transistors 121 to 125 are the potential Vel.

図5及び図6に示すように、Nウェル160の表面にイオンをドープすることにより、複数のP型拡散層が形成される。具体的には、Nウェル160の表面には、画素回路110毎に、9つのP型拡散層P1〜P9が形成される。これら、P型拡散層P1〜P9は、トランジスター121〜125のソースまたはドレインとして機能する。また、Nウェル160及びP型拡散層P1〜P9の表面には、ゲート絶縁層L0が形成され、ゲート絶縁層L0の表面にはゲート電極G1〜G5が、パターニングによって形成される。これら、ゲート電極G1〜G5は、それぞれトランジスター121〜125のゲートとして機能する。   As shown in FIGS. 5 and 6, by doping ions on the surface of the N well 160, a plurality of P-type diffusion layers are formed. Specifically, nine P-type diffusion layers P <b> 1 to P <b> 9 are formed on the surface of the N well 160 for each pixel circuit 110. These P-type diffusion layers P1 to P9 function as sources or drains of the transistors 121 to 125. A gate insulating layer L0 is formed on the surface of the N well 160 and the P-type diffusion layers P1 to P9, and gate electrodes G1 to G5 are formed on the surface of the gate insulating layer L0 by patterning. These gate electrodes G1 to G5 function as gates of the transistors 121 to 125, respectively.

図5に示されるように、トランジスター121は、ゲート電極G1、P型拡散層P1、及び、P型拡散層P2を有する。このうち、P型拡散層P1は、トランジスター121のソースとして機能し、P型拡散層P2は、トランジスター121のドレインとして機能する。
また、トランジスター122は、ゲート電極G2、P型拡散層P3、及びP型拡散層P4を有する。このうち、P型拡散層P3は、トランジスター122のソースまたはドレインの一方として機能し、P型拡散層P4は、トランジスター122のソースまたはドレインの他方として機能する。
トランジスター123は、ゲート電極G3、P型拡散層P4、及びP型拡散層P5を有する。このうち、P型拡散層P4は、トランジスター123のソースまたはドレインの一方として機能し、P型拡散層P5は、トランジスター123のソースまたはドレインの他方として機能する。すなわち、P型拡散層P4は、トランジスター122のソースまたはドレインの他方として機能するとともに、トランジスター123のソースまたはドレインの一方として機能する。
トランジスター124は、ゲート電極G4、P型拡散層P6、及びP型拡散層P7を有する。このうち、P型拡散層P6は、トランジスター124のソースとして機能し、P型拡散層P7は、トランジスター124のドレインとして機能する。
なお、本実施形態では、トランジスター121のドレイン、トランジスター123のソースまたはドレインの他方、及び、トランジスター124のソースを、それぞれ個別のP型拡散層P2、P5、及びP6で構成しているが、単一のP型拡散層で構成してもよい。この場合、後述する中継ノードN13を設けなくてもよい。
トランジスター125は、ゲート電極G5、P型拡散層P8、及びP型拡散層P9を有する。このうち、P型拡散層P8は、トランジスター125のソースとして機能し、P型拡散層P9は、トランジスター125のドレインとして機能する。
As shown in FIG. 5, the transistor 121 includes a gate electrode G1, a P-type diffusion layer P1, and a P-type diffusion layer P2. Among these, the P-type diffusion layer P <b> 1 functions as the source of the transistor 121, and the P-type diffusion layer P <b> 2 functions as the drain of the transistor 121.
The transistor 122 includes a gate electrode G2, a P-type diffusion layer P3, and a P-type diffusion layer P4. Among these, the P-type diffusion layer P3 functions as one of the source and the drain of the transistor 122, and the P-type diffusion layer P4 functions as the other of the source and the drain of the transistor 122.
The transistor 123 includes a gate electrode G3, a P-type diffusion layer P4, and a P-type diffusion layer P5. Among these, the P-type diffusion layer P4 functions as one of the source and the drain of the transistor 123, and the P-type diffusion layer P5 functions as the other of the source and the drain of the transistor 123. That is, the P-type diffusion layer P4 functions as the other of the source and the drain of the transistor 122 and also functions as one of the source and the drain of the transistor 123.
The transistor 124 includes a gate electrode G4, a P-type diffusion layer P6, and a P-type diffusion layer P7. Among these, the P-type diffusion layer P6 functions as the source of the transistor 124, and the P-type diffusion layer P7 functions as the drain of the transistor 124.
In this embodiment, the drain of the transistor 121, the source of the transistor 123 or the other of the drain, and the source of the transistor 124 are configured by individual P-type diffusion layers P2, P5, and P6, respectively. A single P-type diffusion layer may be used. In this case, the relay node N13 described later may not be provided.
The transistor 125 includes a gate electrode G5, a P-type diffusion layer P8, and a P-type diffusion layer P9. Among these, the P-type diffusion layer P8 functions as the source of the transistor 125, and the P-type diffusion layer P9 functions as the drain of the transistor 125.

図6に示すように、ゲート電極G1〜G5及びゲート絶縁層L0を覆うように、第1層間絶縁層L1が形成される。
第1層間絶縁層L1の表面には、アルミニウム等の導電性の配線層をパターニングすることにより、行毎に、走査線12、給電線116、及び、制御線143〜145がそれぞれ形成されるとともに、画素回路110毎に、中継ノードN11〜N16、及び、分岐部116aがそれぞれ形成される。なお、これら第1層間絶縁層L1の表面に形成される配線層を、第1配線層と総称する場合がある。
As shown in FIG. 6, the first interlayer insulating layer L1 is formed so as to cover the gate electrodes G1 to G5 and the gate insulating layer L0.
By patterning a conductive wiring layer such as aluminum on the surface of the first interlayer insulating layer L1, the scanning line 12, the feed line 116, and the control lines 143 to 145 are formed for each row, respectively. For each pixel circuit 110, relay nodes N11 to N16 and a branch part 116a are formed. Note that the wiring layer formed on the surface of the first interlayer insulating layer L1 may be collectively referred to as a first wiring layer.

図5に示すように、給電線116は、Y軸方向と交差するX方向に延在するとともに、画素回路110毎にY方向に分岐した部分(分岐部116a)を有する。分岐部116aは、平面視したとき(すなわち、シリコン基板150の画素回路110が配置された面に垂直な方向から画素回路110を見たとき)、分岐部116aの一部とP型拡散層P1とが互いに重なり合うように設けられる。また、図5及び図6に示すように、分岐部116aは、第1層間絶縁層L1を貫通するコンタクトホールHa1を介して、P型拡散層P1に電気的に接続される。なお、図5において、コンタクトホールは、異種の配線層同士が重なる部分で「□」印に「×」印を付した部分として示している。   As shown in FIG. 5, the power supply line 116 extends in the X direction intersecting with the Y-axis direction, and has a portion (branch portion 116 a) branched in the Y direction for each pixel circuit 110. When viewed in plan (ie, when the pixel circuit 110 is viewed from a direction perpendicular to the surface of the silicon substrate 150 where the pixel circuit 110 is disposed), the branch part 116a and a part of the branch part 116a and the P-type diffusion layer P1 Are provided so as to overlap each other. As shown in FIGS. 5 and 6, the branch portion 116a is electrically connected to the P-type diffusion layer P1 through a contact hole Ha1 penetrating the first interlayer insulating layer L1. In FIG. 5, the contact hole is shown as a portion where “□” marks are added to “□” marks where the different wiring layers overlap.

図5に示すように、走査線12は、X方向に延在するとともに、平面視したとき、ゲート電極G1及びゲート電極G2と交差するように設けられる。すなわち、平面視したとき、走査線12の少なくとも一部とゲート電極G1の少なくとも一部とは重なる。また、走査線12は、コンタクトホールHa5を介して、ゲート電極G2に電気的に接続される。
制御線143は、X方向に延在するとともに、平面視したとき、ゲート電極G1及びゲート電極G3と交差するように設けられる。また、制御線143は、コンタクトホールHa7を介して、ゲート電極G3に電気的に接続される。
制御線144は、X方向に延在するとともに、平面視したとき、ゲート電極G4と交差するように設けられ、コンタクトホールHa10を介して、ゲート電極G4に電気的に接続される。制御線145は、X方向に延在するとともに、平面視したとき、ゲート電極G5と交差するように設けられ、コンタクトホールHa14を介して、ゲート電極G5に電気的に接続される。
As shown in FIG. 5, the scanning line 12 extends in the X direction and is provided so as to intersect the gate electrode G1 and the gate electrode G2 when viewed in plan. That is, when viewed in plan, at least a part of the scanning line 12 and at least a part of the gate electrode G1 overlap. The scanning line 12 is electrically connected to the gate electrode G2 through the contact hole Ha5.
The control line 143 extends in the X direction and is provided so as to intersect the gate electrode G1 and the gate electrode G3 when viewed in plan. The control line 143 is electrically connected to the gate electrode G3 through the contact hole Ha7.
The control line 144 extends in the X direction, is provided so as to intersect with the gate electrode G4 when viewed in plan, and is electrically connected to the gate electrode G4 through the contact hole Ha10. The control line 145 extends in the X direction, is provided so as to intersect with the gate electrode G5 when viewed in plan, and is electrically connected to the gate electrode G5 via the contact hole Ha14.

図5及び図6に示すように、中継ノードN11は、コンタクトホールHa2を介してゲート電極G1に電気的に接続されるとともに、コンタクトホールHa6を介してP型拡散層P4に電気的に接続される。すなわち、中継ノードN11は、トランジスター121のゲート、トランジスター122のソースまたはドレインの他方、及び、トランジスター123のソースまたはドレインの一方を電気的に接続するゲートノードgに相当する。
中継ノードN16は、平面視したときに、中継ノードN16とゲート電極G1の一部とが互いに重なるように設けられる。そして、中継ノードN16とゲート電極G1とが第1層間絶縁層L1を挟持することにより、保持容量132が形成される。すなわち、ゲート電極G1は、保持容量132の一方の電極に相当し、中継ノードN16は、保持容量132の他方の電極に相当する。
中継ノードN12は、コンタクトホールHa4を介してP型拡散層P3に電気的に接続される。中継ノードN13は、コンタクトホールHa3を介してP型拡散層P2に電気的に接続されるとともに、コンタクトホールHa8を介してP型拡散層P5に電気的に接続され、コンタクトホールHa9を介してP型拡散層P6に電気的に接続される。中継ノードN14は、コンタクトホールHa11を介してP型拡散層P7に電気的に接続されるとともに、コンタクトホールHa12を介してP型拡散層P8に電気的に接続される。中継ノードN15は、コンタクトホールHa13を介してP型拡散層P9に電気的に接続される。
As shown in FIGS. 5 and 6, the relay node N11 is electrically connected to the gate electrode G1 through the contact hole Ha2, and is also electrically connected to the P-type diffusion layer P4 through the contact hole Ha6. The That is, the relay node N11 corresponds to the gate node g that electrically connects the gate of the transistor 121, the other of the source and the drain of the transistor 122, and one of the source and the drain of the transistor 123.
The relay node N16 is provided so that the relay node N16 and a part of the gate electrode G1 overlap each other when viewed in plan. Then, the storage node 132 is formed by the relay node N16 and the gate electrode G1 sandwiching the first interlayer insulating layer L1. In other words, the gate electrode G1 corresponds to one electrode of the storage capacitor 132, and the relay node N16 corresponds to the other electrode of the storage capacitor 132.
Relay node N12 is electrically connected to P-type diffusion layer P3 through contact hole Ha4. The relay node N13 is electrically connected to the P-type diffusion layer P2 through the contact hole Ha3, and is electrically connected to the P-type diffusion layer P5 through the contact hole Ha8, and P It is electrically connected to the mold diffusion layer P6. Relay node N14 is electrically connected to P-type diffusion layer P7 through contact hole Ha11 and is also electrically connected to P-type diffusion layer P8 through contact hole Ha12. Relay node N15 is electrically connected to P-type diffusion layer P9 through contact hole Ha13.

図6に示すように、第1配線層および第1層間絶縁層L1を覆うように、第2層間絶縁層L2が形成される。
第2層間絶縁層L2の表面には、アルミニウム等の導電性の配線層をパターニングすることにより、列毎に、データ線14、及び、給電線16がそれぞれ形成されるとともに、画素回路110毎に、中継ノードN21、N22がそれぞれ形成される。なお、これら第2層間絶縁層L2の表面に形成される配線層を、第2配線層と総称する場合がある。
図5に示すように、データ線14は、コンタクトホールHb2を介して、中継ノードN12に電気的に接続される。これにより、P型拡散層P3は、中継ノードN12を介して、データ線14に電気的に接続される。給電線16は、コンタクトホールHb3を介して、中継ノードN15に電気的に接続される。これにより、P型拡散層P9は、中継ノードN15を介して、給電線16に電気的に接続される。中継ノードN21は、コンタクトホールHb1を介して給電線116に電気的に接続されるとともに、コンタクトホールHb4を介して中継ノードN16(保持容量132の他方の電極)に電気的に接続される。これにより、中継ノードN16は、中継ノードN21を介して給電線116に電気的に接続され、電位Velに保たれる。
また、図6に示すように、中継ノードN22は、コンタクトホールHb5を介して中継ノードN14に電気的に接続される。
As shown in FIG. 6, the second interlayer insulating layer L2 is formed so as to cover the first wiring layer and the first interlayer insulating layer L1.
By patterning a conductive wiring layer such as aluminum on the surface of the second interlayer insulating layer L2, a data line 14 and a power supply line 16 are formed for each column, and for each pixel circuit 110. , Relay nodes N21 and N22 are formed. The wiring layer formed on the surface of the second interlayer insulating layer L2 may be collectively referred to as a second wiring layer.
As shown in FIG. 5, the data line 14 is electrically connected to the relay node N12 through the contact hole Hb2. Thereby, the P type diffusion layer P3 is electrically connected to the data line 14 via the relay node N12. Feed line 16 is electrically connected to relay node N15 through contact hole Hb3. Thereby, the P-type diffusion layer P9 is electrically connected to the feeder line 16 via the relay node N15. The relay node N21 is electrically connected to the power supply line 116 through the contact hole Hb1, and is also electrically connected to the relay node N16 (the other electrode of the storage capacitor 132) through the contact hole Hb4. Thereby, the relay node N16 is electrically connected to the feeder line 116 via the relay node N21 and is kept at the potential Vel.
Further, as shown in FIG. 6, relay node N22 is electrically connected to relay node N14 through contact hole Hb5.

図6に示すように、第2配線層および第2層間絶縁層L2を覆うように、第3層間絶縁層L3が形成される。
第3層間絶縁層L3の表面には、アルミニウムやITO(Indium Tin Oxide)などの導電性を有する配線層をパターニングすることによって、OLED130のアノード130aが形成される。OLED130のアノード130aは、画素回路110毎に個別の画素電極であり、第3層間絶縁層L3を貫通するコンタクトホールHc1を介して中継ノードN22に接続される。すなわち、OLED130のアノード130aは、中継ノードN22、及び、中継ノードN14を介して、P型拡散層P7(つまり、トランジスター124のドレイン)およびP型拡散層P8(つまり、トランジスター125のソース)に電気的に接続される。
また、図示は省略するが、OLED130のアノード130aの上には、画素回路110毎に区分けされて、有機EL材料からなる発光層が積層される。そして、発光層の上には、複数の画素回路110の全てにわたって共通の透明電極であるカソード(共通電極118)が設けられる。すなわち、OLED130は、互いに対向するアノードとカソードとで発光層を挟持し、アノードから共通電極118に向かって流れる電流に応じた輝度にて発光する。OLED130が発する光のうち、シリコン基板150とは反対方向(すなわち、図6において上方向)に向かう光が、観察者に映像として視認される(トップエミッション構造)。このほかにも、発光層を大気から遮断するための封止材などが設けられるが、説明は省略する。
As shown in FIG. 6, a third interlayer insulating layer L3 is formed so as to cover the second wiring layer and the second interlayer insulating layer L2.
An anode 130a of the OLED 130 is formed on the surface of the third interlayer insulating layer L3 by patterning a conductive wiring layer such as aluminum or ITO (Indium Tin Oxide). The anode 130a of the OLED 130 is an individual pixel electrode for each pixel circuit 110, and is connected to the relay node N22 via a contact hole Hc1 penetrating the third interlayer insulating layer L3. That is, the anode 130a of the OLED 130 is electrically connected to the P-type diffusion layer P7 (that is, the drain of the transistor 124) and the P-type diffusion layer P8 (that is, the source of the transistor 125) via the relay node N22 and the relay node N14. Connected.
Although not shown, a light emitting layer made of an organic EL material is laminated on the anode 130a of the OLED 130 for each pixel circuit 110. On the light emitting layer, a cathode (common electrode 118) that is a transparent electrode common to all of the plurality of pixel circuits 110 is provided. That is, the OLED 130 sandwiches the light emitting layer between the anode and the cathode facing each other, and emits light with a luminance corresponding to the current flowing from the anode toward the common electrode 118. Of the light emitted from the OLED 130, the light directed in the opposite direction to the silicon substrate 150 (ie, upward in FIG. 6) is visually recognized as an image by the observer (top emission structure). In addition, a sealing material or the like for shielding the light emitting layer from the atmosphere is provided, but the description is omitted.

<実施形態の動作>
図7を参照して電気光学装置1の動作について説明する。図7は、電気光学装置1における各部の動作を説明するためのタイミングチャートである。この図に示されるように、走査線駆動回路20は、走査信号Gwr(1)〜Gwr(m)を順次Lレベルに切り替えて、1フレームの期間において1〜m行目の走査線12を1水平走査期間(H)毎に順番に走査する。1水平走査期間(H)での動作は、各行の画素回路110にわたって共通である。そこで以下については、i行目が水平走査される走査期間において、特にi行(3j−2)列の画素回路110について着目して動作を説明する。
<Operation of Embodiment>
The operation of the electro-optical device 1 will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a timing chart for explaining the operation of each part in the electro-optical device 1. As shown in this figure, the scanning line driving circuit 20 sequentially switches the scanning signals Gwr (1) to Gwr (m) to the L level, and sets the scanning lines 12 in the first to mth rows to 1 in the period of one frame. Scan in order for each horizontal scanning period (H). The operation in one horizontal scanning period (H) is common to the pixel circuits 110 in each row. Therefore, in the following, the operation will be described focusing on the pixel circuit 110 in the i-th row (3j-2) column in the scanning period in which the i-th row is horizontally scanned.

本実施形態ではi行目の走査期間は、大別すると、図7において(b)で示される初期化期間と(c)で示される補償期間と(d)で示される書込期間とに分けられる。そして、(d)の書込期間の後、(a)で示される発光期間となり、1フレームの期間経過後に再びi行目の走査期間に至る。このため、時間の順でいえば、(発光期間)→初期化期間→補償期間→書込期間→(発光期間)というサイクルの繰り返しとなる。
なお、図7において、i行目に対し1行前の(i−1)行目に対応する走査信号Gwr(i-1)、制御信号Gel(i-1)、Gcmp(i-1)、Gorst(i-1)の各々については、i行目に対応する走査信号Gwr(i)、制御信号Gel(i)、Gcmp(i)、Gorst(i)よりも、それぞれ時間的に1水平走査期間(H)だけ時間的に先行した波形となる。
In the present embodiment, the scanning period of the i-th row is roughly divided into an initialization period indicated by (b), a compensation period indicated by (c), and a writing period indicated by (d) in FIG. It is done. Then, after the writing period of (d), the light emission period shown in (a) is reached, and the scanning period of the i-th row is reached again after the elapse of one frame period. Therefore, in the order of time, a cycle of (light emission period) → initialization period → compensation period → writing period → (light emission period) is repeated.
In FIG. 7, the scanning signal Gwr (i-1), control signals Gel (i-1), Gcmp (i-1), Gcmp (i-1), corresponding to the (i-1) th row before the ith row. For each of the Gorst (i-1), one horizontal scan is temporally performed in comparison with the scanning signal Gwr (i) and the control signals Gel (i), Gcmp (i), and Gorst (i) corresponding to the i-th row. The waveform is preceded in time by the period (H).

<発光期間>
説明の便宜上、初期化期間の前提となる発光期間から説明する。i行目の発光期間において、走査線駆動回路20は、i行目の走査線12に所定の第2電位V2を供給し、i行目の制御線144に所定の第1電位V1を供給し、i行目の制御線143に第2電位V2を供給し、i行目の制御線145に第2電位V2を供給する。なお、本実施形態では、第1電位V1は、第2電位V2よりも低く設定される。例えば、第1電位V1は、制御回路3が供給する制御信号(制御信号Gref等)のLレベルに相当するものであればよく、第2電位VHは、制御回路3が供給する制御信号のHレベルに相当するものであればよい。すなわち、図7に示されるように、i行目の発光期間において、走査信号Gwr(i)はHレベルに設定され、制御信号Gel(i)はLレベルに設定され、制御信号Gcmp(i)はHレベルに設定され、制御信号Gorst(i)はHレベルに設定される。
このため、図8に示されるようにi行(3j−2)列の画素回路110においては、トランジスター124がオンする一方、トランジスター122、123、125がオフする。したがって、トランジスター121は、ゲート・ソース間の電圧Vgsに応じた電流IdsをOLED130に供給する。後述するように、本実施形態において発光期間での電圧Vgsは、データ信号の電位をレベルシフトした値である。このため、OLED130には、階調レベルに応じた電流がトランジスター121の閾値電圧を補償した状態で供給されることになる。
<Light emission period>
For convenience of explanation, the light emission period which is the premise of the initialization period will be described. In the light emission period of the i-th row, the scanning line driving circuit 20 supplies a predetermined second potential V2 to the i-th scanning line 12 and supplies a predetermined first potential V1 to the i-th control line 144. The second potential V2 is supplied to the i-th control line 143, and the second potential V2 is supplied to the i-th control line 145. In the present embodiment, the first potential V1 is set lower than the second potential V2. For example, the first potential V1 only needs to correspond to the L level of the control signal (control signal Gref or the like) supplied by the control circuit 3, and the second potential VH is the H of the control signal supplied by the control circuit 3. Anything corresponding to the level may be used. That is, as shown in FIG. 7, in the light emission period of the i-th row, the scanning signal Gwr (i) is set to H level, the control signal Gel (i) is set to L level, and the control signal Gcmp (i) Is set to H level, and the control signal Gorst (i) is set to H level.
For this reason, as shown in FIG. 8, in the pixel circuit 110 in the i row (3j-2) column, the transistor 124 is turned on, while the transistors 122, 123, and 125 are turned off. Therefore, the transistor 121 supplies a current Ids corresponding to the gate-source voltage Vgs to the OLED 130. As will be described later, in this embodiment, the voltage Vgs in the light emission period is a value obtained by level-shifting the potential of the data signal. Therefore, a current corresponding to the gradation level is supplied to the OLED 130 in a state where the threshold voltage of the transistor 121 is compensated.

なお、i行目の発光期間は、i行目以外が水平走査される期間であるから、データ線14の電位は適宜変動する。ただし、i行目の画素回路110において、トランジスター122がオフしているので、ここでは、データ線14の電位変動を考慮していない。また、図8においては、発光期間における動作説明で重要となる経路を太線で示している。   Note that since the light emission period of the i-th row is a period during which horizontal scanning is performed except for the i-th row, the potential of the data line 14 varies appropriately. However, in the pixel circuit 110 in the i-th row, since the transistor 122 is off, the potential fluctuation of the data line 14 is not considered here. Further, in FIG. 8, paths that are important in the description of the operation in the light emission period are indicated by bold lines.

<初期化期間>
次にi行目の走査期間に至ると、まず、第1期間として(b)の初期化期間が開始する。
i行目の初期化期間において、走査線駆動回路20は、図7に示されるように、i行目の走査線12に第2電位V2を供給して走査信号Gwr(i)をHレベルに設定し、i行目の制御線144に第2電位V2を供給して制御信号Gel(i)をHレベルに設定し、i行目の制御線143に第2電位V2を供給して制御信号Gcmp(i)をHレベルに設定し、i行目の制御線145に第1電位V1を供給して制御信号Gorst(i)をLレベルに設定する。このため、i行(3j−2)列の画素回路110において、トランジスター124がオフし、トランジスター125がオンする。これによってOLED130に供給される電流の経路が遮断されるとともに、OLED130のアノード130aがリセット電位Vorstに設定される。
OLED130は、上述したようにアノード130aとカソードとで有機EL層を挟持した構成であるので、アノード・カソードの間には容量が並列に寄生する。発光期間においてOLED130に電流が流れていたときに、当該OLED130のアノード・カソード間の両端電圧がアノード・カソード間に並列に寄生した容量によって保持されるが、この保持電圧は、トランジスター125のオンによってリセットされる。このため、本実施形態では、後の発光期間においてOLED130に再び電流が流れるときに、アノード・カソード間に並列に寄生した容量で保持されている電圧の影響を受けにくくなる。
<Initialization period>
Next, when the scanning period of the i-th row is reached, first, the initialization period (b) is started as the first period.
In the initialization period of the i-th row, as shown in FIG. 7, the scanning line driving circuit 20 supplies the second potential V2 to the i-th scanning line 12 and sets the scanning signal Gwr (i) to the H level. Then, the second potential V2 is supplied to the i-th control line 144 to set the control signal Gel (i) to H level, and the second potential V2 is supplied to the i-th control line 143 to control the signal. Gcmp (i) is set to the H level, the first potential V1 is supplied to the control line 145 in the i-th row, and the control signal Gorst (i) is set to the L level. Therefore, in the pixel circuit 110 in the i row (3j-2) column, the transistor 124 is turned off and the transistor 125 is turned on. As a result, the path of the current supplied to the OLED 130 is interrupted, and the anode 130a of the OLED 130 is set to the reset potential Vorst.
Since the OLED 130 has a configuration in which the organic EL layer is sandwiched between the anode 130a and the cathode as described above, a capacitance is parasitic between the anode and the cathode in parallel. When a current flows through the OLED 130 during the light emission period, the voltage across the anode and cathode of the OLED 130 is held by a parasitic capacitance in parallel between the anode and cathode. This holding voltage is controlled by turning on the transistor 125. Reset. For this reason, in the present embodiment, when a current flows again through the OLED 130 in a later light emission period, it is less susceptible to the voltage held by the capacitor parasitic in parallel between the anode and the cathode.

詳細には、例えば高輝度の表示状態から低輝度の表示状態に転じるときに、リセットしない構成であると、輝度が高い(大電流が流れた)ときの高電圧が保持されてしまうので、次に、小電流を流そうとしても、過剰な電流が流れてしまって、低輝度の表示状態にさせることができなくなる。これに対して、本実施形態では、トランジスター125のオンによってOLED130のアノード130aの電位がリセットされるので、低輝度側の再現性が高められることになる。なお、本実施形態において、リセット電位Vorstについては、当該リセット電位Vorstと共通電極118の電位Vctとの差がOLED130の発光閾値電圧を下回るように設定される。このため、初期化期間(次に説明する補償期間及び書込期間)において、OLED130はオフ(非発光)状態となる。   Specifically, for example, when switching from a high-brightness display state to a low-brightness display state, if the configuration does not reset, the high voltage when the luminance is high (a large current flows) is retained. In addition, even if a small current is applied, an excessive current flows and the display state with low luminance cannot be achieved. On the other hand, in this embodiment, the potential of the anode 130a of the OLED 130 is reset when the transistor 125 is turned on, so that the reproducibility on the low luminance side is improved. In the present embodiment, the reset potential Vorst is set so that the difference between the reset potential Vorst and the potential Vct of the common electrode 118 is lower than the light emission threshold voltage of the OLED 130. For this reason, in the initialization period (a compensation period and a writing period described below), the OLED 130 is in an off (non-light emitting) state.

一方、i行目の初期化期間において、制御回路3は、図7に示されるように、制御信号/GiniをLレベルに、制御信号GrefをHレベルに、制御信号GcplをLレベルに、それぞれ設定する。このため、トランジスター43及びトランジスター45がオンした状態となる。これにより、保持容量44の一方の電極と給電線61とが電気的に接続され、保持容量44の一方の電極(及びデータ線14)は初期電位Viniに初期化される。また、保持容量44の他方の電極と給電線62とが電気的に接続され、保持容量44の他方の電極(及びノードh1)は基準電位Vrefに初期化される。
本実施形態において初期電位Viniは、(Vel−Vini)がトランジスター121の閾値電圧|Vth|よりも大きくなるように設定される。なお、トランジスター121はPチャネル型であるので、ソースの電位を基準とした閾値電圧Vthは負である。そこで、高低関係の説明で混乱が生じるのを防ぐために、閾値電圧については、絶対値の|Vth|で表し、大小関係で規定することにする。
On the other hand, in the initialization period of the i-th row, as shown in FIG. 7, the control circuit 3 sets the control signal / Gini to the L level, the control signal Gref to the H level, and the control signal Gcpl to the L level. Set. For this reason, the transistor 43 and the transistor 45 are turned on. As a result, one electrode of the storage capacitor 44 and the power supply line 61 are electrically connected, and one electrode (and the data line 14) of the storage capacitor 44 is initialized to the initial potential Vini. In addition, the other electrode of the storage capacitor 44 and the power supply line 62 are electrically connected, and the other electrode (and the node h1) of the storage capacitor 44 is initialized to the reference potential Vref.
In this embodiment, the initial potential Vini is set such that (Vel−Vini) is larger than the threshold voltage | Vth | of the transistor 121. Note that since the transistor 121 is a P-channel transistor, the threshold voltage Vth with respect to the source potential is negative. Therefore, in order to prevent confusion in the description of the height relationship, the threshold voltage is expressed by the absolute value | Vth | and defined by the magnitude relationship.

図7に示されるように、データ信号供給回路70は、i行目の走査期間の開始された後、書込期間が開始されるまでの期間において、各デマルチプレクサDM(1)、DM(2)、…、DM(n)、に対して、それぞれデータ信号Vd(1)、Vd(2)、…、Vd(n)、を供給する。すなわち、データ信号供給回路70は、j番目のグループでいえば、データ信号Vd(j)を順番に、i行(3j−2)列、i行(3j−1)列、i行(3j)列の画素の階調レベルに応じた電位に切り替える。
一方、制御回路3は、データ信号の電位の切り替えに合わせて制御信号Sel(1)、Sel(2)、Sel(3)を順番に排他的にHレベルとする。これによって、各デマルチプレクサDMに設けられる3つのトランスミッションゲート34がそれぞれ左端列、中央列、右端列の順番でオンする。
ここで、初期化期間において、j番目のグループに属する左端列のトランスミッションゲート34が制御信号Sel(1)によってオンする場合、データ信号Vd(j)が保持容量41の一方の電極に供給されるので、当該データ信号Vd(j)は、保持容量41によって保持される。
As shown in FIG. 7, the data signal supply circuit 70 has the demultiplexers DM (1) and DM (2) in the period from the start of the scanning period of the i-th row to the start of the writing period. , ..., DM (n) are supplied with data signals Vd (1), Vd (2), ..., Vd (n), respectively. That is, in the j-th group, the data signal supply circuit 70 sequentially outputs the data signal Vd (j) in i row (3j-2) column, i row (3j-1) column, i row (3j). The potential is switched according to the gradation level of the pixels in the column.
On the other hand, the control circuit 3 exclusively sets the control signals Sel (1), Sel (2), and Sel (3) to the H level in order in accordance with the switching of the potential of the data signal. As a result, the three transmission gates 34 provided in each demultiplexer DM are turned on in the order of the left end column, the center column, and the right end column, respectively.
Here, in the initialization period, when the transmission gate 34 in the leftmost column belonging to the j-th group is turned on by the control signal Sel (1), the data signal Vd (j) is supplied to one electrode of the storage capacitor 41. Therefore, the data signal Vd (j) is held by the holding capacitor 41.

<補償期間>
i行目の走査期間では、次に第2期間として(c)の補償期間となる。i行目の補償期間において、制御回路3は、図7に示されるように、制御信号/GiniをHレベルに、制御信号GrefをHレベルに、制御信号GcplをLレベルに、それぞれ設定する。このため、トランジスター43はオンした状態となる一方、トランジスター45はオフした状態となる。これにより、保持容量44の他方の電極と給電線62とが電気的に接続され、ノードh1が基準電位Vrefに設定される。
<Compensation period>
In the i-th scanning period, the second period is the compensation period (c). In the i-th compensation period, as shown in FIG. 7, the control circuit 3 sets the control signal / Gini to the H level, the control signal Gref to the H level, and the control signal Gcpl to the L level. For this reason, the transistor 43 is turned on, while the transistor 45 is turned off. As a result, the other electrode of the storage capacitor 44 and the power supply line 62 are electrically connected, and the node h1 is set to the reference potential Vref.

また、補償期間において、j番目のグループに属する左端列のトランスミッションゲート34が制御信号Sel(1)によってオンする場合、データ信号Vd(j)が保持容量41の一方の電極に供給される。
なお、すでに初期化期間において、j番目のグループに属する左端列のトランスミッションゲート34が制御信号Sel(1)によってオンした場合には、補償期間において、当該トランスミッションゲート34はオンすることはないが、左端列のトランスミッションゲート34がオンした際に供給されたデータ信号Vd(j)は、保持容量41によって保持される。
In the compensation period, when the transmission gate 34 in the leftmost column belonging to the jth group is turned on by the control signal Sel (1), the data signal Vd (j) is supplied to one electrode of the storage capacitor 41.
Note that when the transmission gate 34 in the leftmost column belonging to the jth group is already turned on by the control signal Sel (1) in the initialization period, the transmission gate 34 is not turned on in the compensation period. The data signal Vd (j) supplied when the leftmost row of transmission gates 34 is turned on is held by the holding capacitor 41.

また、i行目の補償期間において、走査線駆動回路20は、図7に示されるように、i行目の走査線12に第1電位V1を供給して走査信号Gwr(i)をLレベルに設定し、i行目の制御線144に第2電位V2を供給して制御信号Gel(i)をHレベルに設定し、i行目の制御線143に第1電位V1を供給して制御信号Gcmp(i)をLレベルに設定し、i行目の制御線145に第1電位V1を供給して制御信号Gorst(i)をLレベルに設定する。このため、トランジスター123がオンするので、トランジスター121はダイオード接続となる。これにより、トランジスター121にはドレイン電流が流れて、ゲートノードg及びデータ線14を充電する。詳細には、電流が、給電線116→トランジスター121→トランジスター123→トランジスター122→(3j−2)列目のデータ線14という経路で流れる。従って、トランジスター121のオンによって互いに接続状態にあるデータ線14及びゲートノードgは、初期電位Viniから上昇する。ただし、上記経路に流れる電流は、ゲートノードgが電位(Vel−|Vth|)に近づくにつれて流れにくくなるので、補償期間の終了に至るまでに、データ線14及びゲートノードgは電位(Vel−|Vth|)で飽和する。
したがって、保持容量132は、補償期間の終了時には、トランジスター121の閾値電圧|Vth|を保持することになる。なお、以下では、補償期間終了時のゲートノードgの電位(Vel−|Vth|)を、電位Vpと表記する場合がある。
Further, in the i-th compensation period, as shown in FIG. 7, the scanning line driving circuit 20 supplies the first potential V1 to the i-th scanning line 12 and sets the scanning signal Gwr (i) to the L level. And the second potential V2 is supplied to the i-th control line 144 to set the control signal Gel (i) to the H level, and the first potential V1 is supplied to the i-th control line 143 for control. The signal Gcmp (i) is set to the L level, the first potential V1 is supplied to the control line 145 in the i-th row, and the control signal Gorst (i) is set to the L level. For this reason, since the transistor 123 is turned on, the transistor 121 is diode-connected. As a result, a drain current flows through the transistor 121 and charges the gate node g and the data line 14. Specifically, the current flows through a path of the feeder line 116 → the transistor 121 → the transistor 123 → the transistor 122 → the data line 14 in the (3j-2) th column. Therefore, the data line 14 and the gate node g that are connected to each other when the transistor 121 is turned on rise from the initial potential Vini. However, since the current flowing through the path becomes difficult to flow as the gate node g approaches the potential (Vel− | Vth |), the data line 14 and the gate node g have the potential (Vel−) until the end of the compensation period. | Vth |).
Therefore, the storage capacitor 132 holds the threshold voltage | Vth | of the transistor 121 at the end of the compensation period. Hereinafter, the potential (Vel− | Vth |) of the gate node g at the end of the compensation period may be expressed as a potential Vp.

走査線駆動回路20は、補償期間が終了すると、制御線143に供給する電位を、第1電位V1から第2電位V2に切り替えることで、制御信号Gcmp(i)をLレベルからHレベルに変更する。これにより、トランジスター121のダイオード接続が解除される。
なお、走査線駆動回路20は、制御信号Gcmp(i)がLレベルからHレベルに変化する際の波形を、HレベルからLレベルに変化する際の波形に比べて緩やかにするように、制御線143に供給する電位を切り替える。すなわち、図7に示すように、走査線駆動回路20が、制御線143に供給する電位を第2電位V2から第1電位V1へと切り替える期間を第3切替期間T3とし、第1電位V1から第2電位V2へと切り替える期間を第4切替期間T4とする。このとき、走査線駆動回路20は、第4切替期間T4の時間長が、第3切替期間T3の時間長に比べて十分に長くなるように、制御線143に供給する電位を変化させる。
When the compensation period ends, the scanning line driving circuit 20 changes the control signal Gcmp (i) from the L level to the H level by switching the potential supplied to the control line 143 from the first potential V1 to the second potential V2. To do. As a result, the diode connection of the transistor 121 is released.
Note that the scanning line driving circuit 20 performs control so that the waveform when the control signal Gcmp (i) changes from the L level to the H level is gentler than the waveform when the control signal Gcmp (i) changes from the H level to the L level. The potential supplied to the line 143 is switched. That is, as shown in FIG. 7, the period during which the scanning line driving circuit 20 switches the potential supplied to the control line 143 from the second potential V2 to the first potential V1 is a third switching period T3, and the first potential V1 A period for switching to the second potential V2 is a fourth switching period T4. At this time, the scanning line driving circuit 20 changes the potential supplied to the control line 143 so that the time length of the fourth switching period T4 is sufficiently longer than the time length of the third switching period T3.

上述したように、平面視したときに、制御線143とゲート電極G1(トランジスター121のゲート)とは交差する。そのため、制御線143とゲート電極G1との間には、寄生容量が存在する。従って、仮に、第4切替期間T4の時間長を、第3切替期間T3の時間長と同程度に短くし、制御信号Gcmp(i)を急激にLレベルからHレベルに立ち上げた場合、制御線143における制御信号Gcmp(i)の高周波成分の影響を受け、ゲート電極G1の電位が変化する。
詳細は後述するが、補償期間の終了時において、ゲートノードgの電位(ゲート電極G1の電位)は、画素回路110毎のトランジスター121の閾値電圧のばらつきを補償した電位に定められる。しかし、補償期間の終了後にゲートノードgの電位が変化する場合、画素回路110毎の閾値電圧のばらつきを補償できなくなくなるため、表示画面の一様性を損なうような表示ムラが発生するという問題が顕著になる。
これに対して本実施形態では、第4切替期間T4の時間長を、第3切替期間T3の時間長に十分に長くして、制御信号Gcmp(i)がLレベルからHレベルに変化する際の波形を緩やかな波形とすることにより、制御線143の電位変動が、ゲートノードg(ゲート電極G1)に伝播することを防止する。これにより、画素回路110毎の閾値電圧のばらつきを補償し、表示の一様性を担保した高品位の表示が可能となる。
As described above, when viewed in plan, the control line 143 and the gate electrode G1 (the gate of the transistor 121) intersect each other. Therefore, there is a parasitic capacitance between the control line 143 and the gate electrode G1. Therefore, if the time length of the fourth switching period T4 is made as short as the time length of the third switching period T3 and the control signal Gcmp (i) is suddenly raised from the L level to the H level, the control is performed. Under the influence of the high frequency component of the control signal Gcmp (i) on the line 143, the potential of the gate electrode G1 changes.
Although details will be described later, at the end of the compensation period, the potential of the gate node g (the potential of the gate electrode G1) is determined to be a potential that compensates for variations in the threshold voltage of the transistor 121 for each pixel circuit 110. However, when the potential of the gate node g changes after the compensation period ends, variations in the threshold voltage for each pixel circuit 110 cannot be compensated, resulting in display unevenness that impairs the uniformity of the display screen. Becomes prominent.
On the other hand, in the present embodiment, when the time length of the fourth switching period T4 is sufficiently longer than the time length of the third switching period T3, the control signal Gcmp (i) changes from the L level to the H level. By making the waveform of a gentle waveform, the potential fluctuation of the control line 143 is prevented from propagating to the gate node g (gate electrode G1). As a result, it is possible to compensate for variations in the threshold voltage for each pixel circuit 110 and to display a high quality image with a uniform display.

なお、実際には、第3切替期間T3の時間長は、「0」と看做すことができる程度に十分に短い。すなわち、制御信号Gcmp(i)がHレベルからLレベルに立ち下がる際の波形は、例えば、制御信号GrefがHレベルからLレベルに立ち下がる際の波形と等しくしてもよい。但し、図7においては、説明の便宜上、第3切替期間T3を図示するために、制御信号Gcmp(i)の立ち下がりの波形を、実際の波形に比べて緩やかな波形として記載している。   Actually, the time length of the third switching period T3 is short enough to be regarded as “0”. That is, the waveform when the control signal Gcmp (i) falls from the H level to the L level may be equal to, for example, the waveform when the control signal Gref falls from the H level to the L level. However, in FIG. 7, for convenience of explanation, the falling waveform of the control signal Gcmp (i) is shown as a gentler waveform than the actual waveform in order to illustrate the third switching period T3.

また、制御回路3は、補償期間が終了すると、制御信号GrefをHレベルからLレベルに変更するので、トランジスター43がオフする。このため、(3j−2)列目のデータ線14からi行(3j−2)列の画素回路110におけるゲートノードgに至るまでの経路は、フローティング状態になるものの、当該経路の電位は、保持容量50、132によって(Vel−|Vth|)に維持される。   Further, when the compensation period ends, the control circuit 3 changes the control signal Gref from the H level to the L level, so that the transistor 43 is turned off. Therefore, although the path from the data line 14 in the (3j-2) column to the gate node g in the pixel circuit 110 in the i row (3j-2) column is in a floating state, the potential of the path is It is maintained at (Vel− | Vth |) by the holding capacitors 50 and 132.

<書込期間>
初期化期間の後、第3期間として(d)の書込期間に至る。i行目の書込期間において、走査線駆動回路20は、図7に示されるように、i行目の走査線12に第1電位V1を供給して走査信号Gwr(i)をLレベルに設定し、i行目の制御線144に第2電位V2を供給して制御信号Gel(i)をHレベルに設定し、i行目の制御線143に第2電位V2を供給して制御信号Gcmp(i)をHレベルに設定し、i行目の制御線145に第1電位V1を供給して制御信号Gorst(i)をLレベルに設定する。これにより、トランジスター121のダイオード接続が解除される。
<Writing period>
After the initialization period, the writing period (d) is reached as the third period. In the writing period of the i-th row, the scanning line driving circuit 20 supplies the first potential V1 to the i-th scanning line 12 and sets the scanning signal Gwr (i) to the L level as shown in FIG. Then, the second potential V2 is supplied to the i-th control line 144 to set the control signal Gel (i) to H level, and the second potential V2 is supplied to the i-th control line 143 to control the signal. Gcmp (i) is set to the H level, the first potential V1 is supplied to the control line 145 in the i-th row, and the control signal Gorst (i) is set to the L level. As a result, the diode connection of the transistor 121 is released.

また、i行目の書込期間において、制御回路3は、図7に示されるように、制御信号/GiniをHレベルに、制御信号GrefをLレベルに、制御信号GcplをHレベルに、それぞれ設定する。このため、トランスミッションゲート42がオンするので、保持容量41に保持されたデータ信号Vd(j)が、ノードh1を介して保持容量44の他方の電極に供給される。これにより、ノードh1及び保持容量44の他方の電極は、補償期間における基準電位Vrefから変化する。このときのノードh1の電位変化量をΔVhと表す。また、書込期間におけるノードh1の電位(Vref+ΔVh)を、電位Vhと表す場合がある。
なお、ノードh1の電位が基準電位Vrefから電位VhにΔVhだけ変化した場合、ゲートノードg及びデータ線14の電位も、補償期間において設定された電位Vp =(Vel−|Vth|)から変化する。このときのゲートノードgの電位変化量をΔVgと表す。また、書込期間におけるゲートノードgの電位(Vp+ΔVg)を、電位Vgateと表す場合がある。
Further, in the writing period of the i-th row, as shown in FIG. 7, the control circuit 3 sets the control signal / Gini to the H level, the control signal Gref to the L level, and the control signal Gcpl to the H level. Set. For this reason, since the transmission gate 42 is turned on, the data signal Vd (j) held in the holding capacitor 41 is supplied to the other electrode of the holding capacitor 44 via the node h1. As a result, the node h1 and the other electrode of the storage capacitor 44 change from the reference potential Vref in the compensation period. The amount of potential change of the node h1 at this time is expressed as ΔVh. Further, the potential (Vref + ΔVh) of the node h1 in the writing period may be expressed as the potential Vh.
When the potential of the node h1 changes from the reference potential Vref to the potential Vh by ΔVh, the potential of the gate node g and the data line 14 also changes from the potential Vp = (Vel− | Vth |) set in the compensation period. . The potential change amount of the gate node g at this time is expressed as ΔVg. In addition, the potential (Vp + ΔVg) of the gate node g in the writing period may be expressed as a potential Vgate.

以下では、図9を参照しつつ、書込期間の開始前後における、ゲートノードg及びノードh1の電位の変化について詳述する。
図9(A)は、書込期間の開始前後における、ノードh1及びゲートノードgの電位変化について説明するための説明図である。この図において、(A−1)は、書込期間開始前におけるノードh1及びゲートノードgの電位を表しており、(A−2)は、書込期間開始後(すなわち、トランスミッションゲート42がオンした後)におけるノードh1及びゲートノードgの電位について表している。なお、補償期間及び書込期間において、保持容量50及び保持容量132は電気的に並列に接続されるため、保持容量50及び保持容量132の合成容量501の容量値C0は、以下の式(1)で表される。
C0=Cpix+Cdt ……(1)
Hereinafter, with reference to FIG. 9, changes in the potentials of the gate node g and the node h1 before and after the start of the writing period will be described in detail.
FIG. 9A is an explanatory diagram for explaining potential changes of the node h1 and the gate node g before and after the start of the writing period. In this figure, (A-1) represents the potential of the node h1 and the gate node g before the start of the write period, and (A-2) is after the start of the write period (that is, the transmission gate 42 is turned on). The potentials of the node h1 and the gate node g in FIG. Note that since the storage capacitor 50 and the storage capacitor 132 are electrically connected in parallel in the compensation period and the writing period, the capacitance value C0 of the combined capacitor 501 of the storage capacitor 50 and the storage capacitor 132 is expressed by the following equation (1). ).
C0 = Cpix + Cdt (1)

書込期間の開始前において合成容量501に蓄積されている電荷をQ0aとし、書込期間の開始後において合成容量501に蓄積されている電荷をQ0bとすると、書込期間の開始前後において、合成容量501から流出する電荷(Q0a−Q0b)は、以下の式(2)で表される。同様に、書込期間の開始前において、保持容量44に蓄積されている電荷をQ1aとし、書込期間の開始後において保持容量44に蓄積されている電荷をQ1bとすると、書込期間の開始前後において、保持容量44に流入する電荷(Q1b−Q1a)は、以下の式(3)で表される。書込期間の開始前後において、合成容量501から流出する電荷と、保持容量44に流入する電荷とは等しいため、以下の式(4)が成立する。
Q0a−Q0b = C0*(Vp−Vgate) ……(2)
Q1b−Q1a = Crf1*{(Vgate−Vh)−(Vp−Vref)} ……(3)
Q0a−Q0b = Q1b−Q1a ……(4)
If the charge accumulated in the combined capacitor 501 before the start of the writing period is Q0a and the charge accumulated in the combined capacitor 501 after the start of the write period is Q0b, the combined charge is generated before and after the start of the write period. The electric charge (Q0a-Q0b) flowing out from the capacitor 501 is expressed by the following equation (2). Similarly, if the charge accumulated in the holding capacitor 44 is Q1a before the start of the writing period and Q1b is the charge accumulated in the holding capacitor 44 after the start of the writing period, the writing period starts. The charge (Q1b-Q1a) flowing into the storage capacitor 44 before and after is expressed by the following equation (3). Since the charge flowing out from the combined capacitor 501 and the charge flowing into the storage capacitor 44 are equal before and after the start of the writing period, the following expression (4) is established.
Q0a-Q0b = C0 * (Vp-Vgate) (2)
Q1b-Q1a = Crf1 * {(Vgate-Vh)-(Vp-Vref)} (3)
Q0a-Q0b = Q1b-Q1a (4)

式(2)〜式(4)より、書込期間におけるゲートノードgの電位Vgateを算出することができる。具体的には、電位Vgateは以下の式(5)で表される。
Vgate = {Crf1/(Crf1+C0)}*{Vh−Vref}+Vp ……(5)
From the expressions (2) to (4), the potential Vgate of the gate node g in the writing period can be calculated. Specifically, the potential Vgate is expressed by the following formula (5).
Vgate = {Crf1 / (Crf1 + C0)} * {Vh−Vref} + Vp (5)

ここで、以下の式(6)に示す容量比k1を導入する。このとき、書込期間におけるゲートノードgの電位Vgateは容量比k1を用いて以下の式(7)で表すことができ、書込期間の開始前後におけるゲートノードgの電位変化量ΔVgは容量比k1を用いて以下の式(8)で表すことができる。
k1 = Crf1/(Crf1+Cdt+Cpix) ……(6)
Vgate = k1*(Vh−Vref)+Vp
= k1*ΔVh+Vp ……(7)
ΔVg = Vgate−Vp
= k1*ΔVh ……(8)
Here, the capacity ratio k1 shown in the following equation (6) is introduced. At this time, the potential Vgate of the gate node g in the writing period can be expressed by the following formula (7) using the capacitance ratio k1, and the potential change amount ΔVg of the gate node g before and after the start of the writing period is the capacitance ratio. It can be expressed by the following equation (8) using k1.
k1 = Crf1 / (Crf1 + Cdt + Cpix) (6)
Vgate = k1 * (Vh−Vref) + Vp
= K1 * ΔVh + Vp (7)
ΔVg = Vgate-Vp
= K1 * ΔVh (8)

このように、書込期間において、ゲートノードgの電位は、補償期間における電位Vp=(Vel−|Vth|)から、ノードh1の電位変化量ΔVhに容量比k1を乗じた値(k1*ΔVh)だけ上昇方向にシフトした電位Vgate=(Vel−|Vth|+k1・ΔVh)に変化する。このとき、トランジスター121の電圧Vgsの絶対値|Vgs|は、以下の式(9)に示されるように、閾値電圧|Vth|からゲートノードgの電位上昇分を減じた値となる。
|Vgs| = |Vth|−k1*ΔVh ……(9)
Thus, in the writing period, the potential of the gate node g is obtained by multiplying the potential change amount ΔVh of the node h1 by the capacitance ratio k1 from the potential Vp = (Vel− | Vth |) in the compensation period (k1 * ΔVh). ), The potential Vgate = (Vel− | Vth | + k1 · ΔVh) shifted in the upward direction. At this time, the absolute value | Vgs | of the voltage Vgs of the transistor 121 is a value obtained by subtracting the potential increase of the gate node g from the threshold voltage | Vth | as shown in the following equation (9).
| Vgs | = | Vth | −k1 * ΔVh (9)

図9(B)は、書込期間の開始前後における、ノードh1及びノードh2の電位変化について説明するための説明図である。この図において、(B−1)は、書込期間開始前におけるノードh1及びノードh2の電位を表しており、(B−2)は、書込期間開始後(すなわち、トランスミッションゲート42がオンした後)におけるノードh1及びノードh2の電位について表している。なお、補償期間及び書込期間において、保持容量50及び保持容量132の合成容量501と保持容量41とは電気的に直列に接続されるため、保持容量50、保持容量132及び、保持容量44の合成容量502の容量値C1は、以下の式(10)で表される。
C1 = (C0*Crf1)/(C0+Crf1) ……(10)
FIG. 9B is an explanatory diagram for explaining potential changes of the node h1 and the node h2 before and after the start of the writing period. In this figure, (B-1) represents the potentials of the nodes h1 and h2 before the start of the write period, and (B-2) is after the start of the write period (that is, the transmission gate 42 is turned on). The potentials of the node h1 and the node h2 in (after) are shown. Note that in the compensation period and the writing period, the combined capacitor 501 and the storage capacitor 41 of the storage capacitor 50 and the storage capacitor 132 are electrically connected in series, and thus the storage capacitor 50, the storage capacitor 132, and the storage capacitor 44 are connected. The capacitance value C1 of the composite capacitor 502 is expressed by the following equation (10).
C1 = (C0 * Crf1) / (C0 + Crf1) (10)

書込期間の開始前において合成容量502に蓄積されている電荷をQ1cとし、書込期間の開始後において合成容量502に蓄積されている電荷をQ1dとすると、書込期間の開始前後において合成容量502から流出する電荷(Q1c−Q1d)は、以下の式(11)で表される。同様に、書込期間の開始前において保持容量41に蓄積されている電荷をQ2cとし、書込期間の開始後において保持容量41に蓄積されている電荷をQ2dとすると、書込期間の開始前後において保持容量41に流入する電荷(Q2d−Q2c)は、以下の式(12)で表される。書込期間の開始前後において、合成容量502から流出する電荷と、保持容量41に流入する電荷とは等しいため、以下の式(13)が成立する。
Q1c−Q1d = C1*{Vref−Vh} ……(11)
Q2d−Q2c = Crf2*{Vh−Vd(j)} ……(12)
Q1c−Q1d = Q2d−Q2c ……(13)
If the charge accumulated in the composite capacitor 502 before the start of the write period is Q1c and the charge stored in the composite capacitor 502 after the start of the write period is Q1d, the composite capacitor before and after the start of the write period. The electric charge (Q1c-Q1d) flowing out from 502 is expressed by the following equation (11). Similarly, if the charge accumulated in the storage capacitor 41 before the start of the write period is Q2c and the charge accumulated in the storage capacitor 41 after the start of the write period is Q2d, before and after the start of the write period The charge (Q2d−Q2c) flowing into the storage capacitor 41 is expressed by the following equation (12). Since the charge flowing out from the combined capacitor 502 and the charge flowing into the storage capacitor 41 are equal before and after the start of the writing period, the following equation (13) is established.
Q1c-Q1d = C1 * {Vref-Vh} (11)
Q2d-Q2c = Crf2 * {Vh-Vd (j)} (12)
Q1c-Q1d = Q2d-Q2c (13)

従って、式(11)〜式(13)より、書込期間におけるノードh1の電位Vhを算出することができる。具体的には、電位Vhは以下の式(14)で表される。また、ノードh1における電位変化量ΔVhは、以下の式(15)で表される。
Vh = {C1/(C1+Crf2)}*(Vref)
+ {Crf2/(C1+Crf2)}*{Vd(j)} ……(14)
ΔVh = Vh−Vref
= {Crf2/(C1+Crf2)}*{Vd(j)−Vref} ……(15)
Therefore, the potential Vh of the node h1 in the writing period can be calculated from the equations (11) to (13). Specifically, the potential Vh is expressed by the following formula (14). The potential change amount ΔVh at the node h1 is expressed by the following equation (15).
Vh = {C1 / (C1 + Crf2)} * (Vref)
+ {Crf2 / (C1 + Crf2)} * {Vd (j)} (14)
ΔVh = Vh-Vref
= {Crf2 / (C1 + Crf2)} * {Vd (j) -Vref} (15)

ここで、以下の式(16)に示す容量比k2を導入すると、電位変化量ΔVhは、以下の式(17)で表すこともできる。
k2 = Crf2/(C1+Crf2) ……(16)
ΔVh = k2*{Vd(j)−Vref} ……(17)
Here, when the capacitance ratio k2 shown in the following equation (16) is introduced, the potential change amount ΔVh can also be expressed by the following equation (17).
k2 = Crf2 / (C1 + Crf2) (16)
ΔVh = k2 * {Vd (j) −Vref} (17)

書込期間におけるゲートノードgの電位Vgateは、式(7)に対して式(17)を代入することで、以下の式(18)により表すことができる。よって、書込期間の開始前後におけるゲート電極Gの電位変化量ΔVgは、以下の式(19)により表すことができる。
Vgate = k1*k2*{Vd(j)−Vref}+Vp ……(18)
ΔVg = k1*k2*{Vd(j)−Vref} ……(19)
The potential Vgate of the gate node g in the writing period can be expressed by the following formula (18) by substituting the formula (17) into the formula (7). Therefore, the potential change amount ΔVg of the gate electrode G before and after the start of the writing period can be expressed by the following equation (19).
Vgate = k1 * k2 * {Vd (j) -Vref} + Vp (18)
ΔVg = k1 * k2 * {Vd (j) −Vref} (19)

このように、ノードh1の電位は、データ信号Vd(j)の示す電位を基準電位Vrefによりシフトさせ、これを、容量比k2により圧縮した値ΔVhだけ変化する。これにより、ゲートノードgの電位Vgateは、ノードh1の電位変化量ΔVhをさらに容量比k1で圧縮した値だけ変化する。すなわち、書込期間におけるゲートノードgの電位Vgateは、式(18)に示したように、データ信号Vd(j)を基準電位Vrefによりシフトさせ、且つ、当該シフトした電位に対して、容量値Cdt、Crf1、Crf2、Cpixに基づいて定められる容量比k3=k1*k2を乗じることで圧縮した電位が供給される。   Thus, the potential of the node h1 changes by a value ΔVh obtained by shifting the potential indicated by the data signal Vd (j) by the reference potential Vref and compressing it by the capacitance ratio k2. As a result, the potential Vgate of the gate node g changes by a value obtained by further compressing the potential change amount ΔVh of the node h1 with the capacitance ratio k1. That is, the potential Vgate of the gate node g in the writing period is obtained by shifting the data signal Vd (j) by the reference potential Vref and the capacitance value with respect to the shifted potential as shown in the equation (18). A compressed potential is supplied by multiplying the capacitance ratio k3 = k1 * k2 determined based on Cdt, Crf1, Crf2, and Cpix.

図10は、書込期間におけるデータ信号Vd(j)の電位とゲートノードgの電位Vgateとの関係を示す図である。制御回路3から供給される画像信号Vidに基づいて生成されるデータ信号Vd(j)は、上述したように画素の階調レベルに応じて最小値Vminから最大値Vmaxまでの電位範囲を取り得る。そして、上述したように、データ信号Vd(j)を基準電位Vrefによりシフトし、且つ、容量比k3により圧縮した電位Vgateが、ゲートノードgに書き込まれる。このとき、ゲートノードgの電位範囲ΔVgateは、以下の式(20)に示すように、データ信号の電位範囲ΔVdata(=Vmax−Vmin)に容量比k3を乗じた値に圧縮される。
ΔVgate = k3*ΔVdata ……(20)
FIG. 10 is a diagram showing the relationship between the potential of the data signal Vd (j) and the potential Vgate of the gate node g in the writing period. As described above, the data signal Vd (j) generated based on the image signal Vid supplied from the control circuit 3 can take a potential range from the minimum value Vmin to the maximum value Vmax according to the gradation level of the pixel. . As described above, the potential Vgate obtained by shifting the data signal Vd (j) by the reference potential Vref and compressing it by the capacitance ratio k3 is written to the gate node g. At this time, the potential range ΔVgate of the gate node g is compressed to a value obtained by multiplying the potential range ΔVdata (= Vmax−Vmin) of the data signal by the capacitance ratio k3, as shown in the following equation (20).
ΔVgate = k3 * ΔVdata (20)

また、ゲートノードgの電位範囲ΔVgateを、データ信号の電位範囲ΔVdataに対してどの方向にどれだけシフトさせるかについては、式(18)からも明らかなように、電位Vp(=Vel−|Vth|)と基準電位Vrefとに基づいて定めることができる。   Further, as to which direction and how much the potential range ΔVgate of the gate node g is shifted with respect to the potential range ΔVdata of the data signal, as apparent from the equation (18), the potential Vp (= Vel− | Vth. |) And the reference potential Vref.

走査線駆動回路20は、書込期間の終了後、走査線12に供給する電位を、第1電位V1から第2電位V2に切り替えることで、走査信号Gwr(i)をLレベルからHレベルに変更する。これにより、トランジスター122がオフするため、ゲートノードgの電位は、電位Vgate=[{Vel−|Vth|}+k3・{Vd(j)−Vref}]に維持される。
なお、走査線駆動回路20は、走査信号Gwr(i)がLレベルからHレベルに変化する際の波形をHレベルからLレベルに変化する際の波形に比べて緩やかにするように、走査線12に供給する電位を切り替える。すなわち、図7に示すように、走査線駆動回路20が、走査線12に供給する電位を第2電位V2から第1電位V1へと切り替える期間を第1切替期間T1とし、第1電位V1から第2電位V2へと切り替える期間を、第2切替期間T2とする。このとき、走査線駆動回路20は、第2切替期間T2の時間長が、第1切替期間T1の時間長に比べて十分に長くなるように、走査線12に供給する電位を変化させる。
After the writing period ends, the scanning line driving circuit 20 switches the potential supplied to the scanning line 12 from the first potential V1 to the second potential V2, thereby changing the scanning signal Gwr (i) from the L level to the H level. change. Accordingly, since the transistor 122 is turned off, the potential of the gate node g is maintained at the potential Vgate = [{Vel− | Vth |} + k3 · {Vd (j) −Vref}].
The scanning line driving circuit 20 scans the scanning line Gwr (i) so that the waveform when the scanning signal Gwr (i) changes from the L level to the H level is gentler than the waveform when the scanning signal Gwr (i) changes from the H level to the L level. The potential supplied to 12 is switched. That is, as shown in FIG. 7, a period during which the scanning line driving circuit 20 switches the potential supplied to the scanning line 12 from the second potential V2 to the first potential V1 is a first switching period T1, and the first potential V1 A period for switching to the second potential V2 is a second switching period T2. At this time, the scanning line driving circuit 20 changes the potential supplied to the scanning line 12 so that the time length of the second switching period T2 is sufficiently longer than the time length of the first switching period T1.

上述したように、平面視したときに、走査線12とゲート電極G1(トランジスター121のゲート)とは交差する。そのため、走査線12とゲート電極G1との間には、寄生容量が存在する。従って、仮に、第2切替期間T2の時間長を、第1切替期間T1の時間長と同程度に短くし、走査信号Gwr(i)を急激にLレベルからHレベルに立ち上げた場合、走査線12における走査信号Gwr(i)の高周波成分の影響を受け、ゲート電極G1の電位が変化する。
上述のとおり、書込期間の終了時において、ゲートノードgの電位(ゲート電極G1の電位)は、OLED130の輝度を規定するデータ信号Vd(j)(画像信号Vid)に基づく電位Vgateに定められる。しかし、書込期間の終了後にゲートノードgの電位が変化する場合、ゲートノードgの電位は、データ信号Vd(j)に基づいて定められる電位Vgateとは異なる電位となる。この場合、各画素は、画像信号Vidの規定する階調とは異なる階調を表示することになり、表示品質が低下する。
これに対して本実施形態では、第2切替期間T2の時間長を、第1切替期間T1の時間長に十分に長くして、走査信号Gwr(i)がLレベルからHレベルに変化する際の波形を緩やかな波形とすることにより、走査線12の電位変動が、ゲートノードg(ゲート電極G1)に伝播することを防止する。これにより、各画素は、画像信号Vidの規定する階調を正確に表示することが可能となり、高品位の表示が可能となる。
As described above, when viewed in plan, the scanning line 12 and the gate electrode G1 (the gate of the transistor 121) intersect each other. For this reason, a parasitic capacitance exists between the scanning line 12 and the gate electrode G1. Accordingly, if the time length of the second switching period T2 is made as short as the time length of the first switching period T1, and the scanning signal Gwr (i) is suddenly raised from the L level to the H level, scanning is performed. Under the influence of the high frequency component of the scanning signal Gwr (i) on the line 12, the potential of the gate electrode G1 changes.
As described above, at the end of the writing period, the potential of the gate node g (the potential of the gate electrode G1) is set to the potential Vgate based on the data signal Vd (j) (image signal Vid) that defines the luminance of the OLED 130. . However, when the potential of the gate node g changes after the end of the writing period, the potential of the gate node g is different from the potential Vgate determined based on the data signal Vd (j). In this case, each pixel displays a gradation different from the gradation specified by the image signal Vid, and the display quality deteriorates.
On the other hand, in the present embodiment, the time length of the second switching period T2 is made sufficiently longer than the time length of the first switching period T1, and the scanning signal Gwr (i) changes from the L level to the H level. By making the waveform of (2) a gentle waveform, the potential fluctuation of the scanning line 12 is prevented from propagating to the gate node g (gate electrode G1). As a result, each pixel can accurately display the gradation defined by the image signal Vid, and display with high quality is possible.

なお、実際には、第1切替期間T1の時間長は、「0」と看做すことができる程度に十分に短い。すなわち、走査信号Gwr(i)がHレベルからLレベルに立ち下がる際の波形は、例えば、制御信号GrefがHレベルからLレベルに立ち下がる際の波形と等しくしてもよい。但し、図7においては、説明の便宜上、第1切替期間T1を図示するために、走査信号Gwr(i)の立ち下がりの波形が、実際に比べて十分に緩やかになるように記載している。   Actually, the time length of the first switching period T1 is short enough to be regarded as “0”. That is, the waveform when the scanning signal Gwr (i) falls from the H level to the L level may be equal to the waveform when the control signal Gref falls from the H level to the L level, for example. However, in FIG. 7, for convenience of explanation, in order to illustrate the first switching period T <b> 1, the falling waveform of the scanning signal Gwr (i) is described so as to be sufficiently gradual compared to the actual. .

<発光期間>
i行目の書込期間の終了した後、発光期間が開始される。本実施形態では、i行目の書込期間の終了した後、1水平走査期間の間をおいて発光期間が開始される。発光期間において、走査線駆動回路20は、上述したように、走査信号Gwr(i)をHレベルに設定するため、トランジスター122がオフし、ゲートノードgは、電位Vgate=[{Vel−|Vth|}+k3・{Vd(j)−Vref}]に維持される。また、発光期間において、走査線駆動回路20は、制御信号Gel(i)をLレベルに設定するので、i行(3j−2)列の画素回路110において、トランジスター124がオンする。ゲート・ソース間の電圧Vgsは、[|Vth|−k3・{Vd(j)−Vref}]であるから、OLED130には、先の図8に示したように、階調レベルに応じた電流がトランジスター121の閾値電圧を補償した状態で供給されることになる。
このような動作は、i行目の走査期間において、(3j−2)列目の画素回路110以外のi行目の他の画素回路110においても時間的に並列して実行される。さらに、このようなi行目の動作は、実際には、1フレームの期間において1、2、3、…、(m−1)、m行目の順番で実行されるとともに、フレーム毎に繰り返される。
<Light emission period>
The light emission period is started after the writing period of the i-th row is completed. In the present embodiment, after the writing period of the i-th row ends, the light emission period starts after one horizontal scanning period. In the light emission period, the scanning line driving circuit 20 sets the scanning signal Gwr (i) to the H level as described above, so that the transistor 122 is turned off, and the gate node g has the potential Vgate = [{Vel− | Vth. |} + K3 · {Vd (j) −Vref}]. In the light emission period, the scanning line driving circuit 20 sets the control signal Gel (i) to the L level, so that the transistor 124 is turned on in the pixel circuit 110 in the i row (3j-2) column. Since the gate-source voltage Vgs is [| Vth | −k3 · {Vd (j) −Vref}], the OLED 130 has a current corresponding to the gradation level as shown in FIG. Is supplied in a state in which the threshold voltage of the transistor 121 is compensated.
Such an operation is also executed in parallel in time in other pixel circuits 110 in the i row other than the pixel circuit 110 in the (3j-2) th column in the scanning period of the i row. Further, such an operation on the i-th row is actually executed in the order of 1, 2, 3,..., (M−1), m-th row in the period of one frame, and is repeated for each frame. It is.

<実施形態の効果>
本実施形態によれば、平面視したときに、走査線12及び制御線143が、トランジスター121のゲート(ゲート電極G1)と交差する位置に設けられる。このため、走査線12及び制御線143がトランジスター121のゲートと交差しないように設けられる場合に比べて、X方向に延在する複数の制御線(走査線12、制御線143、144、145)を高密度に配線することができ、制御線の狭ピッチ化が可能となる。すなわち、本実施形態によれば、制御線を高密度に配線することにより、画素回路110の狭ピッチ化を可能とし、これにより電気光学装置1(表示部100)の小型化及び表示の高精細化が可能となる。
<Effect of embodiment>
According to the present embodiment, the scanning line 12 and the control line 143 are provided at a position intersecting with the gate (gate electrode G1) of the transistor 121 when viewed in plan. Therefore, a plurality of control lines extending in the X direction (scanning line 12, control lines 143, 144, and 145) are compared with the case where the scanning line 12 and the control line 143 are provided so as not to cross the gate of the transistor 121. Can be wired at high density, and the pitch of the control lines can be reduced. That is, according to the present embodiment, the control lines are arranged with high density, so that the pitch of the pixel circuits 110 can be reduced, thereby reducing the size of the electro-optical device 1 (display unit 100) and high definition of display. Can be realized.

本実施形態によれば、走査線駆動回路20は、走査信号Gwr(i)がLレベルからHレベルに変化する際の波形を、HレベルからLレベルに変化する際の波形に比べて緩やかになるように、走査線12に供給する電位を変化させる。これにより、平面視したときに走査線12とトランジスター121のゲートとが交差する場合であっても、走査信号Gwr(i)の電位変動がトランジスター121のゲートに伝播することを防止することができるため、各画素が画像信号Vidの規定する階調を正確に表示することができる。   According to the present embodiment, the scanning line driving circuit 20 has a gentler waveform when the scanning signal Gwr (i) changes from the L level to the H level than the waveform when the scanning signal Gwr (i) changes from the H level to the L level. Thus, the potential supplied to the scanning line 12 is changed. Thereby, even when the scanning line 12 and the gate of the transistor 121 intersect when viewed in plan, it is possible to prevent the potential fluctuation of the scanning signal Gwr (i) from propagating to the gate of the transistor 121. Therefore, each pixel can accurately display the gradation specified by the image signal Vid.

本実施形態によれば、走査線駆動回路20は、制御信号Gcmp(i)がLレベルからHレベルに変化する際の波形を、HレベルからLレベルに変化する際の波形に比べて緩やかになるように、制御線143に供給する電位を変化させる。これにより、平面視したときに制御線143とトランジスター121のゲートとが交差する場合であっても、制御信号Gcmp(i)の電位変動がトランジスター121のゲートに伝播することを防止することができるため、表示の一様性を担保した高品位の表示が可能となる。   According to the present embodiment, the scanning line driving circuit 20 has a gentler waveform when the control signal Gcmp (i) changes from the L level to the H level than the waveform when the control signal Gcmp (i) changes from the H level to the L level. Thus, the potential supplied to the control line 143 is changed. Accordingly, even when the control line 143 and the gate of the transistor 121 intersect when viewed in plan, the potential fluctuation of the control signal Gcmp (i) can be prevented from propagating to the gate of the transistor 121. Therefore, high-quality display that ensures the uniformity of display is possible.

本実施形態によれば、ゲートノードgにおける電位範囲ΔVgateは、データ信号の電位範囲ΔVdataに対し狭められるので、データ信号を細かい精度で刻まなくても、階調レベルを反映した電圧を、トランジスター121のゲート・ソース間に印加することができる。このため、画素回路110においてトランジスター121のゲート・ソース間の電圧Vgsの変化に対しOLED130に流れる微小電流が相対的に大きく変化する場合であっても、OLED130に供給する電流を精度良く制御することが可能になる。   According to the present embodiment, the potential range ΔVgate at the gate node g is narrowed with respect to the potential range ΔVdata of the data signal, so that the voltage reflecting the gradation level can be applied to the transistor 121 without engraving the data signal with fine accuracy. Can be applied between the gate and the source. Therefore, the current supplied to the OLED 130 is accurately controlled even when the minute current flowing through the OLED 130 changes relatively greatly with respect to the change in the gate-source voltage Vgs of the transistor 121 in the pixel circuit 110. Is possible.

また、図4において破線で示されるようにデータ線14と画素回路110におけるゲートノードgとの間には容量Cprsが寄生する場合がある。この場合、データ線14の電位変化幅が大きいと、当該容量Cprsを介してゲートノードgに伝播し、いわゆるクロストークやムラなどが発生して表示品位を低下させてしまう。当該容量Cprsの影響は、画素回路110が微細化されたときに顕著に現れる。
これに対して、本実施形態においては、データ線14の電位変化範囲についても、データ信号の電位範囲ΔVdataに対し狭められるので、容量Cprsを介した影響を抑えることができる。
Further, as indicated by a broken line in FIG. 4, there is a case where a capacitance Cprs is parasitic between the data line 14 and the gate node g in the pixel circuit 110. In this case, if the potential change width of the data line 14 is large, it is propagated to the gate node g via the capacitor Cprs, so-called crosstalk or unevenness occurs, and the display quality is deteriorated. The influence of the capacitance Cprs is noticeable when the pixel circuit 110 is miniaturized.
On the other hand, in the present embodiment, the potential change range of the data line 14 is also narrowed with respect to the potential range ΔVdata of the data signal, so that the influence via the capacitor Cprs can be suppressed.

また、本実施形態によれば、トランジスター121によってOLED130に供給される電流Idsは、閾値電圧の影響が相殺される。このため、本実施形態によれば、トランジスター121の閾値電圧が画素回路110毎にばらついても、そのばらつきが補償されて、階調レベルに応じた電流がOLED130に供給されるので、表示画面の一様性を損なうような表示ムラの発生を抑えられる結果、高品位の表示が可能になる。   Further, according to this embodiment, the current Ids supplied to the OLED 130 by the transistor 121 cancels the influence of the threshold voltage. Therefore, according to the present embodiment, even if the threshold voltage of the transistor 121 varies from pixel circuit 110 to pixel circuit 110, the variation is compensated and a current corresponding to the gradation level is supplied to the OLED 130. As a result of suppressing the occurrence of display unevenness that impairs uniformity, high-quality display is possible.

この相殺について図11を参照して説明する。この図に示されるように、トランジスター121は、OLED130に供給する微小電流を制御するために、弱反転領域(サブスレッショルド領域)で動作する。
図において、Aは閾値電圧|Vth|が大きいトランジスターにおけるゲート電位と当該トランジスターの供給する電流との関係を示し、Bは閾値電圧|Vth|が小さいトランジスターにおけるゲート電位と当該トランジスターの供給する電流との関係を示している。なお、図11において、ゲート・ソース間の電圧Vgsは、実線と電位Velとの差である。また、図11において、縦スケールの電流は、ソースからドレインに向かう方向を負(下)とした対数で示されている。
補償期間においてゲートノードgは、初期電位Viniから電位(Vel−|Vth|)となる。このため、実線Aにより表される閾値電圧|Vth|が大きいトランジスターは、動作点がSからAaに移動する一方、実線Bにより表される閾値電圧|Vth|が小さいトランジスターは、動作点がSからBaに移動する。
次に、2つのトランジスターが属する画素回路110へのデータ信号の電位が同じ場合、つまり同じ階調レベルが指定された場合に、書込期間においては、動作点Aa、Baからの電位シフト量は、ともに同じk1・ΔVhである。このため、実線Aにより表されるトランジスターについては動作点がAaからAbに移動し、実線Bにより表されるトランジスターについては動作点がBaからBbに移動するが、電位シフト後の動作点における電流は、当該2つのトランジスターともに、ほぼ同じIdsで揃うことになる。
This cancellation will be described with reference to FIG. As shown in this figure, the transistor 121 operates in a weak inversion region (subthreshold region) in order to control a minute current supplied to the OLED 130.
In the figure, A shows the relationship between the gate potential of a transistor having a large threshold voltage | Vth | and the current supplied by the transistor, and B shows the gate potential of a transistor having a small threshold voltage | Vth | and the current supplied by the transistor. Shows the relationship. In FIG. 11, the gate-source voltage Vgs is the difference between the solid line and the potential Vel. Further, in FIG. 11, the current on the vertical scale is indicated by a logarithm with the direction from the source to the drain being negative (down).
In the compensation period, the gate node g changes from the initial potential Vini to the potential (Vel− | Vth |). Therefore, a transistor having a large threshold voltage | Vth | represented by a solid line A moves from S to Aa, while a transistor having a small threshold voltage | Vth | represented by a solid line B has an operating point of S. Move from Ba to Ba.
Next, when the potential of the data signal to the pixel circuit 110 to which the two transistors belong is the same, that is, when the same gradation level is designated, the potential shift amount from the operating points Aa and Ba is Are the same k1 · ΔVh. Therefore, for the transistor represented by the solid line A, the operating point moves from Aa to Ab, and for the transistor represented by the solid line B, the operating point moves from Ba to Bb, but the current at the operating point after the potential shift is changed. The two transistors are aligned at substantially the same Ids.

本実施形態によれば、制御回路3からデマルチプレクサDMを介して供給されるデータ信号を、保持容量41に保持させる動作が、初期化期間から補償期間までにわたって実行される。すなわち、本実施形態によれば、初期化期間においてアノード130aの電位をリセット電位Vorstに初期化する動作と、データ信号を保持容量41に保持させる動作とが、並行して実行されるとともに、補償期間においてトランジスター121の閾値電圧のばらつき補償する動作と、データ信号を保持容量41に保持させる動作とが、並行して実行される。このため、1水平走査期間に実行すべき動作について時間的な制約を緩和することができ、データ信号供給回路70におけるデータ信号の供給動作を低速化することができる。   According to the present embodiment, the operation of holding the data signal supplied from the control circuit 3 via the demultiplexer DM in the holding capacitor 41 is executed from the initialization period to the compensation period. That is, according to the present embodiment, the operation of initializing the potential of the anode 130a to the reset potential Vorst and the operation of holding the data signal in the holding capacitor 41 are performed in parallel during the initialization period, and the compensation is performed. The operation for compensating for the variation in threshold voltage of the transistor 121 during the period and the operation for holding the data signal in the storage capacitor 41 are performed in parallel. For this reason, time restrictions can be relaxed for the operation to be executed in one horizontal scanning period, and the data signal supply operation in the data signal supply circuit 70 can be slowed down.

<変形例>
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば次に述べるような各種の変形が可能である。また、次に述べる変形の態様は、任意に選択された一または複数を、適宜に組み合わせることもできる。
<Modification>
The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications as described below are possible, for example. Moreover, the aspect of the deformation | transformation described below can also combine suitably arbitrarily selected 1 or several.

<変形例1>
上述した実施形態では、各画素回路110は、平面視したときに、走査線12及び制御線143と、ゲート電極G1とが交差する構成であったが、走査線12及び制御線143の他に、制御線144がゲート電極G1と交差する構成であってもよい。
図12は、変形例1に係る画素回路110の構成を示す平面図である。変形例1に係る画素回路110は、平面視したときに制御線144とゲート電極G1とが交差する点と、制御線144が画素回路110毎にY方向に分岐した分岐部142aを有する点とを除き、図5に示した実施形態に係る画素回路110と同様に構成される。
この構成によれば、制御線144がトランジスター121のゲートと交差しないように設けられる場合に比べて、X方向に延在する複数の制御線(走査線12、制御線143、144、145)を高密度に配線することができ、制御線の狭ピッチ化が可能となる。これにより電気光学装置(表示部)の小型化及び表示の高精細化が可能となる。
<Modification 1>
In the above-described embodiment, each pixel circuit 110 has a configuration in which the scanning line 12 and the control line 143 intersect with the gate electrode G1 when viewed in plan, but in addition to the scanning line 12 and the control line 143, The control line 144 may intersect with the gate electrode G1.
FIG. 12 is a plan view illustrating a configuration of the pixel circuit 110 according to the first modification. The pixel circuit 110 according to the first modification includes a point where the control line 144 and the gate electrode G1 intersect when viewed in plan, and a point where the control line 144 has a branch portion 142a branched in the Y direction for each pixel circuit 110. The pixel circuit 110 is configured similarly to the pixel circuit 110 according to the embodiment shown in FIG.
According to this configuration, a plurality of control lines (scanning line 12, control lines 143, 144, and 145) extending in the X direction are compared with the case where the control line 144 is provided so as not to cross the gate of the transistor 121. Wiring can be performed with high density, and the pitch of the control lines can be reduced. As a result, it is possible to reduce the size of the electro-optical device (display unit) and increase the definition of the display.

また、制御線144とゲート電極G1とが交差する場合、走査線駆動回路20は、制御信号Gel(i)がHレベルからLレベルに変化する際の波形が、LレベルからHレベルに変化する際の波形に比べて緩やかになるように、制御線144に供給する電位を切り替えてもよい。
図13は変形例1に係る電気光学装置の動作を説明するためのタイミングチャートである。図13に示すように、変形例1に係る走査線駆動回路20は、制御線144に供給する電位を第2電位V2から第1電位V1へと切り替える第5切替期間T5の時間長が、第1電位V1から第2電位V2へと切り替える第6切替期間T6の時間長に比べて十分に長くなるように、制御線144に供給する電位を変化させる。
上述のとおり、ゲート電極G1(トランジスター121のゲートノードg)の電位は、第5切替期間T5に先行する書込期間において、OLED130の輝度を規定する電位Vgateに定められる。従って、第5切替期間T5において、制御線144の電位が急激に変化し、当該電位変動がゲート電極G1に伝播する場合、各画素は画像信号Vidの規定する階調を正確に表示できない。
これに対して、変形例1に係る走査線駆動回路20は、第5切替期間T5の時間長を、第6切替期間T6の時間長に十分に長くして、制御信号Gel(i)がHレベルからLレベルに変化する際の波形を緩やかな波形とすることにより、制御線144の電位変動が、ゲートノードg(ゲート電極G1)に伝播することを防止する。これにより、各画素は、画像信号Vidの規定する階調を正確に表示することが可能となり、高品位の表示が可能となる。
When the control line 144 and the gate electrode G1 intersect, the scanning line driving circuit 20 changes the waveform when the control signal Gel (i) changes from the H level to the L level from the L level to the H level. The potential supplied to the control line 144 may be switched so as to be gentler than the waveform at that time.
FIG. 13 is a timing chart for explaining the operation of the electro-optical device according to the first modification. As illustrated in FIG. 13, the scanning line driving circuit 20 according to the first modification has a time length of a fifth switching period T5 in which the potential supplied to the control line 144 is switched from the second potential V2 to the first potential V1. The potential supplied to the control line 144 is changed so as to be sufficiently longer than the time length of the sixth switching period T6 for switching from the first potential V1 to the second potential V2.
As described above, the potential of the gate electrode G1 (the gate node g of the transistor 121) is set to the potential Vgate that defines the luminance of the OLED 130 in the writing period preceding the fifth switching period T5. Therefore, in the fifth switching period T5, when the potential of the control line 144 changes abruptly and the potential fluctuation propagates to the gate electrode G1, each pixel cannot accurately display the gradation defined by the image signal Vid.
On the other hand, in the scanning line driving circuit 20 according to the first modification, the time length of the fifth switching period T5 is sufficiently longer than the time length of the sixth switching period T6, and the control signal Gel (i) is H. By making the waveform at the time of changing from the level to the L level gentle, it is possible to prevent the potential fluctuation of the control line 144 from propagating to the gate node g (gate electrode G1). As a result, each pixel can accurately display the gradation defined by the image signal Vid, and display with high quality is possible.

<変形例2>
上述した実施形態では、各画素回路110は、平面視したときに、走査線12及び制御線143と、ゲート電極G1とが交差する構成であったが、走査線12及び制御線143の他に、制御線145がゲート電極G1と交差する構成であってもよい。
図14は、変形例2に係る画素回路110の構成を示す平面図である。変形例2に係る画素回路110は、平面視したときに制御線145とゲート電極G1とが交差する点と、制御線145が画素回路110毎にY方向に分岐した分岐部145aを有する点とを除き、図5に示した実施形態に係る画素回路110と同様に構成される。
この構成によれば、制御線145がトランジスター121のゲートと交差しないように設けられる場合に比べて、X方向に延在する複数の制御線(走査線12、制御線143、144、145)を高密度に配線することができ、制御線の狭ピッチ化が可能となる。これにより電気光学装置(表示部)の小型化及び表示の高精細化が可能となる。
また、制御線145とゲート電極G1とが交差する場合、走査線駆動回路20は、図15に示すように、制御信号Gorst(i)がLレベルからHレベルに変化する際の波形が、HレベルからLレベルに変化する際の波形に比べて緩やかになるように、制御線145に供給する電位を切り替えてもよい。
図15は変形例2に係る電気光学装置の動作を説明するためのタイミングチャートである。
図15に示すように、変形例2に係る走査線駆動回路20は、制御線145に供給する電位を第1電位V1から第2電位V2へと切り替える第8切替期間T8の時間長が、第2電位V2から第1電位V1へと切り替える第7切替期間T7の時間長に比べて十分に長くなるように、制御線145に供給する電位を変化させる。この場合、トランジスター121のゲートノードg(ゲート電極G1)の電位が、OLED130の輝度を規定する電位Vgateに確定した後において、制御線145に電位変動がゲート電極G1に伝播することを防止し、各画素が、画像信号Vidの規定する階調を正確に表示することを可能とする。
<Modification 2>
In the above-described embodiment, each pixel circuit 110 has a configuration in which the scanning line 12 and the control line 143 intersect with the gate electrode G1 when viewed in plan, but in addition to the scanning line 12 and the control line 143, The control line 145 may cross the gate electrode G1.
FIG. 14 is a plan view illustrating a configuration of a pixel circuit 110 according to the second modification. The pixel circuit 110 according to the modified example 2 has a point where the control line 145 and the gate electrode G1 intersect when viewed in plan, and a point where the control line 145 has a branch portion 145a branched in the Y direction for each pixel circuit 110. The pixel circuit 110 is configured similarly to the pixel circuit 110 according to the embodiment shown in FIG.
According to this configuration, a plurality of control lines (scanning line 12, control lines 143, 144, and 145) extending in the X direction are compared with the case where the control line 145 is provided so as not to cross the gate of the transistor 121. Wiring can be performed with high density, and the pitch of the control lines can be reduced. As a result, it is possible to reduce the size of the electro-optical device (display unit) and increase the definition of the display.
When the control line 145 and the gate electrode G1 intersect, the scanning line driving circuit 20 has a waveform when the control signal Gorst (i) changes from L level to H level as shown in FIG. The potential supplied to the control line 145 may be switched so as to be gentler than the waveform when changing from the level to the L level.
FIG. 15 is a timing chart for explaining the operation of the electro-optical device according to the second modification.
As shown in FIG. 15, the scanning line driving circuit 20 according to the modified example 2 has a time length of an eighth switching period T8 for switching the potential supplied to the control line 145 from the first potential V1 to the second potential V2. The potential supplied to the control line 145 is changed so as to be sufficiently longer than the time length of the seventh switching period T7 for switching from the two potential V2 to the first potential V1. In this case, after the potential of the gate node g (gate electrode G1) of the transistor 121 is determined to be the potential Vgate that defines the luminance of the OLED 130, the potential fluctuation is prevented from propagating to the control electrode 145 to the gate electrode G1, Each pixel can accurately display the gradation defined by the image signal Vid.

<変形例3>
上述した実施形態及び変形例では、各画素回路110は、トランジスター121〜125、OLED130、及び、保持容量132を備えるものであったが、画素回路110は、少なくとも、トランジスター121、トランジスター122、及び、OLED130を備えるものであればよい。この場合、表示部100は、上述した実施形態及び変形例において表示部100に設けられたX方向に延在する複数の制御線(走査線12、制御線143、144、145)のうち、変形例3の画素回路110が備えるトランジスターに対応する制御線のみを、各行に設けられるものであればよい。すなわち、変形例3に係る表示部100には、各行において、走査線12を含む1以上の制御線が設けられるものであればよい。例えば、各画素回路110が、トランジスター121、トランジスター122、OLED130、及び、保持容量132を備える場合、各行に対応する制御線として、走査線12のみが設けられることになる。また、各画素回路110は、トランジスター121〜125以外のトランジスターを備えてもよく、この場合、表示部100には、当該トランジスターに対応する制御線が設けられてもよい。
各行において走査線12を含む1以上の制御線が設けられる場合、各行に設けられたX方向に延在する1以上の制御線のうちの少なくとも1本の制御線が、平面視してトランジスター121のゲートノードg(ゲート電極G1)と交差するように設けられる。これにより、X方向に延在する制御線を高密度に配線することができ、電気光学装置(表示部)の小型化及び表示の高精細化が可能となる。
さらに、走査線駆動回路20は、各行に設けられる1以上制御線のうち、平面視してゲート電極G1と交差する少なくとも1本の制御線の電位を、補償期間の終了時から次の走査期間の開始時までの間に変化させる場合には、当該電位変化の波形を緩やかなものにすることが好ましい。例えば、ゲート電極G1と走査線12とが交差する場合は、走査線駆動回路20は、走査線12に供給する電位を第1電位V1から第2電位V2へと切り替える第2切替期間T2の時間長を、第2電位V2から第1電位V1へと切り替える第1切替期間T1の時間長に比べて、十分に長くなるように、走査線12に供給する電位を変化させればよい。これにより、ゲート電極G1と交差する制御線の電位変化が、ゲート電極G1に伝播することを防止することができ、各画素は、画像信号Vidの規定する階調を正確に表示することが可能となる。
<Modification 3>
In the embodiment and the modification described above, each pixel circuit 110 includes the transistors 121 to 125, the OLED 130, and the storage capacitor 132. However, the pixel circuit 110 includes at least the transistor 121, the transistor 122, and Any device including the OLED 130 may be used. In this case, the display unit 100 is modified from among a plurality of control lines (scanning line 12, control lines 143, 144, and 145) provided in the display unit 100 and extending in the X direction in the above-described embodiments and modifications. Only the control lines corresponding to the transistors included in the pixel circuit 110 of Example 3 may be provided in each row. In other words, the display unit 100 according to the modification 3 may be provided with one or more control lines including the scanning lines 12 in each row. For example, when each pixel circuit 110 includes the transistor 121, the transistor 122, the OLED 130, and the storage capacitor 132, only the scanning line 12 is provided as a control line corresponding to each row. Each pixel circuit 110 may include a transistor other than the transistors 121 to 125. In this case, the display unit 100 may be provided with a control line corresponding to the transistor.
When one or more control lines including the scanning lines 12 are provided in each row, at least one of the one or more control lines extending in the X direction provided in each row is the transistor 121 in plan view. And the gate node g (gate electrode G1). Thereby, the control lines extending in the X direction can be wired with high density, and the electro-optical device (display unit) can be downsized and the display can be made high definition.
Further, the scanning line driving circuit 20 applies the potential of at least one control line that intersects the gate electrode G1 in plan view among one or more control lines provided in each row from the end of the compensation period to the next scanning period. In the case of changing the time until the start of this, it is preferable to make the waveform of the potential change gentle. For example, when the gate electrode G1 and the scanning line 12 intersect, the scanning line driving circuit 20 is a time of the second switching period T2 for switching the potential supplied to the scanning line 12 from the first potential V1 to the second potential V2. What is necessary is just to change the electric potential supplied to the scanning line 12 so that length may become long enough compared with the time length of 1st switching period T1 which switches from 2nd electric potential V2 to 1st electric potential V1. Thereby, it is possible to prevent the potential change of the control line intersecting with the gate electrode G1 from propagating to the gate electrode G1, and each pixel can accurately display the gradation defined by the image signal Vid. It becomes.

なお、走査線駆動回路20は、平面視してゲート電極G1と交差しない制御線の電位を、電位を補償期間の終了時から次の走査期間の開始時までの間に変化させる場合にも、当該電位変化の波形を緩やかなものにしてもよい。制御線がゲート電極G1と交差しない場合であっても、当該制御線とゲート電極G1との間に寄生容量が存在する場合がある。従って、当該制御線の電位が変化する際の波形を緩やかなものにすることにより、当該制御線の電位変化がゲート電極G1に伝播することを防止することが可能となるからである。   Note that the scanning line driving circuit 20 also changes the potential of the control line that does not intersect the gate electrode G1 in plan view between the end of the compensation period and the start of the next scanning period. The potential change waveform may be gentle. Even when the control line does not intersect the gate electrode G1, there may be a parasitic capacitance between the control line and the gate electrode G1. Therefore, by making the waveform when the potential of the control line changes gentle, it is possible to prevent the potential change of the control line from propagating to the gate electrode G1.

<変形例4>
上述した実施形態及び変形例では、各レベルシフト回路LSは、保持容量41、保持容量44、トランジスター45、トランジスター43、及び、トランスミッションゲート42を備えるものであったが、レベルシフト回路LSは、少なくとも、保持容量44、トランジスター43、及び、トランジスター45を備えるものであればよい。この場合、データ信号供給回路70及びデマルチプレクサDMは、書込期間において、保持容量44の他方の電極にデータ信号Vd(j)を供給すればよい。
レベルシフト回路LSが保持容量41を備えない場合であっても、保持容量44の他方の電極に供給されるデータ信号Vd(j)は、容量比k1により圧縮されたうえでゲートノードgに供給される。これにより、データ信号を細かい精度で刻まなくても、駆動トランジスターのゲートノードの電位を細かい精度で設定することが可能となるため、電流を発光素子に対して精度良く供給することができ、高品位の表示が可能となる。
<Modification 4>
In the embodiment and the modification described above, each level shift circuit LS includes the storage capacitor 41, the storage capacitor 44, the transistor 45, the transistor 43, and the transmission gate 42. However, the level shift circuit LS includes at least the level shift circuit LS. Any storage capacitor 44, transistor 43, and transistor 45 may be used. In this case, the data signal supply circuit 70 and the demultiplexer DM may supply the data signal Vd (j) to the other electrode of the storage capacitor 44 in the writing period.
Even when the level shift circuit LS does not include the storage capacitor 41, the data signal Vd (j) supplied to the other electrode of the storage capacitor 44 is compressed by the capacitance ratio k1 and then supplied to the gate node g. Is done. As a result, the potential of the gate node of the driving transistor can be set with fine precision without having to carve the data signal with fine precision, so that current can be supplied to the light emitting element with high precision. Quality display is possible.

<変形例5>
上述した実施形態及び変形例では、データ線駆動回路10は、レベルシフト回路LS、デマルチプレクサDM、及び、データ信号供給回路70を備えるものであったが、データ線駆動回路10は、少なくともデータ信号供給回路70を備えるものであればよい。この場合、データ線駆動回路10は、ゲートノードgに直接データ信号Vd(j)を供給する。
さらに、上述した実施形態及び変形例では、表示パネル2は、各列に保持容量50を備えたが、これを備えずに構成されても良い。
<Modification 5>
In the embodiment and the modification described above, the data line driving circuit 10 includes the level shift circuit LS, the demultiplexer DM, and the data signal supply circuit 70. However, the data line driving circuit 10 includes at least a data signal. Any device including the supply circuit 70 may be used. In this case, the data line driving circuit 10 supplies the data signal Vd (j) directly to the gate node g.
Furthermore, in the above-described embodiment and modification, the display panel 2 includes the storage capacitors 50 in each column, but may be configured without this.

<変形例6>
上述した実施形態及び変形例において、制御回路3と表示パネル2とは別体としたが、制御回路3と表示パネル2とを同一の基板上に形成してもよい。例えば、制御回路3を、表示部100、データ線駆動回路10、走査線駆動回路20等とともに、シリコン基板に集積化しても良い。
<Modification 6>
In the embodiment and the modification described above, the control circuit 3 and the display panel 2 are separated from each other. However, the control circuit 3 and the display panel 2 may be formed on the same substrate. For example, the control circuit 3 may be integrated on the silicon substrate together with the display unit 100, the data line driving circuit 10, the scanning line driving circuit 20, and the like.

<変形例7>
上述した実施形態及び変形例では、電気光学装置1をシリコン基板に集積した構成としたが、他の半導体基板に集積した構成しても良い。例えば、SOI基板であってもよい。また、ポリシリコンプロセスを適用してガラス基板等に形成しても良い。いずれにしても、本発明は、画素回路110が微細化されて、トランジスター121において、ゲート電圧Vgsの変化に対しドレイン電流が指数関数的に大きく変化する構成に有効である。
また、画素回路の微細化を必要としない場合に、本発明を適用してもよい。
<Modification 7>
In the embodiment and the modification described above, the electro-optical device 1 is integrated on the silicon substrate. However, the electro-optical device 1 may be integrated on another semiconductor substrate. For example, an SOI substrate may be used. Further, it may be formed on a glass substrate or the like by applying a polysilicon process. In any case, the present invention is effective in a configuration in which the pixel circuit 110 is miniaturized and the drain current in the transistor 121 greatly changes exponentially with respect to the change in the gate voltage Vgs.
Further, the present invention may be applied when the pixel circuit does not need to be miniaturized.

<変形例8>
上述した実施形態及び変形例では、データ線14を3列毎にグループ化するとともに、各グループにおいてデータ線14を順番に選択して、データ信号を供給する構成としたが、グループを構成するデータ線数は、「2」以上「3n」以下の所定数であればよい。例えば、グループを構成するデータ線数は、「2」であっても良いし、「4」以上であっても良い。
また、グループ化せずに、すなわちデマルチプレクサDMを用いないで各列のデータ線14にデータ信号を一斉に線順次で供給する構成でも良い。
<Modification 8>
In the embodiment and the modification described above, the data lines 14 are grouped every three columns, and the data lines 14 are sequentially selected in each group to supply the data signal. The number of lines may be a predetermined number of “2” or more and “3n” or less. For example, the number of data lines constituting the group may be “2”, or may be “4” or more.
Further, a configuration may be employed in which data signals are supplied to the data lines 14 of each column all at once without grouping, that is, without using the demultiplexer DM.

<変形例9>
上述した実施形態及び変形例では、画素回路110におけるトランジスター121〜125をPチャネル型で統一したが、Nチャネル型で統一しても良い。また、Pチャネル型及びNチャネル型を適宜組み合わせても良い。
例えば、トランジスター121〜125をNチャネル型で統一する場合、上述した実施形態及び変形例における、データ信号Vd(j)とは、正負が逆転した電位を、各画素回路110に供給すればよい。また、この場合、トランジスター121〜125のソース及びドレインは、上述した実施形態及び変形例とは逆転した関係となる。
また、上述した実施形態及び変形例では、トランジスター45をPチャネル型とし、トランジスター43をNチャネル型としたが、Pチャネル型またはNチャネル型で統一してもよい。トランジスター45をNチャネル型とし、トランジスター43をPチャネル型としてもよい。
また、上述した実施形態及び変形例では、各トランジスターはMOS型のトランジスターとしたが、薄膜トランジスターであってもよい。
<Modification 9>
In the embodiment and the modification described above, the transistors 121 to 125 in the pixel circuit 110 are unified with the P-channel type, but may be unified with the N-channel type. Further, a P-channel type and an N-channel type may be appropriately combined.
For example, when the transistors 121 to 125 are unified with the N-channel type, the data signal Vd (j) in the above-described embodiments and modifications may be supplied to each pixel circuit 110 with a positive / negative reversed potential. In this case, the sources and drains of the transistors 121 to 125 are in a relation reversed from that of the above-described embodiment and modification.
In the embodiment and the modification described above, the transistor 45 is a P-channel type and the transistor 43 is an N-channel type. However, the transistor 45 may be unified as a P-channel type or an N-channel type. The transistor 45 may be an N-channel type and the transistor 43 may be a P-channel type.
In the embodiment and the modification described above, each transistor is a MOS transistor, but may be a thin film transistor.

<変形例10>
上述した実施形態及び変形例では、電気光学素子として発光素子であるOLEDを例示したが、例えば無機発光ダイオードやLED(Light Emitting Diode)など、電流に応じた輝度で発光するものであれば良い。
<Modification 10>
In the above-described embodiment and modification, an OLED that is a light-emitting element is illustrated as an electro-optical element.

<応用例>
次に、実施形態等や応用例に係る電気光学装置1を適用した電子機器について説明する。電気光学装置1は、画素が小サイズで高精細な表示な用途に向いている。そこで、電子機器として、ヘッドマウント・ディスプレイを例に挙げて説明する。
<Application example>
Next, an electronic apparatus to which the electro-optical device 1 according to the embodiment and the application example is applied will be described. The electro-optical device 1 is suitable for high-definition display with small pixels. Therefore, a head mounted display will be described as an example of an electronic device.

図16は、ヘッドマウント・ディスプレイの外観を示す図であり、図17は、その光学的な構成を示す図である。
まず、図16に示されるように、ヘッドマウント・ディスプレイ300は、外観的には、一般的な眼鏡と同様にテンプル310や、ブリッジ320、レンズ301L、301Rを有する。また、ヘッドマウント・ディスプレイ300は、図17に示されるように、ブリッジ320近傍であってレンズ301L、301Rの奥側(図において下側)には、左眼用の電気光学装置1Lと右眼用の電気光学装置1Rとが設けられる。
電気光学装置1Lの画像表示面は、図17において左側となるように配置している。これによって電気光学装置1Lによる表示画像は、光学レンズ302Lを介して図において9時の方向に出射する。ハーフミラー303Lは、電気光学装置1Lによる表示画像を6時の方向に反射させる一方で、12時の方向から入射した光を透過させる。
電気光学装置1Rの画像表示面は、電気光学装置1Lとは反対の右側となるように配置している。これによって電気光学装置1Rによる表示画像は、光学レンズ302Rを介して図において3時の方向に出射する。ハーフミラー303Rは、電気光学装置1Rによる表示画像を6時方向に反射させる一方で、12時の方向から入射した光を透過させる。
FIG. 16 is a diagram showing the external appearance of the head-mounted display, and FIG. 17 is a diagram showing its optical configuration.
First, as shown in FIG. 16, the head mounted display 300 has a temple 310, a bridge 320, and lenses 301L and 301R in the same manner as general glasses. As shown in FIG. 17, the head mounted display 300 is in the vicinity of the bridge 320 and on the back side (lower side in the drawing) of the lenses 301L and 301R, the electrooptic device 1L for the left eye and the right eye. Electro-optical device 1R.
The image display surface of the electro-optical device 1L is disposed on the left side in FIG. Accordingly, the display image by the electro-optical device 1L is emitted in the direction of 9 o'clock in the drawing through the optical lens 302L. The half mirror 303L reflects the display image by the electro-optical device 1L in the 6 o'clock direction, and transmits light incident from the 12 o'clock direction.
The image display surface of the electro-optical device 1R is disposed on the right side opposite to the electro-optical device 1L. As a result, the display image by the electro-optical device 1R is emitted in the direction of 3 o'clock in the drawing through the optical lens 302R. The half mirror 303R reflects the display image by the electro-optical device 1R in the 6 o'clock direction, and transmits light incident from the 12 o'clock direction.

この構成において、ヘッドマウント・ディスプレイ300の装着者は、電気光学装置1L、1Rによる表示画像を、外の様子と重ね合わせたシースルー状態で観察することができる。
また、このヘッドマウント・ディスプレイ300において、視差を伴う両眼画像のうち、左眼用画像を電気光学装置1Lに表示させ、右眼用画像を電気光学装置1Rに表示させると、装着者に対し、表示された画像があたかも奥行きや立体感を持つかのように知覚させることができる(3D表示)。
In this configuration, the wearer of the head mounted display 300 can observe the display image by the electro-optical devices 1L and 1R in a see-through state superimposed on the outside.
In the head-mounted display 300, when a left-eye image is displayed on the electro-optical device 1L and a right-eye image is displayed on the electro-optical device 1R among binocular images with parallax, The displayed image can be perceived as if it had a depth or a stereoscopic effect (3D display).

なお、電気光学装置1については、ヘッドマウント・ディスプレイ300のほかにも、ビデオカメラやレンズ交換式のデジタルカメラなどにおける電子式ビューファインダーにも適用可能である。   In addition to the head mounted display 300, the electro-optical device 1 can be applied to an electronic viewfinder in a video camera, an interchangeable lens digital camera, or the like.

1…電気光学装置、2…表示パネル、3…制御回路、10…データ線駆動回路、12…走査線、14…データ線、16…給電線、20…走査線駆動回路、41、44、50…保持容量、100…表示部、110…画素回路、121〜125…トランジスター、130…OLED、132…保持容量、143、144、145…制御線、150…シリコン基板、LS…レベルシフト回路、DM…デマルチプレクサ。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Electro-optical device, 2 ... Display panel, 3 ... Control circuit, 10 ... Data line drive circuit, 12 ... Scan line, 14 ... Data line, 16 ... Feed line, 20 ... Scan line drive circuit, 41, 44, 50 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Holding capacity, 100 ... Display part, 110 ... Pixel circuit, 121-125 ... Transistor, 130 ... OLED, 132 ... Holding capacity, 143, 144, 145 ... Control line, 150 ... Silicon substrate, LS ... Level shift circuit, DM ... demultiplexer.

Claims (9)

発光素子と、
給電線と、
前記発光素子と前記給電線とを電気的に接続する駆動トランジスターと、
第1ゲート電極を備え、前記発光素子と前記駆動トランジスターとを電気的に接続する第1トランジスターと、
平面視で、前記第1ゲート電極と交差して配置された第1配線と、
前記第1配線と前記第1ゲート電極との間に配置された絶縁層と、
前記絶縁層に形成され、前記第1ゲート電極と前記第1配線とを電気的に接続する第1コンタクトホールと、
を備え
前記第1コンタクトホールは、平面視で、前記第1ゲート電極と重なる
ことを特徴とする電気光学装置。
A light emitting element;
A feeder line;
A driving transistor for electrically connecting the light emitting element and the feeder line;
A first transistor comprising a first gate electrode and electrically connecting the light emitting element and the driving transistor;
A first wiring arranged to intersect the first gate electrode in plan view;
An insulating layer disposed between the first wiring and the first gate electrode;
A first contact hole formed in the insulating layer and electrically connecting the first gate electrode and the first wiring;
Equipped with a,
The electro-optical device, wherein the first contact hole overlaps the first gate electrode in plan view .
発光素子と、
給電線と、
前記発光素子と前記給電線とを電気的に接続する駆動トランジスターと、
第1ゲート電極を備え、前記発光素子と前記駆動トランジスターとを電気的に接続する第1トランジスターと、
平面視で、前記第1ゲート電極と交差して配置された第1配線と、
前記第1配線と前記第1ゲート電極との間に配置された絶縁層と、
前記絶縁層に形成され、前記第1ゲート電極と前記第1配線とを電気的に接続する第1コンタクトホールと、
第2ゲート電極を備えた第2トランジスターと、
を備え、
前記第1配線は、平面視で、前記第2ゲート電極と交差している
ことを特徴とする電気光学装置。
A light emitting element;
A feeder line;
A driving transistor for electrically connecting the light emitting element and the feeder line;
A first transistor comprising a first gate electrode and electrically connecting the light emitting element and the driving transistor;
A first wiring arranged to intersect the first gate electrode in plan view;
An insulating layer disposed between the first wiring and the first gate electrode;
A first contact hole formed in the insulating layer and electrically connecting the first gate electrode and the first wiring;
A second transistor comprising a second gate electrode;
With
The first wiring, in a plan view, an electro-optical device, characterized in that intersects with the second gate electrode.
前記第1コンタクトホールは、平面視で、前記第1ゲート電極と重なる
ことを特徴とする請求項2に記載の電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 2 , wherein the first contact hole overlaps the first gate electrode in a plan view.
前記第1トランジスターは、第1方向に沿って配置されたドレイン及びソースを備え、
前記第1配線は、前記第1方向とは異なる第2方向に沿って延在している
ことを特徴とする請求項1乃至3に記載の電気光学装置。
The first transistor includes a drain and a source disposed along a first direction,
The electro-optical device according to claim 1, wherein the first wiring extends along a second direction different from the first direction.
第3ゲート電極を備え、前記駆動トランジスターの第1端子と前記駆動トランジスターのゲート電極とを電気的に接続する第3トランジスターと、
平面視で、前記第3ゲート電極と交差して配置された第2配線と、
前記絶縁層に形成され、前記第3ゲート電極と前記第2配線とを電気的に接続する第2コンタクトホールと、
を備える
ことを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載の電気光学装置。
A third transistor comprising a third gate electrode and electrically connecting the first terminal of the driving transistor and the gate electrode of the driving transistor;
A second wiring arranged to intersect the third gate electrode in plan view;
A second contact hole formed in the insulating layer and electrically connecting the third gate electrode and the second wiring;
The electro-optical device according to claim 1, wherein the electro-optical device is provided.
第1ゲート電極を備えた第1トランジスターと、発光素子と、前記発光素子に電流を供給する駆動トランジスターと、を有する画素回路と、
平面視で、前記第1ゲート電極と交差して配置された配線と、
前記配線と前記第1ゲート電極との間に配置された絶縁層と、
前記絶縁層に形成され、前記第1ゲート電極と前記配線とを電気的に接続するコンタクトホールと、
を備え
前記コンタクトホールは、平面視で、前記第1ゲート電極と重なる、
ことを特徴とする電気光学装置。
A pixel circuit having a first transistor including a first gate electrode, a light emitting element, and a driving transistor for supplying a current to the light emitting element;
A wiring arranged crossing the first gate electrode in plan view;
An insulating layer disposed between the wiring and the first gate electrode;
A contact hole formed in the insulating layer and electrically connecting the first gate electrode and the wiring;
Equipped with a,
The contact hole overlaps the first gate electrode in plan view;
An electro-optical device.
前記第1トランジスターは、第1方向に沿って配置されたドレイン及びソースを備え、
前記配線は、前記第1方向とは異なる第2方向に沿って延在している、
ことを特徴とする請求項6に記載の電気光学装置。
The first transistor includes a drain and a source disposed along a first direction,
The wiring extends along a second direction different from the first direction;
The electro-optical device according to claim 6.
前記画素回路は、第2ゲート電極を備えた第2トランジスターを有し、
前記配線は、平面視で、前記第2ゲート電極と交差している
ことを特徴とする請求項6または7に記載の電気光学装置。
The pixel circuit includes a second transistor having a second gate electrode,
The electro-optical device according to claim 6 , wherein the wiring intersects the second gate electrode in plan view.
請求項1乃至8の何れか一項に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。 An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 1 .
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