JP6626802B2 - Electro-optical devices and electronic equipment - Google Patents

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Description

本発明は、例えば画素回路が微細化したときに有効な電気光学装置および電子機器に関する。 The present invention relates to an electro-optical device and an electronic apparatus that are effective when, for example, a pixel circuit is miniaturized.

近年、有機発光ダイオード(Organic Light Emitting Diode、以下「OLED」という)素子などの発光素子を用いた電気光学装置が各種提案されている。この電気光学装置では、走査線とデータ線との交差に対応して、上記発光素子やトランジスターなどを含む画素回路が、表示すべき画像の画素に対応して設けられる構成が一般的である。このような構成において、画素の階調レベルに応じた電位のデータ信号が当該トランジスターのゲートに印加されると、当該トランジスターは、ゲート・ソース間の電圧に応じた電流を発光素子に供給する。これにより、当該発光素子は、階調レベルに応じた輝度で発光する。このとき、トランジスターの閾値電圧などの特性が画素回路毎にばらついていると、表示画面の一様性を損なうような表示ムラが発生する。このため、トランジスターの特性を補償する技術が提案されている(例えば特許文献1参照)。
また、電気光学装置に対して、表示サイズの小型化や表示の高精細化が要求されることが多い。表示サイズの小型化と表示の高精細化とを両立するためには、画素回路を微細化する必要があるので、電気光学装置を例えばシリコン集積回路に設ける技術も提案されている(例えば特許文献2参照)。
In recent years, various electro-optical devices using light emitting elements such as organic light emitting diode (Organic Light Emitting Diode, hereinafter referred to as “OLED”) elements have been proposed. In this electro-optical device, a pixel circuit including the light emitting element and the transistor is generally provided corresponding to a pixel of an image to be displayed, corresponding to the intersection of the scanning line and the data line. In such a structure, when a data signal having a potential corresponding to the gray level of a pixel is applied to the gate of the transistor, the transistor supplies a current corresponding to the voltage between the gate and the source to the light-emitting element. Thereby, the light emitting element emits light with luminance according to the gradation level. At this time, if the characteristics such as the threshold voltage of the transistor vary from pixel circuit to pixel circuit, display unevenness that impairs the uniformity of the display screen occurs. For this reason, a technique for compensating the characteristics of the transistor has been proposed (for example, see Patent Document 1).
In addition, the electro-optical device is often required to have a smaller display size and a higher display definition. In order to achieve both a reduction in display size and a high definition display, it is necessary to miniaturize a pixel circuit. Therefore, a technology in which an electro-optical device is provided in, for example, a silicon integrated circuit has been proposed (for example, Patent Document 1). 2).

特開2007−316462号公報JP 2007-316462 A 特開2009−288435号公報JP 2009-288435 A

ところで、画素回路を微細化したとき、発光素子への供給電流を微小領域で制御する必要がある。発光素子に供給される電流は、トランジスターのゲート・ソース間の電圧によって制御されるが、微小領域では、ゲート・ソース間の電圧のわずかな変化に対して、発光素子に供給される電流が大きく変化してしまう。
一方、データ信号を出力する回路は、データ線を短時間で充電するために、その駆動能力が高められている。このように高い駆動能力を有する回路において、非常に細かい精度でデータ信号を出力させることは困難である。
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたもので、その目的の一つは、細かい精度のデータ信号を必要としない一方で、トランジスターの特性を補償しつつ、発光素子に供給する電流を精度良く供給することが可能な電気光学装置および電子機器を提供することにある。
By the way, when the pixel circuit is miniaturized, it is necessary to control the current supplied to the light emitting element in a minute area. The current supplied to the light-emitting element is controlled by the voltage between the gate and the source of the transistor, but in a small area, the current supplied to the light-emitting element increases for a small change in the voltage between the gate and the source. Will change.
On the other hand, a circuit for outputting a data signal has a higher driving capability in order to charge a data line in a short time. It is difficult for a circuit having such a high driving capability to output a data signal with extremely fine precision.
The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and one of the objects of the present invention is to eliminate the need for a data signal with high precision and to reduce the current supplied to a light emitting element while compensating for the characteristics of a transistor. It is an object of the present invention to provide an electro-optical device and an electronic device that can supply well.

上記目的を達成するために本発明に係る電気光学装置にあっては、複数の走査線と、複数のデータ線と、一端が前記データ線に接続された第1保持容量と、前記複数のデータ線の各々の電位をそれぞれ保持する第2保持容量と、複数の走査線と複数のデータ線との交差に対応して設けられた画素回路と、前記画素回路を駆動する駆動回路と、を有し、前記画素回路は、ゲート・ソース間の電圧に応じた電流を供給する第1トランジスターと、前記第1トランジスターにより供給された電流に応じた輝度で発光する発光素子と、前記データ線と前記第1トランジスターのゲートとの間でオンまたはオフする第2トランジスターと、前記第1トランジスターにおけるゲートとドレインとの間でオンまたはオフする第3トランジスターと、を含み、前記第1トランジスターと前記発光素子とは、高位側の電源と低位側の電源との間で直列に接続され、前記駆動回路は、第1期間に、前記データ線と初期電位を給電する第1給電線とを電気的に接続し、前記第1保持容量の他端と所定電位を給電する第2給電線とを電気的に接続し、前記第1期間に続く第2期間に、前記データ線と前記第1給電線とを電気的に非接続とし、前記第1保持容量の他端と第2給電線との接続を維持した状態で前記第2トランジスターおよび前記第3トランジスターをオンさせ、前記第2期間に続く第3期間に、前記第1保持容量の他端と第2給電線とを電気的に非接続として、前記輝度に応じた電位の信号を前記第1保持容量の他端に供給し、前記第3期間の終了時に、前記第2トランジスターをオフさせることを特徴とする。
本発明によれば、第1期間に、データ線、第1保持容量および第2保持容量が初期化される。第2期間に、第2トランジスターおよび第3トランジスターがそれぞれオンしたとき、データ線および第1トランジスターのゲートは、当該第1トランジスターの閾値電圧に対応した電位となる。第3期間において、第2トランジスターをオンさせた状態で、輝度に応じた電位の信号が第1保持容量の他端に供給されたとき、データ線および第1トランジスターのゲートは、閾値電圧に応じた電位から、当該第1保持容量の他端における電位変動を容量比で分圧した分だけシフトする。このため、第1トランジスターのゲートにおける電位範囲は、第1保持容量の他端における電位範囲に対し狭められる。したがって、本発明によれば、細かい精度のデータ信号を必要としない一方で、トランジスターの特性を補償しつつ、発光素子に供給する電流を精度良く供給することができる。
In order to achieve the above object, in an electro-optical device according to the present invention, a plurality of scanning lines, a plurality of data lines, a first storage capacitor having one end connected to the data line, and a plurality of data lines. A second storage capacitor for holding the potential of each of the lines, a pixel circuit provided corresponding to the intersection of the plurality of scanning lines and the plurality of data lines, and a driving circuit for driving the pixel circuit. The pixel circuit includes a first transistor that supplies a current corresponding to a voltage between a gate and a source, a light emitting element that emits light at a luminance corresponding to a current supplied by the first transistor, the data line, and the data line. A second transistor that is turned on or off between a gate of the first transistor and a third transistor that is turned on or off between a gate and a drain of the first transistor; The first transistor and the light emitting element are connected in series between a power supply on a high side and a power supply on a low side, and the driving circuit supplies a first potential for supplying the data line and an initial potential during a first period. A power supply line; electrically connecting the other end of the first storage capacitor to a second power supply line for supplying a predetermined potential; and connecting the data line to the data line during a second period following the first period. And the first power supply line are electrically disconnected from each other, and the second transistor and the third transistor are turned on while maintaining the connection between the other end of the first storage capacitor and the second power supply line, In a third period following the second period, the other end of the first storage capacitor is electrically disconnected from the second power supply line, and a signal of a potential corresponding to the luminance is applied to the other end of the first storage capacitor. And turning off the second transistor at the end of the third period. The features.
According to the present invention, in the first period, the data line, the first storage capacitor, and the second storage capacitor are initialized. When the second transistor and the third transistor are turned on in the second period, the data line and the gate of the first transistor have a potential corresponding to the threshold voltage of the first transistor. In the third period, when a signal having a potential corresponding to the luminance is supplied to the other end of the first storage capacitor in a state where the second transistor is turned on, the data line and the gate of the first transistor are driven in accordance with the threshold voltage. From the applied potential, the potential variation at the other end of the first storage capacitor is shifted by the voltage divided by the capacitance ratio. Therefore, the potential range at the gate of the first transistor is narrower than the potential range at the other end of the first storage capacitor. Therefore, according to the present invention, a current to be supplied to the light emitting element can be supplied with high accuracy while compensating for the characteristics of the transistor, while not requiring a data signal with high precision.

本発明において、前記データ線に対応して第3保持容量を有し、前記駆動回路は、前記第3期間よりも前に供給された、階調レベルに応じた電位のデータ信号を一旦保持し、前記第3期間に、第3保持容量に保持された電位を、前記輝度に応じた電位の信号として前記第1保持容量の他端に供給する構成が好ましい。
この構成としては、前記第3保持容量に対応して第1スイッチおよび第2スイッチを有し、前記第1スイッチの出力端は前記第1保持容量の他端に接続され、前記第1スイッチの入力端は前記第3保持容量の一端と前記第2スイッチの出力端に接続され、前記第2スイッチの入力端には前記第3期間よりも前に前記データ信号が供給され、前記駆動回路は、前記第3期間よりも前に、前記第1スイッチをオフとした状態で、前記第2スイッチをオンさせ、前記第3期間において前記第2スイッチをオフとした状態で、前記第1スイッチをオンさせる態様が良い。
この態様において、少なくとも前記第1期間または前記第2期間において、前記第2スイッチの入力端に前記データ信号が供給されると、データ信号の供給と、第1トランジスターの閾値電圧に応じた電位をゲートにセットする動作とを時間的に並行して実行することができる。
また、このような態様において、前記データ線は複数本毎にグループ化され、一のグループに属する複数本のデータ線に対応した前記第2スイッチの入力端は共通接続され、前記駆動回路は、前記一のグループに属する複数の第2スイッチを、前記データ信号が供給に合わせて所定の順番でオンさせても良い。
In the present invention, the driving circuit has a third storage capacitor corresponding to the data line, and the drive circuit temporarily holds a data signal of a potential according to a gradation level, which is supplied before the third period. Preferably, during the third period, the potential held in the third storage capacitor is supplied to the other end of the first storage capacitor as a signal of a potential corresponding to the luminance.
In this configuration, a first switch and a second switch are provided corresponding to the third storage capacitor, and an output terminal of the first switch is connected to the other end of the first storage capacitor. An input terminal is connected to one end of the third storage capacitor and an output terminal of the second switch, the input terminal of the second switch is supplied with the data signal before the third period, and the driving circuit Prior to the third period, the second switch is turned on with the first switch turned off, and the first switch is turned on with the second switch turned off in the third period. It is preferable to turn it on.
In this aspect, when the data signal is supplied to the input terminal of the second switch at least in the first period or the second period, the supply of the data signal and the potential according to the threshold voltage of the first transistor are performed. The operation of setting to the gate can be executed in parallel with time.
Further, in such an embodiment, the data lines are grouped into a plurality of data lines, input terminals of the second switches corresponding to the plurality of data lines belonging to one group are commonly connected, and the driving circuit includes: The plurality of second switches belonging to the one group may be turned on in a predetermined order according to the supply of the data signal.

本発明において、前記画素回路は、前記発光素子における2端子のうち、前記第1トランジスター側の端子と、所定のリセット電位を給電する第3給電線との間でオンまたはオフする第4トランジスターを有する構成としても良い。この構成によれば、発光素子に寄生する容量の保持電圧の影響を抑えることができる。
この構成において、前記第3給電線は、前記複数のデータ線毎に、前記データ線に沿って複数設けられている態様としても良い。
この態様において、前記第2保持容量の一端は前記データ線に接続され、前記第2保持容量の他端は前記第3給電線に接続された構成にすると、例えばデータ線と第3給電線とで絶縁層を挟持することによって第2保持容量を構成すると、当該第2保持容量として比較的大きな容量を小スペースで形成することができる。
前記駆動回路は、前記第3期間に、前記第3トランジスターをオフさせる構成としても良い。
また、前記画素回路は、前記第1トランジスターによって前記発光素子に供給される電流経路でオンまたはオフする第5トランジスターを有し、前記駆動回路は、前記第4トランジスターをオフさせて、前記第5トランジスターをオンさせても良い。これにより、発光素子に寄生する容量をリセットしている期間と、発光素子に電流を供給して発光させる期間とを排他的とすることができる。
前記画素回路は、前記第1トランジスターのゲート・ソース間の電圧を保持する第4保持容量を含んでも良い。この第4保持容量については、当該第1トランジスターの寄生容量でも良いし、別途設けた容量素子でも良い。
なお、本発明は、電気光学装置のほか、電気光学装置の駆動方法や、当該電気光学装置を有する電子機器として概念することも可能である。電子機器としては、典型的にはヘッドマウント・ディスプレイ(HMD)や電子ビューファイダーのなどの表示装置が挙げられる。
In the present invention, the pixel circuit includes a fourth transistor that turns on or off between a terminal on the first transistor side and a third power supply line that supplies a predetermined reset potential among two terminals of the light emitting element. It is good also as composition which has. According to this configuration, it is possible to suppress the influence of the holding voltage of the parasitic capacitance of the light emitting element.
In this configuration, the plurality of third power supply lines may be provided along the data lines for each of the plurality of data lines.
In this aspect, when one end of the second storage capacitor is connected to the data line and the other end of the second storage capacitor is connected to the third power supply line, for example, the data line and the third power supply line are connected to each other. When the second storage capacitor is configured by sandwiching the insulating layer with the above, a relatively large capacitor can be formed in a small space as the second storage capacitor.
The driving circuit may be configured to turn off the third transistor during the third period.
Further, the pixel circuit has a fifth transistor that is turned on or off in a current path supplied to the light emitting element by the first transistor, and the driving circuit turns off the fourth transistor so that the fifth transistor is turned off. The transistor may be turned on. Thus, the period during which the parasitic capacitance of the light emitting element is reset and the period during which current is supplied to the light emitting element to emit light can be made exclusive.
The pixel circuit may include a fourth storage capacitor that holds a voltage between a gate and a source of the first transistor. The fourth storage capacitor may be a parasitic capacitance of the first transistor or a separately provided capacitor.
Note that the present invention can be conceptualized as an electro-optical device, a driving method of the electro-optical device, and an electronic apparatus including the electro-optical device. A display device such as a head-mounted display (HMD) or an electronic viewfinder is typically used as the electronic device.

本発明の第1実施形態に係る電気光学装置の構成を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view illustrating a configuration of an electro-optical device according to a first embodiment of the invention. 同電気光学装置の構成を示す図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration of the electro-optical device. 同電気光学装置における画素回路を示す図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a pixel circuit in the electro-optical device. 同電気光学装置の動作を示すタイミングチャートである。4 is a timing chart illustrating an operation of the electro-optical device. 同電気光学装置の動作説明図である。FIG. 3 is an operation explanatory diagram of the electro-optical device. 同電気光学装置の動作説明図である。FIG. 3 is an operation explanatory diagram of the electro-optical device. 同電気光学装置の動作説明図である。FIG. 3 is an operation explanatory diagram of the electro-optical device. 同電気光学装置の動作説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of the operation of the electro-optical device. 同電気光学装置におけるデータ信号の振幅圧縮を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating amplitude compression of a data signal in the electro-optical device. 同電気光学装置におけるトランジスターの特性を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating characteristics of a transistor in the electro-optical device. 第2実施形態に係る電気光学装置の構成を示す図である。FIG. 6 is a diagram illustrating a configuration of an electro-optical device according to a second embodiment. 同電気光学装置の動作を示すタイミングチャートである。4 is a timing chart illustrating an operation of the electro-optical device. 同電気光学装置の動作説明図である。FIG. 3 is an operation explanatory diagram of the electro-optical device. 同電気光学装置の動作説明図である。FIG. 3 is an operation explanatory diagram of the electro-optical device. 同電気光学装置の動作説明図である。FIG. 3 is an operation explanatory diagram of the electro-optical device. 同電気光学装置の動作説明図である。FIG. 3 is an operation explanatory diagram of the electro-optical device. 実施形態等に係る電気光学装置を用いたHMDを示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view illustrating an HMD using the electro-optical device according to the embodiment and the like. HMDの光学構成を示す図である。FIG. 2 is a diagram illustrating an optical configuration of an HMD.

以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。   Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings.

<第1実施形態>
図1は、本発明の実施形態に係る電気光学装置10の構成を示す斜視図である。
電気光学装置10は、例えばヘッドマウント・ディスプレイにおいて画像を表示するマイクロ・ディスプレイである。電気光学装置10の詳細については後述するが、複数の画素回路や当該画素回路を駆動する駆動回路などが例えばシリコン基板に形成された有機EL装置であり、画素回路には、発光素子の一例であるOLEDが用いられている。
電気光学装置10は、表示部で開口する枠状のケース72に収納されるとともに、FPC(Flexible Printed Circuits)基板74の一端が接続されている。FPC基板74には、半導体チップの制御回路5が、COF(Chip On Film)技術によって実装されるとともに、複数の端子76が設けられて、図示省略された上位回路に接続される。当該上位回路から複数の端子76を介して画像データが同期信号に同期して供給される。同期信号には、垂直同期信号や、水平同期信号、ドットクロック信号が含まれる。また、画像データは、表示すべき画像の画素の階調レベルを例えば8ビットで規定する。
制御回路5は、電気光学装置10の電源回路とデータ信号出力回路との機能を兼用するものである。すなわち、制御回路5は、同期信号にしたがって生成した各種の制御信号や各種電位を電気光学装置10に供給するほか、デジタルの画像データをアナログのデータ信号に変換して、電気光学装置10に供給する。
<First embodiment>
FIG. 1 is a perspective view illustrating a configuration of an electro-optical device 10 according to an embodiment of the present invention.
The electro-optical device 10 is, for example, a micro display that displays an image on a head-mounted display. Although details of the electro-optical device 10 will be described later, the electro-optical device 10 is an organic EL device in which a plurality of pixel circuits and a driving circuit for driving the pixel circuits are formed on a silicon substrate, for example. Certain OLEDs are used.
The electro-optical device 10 is housed in a frame-shaped case 72 opened in the display unit, and is connected to one end of an FPC (Flexible Printed Circuits) substrate 74. The control circuit 5 of the semiconductor chip is mounted on the FPC board 74 by COF (Chip On Film) technology, and a plurality of terminals 76 are provided to be connected to an upper circuit (not shown). Image data is supplied from the upper circuit via a plurality of terminals 76 in synchronization with a synchronization signal. The synchronization signal includes a vertical synchronization signal, a horizontal synchronization signal, and a dot clock signal. In the image data, the gradation level of the pixel of the image to be displayed is specified by, for example, 8 bits.
The control circuit 5 has a function of both a power supply circuit of the electro-optical device 10 and a data signal output circuit. That is, the control circuit 5 supplies various control signals and various potentials generated according to the synchronization signal to the electro-optical device 10, converts digital image data into analog data signals, and supplies the analog image signals to the electro-optical device 10. I do.

図2は、第1実施形態に係る電気光学装置10の構成を示す図である。この図に示されるように、電気光学装置10は、走査線駆動回路20と、デマルチプレクサ30と、レベルシフト回路40と、表示部100とに大別される。
このうち、表示部100には、表示すべき画像の画素に対応した画素回路110がマトリクス状に配列されている。詳細には、表示部100において、m行の走査線12が図において横方向に延在して設けられ、また、3列毎にグループ化された(3n)列のデータ線14が図において縦方向に延在し、かつ、各走査線12と互いに電気的な絶縁を保って設けられている。そして、m行の走査線12と(3n)列のデータ線14との交差部に対応して画素回路110が設けられている。このため、本実施形態において画素回路110は、縦m行×横(3n)列でマトリクス状に配列されている。
FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration of the electro-optical device 10 according to the first embodiment. As shown in this figure, the electro-optical device 10 is roughly divided into a scanning line driving circuit 20, a demultiplexer 30, a level shift circuit 40, and a display unit 100.
In the display unit 100, pixel circuits 110 corresponding to pixels of an image to be displayed are arranged in a matrix. More specifically, in the display unit 100, m scanning lines 12 are provided extending in the horizontal direction in the figure, and (3n) columns of data lines 14 grouped every three columns are vertically arranged in the figure. The scanning lines 12 are provided in such a manner that they are electrically insulated from each other. A pixel circuit 110 is provided at an intersection of the m-th scanning line 12 and the (3n) -th column data line 14. For this reason, in the present embodiment, the pixel circuits 110 are arranged in a matrix of m rows × 3n columns.

ここで、m、nは、いずれも自然数である。走査線12および画素回路110のマトリクスのうち、行(ロウ)を区別するために、図において上から順に1、2、3、…、(m−1)、m行と呼ぶ場合がある。同様にデータ線14および画素回路110のマトリクスの列(カラム)を区別するために、図において左から順に1、2、3、…、(3n−1)、(3n)列と呼ぶ場合がある。また、データ線14のグループを一般化して説明するために、1以上n以下の整数jを用いると、左から数えてj番目のグループには、(3j−2)列目、(3j−1)列目および(3j)列目のデータ線14が属している、ということになる。
なお、同一行の走査線12と同一グループに属する3列のデータ線14との交差に対応した3つの画素回路110は、それぞれR(赤)、G(緑)、B(青)の画素に対応して、これらの3画素が表示すべきカラー画像の1ドットを表現する。すなわち、本実施形態では、RGBに対応したOLEDの発光によって1ドットのカラーを加法混色で表現する構成となっている。
Here, m and n are both natural numbers. In the matrix of the scanning lines 12 and the pixel circuits 110, in order to distinguish rows, the rows may be referred to as 1, 2, 3,... Similarly, in order to distinguish the columns (columns) of the matrix of the data lines 14 and the pixel circuits 110, the columns may be referred to as 1, 2, 3,..., (3n-1), and (3n) columns from the left in the drawing. . When an integer j of 1 or more and n or less is used to generalize and describe the group of the data lines 14, the j-th group counted from the left includes the (3j-2) th column and the (3j-1) ) Means that the data lines 14 of the (th) and (3j) th columns belong.
Note that the three pixel circuits 110 corresponding to the intersections of the scanning lines 12 in the same row and the data lines 14 in three columns belonging to the same group are used for R (red), G (green), and B (blue) pixels, respectively. Correspondingly, these three pixels represent one dot of a color image to be displayed. That is, in the present embodiment, the configuration is such that the color of one dot is expressed by additive color mixture by the light emission of the OLED corresponding to RGB.

本実施形態では、列毎に給電線16(第3給電線)がデータ線14に沿ってそれぞれ設けられている。各給電線16にはリセット電位としての電位Vorstが共通に給電されている。また、列毎に保持容量50が設けられている。詳細には、保持容量の一端はデータ線14に接続され、他端が給電線16に接続されている。このため、保持容量50は、データ線14の電位を保持する第2保持容量として機能する。
なお、保持容量50については、データ線14を構成する配線と、給電線16を構成する配線とで、絶縁体(誘電体)を挟持することによって形成される構成が好ましい。
また、保持容量50については、図2では表示部100の外側に設けられているが、これはあくまでも等価回路であり、表示部100の内側に、または、内側から外側にわたって設けられも良いのはもちろんである。また、図2では省略しているが、保持容量50の容量をCdtとする。
In the present embodiment, a power supply line 16 (third power supply line) is provided along the data line 14 for each column. A potential Vorst as a reset potential is commonly supplied to each power supply line 16. Further, a storage capacitor 50 is provided for each column. Specifically, one end of the storage capacitor is connected to the data line 14, and the other end is connected to the power supply line 16. Therefore, the storage capacitor 50 functions as a second storage capacitor that holds the potential of the data line 14.
Note that the storage capacitor 50 is preferably formed by sandwiching an insulator (dielectric) between the wiring forming the data line 14 and the wiring forming the power supply line 16.
Although the storage capacitor 50 is provided outside the display unit 100 in FIG. 2, this is merely an equivalent circuit, and may be provided inside the display unit 100 or from inside to outside. Of course. Although not shown in FIG. 2, the capacitance of the storage capacitor 50 is Cdt.

さて、電気光学装置10には、次のような制御信号が制御回路5によって供給される。詳細には、電気光学装置10には、走査線駆動回路20を制御するための制御信号Ctrと、デマルチプレクサ30での選択を制御するための制御信号Sel(1)、Sel(2)、Sel(3)と、これらの信号に対して論理反転の関係にある制御信号/Sel(1)、/Sel(2)、/Sel(3)と、レベルシフト回路40を制御するための負論理の制御信号/Giniと、正論理の制御信号Grefとが供給される。なお、制御信号Ctrには、実際にはパルス信号や、クロック信号、イネーブル信号など、複数の信号が含まれる。
また、電気光学装置10には、デマルチプレクサ30での選択タイミングに合わせてデータ信号Vd(1)、Vd(2)、…、Vd(n)が、1、2、…、n番目のグループに対応して制御回路5によって供給される。なお、データ信号Vd(1)〜Vd(n)が取り得る電位の最高値をVmaxとし、最低値をVminとする。
The following control signal is supplied to the electro-optical device 10 by the control circuit 5. Specifically, the electro-optical device 10 includes a control signal Ctr for controlling the scanning line driving circuit 20 and control signals Sel (1), Sel (2), and Sel for controlling selection in the demultiplexer 30. (3), control signals / Sel (1), / Sel (2), and / Sel (3) which are logically inverted with respect to these signals, and negative logic for controlling the level shift circuit 40. A control signal / Gini and a positive logic control signal Gref are supplied. Note that the control signal Ctr actually includes a plurality of signals such as a pulse signal, a clock signal, and an enable signal.
Further, the electro-optical device 10 includes the data signals Vd (1), Vd (2),..., Vd (n) in the 1, 2,. Correspondingly supplied by the control circuit 5. Note that the maximum potential of the data signals Vd (1) to Vd (n) is Vmax, and the minimum potential is Vmin.

走査線駆動回路20は、フレームの期間にわたって走査線12を1行毎に順番に走査するための走査信号を、制御信号Ctrにしたがって生成するものである。ここで、1、2、3、…、(m−1)、m行目の走査線12に供給される走査信号を、それぞれGwr(1)、Gwr(2)、Gwr(3)、…、Gwr(m-1)、Gwr(m)と表記している。
なお、走査線駆動回路20は、走査信号Gwr(1)〜Gwr(m)のほかにも、当該走査信号に同期した各種の制御信号を行毎に生成して表示部100に供給するが、図2においては図示を省略している。また、フレームの期間とは、電気光学装置10が1カット(コマ)分の画像を表示するのに要する期間をいい、例えば同期信号に含まれる垂直同期信号の周波数が120Hzであれば、その1周期分の8.3ミリ秒の期間である。
The scanning line drive circuit 20 generates a scanning signal for sequentially scanning the scanning lines 12 line by line over a period of a frame in accordance with a control signal Ctr. Here, the scanning signals supplied to the scanning lines 12 of the 1, 2, 3,..., (M−1), and m-th rows are Gwr (1), Gwr (2), Gwr (3),. Gwr (m-1) and Gwr (m).
Note that the scanning line driving circuit 20 generates various control signals synchronized with the scanning signals in addition to the scanning signals Gwr (1) to Gwr (m) for each row and supplies the generated signals to the display unit 100. In FIG. 2, illustration is omitted. The frame period refers to a period required for the electro-optical device 10 to display an image for one cut (frame). For example, if the frequency of the vertical synchronization signal included in the synchronization signal is 120 Hz, the period is one. This is a period of 8.3 milliseconds for a cycle.

デマルチプレクサ30は、列毎に設けられたトランスミッションゲート34の集合体であり、各グループを構成する3列に、データ信号を順番に供給するものである。
ここで、j番目のグループに属する(3j−2)、(3j−1)、(3j)列に対応したトランスミッションゲート34の入力端は互いに共通接続されて、その共通端子にそれぞれデータ信号Vd(j)が供給される。
j番目のグループにおいて左端列である(3j−2)列に設けられたトランスミッションゲート34は、制御信号Sel(1)がHレベルであるとき(制御信号/Sel(1)がLレベルであるとき)にオン(導通)する。同様に、j番目のグループにおいて中央列である(3j−1)列に設けられたトランスミッションゲート34は、制御信号Sel(2)がHレベルであるとき(制御信号/Sel(2)がLレベルであるとき)にオンし、j番目のグループにおいて右端列である(3j)列に設けられたトランスミッションゲート34は、制御信号Sel(3)がHレベルであるとき(制御信号/Sel(3)がLレベルであるとき)にオンする。
The demultiplexer 30 is an aggregate of transmission gates 34 provided for each column, and sequentially supplies data signals to three columns constituting each group.
Here, the input terminals of the transmission gates 34 corresponding to the (3j-2), (3j-1), and (3j) columns belonging to the j-th group are commonly connected to each other, and the data signal Vd ( j) is supplied.
The transmission gate 34 provided in the leftmost column (3j-2) column in the j-th group performs control when the control signal Sel (1) is at the H level (when the control signal / Sel (1) is at the L level). ). Similarly, the transmission gates 34 provided in the (3j-1) -th column, which is the center column in the j-th group, output the control signal Sel (2) at the H level (when the control signal / Sel (2) is at the L level). ), The transmission gate 34 provided in the rightmost column (3j) in the j-th group transmits the control signal Sel (3) at the H level (control signal / Sel (3)). (When is at L level).

レベルシフト回路40は、保持容量44とPチャネルMOS型のトランジスター45とNチャネルMOS型のトランジスター43との組を列毎に有し、各列のトランスミッションゲート34の出力端から出力されるデータ信号の電位をシフトするものである。ここで、保持容量44の一端は、対応する列のデータ線14とトランジスター45のドレインノードとに接続される一方、保持容量44の他端は、トランスミッションゲート34の出力端とトランジスター43のドレインノードとに接続される。このため、保持容量44は、一端がデータ線14に接続された第1保持容量として機能する。図2では省略しているが、保持容量44の容量をCrf1とする。   The level shift circuit 40 has a set of a storage capacitor 44, a P-channel MOS transistor 45, and an N-channel MOS transistor 43 for each column, and a data signal output from the output terminal of the transmission gate 34 in each column. Is shifted. Here, one end of the storage capacitor 44 is connected to the data line 14 of the corresponding column and the drain node of the transistor 45, while the other end of the storage capacitor 44 is connected to the output terminal of the transmission gate 34 and the drain node of the transistor 43. And connected to. Therefore, the storage capacitor 44 functions as a first storage capacitor having one end connected to the data line 14. Although not shown in FIG. 2, the capacitance of the storage capacitor 44 is assumed to be Crf1.

各列のトランジスター45のソースノードは、初期電位として電位Viniを給電する給電線61に各列にわたって共通に接続され、ゲートノードには、制御信号/Giniが各列にわたって共通に供給される。このため、トランジスター45は、データ線14と給電線61とを、制御信号/GiniがLレベルのときに電気的に接続し、制御信号/GiniがHレベルのときに電気的に非接続とする構成となっている。
また、各列のトランジスター43のソースノードは、所定電位として電位Vrefを給電する給電線62に各列にわたって共通に接続され、ゲートノードには、制御信号Grefが各列にわたって共通に供給される。このため、トランジスター43は、保持容量44の他端であるノードhと給電線62とを、制御信号GrefがHレベルのときに電気的に接続し、制御信号GrefがLレベルのときに電気的に非接続とする構成となっている。
The source node of the transistor 45 in each column is commonly connected to a power supply line 61 that supplies a potential Vini as an initial potential over each column, and the control signal / Gini is commonly supplied to the gate node across each column. Therefore, the transistor 45 electrically connects the data line 14 and the power supply line 61 when the control signal / Gini is at the L level, and electrically disconnects when the control signal / Gini is at the H level. It has a configuration.
Further, the source node of the transistor 43 in each column is commonly connected to the power supply line 62 that supplies the potential Vref as a predetermined potential across the columns, and the control signal Gref is commonly supplied to the gate node across the columns. For this reason, the transistor 43 electrically connects the node h, which is the other end of the storage capacitor 44, to the power supply line 62 when the control signal Gref is at the H level, and electrically connects when the control signal Gref is at the L level. Is not connected to the server.

本実施形態では、便宜的に走査線駆動回路20、デマルチプレクサ30およびレベルシフト回路40に分けているが、これらについては、画素回路110を駆動する駆動回路としてまとめて概念することが可能である。   In the present embodiment, the scanning line driving circuit 20, the demultiplexer 30, and the level shift circuit 40 are divided for convenience, but these can be collectively conceptualized as a driving circuit for driving the pixel circuit 110. .

図3を参照して画素回路110について説明する。各画素回路110については電気的にみれば互いに同一構成なので、ここでは、i行目であって、j番目のグループのうち左端列の(3j−2)列目に位置するi行(3j−2)列の画素回路110を例にとって説明する。
なお、iは、画素回路110が配列する行を一般的に示す場合の記号であって、1以上m以下の整数である。
The pixel circuit 110 will be described with reference to FIG. Since each pixel circuit 110 has the same configuration from an electrical standpoint, here, the i-th row (3j−3) located at the (3j−2) th column of the leftmost column in the i-th row and the j-th group is used here. 2) The pixel circuits 110 in a column will be described as an example.
Note that i is a symbol generally indicating a row in which the pixel circuits 110 are arranged, and is an integer of 1 to m.

図3に示されるように、画素回路110は、PチャネルMOS型のトランジスター121〜125と、OLED130と、保持容量132とを含む。この画素回路110には、走査信号Gwr(i)、制御信号Gel(i)、Gcmp(i)、Gorst(i)が供給される。ここで、走査信号Gwr(i)、制御信号Gel(i)、Gcmp(i)、Gorst(i)は、それぞれi行目に対応して走査線駆動回路20によって供給されるものである。このため、走査信号Gwr(i)、制御信号Gel(i)、Gcmp(i)、Gorst(i)は、i行目であれば、着目している(3j−2)列以外の他の列の画素回路にも共通に供給される。   As shown in FIG. 3, the pixel circuit 110 includes P-channel MOS transistors 121 to 125, an OLED 130, and a storage capacitor 132. This pixel circuit 110 is supplied with a scanning signal Gwr (i), control signals Gel (i), Gcmp (i), and Gorst (i). Here, the scanning signal Gwr (i), the control signals Gel (i), Gcmp (i), and Gorst (i) are supplied by the scanning line driving circuit 20 corresponding to the i-th row. For this reason, the scanning signal Gwr (i), the control signals Gel (i), Gcmp (i), and Gorst (i) are columns other than the focused (3j-2) column in the i-th row. Are commonly supplied to the pixel circuits.

i行(3j−2)列の画素回路110におけるトランジスター122にあっては、ゲートノードがi行目の走査線12に接続され、ドレインまたはソースノードの一方が(3j−2)列目のデータ線14に接続され、他方がトランジスター121におけるゲートノードgと、保持容量132の一端と、トランジスター123のドレインノードとにそれぞれ接続されている。ここで、トランジスター121のゲートノードについては、他のノードと区別するためにgと表記する。
トランジスター121にあっては、ソースノードが給電線116に接続され、ドレインノードがトランジスター123のソースノードと、トランジスター124のソースノードとにそれぞれ接続されている。ここで、給電線116には、画素回路110において電源の高位側となる電位Velが給電される。
トランジスター123にあって、ゲートノードには制御信号Gcmp(i)が供給される。
トランジスター124にあって、ゲートノードには制御信号Gel(i)が供給され、ドレインノードがトランジスター125のソースノードとOLED130のアノードとにそれぞれ接続されている。
トランジスター125にあって、ゲートノードにはi行目に対応した制御信号Gorst(i)が供給され、ドレインノードは(3j−2)列目に対応した給電線16に接続されて電位Vorstに保たれている。
In the transistor 122 in the pixel circuit 110 in the i-th row (3j-2) column, the gate node is connected to the i-th scanning line 12, and one of the drain and source nodes is the data in the (3j-2) -th column. The other end is connected to the gate node g of the transistor 121, one end of the storage capacitor 132, and the drain node of the transistor 123. Here, the gate node of the transistor 121 is denoted by g to distinguish it from other nodes.
In the transistor 121, a source node is connected to the power supply line 116, and a drain node is connected to a source node of the transistor 123 and a source node of the transistor 124, respectively. Here, the power supply line 116 is supplied with a potential Vel which is a higher side of the power supply in the pixel circuit 110.
In the transistor 123, a control signal Gcmp (i) is supplied to a gate node.
In the transistor 124, a control signal Gel (i) is supplied to a gate node, and a drain node is connected to a source node of the transistor 125 and an anode of the OLED 130, respectively.
In the transistor 125, the gate node is supplied with the control signal Gorst (i) corresponding to the i-th row, and the drain node is connected to the power supply line 16 corresponding to the (3j-2) -th column and maintained at the potential Vorst. I'm dripping.

ここで、トランジスター121が第1トランジスターに相当し、トランジスター122が第2トランジスターに相当し、トランジスター123が第3トランジスターに相当する。また、トランジスター125が第4トランジスターに相当し、トランジスター124が第5トランジスターに相当する。   Here, the transistor 121 corresponds to a first transistor, the transistor 122 corresponds to a second transistor, and the transistor 123 corresponds to a third transistor. Further, the transistor 125 corresponds to a fourth transistor, and the transistor 124 corresponds to a fifth transistor.

保持容量132の他端は、給電線116に接続される。このため、保持容量132は、トランジスター121のソース・ドレイン間の電圧を保持することになる。ここで、保持容量132の容量をCpixと表記したとき、保持容量50の容量Cdtと、保持容量44の容量Crf1と、保持容量132の容量Cpixとは、
Cdt>Crf1>>Cpix
となるように設定される。
すなわち、CdtはCrf1よりも大きく、CpixはCdtおよびCrf1よりも十分に小さくなるように設定される。
なお、保持容量132としては、トランジスター121のゲートノードgに寄生する容量を用いても良いし、シリコン基板において互いに異なる導電層で絶縁層を挟持することによって形成される容量を用いても良い。
The other end of the storage capacitor 132 is connected to the power supply line 116. Therefore, the holding capacitor 132 holds the voltage between the source and the drain of the transistor 121. Here, when the capacity of the storage capacitor 132 is expressed as Cpix, the capacity Cdt of the storage capacity 50, the capacity Crf1 of the storage capacity 44, and the capacity Cpix of the storage capacity 132 are as follows.
Cdt> Crf1 >> Cpix
Is set to be
That is, Cdt is set to be larger than Crf1, and Cpix is set to be sufficiently smaller than Cdt and Crf1.
Note that as the storage capacitor 132, a capacitor parasitic on the gate node g of the transistor 121 or a capacitor formed by sandwiching an insulating layer between conductive layers different from each other in a silicon substrate may be used.

本実施形態において電気光学装置10はシリコン基板に形成されるので、トランジスター121〜125の基板電位については電位Velとしている。   In this embodiment, since the electro-optical device 10 is formed on a silicon substrate, the substrate potential of the transistors 121 to 125 is set to the potential Vel.

OLED130のアノードは、画素回路110毎に個別に設けられる画素電極である。これに対して、OLED130のカソードは、画素回路110のすべてにわたって共通の共通電極118であり、画素回路110において電源の低位側となる電位Vctに保たれている。
OLED130は、上記シリコン基板において、アノードと光透過性を有するカソードとで白色有機EL層を挟持した素子である。そして、OLED130の出射側(カソード側)にはRGBのいずれかに対応したカラーフィルターが重ねられる。
このようなOLED130において、アノードからカソードに電流が流れると、アノードから注入された正孔とカソードから注入された電子とが有機EL層で再結合して励起子が生成され、白色光が発生する。このときに発生した白色光は、シリコン基板(アノード)とは反対側のカソードを透過し、カラーフィルターによる着色を経て、観察者側に視認される構成となっている。
The anode of the OLED 130 is a pixel electrode provided individually for each pixel circuit 110. On the other hand, the cathode of the OLED 130 is a common electrode 118 common to all of the pixel circuits 110, and is maintained at the potential Vct which is the lower side of the power supply in the pixel circuit 110.
The OLED 130 is an element in which a white organic EL layer is sandwiched between an anode and a light-transmissive cathode on the silicon substrate. Then, on the emission side (cathode side) of the OLED 130, a color filter corresponding to any of RGB is superimposed.
In such an OLED 130, when a current flows from the anode to the cathode, the holes injected from the anode and the electrons injected from the cathode are recombined in the organic EL layer to generate excitons and generate white light. . The white light generated at this time is transmitted through the cathode opposite to the silicon substrate (anode), is colored by a color filter, and is visually recognized by an observer.

<第1実施形態の動作>
図4を参照して電気光学装置10の動作について説明する。図4は、電気光学装置10における各部の動作を説明するためのタイミングチャートである。
この図に示されるように、走査信号Gwr(1)〜Gwr(m)が順次Lレベルに切り替えられて、1フレームの期間において1〜m行目の走査線12が1水平走査期間(H)毎に順番に走査される。
1水平走査期間(H)での動作は、各行の画素回路110にわたって共通である。そこで以下については、i行目が水平走査される走査期間において、特にi行(3j−2)列の画素回路110について着目して動作を説明する。
<Operation of First Embodiment>
The operation of the electro-optical device 10 will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a timing chart for explaining the operation of each unit in the electro-optical device 10.
As shown in this figure, the scanning signals Gwr (1) to Gwr (m) are sequentially switched to the L level, and the scanning lines 12 of the 1st to mth rows are in one horizontal scanning period (H) in one frame period. Each time it is scanned sequentially.
The operation in one horizontal scanning period (H) is common to the pixel circuits 110 in each row. Therefore, in the following, the operation will be described in the scanning period in which the i-th row is horizontally scanned, particularly focusing on the pixel circuit 110 in the i-th row (3j-2) column.

本実施形態ではi行目の走査期間は、大別すると、図4において(b)で示される初期化期間と(c)で示される補償期間と(d)で示される書込期間とに分けられる。そして、(d)の書込期間の後、間をおいて(a)で示される発光期間となり、1フレームの期間経過後に再びi行目の走査期間に至る。このため、時間の順でいえば、(発光期間)→初期化期間→補償期間→書込期間→(発光期間)というサイクルの繰り返しとなる。
なお、図4において、i行目に対し1行前の(i−1)行目に対応する走査信号Gwr(i-1)、制御信号Gel(i-1)、Gcmp(i-1)、Gorst(i-1)の各々については、i行目に対応する走査信号Gwr(i)、制御信号Gel(i)、Gcmp(i)、Gorst(i)よりも、それぞれ時間的に1水平走査期間(H)だけ時間的に先行した波形となる。
In the present embodiment, the scanning period of the i-th row is roughly divided into an initialization period shown in FIG. 4B, a compensation period shown in FIG. 4C, and a writing period shown in FIG. Can be Then, after the writing period of (d), the light emitting period shown in (a) is provided after a short interval, and the scanning period of the i-th row is resumed after the lapse of one frame period. Therefore, in the order of time, the cycle of (emission period) → initialization period → compensation period → writing period → (emission period) is repeated.
In FIG. 4, the scanning signal Gwr (i-1), control signal Gel (i-1), Gcmp (i-1), For each of Gorst (i-1), one horizontal scan is performed more temporally than the scanning signal Gwr (i), the control signals Gel (i), Gcmp (i), and Gorst (i) corresponding to the i-th row. The waveform is temporally preceding by the period (H).

<発光期間>
説明の便宜上、初期化期間の前提となる発光期間から説明する。図4に示されるように、i行目の発光期間では、走査信号Gwr(i)がHレベルであり、制御信号Gel(i)はLレベルである。また、論理信号である制御信号Gel(i)、Gcmp(i)、Gorst(i)のうち、制御信号Gel(i)がLレベルであり、制御信号Gcmp(i)、Gorst(i)がHレベルである。
このため、図5に示されるようにi行(3j−2)列の画素回路110においては、トランジスター124がオンする一方、トランジスター122、123、125がオフする。したがって、トランジスター121は、ゲート・ソース間の電圧Vgsに応じた電流IdsをOLED130に供給する。後述するように、本実施形態において発光期間での電圧Vgsは、トランジスター121の閾値電圧から、データ信号の電位に応じてレベルシフトした値である。このため、OLED130には、階調レベルに応じた電流がトランジスター121の閾値電圧を補償した状態で供給されることになる。
<Emission period>
For convenience of explanation, the description will be made from the light emission period which is a premise of the initialization period. As shown in FIG. 4, during the light emission period of the i-th row, the scanning signal Gwr (i) is at the H level, and the control signal Gel (i) is at the L level. Further, among the control signals Gel (i), Gcmp (i) and Gorst (i) which are logic signals, the control signal Gel (i) is at the L level and the control signals Gcmp (i) and Gorst (i) are at the H level. Level.
Therefore, as shown in FIG. 5, in the pixel circuit 110 in the i-th row (3j-2) column, the transistor 124 is turned on, while the transistors 122, 123, and 125 are turned off. Therefore, the transistor 121 supplies a current Ids corresponding to the gate-source voltage Vgs to the OLED 130. As described later, in the present embodiment, the voltage Vgs during the light emission period is a value obtained by level-shifting the threshold voltage of the transistor 121 according to the potential of the data signal. Therefore, a current corresponding to the gradation level is supplied to the OLED 130 in a state where the threshold voltage of the transistor 121 is compensated.

なお、i行目の発光期間は、i行目以外が水平走査される期間であるから、データ線14の電位は適宜変動する。ただし、i行目の画素回路110においては、トランジスター122がオフしているので、ここでは、データ線14の電位変動を考慮していない。
また、図5においては、動作説明で重要となる経路を太線で示している(以下の図6〜図8、図13〜図16においても同様である)。
Note that the light emission period of the i-th row is a period during which horizontal scanning is performed on a portion other than the i-th row, so that the potential of the data line 14 varies as appropriate. However, in the pixel circuit 110 in the i-th row, since the transistor 122 is off, the potential fluctuation of the data line 14 is not considered here.
In FIG. 5, paths important in the description of the operation are indicated by thick lines (the same applies to FIGS. 6 to 8 and FIGS. 13 to 16 below).

<初期化期間>
次にi行目の走査期間に至ると、まず、第1期間として(b)の初期化期間が開始する。初期化期間では、発光期間と比較して、制御信号Gel(i)がHレベルに、制御信号Gorst(i)がLレベルに、それぞれ変化する。
このため、図6に示されるように、i行(3j−2)列の画素回路110においてはトランジスター124がオフし、トランジスター125がオンする。これによってOLED130に供給される電流の経路が遮断されるとともに、OLED130のアノードが電位Vorstにリセットされる。
OLED130は、上述したようにアノードとカソードとで有機EL層を挟持した構成であるので、アノード・カソードの間には、図において破線で示されるように容量Coledが並列に寄生する。発光期間においてOLED130に電流が流れていたときに、当該OLED130のアノード・カソード間の両端電圧が当該容量Coledによって保持されるが、この保持電圧は、トランジスター125のオンによってリセットされる。このため、本実施形態では、後の発光期間においてOLED130に再び電流が流れるときに、当該容量Coledで保持されている電圧の影響を受けにくくなる。
<Initialization period>
Next, when the scanning period of the i-th row is reached, first, the initialization period (b) starts as the first period. In the initialization period, the control signal Gel (i) changes to the H level and the control signal Gorst (i) changes to the L level, as compared with the light emission period.
Therefore, as illustrated in FIG. 6, in the pixel circuit 110 in the i-th row (3j-2) column, the transistor 124 is turned off and the transistor 125 is turned on. As a result, the path of the current supplied to the OLED 130 is cut off, and the anode of the OLED 130 is reset to the potential Vorst.
As described above, since the OLED 130 has a configuration in which the organic EL layer is sandwiched between the anode and the cathode, a capacitance Coled is parasitic between the anode and the cathode as shown by a broken line in the figure. When a current is flowing through the OLED 130 during the light emitting period, the voltage between the anode and the cathode of the OLED 130 is held by the capacitor Coled. The held voltage is reset by turning on the transistor 125. For this reason, in the present embodiment, when a current flows through the OLED 130 again in a later light emission period, the OLED 130 is less affected by the voltage held by the capacitor Coled.

詳細には、例えば高輝度の表示状態から低輝度の表示状態に転じるときに、リセットしない構成であると、輝度が高い(大電流が流れた)ときの高電圧が保持されてしまうので、次に、小電流を流そうとしても、過剰な電流が流れてしまって、低輝度の表示状態にさせることができなくなる。これに対して、本実施形態では、トランジスター125のオンによってOLED130のアノードの電位がリセットされるので、低輝度側の再現性が高められることになる。
なお、本実施形態において、電位Vorstについては、当該電位Vorstと共通電極118の電位Vctとの差がOLED130の発光閾値電圧を下回るように設定される。このため、初期化期間(次に説明する補償期間および書込期間)において、OLED130はオフ(非発光)状態である。
In detail, for example, when the display state is changed from a high-luminance display state to a low-luminance display state, if the configuration is not reset, a high voltage when the luminance is high (a large current flows) is held. In addition, even if an attempt is made to apply a small current, an excessive current will flow, and it will not be possible to make a display state of low luminance. On the other hand, in the present embodiment, since the potential of the anode of the OLED 130 is reset by turning on the transistor 125, reproducibility on the low luminance side is improved.
In the present embodiment, the potential Vorst is set so that the difference between the potential Vorst and the potential Vct of the common electrode 118 is lower than the light emission threshold voltage of the OLED 130. Therefore, the OLED 130 is off (non-light emitting) in the initialization period (compensation period and writing period described below).

一方、初期化期間では、制御信号/GiniがLレベルになり、制御信号GrefがHレベルになるので、レベルシフト回路40においては、図6に示されるようにトランジスター45、43がそれぞれオンする。このため、保持容量44の一端であるデータ線14は電位Viniに、保持容量44の他端であるノードhは電位Vrefに、それぞれ初期化される。   On the other hand, in the initialization period, the control signal / Gini goes low and the control signal Gref goes high, so that in the level shift circuit 40, the transistors 45 and 43 are turned on as shown in FIG. Therefore, the data line 14 as one end of the storage capacitor 44 is initialized to the potential Vini, and the node h as the other end of the storage capacitor 44 is initialized to the potential Vref.

本実施形態において電位Viniについては、(Vel−Vini)がトランジスター121の閾値電圧|Vth|よりも大きくなるように設定される。なお、トランジスター121はPチャネル型であるので、ソースノードの電位を基準とした閾値電圧Vthは負である。そこで、高低関係の説明で混乱が生じるのを防ぐために、閾値電圧については、絶対値の|Vth|で表し、大小関係で規定することにする。
また、本実施形態において電位Vrefについては、データ信号Vd(1)〜Vd(n)が取り得る電位に対して、後の書込期間においてノードhの電位が上昇変化するような値に、例えば最低値Vminよりも低くなるように設定される。
In the present embodiment, the potential Vini is set so that (Vel−Vini) is higher than the threshold voltage | Vth | of the transistor 121. Note that since the transistor 121 is a P-channel transistor, the threshold voltage Vth based on the potential of the source node is negative. Therefore, in order to prevent confusion in the description of the height relationship, the threshold voltage is represented by the absolute value | Vth | and is defined by the magnitude relationship.
In the present embodiment, the potential Vref is set to a value such that the potential of the node h increases in a later writing period with respect to the potentials of the data signals Vd (1) to Vd (n). It is set to be lower than the minimum value Vmin.

<補償期間>
i行目の走査期間では、次に第2期間として(c)の補償期間となる。補償期間では初期化期間と比較して、走査信号Gwr(i)および制御信号Gcmp(i)がLレベルとなる。一方、補償期間では、制御信号GrefがHレベルに維持された状態で制御信号/GiniがHレベルになる。
このため、図7に示されるように、レベルシフト回路40においては、トランジスター43がオンした状態でトランジスター45がオフすることによって、ノードhが電位Vrefに固定される。一方、i行(3j−2)列の画素回路110ではトランジスター122がオンすることによって、ゲートノードgがデータ線14に電気的に接続されるので、補償期間の開始当初においてゲートノードgは電位Viniとなる。
<Compensation period>
In the scanning period of the i-th row, the second period is the compensation period (c). In the compensation period, the scanning signal Gwr (i) and the control signal Gcmp (i) are at the L level as compared with the initialization period. On the other hand, during the compensation period, the control signal / Gini goes high while the control signal Gref is kept high.
For this reason, as shown in FIG. 7, in the level shift circuit 40, when the transistor 45 is turned off while the transistor 43 is turned on, the node h is fixed to the potential Vref. On the other hand, in the pixel circuit 110 on the i-th row (3j-2) column, the gate node g is electrically connected to the data line 14 by turning on the transistor 122, so that the gate node g has the potential at the beginning of the compensation period. Vini.

補償期間においてトランジスター123がオンするので、トランジスター121はダイオード接続となる。このため、トランジスター121にはドレイン電流が流れて、ゲートノードgおよびデータ線14を充電する。詳細には、電流が、給電線116→トランジスター121→トランジスター123→トランジスター122→(3j−2)列目のデータ線14という経路で流れる。このため、トランジスター121のオンによって互いに接続状態にあるデータ線14およびゲートノードgは、電位Viniから上昇する。
ただし、上記経路に流れる電流は、ゲートノードgが電位(Vel−|Vth|)に近づくにつれて流れにくくなるので、補償期間の終了に至るまでに、データ線14およびゲートノードgは電位(Vel−|Vth|)で飽和する。したがって、保持容量132は、補償期間の終了に至るまでにトランジスター121の閾値電圧|Vth|を保持することになる。
Since the transistor 123 is turned on during the compensation period, the transistor 121 is diode-connected. Therefore, a drain current flows through the transistor 121 to charge the gate node g and the data line 14. More specifically, the current flows through a route of the power supply line 116 → the transistor 121 → the transistor 123 → the transistor 122 → the data line 14 in the (3j-2) th column. Therefore, the data line 14 and the gate node g connected to each other by turning on the transistor 121 rise from the potential Vini.
However, the current flowing through the path becomes difficult to flow as the gate node g approaches the potential (Vel− | Vth |), so that the data line 14 and the gate node g have the potential (Vel−−V) until the end of the compensation period. | Vth |). Therefore, the storage capacitor 132 holds the threshold voltage | Vth | of the transistor 121 until the end of the compensation period.

<書込期間>
初期化期間の後、第3期間として(d)の書込期間に至る。書込期間では、制御信号Gcmp(i)がHレベルになるので、トランジスター121のダイオード接続が解除される一方、制御信号GrefがLレベルになるので、トランジスター43がオフになる。このため、(3j−2)列目のデータ線14からi行(3j−2)列の画素回路110におけるゲートノードgに至るまでの経路はフローティング状態になるものの、当該経路における電位は、保持容量50、132によって(Vel−|Vth|)に維持される。
<Write period>
After the initialization period, a writing period (d) is reached as a third period. In the writing period, the control signal Gcmp (i) becomes H level, so that the diode connection of the transistor 121 is released, while the control signal Gref becomes L level, so that the transistor 43 is turned off. Therefore, although the path from the data line 14 in the (3j-2) th column to the gate node g in the pixel circuit 110 in the i-th row (3j-2) is in a floating state, the potential in the path is held. It is maintained at (Vel− | Vth |) by the capacitors 50 and 132.

i行目の書込期間において制御回路5は、j番目のグループでいえば、データ信号Vd(j)を順番に、i行(3j−2)列、i行(3j−1)列、i行(3j)列の画素の階調レベルに応じた電位に切り替える。一方、制御回路5は、データ信号の電位の切り替えに合わせて制御信号Sel(1)、Sel(2)、Sel(3)を順番に排他的にHレベルとする。制御回路5は、図4では省略しているが、制御信号Sel(1)、Sel(2)、Sel(3)とは論理反転の関係にある制御信号/Sel(1)、/Sel(2)、/Sel(3)についても出力している。これによって、デマルチプレクサ30では、各グループにおいてトランスミッションゲート34がそれぞれ左端列、中央列、右端列の順番でオンする。   In the writing period of the i-th row, the control circuit 5, in the j-th group, sequentially transmits the data signal Vd (j) to the i-th row (3j-2) column, the i-th row (3j-1) column, i Switching to a potential corresponding to the gradation level of the pixel in the row (3j) column. On the other hand, the control circuit 5 exclusively sets the control signals Sel (1), Sel (2), and Sel (3) to the H level in order in accordance with the switching of the potential of the data signal. Although not shown in FIG. 4, the control circuit 5 has control signals / Sel (1) and / Sel (2) that are logically inverted with respect to the control signals Sel (1), Sel (2) and Sel (3). ) And / Sel (3) are also output. Thus, in the demultiplexer 30, the transmission gates 34 in each group are turned on in the order of the leftmost column, the center column, and the rightmost column.

ここで、左端列のトランスミッションゲート34が制御信号Sel(1)、/Sel(1)によってオンしたとき、図8に示されるように、保持容量44の他端であるノードhは、初期化期間および補償期間において固定された電位Vrefから、データ信号Vd(j)の電位に、すなわちi行(3j−2)列の画素の階調レベルに応じた電位に変化する。このときのノードhの電位変化分をΔVとして、変化後の電位を(Vref+ΔV)として表すことにする。
一方、ゲートノードgは、保持容量44の一端にデータ線14を介して接続されているので、補償期間における電位(Vel−|Vth|)から、ノードhの電位変化分ΔVに容量比k1を乗じた値だけ、上昇方向にシフトした値(Vel−|Vth|+k1・ΔV)となる。このとき、トランジスター121の電圧Vgsで絶対値で表現すると、閾値電圧|Vth|からゲートノードgの電位上昇したシフト分だけ減じた値(|Vth|−k1・ΔV)となる。
なお、容量比k1は、Crf1/(Cdt+Crf1)である。厳密にいえば、保持容量132の容量Cpixも考慮しなければならないが、容量Cpixは、容量Crf1、Cdtに比較して十分に小さくなるように設定しているので、無視している。
Here, when the transmission gate 34 in the leftmost column is turned on by the control signals Sel (1) and / Sel (1), as shown in FIG. In addition, the potential changes from the potential Vref fixed during the compensation period to the potential of the data signal Vd (j), that is, the potential corresponding to the gradation level of the pixel in the i-th row (3j-2) column. At this time, the potential change of the node h is represented by ΔV, and the potential after the change is represented by (Vref + ΔV).
On the other hand, since the gate node g is connected to one end of the storage capacitor 44 via the data line 14, the capacitance ratio k1 is changed from the potential (Vel− | Vth |) during the compensation period to the potential change ΔV of the node h. A value shifted in the ascending direction by the multiplied value (Vel− | Vth | + k1 · ΔV). At this time, if the voltage Vgs of the transistor 121 is expressed as an absolute value, the voltage becomes a value (| Vth | -k1.multidot..DELTA.V) obtained by subtracting from the threshold voltage | Vth |
The capacitance ratio k1 is Crf1 / (Cdt + Crf1). Strictly speaking, the capacitance Cpix of the storage capacitor 132 must also be considered, but the capacitance Cpix is set to be sufficiently smaller than the capacitances Crf1 and Cdt, and is ignored.

図9は、書込期間におけるデータ信号の電位とゲートノードgの電位との関係を示す図である。制御回路5から供給されるデータ信号は、上述したように画素の階調レベルに応じて最小値Vminから最大値Vmaxまでの電位範囲を取り得る。本実施形態では、当該データ信号が直接ゲートノードgに書き込まれるのではなく、図に示されるようにレベルシフトされて、ゲートノードgに書き込まれる。
このとき、ゲートノードgの電位範囲ΔVgateは、データ信号の電位範囲ΔVdata(=Vmax−Vmin)に容量比k1を乗じた値に圧縮される。例えば、Crf1:Cdt=1:9となるように保持容量44、50の容量を設定したとき、ゲートノードgの電位範囲ΔVgateをデータ信号の電位範囲ΔVdataの1/10に圧縮することができる。
また、ゲートノードgの電位範囲ΔVgateを、データ信号の電位範囲ΔVdataに対してどの方向にどれだけシフトさせるかについては、電位Vp(=Vel−|Vth|)、Vrefで定めることができる。これは、データ信号の電位範囲ΔVdataが、電位Vrefを基準にして容量比k1で圧縮されるとともに、その圧縮範囲が電位Vpを基準にシフトされたものが、ゲートノードgの電位範囲ΔVgateとなるためである。
FIG. 9 is a diagram showing the relationship between the potential of the data signal and the potential of the gate node g during the writing period. The data signal supplied from the control circuit 5 can take a potential range from the minimum value Vmin to the maximum value Vmax according to the gray level of the pixel as described above. In the present embodiment, the data signal is not directly written to the gate node g, but is level-shifted as shown in FIG.
At this time, the potential range ΔVgate of the gate node g is compressed to a value obtained by multiplying the potential range ΔVdata (= Vmax−Vmin) of the data signal by the capacitance ratio k1. For example, when the capacitances of the storage capacitors 44 and 50 are set such that Crf1: Cdt = 1: 9, the potential range ΔVgate of the gate node g can be compressed to 1/10 of the potential range ΔVdata of the data signal.
The direction and how much to shift the potential range ΔVgate of the gate node g with respect to the potential range ΔVdata of the data signal can be determined by the potentials Vp (= Vel− | Vth |) and Vref. This is because the potential range ΔVdata of the data signal is compressed with the capacitance ratio k1 with reference to the potential Vref, and the compression range shifted with reference to the potential Vp becomes the potential range ΔVgate of the gate node g. That's why.

このようにi行目の書込期間において、i行目の画素回路110のゲートノードgには、補償期間における電位(Vel−|Vth|)から、ノードhの電位変化分ΔVに容量比k1を応じた分だけシフトした電位(Vel−|Vth|+k1・ΔV)が書き込まれる。
やがて走査信号Gwr(i)がHレベルになり、トランジスター122がオフする。これによって書込期間が終了して、ゲートノードgの電位は、シフトされた値に確定する。
As described above, in the writing period of the i-th row, the gate node g of the pixel circuit 110 of the i-th row changes the potential change ΔV of the node h from the potential (Vel− | Vth |) in the compensation period to the capacitance ratio k1. (Vel- | Vth | + k1.multidot..DELTA.V) which is shifted by a corresponding amount.
Eventually, the scanning signal Gwr (i) becomes H level, and the transistor 122 is turned off. As a result, the writing period ends, and the potential of gate node g is fixed at the shifted value.

<発光期間>
i行目の書込期間の終了した後、1水平走査期間の間をおいて発光期間に至る。この発光期間では、上述したように制御信号Gel(i)がLレベルになるので、i行(3j−2)列の画素回路110においては、トランジスター124がオンする。ゲート・ソース間の電圧Vgsは、(|Vth|−k1・ΔV)であるから、OLED130には、先の図5に示したように、階調レベルに応じた電流がトランジスター121の閾値電圧を補償した状態で供給されることになる。
このような動作は、i行目の走査期間において、(3j−2)列目の画素回路110以外のi行目の他の画素回路110においても時間的に並列して実行される。さらに、このようなi行目の動作は、実際には、1フレームの期間において1、2、3、…、(m−1)、m行目の順番で実行されるとともに、フレーム毎に繰り返される。
<Emission period>
After the end of the writing period of the i-th row, the light-emitting period starts after one horizontal scanning period. In this light emission period, the control signal Gel (i) is at the L level as described above, so that the transistor 124 is turned on in the pixel circuit 110 in the i-th row (3j-2) column. Since the voltage Vgs between the gate and the source is (| Vth | -k1.multidot..DELTA.V), the current corresponding to the gradation level causes the OLED 130 to set the threshold voltage of the transistor 121 as shown in FIG. It will be supplied in a compensated state.
Such an operation is also performed in time parallel in the other pixel circuits 110 in the i-th row other than the pixel circuit 110 in the (3j-2) -th column in the scanning period of the i-th row. Further, such an operation on the i-th row is actually executed in the order of 1, 2, 3,..., (M−1), and the m-th row during the period of one frame, and is repeated for each frame. It is.

本実施形態によれば、ゲートノードgにおける電位範囲ΔVgateは、データ信号の電位範囲ΔVdataに対し狭められるので、データ信号を細かい精度で刻まなくても、階調レベルを反映した電圧を、トランジスター121のゲート・ソース間に印加することができる。このため、微細な画素回路110においてトランジスター121のゲート・ソース間の電圧Vgsの変化に対しOLED130に流れる微小電流が相対的に大きく変化する場合であっても、OLED130に供給する電流を精度良く制御することが可能になる。   According to the present embodiment, the potential range ΔVgate at the gate node g is narrowed with respect to the potential range ΔVdata of the data signal. Can be applied between the gate and the source. Therefore, even in the case where the minute current flowing through the OLED 130 changes relatively greatly with respect to the change in the gate-source voltage Vgs of the transistor 121 in the minute pixel circuit 110, the current supplied to the OLED 130 is accurately controlled. It becomes possible to do.

また、図3において破線で示されるようにデータ線14と画素回路110におけるゲートノードgとの間には容量Cprsが実際には寄生する。このため、データ線14の電位変化幅が大きいと、当該容量Cprsを介してゲートノードgに伝播し、いわゆるクロストークやムラなどが発生して表示品位を低下させてしまう。当該容量Cprsの影響は、画素回路110が微細化されたときに顕著に現れる。
これに対して、本実施形態においては、データ線14の電位変化範囲についても、データ信号の電位範囲ΔVdataに対し狭められるので、容量Cprsを介した影響を抑えることができる。
In addition, as shown by a broken line in FIG. 3, a capacitance Cprs is actually parasitic between the data line 14 and the gate node g in the pixel circuit 110. For this reason, if the potential change width of the data line 14 is large, it propagates to the gate node g via the capacitor Cprs, so that so-called crosstalk or unevenness occurs, thereby deteriorating the display quality. The effect of the capacitance Cprs appears remarkably when the pixel circuit 110 is miniaturized.
On the other hand, in the present embodiment, since the potential change range of the data line 14 is also narrowed with respect to the potential range ΔVdata of the data signal, the influence via the capacitance Cprs can be suppressed.

本実施形態によれば、トランジスター125をオンさせる期間、すなわちOLED130のリセット期間として、走査期間よりも長い期間、例えば2水平走査期間を確保することができるので、発光期間においてOLED130の寄生容量に保持された電圧を十分に初期化することができる。   According to the present embodiment, a period longer than the scanning period, for example, two horizontal scanning periods can be ensured as a period during which the transistor 125 is turned on, that is, as a reset period of the OLED 130. The initialized voltage can be sufficiently initialized.

また、本実施形態によれば、トランジスター121によってOLED130に供給される電流Idsは、閾値電圧の影響が相殺される。このため、本実施形態によれば、トランジスター121の閾値電圧が画素回路110毎にばらついても、そのばらつきが補償されて、階調レベルに応じた電流がOLED130に供給されるので、表示画面の一様性を損なうような表示ムラの発生を抑えられる結果、高品位の表示が可能になる。   Further, according to the present embodiment, the current Ids supplied to the OLED 130 by the transistor 121 cancels out the influence of the threshold voltage. For this reason, according to the present embodiment, even if the threshold voltage of the transistor 121 varies for each pixel circuit 110, the variation is compensated, and a current corresponding to the gradation level is supplied to the OLED 130. As a result of suppressing the occurrence of display unevenness that impairs uniformity, high-quality display can be achieved.

この相殺について図10を参照して説明する。この図に示されるように、トランジスター121は、OLED130に供給する微小電流を制御するために、弱反転領域(サブスレッショルド領域)で動作する。
図において、Aは閾値電圧|Vth|が大きいトランジスターを、Bは閾値電圧|Vth|が小さいトランジスターを、それぞれ示している。なお、図10において、ゲート・ソース間の電圧Vgsは、実線で示される特性と電位Velとの差である。また、図10において、縦スケールの電流は、ソースからドレインに向かう方向を正(上)とした対数で示されている。
補償期間においてゲートノードgは、電位Viniから電位(Vel−|Vth|)となる。このため、閾値電圧|Vth|が大きいトランジスターAは、動作点がSからAaに移動する一方、閾値電圧|Vth|が小さいトランジスターBは、動作点がSからBaに移動する。
次に、2つのトランジスターが属する画素回路110へのデータ信号の電位が同じ場合、つまり同じ階調レベルが指定された場合に、書込期間においては、動作点Aa、Baからの電位シフト量は、ともに同じk1・ΔVである。このため、トランジスターAについては動作点がAaからAbに移動し、トランジスターBについては動作点がBaからBbに移動するが、電位シフト後の動作点における電流は、トランジスターA、Bともに、ほぼ同じIdsで揃うことになる。
This cancellation will be described with reference to FIG. As shown in this figure, the transistor 121 operates in a weak inversion region (sub-threshold region) in order to control a small current supplied to the OLED 130.
In the figure, A indicates a transistor having a large threshold voltage | Vth |, and B indicates a transistor having a small threshold voltage | Vth |. In FIG. 10, the voltage Vgs between the gate and the source is a difference between the characteristic indicated by the solid line and the potential Vel. In FIG. 10, the current of the vertical scale is represented by a logarithm in which the direction from the source to the drain is positive (upward).
During the compensation period, the potential of the gate node g changes from the potential Vini to the potential (Vel− | Vth |). For this reason, the transistor A having a large threshold voltage | Vth | moves the operating point from S to Aa, while the transistor B having a small threshold voltage | Vth | moves the operating point from S to Ba.
Next, when the potential of the data signal to the pixel circuit 110 to which the two transistors belong is the same, that is, when the same gradation level is designated, in the writing period, the potential shift amount from the operating points Aa and Ba is , Both have the same k11ΔV. Therefore, the operating point of the transistor A shifts from Aa to Ab, and the operating point of the transistor B shifts from Ba to Bb. However, the current at the operating point after the potential shift is substantially the same for both the transistors A and B. Ids will be aligned.

<第2実施形態>
第1実施形態においては、各列の保持容量44の他端、すなわちノードhに、デマルチプレクサ30によってデータ信号を直接供給する構成とした。このため、各行の走査期間においては、制御回路5からデータ信号が供給される期間イコール書込期間となるので、時間的な制約が大きい。
そこで次に、このような時間的な制約を緩和することができる第2実施形態について説明する。なお、以下においては説明の重複を避けるために、第1実施形態との相違する部分を中心に説明することにする。
<Second embodiment>
In the first embodiment, the data signal is directly supplied by the demultiplexer 30 to the other end of the storage capacitor 44 in each column, that is, the node h. Therefore, in the scanning period of each row, a period during which the data signal is supplied from the control circuit 5 is an equal writing period, and thus there is a large time constraint.
Therefore, a second embodiment capable of relaxing such a time constraint will be described next. Note that, in the following, in order to avoid repetition of the description, the description will be made focusing on the differences from the first embodiment.

図11は、第2実施形態に係る電気光学装置10の構成を示す図である。
この図に示した第2実施形態が図2に示した第1実施形態と相違する点は、主としてレベルシフト回路40の各列において保持容量41およびトランスミッションゲート42が設けられている点にある。
FIG. 11 is a diagram illustrating a configuration of the electro-optical device 10 according to the second embodiment.
The second embodiment shown in this figure differs from the first embodiment shown in FIG. 2 mainly in that a storage capacitor 41 and a transmission gate 42 are provided in each column of the level shift circuit 40.

詳細には、各列においてトランスミッションゲート42は、トランスミッションゲート34の出力端と保持容量44の他端との間に、電気的に介挿されている。すなわち、トランスミッションゲート42の入力端がトランスミッションゲート34の出力端に接続され、トランスミッションゲート42の出力端が保持容量44の他端に接続されている
なお、各列のトランスミッションゲート42は、制御回路5から供給される制御信号GcplがHレベルであるとき(制御信号/GcplがLレベルであるとき)に一斉にオンする
Specifically, in each column, the transmission gate 42 is electrically inserted between the output terminal of the transmission gate 34 and the other end of the storage capacitor 44. That is, the input terminal of the transmission gate 42 is connected to the output terminal of the transmission gate 34, and the output terminal of the transmission gate 42 is connected to the other end of the storage capacitor 44 .
Note that the transmission gates 42 in each column are turned on all at once when the control signal Gcpl supplied from the control circuit 5 is at the H level (when the control signal / Gcpl is at the L level) .

また、各列において保持容量41の一端は、トランスミッションゲート34の出力端(トランスミッションゲート42の入力端)に接続され、保持容量41の他端は、固定電位、例えば電位Vssに共通に接地されている。図11では省略しているが、保持容量41の容量をCrf2とする。なお、電位Vssは、論理信号である走査信号や制御信号のLレベルに相当する。   In each column, one end of the storage capacitor 41 is connected to the output terminal of the transmission gate 34 (the input terminal of the transmission gate 42), and the other end of the storage capacitor 41 is grounded to a fixed potential, for example, the potential Vss. I have. Although not shown in FIG. 11, the capacitance of the storage capacitor 41 is assumed to be Crf2. Note that the potential Vss corresponds to an L level of a scan signal or a control signal which is a logic signal.

<第2実施形態の動作>
図12を参照して第2実施形態に係る電気光学装置10の動作について説明する。図12は、第2実施形態における動作を説明するためのタイミングチャートである。
この図に示されるように、走査信号Gwr(1)〜Gwr(m)が順次Lレベルに切り替えられて、1フレームの期間において1〜m行目の走査線12が1水平走査期間(H)毎に順番に走査される点については、第1実施形態と同様である。また、第2実施形態ではi行目の走査期間が、(b)で示される初期化期間と(c)で示される補償期間と(d)で示される書込期間との順となっている点についても、第1実施形態と同様である。なお、第2実施形態において(d)の書込期間は、制御信号GcplがLからHレベルになるとき(制御信号/GcplがLレベルになったとき)から走査信号がLからHレベルになるときまでの期間である。
第2実施形態においても、第1実施形態と同様に、時間の順でいえば(発光期間)→初期化期間→補償期間→書込期間→(発光期間)というサイクルの繰り返しとなる。ただし、第2実施形態では、第1実施形態と比較して、データ信号の供給期間イコール書込期間ではなく、データ信号の供給が書込期間よりも先行している点において相違している。詳細には、第2実施形態では、(a)の初期化期間と(b)の補償期間とにわたって、データ信号が供給され得る点において第1実施形態と相違している。
<Operation of Second Embodiment>
The operation of the electro-optical device 10 according to the second embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 12 is a timing chart for explaining the operation in the second embodiment.
As shown in this figure, the scanning signals Gwr (1) to Gwr (m) are sequentially switched to the L level, and the scanning lines 12 of the 1st to mth rows are in one horizontal scanning period (H) in one frame period. It is the same as the first embodiment in that the scanning is performed in order every time. In the second embodiment, the scanning period of the i-th row is in the order of the initialization period shown in (b), the compensation period shown in (c), and the writing period shown in (d). This is the same as in the first embodiment. In the writing period (d) in the second embodiment, the scanning signal changes from L to H level from when the control signal Gcpl changes from L to H level (when the control signal / Gcpl changes to L level). It is a period until time.
In the second embodiment, as in the first embodiment, the cycle of (emission period) → initialization period → compensation period → write period → (emission period) is repeated in the order of time. However, the second embodiment is different from the first embodiment in that the data signal supply period precedes the write period, not the data signal supply period equal write period. Specifically, the second embodiment is different from the first embodiment in that a data signal can be supplied over an initialization period (a) and a compensation period (b).

<発光期間>
第2実施形態では、図12に示されるように、i行目の発光期間では走査信号Gwr(i)がHレベルであり、また、制御信号Gel(i)がLレベルであり、制御信号Gcmp(i)、Gorst(i)がHレベルである。
このため、図13に示されるようにi行(3j−2)列の画素回路110においては、トランジスター124がオンする一方、トランジスター122、123、125がオフするので、当該画素回路110における動作は基本的に第1実施形態と同様となる。すなわち、トランジスター121は、ゲート・ソース間の電圧Vgsに応じた電流IdsをOLED130に供給することになる。
<Emission period>
In the second embodiment, as shown in FIG. 12, during the light emission period of the i-th row, the scanning signal Gwr (i) is at the H level, the control signal Gel (i) is at the L level, and the control signal Gcmp (i), Gorst (i) is at H level.
Therefore, as illustrated in FIG. 13, in the pixel circuit 110 in the i-th row (3j−2) column, the transistor 124 is turned on while the transistors 122, 123, and 125 are turned off. Basically, it is the same as the first embodiment. That is, the transistor 121 supplies a current Ids according to the gate-source voltage Vgs to the OLED 130.

<初期化期間>
i行目の走査期間に至って、まず(b)の初期化期間が開始する。
第2実施形態において初期化期間では、発光期間と比較して、制御信号Gel(i)がHレベルに、制御信号Gorst(i)がLレベルに、それぞれ変化する。
このため、図14に示されるように、i行(3j−2)列の画素回路110においてはトランジスター124がオフし、トランジスター125がオンする。これによってOLED130に供給される電流の経路が遮断されるとともに、トランジスター124のオンによってOLED130のアノードが電位Vorstにリセットされるので、当該画素回路110における動作は基本的に第1実施形態と同様となる。
<Initialization period>
When the scanning period of the i-th row is reached, first, the initialization period (b) starts.
In the initialization period in the second embodiment, the control signal Gel (i) changes to the H level and the control signal Gorst (i) changes to the L level as compared with the light emission period.
Therefore, as shown in FIG. 14, in the pixel circuit 110 in the i-th row (3j-2) column, the transistor 124 is turned off and the transistor 125 is turned on. As a result, the path of the current supplied to the OLED 130 is cut off, and the anode of the OLED 130 is reset to the potential Vorst by turning on the transistor 124. Therefore, the operation of the pixel circuit 110 is basically the same as that of the first embodiment. Become.

一方、第2実施形態において初期化期間では、制御信号/GiniがLレベルになり、制御信号GrefがHレベルになるとともに、制御信号GcplがLレベルになる。このため、レベルシフト回路40においては、図14に示されるようにトランジスター45、43がそれぞれオンするとともに、トランスミッションゲート42がオフする。したがって、保持容量44の一端であるデータ線14は電位Viniに、保持容量44の他端であるノードhは電位Vrefに、それぞれ初期化される。
第2実施形態では電位Vrefについては、データ信号Vd(1)〜Vd(n)が取り得る電位に対して、第1実施形態と同様に、後の書込期間においてノードhの電位が上昇変化するような値に設定される。
On the other hand, in the initialization period in the second embodiment, the control signal / Gini goes low, the control signal Gref goes high, and the control signal Gcpl goes low. Therefore, in the level shift circuit 40, as shown in FIG. 14, the transistors 45 and 43 are turned on, and the transmission gate 42 is turned off. Therefore, the data line 14 which is one end of the storage capacitor 44 is initialized to the potential Vini, and the node h which is the other end of the storage capacitor 44 is initialized to the potential Vref.
In the second embodiment, as to the potential Vref, the potential of the node h rises and changes in a later writing period with respect to the potential of the data signals Vd (1) to Vd (n), as in the first embodiment. Is set to a value that

上述したように、第2実施形態において制御回路5は、初期化期間および補償期間にわたってデータ信号を供給する。すなわち、制御回路5は、j番目のグループでいえば、データ信号Vd(j)を順番に、i行(3j−2)列、i行(3j−1)列、i行(3j)列の画素の階調レベルに応じた電位に切り替える一方、データ信号の電位の切り替えに合わせて制御信号Sel(1)、Sel(2)、Sel(3)を順番に排他的にHレベルとする。これによって、デマルチプレクサ30では、各グループにおいてトランスミッションゲート34がそれぞれ左端列、中央列、右端列の順番でオンする。
ここで、初期化期間において、j番目のグループに属する左端列のトランスミッションゲート34が制御信号Sel(1)によってオンする場合、図14に示されるように、データ信号Vd(j)が保持容量41の一端に供給されるので、当該データ信号は、保持容量41によって保持される。
As described above, in the second embodiment, the control circuit 5 supplies the data signal over the initialization period and the compensation period. That is, in the j-th group, the control circuit 5 sequentially transmits the data signal Vd (j) to the i-th row (3j-2) column, the i-th row (3j-1) column, and the i-th row (3j) column. The control signal Sel (1), Sel (2), and Sel (3) are exclusively set to the H level in order in accordance with the switching of the potential of the data signal, while switching to the potential corresponding to the gradation level of the pixel. Thus, in the demultiplexer 30, the transmission gates 34 in each group are turned on in the order of the leftmost column, the center column, and the rightmost column.
Here, during the initialization period, when the transmission gate 34 in the leftmost column belonging to the j-th group is turned on by the control signal Sel (1), as shown in FIG. The data signal is stored in the storage capacitor 41.

<補償期間>
i行目の走査期間においては、次に(c)の補償期間となる。第2実施形態において補償期間では、初期化期間と比較して、走査信号Gwr(i)がLレベルに、制御信号Gcmp(i)がLレベルに、それぞれ変化する。
このため、図15に示されるように、i行(3j−2)列の画素回路110ではトランジスター122がオンして、ゲートノードgがデータ線14に電気的に接続される一方、トランジスター123のオンによって、トランジスター121がダイオード接続となる。
したがって、電流が、給電線116→トランジスター121→トランジスター123→トランジスター122→(3j−2)列目のデータ線14という経路で流れるので、ゲートノードgは、電位Viniから上昇し、やがて(Vel−|Vth|)に飽和する。したがって、第2実施形態においても、保持容量132は、補償期間の終了に至るまでにトランジスター121の閾値電圧|Vth|を保持することになる。
<Compensation period>
In the scanning period of the i-th row, the compensation period shown in FIG. In the compensation period in the second embodiment, the scanning signal Gwr (i) changes to the L level and the control signal Gcmp (i) changes to the L level as compared with the initialization period.
Therefore, as shown in FIG. 15, in the pixel circuit 110 in the i-th row (3j-2) column, the transistor 122 is turned on, and the gate node g is electrically connected to the data line 14 while the transistor 123 is turned on. When turned on, the transistor 121 is diode-connected.
Therefore, the current flows through the path of the power supply line 116 → the transistor 121 → the transistor 123 → the transistor 122 → the data line 14 in the (3j-2) th column, so that the gate node g rises from the potential Vini and then (Vel− | Vth |). Therefore, also in the second embodiment, the storage capacitor 132 holds the threshold voltage | Vth | of the transistor 121 until the end of the compensation period.

第2実施形態において、補償期間では、制御信号GrefがHレベルを維持した状態で制御信号/GiniがHレベルになるので、レベルシフト回路40においてノードhは電位Vrefに固定される。
また、補償期間において、j番目のグループに属する左端列のトランスミッションゲート34が制御信号Sel(1)によってオンする場合、図15に示されるように、データ信号Vd(j)が保持容量41によって保持される。
In the second embodiment, during the compensation period, the control signal / Gini becomes H level while the control signal Gref is maintained at H level, so that the node h in the level shift circuit 40 is fixed at the potential Vref.
When the transmission gate 34 in the leftmost column belonging to the j-th group is turned on by the control signal Sel (1) during the compensation period, the data signal Vd (j) is held by the holding capacitor 41 as shown in FIG. Is done.

なお、すでに初期化期間において、j番目のグループに属する左端列のトランスミッションゲート34が制御信号Sel(1)によってオンした場合には、補償期間において、当該トランスミッションゲート34はオンすることはないが、保持容量41にデータ信号Vd(j)が保持されている点において変わりはない。
また、補償期間が終了すると、制御信号Gcmp(i)がHレベルになるので、トランジスター121のダイオード接続が解除される。
If the transmission gate 34 in the leftmost column belonging to the j-th group has already been turned on by the control signal Sel (1) during the initialization period, the transmission gate 34 will not be turned on during the compensation period. There is no change in that the data signal Vd (j) is stored in the storage capacitor 41.
When the compensation period ends, the control signal Gcmp (i) becomes H level, so that the diode connection of the transistor 121 is released.

第2実施形態においては、補償期間が終了してから次の書込期間が開始するまでの間において制御信号GrefがLレベルになるので、トランジスター43がオフになる。このため、(3j−2)列目のデータ線14からi行(3j−2)列の画素回路110におけるゲートノードgに至るまでの経路は、フローティング状態になるものの、当該経路の電位は、保持容量50、132によって(Vel−|Vth|)に維持される。   In the second embodiment, since the control signal Gref is at the L level between the end of the compensation period and the start of the next writing period, the transistor 43 is turned off. Therefore, the path from the data line 14 in the (3j-2) th column to the gate node g in the pixel circuit 110 in the i-th row (3j-2) column is in a floating state, but the potential of the path is It is maintained at (Vel− | Vth |) by the storage capacitors 50 and 132.

<書込期間>
第2実施形態において書込期間では、制御信号GcplがHレベルとなる(制御信号/GcplがLレベルとなる)。このため、図16に示されるように、レベルシフト回路40においてトランスミッションゲート42がオンするので、保持容量41に保持されたデータ信号が保持容量44の他端であるノードhに供給される。このため、ノードhは、補償期間における電位Vrefからシフトする。すなわち、ノードhは電位(Vref+ΔV)に変化する。
<Write period>
In the writing period in the second embodiment, the control signal Gcpl is at the H level (the control signal / Gcpl is at the L level). As a result, as shown in FIG. 16, the transmission gate 42 is turned on in the level shift circuit 40, so that the data signal stored in the storage capacitor 41 is supplied to the node h which is the other end of the storage capacitor 44. Therefore, the node h shifts from the potential Vref in the compensation period. That is, the node h changes to the potential (Vref + ΔV).

一方、ゲートノードgは、保持容量44の一端にデータ線14を介して接続されているので、補償期間における電位(Vel−|Vth|)から、ノードhの電位変化分ΔVに容量比k2を乗じた値だけ上昇する方向にシフトした値となる。すなわち、ゲートノードgの電位は、補償期間における電位(Vel−|Vth|)から、ノードhの電位変化分ΔVに容量比k2を乗じた値だけ、上昇方向にシフトした値(Vel−|Vth|+k2・ΔV)となる。
なお、第2実施形態において、容量比k2は、Cdt、Crf1、Crf2の容量比である。上述したように、保持容量132の容量Cpixについては無視している。
また、このとき、トランジスター121の電圧Vgsで絶対値で表現すると、閾値電圧|Vth|からゲートノードgの電位上昇したシフト分だけ減じた値(|Vth|−k2・ΔV)となる。
On the other hand, since the gate node g is connected to one end of the storage capacitor 44 via the data line 14, the capacitance ratio k2 is changed from the potential (Vel− | Vth |) during the compensation period to the potential change ΔV of the node h. The value is shifted in a direction to increase by the multiplied value. In other words, the potential of the gate node g is shifted upward from the potential (Vel− | Vth |) during the compensation period by a value obtained by multiplying the potential change ΔV of the node h by the capacitance ratio k2 (Vel− | Vth). | + K2 ・ ΔV).
In the second embodiment, the capacitance ratio k2 is a capacitance ratio of Cdt, Crf1, and Crf2. As described above, the capacity Cpix of the storage capacity 132 is ignored.
At this time, if the voltage Vgs of the transistor 121 is expressed as an absolute value, the threshold voltage | Vth | becomes a value (| Vth | -k2.multidot..DELTA.V) obtained by subtracting the shift of the potential rise of the gate node g from the threshold voltage | Vth |.

<発光期間>
第2実施形態では、i行目の書込期間の終了した後、1水平走査期間の間をおいて発光期間に至る。この発光期間では、上述したように制御信号Gel(i)がLレベルになるので、i行(3j−2)列の画素回路110においては、トランジスター124がオンする。
ゲート・ソース間の電圧Vgsは(|Vth|−k2・ΔV)であり、トランジスター121の閾値電圧からデータ信号の電位によってレベルシフトした値である。このため、OLED130には、先の図13に示したように、階調レベルに応じた電流がトランジスター121の閾値電圧を補償した状態で供給されることになる。
このような動作は、i行目の走査期間において、(3j−2)列目の画素回路110以外のi行目の他の画素回路110においても時間的に並列して実行される。さらに、このようなi行目の動作は、実際には、1フレームの期間において1、2、3、…、(m−1)、m行目の順番で実行されるとともに、フレーム毎に繰り返される。
<Emission period>
In the second embodiment, after the end of the writing period of the i-th row, the light-emitting period starts one horizontal scanning period. In this light emission period, the control signal Gel (i) is at the L level as described above, so that the transistor 124 is turned on in the pixel circuit 110 in the i-th row (3j-2) column.
The gate-source voltage Vgs is (| Vth | -k2.multidot..DELTA.V), which is a value obtained by level-shifting the threshold voltage of the transistor 121 by the potential of the data signal. Therefore, as shown in FIG. 13, a current corresponding to the gradation level is supplied to the OLED 130 in a state where the threshold voltage of the transistor 121 is compensated.
Such an operation is also performed in time parallel in the other pixel circuits 110 in the i-th row other than the pixel circuit 110 in the (3j-2) -th column in the scanning period of the i-th row. Further, such an operation on the i-th row is actually executed in the order of 1, 2, 3,..., (M−1), and the m-th row during the period of one frame, and is repeated for each frame. It is.

第2実施形態によれば、第1実施形態と同様に、微細な画素回路110においてトランジスター121のゲート・ソース間の電圧Vgsに対しOLED130に流れる微小電流が相対的に大きく変化する場合であっても、OLED130に供給する電流を精度良く制御することが可能になる。
第2実施形態によれば、第1実施形態と同様に、発光期間においてOLED130の寄生容量に保持された電圧を十分に初期化することができるほか、トランジスター121の閾値電圧が画素回路110毎にばらついても、表示画面の一様性を損なうような表示ムラの発生を抑えられる結果、高品位の表示が可能になる。
According to the second embodiment, similar to the first embodiment, in the fine pixel circuit 110, the minute current flowing through the OLED 130 changes relatively largely with respect to the gate-source voltage Vgs of the transistor 121. Also, the current supplied to the OLED 130 can be accurately controlled.
According to the second embodiment, similarly to the first embodiment, it is possible to sufficiently initialize the voltage held in the parasitic capacitance of the OLED 130 during the light emission period, and to set the threshold voltage of the transistor 121 for each pixel circuit 110. Even if there is variation, the occurrence of display unevenness that impairs the uniformity of the display screen can be suppressed, so that high-quality display can be achieved.

第2実施形態によれば、制御回路5からデマルチプレクサ30を介して供給されるデータ信号を、保持容量41に保持させる動作が、初期化期間から補償期間までにわたって実行される。このため、1水平走査期間に実行すべき動作について時間的な制約を緩和することができる。
例えば、補償期間においてゲート・ソース間電圧Vgsが閾値電圧に近づくにつれ、トランジスター121に流れる電流が低下するので、ゲートノードgを電位(Vel−|Vth|)に収束するまで時間を要するが、第2実施形態では、第1実施形態と比較して図12に示されるように補償期間を長く確保することができる。このため、第2実施形態によれば、第1実施形態と比較して、トランジスター121の閾値電圧のばらつきを、精度良く補償することができる。
また、データ信号の供給動作についても低速化することができる。
According to the second embodiment, the operation of holding the data signal supplied from the control circuit 5 via the demultiplexer 30 in the holding capacitor 41 is executed from the initialization period to the compensation period. For this reason, it is possible to ease the time constraint on the operation to be performed during one horizontal scanning period.
For example, as the gate-source voltage Vgs approaches the threshold voltage in the compensation period, the current flowing through the transistor 121 decreases. Therefore, it takes time until the gate node g converges to the potential (Vel− | Vth |). In the second embodiment, as shown in FIG. 12, a longer compensation period can be secured than in the first embodiment. For this reason, according to the second embodiment, the variation in the threshold voltage of the transistor 121 can be compensated more accurately than in the first embodiment.
Further, the speed of the data signal supply operation can be reduced.

<応用・変形例>
本発明は、上述した実施形態や応用例などの実施形態等に限定されるものではなく、例えば次に述べるような各種の変形が可能である。また、次に述べる変形の態様は、任意に選択された一または複数を適宜に組み合わせることもできる。
<Applications / Modifications>
The present invention is not limited to the above-described embodiments and application examples, and various modifications as described below are possible, for example. In addition, one or a plurality of arbitrarily selected modifications may be appropriately combined with each other.

<制御回路>
実施形態において、データ信号を供給する制御回路5については電気光学装置10とは別体としたが、制御回路5についても、走査線駆動回路20やデマルチプレクサ30、レベルシフト回路40とともに、シリコン基板に集積化しても良い。
<Control circuit>
In the embodiment, the control circuit 5 for supplying the data signal is provided separately from the electro-optical device 10. However, the control circuit 5 is also provided on the silicon substrate together with the scanning line drive circuit 20, the demultiplexer 30, and the level shift circuit 40. Alternatively, they may be integrated.

<基板>
実施形態においては、電気光学装置10をシリコン基板に集積した構成としたが、他の半導体基板に集積した構成しても良い。また、ポリシリコンプロセスを適用してガラス基板等に形成しても良い。いずれにしても、画素回路110が微細化して、トランジスター121において、ゲート電圧Vgsの変化に対しドレイン電流が指数関数的に大きく変化する構成に有効である。
<Substrate>
In the embodiment, the electro-optical device 10 is configured to be integrated on a silicon substrate, but may be configured to be integrated on another semiconductor substrate. Further, a polysilicon process may be applied to form a glass substrate or the like. In any case, the pixel circuit 110 is miniaturized, and this is effective for a configuration in which the drain current of the transistor 121 greatly changes exponentially with respect to the change of the gate voltage Vgs.

<制御信号Gcmp(i)>
実施形態等において、i行目でいえば、書込期間において制御信号Gcmp(i)をHレベルとしたが、Lレベルとしても良い。すなわち、トランジスター123をオンさせることによる閾値補償とノードゲートgへの書き込みとを並行して実行する構成としても良い。
<Control signal Gcmp (i)>
In the embodiments and the like, in the i-th row, the control signal Gcmp (i) is set to the H level during the writing period, but may be set to the L level. That is, the threshold compensation by turning on the transistor 123 and the writing to the node gate g may be performed in parallel.

<デマルチプレクサ>
実施形態等では、データ線14を3列毎にグループ化するとともに、各グループにおいてデータ線14を順番に選択して、データ信号を供給する構成としたが、グループを構成するデータ線数については「2」であっても良いし、「4」以上であっても良い。
また、グループ化せずに、すなわちデマルチプレクサ30を用いないで各列のデータ線14にデータ信号を一斉に線順次で供給する構成でも良い。
<Demultiplexer>
In the embodiment and the like, the data lines 14 are grouped every three columns, and the data lines 14 are sequentially selected in each group and the data signals are supplied. It may be “2” or “4” or more.
Also, a configuration may be adopted in which data signals are supplied to the data lines 14 in each column at the same time line-sequentially without grouping, that is, without using the demultiplexer 30.

<トランジスターのチャネル型>
上述した実施形態等では、画素回路110におけるトランジスター121〜125をPチャネル型で統一したが、Nチャネル型で統一しても良い。また、Pチャネル型およびNチャネル型を適宜組み合わせても良い。
<Transistor channel type>
In the above-described embodiments and the like, the transistors 121 to 125 in the pixel circuit 110 are unified with the P-channel type, but may be unified with the N-channel type. Further, the P-channel type and the N-channel type may be appropriately combined.

<その他>
実施形態等では、電気光学素子として発光素子であるOLEDを例示したが、例えば無機発光ダイオードやLED(Light Emitting Diode)など、電流に応じた輝度で発光するものであれば良い。
<Others>
In the embodiments and the like, an OLED which is a light emitting element is exemplified as the electro-optical element. However, an electroluminescent element such as an inorganic light emitting diode or an LED (Light Emitting Diode) may be used as long as it emits light at a luminance corresponding to a current.

<電子機器>
次に、実施形態等や応用例に係る電気光学装置10を適用した電子機器について説明する。電気光学装置10は、画素が小サイズで高精細な表示な用途に向いている。そこで、電子機器として、ヘッドマウント・ディスプレイを例に挙げて説明する。
<Electronic equipment>
Next, an electronic apparatus to which the electro-optical device 10 according to the embodiment and the application example is applied will be described. The electro-optical device 10 is suitable for applications in which pixels have a small size and high-definition display. Therefore, a description will be given taking a head-mounted display as an example of the electronic apparatus.

図17は、ヘッドマウント・ディスプレイの外観を示す図であり、図18は、その光学的な構成を示す図である。
まず、図17に示されるように、ヘッドマウント・ディスプレイ300は、外観的には、一般的な眼鏡と同様にテンプル310や、ブリッジ320、レンズ301L、301Rを有する。また、ヘッドマウント・ディスプレイ300は、図18に示されるように、ブリッジ320近傍であってレンズ301L、301Rの奥側(図において下側)には、左眼用の電気光学装置10Lと右眼用の電気光学装置10Rとが設けられる。
電気光学装置10Lの画像表示面は、図18において左側となるように配置している。これによって電気光学装置10Lによる表示画像は、光学レンズ302Lを介して図において9時の方向に出射する。ハーフミラー303Lは、電気光学装置10Lによる表示画像を6時の方向に反射させる一方で、12時の方向から入射した光を透過させる。
電気光学装置10Rの画像表示面は、電気光学装置10Lとは反対の右側となるように配置している。これによって電気光学装置10Rによる表示画像は、光学レンズ302Rを介して図において3時の方向に出射する。ハーフミラー303Rは、電気光学装置10Rによる表示画像を6時方向に反射させる一方で、12時の方向から入射した光を透過させる。
FIG. 17 is a diagram showing an appearance of a head mounted display, and FIG. 18 is a diagram showing an optical configuration thereof.
First, as shown in FIG. 17, the head-mounted display 300 has a temple 310, a bridge 320, and lenses 301L and 301R in appearance, similar to general glasses. Also, as shown in FIG. 18, the head mounted display 300 includes the electro-optical device 10L for the left eye and the right eye on the back side (the lower side in the figure) of the lenses 301L and 301R near the bridge 320. And an electro-optical device 10R.
The image display surface of the electro-optical device 10L is disposed so as to be on the left side in FIG. Thereby, the display image by the electro-optical device 10L is emitted in the direction of 9 o'clock in the figure via the optical lens 302L. The half mirror 303L reflects an image displayed by the electro-optical device 10L in the direction of 6 o'clock, while transmitting light incident from the direction of 12:00.
The image display surface of the electro-optical device 10R is disposed on the right side opposite to the electro-optical device 10L. As a result, the image displayed by the electro-optical device 10R is emitted in the direction of 3 o'clock in the figure via the optical lens 302R. The half mirror 303R reflects an image displayed by the electro-optical device 10R in the 6 o'clock direction while transmitting light incident from the 12:00 o'clock direction.

この構成において、ヘッドマウント・ディスプレイ300の装着者は、電気光学装置10L、10Rによる表示画像を、外の様子と重ね合わせたシースルー状態で観察することができる。
また、このヘッドマウント・ディスプレイ300において、視差を伴う両眼画像のうち、左眼用画像を電気光学装置10Lに表示させ、右眼用画像を電気光学装置10Rに表示させると、装着者に対し、表示された画像があたかも奥行きや立体感を持つかのように知覚させることができる(3D表示)。
In this configuration, the wearer of the head-mounted display 300 can observe a display image by the electro-optical devices 10L and 10R in a see-through state superimposed on an outside state.
Further, in the head-mounted display 300, of the binocular images with parallax, the left-eye image is displayed on the electro-optical device 10L and the right-eye image is displayed on the electro-optical device 10R. The displayed image can be perceived as if it has a depth and a three-dimensional effect (3D display).

なお、電気光学装置10については、ヘッドマウント・ディスプレイ300のほかにも、ビデオカメラやレンズ交換式のデジタルカメラなどにおける電子式ビューファインダーにも適用可能である。   The electro-optical device 10 can be applied to an electronic viewfinder in a video camera, a digital camera with interchangeable lenses, and the like, in addition to the head-mounted display 300.

10…電気光学装置、12…走査線、14…データ線、20…走査線駆動回路、30…デマルチプレクサ、40…レベルシフト回路、41、44、50…保持容量、100…表示部、110…画素回路、116…給電線、118…共通電極、121〜125…トランジスター、130…OLED、132…保持容量、300…ヘッドマウント・ディスプレイ。

DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Electro-optical device, 12 ... Scan line, 14 ... Data line, 20 ... Scan line drive circuit, 30 ... Demultiplexer, 40 ... Level shift circuit, 41,44,50 ... Storage capacity, 100 ... Display part, 110 ... Pixel circuit, 116 power supply line, 118 common electrode, 121 to 125 transistor, 130 OLED, 132 storage capacitor, 300 head mounted display.

Claims (9)

データ信号を出力するデータ信号出力回路と、
前記データ信号が供給される第1入力端と、第1出力端とを有する第1スイッチと、
前記第1出力端に接続された第2入力端と、第2出力端とを有する第2スイッチと、
前記第1出力端及び前記第2スイッチの前記第2入力端の電位を保持する第1容量素子と、
一端が前記第2スイッチの前記第2出力端に接続された第2容量素子と、
前記第2容量素子の他端に接続された第1配線と、
前記第1配線に接続され、発光素子を含む画素回路と、
第1電位が供給された第1給電線と、
前記第2出力端及び前記第2容量素子の一端と、前記第1給電線との間の導通または非導通を制御する第3スイッチと、
を備え、
前記第1スイッチと前記第2スイッチとは排他的にオンする
ことを特徴とする電気光学装置。
A data signal output circuit for outputting a data signal;
A first switch having a first input terminal to which the data signal is supplied, and a first output terminal;
A second switch having a second input terminal connected to the first output terminal and a second output terminal;
A first capacitor that holds the potentials of the first output terminal and the second input terminal of the second switch;
A second capacitive element having one end connected to the second output terminal of the second switch;
A first wiring connected to the other end of the second capacitance element;
A pixel circuit connected to the first wiring and including a light emitting element ;
A first power supply line to which a first potential is supplied,
A third switch for controlling conduction or non-conduction between the second output terminal and one end of the second capacitance element, and the first power supply line;
With
The electro-optical device, wherein the first switch and the second switch are exclusively turned on.
初期化電位が供給された第2給電線と、
前記第2容量素子の他端及び前記第1配線と、前記第2給電線との間の導通または非導通を制御する第4スイッチと、
をさらに備える
ことを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
A second power supply line to which the reset potential has been supplied;
A fourth switch for controlling conduction or non-conduction between the other end of the second capacitance element and the first wiring, and the second power supply line;
The electro-optical device according to claim 1, further comprising:
前記画素回路は、
第1トランジスターと、
2端子を有する前記発光素子と、
前記第1配線と前記第1トランジスターのゲートとの間でオンまたはオフする第2トランジスターと、
前記第1トランジスターにおけるゲートとドレインとの間でオンまたはオフする第3トランジスターと、
を含み、
前記第1トランジスターと前記発光素子とは、高位側の電源と低位側の電源との間で直列に接続される
ことを特徴とする請求項1または2に記載の電気光学装置。
The pixel circuit includes:
A first transistor;
And the light emitting element having two terminals,
A second transistor that is turned on or off between the first wiring and the gate of the first transistor;
A third transistor that is turned on or off between a gate and a drain of the first transistor;
Including
3. The electro-optical device according to claim 1, wherein the first transistor and the light emitting element are connected in series between a power supply on a higher side and a power supply on a lower side. 4.
前記画素回路は、
前記発光素子における2端子のうち、前記第1トランジスター側の端子と、所定のリセット電位を給電する第3給電線との間でオンまたはオフする第4トランジスターを有する ことを特徴とする請求項3に記載の電気光学装置。
The pixel circuit includes:
The light emitting device according to claim 3, further comprising: a fourth transistor that turns on or off between a terminal on the first transistor side and a third power supply line that supplies a predetermined reset potential, among the two terminals of the light emitting element. An electro-optical device according to claim 1.
前記第1配線に沿って設けられた第3給電線をさらに備える
ことを特徴とする請求項1乃至のいずれかに記載の電気光学装置。
The electro-optical device according to any one of claims 1 to 3, further comprising a third feeding lines provided along said first wire.
一端が前記第1配線に接続され、他端が前記第3給電線に接続された第3容量素子をさらに備える
ことを特徴とする請求項5に記載の電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 5, further comprising a third capacitance element having one end connected to the first wiring and the other end connected to the third power supply line.
前記第2容量素子の容量は、前記第3容量素子の容量よりも小さい
ことを特徴とする請求項6に記載の電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 6, wherein the capacitance of the second capacitance element is smaller than the capacitance of the third capacitance element.
データ信号を出力するデータ信号出力回路と、
前記データ信号が供給される共通端子と、第1出力端とを有する第1スイッチと、
前記データ信号が供給される共通端子と、第2出力端とを有する第2スイッチと、
前記第1出力端に接続された第1入力端と、第3出力端とを有する第スイッチと、
前記第2出力端に接続された第2入力端と、第4出力端とを有する第スイッチと、
前記第1出力端及び前記第1入力端の電位を保持する第1容量素子と、
前記第2出力端及び前記第2入力端の電位を保持する第2容量素子と、
一端が前記第3出力端に接続された第3容量素子と、
一端が前記第4出力端に接続された第4容量素子と、
前記第3容量素子の他端に接続された第1配線と、
前記第4容量素子の他端に接続された第2配線と、
前記第1配線に接続され、第1発光素子を含む第1画素回路と、
前記第2配線に接続され、第2発光素子を含む第2画素回路と、
第1電位が供給された第1給電線と、
前記第3出力端及び前記第3容量素子の一端と、前記第1給電線との間の導通または非導通を制御する第スイッチと、
前記第4出力端及び前記第4容量素子の一端と、前記第1給電線との間の導通または非導通を制御する第スイッチと、
を備え、
前記第1スイッチと前記第3スイッチとは排他的にオンし、
前記第2スイッチと前記第4スイッチとは排他的にオンする
ことを特徴とする電気光学装置。
A data signal output circuit for outputting a data signal;
A first switch having a common terminal to which the data signal is supplied, and a first output terminal ;
A second switch having a common terminal to which the data signal is supplied, and a second output terminal;
A third switch having a first input terminal connected to the first output terminal and a third output terminal;
A fourth switch having a second input terminal connected to the second output terminal and a fourth output terminal;
A first capacitance element that holds a potential of the first output terminal and the first input terminal;
A second capacitor that holds the potentials of the second output terminal and the second input terminal;
A third capacitive element having one end connected to the third output end;
A fourth capacitive element having one end connected to the fourth output end;
A first wiring connected to the other end of the third capacitive element,
A second wiring connected to the other end of the fourth capacitance element,
A first pixel circuit connected to the first wiring and including a first light emitting element ;
A second pixel circuit connected to the second wiring and including a second light emitting element ;
A first power supply line to which a first potential is supplied,
A fifth switch for controlling conduction or non-conduction between the third output terminal and one end of the third capacitance element, and the first power supply line;
A sixth switch for controlling conduction or non-conduction between the fourth output terminal and one end of the fourth capacitance element, and the first power supply line;
With
The first switch and the third switch are exclusively turned on,
An electro-optical device, wherein the second switch and the fourth switch are exclusively turned on .
請求項1乃至8のいずれかに記載の電気光学装置を備える
ことを特徴とする電子機器。
An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 1.
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