JP6533056B2 - Filtration treatment system and filtration treatment method - Google Patents
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Description
本発明は、有機物を含む被処理水の逆浸透膜処理を行うろ過処理システムおよびろ過処理方法に関する。 The present invention relates to a filtration treatment system and a filtration treatment method for performing reverse osmosis membrane treatment of water to be treated containing organic matter.
有機物を含む被処理水の逆浸透膜を用いた水処理において、スライムの発生は度々問題となっており、現在では有機系スライム抑制剤の添加や次亜塩素酸等の酸化剤の間欠添加により対応している。しかし、有機系スライム抑制剤の添加はランニングコストの増加や透過水の全有機炭素(TOC)の悪化を生じ、次亜塩素酸の使用は間欠添加とはいえ、ポリアミド系の逆浸透膜の劣化を生じることがある。 In water treatment using reverse osmosis membranes of treated water containing organic matter, the generation of slime is often a problem, and at present, by the addition of organic slime inhibitors and intermittent addition of oxidizing agents such as hypochlorous acid It corresponds. However, the addition of the organic slime inhibitor causes an increase in running cost and deterioration of total organic carbon (TOC) of the permeate, and although the use of hypochlorous acid is intermittent addition, deterioration of the polyamide-based reverse osmosis membrane May occur.
原水または処理水の水質を監視し、有機系スライム抑制剤または殺菌剤の添加量を変化させる手法はこれまでも提案されている。例えば、特許文献1や特許文献2では、原水の菌体数から殺菌剤の添加量を算出する手法が提案されている。しかし、菌体数はオフラインでの測定であり、原水の水質に応じた迅速な添加量の制御は難しい。
Techniques for monitoring the quality of raw water or treated water and changing the amount of the organic slime inhibitor or bactericide have been proposed. For example, in
特許文献3では、オンラインで微生物の発生を感知し、スライム抑制剤の添加量を制御する手法が提案されている。しかし、微生物の発生を感知してからの制御であるため、微生物が発生する以前での対応が難しい。
本発明の目的は、有機物を含む被処理水の逆浸透膜処理を行う水処理において、適切にスライム抑制剤を供給することができる、ろ過処理システムおよびろ過処理方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a filtration treatment system and a filtration treatment method capable of appropriately supplying a slime inhibitor in water treatment for reverse osmosis membrane treatment of treated water containing organic matter.
本発明は、高分子有機物を含む被処理水を、逆浸透膜を用いて逆浸透膜処理を行う逆浸透膜処理手段と、前記逆浸透膜処理手段からの濃縮水のTOCを測定するTOC測定手段と、前記測定したTOCが所定の値以上になった場合に次亜塩素酸系のスライム抑制剤および次亜臭素酸系のスライム抑制剤のうち少なくとも1つを被処理水に供給するスライム抑制剤供給手段と、前記逆浸透膜処理手段の後段であって前記TOC測定手段の前段に、前記高分子有機物を除去する高分子有機物除去手段としてUF膜またはMF膜と、を備えるろ過処理システムである。 The present invention relates to a reverse osmosis membrane treatment means for performing reverse osmosis membrane treatment using a reverse osmosis membrane for treated water containing high molecular organic matter, and TOC measurement for measuring TOC of concentrated water from the reverse osmosis membrane treatment means And slime suppression for supplying at least one of hypochlorous acid-based slime inhibitor and hypobromous acid-based slime inhibitor to the water to be treated when the measured TOC exceeds a predetermined value. filtration system comprising a agent supply means, in front of the front Kigyaku osmosis membrane treatment the TOC measuring device to a subsequent unit, and a UF membrane or MF membrane as the polymer organic substance removing means for removing the polymer organic material It is.
前記ろ過処理システムにおいて、前記スライム抑制剤供給手段は、前記測定したTOCが0.5mg/L以上になった場合に前記スライム抑制剤を被処理水に供給することが好ましい。 In the filtration system, it is preferable that the slime inhibitor supply means supply the slime inhibitor to the water to be treated when the measured TOC becomes 0.5 mg / L or more.
前記ろ過処理システムにおいて、前記次亜臭素酸系のスライム抑制剤が、臭素系酸化剤、もしくは臭素化合物と塩素系酸化剤との反応物と、スルファミン酸化合物と、を含む、または、臭素系酸化剤、もしくは臭素化合物と塩素系酸化剤との反応物と、スルファミン酸化合物との反応生成物を含むことが好ましい。 In the filtration treatment system, the hypobromous acid slime inhibitor, bromine-based oxidizing agent, Moshiku comprises a reaction product of a bromine compound and chlorine-based oxidizing agent, a sulfamic acid compound, the, or, bromine-based oxidizing agent, Moshiku preferably contains a reaction product of a bromine compound and chlorine-based oxidizing agent, the reaction product of sulfamic acid compound.
前記ろ過処理システムにおいて、前記次亜塩素酸系のスライム抑制剤が、塩素系酸化剤とスルファミン酸化合物とを含む、または、塩素系酸化剤とスルファミン酸化合物との反応生成物を含むことが好ましい。 In the filtration system, the hypochlorous acid-based slime inhibitor preferably contains a chlorine-based oxidizing agent and a sulfamic acid compound, or preferably contains a reaction product of a chlorine-based oxidizing agent and a sulfamic acid compound. .
本発明は、高分子有機物を含む被処理水を、逆浸透膜を用いて逆浸透膜処理を行う逆浸透膜処理工程と、前記逆浸透膜処理工程からの濃縮水のTOCを測定するTOC測定工程と、前記測定したTOCが所定の値以上になった場合に次亜塩素酸系のスライム抑制剤および次亜臭素酸系のスライム抑制剤のうち少なくとも1つを被処理水に供給するスライム抑制剤供給工程と、前記逆浸透膜処理工程の後段であって前記TOC測定工程の前段に、UF膜またはMF膜を用いて前記高分子有機物を除去する高分子有機物除去工程と、を含むろ過処理方法である。 The present invention relates to a reverse osmosis membrane treatment step of performing reverse osmosis membrane treatment using a reverse osmosis membrane for treated water containing high molecular weight organic matter, and TOC measurement for measuring TOC of concentrated water from the reverse osmosis membrane treatment step. And slime suppression to supply at least one of hypochlorous acid-based slime inhibitor and hypobromous acid-based slime inhibitor to the water to be treated when the measured TOC exceeds a predetermined value. agent supplying step, in front of the front Kigyaku osmosis membrane treatment the TOC measurement step a subsequent step, a filtration comprising a polymeric organic substance removing step of removing the polymeric organic material by using a UF membrane or MF membrane It is a processing method.
前記ろ過処理方法の前記スライム抑制剤供給工程において、前記測定したTOCが0.5mg/L以上になった場合に前記スライム抑制剤を被処理水に供給することが好ましい。 In the slime inhibitor supply step of the filtration method, it is preferable to supply the slime inhibitor to the water to be treated when the measured TOC is 0.5 mg / L or more.
前記ろ過処理方法において、前記次亜臭素酸系のスライム抑制剤が、臭素系酸化剤、もしくは臭素化合物と塩素系酸化剤との反応物と、スルファミン酸化合物と、を含む、または、臭素系酸化剤、もしくは臭素化合物と塩素系酸化剤との反応物と、スルファミン酸化合物との反応生成物を含むことが好ましい。 In the filtration treatment method, the hypobromous acid slime inhibitor, bromine-based oxidizing agent, Moshiku comprises a reaction product of a bromine compound and chlorine-based oxidizing agent, a sulfamic acid compound, the, or, bromine-based oxidizing agent, Moshiku preferably contains a reaction product of a bromine compound and chlorine-based oxidizing agent, the reaction product of sulfamic acid compound.
前記ろ過処理方法において、前記次亜塩素酸系のスライム抑制剤が、塩素系酸化剤とスルファミン酸化合物とを含む、または、塩素系酸化剤とスルファミン酸化合物との反応生成物を含むことが好ましい。 In the filtration method, the hypochlorous acid-based slime inhibitor preferably contains a chlorine-based oxidizing agent and a sulfamic acid compound, or preferably contains a reaction product of a chlorine-based oxidizing agent and a sulfamic acid compound. .
本発明では、有機物を含む被処理水の逆浸透膜処理を行う水処理において、適切にスライム抑制剤を供給することができる、ろ過処理システムおよびろ過処理方法を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION In the water treatment which performs the reverse osmosis membrane process of the to-be-processed water containing an organic substance, this invention can provide the filtration processing system and the filtration processing method which can supply a slime inhibitor appropriately.
本発明の実施の形態について以下説明する。本実施形態は本発明を実施する一例であって、本発明は本実施形態に限定されるものではない。 Embodiments of the present invention will be described below. The present embodiment is an example for implementing the present invention, and the present invention is not limited to the present embodiment.
<ろ過処理システムおよびろ過処理方法>
本発明の実施形態に係るろ過処理システムの一例の概略を図1に示し、その構成について説明する。ろ過処理システム1は、逆浸透膜処理手段として逆浸透膜処理装置12と、スライム抑制剤供給手段としてスライム抑制剤貯槽14とを備える。ろ過処理システム1は、原水槽10を備えてもよい。
<Filtration treatment system and filtration treatment method>
An outline of an example of a filtration system according to an embodiment of the present invention is shown in FIG. 1, and the configuration thereof will be described. The
図1のろ過処理システム1において、原水槽10の入口には原水配管22が接続され、原水槽10の出口と逆浸透膜処理装置12の入口は、ポンプ16を介して原水供給配管24により接続されている。逆浸透膜処理装置12の透過水出口には透過水配管26が接続され、濃縮水出口には濃縮水配管28が接続されている。スライム抑制剤貯槽14の出口と原水供給配管24のポンプ16の下流側とは、ポンプ18を介してスライム抑制剤供給配管30により接続されている。濃縮水配管28には、TOC測定手段としてTOC測定計20が設置され、TOC測定計20とポンプ18とは、図示しない制御装置等を介して電気的接続手段等により接続されていてもよい。
In the
本実施形態に係るろ過処理方法およびろ過処理システム1の動作について説明する。
The filtration processing method and the operation of the
有機物を含む被処理水である原水は原水配管22を通して、必要に応じて原水槽10に貯留された後、ポンプ16により原水供給配管24を通して逆浸透膜処理装置12に供給される。逆浸透膜処理装置12において、逆浸透膜により被処理水の逆浸透膜処理が行われる(逆浸透膜処理工程)。
Raw water, which is water to be treated containing organic matter, is stored in the
逆浸透膜処理で得られた透過水は透過水配管26を通して排出され、濃縮水は濃縮水配管28を通して排出される。
The permeated water obtained by the reverse osmosis membrane treatment is discharged through the permeated
ここで、濃縮水配管28において、TOC測定計20により濃縮水のTOCが測定される(TOC測定工程)。そして、測定したTOCが所定の値以上になった場合に、図示しない制御装置等によってポンプ18が制御され、スライム抑制剤貯槽14からスライム抑制剤供給配管30を通して次亜塩素酸系のスライム抑制剤および次亜臭素酸系のスライム抑制剤のうち少なくとも1つが被処理水に供給される(スライム抑制剤供給工程)。
Here, in the
これにより、有機物を含む被処理水の逆浸透膜処理を行う水処理において、適切にスライム抑制剤を供給することができる。濃縮水中の微生物の栄養源となり得るTOCを測定し、そのTOCの測定値に基づいて適切なスライム抑制剤の供給量を決めることができる。濃縮水ではTOC成分が濃縮されており、濃縮水側でのスライム生成のリスクがより高まっているため、濃縮水のTOCを測定して、そのTOCの測定値に基づいて適切なスライム抑制剤の供給量を決めることが重要である。 Thereby, in the water treatment which performs the reverse osmosis membrane process of the to-be-processed water containing an organic substance, a slime inhibitor can be supplied appropriately. The TOC, which can be a nutrient source of microorganisms in the concentrated water, can be measured, and the appropriate supply amount of slime inhibitor can be determined based on the measured value of the TOC. Since the TOC component is concentrated in the concentrated water and the risk of slime formation on the concentrated water side is further increased, the TOC of the concentrated water is measured, and based on the measured value of the TOC, the appropriate slime inhibitor is selected. It is important to decide the supply amount.
「所定の値」は、処理対象とする系や、求められる処理水(透過水)の性状等に基づき設定すればよく、特に制限はない。例えば、予めTOCと菌数との関係を求めておき、TOCの下限値を定めておけばよい。例えば、測定したTOCが0.5mg/L以上になった場合に次亜塩素酸系のスライム抑制剤および次亜臭素酸系のスライム抑制剤のうち少なくとも1つを被処理水に供給すればよい。 The “predetermined value” may be set based on the system to be treated, the property of the treated water (permeated water) to be obtained, and the like, and is not particularly limited. For example, the lower limit value of TOC may be determined in advance by obtaining the relationship between TOC and the number of bacteria. For example, when the measured TOC becomes 0.5 mg / L or more, at least one of a hypochlorous acid-based slime inhibitor and a hypochlorous acid-based slime inhibitor may be supplied to the water to be treated .
次亜塩素酸系のスライム抑制剤としては、次亜塩素酸や、次亜塩素酸とスルファミン酸化合物との次亜塩素酸安定化組成物等が挙げられる。次亜臭素酸系のスライム抑制剤としては、次亜臭素酸や、下記次亜臭素酸安定化組成物等が挙げられる。有機系のスライム抑制剤を用いると、濃縮水においてTOCとして検知されてしまうため、適切な制御を行うことができない。 Examples of hypochlorous acid-based slime inhibitors include hypochlorous acid and hypochlorous acid-stabilized compositions of hypochlorous acid and a sulfamic acid compound. Examples of hypobromous acid-based slime inhibitors include hypobromous acid and the following hypobromous acid-stabilized compositions. When an organic slime inhibitor is used, it is detected as TOC in concentrated water, so appropriate control can not be performed.
本実施形態に係るろ過処理方法およびろ過処理システムでは、逆浸透膜処理装置12の閉塞防止やスライム生成抑制用等の薬剤として、原水に、次亜塩素酸を含む薬剤、次亜塩素酸とスルファミン酸化合物とを含む薬剤、または、次亜塩素酸とスルファミン酸化合物との反応物を含む薬剤を供給する。「次亜塩素酸」と「スルファミン酸化合物」により、原水中で、次亜塩素酸安定化組成物が生成すると考えられる。
In the filtration treatment method and the filtration treatment system according to the present embodiment, a drug containing hypochlorous acid, hypochlorous acid and sulfamine as raw water in a reverse osmosis
例えば、原水槽10または原水供給配管24において、原水に「次亜塩素酸」、もしくは「次亜塩素酸」と「スルファミン酸化合物」とを、またはこれらの反応生成物を薬注ポンプ等により注入すればよい。「次亜塩素酸」と、「スルファミン酸化合物」とは別々に添加してもよく、または、原液同士で混合させてから添加してもよい。
For example, in the
本実施形態に係るろ過処理方法およびろ過処理システムでは、逆浸透膜処理装置12の閉塞防止やスライム生成抑制用等の薬剤として、原水に、次亜臭素酸を含む薬剤、臭素系酸化剤、もしくは臭素化合物と塩素系酸化剤との反応物と、スルファミン酸化合物と、を含む薬剤、または、臭素系酸化剤、もしくは臭素化合物と塩素系酸化剤との反応物と、スルファミン酸化合物との反応生成物を含む薬剤を供給する。
In filtration method and filtration treatment system according to the present embodiment, as a reverse osmosis
すなわち、本実施形態に係るろ過処理方法およびろ過処理システムでは、上記薬剤として、「臭素系酸化剤」または「臭素化合物と塩素系酸化剤との反応物」と、「スルファミン酸化合物」と、を含む薬剤を使用する。これにより、原水中で、次亜臭素酸安定化組成物が生成すると考えられる。 That is, in the filtration processing method and the filtration processing system according to the present embodiment, “bromine-based oxidizing agent” or “reactant of bromine compound and chlorine-based oxidizing agent” and “sulfamic acid compound” are used as the above-mentioned agents. Use drugs that contain it. This is believed to produce a hypobromous acid stabilized composition in the raw water.
また、本実施形態に係るろ過処理方法およびろ過処理システムでは、上記薬剤として、「臭素系酸化剤とスルファミン酸化合物との反応生成物」、または「臭素化合物と塩素系酸化剤との反応物と、スルファミン酸化合物と、の反応生成物」である次亜臭素酸安定化組成物を供給する。 Further, in the filtration method and the filtration system according to the present embodiment, “the reaction product of a bromine-based oxidizing agent and a sulfamic acid compound” or “the reaction product of a bromine compound and a chlorine-based oxidizing agent” as the agent , A reaction product of a sulfamic acid compound and a hypobromous acid stabilizing composition.
具体的には本実施形態に係るろ過処理方法およびろ過処理システムでは、例えば、原水中に、「臭素」、「塩化臭素」または「臭化ナトリウムと次亜塩素酸との反応物」と、「スルファミン酸化合物」と、を供給する。 Specifically, in the filtration treatment method and the filtration treatment system according to the present embodiment, for example, “bromine”, “bromine chloride” or “reactant of sodium bromide and hypochlorous acid” in raw water; "Sulfamic acid compound" is supplied.
また、本実施形態に係るろ過処理方法およびろ過処理システムでは、例えば、原水中に、「臭素とスルファミン酸化合物との反応生成物」、「塩化臭素とスルファミン酸化合物との反応生成物」、または「臭化ナトリウムと次亜塩素酸との反応物と、スルファミン酸化合物と、の反応生成物」を供給する。 Further, in the filtration method and the filtration system according to the present embodiment, for example, “reaction product of bromine and sulfamic acid compound”, “reaction product of bromine chloride and sulfamic acid compound”, or raw water in the raw water "The reaction product of the reaction product of sodium bromide and hypochlorous acid and the sulfamic acid compound" is supplied.
例えば、原水槽10または原水供給配管24において、原水に「次亜臭素酸」や、「臭素系酸化剤」または「臭素化合物と塩素系酸化剤との反応物」と、「スルファミン酸化合物」とを、またはこれらの反応生成物を薬注ポンプ等により注入すればよい。「臭素系酸化剤」または「臭素化合物と塩素系酸化剤との反応物」と、「スルファミン酸化合物」とは別々に添加してもよく、または、原液同士で混合させてから添加してもよい。
For example, in the
本実施形態に係るろ過処理方法およびろ過処理システムによれば、原水中に「臭素系酸化剤」または「臭素化合物と塩素系酸化剤との反応物」と、「スルファミン酸化合物」とを存在させる、またはこれらの反応生成物を存在させることで、逆浸透膜処理装置12の閉塞防止やスライム生成を抑制することができる。有機物を含む被処理水に対しても、分離膜の劣化を抑制して膜ろ過処理が可能となる。
According to the filtration treatment method and the filtration treatment system according to the present embodiment, “bromine-based oxidizing agent” or “reactant of bromine compound and chlorine-based oxidant” and “sulfamic acid compound” are made to be present in raw water The presence of these reaction products can prevent blockage and slime formation of the reverse osmosis
有機物としては、特に制限はないが、例えば、イソプロピルアルコール、モノエタノールアミン等が挙げられる。 The organic substance is not particularly limited, and examples thereof include isopropyl alcohol and monoethanolamine.
「臭素系酸化剤」または「臭素化合物と塩素系酸化剤との反応物」の当量に対する「スルファミン酸化合物」の当量の比は、1以上であることが好ましく、1以上2以下の範囲であることがより好ましい。「臭素系酸化剤」または「臭素化合物と塩素系酸化剤との反応物」の当量に対する「スルファミン酸化合物」の当量の比が1未満であると、有効成分が十分安定化しない可能性があり、2を超えると、製造コストが増加する場合がある。 The ratio of the equivalent of “sulfamic acid compound” to the equivalent of “bromine-based oxidizing agent” or “reactant of bromine compound and chlorine-based oxidizing agent” is preferably 1 or more, and is in the range of 1 or more and 2 or less. Is more preferred. If the ratio of the equivalent of "sulfamic acid compound" to the equivalent of "bromine-based oxidizing agent" or "reactant of bromine compound and chlorine-based oxidizing agent" is less than 1, the active ingredient may not be stabilized sufficiently. If more than 2, the manufacturing cost may increase.
被処理水中の殺菌剤の添加量は、有効ハロゲン濃度として有効塩素濃度換算で、0.01〜10mg/Lであることが好ましい。0.01mg/L未満であると、十分なスライム抑制効果を得ることができない場合があり、10mg/Lより多いと、配管等の金属材料の腐食を引き起こす可能性がある。 It is preferable that the addition amount of the microbicide in to-be-processed water is 0.01-10 mg / L in conversion of an effective chlorine concentration as an effective halogen concentration. If it is less than 0.01 mg / L, sufficient slime suppression effect may not be obtained, and if it is more than 10 mg / L, corrosion of metal materials such as piping may be caused.
臭素系酸化剤としては、臭素(液体臭素)、塩化臭素、次亜臭素酸、臭素酸、臭素酸塩等が挙げられる。 Bromine-based oxidizing agents include bromine (liquid bromine), bromine chloride, hypobromous acid, bromate, bromate and the like.
これらのうち、臭素を用いた「臭素とスルファミン酸化合物」または「臭素とスルファミン酸化合物との反応生成物」の製剤は、「次亜塩素酸と臭素化合物とスルファミン酸」の製剤および「塩化臭素とスルファミン酸」の製剤等に比べて、塩化物イオンが少なく、配管等の金属材料の腐食を引き起こす可能性が低いため、より好ましい。 Among these, formulations of "bromine and sulfamic acid compound" or "reaction product of bromine and sulfamic acid compound" using bromine are formulations of "hypochlorous acid and bromine compound and sulfamic acid" and "bromine chloride And sulfamic acid, it is more preferable because it has less chloride ions and is less likely to cause corrosion of metal materials such as piping.
すなわち、本実施形態に係るろ過処理方法およびろ過処理システムでは、原水中に、臭素と、スルファミン酸化合物とを存在させる、または臭素とスルファミン酸化合物との反応生成物を存在させることが好ましい。 That is, in the filtration method and the filtration system according to the present embodiment, it is preferable to make bromine and a sulfamic acid compound exist in the raw water, or to make a reaction product of bromine and a sulfamic acid compound.
臭素化合物としては、臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭化リチウム、臭化アンモニウム及び臭化水素酸等が挙げられる。これらのうち、製剤コスト等の点から、臭化ナトリウムが好ましい。 Examples of bromine compounds include sodium bromide, potassium bromide, lithium bromide, ammonium bromide and hydrobromic acid. Among these, sodium bromide is preferable in terms of formulation cost and the like.
塩素系酸化剤としては、例えば、塩素ガス、二酸化塩素、次亜塩素酸またはその塩、亜塩素酸またはその塩、塩素酸またはその塩、過塩素酸またはその塩、塩素化イソシアヌル酸またはその塩等が挙げられる。これらのうち、塩としては、例えば、次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸カリウム等の次亜塩素酸アルカリ金属塩、次亜塩素酸カルシウム、次亜塩素酸バリウム等の次亜塩素酸アルカリ土類金属塩、亜塩素酸ナトリウム、亜塩素酸カリウム等の亜塩素酸アルカリ金属塩、亜塩素酸バリウム等の亜塩素酸アルカリ土類金属塩、亜塩素酸ニッケル等の他の亜塩素酸金属塩、塩素酸アンモニウム、塩素酸ナトリウム、塩素酸カリウム等の塩素酸アルカリ金属塩、塩素酸カルシウム、塩素酸バリウム等の塩素酸アルカリ土類金属塩等が挙げられる。これらの塩素系酸化剤は、1種を単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。塩素系酸化剤としては、取り扱い性等の点から、次亜塩素酸ナトリウムを用いるのが好ましい。 As the chlorine-based oxidizing agent, for example, chlorine gas, chlorine dioxide, hypochlorous acid or its salt, chlorous acid or its salt, chloric acid or its salt, perchloric acid or its salt, chlorinated isocyanuric acid or its salt Etc. Among these, as salts, for example, alkali metal hypochlorite such as sodium hypochlorite and potassium hypochlorite, calcium hypochlorite, alkaline earth hypochlorite such as barium hypochlorite and the like Metal salts, alkali metal chlorite such as sodium chlorite and potassium chlorite, alkaline earth metal chlorite such as barium chlorite, and other metal chlorite such as nickel chlorite And alkali metal salts of chlorate such as ammonium chlorate, sodium chlorate and potassium chlorate, and alkali earth metal chlorates such as calcium chlorate and barium chlorate. One of these chlorine-based oxidizing agents may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. As a chlorine-based oxidizing agent, sodium hypochlorite is preferably used in terms of handleability and the like.
スルファミン酸化合物は、以下の一般式(1)で示される化合物である。
R2NSO3H (1)
(式中、Rは独立して水素原子または炭素数1〜8のアルキル基である。)
The sulfamic acid compound is a compound represented by the following general formula (1).
R 2 NSO 3 H (1)
(Wherein, R is independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms)
スルファミン酸化合物としては、例えば、2個のR基の両方が水素原子であるスルファミン酸(アミド硫酸)の他に、N−メチルスルファミン酸、N−エチルスルファミン酸、N−プロピルスルファミン酸、N−イソプロピルスルファミン酸、N−ブチルスルファミン酸等の2個のR基の一方が水素原子であり、他方が炭素数1〜8のアルキル基であるスルファミン酸化合物、N,N−ジメチルスルファミン酸、N,N−ジエチルスルファミン酸、N,N−ジプロピルスルファミン酸、N,N−ジブチルスルファミン酸、N−メチル−N−エチルスルファミン酸、N−メチル−N−プロピルスルファミン酸等の2個のR基の両方が炭素数1〜8のアルキル基であるスルファミン酸化合物、N−フェニルスルファミン酸等の2個のR基の一方が水素原子であり、他方が炭素数6〜10のアリール基であるスルファミン酸化合物、またはこれらの塩等が挙げられる。スルファミン酸塩としては、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、カルシウム塩、ストロンチウム塩、バリウム塩等のアルカリ土類金属塩、マンガン塩、銅塩、亜鉛塩、鉄塩、コバルト塩、ニッケル塩等の他の金属塩、アンモニウム塩およびグアニジン塩等が挙げられる。スルファミン酸化合物およびこれらの塩は、1種を単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。スルファミン酸化合物としては、環境負荷等の点から、スルファミン酸(アミド硫酸)を用いるのが好ましい。 As a sulfamic acid compound, for example, in addition to sulfamic acid (amidosulfuric acid) in which both of two R groups are hydrogen atoms, N-methylsulfamic acid, N-ethylsulfamic acid, N-propylsulfamic acid, N- A sulfamic acid compound in which one of two R groups such as isopropyl sulfamic acid and N-butyl sulfamic acid is a hydrogen atom and the other is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, N, N-dimethyl sulfamic acid, N, Two R groups such as N-diethylsulfamic acid, N, N-dipropylsulfamic acid, N, N-dibutylsulfamic acid, N-methyl-N-ethylsulfamic acid, N-methyl-N-propylsulfamic acid, etc. One of two R groups such as sulfamic acid compounds and N-phenylsulfamic acid, both of which are alkyl groups of 1 to 8 carbon atoms An atom, the other is sulfamic acid compound or a salt thereof, such as an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. Examples of sulfamate salts include alkali metal salts such as sodium salts and potassium salts, alkaline earth metal salts such as calcium salts, strontium salts and barium salts, manganese salts, copper salts, zinc salts, iron salts, cobalt salts, Other metal salts such as nickel salts, ammonium salts and guanidine salts can be mentioned. The sulfamic acid compounds and their salts may be used alone or in combination of two or more. As the sulfamic acid compound, sulfamic acid (amidosulfuric acid) is preferably used from the viewpoint of environmental load and the like.
本実施形態に係るろ過処理方法およびろ過処理システムにおいて、さらにアルカリを存在させてもよい。アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ等が挙げられる。低温時の製品安定性等の点から、水酸化ナトリウムと水酸化カリウムとを併用してもよい。また、アルカリは、固形でなく、水溶液として用いてもよい。 In the filtration method and the filtration system according to the present embodiment, an alkali may be further present. Examples of the alkali include alkali hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide. Sodium hydroxide and potassium hydroxide may be used in combination from the viewpoint of product stability at low temperature and the like. Further, the alkali is not solid but may be used as an aqueous solution.
本実施形態に係るろ過処理方法およびろ過処理システムは、特に、逆浸透膜(RO膜)として昨今主流であるポリアミド系高分子膜に好適に適用することができる。ポリアミド系高分子膜は、酸化剤に対する耐性が比較的低く、遊離塩素等をポリアミド系高分子膜に連続的に接触させると、膜性能の著しい低下が起こる。しかしながら、本実施形態に係るろ過処理方法およびろ過処理システムではポリアミド高分子膜においても、このような著しい膜性能の低下はほとんど起こらない。 The filtration treatment method and the filtration treatment system according to the present embodiment can be suitably applied to, in particular, a polyamide-based polymer membrane that is currently mainstream as a reverse osmosis membrane (RO membrane). The polyamide-based polymer membrane has a relatively low resistance to an oxidizing agent, and when free chlorine and the like are continuously brought into contact with the polyamide-based polymer membrane, the membrane performance significantly decreases. However, in the filtration method and the filtration system according to the present embodiment, such a remarkable decrease in the membrane performance hardly occurs even in the polyamide polymer membrane.
本実施形態に係るろ過処理方法およびろ過処理システムにおいて、被処理水である原水のpHが5〜12の範囲であることが好ましく、6.5〜12の範囲であることがより好ましい。原水のpHが5未満であると、フラックスが低下する場合がある。また、原水のpHが12を超えると、膜が劣化する場合がある。 In the filtration method and the filtration system according to the present embodiment, the pH of the raw water which is the water to be treated is preferably in the range of 5 to 12, and more preferably in the range of 6.5 to 12. When the pH of the raw water is less than 5, the flux may decrease. In addition, when the pH of the raw water exceeds 12, the membrane may be degraded.
逆浸透膜処理装置12において、原水のpH5以上でスケールが発生する場合には、スケール抑制のために分散剤を、次亜塩素酸系のスケール抑制剤および次亜臭素酸系のスケール抑制剤のうち少なくとも1つと併用してもよい。分散剤としては、例えば、ポリアクリル酸、ポリマレイン酸、ホスホン酸等が挙げられる。分散剤の給水(前ろ過処理水)への添加量は、例えば、濃縮水中の濃度として0.1〜1,000mg/Lの範囲である。
In the reverse osmosis
また、分散剤を使用せずにスケールの発生を抑制するためには、例えば、濃縮水中のシリカ濃度を溶解度以下に、カルシウムスケールの指標であるランゲリア指数を0以下になるように、逆浸透膜処理装置12の回収率等の運転条件を調整することが挙げられる。
Also, in order to suppress the generation of scale without using a dispersant, for example, the reverse osmosis membrane so that the concentration of silica in the concentrated water is less than the solubility and the Langeria index, which is an indicator of calcium scale, is less than 0. Adjusting the operating conditions such as the recovery rate of the
本実施形態に係るろ過処理方法およびろ過処理システムは、例えば、半導体工場排水、液晶工場排水等の有機物を含む被処理水を処理対象とする。被処理水のTOCは、例えば、0.01〜10mg/Lの範囲である。 The filtration processing method and the filtration processing system according to the present embodiment treat, for example, treated water containing organic substances such as semiconductor factory drainage and liquid crystal factory drainage. The TOC of the water to be treated is, for example, in the range of 0.01 to 10 mg / L.
本発明の実施形態に係るろ過処理システムの他の例の概略構成を図2に示す。図2のろ過処理システム3において、逆浸透膜処理装置12の後段であって、逆浸透膜処理装置12からの濃縮水のTOCを測定するTOC測定計20の前段に、すなわち濃縮水配管28の分岐点とTOC測定計20との間に高分子有機物除去手段として高分子有機物除去装置32が設置されている。
The schematic configuration of another example of the filtration system according to the embodiment of the present invention is shown in FIG. In the
被処理水が高分子有機物(例えば、分子量100,000〜2,000,000)を含み、微生物の栄養源になりにくい高分子有機物をTOC測定計20で検知してしまうことが問題になる場合は、図2のように高分子有機物除去装置32により高分子有機物を除去する(高分子有機物除去工程)ことが好ましい。TOC測定計20の上流で高分子有機物を阻止することができ、測定したTOCに基づくスライム抑制剤供給量の制御の精度が向上する。
When the water to be treated contains a high molecular weight organic substance (for example, with a molecular weight of 100,000 to 2,000,000) and the high molecular weight organic substance that is unlikely to be a nutrient source of the microorganism is detected by the
高分子有機物除去装置32としては、例えば、UF膜、MF膜等が挙げられる。
Examples of the high molecular weight organic
<ろ過処理用組成物>
本実施形態に係る次亜臭素酸安定化組成物系のろ過処理用組成物は、例えば、「臭素系酸化剤」または「臭素化合物と塩素系酸化剤との反応物」と、「スルファミン酸化合物」とを含有するものであり、さらにアルカリを含有してもよい。
<Composition for filtration processing>
The composition for filtration processing of the hypobromous acid stabilization composition system according to the present embodiment is, for example, a "bromine-based oxidizing agent" or a "reactant of a bromine compound and a chlorine-based oxidant", and a "sulfamic acid compound". And may further contain an alkali.
また、本実施形態に係る次亜臭素酸安定化組成物系のろ過処理用組成物は、例えば、「臭素系酸化剤とスルファミン酸化合物との反応生成物」、または「臭素化合物と塩素系酸化剤との反応物と、スルファミン酸化合物と、の反応生成物」を含有するものであり、さらにアルカリを含有してもよい。 Moreover, the composition for the filtration process of the hypobromous acid stabilization composition type | system | group based on this embodiment is, for example, "a reaction product of a bromine-based oxidizing agent and a sulfamic acid compound", or "a bromine compound and a chlorine-based oxidation "A reaction product of a reactant with an agent and a sulfamic acid compound" and may further contain an alkali.
臭素系酸化剤、臭素化合物、塩素系酸化剤およびスルファミン酸化合物については、上述した通りである。 The bromine-based oxidizing agent, the bromine compound, the chlorine-based oxidizing agent and the sulfamic acid compound are as described above.
本実施形態に係るろ過処理用組成物としては、配管等の金属材料に対する腐食性が低く、臭素酸の副生が少ない等の点から、臭素と、スルファミン酸化合物とを含有するもの、または、臭素とスルファミン酸化合物との反応生成物を含有するものが好ましい。 The composition for filtration processing according to the present embodiment contains bromine and a sulfamic acid compound, from the viewpoint of low corrosiveness to metal materials such as piping and little by-production of bromic acid, or Those containing a reaction product of bromine and a sulfamic acid compound are preferred.
本実施形態に係るろ過処理用組成物は、クロロスルファミン酸等の結合塩素系スライム抑制剤と比較すると、酸化力が高く、スライム抑制力、スライム剥離力が著しく高い。 The composition for filtration processing according to the present embodiment has a high oxidizing power and a remarkably high slime suppressing power and slime peeling power, as compared with a combined chlorine-based slime inhibitor such as chlorosulfamic acid.
本実施形態に係るろ過処理用組成物は、次亜塩素酸等の酸化剤とは異なり、逆浸透膜をほとんど劣化させない。また、次亜塩素酸等と同様に現場で濃度を測定することができるため、より正確な濃度管理が可能である。 Unlike the oxidizing agent such as hypochlorous acid, the composition for filtration treatment according to the present embodiment hardly degrades the reverse osmosis membrane. Moreover, since the concentration can be measured on site in the same manner as hypochlorous acid etc., more accurate concentration control is possible.
組成物のpHは、例えば、13.0超であり、13.2超であることがより好ましい。組成物のpHが13.0以下であると組成物中の有効ハロゲンが不安定になる場合がある。 The pH of the composition is, for example, more than 13.0, more preferably more than 13.2. When the pH of the composition is 13.0 or less, the effective halogen in the composition may become unstable.
ろ過処理用組成物中の臭素酸濃度は、5mg/kg未満であることが好ましい。ろ過処理用組成物中の臭素酸濃度が5mg/kg以上であると、処理水の水質が悪化する場合がある。 The concentration of bromate in the composition for filtration is preferably less than 5 mg / kg. When the concentration of bromic acid in the composition for filtration treatment is 5 mg / kg or more, the water quality of the treated water may be deteriorated.
<ろ過処理用組成物の製造方法>
本実施形態に係る次亜臭素酸安定化組成物系のろ過処理用組成物は、例えば、臭素系酸化剤とスルファミン酸化合物とを混合する、または臭素化合物と塩素系酸化剤との反応物と、スルファミン酸化合物とを混合することにより得られ、さらにアルカリを混合してもよい。
<Method of producing composition for filtration treatment>
The composition for filtration processing of the hypobromous acid stabilization composition system according to the present embodiment is, for example, a mixture of a bromine-based oxidizing agent and a sulfamic acid compound, or a reaction product of a bromine compound and a chlorine-based oxidizing agent. It may be obtained by mixing with a sulfamic acid compound, and may further be mixed with an alkali.
臭素と、スルファミン酸化合物とを含有するろ過処理用組成物、または、臭素とスルファミン酸化合物との反応生成物を含有するろ過処理用組成物の製造方法としては、水、アルカリおよびスルファミン酸化合物を含む混合液に臭素を不活性ガス雰囲気下で添加して反応させる工程を含むことが好ましい。不活性ガス雰囲気下で添加して反応させることにより、組成物中の臭素酸イオン濃度がより低くなり、好ましい。 Water, an alkali and a sulfamic acid compound can be used as a method for producing a filtration processing composition containing bromine and a sulfamic acid compound, or a filtration processing composition containing a reaction product of bromine and a sulfamic acid compound. It is preferable to include a step of adding bromine to the mixed solution containing it under an inert gas atmosphere to cause a reaction. Addition and reaction under an inert gas atmosphere lowers the bromate ion concentration in the composition, which is preferable.
用いる不活性ガスとしては限定されないが、製造等の面から窒素およびアルゴンのうち少なくとも1つが好ましく、特に製造コスト等の面から窒素が好ましい。 Used but are not limited to inert gas, at least one and preferably one in terms of nitrogen and argon, such as production, nitrogen is particularly preferred from the viewpoint of production cost and the like.
臭素の添加の際の反応器内の酸素濃度は6%以下が好ましいが、4%以下がより好ましく、2%以下がさらに好ましく、1%以下が特に好ましい。臭素の反応の際の反応器内の酸素濃度が6%を超えると、反応系内の臭素酸の生成量が増加する場合がある。 The oxygen concentration in the reactor at the time of addition of bromine is preferably 6% or less, more preferably 4% or less, still more preferably 2% or less, and particularly preferably 1% or less. If the oxygen concentration in the reactor during the reaction of bromine exceeds 6%, the amount of bromic acid produced in the reaction system may increase.
臭素の添加率は、組成物全体の量に対して25重量%以下であることが好ましく、1重量%以上20重量%以下であることがより好ましい。臭素の添加率が組成物全体の量に対して25重量%を超えると、反応系内の臭素酸の生成量が増加する場合がある。1重量%未満であると、殺菌力が劣る場合がある。 The addition rate of bromine is preferably 25% by weight or less based on the total amount of the composition, and more preferably 1% by weight or more and 20% by weight or less. If the addition rate of bromine exceeds 25% by weight with respect to the total amount of the composition, the amount of bromic acid produced in the reaction system may increase. When it is less than 1% by weight, the bactericidal activity may be poor.
臭素添加の際の反応温度は、0℃以上25℃以下の範囲に制御することが好ましいが、製造コスト等の面から、0℃以上15℃以下の範囲に制御することがより好ましい。臭素添加の際の反応温度が25℃を超えると、反応系内の臭素酸の生成量が増加する場合があり、0℃未満であると、凍結する場合がある。 The reaction temperature at the time of bromine addition is preferably controlled in the range of 0 ° C. or more and 25 ° C. or less, but is more preferably controlled in the range of 0 ° C. or more and 15 ° C. or less from the viewpoint of production cost. When the reaction temperature at the time of bromine addition exceeds 25 ° C., the amount of bromic acid produced in the reaction system may increase, and when it is less than 0 ° C., freezing may occur.
以下、実施例および比較例を挙げ、本発明をより具体的に詳細に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.
[安定化次亜臭素酸組成物の調製]
窒素雰囲気下で、液体臭素:16.9重量%(wt%)、スルファミン酸:10.7重量%、水酸化ナトリウム:12.9重量%、水酸化カリウム:3.94重量%、水:残分を混合して、組成物を調製した。組成物のpHは14、有効ハロゲン濃度(有効塩素換算濃度)は7.5重量%であった。安定化次亜臭素酸組成物の詳細な調製方法は以下の通りである。
[Preparation of stabilized hypobromous acid composition]
Liquid nitrogen: 16.9 wt% (wt%), sulfamic acid: 10.7 wt%, sodium hydroxide: 12.9 wt%, potassium hydroxide: 3.94 wt%, water under a nitrogen atmosphere The ingredients were mixed to prepare a composition. The pH of the composition was 14, and the effective halogen concentration (effective chlorine equivalent concentration) was 7.5% by weight. The detailed preparation method of the stabilized hypobromous acid composition is as follows.
反応容器内の酸素濃度が1%に維持されるように、窒素ガスの流量をマスフローコントローラでコントロールしながら連続注入で封入した2Lの4つ口フラスコに1436gの水、361gの水酸化ナトリウムを加え混合し、次いで300gのスルファミン酸を加え混合した後、反応液の温度が0〜15℃になるように冷却を維持しながら、473gの液体臭素を加え、さらに48%水酸化カリウム溶液230gを加え、組成物全体の量に対する重量比でスルファミン酸10.7%、臭素16.9%、臭素の当量に対するスルファミン酸の当量比が1.04である、目的の組成物を得た。生じた溶液のpHは、ガラス電極法にて測定したところ、14であった。生じた溶液の臭素含有率は、臭素をヨウ化カリウムによりヨウ素に転換後、チオ硫酸ナトリウムを用いて酸化還元滴定する方法により測定したところ16.9%であり、理論含有率(16.9%)の100.0%であった。また、臭素反応の際の反応容器内の酸素濃度は、株式会社ジコー製の「酸素モニタJKO−02 LJDII」を用いて測定した。なお、臭素酸濃度は5mg/kg未満であった。 Add 1436 g of water, 361 g of sodium hydroxide to a 2-liter 4-neck flask sealed by continuous injection while controlling the flow rate of nitrogen gas with a mass flow controller so that the oxygen concentration in the reaction vessel is maintained at 1% Mix, then add 300 g of sulfamic acid and mix, then add 473 g of liquid bromine while maintaining cooling so that the temperature of the reaction solution becomes 0 to 15 ° C., and then add 230 g of 48% potassium hydroxide solution An objective composition was obtained in which the ratio by weight of the total composition was 10.7% sulfamic acid, 16.9% bromine, and the equivalent ratio of sulfamic acid to equivalent of bromine was 1.04. The pH of the resulting solution was 14 as measured by the glass electrode method. The bromine content of the resulting solution is 16.9% as determined by a redox titration method using sodium thiosulfate after converting bromine to iodine with potassium iodide, and the theoretical content (16.9% 100.0% of the Moreover, the oxygen concentration in the reaction container in the case of a bromine reaction was measured using "oxygen monitor JKO-02 LJDII" made by Dicor Corporation. The bromate concentration was less than 5 mg / kg.
[TOCと菌数の相関測定]
逆浸透膜の濃縮水のTOCと菌数を以下の方法により測定し、TOCと菌数の相関を求めた。一般細菌数は、バイオチェッカーTTC(三愛石油株式会社製)により、TOCは、TOC測定装置(シーバス社製、Sievers900型)により測定した。結果を表1に示す。
[Correlation measurement of TOC and number of bacteria]
The TOC of the retentate of the reverse osmosis membrane and the number of bacteria were measured by the following method to determine the correlation between the TOC and the number of bacteria. The number of general bacteria was measured by Bio Checker TTC (manufactured by San-Ai Oil Co., Ltd.), and TOC was measured by a TOC measuring device (manufactured by Sivas, Sievers 900 type). The results are shown in Table 1.
このように、TOCと菌数との間には相関が見られ、例えばTOCが0.5mg/L以上になった場合に、菌数が103(CFU/mL)以上となり、スライム発生のリスクが生じることがわかる。このことから、逆浸透膜処理手段からの濃縮水のTOCが0.5mg/L以上になった場合に、上記安定化次亜臭素酸組成物等のスライム抑制剤を被処理水に供給するように制御すればよいことがわかる。 Thus, there is a correlation between TOC and the number of bacteria. For example, when TOC becomes 0.5 mg / L or more, the number of bacteria becomes 10 3 (CFU / mL) or more, and the risk of slime generation It can be seen that From this, when the TOC of the concentrated water from the reverse osmosis membrane treatment means reaches 0.5 mg / L or more, a slime inhibitor such as the above-mentioned stabilized hypobromous acid composition is supplied to the water to be treated It can be understood that it should be controlled.
[UF膜による高分子有機物の除去]
UF膜(立昇製、LH3−6Cd型)を用いて、下記排水の処理を行い、UF膜(除濁膜)により高分子有機物が阻止され、低分子有機物が通過することを確認した。
[Removal of high molecular organic matter by UF membrane]
The following wastewater was treated using a UF membrane (LH3-6Cd type, manufactured by Rising), and it was confirmed that the high molecular organic matter was blocked by the UF membrane (turbidizing membrane) and the low molecular weight organic matter passed through.
(実験条件)
原水:電子工場排水(TOC:1.1mg/L)
運転圧力:1.5MPa
原水pH:6.2
試験温度:25±1℃
(Experimental conditions)
Raw water: electronics factory drainage (TOC: 1.1 mg / L)
Operating pressure: 1.5MPa
Raw water pH: 6.2
Test temperature: 25 ± 1 ° C
(分析条件)
UF膜を透過した透過水中のTOC成分の分析を、LC−OCD装置(DOC−LABOR製、model2007)を用いて行った。LC−OCDとは、試料中のTOC成分を分子量ごとに分画し、クロマトグラムとして示す分析装置である。クロマトグラム上では、分子量および親水性の大きい有機物ほど保持時間が早く(左側に)表示される傾向にある。例えば、同じ分子量の有機物であれば、親水性が強い有機物の方が左側にピークを示す傾向にある。結果を図3に示す。
(Analysis conditions)
The analysis of the TOC component in the permeated water which permeated the UF membrane was performed using LC-OCD apparatus (made by DOC-LABOR, model 2007). LC-OCD is an analyzer which fractionates the TOC component in a sample for every molecular weight, and shows it as a chromatogram. On the chromatogram, the higher the molecular weight and the more hydrophilic the organic substance, the faster the retention time tends to be displayed (on the left). For example, in the case of an organic substance having the same molecular weight, the organic substance having high hydrophilicity tends to exhibit a peak on the left side. The results are shown in FIG.
図3からわかるように、UF膜(除濁膜)により高分子有機物(分子量100,000以上)が阻止され、低分子有機物(分子量350未満)が通過した。 As can be seen from FIG. 3, the high molecular weight organic substance (molecular weight 100,000 or more) was blocked by the UF film (turbidizing film), and the low molecular weight organic substance (molecular weight less than 350) passed.
このように、濃縮水中のTOCを測定し、そのTOCの測定値に基づいて適切なスライム抑制剤の供給量を決めることにより、有機物を含む被処理水の逆浸透膜処理を行う水処理において、適切にスライム抑制剤を供給することができることが示唆された。 Thus, in water treatment which performs reverse osmosis membrane processing of the to-be-processed water containing an organic substance by measuring TOC in concentrated water and determining the supply amount of an appropriate slime inhibitor based on the measured value of TOC, It has been suggested that slime inhibitors can be provided appropriately.
1,3 ろ過処理システム、10 原水槽、12 逆浸透膜処理装置、14 スライム抑制剤貯槽、16,18 ポンプ、20 TOC測定計、22 原水配管、24 原水供給配管、26 透過水配管、28 濃縮水配管、30 スライム抑制剤供給配管、32 高分子有機物除去装置。 1, 3 filtration system, 10 raw water tank, 12 reverse osmosis membrane treatment device, 14 slime inhibitor storage tank, 16, 18 pump, 20 TOC measuring meter, 22 raw water piping, 24 raw water piping, 26 permeated water piping, 28 concentration Water piping, 30 slime inhibitor supply piping, 32 polymer organic substance removal equipment.
Claims (8)
前記逆浸透膜処理手段からの濃縮水のTOCを測定するTOC測定手段と、
前記測定したTOCが所定の値以上になった場合に次亜塩素酸系のスライム抑制剤および次亜臭素酸系のスライム抑制剤のうち少なくとも1つを被処理水に供給するスライム抑制剤供給手段と、
前記逆浸透膜処理手段の後段であって前記TOC測定手段の前段に、前記高分子有機物を除去する高分子有機物除去手段としてUF膜またはMF膜と、
を備えることを特徴とするろ過処理システム。 Reverse osmosis membrane treatment means for performing reverse osmosis membrane treatment using a reverse osmosis membrane for treated water containing high molecular weight organic matter;
TOC measurement means for measuring TOC of the concentrated water from the reverse osmosis membrane treatment means;
A slime inhibitor supply means for supplying at least one of a hypochlorous acid-based slime inhibitor and a hypobromous acid-based slime inhibitor to the water to be treated when the measured TOC exceeds a predetermined value When,
In front of the TOC measuring device to a subsequent stage before Kigyaku osmosis membrane treatment unit, the UF membrane or MF membrane as the polymer organic substance removing means for removing the polymer organic material,
A filtration processing system comprising:
前記スライム抑制剤供給手段は、前記測定したTOCが0.5mg/L以上になった場合に前記スライム抑制剤を被処理水に供給することを特徴とするろ過処理システム。 The filtration system according to claim 1, wherein
The slime inhibitor supply means supplies the slime inhibitor to the water to be treated when the measured TOC reaches 0.5 mg / L or more.
前記次亜臭素酸系のスライム抑制剤が、臭素系酸化剤、もしくは臭素化合物と塩素系酸化剤との反応物と、スルファミン酸化合物と、を含む、または、臭素系酸化剤、もしくは臭素化合物と塩素系酸化剤との反応物と、スルファミン酸化合物との反応生成物を含むことを特徴とするろ過処理システム。 A filtration system according to claim 1 or 2, wherein
The hypobromous acid-based slime inhibitor comprises a bromine-based oxidizing agent, or a reaction product of a bromine compound and a chlorine-based oxidizing agent, and a sulfamic acid compound, or a bromine-based oxidizing agent or a bromine compound What is claimed is: 1. A filtration system comprising a reaction product of a reactant with a chlorine-based oxidizing agent and a sulfamic acid compound.
前記次亜塩素酸系のスライム抑制剤が、塩素系酸化剤とスルファミン酸化合物とを含む、または、塩素系酸化剤とスルファミン酸化合物との反応生成物を含むことを特徴とするろ過処理システム。 A filtration system according to claim 1 or 2, wherein
The filtration processing system, wherein the hypochlorous acid-based slime inhibitor contains a chlorine-based oxidizing agent and a sulfamic acid compound, or contains a reaction product of a chlorine-based oxidizing agent and a sulfamic acid compound.
前記逆浸透膜処理工程からの濃縮水のTOCを測定するTOC測定工程と、
前記測定したTOCが所定の値以上になった場合に次亜塩素酸系のスライム抑制剤および次亜臭素酸系のスライム抑制剤のうち少なくとも1つを被処理水に供給するスライム抑制剤供給工程と、
前記逆浸透膜処理工程の後段であって前記TOC測定工程の前段に、UF膜またはMF膜を用いて前記高分子有機物を除去する高分子有機物除去工程と、
を含むことを特徴とするろ過処理方法。 A reverse osmosis membrane treatment step of performing reverse osmosis membrane treatment using a reverse osmosis membrane to be treated water containing high molecular weight organic matter
A TOC measurement step of measuring TOC of the concentrated water from the reverse osmosis membrane treatment step;
Slime inhibitor supply step of supplying at least one of hypochlorous acid-based slime inhibitor and hypobromous acid-based slime inhibitor to the water to be treated when the measured TOC exceeds a predetermined value When,
In front of the front Kigyaku osmosis membrane treatment the TOC measurement step a subsequent step, the polymer organic substance removing step of removing the polymeric organic material by using a UF membrane or MF membrane,
A filtration treatment method characterized in that
前記スライム抑制剤供給工程において、前記測定したTOCが0.5mg/L以上になった場合に前記スライム抑制剤を被処理水に供給することを特徴とするろ過処理方法。 It is the filtration processing method according to claim 5,
The slime inhibitor supply process WHEREIN: The said slime inhibitor is supplied to to-be-processed water, when the measured TOC becomes 0.5 mg / L or more, The filtration process method characterized by the above-mentioned.
前記次亜臭素酸系のスライム抑制剤が、臭素系酸化剤、もしくは臭素化合物と塩素系酸化剤との反応物と、スルファミン酸化合物と、を含む、または、臭素系酸化剤、もしくは臭素化合物と塩素系酸化剤との反応物と、スルファミン酸化合物との反応生成物を含むことを特徴とするろ過処理方法。 It is the filtration processing method according to claim 5 or 6,
The hypobromous acid-based slime inhibitor comprises a bromine-based oxidizing agent, or a reaction product of a bromine compound and a chlorine-based oxidizing agent, and a sulfamic acid compound, or a bromine-based oxidizing agent or a bromine compound What is claimed is: 1. A filtration method comprising a reaction product of a reactant with a chlorine-based oxidizing agent and a sulfamic acid compound.
前記次亜塩素酸系のスライム抑制剤が、塩素系酸化剤とスルファミン酸化合物とを含む、または、塩素系酸化剤とスルファミン酸化合物との反応生成物を含むことを特徴とするろ過処理方法。 It is the filtration processing method according to claim 5 or 6,
The hypochlorous acid-based slime inhibitor contains a chlorine-based oxidizing agent and a sulfamic acid compound, or contains a reaction product of a chlorine-based oxidizing agent and a sulfamic acid compound.
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