JP6581269B2 - 光学フィルムの活性化処理方法および製造方法、光学フィルムならびに画像表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、光学フィルムの活性化処理方法およびその製造方法に関する。また本発明は当該製造方法により得られた光学フィルムに関する。当該光学フィルムはこれ単独で、またはこれを積層して液晶表示装置（ＬＣＤ）、有機ＥＬ表示装置、ＣＲＴ、ＰＤＰ等の画像表示装置を形成しうる。

液晶表示装置は、液晶のスイッチングによる偏光状態を可視化させたものであり、その表示原理から、偏光子の両面に透明保護フィルムを接着剤層により貼り合わせた偏光フィルムなどの光学フィルムが用いられている。偏光子としては、例えばポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸した構造のヨウ素系偏光子が高透過率、高偏光度を有することから、最も一般的な偏光子として広く使用されている。透明保護フィルムとしては、透湿度の高いトリアセチルセルロース等が用いられる。

前記接着剤層の形成に用いる接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール系の材料を水に溶解した、いわゆる水系接着剤が用いられている。しかし、ポリビニルアルコール系接着剤は、高温高湿下で長時間放置すると、吸湿して接着力が低下するためフィルムに剥離が生じやすくなったり、偏光フィルムの寸法安定性が低下したりして、液晶ディスプレイの色相変化が生じるという問題がある。上記問題に対して、透明保護フィルムとして用いるトリアセチルセルロースフィルムの表面をケン化処理して、接着剤と透明保護フィルムの接着力を向上させることが提案されている（特許文献１）。また、前記接着剤として、アセトアセチル基含有ポリビニルアルコール系樹脂と架橋剤を含有するものが提案されている（特許文献２）。

一方、水系接着剤の代わりに、熱硬化型、活性エネルギー線硬化型等の硬化型接着剤を使用することが提案されている（特許文献３）。しかし、これら硬化型接着剤を用いた場合でも、偏光子と透明保護フィルムの接着力は十分ではなかった。

また、下記特許文献４では、ＵＶ処理時に４０℃に加温した対向ロールに密着させながら接着剤を硬化させることで、逆カールおよびウェーブカールの発生が抑制された偏光フィルムを製造する方法が記載されている。しかし、かかる方法では異物欠点の発生は予期しておらず、またその発生を防止する方法が記載または示唆されているわけでもない。

特開昭５６−５０３０１号公報 特開平７−１９８９４５号公報 特許第３５１１１１１号明細書 特開２００９−１３４１９０号明細書

接着剤層を介して、２以上の光学フィルムを積層する場合、その接着強度を向上させることは重要である。特に、光学フィルムが偏光フィルムである場合、偏光子と透明保護フィルムとの接着強度をより向上させることが求められている。光学フィルムの接着性を改良する方法として、コロナ放電処理、プラズマ処理およびグロー放電処理などの活性化処理方法が挙げられるが、処理条件によっては、活性化処理後の光学フィルム上に、外観欠点が発生する場合があった。つまり、光学フィルムの接着性向上のために活性化処理は必要不可欠であるものの、それに伴い外観欠点が発生することになり、光学フィルムの接着性向上と外観欠点の発生の防止との両立が困難であるのが実情であった。

本発明は、積層された光学フィルムにおいて、その接着性向上と外観欠点の発生の防止との両立が可能な光学フィルムの活性化処理方法およびその製造方法を提供することを目的とする。

また本発明は前記製造方法により得られた光学フィルムを提供することを目的とする。さらに本発明は、当該光学フィルムを用いた液晶表示装置等の画像表示装置を提供することを目的とする。

本発明者らは前記課題を解決すべく、まず、光学フィルムを活性化処理する際に発生する外観欠点の発生メカニズムについて鋭意検討を行った。
その結果、
（１）活性化処理のための放電により、光学フィルム表面に高エネルギーの電子やイオンが衝突して、光学フィルム表面にラジカルやイオンが生成する。
（２）これらに周囲のＮ_２、Ｏ_２、Ｈ_２などが反応してカルボキシル基、ヒドロキシル基、シアノ基などの極性反応基が導入されるが、同時にシュウ酸塩（シュウ酸アンモニウム（（ＮＨ_４）_２Ｃ_２Ｏ_２））なども生成する。
（３）このシュウ酸塩などの発生が、光学フィルム上に堆積して外観欠点を発生させる原因であることを突き止めた。
これらの知見に基づき、さらに検討を行った結果、光学フィルムを冷却しつつ活性化処理を行うことで、上記に起因したシュウ酸塩などの外観欠点の発生および堆積を防止することができることが判明した。本発明は、かかる知見の結果得られたものである。

すなわち本発明は、ロールに沿って光学フィルムを搬送し、前記ロールの反対側から光学フィルムの活性化処理を行う方法であって、前記ロールを冷却しながら活性化処理を行うことを特徴とする光学フィルムの活性化処理方法、に関する。

上記光学フィルムの活性化処理方法において、前記活性化処理が、コロナ放電処理、プラズマ処理およびグロー放電処理の少なくとも１種であることが好ましい。

上記光学フィルムの活性化処理方法において、前記光学フィルムが、偏光子および透明保護フィルムの少なくとも１種であることが好ましい。

上記光学フィルムの活性化処理方法において、前記活性化処理の放電量が、１００〜２０００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２であることが好ましい。

上記光学フィルムの活性化処理方法において、前記ロールに冷媒を通すことで、前記ロールを冷却するものであることが好ましい。

また、本発明は、光学フィルムの少なくとも一方の面に接着剤層を介して他の光学フィルムが積層された光学フィルムの製造方法であって、前記光学フィルムの前記接着剤層を積層する側の面に、前記いずれかに記載の活性化処理方法を行う活性化処理工程と、前記光学フィルムの活性化処理がされた面に、接着剤を塗工して接着剤層を積層する塗工工程と、前記接着剤層が積層された光学フィルムと他方の光学フィルムとを、前記接着剤層を介して貼り合わせる積層工程と、を有することを特徴とする光学フィルムの製造方法、に関する。

上記光学フィルムの製造方法において、前記光学フィルムが、偏光子の少なくとも一方の面に接着剤層を介して透明保護フィルムが設けられた偏光フィルムであって、前記偏光子および前記透明保護フィルムの少なくとも一方に、前記いずれかに記載の活性化処理方法を行う活性化処理工程と、前記偏光子の活性化処理がされた面または前記透明保護フィルムの活性化処理がされた面に、接着剤を塗工して接着剤層を積層する塗工工程と、前記偏光子と前記透明保護フィルムとを、前記接着剤層を介して貼り合わせる積層工程と、を有することが好ましい。

さらに本発明は、前記製造方法により得られた光学フィルム、該光学フィルムが用いられた画像形成装置に関する。

本発明においては、ロールの外周面に沿って、光学フィルムを密着させながら活性化処理を行う際、ロールを冷却しながら光学フィルムの活性化処理を行うことで、光学フィルム上で発生・堆積する、シュウ酸塩などに起因した外観欠点の発生が防止できる。

一般に、活性化処理方法として放電処理を採用する場合、活性化処理時の放電処理量を上げると、光学フィルム上に導入される水酸基などの、接着性の向上に寄与する官能基量が増加するため、接着剤層を介した他の光学フィルムとの接着性が向上する。しかしながら、活性化処理時の放電処理量を上げるに伴い、外観欠点の原因となるシュウ酸塩などの発生量も増加するため、光学フィルムの接着性向上と外観欠点の発生の防止との両立が困難であるのは前述のとおりである。ところが本発明では、光学フィルムの接着性を向上するために活性化処理時の放電処理量を上げても、シュウ酸塩などの発生量を著しく低減できるため、光学フィルムの接着性向上と外観欠点の発生の防止との両立が可能となる。

本発明に係る光学フィルムの活性化処理方法は、光学フィルムの中でも、偏光子および／または透明保護フィルムの活性化処理を行う際に有用である。一般に、光学フィルムを活性化処理する場合、光学フィルムの水分率が少ないほど、光学フィルム上に導入できる水酸基などの官能基量が少なくなり、接着性の向上度合いが小さくなる。しかしながら、活性化処理時の放電処理量を上げると、光学フィルム上に導入される官能基量が増加し、光学フィルムの水分率が低い場合でも接着性が向上する。したがって、本発明に係る光学フィルムの活性化処理方法は、水分率の低い光学フィルム、特には偏光子および／または透明保護フィルムの活性化処理を行う際に、極めて有用である。

本発明に係る光学フィルムの活性化処理方法を、活性化処理工程として有する光学フィルムの製造方法では、積層された光学フィルム間の接着性に優れ、かつ外観欠点が著しく低減された光学フィルムを製造することができる。

特に、光学フィルムとして偏光フィルムを製造する方法では、偏光子と透明保護フィルムとの接着性を高めつつ、外観欠点が著しく低減された偏光フィルムを製造することができる。

本発明に係る光学フィルムの活性化処理方法の一実施形態を示す概略図 本発明に係る光学フィルムの活性化処理方法の他の実施形態を示す概略図

本発明に係る光学フィルムの活性化処理方法では、ロールの外周面に沿って、光学フィルムを密着させながら活性化処理を行う際、ロールを冷却しながら光学フィルムの活性化処理を行う。特に本発明は、水分率が低くて、活性化処理を行う際に放電処理量を上げる必要がある光学フィルム、具体的には例えば偏光子や透明保護フィルムの活性化処理方法として有用である。

＜偏光子＞
偏光子は、特に限定されず、各種のものを使用できる。偏光子としては、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらの中でも、ポリビニルアルコール系フィルムとヨウ素などの二色性物質からなる偏光子が好適である。これら偏光子の厚さは特に制限されないが、一般的に、１０〜８０μｍ程度である。また、一般的な厚さを有する偏光子の水分率は、乾燥後１時間内で１０〜３０％程度である。偏光子厚みの好ましくは１０〜３０μｍ、最も好ましくは１５〜２５μｍである。また偏光子水分の好ましくは１０〜２５％、最も好ましくは１５〜２０％である。

偏光子の水分率は、任意の適切な方法で調整すれことができる。例えば偏光子の製造工程における乾燥工程の条件を調整することにより制御する方法があげられる。

偏光子の水分率は、以下の方法により測定される。すなわち、偏光子を、１００×１００ｍｍの大きさに切り出して、このサンプルの初期重量を測定した。続いて、このサンプルを１２０℃で２時間乾燥し、乾燥重量を測定して、下記式により水分率を測定した。水分率（重量％）＝｛（初期重量−乾燥重量）／初期重量｝×１００。重量の測定はそれぞれ３回ずつ行い、その平均値を用いた。

ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸した偏光子は、例えば、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の３〜７倍に延伸することで作成することができる。必要に応じてホウ酸や硫酸亜鉛、塩化亜鉛等を含んでいても良いヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗してもよい。ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるほかに、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸しても良いし、また延伸してからヨウ素で染色しても良い。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液や水浴中でも延伸することができる。

≪薄型偏光子≫
前記偏光子としては厚みが１０μｍ以下の薄型の偏光子を用いることができる。薄型化の観点から言えば当該厚みは１〜７μｍであるのが好ましい。このような薄型の偏光子は、厚みムラが少なく、視認性が優れており、また寸法変化が少ないため耐久性に優れ、さらには偏光フィルムとしての厚みも薄型化が図れる点が好ましい。

なお、薄型偏光子は、一般的な厚さを有する偏光子に比べて、水分率が低く、乾燥後１時間以内で０〜１０％程度である。したがって、薄型偏光子に対して接着性を向上するために活性化処理を施す場合、必然的に放電処理量を上げる必要がある。したがって、本発明に係る活性化処理方法は、特に薄型偏光子の活性化処理方法として有用である。薄型偏光子厚みの好ましくは１〜７μｍ、最も好ましくは２〜６μｍである。また偏光子水分の好ましくは１〜５％、最も好ましくは１〜３％である。

薄型の偏光子としては、代表的には、特開昭５１−０６９６４４号公報や特開２０００−３３８３２９号公報や、ＷＯ２０１０／１００９１７号パンフレット、ＰＣＴ／ＪＰ２０１０／００１４６０の明細書、または特願２０１０−２６９００２号明細書や特願２０１０−２６３６９２号明細書に記載されている薄型偏光膜を挙げることができる。これら薄型偏光膜は、ポリビニルアルコール系樹脂（以下、ＰＶＡ系樹脂ともいう）層と延伸用樹脂基材を積層体の状態で延伸する工程と染色する工程を含む製法による得ることができる。この製法であれば、ＰＶＡ系樹脂層が薄くても、延伸用樹脂基材に支持されていることにより延伸による破断などの不具合なく延伸することが可能となる。

前記薄型偏光膜としては、積層体の状態で延伸する工程と染色する工程を含む製法の中でも、高倍率に延伸できて偏光性能を向上させることのできる点で、ＷＯ２０１０／１００９１７号パンフレット、ＰＣＴ／ＪＰ２０１０／００１４６０の明細書、または特願２０１０−２６９００２号明細書や特願２０１０−２６３６９２号明細書に記載のあるようなホウ酸水溶液中で延伸する工程を含む製法で得られるものが好ましく、特に特願２０１０−２６９００２号明細書や特願２０１０−２６３６９２号明細書に記載のあるホウ酸水溶液中で延伸する前に補助的に空中延伸する工程を含む製法により得られるものが好ましい。

上記のＰＣＴ／ＪＰ２０１０／００１４６０の明細書に記載の薄型高機能偏光膜は、樹脂基材に一体に製膜される、二色性物質を配向させたＰＶＡ系樹脂からなる厚みが７μｍ以下の薄型高機能偏光膜であって、単体透過率が４２．０％以上および偏光度が９９．９５％以上の光学特性を有する。

上記薄型高機能偏光膜は、少なくとも２０μｍの厚みを有する樹脂基材に、ＰＶＡ系樹脂の塗工および乾燥によってＰＶＡ系樹脂層を生成し、生成されたＰＶＡ系樹脂層を二色性物質の染色液に浸漬して、ＰＶＡ系樹脂層に二色性物質を吸着させ、二色性物質を吸着させたＰＶＡ系樹脂層を、ホウ酸水溶液中において、樹脂基材と一体に総延伸倍率を元長の５倍以上となるように延伸することによって、製造することができる。

また、二色性物質を配向させた薄型高機能偏光膜を含む積層体フィルムを製造する方法であって、少なくとも２０μｍの厚みを有する樹脂基材と、樹脂基材の片面にＰＶＡ系樹脂を含む水溶液を塗工および乾燥することによって形成されたＰＶＡ系樹脂層とを含む積層体フィルムを生成する工程と、樹脂基材と樹脂基材の片面に形成されたＰＶＡ系樹脂層とを含む前記積層体フィルムを、二色性物質を含む染色液中に浸漬することによって、積層体フィルムに含まれるＰＶＡ系樹脂層に二色性物質を吸着させる工程と、二色性物質を吸着させたＰＶＡ系樹脂層を含む前記積層体フィルムを、ホウ酸水溶液中において、総延伸倍率が元長の５倍以上となるように延伸する工程と、二色性物質を吸着させたＰＶＡ系樹脂層が樹脂基材と一体に延伸されたことにより、樹脂基材の片面に、二色性物質を配向させたＰＶＡ系樹脂層からなる、厚みが７μｍ以下、単体透過率が４２．０％以上かつ偏光度が９９．９５％以上の光学特性を有する薄型高機能偏光膜を製膜させた積層体フィルムを製造する工程を含むことで、上記薄型高機能偏光膜を製造することができる。

本発明では、厚みが１０μｍ以下の偏光子として、二色性物質を配向させたＰＶＡ系樹脂からなる連続ウェブの偏光膜であって、熱可塑性樹脂基材に製膜されたポリビニルアルコール系樹脂層を含む積層体が空中補助延伸とホウ酸水中延伸とからなる２段延伸工程で延伸されることにより得られたものを用いることができる。前記熱可塑性樹脂基材としては、非晶性エステル系熱可塑性樹脂基材または結晶性エステル系熱可塑性樹脂基材が好ましい。

上記の特願２０１０−２６９００２号明細書や特願２０１０−２６３６９２号明細書の薄型偏光膜は、二色性物質を配向させたＰＶＡ系樹脂からなる連続ウェブの偏光膜であって、非晶性エステル系熱可塑性樹脂基材に製膜されたＰＶＡ系樹脂層を含む積層体が空中補助延伸とホウ酸水中延伸とからなる２段延伸工程で延伸されることにより、１０μｍ以下の厚みにされたものである。かかる薄型偏光膜は、単体透過率をＴ、偏光度をＰとしたとき、Ｐ＞−（１０^{０．９２９Ｔ−４２．４}−１）×１００（ただし、Ｔ＜４２．３）、およびＰ≧９９．９（ただし、Ｔ≧４２．３）の条件を満足する光学特性を有するようにされたものであることが好ましい。

具体的には、前記薄型偏光膜は、連続ウェブの非晶性エステル系熱可塑性樹脂基材に製膜されたＰＶＡ系樹脂層に対する空中高温延伸によって、配向されたＰＶＡ系樹脂層からなる延伸中間生成物を生成する工程と、延伸中間生成物に対する二色性物質の吸着によって、二色性物質（ヨウ素またはヨウ素と有機染料の混合物が好ましい）を配向させたＰＶＡ系樹脂層からなる着色中間生成物を生成する工程と、着色中間生成物に対するホウ酸水中延伸によって、二色性物質を配向させたＰＶＡ系樹脂層からなる厚さが１０μｍ以下の偏光膜を生成する工程とを含む薄型偏光膜の製造方法により製造することができる。

この製造方法において、空中高温延伸とホウ酸水中延伸とによる非晶性エステル系熱可塑性樹脂基材に製膜されたＰＶＡ系樹脂層の総延伸倍率が、５倍以上になるようにするのが望ましい。ホウ酸水中延伸のためのホウ酸水溶液の液温は、６０℃以上とすることができる。ホウ酸水溶液中で着色中間生成物を延伸する前に、着色中間生成物に対して不溶化処理を施すのが望ましく、その場合、液温が４０℃を超えないホウ酸水溶液に前記着色中間生成物を浸漬することにより行うのが望ましい。上記非晶性エステル系熱可塑性樹脂基材は、イソフタル酸を共重合させた共重合ポリエチレンテレフタレート、シクロヘキサンジメタノールを共重合させた共重合ポリエチレンテレフタレートまたは他の共重合ポリエチレンテレフタレートを含む非晶性ポリエチレンテレフタレートとすることができ、透明樹脂からなるものであることが好ましく、その厚みは、製膜されるＰＶＡ系樹脂層の厚みの７倍以上とすることができる。また、空中高温延伸の延伸倍率は３．５倍以下が好ましく、空中高温延伸の延伸温度はＰＶＡ系樹脂のガラス転移温度以上、具体的には９５℃〜１５０℃の範囲であるのが好ましい。空中高温延伸を自由端一軸延伸で行う場合、非晶性エステル系熱可塑性樹脂基材に製膜されたＰＶＡ系樹脂層の総延伸倍率が、５倍以上７．５倍以下であるのが好ましい。また、空中高温延伸を固定端一軸延伸で行う場合、非晶性エステル系熱可塑性樹脂基材に製膜されたＰＶＡ系樹脂層の総延伸倍率が、５倍以上８．５倍以下であるのが好ましい。
更に具体的には、次のような方法により、薄型偏光膜を製造することができる。

イソフタル酸を６ｍｏｌ％共重合させたイソフタル酸共重合ポリエチレンテレフタレート（非晶性ＰＥＴ）の連続ウェブの基材を作製する。非晶性ＰＥＴのガラス転移温度は７５℃である。連続ウェブの非晶性ＰＥＴ基材とポリビニルアルコール（ＰＶＡ）層からなる積層体を、以下のように作製する。ちなみにＰＶＡのガラス転移温度は８０℃である。

２００μｍ厚の非晶性ＰＥＴ基材と、重合度１０００以上、ケン化度９９％以上のＰＶＡ粉末を水に溶解した４〜５％濃度のＰＶＡ水溶液とを準備する。次に、２００μｍ厚の非晶性ＰＥＴ基材にＰＶＡ水溶液を塗工し、５０〜６０℃の温度で乾燥し、非晶性ＰＥＴ基材に７μｍ厚のＰＶＡ層が製膜された積層体を得る。

７μｍ厚のＰＶＡ層を含む積層体を、空中補助延伸およびホウ酸水中延伸の２段延伸工程を含む以下の工程を経て、３μｍ厚の薄型高機能偏光膜を製造する。第１段の空中補助延伸工程によって、７μｍ厚のＰＶＡ層を含む積層体を非晶性ＰＥＴ基材と一体に延伸し、５μｍ厚のＰＶＡ層を含む延伸積層体を生成する。具体的には、この延伸積層体は、７μｍ厚のＰＶＡ層を含む積層体を１３０℃の延伸温度環境に設定されたオーブンに配備された延伸装置にかけ、延伸倍率が１．８倍になるように自由端一軸に延伸したものである。この延伸処理によって、延伸積層体に含まれるＰＶＡ層を、ＰＶＡ分子が配向された５μｍ厚のＰＶＡ層へと変化させる。

次に、染色工程によって、ＰＶＡ分子が配向された５μｍ厚のＰＶＡ層にヨウ素を吸着させた着色積層体を生成する。具体的には、この着色積層体は、延伸積層体を液温３０℃のヨウ素およびヨウ化カリウムを含む染色液に、最終的に生成される高機能偏光膜を構成するＰＶＡ層の単体透過率が４０〜４４％になるように任意の時間、浸漬することによって、延伸積層体に含まれるＰＶＡ層にヨウ素を吸着させたものである。本工程において、染色液は、水を溶媒として、ヨウ素濃度を０．１２〜０．３０重量％の範囲内とし、ヨウ化カリウム濃度を０．７〜２．１重量％の範囲内とする。ヨウ素とヨウ化カリウムの濃度の比は１対７である。ちなみに、ヨウ素を水に溶解するにはヨウ化カリウムを必要とする。より詳細には、ヨウ素濃度０．３０重量％、ヨウ化カリウム濃度２．１重量％の染色液に延伸積層体を６０秒間浸漬することによって、ＰＶＡ分子が配向された５μｍ厚のＰＶＡ層にヨウ素を吸着させた着色積層体を生成する。

さらに、第２段のホウ酸水中延伸工程によって、着色積層体を非晶性ＰＥＴ基材と一体にさらに延伸し、３μｍ厚の高機能偏光膜を構成するＰＶＡ層を含む光学フィルム積層体を生成する。具体的には、この光学フィルム積層体は、着色積層体をホウ酸とヨウ化カリウムを含む液温範囲６０〜８５℃のホウ酸水溶液に設定された処理装置に配備された延伸装置にかけ、延伸倍率が３．３倍になるように自由端一軸に延伸したものである。より詳細には、ホウ酸水溶液の液温は６５℃である。それはまた、ホウ酸含有量を水１００重量部に対して４重量部とし、ヨウ化カリウム含有量を水１００重量部に対して５重量部とする。本工程においては、ヨウ素吸着量を調整した着色積層体をまず５〜１０秒間ホウ酸水溶液に浸漬する。しかる後に、その着色積層体をそのまま処理装置に配備された延伸装置である周速の異なる複数の組のロール間に通し、３０〜９０秒かけて延伸倍率が３．３倍になるように自由端一軸に延伸する。この延伸処理によって、着色積層体に含まれるＰＶＡ層を、吸着されたヨウ素がポリヨウ素イオン錯体として一方向に高次に配向した３μｍ厚のＰＶＡ層へと変化させる。このＰＶＡ層が光学フィルム積層体の高機能偏光膜を構成する。

光学フィルム積層体の製造に必須の工程ではないが、洗浄工程によって、光学フィルム積層体をホウ酸水溶液から取り出し、非晶性ＰＥＴ基材に製膜された３μｍ厚のＰＶＡ層の表面に付着したホウ酸をヨウ化カリウム水溶液で洗浄するのが好ましい。しかる後に、洗浄された光学フィルム積層体を６０℃の温風による乾燥工程によって乾燥する。なお洗浄工程は、ホウ酸析出などの外観不良を解消するための工程である。

同じく光学フィルム積層体の製造に必須の工程というわけではないが、貼合せおよび／または転写工程によって、非晶性ＰＥＴ基材に製膜された３μｍ厚のＰＶＡ層の表面に接着剤を塗工しながら、８０μｍ厚のトリアセチルセルロースフィルムを貼合せたのち、非晶性ＰＥＴ基材を剥離し、３μｍ厚のＰＶＡ層を８０μｍ厚のトリアセチルセルロースフィルムに転写することもできる。

［その他の工程］
上記の薄型偏光膜の製造方法は、上記工程以外に、その他の工程を含み得る。その他の工程としては、例えば、不溶化工程、架橋工程、乾燥（水分率の調節）工程等が挙げられる。その他の工程は、任意の適切なタイミングで行い得る。
上記不溶化工程は、代表的には、ホウ酸水溶液にＰＶＡ系樹脂層を浸漬させることにより行う。不溶化処理を施すことにより、ＰＶＡ系樹脂層に耐水性を付与することができる。当該ホウ酸水溶液の濃度は、水１００重量部に対して、好ましくは１重量部〜４重量部である。不溶化浴（ホウ酸水溶液）の液温は、好ましくは２０℃〜５０℃である。好ましくは、不溶化工程は、積層体作製後、染色工程や水中延伸工程の前に行う。
上記架橋工程は、代表的には、ホウ酸水溶液にＰＶＡ系樹脂層を浸漬させることにより行う。架橋処理を施すことにより、ＰＶＡ系樹脂層に耐水性を付与することができる。当該ホウ酸水溶液の濃度は、水１００重量部に対して、好ましくは１重量部〜４重量部である。また、上記染色工程後に架橋工程を行う場合、さらに、ヨウ化物を配合することが好ましい。ヨウ化物を配合することにより、ＰＶＡ系樹脂層に吸着させたヨウ素の溶出を抑制することができる。ヨウ化物の配合量は、水１００重量部に対して、好ましくは１重量部〜５重量部である。ヨウ化物の具体例は、上述のとおりである。架橋浴（ホウ酸水溶液）の液温は、好ましくは２０℃〜５０℃である。好ましくは、架橋工程は上記第２のホウ酸水中延伸工程の前に行う。好ましい実施形態においては、染色工程、架橋工程および第２のホウ酸水中延伸工程をこの順で行う。

＜透明保護フィルム＞
透明保護フィルムを構成する材料としては、特に限定されないが、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性などに優れるものが好ましい。例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロースなどのセルロース系ポリマー、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）などのスチレン系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマーなどが挙げられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロ系ないしはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミドなどのアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、または上記ポリマーのブレンド物なども上記透明保護フィルムを形成するポリマーの例として挙げられる。透明保護フィルム中には任意の適切な添加剤が１種類以上含まれていてもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、核剤、帯電防止剤、顔料、着色剤などが挙げられる。透明保護フィルム中の上記熱可塑性樹脂の含有量は、好ましくは５０〜１００質量％、より好ましくは５０〜９９質量％、さらに好ましくは６０〜９８質量％、特に好ましくは７０〜９７質量％である。透明保護フィルム中の上記熱可塑性樹脂の含有量が５０質量％以下の場合、熱可塑性樹脂が本来有する高透明性などが十分に発現できないおそれがある。

一般的な透明保護フィルムの水分率は、０〜７％程度であるが、本発明に係る活性化処理方法では、水分率が低い透明保護フィルム、具体的には水分率が０〜１％である透明保護フィルムの活性化処理方法として特に有用である。

本発明に係る光学フィルムの活性化処理方法について、以下に図面を参照しつつ説明する。図１は、本発明に係る光学フィルムの活性化処理方法の一実施形態を示す概略図である。図１に示す実施形態では、２本のガイドロール２１および２２の間に配されたロール１に沿って光学フィルム３を搬送しながら、ロール１の反対側から光学フィルム３の活性化処理を行う際、ロール１を冷却しながら光学フィルムの活性化処理を行う。

ロール１の冷却方法としては、例えばロール１内で、水などの冷媒を循環させつつ、通す方法が挙げられる。冷媒は水だけでなく、当業者に公知の冷媒を使用可能である。一般に、活性化処理を行う場合、ロール１の表面は放電照射に伴い発熱するため、８０〜１００℃程度まで昇温するが、本発明においてはロール１の表面温度を８０℃以下に冷却することが好ましく、５０℃以下に冷却することがより好ましく、３０℃以下に冷却することがさらに好ましい。ロール１の表面温度を冷却した場合、光学フィルム３はロール１の外周面にそって密着されながら搬送されるため、光学フィルム３の温度はロール１の表面温度と略同じになる。つまり、ロール１を冷却することで、光学フィルム３の温度も冷却されることになり、その結果、光学フィルム３上での外観欠点の発生が防止される。なお冷媒として水を通す場合、その水温は特に限定されないが、例えば２０〜３０℃程度が例示される。

活性化処理方法としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、グロー放電処理、オゾン処理およびイトロ処理が挙げられる。コロナ放電処理の場合、図１においてロール１は誘電体（アース）ロールとして作用し、処理電極４よりコロナ放電処理を行う。コロナ放電処理の中でも、５で示す外部雰囲気が大気雰囲気である大気圧コロナ放電処理が好ましい。プラズマ処理の場合、図１においてロール１は誘電体（アース）ロールとして作用し、処理電極４よりプラズマ処理を行う。プラズマ処理の中でも、５で示す外部雰囲気が大気（Ｎ_２、Ｏ_２、Ａｒなどを含む）雰囲気である大気圧プラズマ処理が好ましい。グロー放電処理の場合、図１においてロール１は誘電体（アース）ロールとして作用し、５で示す外部雰囲気が真空中にて、処理電極４よりグロー放電処理を行う。

イトロ処理の場合、図１においてロール１は搬送ロールとして作用し、５で示す大気雰囲気下にて、火炎源４よりイトロ処理を行う。オゾン処理の場合、図１においてロール１は搬送ロールとして作用し、５で示す大気雰囲気下にて、オゾン源４よりオゾン処理を行う。

活性化処理方法の中でも、接着性の向上効果と外観欠点の発生防止効果とをバランス良く向上させることができる、コロナ放電処理、プラズマ処理および／またはグロー放電処理が好ましい。コロナ放電処理、プラズマ処理および／またはグロー放電処理を採用した場合の放電量は、接着性を向上するために高放電量とすることが好ましく、具体的には１００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２以上とすることが好ましく、４００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２以上とすることがより好ましく、１０００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２以上とすることがさらに好ましい。一方、光学フィルム３上に発生する外観欠点の発生を効果的に防止するためには、活性化処理時の放電量を２０００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２以下とすることが好ましく、１５００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２以下とすることがより好ましく、１２５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２以下とすることがさらに好ましい。また、コロナ放電処理、プラズマ処理またはグロー放電処理の中でも、生産性や設備設計上の観点から、コロナ放電処理またはプラズマ処理が好ましく、更には大気圧下で処理が可能な大気圧コロナ放電処理、大気圧プラズマ処理がより好ましい。

図１では、処理電極４を用いて活性化処理を行う実施形態を示したが、図２に示すとおり、ロール１に対向する電極ロール６より照射される放電により活性化処理を行っても良い。

本発明に係る光学フィルムの製造方法は、光学フィルムの少なくとも一方の面に接着剤層を介して他の光学フィルムが積層された光学フィルムの製造方法であって、前記光学フィルムの前記接着剤層を積層する側の面に、請求項１〜４のいずれかに記載の活性化処理方法を行う活性化処理工程と、前記光学フィルムの活性化処理がされた面に、接着剤を塗工して接着剤層を積層する塗工工程と、前記接着剤層が積層された光学フィルムと他方の光学フィルムとを、前記接着剤層を介して貼り合わせる積層工程と、を有する。光学フィルムとしては、偏光子および／または透明保護フィルムが好適に使用可能であり、本発明は特に、光学フィルムが、偏光子の少なくとも一方の面に接着剤層を介して透明保護フィルムが設けられた偏光フィルムであって、偏光子および透明保護フィルムの少なくとも一方に、前記記載の活性化処理方法を行う活性化処理工程と、偏光子の活性化処理がされた面または透明保護フィルムの活性化処理がされた面に、接着剤を塗工して接着剤層を積層する塗工工程と、偏光子と透明保護フィルムとを、接着剤層を介して貼り合わせる積層工程と、を有する光学フィルム（偏光フィルム）の製造方法として有用である。

上記接着剤の塗工工程において、その塗工方式は、接着剤の粘度や目的とする厚みによって適宜に選択される。塗工方式の例として、例えば、リバースコーター、グラビアコーター（ダイレクト，リバースやオフセット）、バーリバースコーター、ロールコーター、ダイコーター、バーコーター、ロッドコーターなどがあげられる。その他、塗工には、デイッピング方式などの方式を適宜に使用することができる。

上記のように塗工した接着剤を介して、光学フィルム同士、特には偏光子と透明保護フィルムとを貼り合わせる。これらの貼り合わせは、ロールラミネーター等により行う事ができる。

前記貼り合わせ工程の後には、接着剤層を形成する。接着剤層の形成は、接着剤の種類に応じて行われる。特に本発明では、接着剤として活性エネルギー線硬化型接着剤が挙げられる。活性エネルギー線硬化型接着剤は、電子線、紫外線等の活性エネルギー線により硬化が進行する接着剤であり、例えば、電子線硬化型、紫外線硬化型の態様で用いることができる。また、活性エネルギー線硬化型接着剤として、光カチオン重合型と光ラジカル重合型とが挙げられるが、この中でも本発明では、光カチオン型が好適に使用可能である。光ラジカル重合型の活性エネルギー線硬化型接着剤を、紫外線硬化型として用いる場合には、当該接着剤は、（Ａ）ラジカル重合性化合物および（Ｂ）光ラジカル発生剤を含有する。

≪（Ａ）ラジカル重合性化合物≫
（Ａ）ラジカル重合性化合物は、少なくとも１個以上の炭素−炭素二重結合を含むビニル基、（メタ）アクリロイル基などを有する化合物であれば、特に限定なく使用可能である。本発明においては、（Ａ）ラジカル重合性化合物の中でも、下記一般式（１）：
ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^１）−ＣＯＮＨ_２−ｍ−（Ｘ−Ｏ−Ｒ^２）_ｍ （１）
（Ｒ^１は水素原子またはメチル基を示し、Ｘは−ＣＨ_２−基または−ＣＨ_２ＣＨ_２−基を示し、Ｒ^２は−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｈ基（ただし、ｎは０，１または２）を示し、ｍは１または２を示す）で表されるＮ−置換アミド系モノマーが好ましい。

上記一般式（１）で表されるＮ−置換アミド系モノマーの具体例としては、例えば、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキシエチル（メタ）アクリルアミドなどが挙げられる。これらＮ−置換アミド系モノマーは１種を単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。

上記一般式（１）で表されるＮ−置換アミド系モノマーとしては、市販品も好適に使用可能である。具体的には例えば、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド（商品名「ＨＥＡＡ」、興人社製）、Ｎ−メトキシメチルアクリルアミド（商品名「ＮＭＭＡ」、ＭＲＣユニテック社製）、Ｎ−ブトキシメチルアクリルアミド（商品名「ＮＢＭＡ」、ＭＲＣユニテック社製）、Ｎ−メトキシメチルメタクリルアミド（商品名「ワスマー２ＭＡ」、笠野興産社製）などが挙げられる。

上記一般式（１）で表されるＮ−置換アミド系モノマーとしては、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミドが好適である。Ｎ−置換アミド系モノマーは、低水分率の偏光子や、透湿度の低い材料を用いた透明保護フィルムに対しても、良好な接着性を示すが、上記で例示のモノマーの中でも、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミドは特に良好な接着性を示す。

前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、（Ａ）ラジカル重合性化合物として、上記一般式（１）で表される以外のＮ−置換アミド系モノマー、各種の芳香環およびヒドロキシ基を有する単官能の（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、各種の（メタ）アクリロイル基を有する化合物などを含有してもよい。但し、接着剤層の接着性および耐水性を考慮した場合、（Ａ）ラジカル重合性化合物の合計量に対する上記一般式（１）で表されるＮ−置換アミド系モノマーの割合が、５０〜９９質量％であることが好ましく、６０〜９０質量％であることがより好ましい。

上記一般式（１）で表される以外のＮ−置換アミド系モノマーとしては、例えば、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヘキシル（メタ）アクリルアミド、アミノメチル（メタ）アクリルアミド、アミノエチル（メタ）アクリルアミド、メルカアプトメチル（メタ）アクリルアミド、メルカプトエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルホリン、Ｎ−アクリロイルピペリジン、Ｎ−メタクリロイルピペリジン、Ｎ−アクリロイルピロリジンなどが挙げられる。

芳香環およびヒドロキシ基を有する単官能の（メタ）アクリレートは、芳香環およびヒドロキシ基を有する、各種の単官能の（メタ）アクリレートを用いることができる。ヒドロキシ基は、芳香環の置換基として存在してもよいが、本発明では、芳香環と（メタ）アクリレートとを結合する有機基（炭化水素基、特に、アルキレン基に結合したもの）として存在するものが好ましい。

上記芳香環およびヒドロキシ基を有する単官能の（メタ）アクリレートとしては、例えば、芳香環を有する単官能のエポキシ化合物と、（メタ）アクリル酸との反応物が挙げられる。芳香環を有する単官能のエポキシ化合物としては、例えば、フェニルグリシジルエーテル、ｔ‐ブチルフェニルグリシジルエーテル、フェニルポリエチレングリコールグリシジルエーテルなどが挙げられる。芳香環およびヒドロキシ基を有する単官能の（メタ）アクリレートの、具体例としては、例えば、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルポリエチレングリコールプロピル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。

また上記ウレタン（メタ）アクリレートとしては、イソシアネート基を有する（メタ）アクリレートと、ポリウレタンジオール、ポリエステルジオール、ポリエーテルジオールやポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのポリアルキレングリコールなどのジオール化合物の片末端のヒドロキシル基との反応物などが挙げられる。

（メタ）アクリロイル基を有する化合物としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレートなどの炭素数は１〜１２のアルキル（メタ）アクリレート；（メタ）アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸エトキシエチルなどの（メタ）アクリル酸アルコキシアルキル系モノマー；（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸１０−ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸１２−ヒドロキシラウリルや（４−ヒドロキシメチルシクロヘキシル）−メチルアクリレートなどのヒドロキシル基含有モノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸などの酸無水物基含有モノマー；アクリル酸のカプロラクトン付加物；スチレンスルホン酸やアリルスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、（メタ）アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸などのスルホン酸基含有モノマー；２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェートなどの燐酸基含有モノマーなどが挙げられる。また、（メタ）アクリルアミド；マレイミド、Ｎ−シクロへキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミドなど；（メタ）アクリル酸アミノエチル、（メタ）アクリル酸アミノプロピル、（メタ）アクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルアミノエチル、３−（３−ピリニジル）プロピル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸アルキルアミノアルキル系モノマー；Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシメチレンスクシンイミドやＮ−（メタ）アクリロイル−６−オキシヘキサメチレンスクシンイミド、Ｎ−（メタ）アクリロイル−８−オキシオクタメチレンスクシンイミドなどのスクシンイミド系モノマーなどの窒素含有モノマーが挙げられる。

前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、（Ａ）ラジカル重合性化合物として、さらに、（Ｃ）２個以上の炭素−炭素二重結合を有するモノマー、特に好ましくは多官能（メタ）アクリレート系モノマーを含有する場合、接着剤層の耐水性が向上するため好ましい。接着剤層の耐水性を考慮した場合、２個以上の炭素−炭素二重結合を有するモノマーは疎水性であることがより好ましい。疎水性の２個以上の炭素−炭素二重結合を有するモノマー、特に疎水性の多官能（メタ）アクリレート系モノマーとしては、例えばトリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ジビニルベンゼン、Ｎ，Ｎ’−メチレンビスアクリルアミド、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールグリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性グリセリントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル、ビスフェノールＡ−ＥＯ付加物ジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコール（メタ）アクリル酸付加物、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、ε−カプロラクトン変性トリス（（メタ）アクロキシエチル）イソシアヌレート、１，１−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートと１，６−ジイソシアネートヘキサンとの重合物、９，９−ビス［４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレンなどが挙げられる。

（Ａ）ラジカル重合性化合物の合計量に対する２個以上の炭素−炭素二重結合を有するモノマーの割合が、５〜５０質量％であることが好ましく、９〜４０質量％であることがより好ましい。この割合が５質量％未満である場合、十分な耐水性を得られない場合があり、一方、５０質量％を超える場合には、十分な接着性を得られない場合がある。

≪（Ｂ）光ラジカル発生剤≫
（Ｂ）光ラジカル発生剤は、活性エネルギー線を照射することによりラジカルを発生する。（Ｂ）光ラジカル発生剤としては、水素引き抜き型光ラジカル発生剤と開裂型光ラジカル発生剤とが挙げられる。

水素引き抜き型光ラジカル発生剤としては、例えば１−メチルナフタレン、２−メチルナフタレン、１−フルオロナフタレン、１−クロロナフタレン、２−クロロナフタレン、１−ブロモナフタレン、２−ブロモナフタレン、１−ヨードナフタレン、２−ヨードナフタレン、１−ナフトール、２−ナフトール、１−メトキシナフタレン、２−メトキシナフタレン、１，４−ジシアノナフタレンなどのナフタレン誘導体、アントラセン、１，２−ベンズアントラセン、９，１０−ジクロロアントラセン、９，１０−ジブロモアントラセン、９，１０−ジフェニルアントラセン、９−シアノアントラセン、９，１０−ジシアノアントラセン、２，６，９，１０−テトラシアノアントラセンなどのアントラセン誘導体、ピレン誘導体、カルバゾール、９−メチルカルバゾール、９−フェニルカルバゾール、９−プロペ−２−イニル−９Ｈ−カルバゾール、９−プロピル−９Ｈ−カルバゾール、９−ビニルカルバゾール、９Ｈ−カルバゾール−９−エタノール、９−メチル−３−ニトロ−９Ｈ−カルバゾール、９−メチル−３，６−ジニトロ−９Ｈ−カルバゾール、９−オクタノイルカルバゾール、９−カルバゾールメタノール、９−カルバゾールプロピオン酸、９−カルバゾールプロピオニトリル、９−エチル−３，６−ジニトロ−９Ｈ−カルバゾール、９−エチル−３−ニトロカルバゾール、９−エチルカルバゾール、９−イソプロピルカルバゾール、９−（エトキシカルボニルメチル）カルバゾール、９−（モルホリノメチル）カルバゾール、９−アセチルカルバゾール、９−アリルカルバゾール、９−ベンジル−９Ｈ−カルバゾール、９−カルバゾール酢酸、９−（２−ニトロフェニル）カルバゾール、９−（４−メトキシフェニル）カルバゾール、９−（１−エトキシ−２−メチル−プロピル）−９Ｈ−カルバゾール、３−ニトロカルバゾール、４−ヒドロキシカルバゾール、３，６−ジニトロ−９Ｈ−カルバゾール、３，６−ジフェニル−９Ｈ−カルバゾール、２−ヒドロキシカルバゾール、３，６−ジアセチル−９−エチルカルバゾールなどのカルバゾール誘導体、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメトキシ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−ベンゾイル安息香酸メチルエステル、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノンなどのベンゾフェノン誘導体、芳香族カルボニル化合物、［４−（４−メチルフェニルチオ）フェニル］−フェニルメタノン、キサントン、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、４−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントンなどのチオキサントン誘導体やクマリン誘導体などが挙げられる。

開裂型光ラジカル発生剤は、活性エネルギー線を照射することにより当該化合物が開裂してラジカルを発生するタイプの光ラジカル発生剤であり、その具体例として、ベンゾインエーテル誘導体、アセトフェノン誘導体などのアリールアルキルケトン類、オキシムケトン類、アシルホスフィンオキシド類、チオ安息香酸Ｓ−フェニル類、チタノセン類、およびそれらを高分子量化した誘導体が挙げられるがこれに限定されるものではない。市販されている開裂型光ラジカル発生剤としては、１−（４−ドデシルベンゾイル）−１−ヒドロキシ−１−メチルエタン、１−（４−イソプロピルベンゾイル）−１−ヒドロキシ−１−メチルエタン、１−ベンゾイル−１−ヒドロキシ−１−メチルエタン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−ベンゾイル］−１−ヒドロキシ−１−メチルエタン、１−［４−（アクリロイルオキシエトキシ）−ベンゾイル］−１−ヒドロキシ−１−メチルエタン、ジフェニルケトン、フェニル−１−ヒドロキシ−シクロヘキシルケトン、ベンジルジメチルケタール、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−ピリル−フェニル）チタン、（η６−イソプロピルベンゼン）−（η５−シクロペンタジエニル）−鉄（ＩＩ）ヘキサフルオロホスフェート、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシ−ベンゾイル）−（２，４，４−トリメチル−ペンチル）−ホスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−２，４−ジペントキシフェニルホスフィンオキシドまたはビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニル−ホスフィンオキシド、（４−モルホリノベンゾイル）−１−ベンジル−１−ジメチルアミノプロパン、４−（メチルチオベンゾイル）−１−メチル−１−モルホリノエタンなどが挙げられるがこれに限定されるものではない。

（Ｂ）光ラジカル発生剤、すなわち水素引き抜き型または開裂型光ラジカル発生剤は、いずれもそれぞれ単独で用いることができる他、複数を組み合わせて用いても良いが、光ラジカル発生剤単体の安定性や、本発明における組成物の硬化性の面でより好ましいものは開裂型光ラジカル発生剤の１種以上の組み合わせである。開裂型光ラジカル発生剤の中でもアシルホスフィンオキシド類が好ましく、より具体的には、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド（商品名「ＤＡＲＯＣＵＲＥ ＴＰＯ」；チバ・ジャパン社製）、ビス（２，６−ジメトキシ−ベンゾイル）−（２，４，４−トリメチル−ペンチル）−ホスフィンオキシド（商品名「ＣＧＩ ４０３」；チバ・ジャパン社製）、またはビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−２，４−ジペントキシフェニルホスフィンオキシド（商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９」；チバ・ジャパン社製）が好ましい。

（Ｂ）光ラジカル発生剤の含有量は、活性エネルギー線硬化型接着剤の合計量に対して、０．０１〜１０質量部であることが好ましく、０．０５〜５質量部であることがより好ましく、０．１〜３質量部であることが特に好ましい。

また、本発明に係る活性エネルギー線硬化型接着剤を、電子線硬化型で用いる場合には、前記接着剤は、上記（Ｂ）光ラジカル発生剤は任意に用いることができる。また、カルボニル化合物などで代表される電子線による硬化速度や感度を上がる増感剤を添加してもよい。

増感剤としては、例えば、アントラセン、フェノチアゼン、ぺリレン、チオキサントン、ベンゾフェノンチオキサントンなどが挙げられる。更に、増感色素としては、チオピリリウム塩系色素、メロシアニン系色素、キノリン系色素、スチリルキノリン系色素、ケトクマリン系色素、チオキサンテン系色素、キサンテン系色素、オキソノール系色素、シアニン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム塩系色素などが例示される。

具体的なアントラセンの化合物としては、ジブトキシアントラセン、ジプロポキシアントラキノン（川崎化成社製 Ａｎｔｈｒａｃｕｒｅ ＵＶＳ−１３３１、１２２１）などが有効である。

増感剤を添加する場合、その含有量は、活性エネルギー線硬化型接着剤全量に対して、０．０１〜２０質量部であることが好ましく、０．０１〜１０質量部であることがより好ましく、０．１〜３質量部であることが特に好ましい。

また、前記活性エネルギー線硬化型接着剤には、本発明の目的、効果を損なわない範囲において、その他の任意成分として各種の添加剤を配合することができる。かかる添加剤としては、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン、ポリブタジエン、ポリクロロプレン、ポリエーテル、ポリエステル、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、セルロース樹脂、フッ素系オリゴマー、シリコーン系オリゴマー、ポリスルフィド系オリゴマーなどのポリマーあるいはオリゴマー；フェノチアジン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノールなどの重合禁止剤；重合開始助剤；レベリング剤；濡れ性改良剤；界面活性剤；可塑剤；紫外線吸収剤；シランカップリング剤；無機充填剤；顔料；染料などを挙げることができる。ただし、活性エネルギー線硬化型接着剤中、上述した添加剤の含有量は、活性エネルギー線硬化型接着剤全量に対して０．００５〜２０質量部であることが好ましく、０．０１〜１０質量部であることがより好ましく、０．１〜５質量部であることが特に好ましい。

前記活性エネルギー線硬化型接着剤の粘度は、１０〜３００ｃｐｓ（２５℃）であることが好ましく、さらには２０〜３００ｃｐｓ（２５℃）が好ましく、さらには４０〜１５０ｃｐｓ（２５℃）が好ましい。粘度が１０ｃｐｓ以下では、粘度が低くなりすぎて、塗工した接着剤がフィルム（片保護偏光フィルム）の裏側に回ったり、接着剤層の厚みの設計が難しくなる。また、粘度が３００ｃｐｓを超えると、粘度が高くなりすぎて、ラインスピードを上げると、接着剤の塗工を十分にできなかったり、塗工スジが出やすくなったりして生産性の点で好ましくない。

光学フィルムが、偏光子および透明保護フィルムが接着剤層を介して積層された偏光フィルムである場合、偏光子と透明保護フィルムの貼り合わせにあたって、透明保護フィルムと接着剤層の間には、易接着層を設けることができる。易接着層は、例えば、ポリエステル骨格、ポリエーテル骨格、ポリカーボネート骨格、ポリウレタン骨格、シリコーン系、ポリアミド骨格、ポリイミド骨格、ポリビニルアルコール骨格などを有する各種樹脂により形成することができる。これらポリマー樹脂は１種を単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。また易接着層の形成には他の添加剤を加えてもよい。具体的にはさらには粘着付与剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、耐熱安定剤などの安定剤などを用いてもよい。

易接着層は、通常、透明保護フィルムに予め設けておき、当該透明保護フィルムの易接着層側と偏光子とを接着剤層により貼り合わせる。易接着層の形成は、易接着層の形成材を透明保護フィルム上に、公知の技術により塗工、乾燥することにより行われる。易接着層の形成材は、乾燥後の厚み、塗工の円滑性などを考慮して適当な濃度に希釈した溶液として、通常調整される。易接着層は乾燥後の厚みは、好ましくは０．０１〜５μｍ、さらに好ましくは０．０２〜２μｍ、さらに好ましくは０．０５〜１μｍである。なお、易接着層は複数層設けることができるが、この場合にも、易接着層の総厚みは上記範囲になるようにするのが好ましい。

偏光フィルムを連続ラインで製造する場合、ライン速度は、接着剤の硬化時間によるが、好ましくは１〜５００ｍ／ｍｉｎ、より好ましくは５〜３００ｍ／ｍｉｎ、さらに好ましくは１０〜１００ｍ／ｍｉｎである。ライン速度が小さすぎる場合は、生産性が乏しい、または透明保護フィルムへのダメージが大きすぎ、耐久性試験などに耐えうる偏光フィルムが作製できない。ライン速度が大きすぎる場合は、接着剤の硬化が不十分となり、目的とする接着性が得られない場合がある。

上記のようにして偏光子の少なくとも片面に透明保護フィルムを有する偏光フィルムが得られるが、前記透明保護フィルムの偏光子を接着させない面には、ハードコート層、反射防止層、スティッキング防止層、拡散層ないしアンチグレア層などの機能層を設けることができる。なお、上記ハードコート層、反射防止層、スティッキング防止層、拡散層やアンチグレア層などの機能層は、透明保護フィルムそのものに設けることができるほか、別途、透明保護フィルムとは別体のものとして設けることもできる。

光学フィルムの一種である偏光フィルムは、実用に際して他の光学層と積層した光学フィルムとして用いることができる。その光学層については特に限定はないが、例えば反射板や半透過板、位相差板（１／２や１／４などの波長板を含む）、視角補償フィルムなどの液晶表示装置などの形成に用いられることのある光学層を１層または２層以上用いることができる。特に、偏光フィルムとしては、更に反射板または半透過反射板が積層されてなる反射型偏光フィルムまたは半透過型偏光フィルム、偏光フィルムに更に位相差板が積層されてなる楕円偏光フィルムまたは円偏光フィルム、偏光フィルムに更に視角補償フィルムが積層されてなる広視野角偏光フィルム、あるいは偏光フィルムに更に輝度向上フィルムが積層されてなる偏光フィルムが好ましい。

偏光フィルムに上記光学層を積層した光学フィルムは、液晶表示装置などの製造過程で順次別個に積層する方式にても形成することができるが、予め積層して光学フィルムとしたものは、品質の安定性や組立作業などに優れていて液晶表示装置などの製造工程を向上させうる利点がある。積層には粘着層などの適宜な接着手段を用いうる。上記の偏光フィルムやその他の光学フィルムの接着に際し、それらの光学軸は目的とする位相差特性などに応じて適宜な配置角度とすることができる。

前述した偏光フィルムや、偏光フィルムを少なくとも１層積層されている光学フィルムには、液晶セルなどの他部材と接着するための粘着層を設けることもできる。粘着層を形成する粘着剤は特に制限されないが、例えばアクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエーテル、フッ素系やゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。特に、アクリル系粘着剤の如く光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性などに優れるものが好ましく用いうる。

粘着層は、異なる組成又は種類などのものの重畳層として偏光フィルムや光学フィルムの片面又は両面に設けることもできる。また両面に設ける場合に、偏光フィルムや光学フィルムの表裏において異なる組成や種類や厚さなどの粘着層とすることもできる。粘着層の厚さは、使用目的や接着力などに応じて適宜に決定でき、一般には１〜５００μｍであり、１〜２００μｍが好ましく、特に１〜１００μｍが好ましい。

粘着層の露出面に対しては、実用に供するまでの間、その汚染防止などを目的にセパレータが仮着されてカバーされる。これにより、通例の取扱状態で粘着層に接触することを防止できる。セパレータとしては、上記厚さ条件を除き、例えばプラスチックフィルム、ゴムシート、紙、布、不織布、ネット、発泡シートや金属箔、それらのラミネート体などの適宜な薄葉体を、必要に応じシリコーン系や長鎖アルキル系、フッ素系や硫化モリブデンなどの適宜な剥離剤でコート処理したものなどの、従来に準じた適宜なものを用いうる。

偏光フィルムまたは光学フィルムは液晶表示装置などの各種装置の形成などに好ましく用いることができる。液晶表示装置の形成は、従来に準じて行いうる。すなわち液晶表示装置は一般に、液晶セルと偏光フィルムまたは光学フィルム、及び必要に応じての照明システムなどの構成部品を適宜に組立てて駆動回路を組込むことなどにより形成されるが、本発明においては本発明による偏光フィルムまたは光学フィルムを用いる点を除いて特に限定はなく、従来に準じうる。液晶セルについても、例えばＴＮ型やＳＴＮ型、π型などの任意なタイプのものを用いうる。

液晶セルの片側又は両側に偏光フィルムまたは光学フィルムを配置した液晶表示装置や、照明システムにバックライトあるいは反射板を用いたものなどの適宜な液晶表示装置を形成することができる。その場合、本発明による偏光フィルムまたは光学フィルムは液晶セルの片側又は両側に設置することができる。両側に偏光フィルムまたは光学フィルムを設ける場合、それらは同じものであってもよいし、異なるものであってもよい。さらに、液晶表示装置の形成に際しては、例えば拡散板、アンチグレア層、反射防止膜、保護板、プリズムアレイ、レンズアレイシート、光拡散板、バックライトなどの適宜な部品を適宜な位置に１層又は２層以上配置することができる。

以下に、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。なお、各例中の部および％はいずれも重量基準である。

＜偏光フィルムの作製＞
薄型偏光膜を作製するため、まず、非晶性ＰＥＴ基材に９μｍ厚のＰＶＡ層が製膜された積層体を延伸温度１３０℃の空中補助延伸によって延伸積層体を生成し、次に、延伸積層体を染色によって着色積層体を生成し、さらに着色積層体を延伸温度６５度のホウ酸水中延伸によって総延伸倍率が５．９倍になるように非晶性ＰＥＴ基材と一体に延伸された４μｍ厚のＰＶＡ層を含む光学フィルム積層体を生成した。このような２段延伸によって非晶性ＰＥＴ基材に製膜されたＰＶＡ層のＰＶＡ分子が高次に配向され、染色によって吸着されたヨウ素がポリヨウ素イオン錯体として一方向に高次に配向された高機能偏光膜を構成する、厚さ４μｍのＰＶＡ層を含む光学フィルム積層体を生成することができた。かかるＰＶＡ層（薄型偏光子）の水分率は乾燥後１時間内で１．７％であった。

厚さ４μｍのＰＶＡ層を含む光学フィルム積層体と、補償板としてのゼオノアフィルム（厚さ６０μｍ、日本ゼオン社製）とを、活性エネルギー線硬化型接着剤組成物（ヒドキシエチルアクリルアミド（ＨＥＡＡ）−５０部、アクリロイルモルフォリン（ＡＣＭＯ）−４０部、ニューフロンティアＰＧＡ−１０部、重合開始剤としてイルガキュア９０７−２部、光増感剤としてジエチルチオキサントン（ＤＥＴＸ）−０．９部）を硬化することにより得られた接着剤層を介して接着した後、非晶性ＰＥＴ基材を剥離して、補償板上に薄型偏光子が積層された光学フィルムを製造した。

実施例１
図１に示す装置を使用し、薄型偏光子が表面側（補償板がアースロール１に接する面側）となるように積層された光学フィルム３を使用し、アースロール１の外周面に沿って光学フィルム３を密着させながら搬送しつつ、処理電極４を使用してコロナ放電処理を行った。アースロール１は、表面温度が２５℃に冷却され、コロナ放電時の放電量は（２５０）Ｗ／ｍ^２であった。

実施例２〜５
コロナ放電処理時の放電処理量を表１に記載の量に変更した以外は、実施例１と同様の方法により活性化処理を行った。

実施例６
コロナ放電処理を大気圧プラズマ処理（放電量２５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２）に変更した以外は、実施例１と同様の方法により活性化処理を行った。

コロナ放電処理を行う際、アースロール１を冷却しなかったこと以外は、実施例１と同様の方法により活性化処理を行った。

実施例１〜６、比較例１の活性化処理方法により活性化処理された光学フィルムの表面に発生した外観特性を、以下の方法により測定した。結果を表１に示す。

＜外観特性の評価方法＞
外観観察 実施例１〜６、比較例１の活性化処理された面の光学フィルム表面を目視により観察した。１ｍ^２当たりにひとつでも欠点のある場合を×とし、それらの結果を表１に示した。

＜接着特性の評価方法＞
強制剥離した場合に、接着剤と光学フィルムとの間で剥離していない状態を○とし、接着剤と光学フィルムとの界面で剥離している状態を×とした。

表１の結果から、実施例１〜６に係る活性化処理方法が実施された光学フィルムでは、接着特性が良好であり、かつ外観欠点が殆ど発生せず、外観特性が良好であることがわかる。一方、比較例１に係る活性化処理方法が実施された光学フィルムでは、外観欠点が多く発生し、外観特性が悪化することがわかる。

Claims (8)

1. ロールに沿って、偏光子が表面側に積層された光学フィルムを搬送し、前記ロールの反対側から偏光子の活性化処理を行う方法であって、
   前記偏光子は、水分率が０〜１０％のものであり、
   前記ロールを冷却しながら活性化処理を行い、
   前記活性化処理が、コロナ放電処理、プラズマ処理、グロー放電処理、オゾン処理およびイトロ処理の少なくとも１種であることを特徴とする偏光子の活性化処理方法。
2. 前記偏光子は、水分率が１〜５％のものである請求項１に記載の偏光子の活性化処理方法。
3. 前記偏光子は、水分率が１〜３％のものである請求項１に記載の偏光子の活性化処理方法。
4. 前記活性化処理の放電量が、１００〜２０００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２である請求項１〜３のいずれかに記載の偏光子の活性化処理方法。
5. 前記ロールに冷媒を通すことで、前記ロールを冷却するものである請求項１〜４のいずれかに記載の偏光子の活性化処理方法。
6. 光学フィルムの少なくとも一方の面に接着剤層を介して他の光学フィルムが積層された光学フィルムの製造方法であって、
   前記光学フィルムが、偏光子の少なくとも一方の面に接着剤層を介して透明保護フィルムが設けられた偏光フィルムであって、
   前記偏光子は、水分率が０〜１０％のものであり、
   前記偏光子に、請求項１〜５のいずれかに記載の活性化処理方法を行う活性化処理工程を有することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
7. 前記偏光子は、水分率が１〜５％のものである請求項６に記載の光学フィルムの製造方法。
8. 前記偏光子は、水分率が１〜３％のものである請求項６に記載の光学フィルムの製造方法。
   

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