JP6551247B2 - 副孔ランス - Google Patents

Description

本発明は、転炉等の容器内部にガスを供給する副孔ランスに関する。

転炉を用いたスクラップ溶解技術の１つとして、スクラップ溶解のための供給熱源に２次燃焼熱を利用する２次燃焼技術がある。炭素の酸化発熱を利用する転炉製鋼法では、主としてＣ→ＣＯまでの反応熱を利用しているが、２次燃焼技術では当該反応熱よりはるかに大きいＣＯ→ＣＯ_２までの反応熱を利用することで、スクラップ比を向上させることを実現している。

転炉等の容器内部への酸素の供給は、容器内にランスを入れて行われる。ＣＯガスの反応熱を利用して熱効率を高めるランスの構造の一例として、特許文献１には、先端部と、側面部の複数の高さ位置に放射状のノズル孔を配置した上吹きランスが開示されている。かかる上吹きランスでは、先端部のノズル孔から溶銑湯面に向けて酸素ガスを供給して溶銑を脱燐処理するとともに、側面部の上方に配置されるノズル孔からは酸素ガスが転炉型用器の内壁面に向かって噴射され、内壁面の付着地金を溶解し、内壁面に付着した地金を除去する。

特開２００７−５１３４９号公報

転炉等の容器内部に入れて使用されるランスは、容器内が高温であるため、ランスが熱により損傷しないように冷却機構が設けられている。ランスの冷却機構は、通常、酸素が流れる管の周囲に冷却水路を設けて構成されている。例えば、上記特許文献１に記載の上吹きランスでは、図１２に示すように、側面部に形成されるノズル孔１４へ酸素を供給する酸素供給管の外周に内管１２と外管１３とを設け、内管１２と外管１３との間に形成される空間に冷却水を流している。

ここで、上記特許文献１に記載の上吹きランスは脱燐処理に利用されるものであるが、脱燐処理では入熱が大きくないため、上吹きランスの溶融は起こらない。特許文献１の、側面部に形成された酸素を排出するノズル孔１４は、地金切りを目的として利用されている。一方、ランスを２次燃焼技術に利用する場合には、入熱が大きくなり、ランスの溶融が発生する可能性が高くなる。したがって、図１２に示したランスを２次燃焼技術に利用した場合、内管１２と外管１３との間に形成される空間をランスの先端側から上部側へ流れる冷却水は、側面部に形成されるノズル孔１４の上部の領域Ｓにおいてよどみ、冷却効率を著しく低下させてしまう。領域Ｓにおける冷却水のよどみの発生とこれによる冷却効率の低下は脱燐処理においても発生しているが、２次燃焼技術に適用すると入熱量が多くなるため、冷却効率の低下が顕著となる。このため、外部の熱によって領域Ｓの外側の外管１３が溶けて損傷し、水漏れが発生する可能性が高くなる。

そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、ランスの溶損を防止することが可能な、新規かつ改良された副孔ランスを提供することにある。

上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、最内部にある中空部材であって、処理容器内に酸素を供給する先端部の主孔及び側面部の副孔と連通する第１の円筒部と、第１の円筒部の外表面を覆い、第１の円筒部の外表面との間に冷却媒体が流れる第１の空間を形成する第２の円筒部と、第２の円筒部の外表面を覆い、第２の円筒部の外表面との間に第１の空間と連通し、冷却媒体が流れる第２の空間を形成する、最外部の第３の円筒部と、第２の円筒部に設けられ、第２の空間において副孔の上部側の冷却媒体の流速を速める流速増加機構と、を備える、副孔ランスが提供される。

流速増加機構は、第２の円筒部の外周面に設けられ、先端部と反対側である副孔の上部に配置される円筒スリーブであってもよい。

円筒スリーブの外表面には、副孔ランスの先端部側から上部側に向かって厚みが大きくなるように傾斜が形成されてもよい。

円筒スリーブは、第２の円筒部の外周面に嵌め込まれて設けられてもよい。

あるいは、円筒スリーブは、第２の円筒部と一体形成されてもよい。

また、流速増加機構として、第２の円筒部に、先端部と反対側である副孔の上部に、第１の空間と第２の空間とを連通させる開口部を形成してもよい。

以上説明したように本発明によれば、ランスの溶損を防止することが可能となる。

本発明の第１の実施形態に係る副孔ランスの側面断面図であり、図３のＡ−Ａ切断線における断面図である。 同実施形態に係る副孔ランスの側面断面図であり、図３のＢ−Ｂ切断線における断面図である。 同実施形態に係る副孔ランスの平面断面図であり、図１のＣ−Ｃ切断線における断面図である。 同実施形態に係る副孔ランスの副孔周りの構成を説明する概略部分斜視図である。 同実施形態の変形例である副孔ランスの側面断面図であり、図３のＡ−Ａ切断線における断面図に対応する。 同実施形態の変形例である副孔ランスの側面断面図であり、図３のＢ−Ｂ切断線における断面図に対応する。 本発明の第２の実施形態に係る副孔ランスの側面断面図であり、図９のＤ−Ｄ切断線における断面図である。 同実施形態に係る副孔ランスの側面断面図であり、図９のＥ−Ｅ切断線における断面図である。 同実施形態に係る副孔ランスの平面断面図であり、図７のＦ−Ｆ切断線における断面図である 同実施形態に係る副孔ランスの副孔周りの構成を説明する概略部分斜視図である。 比較例として、冷却媒体の流速増加機構を備えていない副孔ランスの構成を示す側面断面図である。 従来のランス側面部のノズル孔（副孔）の上部に生じるよどみを説明する説明図である。

以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。

＜１．第１の実施形態＞
［１−１．副孔ランスの構成］
まず、図１〜図４に基づいて、本発明の第１の実施形態に係る副孔ランス１００の構成について説明する。なお、図１は、本実施形態に係る副孔ランス１００の側面断面図であり、図３のＡ−Ａ切断線における断面図である。図２は、本実施形態に係る副孔ランス１００の側面断面図であり、図３のＢ−Ｂ切断線における断面図である。図３は、本実施形態に係る副孔ランス１００の平面断面図であり、図１のＣ−Ｃ切断線における断面図である。図４は、本実施形態に係る副孔ランス１００の副孔周りの構成を説明する概略部分斜視図である。

本実施形態に係る副孔ランス１００は、図１〜図３に示すように、同心円上に配置された第１の円筒部１１０、第２の円筒部１２０、第３の円筒部１３０と、主孔１０２と、副孔１４０と、円筒スリーブ１５０とからなる。副孔ランス１００の、容器内部に挿入される側の端部を、以下では副孔ランス１００の先端部という。副孔ランス１００は例えば鋼管からなるが、少なくとも最外部に位置する第３の円筒部１３０の、副孔１４０より先端部分を銅で形成することで、１０００℃程度の高温環境下においても溶融せず、副孔ランス１００の耐久性を高めることができる。

第１の円筒部１１０は、副孔ランス１００の最内部にある中空部材である。第１の円筒部１１０には、副孔ランス１００の先端部の主孔１０２及び側面部の副孔１４０と連通しており、酸素供給源（図示せず。）から送入された酸素を主孔１０２及び副孔１４０から処理容器内に供給する。

第２の円筒部１２０は、第１の円筒部１１０の外表面を覆う中空部材である。第１の円筒部１１０の外表面と第２の円筒部１２０の内表面とによって、冷却媒体が流れる第１の空間が形成されている。冷却媒体としては、例えば水が用いられる。第１の空間は、副孔ランス１００の先端部において、後述する第２の空間と連通されている。

第３の円筒部１３０は、第２の円筒部１２０の外表面を覆う中空部材であって、副孔ランス１００の最外部に位置する。第２の円筒部１２０の外表面と第３の円筒部１３０の内表面とによって、冷却媒体が流れる第２の空間が形成されている。上述したように、第２の空間は、副孔ランス１００の先端部において第１の空間と連通されている。本実施形態に係る副孔ランス１００では、図１、図２及び図４に示すように、冷却媒体は、上部側から第１の空間から流入されて先端部に向かって流れた後、先端部において第１の空間から第２の空間へ流入し、先端側から上部側へ向かって流れる。第１の空間及び第２の空間に冷却媒体を循環させることで、副孔ランス１００が冷却され、溶損を防止する。

主孔１０２は、副孔ランス１００の先端部に形成された開口であり、周方向に１または複数形成されている。主孔１０２は、第１の円筒部１１０の内部と外界とを連通させる部分であり、第１の円筒部１１０を流れてきた酸素は主孔１０２を介して副孔ランス１００の略長手方向に排出される。主孔１０２から排出される酸素は、例えば、容器内の溶銑に対して吹き付けられる。

副孔１４０は、副孔ランス１００の側面部に形成された開口であり、図３に示すように、周方向に放射状に複数設けられている。図３の例では、副孔１４０として、６つの副孔１４０ａ〜１４０ｆが設けられている。副孔１４０は、主孔１０２と同様、第１の円筒部１１０の内部と外界とを連通させる部分であり、第１の円筒部１１０を流れてきた酸素は副孔１４０を介して副孔ランス１００の径方向に排出される。このとき、副孔１４０は、図１及び図４に示すように、第１の円筒部１１０から第３の円筒部１３０へ向かうにつれて先端側へ向かうように斜めに形成されてもよい。副孔１４０から排出される酸素は、例えば、容器内のＣＯガスに対して吹き付けられる。

円筒スリーブ１５０は、第２の空間に設けられる円筒部材であり、副孔１４０の上部に設けられる。円筒スリーブ１５０は、例えば鋼管を加工して形成される。円筒スリーブ１５０は、図１１を用いて説明したように、副孔１４０の上部に生じる冷却媒体のよどみを解消するために設けられる部材である。第２の空間を流れる冷却媒体は、副孔ランス１００の先端側から上部側に向かって流れるが、第２の空間を貫通する副孔１４０によって冷却媒体の流れが妨げられ、副孔１４０の上部によどみが生じる。よどみが発生すると、当該部分で冷却媒体である冷却水は膜沸騰し、副孔ランス１００への熱伝達特性が悪化する。このため、副孔１４０の上部では副孔ランス１００が十分に冷却されず、溶損する可能性がある。そこで、本実施形態に係る副孔ランス１００は、冷却媒体の流速増加機構として円筒スリーブ１５０を設けることで、副孔１４０の上部に生じる冷却媒体のよどみを解消する。

具体的には、円筒スリーブ１５０は、その内径が第２の円筒部１２０の外径と略同一であり、第２の円筒部１２０の外周に嵌め込むように設けられる。冷却媒体が、第２の空間のうち、熱の影響を受けやすい第３の円筒部１３０側を流れるようにするためである。円筒スリーブ１５０は、放射状に設けられた各副孔１４０に対応して複数の切欠き１５２が形成されている。また、円筒スリーブ１５０の外径は、中心軸方向（副孔ランス１００の長手方向）において、副孔ランス１００の先端側から上部側に向かって大きくなるように、円筒スリーブ１５０の外周面に傾斜を設けてもよい。円筒スリーブ１５０の外周面に傾斜を設けることで、第２の空間の円筒スリーブ１５０の設置位置を通過する冷却媒体の流れを円滑にすることができる。

副孔ランス１００に円筒スリーブ１５０を取り付ける際には切欠き１５２の開口側が副孔ランス１００の先端側を向くようにし、副孔ランス１００の上部側から円筒スリーブ１５０を第２の円筒部１２０を挿通させて、切欠き１５２に副孔１４０の上部に嵌め込む。これにより、副孔１４０の上部側の、径方向における第２の空間の幅は、他の部分に比べて小さくなる。すなわち、副孔１４０の上部側の流路が狭くなり、当該部分を通過する冷却媒体の流速を速めることができる。

副孔１４０の上部側での径方向における第２の空間の幅は、冷却媒体の流れを妨げない範囲で小さく設定すればよく、例えば、円筒スリーブ１５０が設けられていない部分の幅（すなわち、第３の円筒部１３０の内径と第２の円筒部１２０の外径との差）の１／２程度とすればよい。

すなわち、本実施形態に係る副孔ランス１００は、第１の円筒部１１０である酸素供給管と、第１の円筒部１１０の外側に中心軸が共通するように配置された冷却水用の第２の円筒部１２０である内管と、第３の円筒部である外管を備える。第１の円筒部１１０と第２の円筒部１２０とにより形成される空間は、冷却水をランス先端の羽口に供給する第１の空間となる。また、第２の円筒部と第３の円筒部とにより形成される空間は、第１の空間と連通し、冷却水がランス先端の羽口から流入する第２の空間となる。そして、副孔ランス１００の長手方向における副孔１４０の位置には、第２の円筒部１２０の外周に接するように円筒スリーブ１５０が設けられる。

このように、本実施形態に係る副孔ランス１００は、冷却媒体の流速増加機構として、副孔１４０の上部側での径方向における第２の空間の幅を狭めるための円筒スリーブ１５０を備えることで、簡単な構造で、冷却媒体の流速を増加させ、副孔ランス１００の副孔１４０を構成する鋼管部を強冷却する。これにより、副孔ランス１００の溶損を防止し、水漏れしないようにすることができる。

［１−２．変形例］
図１〜図４に示した副孔ランス１００では、円筒スリーブ１５０を第２の円筒部１２０に嵌め込む構成としたが、本発明はかかる例に限定されず、第２の円筒部と円筒スリーブとを一体に形成してもよい。図５及び図６に、第２の円筒部と円筒スリーブとを一体形成した副孔ランス１００Ａの構成例を示す。図５は、本実施形態に係る副孔ランス１００の変形例である副孔ランス１００Ａの側面断面図であり、図３のＡ−Ａ切断線における断面図に対応する。図６は、副孔ランス１００Ａの側面断面図であり、図３のＢ−Ｂ切断線における断面図に対応する。

図５及び図６に示すように、本実施形態の一変形例である副孔ランス１００Ａは、第２の円筒部１２０の外径が、副孔１４０の上部側で他の部分よりも大きくなっている。この大径部分を、大径部１２２ともいう。大径部１２２を設けることで、副孔１４０の上部側の、径方向における第２の空間の幅は、他の部分に比べて小さくなる。すなわち、副孔１４０の上部側の流路が狭くなり、当該部分を通過する冷却媒体の流速を速めることができる。大径部１２２は、冷却媒体の流速増加機構として機能する。

副孔１４０の上部側での径方向における第２の空間の幅は、副孔ランス１００と同様、冷却媒体の流れを妨げない範囲で小さく設定すればよく、例えば、大径部１２２以外での幅（すなわち、第３の円筒部１３０の内径と第２の円筒部１２０の外径との差）の１／２程度とすればよい。

大径部１２２の外径は、図１〜図４に示した円筒スリーブ１５０と同様、中心軸方向（副孔ランス１００の長手方向）において、副孔ランス１００Ａの先端側から上部側に向かって大きくなるようにして、大径部１２２の外周面に傾斜を設けてもよい。これにより、第２の空間の大径部１２２を通過する冷却媒体の流れを円滑にすることができる。

＜２．第２の実施形態＞
［２−１．副孔ランスの構成］
次に、図７〜図１０に基づいて、本発明の第２の実施形態に係る副孔ランス２００の構成について説明する。本実施形態に係る副孔ランス２００は、第１の実施形態と比較して、第２の空間において副孔の上部側の冷却媒体の流速を速めるために、円筒スリーブ等を設けて流路を狭めるのではなく、第２の円筒部の副孔の上部に開口部を設ける点で相違する。以下では、第１の実施形態との相違点について主に説明し、第１の実施形態と同一構成の部材についての詳細な説明は省略する。

なお、図７は、本実施形態に係る副孔ランス２００の側面断面図であり、図９のＤ−Ｄ切断線における断面図である。図８は、本実施形態に係る副孔ランス２００の側面断面図であり、図９のＥ−Ｅ切断線における断面図である。図９は、本実施形態に係る副孔ランス２００の平面断面図であり、図７のＦ−Ｆ切断線における断面図である。図１０は、本実施形態に係る副孔ランス２００の副孔周りの構成を説明する概略部分斜視図である。

本実施形態に係る副孔ランス２００は、図７〜図９に示すように、同心円上に配置された第１の円筒部２１０、第２の円筒部２２０、第３の円筒部２３０と、主孔２０２と、副孔２４０とからなる。第１の円筒部２１０、第３の円筒部２３０、主孔２０２及び副孔２４０の構成は、第１の実施形態に係る第１の円筒部１１０、第３の円筒部１３０、主孔１０２及び副孔１４０の構成と同一である。なお、本実施形態においても、副孔ランス２００の、容器内部に挿入される側の端部を、副孔ランス２００の先端部という。

第１の円筒部２１０は、副孔ランス２００の最内部にある中空部材である。第１の円筒部２１０には、副孔ランス２００の先端部の主孔２０２及び側面部の副孔２４０と連通しており、酸素供給源（図示せず。）から送入された酸素を主孔２０２及び副孔２４０から処理容器内に供給する。

第２の円筒部２２０は、第１の円筒部２１０の外表面を覆う中空部材である。第１の円筒部２１０の外表面と第２の円筒部２２０の内表面とによって、冷却水等の冷却媒体が流れる第１の空間が形成されている。第１の空間は、副孔ランス２００の先端部において、後述する第２の空間と連通されている。また、本実施形態に係る第２の円筒部２２０は、当該第２の円筒部２２０を貫通する副孔２４０の上部側に、冷却媒体の流速増加機構として、第１の空間と第２の空間とを連通させる開口部２２５が形成されている。

第３の円筒部２３０は、第２の円筒部２２０の外表面を覆う中空部材であって、副孔ランス２００の最外部に位置する。第２の円筒部２２０の外表面と第３の円筒部２３０の内表面とによって、冷却媒体が流れる第２の空間が形成されている。上述したように、第２の空間は、副孔ランス２００の先端部において第１の空間と連通されている。

本実施形態において、冷却媒体は、上部側から第１の空間から流入されて先端部に向かって流れた後、先端部において第１の空間から第２の空間へ流入し、先端側から上部側へ向かって流れる。第１の空間及び第２の空間に冷却媒体を循環させることで、副孔ランス２００が冷却され、溶損を防止する。また、冷却媒体は、副孔ランス２００の先端部で第１の空間から第２の空間へ流れ込むだけでなく、第２の円筒部２２０に形成された開口部２２５からも第１の空間から第２の空間へ流れ込む。この開口部２２５を介した冷却媒体の流れにより、第２の空間における副孔２４０の上部側の冷却媒体の流速を速めることができる。これにより、従来、第２の空間において副孔２４０の上部側に生じていた冷却媒体のよどみを解消することができる。

第２の円筒部２２０の開口部２２５の形状は特に限定されるものではないが、例えば、第２の円筒部２２０を貫通する副孔２４０の外形に沿った形状としてもよい。具体的には、開口部２２５は、スリット幅が５ｍｍ程度、円弧の角度θが２０°以上１８０°以下となるように形成され、一例として、副孔２４０の外形に沿って上部側のみ開口させた半円の円弧形状としてもよい。この際、第１の空間から主孔方向（すなわち、副孔ランス２００の先端側）へ流れる冷却水の流量が減少し、主孔２０２近辺の冷却効率が低下しないように、開口部２２５の形状は設計される。

主孔２０２は、副孔ランス２００の先端部に形成された開口であり、周方向に１または複数形成されている。主孔２０２は、第１の円筒部２１０の内部と外界とを連通させる部分であり、第１の円筒部２１０を流れてきた酸素は主孔２０２を介して副孔ランス２００の略長手方向に排出される。

副孔２４０は、副孔ランス２００の側面部に形成された開口であり、図９に示すように、周方向に放射状に複数設けられている。図９の例では、副孔２４０として、６つの副孔２４０ａ〜２４０ｆが設けられている。副孔２４０は、主孔２０２と同様、第１の円筒部２１０の内部と外界とを連通させる部分であり、第１の円筒部２１０を流れてきた酸素は副孔２４０を介して副孔ランス２００の径方向に排出される。このとき、副孔２４０は、図７及び図１０に示すように、第１の円筒部２１０から第３の円筒部２３０へ向かうにつれて先端側へ向かうように斜めに形成されてもよい。

このように、本実施形態に係る副孔ランス２００は、冷却媒体の流速増加機構として、第２の円筒部２２０の副孔１４０の上部側に開口部２２５を設けることで、簡単な構造で、冷却媒体の流速を増加させ、副孔ランス２００の副孔２４０を構成する鋼管部を強冷却する。これにより、副孔ランス２００の溶損を防止し、水漏れしないようにすることができる。

実施例として、副孔を備える副孔ランスにおいて冷却水を流したときの、第２の円筒部における副孔の上部側の温度をシミュレーションした。実施例１として、第１の実施形態として説明した円筒スリーブを備える副孔ランスについて、実施例２として、第２の実施形態として説明した第２の円筒部に開口部を設けた副孔ランスについて、第２の円筒部における副孔の上部側の温度を検証した。また、比較例として、図１１に示すような、流速増加機構を備えていない副孔ランス１０（すなわち、第１の実施形態に係る副孔ランスで、円筒スリーブを設けないもの）について、第２の円筒部における副孔の上部側の温度を検証した。副孔ランス１０は、第１の円筒部１１、第２の円筒部１２、第３の円筒部１３の三重管からなり、側面に放射状に貫通する副孔１４が形成されている。副孔ランス１０の先端部には実施例１、２と同様、主孔が形成されている。

シミュレーションでは、第１の空間へ流入される冷却媒体を２５℃の冷却水とし、第１の空間から第２の空間を流れるものとした。また、第１の円筒部、第２の円筒部及び第３の円筒部の融点は１０８５℃とし、表面に付着する溶融地金の温度を１６００℃とした。シミュレーション結果を下記表１に示す。

表１に示すように、実施例１、２では、副孔の上部での冷却媒体の流速が比較例よりも数倍速くなった。その結果、比較例では、第２の円筒部の副孔の上部温度が溶接地金の融点より高く、副孔ランスが溶損する可能性があったが、実施例１、２では、第２の円筒部の副孔の上部温度が溶接地金の融点より低くなり、副孔ランスの溶損を防止することができることがわかった。したがって、上記実施形態の構成によれば、副孔を構成する鋼管部を適切に冷却することができ、副孔ランスの溶損、溶損による水漏れの発生を防止することができる。

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。

例えば、上記実施形態で説明した副孔ランスは、２次燃焼処理用のランスとしてだけでなく、脱燐処理を行うためのランスへの適用も可能である。

１００、１００Ａ、２００ 副孔ランス
１０２、２０２ 主孔
１１０、２１０ 第１の円筒部
１２０、２２０ 第２の円筒部
１２２ 大径部
１３０、２３０ 第３の円筒部
１４０、２４０ 副孔
１５０ 円筒スリーブ
１５２ 切欠き
２２５ 開口部

Claims (6)

1. 最内部にある中空部材であって、処理容器内に酸素を供給する先端部の主孔及び側面部の副孔と連通する第１の円筒部と、
   前記第１の円筒部の外表面を覆い、前記第１の円筒部の外表面との間に冷却媒体が流れる第１の空間を形成する第２の円筒部と、
   前記第２の円筒部の外表面を覆い、前記第２の円筒部の外表面との間に前記第１の空間と連通し、前記冷却媒体が流れる第２の空間を形成する、最外部の第３の円筒部と、
   前記第２の円筒部に設けられ、前記第２の空間において前記副孔の上部側の前記冷却媒体の流速を速める流速増加機構と、
   を備える、副孔ランス。
2. 前記流速増加機構は、前記第２の円筒部の外周面に設けられ、前記先端部と反対側である前記副孔の上部に配置される円筒スリーブである、請求項１に記載の副孔ランス。
3. 前記円筒スリーブの外表面には、前記副孔ランスの先端部側から上部側に向かって厚みが大きくなるように傾斜が形成されている、請求項２に記載の副孔ランス。
4. 前記円筒スリーブは、前記第２の円筒部の外周面に嵌め込まれて設けられる、請求項２または３に記載の副孔ランス。
5. 前記円筒スリーブは、前記第２の円筒部と一体形成される、請求項２または３に記載の副孔ランス。
6. 前記流速増加機構として、前記第２の円筒部には、前記先端部と反対側である前記副孔の上部に、前記第１の空間と前記第２の空間とを連通させる開口部が形成されている、請求項１に記載の副孔ランス。
   

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