JP6562470B2 - COMPOUND, COLOR MATERIAL COMPOSITION CONTAINING THE SAME AND RESIN COMPOSITION CONTAINING THE SAME {COMPUND, COLORANT COMPOSION COMPRISING THE SAME AND RESIN COMPOSITION COMPRISING THE SAME} - Google Patents

COMPOUND, COLOR MATERIAL COMPOSITION CONTAINING THE SAME AND RESIN COMPOSITION CONTAINING THE SAME {COMPUND, COLORANT COMPOSION COMPRISING THE SAME AND RESIN COMPOSITION COMPRISING THE SAME} Download PDF

Info

Publication number
JP6562470B2
JP6562470B2 JP2017093431A JP2017093431A JP6562470B2 JP 6562470 B2 JP6562470 B2 JP 6562470B2 JP 2017093431 A JP2017093431 A JP 2017093431A JP 2017093431 A JP2017093431 A JP 2017093431A JP 6562470 B2 JP6562470 B2 JP 6562470B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
substituted
unsubstituted
same
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017093431A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2017203161A (en
Inventor
パク、ジョンホ
リ、ダミ
Original Assignee
エルジー・ケム・リミテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by エルジー・ケム・リミテッド filed Critical エルジー・ケム・リミテッド
Publication of JP2017203161A publication Critical patent/JP2017203161A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6562470B2 publication Critical patent/JP6562470B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C211/00Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
    • C07C211/62Quaternary ammonium compounds
    • C07C211/64Quaternary ammonium compounds having quaternised nitrogen atoms bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C251/00Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
    • C07C251/02Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton containing imino groups
    • C07C251/20Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton containing imino groups having carbon atoms of imino groups being part of rings other than six-membered aromatic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C219/00Compounds containing amino and esterified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C219/02Compounds containing amino and esterified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having esterified hydroxy groups and amino groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton
    • C07C219/04Compounds containing amino and esterified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having esterified hydroxy groups and amino groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated
    • C07C219/06Compounds containing amino and esterified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having esterified hydroxy groups and amino groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated having the hydroxy groups esterified by carboxylic acids having the esterifying carboxyl groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C311/00Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C311/48Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of sulfonamide groups further bound to another hetero atom
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C65/00Compounds having carboxyl groups bound to carbon atoms of six—membered aromatic rings and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups
    • C07C65/01Compounds having carboxyl groups bound to carbon atoms of six—membered aromatic rings and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups containing hydroxy or O-metal groups
    • C07C65/03Compounds having carboxyl groups bound to carbon atoms of six—membered aromatic rings and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups containing hydroxy or O-metal groups monocyclic and having all hydroxy or O-metal groups bound to the ring
    • C07C65/05Compounds having carboxyl groups bound to carbon atoms of six—membered aromatic rings and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups containing hydroxy or O-metal groups monocyclic and having all hydroxy or O-metal groups bound to the ring o-Hydroxy carboxylic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D303/00Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D303/02Compounds containing oxirane rings
    • C07D303/36Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by nitrogen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D305/00Heterocyclic compounds containing four-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atoms
    • C07D305/02Heterocyclic compounds containing four-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
    • C07D305/04Heterocyclic compounds containing four-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atoms not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D305/06Heterocyclic compounds containing four-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atoms not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to the ring atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B11/00Diaryl- or thriarylmethane dyes
    • C09B11/04Diaryl- or thriarylmethane dyes derived from triarylmethanes, i.e. central C-atom is substituted by amino, cyano, alkyl
    • C09B11/10Amino derivatives of triarylmethanes
    • C09B11/12Amino derivatives of triarylmethanes without any OH group bound to an aryl nucleus
    • C09B11/16Preparation from diarylketones or diarylcarbinols, e.g. benzhydrol
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B11/00Diaryl- or thriarylmethane dyes
    • C09B11/04Diaryl- or thriarylmethane dyes derived from triarylmethanes, i.e. central C-atom is substituted by amino, cyano, alkyl
    • C09B11/10Amino derivatives of triarylmethanes
    • C09B11/12Amino derivatives of triarylmethanes without any OH group bound to an aryl nucleus
    • C09B11/20Preparation from other triarylmethane derivatives, e.g. by substitution, by replacement of substituents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B57/00Other synthetic dyes of known constitution
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B69/00Dyes not provided for by a single group of this subclass
    • C09B69/02Dyestuff salts, e.g. salts of acid dyes with basic dyes
    • C09B69/06Dyestuff salts, e.g. salts of acid dyes with basic dyes of cationic dyes with organic acids or with inorganic complex acids
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0048Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

本明細書は、新規な化合物、これを含む色材組成物及びこれを含む樹脂組成物に関する。   The present specification relates to a novel compound, a colorant composition containing the same, and a resin composition containing the same.

近年、液晶ディスプレイ(LCD)の光源として、既存のCCFLの代わりにLED又はOLED、QDなどの素子が多く用いられている。ところが、薄膜ディスプレイ及びフレキシブルディスプレイなどを作製するためにカラーフィルターが除去された、すなわちLED又はOLED、QDなどの自発光を単位ピクセルとして用いるディスプレイ製品が開発及び生産されている。   In recent years, as a light source of a liquid crystal display (LCD), an element such as an LED, an OLED, or a QD is often used instead of the existing CCFL. However, display products have been developed and produced from which color filters have been removed in order to produce thin film displays, flexible displays, and the like, that is, LEDs, OLEDs, QDs, and other self-luminous elements are used as unit pixels.

しかしながら、LED、OLED、QDなどを単位ピクセルとして用いたディスプレイの場合、大面積化が困難であって、LED、OLED、QDなどを使用する場合にも、これらを光源として含み、カラーフィルターを含むディスプレイを開発するためにも多くの努力をしている。   However, in the case of a display using LED, OLED, QD, etc. as a unit pixel, it is difficult to increase the area, and even when using LED, OLED, QD, etc., these are included as a light source, and a color filter is included. Much effort has been made to develop displays.

所望の色を具現するためには、光源と適切なカラーフィルターが要求され、現在、顔料を着色剤として使用した顔料分散法が一般に適用されている。   In order to realize a desired color, a light source and an appropriate color filter are required. Currently, a pigment dispersion method using a pigment as a colorant is generally applied.

しかしながら、顔料分散液の場合、顔料が粒子状態で存在して光を散乱させるだけでなく、顔料の微細化によって顔料の表面積が急激に増加し、これによる分散安定性の悪化で不均一な顔料粒子が生成するようになる。   However, in the case of a pigment dispersion, not only does the pigment exist in the form of particles and scatters light, but also the surface area of the pigment increases rapidly due to the finer pigment, resulting in poor dispersion stability and uneven pigment. Particles are generated.

したがって、最近要求されている高輝度、高コントラスト、高精細化などの高い品質要求条件を満足させにくい限界に達したものと認識されている。   Therefore, it is recognized that the limit that is difficult to satisfy the high quality requirements such as high brightness, high contrast, and high definition that have recently been demanded is recognized.

かかる問題点を解決して、高輝度、高コントラスト及び高解像度を達成すべく、最近、着色剤として顔料の代わりに染料を使用することが検討されてきている。その中で、青色着色剤としてトリアリールメタン染料を用いた試みが多く行われてきた。一般に、トリアリールメタン染料は、420から450nmに透過度が高くて色特性には効果的であるが、顔料より高い溶解度のため耐化学性の低下と、顔料より低い耐熱性のためカラーフィルターで制限的に使用されてきた。   In order to solve such problems and achieve high brightness, high contrast and high resolution, recently, the use of a dye instead of a pigment as a colorant has been studied. Among them, many attempts have been made using triarylmethane dyes as blue colorants. In general, triarylmethane dyes have a high transmittance from 420 to 450 nm and are effective for color characteristics. However, the triarylmethane dye has a lower chemical resistance due to its higher solubility than a pigment and a color filter due to its lower heat resistance than a pigment. Has been used restrictively.

韓国公開特許第2001−0009058号公報Korean Published Patent No. 2001-0009058 韓国公開特許第2013−0130976号公報Korean Published Patent No. 2013-0130976

本明細書は、新規な化合物、これを含む色材組成物及びこれを含む樹脂組成物を提供する。   The present specification provides a novel compound, a coloring material composition containing the same, and a resin composition containing the same.

本明細書の一実施態様によれば、下記化学式1で表される化合物を提供する。
[化1]
上記化学式1において、
Aは、下記化学式A−1又はA−2で表され、
[化A−1]
[化A−2]
R1からR6のうち少なくとも一つは、下記化学式aで表される構造であり、残りは、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素;−R(C=O)R';−RO(C=O)R';−ROR';
置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のアルケニル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;置換もしくは非置換のアリール基;又は架橋性基であるか、上記R1とR2;R3とR4;及びR5とR6のうち少なくとも一つは、互いに結合して、置換もしくは非置換の環を形成することができ、
R7からR22は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素;ハロゲン;ヒドロキシ基;置換もしくは非置換のアルコキシ基;又は置換もしくは非置換のアルキル基であり、
R及びR''は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、直接結合;置換もしくは非置換のアルキレン基;又は置換もしくは非置換のアリーレン基であり、
R'及びR'''は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のアルケニル基;又は置換もしくは非置換のアリール基であり、
は、アニオン性基であり、
[化a]
上記化学式aにおいて、
Qは、−R101C(=O)R102−;−R103OC(=O)R104−;−R105C(=O)OR106−;−R107OC(=O)OR108−;
−SOOR115−;−SOR116−;−SR117−;置換もしくは非置換のアルキレン基;又は置換もしくは非置換のアルケニレン基であり、
Xは、ヒドロキシ基;アミン基;−OCOOR118;−CONR119R120;又は−NR121COOR122であり、
Tは、置換もしくは非置換のアルキル基であり、
R101からR109、R111、R112及びR114からR117は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、直接結合;置換もしくは非置換のアルキレン基;置換もしくは非置換のシクロアルキレン基;又は置換もしくは非置換のアルケニレン基であり、
R110、R113及びR118からR122は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素;又は置換もしくは非置換のアルキル基であり、
p及びqは、それぞれ1から4の整数であり、
2≦p+q≦5であり、
p及びqがそれぞれ2以上である場合、2以上の括弧内の構造は、互いに同一であるか異なっており、
*は、化学式1のNに連結される部位であり、
は、上記化学式1に連結される部位である。
According to one embodiment of the present specification, a compound represented by the following Chemical Formula 1 is provided.
[Chemical 1]
In the above chemical formula 1,
A is represented by the following chemical formula A-1 or A-2,
[Chemical A-1]
[Chemical A-2]
At least one of R1 to R6 is a structure represented by the following chemical formula a, and the rest are the same or different from each other, and each independently represents hydrogen; —R (C═O) R ′; -RO (C = O) R ';-ROR';
A substituted or unsubstituted alkyl group; a substituted or unsubstituted alkenyl group; a substituted or unsubstituted cycloalkyl group; a substituted or unsubstituted aryl group; or a crosslinkable group, R1 and R2 above; R3 and R4; And at least one of R5 and R6 can be bonded to each other to form a substituted or unsubstituted ring;
R7 to R22 are the same as or different from each other, and each independently represents hydrogen; a halogen; a hydroxy group; a substituted or unsubstituted alkoxy group; or a substituted or unsubstituted alkyl group;
R and R ″ are the same or different from each other, and each independently represents a direct bond; a substituted or unsubstituted alkylene group; or a substituted or unsubstituted arylene group;
R ′ and R ′ ″ are the same or different from each other, and each independently represents hydrogen; a substituted or unsubstituted alkyl group; a substituted or unsubstituted alkenyl group; or a substituted or unsubstituted aryl group. Yes,
Z is an anionic group,
[Chemical a]
In the above chemical formula a,
Q is -R101C (= O) R102-; -R103OC (= O) R104-; -R105C (= O) OR106-; -R107OC (= O) OR108-;
-SOOR115-; -SOR116-; -SR117-; a substituted or unsubstituted alkylene group; or a substituted or unsubstituted alkenylene group,
X is a hydroxy group; an amine group; -OCOOR118; -CONR119R120; or -NR121COOR122,
T is a substituted or unsubstituted alkyl group,
R101 to R109, R111, R112, and R114 to R117 are the same or different from each other, and are each independently a direct bond; a substituted or unsubstituted alkylene group; a substituted or unsubstituted cycloalkylene group; or a substituted or An unsubstituted alkenylene group,
R110, R113 and R118 to R122 are the same or different from each other, and each independently represents hydrogen; or a substituted or unsubstituted alkyl group;
p and q are each an integer of 1 to 4,
2 ≦ p + q ≦ 5,
when p and q are each 2 or more, the structures in the brackets of 2 or more are the same or different from each other;
* Is a site linked to N in Formula 1.
Is a site linked to Chemical Formula 1 above.

本明細書のまた一つの実施態様によれば、上記化学式1で表される化合物を含む色材組成物を提供する。   According to another embodiment of the present specification, a color material composition comprising the compound represented by Formula 1 is provided.

本明細書のまた一つの実施態様によれば、上記色材組成物を含む樹脂組成物を提供する。   According to another embodiment of the present specification, a resin composition including the color material composition is provided.

本明細書の一実施態様によれば、上述した樹脂組成物を含むカラーフィルターを提供する。   According to one embodiment of the present specification, a color filter including the above-described resin composition is provided.

また、本明細書の一実施態様によれば、上述したカラーフィルターを含むディスプレイ装置を提供する。   In addition, according to one embodiment of the present specification, a display device including the above-described color filter is provided.

本明細書の一実施態様に係る化学式1で表される化合物は、溶剤に対する溶解度に優れ、耐化学性に優れる。   The compound represented by Chemical Formula 1 according to one embodiment of the present specification is excellent in solubility in a solvent and excellent in chemical resistance.

また、本明細書の一実施態様によれば、上記化学式1で表される化合物を含む色材組成物は、既存の顔料を使用した場合よりも、高輝度を発揮し、架橋性基を導入してトリアリールメタン染料が有している脆弱な耐化学性を改善することができる。さらに、これを用いた着色樹脂組成物を用いて、耐化学性に優れたカラーフィルターの作製が可能である。   Further, according to one embodiment of the present specification, the colorant composition containing the compound represented by the chemical formula 1 exhibits higher brightness than the case where an existing pigment is used, and introduces a crosslinkable group. Thus, the fragile chemical resistance of the triarylmethane dye can be improved. Furthermore, it is possible to produce a color filter having excellent chemical resistance by using a colored resin composition using the same.

本明細書の一実施態様に係る実施例1から3及び比較例1の耐化学性評価結果を示す図である。It is a figure which shows the chemical-resistance evaluation result of Examples 1-3 and the comparative example 1 which concern on one embodiment of this specification.

以下、本明細書をより詳細に説明する。   Hereinafter, the present specification will be described in more detail.

本明細書の一実施態様によれば、上記化学式1で表される化合物を提供する。   According to one embodiment of the present specification, a compound represented by Formula 1 is provided.

本明細書において置換基の例示は以下で説明するが、これに限定されるものではない。   In the present specification, examples of the substituent will be described below, but the present invention is not limited thereto.

上記「置換」という用語は、化合物の炭素原子に結合された水素原子が他の置換基に変わることを意味し、置換される位置は、水素原子が置換される位置、すなわち、置換基が置換可能な位置であれば限定せず、2以上置換される場合、2以上の置換基は、互いに同一であるか異なっていてもよい。   The term “substituted” means that a hydrogen atom bonded to a carbon atom of a compound is changed to another substituent, and the substituted position is the position where the hydrogen atom is substituted, that is, the substituent is substituted. The position is not limited as long as it is possible, and when two or more substituents are substituted, the two or more substituents may be the same or different from each other.

本明細書において「置換もしくは非置換の」という用語は、重水素;ハロゲン基;ニトリル基;ニトロ基;イミド基;アミド基;カルボニル基;エステル基;ヒドロキシ基;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;置換もしくは非置換のアルコキシ基;置換もしくは非置換のアリールオキシ基;置換もしくは非置換のアルキルチオキシ基;置換もしくは非置換のアリールチオキシ基;置換もしくは非置換のアルキルスルホキシ基;置換もしくは非置換のアリールスルホキシ基;置換もしくは非置換のアルケニル基;置換もしくは非置換のアミン基;置換もしくは非置換のアリール基;及び置換もしくは非置換の複素環基からなる群より選択された1又は2以上の置換基で置換されたか、もしくはいずれの置換基も持たないことを意味する。   In this specification, the term “substituted or unsubstituted” refers to deuterium, halogen group, nitrile group, nitro group, imide group, amide group, carbonyl group, ester group, hydroxy group, substituted or unsubstituted alkyl group, Substituted or unsubstituted cycloalkyl group; substituted or unsubstituted alkoxy group; substituted or unsubstituted aryloxy group; substituted or unsubstituted alkylthioxy group; substituted or unsubstituted arylthioxy group; substituted or unsubstituted A substituted or unsubstituted arylsulfoxy group; a substituted or unsubstituted alkenyl group; a substituted or unsubstituted amine group; a substituted or unsubstituted aryl group; and a substituted or unsubstituted heterocyclic group Substituted with one or more substituents selected from the group, or any It means that do not have even substituent.

本明細書において、
は、他の置換基又は結合部に結合される部位を意味する。
In this specification,
Means a site bonded to another substituent or bond.

本明細書において、ハロゲン基は、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素であってもよい。   In the present specification, the halogen group may be fluorine, chlorine, bromine or iodine.

本明細書において、イミド基の炭素数は特に限定されないが、炭素数1から30であることが好ましい。具体的に、下記のような構造の化合物であってもよいが、これに限定されるものではない。
In this specification, the carbon number of the imide group is not particularly limited, but is preferably 1 to 30 carbon atoms. Specifically, it may be a compound having the following structure, but is not limited thereto.

本明細書において、アミド基は、アミド基の窒素が水素、炭素数1から30の直鎖、分枝鎖又は環状アルキル基又は炭素数6から30のアリール基で置換されることができる。具体的に、下記構造式の化合物であってもよいが、これに限定されるものではない。
In the present specification, the amide group may be substituted by hydrogen, a straight chain, branched chain or cyclic alkyl group having 1 to 30 carbon atoms or an aryl group having 6 to 30 carbon atoms. Specifically, it may be a compound having the following structural formula, but is not limited thereto.

本明細書において、カルボニル基の炭素数は特に限定されないが、炭素数1から30であることが好ましい。具体的に、下記のような構造の化合物であってもよいが、これに限定されるものではない。
In the present specification, the carbon number of the carbonyl group is not particularly limited, but is preferably 1 to 30 carbon atoms. Specifically, it may be a compound having the following structure, but is not limited thereto.

本明細書において、エステル基は、エステル基の酸素が炭素数1から25の直鎖、分枝鎖又は環鎖アルキル基又は炭素数6から30のアリール基で置換されることができる。具体的に、下記構造式の化合物であってもよいが、これに限定されるものではない。
In the present specification, in the ester group, the oxygen of the ester group can be substituted with a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 25 carbon atoms or an aryl group having 6 to 30 carbon atoms. Specifically, it may be a compound having the following structural formula, but is not limited thereto.

本明細書において、上記アルキル基は、直鎖又は分枝鎖であってもよく、炭素数は特に限定されないが、1から30であることが好ましい。具体的な例としては、メチル、エチル、プロピル、n−プロピル、イソプロピル、ブチル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、sec−ブチル、1−メチル−ブチル、1−エチル−ブチル、ペンチル、n−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、tert−ペンチル、ヘキシル、n−ヘキシル、1−メチルペンチル、2−メチルペンチル、4−メチル−2−ペンチル、3,3−ジメチルブチル、2−エチルブチル、ヘプチル、n−ヘプチル、1−メチルヘキシル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、オクチル、n−オクチル、tert−オクチル、1−メチルヘプチル、2−エチルヘキシル、2−プロピルペンチル、n−ノニル、2,2−ジメチルヘプチル、1−エチル−プロピル、1,1−ジメチル−プロピル、イソヘキシル、4−メチルヘキシル、5−メチルヘキシルなどがあるが、これに限定されるものではない。   In the present specification, the alkyl group may be linear or branched, and the number of carbon atoms is not particularly limited, but is preferably 1 to 30. Specific examples include methyl, ethyl, propyl, n-propyl, isopropyl, butyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, sec-butyl, 1-methyl-butyl, 1-ethyl-butyl, pentyl, n -Pentyl, isopentyl, neopentyl, tert-pentyl, hexyl, n-hexyl, 1-methylpentyl, 2-methylpentyl, 4-methyl-2-pentyl, 3,3-dimethylbutyl, 2-ethylbutyl, heptyl, n- Heptyl, 1-methylhexyl, cyclopentylmethyl, cyclohexylmethyl, octyl, n-octyl, tert-octyl, 1-methylheptyl, 2-ethylhexyl, 2-propylpentyl, n-nonyl, 2,2-dimethylheptyl, 1- Ethyl-propyl, 1,1-dimethyl-propyl, Sohekishiru, 4-methylhexyl, 5-methylhexyl there are like, but is not limited thereto.

本明細書において、シクロアルキル基は、特に限定されないが、炭素数3から30であることが好ましく、具体的には、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、3−メチルシクロペンチル、2,3−ジメチルシクロペンチル、シクロヘキシル、3−メチルシクロヘキシル、4−メチルシクロヘキシル、2,3−ジメチルシクロヘキシル、3,4,5−トリメチルシクロヘキシル、4−tert−ブチルシクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルなどがあるが、これに限定されるものではない。   In the present specification, the cycloalkyl group is not particularly limited, but preferably has 3 to 30 carbon atoms, specifically, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, 3-methylcyclopentyl, 2,3-dimethylcyclopentyl, Examples include, but are not limited to, cyclohexyl, 3-methylcyclohexyl, 4-methylcyclohexyl, 2,3-dimethylcyclohexyl, 3,4,5-trimethylcyclohexyl, 4-tert-butylcyclohexyl, cycloheptyl, and cyclooctyl. It is not a thing.

本明細書において、上記アルコキシ基は、直鎖、分枝鎖又は環状であってもよい。アルコキシ基の炭素数は特に限定されないが、炭素数1から30であることが好ましい。具体的に、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、i−プロピルオキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、tert−ブトキシ、sec−ブトキシ、n−ペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、n−ヘキシルオキシ、3,3−ジメチルブチルオキシ、2−エチルブチルオキシ、n−オクチルオキシ、n−ノニルオキシ、n−デシルオキシ、ベンジルオキシ、p−メチルベンジルオキシなどであってもよいが、これに限定されるものではない。   In the present specification, the alkoxy group may be linear, branched or cyclic. The number of carbon atoms of the alkoxy group is not particularly limited, but is preferably 1 to 30 carbon atoms. Specifically, methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, i-propyloxy, n-butoxy, isobutoxy, tert-butoxy, sec-butoxy, n-pentyloxy, neopentyloxy, isopentyloxy, n-hexyl Oxy, 3,3-dimethylbutyloxy, 2-ethylbutyloxy, n-octyloxy, n-nonyloxy, n-decyloxy, benzyloxy, p-methylbenzyloxy, and the like are limited thereto. It is not a thing.

本明細書において、アミン基は、−NH;アルキルアミン基;N−アリールアルキルアミン基;アリールアミン基;N−アリールヘテロアリールアミン基;N−アルキルヘテロアリールアミン基及びヘテロアリールアミン基からなる群より選択されることができ、置換基に含まれる炭素の数は特に限定されないが、1から30であることが好ましい。アミン基の具体的な例としては、メチルアミン基、ジメチルアミン基、エチルアミン基、ジエチルアミン基、フェニルアミン基、ナフチルアミン基、ビフェニルアミン基、アントラセニルアミン基、9−メチル−アントラセニルアミン基、ジフェニルアミン基、N−フェニルナフチルアミン基、ジトリルアミン基、N−フェニルトリルアミン基、トリフェニルアミン基などがあるが、これに限定されるものではない。 In this specification, an amine group consists of —NH 2 ; an alkylamine group; an N-arylalkylamine group; an arylamine group; an N-arylheteroarylamine group; an N-alkylheteroarylamine group and a heteroarylamine group. The number of carbons that can be selected from the group and are included in the substituent is not particularly limited, but is preferably 1 to 30. Specific examples of the amine group include methylamine group, dimethylamine group, ethylamine group, diethylamine group, phenylamine group, naphthylamine group, biphenylamine group, anthracenylamine group, 9-methyl-anthracenylamine group, diphenylamine. Groups, N-phenylnaphthylamine groups, ditolylamine groups, N-phenyltolylamine groups, triphenylamine groups, and the like, but are not limited thereto.

本明細書において、N−アルキルアリールアミン基は、アミン基のNにアルキル基及びアリール基が置換されたアミン基を意味する。   In the present specification, the N-alkylarylamine group means an amine group in which an alkyl group and an aryl group are substituted on N of the amine group.

本明細書において、N−アリールヘテロアリールアミン基は、アミン基のNにアリール基及びヘテロアリール基が置換されたアミン基を意味する。   In the present specification, the N-arylheteroarylamine group means an amine group in which an aryl group and a heteroaryl group are substituted on N of the amine group.

本明細書において、N−アルキルヘテロアリールアミン基は、アミン基のNにアルキル基及びヘテロアリールアミン基が置換されたアミン基を意味する。   In the present specification, the N-alkylheteroarylamine group means an amine group in which an alkyl group and a heteroarylamine group are substituted on N of the amine group.

本明細書において、アルキルアミン基、N−アリールアルキルアミン基、アルキルチオキシ基、アルキルスルホキシ基、N−アルキルヘテロアリールアミン基中のアルキル基は、上述したアルキル基の例示の通りである。具体的に、アルキルチオキシ基としては、メチルチオキシ基、エチルチオキシ基、tert−ブチルチオキシ基、ヘキシルチオキシ基、オクチルチオキシ基などがあり、アルキルスルホキシ基としては、メチル、エチルスルホキシ基、プロピルスルホキシ基、ブチルスルホキシ基などがあるが、これに限定されるものではない。   In this specification, the alkyl group in the alkylamine group, N-arylalkylamine group, alkylthioxy group, alkylsulfoxy group, and N-alkylheteroarylamine group is as exemplified above for the alkyl group. Specific examples of the alkylthioxy group include a methylthioxy group, an ethylthioxy group, a tert-butylthioxy group, a hexylthioxy group, and an octylthioxy group. Examples of the alkylsulfoxy group include methyl, ethylsulfoxy group, and propyl. Although there are a sulfoxy group, a butylsulfoxy group and the like, it is not limited thereto.

本明細書において、上記アルケニル基は、直鎖又は分枝鎖であってもよく、炭素数は特に限定されないが、2から30であることが好ましい。具体的な例としては、ビニル、1−プロペニル、イソプロペニル、1−ブテニル、2−ブテニル、3−ブテニル、1−ペンテニル、2−ペンテニル、3−ペンテニル、3−メチル−1−ブテニル、1,3−ブタジエニル、アリル、1−フェニルビニル−1−イル、2−フェニルビニル−1−イル、2,2−ジフェニルビニル−1−イル、2−フェニル−2−(ナフチル−1−イル)ビニル−1−イル、2,2−ビス(ジフェニル−1−イル)ビニル−1−イル、スチルベニル基、スチレニル基などがあるが、これに限定されるものではない。   In the present specification, the alkenyl group may be linear or branched, and the number of carbon atoms is not particularly limited, but is preferably 2 to 30. Specific examples include vinyl, 1-propenyl, isopropenyl, 1-butenyl, 2-butenyl, 3-butenyl, 1-pentenyl, 2-pentenyl, 3-pentenyl, 3-methyl-1-butenyl, 1, 3-butadienyl, allyl, 1-phenylvinyl-1-yl, 2-phenylvinyl-1-yl, 2,2-diphenylvinyl-1-yl, 2-phenyl-2- (naphthyl-1-yl) vinyl- Examples include, but are not limited to, 1-yl, 2,2-bis (diphenyl-1-yl) vinyl-1-yl, stilbenyl group, and styryl group.

本明細書において、アリール基は、単環式又は多環式であってもよい。   In the present specification, the aryl group may be monocyclic or polycyclic.

上記アリール基が単環式アリール基の場合、炭素数は特に限定されないが、炭素数6から30であることが好ましい。具体的に単環式アリール基としては、フェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基などが挙げられるが、これに限定されるものではない。   When the aryl group is a monocyclic aryl group, the number of carbon atoms is not particularly limited, but preferably 6 to 30 carbon atoms. Specific examples of the monocyclic aryl group include, but are not limited to, a phenyl group, a biphenyl group, and a terphenyl group.

上記アリール基が多環式アリール基の場合、炭素数は特に限定されないが、炭素数10から30であることが好ましい。具体的に多環式アリール基としては、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントリル基、ピレニル基、ペリレニル基、クリセニル基、フルオレニル基などが挙げられるが、これに限定されるものではない。   When the aryl group is a polycyclic aryl group, the number of carbon atoms is not particularly limited, but is preferably 10 to 30 carbon atoms. Specific examples of the polycyclic aryl group include, but are not limited to, naphthyl group, anthracenyl group, phenanthryl group, pyrenyl group, perylenyl group, chrysenyl group, and fluorenyl group.

本明細書において、「隣接する」基は、該当置換基が置換された原子と直接連結された原子に置換された置換基、該当置換基と立体構造的に最も近く位置した置換基、又は該当置換基が置換された原子に置換された他の置換基を意味することができる。例えば、ベンゼン環でオルト(ortho)位に置換された2つの置換基及び脂肪族環で同一の炭素に置換された2つの置換基は、互いに「隣接する」基と解釈されることができる。   In the present specification, an “adjacent” group refers to a substituent substituted by an atom directly connected to an atom to which the corresponding substituent is substituted, a substituent that is closest in three-dimensional structure to the corresponding substituent, or It can mean other substituents in which the substituent is replaced by a substituted atom. For example, two substituents substituted in the ortho position with a benzene ring and two substituents substituted with the same carbon in an aliphatic ring can be interpreted as “adjacent” groups to each other.

本明細書において、アリールオキシ基、アリールチオキシ基、アリールスルホキシ基、N−アリールアルキルアミン基、N−アリールヘテロアリールアミン基及びアリールホスフィン基中のアリール基は、上述したアリール基の例示の通りである。具体的に、アリールオキシ基としては、フェノキシ基、p−トリルオキシ基、m−トリルオキシ基、3,5−ジメチル−フェノキシ基、2,4,6−トリメチルフェノキシ基、p−tert−ブチルフェノキシ基、3−ビフェニルオキシ基、4−ビフェニルオキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、4−メチル−1−ナフチルオキシ基、5−メチル−2−ナフチルオキシ基、1−アントリルオキシ基、2−アントリルオキシ基、9−アントリルオキシ基、1−フェナントリルオキシ基、3−フェナントリルオキシ基、9−フェナントリルオキシ基などがあり、アリールチオキシ基としては、フェニルチオキシ基、2−メチルフェニルチオキシ基、4−tert−ブチルフェニルチオキシ基などがあり、アリールスルホキシ基としては、ベンゼンスルホキシ基、p−トルエンスルホキシ基などがあるが、これに限定されるものではない。   In this specification, the aryl group in the aryloxy group, arylthioxy group, arylsulfoxy group, N-arylalkylamine group, N-arylheteroarylamine group, and arylphosphine group is an example of the aryl group described above. Street. Specifically, the aryloxy group includes a phenoxy group, a p-tolyloxy group, an m-tolyloxy group, a 3,5-dimethyl-phenoxy group, a 2,4,6-trimethylphenoxy group, a p-tert-butylphenoxy group, 3-biphenyloxy group, 4-biphenyloxy group, 1-naphthyloxy group, 2-naphthyloxy group, 4-methyl-1-naphthyloxy group, 5-methyl-2-naphthyloxy group, 1-anthryloxy group , 2-anthryloxy group, 9-anthryloxy group, 1-phenanthryloxy group, 3-phenanthryloxy group, 9-phenanthryloxy group, etc. Thioxy group, 2-methylphenylthioxy group, 4-tert-butylphenylthioxy group, etc., arylsulfoxy group Is then benzene sulphoxide group, there are such p- toluenesulfonic sulfoxy group, but is not limited thereto.

本明細書において、アリールアミン基の例としては、置換もしくは非置換のモノアリールアミン基、置換もしくは非置換のジアリールアミン基、又は置換もしくは非置換のトリアリールアミン基がある。上記アリールアミン基中のアリール基は、単環式アリール基であってもよく、多環式アリール基であってもよい。上記アリール基を2以上含むアリールアミン基は、単環式アリール基、多環式アリール基、又は単環式アリール基と多環式アリール基とを同時に含むことができる。例えば、上記アリールアミン基中のアリール基は、上述したアリール基の例示の中から選択されることができる。   In the present specification, examples of the arylamine group include a substituted or unsubstituted monoarylamine group, a substituted or unsubstituted diarylamine group, or a substituted or unsubstituted triarylamine group. The aryl group in the arylamine group may be a monocyclic aryl group or a polycyclic aryl group. The arylamine group including two or more aryl groups can include a monocyclic aryl group, a polycyclic aryl group, or a monocyclic aryl group and a polycyclic aryl group at the same time. For example, the aryl group in the arylamine group can be selected from the examples of the aryl group described above.

本明細書において、ヘテロアリール基は、炭素ではない原子、異種原子を1以上含むものであって、具体的に上記異種原子は、O、N、Se及びSなどからなる群より選択される原子を1以上含むことができる。置換基に含まれる炭素の数は特に限定されないが、炭素数2から30であることが好ましく、上記ヘテロアリール基は単環式又は多環式であってもよい。複素環基の例としては、チオフェン基、フラニル基、ピロール基、イミダゾリル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、オキサジアゾリル基、ピリジル基、ビピリジル基、ピリミジル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、アクリジル基、ピリダジニル基、ピラジニル基、キノリニル基、キナゾリニル基、キノキサリニル基、フタラジニル基、ピリドピリミジル基、ピリドピラジニル基、ピラジノピラジニル基、イソキノリニル基、インドリル基、カルバゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾカルバゾリル基、ベンゾチオフェン基、ジベンゾチオフェン基、ベンゾフラニル基、フェナントロリン基(phenanthroline)、チアゾリル基、イソオキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、フェノチアジニル基及びジベンゾフラニル基などがあるが、これらに限定されるものではない。   In the present specification, a heteroaryl group includes one or more atoms that are not carbon atoms and hetero atoms, and specifically, the hetero atoms are atoms selected from the group consisting of O, N, Se, and S. 1 or more can be included. The number of carbons contained in the substituent is not particularly limited, but is preferably 2 to 30 carbons, and the heteroaryl group may be monocyclic or polycyclic. Examples of the heterocyclic group include thiophene group, furanyl group, pyrrole group, imidazolyl group, thiazolyl group, oxazolyl group, oxadiazolyl group, pyridyl group, bipyridyl group, pyrimidyl group, triazinyl group, triazolyl group, acridyl group, pyridazinyl group, Pyrazinyl group, quinolinyl group, quinazolinyl group, quinoxalinyl group, phthalazinyl group, pyridopyrimidyl group, pyridopyrazinyl group, pyrazinopyrazinyl group, isoquinolinyl group, indolyl group, carbazolyl group, benzoxazolyl group, benzoimidazolyl group, benzothiazolyl group, benzothiazolyl group Carbazolyl group, benzothiophene group, dibenzothiophene group, benzofuranyl group, phenanthroline group, thiazolyl group, isoxazolyl group, oxadiazolyl group Thiadiazolyl group, a benzothiazolyl group, it is such a phenothiazinyl group and dibenzofuranyl group, but is not limited thereto.

本明細書において、ヘテロアリールアミン基の例としては、置換もしくは非置換のモノヘテロアリールアミン基、置換もしくは非置換のジヘテロアリールアミン基、又は置換もしくは非置換のトリヘテロアリールアミン基がある。上記ヘテロアリール基を2以上含むヘテロアリールアミン基は、単環式ヘテロアリール基、多環式ヘテロアリール基、又は単環式ヘテロアリール基と多環式ヘテロアリール基とを同時に含むことができる。例えば、上記ヘテロアリールアミン基中のヘテロアリール基は、上述したヘテロアリール基の例示の中から選択されることができる。   In the present specification, examples of the heteroarylamine group include a substituted or unsubstituted monoheteroarylamine group, a substituted or unsubstituted diheteroarylamine group, or a substituted or unsubstituted triheteroarylamine group. The heteroarylamine group containing two or more heteroaryl groups can include a monocyclic heteroaryl group, a polycyclic heteroaryl group, or a monocyclic heteroaryl group and a polycyclic heteroaryl group at the same time. For example, the heteroaryl group in the heteroarylamine group can be selected from the examples of the heteroaryl group described above.

本明細書において、N−アリールヘテロアリールアミン基及びN−アルキルヘテロアリールアミン基中のヘテロアリール基の例示は、上述したヘテロアリール基の例示の通りである。   In the present specification, examples of the heteroaryl group in the N-arylheteroarylamine group and the N-alkylheteroarylamine group are as described above for the heteroaryl group.

本明細書において、複素環基は単環又は多環であってもよく、芳香族、脂肪族又は芳香族と脂肪族との縮合環であってもよく、上記ヘテロアリール基の例示の中から選択されることができる。   In the present specification, the heterocyclic group may be monocyclic or polycyclic, and may be aromatic, aliphatic, or a condensed ring of aromatic and aliphatic. Can be selected.

本明細書において、アルキレン基は、アルキル基に結合位置が二つあること、すなわち2価基を意味する。これらはそれぞれ2価基であることを除いては、上述したアルキル基の説明が適用されることができる。   In the present specification, the alkylene group means that the alkyl group has two bonding positions, that is, a divalent group. Except that these are each a divalent group, the above explanation of the alkyl group can be applied.

本明細書において、シクロアルキレン基は、シクロアルキル基に結合位置が二つあること、すなわち2価基を意味する。これらはそれぞれ2価基であることを除いては、上述したシクロアルキル基の説明が適用されることができる。   In the present specification, the cycloalkylene group means that the cycloalkyl group has two bonding positions, that is, a divalent group. The explanation of the cycloalkyl group described above can be applied except that each of these is a divalent group.

本明細書において、アリーレン基は、アリール基に結合位置が二つあること、すなわち2価基を意味する。これらはそれぞれ2価基であることを除いては、上述したアリール基の説明が適用されることができる。   In the present specification, an arylene group means that an aryl group has two bonding positions, that is, a divalent group. The explanation of the aryl group described above can be applied except that each of these is a divalent group.

本明細書において、ヘテロアリーレン基は、ヘテロアリール基に結合位置が二つあること、すなわち2価基を意味する。これらはそれぞれ2価基であることを除いては、上述したヘテロアリール基の説明が適用されることができる。   In the present specification, the heteroarylene group means that the heteroaryl group has two bonding positions, that is, a divalent group. The explanation of the heteroaryl group described above can be applied except that each of them is a divalent group.

本明細書の一実施態様によれば、上記化学式1は、下記化学式1−1又は1−2で表される。
[化1−1]
[化1−2]
上記化学式1−1及び1−2において、
R1からR4、R7からR14及びZの定義は、上記化学式1と同じであり、
R5、R6、R15からR22の定義は、上記化学式A−1及びA−2と同じである。
According to one embodiment of the present specification, the chemical formula 1 is represented by the following chemical formula 1-1 or 1-2.
[Chemical 1-1]
[Chemical 1-2]
In the above chemical formulas 1-1 and 1-2,
R1 to R4, R7 from R14 and Z - the definition is the same as defined in Formula 1,
The definitions of R5, R6, R15 to R22 are the same as those in the chemical formulas A-1 and A-2.

本明細書の一実施態様によれば、上記R1からR6のうち少なくとも一つは、上記化学式aで表される構造であり、残りは、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素;−ROR';置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のアルケニル基;置換もしくは非置換のアリール基;又は架橋性基である。   According to one embodiment of the present specification, at least one of the R1 to R6 is a structure represented by the chemical formula a, and the rest are the same as or different from each other, each independently. -ROR '; a substituted or unsubstituted alkyl group; a substituted or unsubstituted alkenyl group; a substituted or unsubstituted aryl group; or a crosslinkable group.

本明細書の一実施態様によれば、上記化学式1において、R1からR6のうち少なくとも一つは、上記化学式aで表される構造であり、残りは、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素;−ROR';置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のアルケニル基;置換もしくは非置換のアリール基;又は架橋性基である。   According to one embodiment of the present specification, in Chemical Formula 1, at least one of R1 to R6 is a structure represented by Chemical Formula a, and the rest are the same as or different from each other, Independently, hydrogen; -ROR '; substituted or unsubstituted alkyl group; substituted or unsubstituted alkenyl group; substituted or unsubstituted aryl group; or crosslinkable group.

本明細書の一実施態様によれば、上記R1からR6のうち少なくとも一つは、上記化学式aで表される構造であり、残りは、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素;−ROR';ヒドロキシ基で置換もしくは非置換のアルキル基;アルケニル基;アルキル基で置換もしくは非置換のアリール基;又は架橋性基である。   According to one embodiment of the present specification, at least one of the R1 to R6 is a structure represented by the chemical formula a, and the rest are the same as or different from each other, each independently. -ROR '; an alkyl group substituted or unsubstituted with a hydroxy group; an alkenyl group; an aryl group substituted or unsubstituted with an alkyl group; or a crosslinkable group.

本明細書の一実施態様によれば、上記R1からR6のうち少なくとも一つは、上記化学式aで表される構造であり、残りは、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素;−ROR';ヒドロキシ基で置換もしくは非置換のエチル基;ビニル基;アルキル基であり、置換もしくは非置換のフェニル基;又は架橋性基である。   According to one embodiment of the present specification, at least one of the R1 to R6 is a structure represented by the chemical formula a, and the rest are the same as or different from each other, each independently. -ROR '; an ethyl group substituted or unsubstituted by a hydroxy group; a vinyl group; an alkyl group, a substituted or unsubstituted phenyl group; or a crosslinkable group.

本明細書の一実施態様によれば、上記R1からR6のうち少なくとも一つは、上記化学式aで表される構造であり、残りは、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素;−ROR';ヒドロキシ基で置換もしくは非置換のエチル基;ビニル基;メチル基及びエチル基からなる群より選択される1以上の置換基で置換もしくは非置換のフェニル基;又は架橋性基である。   According to one embodiment of the present specification, at least one of the R1 to R6 is a structure represented by the chemical formula a, and the rest are the same as or different from each other, each independently. -ROR '; an ethyl group substituted or unsubstituted by a hydroxy group; a vinyl group; a phenyl group substituted or unsubstituted by one or more substituents selected from the group consisting of a methyl group and an ethyl group; or a crosslinkable group It is.

本明細書のまた一つの実施態様によれば、上記Rは、置換もしくは非置換のアルキレン基;又は置換もしくは非置換のシクロアルキレン基である。   According to another embodiment of the present specification, R is a substituted or unsubstituted alkylene group; or a substituted or unsubstituted cycloalkylene group.

本明細書のまた一つの実施態様によれば、上記Rは、アルキレン基;又はシクロアルキレン基である。   According to another embodiment of the present specification, R is an alkylene group; or a cycloalkylene group.

本明細書のまた一つの実施態様によれば、上記Rは、エチレン基;又はシクロヘキシレン基である。   According to another embodiment of the present specification, R is an ethylene group; or a cyclohexylene group.

本明細書のまた一つの実施態様によれば、上記R'は、置換もしくは非置換のアルキル基である。   According to another embodiment of the present specification, R ′ is a substituted or unsubstituted alkyl group.

本明細書のまた一つの実施態様によれば、上記R'はアルキル基である。   According to another embodiment of the present specification, R ′ is an alkyl group.

本明細書のまた一つの実施態様によれば、上記R'はビニル基である。   According to another embodiment of the present specification, R ′ is a vinyl group.

本明細書の一実施態様によれば、上記架橋性基は、下記化学式2から5のうちいずれか一つで表される構造である。
[化2]
[化3]
[化4]
[化5]
上記化学式2から5において、
上記R201からR203は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素;又は置換もしくは非置換のアルキル基であり、
R204からR207は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、直接結合;O;NR208;置換もしくは非置換のアルキレン基;又は置換もしくは非置換のシクロアルキレン基であり、
R208は、水素;又は置換もしくは非置換のアルキル基であり、
r、s、t及びuは、それぞれ1又は2であり、
上記r、s、t及びuが、それぞれ2である場合、2つの括弧内の構造は、同一であるか異なっている。
According to one embodiment of the present specification, the crosslinkable group has a structure represented by any one of the following chemical formulas 2 to 5.
[Chemical formula 2]
[Chemical formula 3]
[Chemical formula 4]
[Chemical formula 5]
In the above chemical formulas 2 to 5,
R201 to R203 are the same as or different from each other, and each independently represents hydrogen; or a substituted or unsubstituted alkyl group;
R204 to R207 are the same or different from each other, and each independently represents a direct bond; O; NR208; a substituted or unsubstituted alkylene group; or a substituted or unsubstituted cycloalkylene group;
R208 is hydrogen; or a substituted or unsubstituted alkyl group;
r, s, t and u are each 1 or 2,
When r, s, t and u are each 2, the structures in the two parentheses are the same or different.

本明細書の一実施態様によれば、上記化学式2において、R201は、水素;又はアルキル基である。   According to one embodiment of the present specification, in Chemical Formula 2, R201 is hydrogen; or an alkyl group.

本明細書の一実施態様によれば、上記化学式2において、R201は、水素;又はメチル基である。   According to one embodiment of the present specification, in Chemical Formula 2, R201 is hydrogen; or a methyl group.

本明細書の一実施態様によれば、上記化学式2において、R204は、直接結合;O;NR208;アルキレン基;又はシクロアルキレン基である。   According to one embodiment of the present specification, in Formula 2 above, R204 is a direct bond; O; NR208; an alkylene group; or a cycloalkylene group.

本明細書の一実施態様によれば、上記化学式2において、R204は、直接結合;O;NR208;エチレン基;又はシクロヘキシレン基である。   According to one embodiment of the present specification, in Chemical Formula 2, R204 is a direct bond; O; NR208; an ethylene group; or a cyclohexylene group.

本明細書の一実施態様によれば、上記化学式3において、R205は、直接結合;又はアルキレン基である。   According to one embodiment of the present specification, in Formula 3 above, R205 is a direct bond; or an alkylene group.

本明細書の一実施態様によれば、上記化学式3において、R205は、直接結合;又はメチレン基である。   According to one embodiment of the present specification, in Formula 3 above, R205 is a direct bond; or a methylene group.

本明細書の一実施態様によれば、上記化学式4において、R202は水素である。   According to one embodiment of the present specification, in Formula 4 above, R202 is hydrogen.

本明細書の一実施態様によれば、上記化学式4において、R206は、直接結合;又はアルキレン基である。   According to one embodiment of the present specification, in Formula 4 above, R206 is a direct bond; or an alkylene group.

本明細書の一実施態様によれば、上記化学式4において、R206は、直接結合;又はメチレン基である。   According to one embodiment of the present specification, in Formula 4 above, R206 is a direct bond; or a methylene group.

本明細書の一実施態様によれば、上記化学式5において、R203は、水素;炭素数1から4のアルキル基である。   According to one embodiment of the present specification, in Formula 5 above, R203 is hydrogen; an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

本明細書の一実施態様によれば、上記化学式5において、R207は、直接結合;又はアルキレン基である。   According to one embodiment of the present specification, in Formula 5 above, R207 is a direct bond; or an alkylene group.

本明細書の一実施態様によれば、上記化学式5において、R207は、直接結合;又はメチレン基である。   According to one embodiment of the present specification, in Formula 5 above, R207 is a direct bond; or a methylene group.

本明細書の一実施態様によれば、上記R208は、水素;又は炭素数1から4のアルキル基である。   According to one embodiment of the present specification, R208 is hydrogen; or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

本明細書の一実施態様によれば、上記化学式aにおいて、Xは、Tが化学式aのフェニル基の結合された位置に対してオルト(ortho)位に結合する。   According to one embodiment of the present specification, in Formula (a), X is bonded to the ortho position with respect to the position where T is bonded to the phenyl group of Formula (a).

本明細書の一実施態様によれば、上記化学式1において、Zは、アニオン性基であり、上記アニオン性基は特に限定されず、例えば米国特許第7,939,644号明細書、特開2006−003080号公報、特開2006−001917号公報、特開2005−159926号公報、特開2007−7028897号公報、特開2005−071680号公報、韓国出願公開第2007−7000693号、特開2005−111696号公報、特開2008−249663号公報に記載されているアニオンが適用されることができる。 According to one embodiment of the present specification, in Chemical Formula 1, Z is an anionic group, and the anionic group is not particularly limited. For example, in US Pat. No. 7,939,644, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-003080, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2006-001917, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2005-159926, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2007-7028897, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2005-071680, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2007-7000693, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2007-700653. Anions described in JP-A-2005-111696 and JP-A-2008-249663 can be applied.

上記アニオンの具体的な例としては、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ビス(トリフルオロメチルスルホニル)アミドアニオン、ビストリフルオロメタンスルホンイミドアニオン、ビスパーフルオロエチルスルホンイミドアニオン、テトラフェニルボレートアニオン、テトラキス(4−フルオロフェニル)ボレート、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリストリフルオロメタンスルホニルメチド、リン酸イオン、硝酸イオン、炭酸イオン、亜硫酸イオン、ハロゲン基、例えば、ブロモ基、フッ素基、ヨウ素基、塩素基などがある。   Specific examples of the anion include trifluoromethanesulfonate anion, bis (trifluoromethylsulfonyl) amide anion, bistrifluoromethanesulfonimide anion, bisperfluoroethylsulfonimide anion, tetraphenylborate anion, tetrakis (4- Fluorophenyl) borate, tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tristrifluoromethanesulfonylmethide, phosphate ion, nitrate ion, carbonate ion, sulfite ion, halogen group such as bromo group, fluorine group, iodine group, chlorine group, etc. There is.

また、上記Zは、ホウ素;アルミニウムを含むアニオン;タングステン、モリブデン、ケイ素及びリンからなる群より選択される1つ以上の元素及び酸素を含むアニオンを意味する。特に、上記Zは、タングストリン酸のアニオン、タングストケイ酸のアニオン、又はタングステン系イソポリ酸のアニオンを含むことができる。 Z means boron, an anion containing aluminum, an anion containing one or more elements selected from the group consisting of tungsten, molybdenum, silicon and phosphorus and oxygen. In particular, the Z may include an anion of tungstophosphoric acid, an anion of tungstosilicate, or an anion of tungsten isopolyacid.

本明細書の一実施態様によれば、上記化学式1において、Zは、ハロゲン化炭化水素基を含むスルホンイミド酸;スルホン酸を含むアニオン;ハロゲン;ホウ素;アルミニウムを含むアニオン;又はタングステン、モリブデン、ケイ素、及びリンからなる群より選択される1以上の元素及び酸素を含むアニオンである。 According to one embodiment of the present specification, in Formula 1 above, Z represents a sulfonimidic acid containing a halogenated hydrocarbon group; an anion containing a sulfonic acid; a halogen; boron; an anion containing aluminum; or tungsten, molybdenum And an anion containing oxygen and at least one element selected from the group consisting of silicon and phosphorus.

本明細書の一実施態様によれば、上記化学式aにおいて、Qは、−R101C(=O)R102−;又は−R103OC(=O)R104−である。   According to one embodiment of the present specification, in the chemical formula a, Q is —R101C (═O) R102—; or —R103OC (═O) R104—.

本明細書のまた一つの実施態様によれば、上記R101からR104は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、直接結合;置換もしくは非置換のアルキレン基;又は置換もしくは非置換のシクロアルキレン基である。   According to another embodiment of the present specification, R101 to R104 are the same or different from each other, and each independently represents a direct bond; a substituted or unsubstituted alkylene group; or a substituted or unsubstituted group. A cycloalkylene group;

本明細書のまた一つの実施態様によれば、上記R101からR104は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、直接結合;アルキレン基;又はシクロアルキレン基である。   According to another embodiment of the present specification, R101 to R104 are the same or different from each other, and are each independently a direct bond; an alkylene group; or a cycloalkylene group.

本明細書のまた一つの実施態様によれば、上記R101からR104は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、直接結合;メチレン基;エチレン基;又はシクロヘキシレン基である。   According to another embodiment of the present specification, R101 to R104 are the same or different from each other, and are each independently a direct bond; a methylene group; an ethylene group; or a cyclohexylene group.

本明細書の一実施態様によれば、上記化学式aにおいて、Xは、ヒドロキシ基;−OCOOR118である。   According to one embodiment of the present specification, in the chemical formula a, X is a hydroxy group; —OCOOR118.

本明細書のまた一つの実施態様によれば、R118は、水素;又は置換もしくは非置換のアルキル基である。   According to another embodiment of the present specification, R118 is hydrogen; or a substituted or unsubstituted alkyl group.

本明細書のまた一つの実施態様によれば、R118は、水素;又はアルキル基である。   According to another embodiment of the present specification, R118 is hydrogen; or an alkyl group.

本明細書のまた一つの実施態様によれば、R118は、水素;又はt−ブチル基である。   According to another embodiment herein, R118 is hydrogen; or a t-butyl group.

本明細書の一実施態様によれば、上記化学式aにおいて、Tは置換もしくは非置換のアルキル基である。   According to one embodiment of the present specification, in the chemical formula a, T is a substituted or unsubstituted alkyl group.

本明細書の一実施態様によれば、上記化学式aにおいて、Tはアルキル基である。   According to one embodiment of the present specification, in the chemical formula a, T is an alkyl group.

本明細書の一実施態様によれば、上記化学式aにおいて、Tはt−ブチル基である。   According to one embodiment of the present specification, in the chemical formula a, T is a t-butyl group.

本明細書の一実施態様によれば、上記化学式1は、下記化合物の中から選択されることができるが、これにのみ限定されるものではない。
According to one embodiment of the present specification, Formula 1 may be selected from the following compounds, but is not limited thereto.

上記化学式1で表される化合物は、後述する製造例を参考にして製造することができる。   The compound represented by Chemical Formula 1 can be produced with reference to the production examples described later.

本明細書の一実施態様によれば、上記化学式1で表される化合物を含む色材組成物を提供する。   According to one embodiment of the present specification, a color material composition comprising the compound represented by Formula 1 is provided.

上記色材組成物は、上記化学式1で表される化合物以外に、染料及び顔料のうち少なくとも1種をさらに含むことができる。例えば、上記色材組成物は、上記化学式1で表される化合物のみを含むこともできるが、上記化学式1で表される化合物と1種以上の染料を含むか、上記化学式1で表される化合物と1種以上の顔料を含むか、上記化学式1で表される化合物、1種以上の染料及び1種以上の顔料を含むこともできる。本明細書の一実施態様において、上記色材組成物を含む樹脂組成物を提供する。   In addition to the compound represented by Chemical Formula 1, the color material composition may further include at least one of a dye and a pigment. For example, the color material composition may include only the compound represented by the chemical formula 1, but may include the compound represented by the chemical formula 1 and one or more dyes, or may be represented by the chemical formula 1. It can also contain a compound and one or more pigments, or a compound represented by Formula 1 above, one or more dyes and one or more pigments. In one embodiment of the present specification, a resin composition including the color material composition is provided.

本明細書の一実施態様において、上記樹脂組成物は、バインダー樹脂;多官能性モノマー;酸化防止剤;光開始剤;及び溶媒をさらに含むことができる。   In one embodiment of the present specification, the resin composition may further include a binder resin; a multifunctional monomer; an antioxidant; a photoinitiator; and a solvent.

上記バインダー樹脂は、樹脂組成物で製造された膜の強度、現像性などの物性を示すことができるものであれば、特に限定しない。   The binder resin is not particularly limited as long as it can exhibit physical properties such as strength and developability of a film produced from the resin composition.

上記バインダー樹脂は、機械的強度を付与する多官能性モノマーとアルカリ溶解性を付与するモノマーとの共重合樹脂を用いることができ、当該技術分野で一般に使用するバインダーをさらに含むことができる。   The binder resin may be a copolymer resin of a polyfunctional monomer that imparts mechanical strength and a monomer that imparts alkali solubility, and may further include a binder generally used in the art.

上記膜の機械的強度を付与する多官能性モノマーは、不飽和カルボン酸エステル類;芳香族ビニル類;不飽和エーテル類;不飽和イミド類;及び酸無水物のうちいずれか一つ以上であってもよい。   The polyfunctional monomer imparting the mechanical strength of the film is at least one of unsaturated carboxylic acid esters; aromatic vinyls; unsaturated ethers; unsaturated imides; and acid anhydrides. May be.

上記不飽和カルボン酸エステル類の具体的な例としては、ベンジル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、2−フェノキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−クロロプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、アシルオクチルオキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、3−メトキシブチル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール)メチルエーテル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、p−ノニルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、p−ノニルフェノキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル(メタ)アクリレート、トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、メチルα−ヒドロキシメチルアクリレート、エチルα−ヒドロキシメチルアクリレート、プロピルα−ヒドロキシメチルアクリレート及びブチルα−ヒドロキシメチルアクリレートからなる群より選択されることができるが、これらにのみ限定されるものではない。   Specific examples of the unsaturated carboxylic acid esters include benzyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) ) Acrylate, t-butyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) ) Acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-chloropropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, acyloctyloxy- -Hydroxypropyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 3-methoxybutyl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methoxytri Propylene glycol (meth) acrylate, poly (ethylene glycol) methyl ether (meth) acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, p-nonylphenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, p-nonylphenoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, glycidyl ( (Meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate, 1,1,1,3,3,3-hexaph Oroisopropyl (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, heptadecafluorodecyl (meth) acrylate, tribromophenyl (meth) acrylate, methyl α-hydroxymethyl acrylate, ethyl α-hydroxymethyl acrylate, propyl α-hydroxy It can be selected from the group consisting of methyl acrylate and butyl α-hydroxymethyl acrylate, but is not limited thereto.

上記芳香族ビニル単量体類の具体的な例としては、スチレン、α−メチルスチレン、(o,m,p)−ビニルトルエン、(o,m,p)−メトキシスチレン、及び(o,m,p)−クロロスチレンからなる群より選択されることができるが、これらにのみ限定されるものではない。   Specific examples of the aromatic vinyl monomers include styrene, α-methylstyrene, (o, m, p) -vinyltoluene, (o, m, p) -methoxystyrene, and (o, m , P) -chlorostyrene can be selected from the group consisting of, but not limited to.

上記不飽和エーテル類の具体的な例としては、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、及びアリルグリシジルエーテルからなる群より選択されることができるが、これらにのみ限定されるものではない。   Specific examples of the unsaturated ethers can be selected from the group consisting of vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, and allyl glycidyl ether, but are not limited thereto.

上記不飽和イミド類の具体的な例としては、N−フェニルマレイミド、N−(4−クロロフェニル)マレイミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)マレイミド、及びN−シクロヘキシルマレイミドからなる群より選択されることができるが、これらにのみ限定されるものではない。   Specific examples of the unsaturated imides are selected from the group consisting of N-phenylmaleimide, N- (4-chlorophenyl) maleimide, N- (4-hydroxyphenyl) maleimide, and N-cyclohexylmaleimide. However, it is not limited to these.

上記酸無水物としては、無水マレイン酸、無水メチルマレイン酸、テトラヒドロフタル酸無水物などがあるが、これらにのみ限定されるものではない。   Examples of the acid anhydride include maleic anhydride, methylmaleic anhydride, and tetrahydrophthalic anhydride, but are not limited thereto.

上記アルカリ溶解性を付与するモノマーは、酸基を含むものであれば、特に限定されず、例えば、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、モノメチルマレイン酸、5−ノルボルネン−2−カルボン酸、モノ−2−((メタ)アクリロイルオキシ)エチルフタレート、モノ−2−((メタ)アクリロイルオキシ)エチルサクシネート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレートからなる群より選択される1種以上を使用することが好ましいが、これらにのみ限定されるものではない。   The monomer imparting alkali solubility is not particularly limited as long as it contains an acid group. For example, (meth) acrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, monomethylmaleic acid, 5- From the group consisting of norbornene-2-carboxylic acid, mono-2-((meth) acryloyloxy) ethyl phthalate, mono-2-((meth) acryloyloxy) ethyl succinate, ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate Although it is preferable to use one or more selected, it is not limited to these.

本明細書の一実施態様によれば、上記バインダー樹脂の酸価は、50から130KOH mg/gであり、重量平均分子量は1,000から50,000である。   According to one embodiment of the present specification, the binder resin has an acid value of 50 to 130 KOH mg / g and a weight average molecular weight of 1,000 to 50,000.

上記多官能性モノマーは、光によってフォトレジスト像を形成する役割をするモノマーであって、具体的にはプロピレングリコールメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールアクリレートテトラエチレングリコールメタクリレート、ビスフェノキシエチルアルコールジアクリレート、トリスヒドロキシエチルイソシアヌレートトリメタクリレート、トリメチルプロパントリメタクリレート、ジフェニルペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサメタクリレートからなる群より選択される1種又は2種以上の混合物であってもよい。   The polyfunctional monomer is a monomer that plays a role of forming a photoresist image by light. Specifically, propylene glycol methacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol acrylate, neopentyl glycol diacrylate, 6- Hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol acrylate tetraethylene glycol methacrylate, bisphenoxyethyl alcohol diacrylate, trishydroxyethyl isocyanurate trimethacrylate, trimethylpropane trimethacrylate, diphenylpentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol Tetramethacrylate and dipentaerythritol hexa May be one kind or a mixture of two or more selected from the group consisting of methacrylate.

上記光開始剤は、光によってラジカルを発生させて架橋を触発する開始剤であれば、特に限定されないが、例えば、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、及びオキシム系化合物からなる群より選択される1種以上であってもよい。   The photoinitiator is not particularly limited as long as it is an initiator that generates radicals by light and triggers crosslinking. For example, a group consisting of an acetophenone compound, a biimidazole compound, a triazine compound, and an oxime compound It may be one or more selected.

上記アセトフェノン系化合物は、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−メチル−(4−メチルチオ)フェニル−2−モルホリノ−1−プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−オン、2−(4−ブロモ−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−オン又は2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル)]−2−モルホリノプロパン−1−オンなどがあり、これに限定されない。   The acetophenone compounds include 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 4- (2- Hydroxyethoxy) -phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenylketone, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin butyl ether, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-methyl- (4-methylthio) phenyl-2-morpholino-1-propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, 2- ( 4-Bromo-benzyl-2-dimethylamino-1 (4-morpholinophenyl) - butan-1-one or 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl)] - include 2-morpholino-1-one, but is not limited thereto.

上記ビイミダゾール系化合物としては、2,2−ビス(2−クロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−クロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラキス(3,4,5−トリメトキシフェニル)−1,2'−ビイミダゾール、2,2'−ビス(2,3−ジクロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−クロロフェニル)−4,4,5,5'−テトラフェニル−1,2'−ビイミダゾールなどがあり、これに限定されない。   Examples of the biimidazole compound include 2,2-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole and 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′. , 5,5'-tetrakis (3,4,5-trimethoxyphenyl) -1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,3-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5' Examples include, but are not limited to, tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4,5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole.

上記トリアジン系化合物は、3−{4−[2,4−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン−6−イル]フェニルチオ}プロピオン酸、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピル−3−{4−[2,4−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン−6−イル]フェニルチオ}プロピオネート、エチル−2−{4−[2,4−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン−6−イル]フェニルチオ}アセタート、2−エポキシエチル−2−{4−[2,4−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン−6−イル]フェニルチオ}アセタート、シクロヘキシル−2−{4−[2,4−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン−6−イル]フェニルチオ}アセタート、ベンジル−2−{4−[2,4−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン−6−イル]フェニルチオ}アセタート、3−{クロロ−4−[2,4−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン−6−イル]フェニルチオ}プロピオン酸、3−{4−[2,4−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン−6−イル]フェニルチオ}プロピオンアミド、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−p−メトキシスチリル−s−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(1−p−ジメチルアミノフェニル)−1,3,−ブタジエニル−s−トリアジン、2−トリクロロメチル−4−アミノ−6−p−メトキシスチリル−s−トリアジンなどがあり、これに限定されない。   The triazine compound is 3- {4- [2,4-bis (trichloromethyl) -s-triazin-6-yl] phenylthio} propionic acid, 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl. -3- {4- [2,4-bis (trichloromethyl) -s-triazin-6-yl] phenylthio} propionate, ethyl-2- {4- [2,4-bis (trichloromethyl) -s-triazine -6-yl] phenylthio} acetate, 2-epoxyethyl-2- {4- [2,4-bis (trichloromethyl) -s-triazin-6-yl] phenylthio} acetate, cyclohexyl-2- {4- [ 2,4-bis (trichloromethyl) -s-triazin-6-yl] phenylthio} acetate, benzyl-2- {4- [2,4-bis (trichloromethyl) ) -S-triazin-6-yl] phenylthio} acetate, 3- {chloro-4- [2,4-bis (trichloromethyl) -s-triazin-6-yl] phenylthio} propionic acid, 3- {4 -[2,4-bis (trichloromethyl) -s-triazin-6-yl] phenylthio} propionamide, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-p-methoxystyryl-s-triazine, 2,4- Bis (trichloromethyl) -6- (1-p-dimethylaminophenyl) -1,3, -butadienyl-s-triazine, 2-trichloromethyl-4-amino-6-p-methoxystyryl-s-triazine and the like Yes, it is not limited to this.

上記オキシム系化合物は、1,2−オクタジオン、−1−(4−フェニルチオ)フェニル、−2−(o−ベンゾイルオキシム)(チバガイギー社、CGI124)、エタノン、−1−(9−エチル)−6−(2−メチルベンゾイル−3−イル)−、1−(O−アセチルオキシム)(CGI242)、N−1919(アデカ社)などがあり、これに限定されない。   The oxime compounds are 1,2-octadione, -1- (4-phenylthio) phenyl, -2- (o-benzoyloxime) (Ciba Geigy, CGI124), ethanone, -1- (9-ethyl) -6. There are-(2-methylbenzoyl-3-yl)-, 1- (O-acetyloxime) (CGI242), N-1919 (Adeka) and the like, but not limited thereto.

上記溶媒は、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、クロロホルム、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、1,1,1−トリクロロエタン、1,1,2−トリクロロエタン、1,1,2−トリクロロエテン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、プロパノール、ブタノール、t−ブタノール、2−エトキシプロパノール、2−メトキシプロパノール、3−メトキシブタノール、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、プロピレングリコールメチルエーテルアセタート、プロピレングリコールエチルエーテルアセタート、3−メトキシブチルアセタート、エチル3−エトキシプロピオネート、エチルセロソルブアセタート、メチルセロソルブアセタート、ブチルアセタート、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びジプロピレングリコールモノメチルエーテルからなる群より選択される1種以上であってもよいが、これにのみ限定されるものではない。   The above solvents are acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether. , Diethylene glycol methyl ethyl ether, chloroform, methylene chloride, 1,2-dichloroethane, 1,1,1-trichloroethane, 1,1,2-trichloroethane, 1,1,2-trichloroethene, hexane, heptane, octane, cyclohexane, Benzene, toluene, xylene, methanol, ethanol, isopropanol Propanol, butanol, t-butanol, 2-ethoxypropanol, 2-methoxypropanol, 3-methoxybutanol, cyclohexanone, cyclopentanone, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate, It may be at least one selected from the group consisting of ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, methyl cellosolve acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether and dipropylene glycol monomethyl ether, It is not limited to only.

本明細書の一実施態様によれば、上記樹脂組成物中の固形分の総重量を基準に、上記色材組成物の含量は5重量%から90重量%であり、上記バインダー樹脂の含量は1重量%から30重量%であり、上記酸化防止剤の含量は0.001重量%から20重量%であり、上記光開始剤の含量は0.1重量% から20重量%であり、上記多官能性モノマーの含量は0.1重量%から50重量%である。   According to an embodiment of the present specification, the content of the color material composition is 5% by weight to 90% by weight based on the total weight of solids in the resin composition, and the content of the binder resin is 1 to 30% by weight, the antioxidant content is 0.001 to 20% by weight, the photoinitiator content is 0.1 to 20% by weight, The content of the functional monomer is 0.1% to 50% by weight.

上記固形分の総重量とは、樹脂組成物において溶媒を除く成分の総重量の合計を意味する。固形分及び各成分の固形分を基準とした重量%の基準は、液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィーなどの当業界で使用される一般的な分析手段で測定することができる。   The said total weight of solid content means the sum total of the total weight of the component except a solvent in a resin composition. The weight percentage standard based on the solid content and the solid content of each component can be measured by a general analytical means used in the art such as liquid chromatography or gas chromatography.

本明細書の一実施態様によれば、上記樹脂組成物は、光架橋増感剤、硬化促進剤、酸化防止剤、密着促進剤、界面活性剤、熱重合防止剤、紫外線吸収剤、分散剤及びレベリング剤からなる群より選択される1又は2以上の添加剤を追加で含む。   According to one embodiment of the present specification, the resin composition includes a photocrosslinking sensitizer, a curing accelerator, an antioxidant, an adhesion promoter, a surfactant, a thermal polymerization inhibitor, an ultraviolet absorber, and a dispersant. And one or more additives selected from the group consisting of leveling agents.

本明細書の一実施態様によれば、上記添加剤の含量は、上記樹脂組成物中の固形分の総重量を基準に0.1重量%から20重量%である。   According to one embodiment of the present specification, the content of the additive is 0.1% by weight to 20% by weight based on the total weight of the solid content in the resin composition.

上記光架橋増感剤は、ベンゾフェノン、4,4−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルアミノベンゾフェノン、メチル−o−ベンゾイルベンゾエート、3,3−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、3,3,4,4−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系化合物;9−フルオレノン、2−クロロ−9−フルオレノン、2−メチル−9−フルオレノンなどのフルオレノン系化合物;チオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロピルオキシチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジイソプロピルチオキサントンなどのチオキサントン系化合物;キサントン、2−メチルキサントンなどのキサントン系化合物;アントラキノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、t−ブチルアントラキノン、2,6−ジクロロ−9,10−アントラキノンなどのアントラキノン系化合物;9−フェニルアクリジン、1,7−ビス(9−アクリジニル)ヘプタン、1,5−ビス(9−アクリジニルペンタン)、1,3−ビス(9−アクリジニル)プロパンなどのアクリジン系化合物;ベンジル、1,7,7−トリメチル−ビシクロ[2,2,1]ヘプタン−2,3−ジオン、9,10−フェナントレンキノンなどのジカルボニル化合物;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキシドなどのホスフィンオキシド系化合物;メチル−4−(ジメチルアミノ)ベンゾエート、エチル−4−(ジメチルアミノ)ベンゾエート、2−n−ブトキシエチル−4−(ジメチルアミノ)ベンゾエートなどのベンゾエート系化合物;2,5−ビス(4−ジエチルアミノベンザル)シクロペンタノン、2,6−ビス(4−ジエチルアミノベンザル)シクロヘキサノン、2,6−ビス(4−ジエチルアミノベンザル)−4−メチル−シクロペンタノンなどのアミノシナジスト;3,3−カルボニルビニル−7−(ジエチルアミノ)クマリン、3−(2−ベンゾチアゾリル)−7−(ジエチルアミノ)クマリン、3−ベンゾイル−7−(ジエチルアミノ)クマリン、3−ベンゾイル−7−メトキシ−クマリン、10,10−カルボニルビス[1,1,7,7−テトラメチル−2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H,11H−C1]−ベンゾピラノ[6,7,8−ij]−キノリジン−11−オンなどのクマリン系化合物;4−ジエチルアミノカルコン、4−アジドベンザルアセトフェノンなどのカルコン化合物;2−ベンゾイルメチレン、3−メチル−b−ナフトチアゾリン;からなる群より選択される1種以上を使用することができる。   The photocrosslinking sensitizers are benzophenone, 4,4-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 2,4,6-trimethylaminobenzophenone, methyl-o-benzoylbenzoate, 3, Benzophenone compounds such as 3-dimethyl-4-methoxybenzophenone and 3,3,4,4-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone; 9-fluorenone, 2-chloro-9-fluorenone, 2-methyl-9 A fluorenone compound such as fluorenone; a thioxanthone compound such as thioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 1-chloro-4-propyloxythioxanthone, isopropylthioxanthone, diisopropylthioxanthone; Xanthone compounds such as nthone and 2-methylxanthone; anthraquinone compounds such as anthraquinone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, t-butylanthraquinone and 2,6-dichloro-9,10-anthraquinone; 9-phenylacridine Acridine compounds such as 1,7-bis (9-acridinyl) heptane, 1,5-bis (9-acridinylpentane), 1,3-bis (9-acridinyl) propane; Dicarbonyl compounds such as 7-trimethyl-bicyclo [2,2,1] heptane-2,3-dione and 9,10-phenanthrenequinone; 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,6- Dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylpho Phosphine oxide compounds such as fin oxide; benzoate compounds such as methyl-4- (dimethylamino) benzoate, ethyl-4- (dimethylamino) benzoate, 2-n-butoxyethyl-4- (dimethylamino) benzoate; 2 , 5-bis (4-diethylaminobenzal) cyclopentanone, 2,6-bis (4-diethylaminobenzal) cyclohexanone, 2,6-bis (4-diethylaminobenzal) -4-methyl-cyclopentanone, etc. 3,3-carbonylvinyl-7- (diethylamino) coumarin, 3- (2-benzothiazolyl) -7- (diethylamino) coumarin, 3-benzoyl-7- (diethylamino) coumarin, 3-benzoyl-7 -Methoxy-coumarin, 10,10-carboni Such as rubis [1,1,7,7-tetramethyl-2,3,6,7-tetrahydro-1H, 5H, 11H-C1] -benzopyrano [6,7,8-ij] -quinolizin-11-one One or more selected from the group consisting of coumarin compounds; chalcone compounds such as 4-diethylaminochalcone and 4-azidobenzalacetophenone; 2-benzoylmethylene and 3-methyl-b-naphthothiazoline can be used. .

上記硬化促進剤としては、硬化及び機械的強度を高めるために使用され、具体的に2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2,5−ジメルカプト−1,3,4−チアジアゾール、2−メルカプト−4,6−ジメチルアミノピリジン、ペンタエリスリトール−テトラキス(3−メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトール−トリス(3−メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトール−テトラキス(2−メルカプトアセタート)、ペンタエリスリトール−トリス(2−メルカプトアセタート)、トリメチロールプロパン−トリス(2−メルカプトアセタート)、及びトリメチロールプロパン−トリス(3−メルカプトプロピオネート)からなる群より選択される1種以上を使用することができる。   The curing accelerator is used to increase curing and mechanical strength, specifically 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2,5-dimercapto-1,3. 4-thiadiazole, 2-mercapto-4,6-dimethylaminopyridine, pentaerythritol-tetrakis (3-mercaptopropionate), pentaerythritol-tris (3-mercaptopropionate), pentaerythritol-tetrakis (2-mercapto) Acetate), pentaerythritol-tris (2-mercaptoacetate), trimethylolpropane-tris (2-mercaptoacetate), and trimethylolpropane-tris (3-mercaptopropionate). It is possible to use one or more of that.

本明細書で使用される密着促進剤としては、メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロイルオキシプロピルジメトキシシラン、メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、メタクリロイルオキシプロピルジメトキシシランなどのメタクリロイルシランカップリング剤の中から1種以上を選択して使用することができ、アルキルトリメトキシシランとしてオクチルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシランなどから1種以上を選択して使用することができる。   The adhesion promoter used in the present specification is one of methacryloylsilane coupling agents such as methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, methacryloyloxypropyldimethoxysilane, methacryloyloxypropyltriethoxysilane, and methacryloyloxypropyldimethoxysilane. The above can be selected and used, and one or more kinds of octyltrimethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane and the like can be selected and used as the alkyltrimethoxysilane.

上記界面活性剤は、シリコーン系界面活性剤又はフッ素系界面活性剤であり、具体的にシリコーン系界面活性剤は、BYK−Chemie社のBYK−077、BYK−085、BYK−300、BYK−301、BYK−302、BYK−306、BYK−307、BYK−310、BYK−320、BYK−322、BYK−323、BYK−325、BYK−330、BYK−331、BYK−333、BYK−335、BYK−341v344、BYK−345v346、BYK−348、BYK−354、BYK−355、BYK−356、BYK−358、BYK−361、BYK−370、BYK−371、BYK−375、BYK−380、BYK−390などを使用することができ、フッ素系界面活性剤としては、DIC(DaiNippon Ink & Chemicals)社のF−114、F−177、F−410、F−411、F−450、F−493、F−494、F−443、F−444、F−445、F−446、F−470、F−471、F−472SF、F−474、F−475、F−477、F−478、F−479、F−480SF、F−482、F−483、F−484、F−486、F−487、F−172D、MCF−350SF、TF−1025SF、TF−1117SF、TF−1026SF、TF−1128、TF−1127、TF−1129、TF−1126、TF−1130、TF−1116SF、TF−1131、TF1132、TF1027SF、TF−1441、TF−1442などを使用することができるが、これにのみ限定されるものではない。   The surfactant is a silicone-based surfactant or a fluorine-based surfactant. Specifically, the silicone-based surfactant is BYK-077, BYK-085, BYK-300, BYK-301 manufactured by BYK-Chemie. BYK-302, BYK-306, BYK-307, BYK-310, BYK-320, BYK-322, BYK-323, BYK-325, BYK-330, BYK-331, BYK-333, BYK-335, BYK -341v344, BYK-345v346, BYK-348, BYK-354, BYK-355, BYK-356, BYK-358, BYK-361, BYK-370, BYK-371, BYK-375, BYK-380, BYK-390 Etc., and as a fluorinated surfactant, DIC Dai-Nippon Ink & Chemicals) F-114, F-177, F-410, F-411, F-450, F-493, F-494, F-443, F-444, F-445, F-446 F-470, F-471, F-472SF, F-474, F-475, F-477, F-478, F-479, F-480SF, F-482, F-483, F-484, F -486, F-487, F-172D, MCF-350SF, TF-1025SF, TF-1117SF, TF-1026SF, TF-1128, TF-1127, TF-1129, TF-1126, TF-1130, TF-1116SF TF-1131, TF1132, TF1027SF, TF-1441, TF-1442, etc., It is not limited only to the LES.

上記酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系(Hindered phenol)酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、チオ系化防止剤及びホスフィン系酸化防止剤からなる群より選択される1種以上であってもよいが、これにのみ限定されるものではない。   The antioxidant may be one or more selected from the group consisting of a hindered phenol antioxidant, an amine antioxidant, a thio antioxidant and a phosphine antioxidant. Although it is good, it is not limited only to this.

上記酸化防止剤の具体的な例としては、リン酸、トリメチルホスフェート又はトリエチルホスフェートのようなリン酸系熱安定剤;2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、オクタデシル−3−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)プロピオネート、テトラビス[メチレン−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスファイトジエチルエステル、2,2−チオビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,6−g,t−ブチルフェノール 4,4'−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4'−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)又はビス[3,3−ビス−(4'−ヒドロキシ−3'−tert−ブチルフェニル)ブタン酸]グリコールエステル(Bis[3,3−bis−(4'−hydroxy−3'−tert−butylphenyl)butanoicacid]glycol ester)のようなヒンダードフェノール(Hindered phenol)系一次酸化防止剤;フェニル−α−ナフチルアミン、フェニル−β−ナフチルアミン、N,N'−ジフェニル−p−フェニレンジアミン又はN,N'−ジ−β−ナフチル−p−フェニレンジアミンのようなアミン系二次酸化防止剤;ジラウリルジスルフィド、ジラウリルチオプロピオネート、ジステアリルチオプロピオネート、メルカプトベンゾチアゾール又はテトラメチルチウラムジスルフィドテトラビス[メチレン−3−(ラウリルチオ)プロピオネート]メタンなどのThio系二次酸化防止剤;又はトリフェニルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリイソデシルホスファイト、ビス(2,4−ジブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト(Bis (2,4−ditbutylphenyl)Pentaerythritol Diphosphite)又は(1,1'−ビフェニル)−4,4'−ジイルビス亜ホスホン酸テトラキス[2,4−ビス(1,1−ジメチルエチル)フェニル]エステル((1,1'−Biphenyl)−4,4'−Diylbisphosphonous acid tetrakis[2,4−bis(1,1−dimethylethyl)phenyl] ester)のようなホスファイト系二次酸化防止剤が挙げられる。   Specific examples of the antioxidant include phosphoric acid-based heat stabilizers such as phosphoric acid, trimethyl phosphate or triethyl phosphate; 2,6-di-t-butyl-p-cresol, octadecyl-3- (4 -Hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) propionate, tetrabis [methylene-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] methane, 1,3,5-trimethyl- 2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl phosphite diethyl ester, 2,2-thiobis ( 4-methyl-6-tert-butylphenol), 2,6-g, tert-butylphenol 4,4′-butylidene-bis (3-methyl-6-tert-butylphenol) Nol), 4,4′-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol) or bis [3,3-bis- (4′-hydroxy-3′-tert-butylphenyl) butanoic acid] glycol ester (Bis) Hindered phenol-based primary antioxidants such as [3,3-bis- (4′-hydroxy-3′-tert-butylphenyl) butanoicacid] glycol ester); phenyl-α-naphthylamine, phenyl-β Amine-based secondary antioxidants such as naphthylamine, N, N′-diphenyl-p-phenylenediamine or N, N′-di-β-naphthyl-p-phenylenediamine; dilauryl disulfide, dilaurylthiopropio , Distearyl thiopropionate, mercap Thio secondary antioxidants such as tobenzothiazole or tetramethylthiuram disulfide tetrabis [methylene-3- (laurylthio) propionate] methane; or triphenyl phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, triisodecyl phosphite Bis (2,4-dibutylphenyl) pentaerythritol diphosphite (Bis (2,4-dibutylphenyl) Pentaerythritol Diphosphite) or (1,1′-biphenyl) -4,4′-diylbisphosphonite tetrakis [2, 4-bis (1,1-dimethylethyl) phenyl] ester ((1,1′-Biphenyl) -4,4′-Diylbisphosphonoacid acid tetrakis [2,4-bis ( , 1-dimethylethyl) phenyl] ester phosphite secondary antioxidant such as) and the like.

上記紫外線吸収剤としては、2−(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノンなどを使用することができるが、これに限定されず、当業界で一般に使用されるものがいずれも使用されることができる。   As the ultraviolet absorber, 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chloro-benzotriazole, alkoxybenzophenone, and the like can be used, but are not limited thereto. Any of those commonly used in the art can be used.

上記熱重合防止剤としては、例えばp−アニソール、ヒドロキノン、ピロカテコール(pyrocatechol)、t−ブチルカテコール(t−butyl catechol)、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアンモニウム塩、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、ベンゾキノン、4,4−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2−メルカプトイミダゾール及びフェノチアジン(phenothiazine)からなる群より選択された1種以上を含むことができるが、これらにのみ限定されるものではなく、当該技術分野に一般に知られているものを含むことができる。   Examples of the thermal polymerization inhibitor include p-anisole, hydroquinone, pyrocatechol, t-butylcatechol, N-nitrosophenylhydroxylamine ammonium salt, N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, benzoquinone, 4,4-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2-methylenebis (4-methyl-6-t-) Butylphenol), 2-mercaptoimidazole and phenothiazine, but is not limited thereto and is generally known in the art. It can include those who are.

上記分散剤は、あらかじめ顔料を表面処理する形態で顔料に内部添加させる方法、又は顔料に外部添加させる方法で使用することができる。上記分散剤としては、化合物型、ノニオン性、アニオン性又はカチオン性分散剤を使用することができ、フッ素系、エステル系、カチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性界面活性剤などが挙げられる。これらはそれぞれ又は2種以上を組み合わせて使用されることができる。   The dispersing agent can be used by a method of internally adding the pigment in a form in which the pigment is surface-treated in advance or a method of externally adding the pigment to the pigment. As the dispersant, a compound type, nonionic, anionic or cationic dispersant can be used, and examples thereof include fluorine-based, ester-based, cationic-based, anionic-based, nonionic-based, and amphoteric surfactants. These can be used either individually or in combination of two or more.

具体的に、上記分散剤は、ポリアルキレングリコール及びこれのエステル、ポリオキシアルキレン多価アルコール、エステルアルキレンオキシド付加物、アルコールアルキレンオキシド付加物、スルホン酸エステル、スルホン酸塩、カルボン酸エステル、カルボン酸塩、アルキルアミドアルキレンオキシド付加物及びアルキルアミンからなる群より選択された1種以上があるが、これに限定されるものではない。   Specifically, the dispersant includes polyalkylene glycol and esters thereof, polyoxyalkylene polyhydric alcohol, ester alkylene oxide adduct, alcohol alkylene oxide adduct, sulfonic acid ester, sulfonate, carboxylic acid ester, carboxylic acid There is at least one selected from the group consisting of a salt, an alkylamide alkylene oxide adduct, and an alkylamine, but is not limited thereto.

上記レベリング剤としては、ポリマー性であるか非ポリマー性であってもよい。ポリマー性のレベリング剤の具体的な例としては、ポリエチレンイミン、ポリアミドアミン、アミンとエポキシドの反応生成物が挙げられ、非ポリマー性のレベリング剤の具体的な例としては、非ポリマー硫黄含有及び非ポリマー窒素含有化合物を含むが、これに限定されず、当業界で一般に使用されるものがいずれも使用されることができる。   The leveling agent may be polymeric or non-polymeric. Specific examples of polymeric leveling agents include polyethyleneimine, polyamidoamine, reaction products of amines and epoxides, and specific examples of nonpolymeric leveling agents include non-polymeric sulfur-containing and non-polymeric leveling agents. Any of those commonly used in the art can be used, including but not limited to polymeric nitrogen-containing compounds.

本明細書の一実施態様によれば、上記樹脂組成物を含むカラーフィルターを提供する。   According to one embodiment of the present specification, a color filter including the resin composition is provided.

上記カラーフィルターは、上記色材組成物を含む樹脂組成物を用いて製造されることができる。上記樹脂組成物を基板上に塗布してコーティング膜を形成し、上記コーティング膜を露光、現像及び硬化することによりカラーフィルターを形成することができる。   The color filter can be manufactured using a resin composition containing the color material composition. The resin composition is applied onto a substrate to form a coating film, and the coating film is exposed, developed, and cured to form a color filter.

上記塗布方法としては、特に制限されないが、スプレー法、ロールコート法、スピンコート法などを使用することができ、一般にスピンコート法を広く使用する。また、塗布膜を形成した後、場合によって減圧下に残留溶媒を一部除去することができる。   Although it does not restrict | limit especially as said application | coating method, A spray method, a roll coat method, a spin coat method, etc. can be used, A spin coat method is generally used widely. Moreover, after forming a coating film, a part of residual solvent can be removed under reduced pressure depending on the case.

本明細書に係る樹脂組成物を硬化させるための光源としては、例えば波長が250nmから450nmの光を発散する水銀蒸気アーク(arc)、炭素アーク、Xeアークなどがあるが、必ずしもこれに限定されるものではない。   Examples of the light source for curing the resin composition according to the present specification include a mercury vapor arc (arc), a carbon arc, and a Xe arc that emit light having a wavelength of 250 nm to 450 nm, but are not necessarily limited thereto. It is not something.

本明細書に係る樹脂組成物は、薄膜トランジスタ液晶表示装置(TFT LCD)カラーフィルター製造用顔料分散型感光材、薄膜トランジスタ液晶表示装置(TFT LCD)又は有機発光ダイオードのブラックマトリクス形成用感光材、オーバーコート層形成用感光材、コラムスペーサー感光材、光硬化型塗料、光硬化性インク、光硬化性接着剤、印刷版、プリント配線板用感光材、プラズマディスプレイパネル(PDP)用感光材などに使用することができ、その用途は特に制限しない。   The resin composition according to the present specification includes a pigment dispersion type photosensitive material for manufacturing a thin film transistor liquid crystal display (TFT LCD) color filter, a thin film transistor liquid crystal display (TFT LCD) or a black matrix forming photosensitive material for an organic light emitting diode, and an overcoat. Used for layer forming photosensitive materials, column spacer photosensitive materials, photocurable paints, photocurable inks, photocurable adhesives, printing plates, printed wiring board photosensitive materials, plasma display panel (PDP) photosensitive materials, etc. The application is not particularly limited.

本明細書の一実施態様に係る樹脂組成物は、耐熱性に優れ、熱処理による色の変化が少なくて、カラーフィルター製造時の硬化過程によっても色再現率が高く、輝度及びコントラストの高いカラーフィルターを提供することができる。   The resin composition according to one embodiment of the present specification is a color filter having excellent heat resistance, little color change due to heat treatment, high color reproducibility even during the curing process during color filter manufacture, and high brightness and contrast. Can be provided.

上記基板は、ガラス板、シリコンウェーハ及びポリエーテルサルホン(Polyethersulfone、PES)、ポリカーボネート(Polycarbonate、PC)などのプラスチック基材の板などであってもよく、その種類が特に制限されるものではない。   The substrate may be a glass plate, a silicon wafer, a plate of a plastic substrate such as polyethersulfone (PES), polycarbonate (Polycarbonate, PC), etc., and the type is not particularly limited. .

上記カラーフィルターは、赤色パターン、緑色パターン、青色パターン、ブラックマトリクスを含むことができる。   The color filter may include a red pattern, a green pattern, a blue pattern, and a black matrix.

また一つの実施態様によれば、上記カラーフィルターは、オーバーコート層をさらに含むことができる。   According to another embodiment, the color filter may further include an overcoat layer.

カラーフィルターのカラーピクセルの間にはコントラストを向上する目的でブラックマトリクスと呼ばれる格子状の黒色パターンを配置することができる。ブラックマトリクスの材料として、クロムを使用することができる。この場合、クロムをガラス基板全体に蒸着させてエッチング処理によってパターンを形成する方式を用いることができる。ところが、工程上の高コスト、クロムの高反射率、クロム廃液による環境汚染を考慮して、微細加工が可能な顔料分散法による樹脂ブラックマトリクスを使用することができる。   A grid-like black pattern called a black matrix can be arranged between the color pixels of the color filter in order to improve contrast. Chrome can be used as the black matrix material. In this case, it is possible to use a method in which chromium is deposited on the entire glass substrate and a pattern is formed by etching. However, a resin black matrix by a pigment dispersion method that can be finely processed can be used in consideration of high cost in the process, high reflectivity of chromium, and environmental contamination due to chromium waste liquid.

本明細書の一実施態様に係るブラックマトリクスは、色材としてブラック顔料又はブラック染料を使用することができる。例えば、カーボンブラックを単独で使用するか、カーボンブラックと着色顔料とを混合して使用することができ、このとき、遮光性が足りない着色顔料を混合するから相対的に色材の量が増加しても、膜の強度又は基板に対する密着性が低下しない長所がある。   In the black matrix according to one embodiment of the present specification, a black pigment or a black dye can be used as a coloring material. For example, carbon black can be used alone, or carbon black and colored pigment can be mixed and used. At this time, the amount of coloring material is relatively increased because of the mixing of colored pigments with insufficient light shielding properties. However, there is an advantage that the strength of the film or the adhesion to the substrate is not lowered.

本明細書に係るカラーフィルターを含むディスプレイ装置を提供する。   A display device including a color filter according to the present specification is provided.

上記ディスプレイ装置は、プラズマディスプレイパネル(Plasma Display Panel、PDP)、発光ダイオード(Light Emitting Diode、LED)、有機発光素子(Organic Light Emitting Diode、OLED)、液晶表示装置(Liquid Crystal Display、LCD)、薄膜トランジスタ液晶表示装置(Thin Film Transistor− Liquid Crystal Display、LCD−TFT)及び陰極線管(Cathode Ray Tube、CRT)のうちいずれか一つであってもよい。   The display device includes a plasma display panel (PDP), a light emitting diode (LED), an organic light emitting diode (OLED), a liquid crystal display (LCD), and a liquid crystal display (LCD). Any one of a liquid crystal display device (Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display, LCD-TFT) and a cathode ray tube (CRT) may be used.

以下、本明細書を実施例を挙げて詳細に説明する。下記実施例は、本明細書を説明するためのものであって、本明細書の範囲は、下記の特許請求の範囲に記載の範囲並びにその置換及び変更を含み、実施例の範囲に限定されない。   Hereinafter, the present specification will be described in detail with reference to examples. The following examples are for explaining the present specification, and the scope of the present specification includes the scope described in the following claims and their substitutions and modifications, and is not limited to the scope of the examples. .

[製造例1]化合物Aの製造
Naphthalene−1−amine 0.55g(0.38mmol、1.2eq)にAcOH 1mL、Cyclohexanone 0.3g(0.31mmol、1eq)、メチレンクロライド 1mLを添加して30分程度撹拌した。その後、NaBH(OAC) 1.0g(4.7mmol、1.5eq)をゆっくり添加した。室温で16時間程度撹拌後に蒸留水を添加し、メチレンクロライドで抽出して、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧乾燥した。得られた生成物をカラムで(酢酸エチル:ヘキサン=1:9の割合)で精製して、化合物Aを0.74g得た。(収率86%)
[Production Example 1] Production of Compound A
1 mL of AcOH, 0.3 g (0.31 mmol, 1 eq) of Cyclohexane and 1 mL of methylene chloride were added to 0.55 g (0.38 mmol, 1.2 eq) of Naphtharene-1-amine and stirred for about 30 minutes. Thereafter, 1.0 g (4.7 mmol, 1.5 eq) of NaBH (OAC) 3 was slowly added. After stirring at room temperature for about 16 hours, distilled water was added and extracted with methylene chloride. The organic layer was dried over sodium sulfate and dried under reduced pressure. The obtained product was purified by a column (ratio of ethyl acetate: hexane = 1: 9) to obtain 0.74 g of Compound A. (Yield 86%)

[製造例2]化合物Bの製造
Naphthalene−1−amine 3.7g(0.026mol、1eq)にジメチルホルムアミド(DMF)50mlを添加して、室温でゆっくり炭酸カリウム17.85g(0.13mol、5eq)を添加した後、30分間撹拌した。その後、臭化アリル7.8g(0.065mol、2.5eq)を添加して室温で4時間撹拌した。反応終了後、蒸留水を添加しエーテルで抽出して、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧乾燥した。得られた生成物をカラムで(酢酸エチル:ヘキサン=1:100から1:80の割合)精製して、化合物Bを1.5g、34%の収率で得た。
[Production Example 2] Production of Compound B
After adding 50 ml of dimethylformamide (DMF) to 3.7 g (0.026 mol, 1 eq) of Naphtharene-1-amine, slowly adding 17.85 g (0.13 mol, 5 eq) of potassium carbonate at room temperature, followed by stirring for 30 minutes did. Then, 7.8 g (0.065 mol, 2.5 eq) of allyl bromide was added and stirred at room temperature for 4 hours. After completion of the reaction, distilled water was added and extracted with ether, and the organic layer was dried over sodium sulfate and dried under reduced pressure. The obtained product was purified with a column (ratio of ethyl acetate: hexane = 1: 100 to 1:80) to obtain 1.5 g of Compound B in a yield of 34%.

[製造例3]化合物Cの製造
Naphthalene−1−amine 3.0g(0.021mol、1eq)にメチレンクロライド30mLを添加して、室温でゆっくりトリエチルアミン2.75g(0.027mol、1.3eq)を添加した。その後、メタクリル酸4.8g(0.056mol、2.7eq)を添加して常温で16時間撹拌した。反応終了後、蒸留水を添加しメチレンクロライドで抽出して、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧乾燥した。得られた生成物をカラムで(酢酸エチル:ヘキサン=1:10〜1:15の割合)精製して、化合物Cを0.9g、20%の収率で得た。
[Production Example 3] Production of Compound C
30 mL of methylene chloride was added to 3.0 g (0.021 mol, 1 eq) of Naphthalene-1-amine, and 2.75 g (0.027 mol, 1.3 eq) of triethylamine was slowly added at room temperature. Thereafter, 4.8 g (0.056 mol, 2.7 eq) of methacrylic acid was added and stirred at room temperature for 16 hours. After completion of the reaction, distilled water was added and extracted with methylene chloride, and the organic layer was dried over sodium sulfate and dried under reduced pressure. The obtained product was purified by a column (ratio of ethyl acetate: hexane = 1: 10 to 1:15) to obtain 0.9 g of Compound C in a yield of 20%.

[製造例4]化合物Dの製造
4−(Naphthalen−1−ylamino)cyclohexan−1−ol 2.41g(0.01mol、1eq)にメチレンクロライド25mLを添加して、室温でゆっくりトリエチルアミン1.32g(0.013mol、1.3eq)を添加した。その後、メタクリル酸2.3g(0.022mol、2.2eq)を添加して常温で16時間撹拌した。反応終了後、蒸留水を添加しメチレンクロライドで抽出して、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧乾燥した。得られた生成物をカラムで(酢酸エチル:ヘキサン=1:5の割合)精製して、化合物Dを2.3g、74%の収率で得た。
[Production Example 4] Production of Compound D
4- (Naphthalen-1-ylamino) cyclohexan-1-ol (2.41 g, 0.01 mol, 1 eq) was added with 25 mL of methylene chloride, and 1.32 g (0.013 mol, 1.3 eq) of triethylamine was slowly added at room temperature. Added. Then, 2.3 g (0.022 mol, 2.2 eq) of methacrylic acid was added and stirred at room temperature for 16 hours. After completion of the reaction, distilled water was added and extracted with methylene chloride, and the organic layer was dried over sodium sulfate and dried under reduced pressure. The obtained product was purified with a column (ratio of ethyl acetate: hexane = 1: 5) to obtain 2.3 g of Compound D in a yield of 74%.

[製造例5]化合物Eの製造
窒素雰囲気下に3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸2.92g(0.01mol、1.5eq)をテトラヒドロフラン 30mLに溶かした後、氷浴(ice bath)を設置した。その後、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド2.54g(0.017mol、2.4eq)を入れて約15分間撹拌後、4−ジメチルアミノピリジン(4−Dimethylaminopyridine)0.34g(0.003mol、0.4eq)を入れた。15分後、4−(Naphthalen−1−ylamino)cyclohexan−1−ol 1.69g(0.007mol、1eq)をテトラヒドロフラン10mLに溶かしてゆっくり添加した。24時間撹拌後、メチレンクロライドで抽出、減圧乾燥した。カラムで(酢酸エチル:ヘキサン=1:5の割合)精製して、化合物Eを2.3g(収率65%)得た。
[Production Example 5] Production of Compound E
In a nitrogen atmosphere, 2.92 g (0.01 mol, 1.5 eq) of 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionic acid was dissolved in 30 mL of tetrahydrofuran, and then an ice bath. Was installed. Thereafter, 2.54 g (0.017 mol, 2.4 eq) of 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide was added and stirred for about 15 minutes, and then 0.34 g of 4-dimethylaminopyridine (4-dimethylaminopyridine). (0.003 mol, 0.4 eq) was added. After 15 minutes, 1.69 g (0.007 mol, 1 eq) of 4- (Naphthalen-1-ylamino) cyclohexan-1-ol was dissolved in 10 mL of tetrahydrofuran and slowly added. After stirring for 24 hours, the mixture was extracted with methylene chloride and dried under reduced pressure. Purification by column (ratio of ethyl acetate: hexane = 1: 5) gave 2.3 g of compound E (yield 65%).

[製造例6]化合物Fの製造
窒素雰囲気下で4,4−ジフルオロベンゾフェノン15g(0.069mol、1eq)と2−エチルアミノエタノール31.1g(0.35mol、5eq)を入れて、160℃で撹拌しながら昇温させた。48時間160℃で反応後、常温に冷却した。蒸留水を入れてメチレンクロライドで抽出後、減圧乾燥した。常温で酢酸エチルで再結晶精製して、化合物Fを得た。(20g、収率 82%)
[Production Example 6] Production of Compound F
Under a nitrogen atmosphere, 15 g (0.069 mol, 1 eq) of 4,4-difluorobenzophenone and 31.1 g (0.35 mol, 5 eq) of 2-ethylaminoethanol were added, and the temperature was raised at 160 ° C. with stirring. After reacting at 160 ° C. for 48 hours, it was cooled to room temperature. Distilled water was added and extracted with methylene chloride, followed by drying under reduced pressure. Recrystallization and purification with ethyl acetate at room temperature gave Compound F. (20 g, 82% yield)

[製造例7]化合物Gの製造
窒素雰囲気下に3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル) プロピオン酸9.6g(0.035mol、3eq)をテトラヒドロフラン70mLに溶かした後、氷浴(ice bath)を設置した。反応器に1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド4.28g(0.028mol、2.4eq)を入れて約15分間撹拌後、4−ジメチルアミノピリジン(4−Dimethylaminopyridine)0.56g(0.005mol、0.4eq)を入れた。15分後、化合物F 4.10g(0.011mol、1eq)をテトラヒドロフラン30mLに溶かしてゆっくり添加した。24時間撹拌後、メチレンクロライドで抽出、減圧乾燥した。カラムで(酢酸エチル:ヘキサン=1:3の割合)精製して、化合物Gを4.31g、収率43%で得た。カラム後、3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸((3−(3,5−di−tert−buthyl−4−hydroxyphenyl) propanoic acid)が残っている場合、NaHCO(pH10)溶液で水洗してメチレンクロライドで抽出、減圧乾燥した。
[Production Example 7] Production of Compound G
In a nitrogen atmosphere, 9.6 g (0.035 mol, 3 eq) of 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionic acid was dissolved in 70 mL of tetrahydrofuran, and then an ice bath was installed. did. The reactor was charged with 4.28 g (0.028 mol, 2.4 eq) of 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide, stirred for about 15 minutes, and then 4-dimethylaminopyridine (0. 4-dimethylaminopyridine). 56 g (0.005 mol, 0.4 eq) was added. After 15 minutes, 4.10 g (0.011 mol, 1 eq) of Compound F was dissolved in 30 mL of tetrahydrofuran and slowly added. After stirring for 24 hours, the mixture was extracted with methylene chloride and dried under reduced pressure. Purification by column (ratio of ethyl acetate: hexane = 1: 3) gave 4.31 g of compound G in a yield of 43%. When 3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionic acid ((3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propanoic acid) remains after the column , Washed with NaHCO 3 (pH 10) solution, extracted with methylene chloride, and dried under reduced pressure.

[製造例8]化合物H及びIの製造
上記製造例7で3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸を1.5eq入れることを除いては、製造例7と同じ方法で製造した後、カラムで(酢酸エチル:ヘキサン=1:3の割合)精製して、化合物Hを2.5g、収率31.7%で得た。化合物H 2.5g(0.004mol、1eq)にメチレンクロライド30mLを添加した。室温でゆっくりトリエチルアミン0.53g(0.0053mol、1.3eq)を添加した。その後、メタクリル酸0.77g(0.009mol、2.2eq)を添加して常温で16時間撹拌した。反応終了後、蒸留水を添加しメチレンクロライドで抽出して、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧乾燥した。得られた生成物をカラムで(酢酸エチル:ヘキサン=1:5の割合)精製して、化合物Iを1.9g、68%の収率で得た。
[Production Example 8] Production of compounds H and I
Except for adding 1.5 eq of 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionic acid in Preparation Example 7 above, the same procedure as in Preparation Example 7 was followed by Purification was performed to obtain 2.5 g of Compound H in a yield of 31.7%. 30 mL of methylene chloride was added to 2.5 g (0.004 mol, 1 eq) of Compound H. Slowly 0.53 g (0.0053 mol, 1.3 eq) of triethylamine was added at room temperature. Thereafter, 0.77 g (0.009 mol, 2.2 eq) of methacrylic acid was added and stirred at room temperature for 16 hours. After completion of the reaction, distilled water was added and extracted with methylene chloride, and the organic layer was dried over sodium sulfate and dried under reduced pressure. The obtained product was purified with a column (ratio of ethyl acetate: hexane = 1: 5) to obtain 1.9 g of Compound I in a yield of 68%.

[製造例9]化合物Jの製造
化合物F 2g(0.006mol、1eq)にメチレンクロライド30mLを添加した。室温でゆっくりトリエチルアミン1.42g(0.028mol、2.5eq)を添加した。その後、メタクリル酸2.16g(0.025mol、2.5eq)を添加して常温で16時間撹拌した。反応終了後、蒸留水を添加しメチレンクロライドで抽出して、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧乾燥した。得られた生成物をカラムで(酢酸エチル:ヘキサン=1:3の割合)精製して、化合物Jを1.5g、54%の収率で得た。
[Production Example 9] Production of Compound J
To 2 g (0.006 mol, 1 eq) of Compound F, 30 mL of methylene chloride was added. Slowly 1.42 g (0.028 mol, 2.5 eq) of triethylamine was added at room temperature. Thereafter, 2.16 g (0.025 mol, 2.5 eq) of methacrylic acid was added and stirred at room temperature for 16 hours. After completion of the reaction, distilled water was added and extracted with methylene chloride, and the organic layer was dried over sodium sulfate and dried under reduced pressure. The obtained product was purified with a column (ratio of ethyl acetate: hexane = 1: 3) to obtain 1.5 g of Compound J in a yield of 54%.

[製造例10]化合物Kの製造
ピリジン40mLに化合物G 4.31g(0.005mol、1eq)を溶かした後、二炭酸ジ−t−ブチル(Di−tert−butyl dicarbonate)2.68g(0.012mol、2.5eq)をゆっくり添加した。15分後、4−ジメチルアミノピリジン(4−Dimethylaminopyridine)1.20g(0.01mol、2eq)を入れた。60℃で3時間反応後に蒸留水を入れて、メチレンクロライドで抽出及び減圧して溶媒を除去した後、カラムで(メチレンクロライド:酢酸エチル=10:1の割合)精製して、化合物Kを3.87g、73%の収率で得た。
[Production Example 10] Production of Compound K
After dissolving 4.31 g (0.005 mol, 1 eq) of Compound G in 40 mL of pyridine, 2.68 g (0.012 mol, 2.5 eq) of di-tert-butyl dicarbonate is slowly added. did. After 15 minutes, 1.20 g (0.01 mol, 2 eq) of 4-dimethylaminopyridine (4-dimethylaminopyridine) was added. After reacting at 60 ° C. for 3 hours, distilled water was added, and the solvent was removed by extraction and decompression with methylene chloride, followed by purification with a column (ratio of methylene chloride: ethyl acetate = 10: 1) to obtain compound K 3 , 87 g, 73% yield.

[製造例11]化合物Lの製造
上記製造例7で3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル) プロピオン酸の代わりに3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸を使用することを除いては、製造例7と同じ方法で製造して、化合物Lを5.83g、63%の収率で得た。
[Production Example 11] Production of Compound L
Except for using 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoic acid instead of 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionic acid in Preparation Example 7 above Was produced in the same manner as in Production Example 7 to obtain 5.83 g of Compound L in a yield of 63%.

[製造例12]化合物M及びM−1の製造
クロロホルムに化合物I 1.5g(0.002mol、1eq)をきれいに溶かした。窒素雰囲気下で塩化ホスホリル0.44g(0.003mol、1.3eq)を入れて約30分間撹拌後、1−シクロヘキシル−1−ナフチルアミン0.58g(0.0026mol、1.3eq)をクロロホルムに溶かしてゆっくり添加した。60℃で2時間反応後、蒸留水で反応を終結してメチレンクロライドで抽出した。減圧して溶媒を除去後、メチレンクロライド:酢酸エチル=1:1の割合でカラムして前駆体を除去した後、メチレンクロライド:メタノール:酢酸エチル=6:1:2に組成を変えて精製して、化合物Mを1.0g、49%の収率で得た。その後、化合物M 1.0g(0.001mol、1eq)をメタノール30mLに溶かした後、ビストリフルオロメタンスルホンイミド(BMI)0.46g(0.0016mol、1.5eq)を入れて常温で撹拌した。蒸留水を入れて析出される青色粉末を濾過して、化合物M−1を1.1g、87%の収率で得た。
[Production Example 12] Production of compounds M and M-1
Compound I (1.5 g, 0.002 mol, 1 eq) was thoroughly dissolved in chloroform. In a nitrogen atmosphere, 0.44 g (0.003 mol, 1.3 eq) of phosphoryl chloride was added and stirred for about 30 minutes, and then 0.58 g (0.0026 mol, 1.3 eq) of 1-cyclohexyl-1-naphthylamine was dissolved in chloroform. And slowly added. After reacting at 60 ° C. for 2 hours, the reaction was terminated with distilled water and extracted with methylene chloride. After removing the solvent under reduced pressure, the column was removed at a ratio of methylene chloride: ethyl acetate = 1: 1 to remove the precursor, and then purified by changing the composition to methylene chloride: methanol: ethyl acetate = 6: 1: 2. Thus, 1.0 g of Compound M was obtained with a yield of 49%. Thereafter, 1.0 g (0.001 mol, 1 eq) of Compound M was dissolved in 30 mL of methanol, and then 0.46 g (0.0016 mol, 1.5 eq) of bistrifluoromethanesulfonimide (BMI) was added and stirred at room temperature. The blue powder precipitated by adding distilled water was filtered to obtain 1.1 g of Compound M-1 in a yield of 87%.

[製造例13]化合物N及びN−1の製造
上記製造例12で化合物Iの代わりに化合物Jを使用し、化合物Aの代わりに化合物Eを使用したことを除いては、製造例12と同じ方法で製造して、化合物Nを0.95g、31%の収率で得、化合物N−1を1.1g、93%の収率で得た。
[Production Example 13] Production of compounds N and N-1
A compound N was prepared in the same manner as in Preparation Example 12 except that Compound J was used instead of Compound I in Example 12 and Compound E was used instead of Compound A. This was obtained in a yield of 31%, and 1.1 g of Compound N-1 was obtained in a yield of 93%.

[製造例14]化合物O及びO−1の製造
上記製造例12で化合物Iの代わりに化合物Gを使用し、化合物Aの代わりに化合物Bを使用したことを除いては、製造例12と同じ方法で製造して、化合物Oを0.48g、26%の収率で得、化合物0−1を0.5g、85%の収率で得た。
[Production Example 14] Production of compounds O and O-1
Except that Compound G was used in place of Compound I and Compound B was used in place of Compound A in Production Example 12 above, this was produced in the same manner as in Production Example 12, and 0.48 g of Compound O was obtained. Obtained in 26% yield, compound 0-1 was obtained in 0.5 g, 85% yield.

[製造例15]化合物P及びP−1の製造
上記製造例12で化合物Iの代わりに化合物Gを使用し、化合物Aの代わりに化合物Cを使用したことを除いては、製造例12と同じ方法で製造して、化合物Pを0.77g、41%の収率で得、化合物P−1を0.75g、79%の収率で得た。
[Production Example 15] Production of compounds P and P-1
Except that Compound G was used instead of Compound I and Compound C was used instead of Compound A in Preparation Example 12, the same procedure as in Preparation Example 12 was carried out to prepare 0.77 g of Compound P. Obtained in a yield of 41%, 0.75 g of compound P-1 was obtained in a yield of 79%.

[製造例16]化合物Q及びQ−1の製造
上記製造例12で化合物Iの代わりに化合物Gを使用し、化合物Aの代わりに化合物Dを使用したことを除いては、製造例12と同じ方法で製造して、化合物Qを0.82g、39%の収率で得、化合物Q−1を0.75g、76%の収率で得た。
[Production Example 16] Production of compounds Q and Q-1
Except that Compound G was used in place of Compound I in Example 12 and Compound D was used in place of Compound A, the compound was prepared in the same manner as in Example 12, and 0.82 g of Compound Q was obtained. Obtained in a yield of 39%, 0.75 g of compound Q-1 was obtained in a yield of 76%.

[製造例17]化合物Rの製造
アニオンは韓国公開特許第2015−0009447号公報の合成例1の方法と同一に製造した。化合物M 0.5g(0.0005mol、1eq)をジメチルホルムアミド10gにきれいに溶かす。アニオン0.27g(0.0008mol、1.5eq)を添加した。55℃で3時間撹拌後に室温に冷却させる。蒸留水1000gに1時間撹拌しながら滴下した後、減圧濾過して、化合物Rを0.48g、74%の収率で得た。
[Production Example 17] Production of Compound R
The anion was produced in the same manner as in Synthesis Example 1 of Korean Patent Publication No. 2015-0009447. Compound M (0.5 g, 0.0005 mol, 1 eq) is dissolved in 10 g of dimethylformamide. Anion 0.27 g (0.0008 mol, 1.5 eq) was added. After stirring at 55 ° C. for 3 hours, it is cooled to room temperature. The mixture was added dropwise to 1000 g of distilled water with stirring for 1 hour, and then filtered under reduced pressure to obtain 0.48 g of Compound R in a yield of 74%.

[製造例18]比較例の化合物1の製造
韓国公開特許第2012−0014111号公報の実施例7でアニオンとしてビストリフルオロメタンスルホンイミドを使用したことを除いては、同一に製造して、比較例の化合物1を0.8g、80%の収率で得た。
[Production Example 18] Production of Compound 1 of Comparative Example
Except that bistrifluoromethanesulfonimide was used as an anion in Example 7 of Korean Published Patent Application No. 2012-0014111, 0.8 g, 80% yield of Compound 1 of Comparative Example was obtained. Obtained at a rate.

[着色組成物の製造及び評価]
比較例1
次のような組成で感光性青色樹脂組成物を製造した。
[Production and Evaluation of Colored Composition]
Comparative Example 1
A photosensitive blue resin composition was produced with the following composition.

青色染料化合物として製造例18によって製造された比較例の化合物を0.85重量%、バインダー樹脂(質量比がメタクリル酸ベンジル:N−フェニルマレイミド:スチレン:メタクリル酸=55:9:11:25の共重合体)20.78重量%、アクリルモノマーであるジペンタエリスリトールヘキサアクリレート20.46重量%、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート56.57重量%、光重合開始剤(PBG−3142)0.68重量%、レベリング剤(TF−1740)及び接着助剤(KRM−503)0.66重量%を均一に混合されるように撹拌して、感光性青色樹脂組成物を製造した。   The compound of the comparative example manufactured by manufacture example 18 as a blue dye compound is 0.85 weight%, binder resin (mass ratio benzyl methacrylate: N-phenylmaleimide: styrene: methacrylic acid = 55: 9: 11: 25). Copolymer) 20.78 wt%, acrylic monomer dipentaerythritol hexaacrylate 20.46 wt%, propylene glycol monomethyl ether acetate 56.57 wt%, photopolymerization initiator (PBG-3142) 0.68 wt% %, A leveling agent (TF-1740) and an adhesion aid (KRM-503) 0.66% by weight were stirred so as to be uniformly mixed to produce a photosensitive blue resin composition.

実施例1
青色染料化合物として比較例の化合物1の代わりに化合物M−1を使用したことを除いては、比較例1と同じ組成で青色樹脂組成物を製造した。
Example 1
A blue resin composition was produced with the same composition as Comparative Example 1 except that Compound M-1 was used instead of Compound 1 of Comparative Example as the blue dye compound.

実施例2
青色染料化合物として比較例の化合物1の代わりに化合物N−1を使用したことを除いては、比較例1と同じ組成で青色樹脂組成物を製造した。
Example 2
A blue resin composition was produced with the same composition as Comparative Example 1 except that Compound N-1 was used instead of Compound 1 of Comparative Example as the blue dye compound.

実施例3
青色染料化合物として比較例の化合物1の代わりに化合物Q−1を使用したことを除いては、比較例1と同じ組成で青色樹脂組成物を製造した。
Example 3
A blue resin composition was produced with the same composition as Comparative Example 1 except that Compound Q-1 was used instead of Compound 1 of Comparative Example as the blue dye compound.

基板作製方法
上記感光性樹脂組成物をガラス(5cm×5cm)上にスピンコート(spincoating)し、100℃で100秒間プリベーク(pre−bake)を実施して、フィルムを形成させた。フィルムを形成させた基板全面に露光機を用いて40mJ/cmの露光量で照射した。
Substrate preparation method The photosensitive resin composition was spin-coated on glass (5 cm × 5 cm), and pre-baked at 100 ° C. for 100 seconds to form a film. The entire surface of the substrate on which the film was formed was irradiated with an exposure amount of 40 mJ / cm 2 using an exposure machine.

露光された基板を現像液(KOH、0.05%)に60秒間現像し、230℃で20分間後ポストベーク(post bake)をして、カラーパターンを得た。   The exposed substrate was developed in a developing solution (KOH, 0.05%) for 60 seconds, and post-baked at 230 ° C. for 20 minutes to obtain a color pattern.

耐化学性の評価
上記方法で基板を作製して1cm×5cmに切り出した後、N−methyl−2−pyrrolidone溶媒16gに1cm×5cmに切り出した基板2片を浸漬させた後、30℃のコンベクションオーブンで40分間さらにベーク(Baking)を行った。基板片を取り出した溶媒の吸光度を測定して、下記表1及び図1に示す。
Evaluation of chemical resistance After producing a substrate by the above method and cutting it out to 1 cm × 5 cm, after immersing two pieces of the substrate cut out to 1 cm × 5 cm in 16 g of N-methyl-2-pyrrolidone solvent, convection at 30 ° C. Baking was further performed in an oven for 40 minutes. The absorbance of the solvent from which the substrate piece was taken out was measured and shown in Table 1 and FIG.

本明細書の一実施態様に係る化学式1で表される化合物を含む色材組成物を用いることで、耐化学性に優れたカラーフィルター用着色組成物とカラーフィルターを得ることが可能になる。   By using the color material composition containing the compound represented by Chemical Formula 1 according to one embodiment of the present specification, it is possible to obtain a color filter coloring composition and a color filter excellent in chemical resistance.

Claims (11)

下記化学式1で表される
化合物:
[化学式1]
前記化学式1において、
Aは、下記化学式A−1又はA−2で表され、
[化学式A−1]
[化学式A−2]
R1からR6のうち少なくとも一つは、架橋性基であり、
R1からR6のうち少なくとも一つは、下記化学式aで表される構造であり、残りは、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素;−R(C=O)R';−RO(C=O)R';−ROR';
置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のアルケニル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;置換もしくは非置換のアリール基;又は架橋性基であるか、前記R1とR2;R3とR4;及びR5とR6のうち少なくとも一つは、互いに結合して、置換もしくは非置換の環を形成することができ、
R7からR22は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素;ハロゲン;ヒドロキシ基;置換もしくは非置換のアルコキシ基;又は置換もしくは非置換のアルキル基であり、
R及びR''は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、直接結合;置換もしくは非置換のアルキレン基;又は置換もしくは非置換のアリーレン基であり、
R'及びR'''は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のアルケニル基;又は置換もしくは非置換のアリール基であり、
は、アニオン性基であり、
[化学式a]
前記化学式aにおいて、
Qは、−R101C(=O)R102−;−R103OC(=O)R104−;−R105C(=O)OR106−;−R107OC(=O)OR108−;
−SOOR115−;−SOR116−;−SR117−;置換もしくは非置換のアルキレン基;又は置換もしくは非置換のアルケニレン基であり、
Xは、ヒドロキシ基;アミン基;−OCOOR118;−CONR119R120;又は−NR121COOR122であり、
Tは、置換もしくは非置換のアルキル基であり、
R101からR109、R111、R112及びR114からR117は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、直接結合;置換もしくは非置換のアルキレン基;置換もしくは非置換のシクロアルキレン基;又は置換もしくは非置換のアルケニレン基であり、
R110、R113及びR118からR122は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素;又は置換もしくは非置換のアルキル基であり、
p及びqは、それぞれ1から4の整数であり、
2≦p+q≦5であり、
p及びqがそれぞれ2以上である場合、2以上の括弧内の構造は、互いに同一であるか異なっており、
*は、化学式1のNに連結される部位であり、
は、前記化学式1に連結される部位である。
Represented by the following chemical formula 1 ,
Compound:
[Chemical Formula 1]
In Formula 1,
A is represented by the following chemical formula A-1 or A-2,
[Chemical formula A-1]
[Chemical formula A-2]
At least one of R1 to R6 is a crosslinkable group,
At least one of R1 to R6 is a structure represented by the following chemical formula a, and the rest are the same as or different from each other, and each independently represents hydrogen; —R (C═O) R ′ -RO (C = O) R ';-ROR';
A substituted or unsubstituted alkyl group; a substituted or unsubstituted alkenyl group; a substituted or unsubstituted cycloalkyl group; a substituted or unsubstituted aryl group; or a crosslinkable group, R1 and R2; R3 and R4; And at least one of R5 and R6 can be bonded to each other to form a substituted or unsubstituted ring;
R7 to R22 are the same as or different from each other, and each independently represents hydrogen; a halogen; a hydroxy group; a substituted or unsubstituted alkoxy group; or a substituted or unsubstituted alkyl group;
R and R ″ are the same or different from each other, and each independently represents a direct bond; a substituted or unsubstituted alkylene group; or a substituted or unsubstituted arylene group;
R ′ and R ′ ″ are the same or different from each other, and each independently represents hydrogen; a substituted or unsubstituted alkyl group; a substituted or unsubstituted alkenyl group; or a substituted or unsubstituted aryl group. Yes,
Z is an anionic group,
[Chemical formula a]
In the chemical formula a,
Q is -R101C (= O) R102-; -R103OC (= O) R104-; -R105C (= O) OR106-; -R107OC (= O) OR108-;
-SOOR115-; -SOR116-; -SR117-; a substituted or unsubstituted alkylene group; or a substituted or unsubstituted alkenylene group,
X is a hydroxy group; an amine group; -OCOOR118; -CONR119R120; or -NR121COOR122,
T is a substituted or unsubstituted alkyl group,
R101 to R109, R111, R112, and R114 to R117 are the same or different from each other, and are each independently a direct bond; a substituted or unsubstituted alkylene group; a substituted or unsubstituted cycloalkylene group; or a substituted or An unsubstituted alkenylene group,
R110, R113 and R118 to R122 are the same or different from each other, and each independently represents hydrogen; or a substituted or unsubstituted alkyl group;
p and q are each an integer of 1 to 4,
2 ≦ p + q ≦ 5,
when p and q are each 2 or more, the structures in the brackets of 2 or more are the same or different from each other;
* Is a site linked to N in Formula 1.
Is a site linked to Formula 1.
前記架橋性基は、下記化学式2から5のうちいずれか一つで表される構造のものである
請求項1に記載の化合物:
[化学式2]
[化学式3]
[化学式4]
[化学式5]
前記化学式2から5において、
前記R201からR203は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素;又は置換もしくは非置換のアルキル基であり、
R204からR207は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、直接結合;−O−;−N(R208)−;置換もしくは非置換のアルキレン基;又は置換もしくは非置換のシクロアルキレン基であり、
R208は、水素;又は置換もしくは非置換のアルキル基であり、
r、s、t及びuは、それぞれ1又は2であり、
前記r、s、t及びuが、それぞれ2である場合、2つの括弧内の構造は、同一であるか異なっている。
The crosslinkable group has a structure represented by any one of the following chemical formulas 2 to 5 .
The compound of claim 1:
[Chemical formula 2]
[Chemical Formula 3]
[Chemical Formula 4]
[Chemical Formula 5]
In Formulas 2 to 5,
R201 to R203 are the same or different from each other, and each independently represents hydrogen; or a substituted or unsubstituted alkyl group;
R204 to R207 are the same as or different from each other, and each independently represents a direct bond; —O—; —N (R208) —; a substituted or unsubstituted alkylene group; or a substituted or unsubstituted cycloalkylene group. And
R208 is hydrogen; or a substituted or unsubstituted alkyl group;
r, s, t and u are each 1 or 2,
When r, s, t and u are each 2, the structures in the two parentheses are the same or different.
前記Xは、Tが化学式aのフェニル基の結合された位置に対してオルト(ortho)位に結合されるものである
請求項1または2に記載の化合物。
X is bonded to the ortho position with respect to the position to which the phenyl group of Formula a is bonded .
The compound according to claim 1 or 2 .
は、ハロゲン化炭化水素基を含むスルホンイミド酸;スルホン酸を含むアニオン;ハロゲン;ホウ素;アルミニウムを含むアニオン;又はタングステン、モリブデン、ケイ素、及びリンからなる群より選択される1以上の元素及び酸素を含むアニオンである
請求項1から3のいずれか1項に記載の化合物。
Z represents one or more elements selected from the group consisting of a sulfonimidic acid containing a halogenated hydrocarbon group; an anion containing a sulfonic acid; a halogen; a boron; an anion containing aluminum; or tungsten, molybdenum, silicon, and phosphorus. And an anion containing oxygen ,
The compound according to any one of claims 1 to 3 .
前記化学式1は、下記化合物の中から選択されるものである
請求項1に記載の化合物:
Formula 1 are those selected from the following compounds,
The compound of claim 1:
請求項1から5のいずれか一項に記載の化合物を含む
色材組成物。
Comprising a compound according to any one of claims 1 to 5 ,
Color material composition.
染料及び顔料のうち少なくとも1種をさらに含む
請求項6に記載の色材組成物。
Further comprising at least one of a dye and a pigment ,
The color material composition according to claim 6.
前記染料は、キサンテン染料、シアニン染料及びアザポルフィリン染料の中から選択される1以上の染料であり、
前記顔料は、青色顔料又は紫色顔料である
請求項7に記載の色材組成物。
The dye is one or more dyes selected from xanthene dyes, cyanine dyes and azaporphyrin dyes,
The pigment is a blue pigment or a violet pigment .
The color material composition according to claim 7.
請求項1から5のいずれか一項に記載の化合物;
バインダー樹脂;
多官能性モノマー;
光開始剤;
酸化防止剤;及び
溶媒を含む
樹脂組成物。
Compound of any one of claims 1 to 5;
Binder resin;
Multifunctional monomers;
Photoinitiator;
An antioxidant; and a solvent ,
Resin composition.
請求項9に記載の樹脂組成物を含む
カラーフィルター。
The resin composition according to claim 9 is included .
Color filter.
請求項10に記載のカラーフィルターを含む
ディスプレイ装置。
The color filter according to claim 10 is included .
Display device.
JP2017093431A 2016-05-10 2017-05-09 COMPOUND, COLOR MATERIAL COMPOSITION CONTAINING THE SAME AND RESIN COMPOSITION CONTAINING THE SAME {COMPUND, COLORANT COMPOSION COMPRISING THE SAME AND RESIN COMPOSITION COMPRISING THE SAME} Active JP6562470B2 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2016-0057064 2016-05-10
KR1020160057064A KR102120518B1 (en) 2016-05-10 2016-05-10 Compound, colorant composition comprising the same and resin composition comprising the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017203161A JP2017203161A (en) 2017-11-16
JP6562470B2 true JP6562470B2 (en) 2019-08-21

Family

ID=60322133

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017093431A Active JP6562470B2 (en) 2016-05-10 2017-05-09 COMPOUND, COLOR MATERIAL COMPOSITION CONTAINING THE SAME AND RESIN COMPOSITION CONTAINING THE SAME {COMPUND, COLORANT COMPOSION COMPRISING THE SAME AND RESIN COMPOSITION COMPRISING THE SAME}

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6562470B2 (en)
KR (1) KR102120518B1 (en)
CN (1) CN107434773B (en)
TW (1) TWI628239B (en)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104298072B (en) * 2013-07-16 2019-11-29 东友精细化工有限公司 Colored curable resin composition
JP7469224B2 (en) * 2018-05-08 2024-04-16 株式会社Adeka Compound, latent additive, composition, cured product, method for producing cured product, and method for producing composition
KR102314483B1 (en) * 2018-06-22 2021-10-19 주식회사 엘지화학 Compound, polymer, colorant composition, resin composition, color filter and display device
CN113703284A (en) * 2020-05-21 2021-11-26 新应材股份有限公司 Resin composition, light conversion layer, and light emitting device
CN115850099A (en) * 2022-12-19 2023-03-28 浙江工业大学 Photoinitiator with bis-diaryl ketone structure, and synthetic method and application thereof

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010009058A (en) 1999-07-07 2001-02-05 성재갑 Photosensitive resin composition
ATE531767T1 (en) * 2003-08-21 2011-11-15 Merck Patent Gmbh CYANOBORATE DYES
JP5442004B2 (en) * 2009-04-24 2014-03-12 日本化薬株式会社 Novel triarylmethane compounds
JP2013010814A (en) * 2011-06-28 2013-01-17 Toppan Printing Co Ltd Triarylmethane dye having polymerizable double bond, polymeric compound having triarylmethane dye on side chain, coloring composition for color filter, color filter, liquid crystal display device, and organic el display device
KR101380942B1 (en) 2012-05-23 2014-04-01 (주)경인양행 Triarylmethane dye compounds, colored resin composition comprising the same for color filter and color filter using the same
KR102369427B1 (en) * 2013-12-05 2022-03-03 가부시키가이샤 아데카 Novel compound and composition containing novel compound
KR101568318B1 (en) * 2014-02-06 2015-11-12 (주)경인양행 Polymer dye compounds, resin composition comprising the same for color filter and color filter using the same
JP6166683B2 (en) * 2014-03-28 2017-07-19 富士フイルム株式会社 Colored curable composition, cured film, color filter, method for producing color filter, solid-state imaging device, and image display device
JP6251208B2 (en) * 2014-04-02 2017-12-20 富士フイルム株式会社 Coloring composition, cured film, color filter, method for producing color filter, solid-state imaging device, and liquid crystal display device
CN104016876B (en) * 2014-05-26 2016-07-06 北京航空航天大学 A kind of aniline oligomer derivant with electrochromic property and preparation method thereof
KR101662745B1 (en) * 2014-06-13 2016-10-06 (주)경인양행 Dye compounds and resin composition for color filter comprising the same
EP3165574A4 (en) * 2014-07-04 2017-11-15 Fujifilm Corporation Novel compound, coloring composition for dyeing or printing, inkjet ink, method for printing fabric, and dyed or printed fabric
KR102064631B1 (en) * 2015-06-30 2020-01-09 주식회사 엘지화학 Compound, colorant composition comprising the same and resin composition comprising the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2017203161A (en) 2017-11-16
KR20170126690A (en) 2017-11-20
CN107434773B (en) 2020-04-17
TW201739844A (en) 2017-11-16
CN107434773A (en) 2017-12-05
TWI628239B (en) 2018-07-01
KR102120518B1 (en) 2020-06-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6579452B2 (en) Compound, coloring material composition containing the same, and resin composition containing the same
JP6582349B2 (en) COMPOUND, COLORING COMPOSITION CONTAINING THE SAME, AND RESIN COMPOSITION CONTAINING THE SAME
JP6485502B2 (en) Photosensitive resin composition and color filter containing the same
TWI675830B (en) Xanthene-based compound, colorant composition comprising the same and resin composition comprising the same
JP6380867B2 (en) COMPOUND, COLORING COMPOSITION CONTAINING THE SAME, AND RESIN COMPOSITION CONTAINING THE SAME
JP6562470B2 (en) COMPOUND, COLOR MATERIAL COMPOSITION CONTAINING THE SAME AND RESIN COMPOSITION CONTAINING THE SAME {COMPUND, COLORANT COMPOSION COMPRISING THE SAME AND RESIN COMPOSITION COMPRISING THE SAME}
JP6555625B2 (en) Xanthene compound and photosensitive resin composition containing the same
JP6604606B2 (en) Compound, coloring material composition containing the same, and resin composition containing the same
TWI669346B (en) Photosensitive resin composition, photosensitive material, color filter and display device
JP2015532667A (en) A styryl compound, a color material containing the styryl compound, a photosensitive resin composition containing the styryl compound, a photosensitive material produced using the photosensitive resin composition, a color filter containing the same, and a display device including the color filter
TWI694992B (en) Compound, colorant composition, resin composition, photosensitive material, color filter, and display device
JP2019523760A (en) Compound and photosensitive resin composition containing the same
JP6897906B2 (en) Compounds, color material compositions containing them, and resin compositions containing them
JP6705108B2 (en) COMPOUND, COLOR COMPOSITION CONTAINING THE SAME, AND RESIN COMPOSITION CONTAINING THE SAME {COMPOND, COLORANT COMPOSITION COMPRISING THE SAME AND RESIN COMPOSING THE SAME}
JP6631861B2 (en) Compound, coloring material composition containing the same and resin composition containing the same
KR102059235B1 (en) Compound, colorant composition comprising the same and resin composition comprising the same
KR102016619B1 (en) Novel compound, colorant composition comprising the same and resin composition comprising the same
CN110557947A (en) Quinophthalone compound, photosensitive resin composition containing same, photosensitive material, color filter, and display device
JP6915767B2 (en) Compounds, polymers, color material compositions, resin compositions, color filters and display devices
JP6828923B2 (en) Xanthene compounds, color material compositions, photosensitive resin compositions, photosensitive materials, color filters and display devices
TW202024243A (en) Photosensitive resin composition, photoresist, color filter and display device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180601

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190312

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190319

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190612

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190625

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190718

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6562470

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250