JP6533437B2 - 透明遮熱断熱部材及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、透明遮熱断熱部材及びその製造方法に関する。

地球温暖化防止及び省エネルギーの観点から、ビルディングの窓、ショーウインドウ、自動車の窓面等から太陽光の熱線（赤外線）をカットし、内部の温度を低減させることが広く行われている（特許文献１）。また、最近では、省エネルギーの観点から、夏場の温度上昇の原因となる熱線をカットする遮熱性のみならず、冬場の室内からの暖房熱の流出を抑えて暖房負荷を低減させる断熱機能をも付与した遮熱断熱部材が提案され市場投入されつつある（特許文献２、３、４）。

特開２０１４−１７０１７１号公報 特開２０１４−１４１０１５号広報 特開２０１４−１６７６１７号公報 特開２００８−１０５２５１号公報（特許第４９８２１４９号公報）

特許文献１には、透明基材にハードコート層、赤外線吸収層、高屈折率層、低屈折率層が順次積層されてなる反射防止機能を有する透明遮熱フィルムが開示されている。特許文献１に記載された透明遮熱フィルムは、室外から入射する赤外線を吸収する赤外線吸収タイプの透明遮熱フィルムであり、冬場において暖房器具から放射される波長５〜２５μｍの遠赤外線を室内側に反射させる断熱機能は有していない。

特許文献２では、基材に金属薄膜と金属酸化物薄膜を交互に積層した多層構造を有する熱線反射層と、ハードコート層とを順に積層した赤外線反射性を有する積層フィルムが開示されている。特許文献２に記載された積層フィルムは、赤外線反射タイプの積層フィルムであり、赤外線を室内側に反射させる断熱機能を有している。しかし、赤外線の吸収を抑制してその断熱機能を発現させるためにハードコート層を薄くして、特にハードコート層の厚さを可視光線の波長範囲（３８０〜７８０ｎｍ）と重なるような数百ｎｍとした場合には、ハードコート層のわずかな厚みムラがあっただけでも、ハードコート層の界面反射と熱線反射層の界面反射との多重反射干渉による虹彩現象とよばれる外観のギラツキ現象が目立ちやすくなり、また、角度を変えて視認した場合の光路長の変化による反射色の変化も大きくなり、窓等に貼って使用する際に外観上問題となり得る懸念がある。

また、特許文献３では、透明フィルム基材上に、第一金属酸化物層と金属層と第二金属酸化物層とをこの順に備えた赤外線反射層と、有機物層からなる透明保護層とをこの順で備える赤外線反射フィルムが開示されている。特許文献３に記載された赤外線反射フィルムは、赤外線反射タイプであり、赤外線を室内側に反射させる断熱機能を有している。しかし、外観の虹彩現象を抑制するために透明保護層の厚みを、可視光線の波長範囲より小さい１５０ｎｍ以下とすると、耐擦傷性のような物理特性が低下する傾向が見られ、フィルム施工時や、長期間に渡るフィルム使用時にフィルム表面に傷が入りやすく、傷の影響による外観不良や腐食等の問題が懸念される。

更に、特許文献４では、透明高分子フィルム上に、金属酸化物薄膜と銀系薄膜と銀拡散防止金属酸化物薄膜とをこの順に備える透明積層フィルムが開示されている。特許文献４に記載された透明積層フィルムは、赤外線反射機能を有する積層フィルムであり、仮に赤外線反射フィルムの赤外線反射層が室内側最表層となるようにして使用した場合には赤外線を室内側に反射させる断熱機能を有している。しかし、特許文献４に記載の積層フィルムを赤外線反射フィルムとして使用する場合、表層側に傷つき防止等を目的とした保護層が必要となるが、特許文献４ではそのような保護層については触れられておらず、最適な保護層を形成するために更なる検討が必要である。

特許文献２〜４で記載されているような金属薄膜と金属酸化物薄膜の積層体からなる赤外線反射層による赤外線反射タイプの遮熱フィルムにおいては、金属薄膜は、一般的に優れた赤外線反射機能を有する低屈折率材料から形成され、また、金属酸化物薄膜は、一般的に金属薄膜の赤外線反射機能を維持しつつ、可視光線領域波長における反射率を制御して可視光線透過率を高め、且つ金属薄膜中の金属のマイグレーションを抑制する保護機能を有する屈折率が１．７以上の高屈折率材料から形成されている。

上記金属薄膜と金属酸化物薄膜の積層体からなる赤外線反射層において、金属薄膜としては、優れた赤外線反射機能を有し、且つ可視光の吸収が小さい銀が用いられることが多いが、銀は空気中の水分等で腐食しやすいことが知られており、上記にあるように金属薄膜での赤外線反射機能を維持しつつ、可視光線領域波長での反射率を制御して可視光線領域での透過率を高め、且つ金属薄膜中の金属のマイグレーションを抑制する目的として金属酸化物薄膜が金属薄膜に積層される。上記金属酸化物薄膜の材料としては、可視光線領域での透明性及び赤外線領域での反射性能の観点から一般的に高屈折率を有する材料が好適であり、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ)等の材料が用いられる。このように、金属酸化物薄膜を金属薄膜に積層することにより、金属薄膜の腐食を一定のレベルまで抑制することは可能となるが、それでも例えば、ＩＴＯは化学的な安定性が十分に高いとは言えず、長期間の使用環境によっては、空気中の水分による銀薄膜の腐食等を十分に抑制することができず、銀の腐食を生じることがあり、透明性の低下等で赤外線反射性能の機能が損なわれる懸念があった。

更に、特許文献２及び４に記載のように、金属薄膜の腐食を抑制するために金属が部分酸化された金属部分酸化物層や金属亜酸化物層と呼ばれる薄膜のバリア層を金属薄膜の片面又は両面に積層することで金属の腐食抑制効果をもたらすことが知られている。

また、金属薄膜と金属酸化物薄膜の積層体からなる赤外線反射層の上に、その保護層として一般的によく用いられている、例えば、屈折率が１．５前後のアクリル系樹脂からなるＵＶ硬化型ハードコート層を設けた場合、赤外線反射層の各層とハードコート層との屈折率差及び各層の厚さに基づき、各界面での多重反射の干渉が起こる。その結果、この赤外線反射フィルムに入射した可視光線の各波長に対する反射率が大きく変動する。即ち、赤外線反射フィルムの可視光線反射スペクトルを測定した場合、所謂リップルと呼ばれる山（反射率の極大値）・谷（反射率の極小値）の大きなうねりを有する形状の反射率曲線となる。

また、通常、アクリル系樹脂からなるＵＶ硬化型ハードコート層等の保護層はウェットコーティング法により塗工形成されるが、基材全面に膜厚ムラ（膜厚のばらつき）なく均一にコーティングすることは現実的には困難である。そのため、乾燥ムラ、塗工ムラ、基材の表面状態等の影響により、膜厚ムラは完全になくすことはできない。このような保護層の膜厚ムラは、赤外線反射フィルムの可視光線反射スペクトルにおいて、山・谷のピークの波長のズレとして表れ、特に保護層の厚さを数百ｎｍと薄くした場合に虹彩模様の発生の原因となる。

一方、保護層の厚さを、例えば数ミクロンと厚くした場合、赤外線反射フィルムの可視光線反射スペクトルにおいて、山・谷のうねりの間隔が狭くなり、保護層の膜厚に多少のばらつきがあっても、人間の目では特定の波長の反射色をそれぞれ区別して認識することは困難となり、虹彩模様として捉えることはほとんどできないので、外観上の問題は起こりにくい。しかし、保護層としてのアクリル系樹脂からなるＵＶ硬化型ハードコート剤は、その分子骨格に、Ｃ＝Ｏ基、Ｃ−Ｏ基、芳香族基を多く含むことから、波長５〜２５μｍの遠赤外線を吸吸しやすくなり、赤外線反射フィルムの断熱性が低下してしまう傾向にある。

従って、赤外線反射フィルムの断熱性を十分なもの（例えば、垂直放射率の値としては０．２２以下、熱貫流率の値としては４．２Ｗ／ｍ²・Ｋ以下）とするためには、例えば、アクリル系樹脂からなるＵＶ硬化型ハードコート剤からなる保護層の厚さを凡そ１．０μｍ以下として波長５〜２５μｍの遠赤外線の吸吸をできるだけ抑制すればよいが、前述の特許文献２に関して説明したように、保護層の厚さを可視光線の波長範囲と重なるような数百ｎｍの厚さとした場合、赤外線反射フィルムの可視光線反射スペクトルにおいて、山・谷のうねりの間隔が広くなり、人間の目で特定の波長の反射色として認識できるようになるため、保護層にわずかな厚みムラがあっただけでも、虹彩現象として認識され、また角度を変えて視認した時の光路長の変化による反射色の変化も顕著に捉えることができてしまい、窓等に貼って使用する際に外観上問題となり得る懸念がある。

更に、前述の特許文献３に関して説明したように、保護層の厚さを可視光線の波長範囲より小さい１５０ｎｍ以下の厚さとした場合、赤外線反射フィルムの可視光線反射スペクトルにおいて、山・谷のうねりの間隔が更に広くなり、ほぼ一つの谷のみを有する反射率曲線となり、干渉反射色として均一な色が観測されるようになるため、外観上の問題は起こりにくいが、耐擦傷性が低下する傾向が見られ、フィルム施工時や、長期間に渡るフィルム使用時にフィルム表面に傷が入りやすく、傷の影響による外観不良や腐食等の問題が依然として懸念される。

このように従来、夏場における優れた遮熱性能と冬場における優れた断熱性能とを両立し、且つ耐擦傷性に優れ、更に虹彩現象、視認角度による反射色変化を抑制した外観性に優れ、また、長期間の使用に渡って優れた耐腐食性を有する透明遮熱断熱部材を提供することは困難であった。

本発明は上記問題を解決したもので、赤外線反射層を特定の材料で構成し、且つ、上記赤外線反射層上に積層構成から成る保護層を特定の膜厚で設けることにより、耐久性に優れ、且つ光学特性、耐擦傷性及び外観性に優れた透明遮熱断熱部材を提供するものである。

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の金属や金属が部分酸化された金属亜酸化物材料から形成される赤外線反射層上に、最適な厚みの積層構成から成る保護層を設けることで、断熱性を維持しつつフィルムの耐擦傷性といった物理特性に優れ、且つ虹彩現象、視認角度による反射色変化を抑制した外観性にも優れた透明遮熱断熱部材を得られることを見出し、本発明をなすに至った。

本発明の透明遮熱断熱部材は、透明基材と、前記透明基材の上に形成された機能層とを含む透明遮熱断熱部材であって、前記機能層は、前記透明基材側から赤外線反射層及び保護層をこの順に含み、前記赤外線反射層は、前記透明基材側から少なくとも金属層及び金属が部分酸化された金属亜酸化物層をこの順に含み、前記保護層は、総厚さが２００〜９８０ｎｍであり、前記赤外線反射層側から少なくとも高屈折率層及び低屈折率層をこの順に含むことを特徴とする。

また、本発明の透明遮熱断熱部材の製造方法は、透明基材の上に赤外線反射層をドライコーティング法で形成する工程と、前記赤外線反射層の上に、保護層をウェットコーティング法で形成する工程とを含むことを特徴とする。

本発明によれば、耐腐食性、即ち耐久性に優れ、且つ、外観的に虹彩現象や視認角度による反射色変化を抑制した遮熱機能及び断熱機能に優れた透明遮熱断熱部材を提供できる。

図１は、本発明の透明遮熱断熱部材の一例を示す概略断面図である。 図２は、本発明の透明遮熱断熱部材の他の例を示す概略断面図である。 図３は、本発明の透明遮熱断熱部材の更に他の例を示す概略断面図である。 図４は、実施例１の透明遮熱断熱部材の反射スペクトルを示す図である。 図５は、比較例１の透明遮熱断熱部材の反射スペクトルを示す図である。

本発明の透明遮熱断熱部材は、透明基材と、上記透明基材の上に形成された機能層とを備え、上記機能層は、上記透明基材側から赤外線反射層及び保護層をこの順に含み、上記赤外線反射層は、上記透明基材側から少なくとも金属層及び金属が部分酸化された金属亜酸化物層をこの順に含み、上記保護層は、総厚さが２００〜９８０ｎｍであり、上記赤外線反射層側から少なくとも高屈折率層及び低屈折率層をこの順に含むことを特徴とする。

上記構成とすることにより、本発明の透明遮熱断熱部材は、耐久性に優れ、且つ、外観的に虹彩現象が抑制され、視認角度による反射色変化が少ない（視野角依存性の低い）と共に、遮熱機能及び断熱機能に優れる。

以下、本発明の透明遮熱断熱部材を図面に基づき説明する。

図１は、本発明の透明遮熱断熱部材の一例を示す概略断面図である。図１において、本発明の透明遮熱断熱部材１０は、透明基材１１と、赤外線反射層２１及び保護層２２からなる機能層２３と、粘着剤層１９とを備える。赤外線反射層２１は、透明基材側から金属亜酸化物層１２と、金属層１３と、金属亜酸化物層１４とからなる。保護層２２は、光学調整層１５と、中屈折率層１６と、高屈折率層１７と、低屈折率層１８とから形成されている。

また、図２は、本発明の透明遮熱断熱部材の他の例を示す概略断面図である。図２において、本発明の透明遮熱断熱部材３０は、保護層２２が高屈折率層１７と低屈折率層１８とから形成されていること以外は、図１で示した透明遮熱断熱部材１０と同一の構成である。即ち、図２に示す透明遮熱断熱部材３０は、図１に示した透明遮熱断熱部材１０の保護層２２を２層構造としたものである。

また、図３は、本発明の透明遮熱断熱部材の更に他の例を示す概略断面図である。図３において、本発明の透明遮熱断熱部材４０は、透明基材１１と粘着剤層１９との間にコレステリック液晶ポリマー層２０を配置したこと以外は、図１で示した透明遮熱断熱部材１０と同一の構成である。即ち、図３に示す透明遮熱断熱部材４０は、図１に示した透明遮熱断熱部材１０の透明基材１１と粘着剤層１９との間にコレステリック液晶ポリマー層２０を更に備えるものである。

以下、本発明の透明遮熱断熱部材の各構成部材について説明する。

＜透明基材＞
本発明の透明遮熱断熱部材を構成する透明基材としては、透光性を有する材料で形成されていれば特に限定されない。上記透明基材としては、例えば、ポリエステル系樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル酸エステル系樹脂（例えば、ポリメチルメタクリレート等）、脂環式ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂（例えば、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等）、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、セルロース系樹脂（例えば、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等）、ノルボルネン系樹脂等の樹脂を、フィルム状又はシート状に加工したものを用いることができる。上記樹脂をフィルム状又はシート状に加工する方法としては、押し出し成形法、カレンダー成形法、圧縮成形法、射出成形法、上記樹脂を溶剤に溶解させてキャスティングする方法等が挙げられる。上記樹脂には、酸化防止剤、難燃剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、易滑剤、帯電防止剤等の添加剤を添加してもよい。上記透明基材の厚さは、例えば、１０〜５００μｍであり、加工性、コスト面を考慮すると２５〜１２５μｍが好ましい。

＜赤外線反射層＞
本発明の透明遮熱断熱部材を構成する赤外線反射層は、少なくとも上記透明基材側から銀、銅、金、アルミニウム等の金属により形成される金属層と、金属が部分酸化された金属亜酸化物層とをこの順に含んでいる。例えば、（１）透明基材／金属層／金属亜酸化物層、（２）透明基材／金属層／金属亜酸化物層／金属層／金属亜酸化物層等の構成が挙げられる。また、上記透明基材と上記金属層の間に、金属が部分酸化された金属亜酸化物層あるいは金属酸化物層を備えていても良い。例えば、（１）透明基材／金属亜酸化物層／金属層／金属亜酸化物層、（２）透明基材／金属亜酸化物層／金属層／金属亜酸化物層／金属層／金属亜酸化物層、（３）透明基材／金属酸化物層／金属層／金属亜酸化物層、（４）透明基材／金属酸化物層／金属層／金属亜酸化物層／金属層／金属亜酸化物層等の構成が挙げられる。中でも、可視光線透過率の向上、金属層の腐食抑制の観点から、赤外線反射層としては、金属層が金属亜酸化物層同士で挟まれた構成、あるいは金属層が金属酸化物層と金属亜酸化物層で挟まれた構成を含むものが好ましい。上記赤外線反射層を備えることにより、本発明の透明遮熱断熱部材に遮熱機能及び断熱機能を付与できる。また、上記赤外線反射層と上記透明基材の間には、ハードコート層や密着性向上層等を設けても構わない。

上記金属層の構成材料としては、銀（屈折率ｎ＝０．１２）、銅（ｎ＝０．９５）、金（ｎ＝０．３５）、アルミニウム（ｎ＝０．９６）等の金属材料が適宜使用可能であり、中でも可視光の吸収が小さい観点から銀が好ましい。また、耐腐食性向上を目的にパラジウム、金、銅、アルミニウム、ビスマス、ニッケル、ニオブ、マグネシウム、亜鉛等を少なくとも１種又は２種以上含む合金として使用してもよい。これらの材料をスパッタリング法、蒸着法等のドライコーティング法により膜化することにより上記金属層を形成できる。上記金属層の一層当たりの厚さは、３〜２０ｎｍとすればよい。

上記金属亜酸化物層は、金属の化学量論組成に従った完全な酸化物よりも酸素元素の含有量が少ない部分（不完全）酸化物層を意味する。上記金属亜酸化物層を上記金属層の上に備えることにより、赤外線反射層の可視光線透過率の向上と金属層の腐食の抑制を両立することができる。上記金属亜酸化物層の構成材料としては、チタン、ニッケル、クロム、コバルト、インジウム、スズ、ニオブ、ジルコニウム、亜鉛、タンタル、アルミニウム、セリウム、マグネシウム、珪素、及びこれらの混合物等の金属の部分酸化物材料が適宜使用可能であり、中でも、可視光に対して比較的透明で、かつ高屈折率を有する誘電体という観点から、金属亜酸化物層としては、チタン金属の部分酸化物層あるいはチタンを主成分とする金属の部分酸化物層であることが好ましい。即ち、上記金属亜酸化物層は、チタン成分を含むことが好ましい。

上記金属亜酸化物層の形成方法は特に限定されないが、例えば、反応性スパッタリング法により形成できる。即ち、上記金属のターゲットを用いてスパッタリング法により製膜する際に、雰囲気ガスにアルゴンガス等の不活性ガスに酸素ガスを適切な濃度で加えることにより、酸素ガス濃度に応じた酸素元素を含む金属の部分（不完全）酸化物層、即ち金属亜酸化物層を形成できる。また、スパッタリング法等により金属薄膜あるいは部分酸化された金属薄膜を一旦形成した後、加熱処理等により後酸化して金属の部分（不完全）酸化物層を形成することもできる。

また、上記金属層の下に配置する上記金属酸化物層の構成材料としては、酸化インジウムスズ（屈折率ｎ＝１．９２）、酸化インジウム酸化亜鉛（ｎ＝２．００）、酸化インジウム（ｎ＝２．００）、酸化チタン（ｎ＝２．５０）、酸化スズ（ｎ＝２．００）、酸化亜鉛（ｎ＝２．０３）、酸化ニオブ（ｎ＝２．３０）、酸化アルミニウム（ｎ＝１．７７）等による金属酸化物材料が適宜使用可能であり、これらの材料を、例えば、スパッタリング法、蒸着法、イオンプレーティング法等のドライコーティング法により膜化することにより、上記金属酸化物層を形成できる。

上記赤外線反射層として、上記金属層が上記金属亜酸化物層同士で挟まれた構成（金属亜酸化物層[上]／金属層／金属亜酸化物層[下]）を適用する場合、各々の金属亜酸化物層は同一の金属材料から製膜形成してもよいし、異なる金属材料から製膜形成してもよい。また、少なくとも上記金属層の上に形成される上記金属亜酸化物層は、チタン金属の部分酸化物層あるいはチタンを主成分とする金属の部分酸化物層で形成されていることが好ましい。これにより、上記金属層の腐食を防止できると共に、上記赤外線反射層上に設けられる保護層との密着性を向上できる。

また、上記赤外線反射層として、上記金属層が上記金属亜酸化物層と上記金属酸化物層とで挟まれた構成（金属亜酸化物層[上]／金属層／金属酸化物層[下]）を適用する場合においても、上述と同様の態様を取ることが好ましい。

上記金属亜酸化物層がチタン（Ｔｉ）金属の部分酸化物（ＴｉＯ_x）層から形成されている場合、当該層におけるＴｉＯ_xのｘは、赤外線反射層の可視光線透過率と金属層の腐食抑制のバランスの観点から、０．５以上、２．０未満の範囲とするのが好ましい。上記ＴｉＯ_xにおけるｘが０．５を下回ると、上記金属層の耐腐食性は向上するものの上記赤外線反射層の可視光線透過率が低下するおそれがあり、上記ＴｉＯ_xにおけるｘが２．０以上になると、上記赤外線反射層の可視光線透過率は増大するものの上記金属層の耐腐食性が低下するおそれがある。上記ＴｉＯ_xのｘは、エネルギー分散型蛍光Ｘ線分析（ＥＤＸ）等を用いて分析、算出することができる。

上記金属亜酸化物層の厚さは、１〜８ｎｍが好ましい。上記範囲内の厚さであれば、上記金属層の腐食抑制効果が十分に発揮される。一方、上記厚さが１ｎｍを下回ると上記金属層の腐食抑制効果が得られない傾向にあり、上記厚さが８ｎｍを超えると上記金属層の耐腐食性の向上効果は飽和傾向になり、また、金属亜酸化物の光の吸収の影響が大きくなり、赤外線反射層の可視光線透過率が低下したり、製膜の際にスパッタリングの加工速度が遅くなってしまうため生産性が低下する傾向にある。

上記金属層の下に配置する金属酸化物層の厚さは、２〜８０ｎｍが好ましい。上記厚さが２ｎｍを下回ると金属層に対する光補償層としての効果が小さく、赤外線反射層の可視光線透過率の向上効果が小さくなるおそれがあり、また上記金属層の腐食抑制効果が得られないおそれがある。一方、上記厚さが８０ｎｍを超えると金属層に対する光補償層としての更なる効果は得られず、赤外線反射層の可視光線透過率が逆に徐々に低下するおそれがあり、また、製膜の際にスパッタリングの加工速度が遅くなってしまうため生産性が低下する傾向にある。

また、上記金属亜酸化物層及び上記金属酸化物層の屈折率としては、それぞれ１．７以上が好ましく、より好ましくは１．８以上、更に好ましくは２．０以上である。

また、上記赤外線反射層の波長５．５〜２５．２μｍの遠赤外光の平均反射率は、８０％以上に設定することが好ましく、より好ましくは８５％以上であり、更に好ましくは９０％以上である。これにより、本発明の透明遮熱断熱部材に後述する保護層を設けた場合でも垂直放射率が０．２２以下（熱貫流率の値としては４．２Ｗ／ｍ²・Ｋ以下）になるよう調整でき、透明遮熱断熱部材に断熱機能を確実に付与できる。

垂直放射率は日本工業規格（ＪＩＳ）Ｒ３１０６−２００８で規定されている通り、垂直放射率（ε_n）＝１−分光反射率（ρ_n）で表される。分光反射率ρ_nは、常温の熱放射の波長域５．５〜５０μｍで測定される。５．５〜５０μｍの波長域は遠赤外線領域であり、遠赤外線の波長域の反射率が高くなるほど、垂直放射率は小さくなり、断熱性能に優れる。

＜保護層＞
本発明の透明遮熱断熱部材を構成する保護層は、上記赤外線反射層側から少なくとも高屈折率層及び低屈折率層をこの順で備え、その総厚さが２００〜９８０ｎｍに設定されている。上記保護層を備えることにより、本発明の透明遮熱断熱部材に、断熱性能を低下させることなく、耐擦傷性や耐腐食性、即ち耐久性を付与できるとともに、外観性を良好なものとすることができる。

また、上記保護層は、上記赤外線反射層側から中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順で備えていることが好ましく、特に上記保護層は、上記赤外線反射層側から光学調整層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順で備えていることが最も好ましい。

上記保護層の総厚さは２００〜９８０ｎｍの範囲に設定される。上記総厚さが２００ｎｍを下回ると耐擦傷性や耐腐食性といった物理特性が低下する懸念があり、上記総厚さが９８０ｎｍを超えると赤外線の吸収が大きくなるため、垂直放射率が増大し、断熱性の低下につながる可能性があり好ましくない。上記総厚さが２００〜９８０ｎｍの範囲内であれば、ＪＩＳ Ｒ３１０６−１９８８に基づく機能層側の垂直放射率が０．２２以下（熱貫流率の値としては４．２Ｗ／ｍ²・Ｋ以下）となり、断熱性能を十分に発現できる。また、上記総厚さは、耐擦傷性の更なる向上の観点から、３００ｎｍ以上とし、垂直放射率の更なる低減の観点から、７００ｎｍ以下とした３００〜７００ｎｍの範囲に設定することがより好ましい。上記総厚さが３００〜７００ｎｍの範囲内であれば、ＪＩＳ Ｒ３１０６−１９８８に基づく機能層側の垂直放射率が０．１７以下（熱貫流率の値としては４．０Ｗ／ｍ²・Ｋ以下）となり、断熱性能と耐擦傷性を更に高いレベルで両立することができる。

上記保護層を構成する各層の屈折率や厚さの組み合わせについては、本発明の透明遮熱断熱部材の可視光線反射スペクトルの所謂リップルの大きさが小さくなるように設計されることが求められ、そのために上記保護層の総厚さが２００〜９８０ｎｍの範囲の中で各層の最適な屈折率や厚さを組み合わせて所望の光学特性を発揮できるように適宜調整する必要がある。

以下、上記保護層を構成する各層について説明する。

［光学調整層］
上記光学調整層は、本発明の透明遮熱断熱部材の赤外線反射層の光学特性を調整する層であり、波長５５０ｎｍの屈折率が１．６０〜２．００の範囲であることが好ましく、より好ましくは１．６５〜１．９０の範囲である。また、上記光学調整層の厚さは、上記光学調整層の上に順に積層される中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の各々の層の屈折率や厚さ等によって適切な範囲が異なるので、一概には言えないが、上記他の層の構成との兼ね合いにおいて、３０〜８０ｎｍの範囲の中で設定されることが好ましく、より好ましくは３５〜７０ｎｍの範囲の中で設定される。上記光学調整層の厚さを３０〜８０ｎｍの範囲内とすることにより、本発明の透明遮熱断熱部材の可視光線反射率を低下させ、透明性即ち可視光線透過率を更に向上できる。

また、上記光学調整層を構成する材料は、前述の赤外線反射層の金属亜酸化物層を構成する材料と同種の材料を含むことが、上記光学調整層が直接接する金属亜酸化物層との密着性確保の観点から好ましく、例えば、上記金属亜酸化物層として、チタン金属の部分酸化物層あるいはチタンを主成分とする金属の部分酸化物層を選択した場合、上記光学調整層の構成材料には酸化チタン微粒子を含む材料が好ましい。上記光学調整層の構成材料が酸化チタン微粒子を含むことで、上記光学調整層の屈折率を１．６０〜２．００の範囲内の高屈折率に適宜コントロールすることが可能となるだけでなく、上記チタン金属の部分酸化物層あるいはチタンを主成分とする金属の部分酸化物層からなる金属亜酸化物層との密着性を向上できる。

上記酸化チタン微粒子に代表される無機微粒子を含む光学調整層の構成材料としては、上記光学調整層の屈折率が上記範囲内に設計できれば、特に限定されないが、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化型樹脂等の樹脂と上記樹脂中に分散された無機微粒子とを含む材料が好適に用いられる。上記光学調整層の構成材料の中でも、透明性といった光学特性の面、耐擦傷性といった物理特性の面、更に生産性の面から電離放射線硬化型樹脂と、上記電離放射線硬化型樹脂中に分散された無機微粒子とを含む材料が好ましい。また、上記電離放射線硬化型樹脂に無機微粒子を含む材料は、一般的に、上記金属亜酸化物層上に塗設した後に紫外線等の電離放射線照射により硬化して上記光学調整層として形成されるが、無機微粒子を含んでいることにより、硬化時の膜の収縮が抑制されるため、上記光学調整層と上記金属亜酸化物層との密着性を良好なものとすることができる。

上記熱可塑性樹脂としては、例えば、変成ポリオレフィン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、アクリロニトリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、セルロース系樹脂等が挙げられ、また、上記熱硬化性樹脂としては、フェノール系樹脂、メラミン系樹脂、尿素系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂、アルキド系樹脂等が挙げられ、これらを単独あるいは混合して用いることができ、必要に応じて架橋剤を添加し、熱硬化させることで上記光学調整層を形成できる。

上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、不飽和基を２つ以上有する多官能（メタ）アクリレートモノマーや多官能（メタ）アクリレートオリゴマー（プレポリマー）等が挙げられ、これらを単独あるいは混合して用いことができる。具体的には、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサントリメタクリレート等のアクリレート；１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン等のビニルベンゼン及びその誘導体；ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー等のウレタン系の多官能アクリレートオリゴマー類；多価アルコールと（メタ）アクリル酸とから生成されるエステル系の多官能アクリレートオリゴマー類；エポキシ系の多官能アクリレートオリゴマー類等が挙げられ、必要に応じて光重合開始剤を添加し、電離放射線を照射することで硬化させることで上記光学調整層を形成できる。

また、上記電離放射線硬化型樹脂を含む上記光学調整層と上記赤外線反射層の金属亜酸化物層との密着性をより向上させるために、上記電離放射線硬化型樹脂にリン酸基、スルホン酸基、アミド基等の極性基を有する（メタ）アクリル酸誘導体や（メタ）アクリル基、ビニル基等の不飽和基を有するシランカップリング剤等を添加して用いても良い。

また、上記無機微粒子は、上記光学調整層の屈折率を調整するために上記樹脂中に分散、添加される。上記無機微粒子としては、酸化チタン（ＴｉＯ₂）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化ニオブ（Ｎｂ₂Ｏ₅）、酸化イットリウム（Ｙ₂Ｏ₃）、酸化インジウム（Ｉｎ₂Ｏ₃）、酸化スズ（ＳｎＯ₂）、酸化アンチモン（Ｓｂ₂Ｏ₃）、酸化タンタル（Ｔａ₂Ｏ₅）、酸化タングステン（ＷＯ₃）等を使用できる。上記無機粒子は必要に応じ、分散剤により表面処理されていても構わない。上記無機微粒子の中でも、他の材料に比べて少量の添加で高屈折率化が可能な酸化チタン及び酸化ジルコニウムが好ましく、赤外線領域の光の吸収が比較的少ないことや上記金属亜酸化物層として好適なＴｉＯ_x層との密着性の確保の観点から酸化チタンがより好ましい。

上記無機微粒子の粒子径としては、平均粒子径が５〜１００ｎｍの範囲であることが光学調整層の透明性の観点から好ましく、１０〜８０ｎｍの範囲であることがより好ましい。上記平均粒子径が１００ｎｍを超えると、光学調整層を形成した際にヘーズ値の増大等が生じて透明性が低下するおそれがあり、また、上記平均粒子径が５ｎｍを下回ると、光学調整層用塗料とした場合に無機微粒子の分散安定性を維持することが難しくなるおそれがある。

［中屈折率層］
上記中屈折率層は、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．４５〜１．５５の範囲であることが好ましく、上記屈折率は１．４７〜１．５３の範囲であることがより好ましい。また、上記中屈折率層の厚さは、中屈折率層に対して下層となる光学調整層、また中屈折率層に対して順に上層となる高屈折率層、低屈折率層の各々の層の屈折率や厚さ等によって適切な範囲が異なるので、一概には言えないが、上記他の層の構成との兼ね合いにおいて、４０〜２００ｎｍの範囲の中で設定されることが好ましく、上記厚さは５０〜１５０ｎｍの範囲の中で設定されることがより好ましい。上記中屈折率層の厚さが４０ｎｍを下回ると上記赤外線反射層の金属亜酸化物層あるいは上記光学調整層との密着性の低下につながるおそれがあり、上記厚さが２００ｎｍを超えると赤外線領域の光の吸収が大きくなり、断熱性が低下するおそれがあるため好ましくない。また、上記中屈折率層の厚さが２００ｎｍを超えると、透明遮熱断熱部材の可視光線反射スペクトルにおけるリップルの大きさ、即ち可視光線領域の波長に対する反射率の変動も十分に低減することができず、虹彩模様が目立ちやすくなるだけでなく、視野角によって反射色の変化が大きくなり、外観として問題となり得るおそれがあり好ましくない。

上記中屈折率層の屈折率が上記範囲内に設定できれば、上記中屈折率層の構成材料は限定されず、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化型樹脂等が好適に用いられる。上記熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂や上記電離放射線硬化型樹脂等の樹脂としては、前述した光学調整層に使用できるものと同一の樹脂を使用することができ、同一の処方で上記中屈折率層を形成することができる。また、屈折率の調整のため、必要に応じて上記樹脂中に無機微粒子を分散、添加しても構わない。上記中屈折率層の構成材料の中でも、透明性といった光学特性の面、耐擦傷性といった物理特性の面、更に生産性の面から、電離放射線硬化型樹脂を含む材料が好ましい。

上記電離放射線硬化型樹脂の中でも、紫外線等の電離放射線照射時の硬化収縮が比較的少ないウレタン系、エステル系、エポキシ系の多官能（メタ）アクリレートオリゴマー（プレポリマー）類を含む樹脂がより好ましい。これにより、上記中屈折率層と上記赤外線反射層の金属亜酸化物層あるいは上記光学調整層との密着性を良好なものとすることができる。

また、上記電離放射線硬化型樹脂を含む中屈折率層と上記赤外線反射層の金属亜酸化物層あるいは上記光学調整層との密着性をより向上させるために、上記電離放射線硬化型樹脂にリン酸基、スルホン酸基、アミド基等の極性基を有する（メタ）アクリル酸誘導体や（メタ）アクリル基、ビニル基等の不飽和基を有するシランカップリング剤等を添加して用いても良い。

［高屈折率層］
上記高屈折率層は、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．６５〜１．９５の範囲であることが好ましく、上記屈折率は１．７０〜１．９０の範囲であることがより好ましい。また、上記高屈折率層の厚さは、高屈折率層に対して順に下層となる中屈折率層、光学調整層、また高屈折率層に対して上層となる低屈折率層の各々の層の屈折率や厚さ等によって適切な範囲が異なるので、一概には言えないが、上記他の層の構成との兼ね合いにおいて、６０〜５５０ｎｍの範囲の中で設定されることが好ましく、上記厚さは６５〜４００ｎｍの範囲の中で設定されることがより好ましい。上記高屈折率層の厚さが６０ｎｍを下回るとフィルム表面の耐擦傷性といった物理特性が低下する懸念があり、上記厚さが５５０ｎｍを超えると、上記高屈折率層が無機微粒子を大量に含有する場合に赤外線領域での光の吸収が大きくなり、垂直放射率が増大し、断熱性の低下につながる可能性があるため好ましくない。

上記高屈折率層の屈折率が上記範囲内に設定できれば、上記高屈折率層の構成材料は特に限定はされないが、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化型樹脂等の樹脂と上記樹脂中に分散された無機微粒子とを含む材料が好適に用いられる。上記熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂や上記電離放射線硬化型樹脂等の樹脂及び上記無機微粒子としては、前述した光学調整層に使用できるものと同一の樹脂及び無機微粒子を使用することができ、同一の処方で上記高屈折率層を形成することができる。上記高屈折率層の構成材料の中でも、透明性といった光学特性の面、耐擦傷性といった物理特性の面、更に生産性の面から、電離放射線硬化型樹脂と、上記電離放射線硬化型樹脂中に分散された無機微粒子とを含む材料が好ましい。また、上記電離放射線硬化型樹脂に無機微粒子を含む材料は、一般的に、上記金属亜酸化物層あるいは上記中屈折率層上に塗設した後に紫外線等の電離放射線照射により硬化して上記高屈折率層として形成されるが、無機微粒子を含んでいることにより、硬化時の膜の収縮が抑制されるため、上記高屈折率層と上記金属亜酸化物層あるいは上記中屈折率層との密着性を良好なものとすることができる。

また、上記無機微粒子は、上記高屈折率層の屈折率を調整するために添加されるが、上記無機微粒子の中でも、他の材料に比べて少量の添加で高屈折率化が可能な酸化チタン及び酸化ジルコニウムが好ましく、赤外線領域の光の吸収が比較的少ない点で酸化チタンがより好ましい。

また、上記電離放射線硬化型樹脂を含む高屈折率層と上記赤外線反射層の金属亜酸化物層あるいは上記中屈折率層との密着性をより向上させるために、上記電離放射線硬化型樹脂にリン酸基、スルホン酸基、アミド基等の極性基を有する（メタ）アクリル酸誘導体や（メタ）アクリル基、ビニル基等の不飽和基を有するシランカップリング剤等を添加して用いても良い。

［低屈折率層］
上記低屈折率層は、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．３０〜１．４５の範囲であることが好ましく、上記屈折率は１．３５〜１．４３の範囲であることがより好ましい。また、上記低屈折率層の厚さは、低屈折率層に対して順に下層となる高屈折率層、中屈折率層、光学調整層の各々の層の屈折率や厚さ等によって適切な範囲が異なるので、一概には言えないが、上記他の層の構成との兼ね合いにおいて、７０〜１５０ｎｍの範囲の中で設定されることが好ましく、上記厚さは８０〜１３０ｎｍの範囲の中で設定されることがより好ましい。上記低屈折率層の厚さが７０〜１５０ｎｍの範囲を外れると本発明の透明遮熱断熱部材の可視光線領域の反射スペクトルのリップルの大きさ、即ち可視光線領域の波長に対する反射率の変動を十分に低減することができず、虹彩模様が目立ちやすくなるだけでなく、視野角によって反射色の変化が大きくなり、外観として問題となり得るおそれがある。また、可視光線透過率が低下するおそれがある。

上記低屈折率層の屈折率が上記範囲内に設定できれば、上記低屈折率層の構成材料は特に限定はされないが、例えば、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化型樹脂等の樹脂や、上記樹脂と上記樹脂中に分散された低屈折率の無機微粒子とを含む材料や、有機成分と無機成分が化学的に結合した有機・無機ハイブリッド材料を含む材料が好適に用いられる。上記低屈折率層の構成材料の中でも、透明性といった光学特性の面、耐擦傷性といった物理特性の面、更に生産性の面から、電離放射線硬化型樹脂と、上記電離放射線硬化型樹脂中に分散された低屈折率の無機微粒子とを含む材料及び電離放射線硬化型樹脂と低屈折率無機微粒子とが化学的に結合した有機・無機ハイブリッド材料を含む材料が好ましい。

上記電離放射線硬化型樹脂としては、前述した光学調整層に使用できるものと同一の樹脂に加え、フッ素系の電離放射硬化型樹脂も使用することができ、同一の処方で上記低屈折率層を形成することができる。

上記無機微粒子は上記低屈折率層の屈折率を調整するために上記樹脂中に分散、添加される。上記低屈折率の無機微粒子としては、例えば、酸化ケイ素、フッ化マグネシウム、フッ化アルミニウム等を用いることができるが、保護層の最表面となる低屈折率層の耐擦傷性といった物理特性の観点から酸化ケイ素系材料が好ましく、中でも低屈折率化を発現させるために内部に空隙を有する中空タイプの酸化ケイ素（中空シリカ）系材料が特に好ましい。

また、上記電離放射線硬化型樹脂に無機微粒子を含む材料は、一般的に、上記高屈折率層上に塗設した後に紫外線等の電離放射線照射により硬化して上記低屈折率層として形成されるが、無機微粒子を含んでいることにより、硬化時の膜の収縮が抑制されるため、上記高屈折率層との密着性を良好なものとすることができる。

また、上記電離放射線硬化型樹脂を含む低屈折率層と上記高屈折率層との密着性をより向上させるために、上記電離放射線硬化型樹脂にリン酸基、スルホン酸基、アミド基等の極性基を有する（メタ）アクリル酸誘導体や（メタ）アクリル基、ビニル基等の不飽和基を有するシランカップリング剤等を添加して用いても良い。

上記低屈折率層の構成材料としては、上記の構成材料以外に、レベリング剤、指紋付着防止剤、滑材、帯電防止剤、ヘーズ付与剤等の添加剤が含まれていても良く、これらの添加剤の含有量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜調整される。

上述したように、上記保護層として、（１）上記赤外線反射層側から高屈折率層及び低屈折率層をこの順で含む積層構成、（２）上記赤外線反射層側から中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順で含む積層構成、あるいは、（３）上記赤外線反射層側から光学調整層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順で含む積層構成、のいずれの構成とする場合においても、それぞれの積層からなる上記保護層の総厚さが２００〜９８０ｎｍの範囲となるように、波長５５０ｎｍの屈折率が１．６０〜２．００である上記光学調整層の厚さを３０〜８０ｎｍの範囲の中から、また、波長５５０ｎｍの屈折率が１．４５〜１．５５である上記中屈折率層の厚さを４０〜２００ｎｍの範囲の中から、また、波長５５０ｎｍの屈折率が１．６５〜１．９５である上記高屈折率層の厚さを６０〜５５０ｎｍの範囲の中から、また、波長５５０ｎｍの屈折率が１．３０〜１．４５である上記低屈折率層の厚さを７０〜１５０ｎｍの範囲の中から、適宜設定することにより、断熱性（垂直放射率の値としては０．２２以下、熱貫流率の値としては４．２Ｗ／ｍ²・Ｋ以下）を維持しつつ耐擦傷性、耐腐食性といった物理特性に優れ、且つ虹彩現象、視認角度による反射色変化を抑制した外観性も良好な遮熱断熱部材を提供することができる。

また、より好ましい範囲として、上記総厚さを３００〜７００ｎｍの範囲内に設定すれば、ＪＩＳ Ｒ３１０６−１９８８に基づく機能層側の垂直放射率が０．１７以下（熱貫流率の値としては４．０Ｗ／ｍ²・Ｋ以下）となり、且つ、保護層としての機械的物性も十分に確保できるので、断熱性能と耐擦傷性を更に高いレベルで両立することができる。

＜コレステリック液晶ポリマー層＞
本発明の透明遮熱断熱部材は、その透明性を損なわなければ、上記赤外線反射層が形成されていない側の上記透明基材の上にコレステリック液晶ポリマー層を更に形成してもよい。これにより、本発明の透明遮熱断熱部材の遮熱機能をより向上させることができる。

上記コレステリック液晶ポリマー層は、重合性官能基を有する液晶化合物と、重合性官能基を有するキラル剤と、多官能アクリレート化合物とを含む材料を光重合して形成することができる。

コレステリック液晶ポリマーは、棒状分子であるネマチック液晶化合物に少量の光学活性化合物（キラル剤）を添加することにより得ることができる。このコレステリック液晶ポリマーは、ネマチック液晶化合物が幾重にも重なる層状の構造を有している。この層内では、それぞれのネマチック液晶化合物が一定方向に配列しており、互いの層は液晶化合物の配列方向が螺旋状になるように集積している。そのため、コレステリック液晶ポリマーは、この螺旋のピッチに応じて、特定の波長の光のみを選択的に反射することができる。

通常のコレステリック液晶ポリマーは、温度により螺旋のピッチが変わり、反射する光の波長が変わるという特徴がある。重合性官能基を有する液晶化合物と、重合性官能基を有するキラル剤とを含有する混合物を、液晶状態で均一にさせた後、液晶状態を保持したまま紫外線等の活性エネルギー線を照射すると、液晶化合物の配向状態を半永久的に固定化したコレステリック液晶ポリマーを含有する層を作製することが可能となる。

このようにして得られたコレステリック液晶ポリマー層は、温度によって反射する光の波長が変わることがなく半永久的に反射波長を固定化することが可能となる。また、このコレステリック液晶ポリマー層は、コレステリック液晶旋光性を有することから、円偏光の回転方向と波長が、液晶分子の回転方向と螺旋ピッチと等しい場合、その光を透過せずに反射する。通常、太陽光は、右螺旋と左螺旋の円偏光から合成されている。そのため、旋光性の向きが右螺旋のキラル剤を用いて特定の螺旋ピッチとしたコレステリック液晶ポリマー層と、旋光性の向きが左螺旋のキラル剤を用いて特定の螺旋ピッチとしたコレステリック液晶ポリマー層とを積層させることにより、選択反射波長での反射率をより高くすることができる。

上記コレステリック液晶ポリマー層の厚さは、入射光を最大反射させる波長（最大反射率波長）の１．５倍以上４．０倍以下が好ましく、最大反射率波長の１．７倍以上３．０倍以下がより好ましい。コレステリック液晶ポリマー層の厚さが最大反射率波長の１．５倍を下回ると、コレステリック液晶ポリマー層の配向性を維持することが困難になり、光反射率が低下することがある。また、コレステリック液晶ポリマー層の厚さが最大反射率波長の４．０倍を超えると、コレステリック液晶ポリマー層の配向性と光反射率は良好に維持できるが、厚さが厚くなり過ぎることがある。コレステリック液晶ポリマー層の厚さは、例えば、０．５μｍ以上２０μｍ以下、好ましくは１μｍ以上１０μｍ以下である。

また、上記コレステリック液晶ポリマー層は、単層構造に限らず、複数層構造であってもよい。複数層構造の場合、それぞれの層が、異なる選択反射波長を有すれば、光を反射する波長領域を広げることができ、好ましい。

以下、上記コレステリック液晶ポリマー層の形成材料について詳細に説明する。

［重合性官能基を有する液晶化合物］
上記コレステリック液晶ポリマー層の形成には、重合性官能基を有する液晶化合物を用いる。上記液晶化合物としては、例えば、「液晶の基礎と応用」（松本正一、角田市良 共著；工業調査会）第８章に記載されているような公知の化合物を用いることができる。

上記液晶化合物の具体例としては、例えば、特開２０１２−６９９７号公報、特開２０１２−１６８５１４号公報、特開２００８−２１７００１号公報、国際公開ＷＯ９５／２２５８６号パンフレット、特開２０００−２８１６２９号公報、特開２００１−２３３８３７号公報、特表２００１−５１９３１７号公報、特表２００２−５３３７４２号公報、特開２００２−３０８８３２号公報、特開２００２−２６５４２１号公報、特開２００５−３０９２５５号公報、特開２００５−２６３７８９号公報、特開２００８−２９１２１８号公報、特開２００８−２４２３４９号公報等に記載の化合物を挙げることができる。

上記コレステリック液晶ポリマー層の形成に用いられる液晶化合物は、一種類を単独で用いてもよいし、単独で用いた場合に、コレステリック液晶ポリマー層の配向が乱れやすいのであれば、高融点液晶化合物と低融点液晶化合物とを併用してもよい。この場合、高融点液晶化合物の融点と低融点液晶化合物の融点との差が、１５℃以上３０℃以下であることが好ましく、２０℃以上３０℃以下がより好ましい。

上記液晶化合物について、高融点液晶化合物と低融点液晶化合物とを併用する場合、高融点液晶化合物の融点は、透明基材のガラス転移温度以上であることが好ましい。上記液晶化合物の融点が低い場合、キラル剤や溶剤との相溶性や溶解性に優れるが、融点が低すぎると作製した透明遮熱断熱部材の耐熱性に劣る。そのため、少なくとも高融点液晶化合物の融点を透明基材のガラス転移温度以上とするのがよい。

上記高融点液晶化合物と上記低融点液晶化合物との組合せとしては、市販品を用いることができ、例えば、ＡＤＥＫＡ社製の“ＰＬＣ７７００”（商品名、融点９０℃）と“ＰＬＣ８１００”（商品名、融点６５℃）との組合せ、上記“ＰＬＣ７７００”（融点９０℃）と“ＰＬＣ７５００”（商品名、融点６５℃）との組合せ、ＤＩＣ社製の“ＵＣＬ−０１７Ａ”（商品名、融点９６℃）と“ＵＣＬ−０１７”（商品名、融点７０℃）との組合せ等が挙げられる。

上記重合性官能基を有する液晶化合物を三種類以上用いる場合は、それらの中で、最大の融点を有するものを高融点液晶化合物とし、最小の融点を有するものを低融点液晶化合物とする。

上記重合性官能基を有する液晶化合物を二種以上併用する場合は、上記高融点液晶化合物を全体の質量割合で９０質量％以下の範囲で含むことが好ましい。上記高融点液晶化合物の割合が９０質量％を超えると、上記液晶化合物の相溶性が低下する傾向があり、その結果、コレステリック液晶ポリマー層の配向性が一部乱れることにより、ヘーズの上昇が生じる場合がある。

［重合性官能基を有するキラル剤］
上記コレステリック液晶ポリマー層の形成に用いられる重合性官能基を有するキラル剤としては、上記液晶化合物との相溶性が良好で、且つ、溶剤に溶解可能なものであれば、特に構造についての制限はなく、従来の重合性官能基を有するキラル剤を用いることができる。

上記キラル剤の具体例としては、例えば、国際公開ＷＯ９８／００４２８号パンフレット、特表平９−５０６０８８号公報、特表平１０−５０９７２６号公報、特開２０００−４４４５１号公報、特表２０００−５０６８７３号公報、特開２００３−６６２１４号公報、特開２００３−３１３１８７号公報、米国特許第６４６８４４４号明細書等に記載の化合物を挙げることができる。また、このようなキラル剤としては、市販品を用いることができ、例えば、メルク社製の“Ｓ１０１”、“Ｒ８１１”、“ＣＢ１５”（商品名）；ＢＡＳＦ社製の“ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ ＬＣ７５６”（商品名）；ＡＤＥＫＡ社製の“ＣＮＬ７１５”、“ＣＮＬ７１６”（商品名）等が挙げられる。

上記コレステリック液晶ポリマー層の選択反射波長は、螺旋ピッチを調整することにより制御することができる。この螺旋ピッチは、上記液晶化合物及び上記キラル剤の配合量を調整することにより、制御することができる。例えば、上記キラル剤の濃度が高い場合、螺旋の捻じり力が増加するため、螺旋のピッチは小さくなり、コレステリック液晶ポリマー層の選択反射波長λは短波長側へシフトする。また、上記キラル剤の濃度が低い場合、螺旋の捻じり力が低下するため、螺旋のピッチは大きくなり、コレステリック液晶ポリマー層の選択反射波長λは長波長側へシフトする。よって、上記キラル剤の配合量としては、上記液晶化合物と上記キラル剤との合計１００質量部に対して、０．１質量部以上１０質量部以下が好ましく、０．２質量部以上７．０質量部以下がより好ましい。上記キラル剤の配合量が０．１質量部以上１０質量部以下であれば、得られるコレステリック液晶ポリマー層の選択反射波長を近赤外線領域に制御することができる。

上記のようにキラル剤の配合量を調整することにより、コレステリック液晶ポリマー層の選択反射波長を制御することができる。この選択反射波長を近赤外線領域に制御すれば、可視光領域に実質的に吸収がなく、即ち、可視光領域で透明で、且つ近赤外線領域の光を選択的に反射可能な透明遮熱断熱部材を得ることができる。例えば、上記透明遮熱断熱部材の最大反射率波長を８００ｎｍ以上とすることができる。

［多官能アクリレート化合物］
上記コレステリック液晶ポリマー層の形成に用いられる上記多官能アクリレート化合物としては、上記液晶化合物及び上記キラル剤との相溶性が良好で、コレステリック液晶ポリマー層の配向性を乱さないものであれば、適宜使用可能である。

上記多官能アクリレート化合物は、重合性官能基を有する液晶化合物と重合性官能基を有するキラル剤との硬化性を向上させるために用いられるが、コレステリック液晶ポリマー層の配向性が乱れない量で添加される。具体的には、多官能アクリレート化合物の含有量は、上記液晶化合物と上記キラル剤との合計１００質量部に対して、０．５質量部以上５質量部以下であればよいが、好ましくは１質量部以上３質量部以下である。

＜粘着剤層＞
本発明の透明遮熱断熱部材は、上記透明基材の保護層を形成した面とは反対側の面に粘着剤層を配置することが好ましい。これにより、本発明の透明遮熱断熱部材を窓ガラス等の透明基板等に容易に貼り付けることができる。上記粘着剤層の材料としては、可視光線透過率が高く、透明基材との屈折率差が小さいものが好適に用いられる。例えば、アクリル系、ポリエステル系、ウレタン系、ゴム系、シリコーン系等の樹脂を使用できる。中でも、アクリル系樹脂が、光学的透明性が高いこと、濡れ性と粘着力のバランスが良いこと、信頼性が高く実績が多いこと、比較的安価なこと等からより好適に使用される。また、上記粘着剤層の厚さは、１０〜１００μｍとすればよいが、より好ましくは１５〜５０μｍである。

上記粘着剤層は、太陽光等の紫外線による透明遮熱断熱部材の劣化を抑制するために、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。また、上記粘着剤層は、透明遮熱断熱部材を透明基板に貼り合わせて使用するまでの間、粘着剤層上に離型フィルムを備えていることが好ましい。

＜透明遮熱断熱部材＞
本発明の透明遮熱断熱部材は、ＪＩＳ Ｒ３１０６−１９９８に準じて測定した可視光線の反射スペクトルにおいて、上記反射スペクトルの波長５００〜５７０ｎｍの範囲における最大反射率と最小反射率の平均値を示す仮想ラインａ上の波長５３５ｎｍに対応する点を点Ａとし、上記反射スペクトルの波長６２０〜７８０ｎｍの範囲における最大反射率と最小反射率の平均値を示す仮想ラインｂ上の波長７００ｎｍに対応する点を点Ｂとし、上記点Ａと上記点Ｂとを通る直線を波長５００〜７８０ｎｍの範囲で延長して基準直線ＡＢとし、（１）波長５００〜５７０ｎｍの範囲における上記反射スペクトルの反射率の値と上記基準直線ＡＢの反射率の値を比較した際に、各々の反射率の値の差が最大となる波長におけるその反射率の値の差の絶対値を最大変動差ΔＡと定義した時に、上記最大変動差ΔＡの値が反射率の％単位で７％以下であり、（２）波長６２０〜７８０ｎｍの範囲における上記反射スペクトルの反射率の値と上記基準直線ＡＢの反射率の値を比較した際に、各々の反射率の値の差が最大となる波長におけるその反射率の値の差の絶対値を最大変動差ΔＢと定義した時に、上記最大変動差ΔＢの値が反射率の％単位で９％以下とすることができる。

上記波長領域の反射率差に着目した理由について説明する。人間の目の比視感度としては波長５００〜５７０ｎｍ付近の緑色を中心とする領域をより強く認識する。そのため、上記透明遮熱断熱部材の可視光線の反射スペクトルにおいて波長５００〜５７０ｎｍの範囲でリップルと呼ばれる光の多重反射干渉によるうねりの大きさ（反射率の上下の変動）が大きいと、わずかな膜厚ムラにより反射スペクトルの位相のズレが発生し、反射色へ大きく影響する。

また、金属薄膜により近赤外線を反射させる赤外線反射膜においては、必然的に可視光領域波長から近赤外線領域波長にかけて反射率が徐々に高くなる反射スペクトルの形状となる。そのため、金属薄膜を用いた赤外線反射膜においては、赤色系の反射色が強調されやすい形となる。そのため、波長６２０〜７８０ｎｍの領域を中心とする赤色系の反射色についても、緑色系の色領域の際と同様に膜厚ムラによる反射スペクトルの位相ズレが発生すると、反射色への影響は大きくなる。

一般的に、窓ガラス等に用いられる透明遮熱断熱部材では、暑い印象を与える赤系色、黄系色や意匠性を低下させる緑系色は避けられる傾向があり、涼しい印象を与え、意匠性もそれほど低下させない青系色が好まれる傾向があるが、保護層の厚さを可視光線の波長範囲と重なるような数百ｎｍの厚さとした場合、虹彩模様や角度を変えて視認した時の全体の反射色において、とりわけ赤系色や緑系色の反射色が目立つようになる場合があり、外観を低下させるおそれがある。このため、わずかな膜厚ムラによる位相のズレが発生しても反射色への影響を小さくするためには、可視光領域波長の中でも反射色への影響が大きな緑色光領域５００〜５７０ｎｍ間、及び赤色光領域６２０〜７８０ｎｍ間での反射スペクトルのリップルの大きさを抑制することが重要となる。

次に、上記最大変動差ΔＡ及び上記最大変動差ΔＢについて図面に基づき説明する。図４は、後述する本発明の実施例１の透明遮熱断熱部材の反射スペクトルを示す図である。図４は、透明遮熱断熱部材の保護層が形成されていない面側を紫外線カット透明粘着剤にてガラス板に貼り付け、ガラス面側からＪＩＳ Ｒ３１０６−１９９８に準じて測定した反射スペクトルである。

先ず、測定した反射スペクトルにおいて波長５００〜５７０ｎｍ間での最大反射率及び最小反射率を求める。次に、求めた最大反射率及び最小反射率の平均値を示す仮想ラインａを求め、仮想ラインａ上の５３５ｎｍにおける点を点Ａとする。また、同様に波長６２０〜７８０ｎｍ間の最大反射率及び最小反射率の平均値を示す仮想ラインｂを求め、仮想ラインｂ上の７００ｎｍにおける点を点Ｂとする。これらの点Ａ、点Ｂを通る直線を波長５００〜７８０ｎｍの範囲で延長して基準直線ＡＢを作成する。次いで、（１）波長５００〜５７０ｎｍの範囲における上記反射スペクトルの反射率の値と上記基準直線ＡＢの反射率の値を比較した際に、各々の反射率の値の差が最大となる波長におけるその反射率の値の差の絶対値を最大変動差ΔＡと定義する。同様に（２）波長６２０〜７８０ｎｍの範囲における上記反射スペクトルの反射率の値と上記基準直線ＡＢの反射率の値を比較した際に、各々の反射率の値の差が最大となる波長におけるその反射率の値の差の絶対値を最大変動差ΔＢと定義する。その際の最大変動差ΔＡ及び最大変動差ΔＢの値が小さいほど、反射スペクトルのリップルの大きさが抑制されていることを意味しており、反射スペクトルの緑系色〜赤系色に対応する５００〜７８０ｎｍの範囲における反射率の変動が小さくなり、例えば同一フィルム内で膜厚変動が生じた際にも、反射色への影響を人間の目では気にならないレベルまで抑えることができる。

また、図５は、後述する本発明の比較例１の透明遮熱断熱部材の反射スペクトルを示す図であり、上記と同様にして最大変動差ΔＡ及び最大変動差ΔＢを求めたものである。

本発明の透明遮熱断熱部材では、上記最大変動差ΔＡの値を反射率の％単位で７％以下、上記最大変動差ΔＢの値を反射率の％単位で９％以下と規定することが好ましい。上記最大変動差ΔＡ及び上記最大変動差ΔＢの値を上記の範囲内とすることにより、可視光線反射スペクトルにおいて、特に緑系色〜赤系色に対応する波長５００〜７８０ｎｍの範囲における波長に連動した反射率の変動差を顕著に低減でき、反射率の変化をなだらかにすることができるため、保護層の耐擦傷性と断熱性を両立すべく、保護層の総厚さを可視光線の波長範囲（３８０〜７８０ｎｍ）と重なるような範囲に設定したとしても、虹彩現象、視認角度による反射色変化を人間の目ではほとんど気にならないレベルまで抑制できるので外観性にも優れたものとすることができる。上記最大変動差ΔＡの値が７％を超え、上記最大変動差ΔＢの値が９％を超えると、可視光線反射スペクトルの緑系色〜赤系色に対応する波長である５００〜７８０ｎｍの範囲における反射率の変動差を十分に低減することができないため、その結果、保護層の耐擦傷性と断熱性を両立すべく、保護層の総厚さを可視光線の波長範囲（３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）と重なるような範囲に設定した場合、虹彩現象や視認角度による反射色変化を十分に抑制することが困難となる。

本発明の透明遮熱断熱部材は、上記機能層側のＪＩＳ Ｒ３１０６−１９８８に基づく垂直放射率を０．２２以下（熱貫流率の値としては４．２Ｗ／ｍ²・Ｋ以下）とすることができる。

また、本発明の透明遮熱断熱部材は、ＪＩＳ Ａ５７５９に準拠する１０００時間の耐候性試験を行っても、上記保護層が、ＪＩＳ Ｄ０２０２−１９９８に準拠する碁盤目密着性試験において剥離が認められない。

また、本発明の透明遮熱断熱部材は、上記透明基材側に配置した粘着剤層をガラス基板に貼り合わせた場合において、上記ガラス基板とは反対側から光を照射して測定した際の波長５．５〜２５．２μｍの光の平均反射率を８０％以上とできる。

また、本発明の透明遮熱断熱部材は、上記赤外線反射層により断熱機能及び遮熱機能を発揮でき、また、上記保護層により耐擦傷性を向上し、かつ断熱機能を維持できる。更に、本発明の透明遮熱断熱部材は、上記コレステリック液晶ポリマー層を配置することで、遮熱機能をより向上できる。

本発明の透明遮熱断熱部材は、フィルム状又はシート状の形態でガラス基板等に粘着剤や接着剤等で貼り合わせて用いることができるが、他の形態で用いてもよい。

次に、本発明の透明遮熱断熱部材の製造方法の一例を、図１を参照しながら説明する。

先ず、透明基材１１の一方の面に赤外線反射層２１を形成する。赤外線反射層２１は、例えば、導電性材料や透明誘電体材料等をスパッタリングする方法等のドライコーティング法で形成できるが、他の方法によって形成してもよい。赤外線反射層２１は、高屈折率誘電体層である金属亜酸化物層１２と、低屈折率導電層である金属層１３と、高屈折率誘電体層である金属亜酸化物層１４との三層構造とするのが、遮熱・断熱機能、耐腐食性、生産性の点で好ましい。特に、金属亜酸化物層１２と金属亜酸化物層１４とは、反応性スパッタリング法で形成することが好ましい。これにより、金属が部分酸化された金属亜酸化物層を確実に形成できる。

次に、赤外線反射層２１の上に光学調整層１５を形成する。続いて、光学調整層１５の上に中屈折率層１６を形成し、中屈折率層１６の上に高屈折率層１７を形成し、高屈折率層１７の上に低屈折率層１８を形成する。これらの各層は、ウェットコーティング法にて形成できる。これにより、赤外線反射層２１を室内側に配置しても、窓拭き等により赤外線反射層２１が損傷することが防止でき、且つ、外観的にも虹彩現象や視認角度による反射色の変化といった角度依存性を抑制でき、更に赤外線反射層の断熱機能を維持することができる。

最後に、透明基材１１の他方の面に粘着剤層１９を形成する。粘着剤層１９を形成する方法も特に制限されず、透明基材１１の外面に、粘着剤を直接塗布してもよいし、別途用意した粘着剤シートを貼り合わせてもよい。

以上の工程により、本発明の透明遮熱断熱部材の一例が得られ、その後に必要に応じてガラス基板等に貼り合わせて用いられる。

以下、実施例に基づいて本発明を詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。また、特に指摘がない場合、下記において、「部」は「質量部」を意味する。

（屈折率の測定）
以下の実施例・比較例にて記載した光学調整層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の屈折率については、下記に示す方法にて測定した。

先ず、片面を易接着処理した東洋紡社製のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム“Ａ４１００”（商品名、厚み：５０μｍ）の易接着処理がされていない面に、各層形成用塗料を厚みが５００ｎｍとなるように塗布し、乾燥させて屈折率測定用サンプルを作製する。また、各層形成用塗料に紫外線硬化型塗料を用いる場合には、乾燥させた後に、更に高圧水銀灯にて３００ｍＪ／ｃｍ²の光量の紫外線を照射して硬化させ、屈折率測定用サンプルを作製する。

次に、作製した屈折率測定用サンプルの塗布裏面側に黒色テープを貼り、反射分光膜厚計“ＦＥ−３０００”（大塚電子社製）にて反射スペクトルを測定し、測定した反射スペクトルに基づき、ｎ−Ｃａｕｃｈｙの式からフィッティングを行い、各層の波長５５０ｎｍの光の屈折率を求めた。

（膜厚の測定）
以下の実施例・比較例にて記載した光学調整層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の膜厚については、透明基材の赤外線反射層及び保護層が形成されていない面側に黒色テープを貼り、瞬間マルチ測光システム“ＭＣＰＤ−３０００”(大塚電子社製）により、各層ごとに反射スペクトルを測定し、得られた反射スペクトルから、上記屈折率の測定により求めた屈折率を用いて、最適化法によるフィッティングを行い各層の膜厚を求めた。

（実施例１）
＜赤外線反射層付き透明基材の作製＞
先ず、透明基材として前述のＰＥＴフィルム“Ａ４１００”を用い、上記ＰＥＴフィルムの易接着処理面側に、チタンターゲットを用いて、反応性スパッタリング法により厚さ２ｎｍの金属亜酸化物（ＴｉＯ_x）層を形成した。上記反応性スパッタリング法におけるスパッタリングガスとしては、Ａｒ／Ｏ₂の混合ガスを用い、ガス流量体積比はＡｒ９７％／Ｏ₂３％とした。続いて、上記金属亜酸化物層上に銀ターゲットを用いて、スパッタリング法により厚さ１０ｎｍの金属（Ａｇ）層を形成した。上記スパッタリング法におけるスパッタリングガスとしては、Ａｒガス１００％を用いた。更に、上記金属層上にチタンターゲットを用いて、反応性スパッタリング法により厚さ２ｎｍの金属亜酸化物（ＴｉＯ_x）層を形成した。上記反応性スパッタリング法におけるスパッタリングガスとしては、Ａｒ／Ｏ₂の混合ガスを用い、ガス流量体積比はＡｒ９７％／Ｏ₂３％とした。これにより、透明基材側から金属亜酸化物（ＴｉＯ_x）層／金属（Ａｇ）層／金属亜酸化物（ＴｉＯ_x）層の三層構造からなる赤外線反射層付き透明基材を作製した。上記ＴｉＯ_x層のｘは１．５であった。

＜光学調整層＞
東洋インキ社製の酸化チタン系ハードコート剤“リオデュラス ＴＹＴ８０−０１”(商品名、固形分濃度２５質量％、屈折率１．８０[公称値])１０部と、希釈溶剤としてメチルイソブチルケトン９０部とをディスパーにて配合し、光学調整塗料Ａを作製した。次に、上記光学調整塗料Ａを、マイクログラビアコータ（廉井精機社製）を用いて上記赤外線反射層の上に乾燥後の厚さが４０ｎｍになるよう塗工し、乾燥させた後、高圧水銀灯にて３００ｍＪ／ｃｍ²の光量の紫外線を照射して硬化させることにより、厚さ４０ｎｍの光学調整層を形成した。作製した光学調整層の屈折率を前述の方法で測定したところ１．８０であった。

＜中屈折率層＞
アイカ工業社製のハードコート剤“Ｚ−７７３”（商品名、固形分濃度３４質量％、屈折率１．５３[公称値]）１０部と、希釈溶剤として酢酸ブチル１００部とをディスパーにて配合し、中屈折率塗料Ａを作製した。次に、上記中屈折率塗料Ａを、上記マイクログラビアコータを用いて上記光学調整層の上に乾燥後の厚さが８０ｎｍになるよう塗工し、乾燥させた後、高圧水銀灯にて３００ｍＪ／ｃｍ²の光量の紫外線を照射して硬化させることにより、厚さ８０ｎｍの中屈折率層を形成した。作製した中屈折率層の屈折率を前述の方法で測定したところ１．５２であった。

＜高屈折率層＞
東洋インキ社製の酸化チタン系ハードコート剤“リオデュラス ＴＹＴ８０−０１”(商品名、固形分濃度２５質量％、屈折率１．８０[公称値])４０部と、希釈溶剤としてメチルイソブチルケトン６０部とをディスパーにて配合し、高屈折率塗料Ａを作製した。次に、上記高屈折率塗料Ａを、上記マイクログラビアコータを用いて上記中屈折率層の上に乾燥後の厚さが２７０ｎｍになるよう塗工し、乾燥させた後、高圧水銀灯にて３００ｍＪ／ｃｍ²の光量の紫外線を照射して硬化させることにより、厚さ２７０ｎｍの高屈折率層を形成した。作製した高屈折率層の屈折率を前述の方法で測定したところ１．８０であった。

＜低屈折率層＞
日揮触媒化成社製の中空シリカ含有低屈折率塗料“ＥＬＣＯＭ Ｐ−５０６２”（商品名、固形分濃度３質量％、屈折率１．３８[公称値]）を低屈折率塗料Ａとして用い、上記低屈折率塗料Ａを、上記マイクログラビアコータを用いて上記高屈折率層の上に乾燥後の厚さが１００ｎｍになるよう塗工し、乾燥させた後、高圧水銀灯にて３００ｍＪ／ｃｍ²の光量の紫外線を照射して硬化させることにより、厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成した。作製した低屈折率層の屈折率を前述の方法で測定したところ１．３８であった。

以上のようにして、光学調整層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層からなる保護層を備えた赤外線反射フィルム（透明遮熱断熱部材）を作製した。

＜粘着剤層の形成＞
先ず、片面がシリコーン処理された中本パックス社製のＰＥＴフィルム“ＮＳ−３８＋Ａ”（商品名、厚さ：３８μｍ）を用意した。また、綜研化学社製のアクリル系粘着剤“ＳＫダイン２０９４”（商品名、固形分：２５質量％）１００部に対して、和光純薬社製の紫外線吸収剤（ベンゾフェノン）１．２５部及び綜研化学社製の架橋剤“Ｅ−ＡＸ”（商品名、固形分：５％）０．２７部を添加し、ディスパーにて混合して粘着剤塗料を調製した。

次に、上記ＰＥＴフィルムのシリコーン処理された側の面上に、乾燥後の厚さが２５μｍとなるように上記粘着剤塗料を塗布し、乾燥させた後に粘着剤層を形成した。更に、この粘着剤層の上面に、上記赤外線反射フィルムの赤外線反射層が形成されていない側を貼り合わせて、粘着剤層付き赤外線反射フィルムを作製した。

＜ガラス基板との貼り合わせ＞
先ず、ガラス基板として、厚さ３ｍｍのフロートガラス（日本板硝子社製）を用意した。次に、上記粘着剤層付き赤外線反射フィルムからＰＥＴフィルムを剥離して、上記粘着剤層付き赤外線反射フィルムの粘着剤層側を上記フロートガラスに貼り合せた。

（実施例２）
光学調整層の厚さを６０ｎｍ、中屈折率層の厚さを６０ｎｍ、高屈折率層の厚さを８０ｎｍ、低屈折率層の厚さを１１０ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様にして粘着層付き赤外線反射フィルムを作製してガラス基板に貼り合わせた。

（実施例３）
光学調整層の厚さを６０ｎｍ、中屈折率層の厚さを１００ｎｍ、高屈折率層の厚さを４００ｎｍ、低屈折率層の厚さを１１０ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様にして粘着層付き赤外線反射フィルムを作製してガラス基板に貼り合わせた。

（実施例４）
光学調整層及び中屈折率層を設けず、高屈折率層の厚さを２４０ｎｍ、低屈折率層の厚さを１１０ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様にして粘着層付き赤外線反射フィルムを作製してガラス基板に貼り合わせた。

（実施例５）
実施例１の赤外線反射フィルムを形成した後、透明基材の保護層を形成した側とは反対面側（ＰＥＴフィルムの易接着未処理面側）に下記のとおりコレステリック液晶ポリマー層を形成したこと以外は、実施例１と同様にして粘着層付き赤外線反射フィルムを作製してガラス基板に貼り合わせた。

＜コレステリック液晶ポリマー層の形成＞
下記材料を攪拌して混合し、コレステリック液晶ポリマー塗料を調製した。
（１）重合性官能基を有する液晶化合物Ｉ（ＡＤＥＫＡ社製、高融点液晶化合物、商品名“ＰＬＣ−７７００”、融点：９０℃）：８６．４部
（２）重合性官能基を有する液晶化合物ＩＩ（ＡＤＥＫＡ社製、低融点液晶化合物、商品名“ＰＬＣ−８１００”、融点：６５℃）：９．６部
（３）キラル剤（ＡＤＥＫＡ社製、右旋光性キラル剤、商品名“ＣＮＬ−７１５”）：４．０部
（４）多官能アクリレート化合物（共栄社化学製、商品名“ライトアクリレートＰＥ−３Ａ”）：１．５部
（５）光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名“イルガキュア８１９”）：３．０部
（６）溶剤（シクロヘキサノン）：４６４部

上記コレステリック液晶ポリマー塗料を、マイクログラビアコータを用いて、実施例１で作製した赤外線反射フィルムの赤外線反射層が形成されていない面上に塗布し、１００℃で乾燥させて塗膜を形成した。その塗膜に高圧水銀灯にて３００ｍＪ／ｃｍ²の光量の紫外線を照射して硬化させることにより、右旋向性コレステリック液晶ポリマー層（厚さ：３μｍ）を形成した。この右旋向性コレステリック液晶ポリマー層の中心反射波長は８９０ｎｍであった。

（実施例６）
透明基材として前述のＰＥＴフィルム“Ａ４１００”を用い、上記ＰＥＴフィルムの易接着処理面側に、酸化チタンターゲットを用いて、スパッタリング法により厚さ２ｎｍの金属酸化物（ＴｉＯ₂）層を形成した。上記スパッタリング法におけるスパッタリングガスとしては、Ａｒガス１００％を用いた。続いて、上記金属酸化物層上に銀ターゲットを用いて、スパッタリング法により厚さ１０ｎｍの金属（Ａｇ）層を形成した。上記スパッタリング法におけるスパッタリングガスとしては、Ａｒガス１００％を用いた。更に、上記金属層上にチタンターゲットを用いて、反応性スパッタリング法により厚さ２ｎｍの金属亜酸化物（ＴｉＯ_x）層を形成した。上記反応性スパッタリング法におけるスパッタリングガスとしては、Ａｒ／Ｏ₂の混合ガスを用い、ガス流量体積比はＡｒ９７％／Ｏ₂３％とした。これにより、透明基材側から金属酸化物（ＴｉＯ₂）層／金属（Ａｇ）層／金属亜酸化物（ＴｉＯ_x）層の三層構造からなる赤外線反射層付き透明基材を作製した。上記ＴｉＯ_x層のｘは１．５であった。

次に、上記赤外線反射層付き透明基材を用いた以外は、実施例１と同様にして粘着層付き赤外線反射フィルムを作製してガラス基板に貼り合わせた。

（実施例７）
共栄社化学社製のペンタエリスリトールトリアクリレート“ＰＥ−３Ａ”（商品名）９．５部と、日本化薬社製のリン酸基含有メタクリレート“ＫＡＹＡＭＥＲ ＰＭ−２１”（商品名）０．５部と、ＢＡＳＦ社製の光重合開始剤“イルガキュア１８４”（商品名）０．３部と、メチルイソブチルケトン４９０部とをディスパーにて混合して、中屈折率塗料Ｂを作製した。

次に、上記中屈折率塗料Ｂを、上記マイクログラビアコータを用いて、実施例１と同様にして作製した赤外線反射層付き透明基材の上に乾燥後の厚さが１３０ｎｍになるよう塗工し、乾燥させた後、高圧水銀灯にて３００ｍＪ／ｃｍ²の光量の紫外線を照射して硬化させることにより、厚さ１３０ｎｍの中屈折率層を形成した。上記のように、光学調整層を設けずに中屈折率層を形成した以外は、実施例１と同様にして粘着層付き赤外線反射フィルムを作製してガラス基板に貼り合わせた。作製した中屈折率層の屈折率を前述の方法で測定したところ１．５０であった。

（実施例８）
光学調整層の厚さを５０ｎｍ、中屈折率層の厚さを１３０ｎｍ、高屈折率層の厚さを５００ｎｍ変更した以外は、実施例１と同様にして粘着層付き赤外線反射フィルムを作製してガラス基板に貼り合わせた。

（実施例９）
赤外線反射層の金属（Ａｇ）層の厚さを８ｎｍ、光学調整層の厚さを５０ｎｍ、中屈折率層の厚さを５５ｎｍ、高屈折率層の厚さを６５ｎｍ、低屈折率層の厚さを９５ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様にして粘着層付き赤外線反射フィルムを作製してガラス基板に貼り合わせた。

（実施例１０）
光学調整層及び中屈折率層を設けず、高屈折率層の厚さを１００ｎｍ、低屈折率層の厚さを１１０ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様にして粘着層付き赤外線反射フィルムを作製してガラス基板に貼り合わせた。

（実施例１１）
光学調整層及び高屈折率層を下記に変更し、中屈折率層の厚さを５０ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様にして粘着層付き赤外線反射フィルムを作製してガラス基板に貼り合わせた。

＜光学調整層＞
東洋インキ社製の酸化チタン系ハードコート剤“リオデュラス ＴＹＴ９０”(商品名、固形分濃度２５質量％、屈折率１．９０[公称値])１０部と、希釈溶剤としてメチルイソブチルケトン９０部とをディスパーにて配合し、光学調整塗料Ｂを作製した。次に、上記光学調整塗料Ｂを、マイクログラビアコータ（廉井精機社製）を用いて赤外線反射層の上に乾燥後の厚さが７６ｎｍになるよう塗工し、乾燥させた後、高圧水銀灯にて５００ｍＪ／ｃｍ²の光量の紫外線を照射して硬化させることにより、厚さ７６ｎｍの光学調整層を形成した。作製した光学調整層の屈折率を前述の方法で測定したところ１．８９であった。

＜高屈折率層＞
東洋インキ社製の酸化チタン系ハードコート剤“リオデュラス ＴＹＴ９０”(商品名、固形分濃度２５質量％、屈折率１．９０[公称値])４０部と、希釈溶剤としてメチルイソブチルケトン６０部とをディスパーにて配合し、高屈折率塗料Ｂを作製した。次に、上記高屈折率塗料Ｂを、上記マイクログラビアコータを用いて中屈折率層の上に乾燥後の厚さが２２０ｎｍになるよう塗工し、乾燥させた後、高圧水銀灯にて５００ｍＪ／ｃｍ²の光量の紫外線を照射して硬化させることにより、厚さ２２０ｎｍの高屈折率層を形成した。作製した高屈折率層の屈折率を前述の方法で測定したところ１．８９であった。

（実施例１２）
高屈折率層を下記に変更した以外は、実施例２と同様にして粘着層付き赤外線反射フィルムを作製してガラス基板に貼り合わせた。

＜高屈折率層＞
東洋インキ社製の酸化ジルコニウム系ハードコート剤“リオデュラス ＴＹＺ７４”(商品名、固形分濃度４０質量％、屈折率１．７４[公称値])２５部と、希釈溶剤としてメチルイソブチルケトン７５部とをディスパーにて配合し、高屈折率塗料Ｃを作製した。次に、上記高屈折率塗料Ｃを、上記マイクログラビアコータ（廉井精機社製）を用いて上記中屈折率層の上に乾燥後の厚さが８０ｎｍになるよう塗工し、乾燥させた後、高圧水銀灯にて３００ｍＪ／ｃｍ²の光量の紫外線を照射して硬化させることにより、厚さ８０ｎｍの高屈折率層を形成した。作製した高屈折率層の屈折率を前述の方法で測定したところ１．７６であった。

（実施例１３）
光学調整層及び高屈折率層を下記に変更し、低屈折率層の厚さを１１５ｎｍに変更した以外は、実施例２と同様にして粘着層付き赤外線反射フィルムを作製してガラス基板に貼り合わせた。

＜光学調整層＞
東洋インキ社製の酸化チタン系ハードコート剤“リオデュラス ＴＹＴ９０”(商品名、固形分濃度２５質量％、屈折率１．９０[公称値])１０部と、希釈溶剤としてメチルイソブチルケトン９０部とをディスパーにて配合し、光学調整塗料Ｂを作製した。次に、上記光学調整塗料Ｂを、マイクログラビアコータ（廉井精機社製）を用いて赤外線反射層の上に乾燥後の厚さが５５ｎｍになるよう塗工し、乾燥させた後、高圧水銀灯にて５００ｍＪ／ｃｍ²の光量の紫外線を照射して硬化させることにより、厚さ５５ｎｍの光学調整層を形成した。作製した光学調整層の屈折率を前述の方法で測定したところ１．８９であった。

＜高屈折率層＞
東洋インキ社製の酸化亜鉛系ハードコート剤“リオデュラス ＴＹＮ７００ＵＶ”(商品名、固形分濃度４０質量％、屈折率１．６４[公称値])２５部と、希釈溶剤としてメチルイソブチルケトン７５部とをディスパーにて配合し、高屈折率塗料Ｄを作製した。次に、上記高屈折率塗料Ｄを、上記マイクログラビアコータを用いて中屈折率層の上に乾燥後の厚さが８５ｎｍになるよう塗工し、乾燥させた後、高圧水銀灯にて５００ｍＪ／ｃｍ²の光量の紫外線を照射して硬化させることにより、厚さ８５ｎｍの高屈折率層を形成した。作製した高屈折率層の屈折率を前述の方法で測定したところ１．６５であった。

（実施例１４）
光学調整層を下記に変更し、赤外線反射層の金属（Ａｇ）層の厚さを８ｎｍ、中屈折率層の厚さを１００ｎｍ、高屈折率層の厚さを３２０ｎｍ、低屈折率層の厚さを１１０ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様にして粘着層付き赤外線反射フィルムを作製してガラス基板に貼り合わせた。

＜光学調整層＞
東洋インキ社製の酸化チタン系ハードコート剤“リオデュラス ＴＹＴ８０−０１”(商品名、固形分濃度２５質量％、屈折率１．８０[公称値])１０部と、共栄社化学社製の電離放射線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂溶液“ＢＰＺＡ−６６”（商品名、固形分濃度８０質量％、重量平均分子量２０，０００）２．２部と、日本化薬社製のリン酸基含有メタクリレート“ＫＡＹＡＭＥＲ ＰＭ−２１”（商品名）０．１部と、希釈溶剤としてメチルイソブチルケトン１６２部とをディスパーにて配合し、光学調整塗料Ｃを作製した。次に、上記光学調整塗料Ｃを、マイクログラビアコータ（廉井精機社製）を用いて赤外線反射層の上に乾燥後の厚さが５５ｎｍになるよう塗工し、乾燥させた後、高圧水銀灯にて３００ｍＪ／ｃｍ²の光量の紫外線を照射して硬化させることにより、厚さ５５ｎｍの光学調整層を形成した。作製した光学調整層の屈折率を前述の方法で測定したところ１．６０であった。

（実施例１５）
低屈折率層を下記に変更した以外は、実施例２と同様にして粘着層付き赤外線反射フィルムを作製してガラス基板に貼り合わせた。

＜低屈折率層＞
日揮触媒化成社製の中空シリカ含有低屈折率塗料“ＥＬＣＯＭ Ｐ−５０６２”（商品名、固形分濃度３質量％、屈折率１．３８[公称値]）１００部と、共栄社化学社製のペンタエリスリトールトリアクリレート“ライトアクリレートＰＥ−３Ａ” （商品名）３．５部と、日本化薬社製のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート“ＫＡＹＡＬＡＤ ＤＰＨＡ” （商品名）１．８部と、イソプロピルアルコール１１７部と、メチルイソブチルケトン２６部と、イソプロピルグリコール２６部とをディスパーにて配合し低屈折率塗料Ｂを作成した。上記低屈折率塗料Ｂを、上記マイクログラビアコータを用いて上記高屈折率層の上に乾燥後の厚さが１００ｎｍになるよう塗工し、乾燥させた後、高圧水銀灯にて３００ｍＪ／ｃｍ²の光量の紫外線を照射して硬化させることにより、厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成した。作製した低屈折率層の屈折率を前述の方法で測定したところ１．４５であった。

（実施例１６）
赤外線反射層の金属（Ａｇ）層の厚さを８ｎｍ、光学調整層の厚さを６０ｎｍ、中屈折率層の厚さを２００ｎｍ、高屈折率層の厚さを５５０ｎｍ、低屈折率層の厚さを１２０ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様にして粘着層付き赤外線反射フィルムを作製してガラス基板に貼り合わせた。

（実施例１７）
赤外線反射層の金属亜酸化物（ＴｉＯ_x）層の厚さを６ｎｍ、金属（Ａｇ）層の厚さを８ｎｍ、光学調整層の厚さを８０ｎｍ、中屈折率層の厚さを１００ｎｍ、高屈折率層の厚さを５０５ｎｍ、低屈折率層の厚さを１１５ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様にして粘着層付き赤外線反射フィルムを作製してガラス基板に貼り合わせた。

（実施例１８）
赤外線反射層の金属（Ａｇ）層の厚さを１２ｎｍ、光学調整層の厚さを４５ｎｍ、中屈折率層の厚さを９０ｎｍ、高屈折率層の厚さを９５ｎｍ、低屈折率層の厚さを１００ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様にして粘着層付き赤外線反射フィルムを作製してガラス基板に貼り合わせた。

（比較例１）
透明基材として前述のＰＥＴフィルム“Ａ４１００”を用い、上記ＰＥＴフィルムの易接着処理面側に、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）ターゲットを用いて、スパッタリング法により厚さ３０ｎｍの金属酸化物（ＩＴＯ）層を形成した。上記スパッタリング法におけるスパッタリングガスとしては、Ａｒガス１００％を用いた。続いて、上記金属酸化物層上に銀ターゲットを用いて、スパッタリング法により厚さ１２ｎｍの金属（Ａｇ）層を形成した。上記スパッタリング法におけるスパッタリングガスとしては、Ａｒガス１００％を用いた。更に、上記金属層上に酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）ターゲットを用いて、スパッタリング法により厚さ３０ｎｍの金属酸化物（ＩＴＯ）層を形成した。上記スパッタリング法におけるスパッタリングガスとしては、Ａｒガス１００％を用いた。これにより、透明基材側から金属酸化物（ＩＴＯ）層／金属（Ａｇ）層／金属酸化物（ＩＴＯ）層の三層構造からなる赤外線反射層付き透明基材を作製した。

また、共栄社化学社製の電離放射線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂溶液“ＢＰＺＡ−６６”（商品名、固形分濃度：８０質量％、重量平均分子量：２０，０００）１２５部と、日本化薬社製のリン酸基含有メタクリレート“ＫＡＹＡＭＥＲ ＰＭ−２１”（商品名）５部と、ＢＡＳＦ社製の光重合開始剤“イルガキュア８１９”（商品名）３部と、メチルイソブチルケトン３７５部とをディスパーにて混合して、中屈折率塗料Ｃを作製した。

次に、上記中屈折率塗料Ｃを、上記マイクログラビアコータを用いて、上記赤外線反射層付き透明基材の赤外線反射層の上に乾燥後の厚さが８００ｎｍになるよう塗工し、乾燥させた後、高圧水銀灯にて３００ｍＪ／ｃｍ²の光量の紫外線を照射して硬化させることにより、厚さ８００ｎｍの中屈折率層を形成した。上記のように、中屈折率層のみを形成した以外は、実施例１と同様にして粘着層付き赤外線反射フィルムを作製してガラス基板に貼り合わせた。作製した中屈折率層の屈折率を前述の方法で測定したところ１．５０であった。

（比較例２）
実施例１と同様にして、透明基材側から金属亜酸化物（ＴｉＯ_x）層／金属（Ａｇ）層／金属亜酸化物（ＴｉＯ_x）層の三層構造からなる赤外線反射層付き透明基材を作製した。

次に、実施例１と同様にして光学調整塗料Ａを上記赤外線反射層の上に乾燥後の厚さが４０ｎｍになるよう塗工し、乾燥させた後、高圧水銀灯にて３００ｍＪ／ｃｍ²の光量の紫外線を照射して硬化させることにより、厚さ４０ｎｍの光学調整層を形成した。その後、比較例１で作製した中屈折率塗料Ｃを上記光学調整層の上に乾燥後の厚さが３０００ｎｍになるよう塗工し、乾燥させた後、高圧水銀灯にて３００ｍＪ／ｃｍ²の光量の紫外線を照射して硬化させることにより、厚さ３０００ｎｍの中屈折率層を形成した。上記のように、光学調整層及び中屈折率層のみを形成した以外は、実施例１と同様にして粘着層付き赤外線反射フィルムを作製してガラス基板に貼り合わせた。

（比較例３）
光学調整層の厚さを５０ｎｍ、中屈折率層の厚さを１５０ｎｍ、高屈折率層の厚さを７００ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様にして粘着層付き赤外線反射フィルムを作製してガラス基板に貼り合わせた。

（比較例４）
光学調整層、中屈折率層及び高屈折率層を設けず、低屈折率層の厚さを８０ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様にして粘着層付き赤外線反射フィルムを作製してガラス基板に貼り合わせた。

＜透明遮熱断熱部材の評価＞
上記実施例１〜１８及び上記比較例１〜４に関して、ガラス基板に貼り付けた状態での赤外線反射フィルムの反射率の最大変動差、可視光線透過率、ヘーズ、垂直放射率、遮蔽係数、熱貫流率を以下のように測定し、また、保護層の初期密着性、耐候性試験後の密着性、耐擦傷性及び耐腐食性を評価し、更に赤外線反射フィルムの外観として虹彩性及び角度依存性を観察した。

［反射率の最大変動差］
ガラス基板側を入射光側として、３００〜８００ｎｍの範囲において日本分光社製の紫外可視近赤外分光光度計“Ｕｂｅｓｔ Ｖ−５７０型”(商品名)を用いて分光反射率をＪＩＳ Ｒ３１０６−１９９８に基づき測定した。図４に実施例１の反射スペクトルを示し、図５に比較例１の反射スペクトルを示す。

次に、図４、図５に示すように、上記で測定した反射スペクトルにおいて、上記反射スペクトルの波長５００〜５７０ｎｍの範囲における最大反射率と最小反射率の平均値を示す仮想ラインａ上の波長５３５ｎｍに対応する点を点Ａとし、上記反射スペクトルの波長６２０〜７８０ｎｍの範囲における最大反射率と最小反射率の平均値を示す仮想ラインｂ上の波長７００ｎｍに対応する点を点Ｂとし、上記点Ａと上記点Ｂとを通る直線を波長５００〜７８０ｎｍの範囲で延長して基準直線ＡＢとし、（１）波長５００〜５７０ｎｍの範囲における上記反射スペクトルの反射率の値と上記基準直線ＡＢの反射率の値を比較した際に、各々の反射率の値の差が最大となる波長におけるその反射率の値の差の絶対値を反射率の％単位で最大変動差ΔＡとして求め、同様に（２）波長６２０〜７８０ｎｍの範囲における上記反射スペクトルの反射率の値と上記基準直線ＡＢの反射率の値を比較した際に、各々の反射率の値の差が最大となる波長におけるその反射率の値の差の絶対値を反射率の％単位で最大変動差ΔＢとして求めた。

［可視光線透過率］
ガラス基板側を入射光側として、３８０〜７８０ｎｍの範囲において日本分光社製の紫外可視近赤外分光光度計“Ｕｂｅｓｔ Ｖ−５７０型”（商品名）を用いて分光透過率を測定し、ＪＩＳ Ａ５７５９に基づき可視光線透過率を算出した。

[ヘーズ]
ガラス基板側を入射光側として、日本電色社製のヘーズメーター“ＮＤＨ−２０００”（商品名）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１３６に基づきヘーズ値を測定した。

［垂直放射率］
島津製作所製の赤外分光光度計“ＩＲ Ｐｒｅｓｔｉｇｅ２１”（商品名）に正反射測定用アタッチメントを取り付け、赤外線反射フィルムの保護層側について分光正反射率を５．５〜２５．２μｍの範囲において測定し、ＪＩＳ Ｒ３１０６に基づき垂直放射率を求めた。垂直放射率の計算において、 波長範囲２５．２μｍ〜５０．０μｍの分光正反射率には，波長２５．２μｍの値を用いた。

［遮蔽係数］
ガラス基板側を入射光側として、３００〜２５００ｎｍの範囲において上記紫外可視近赤外分光光度計“Ｕｂｅｓｔ Ｖ−５７０型”を用いて分光透過率及び分光反射率を測定し、これに基づきＪＩＳ Ａ５７５９に準拠して日射透過率及び日射反射率を求め、ＪＩＳ Ｒ３１０６に準拠して垂直放射率を求め、その日射透過率、日射反射率及び垂直放射率の値から遮蔽係数を求めた。

［熱貫流率］
上記赤外分光光度計“ＩＲ Ｐｒｅｓｔｉｇｅ２１”に正反射測定用アタッチメントを取り付け、赤外線反射フィルムの保護層側及びガラス基板側の分光正反射率を５．５〜２５．２μｍの範囲において測定し、これに基づきＪＩＳ Ｒ３１０６に準拠して赤外線反射フィルムの保護層側及びガラス基板側の垂直放射率を求め、これに基づきＪＩＳ Ａ５７５９に準拠して熱貫流率を求めた。

［初期密着性］
赤外線反射フィルムの保護層側についてＪＩＳ Ｄ０２０２−１９８８に準拠して碁盤目テープ剥離試験を行った。具体的にはニチバン社製のセロハンテープ“ＣＴ２４”（商品名）を用い、上記テープを指の腹で上記保護層に密着させた後に剥離して密着性を評価した。その評価は１００個のマスの内、剥離しないマス目の数で表し、保護層が全く剥離しない場合を１００／１００、保護層が完全に剥離する場合を０／１００として表した。

[耐候性試験後の密着性]
赤外線反射フィルムについて、ＪＩＳ Ａ５７５９に準拠して１０００時間サンシャインカーボンアーク灯を照射する耐候性試験を行った後、上記初期密着性と同様にして密着性を評価した。

［耐擦傷性]
赤外線反射フィルムの保護層上に市販の白ネル布を配置し、１０００ｇ／ｃｍ²の荷重をかけた状態で、１０００往復させた後、保護層の表面の状態を目視にて観察して、以下の３段階で評価した。
Ａ：傷が全く確認されなかった場合
Ｂ：傷が数本（５本以下）確認された場合
Ｃ：傷が多数（６本以上）確認された場合

［耐腐食性]
赤外線反射フィルムを、温度５０℃、相対湿度９０％の環境下に１６８時間放置する耐腐食性試験を行った後、赤外線反射フィルムの状態を目視にて観察して、以下の３段階で評価した。
Ａ：赤外線反射フィルムの全体に渡って腐食の進行が全く見られなかった場合
Ｂ：赤外線反射フィルムのエッジ部の一部に１ｍｍ以下の腐食が見られた場合
Ｃ：赤外線反射フィルムのエッジ部の一部に１ｍｍを超える腐食が見られた場合

[外観（虹彩性）]
赤外線反射フィルムの外観について保護層側から３波長蛍光灯下で目視にて観察し、以下の３段階で評価した。
Ａ：虹彩模様がほとんど確認されず、反射による色むらをほとんど認識できない場合
Ｂ：虹彩模様がわずかに確認でき、反射による色むらをわずかに認識できる場合
Ｃ：虹彩模様が明らかに確認でき、反射による色むらが明らかに認識できる場合

[外観（角度依存性）]
赤外線反射フィルムの外観について保護層側から３波長蛍光灯下にて目視にて観察し、正面から確認した際と観察する角度を変えて確認した際の反射色の状態を以下の３段階で評価した。
Ａ：正面から観察した際と角度を変えて観察した際の反射色の違いが色変化としてほとんど見られない場合
Ｂ：正面から観察した際と角度を変えて観察した際の反射色の違いが色変化としてわずかに感じられる場合
Ｃ：正面から観察した際と角度を変えて観察した際の反射色の違いが色変化として明らかに確認できる場合

以上の結果を、透明遮熱断熱部材の層構成と共に表１〜１０に示す。

表１〜表８に示すように、実施例１〜１８の透明遮熱断熱部材は、反射率の最大変動差ΔＡ及びΔＢの値が小さく、虹彩現象や視認角度による反射色変化等の外観について優れており、また、遮蔽係数及び熱貫流率も低く、夏季の遮熱性と、冬季の断熱性とが共に優れ、且つ保護層の密着性及び耐擦傷性にも優れていることが分かる。その中でも、外観については、実施例１、２、４〜１０、１２〜１５及び１８が特に優れていた。更に、コレステリック液晶ポリマー層を設けた実施例５では、コレステリック液晶ポリマー層を設けていない実施例１との比較において、遮蔽係数及び可視光線透過率がやや優れていた。実施例４及び１０については、保護層が光学調整層及び中屈折率層を含まない２層構成のため、可視光線透過率がやや低かった。実施例６については、赤外線反射層の金属酸化物層としてＴｉＯ₂層を用いたため、実施例１との比較において、金属層である銀薄膜の安定性がやや劣り、耐腐食性試験でエッジ部に腐食が一部確認された。実施例７については、保護層が光学調整層を含まない３層構成であるため、赤外線反射層の構成が同じである実施例１〜３、５、８、１１〜１３及び１５との比較において、やや可視光線透過率が低く、また、耐光性試験後の赤外線反射層との密着性がやや劣っていた。実施例８、１６、１７については、保護層の総厚さが、それぞれ７８０ｎｍ、９３０ｎｍ、８００ｎｍと実施例１〜７、９〜１５及び１８に比べて大きかったため、得られた赤外線反射フィルムの垂直放射率が、それぞれ０．２０、０．２２、０．２０となり、実施例１〜７、９〜１５及び１８に比べると断熱性能がやや劣っていた。また、実施例９及び１０は、保護層の総厚さが３００ｎｍに満たないため、耐擦傷性が実施例１〜８及び１１〜１８との比較において、やや劣っていた。実施例１７については、金属亜酸化物層の厚さが６ｎｍと厚いため、金属層の厚さが同じである実施例９、１４及び１６との比較において、可視光線透過率がやや低かった。

一方、表９〜表１０に示すように比較例１では、保護層が電離放射線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂からなる単層であり、得られた可視光線の反射スペクトルがリップルの大きな赤外線反射フィルムとなっていた。また、比較例１では、作製した赤外線反射フィルムの外観として、反射率の最大変動差ΔＡ及びΔＢの値が大きいため、虹彩模様が明らかに観察され、反射光の角度を変えて観察すると、反射色として赤と緑が変化して確認できる状態であり、外観的に不十分であった。また、比較例１では、赤外線反射層の金属酸化物層にＩＴＯを用いたため、耐腐食性の面でも劣っていた。

比較例２では、保護層が光学調整層と中屈折率層の２層構成であり、中屈折率層の材料として赤外線領域での吸収が大きな電離放射線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂を用い、その中屈折率層の厚さを３０００ｎｍとしたため、得られた赤外線反射フィルムの垂直放射率及び熱貫流率が増大しており、断熱性能が大きく低下していた。また、得られた反射スペクトルのリップルも大きく、反射率の最大変動差ΔＡ及びΔＢの値が大きいため、外観において虹彩模様が確認された。

比較例３では、保護層の総厚が１０１０ｎｍとなっており、得られた赤外線反射フィルムの垂直放射率が０．２４となり、実施例１〜１８に比べると断熱性能の低下が確認された。

比較例４では、赤外線反射層上に低屈折率層のみを８０ｎｍの厚さの薄膜で形成して保護層としたため、外観的には反射色の虹彩模様、視野角による角度依存性の面では問題はなかったが、赤外線反射層と低屈折率層間の密着性が乏しく、保護層の剥離が確認された。また、比較例４では、保護層の厚みが非常に薄いため耐擦傷性の面でも劣っていた。

本発明は、高い断熱性を維持したまま、保護層の耐擦傷性及び密着性に優れ、且つ、外観としても虹彩模様や視認角度による反射色変化の小さい遮熱機能及び断熱機能に優れた透明遮熱断熱部材を提供できる。

１０、３０、４０ 透明遮熱断熱部材
１１ 透明基材
１２ 金属亜酸化物層
１３ 金属層
１４ 金属亜酸化物層
１５ 光学調整層
１６ 中屈折率層
１７ 高屈折率層
１８ 低屈折率層
１９ 粘着剤層
２０ コレステリック液晶ポリマー層
２１ 赤外線反射層
２２ 保護層
２３ 機能層

Claims (14)

1. 透明基材と、前記透明基材の上に形成された機能層とを含む透明遮熱断熱部材であって、
   前記機能層は、前記透明基材側から赤外線反射層及び保護層をこの順に含み、
   前記赤外線反射層は、前記透明基材側から少なくとも金属層及び金属が部分酸化された金属亜酸化物層をこの順に含み、
   前記保護層は、総厚さが２００〜９８０ｎｍであり、前記赤外線反射層側から少なくとも高屈折率層及び低屈折率層をこの順に含むことを特徴とする透明遮熱断熱部材。
2. 前記金属が部分酸化された金属亜酸化物層の厚さが、１〜８ｎｍである請求項１に記載の透明遮熱断熱部材。
3. 前記保護層は、前記赤外線反射層側から中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順に含む請求項１又は２に記載の透明遮熱断熱部材。
4. 前記保護層は、前記赤外線反射層側から光学調整層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順で含み、
   前記光学調整層は、波長５５０ｎｍの屈折率が１．６０〜２．００であり、厚さが３０〜８０ｎｍの範囲の中から設定され、
   前記中屈折率層は、波長５５０ｎｍの屈折率が１．４５〜１．５５であり、厚さが４０〜２００ｎｍの範囲の中から設定され、
   前記高屈折率層は、波長５５０ｎｍの屈折率が１．６５〜１．９５であり、厚さが６０〜５５０ｎｍの範囲の中から設定され、
   前記低屈折率層は、波長５５０ｎｍの屈折率が１．３０〜１．４５であり、厚さが７０〜１５０ｎｍの範囲の中から設定された請求項１又は２に記載の透明遮熱断熱部材。
5. 前記金属が部分酸化された金属亜酸化物層は、チタン成分を含む請求項１〜４のいずれか１項に記載の透明遮熱断熱部材。
6. 前記保護層の前記赤外線反射層に接する層が、酸化チタン微粒子を含む請求項１〜５のいずれか１項に記載の透明遮熱断熱部材。
7. 前記赤外線反射層の前記金属層は、銀を含み、厚みが３〜２０ｎｍである請求項１〜６のいずれか１項に記載の透明遮熱断熱部材。
8. 前記赤外線反射層が形成されていない側の前記透明基材の上にコレステリック液晶ポリマー層が更に形成されている請求項１〜７のいずれか１項に記載の透明遮熱断熱部材。
9. 前記コレステリック液晶ポリマー層は、重合性官能基を有する液晶化合物と、重合性官能基を有するキラル剤と、多官能アクリレート化合物とを含む材料を光重合させて形成されたものである請求項８に記載の透明遮熱断熱部材。
10. ＪＩＳ Ｒ３１０６−１９９８に準じて測定した反射スペクトルにおいて、
    前記反射スペクトルの波長５００〜５７０ｎｍの範囲における最大反射率と最小反射率の平均値を示す仮想ラインａ上の波長５３５ｎｍに対応する点を点Ａとし、
    前記反射スペクトルの波長６２０〜７８０ｎｍの範囲における最大反射率と最小反射率の平均値を示す仮想ラインｂ上の波長７００ｎｍに対応する点を点Ｂとし、
    前記点Ａと前記点Ｂとを通る直線を波長５００〜７８０ｎｍの範囲で延長して基準直線ＡＢとし、
    波長５００〜５７０ｎｍの範囲における前記反射スペクトルの反射率の値と前記基準直線ＡＢの反射率の値を比較した際に、各々の反射率の値の差が最大となる波長におけるその反射率の値の差の絶対値を最大変動差ΔＡと定義した時に、前記最大変動差ΔＡの値が反射率の％単位で７％以下であり、
    波長６２０〜７８０ｎｍの範囲における前記反射スペクトルの反射率の値と前記基準直線ＡＢの反射率の値を比較した際に、各々の反射率の値の差が最大となる波長におけるその反射率の値の差の絶対値を最大変動差ΔＢと定義した時に、前記最大変動差ΔＢの値が反射率の％単位で９％以下である請求項１〜９いずれか１項に記載の透明遮熱断熱部材。
11. 前記機能層側のＪＩＳ Ｒ３１０６−１９８８に基づく垂直放射率が、０．２２以下である請求項１〜１０のいずれか１項に記載の透明遮熱断熱部材。
12. ＪＩＳ Ａ５７５９に準拠する１０００時間の耐候性試験の後において、前記保護層が、ＪＩＳ Ｄ０２０２−１９９８に準拠する碁盤目密着性試験において剥離がない請求項１〜１１のいずれか１項に記載の透明遮熱断熱部材。
13. 請求項１〜１２のいずれか１項に記載の透明遮熱断熱部材の製造方法であって、
    透明基材の上に赤外線反射層をドライコーティング法で形成する工程と、
    前記赤外線反射層の上に、保護層をウェットコーティング法で形成する工程とを含むことを特徴とする透明遮熱断熱部材の製造方法。
14. 前記ドライコーティング法が、反応性スパッタリング法である請求項１３に記載の透明遮熱断熱部材の製造方法。

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