JP6519634B2 - 装置及び機器 - Google Patents

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Description

本開示は、特に、三次元空間における所望の位置で物体を保持及び/又は支持するための装置に関する。
本願は、2011年6月20日に出願された米国仮出願第61/498,935号、及び2012年6月19日に出願された米国出願第13/527,206号に基づく優先権を主張し、それらをここに援用する。
ある物を別の物に保持する必要性は産業における至る所(ubiquitous)に存在する。例えば、ワークピースを確実かつ正確に保持できない場合、ワークピース上で又はワークピースに対して正確かつ精確に動作を実行することは一般的に極めて難しく又は不可能である。ロボット工学は、ワークピースに対してツールや他のプロセス器具を保持する能力、器具に対してワークピースを保持する能力、又はその両方に、広く依存している。保持装置に対するそうした要求は、精密システムにおいて特に大きい。
すべての構成要素部品及び機器について高い性能を求められる精密システムの一例はマイクロリソグラフィシステムである。
マイクロリソグラフィでは最近までマイクロサーキット及びそれに関するデバイスの製造を主に目指していたものの、一方で、液晶ディスプレイのような大型パネルディスプレイの製造のためのツールも重要である。表示素子(ピクセル)の所望のパターンをインプリントするために、プレートホルダ(PH)と呼ばれる大型プレートに基板パネルが支持される。PH(プレートホルダ)はプレートテーブル(PT)に支持される。基板パネルの表面にパターンをインプリントする際に、様々な位置に配置可能な移動ステージとしてPT(プレートテーブル)は機能する。基板パネルを保持する大型チャックとしてPHは機能する。PT及びPHは非常に大型及び重厚になり得る。PHは、不支持や支持不良部分に基づく重大なたわみや他の表面変形が無く、基板が配置されるその表面が平面のままとなるように支持されるのが望ましい。
現在、所定の箇所でPHとPTの間に置かれるボルトを用いて、PHがPT上に支持されている。PHのフラットネスの調整のために、従来より、PTとPHの間にシムが挿入されている。この調整は、製造時、据え付け時、及び他の必要な時に実行される。あいにく、アタッチメントによるこの方法は、実質的に手作業を必要とし、また、それを行うのに多大な時間を必要とする。また、PH及びPTが通常は異なる材料から製造されるという事実を鑑みると、この取り付け及び調整スキームもまた熱ストレスを解消させるものではなく、もしろPH内に蓄積され、反りや他の変形の要因となり得る。ボルトは一般的に垂直方向における剛性が極めて高く、特にボルトが締められると、ボルトによって接触された接続は両方の水平方向において極めて高い剛性となる。こうした極めて高い剛性値においては、例えば、熱膨張が生じるPHでの有意な解消を見込めない。最後に、こうしたボルト及びシムを用いる方法は、PTに対する、マイクロメートルレンジでのPHの安定性をもたらすものの、それは非常に調整が難しい。
したがって、第2マス(第2質量物)(例えば、PH又はその類似機器)に対して第1マス(第1質量物)を保持するための従来の装置及び方法(例えば、PH又はその類似機器)においては、垂直方向及び一水平方向の剛性、他の水平方向における柔軟性、負荷に対する強度と安定性、調整の容易性、保持された物体の高さ及び角度の調整の正確性、及び、3D空間における保持された物体の位置を変化させることが可能な移動体又はアクチュエータとの結合に使用可能であること、についてその組み合わせのニーズに対応していない。
上述した必要性は、オーバラップ領域で互いに交互配置されたマルチプルブレードの第1及び第2セットによって互いに移動可能に接続された第1及び第2部分を含む保持装置によって提供され、ここにそれを記述する。
オーバラップ領域が圧縮されるとき、第1及び第2セットの互いの相対的な動きが抑制されて、装置に、第1及び第2直交方向において比較的剛性を与え、第3直交方向において比較的柔軟性を与える。例えば、装置は、第2マスに対して第1マスを支持して配され、(オーバラップ領域が圧縮されるとき)鉛直方向(z方向)及びx又はy方向又はx及びy方向の組み合わせにおいて、比較的に剛な支持を提供し、残りのx又はy方向又はx及びy方向の組み合わせにおいて比較的に柔軟な支持を提供する。この比較的柔軟さは、例えば、第2マスに対して第1マスを支持する装置において、第2マスに対する第1マスの熱膨張を許容するのに利用可能である。
オーバラップ領域の圧縮(例えば、クランプを用いる)は、通常、オーバラップ領域に大きな摩擦力を生む。圧縮しないとき又はわずかな圧縮の場合、オーバラップ領域では、交互配置されたブレードのセットにおける互いの位置的及び/又は角度の調整が可能である。オーバラップ領域を圧縮することは、オーバラップ領域における板間に大きな摩擦力を生じさせて、部分の間の互いの変位に対する抵抗を増大させ、2方向(例えば、x及びz方向)における比較的高剛性と、残りの方向(例えば、y方向)における比較的低剛性とを与える。
オーバラップ領域の圧縮のタイミングは、アクチュエータ又は移動体の動作に協調させることができる。例えば、少なくとも1つの保持装置及び少なくとも1つの移動体を、第1マス及び第2マスの間に配置できる。オーバラップ領域での圧縮が作用していないとき、移動体は第2マスに対して第1マスを移動させ、また、移動体が動作していないとき、オーバラップ領域に圧縮が作用する。よって、保持装置は、移動体によって確立した第1マスの位置を保持するのに使用できる。
本発明の特徴部分及び利点は、添付の図を参照した、以下の詳しい説明から容易に明らかになるだろう。
図1Aは、一実施形態にかかる保持装置の正面図である。 図1Bは、図1Aの保持装置の等角図である。 図2は、移動体を有する保持装置の模式図であり、保持装置及び移動体が制御可能に作動し、保持装置が移動体によって変位したマスの位置を保持する。 図3は、保持装置の第2実施形態の正面図である。 図4Aは、オーバラップ領域に圧縮を作用させるのに使用されるC型クランプを備える保持装置の一実施形態の模式図である。 図4Bは、固定されたシート及び対向するアクチュエータを有する、クランプを備える保持装置の一実施形態の模式図である。 図4Cは、圧電又は類似したクランプを備える保持装置の一実施形態の模式図である。 図4Dは、フローティングクランプを備える保持装置の一実施形態の模式図である。 図5は、図3に示す保持装置の斜視図である。 図6は、保持装置及び移動体(反重力装置)を備える構成の一実施形態の模式図であり、移動体及び保持装置は協働するよう接続される。 図7は、例えば、固定されたリジットな中央サポートに対する、径方向における制限を減少させるように配置された4つの保持装置を備える構成の一実施形態の模式図である。 図8は、下方マスにおける凹みに配置された保持装置の模式図であり、下方マスに対して上方マスを保持している。 図9Aは、比較的長く幅の広いブレードを有する保持装置の一実施形態の直交図である。 図9Bは、比較的長く幅の広いブレードを有する保持装置の一実施形態の直交図である。 図10は、薄く、フレキシブルなブレードを有する保持装置の一実施形態の正面図である。 図11は、圧縮というよりはテンションがかかった状態の保持装置の模式図である。 図12は、保持装置と協調して使用可能なリングスタック型ニューマチックアクチュエータの一実施形態の正面図である。 図13は、図12のアクチュエータの斜視図である。 図14は、図12のアクチュエータの斜視断面図であり、内側及び外側リングの詳細を示す。 図15は、リングスタック型アクチュエータ及び保持装置の機器の正面図である。 図16は、ここで開示された、少なくとも1つの保持装置を含むステージ装置を備えた、一例の精密システムとしてのマイクロリソグラフィシステムの模式図である。 図17は、露光ステップを含む、半導体デバイスを製造するための一例のプロセスのフローチャートである。 図18は、図17におけるステップ904のフローチャートであり、半導体デバイスの製造に適用可能である。
本発明を以下、例示する複数の実施形態の記述の中で説明する、ただし、それにより何かを限定する意図はない。
図は、構成の一般的な様態を描くことを意図し、必ずしも縮尺に沿わない。詳しい説明及び図において、特定の例を示すとともに詳しく説明する。図及び詳しい説明について、開示された特定の形に本発明を限定する意図は無く、単なる例示であり、クレームされた本発明をどのように作り及び/又は使うのかを当業者に教示する意図を有する、ということは理解されるだろう。
本願及びクレームに使用されるような、単数の形式の「a」「an」及び「the」は、コンテキストによる明示がなければ、複数の形式を含む。追加的に、用語の「includes(含む)」は「comprises(含む、備える)」を意味する。さらに、用語の「coupled(接続された、つながった)」は機械的及び実際的な方法でものをつないだりリンクしたりすることを含み、つながったものの間の中間の要素の存在を排除するものではない。
ここで説明されるもの及び方法は何ら限定されない、として解釈されるべきである。むしろ、本開示は、多様に開示された実施形態それ自体及び他との様々な組み合わせ及びサブ的な組み合わせのすべての新規及び非自明な特徴及び態様に関する。開示されたもの及び方法は、特定の態様又は技術又は組み合わせに限定されず、また、開示されたもの及び方法が1つ以上の特定の利点があること又は特定の課題が解決されることを要求するものでもない。
開示された方法におけるいくつかの操作は、表現の都合上、特に連続的な順で記述されるが、以下では、特定の言語で特定の順が定められていない限り、再配置を含む記述方法であると理解すべきである。例えば、連続的に記述されたオペレーションはいくつかのケースにおいて再配置又は同時に実行可能である。さらに、簡単のため、添付の図面は、開示されたもの及び方法が他のもの及び方法と結びついて使用可能な様々な方法について示していないかもしれない。追加的に、説明はしばしば、開示された方法を説明するために、用語の「製造する(produce)」及び「提供する(provide)」を使用する。こうした用語は、実行される実際のオペレーションの高レベルの抽象である。これらの用語に対応する実際のオペレーションは、特定の実施に応じて変化するとともに、本技術の当業者によれば速やかに認識可能である。
以下の説明において、「上(up)」、「下(down)」、「上の(upper)」、「下の(lower)」、「水平の(horizontal)」、「鉛直の(vertical)、「左の(left)」、「右の(right)」などの用語が使用される。これらの用語は、相対関係を扱う際に、その説明をある程度明確にするものである。しかし、これらの用語について、関係、位置、及び/又は方向性について絶対的なものを示す意図はない。例えば、ある対象物に関し、その対象物を単にひっくり返すことで「上」面は「下」面となり得る。しかしながらその対象物(object)は同じである。
上述したように、第2マス(例えば、PT又は類似部品)に対する第1マスの保持又は支持のための、従来の装置及び方法(例えば、PH又は類似部品)は次のような課題に対応していない:(a)第1直交次元(例えば、鉛直又はz方向)における高剛性、(b)第1方向に垂直な第2直交次元(例えば、x方向)における高剛性、(c)第1及び第2次元に垂直な第3直交次元(例えば、y方向)における柔軟性、(d)少なくとも第1次元における調整能力、及び(e)少なくとも第1次元における厳密な位置精度(例えば、マイクロメータレンジ)を保持すること。以下に説明するように、本発明にかかる保持装置によってこうした特徴が提供され、第1次元は、それに沿って主装置が第2マスに対して第1マスを保持又は支持する方向とすることができる。特に、装置が保持とともに支持にも使用される場合、第1次元は重力の方向と平行なz方向である。装置は、圧縮と同様にテンションにおいても使用可能である。
図1A及び1Bに、マルチブレード保持装置100の一般的な構成を示す。装置100は、第1部分101と第2部分103とを含む。第1部分101はマルチプルブレード106のセットを含み、第2部分103はマルチプルブレード108のセットを含む。ブレード106、108の端部は互いに交互配置され(互いにかみあい)、ブレードオーバラップ領域120を形成する。よって、第1及び第2部分は交互配置のブレードを介して互いに接続される。第1部分101のブレード106は互いに分かれており、第2部分のブレード108がそれらにかみあうようになっている。装置100を使って三次元空間における所望の位置で物体(又は物体の部分)を保持する場合には、概ね図1Bのハッチングで示した範囲122において、ブレードオーバラップ領域120に圧縮(クランピング)力が付与される。クランプ力126が存在しない又は実質的に減少している場合、第1部分101及び/又は第2部分103が他の部分に対して変位しているかもしれない(例えば、ピボット124及び/又は−Z方向への移動)。こうした変位は、十分なクランプ力126をブレードオーバラップ領域120に付与することで防止される。
ブレード106,108は、第2部分103に対する第1部分101の位置の変化、及び/又は第1部分101に対する第2部分103の位置の変化を許容する。多くの実施形態において(例えば、図1A及び図1B)、ブレード106,108は、互いに平行であり、幅に比べて大きい長さを有し、厚み寸法(図1Bにおけるx方向)が比較的薄い。(いくつかの応用において、長さと幅を実質的に同等にできる。)第1部分101のブレードは、第2部分103のブレードと同じ形状及び/又は厚さを有する必要はない。ブレード106,108は、実質的に互いに平行であり、多くの応用において、それらは実質的に平面状である。しかし、ブレードの平面性は必ずしも必要ではない。
説明したように、オーバラップ領域120における圧縮は、装置100の第1及び/又は第2部分101,103の相対的な動きを防ぎ、装置に保持又は支持される対象物の、対応する動きを防ぐ。圧縮されていないオーバラップ領域120は、第1及び第2部分101,103の相対的な動きを許容し、それは装置に保持された対象物の位置の変化を許す。オーバラップ領域120のその後の圧縮は、第1及び第2部分101,103(及び対象物)を新たな位置でホールドする。圧縮は概ね、オーバラップ領域122において、ブレードの平面に直角な方向に作用する。
各部分101,103において、それぞれギャップ130,132によってブレードが分かれている。ギャップの幅は、交互配置されるブレードの厚さと等しいのが望ましく、あるいは交互配置されるブレードの厚さに比べてわずかに薄い又はわずかに厚く形成できる。そして、ギャップは、ブレード106,108の交互配置と、オーバラップ領域120が圧縮されていないときの装置部分101,103の変位を容易にする。少なくとも第1次元における装置100の「調節機能」は以下を含む、例えば、オーバラップ領域120での圧縮を無くし又は少なくとも減じた上で、選択された第1位置に第1部分を配置し、その後に圧縮をオーバラップ領域120に付与して第1位置を「ホールド」し、その後に第2部分103に対して選択された第2位置に第1部分101を位置決めする間に、オーバラップ領域での圧縮を無くす又は少なくとも減じ、その後にオーバラップ領域120に圧縮を付与して第2位置をホールドする。後述するように、装置100は、オーバラップ領域120が圧縮されていないときに、対象物の位置を変更する(そして対象物を支持する装置の第1及び第2部分101,103の相対位置を変更する)操作が可能な移動体又はアクチュエータに特に適応される。要求又は必要性があれば、移動体又はアクチュエータは、装置と協働して対象物の保持に貢献できる。
構成の一例を図2に示しており、第1マスM1、及び第1マスの下に置かれた第2マスM2が示される。第1及び第2マスの間に、マルチブレード保持装置150及びアクチュエータ152がある。保持装置150は、圧縮装置156を用いて選択的に圧縮及び非圧縮されるオーバラップ領域154を備える。アクチュエータ152及び圧縮装置156は、コントローラ158に接続され、その制御により動作可能である。図示された第1位置P1から第2位置P2に第1マスを移動させるために、オーバラップ領域154の圧縮を減じる又は除去するよう圧縮装置156にコントローラ158が指示し、アクチュエータ152(コントローラ158から指示されることで)が第1マスM1を新たな位置P2に移動させることが可能である。第1マスM1が新たな位置P2に到達すると、コントローラ158は、位置をホールド又は止めるようアクチュエータ152に指示しながら、保持装置のオーバラップ領域154に再び圧縮を付与するように圧縮装置156に指示する。保持装置150は、その後に第1マスM1を第2位置P2で保持し続けることができる。第1マスM1を位置P1に戻すには、コントローラ158は、オーバラップ領域154に付与される圧縮を減じるよう圧縮装置156に指示し、第1マスM1を位置P1まで下げるようアクチュエータ152に指示し、その後にオーバラップ領域154に圧縮を再び付与するよう圧縮装置156に指示する。アクチュエータ152は、その後に停止可能である、又は位置P1で第1マスを保持するよう指示される。ここで、アクチュエータ152は、マスM1,M2をさらに離すよう移動させるアクチュエータに限定されない。アクチュエータ152は、例えば、2つ又は複数の方向に対応可能である。
保持装置150を、少なくとも1つのアクチュエータ152、及び、保持装置150のための少なくとも1つの圧縮装置156に組み込み、協働して使用することが可能であることは以下の説明により理解されるだろう。こうした組み合わせは、効率的な、空間性や制御性のために構成可能である。空間的な効率性は、例えば、保持装置150をアクチュエータ152の内部に置くことで達成可能である(こうした構成の実施形態について後述する)。制御的な効率性は、例えば、アクチュエータ152及び圧縮装置156をコントローラ158等に接続し、アクチュエータ152及び圧縮装置156に選択的にコマンドを送り、保持装置150のオーバハング領域154に所望の圧縮力を発生させる、ことにより達成される。
マルチプル保持装置150は、第2マス(例えば上)に対して第1マスをすべて又は部分的に支持するのに用いることができる。こうした目的のために、保持装置のグループは、第1マスと第2マスの間に置くことができ、また、第2マスに対する第1マスの各部分の位置の変更(例えば上昇及び下降)のために、1以上のアクチュエータと協働して用いることができる。第2マスに対して第1マスの各部分の位置をアクチュエータが変更する際、保持装置のオーバラップ領域は、圧縮されない、又は最小限の圧縮状態である。(オーバラップ領域が圧縮された保持装置は、ここでは「クランプ」装置として参照される。)第1マスをシフトした後にアクチュエータを停止する前に、第2マスに対して新たな位置で第1マスを集合的に保持するために保持装置がクランプされる。こうした構成において、各装置はそれぞれ、図2に示したような、アクチュエータと関連付けられた状態にできる。
保持装置は、第1及び第2マスの間ですべてが同じ方向性を持つ必要はない。非排他的な一例において、第2マスに対する第1マスの径方向の熱膨張及び収縮に対応し、圧縮軸が径方向に配列されるように、装置を構成できる。代替的に、径方向の各ラインに沿って、自由度のある軸がそれぞれ方向付けられるように、装置を構成できる。(自由度のある軸は、保持装置がそれに沿って剛性があるというよりはむしろフレキシブルである軸(x又はy)である。)
ブレードオーバラップ領域の圧縮は、ボルトやネジシャフトのような様々な手動の手段によって達成可能であり、オーバラップ領域に対してシャフトのボルトやナットを締めることでオーバラップ領域の圧縮が増大する。望ましくは、保持装置は、制御された方法(例えば、電子コントローラからのコマンドに基づく)でオーバラップ領域に対して圧縮を付与したり圧縮を除去したりする圧縮装置を用いて使用可能である。圧縮装置におけるこうした制御動作は、上述したように、少なくとも1つのアクチュエータの制御動作に合わせることができる。
オーバラップ領域において、クランプされたブレードはブレード間の摩擦が生じることとなり、その結果、装置は、ブレードの軸(長軸)剛性によって第1直交次元(例えばz方向)で比較的高い剛性となり、幅次元におけるブレードの横剛性によって第2直交次元(例えばx又はy方向)で比較的高い剛性となり、しかし、厚さ次元におけるブレードの柔軟性によって第3直交次元(例えば残りのx又はy方向)で比較的フレキシブルとなる。そして、クランプされた保持装置は、大きなマス(質量物)を保持することが可能となる。
少なくともレンジにわたって、オーバラップ領域に付与される圧縮の度合が増すと、オーバラップ領域におけるブレード間の摩擦が増し、第2部分に対する第1部分の変位への抵抗、及び/又は第1部分に対する第2部分の変位への抵抗が増す。
オーバラップ領域の圧縮は、手動又は自動にできる。手動圧縮は、例えば、手動で動作するクランプ(例えば、C−クランプ)を用いることで達成可能である。自動圧縮装置の一例は、電気的アクチュエータクランプであり、又はソレノイドのような部品を含む他の圧縮である。自動圧縮装置は、例えば、部品が電気的に接続される電子コントローラを用いて制御可能であり、ソフトウェアプログラム、タイミングスイッチ、又は他の適切な手段に従って部品が動作する。制御された動作は、自動的なタイミング及び度合での圧縮を含むことができ、それは、装置に保持されたマスを動かすために用いられる1以上のアクチュエータの自動オペレーションに合わせてマルチプル装置の自動圧縮を行う際の重要なユーティリティとなり得る。
第2マスに対して第1マスを支持するためにマルチプル装置を使用する状態において、マスの間でそれら複数の装置は異なる位置に置かれているものの、複数の装置はそれぞれの第1次元が実質的に互いに平行になるように並ぶ。例えば、x、y、及びzのすべての方向で並んだ状態で、マルチプル装置が、第1及び第2マスの間に位置することができる。しかし、いくつかの適用において、こうした並びは不要である。非排他的な一例において、装置のそれぞれの第3の次元が径方向を向くように、第1及び第2マスの間に装置が置かれる。こうした方法で装置のフレキシブルな第3の次元を方向付けることによって、複数の装置は第2マスに対する第1マスの熱膨張及び熱収縮を集合的に許容する。
支持方向における装置の調節機能は、選択された第1支持位置を設定し、その第1支持位置から解放され、選択された第2支持位置を設定するという、装置の能力を含む。
保持装置10の第2の代表的な実施形態を図3に示す。装置10は、第1部分11と第2部分13とを含む。第1部分11は、第1搭載部材12に取り付けられ、第2部分13は、第2搭載部材14に取り付けられる。第1部分はマルチプルパラレルブレード16のセットを含み、第2部分はマルチプルパラレルブレード18のセットを含む。第1及び第2搭載部材12,14の間の位置において、ブレードオーバラップ領域20で、ブレード16,18が交互配置される(互いにかみあう)。本実施形態において、それぞれシム22によって、第1部分11のブレード16が互いに分かれている。同様に、それぞれシム24によって、第2部分13のブレード18が互いに分かれている。圧縮(クランピング)力は、ブレードオーバラップ領域20に作用可能である。クランプ力が十分に減少している場合、第1部分11及び/又は第2部分13が他の部分に対してシフトできる(例えば、ピボット移動)。ブレードオーバラップ領域20を圧縮することはこうした動きを防ぐ。
本実施形態における搭載部材12,14は、部分11,13のブレードのための土台をそれぞれ提供する。搭載部材12,14はまた、マスに対して装置10の土台設備を提供する。
ブレード16はそれぞれ厚さを有しており、それはブレード18の厚さと等しい必要はない。シム22の厚さはブレード18の厚さと標準的に関連し、シム24の厚さはブレード16の厚さと標準的に関連する。この厚さの調和は、ブレード16,18が反りなく交互配置されることを可能とし、ブレードオーバラップ領域20の不要なゆがみを防止する。本実施形態における、ブレードオーバラップ領域20を含み、ブレード16,18の平行性によってゆがみが無い状態を図3に示す。ブレード16の個の厚さは、ブレード18の個の厚さと等しい必要はない。例えば、1セット16のブレードが、他のセット18のブレードに比べて薄い場合、シム24はシム22に比べて標準的に薄く、その逆も同じである。代替的に、ブレードがクランプされていないときでもブレード18と16の間に隙間を形成するために、シム24をブレード18及び16に比べてわずかに薄く形成でき、これにより、クランプされていないときの交互配置されたブレード間の摩擦が減少する。
ブレードオーバラップ領域20において、16、18の端部は互いに互いにかみあっている(交互配置されている)。ブレードオーバラップ領域20の垂直寸法は、領域20におけるブレード16,18のオーバラップ度合の要素である。ブレードオーバラップ領域20の垂直寸法を増大することは、第2部分13に対する下方への第1部分11の変位、又は第1部分11に対する上方への第2部分13の変位により達成可能である。同様に、ブレードオーバラップ領域20の垂直寸法を減少することは、第2部分13に対する上方への第1部分11の変位、又は第1部分11に対する下方への第2部分13の変位により達成可能である。
各ブレードは比較的薄いことから、ブレード長さに対するブレード厚さの比率を小さくでき、よって、マスの保持に装置が使用される場合でも、各ブレード上のストレスを降伏点未満に減じることができる。また、各ブレードは比較的薄いことから、z方向及び接線方向の剛性に比べて、比較的小さいラジアル剛性を有する。マルチプル(複数)のブレードを採用することで、z方向におけるそれらの剛性が、高く集合的なz剛性を降伏させるための、追加的なものとなる。
ブレードオーバラップ領域20をクランプすることは、様々なクランプ装置を用いることで達成可能であり、例えば、ニューマチッククランプ、ハイドローリッククランプ、メカニカルクランプ、エレクトロメカニカルクランプ、及び圧電クランプなどであるが、これらに限定されない。これらのクランプ装置は、自動動作、又はコマンド操作、又は手動動作するように、接続可能である。図4Aを参照し、オーバラップ領域20でのブレードをクランプするためのCクランプ30を使用した装置10を示す。Cクランプ30は、オーバラップ領域20の一方の側に位置する第1シート32と、オーバラップ領域の他側に配される第2シート34とを含む。第2シート34は、アクチュエータ38を使用して駆動されるアクチュエータロッド36の端部に搭載される。第1シート32は、C形部材42の1つのアーム40に搭載され、アクチュエータ38の近接端部44は、C形部材42の他のアーム46に搭載される。アクチュエータ38として、例えば、ニューマチック、ハイドローリック、メカニカル(例えば、スクリュードライブ)、エレクトロメカニカル、又は圧電のアクチュエータが可能である。アクチュエータは、アクチュエータが駆動された際にクランプ装置に近づくように構成可能である、あるいは、アクチュエータが駆動された際にアクチュエータ38がクランプ装置を開き、アクチュエータが非駆動の際にクランプ装置が閉じたままとなるように、スプリング負荷を備えた構成が可能である。後者の構成は、意図しない電源障害又は圧力供給障害の際にクランプ装置が閉じたままとなるという状況において望ましい。
図4Bに示す代替的な構成において、Cクランプ30が、単に、第1シート32、第2シート34、アクチュエータロッド36、及びアクチュエータ38に置き換えられている。図4Cに示す別の代替的な構成において、第1及び第2シート32,36と協働するように圧電アクチュエータ50が用いられている。図4Dに示すように、さらに別の代替的な構成において、第1アクチュエータ60及び第2アクチュエータ62の側面にブレードオーバラップ領域20が挟まれている。アクチュエータ60,62は、ベース構造64に対してフローティング状態にアクチュエータを効率的に配置する追従部材66,68を、それぞれ介してベース構造64に搭載されている。フローティングアクチュエータは、オーバラップ領域20に作用するそれぞれのクランプ力が実質的にバランスするのを助ける。
第1及び第2搭載部材12,14は、それぞれのマスに対して取り付け可能である。図5を参照すると、第1及び第2搭載部材12,14は、搭載用穴を介して搭載部材を垂直方向に延びて貫通するボルト12b,14bによってそれぞれマス(不図示)に搭載可能である。しかしながら、この目的でのボルトの使用は、単なる例示であり、対応するマスに対して搭載メンバーをアンカーするために、様々な他の取り付け方法を使用可能であることは理解されるだろう。
所望又は要求される場合、搭載メンバー12の上面13及び/又は搭載メンバー14の下面15は、例えば、所望の程度のフラットネス又は他の面プロファイルとなるように、加工可能である。
いくつかの応用において、装置10は、搭載されるマスを実際に支持する必要はない。例えば、図6は、2つのマスM1,M2の間に装置10が置かれた構成を示す。搭載部材12は第1マスM1に取り付けられ、搭載部材14は第2マスM2に取り付けられる。本実施形態において、少なくとも第1マスM1及び第1搭載部材12は、搭載部材12,14の間に配置されたアクチュエータ又は移動体70,72によって、重力「g」に関して、少なくとも部分的に、支持される。クランプ装置74が駆動されていないためにオーバラップ領域20がクランプされていない場合でも、装置10の垂直下向きの崩壊をアクチュエータ70,72が防ぐ。特に、搭載部材12,14が第1及び第2マスM1,M2にそれぞれ取り付けられた場合には、搭載部材12,14の間というよりは、第1及び第2マスM1,M2の間を伸長するようにアクチュエータ70,72を配置できることは理解されるだろう。
図6に示す実施形態も実質的な自動システムの一例であり、アクチュエータ70,72の駆動に伴って、装置10がクランプ装置74による非クランプ状態となり、また、アクチュエータ70,72の駆動解除に伴って、装置10がクランプ装置74によってクランプされた状態となる。これらの動作は、距離計測装置(例えば、干渉計)78からの距離データを受信するプロセッサ76によって調整できる。その結果、例えば、マスM1の上面のフラットネスパラメータを、自動的にモニター及び維持することができる。例えば、距離「d」を定期的に計測及び修正することができる。
図6に関してさらに、マスM2に対するマスM1の変位をアクチュエータ70,72が過剰に拘束するのを防ぐために、搭載部材12,14又はマスM1,M2に対するアクチュエータ70,72の接続にフレクシャ71等が含まれるようにできる。
装置10の主要な利点は、Z方向及び一垂直方向における高い剛性と、他の垂直方向における追従性である。例えば、図5において、装置10はz方向及びx方向において高剛性を、y方向において比較的低剛性(すなわち、比較的フレキシブル)を発揮することができる。よって、装置10は、第2マスM2に対する第1マスM1のキネマティック搭載を提供する組み合わせで、使用可能である。図7Aに示す一例において、第1及び第2マスM1,M2は鉛直方向に互いに分かれている。第2マスM2の上面90には、4つの装置10A−10Dと、中央位置にリジッドサポートとが搭載されている。各装置10A−10Dは、表面90の各コーナに搭載されている。リジッドサポート15が搭載されているその位置を通るように、また、装置10A,10C及び10B,10Dが搭載されている各コーナにおいてその位置を通るように、面90上に対角線92,94(破線)が描かれている。コーナの装置10A−10Dは、それらのフレキシブルな方向がそれぞれ対角線92,94と揃うように搭載される。リジッドサポート15は、代替的な実施形態での要求に応じて、フレキシブルな方向に関する様々な方向を有する、ここで開示した実施形態に基づく保持装置と置き換えることができる。図7に示す構成は、第1マスM1を保持するのに加えて、特に、径方向でのマスM2の中心からの、マスM2に対するマスM1の熱膨張に対応するという利点を有する。すなわち、装置10A−10Dの柔軟性はそれぞれ、中心サポート15の位置に対するマスM1の径方向の膨張又は収縮に対して適応する。また、装置10A−10Dの柔軟性はそれぞれ、第1及び第2マスの間の平行性が不足となるのを取り除く。そうでなければ、例えば、2つのマスが一緒に強固に接続されていたとすると、第2マスM2に対して第1マスM1がゆがむ。
図7における装置10A−10Dの代表的な長さは約100mmであるが、これに限定する意図はない。マスM1とマスM2の間の距離が装置の長さと同じになるのを防ぐために、図8に示すように、それぞれの装置を第2マスM2の上面90の窪みに搭載可能である。
別の主要な利点は、周りの機構で指示される位置ですぐに装置10がクランプ及びアンクランプされることである。クランプされていないとき、装置10は、互いに相対的なマスM1,M2の位置変化にすぐに対応する。クランプされているとき、長期使用の後であっても、装置10は位置と向きを維持する。
装置10において、ブレードの数は限定されない。わずか3つのブレードでブレードの交互の噛み合いを提供できることから、好ましい数は少なくとも3のブレードである。わずか2つのブレードを有することも可能であるが、こうした構成は推奨されない。ブレードの最大の数については確立されたものはない。
ブレードは、様々な金属を含む、適切な硬質材料で作成でき、ポリマー、セラミックス、ファイバーガラスなどの他の様々な硬質材料も挙げられる。ブレードは条件に応じて被膜又は非被膜状態にできる。例えば、クランプされていない装置をより容易に調整するために、ブレードオーバラップ領域におけるブレードの一部を、摩擦低減物質でコートできる。上述したように、オーバラップ領域における摩擦は総合的に極めて大きく、ブレードの数や外形を低減することなく摩擦を低減するのが望ましいという状況があるかもしれない。
ここで開示した装置10における別の重要な利点は、ブレードがクランプされていないとき、2つの搭載部材の間の先端角度及び/又は傾斜角度に対応するように、それらを互いにスリップ可能であることである。その様子を図9A及び図9Bに示す。図10に進み、平行で、薄く、フレキシブルなブレードが一水平方向における低剛性を提供している。これはその方向でのマスの間の相対移動を許容する。これは例えば、あるマスの熱膨張が他のマスに対して異なることに対応するのに使用可能である。
装置10において、第1搭載部材12に取り付けられたブレード16は、第2搭載部材14に取り付けられたブレード18と同じ長さである必要はない。また、第1搭載部材12に取り付けられたブレード16は、第2搭載部材14に取り付けられたブレード18と同じ厚さである必要はない。ブレードの厚さは、しかし、シム22,24の厚さに影響する。
シム22,24は、対応するブレードと、正確に同じ厚みを有する必要はない。例えば、オーバラップ領域20における過度の摩擦を避ける上で、対応するブレードに比べてわずかにシムを厚くすることは有利かもしれない。
上述したことから明らかなように、装置10は、負荷の少なくとも一部を負うような状況で使用することができる。代替的に、テンション下で装置を使用することができる。図11に示す一例において、第1マスM1は静止状態にあり、第2マスM2は第1マスに対して変位可能である。すなわち、重力が第2マス上にかかり、第1マス上にかからない。
装置の、大きいあるいは小さいといった、サイズに制限はない。それらはスケールアップ又はスケールダウン可能であり、実質的にどんな状況であってもそれに対応するサイズにできる。
ここで開示したような装置の利点の要約は以下である。
(a)装置は、4自由度(DOF)まで容易に調整可能であり、クランプされていないときは追加の2つのDOFにおいても移動可能である。
(b)装置は、比較的低いクランプ力でクランプされたときにも、高い滑り摩擦を示す。
(c)装置は、クランプ中、位置又は角度についてわずかなシフト又はシフト無しを示す。
(d)複数の平行なフレクシャブレードは、接続されたマスの間での良好な拘束のために、鉛直方向及び一垂直(水平)方向に高い剛性を提供する。
(e)他の水平方向における剛性は低く、これは例えば、過度な拘束の無いマス間における、異なる熱膨張を許容する。
(実施例)
本実施例は、以下の形態的パラメータを有する装置に関する。
ブレードの数:20
ブレード厚さ:0.25mm
ブレード長さ:15mm
ブレード幅 :60mm
取得データ:
kz = 1.9×109 N/m
kradial = 5.3×105 N/m
ktangent = 6.7×108 N/m
σmax = 31.6 MPa
ここで、
及び
再び図6を参照すると、アクチュエータ70,72によって第1マスM1は第2マスM2に対して移動する。図6において、アクチュエータ70,72は、第2マスM2に対して第1M1を移動させるために、装置10に対して左右対称で反重力を作用させる。別の実施形態において、装置10を、アクチュエータの内部に配することが可能であり、又はアクチュエータ装置に囲まれるように配することが可能である。
例えば、特定の応用において、アクチュエータが、コンパクトで、ニューマチック作動であり、また、アクチュエータが、小さい変位レンジでの比較的低圧条件下で、高く、二方向の力を作用可能である、ことが要求される。例えば、大きなプレートのフラットネスを支持及び調整することは、400kPa未満のニューマチック圧(気圧)を用いて少なくとも1000Nを発揮可能であることをアクチュエータに要求するかもしれない。この目的を受けて、選択的な上昇及び下降動作を供給するための、平行にスタックされたニューマチックリングを有するアクチュエータを使用可能である。リングスタック型アクチュエータの利点は、アクチュエータと同軸に配された又はアクチュエータの内部に配置された装置10に対応可能であることである。
リングスタック型ニューマチックアクチュエータ300の一実施形態を図12−15に示す。アクチュエータ300は、外側エアリング304のスタックを有するステータ302と、対応する内側エアリング308のスタックを有するムーバ306と、を含む。エアリングのスタックは同軸である。各外側エアリング304はテーパ内側エッジを有し、各内側エアリング308は対応するテーパ外側エッジを有する。直径R及びRとする。各内側エアリング308は、相補的なテーパエッジを有する、対応する外側エアリング304と組み合わされる。よって、各ペアは内側エアリングと外側エアリングとからなる。軸方向におけるエアリングの各ペアの間は、それぞれ弾力性の環状シール310である。シール310は、対応する外側エアリングの間で外方に延在するための十分な径方向の幅を有する。環状のシール310は、内側及び外側エアリングの組み合わせの各テーパエッジの間の軸方向空間を形成する。軸方向空間305は、外側エアリング304における、上方を向くテーパエッジと、それに対応する内側エアリング308における、下方を向くテーパエッジとの間に位置し、外側エアリング内の導管を介して高ニューマチック圧のソース309に接続され、制御された圧力が与えられることで、ステータ302に対してムーバ306に上向きの力を与える。同様に、軸方向空間307は、外側エアリング304における、下方を向くテーパエッジと、それに対応する内側エアリング308における、上方を向くテーパエッジとの間に位置し、外側エアリング内の導管を介して高ニューマチック圧のソース311に接続され、制御された圧力が与えられることで、ステータ302に対してムーバ306に下向きの力を与える。ソース圧力をPとすると、ステータに対してムーバによって生成される力は以下である。
ここで、nは、「上」軸方向空間と、「下」軸方向空間の数である(ここでは、n=3)。アクチュエータ300の外側の詳細を図13に示す。図12では内側及び外側軸方向エンドキャップは示されていないが、図13及び図14において、内側及び外側エンドキャップ312,314の詳細が示されている。
この特殊なアクチュエータ300は、マルチブレード装置に適用するのに特に役に立つ内部チャンバ320を有し、それにより、アクチュエータ300とその上に搭載されたマルチブレード保持装置322との組み合わせ装置318が提供される。マルチブレード保持装置322は、搭載部材324A,324Bを含み、それにより装置322が第1マス及び第2マスに搭載される(不図示。ただし一例として図9を参照)マルチブレード保持装置322は、圧縮領域326を含む。組み合わせ装置318は、図2に概要的に示しかつ上述したような方法で動作可能である。
本開示は、ワークピース又は製造用の他のアイテムを保持するステージ等を含む様々な精密システムを含む。精密システムの一例は、半導体デバイスを製造するために使用される、マイクロリソグラフィシステム又は露光ツールである。ここで説明した本発明の特徴を備えた、マイクロリソグラフィシステム710の一例の模式的な描写を図16に示す。システム710は、システムフレーム712、照明システム714、像光学系716、レチクルステージ装置718、基板ステージ装置720、位置決めシステム722、及びシステムコントローラ724を備える。システム710の部品の構成は、集積回路のパターン(不図示)を、レチクル726から半導体ウエハ728上に移すのに特に有用である。システム710は、例えば、グラウンド、ベース、又はフロア又は他の指示構造などの、搭載ベース730に搭載される。システムはまた、改善された正確性及び精密性に基づき、軸(例えば、z軸又は光軸)に沿ってリソグラフィック基板(例としてワークピース)の位置を計測する計測システム722aを備える。システム710において、レチクルステージ装置及び/又は基板ステージ装置720は、代表的な上記実施形態において説明したマルチブレード保持装置を備える。
半導体デバイスを製造するプロセスの一例は、露光ステップを含み、図17に示される。ステップ901において、デバイスの機能及びパフォーマンス特性の設計が行われる。次に、ステップ902において、前の設計ステップに基づき、所望のパターンを有するマスク(レチクル)が設計され、それと並行するステップ903において、適切な半導体材料からウエハが作成される。ステップ904において、ここで説明した、本発明に対応したマイクロリソグラフィシステムによって、ステップ902で設計されたマスクパターンが、ステップ903からのウエハ上に露光される。ステップ905において、半導体デバイスが組み立てられる(ダイシング工程、ボンディング工程、及びパッケージング工程を含む)。最後に、ステップ906においてデバイスが検査される。
図18は、半導体デバイスを製造する場合の、上記ステップ904のフローチャートである。図18における、ステップ911(酸化工程)において、ウエハ表面が酸化される。ステップ912(CVD工程)において、ウエハ表面に絶縁膜が形成される。ステップ913(電極形成工程)において、蒸着によってウエハ上に電極が形成される。ステップ914(イオン打込み工程)において、ウエハにイオンが打ち込まれる。以上のステップ911〜914は、ウエハ処理におけるウエハのための前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択される。
ウエハ処理の各段階では、上記の前処理工程が完了すると、続いて後処理工程が実行される。後工程処理中において、初めに、ステップ915(フォトレジスト形成工程)において、ウエハ上にフォトレジストが塗布される。次に、ステップ916(露光工程)において、上述した露光装置を使用してマスク(レチクル)の回路パターンがウエハに転写される。その後、ステップ917(現像工程)において、露光されたウエハが現像され、ステップ918(エッチング工程)において、フォトレジストが残った部分以外の部分(露光された材料表面)がエッチングによって除去される。ステップ919(フォトレジスト除去工程)において、エッチング後に残っている不要なフォトレジストが除去される。マルチプル回路パターンは、これら前処理工程及び後処理工程の繰り返しによって形成される。
代表的な実施形態に基づき本発明を説明したが、本発明はそれらの実施形態に限定されないことをを理解すべきである。一方、本発明は、添付の請求の範囲に規定された、本発明の精神と範囲内にあるすべての代替、変形、及び等価物を含むものである。

Claims (6)

  1. 第1マスと、
    前記第1マスとは異なる第2マスと、
    前記第1マスに接続され、複数の第1ブレードを有する第1部品と、前記第2マスに接続され、前記第1ブレードに平行な複数の第2ブレードを有する第2部品と、を備え、前記第1マスと前記第2マスとの間に配置される保持装置と、
    前記第1及び第2ブレードが交互に配列され前記第1ブレードの一部が前記第2ブレードの一部と重なるオーバラップ領域に対して圧縮力を適用可能な圧縮装置と、
    前記第1及び第2マスの一方のマスに接続され、前記第1及び第2マスの一方のマス第1及び第2マスの他方のマスに対して相対移動させるアクチュエータと、
    を備え
    前記アクチュエータは、前記圧縮装置により前記オーバラップ領域が圧縮されたときに前記他方のマスに対する前記一方のマスの相対移動を抑制する、装置。
  2. 前記保持装置は、前記圧縮装置により前記オーバラップ領域が圧縮されると、第1方向及び前記第1方向に交差する第2方向に対して第1剛性を示し前記第1方向と前記第2方向とに交差し前記オーバラップ領域に前記圧縮力を付与する第3方向に対して第2剛性を示し、
    前記第1剛性は、前記第2剛性に比べて大きい、請求項1に記載の装置。
  3. 前記保持装置、前記圧縮装置、及び前記アクチュエータに接続されるコントローラをさらに備え、
    前記コントローラは、前記オーバラップ領域に対する前記圧縮装置による圧縮が低減されたときに前記一方のマスの前記他方のマスに対する相対移動を促進するように前記アクチュエータに指示し、前記オーバラップ領域に対する前記圧縮力が増加されたときに前記一方のマスの前記他方のマスに対する相対移動を抑制するように前記アクチュエータに指示する、請求項2に記載の装置。
  4. 前記アクチュエータは、リングスタック型のニューマチックアクチュエータを含む、請求項1に記載の装置。
  5. 第2マスに対して移動可能な第1マスと、
    前記第1及び第2マスの間で延在する少なくとも1つのカップリングと、
    前記第2マスに対して前記第1マスを移動させる少なくとも1つのアクチュエータと、
    前記アクチュエータによる前記第1マスの前記第2マスに対する相対移動を抑制するように、前記カップリングに対して力を与える圧縮装置と、を備え、
    各カップリングは前記第1及び第2マスにそれぞれ接続される第1及び第2部分を有する保持装置を含み、前記第1及び第2部分はオーバラップ領域で互いに交互配置されるマルチプルブレードの第1セット及び第2セットによって移動可能に互いに接続され、前記オーバラップ領域は前記圧縮装置により圧縮されたときに前記第1セット及び前記第2セットの互いの変位を抑制して第1及び第2方向における第1剛性と第3方向における第2剛性とを有する前記第1マスの部分の支持を提供し、前記第1剛性は前記第2剛性に比べて大きい、
    機器。
  6. 前記アクチュエータ及び前記圧縮装置に接続され、前記アクチュエータによる移動の際に第1力を与え、前記アクチュエータによる移動が無い際に第2力を与えるように、前記第1マスの移動と前記オーバラップ領域への力の適用を制御するコントローラをさらに備え、
    前記第1力に比べて前記第2力が大きい、請求項5に記載の機器。
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