JP6822595B2 - Electro-optics and electronic equipment - Google Patents

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本発明は、電気光学装置及び電子機器に関する。 The present invention relates to electro-optical devices and electronic devices.

近年、有機発光ダイオード(Organic Light Emitting Diode、以下「OLED」という)素子などの発光素子を用いて画像を表示する電気光学装置が各種提案されている。この電気光学装置では、表示すべき画像の画素に対応して、発光素子やトランジスター等を含む画素回路が設けられる。具体的には、表示すべき画像の画素に対応した複数の画素回路がマトリクス状に設けられるとともに、複数の画素回路を駆動するために、各行に走査線等の制御線が設けられる構成が一般的である。(例えば特許文献1参照)。 In recent years, various electro-optical devices have been proposed that display an image using a light emitting element such as an organic light emitting diode (hereinafter referred to as "OLED") element. In this electro-optical device, a pixel circuit including a light emitting element, a transistor, and the like is provided corresponding to the pixels of the image to be displayed. Specifically, a plurality of pixel circuits corresponding to the pixels of the image to be displayed are provided in a matrix, and a control line such as a scanning line is generally provided in each line in order to drive the plurality of pixel circuits. Is the target. (See, for example, Patent Document 1).

特開2007−316462号公報JP-A-2007-316462

ところで、近年、電気光学装置に対して、表示サイズの小型化や表示の高精細化が要求されることが多い。この場合には、画素回路を高密度で配置するために、制御線の狭ピッチ化が必要となる。
本発明は上述した事情に鑑みてなされたものであり、その目的の一つは、複数の走査線を含む複数の制御線の高密度での配線を実現し、表示の高精細化または表示サイズの小型化を実現することである。
By the way, in recent years, electro-optic devices are often required to have a smaller display size and higher definition. In this case, in order to arrange the pixel circuits at high density, it is necessary to narrow the pitch of the control lines.
The present invention has been made in view of the above circumstances, and one of the purposes thereof is to realize high-density wiring of a plurality of control lines including a plurality of scanning lines, and to increase the definition or display size of the display. It is to realize the miniaturization of.

上記目的を達成するために本発明に係る電気光学装置は、走査線と、前記走査線と交差するデータ線と、前記走査線と前記データ線との交差に対応して設けられた画素回路と、を備え、前記画素回路は、駆動トランジスターと、ゲートが前記走査線に電気的に接続された書込トランジスターと、前記データ線と前記書込トランジスターとを介して供給されるデータ信号に応じた電荷を保持する第1保持容量と、前記駆動トランジスターを介して供給される電流の大きさに応じた輝度で発光する発光素子と、を有し、前記画素回路が形成される基板の面に垂直な方向から見たときに、前記走査線と、前記駆動トランジスターのゲートとが重なる、ことを特徴とする。
この発明によれば、走査線を駆動トランジスターのゲート上に配線するため、走査線が駆動トランジスターのゲートと交差しないように配線する場合に比べて、走査線を設ける際のスペース的な制約が緩和される。これにより、走査線の狭ピッチ化、配線の高密度化が可能となる。すなわち、本発明によれば、複数の画素回路をより高密度に配置することができ、表示の高精細化及び表示サイズの小型化が可能になる。なお、本発明において、書込トランジスターは、例えば、駆動トランジスターのゲートとデータ線との間に電気的に接続されるものであってもよい。
In order to achieve the above object, the electro-optical device according to the present invention includes a scanning line, a data line intersecting the scanning line, and a pixel circuit provided corresponding to the intersection of the scanning line and the data line. The pixel circuit responds to a drive transistor, a write transistor whose gate is electrically connected to the scan line, and a data signal supplied via the data line and the write transistor. It has a first holding capacitance that holds a charge and a light emitting element that emits light with a brightness corresponding to the magnitude of the current supplied via the drive transistor, and is perpendicular to the surface of the substrate on which the pixel circuit is formed. When viewed from a different direction, the scanning line and the gate of the driving transistor overlap each other.
According to the present invention, since the scanning line is wired on the gate of the driving transistor, the space restriction when providing the scanning line is relaxed as compared with the case where the scanning line is wired so as not to intersect the gate of the driving transistor. Will be done. This makes it possible to narrow the pitch of scanning lines and increase the density of wiring. That is, according to the present invention, a plurality of pixel circuits can be arranged at a higher density, and it is possible to increase the definition of the display and reduce the display size. In the present invention, the writing transistor may be, for example, electrically connected between the gate of the driving transistor and the data line.

また、本発明に係る電気光学装置は、走査線を含む1以上の制御線と、前記走査線と交差するデータ線と、前記走査線と前記データ線との交差に対応して設けられた画素回路と、を備え、前記画素回路は、駆動トランジスターと、ゲートが前記走査線に電気的に接続された書込トランジスターと、前記データ線と前記書込トランジスターとを介して供給されるデータ信号に応じた電荷を保持する第1保持容量と、前記駆動トランジスターを介して供給される電流の大きさに応じた輝度で発光する発光素子と、を有し、前記1以上の制御線には、前記画素回路が形成される基板の面に垂直な方向から見たときに、前記駆動トランジスターのゲートと重なる制御線が含まれる、ことを特徴とする。
この発明によれば、制御線を駆動トランジスターのゲート上に配線するため、制御線が駆動トランジスターのゲートと交差しないように配線する場合に比べて、制御線を設ける際のスペース的な制約が緩和される。これにより、制御線の狭ピッチ化、配線の高密度化が可能となる。すなわち、本発明によれば、複数の画素回路をより高密度に配置することができ、表示の高精細化及び表示サイズの小型化が可能になる。
Further, the electro-optical device according to the present invention includes one or more control lines including scanning lines, data lines intersecting the scanning lines, and pixels provided corresponding to the intersections of the scanning lines and the data lines. The pixel circuit comprises a circuit, the pixel circuit comprises a drive transistor, a write transistor whose gate is electrically connected to the scan line, and a data signal supplied via the data line and the write transistor. It has a first holding capacitance that holds the corresponding charge and a light emitting element that emits light with a brightness corresponding to the magnitude of the current supplied through the driving transistor, and the one or more control lines include the above. It is characterized in that a control line that overlaps with the gate of the drive transistor is included when viewed from a direction perpendicular to the surface of the substrate on which the pixel circuit is formed.
According to the present invention, since the control line is wired on the gate of the drive transistor, the space restriction when providing the control line is relaxed as compared with the case where the control line is wired so as not to intersect the gate of the drive transistor. Will be done. This makes it possible to narrow the pitch of control lines and increase the density of wiring. That is, according to the present invention, a plurality of pixel circuits can be arranged at a higher density, and it is possible to increase the definition of the display and reduce the display size.

また、上述した電気光学装置は、前記画素回路の動作を制御する走査線駆動回路をさらに備え、前記書込トランジスターは、前記走査線駆動回路が前記走査線に第1電位を供給する場合にオンし、前記走査線駆動回路が前記走査線に第2電位を供給する場合にオフし、前記基板の前記画素回路が形成される面に垂直な方向から見たとき、前記走査線と前記駆動トランジスターのゲートとは重なり、前記走査線駆動回路が、前記走査線に供給する電位を、前記第2電位から前記第1電位に切り替える期間を第1切替期間とし、前記走査線駆動回路が、前記走査線に供給する電位を、前記第1電位から前記第2電位に切り替える期間を第2切替期間としたとき、前記第2切替期間の時間長は、前記第1切替期間の時間長よりも長い、ことが好ましい。 Further, the electro-optical device described above further includes a scanning line drive circuit that controls the operation of the pixel circuit, and the writing transistor is turned on when the scanning line driving circuit supplies the first potential to the scanning line. When the scanning line drive circuit is turned off when supplying a second potential to the scanning line and viewed from a direction perpendicular to the surface of the substrate on which the pixel circuit is formed, the scanning line and the driving transistor are turned off. The period in which the potential supplied to the scanning line by the scanning line driving circuit is switched from the second potential to the first potential is defined as the first switching period, and the scanning line driving circuit performs the scanning. When the period for switching the potential supplied to the line from the first potential to the second potential is set as the second switching period, the time length of the second switching period is longer than the time length of the first switching period. Is preferable.

駆動トランジスターのゲートと走査線とが平面視して交差する場合、駆動トランジスターのゲートと走査線との間には容量が寄生する。そして、走査線の電位が急激に変動する場合、当該電位変動の影響が駆動トランジスターのゲートに及び、駆動トランジスターのゲートの電位が変化する。
駆動トランジスターは、書込トランジスターがオフする際に決定されたゲート・ソース間の電圧に応じた大きさの電流を発光素子に供給し、発光素子は、当該電流の大きさに応じた輝度で発光する。従って、書込トランジスターがオフする際に(すなわち、発光素子の輝度を規定する電圧に定められた後に)、駆動トランジスターのゲートの電位が変化すると、発光素子は規定された輝度とは異なる輝度で発光してしまい、電気光学装置の表示品質が低下する。
これに対して本発明に係る走査線駆動回路は、書込トランジスターがオフする際の走査線の電位の変化を、オンする際の電位変化に比べて緩やかに変化させる。これにより、書込トランジスターがオフする際の走査線の電位変動が、駆動トランジスターのゲートに伝播することを防止し、規定された輝度で発光素子が発光することを可能とする。すなわち、本発明に係る電気光学装置によれば、表示品位を劣化させることなく、制御線の狭ピッチ化を実現することができる。
When the gate of the drive transistor and the scanning line intersect in a plan view, a capacitance parasitizes between the gate of the driving transistor and the scanning line. When the potential of the scanning line fluctuates abruptly, the influence of the potential fluctuation extends to the gate of the drive transistor, and the potential of the gate of the drive transistor changes.
The drive transistor supplies the light emitting element with a current having a magnitude corresponding to the voltage between the gate and the source determined when the writing transistor is turned off, and the light emitting element emits light with brightness corresponding to the magnitude of the current. To do. Therefore, when the write transistor is turned off (that is, after the voltage defined for the brightness of the light emitting element is set), when the potential of the gate of the drive transistor changes, the light emitting element has a brightness different from the specified brightness. It emits light and the display quality of the electro-optical device deteriorates.
On the other hand, the scanning line drive circuit according to the present invention changes the potential of the scanning line when the writing transistor is turned off more slowly than the potential change when the writing transistor is turned on. As a result, the potential fluctuation of the scanning line when the writing transistor is turned off is prevented from propagating to the gate of the driving transistor, and the light emitting element can emit light at a specified brightness. That is, according to the electro-optical device according to the present invention, it is possible to realize a narrow pitch of the control line without deteriorating the display quality.

また、前記画素回路は、前記駆動トランジスターのゲート及びドレインの間に電気的に接続された第1スイッチングトランジスターを備え、前記1以上の制御線は、前記第1スイッチングトランジスターのゲートに電気的に接続される第1制御線を含んでもよい。
この場合、前記第1スイッチングトランジスターは、前記走査線駆動回路が前記第1制御線に第1電位を供給する場合にオンし、前記走査線駆動回路が前記第1制御線に第2電位を供給する場合にオフし、前記基板の前記画素回路が形成される面に垂直な方向から見たとき、前記第1制御線と前記駆動トランジスターのゲートとは重なり、前記走査線駆動回路が、前記第1制御線に供給する電位を、前記第2電位から前記第1電位に切り替える期間を第3切替期間とし、前記走査線駆動回路が、前記第1制御線に供給する電位を、前記第1電位から前記第2電位に切り替える期間を第4切替期間としたとき、前記第4切替期間の時間長は、前記第3切替期間の時間長よりも長い、ことが好ましい。
Further, the pixel circuit includes a first switching transistor electrically connected between the gate and the drain of the drive transistor, and the one or more control lines are electrically connected to the gate of the first switching transistor. It may include the first control line to be made.
In this case, the first switching transistor is turned on when the scanning line drive circuit supplies the first potential to the first control line, and the scanning line drive circuit supplies the second potential to the first control line. When viewed from a direction perpendicular to the surface of the substrate on which the pixel circuit is formed, the first control line and the gate of the drive transistor overlap each other, and the scanning line drive circuit becomes the first. The period for switching the potential supplied to the 1 control line from the 2nd potential to the 1st potential is defined as the 3rd switching period, and the potential supplied by the scanning line drive circuit to the 1st control line is the 1st potential. When the period for switching to the second potential is defined as the fourth switching period, the time length of the fourth switching period is preferably longer than the time length of the third switching period.

駆動トランジスターのゲートと第1スイッチングトランジスターとが平面視して交差する場合、駆動トランジスターのゲートと第1制御線との間には容量が寄生する。そして、第1制御線の電位が急激に変動する場合、当該電位変動の影響が駆動トランジスターのゲートに及び、駆動トランジスターのゲートの電位が変化する。
ところで、第1スイッチングトランジスターがオンする場合、駆動トランジスターのゲート及びソースが電気的に接続され、駆動トランジスターのゲート・ソース間の電圧が、画素回路毎の閾値電圧のばらつきを補償した値に定められる。従って、第1スイッチングトランジスターがオフする際に(すなわち、閾値補償がなされた後に)、駆動トランジスターのゲートの電位が変化すると、画素回路毎の駆動トランジスターの閾値電圧のばらつきを補償できなくなり、表示の一様性が損なわれる。
これに対してこの態様に係る走査線駆動回路は、第1スイッチングトランジスターがオフする際の第1制御線の電位の変化を、オンする際の電位の変化に比べて緩やかに変化させる。これにより、第1スイッチングトランジスターがオフする際の第1制御線の電位変動が、駆動トランジスターのゲートに伝播することを防止し、駆動トランジスターのゲートの電位が、閾値補償がされた電位から変化することを防止する。すなわち、本発明に係る電気光学装置によれば、駆動トランジスターのゲートの上に第1制御線を配置した場合であっても、表示の一様性を損なうような表示ムラの発生等を防止することができるため、電気光学装置の小型化及び表示の高精細化と、高品位の表示との両立が可能となる。
When the gate of the drive transistor and the first switching transistor intersect in a plan view, a capacitance parasitizes between the gate of the drive transistor and the first control line. When the potential of the first control line fluctuates abruptly, the influence of the potential fluctuation extends to the gate of the drive transistor, and the potential of the gate of the drive transistor changes.
By the way, when the first switching transistor is turned on, the gate and source of the drive transistor are electrically connected, and the voltage between the gate and source of the drive transistor is set to a value that compensates for the variation in the threshold voltage for each pixel circuit. .. Therefore, if the potential of the gate of the drive transistor changes when the first switching transistor is turned off (that is, after the threshold compensation is performed), the variation in the threshold voltage of the drive transistor for each pixel circuit cannot be compensated, and the display cannot be displayed. Uniformity is impaired.
On the other hand, the scanning line drive circuit according to this aspect changes the potential change of the first control line when the first switching transistor is turned off more gently than the change of the potential when the first switching transistor is turned on. As a result, the potential fluctuation of the first control line when the first switching transistor is turned off is prevented from propagating to the gate of the drive transistor, and the potential of the gate of the drive transistor changes from the threshold-compensated potential. To prevent that. That is, according to the electro-optic device according to the present invention, even when the first control line is arranged on the gate of the drive transistor, it is possible to prevent the occurrence of display unevenness that impairs the uniformity of display. Therefore, it is possible to achieve both miniaturization and high definition of the display of the electro-optic device and high-quality display.

また、前記画素回路は、前記駆動トランジスターと前記発光素子との間に電気的に接続された第2スイッチングトランジスターを備え、前記1以上の制御線は、前記第2スイッチングトランジスターのゲートに電気的に接続される第2制御線を含んでもよい。
この場合、前記第2スイッチングトランジスターは、前記走査線駆動回路が前記第2制御線に第1電位を供給する場合にオンし、前記走査線駆動回路が前記第2制御線に第2電位を供給する場合にオフし、前記基板の前記画素回路が形成される面に垂直な方向から見たとき、前記第2制御線と前記駆動トランジスターのゲートとは重なり、前記走査線駆動回路が、前記第2制御線に供給する電位を、前記第2電位から前記第1電位に切り替える期間を第5切替期間とし、前記走査線駆動回路が、前記第2制御線に供給する電位を、前記第1電位から前記第2電位に切り替える期間を第6切替期間としたとき、前記第5切替期間の時間長は、前記第6切替期間の時間長よりも長い、ことが好ましい。
この態様によれば、第2スイッチングトランジスターがオンする際に第2制御線に生じる電位変動が、駆動トランジスターのゲートに伝播することを防止することが可能となる。これにより、表示品位を劣化させることなく、制御線の狭ピッチ化を実現することができる。
Further, the pixel circuit includes a second switching transistor electrically connected between the driving transistor and the light emitting element, and one or more control lines are electrically connected to the gate of the second switching transistor. It may include a second control line to be connected.
In this case, the second switching transistor is turned on when the scanning line drive circuit supplies the first potential to the second control line, and the scanning line drive circuit supplies the second potential to the second control line. When viewed from a direction perpendicular to the surface of the substrate on which the pixel circuit is formed, the second control line and the gate of the drive transistor overlap each other, and the scanning line drive circuit becomes the first. The period for switching the potential supplied to the two control lines from the second potential to the first potential is set as the fifth switching period, and the potential supplied by the scanning line drive circuit to the second control line is set to the first potential. When the period for switching to the second potential is defined as the sixth switching period, the time length of the fifth switching period is preferably longer than the time length of the sixth switching period.
According to this aspect, it is possible to prevent the potential fluctuation generated in the second control line when the second switching transistor is turned on from propagating to the gate of the drive transistor. As a result, the pitch of the control line can be narrowed without deteriorating the display quality.

また、前記画素回路は、所定のリセット電位が供給される給電線と前記発光素子との間に電気的に接続された第3スイッチングトランジスターを備え、前記1以上の制御線は、前記第3スイッチングトランジスターのゲートに電気的に接続される第3制御線を含んでもよい。
この場合、前記第3スイッチングトランジスターは、前記走査線駆動回路が前記第3制御線に第1電位を供給する場合にオンし、前記走査線駆動回路が前記第3制御線に第2電位を供給する場合にオフし、前記基板の前記画素回路が形成される面に垂直な方向から見たとき、前記第3制御線と前記駆動トランジスターのゲートとは重なり、前記走査線駆動回路が、前記第3制御線に供給する電位を、前記第2電位から前記第1電位に切り替える期間を第7切替期間とし、前記走査線駆動回路が、前記第3制御線に供給する電位を、前記第1電位から前記第2電位に切り替える期間を第8切替期間としたとき、前記第8切替期間の時間長は、前記第7切替期間の時間長よりも長い、ことが好ましい。
この態様によれば、第3スイッチングトランジスターがオフする際に第3制御線に生じる電位変動が、駆動トランジスターのゲートに伝播することを防止することが可能となる。これにより、表示品位を劣化させることなく、制御線の狭ピッチ化を実現することができる。
Further, the pixel circuit includes a third switching transistor electrically connected between a feeder line to which a predetermined reset potential is supplied and the light emitting element, and the one or more control lines are the third switching. It may include a third control line that is electrically connected to the gate of the transistor.
In this case, the third switching transistor is turned on when the scanning line drive circuit supplies the first potential to the third control line, and the scanning line drive circuit supplies the second potential to the third control line. When viewed from a direction perpendicular to the surface of the substrate on which the pixel circuit is formed, the third control line and the gate of the drive transistor overlap each other, and the scanning line drive circuit becomes the first. The period for switching the potential supplied to the 3 control lines from the 2nd potential to the 1st potential is defined as the 7th switching period, and the potential supplied by the scanning line drive circuit to the 3rd control line is the 1st potential. When the period for switching to the second potential is defined as the eighth switching period, the time length of the eighth switching period is preferably longer than the time length of the seventh switching period.
According to this aspect, it is possible to prevent the potential fluctuation generated in the third control line when the third switching transistor is turned off from propagating to the gate of the drive transistor. As a result, the pitch of the control line can be narrowed without deteriorating the display quality.

また、上述した電気光学装置は、前記データ線に電気的に接続されるデータ線駆動回路と、前記走査線駆動回路及び前記データ線駆動回路の動作を制御する制御回路と、前記データ線に対応して設けられ前記データ線の電位を保持する第2保持容量と、を備え、前記データ線駆動回路は、前記制御回路から所定の初期電位が供給される第1電位線と、前記制御回路から基準電位が供給される第2電位線と、前記データ線に対応して設けられるレベルシフト回路と、を具備し、前記レベルシフト回路は、一方の電極が前記データ線に電気的に接続される第3保持容量と、前記第3保持容量の一方の電極及び前記第1電位線の間に電気的に接続された第1トランジスターと、前記第3保持容量の他方の電極及び前記第2電位線の間に電気的に接続された第2トランジスターと、を備え、第1期間において、前記制御回路は、前記第1トランジスターをオン状態に維持し、前記第1期間が終了後に開始される第2期間において、前記走査線駆動回路は、前記書込トランジスターをオン状態に維持し、前記制御回路は、前記第1トランジスターをオフ状態に維持するとともに、前記第2トランジスターをオン状態に維持し、前記第2期間が終了後に開始される第3期間において、前記走査線駆動回路は、前記書込トランジスターをオン状態に維持し、前記制御回路は、前記第1トランジスター及び前記第2トランジスターをオフ状態に維持し、前記第3保持容量の他方の電極には、前記発光素子の輝度を規定する画像信号に基づく電位が供給される、ことが好ましい。 Further, the above-mentioned electro-optical device corresponds to a data line drive circuit electrically connected to the data line, a control circuit for controlling the operation of the scanning line drive circuit and the data line drive circuit, and the data line. The data line driving circuit includes a first potential line to which a predetermined initial potential is supplied from the control circuit, and a second holding capacitance for holding the potential of the data line. A second potential line to which a reference potential is supplied and a level shift circuit provided corresponding to the data line are provided, and in the level shift circuit, one electrode is electrically connected to the data line. The third holding capacity, one electrode of the third holding capacity, the first transistor electrically connected between the first potential line, the other electrode of the third holding capacity, and the second potential line. A second transistor is electrically connected between the two, and in the first period, the control circuit keeps the first transistor on and is started after the first period ends. During the period, the scanning line drive circuit keeps the writing transistor in the on state, the control circuit keeps the first transistor in the off state, and keeps the second transistor in the on state. In the third period, which is started after the second period ends, the scanning line drive circuit keeps the writing transistor on, and the control circuit turns the first transistor and the second transistor off. It is preferable that the other electrode of the third holding capacitance is supplied with a potential based on an image signal that defines the brightness of the light emitting element.

この発明によれば、データ線は、第2保持容量と、第3保持容量とに接続され、第3保持容量の他方の電極には、発光素子の輝度を規定する画像信号に基づく電位が供給される。従って、データ線の電位の変動幅は、第3保持容量の他方の電極に供給される電位の変動幅を、第2保持容量及び第3保持容量の容量比に応じて圧縮した幅となる。すなわち、データ線の電位の変動範囲は、画像信号に基づいた電位の変動範囲に比べて狭められる。これにより、画像信号を細かい精度で刻まなくても、駆動トランジスターのゲートの電位を細かい精度で設定することが可能となる。従って、電流を発光素子に対して精度良く供給することができ、高品位の表示が可能となる。また、データ線の電位変化幅を小さく抑えることができるため、データ線の電位変動に起因するクロストークやムラ等の発生を防止することが可能となる。 According to the present invention, the data line is connected to the second holding capacitance and the third holding capacitance, and the other electrode of the third holding capacitance is supplied with a potential based on the image signal that defines the brightness of the light emitting element. Will be done. Therefore, the fluctuation width of the potential of the data line is the width obtained by compressing the fluctuation width of the potential supplied to the other electrode of the third holding capacity according to the capacity ratio of the second holding capacity and the third holding capacity. That is, the fluctuation range of the potential of the data line is narrower than the fluctuation range of the potential based on the image signal. This makes it possible to set the potential of the gate of the drive transistor with fine accuracy without engraving the image signal with fine accuracy. Therefore, the current can be supplied to the light emitting element with high accuracy, and high-quality display becomes possible. Further, since the potential change width of the data line can be suppressed to be small, it is possible to prevent the occurrence of crosstalk, unevenness, etc. due to the potential fluctuation of the data line.

なお、本発明に係る電気光学装置は、第3保持容量の一方の電極より、データ線を介して、第1保持容量及び第2保持容量に電荷を供給することにより、駆動トランジスターのゲートの電位を決定する。具体的には、駆動トランジスターのゲートの電位は、第1保持容量の容量値、第2保持容量の容量値、及び、第1保持容量及び第2保持容量に対して第3保持容量が供給する電荷量により定められる。仮に、電気光学装置が第2保持容量を備えない場合、駆動トランジスターのゲートの電位は、第1保持容量の容量値と、第3保持容量が供給する電荷により定められる。よって、第1保持容量の容量値が、半導体プロセスの誤差に起因した画素回路毎の相対的なばらつきを有する場合、駆動トランジスターのゲートの電位も画素回路毎にばらつく。この場合、表示ムラが発生し、表示品質が低下する。
これに対して、本発明は、データ線の電位を保持する第2保持容量を備える。第2保持容量は、データ線の各々に対応して設けられるため、画素回路内に設けられる第1保持容量に比べて、大面積の電極を有するように構成することができる。従って、第2保持容量は、第1保持容量に比べて、半導体プロセスの誤差に起因した容量値の相対的なばらつきが小さい。これにより、画素回路毎に駆動トランジスターのゲートの電位がばらつくことを防止することが可能となり、表示ムラの発生を防止した高品位の表示が可能となる。
In the electro-optical device according to the present invention, the potential of the gate of the drive transistor is reached by supplying an electric charge to the first holding capacitance and the second holding capacitance from one electrode of the third holding capacitance via a data line. To determine. Specifically, the potential of the gate of the drive transistor is supplied by the capacity value of the first holding capacity, the capacity value of the second holding capacity, and the third holding capacity with respect to the first holding capacity and the second holding capacity. It is determined by the amount of charge. If the electro-optic device does not have a second holding capacitance, the potential of the gate of the drive transistor is determined by the capacitance value of the first holding capacitance and the charge supplied by the third holding capacitance. Therefore, when the capacitance value of the first holding capacitance has a relative variation for each pixel circuit due to an error in the semiconductor process, the potential of the gate of the drive transistor also varies for each pixel circuit. In this case, display unevenness occurs and the display quality deteriorates.
On the other hand, the present invention includes a second holding capacitance for holding the potential of the data line. Since the second holding capacitance is provided corresponding to each of the data lines, it can be configured to have an electrode having a larger area than the first holding capacitance provided in the pixel circuit. Therefore, the second holding capacity has a smaller relative variation in the capacity value due to an error in the semiconductor process than the first holding capacity. As a result, it is possible to prevent the potential of the gate of the drive transistor from fluctuating for each pixel circuit, and it is possible to perform high-quality display in which display unevenness is prevented from occurring.

また、前記レベルシフト回路は、第4保持容量を備え、前記第1期間の開始から前記第3期間の開始までの期間のうち少なくとも一部において、前記第4保持容量の一方の電極に前記画像信号の示す電位が供給され、前記第3期間において、前記第4保持容量の一方の電極が前記第3保持容量の他方の電極に電気的に接続される、ことが好ましい。 Further, the level shift circuit includes a fourth holding capacity, and the image is attached to one electrode of the fourth holding capacity during at least a part of the period from the start of the first period to the start of the third period. It is preferable that the potential indicated by the signal is supplied and one electrode of the fourth holding capacity is electrically connected to the other electrode of the third holding capacity in the third period.

この発明によれば、第1期間及び第2期間において、画像信号が第4保持容量の一方の電極に供給され、一時的に保持されたうえで、第3期間において、第3保持容量を介して駆動トランジスターのゲートに供給される。
仮に、電気光学装置が第4保持容量を備えない場合、駆動トランジスターのゲートに対する画像信号の示す電位を供給する動作の全てを、第3期間において行わなければならず、第3期間を十分に長く設定する必要がある。
これに対して本発明は、第1期間及び第2期間において、画像信号の供給動作と、データ線等の初期化動作とを並行して行うため、1水平走査期間に実行すべき動作についての時間的な制約を緩和することができる。これにより、画像信号の供給動作の低速化が可能になるとともに、データ線等の初期化を行う期間を十分に確保することが可能となる。
また、この発明によれば、画像信号に基づいた電位の変動の大きさを、第1保持容量、第2保持容量、及び、第3保持容量に加えて、第4保持容量を用いて圧縮するため、発光素子に対して電流を細かい精度で供給することが可能となる。
According to the present invention, in the first period and the second period, the image signal is supplied to one electrode of the fourth holding capacitance, temporarily held, and then in the third period, via the third holding capacitance. Is supplied to the gate of the drive transistor.
If the electro-optic device does not have the fourth holding capacitance, all the operations of supplying the potential indicated by the image signal to the gate of the drive transistor must be performed in the third period, and the third period must be sufficiently long. Must be set.
On the other hand, the present invention relates to an operation to be performed in one horizontal scanning period because the image signal supply operation and the data line initialization operation are performed in parallel in the first period and the second period. Time constraints can be relaxed. As a result, the speed of the image signal supply operation can be reduced, and a sufficient period for initializing the data line or the like can be secured.
Further, according to the present invention, the magnitude of the fluctuation of the potential based on the image signal is compressed by using the fourth holding capacity in addition to the first holding capacity, the second holding capacity, and the third holding capacity. Therefore, it is possible to supply the current to the light emitting element with fine accuracy.

また、前記走査線駆動回路は、前記第2期間において、前記第1スイッチングトランジスターをオン状態に維持し、前記第2期間以外の期間において、前記第1スイッチングトランジスターをオフ状態に維持し、前記第1期間、前記第2期間、及び、前記第3期間において、前記第3スイッチングトランジスターをオン状態に維持するとともに、前記第2スイッチングトランジスターをオフ状態に維持する、ことが好ましい。 Further, the scanning line drive circuit keeps the first switching transistor in the on state in the second period, and keeps the first switching transistor in the off state in a period other than the second period, and the first switching transistor is kept in the off state. It is preferable to keep the third switching transistor in the on state and the second switching transistor in the off state in one period, the second period, and the third period.

この発明によれば、第2期間において第1スイッチングトランジスターをオン状態とすることにより、駆動トランジスターのゲートの電位を、駆動トランジスターの閾値電圧に対応した電位とすることができ、画素回路毎の駆動トランジスターの閾値電圧のばらつきを補償することが可能となる。
また、この発明によれば、第1期間〜第3期間において第3スイッチングトランジスターをオン状態とすることにより、発光素子に寄生する容量の保持電圧の影響を抑えることができる。
According to the present invention, by turning on the first switching transistor in the second period, the potential of the gate of the drive transistor can be set to the potential corresponding to the threshold voltage of the drive transistor, and each pixel circuit can be driven. It is possible to compensate for the variation in the threshold voltage of the transistor.
Further, according to the present invention, by turning on the third switching transistor in the first to third periods, the influence of the holding voltage of the capacitance parasitic on the light emitting element can be suppressed.

なお、本発明は、電気光学装置のほか、当該電気光学装置を有する電子機器として概念することも可能である。電子機器としては、典型的にはヘッドマウント・ディスプレイ(HMD)や電子ビューファイダーのなどの表示装置が挙げられる。 In addition to the electro-optical device, the present invention can also be conceived as an electronic device having the electro-optic device. Electronic devices typically include display devices such as head-mounted displays (HMDs) and electronic viewfinders.

本発明の実施形態に係る電気光学装置の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the electro-optic device which concerns on embodiment of this invention. 同電気光学装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the electro-optical device. 同電気光学装置におけるデータ線駆動回路を示す図である。It is a figure which shows the data line drive circuit in the electro-optics device. 同電気光学装置における画素回路を示す図である。It is a figure which shows the pixel circuit in the electro-optical device. 同電気光学装置における画素回路の構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of the pixel circuit in the electro-optic device. 同電気光学装置における画素回路の構成を示す部分断面図である。It is a partial cross-sectional view which shows the structure of the pixel circuit in the electro-optic device. 同電気光学装置の動作を示すタイミングチャートである。It is a timing chart which shows the operation of the electro-optic device. 同電気光学装置の動作説明図である。It is operation explanatory drawing of the electro-optic device. 同電気光学装置のゲートノードの電位変化について説明する図である。It is a figure explaining the potential change of the gate node of the electro-optic device. 同電気光学装置におけるデータ信号の振幅圧縮を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the amplitude compression of the data signal in the electro-optics device. 同電気光学装置におけるトランジスターの特性を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the characteristic of the transistor in the electro-optic device. 変形例1に係る電気光学装置における画素回路の構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of the pixel circuit in the electro-optic device which concerns on modification 1. FIG. 同電気光学装置の動作を示すタイミングチャートである。It is a timing chart which shows the operation of the electro-optic device. 変形例2に係る電気光学装置における画素回路の構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of the pixel circuit in the electro-optic device which concerns on modification 2. FIG. 同電気光学装置の動作を示すタイミングチャートである。It is a timing chart which shows the operation of the electro-optic device. 実施形態等に係る電気光学装置を用いたHMDを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the HMD which used the electro-optic device which concerns on embodiment and the like. HMDの光学構成を示す図である。It is a figure which shows the optical structure of an HMD.

以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings.

<実施形態>
図1は、本発明の実施形態に係る電気光学装置1の構成を示す斜視図である。電気光学装置1は、例えばヘッドマウント・ディスプレイにおいて画像を表示するマイクロ・ディスプレイである。
図1に示すように、電気光学装置1は、表示パネル2と、表示パネル2の動作を制御する制御回路3とを備える。表示パネル2は、複数の画素回路と、当該画素回路を駆動する駆動回路とを備える。本実施形態において、表示パネル2が備える複数の画素回路及び駆動回路は、シリコン基板に形成され、画素回路には、発光素子の一例であるOLEDが用いられる。また、表示パネル2は、例えば、表示部で開口する枠状のケース82に収納されるとともに、FPC(Flexible Printed Circuits)基板84の一端が接続される。
FPC基板84には、半導体チップの制御回路3が、COF(Chip On Film)技術によって実装されるとともに、複数の端子86が設けられて、図示省略された上位回路に接続される。
<Embodiment>
FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of an electro-optical device 1 according to an embodiment of the present invention. The electro-optical device 1 is a micro-display that displays an image on, for example, a head-mounted display.
As shown in FIG. 1, the electro-optical device 1 includes a display panel 2 and a control circuit 3 that controls the operation of the display panel 2. The display panel 2 includes a plurality of pixel circuits and a drive circuit for driving the pixel circuits. In the present embodiment, the plurality of pixel circuits and drive circuits included in the display panel 2 are formed on a silicon substrate, and an OLED, which is an example of a light emitting element, is used for the pixel circuits. Further, the display panel 2 is housed in, for example, a frame-shaped case 82 opened at the display portion, and one end of an FPC (Flexible Printed Circuits) substrate 84 is connected.
A semiconductor chip control circuit 3 is mounted on the FPC substrate 84 by COF (Chip On Film) technology, and a plurality of terminals 86 are provided and connected to a higher-level circuit (not shown).

図2は、実施形態に係る電気光学装置1の構成を示すブロック図である。上述のとおり、電気光学装置1は、表示パネル2と、制御回路3とを備える。
制御回路3には、図示省略された上位回路よりデジタルの画像データVideoが同期信号に同期して供給される。ここで、画像データVideoとは、表示パネル2(厳密には、後述する表示部100)で表示すべき画像の画素の階調レベルを例えば8ビットで規定するデータである。また、同期信号とは、垂直同期信号、水平同期信号、及び、ドットクロック信号を含む信号である。
制御回路3は、同期信号に基づいて、各種制御信号を生成し、これを表示パネル2に対して供給する。具体的には、制御回路3は、表示パネル2に対して、制御信号Ctrと、負論理の制御信号/Giniと、正論理の制御信号Grefと、正論理の制御信号Gcplと、これと論理反転の関係にある負論理の制御信号/Gcplと、制御信号Sel(1)、Sel(2)、Sel(3)と、これらの信号に対して論理反転の関係にある制御信号/Sel(1)、/Sel(2)、/Sel(3)と、を供給する。ここで、制御信号Ctrとは、パルス信号や、クロック信号、イネーブル信号など、複数の信号を含む信号である。なお、制御信号Sel(1)、Sel(2)、Sel(3)を、制御信号Selと総称し、制御信号/Sel(1)、/Sel(2)、/Sel(3)を、制御信号/Selと総称する場合がある。
また、制御回路3は、表示パネル2に対して、各種電位を供給する。具体的には、制御回路3は、表示パネル2に対して、所定のリセット電位Vorst、所定の初期電位Vini、所定の基準電位Vref等を供給する。
さらに、制御回路3は、画像データVideoに基づいて、アナログの画像信号Vidを生成する。
具体的には、制御回路3には、画像信号Vidの示す電位、及び、表示パネル2が備える発光素子(後述するOLED130)の輝度を対応付けて記憶したルックアップテーブルが設けられる。そして、制御回路3は、当該ルックアップテーブルを参照することで、画像データVideoに規定される発光素子の輝度に対応した電位を示す画像信号Vidを生成し、これを表示パネル2に対して供給する。
FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of the electro-optical device 1 according to the embodiment. As described above, the electro-optical device 1 includes a display panel 2 and a control circuit 3.
Digital image data Video is supplied to the control circuit 3 in synchronization with the synchronization signal from a higher-level circuit (not shown). Here, the image data Video is data that defines, for example, 8 bits of the gradation level of the pixels of the image to be displayed on the display panel 2 (strictly speaking, the display unit 100 described later). The synchronization signal is a signal including a vertical synchronization signal, a horizontal synchronization signal, and a dot clock signal.
The control circuit 3 generates various control signals based on the synchronization signal and supplies the control signals to the display panel 2. Specifically, the control circuit 3 has a control signal Ctr, a negative logic control signal / Gini, a positive logic control signal Gref, a positive logic control signal Gcpl, and logic with respect to the display panel 2. Negative logic control signal / Gcpl that has an inversion relationship, control signals Sel (1), Sel (2), and Sel (3), and control signal / Sel (1) that has a logic inversion relationship with these signals. ), / Sel (2), / Sel (3), and so on. Here, the control signal Ctr is a signal including a plurality of signals such as a pulse signal, a clock signal, and an enable signal. The control signals Sel (1), Sel (2), and Sel (3) are collectively referred to as control signals Sel, and the control signals / Sel (1), / Sel (2), / Sel (3) are referred to as control signals. It may be generically called / Self.
Further, the control circuit 3 supplies various electric potentials to the display panel 2. Specifically, the control circuit 3 supplies the display panel 2 with a predetermined reset potential Vorst, a predetermined initial potential Vini, a predetermined reference potential Vref, and the like.
Further, the control circuit 3 generates an analog image signal Video based on the image data Video.
Specifically, the control circuit 3 is provided with a lookup table that stores the potential indicated by the image signal Vid and the brightness of the light emitting element (OLED 130 described later) included in the display panel 2 in association with each other. Then, the control circuit 3 generates an image signal Vid indicating a potential corresponding to the brightness of the light emitting element defined in the image data Video by referring to the lookup table, and supplies this to the display panel 2. To do.

図2に示すように、表示パネル2は、表示部100と、これを駆動する駆動回路(データ線駆動回路10及び走査線駆動回路20)とを備える。
表示部100には、表示すべき画像の画素に対応した画素回路110がマトリクス状に配列されている。詳細には、表示部100において、m行の走査線12が図において横方向(X方向)に延在して設けられ、また、3列毎にグループ化された(3n)列のデータ線14が図において縦方向(Y方向)に延在し、かつ、各走査線12と互いに電気的な絶縁を保って設けられている。そして、m行の走査線12と(3n)列のデータ線14との交差部に対応して画素回路110が設けられている。このため、本実施形態において画素回路110は、縦m行×横(3n)列でマトリクス状に配列されている。
As shown in FIG. 2, the display panel 2 includes a display unit 100 and a drive circuit (data line drive circuit 10 and scan line drive circuit 20) for driving the display unit 100.
In the display unit 100, pixel circuits 110 corresponding to the pixels of the image to be displayed are arranged in a matrix. Specifically, in the display unit 100, the scanning lines 12 of the m rows are provided so as to extend in the horizontal direction (X direction) in the drawing, and the data lines 14 of the (3n) columns grouped by 3 columns. Is extended in the vertical direction (Y direction) in the drawing, and is provided so as to maintain electrical insulation with each scanning line 12. A pixel circuit 110 is provided corresponding to the intersection of the scanning line 12 in the m row and the data line 14 in the (3n) column. Therefore, in the present embodiment, the pixel circuits 110 are arranged in a matrix of vertical m rows × horizontal (3n) columns.

ここで、m、nは、いずれも自然数である。走査線12及び画素回路110のマトリクスのうち、行(ロウ)を区別するために、図において上から順に1、2、3、…、(m−1)、m行と呼ぶ場合がある。同様にデータ線14及び画素回路110のマトリクスの列(カラム)を区別するために、図において左から順に1、2、3、…、(3n−1)、(3n)列と呼ぶ場合がある。また、データ線14のグループを一般化して説明するために、1以上n以下の整数jを用いると、左から数えてj番目のグループには、(3j−2)列目、(3j−1)列目及び(3j)列目のデータ線14が属している、ということになる。
なお、同一行の走査線12と同一グループに属する3列のデータ線14との交差に対応した3つの画素回路110は、それぞれR(赤)、G(緑)、B(青)の画素に対応して、これらの3画素が表示すべきカラー画像の1ドットを表現する。すなわち、本実施形態では、RGBに対応したOLEDの発光によって1ドットのカラーを加法混色で表現する構成となっている。
Here, m and n are both natural numbers. In order to distinguish rows (rows) from the matrix of the scanning line 12 and the pixel circuit 110, they may be referred to as 1, 2, 3, ..., (M-1), m rows in order from the top in the figure. Similarly, in order to distinguish the columns of the matrix of the data line 14 and the pixel circuit 110, they may be referred to as 1, 2, 3, ..., (3n-1), (3n) columns in order from the left in the figure. .. Further, in order to generalize and explain the group of the data line 14, when an integer j of 1 or more and n or less is used, the jth group counted from the left includes the (3j-2) column and (3j-1). It means that the data line 14 of the) column and the (3j) column belongs to it.
The three pixel circuits 110 corresponding to the intersection of the scanning line 12 in the same row and the data line 14 in three columns belonging to the same group have R (red), G (green), and B (blue) pixels, respectively. Correspondingly, these three pixels represent one dot of the color image to be displayed. That is, in the present embodiment, the color of one dot is expressed by additive mixing by emitting light of the OLED corresponding to RGB.

また、図2に示すように、表示部100において、(3n)列の給電線16が、縦方向に延在し、かつ、各走査線12と互いに電気的な絶縁を保って設けられる。各給電線16には、所定のリセット電位Vorstが共通に給電されている。ここで、給電線16の列を区別するために、図において左から順に1、2、3、…、(3n)、(3n+1)列目の給電線16と呼ぶ場合がある。1列目〜(3n)列目の給電線16の各々は、1列目〜(3n)列目のデータ線14の各々に対応して設けられる。
また、表示パネル2には、1列目〜(3n)列目のデータ線14の各々に対応して、(3n)個の保持容量50が設けられる。保持容量50は2つの電極を有する。保持容量50の一方の電極はデータ線14に接続され、他方の電極は給電線16に接続される。すなわち、保持容量50は、データ線14の電位を保持する第2保持容量として機能する。なお、保持容量50は、互いに隣り合う給電線16及びデータ線14が絶縁体(誘電体)を挟持することで形成されることが好ましい。この場合、互いに隣り合う給電線16とデータ線14との間の距離は、必要とされる大きさの容量が得られるように定められる。なお、以下では、保持容量50の容量値をCdtと表記する。
図2において、保持容量50は、表示部100の外側に設けられているが、これはあくまでも等価回路であり、表示部100の内側に設けてもよい。また、保持容量50は、表示部100の内側から外側にわたって設けられてもよい。
Further, as shown in FIG. 2, in the display unit 100, the feeder lines 16 in the (3n) row are provided so as to extend in the vertical direction and maintain electrical insulation with each scanning line 12. A predetermined reset potential Worst is commonly fed to each feeder line 16. Here, in order to distinguish the rows of the feeder lines 16, the feeder lines 16 in the first, second, third, ..., (3n), and (3n + 1) rows may be referred to in order from the left in the figure. Each of the feeder lines 16 in the first to (3n) rows is provided corresponding to each of the data lines 14 in the first to (3n) rows.
Further, the display panel 2 is provided with (3n) holding capacities 50 corresponding to each of the data lines 14 in the first to (3n) rows. The holding capacity 50 has two electrodes. One electrode of the holding capacity 50 is connected to the data line 14, and the other electrode is connected to the feeder line 16. That is, the holding capacity 50 functions as a second holding capacity for holding the potential of the data line 14. The holding capacity 50 is preferably formed by sandwiching an insulator (dielectric) between the feeder lines 16 and the data lines 14 adjacent to each other. In this case, the distance between the feeder lines 16 and the data lines 14 adjacent to each other is determined so that a capacity of a required size can be obtained. In the following, the capacity value of the holding capacity 50 is referred to as Cdt.
In FIG. 2, the holding capacity 50 is provided outside the display unit 100, but this is merely an equivalent circuit and may be provided inside the display unit 100. Further, the holding capacity 50 may be provided from the inside to the outside of the display unit 100.

走査線駆動回路20は、フレームの期間にわたって走査線12を1行毎に順番に走査するための走査信号Gwrを、制御信号Ctrにしたがって生成する。ここで、1、2、3、…、m行目の走査線12に供給される走査信号Gwrを、それぞれGwr(1)、Gwr(2)、Gwr(3)、…、Gwr(m-1)、Gwr(m)と表記している。
なお、走査線駆動回路20は、走査信号Gwr(1)〜Gwr(m)のほかにも、当該走査信号Gwrに同期した各種制御信号を行毎に生成して表示部100に供給するが、図2においては図示を省略している。また、フレームの期間とは、電気光学装置1が1カット(コマ)分の画像を表示するのに要する期間をいい、例えば同期信号に含まれる垂直同期信号の周波数が120Hzであれば、その1周期分の8.3ミリ秒の期間である。
The scan line drive circuit 20 generates a scan signal Gwr for sequentially scanning the scan lines 12 line by line over a frame period according to the control signal Ctr. Here, the scanning signals Gwr supplied to the scanning lines 12 on the 1st, 2nd, 3rd, ..., Mth lines are Gwr (1), Gwr (2), Gwr (3), ..., Gwr (m-1), respectively. ), Gwr (m).
In addition to the scanning signals Gwr (1) to Gwr (m), the scanning line drive circuit 20 generates various control signals synchronized with the scanning signal Gwr line by line and supplies them to the display unit 100. The illustration is omitted in FIG. The frame period is the period required for the electro-optical device 1 to display an image for one cut (frame). For example, if the frequency of the vertical synchronization signal included in the synchronization signal is 120 Hz, that 1 It is a period of 8.3 milliseconds for the cycle.

データ線駆動回路10は、(3n)列のデータ線14の各々と1対1に対応して設けられる(3n)個のレベルシフト回路LS、各グループを構成する3列のデータ線14毎に設けられるn個のデマルチプレクサDM、及び、データ信号供給回路70を備える。
データ信号供給回路70は、制御回路3より供給される画像信号Vidと制御信号Ctrとに基づいて、データ信号Vd(1)、Vd(2)、…、Vd(n)を生成する。すなわち、データ信号供給回路70は、データ信号Vd(1)、Vd(2)、…、Vd(n)を時分割多重した画像信号Vidに基づいて、データ信号Vd(1)、Vd(2)、…、Vd(n)を生成する。そして、データ信号供給回路70は、データ信号Vd(1)、Vd(2)、…、Vd(n)を、1、2、…、n番目のグループに対応するデマルチプレクサDMに対して、それぞれ供給する。また、データ信号Vd(1)〜Vd(n)が取り得る電位の最高値をVmaxとし、最低値をVminとする。
The data line drive circuit 10 includes (3n) level shift circuits LS provided in a one-to-one correspondence with each of the data lines 14 in the (3n) column, and for each of the three columns of data lines 14 constituting each group. It includes n demultiplexers DM provided and a data signal supply circuit 70.
The data signal supply circuit 70 generates data signals Vd (1), Vd (2), ..., Vd (n) based on the image signal Vid and the control signal Ctr supplied from the control circuit 3. That is, the data signal supply circuit 70 has the data signals Vd (1), Vd (2), ..., Vd (n) based on the time-division-multiplexed image signal Vid, and the data signals Vd (1), Vd (2). , ..., generate Vd (n). Then, the data signal supply circuit 70 transmits the data signals Vd (1), Vd (2), ..., Vd (n) to the demultiplexer DM corresponding to the 1, 2, ..., Nth group, respectively. Supply. Further, the maximum value of the potential that the data signals Vd (1) to Vd (n) can take is Vmax, and the minimum value is Vmin.

図3は、デマルチプレクサDMとレベルシフト回路LSとの構成を説明するための回路図である。なお、図3は、j番目のグループに属するデマルチプレクサDMと、当該デマルチプレクサDMに接続された3個のレベルシフト回路LSとを、代表的に表している。なお、以下では、j番目のグループに属するデマルチプレクサDMを、DM(j)と表記する場合がある。 FIG. 3 is a circuit diagram for explaining the configuration of the demultiplexer DM and the level shift circuit LS. Note that FIG. 3 typically shows the demultiplexer DM belonging to the j-th group and the three level shift circuits LS connected to the demultiplexer DM. In the following, the demultiplexer DM belonging to the jth group may be referred to as DM (j).

以下では、図2に加えて図3を参照しながら、デマルチプレクサDM及びレベルシフト回路LSの構成について説明する。
図3に示すように、デマルチプレクサDMは、列毎に設けられたトランスミッションゲート34の集合体であり、各グループを構成する3列に、データ信号を順番に供給するものである。ここで、j番目のグループに属する(3j−2)、(3j−1)、(3j)列に対応したトランスミッションゲート34の入力端は互いに共通接続されて、その共通端子にそれぞれデータ信号Vd(j)が供給される。j番目のグループにおいて左端列である(3j−2)列に設けられたトランスミッションゲート34は、制御信号Sel(1)がHレベルであるとき(制御信号/Sel(1)がLレベルであるとき)にオン(導通)する。同様に、j番目のグループにおいて中央列である(3j−1)列に設けられたトランスミッションゲート34は、制御信号Sel(2)がHレベルであるとき(制御信号/Sel(2)がLレベルであるとき)にオンし、j番目のグループにおいて右端列である(3j)列に設けられたトランスミッションゲート34は、制御信号Sel(3)がHレベルであるとき(制御信号/Sel(3)がLレベルであるとき)にオンする。
In the following, the configuration of the demultiplexer DM and the level shift circuit LS will be described with reference to FIG. 3 in addition to FIG.
As shown in FIG. 3, the demultiplexer DM is an aggregate of transmission gates 34 provided for each column, and sequentially supplies data signals to the three columns constituting each group. Here, the input terminals of the transmission gates 34 corresponding to the columns (3j-2), (3j-1), and (3j) belonging to the jth group are commonly connected to each other, and the data signal Vd ( j) is supplied. The transmission gate 34 provided in the leftmost column (3j-2) in the j-th group is when the control signal Sel (1) is at the H level (when the control signal / Sel (1) is at the L level). ) Turns on (conducts). Similarly, in the j-th group, the transmission gate 34 provided in the central row (3j-1) row has an H level when the control signal Self (2) is H level (control signal / Self (2) is L level). The transmission gate 34, which is turned on when (when) is turned on and is provided in the (3j) column, which is the rightmost column in the jth group, is used when the control signal Self (3) is at the H level (control signal / Self (3)). Turns on when is at L level).

レベルシフト回路LSは、保持容量41、保持容量44、PチャネルMOS型のトランジスター45(第1トランジスター)、NチャネルMOS型のトランジスター43(第2トランジスター)、及び、トランスミッションゲート42の組を列毎に有し、各列のトランスミッションゲート34の出力端から出力されるデータ信号の電位をシフトするものである。
ここで、保持容量44は2つの電極を有する。保持容量44の一方の電極は、対応する列のデータ線14と、トランジスター45のソースまたはドレインの一方とに、電気的に接続される。また、保持容量44の他方の電極は、トランスミッションゲート42の出力端と、トランジスター43のソースまたはドレインの一方とに、ノードh1を介して電気的に接続される。すなわち、保持容量44は、一方の電極がデータ線14に電気的に接続された第3保持容量として機能する。なお、保持容量44の容量値をCrf1とする。
The level shift circuit LS has a holding capacity of 41, a holding capacity of 44, a P-channel MOS type transistor 45 (first transistor), an N-channel MOS type transistor 43 (second transistor), and a set of a transmission gate 42 for each row. The potential of the data signal output from the output end of the transmission gate 34 in each row is shifted.
Here, the holding capacity 44 has two electrodes. One electrode of the retention capacity 44 is electrically connected to the data line 14 in the corresponding row and to one of the source or drain of the transistor 45. Further, the other electrode of the holding capacitance 44 is electrically connected to the output end of the transmission gate 42 and one of the source or drain of the transistor 43 via the node h1. That is, the holding capacity 44 functions as a third holding capacity in which one electrode is electrically connected to the data line 14. The capacity value of the holding capacity 44 is set to Crf1.

各列のトランジスター45のソースまたはドレインの他方は、給電線61(第1電位線)に電気的に接続される。また、制御回路3は、各列のトランジスター45のゲートに対して、制御信号/Giniを共通に供給する。このため、トランジスター45は、保持容量44の一方の電極(及びデータ線14)と給電線61とを制御信号/GiniがLレベルのときに電気的に接続し、制御信号/GiniがHレベルのときに電気的に非接続とする。なお、給電線61には、制御回路3から所定の初期電位Viniが供給される。
各列のトランジスター43のソースまたはドレインの他方は、給電線62(第2電位線)に電気的に接続される。また、制御回路3は、各列のトランジスター43のゲートに対して、制御信号Grefを共通に供給する。このため、トランジスター43は、保持容量44の他方の電極及びノードh1と、給電線62とを、制御信号GrefがHレベルのときに電気的に接続し、制御信号GrefがLレベルのときに電気的に非接続とする。なお、給電線62には、制御回路3から基準電位Vrefが供給される。
The other of the source or drain of the transistors 45 in each row is electrically connected to the feeder 61 (first potential line). Further, the control circuit 3 commonly supplies a control signal / Gini to the gates of the transistors 45 in each row. Therefore, the transistor 45 electrically connects one electrode (and the data line 14) of the holding capacity 44 and the feeder line 61 when the control signal / Gini is at L level, and the control signal / Gini is at H level. Sometimes it is electrically disconnected. A predetermined initial potential Vini is supplied to the feeder line 61 from the control circuit 3.
The other of the source or drain of the transistors 43 in each row is electrically connected to the feeder line 62 (second potential line). Further, the control circuit 3 commonly supplies the control signal Gref to the gates of the transistors 43 in each row. Therefore, the transistor 43 electrically connects the other electrode and node h1 of the holding capacity 44 and the feeder line 62 when the control signal Gref is H level, and is electrically connected when the control signal Gref is L level. To disconnect. A reference potential Vref is supplied to the feeder line 62 from the control circuit 3.

保持容量41は2つの電極を有する。保持容量41の一方の電極は、ノードh2を介してトランスミッションゲート42の入力端に電気的に接続される。また、トランスミッションゲート42の出力端は、ノードh1を介して、保持容量44の他方の電極に電気的に接続される。
制御回路3は、各列のトランスミッションゲート42に対して、制御信号Gcpl及び制御信号/Gcplを共通に供給する。このため、各列のトランスミッションゲート42は、制御信号GcplがHレベルであるとき(制御信号/GcplがLレベルであるとき)に一斉にオンする。
各列の保持容量41の一方の電極は、ノードh2を介して、トランスミッションゲート34の出力端、及び、トランスミッションゲート42の入力端に電気的に接続される。そして、トランスミッションゲート34がオンした際、保持容量41の一方の電極には、トランスミッションゲート34の出力端を介してデータ信号Vd(j)が供給される。すなわち、保持容量41は、一方の電極にデータ信号Vd(j)が供給される第4保持容量として機能する。また、各列の保持容量41の他方の電極は、固定電位である電位Vssが供給される給電線63に共通に接続される。ここで、電位Vssは、論理信号である走査信号や制御信号のLレベルに相当するものであってもよい。なお、保持容量41の容量値をCrf2とする。
The holding capacity 41 has two electrodes. One electrode of the holding capacitance 41 is electrically connected to the input end of the transmission gate 42 via the node h2. Further, the output end of the transmission gate 42 is electrically connected to the other electrode of the holding capacity 44 via the node h1.
The control circuit 3 commonly supplies the control signal Gcpl and the control signal / Gcpl to the transmission gate 42 in each row. Therefore, the transmission gates 42 in each row are turned on all at once when the control signal Gcpl is at the H level (when the control signal / Gcpl is at the L level).
One electrode of the holding capacity 41 of each row is electrically connected to the output end of the transmission gate 34 and the input end of the transmission gate 42 via the node h2. Then, when the transmission gate 34 is turned on, the data signal Vd (j) is supplied to one electrode of the holding capacitance 41 via the output end of the transmission gate 34. That is, the holding capacity 41 functions as a fourth holding capacity in which the data signal Vd (j) is supplied to one of the electrodes. Further, the other electrode of the holding capacity 41 in each row is commonly connected to the feeder line 63 to which the potential Vss, which is a fixed potential, is supplied. Here, the potential Vss may correspond to the L level of the scanning signal or the control signal which is a logic signal. The capacity value of the holding capacity 41 is set to Crf2.

図4を参照して画素回路110について説明する。各画素回路110については電気的にみれば互いに同一構成なので、ここでは、i行目に位置し、且つ、j番目のグループのうち左端列の(3j−2)列目に位置する、i行(3j−2)列の画素回路110を例にとって説明する。なお、iは、画素回路110が配列する行を一般的に示す場合の記号であって、1以上m以下の整数である。 The pixel circuit 110 will be described with reference to FIG. Since each pixel circuit 110 has the same configuration electrically, it is located in the i-th row and is located in the (3j-2) th column of the leftmost column of the j-th group. The pixel circuit 110 in the (3j-2) column will be described as an example. Note that i is a symbol when generally indicating the rows arranged by the pixel circuit 110, and is an integer of 1 or more and m or less.

図4に示されるように、画素回路110は、PチャネルMOS型のトランジスター121〜125と、OLED130と、保持容量132とを含む。この画素回路110には、走査信号Gwr(i)、制御信号Gcmp(i)、Gel(i)、Gorst(i)が供給される。ここで、走査信号Gwr(i)、制御信号Gcmp(i)、Gel(i)、Gorst(i)は、それぞれi行目に対応して走査線駆動回路20によって供給されるものである。
なお、図2では図示省略したが、表示パネル2(表示部100)には、図2において横方向(X方向)に延在するm行の制御線143(第1制御線)、横方向に延在するm行の制御線144(第2制御線)、及び、横方向に延在するm行の制御線145(第3制御線)が設けられる。そして、走査線駆動回路20は、1、2、3、…、m行目の制御線143に対して、それぞれ、制御信号Gcmp(1)、Gcmp(2)、Gcmp(3)、…、Gcmp(m)を供給し、1、2、3、…、m行目の制御線144に対して、それぞれ、制御信号Gel(1)、Gel(2)、Gel(3)、…、Gel(m)を供給し、1、2、3、…、m行目の制御線145に対して、それぞれ、制御信号Gorst(1)、Gorst(2)、Gorst(3)、…、Gorst(m)を供給する。すなわち、走査線駆動回路20は、i行目に位置する(3n)個の画素回路に対して、走査信号Gwr(i)、制御信号Gel(i)、Gcmp(i)、Gorst(i)を、それぞれ、i行目の走査線12、制御線143、144、145を介して、共通に供給する。以下では、走査線12、制御線143、制御線144、及び、制御線145を、「制御線」と総称する場合がある。すなわち、本実施形態に係る表示パネル2には、各行に、走査線12を含む4本の制御線が設けられる。
As shown in FIG. 4, the pixel circuit 110 includes P-channel MOS type transistors 121 to 125, an OLED 130, and a holding capacity 132. Scanning signals Gwr (i), control signals Gcmp (i), Gel (i), and Gorst (i) are supplied to the pixel circuit 110. Here, the scanning signal Gwr (i), the control signals Gcmp (i), Gel (i), and Gorst (i) are supplied by the scanning line drive circuit 20 corresponding to the i-th row, respectively.
Although not shown in FIG. 2, the display panel 2 (display unit 100) has m-row control lines 143 (first control lines) extending in the horizontal direction (X direction) in FIG. 2 in the horizontal direction. An extending m-line control line 144 (second control line) and a laterally extending m-line control line 145 (third control line) are provided. Then, the scanning line drive circuit 20 has control signals Gcmp (1), Gcmp (2), Gcmp (3), ..., Gcmp for the control lines 143 on the first, second, third, ..., mth lines, respectively. (m) is supplied, and the control signals Gel (1), Gel (2), Gel (3), ..., Gel (m) are supplied to the control lines 144 on the first, second, third, ..., and mth lines, respectively. ) Is supplied, and the control signals Gorst (1), Gorst (2), Gorst (3), ..., Gorst (m) are sent to the control lines 145 on the first, second, third, ..., mth lines, respectively. Supply. That is, the scanning line drive circuit 20 outputs the scanning signals Gwr (i), the control signals Gel (i), Gcmp (i), and Gorst (i) to the (3n) pixel circuits located in the i-th row. , They are commonly supplied via the scanning line 12 on the i-th line and the control lines 143, 144, 145, respectively. Hereinafter, the scanning line 12, the control line 143, the control line 144, and the control line 145 may be collectively referred to as a “control line”. That is, the display panel 2 according to the present embodiment is provided with four control lines including the scanning line 12 in each line.

トランジスター122は、ゲートがi行目の走査線12に電気的に接続され、ソースまたはドレインの一方が(3j−2)列目のデータ線14に電気的に接続されている。また、保持容量132は2つの電極を有する。トランジスター122は、ソースまたはドレインの他方が、トランジスター121のゲートと、保持容量132の一方の電極と、トランジスター123のソースまたはドレインの一方とに、それぞれ電気的に接続されている。すなわち、トランジスター122は、トランジスター121のゲートとデータ線14との間に電気的に接続され、トランジスター121のゲートとデータ線14との間の電気的な接続を制御する書込トランジスターとして機能する。なお、以下において、トランジスター121のゲート、トランジスター122のソースまたはドレインの他方、トランジスター123のソースまたはドレインの一方、及び、保持容量132の一方の電極を電気的に接続する配線を、(トランジスター121の)ゲートノードgと称する場合がある。
トランジスター121は、ソースが給電線116に電気的に接続され、ドレインがトランジスター123のソースまたはドレインの他方と、トランジスター124のソースとにそれぞれ電気的に接続されている。ここで、給電線116には、画素回路110において電源の高位側となる電位Velが給電される。このトランジスター121は、トランジスター121のゲート及びソース間の電圧に応じた電流を流す駆動トランジスターとして機能する。
トランジスター123は、ゲートが制御線143に電気的に接続され、制御信号Gcmp(i)が供給される。このトランジスター123は、トランジスター121のゲート及びドレインの間の電気的な接続を制御する、第1スイッチングトランジスターとして機能する。
トランジスター124は、ゲートが制御線144に電気的に接続され、制御信号Gel(i)が供給される。また、トランジスター124は、ドレインがトランジスター125のソースとOLED130のアノード130aとにそれぞれ電気的に接続されている。このトランジスター124は、トランジスター121のドレインと、OLED130のアノードとの間の電気的な接続を制御する、第2スイッチングトランジスターとして機能する。
トランジスター125は、ゲートが制御線145に電気的に接続され、制御信号Gorst(i)が供給される。また、トランジスター125のドレインは(3j−2)列目の給電線16に電気的に接続されてリセット電位Vorstに保たれている。このトランジスター125は、給電線16と、OLED130のアノード130aとの間の電気的な接続を制御する第3スイッチングトランジスターとして機能する。
本実施形態において表示パネル2はシリコン基板に形成されるので、トランジスター121〜125の基板電位については電位Velとしている。
なお、上記におけるトランジスター121〜125のソース、ドレインはトランジスター121〜125のチャネル型、電位の関係に応じて入れ替わってもよい。また、トランジスターは薄膜トランジスターであっても電界効果トランジスターであってもよい。
In the transistor 122, the gate is electrically connected to the scanning line 12 in the i-th row, and one of the source and the drain is electrically connected to the data line 14 in the (3j-2) column. Further, the holding capacity 132 has two electrodes. In the transistor 122, the other of the source and the drain is electrically connected to the gate of the transistor 121, one electrode of the holding capacitance 132, and one of the source and the drain of the transistor 123, respectively. That is, the transistor 122 is electrically connected between the gate of the transistor 121 and the data line 14, and functions as a writing transistor that controls the electrical connection between the gate of the transistor 121 and the data line 14. In the following, the wiring for electrically connecting the gate of the transistor 121, the source or drain of the transistor 122, the source or drain of the transistor 123, and one electrode of the holding capacity 132 (of the transistor 121). ) It may be called a gate node g.
In the transistor 121, the source is electrically connected to the feeder line 116, and the drain is electrically connected to the source or the drain of the transistor 123 and the source of the transistor 124, respectively. Here, the feeding line 116 is fed with the potential Vel on the higher side of the power supply in the pixel circuit 110. The transistor 121 functions as a drive transistor for passing a current corresponding to the voltage between the gate and the source of the transistor 121.
In the transistor 123, the gate is electrically connected to the control line 143, and the control signal Gcmp (i) is supplied. The transistor 123 functions as a first switching transistor that controls the electrical connection between the gate and drain of the transistor 121.
The gate of the transistor 124 is electrically connected to the control line 144, and the control signal Gel (i) is supplied. Further, the drain of the transistor 124 is electrically connected to the source of the transistor 125 and the anode 130a of the OLED 130, respectively. The transistor 124 functions as a second switching transistor that controls the electrical connection between the drain of the transistor 121 and the anode of the OLED 130.
In the transistor 125, the gate is electrically connected to the control line 145, and the control signal Gorst (i) is supplied. Further, the drain of the transistor 125 is electrically connected to the feeder line 16 in the (3j-2) row and is maintained at the reset potential Worst. The transistor 125 functions as a third switching transistor that controls the electrical connection between the feeder line 16 and the anode 130a of the OLED 130.
Since the display panel 2 is formed on a silicon substrate in this embodiment, the substrate potential of the transistors 121 to 125 is set to the potential Vel.
The source and drain of the transistors 121 to 125 in the above may be interchanged according to the relationship between the channel type and the potential of the transistors 121 to 125. Further, the transistor may be a thin film or a field effect transistor.

保持容量132は、一方の電極がトランジスター121のゲートに電気的に接続され、他方の電極が給電線116に電気的に接続される。このため、保持容量132は、トランジスター121のゲート・ソース間の電圧を保持する第1保持容量として機能する。なお、保持容量132の容量値をCpixと表記する。このとき、保持容量50の容量値Cdtと、保持容量44の容量値Crf1と、保持容量132の容量値Cpixとは、
Cdt>Crf1>>Cpix
となるように設定される。すなわち、CdtはCrf1よりも大きく、CpixはCdt及びCrf1よりも十分に小さくなるように設定される。なお、保持容量132としては、トランジスター121のゲートノードgに寄生する容量を用いても良いし、シリコン基板において互いに異なる導電層で絶縁層を挟持することによって形成される容量を用いても良い。
The holding capacitance 132 has one electrode electrically connected to the gate of the transistor 121 and the other electrode electrically connected to the feeder line 116. Therefore, the holding capacity 132 functions as a first holding capacity for holding the voltage between the gate and source of the transistor 121. The capacity value of the holding capacity 132 is referred to as Cpix. At this time, the capacity value Cdt of the holding capacity 50, the capacity value Crf1 of the holding capacity 44, and the capacity value Cpix of the holding capacity 132 are
Cdt> Crf1 >> Cpix
Is set to be. That is, Cdt is set to be larger than Crf1 and Cpix is set to be sufficiently smaller than Cdt and Crf1. As the holding capacity 132, a capacity parasitic on the gate node g of the transistor 121 may be used, or a capacity formed by sandwiching an insulating layer between different conductive layers on a silicon substrate may be used.

OLED130のアノード130aは、画素回路110毎に個別に設けられる画素電極である。これに対して、OLED130のカソードは、画素回路110のすべてにわたって共通に設けられる共通電極118であり、画素回路110において電源の低位側となる電位Vctに保たれている。OLED130は、上記シリコン基板において、アノード130aと光透過性を有するカソードとで白色有機EL層を挟持した素子である。そして、OLED130の出射側(カソード側)にはRGBのいずれかに対応したカラーフィルターが重ねられる。
このようなOLED130において、アノード130aからカソードに電流が流れると、アノード130aから注入された正孔とカソードから注入された電子とが有機EL層で再結合して励起子が生成され、白色光が発生する。このときに発生した白色光は、シリコン基板(アノード130a)とは反対側のカソードを透過し、カラーフィルターによる着色を経て、観察者側に視認される構成となっている。
The anode 130a of the OLED 130 is a pixel electrode individually provided for each pixel circuit 110. On the other hand, the cathode of the OLED 130 is a common electrode 118 commonly provided over all of the pixel circuits 110, and is maintained at a potential Vct on the lower side of the power supply in the pixel circuits 110. The OLED 130 is an element in which a white organic EL layer is sandwiched between an anode 130a and a cathode having light transmission in the silicon substrate. Then, a color filter corresponding to any of RGB is superimposed on the emission side (cathode side) of the OLED 130.
In such an OLED 130, when a current flows from the anode 130a to the cathode, the holes injected from the anode 130a and the electrons injected from the cathode are recombined in the organic EL layer to generate excitons, and white light is emitted. Occur. The white light generated at this time passes through the cathode on the opposite side of the silicon substrate (anode 130a), is colored by a color filter, and is visually recognized by the observer.

次に、画素回路110の構造について、図5及び図6を参照して説明する。
図5は、i行(3j−2)列の画素回路110の構成を示す平面図である。この、図5は、トップエミッション構造の画素回路110を観察側から平面視した場合の配線構造を示しているが、簡略化のために、OLED130のアノード130a以降に形成される構造体を省略している。また、図6は、図5におけるE−e線で切断した部分断面図である。図6においては、OLED130のアノード130aまでを示し、以降の構造体を省略している。なお、図5及び図6では、各層、各部材、各領域などを認識可能な大きさとするために、縮尺を異ならせている場合がある。
Next, the structure of the pixel circuit 110 will be described with reference to FIGS. 5 and 6.
FIG. 5 is a plan view showing the configuration of the pixel circuit 110 in rows i (3j-2). FIG. 5 shows a wiring structure when the pixel circuit 110 having a top emission structure is viewed in a plan view from the observation side, but for simplification, the structure formed after the anode 130a of the OLED 130 is omitted. ing. Further, FIG. 6 is a partial cross-sectional view taken along the line E in FIG. In FIG. 6, the anode 130a of the OLED 130 is shown, and the subsequent structures are omitted. In addition, in FIGS. 5 and 6, the scale may be different in order to make each layer, each member, each region, and the like recognizable size.

図6に示すように、画素回路110を構成する各要素は、シリコン基板150上に形成される。本実施形態では、シリコン基板150としてP型半導体基板を用いる。シリコン基板150には、ほぼ全面にわたってNウェル160が形成されている。なお、図5においては、平面視したときに、トランジスター121〜125の設けられる領域を容易に把握できるように、Nウェル160のうち、トランジスター121〜125の設けられる領域及びその近傍のみを、ハッチングを付して示している。
Nウェル160には、N型拡散層(図示せず)を介して電位Velが給電される。このため、トランジスター121〜125の基板電位は電位Velとなっている。
As shown in FIG. 6, each element constituting the pixel circuit 110 is formed on the silicon substrate 150. In this embodiment, a P-type semiconductor substrate is used as the silicon substrate 150. N-wells 160 are formed on the silicon substrate 150 over almost the entire surface. In FIG. 5, only the region where the transistors 121 to 125 are provided and its vicinity are hatched in the N well 160 so that the region where the transistors 121 to 125 are provided can be easily grasped when viewed in a plan view. It is shown with.
The potential Vel is supplied to the N well 160 via an N-type diffusion layer (not shown). Therefore, the substrate potential of the transistors 121 to 125 is the potential Vel.

図5及び図6に示すように、Nウェル160の表面にイオンをドープすることにより、複数のP型拡散層が形成される。具体的には、Nウェル160の表面には、画素回路110毎に、9つのP型拡散層P1〜P9が形成される。これら、P型拡散層P1〜P9は、トランジスター121〜125のソースまたはドレインとして機能する。また、Nウェル160及びP型拡散層P1〜P9の表面には、ゲート絶縁層L0が形成され、ゲート絶縁層L0の表面にはゲート電極G1〜G5が、パターニングによって形成される。これら、ゲート電極G1〜G5は、それぞれトランジスター121〜125のゲートとして機能する。 As shown in FIGS. 5 and 6, a plurality of P-type diffusion layers are formed by doping the surface of the N well 160 with ions. Specifically, nine P-type diffusion layers P1 to P9 are formed on the surface of the N-well 160 for each pixel circuit 110. These P-type diffusion layers P1 to P9 function as sources or drains of transistors 121 to 125. Further, a gate insulating layer L0 is formed on the surfaces of the N well 160 and the P-type diffusion layers P1 to P9, and gate electrodes G1 to G5 are formed on the surface of the gate insulating layer L0 by patterning. These gate electrodes G1 to G5 function as gates for transistors 121 to 125, respectively.

図5に示されるように、トランジスター121は、ゲート電極G1、P型拡散層P1、及び、P型拡散層P2を有する。このうち、P型拡散層P1は、トランジスター121のソースとして機能し、P型拡散層P2は、トランジスター121のドレインとして機能する。
また、トランジスター122は、ゲート電極G2、P型拡散層P3、及びP型拡散層P4を有する。このうち、P型拡散層P3は、トランジスター122のソースまたはドレインの一方として機能し、P型拡散層P4は、トランジスター122のソースまたはドレインの他方として機能する。
トランジスター123は、ゲート電極G3、P型拡散層P4、及びP型拡散層P5を有する。このうち、P型拡散層P4は、トランジスター123のソースまたはドレインの一方として機能し、P型拡散層P5は、トランジスター123のソースまたはドレインの他方として機能する。すなわち、P型拡散層P4は、トランジスター122のソースまたはドレインの他方として機能するとともに、トランジスター123のソースまたはドレインの一方として機能する。
トランジスター124は、ゲート電極G4、P型拡散層P6、及びP型拡散層P7を有する。このうち、P型拡散層P6は、トランジスター124のソースとして機能し、P型拡散層P7は、トランジスター124のドレインとして機能する。
なお、本実施形態では、トランジスター121のドレイン、トランジスター123のソースまたはドレインの他方、及び、トランジスター124のソースを、それぞれ個別のP型拡散層P2、P5、及びP6で構成しているが、単一のP型拡散層で構成してもよい。この場合、後述する中継ノードN13を設けなくてもよい。
トランジスター125は、ゲート電極G5、P型拡散層P8、及びP型拡散層P9を有する。このうち、P型拡散層P8は、トランジスター125のソースとして機能し、P型拡散層P9は、トランジスター125のドレインとして機能する。
As shown in FIG. 5, the transistor 121 has a gate electrode G1, a P-type diffusion layer P1, and a P-type diffusion layer P2. Of these, the P-type diffusion layer P1 functions as a source of the transistor 121, and the P-type diffusion layer P2 functions as a drain of the transistor 121.
Further, the transistor 122 has a gate electrode G2, a P-type diffusion layer P3, and a P-type diffusion layer P4. Of these, the P-type diffusion layer P3 functions as one of the source or drain of the transistor 122, and the P-type diffusion layer P4 functions as the other of the source or drain of the transistor 122.
The transistor 123 has a gate electrode G3, a P-type diffusion layer P4, and a P-type diffusion layer P5. Of these, the P-type diffusion layer P4 functions as one of the source or drain of the transistor 123, and the P-type diffusion layer P5 functions as the other of the source or drain of the transistor 123. That is, the P-type diffusion layer P4 functions as one of the source or drain of the transistor 122 and also as one of the source or drain of the transistor 123.
The transistor 124 has a gate electrode G4, a P-type diffusion layer P6, and a P-type diffusion layer P7. Of these, the P-type diffusion layer P6 functions as a source of the transistor 124, and the P-type diffusion layer P7 functions as a drain of the transistor 124.
In this embodiment, the drain of the transistor 121, the source or the drain of the transistor 123, and the source of the transistor 124 are composed of separate P-type diffusion layers P2, P5, and P6, respectively. It may be composed of one P-type diffusion layer. In this case, it is not necessary to provide the relay node N13 described later.
The transistor 125 has a gate electrode G5, a P-type diffusion layer P8, and a P-type diffusion layer P9. Of these, the P-type diffusion layer P8 functions as a source of the transistor 125, and the P-type diffusion layer P9 functions as a drain of the transistor 125.

図6に示すように、ゲート電極G1〜G5及びゲート絶縁層L0を覆うように、第1層間絶縁層L1が形成される。
第1層間絶縁層L1の表面には、アルミニウム等の導電性の配線層をパターニングすることにより、行毎に、走査線12、給電線116、及び、制御線143〜145がそれぞれ形成されるとともに、画素回路110毎に、中継ノードN11〜N16、及び、分岐部116aがそれぞれ形成される。なお、これら第1層間絶縁層L1の表面に形成される配線層を、第1配線層と総称する場合がある。
As shown in FIG. 6, the first interlayer insulating layer L1 is formed so as to cover the gate electrodes G1 to G5 and the gate insulating layer L0.
By patterning a conductive wiring layer such as aluminum on the surface of the first interlayer insulating layer L1, scanning lines 12, feeder lines 116, and control lines 143 to 145 are formed for each row. , Relay nodes N11 to N16 and a branch portion 116a are formed for each pixel circuit 110, respectively. The wiring layer formed on the surface of the first interlayer insulating layer L1 may be collectively referred to as the first wiring layer.

図5に示すように、給電線116は、Y軸方向と交差するX方向に延在するとともに、画素回路110毎にY方向に分岐した部分(分岐部116a)を有する。分岐部116aは、平面視したとき(すなわち、シリコン基板150の画素回路110が配置された面に垂直な方向から画素回路110を見たとき)、分岐部116aの一部とP型拡散層P1とが互いに重なり合うように設けられる。また、図5及び図6に示すように、分岐部116aは、第1層間絶縁層L1を貫通するコンタクトホールHa1を介して、P型拡散層P1に電気的に接続される。なお、図5において、コンタクトホールは、異種の配線層同士が重なる部分で「□」印に「×」印を付した部分として示している。 As shown in FIG. 5, the feeder line 116 extends in the X direction intersecting the Y-axis direction, and has a portion (branch portion 116a) branched in the Y direction for each pixel circuit 110. When the branch portion 116a is viewed in a plan view (that is, when the pixel circuit 110 is viewed from a direction perpendicular to the surface on which the pixel circuit 110 of the silicon substrate 150 is arranged), a part of the branch portion 116a and the P-type diffusion layer P1 Are provided so that they overlap each other. Further, as shown in FIGS. 5 and 6, the branch portion 116a is electrically connected to the P-type diffusion layer P1 via the contact hole Ha1 penetrating the first interlayer insulating layer L1. In addition, in FIG. 5, the contact hole is shown as a portion where different types of wiring layers overlap each other and is marked with an “x” in the “□” mark.

図5に示すように、走査線12は、X方向に延在するとともに、平面視したとき、ゲート電極G1及びゲート電極G2と交差するように設けられる。すなわち、平面視したとき、走査線12の少なくとも一部とゲート電極G1の少なくとも一部とは重なる。また、走査線12は、コンタクトホールHa5を介して、ゲート電極G2に電気的に接続される。
制御線143は、X方向に延在するとともに、平面視したとき、ゲート電極G1及びゲート電極G3と交差するように設けられる。また、制御線143は、コンタクトホールHa7を介して、ゲート電極G3に電気的に接続される。
制御線144は、X方向に延在するとともに、平面視したとき、ゲート電極G4と交差するように設けられ、コンタクトホールHa10を介して、ゲート電極G4に電気的に接続される。制御線145は、X方向に延在するとともに、平面視したとき、ゲート電極G5と交差するように設けられ、コンタクトホールHa14を介して、ゲート電極G5に電気的に接続される。
As shown in FIG. 5, the scanning line 12 extends in the X direction and is provided so as to intersect the gate electrode G1 and the gate electrode G2 when viewed in a plan view. That is, when viewed in a plan view, at least a part of the scanning line 12 and at least a part of the gate electrode G1 overlap. Further, the scanning line 12 is electrically connected to the gate electrode G2 via the contact hole Ha5.
The control line 143 extends in the X direction and is provided so as to intersect the gate electrode G1 and the gate electrode G3 when viewed in a plan view. Further, the control line 143 is electrically connected to the gate electrode G3 via the contact hole Ha7.
The control line 144 extends in the X direction and is provided so as to intersect the gate electrode G4 when viewed in a plan view, and is electrically connected to the gate electrode G4 via the contact hole Ha10. The control line 145 extends in the X direction and is provided so as to intersect the gate electrode G5 when viewed in a plan view, and is electrically connected to the gate electrode G5 via the contact hole Ha14.

図5及び図6に示すように、中継ノードN11は、コンタクトホールHa2を介してゲート電極G1に電気的に接続されるとともに、コンタクトホールHa6を介してP型拡散層P4に電気的に接続される。すなわち、中継ノードN11は、トランジスター121のゲート、トランジスター122のソースまたはドレインの他方、及び、トランジスター123のソースまたはドレインの一方を電気的に接続するゲートノードgに相当する。
中継ノードN16は、平面視したときに、中継ノードN16とゲート電極G1の一部とが互いに重なるように設けられる。そして、中継ノードN16とゲート電極G1とが第1層間絶縁層L1を挟持することにより、保持容量132が形成される。すなわち、ゲート電極G1は、保持容量132の一方の電極に相当し、中継ノードN16は、保持容量132の他方の電極に相当する。
中継ノードN12は、コンタクトホールHa4を介してP型拡散層P3に電気的に接続される。中継ノードN13は、コンタクトホールHa3を介してP型拡散層P2に電気的に接続されるとともに、コンタクトホールHa8を介してP型拡散層P5に電気的に接続され、コンタクトホールHa9を介してP型拡散層P6に電気的に接続される。中継ノードN14は、コンタクトホールHa11を介してP型拡散層P7に電気的に接続されるとともに、コンタクトホールHa12を介してP型拡散層P8に電気的に接続される。中継ノードN15は、コンタクトホールHa13を介してP型拡散層P9に電気的に接続される。
As shown in FIGS. 5 and 6, the relay node N11 is electrically connected to the gate electrode G1 via the contact hole Ha2 and electrically connected to the P-type diffusion layer P4 via the contact hole Ha6. Ru. That is, the relay node N11 corresponds to the gate node g that electrically connects the gate of the transistor 121, the other of the source or drain of the transistor 122, and the source or drain of the transistor 123.
The relay node N16 is provided so that the relay node N16 and a part of the gate electrode G1 overlap each other when viewed in a plan view. Then, the relay node N16 and the gate electrode G1 sandwich the first interlayer insulating layer L1 to form the holding capacity 132. That is, the gate electrode G1 corresponds to one electrode of the holding capacity 132, and the relay node N16 corresponds to the other electrode of the holding capacity 132.
The relay node N12 is electrically connected to the P-type diffusion layer P3 via the contact hole Ha4. The relay node N13 is electrically connected to the P-type diffusion layer P2 via the contact hole Ha3, and is electrically connected to the P-type diffusion layer P5 via the contact hole Ha8, and is electrically connected to the P-type diffusion layer P5 via the contact hole Ha9. It is electrically connected to the type diffusion layer P6. The relay node N14 is electrically connected to the P-type diffusion layer P7 via the contact hole Ha11 and electrically connected to the P-type diffusion layer P8 via the contact hole Ha12. The relay node N15 is electrically connected to the P-type diffusion layer P9 via the contact hole Ha13.

図6に示すように、第1配線層および第1層間絶縁層L1を覆うように、第2層間絶縁層L2が形成される。
第2層間絶縁層L2の表面には、アルミニウム等の導電性の配線層をパターニングすることにより、列毎に、データ線14、及び、給電線16がそれぞれ形成されるとともに、画素回路110毎に、中継ノードN21、N22がそれぞれ形成される。なお、これら第2層間絶縁層L2の表面に形成される配線層を、第2配線層と総称する場合がある。
図5に示すように、データ線14は、コンタクトホールHb2を介して、中継ノードN12に電気的に接続される。これにより、P型拡散層P3は、中継ノードN12を介して、データ線14に電気的に接続される。給電線16は、コンタクトホールHb3を介して、中継ノードN15に電気的に接続される。これにより、P型拡散層P9は、中継ノードN15を介して、給電線16に電気的に接続される。中継ノードN21は、コンタクトホールHb1を介して給電線116に電気的に接続されるとともに、コンタクトホールHb4を介して中継ノードN16(保持容量132の他方の電極)に電気的に接続される。これにより、中継ノードN16は、中継ノードN21を介して給電線116に電気的に接続され、電位Velに保たれる。
また、図6に示すように、中継ノードN22は、コンタクトホールHb5を介して中継ノードN14に電気的に接続される。
As shown in FIG. 6, the second interlayer insulating layer L2 is formed so as to cover the first wiring layer and the first interlayer insulating layer L1.
By patterning a conductive wiring layer such as aluminum on the surface of the second interlayer insulating layer L2, a data line 14 and a feeder line 16 are formed for each row, and each pixel circuit 110 is formed. , Relay nodes N21 and N22 are formed, respectively. The wiring layer formed on the surface of the second interlayer insulating layer L2 may be collectively referred to as the second wiring layer.
As shown in FIG. 5, the data line 14 is electrically connected to the relay node N12 via the contact hole Hb2. As a result, the P-type diffusion layer P3 is electrically connected to the data line 14 via the relay node N12. The feeder line 16 is electrically connected to the relay node N15 via the contact hole Hb3. As a result, the P-type diffusion layer P9 is electrically connected to the feeder line 16 via the relay node N15. The relay node N21 is electrically connected to the feeder line 116 via the contact hole Hb1 and electrically connected to the relay node N16 (the other electrode of the holding capacity 132) via the contact hole Hb4. As a result, the relay node N16 is electrically connected to the feeder line 116 via the relay node N21 and is maintained at the potential Vel.
Further, as shown in FIG. 6, the relay node N22 is electrically connected to the relay node N14 via the contact hole Hb5.

図6に示すように、第2配線層および第2層間絶縁層L2を覆うように、第3層間絶縁層L3が形成される。
第3層間絶縁層L3の表面には、アルミニウムやITO(Indium Tin Oxide)などの導電性を有する配線層をパターニングすることによって、OLED130のアノード130aが形成される。OLED130のアノード130aは、画素回路110毎に個別の画素電極であり、第3層間絶縁層L3を貫通するコンタクトホールHc1を介して中継ノードN22に接続される。すなわち、OLED130のアノード130aは、中継ノードN22、及び、中継ノードN14を介して、P型拡散層P7(つまり、トランジスター124のドレイン)およびP型拡散層P8(つまり、トランジスター125のソース)に電気的に接続される。
また、図示は省略するが、OLED130のアノード130aの上には、画素回路110毎に区分けされて、有機EL材料からなる発光層が積層される。そして、発光層の上には、複数の画素回路110の全てにわたって共通の透明電極であるカソード(共通電極118)が設けられる。すなわち、OLED130は、互いに対向するアノードとカソードとで発光層を挟持し、アノードから共通電極118に向かって流れる電流に応じた輝度にて発光する。OLED130が発する光のうち、シリコン基板150とは反対方向(すなわち、図6において上方向)に向かう光が、観察者に映像として視認される(トップエミッション構造)。このほかにも、発光層を大気から遮断するための封止材などが設けられるが、説明は省略する。
As shown in FIG. 6, the third interlayer insulating layer L3 is formed so as to cover the second wiring layer and the second interlayer insulating layer L2.
The anode 130a of the OLED 130 is formed on the surface of the third interlayer insulating layer L3 by patterning a wiring layer having conductivity such as aluminum or ITO (Indium Tin Oxide). The anode 130a of the OLED 130 is an individual pixel electrode for each pixel circuit 110, and is connected to the relay node N22 via the contact hole Hc1 penetrating the third interlayer insulating layer L3. That is, the anode 130a of the OLED 130 supplies electricity to the P-type diffusion layer P7 (that is, the drain of the transistor 124) and the P-type diffusion layer P8 (that is, the source of the transistor 125) via the relay node N22 and the relay node N14. Connected to.
Although not shown, a light emitting layer made of an organic EL material is laminated on the anode 130a of the OLED 130, which is divided into pixel circuits 110. A cathode (common electrode 118), which is a transparent electrode common to all of the plurality of pixel circuits 110, is provided on the light emitting layer. That is, the OLED 130 sandwiches the light emitting layer between the anode and the cathode facing each other, and emits light with brightness corresponding to the current flowing from the anode to the common electrode 118. Of the light emitted by the OLED 130, the light directed in the direction opposite to that of the silicon substrate 150 (that is, upward in FIG. 6) is visually recognized as an image by the observer (top emission structure). In addition to this, a sealing material or the like for blocking the light emitting layer from the atmosphere is provided, but the description thereof will be omitted.

<実施形態の動作>
図7を参照して電気光学装置1の動作について説明する。図7は、電気光学装置1における各部の動作を説明するためのタイミングチャートである。この図に示されるように、走査線駆動回路20は、走査信号Gwr(1)〜Gwr(m)を順次Lレベルに切り替えて、1フレームの期間において1〜m行目の走査線12を1水平走査期間(H)毎に順番に走査する。1水平走査期間(H)での動作は、各行の画素回路110にわたって共通である。そこで以下については、i行目が水平走査される走査期間において、特にi行(3j−2)列の画素回路110について着目して動作を説明する。
<Operation of the embodiment>
The operation of the electro-optical device 1 will be described with reference to FIG. 7. FIG. 7 is a timing chart for explaining the operation of each part in the electro-optical device 1. As shown in this figure, the scanning line drive circuit 20 sequentially switches the scanning signals Gwr (1) to Gwr (m) to the L level, and sets the scanning lines 12 on the 1st to mth lines to 1 in a period of one frame. Scans are performed in order for each horizontal scanning period (H). The operation in one horizontal scanning period (H) is common throughout the pixel circuits 110 of each row. Therefore, the operation will be described below with particular attention to the pixel circuit 110 in the i-th row (3j-2) column during the scanning period in which the i-th row is horizontally scanned.

本実施形態ではi行目の走査期間は、大別すると、図7において(b)で示される初期化期間と(c)で示される補償期間と(d)で示される書込期間とに分けられる。そして、(d)の書込期間の後、(a)で示される発光期間となり、1フレームの期間経過後に再びi行目の走査期間に至る。このため、時間の順でいえば、(発光期間)→初期化期間→補償期間→書込期間→(発光期間)というサイクルの繰り返しとなる。
なお、図7において、i行目に対し1行前の(i−1)行目に対応する走査信号Gwr(i-1)、制御信号Gel(i-1)、Gcmp(i-1)、Gorst(i-1)の各々については、i行目に対応する走査信号Gwr(i)、制御信号Gel(i)、Gcmp(i)、Gorst(i)よりも、それぞれ時間的に1水平走査期間(H)だけ時間的に先行した波形となる。
In the present embodiment, the scanning period of the i-th line is roughly divided into an initialization period shown by (b), a compensation period shown by (c), and a writing period shown by (d) in FIG. Be done. Then, after the writing period of (d), the light emitting period shown by (a) is reached, and after the period of one frame elapses, the scanning period of the i-th row is reached again. Therefore, in the order of time, the cycle of (light emitting period) → initialization period → compensation period → writing period → (light emitting period) is repeated.
In FIG. 7, the scanning signals Gwr (i-1), the control signals Gel (i-1), and Gcmp (i-1) corresponding to the (i-1) line one line before the i-th line. For each of the Gorst (i-1), one horizontal scan is performed in terms of time from the scanning signals Gwr (i), control signals Gel (i), Gcmp (i), and Gorst (i) corresponding to the i-th line. The waveform is time-advanced by the period (H).

<発光期間>
説明の便宜上、初期化期間の前提となる発光期間から説明する。i行目の発光期間において、走査線駆動回路20は、i行目の走査線12に所定の第2電位V2を供給し、i行目の制御線144に所定の第1電位V1を供給し、i行目の制御線143に第2電位V2を供給し、i行目の制御線145に第2電位V2を供給する。なお、本実施形態では、第1電位V1は、第2電位V2よりも低く設定される。例えば、第1電位V1は、制御回路3が供給する制御信号(制御信号Gref等)のLレベルに相当するものであればよく、第2電位VHは、制御回路3が供給する制御信号のHレベルに相当するものであればよい。すなわち、図7に示されるように、i行目の発光期間において、走査信号Gwr(i)はHレベルに設定され、制御信号Gel(i)はLレベルに設定され、制御信号Gcmp(i)はHレベルに設定され、制御信号Gorst(i)はHレベルに設定される。
このため、図8に示されるようにi行(3j−2)列の画素回路110においては、トランジスター124がオンする一方、トランジスター122、123、125がオフする。したがって、トランジスター121は、ゲート・ソース間の電圧Vgsに応じた電流IdsをOLED130に供給する。後述するように、本実施形態において発光期間での電圧Vgsは、データ信号の電位をレベルシフトした値である。このため、OLED130には、階調レベルに応じた電流がトランジスター121の閾値電圧を補償した状態で供給されることになる。
<Light emission period>
For convenience of explanation, the light emission period, which is the premise of the initialization period, will be described first. In the light emitting period of the i-th row, the scanning line drive circuit 20 supplies a predetermined second potential V2 to the scanning line 12 of the i-th row and supplies a predetermined first potential V1 to the control line 144 of the i-th row. , The second potential V2 is supplied to the control line 143 of the i-th line, and the second potential V2 is supplied to the control line 145 of the i-th line. In this embodiment, the first potential V1 is set lower than the second potential V2. For example, the first potential V1 may be any one corresponding to the L level of the control signal (control signal Gref or the like) supplied by the control circuit 3, and the second potential VH may be the H of the control signal supplied by the control circuit 3. It may be the one corresponding to the level. That is, as shown in FIG. 7, the scanning signal Gwr (i) is set to the H level, the control signal Gel (i) is set to the L level, and the control signal Gcmp (i) is set during the light emission period of the i-th row. Is set to H level, and the control signal Gorst (i) is set to H level.
Therefore, as shown in FIG. 8, in the pixel circuit 110 of the i-row (3j-2) column, the transistor 124 is turned on, while the transistors 122, 123, 125 are turned off. Therefore, the transistor 121 supplies the OLED 130 with a current Ids corresponding to the voltage Vgs between the gate and source. As will be described later, in the present embodiment, the voltage Vgs during the light emission period is a value obtained by level-shifting the potential of the data signal. Therefore, the current corresponding to the gradation level is supplied to the OLED 130 in a state where the threshold voltage of the transistor 121 is compensated.

なお、i行目の発光期間は、i行目以外が水平走査される期間であるから、データ線14の電位は適宜変動する。ただし、i行目の画素回路110において、トランジスター122がオフしているので、ここでは、データ線14の電位変動を考慮していない。また、図8においては、発光期間における動作説明で重要となる経路を太線で示している。 Since the light emitting period of the i-th row is the period during which the non-i-th row is horizontally scanned, the potential of the data line 14 fluctuates as appropriate. However, since the transistor 122 is turned off in the pixel circuit 110 on the i-th row, the potential fluctuation of the data line 14 is not considered here. Further, in FIG. 8, the routes that are important in the explanation of the operation during the light emission period are shown by thick lines.

<初期化期間>
次にi行目の走査期間に至ると、まず、第1期間として(b)の初期化期間が開始する。
i行目の初期化期間において、走査線駆動回路20は、図7に示されるように、i行目の走査線12に第2電位V2を供給して走査信号Gwr(i)をHレベルに設定し、i行目の制御線144に第2電位V2を供給して制御信号Gel(i)をHレベルに設定し、i行目の制御線143に第2電位V2を供給して制御信号Gcmp(i)をHレベルに設定し、i行目の制御線145に第1電位V1を供給して制御信号Gorst(i)をLレベルに設定する。このため、i行(3j−2)列の画素回路110において、トランジスター124がオフし、トランジスター125がオンする。これによってOLED130に供給される電流の経路が遮断されるとともに、OLED130のアノード130aがリセット電位Vorstに設定される。
OLED130は、上述したようにアノード130aとカソードとで有機EL層を挟持した構成であるので、アノード・カソードの間には容量が並列に寄生する。発光期間においてOLED130に電流が流れていたときに、当該OLED130のアノード・カソード間の両端電圧がアノード・カソード間に並列に寄生した容量によって保持されるが、この保持電圧は、トランジスター125のオンによってリセットされる。このため、本実施形態では、後の発光期間においてOLED130に再び電流が流れるときに、アノード・カソード間に並列に寄生した容量で保持されている電圧の影響を受けにくくなる。
<Initialization period>
Next, when the scanning period of the i-th row is reached, the initialization period of (b) starts as the first period.
In the initialization period of the i-th row, the scanning line drive circuit 20 supplies the second potential V2 to the scanning line 12 of the i-th row to bring the scanning signal Gwr (i) to the H level, as shown in FIG. The second potential V2 is supplied to the control line 144 on the i-th line to set the control signal Gel (i) to the H level, and the second potential V2 is supplied to the control line 143 on the i-th line to supply the control signal. Gcmp (i) is set to H level, the first potential V1 is supplied to the control line 145 on the i-th line, and the control signal Gorst (i) is set to L level. Therefore, in the pixel circuit 110 of the i-row (3j-2) column, the transistor 124 is turned off and the transistor 125 is turned on. As a result, the path of the current supplied to the OLED 130 is cut off, and the anode 130a of the OLED 130 is set to the reset potential Worst.
Since the OLED 130 has a configuration in which the organic EL layer is sandwiched between the anode 130a and the cathode as described above, the capacitance parasitizes in parallel between the anode and the cathode. When a current is flowing through the OLED 130 during the light emission period, the voltage across the anode and cathode of the OLED 130 is held by the capacitance parasitized in parallel between the anode and cathode, and this holding voltage is held by turning on the transistor 125. It will be reset. Therefore, in the present embodiment, when the current flows through the OLED 130 again in the later light emitting period, it is less affected by the voltage held by the capacitance parasitized in parallel between the anode and the cathode.

詳細には、例えば高輝度の表示状態から低輝度の表示状態に転じるときに、リセットしない構成であると、輝度が高い(大電流が流れた)ときの高電圧が保持されてしまうので、次に、小電流を流そうとしても、過剰な電流が流れてしまって、低輝度の表示状態にさせることができなくなる。これに対して、本実施形態では、トランジスター125のオンによってOLED130のアノード130aの電位がリセットされるので、低輝度側の再現性が高められることになる。なお、本実施形態において、リセット電位Vorstについては、当該リセット電位Vorstと共通電極118の電位Vctとの差がOLED130の発光閾値電圧を下回るように設定される。このため、初期化期間(次に説明する補償期間及び書込期間)において、OLED130はオフ(非発光)状態となる。 In detail, for example, when the display state changes from the high brightness display state to the low brightness display state, if the configuration is not reset, the high voltage when the brightness is high (a large current flows) is maintained. In addition, even if a small current is to be passed, an excessive current will flow, and it will not be possible to obtain a low-luminance display state. On the other hand, in the present embodiment, the potential of the anode 130a of the OLED 130 is reset by turning on the transistor 125, so that the reproducibility on the low brightness side is improved. In the present embodiment, the reset potential Vorst is set so that the difference between the reset potential Vorst and the potential Vct of the common electrode 118 is lower than the emission threshold voltage of the OLED 130. Therefore, in the initialization period (compensation period and writing period described below), the OLED 130 is in the off (non-light emitting) state.

一方、i行目の初期化期間において、制御回路3は、図7に示されるように、制御信号/GiniをLレベルに、制御信号GrefをHレベルに、制御信号GcplをLレベルに、それぞれ設定する。このため、トランジスター43及びトランジスター45がオンした状態となる。これにより、保持容量44の一方の電極と給電線61とが電気的に接続され、保持容量44の一方の電極(及びデータ線14)は初期電位Viniに初期化される。また、保持容量44の他方の電極と給電線62とが電気的に接続され、保持容量44の他方の電極(及びノードh1)は基準電位Vrefに初期化される。
本実施形態において初期電位Viniは、(Vel−Vini)がトランジスター121の閾値電圧|Vth|よりも大きくなるように設定される。なお、トランジスター121はPチャネル型であるので、ソースの電位を基準とした閾値電圧Vthは負である。そこで、高低関係の説明で混乱が生じるのを防ぐために、閾値電圧については、絶対値の|Vth|で表し、大小関係で規定することにする。
On the other hand, in the initialization period of the i-th line, as shown in FIG. 7, the control circuit 3 sets the control signal / Gini to the L level, the control signal Gref to the H level, and the control signal Gcpl to the L level, respectively. Set. Therefore, the transistor 43 and the transistor 45 are turned on. As a result, one electrode of the holding capacity 44 and the feeder line 61 are electrically connected, and one electrode (and the data line 14) of the holding capacity 44 is initialized to the initial potential Vini. Further, the other electrode of the holding capacity 44 and the feeder line 62 are electrically connected, and the other electrode of the holding capacity 44 (and the node h1) is initialized to the reference potential Vref.
In the present embodiment, the initial potential Vini is set so that (Vel-Vini) is larger than the threshold voltage | Vth | of the transistor 121. Since the transistor 121 is a P-channel type, the threshold voltage Vth based on the potential of the source is negative. Therefore, in order to prevent confusion in the explanation of the high-low relationship, the threshold voltage is represented by the absolute value | Vth | and is specified by the magnitude relationship.

図7に示されるように、データ信号供給回路70は、i行目の走査期間の開始された後、書込期間が開始されるまでの期間において、各デマルチプレクサDM(1)、DM(2)、…、DM(n)、に対して、それぞれデータ信号Vd(1)、Vd(2)、…、Vd(n)、を供給する。すなわち、データ信号供給回路70は、j番目のグループでいえば、データ信号Vd(j)を順番に、i行(3j−2)列、i行(3j−1)列、i行(3j)列の画素の階調レベルに応じた電位に切り替える。
一方、制御回路3は、データ信号の電位の切り替えに合わせて制御信号Sel(1)、Sel(2)、Sel(3)を順番に排他的にHレベルとする。これによって、各デマルチプレクサDMに設けられる3つのトランスミッションゲート34がそれぞれ左端列、中央列、右端列の順番でオンする。
ここで、初期化期間において、j番目のグループに属する左端列のトランスミッションゲート34が制御信号Sel(1)によってオンする場合、データ信号Vd(j)が保持容量41の一方の電極に供給されるので、当該データ信号Vd(j)は、保持容量41によって保持される。
As shown in FIG. 7, the data signal supply circuit 70 includes the demultiplexer DM (1) and DM (2) in the period from the start of the scanning period of the i-th row to the start of the writing period. ), ..., DM (n), respectively, the data signals Vd (1), Vd (2), ..., Vd (n) are supplied. That is, in the data signal supply circuit 70, in the j-th group, the data signal Vd (j) is sequentially arranged in the i-row (3j-2) column, the i-row (3j-1) column, and the i-row (3j). Switch to the potential according to the gradation level of the pixels in the row.
On the other hand, the control circuit 3 exclusively sets the control signals Sel (1), Sel (2), and Sel (3) to the H level in order according to the switching of the potential of the data signal. As a result, the three transmission gates 34 provided in each demultiplexer DM are turned on in the order of the left end row, the center row, and the right end row, respectively.
Here, in the initialization period, when the transmission gate 34 in the leftmost row belonging to the j-th group is turned on by the control signal Self (1), the data signal Vd (j) is supplied to one electrode of the holding capacity 41. Therefore, the data signal Vd (j) is held by the holding capacity 41.

<補償期間>
i行目の走査期間では、次に第2期間として(c)の補償期間となる。i行目の補償期間において、制御回路3は、図7に示されるように、制御信号/GiniをHレベルに、制御信号GrefをHレベルに、制御信号GcplをLレベルに、それぞれ設定する。このため、トランジスター43はオンした状態となる一方、トランジスター45はオフした状態となる。これにより、保持容量44の他方の電極と給電線62とが電気的に接続され、ノードh1が基準電位Vrefに設定される。
<Compensation period>
In the scanning period of the i-th row, the compensation period of (c) is then set as the second period. In the compensation period of the i-th line, the control circuit 3 sets the control signal / Gini to the H level, the control signal Gref to the H level, and the control signal Gcpl to the L level, respectively, as shown in FIG. Therefore, the transistor 43 is turned on, while the transistor 45 is turned off. As a result, the other electrode of the holding capacity 44 and the feeder line 62 are electrically connected, and the node h1 is set to the reference potential Vref.

また、補償期間において、j番目のグループに属する左端列のトランスミッションゲート34が制御信号Sel(1)によってオンする場合、データ信号Vd(j)が保持容量41の一方の電極に供給される。
なお、すでに初期化期間において、j番目のグループに属する左端列のトランスミッションゲート34が制御信号Sel(1)によってオンした場合には、補償期間において、当該トランスミッションゲート34はオンすることはないが、左端列のトランスミッションゲート34がオンした際に供給されたデータ信号Vd(j)は、保持容量41によって保持される。
Further, in the compensation period, when the transmission gate 34 in the leftmost row belonging to the j-th group is turned on by the control signal Self (1), the data signal Vd (j) is supplied to one electrode of the holding capacity 41.
If the transmission gate 34 in the leftmost row belonging to the jth group is already turned on by the control signal Sel (1) in the initialization period, the transmission gate 34 is not turned on in the compensation period. The data signal Vd (j) supplied when the transmission gate 34 in the leftmost row is turned on is held by the holding capacitance 41.

また、i行目の補償期間において、走査線駆動回路20は、図7に示されるように、i行目の走査線12に第1電位V1を供給して走査信号Gwr(i)をLレベルに設定し、i行目の制御線144に第2電位V2を供給して制御信号Gel(i)をHレベルに設定し、i行目の制御線143に第1電位V1を供給して制御信号Gcmp(i)をLレベルに設定し、i行目の制御線145に第1電位V1を供給して制御信号Gorst(i)をLレベルに設定する。このため、トランジスター123がオンするので、トランジスター121はダイオード接続となる。これにより、トランジスター121にはドレイン電流が流れて、ゲートノードg及びデータ線14を充電する。詳細には、電流が、給電線116→トランジスター121→トランジスター123→トランジスター122→(3j−2)列目のデータ線14という経路で流れる。従って、トランジスター121のオンによって互いに接続状態にあるデータ線14及びゲートノードgは、初期電位Viniから上昇する。ただし、上記経路に流れる電流は、ゲートノードgが電位(Vel−|Vth|)に近づくにつれて流れにくくなるので、補償期間の終了に至るまでに、データ線14及びゲートノードgは電位(Vel−|Vth|)で飽和する。
したがって、保持容量132は、補償期間の終了時には、トランジスター121の閾値電圧|Vth|を保持することになる。なお、以下では、補償期間終了時のゲートノードgの電位(Vel−|Vth|)を、電位Vpと表記する場合がある。
Further, during the compensation period of the i-th row, the scanning line drive circuit 20 supplies the first potential V1 to the scanning line 12 of the i-th row to set the scanning signal Gwr (i) to the L level, as shown in FIG. Is set to, the second potential V2 is supplied to the control line 144 on the i-th line, the control signal Gel (i) is set to the H level, and the first potential V1 is supplied to the control line 143 on the i-th line for control. The signal Gcmp (i) is set to the L level, the first potential V1 is supplied to the control line 145 on the i-th line, and the control signal Gorst (i) is set to the L level. Therefore, since the transistor 123 is turned on, the transistor 121 is connected by a diode. As a result, a drain current flows through the transistor 121 to charge the gate node g and the data line 14. Specifically, the current flows through the route of the feeder line 116 → the transistor 121 → the transistor 123 → the transistor 122 → the data line 14 in the (3j-2) column. Therefore, the data lines 14 and the gate node g, which are connected to each other by turning on the transistor 121, rise from the initial potential Vini. However, the current flowing in the above path becomes difficult to flow as the gate node g approaches the potential (Vel− | Vth |), so that the data line 14 and the gate node g become potential (Vel−) by the end of the compensation period. | Vth |) saturates.
Therefore, the holding capacity 132 holds the threshold voltage | Vth | of the transistor 121 at the end of the compensation period. In the following, the potential (Vel− | Vth |) of the gate node g at the end of the compensation period may be referred to as the potential Vp.

走査線駆動回路20は、補償期間が終了すると、制御線143に供給する電位を、第1電位V1から第2電位V2に切り替えることで、制御信号Gcmp(i)をLレベルからHレベルに変更する。これにより、トランジスター121のダイオード接続が解除される。
なお、走査線駆動回路20は、制御信号Gcmp(i)がLレベルからHレベルに変化する際の波形を、HレベルからLレベルに変化する際の波形に比べて緩やかにするように、制御線143に供給する電位を切り替える。すなわち、図7に示すように、走査線駆動回路20が、制御線143に供給する電位を第2電位V2から第1電位V1へと切り替える期間を第3切替期間T3とし、第1電位V1から第2電位V2へと切り替える期間を第4切替期間T4とする。このとき、走査線駆動回路20は、第4切替期間T4の時間長が、第3切替期間T3の時間長に比べて十分に長くなるように、制御線143に供給する電位を変化させる。
When the compensation period ends, the scanning line drive circuit 20 changes the control signal Gcmp (i) from the L level to the H level by switching the potential supplied to the control line 143 from the first potential V1 to the second potential V2. To do. As a result, the diode connection of the transistor 121 is released.
The scanning line drive circuit 20 controls the waveform when the control signal Gcmp (i) changes from the L level to the H level so as to be gentler than the waveform when the control signal Gcmp (i) changes from the H level to the L level. The potential supplied to the wire 143 is switched. That is, as shown in FIG. 7, the period in which the scanning line drive circuit 20 switches the potential supplied to the control line 143 from the second potential V2 to the first potential V1 is set as the third switching period T3, and from the first potential V1. The period for switching to the second potential V2 is defined as the fourth switching period T4. At this time, the scanning line drive circuit 20 changes the potential supplied to the control line 143 so that the time length of the fourth switching period T4 is sufficiently longer than the time length of the third switching period T3.

上述したように、平面視したときに、制御線143とゲート電極G1(トランジスター121のゲート)とは交差する。そのため、制御線143とゲート電極G1との間には、寄生容量が存在する。従って、仮に、第4切替期間T4の時間長を、第3切替期間T3の時間長と同程度に短くし、制御信号Gcmp(i)を急激にLレベルからHレベルに立ち上げた場合、制御線143における制御信号Gcmp(i)の高周波成分の影響を受け、ゲート電極G1の電位が変化する。
詳細は後述するが、補償期間の終了時において、ゲートノードgの電位(ゲート電極G1の電位)は、画素回路110毎のトランジスター121の閾値電圧のばらつきを補償した電位に定められる。しかし、補償期間の終了後にゲートノードgの電位が変化する場合、画素回路110毎の閾値電圧のばらつきを補償できなくなくなるため、表示画面の一様性を損なうような表示ムラが発生するという問題が顕著になる。
これに対して本実施形態では、第4切替期間T4の時間長を、第3切替期間T3の時間長に十分に長くして、制御信号Gcmp(i)がLレベルからHレベルに変化する際の波形を緩やかな波形とすることにより、制御線143の電位変動が、ゲートノードg(ゲート電極G1)に伝播することを防止する。これにより、画素回路110毎の閾値電圧のばらつきを補償し、表示の一様性を担保した高品位の表示が可能となる。
As described above, when viewed in a plan view, the control line 143 and the gate electrode G1 (gate of the transistor 121) intersect with each other. Therefore, there is a parasitic capacitance between the control line 143 and the gate electrode G1. Therefore, if the time length of the fourth switching period T4 is shortened to the same level as the time length of the third switching period T3 and the control signal Gcmp (i) is suddenly raised from the L level to the H level, control is performed. The potential of the gate electrode G1 changes due to the influence of the high frequency component of the control signal Gcmp (i) on the line 143.
Although details will be described later, at the end of the compensation period, the potential of the gate node g (potential of the gate electrode G1) is set to a potential that compensates for the variation in the threshold voltage of the transistor 121 for each pixel circuit 110. However, when the potential of the gate node g changes after the end of the compensation period, it becomes impossible to compensate for the variation in the threshold voltage for each pixel circuit 110, so that there is a problem that display unevenness that impairs the uniformity of the display screen occurs. Becomes noticeable.
On the other hand, in the present embodiment, when the time length of the fourth switching period T4 is sufficiently made longer than the time length of the third switching period T3 and the control signal Gcmp (i) changes from the L level to the H level. By making the waveform of No. 1 a gentle waveform, it is possible to prevent the potential fluctuation of the control line 143 from propagating to the gate node g (gate electrode G1). As a result, it is possible to compensate for the variation in the threshold voltage for each pixel circuit 110 and to perform high-quality display that guarantees the uniformity of display.

なお、実際には、第3切替期間T3の時間長は、「0」と看做すことができる程度に十分に短い。すなわち、制御信号Gcmp(i)がHレベルからLレベルに立ち下がる際の波形は、例えば、制御信号GrefがHレベルからLレベルに立ち下がる際の波形と等しくしてもよい。但し、図7においては、説明の便宜上、第3切替期間T3を図示するために、制御信号Gcmp(i)の立ち下がりの波形を、実際の波形に比べて緩やかな波形として記載している。 Actually, the time length of the third switching period T3 is sufficiently short enough to be regarded as "0". That is, the waveform when the control signal Gcmp (i) falls from the H level to the L level may be the same as the waveform when the control signal Gref falls from the H level to the L level, for example. However, in FIG. 7, for convenience of explanation, the falling waveform of the control signal Gcmp (i) is shown as a gentler waveform than the actual waveform in order to illustrate the third switching period T3.

また、制御回路3は、補償期間が終了すると、制御信号GrefをHレベルからLレベルに変更するので、トランジスター43がオフする。このため、(3j−2)列目のデータ線14からi行(3j−2)列の画素回路110におけるゲートノードgに至るまでの経路は、フローティング状態になるものの、当該経路の電位は、保持容量50、132によって(Vel−|Vth|)に維持される。 Further, when the compensation period ends, the control circuit 3 changes the control signal Gref from the H level to the L level, so that the transistor 43 is turned off. Therefore, although the path from the data line 14 in the (3j-2) column to the gate node g in the pixel circuit 110 in the i-row (3j-2) column is in a floating state, the potential of the path is It is maintained at (Vel- | Vth |) by the holding capacities 50 and 132.

<書込期間>
初期化期間の後、第3期間として(d)の書込期間に至る。i行目の書込期間において、走査線駆動回路20は、図7に示されるように、i行目の走査線12に第1電位V1を供給して走査信号Gwr(i)をLレベルに設定し、i行目の制御線144に第2電位V2を供給して制御信号Gel(i)をHレベルに設定し、i行目の制御線143に第2電位V2を供給して制御信号Gcmp(i)をHレベルに設定し、i行目の制御線145に第1電位V1を供給して制御信号Gorst(i)をLレベルに設定する。これにより、トランジスター121のダイオード接続が解除される。
<Writing period>
After the initialization period, the writing period of (d) is reached as the third period. During the writing period of the i-th line, the scanning line drive circuit 20 supplies the first potential V1 to the scanning line 12 of the i-th line to bring the scanning signal Gwr (i) to the L level, as shown in FIG. The second potential V2 is supplied to the control line 144 on the i-th line to set the control signal Gel (i) to the H level, and the second potential V2 is supplied to the control line 143 on the i-th line to supply the control signal. Gcmp (i) is set to H level, the first potential V1 is supplied to the control line 145 on the i-th line, and the control signal Gorst (i) is set to L level. As a result, the diode connection of the transistor 121 is released.

また、i行目の書込期間において、制御回路3は、図7に示されるように、制御信号/GiniをHレベルに、制御信号GrefをLレベルに、制御信号GcplをHレベルに、それぞれ設定する。このため、トランスミッションゲート42がオンするので、保持容量41に保持されたデータ信号Vd(j)が、ノードh1を介して保持容量44の他方の電極に供給される。これにより、ノードh1及び保持容量44の他方の電極は、補償期間における基準電位Vrefから変化する。このときのノードh1の電位変化量をΔVhと表す。また、書込期間におけるノードh1の電位(Vref+ΔVh)を、電位Vhと表す場合がある。
なお、ノードh1の電位が基準電位Vrefから電位VhにΔVhだけ変化した場合、ゲートノードg及びデータ線14の電位も、補償期間において設定された電位Vp =(Vel−|Vth|)から変化する。このときのゲートノードgの電位変化量をΔVgと表す。また、書込期間におけるゲートノードgの電位(Vp+ΔVg)を、電位Vgateと表す場合がある。
Further, in the writing period of the i-th line, as shown in FIG. 7, the control circuit 3 sets the control signal / Gini to the H level, the control signal Gref to the L level, and the control signal Gcpl to the H level, respectively. Set. Therefore, since the transmission gate 42 is turned on, the data signal Vd (j) held in the holding capacity 41 is supplied to the other electrode of the holding capacity 44 via the node h1. As a result, the other electrode of the node h1 and the holding capacity 44 changes from the reference potential Vref during the compensation period. The amount of potential change of the node h1 at this time is expressed as ΔVh. Further, the potential (Vref + ΔVh) of the node h1 during the writing period may be expressed as the potential Vh.
When the potential of the node h1 changes from the reference potential Vref to the potential Vh by ΔVh, the potentials of the gate node g and the data line 14 also change from the potential Vp = (Vel− | Vth |) set in the compensation period. .. The amount of potential change of the gate node g at this time is expressed as ΔVg. Further, the potential (Vp + ΔVg) of the gate node g during the writing period may be expressed as the potential Vgate.

以下では、図9を参照しつつ、書込期間の開始前後における、ゲートノードg及びノードh1の電位の変化について詳述する。
図9(A)は、書込期間の開始前後における、ノードh1及びゲートノードgの電位変化について説明するための説明図である。この図において、(A−1)は、書込期間開始前におけるノードh1及びゲートノードgの電位を表しており、(A−2)は、書込期間開始後(すなわち、トランスミッションゲート42がオンした後)におけるノードh1及びゲートノードgの電位について表している。なお、補償期間及び書込期間において、保持容量50及び保持容量132は電気的に並列に接続されるため、保持容量50及び保持容量132の合成容量501の容量値C0は、以下の式(1)で表される。
C0=Cpix+Cdt ……(1)
In the following, with reference to FIG. 9, changes in the potentials of the gate node g and the node h1 before and after the start of the writing period will be described in detail.
FIG. 9A is an explanatory diagram for explaining the potential changes of the node h1 and the gate node g before and after the start of the writing period. In this figure, (A-1) represents the potentials of the node h1 and the gate node g before the start of the writing period, and (A-2) shows the potential after the start of the writing period (that is, the transmission gate 42 is turned on). The potentials of the node h1 and the gate node g in (after) are shown. Since the holding capacity 50 and the holding capacity 132 are electrically connected in parallel during the compensation period and the writing period, the capacity value C0 of the combined capacity 501 of the holding capacity 50 and the holding capacity 132 is expressed by the following equation (1). ).
C0 = Cpix + Cdt …… (1)

書込期間の開始前において合成容量501に蓄積されている電荷をQ0aとし、書込期間の開始後において合成容量501に蓄積されている電荷をQ0bとすると、書込期間の開始前後において、合成容量501から流出する電荷(Q0a−Q0b)は、以下の式(2)で表される。同様に、書込期間の開始前において、保持容量44に蓄積されている電荷をQ1aとし、書込期間の開始後において保持容量44に蓄積されている電荷をQ1bとすると、書込期間の開始前後において、保持容量44に流入する電荷(Q1b−Q1a)は、以下の式(3)で表される。書込期間の開始前後において、合成容量501から流出する電荷と、保持容量44に流入する電荷とは等しいため、以下の式(4)が成立する。
Q0a−Q0b = C0*(Vp−Vgate) ……(2)
Q1b−Q1a = Crf1*{(Vgate−Vh)−(Vp−Vref)} ……(3)
Q0a−Q0b = Q1b−Q1a ……(4)
Assuming that the charge accumulated in the combined capacity 501 before the start of the writing period is Q0a and the charge accumulated in the combined capacity 501 after the start of the writing period is Q0b, the charge is synthesized before and after the start of the writing period. The electric charge (Q0a-Q0b) flowing out of the capacitance 501 is represented by the following equation (2). Similarly, assuming that the charge stored in the holding capacity 44 is Q1a before the start of the writing period and the charge stored in the holding capacity 44 is Q1b after the start of the writing period, the writing period starts. The electric charge (Q1b-Q1a) flowing into the holding capacity 44 before and after is represented by the following equation (3). Before and after the start of the writing period, the electric charge flowing out from the combined capacitance 501 and the electric charge flowing into the holding capacitance 44 are equal, so the following equation (4) is established.
Q0a-Q0b = C0 * (Vp-Vgate) …… (2)
Q1b-Q1a = Crf1 * {(Vgate-Vh)-(Vp-Vref)} …… (3)
Q0a-Q0b = Q1b-Q1a …… (4)

式(2)〜式(4)より、書込期間におけるゲートノードgの電位Vgateを算出することができる。具体的には、電位Vgateは以下の式(5)で表される。
Vgate = {Crf1/(Crf1+C0)}*{Vh−Vref}+Vp ……(5)
From equations (2) to (4), the potential Vgate of the gate node g during the writing period can be calculated. Specifically, the potential Vgate is represented by the following equation (5).
Vgate = {Crf1 / (Crf1 + C0)} * {Vh-Vref} + Vp …… (5)

ここで、以下の式(6)に示す容量比k1を導入する。このとき、書込期間におけるゲートノードgの電位Vgateは容量比k1を用いて以下の式(7)で表すことができ、書込期間の開始前後におけるゲートノードgの電位変化量ΔVgは容量比k1を用いて以下の式(8)で表すことができる。
k1 = Crf1/(Crf1+Cdt+Cpix) ……(6)
Vgate = k1*(Vh−Vref)+Vp
= k1*ΔVh+Vp ……(7)
ΔVg = Vgate−Vp
= k1*ΔVh ……(8)
Here, the capacity ratio k1 represented by the following formula (6) is introduced. At this time, the potential Vgate of the gate node g in the writing period can be expressed by the following equation (7) using the capacitance ratio k1, and the potential change amount ΔVg of the gate node g before and after the start of the writing period is the capacitance ratio. It can be expressed by the following equation (8) using k1.
k1 = Crf1 / (Crf1 + Cdt + Cpix) …… (6)
Vgate = k1 * (Vh-Vref) + Vp
= K1 * ΔVh + Vp …… (7)
ΔVg = Vgate-Vp
= K1 * ΔVh …… (8)

このように、書込期間において、ゲートノードgの電位は、補償期間における電位Vp=(Vel−|Vth|)から、ノードh1の電位変化量ΔVhに容量比k1を乗じた値(k1*ΔVh)だけ上昇方向にシフトした電位Vgate=(Vel−|Vth|+k1・ΔVh)に変化する。このとき、トランジスター121の電圧Vgsの絶対値|Vgs|は、以下の式(9)に示されるように、閾値電圧|Vth|からゲートノードgの電位上昇分を減じた値となる。
|Vgs| = |Vth|−k1*ΔVh ……(9)
As described above, in the writing period, the potential of the gate node g is a value (k1 * ΔVh) obtained by multiplying the potential change amount ΔVh of the node h1 by the capacitance ratio k1 from the potential Vp = (Vel− | Vth |) in the compensation period. The potential Vgate = (Vel− | Vth | + k1 · ΔVh) shifted in the upward direction by). At this time, the absolute value | Vgs | of the voltage Vgs of the transistor 121 is a value obtained by subtracting the potential increase of the gate node g from the threshold voltage | Vth | as shown in the following equation (9).
| Vgs | = | Vth | −k1 * ΔVh …… (9)

図9(B)は、書込期間の開始前後における、ノードh1及びノードh2の電位変化について説明するための説明図である。この図において、(B−1)は、書込期間開始前におけるノードh1及びノードh2の電位を表しており、(B−2)は、書込期間開始後(すなわち、トランスミッションゲート42がオンした後)におけるノードh1及びノードh2の電位について表している。なお、補償期間及び書込期間において、保持容量50及び保持容量132の合成容量501と保持容量41とは電気的に直列に接続されるため、保持容量50、保持容量132及び、保持容量44の合成容量502の容量値C1は、以下の式(10)で表される。
C1 = (C0*Crf1)/(C0+Crf1) ……(10)
FIG. 9B is an explanatory diagram for explaining the potential changes of the nodes h1 and h2 before and after the start of the writing period. In this figure, (B-1) represents the potentials of the nodes h1 and h2 before the start of the writing period, and (B-2) shows the potentials of the nodes h1 and h2 after the start of the writing period (that is, the transmission gate 42 is turned on). It shows the potentials of node h1 and node h2 in (later). Since the combined capacity 501 of the holding capacity 50 and the holding capacity 132 and the holding capacity 41 are electrically connected in series during the compensation period and the writing period, the holding capacity 50, the holding capacity 132, and the holding capacity 44 The capacitance value C1 of the combined capacitance 502 is represented by the following equation (10).
C1 = (C0 * Crf1) / (C0 + Crf1) …… (10)

書込期間の開始前において合成容量502に蓄積されている電荷をQ1cとし、書込期間の開始後において合成容量502に蓄積されている電荷をQ1dとすると、書込期間の開始前後において合成容量502から流出する電荷(Q1c−Q1d)は、以下の式(11)で表される。同様に、書込期間の開始前において保持容量41に蓄積されている電荷をQ2cとし、書込期間の開始後において保持容量41に蓄積されている電荷をQ2dとすると、書込期間の開始前後において保持容量41に流入する電荷(Q2d−Q2c)は、以下の式(12)で表される。書込期間の開始前後において、合成容量502から流出する電荷と、保持容量41に流入する電荷とは等しいため、以下の式(13)が成立する。
Q1c−Q1d = C1*{Vref−Vh} ……(11)
Q2d−Q2c = Crf2*{Vh−Vd(j)} ……(12)
Q1c−Q1d = Q2d−Q2c ……(13)
Assuming that the charge accumulated in the combined capacity 502 before the start of the writing period is Q1c and the charge accumulated in the combined capacity 502 after the start of the writing period is Q1d, the combined capacity is before and after the start of the writing period. The electric charge (Q1c−Q1d) flowing out from 502 is represented by the following equation (11). Similarly, assuming that the charge stored in the holding capacity 41 before the start of the writing period is Q2c and the charge stored in the holding capacity 41 after the start of the writing period is Q2d, before and after the start of the writing period. The electric charge (Q2d−Q2c) flowing into the holding capacity 41 is represented by the following equation (12). Before and after the start of the writing period, the electric charge flowing out from the combined capacity 502 and the electric charge flowing into the holding capacity 41 are equal, so the following equation (13) holds.
Q1c-Q1d = C1 * {Vref-Vh} …… (11)
Q2d-Q2c = Crf2 * {Vh-Vd (j)} …… (12)
Q1c-Q1d = Q2d-Q2c …… (13)

従って、式(11)〜式(13)より、書込期間におけるノードh1の電位Vhを算出することができる。具体的には、電位Vhは以下の式(14)で表される。また、ノードh1における電位変化量ΔVhは、以下の式(15)で表される。
Vh = {C1/(C1+Crf2)}*(Vref)
+ {Crf2/(C1+Crf2)}*{Vd(j)} ……(14)
ΔVh = Vh−Vref
= {Crf2/(C1+Crf2)}*{Vd(j)−Vref} ……(15)
Therefore, the potential Vh of the node h1 during the writing period can be calculated from the equations (11) to (13). Specifically, the potential Vh is represented by the following equation (14). The potential change amount ΔVh at the node h1 is expressed by the following equation (15).
Vh = {C1 / (C1 + Crf2)} * (Vref)
+ {Crf2 / (C1 + Crf2)} * {Vd (j)} …… (14)
ΔVh = Vh-Vref
= {Crf2 / (C1 + Crf2)} * {Vd (j) -Vref} …… (15)

ここで、以下の式(16)に示す容量比k2を導入すると、電位変化量ΔVhは、以下の式(17)で表すこともできる。
k2 = Crf2/(C1+Crf2) ……(16)
ΔVh = k2*{Vd(j)−Vref} ……(17)
Here, when the capacitance ratio k2 represented by the following formula (16) is introduced, the potential change amount ΔVh can also be expressed by the following formula (17).
k2 = Crf2 / (C1 + Crf2) …… (16)
ΔVh = k2 * {Vd (j) −Vref} …… (17)

書込期間におけるゲートノードgの電位Vgateは、式(7)に対して式(17)を代入することで、以下の式(18)により表すことができる。よって、書込期間の開始前後におけるゲート電極Gの電位変化量ΔVgは、以下の式(19)により表すことができる。
Vgate = k1*k2*{Vd(j)−Vref}+Vp ……(18)
ΔVg = k1*k2*{Vd(j)−Vref} ……(19)
The potential Vgate of the gate node g during the writing period can be expressed by the following equation (18) by substituting the equation (17) for the equation (7). Therefore, the potential change amount ΔVg of the gate electrode G before and after the start of the writing period can be expressed by the following equation (19).
Vgate = k1 * k2 * {Vd (j) -Vref} + Vp …… (18)
ΔVg = k1 * k2 * {Vd (j) -Vref} …… (19)

このように、ノードh1の電位は、データ信号Vd(j)の示す電位を基準電位Vrefによりシフトさせ、これを、容量比k2により圧縮した値ΔVhだけ変化する。これにより、ゲートノードgの電位Vgateは、ノードh1の電位変化量ΔVhをさらに容量比k1で圧縮した値だけ変化する。すなわち、書込期間におけるゲートノードgの電位Vgateは、式(18)に示したように、データ信号Vd(j)を基準電位Vrefによりシフトさせ、且つ、当該シフトした電位に対して、容量値Cdt、Crf1、Crf2、Cpixに基づいて定められる容量比k3=k1*k2を乗じることで圧縮した電位が供給される。 In this way, the potential of the node h1 shifts the potential indicated by the data signal Vd (j) by the reference potential Vref, and changes this by the value ΔVh compressed by the capacitance ratio k2. As a result, the potential Vgate of the gate node g changes by the value obtained by further compressing the potential change amount ΔVh of the node h1 with the capacitance ratio k1. That is, as shown in the equation (18), the potential Vgate of the gate node g during the writing period shifts the data signal Vd (j) by the reference potential Vref, and has a capacitance value with respect to the shifted potential. A compressed potential is supplied by multiplying the capacitance ratio k3 = k1 * k2 determined based on Cdt, Crf1, Crf2, and Cpix.

図10は、書込期間におけるデータ信号Vd(j)の電位とゲートノードgの電位Vgateとの関係を示す図である。制御回路3から供給される画像信号Vidに基づいて生成されるデータ信号Vd(j)は、上述したように画素の階調レベルに応じて最小値Vminから最大値Vmaxまでの電位範囲を取り得る。そして、上述したように、データ信号Vd(j)を基準電位Vrefによりシフトし、且つ、容量比k3により圧縮した電位Vgateが、ゲートノードgに書き込まれる。このとき、ゲートノードgの電位範囲ΔVgateは、以下の式(20)に示すように、データ信号の電位範囲ΔVdata(=Vmax−Vmin)に容量比k3を乗じた値に圧縮される。
ΔVgate = k3*ΔVdata ……(20)
FIG. 10 is a diagram showing the relationship between the potential of the data signal Vd (j) and the potential Vgate of the gate node g during the writing period. The data signal Vd (j) generated based on the image signal Vid supplied from the control circuit 3 can take a potential range from the minimum value Vmin to the maximum value Vmax according to the gradation level of the pixel as described above. .. Then, as described above, the potential Vgate in which the data signal Vd (j) is shifted by the reference potential Vref and compressed by the capacitance ratio k3 is written in the gate node g. At this time, the potential range ΔVgate of the gate node g is compressed to a value obtained by multiplying the potential range ΔVdata (= Vmax−Vmin) of the data signal by the capacitance ratio k3, as shown in the following equation (20).
ΔVgate = k3 * ΔVdata …… (20)

また、ゲートノードgの電位範囲ΔVgateを、データ信号の電位範囲ΔVdataに対してどの方向にどれだけシフトさせるかについては、式(18)からも明らかなように、電位Vp(=Vel−|Vth|)と基準電位Vrefとに基づいて定めることができる。 Further, as is clear from the equation (18), how much the potential range ΔVgate of the gate node g is shifted with respect to the potential range ΔVdata of the data signal is the potential Vp (= Vel− | Vth). It can be determined based on |) and the reference potential Vref.

走査線駆動回路20は、書込期間の終了後、走査線12に供給する電位を、第1電位V1から第2電位V2に切り替えることで、走査信号Gwr(i)をLレベルからHレベルに変更する。これにより、トランジスター122がオフするため、ゲートノードgの電位は、電位Vgate=[{Vel−|Vth|}+k3・{Vd(j)−Vref}]に維持される。
なお、走査線駆動回路20は、走査信号Gwr(i)がLレベルからHレベルに変化する際の波形をHレベルからLレベルに変化する際の波形に比べて緩やかにするように、走査線12に供給する電位を切り替える。すなわち、図7に示すように、走査線駆動回路20が、走査線12に供給する電位を第2電位V2から第1電位V1へと切り替える期間を第1切替期間T1とし、第1電位V1から第2電位V2へと切り替える期間を、第2切替期間T2とする。このとき、走査線駆動回路20は、第2切替期間T2の時間長が、第1切替期間T1の時間長に比べて十分に長くなるように、走査線12に供給する電位を変化させる。
After the writing period ends, the scanning line drive circuit 20 switches the potential supplied to the scanning line 12 from the first potential V1 to the second potential V2, thereby changing the scanning signal Gwr (i) from the L level to the H level. change. As a result, the transistor 122 is turned off, so that the potential of the gate node g is maintained at the potential Vgate = [{Vel- | Vth |} + k3 · {Vd (j) -Vref}].
In the scanning line drive circuit 20, the scanning line is set so that the waveform when the scanning signal Gwr (i) changes from the L level to the H level is gentler than the waveform when the scanning signal Gwr (i) changes from the H level to the L level. The potential supplied to 12 is switched. That is, as shown in FIG. 7, the period in which the scanning line drive circuit 20 switches the potential supplied to the scanning line 12 from the second potential V2 to the first potential V1 is set as the first switching period T1, and from the first potential V1. The period for switching to the second potential V2 is defined as the second switching period T2. At this time, the scanning line drive circuit 20 changes the potential supplied to the scanning line 12 so that the time length of the second switching period T2 is sufficiently longer than the time length of the first switching period T1.

上述したように、平面視したときに、走査線12とゲート電極G1(トランジスター121のゲート)とは交差する。そのため、走査線12とゲート電極G1との間には、寄生容量が存在する。従って、仮に、第2切替期間T2の時間長を、第1切替期間T1の時間長と同程度に短くし、走査信号Gwr(i)を急激にLレベルからHレベルに立ち上げた場合、走査線12における走査信号Gwr(i)の高周波成分の影響を受け、ゲート電極G1の電位が変化する。
上述のとおり、書込期間の終了時において、ゲートノードgの電位(ゲート電極G1の電位)は、OLED130の輝度を規定するデータ信号Vd(j)(画像信号Vid)に基づく電位Vgateに定められる。しかし、書込期間の終了後にゲートノードgの電位が変化する場合、ゲートノードgの電位は、データ信号Vd(j)に基づいて定められる電位Vgateとは異なる電位となる。この場合、各画素は、画像信号Vidの規定する階調とは異なる階調を表示することになり、表示品質が低下する。
これに対して本実施形態では、第2切替期間T2の時間長を、第1切替期間T1の時間長に十分に長くして、走査信号Gwr(i)がLレベルからHレベルに変化する際の波形を緩やかな波形とすることにより、走査線12の電位変動が、ゲートノードg(ゲート電極G1)に伝播することを防止する。これにより、各画素は、画像信号Vidの規定する階調を正確に表示することが可能となり、高品位の表示が可能となる。
As described above, the scanning line 12 and the gate electrode G1 (gate of the transistor 121) intersect with each other when viewed in a plan view. Therefore, there is a parasitic capacitance between the scanning line 12 and the gate electrode G1. Therefore, if the time length of the second switching period T2 is shortened to the same extent as the time length of the first switching period T1 and the scanning signal Gwr (i) is suddenly raised from the L level to the H level, scanning is performed. The potential of the gate electrode G1 changes due to the influence of the high frequency component of the scanning signal Gwr (i) on the line 12.
As described above, at the end of the writing period, the potential of the gate node g (potential of the gate electrode G1) is determined by the potential Vgate based on the data signal Vd (j) (image signal Vid) that defines the brightness of the OLED 130. .. However, when the potential of the gate node g changes after the end of the writing period, the potential of the gate node g becomes a potential different from the potential Vgate determined based on the data signal Vd (j). In this case, each pixel displays a gradation different from the gradation defined by the image signal Vid, and the display quality deteriorates.
On the other hand, in the present embodiment, when the time length of the second switching period T2 is sufficiently made longer than the time length of the first switching period T1 and the scanning signal Gwr (i) changes from the L level to the H level. By making the waveform of No. 1 a gentle waveform, it is possible to prevent the potential fluctuation of the scanning line 12 from propagating to the gate node g (gate electrode G1). As a result, each pixel can accurately display the gradation defined by the image signal Vid, and high-quality display becomes possible.

なお、実際には、第1切替期間T1の時間長は、「0」と看做すことができる程度に十分に短い。すなわち、走査信号Gwr(i)がHレベルからLレベルに立ち下がる際の波形は、例えば、制御信号GrefがHレベルからLレベルに立ち下がる際の波形と等しくしてもよい。但し、図7においては、説明の便宜上、第1切替期間T1を図示するために、走査信号Gwr(i)の立ち下がりの波形が、実際に比べて十分に緩やかになるように記載している。 In reality, the time length of the first switching period T1 is sufficiently short enough to be regarded as "0". That is, the waveform when the scanning signal Gwr (i) falls from the H level to the L level may be the same as the waveform when the control signal Gref falls from the H level to the L level, for example. However, in FIG. 7, for convenience of explanation, in order to illustrate the first switching period T1, the falling waveform of the scanning signal Gwr (i) is described so as to be sufficiently gentler than the actual one. ..

<発光期間>
i行目の書込期間の終了した後、発光期間が開始される。本実施形態では、i行目の書込期間の終了した後、1水平走査期間の間をおいて発光期間が開始される。発光期間において、走査線駆動回路20は、上述したように、走査信号Gwr(i)をHレベルに設定するため、トランジスター122がオフし、ゲートノードgは、電位Vgate=[{Vel−|Vth|}+k3・{Vd(j)−Vref}]に維持される。また、発光期間において、走査線駆動回路20は、制御信号Gel(i)をLレベルに設定するので、i行(3j−2)列の画素回路110において、トランジスター124がオンする。ゲート・ソース間の電圧Vgsは、[|Vth|−k3・{Vd(j)−Vref}]であるから、OLED130には、先の図8に示したように、階調レベルに応じた電流がトランジスター121の閾値電圧を補償した状態で供給されることになる。
このような動作は、i行目の走査期間において、(3j−2)列目の画素回路110以外のi行目の他の画素回路110においても時間的に並列して実行される。さらに、このようなi行目の動作は、実際には、1フレームの期間において1、2、3、…、(m−1)、m行目の順番で実行されるとともに、フレーム毎に繰り返される。
<Light emission period>
After the writing period of the i-th line ends, the light emitting period starts. In the present embodiment, after the end of the writing period of the i-th row, the light emitting period is started after one horizontal scanning period. During the light emission period, the scanning line drive circuit 20 sets the scanning signal Gwr (i) to the H level as described above, so that the transistor 122 is turned off and the gate node g has the potential Vgate = [{Vel- | Vth. |} + K3 · {Vd (j) -Vref}] is maintained. Further, during the light emitting period, the scanning line drive circuit 20 sets the control signal Gel (i) to the L level, so that the transistor 124 is turned on in the pixel circuit 110 in the i-row (3j-2) column. Since the voltage Vgs between the gate and the source is [| Vth | −k3 · {Vd (j) −Vref}], the OLED 130 has a current corresponding to the gradation level as shown in FIG. Will be supplied in a state where the threshold voltage of the transistor 121 is compensated.
Such an operation is executed in parallel in time in the other pixel circuits 110 in the i-th row other than the pixel circuit 110 in the (3j-2) column during the scanning period in the i-th row. Further, such an operation of the i-th line is actually executed in the order of 1, 2, 3, ..., (M-1), m-th line in the period of one frame, and is repeated for each frame. Is done.

<実施形態の効果>
本実施形態によれば、平面視したときに、走査線12及び制御線143が、トランジスター121のゲート(ゲート電極G1)と交差する位置に設けられる。このため、走査線12及び制御線143がトランジスター121のゲートと交差しないように設けられる場合に比べて、X方向に延在する複数の制御線(走査線12、制御線143、144、145)を高密度に配線することができ、制御線の狭ピッチ化が可能となる。すなわち、本実施形態によれば、制御線を高密度に配線することにより、画素回路110の狭ピッチ化を可能とし、これにより電気光学装置1(表示部100)の小型化及び表示の高精細化が可能となる。
<Effect of embodiment>
According to this embodiment, the scanning line 12 and the control line 143 are provided at positions where they intersect the gate (gate electrode G1) of the transistor 121 when viewed in a plan view. Therefore, a plurality of control lines extending in the X direction (scanning lines 12, control lines 143, 144, 145) are compared with the case where the scanning lines 12 and the control lines 143 are provided so as not to intersect the gate of the transistor 121. Can be wired at high density, and the pitch of the control line can be narrowed. That is, according to the present embodiment, the pixel circuit 110 can be narrowed in pitch by wiring the control lines at a high density, whereby the electro-optical device 1 (display unit 100) can be miniaturized and the display can be made high-definition. It becomes possible to change.

本実施形態によれば、走査線駆動回路20は、走査信号Gwr(i)がLレベルからHレベルに変化する際の波形を、HレベルからLレベルに変化する際の波形に比べて緩やかになるように、走査線12に供給する電位を変化させる。これにより、平面視したときに走査線12とトランジスター121のゲートとが交差する場合であっても、走査信号Gwr(i)の電位変動がトランジスター121のゲートに伝播することを防止することができるため、各画素が画像信号Vidの規定する階調を正確に表示することができる。 According to the present embodiment, the scanning line drive circuit 20 makes the waveform when the scanning signal Gwr (i) changes from the L level to the H level gentler than the waveform when the scanning signal Gwr (i) changes from the H level to the L level. The potential supplied to the scanning line 12 is changed so as to be. As a result, even when the scanning line 12 and the gate of the transistor 121 intersect when viewed in a plan view, it is possible to prevent the potential fluctuation of the scanning signal Gwr (i) from propagating to the gate of the transistor 121. Therefore, each pixel can accurately display the gradation defined by the image signal Vid.

本実施形態によれば、走査線駆動回路20は、制御信号Gcmp(i)がLレベルからHレベルに変化する際の波形を、HレベルからLレベルに変化する際の波形に比べて緩やかになるように、制御線143に供給する電位を変化させる。これにより、平面視したときに制御線143とトランジスター121のゲートとが交差する場合であっても、制御信号Gcmp(i)の電位変動がトランジスター121のゲートに伝播することを防止することができるため、表示の一様性を担保した高品位の表示が可能となる。 According to the present embodiment, the scanning line drive circuit 20 makes the waveform when the control signal Gcmp (i) changes from the L level to the H level gentler than the waveform when the control signal Gcmp (i) changes from the H level to the L level. The potential supplied to the control line 143 is changed so as to be. This makes it possible to prevent the potential fluctuation of the control signal Gcmp (i) from propagating to the gate of the transistor 121 even when the control line 143 and the gate of the transistor 121 intersect when viewed in a plan view. Therefore, high-quality display that guarantees the uniformity of display is possible.

本実施形態によれば、ゲートノードgにおける電位範囲ΔVgateは、データ信号の電位範囲ΔVdataに対し狭められるので、データ信号を細かい精度で刻まなくても、階調レベルを反映した電圧を、トランジスター121のゲート・ソース間に印加することができる。このため、画素回路110においてトランジスター121のゲート・ソース間の電圧Vgsの変化に対しOLED130に流れる微小電流が相対的に大きく変化する場合であっても、OLED130に供給する電流を精度良く制御することが可能になる。 According to the present embodiment, the potential range ΔVgate at the gate node g is narrowed with respect to the potential range ΔVdata of the data signal, so that the voltage reflecting the gradation level can be applied to the transistor 121 without carving the data signal with fine precision. Can be applied between the gate and source of. Therefore, even when the minute current flowing through the OLED 130 changes relatively significantly with respect to the change in the voltage Vgs between the gate and the source of the transistor 121 in the pixel circuit 110, the current supplied to the OLED 130 can be controlled with high accuracy. Becomes possible.

また、図4において破線で示されるようにデータ線14と画素回路110におけるゲートノードgとの間には容量Cprsが寄生する場合がある。この場合、データ線14の電位変化幅が大きいと、当該容量Cprsを介してゲートノードgに伝播し、いわゆるクロストークやムラなどが発生して表示品位を低下させてしまう。当該容量Cprsの影響は、画素回路110が微細化されたときに顕著に現れる。
これに対して、本実施形態においては、データ線14の電位変化範囲についても、データ信号の電位範囲ΔVdataに対し狭められるので、容量Cprsを介した影響を抑えることができる。
Further, as shown by the broken line in FIG. 4, the capacitance Cprs may be parasitic between the data line 14 and the gate node g in the pixel circuit 110. In this case, if the potential change width of the data line 14 is large, it propagates to the gate node g via the capacitance Cprs, so-called crosstalk and unevenness occur, and the display quality is deteriorated. The effect of the capacitance Cprs becomes remarkable when the pixel circuit 110 is miniaturized.
On the other hand, in the present embodiment, the potential change range of the data line 14 is also narrowed with respect to the potential range ΔVdata of the data signal, so that the influence via the capacitance Cprs can be suppressed.

また、本実施形態によれば、トランジスター121によってOLED130に供給される電流Idsは、閾値電圧の影響が相殺される。このため、本実施形態によれば、トランジスター121の閾値電圧が画素回路110毎にばらついても、そのばらつきが補償されて、階調レベルに応じた電流がOLED130に供給されるので、表示画面の一様性を損なうような表示ムラの発生を抑えられる結果、高品位の表示が可能になる。 Further, according to the present embodiment, the influence of the threshold voltage is offset by the current Ids supplied to the OLED 130 by the transistor 121. Therefore, according to the present embodiment, even if the threshold voltage of the transistor 121 varies from pixel circuit 110 to pixel circuit 110, the variation is compensated and a current corresponding to the gradation level is supplied to the OLED 130, so that the display screen can be displayed. As a result of suppressing the occurrence of display unevenness that impairs uniformity, high-quality display becomes possible.

この相殺について図11を参照して説明する。この図に示されるように、トランジスター121は、OLED130に供給する微小電流を制御するために、弱反転領域(サブスレッショルド領域)で動作する。
図において、Aは閾値電圧|Vth|が大きいトランジスターにおけるゲート電位と当該トランジスターの供給する電流との関係を示し、Bは閾値電圧|Vth|が小さいトランジスターにおけるゲート電位と当該トランジスターの供給する電流との関係を示している。なお、図11において、ゲート・ソース間の電圧Vgsは、実線と電位Velとの差である。また、図11において、縦スケールの電流は、ソースからドレインに向かう方向を負(下)とした対数で示されている。
補償期間においてゲートノードgは、初期電位Viniから電位(Vel−|Vth|)となる。このため、実線Aにより表される閾値電圧|Vth|が大きいトランジスターは、動作点がSからAaに移動する一方、実線Bにより表される閾値電圧|Vth|が小さいトランジスターは、動作点がSからBaに移動する。
次に、2つのトランジスターが属する画素回路110へのデータ信号の電位が同じ場合、つまり同じ階調レベルが指定された場合に、書込期間においては、動作点Aa、Baからの電位シフト量は、ともに同じk1・ΔVhである。このため、実線Aにより表されるトランジスターについては動作点がAaからAbに移動し、実線Bにより表されるトランジスターについては動作点がBaからBbに移動するが、電位シフト後の動作点における電流は、当該2つのトランジスターともに、ほぼ同じIdsで揃うことになる。
This offset will be described with reference to FIG. As shown in this figure, the transistor 121 operates in a weakly inverted region (subthreshold region) in order to control a minute current supplied to the OLED 130.
In the figure, A shows the relationship between the gate potential of a transistor having a large threshold voltage | Vth | and the current supplied by the transistor, and B indicates the gate potential of a transistor having a small threshold voltage | Vth | and the current supplied by the transistor. The relationship is shown. In FIG. 11, the voltage Vgs between the gate and the source is the difference between the solid line and the potential Vel. Further, in FIG. 11, the vertical scale current is shown as a logarithm in which the direction from the source to the drain is negative (bottom).
During the compensation period, the gate node g changes from the initial potential Vini to the potential (Vel− | Vth |). Therefore, the operating point of the transistor having a large threshold voltage | Vth | represented by the solid line A moves from S to Aa, while the operating point of the transistor having a small threshold voltage | Vth | represented by the solid line B is S. Move from to Ba.
Next, when the potentials of the data signals to the pixel circuit 110 to which the two transistors belong are the same, that is, when the same gradation level is specified, the potential shift amount from the operating points Aa and Ba is the same during the writing period. , Both have the same k1 · ΔVh. Therefore, the operating point of the transistor represented by the solid line A moves from Aa to Ab, and the operating point of the transistor represented by the solid line B moves from Ba to Bb, but the current at the operating point after the potential shift Will be aligned with almost the same Ids for both of the two transistors.

本実施形態によれば、制御回路3からデマルチプレクサDMを介して供給されるデータ信号を、保持容量41に保持させる動作が、初期化期間から補償期間までにわたって実行される。すなわち、本実施形態によれば、初期化期間においてアノード130aの電位をリセット電位Vorstに初期化する動作と、データ信号を保持容量41に保持させる動作とが、並行して実行されるとともに、補償期間においてトランジスター121の閾値電圧のばらつき補償する動作と、データ信号を保持容量41に保持させる動作とが、並行して実行される。このため、1水平走査期間に実行すべき動作について時間的な制約を緩和することができ、データ信号供給回路70におけるデータ信号の供給動作を低速化することができる。 According to the present embodiment, the operation of holding the data signal supplied from the control circuit 3 via the demultiplexer DM in the holding capacitance 41 is executed from the initialization period to the compensation period. That is, according to the present embodiment, the operation of initializing the potential of the anode 130a to the reset potential Vorst during the initialization period and the operation of holding the data signal in the holding capacitance 41 are executed in parallel and compensated. The operation of compensating for the variation in the threshold voltage of the transistor 121 during the period and the operation of holding the data signal in the holding capacitance 41 are executed in parallel. Therefore, the time constraint on the operation to be executed in one horizontal scanning period can be relaxed, and the data signal supply operation in the data signal supply circuit 70 can be slowed down.

<変形例>
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば次に述べるような各種の変形が可能である。また、次に述べる変形の態様は、任意に選択された一または複数を、適宜に組み合わせることもできる。
<Modification example>
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications such as those described below are possible. Further, in the following modification modes, one or a plurality of arbitrarily selected variants may be appropriately combined.

<変形例1>
上述した実施形態では、各画素回路110は、平面視したときに、走査線12及び制御線143と、ゲート電極G1とが交差する構成であったが、走査線12及び制御線143の他に、制御線144がゲート電極G1と交差する構成であってもよい。
図12は、変形例1に係る画素回路110の構成を示す平面図である。変形例1に係る画素回路110は、平面視したときに制御線144とゲート電極G1とが交差する点と、制御線144が画素回路110毎にY方向に分岐した分岐部142aを有する点とを除き、図5に示した実施形態に係る画素回路110と同様に構成される。
この構成によれば、制御線144がトランジスター121のゲートと交差しないように設けられる場合に比べて、X方向に延在する複数の制御線(走査線12、制御線143、144、145)を高密度に配線することができ、制御線の狭ピッチ化が可能となる。これにより電気光学装置(表示部)の小型化及び表示の高精細化が可能となる。
<Modification example 1>
In the above-described embodiment, each pixel circuit 110 has a configuration in which the scanning line 12 and the control line 143 intersect with the gate electrode G1 when viewed in a plan view, but in addition to the scanning line 12 and the control line 143, , The control line 144 may intersect with the gate electrode G1.
FIG. 12 is a plan view showing the configuration of the pixel circuit 110 according to the first modification. The pixel circuit 110 according to the first modification has a point where the control line 144 and the gate electrode G1 intersect when viewed in a plan view, and a point where the control line 144 has a branch portion 142a branched in the Y direction for each pixel circuit 110. Is configured in the same manner as the pixel circuit 110 according to the embodiment shown in FIG.
According to this configuration, a plurality of control lines (scanning lines 12, control lines 143, 144, 145) extending in the X direction are provided as compared with the case where the control lines 144 are provided so as not to intersect the gate of the transistor 121. Wiring can be performed at high density, and the pitch of control lines can be narrowed. This makes it possible to reduce the size of the electro-optical device (display unit) and to improve the definition of the display.

また、制御線144とゲート電極G1とが交差する場合、走査線駆動回路20は、制御信号Gel(i)がHレベルからLレベルに変化する際の波形が、LレベルからHレベルに変化する際の波形に比べて緩やかになるように、制御線144に供給する電位を切り替えてもよい。
図13は変形例1に係る電気光学装置の動作を説明するためのタイミングチャートである。図13に示すように、変形例1に係る走査線駆動回路20は、制御線144に供給する電位を第2電位V2から第1電位V1へと切り替える第5切替期間T5の時間長が、第1電位V1から第2電位V2へと切り替える第6切替期間T6の時間長に比べて十分に長くなるように、制御線144に供給する電位を変化させる。
上述のとおり、ゲート電極G1(トランジスター121のゲートノードg)の電位は、第5切替期間T5に先行する書込期間において、OLED130の輝度を規定する電位Vgateに定められる。従って、第5切替期間T5において、制御線144の電位が急激に変化し、当該電位変動がゲート電極G1に伝播する場合、各画素は画像信号Vidの規定する階調を正確に表示できない。
これに対して、変形例1に係る走査線駆動回路20は、第5切替期間T5の時間長を、第6切替期間T6の時間長に十分に長くして、制御信号Gel(i)がHレベルからLレベルに変化する際の波形を緩やかな波形とすることにより、制御線144の電位変動が、ゲートノードg(ゲート電極G1)に伝播することを防止する。これにより、各画素は、画像信号Vidの規定する階調を正確に表示することが可能となり、高品位の表示が可能となる。
Further, when the control line 144 and the gate electrode G1 intersect, the scanning line drive circuit 20 changes the waveform when the control signal Gel (i) changes from H level to L level from L level to H level. The potential supplied to the control line 144 may be switched so as to be gentler than the waveform at the time.
FIG. 13 is a timing chart for explaining the operation of the electro-optical device according to the first modification. As shown in FIG. 13, in the scanning line drive circuit 20 according to the first modification, the time length of the fifth switching period T5 for switching the potential supplied to the control line 144 from the second potential V2 to the first potential V1 is the second. The potential supplied to the control line 144 is changed so as to be sufficiently longer than the time length of the sixth switching period T6 for switching from the first potential V1 to the second potential V2.
As described above, the potential of the gate electrode G1 (gate node g of the transistor 121) is set to the potential Vgate that defines the brightness of the OLED 130 in the writing period preceding the fifth switching period T5. Therefore, in the fifth switching period T5, when the potential of the control line 144 changes abruptly and the potential fluctuation propagates to the gate electrode G1, each pixel cannot accurately display the gradation defined by the image signal Vid.
On the other hand, in the scanning line drive circuit 20 according to the first modification, the time length of the fifth switching period T5 is sufficiently made longer than the time length of the sixth switching period T6, and the control signal Gel (i) is H. By making the waveform when changing from the level to the L level a gentle waveform, it is possible to prevent the potential fluctuation of the control line 144 from propagating to the gate node g (gate electrode G1). As a result, each pixel can accurately display the gradation defined by the image signal Vid, and high-quality display becomes possible.

<変形例2>
上述した実施形態では、各画素回路110は、平面視したときに、走査線12及び制御線143と、ゲート電極G1とが交差する構成であったが、走査線12及び制御線143の他に、制御線145がゲート電極G1と交差する構成であってもよい。
図14は、変形例2に係る画素回路110の構成を示す平面図である。変形例2に係る画素回路110は、平面視したときに制御線145とゲート電極G1とが交差する点と、制御線145が画素回路110毎にY方向に分岐した分岐部145aを有する点とを除き、図5に示した実施形態に係る画素回路110と同様に構成される。
この構成によれば、制御線145がトランジスター121のゲートと交差しないように設けられる場合に比べて、X方向に延在する複数の制御線(走査線12、制御線143、144、145)を高密度に配線することができ、制御線の狭ピッチ化が可能となる。これにより電気光学装置(表示部)の小型化及び表示の高精細化が可能となる。
また、制御線145とゲート電極G1とが交差する場合、走査線駆動回路20は、図15に示すように、制御信号Gorst(i)がLレベルからHレベルに変化する際の波形が、HレベルからLレベルに変化する際の波形に比べて緩やかになるように、制御線145に供給する電位を切り替えてもよい。
図15は変形例2に係る電気光学装置の動作を説明するためのタイミングチャートである。
図15に示すように、変形例2に係る走査線駆動回路20は、制御線145に供給する電位を第1電位V1から第2電位V2へと切り替える第8切替期間T8の時間長が、第2電位V2から第1電位V1へと切り替える第7切替期間T7の時間長に比べて十分に長くなるように、制御線145に供給する電位を変化させる。この場合、トランジスター121のゲートノードg(ゲート電極G1)の電位が、OLED130の輝度を規定する電位Vgateに確定した後において、制御線145に電位変動がゲート電極G1に伝播することを防止し、各画素が、画像信号Vidの規定する階調を正確に表示することを可能とする。
<Modification 2>
In the above-described embodiment, each pixel circuit 110 has a configuration in which the scanning line 12 and the control line 143 intersect with the gate electrode G1 when viewed in a plan view, but in addition to the scanning line 12 and the control line 143, , The control line 145 may be configured to intersect the gate electrode G1.
FIG. 14 is a plan view showing the configuration of the pixel circuit 110 according to the second modification. The pixel circuit 110 according to the second modification has a point where the control line 145 and the gate electrode G1 intersect when viewed in a plan view, and a point where the control line 145 has a branch portion 145a branched in the Y direction for each pixel circuit 110. Is configured in the same manner as the pixel circuit 110 according to the embodiment shown in FIG.
According to this configuration, a plurality of control lines (scanning lines 12, control lines 143, 144, 145) extending in the X direction are provided as compared with the case where the control lines 145 are provided so as not to intersect the gate of the transistor 121. Wiring can be performed at high density, and the pitch of control lines can be narrowed. This makes it possible to reduce the size of the electro-optical device (display unit) and to improve the definition of the display.
Further, when the control line 145 and the gate electrode G1 intersect, in the scanning line drive circuit 20, as shown in FIG. 15, the waveform when the control signal Gorst (i) changes from the L level to the H level is H. The potential supplied to the control line 145 may be switched so as to be gentler than the waveform when changing from the level to the L level.
FIG. 15 is a timing chart for explaining the operation of the electro-optical device according to the second modification.
As shown in FIG. 15, in the scanning line drive circuit 20 according to the second modification, the time length of the eighth switching period T8 for switching the potential supplied to the control line 145 from the first potential V1 to the second potential V2 is the second. The potential supplied to the control line 145 is changed so as to be sufficiently longer than the time length of the seventh switching period T7 for switching from the two potential V2 to the first potential V1. In this case, after the potential of the gate node g (gate electrode G1) of the transistor 121 is determined to be the potential Vgate that defines the brightness of the OLED 130, the potential fluctuation is prevented from propagating to the gate electrode G1 on the control line 145. Each pixel makes it possible to accurately display the gradation defined by the image signal Vid.

<変形例3>
上述した実施形態及び変形例では、各画素回路110は、トランジスター121〜125、OLED130、及び、保持容量132を備えるものであったが、画素回路110は、少なくとも、トランジスター121、トランジスター122、及び、OLED130を備えるものであればよい。この場合、表示部100は、上述した実施形態及び変形例において表示部100に設けられたX方向に延在する複数の制御線(走査線12、制御線143、144、145)のうち、変形例3の画素回路110が備えるトランジスターに対応する制御線のみを、各行に設けられるものであればよい。すなわち、変形例3に係る表示部100には、各行において、走査線12を含む1以上の制御線が設けられるものであればよい。例えば、各画素回路110が、トランジスター121、トランジスター122、OLED130、及び、保持容量132を備える場合、各行に対応する制御線として、走査線12のみが設けられることになる。また、各画素回路110は、トランジスター121〜125以外のトランジスターを備えてもよく、この場合、表示部100には、当該トランジスターに対応する制御線が設けられてもよい。
各行において走査線12を含む1以上の制御線が設けられる場合、各行に設けられたX方向に延在する1以上の制御線のうちの少なくとも1本の制御線が、平面視してトランジスター121のゲートノードg(ゲート電極G1)と交差するように設けられる。これにより、X方向に延在する制御線を高密度に配線することができ、電気光学装置(表示部)の小型化及び表示の高精細化が可能となる。
さらに、走査線駆動回路20は、各行に設けられる1以上制御線のうち、平面視してゲート電極G1と交差する少なくとも1本の制御線の電位を、補償期間の終了時から次の走査期間の開始時までの間に変化させる場合には、当該電位変化の波形を緩やかなものにすることが好ましい。例えば、ゲート電極G1と走査線12とが交差する場合は、走査線駆動回路20は、走査線12に供給する電位を第1電位V1から第2電位V2へと切り替える第2切替期間T2の時間長を、第2電位V2から第1電位V1へと切り替える第1切替期間T1の時間長に比べて、十分に長くなるように、走査線12に供給する電位を変化させればよい。これにより、ゲート電極G1と交差する制御線の電位変化が、ゲート電極G1に伝播することを防止することができ、各画素は、画像信号Vidの規定する階調を正確に表示することが可能となる。
<Modification example 3>
In the above-described embodiment and modification, each pixel circuit 110 includes transistors 121 to 125, OLED 130, and holding capacity 132, but the pixel circuit 110 has at least transistors 121, transistors 122, and Any one provided with an OLED 130 may be used. In this case, the display unit 100 is deformed from among a plurality of control lines (scanning lines 12, control lines 143, 144, 145) extending in the X direction provided in the display unit 100 in the above-described embodiment and modification. Only the control line corresponding to the transistor included in the pixel circuit 110 of Example 3 may be provided in each line. That is, the display unit 100 according to the modification 3 may be provided with one or more control lines including the scanning line 12 in each line. For example, when each pixel circuit 110 includes a transistor 121, a transistor 122, an OLED 130, and a holding capacity 132, only a scanning line 12 is provided as a control line corresponding to each line. Further, each pixel circuit 110 may include a transistor other than the transistors 121 to 125, and in this case, the display unit 100 may be provided with a control line corresponding to the transistor.
When one or more control lines including the scanning line 12 are provided in each line, at least one control line of the one or more control lines extending in the X direction provided in each line is the transistor 121 in a plan view. It is provided so as to intersect the gate node g (gate electrode G1) of the above. As a result, the control lines extending in the X direction can be wired at high density, and the electro-optic device (display unit) can be miniaturized and the display can be made high-definition.
Further, the scanning line drive circuit 20 measures the potential of at least one control line that intersects the gate electrode G1 in a plan view among the one or more control lines provided in each line from the end of the compensation period to the next scanning period. When the change is made before the start of, it is preferable to make the waveform of the potential change gentle. For example, when the gate electrode G1 and the scanning line 12 intersect, the scanning line driving circuit 20 switches the potential supplied to the scanning line 12 from the first potential V1 to the second potential V2 during the second switching period T2. The potential supplied to the scanning line 12 may be changed so that the length is sufficiently longer than the time length of the first switching period T1 for switching from the second potential V2 to the first potential V1. As a result, it is possible to prevent the potential change of the control line intersecting with the gate electrode G1 from propagating to the gate electrode G1, and each pixel can accurately display the gradation defined by the image signal Vid. It becomes.

なお、走査線駆動回路20は、平面視してゲート電極G1と交差しない制御線の電位を、電位を補償期間の終了時から次の走査期間の開始時までの間に変化させる場合にも、当該電位変化の波形を緩やかなものにしてもよい。制御線がゲート電極G1と交差しない場合であっても、当該制御線とゲート電極G1との間に寄生容量が存在する場合がある。従って、当該制御線の電位が変化する際の波形を緩やかなものにすることにより、当該制御線の電位変化がゲート電極G1に伝播することを防止することが可能となるからである。 The scanning line drive circuit 20 also changes the potential of the control line that does not intersect the gate electrode G1 in plan view from the end of the compensation period to the start of the next scanning period. The waveform of the potential change may be gentle. Even when the control line does not intersect the gate electrode G1, there may be a parasitic capacitance between the control line and the gate electrode G1. Therefore, by making the waveform when the potential of the control line changes gentle, it is possible to prevent the potential change of the control line from propagating to the gate electrode G1.

<変形例4>
上述した実施形態及び変形例では、各レベルシフト回路LSは、保持容量41、保持容量44、トランジスター45、トランジスター43、及び、トランスミッションゲート42を備えるものであったが、レベルシフト回路LSは、少なくとも、保持容量44、トランジスター43、及び、トランジスター45を備えるものであればよい。この場合、データ信号供給回路70及びデマルチプレクサDMは、書込期間において、保持容量44の他方の電極にデータ信号Vd(j)を供給すればよい。
レベルシフト回路LSが保持容量41を備えない場合であっても、保持容量44の他方の電極に供給されるデータ信号Vd(j)は、容量比k1により圧縮されたうえでゲートノードgに供給される。これにより、データ信号を細かい精度で刻まなくても、駆動トランジスターのゲートノードの電位を細かい精度で設定することが可能となるため、電流を発光素子に対して精度良く供給することができ、高品位の表示が可能となる。
<Modification example 4>
In the above-described embodiment and modification, each level shift circuit LS includes a holding capacity 41, a holding capacity 44, a transistor 45, a transistor 43, and a transmission gate 42, but the level shift circuit LS is at least. , The holding capacity 44, the transistor 43, and the transistor 45 may be provided. In this case, the data signal supply circuit 70 and the demultiplexer DM may supply the data signal Vd (j) to the other electrode of the holding capacity 44 during the writing period.
Even when the level shift circuit LS does not have the holding capacity 41, the data signal Vd (j) supplied to the other electrode of the holding capacity 44 is compressed by the capacitance ratio k1 and then supplied to the gate node g. Will be done. This makes it possible to set the potential of the gate node of the drive transistor with fine precision without engraving the data signal with fine precision, so that the current can be supplied to the light emitting element with high precision. It is possible to display the quality.

<変形例5>
上述した実施形態及び変形例では、データ線駆動回路10は、レベルシフト回路LS、デマルチプレクサDM、及び、データ信号供給回路70を備えるものであったが、データ線駆動回路10は、少なくともデータ信号供給回路70を備えるものであればよい。この場合、データ線駆動回路10は、ゲートノードgに直接データ信号Vd(j)を供給する。
さらに、上述した実施形態及び変形例では、表示パネル2は、各列に保持容量50を備えたが、これを備えずに構成されても良い。
<Modification 5>
In the above-described embodiment and modification, the data line drive circuit 10 includes a level shift circuit LS, a demultiplexer DM, and a data signal supply circuit 70, but the data line drive circuit 10 includes at least a data signal. Any one provided with a supply circuit 70 may be used. In this case, the data line drive circuit 10 directly supplies the data signal Vd (j) to the gate node g.
Further, in the above-described embodiments and modifications, the display panel 2 is provided with a holding capacity of 50 in each row, but may be configured without this.

<変形例6>
上述した実施形態及び変形例において、制御回路3と表示パネル2とは別体としたが、制御回路3と表示パネル2とを同一の基板上に形成してもよい。例えば、制御回路3を、表示部100、データ線駆動回路10、走査線駆動回路20等とともに、シリコン基板に集積化しても良い。
<Modification 6>
Although the control circuit 3 and the display panel 2 are separated from each other in the above-described embodiments and modifications, the control circuit 3 and the display panel 2 may be formed on the same substrate. For example, the control circuit 3 may be integrated on a silicon substrate together with the display unit 100, the data line drive circuit 10, the scanning line drive circuit 20, and the like.

<変形例7>
上述した実施形態及び変形例では、電気光学装置1をシリコン基板に集積した構成としたが、他の半導体基板に集積した構成しても良い。例えば、SOI基板であってもよい。また、ポリシリコンプロセスを適用してガラス基板等に形成しても良い。いずれにしても、本発明は、画素回路110が微細化されて、トランジスター121において、ゲート電圧Vgsの変化に対しドレイン電流が指数関数的に大きく変化する構成に有効である。
また、画素回路の微細化を必要としない場合に、本発明を適用してもよい。
<Modification 7>
In the above-described embodiments and modifications, the electro-optical device 1 is integrated on a silicon substrate, but it may be integrated on another semiconductor substrate. For example, it may be an SOI substrate. Further, it may be formed on a glass substrate or the like by applying a polysilicon process. In any case, the present invention is effective in a configuration in which the pixel circuit 110 is miniaturized and the drain current of the transistor 121 changes exponentially with a change in the gate voltage Vgs.
Further, the present invention may be applied when miniaturization of the pixel circuit is not required.

<変形例8>
上述した実施形態及び変形例では、データ線14を3列毎にグループ化するとともに、各グループにおいてデータ線14を順番に選択して、データ信号を供給する構成としたが、グループを構成するデータ線数は、「2」以上「3n」以下の所定数であればよい。例えば、グループを構成するデータ線数は、「2」であっても良いし、「4」以上であっても良い。
また、グループ化せずに、すなわちデマルチプレクサDMを用いないで各列のデータ線14にデータ信号を一斉に線順次で供給する構成でも良い。
<Modification 8>
In the above-described embodiment and modification, the data lines 14 are grouped into three columns, and the data lines 14 are sequentially selected in each group to supply the data signal. However, the data constituting the group is configured. The number of lines may be a predetermined number of "2" or more and "3n" or less. For example, the number of data lines constituting the group may be "2" or "4" or more.
Further, the data signals may be supplied to the data lines 14 in each column all at once without grouping, that is, without using the demultiplexer DM.

<変形例9>
上述した実施形態及び変形例では、画素回路110におけるトランジスター121〜125をPチャネル型で統一したが、Nチャネル型で統一しても良い。また、Pチャネル型及びNチャネル型を適宜組み合わせても良い。
例えば、トランジスター121〜125をNチャネル型で統一する場合、上述した実施形態及び変形例における、データ信号Vd(j)とは、正負が逆転した電位を、各画素回路110に供給すればよい。また、この場合、トランジスター121〜125のソース及びドレインは、上述した実施形態及び変形例とは逆転した関係となる。
また、上述した実施形態及び変形例では、トランジスター45をPチャネル型とし、トランジスター43をNチャネル型としたが、Pチャネル型またはNチャネル型で統一してもよい。トランジスター45をNチャネル型とし、トランジスター43をPチャネル型としてもよい。
また、上述した実施形態及び変形例では、各トランジスターはMOS型のトランジスターとしたが、薄膜トランジスターであってもよい。
<Modification 9>
In the above-described embodiment and modification, the transistors 121 to 125 in the pixel circuit 110 are unified in the P channel type, but may be unified in the N channel type. Further, the P-channel type and the N-channel type may be appropriately combined.
For example, when the transistors 121 to 125 are unified in the N channel type, the positive and negative potentials of the data signal Vd (j) in the above-described embodiment and modification may be supplied to each pixel circuit 110. Further, in this case, the source and drain of the transistors 121 to 125 have a relationship opposite to that of the above-described embodiment and modification.
Further, in the above-described embodiments and modifications, the transistor 45 is a P-channel type and the transistor 43 is an N-channel type, but the P-channel type or the N-channel type may be unified. The transistor 45 may be an N-channel type, and the transistor 43 may be a P-channel type.
Further, in the above-described embodiment and modification, each transistor is a MOS type transistor, but it may be a thin film.

<変形例10>
上述した実施形態及び変形例では、電気光学素子として発光素子であるOLEDを例示したが、例えば無機発光ダイオードやLED(Light Emitting Diode)など、電流に応じた輝度で発光するものであれば良い。
<Modification example 10>
In the above-described embodiment and modification, the OLED which is a light emitting element is exemplified as the electro-optical element, but for example, an inorganic light emitting diode or an LED (Light Emitting Diode) which emits light with a brightness corresponding to a current may be used.

<応用例>
次に、実施形態等や応用例に係る電気光学装置1を適用した電子機器について説明する。電気光学装置1は、画素が小サイズで高精細な表示な用途に向いている。そこで、電子機器として、ヘッドマウント・ディスプレイを例に挙げて説明する。
<Application example>
Next, an electronic device to which the electro-optical device 1 according to the embodiment or the like and the application example is applied will be described. The electro-optical device 1 is suitable for high-definition display applications in which the pixels are small in size. Therefore, a head-mounted display will be described as an example of an electronic device.

図16は、ヘッドマウント・ディスプレイの外観を示す図であり、図17は、その光学的な構成を示す図である。
まず、図16に示されるように、ヘッドマウント・ディスプレイ300は、外観的には、一般的な眼鏡と同様にテンプル310や、ブリッジ320、レンズ301L、301Rを有する。また、ヘッドマウント・ディスプレイ300は、図17に示されるように、ブリッジ320近傍であってレンズ301L、301Rの奥側(図において下側)には、左眼用の電気光学装置1Lと右眼用の電気光学装置1Rとが設けられる。
電気光学装置1Lの画像表示面は、図17において左側となるように配置している。これによって電気光学装置1Lによる表示画像は、光学レンズ302Lを介して図において9時の方向に出射する。ハーフミラー303Lは、電気光学装置1Lによる表示画像を6時の方向に反射させる一方で、12時の方向から入射した光を透過させる。
電気光学装置1Rの画像表示面は、電気光学装置1Lとは反対の右側となるように配置している。これによって電気光学装置1Rによる表示画像は、光学レンズ302Rを介して図において3時の方向に出射する。ハーフミラー303Rは、電気光学装置1Rによる表示画像を6時方向に反射させる一方で、12時の方向から入射した光を透過させる。
FIG. 16 is a diagram showing the appearance of the head-mounted display, and FIG. 17 is a diagram showing the optical configuration thereof.
First, as shown in FIG. 16, the head-mounted display 300 has a temple 310, a bridge 320, lenses 301L, and 301R, similar to general eyeglasses, in appearance. Further, as shown in FIG. 17, the head-mounted display 300 has an electro-optic device 1L for the left eye and an electro-optic device 1L for the right eye on the back side (lower side in the drawing) of the lenses 301L and 301R in the vicinity of the bridge 320. An electro-optical device 1R for use is provided.
The image display surface of the electro-optical device 1L is arranged so as to be on the left side in FIG. As a result, the display image by the electro-optical device 1L is emitted in the direction of 9 o'clock in the figure through the optical lens 302L. The half mirror 303L reflects the image displayed by the electro-optical device 1L in the 6 o'clock direction, while transmitting the light incident from the 12 o'clock direction.
The image display surface of the electro-optical device 1R is arranged so as to be on the right side opposite to the electro-optical device 1L. As a result, the image displayed by the electro-optical device 1R is emitted in the direction of 3 o'clock in the figure via the optical lens 302R. The half mirror 303R reflects the image displayed by the electro-optical device 1R in the 6 o'clock direction, while transmitting the light incident from the 12 o'clock direction.

この構成において、ヘッドマウント・ディスプレイ300の装着者は、電気光学装置1L、1Rによる表示画像を、外の様子と重ね合わせたシースルー状態で観察することができる。
また、このヘッドマウント・ディスプレイ300において、視差を伴う両眼画像のうち、左眼用画像を電気光学装置1Lに表示させ、右眼用画像を電気光学装置1Rに表示させると、装着者に対し、表示された画像があたかも奥行きや立体感を持つかのように知覚させることができる(3D表示)。
In this configuration, the wearer of the head-mounted display 300 can observe the display image by the electro-optical devices 1L and 1R in a see-through state superposed on the outside state.
Further, in the head mount display 300, when the image for the left eye is displayed on the electro-optical device 1L and the image for the right eye is displayed on the electro-optic device 1R among the binocular images with parallax, the wearer is notified. , The displayed image can be perceived as if it has depth and stereoscopic effect (3D display).

なお、電気光学装置1については、ヘッドマウント・ディスプレイ300のほかにも、ビデオカメラやレンズ交換式のデジタルカメラなどにおける電子式ビューファインダーにも適用可能である。 The electro-optical device 1 can be applied not only to the head-mounted display 300 but also to an electronic viewfinder in a video camera, an interchangeable lens digital camera, or the like.

1…電気光学装置、2…表示パネル、3…制御回路、10…データ線駆動回路、12…走査線、14…データ線、16…給電線、20…走査線駆動回路、41、44、50…保持容量、100…表示部、110…画素回路、121〜125…トランジスター、130…OLED、132…保持容量、143、144、145…制御線、150…シリコン基板、LS…レベルシフト回路、DM…デマルチプレクサ。 1 ... Electro-optical device, 2 ... Display panel, 3 ... Control circuit, 10 ... Data line drive circuit, 12 ... Scan line, 14 ... Data line, 16 ... Power supply line, 20 ... Scan line drive circuit, 41, 44, 50 ... Retention capacity, 100 ... Display unit, 110 ... Pixel circuit, 121-125 ... Transistor, 130 ... OLED, 132 ... Retention capacity, 143, 144, 145 ... Control line, 150 ... Silicon substrate, LS ... Level shift circuit, DM … Demultiplexer.

Claims (4)

第1の方向に延在する走査線と、
前記第1の方向に交差する第2の方向に延在するデータ線と、
発光素子と、
第1のゲート電極を有し、前記第1のゲート電極とソースとの間の電圧に応じた電流を前記発光素子に供給する第1のトランジスターと、
第1のコンタクトホールを介して前記走査線と電気的に接続される第2のゲート電極を有し、前記第1のゲート電極と前記データ線とに電気的に接続される第2のトランジスターと、
を備え、
前記第1のコンタクトホールは、平面視で、前記第2のトランジスターのソースと前記第2のトランジスターのドレインとに挟まれた領域と重なるように配置され、
平面視で、前記走査線は、前記第2のゲート電極と重なるように配置される、
ことを特徴とする電気光学装置。
Scanning lines extending in the first direction,
A data line extending in the second direction intersecting the first direction,
Light emitting element and
A first transistor having a first gate electrode and supplying a current corresponding to the voltage between the first gate electrode and the source to the light emitting element.
With a second transistor having a second gate electrode electrically connected to the scanning line through the first contact hole and electrically connected to the first gate electrode and the data line. ,
With
The first contact hole is arranged so as to overlap the region sandwiched between the source of the second transistor and the drain of the second transistor in a plan view .
In a plan view, the scanning line is arranged so as to overlap the second gate electrode.
An electro-optical device characterized by this.
平面視で、前記第2のトランジスターのソースと重なるように配置される第2のコンタクトホールと、
平面視で、前記第2のトランジスターのドレインと重なるように配置される第3のコンタクトホールと、
を備え、
前記第1のコンタクトホール、前記第2のコンタクトホール及び前記第3のコンタクトホールは、平面視で、前記第2の方向に沿って配置される、
ことを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
A second contact hole arranged so as to overlap the source of the second transistor in a plan view,
A third contact hole arranged so as to overlap the drain of the second transistor in a plan view,
With
The first contact hole, the second contact hole, and the third contact hole are arranged along the second direction in a plan view.
The electro-optical device according to claim 1.
制御線と、
第4のコンタクトホールを介して前記制御線と電気的に接続される第3のゲート電極を有する第3のトランジスターと、
を備え、
前記第4のコンタクトホールは、平面視で、前記第3のトランジスターのソースと前記第3のトランジスターのドレインとに挟まれた領域と重なるように配置され、
平面視で、前記制御線は、前記第3のゲート電極と重なるように配置される、
ことを特徴とする請求項1または2いずれか一項に記載の電気光学装置。
Control line and
A third transistor having a third gate electrode that is electrically connected to the control line via a fourth contact hole.
With
The fourth contact hole is arranged so as to overlap the region sandwiched between the source of the third transistor and the drain of the third transistor in a plan view .
In a plan view, the control line is arranged so as to overlap the third gate electrode.
The electro-optical device according to any one of claims 1 or 2.
平面視で、前記第3のトランジスターのソースと重なるように配置される第5のコンタクトホールと、
平面視で、前記第3のトランジスターのドレインと重なるように配置される第6のコンタクトホールと、
を備え、
前記第4のコンタクトホール、前記第5のコンタクトホール及び前記第6のコンタクトホールは、平面視で、前記第2の方向に沿って配置される、
ことを特徴とする請求項3に記載の電気光学装置。
A fifth contact hole arranged so as to overlap the source of the third transistor in a plan view,
A sixth contact hole arranged so as to overlap the drain of the third transistor in a plan view,
With
The fourth contact hole, the fifth contact hole, and the sixth contact hole are arranged along the second direction in a plan view.
The electro-optical device according to claim 3.
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