JP6519242B2 - Conductive paste for laser processing and use thereof - Google Patents

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Description

本発明は、配線回路形成に優れたレーザー加工用導電性ペースト、およびそのレーザー加工用導電性ペーストを用いて得られる導電パターン付き積層体とその製造方法に関する。   The present invention relates to a conductive paste for laser processing excellent in forming a wiring circuit, a laminate with a conductive pattern obtained using the conductive paste for laser processing, and a method of manufacturing the same.

電子部品、電磁波シールド用の薄膜形成手段あるいは導電回路の形成手段として、エッチング法および印刷法が知られている。エッチング法は、金属被膜の一部をエッチング液で除去することで所望の形状の回路パターンを得る方法であるが、一般的に工程が煩雑、かつ別途、廃液処理が必要であるため、費用および環境への負荷がかかる問題がある。また、エッチング法によって形成された導電回路は、アルミニウムや銅など金属材料等で形成されたものであるため、折り曲げ等の物理的衝撃に対して弱いという問題がある。   An etching method and a printing method are known as an electronic component, a thin film forming means for shielding an electromagnetic wave, or a forming means of a conductive circuit. The etching method is a method of obtaining a circuit pattern of a desired shape by removing a part of the metal film with an etching solution, but generally the process is complicated and the waste liquid treatment is required separately, so cost and There is a problem that loads on the environment. In addition, since the conductive circuit formed by the etching method is formed of a metal material such as aluminum or copper, there is a problem that it is weak against physical impact such as bending.

そこで、これらの問題を解決してより安価に導電回路を形成するために、導電性ペーストが注目を集めている。導電性ペーストを印刷することにより、容易に導電回路を形成できる。さらに電子部品の小型軽量化、生産性の向上、低コスト化の実現が期待できるので、印刷可能な導電性インキについての研究開発が精力的になされ、多くの提案がなされている。   Then, in order to solve these problems and to form a conductive circuit more inexpensively, a conductive paste attracts attention. By printing a conductive paste, a conductive circuit can be easily formed. Further, since realization of downsizing and weight reduction of the electronic parts, improvement of productivity and cost reduction can be expected, research and development on printable conductive inks are energetically made, and many proposals have been made.

また、近年スマートフォン、タブレット型端末等の情報端末は、その大きさを維持したまま多機能化、およびディスプレイの高精細化が進んでいるが、これら性能をさらに向上させるためには、電子部品をさらに高密度に実装する必要がある。電子部品の高密度実装には、電子部品自体の小型化と、配線回路の微細化が求められている。
例えば、静電容量方式のタッチパネルでは、100μm以下の幅のライン/スペース(100μm以下/100μm以下)(以下、「L/S」と略記する)が普及しており、さらには、スマートフォン、およびタブレット型端末等の多機能化、ならびにディスプレイの高精細化により、L/Sが50μm/50μm以下が強く求められているが、印刷法では、更なる高精細化が難しかった。
Also, in recent years, information terminals such as smartphones and tablet-type terminals are becoming multifunctional and high definition of displays while maintaining their size, but in order to further improve these performances, electronic components should be used. Furthermore, it is necessary to mount at high density. For high-density mounting of electronic components, miniaturization of the electronic components themselves and miniaturization of wiring circuits are required.
For example, in a capacitive touch panel, lines / spaces of 100 μm or less (100 μm or less / 100 μm or less) (hereinafter abbreviated as “L / S”) are widely used, and further, smartphones and tablets Although L / S of 50 μm / 50 μm or less is strongly required due to multifunctionalization of mold terminals and the like and high definition of displays, in the printing method, it is difficult to further increase the definition.

そこでレーザー光照射により配線回路を形成するレーザー加工法(レーザーアブレーション法)の検討が行なわれている。レーザー加工法では、導電性ペーストを絶縁性基材上に形成し、その一部をレーザー光により絶縁性基材上から除去することにより、印刷法では困難なL/Sが50μm/50μm程度の高精細配線回路を形成できるが、市場からは、さらにL/Sが30μm/30μm以下の超高精細の配線回路が強く求められていた。
特許文献1には、レーザー照射でアブレーション加工(以下、レーザー加工という)を形成するための導電性ペーストとして、導電性微粒子、無機フィラー、および樹脂結着剤、ならびに界面活性剤、シランカップリング剤および有機金属化合物のいずれかを含む導電性ペーストが開示されている。
また、特許文献2には、数平均分子量が5,000〜60,000かつガラス転移温度が60〜100℃のバインダ樹脂、金属粉および有機溶剤を含む導電性ペーストが開示されている。
Then, examination of the laser processing method (laser ablation method) which forms a wiring circuit by laser beam irradiation is performed. In the laser processing method, the conductive paste is formed on the insulating base material, and a portion of the conductive paste is removed from the insulating base material by laser light, so that the L / S, which is difficult in the printing method, is about 50 μm / 50 μm. Although a high definition wiring circuit can be formed, the market strongly demands an ultra high definition wiring circuit having an L / S of 30 μm / 30 μm or less.
Patent Document 1 discloses conductive particles, an inorganic filler, a resin binder, a surfactant, and a silane coupling agent as a conductive paste for forming an ablation process (hereinafter referred to as laser process) by laser irradiation. And conductive pastes comprising any of the organometallic compounds are disclosed.
Patent Document 2 discloses a conductive paste containing a binder resin having a number average molecular weight of 5,000 to 60,000 and a glass transition temperature of 60 to 100 ° C., a metal powder, and an organic solvent.

特開2014−2992号公報JP, 2014-2992, A WO2014/013899号WO 2014/013899

従来の導電性ペーストは、導電性被膜のレーザー加工性が劣ると共に、レーザー照射条件の影響を受けやすく導電性回路パターンが寸断され(以下、線とびともいう)、微細な配線回路の安定形成が難しいという問題があった。
本発明は、各種印刷方式に対応し、レーザー加工工程により微細な電気回路形成に使用されるレーザー加工用導電性ペーストであって、レーザー加工性に優れたレーザー照射条件の影響を受け線とびしにくいレーザー加工用導電性ペーストを提供することを目的とする。
Conventional conductive pastes are inferior in laser processability of conductive films and are susceptible to laser irradiation conditions, and conductive circuit patterns are broken (hereinafter, also referred to as line skipping), and stable formation of fine wiring circuits is achieved. There was a problem of difficulty.
The present invention is a conductive paste for laser processing which is compatible with various printing methods and is used to form a fine electric circuit by a laser processing process, and is affected by the laser irradiation condition excellent in laser processability. It is an object of the present invention to provide a conductive paste for laser processing that is difficult to form.

本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、有機溶剤可溶性レーザー光吸収剤を用いることにより、前記課題を解決しうることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、バインダ樹脂、導電性粒子、有機溶剤、および前記有機溶剤に溶解し得る、有機溶剤可溶性レーザー光吸収剤を含む、レーザー加工用導電性ペーストに関する。
また、本発明は、シート状基材と、前記レーザー加工用導電性ペーストから形成してなる導電性被膜とを備えた導電性シートに関する。
さらに本発明は、前記導電性シート上の導電性被膜にレーザーを照射し、導電性被膜の一部を除去し、導電性回路を形成する、回路パターンの製造方法に関する。
さらにまた本発明は、前記レーザー加工用導電性ペーストから形成してなる導電性回路パターンを備えた電子機器に関する。
MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining this invention so that the said subject might be solved, the present inventors discover that the said subject can be solved by using an organic solvent soluble laser beam absorber, and came to complete this invention.
That is, the present invention relates to a conductive paste for laser processing, which comprises a binder resin, conductive particles, an organic solvent, and an organic solvent-soluble laser light absorber which can be dissolved in the organic solvent.
The present invention also relates to a conductive sheet provided with a sheet-like substrate and a conductive film formed from the conductive paste for laser processing.
Furthermore, the present invention relates to a method for producing a circuit pattern, in which a conductive film on the conductive sheet is irradiated with a laser to remove a part of the conductive film to form a conductive circuit.
Furthermore, the present invention relates to an electronic device provided with a conductive circuit pattern formed from the conductive paste for laser processing.

本発明により、各種印刷方式により租パターンを作成後、レーザー加工工程により微細な電気回路形成に使用される、レーザー加工安定性に優れるレーザー加工用導電性ペースト及びその硬化物、積層物を提供することができるようになった。本発明のレーザー加工用導電性ペーストは、タッチスクリーンパネルの額縁に形成される微細導電回路や透明性と低表面抵抗値を併せ持つ微細金属メッシュシートの形成等の為の導電性ペーストとして好適に用いることができる。   The present invention provides a conductive paste for laser processing excellent in laser processing stability, a cured product thereof, and a laminate, which are used for forming a fine electric circuit by a laser processing step after forming an eyebrow pattern by various printing methods. I was able to do that. The conductive paste for laser processing of the present invention is suitably used as a conductive paste for forming a fine conductive circuit formed in a frame of a touch screen panel or a fine metal mesh sheet having both transparency and low surface resistance. be able to.

レーザー加工性の評価で使用するスクリーン印刷版の平面図である。It is a top view of the screen printing plate used by evaluation of laser processability. レーザー加工後の回路パターンの一部の拡大図である。It is an enlarged view of a part of circuit pattern after laser processing.

本発明のレーザー加工用導電性ペーストは、バインダ樹脂、 導電性粒子、有機溶剤可溶性レーザー吸収剤を含有する。
有機溶剤可溶性レーザー吸収剤は、波長が700〜2000nmの範囲内に吸収ピークを持つことが好ましい。
本発明において「有機溶剤に溶解し得る」とは、23℃にて、レーザー吸収剤1gを、本発明のペーストに用いられる有機溶剤100gに入れると溶解し、目視にて溶け残りのないことをいう。
このような有機溶剤可溶性レーザー吸収剤の例としては、ニグロシンが挙げられる。このニグロシンは、C.I.SOLVENT BLACK5やC.I.SOLVENTBLAC K7としてCOLORINDEXに記載されているような、黒色のアジン系縮合混合物である。これは、例えば、アニリン、アニリン塩酸塩及びニトロベンゼンを、塩化鉄の存在下、反応温度160〜180℃で酸化及び脱水縮合することにより合成できる。
The conductive paste for laser processing of the present invention contains a binder resin, conductive particles, and an organic solvent soluble laser absorber.
The organic solvent-soluble laser absorber preferably has an absorption peak in the wavelength range of 700 to 2000 nm.
In the present invention, "soluble in an organic solvent" means that 1 g of a laser absorber is dissolved in 100 g of the organic solvent used in the paste of the present invention at 23 ° C., and there is no undissolved matter visually. Say.
Examples of such organic solvent soluble laser absorbers include nigrosine. This nigrosine is a black azine condensation mixture as described in COLOR INDEX as CI SOLVENT BLACK 5 or CI SOLEVENTBLAC K7. This can be synthesized, for example, by oxidation and dehydration condensation of aniline, aniline hydrochloride and nitrobenzene at a reaction temperature of 160 to 180 ° C. in the presence of iron chloride.

ニグロシンの市販品としては、例えば、スピリットブラックSB、スピリットブラックAB、スピリットブラックSA(以上、C.I.SOLVENT BLACK5);ニグロシンベースEE、ニグロシンベースEX、ニグロシンベースEX−BP(いずれも商品名、オリヱント化学工業社製)、Oil Black S、Oil Black SF、Oil Black 109(いずれも商品名、オリヱント化学工業社製)が挙げられる。(以上、C.I.SOLVENT BLACK7)。   Commercial products of nigrosine include, for example, Spirit Black SB, Spirit Black AB, Spirit Black SA (above, CI SOLVENT BLACK 5); Nigrosine Base EE, Nigrosine Base EX, Nigrosine Base EX-BP (All are trade names, Oil Black S, Oil Black SF, Oil Black 109 (all trade names, manufactured by Orient Chemical Industries, Ltd.). (The above, C.I. SOLVENT BLACK 7).

有機溶剤可溶性レーザー吸収剤の配合量は特に限定されないが、レーザー光線に対する感度、アブレーションによるパターンの精度、現像性、剥離性及び耐薬品性の点から、バインダ樹脂、導電性粒子および有機溶剤可溶性レーザー吸収剤の合計100質量%のうちに0.1〜20質量%を配合することが好ましく、0.5〜10質量%がより好ましい。
また、波長700〜2000nmの範囲内に吸収ピークを有している不溶性吸収剤のうち、有機系のものを併用してもかまわない。
The compounding amount of the organic solvent soluble laser absorber is not particularly limited, but from the viewpoints of sensitivity to laser beam, accuracy of pattern by ablation, developability, releasability and chemical resistance, binder resin, conductive particles and organic solvent soluble laser absorption It is preferable to mix | blend 0.1-20 mass% in a total of 100 mass% of an agent, and 0.5-10 mass% is more preferable.
Moreover, you may use together an organic type thing among the insoluble absorbers which have an absorption peak in the range of wavelength 700-2000 nm.

本発明に使用される導電性粒子は、例えば金、銀、銅、ニッケル、クロム、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、インジウム、ケイ素、アルミニウム、タングステン、モリブテン、および白金等の金属粉、ならびにこれらの合金、ならびにこれらの複合粉が挙げられる。
また、核体と、前記核体表面を前記核体物質とは異なる物質で被覆した微粒子、具体的には、例えば、銅を核体とし、その表面を銀で被覆した銀コート銅粉等が挙げられる
また、例えば酸化銀、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化ルテニウム、ITO(スズドープ酸化インジウム)、AZO(アルミドープ酸化亜鉛)、およびGZO(ガリウムドープ酸化亜鉛)等の金属酸化物の粉末、ならびにこれらの金属酸化物で表面被覆した粉末等が挙げられる。これらの中でもコスト、および導電性が高く、酸化がし難いため電気抵抗率の変化が少ない銀が好ましい。導電性微粒子は、単独または2種類以上を併用できる。
The conductive particles used in the present invention are, for example, metal powders such as gold, silver, copper, nickel, chromium, palladium, rhodium, ruthenium, indium, silicon, aluminum, tungsten, molybdenum and platinum, and alloys thereof. And these composite powders.
Further, a nucleus and fine particles obtained by coating the surface of the nucleus with a substance different from the nucleus substance, specifically, for example, a silver-coated copper powder or the like in which copper is used as a nucleus and the surface is covered with silver Also, for example, powders of metal oxides such as silver oxide, indium oxide, tin oxide, zinc oxide, ruthenium oxide, ITO (tin-doped indium oxide), AZO (aluminum-doped zinc oxide), and GZO (gallium-doped zinc oxide) And powders coated with these metal oxides. Among these, silver is preferable because it has high cost, high conductivity, and is difficult to oxidize, so that the change in electrical resistivity is small. The conductive particles may be used alone or in combination of two or more.

導電性粒子の形状は、球状、フレーク状、樹枝状、棒状、および線状等の公知の形状が使用できる。
導電性粒子のD50平均粒子径は、0.1〜5μmの範囲内にあることが好ましく、0.1〜3μmの範囲内にあることがより好ましい。
なお、導電性粒子のD50平均粒子径は、島津製作所社製レーザー回折粒度分布測定装置「SALD−3000」を用いて、体積粒度分布の累積粒度(D50)を測定した。
As the shape of the conductive particles, known shapes such as spherical, flake, dendritic, rod, and linear can be used.
The D50 average particle diameter of the conductive particles is preferably in the range of 0.1 to 5 μm, and more preferably in the range of 0.1 to 3 μm.
In addition, D50 average particle diameter of electroconductive particle measured the accumulation particle size (D50) of volume particle size distribution using Shimadzu Corp. make laser-diffraction particle size distribution measuring apparatus "SALD-3000".

導電性粒子は、バインダ樹脂、有機溶剤可溶性レーザー吸収剤および導電性微粒子の合計100質量%のうち60〜90質量%を配合することが好ましく、80〜90質量%がより好ましい。60質量%以上になることで導電性がより向上する。また、95質量%以下になることで導電性被膜は、基材との密着性がより向上し、機械強度も向上する。   The conductive particles are preferably blended in an amount of 60 to 90% by mass, and more preferably 80 to 90% by mass, based on 100% by mass of the binder resin, the organic solvent soluble laser absorber and the conductive fine particles. Conductivity is further improved by becoming 60 mass% or more. In addition, by setting the content to 95% by mass or less, the conductive film further improves the adhesion to the substrate, and the mechanical strength is also improved.

本発明におけるバインダ樹脂は、数平均分子量10,000〜50,000が好ましく、20,000〜40,000がより好ましい。数平均分子量が10,000以上になることで形成する配線回路の環境信頼性が向上し、特に耐湿熱性がより向上する。また、数平均分子量が50,000以下になることで、導電性被膜に適度な凝集力が得られるため、レーザー加工時のアブレーションが容易になり微細な配線回路が得易くなる。
なお、数平均分子量は、GPC(ゲルパーミッションクロマトグラフィー)で測定したポリスチレン換算の数値である。また、配線回路の環境信頼性とは、それぞれ80℃、−40℃、および60℃、湿度90%の環境下に長期間置かれても、あるいは85℃〜−40℃のサイクル試験を経ても、導電性被膜の基材(例えばITOフィルム)に対する密着性が劣化し難いことである。
The number average molecular weight of the binder resin in the present invention is preferably 10,000 to 50,000, and more preferably 20,000 to 40,000. When the number average molecular weight is 10,000 or more, the environmental reliability of the wiring circuit to be formed is improved, and particularly the heat and humidity resistance is further improved. Further, when the number average molecular weight is 50,000 or less, a suitable cohesive force can be obtained in the conductive film, so that ablation at the time of laser processing becomes easy, and a fine wiring circuit can be easily obtained.
The number average molecular weight is a value in terms of polystyrene measured by GPC (gel permeation chromatography). In addition, environmental reliability of the wiring circuit means that even if it is placed in an environment of 80 ° C, -40 ° C, and 60 ° C, 90% humidity for a long time, or after a cycle test of 85 ° C to -40 ° C. The adhesion of the conductive film to a substrate (for example, an ITO film) is less likely to deteriorate.

また、バインダ樹脂は、ガラス転移温度(以下、Tgという)5〜100℃が好ましく、10〜95℃がより好ましい。Tgが5℃以上になると配線回路の耐湿熱性がより向上する。また、Tgが100℃以下になると配線回路と基材との密着性がより向上し、レーザー加工が容易になることで微細なL/Sが得易くなる。なお、Tgは、DSC(示差走査熱量計)にて測定した数値である。   Further, the binder resin preferably has a glass transition temperature (hereinafter referred to as Tg) of 5 to 100 ° C., and more preferably 10 to 95 ° C. When the Tg is 5 ° C. or more, the heat and moisture resistance of the wiring circuit is further improved. Further, when the Tg is 100 ° C. or less, the adhesion between the wiring circuit and the base material is further improved, and the laser processing becomes easy, so that it is easy to obtain a fine L / S. Tg is a numerical value measured by DSC (differential scanning calorimeter).

バインダ樹脂は、上記数平均分子量と上記Tgを同時に満足すると配線回路の信頼性がより向上するとともに、レーザー加工性がより向上する。   When the binder resin simultaneously satisfies the above-mentioned number average molecular weight and the above-mentioned Tg, the reliability of the wiring circuit is further improved, and the laser processability is further improved.

バインダ樹脂は、例えばポリエスエル樹脂、ウレタン変性ポリエステル樹脂、エポキシ変性ポリエステル樹脂、(メタ)アクリル樹脂、スチレン樹脂、スチレン−(メタ)アクリル樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂、エポキシ樹脂、変性エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ブチラール樹脂、アセタール樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アルキッド樹脂、ポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂、ケトン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、シリコン樹脂、ニトロセルロース、セルロース・アセテート・ブチレート(CAB)樹脂、セルロース・アセテート・プロピオネート(CAP)樹脂、ロジン、ロジンエステル、およびマレイン酸樹脂等が挙げられる。これらの中でもバインダ樹脂は、基材への密着性、例えばスクリーン印刷で使用される溶剤への溶解性、配線回路に必要な塗膜の機械強度の面より、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、およびエポキシ樹脂からなる群より選択されることが好ましい。
バインダ樹脂は、単独または2種類以上を併用できる。
The binder resin is, for example, polyester resin, urethane-modified polyester resin, epoxy-modified polyester resin, (meth) acrylic resin, styrene resin, styrene- (meth) acrylic resin, styrene-butadiene resin, epoxy resin, modified epoxy resin, phenoxy resin, Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, butyral resin, acetal resin, phenol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyurethane resin, polyurethane urea resin, polyurethane resin, polyamide resin, polyimide resin, polyamide imide resin, alkyd resin, polyolefin resin, fluorine resin , Ketone resin, benzoguanamine resin, melamine resin, urea resin, silicone resin, nitrocellulose, cellulose acetate butyrate (CAB) resin, cellulose acetate Propionate (CAP) resins, rosin, rosin esters, and maleic acid resins. Among them, the binder resin is a polyester resin, a polyurethane resin, a polyurethane urea resin from the viewpoint of adhesion to a substrate, for example, solubility in a solvent used in screen printing and mechanical strength of a coating film necessary for wiring circuits. It is preferable to be selected from the group consisting of and epoxy resins.
Binder resin can use together single or 2 types or more.

前記ポリエステル樹脂は、水酸基およびカルボキシル基の少なくともいずれか有することが好ましい。ポリエステル樹脂は、多塩基酸とポリオール等との反応、または多塩基酸エステルとポリオール等とのエステル交換反応等の公知に反応等の公知の合成法で合成できる。また、ポリエステル樹脂にカルボキシル基を付与する方法は、公知の手法が使用できるが、例えばポリエステル樹脂を重合後、180〜230℃でε−カプロラクトンなどの環状エステルを後付加(開環付加)してブロック化する方法、または無水トリメリット酸、無水フタル酸などの酸無水物を付加する方法等が挙げられる。また、ポリエスエル樹脂は飽和ポリエステルが好ましい。   The polyester resin preferably has at least one of a hydroxyl group and a carboxyl group. The polyester resin can be synthesized by a known synthesis method such as a reaction of a polybasic acid and a polyol or a transesterification reaction of a polybasic acid ester and a polyol or the like. Further, as a method for giving a carboxyl group to a polyester resin, known methods can be used. For example, after polymerizing a polyester resin, post-addition (ring-opening addition) of cyclic ester such as ε-caprolactone is carried out at 180 to 230 ° C. Examples thereof include a method of blocking and a method of adding an acid anhydride such as trimellitic anhydride and phthalic anhydride. Also, the polyester resin is preferably a saturated polyester.

前記多塩基酸は、例えば芳香族ジカルボン酸、直鎖脂肪族ジカルボン酸、環状脂肪族ジカルボン酸等、および3官能以上のカルボン酸等が好ましい。なお、多塩基酸は、酸無水物基含有化合物を含む。
芳香族ジカルボン酸は、例えばテレフタル酸、およびイソフタル酸等が挙げられるがこれらに限定されない。また、直鎖脂肪族ジカルボン酸は、例えばアジピン酸、セバシン酸、およびアゼライン酸等が挙げられるがこれらに限定されない。また、環状脂肪族ジカルボン酸は、例えば1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、ジカルボンキシ水素添加ビスフェノールA、ダイマー酸、4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、および3−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸等が挙げられるがこれらに限定されない。また、3官能以上のカルボン酸は、無水トリメリット酸、および無水ピロメリット酸等が挙げられるがこれらに限定されない。その他のカルボン酸は、フマル酸等の不飽和ジカルボン酸、5−スルホイソフタル酸ナトリウム塩等のスルホン酸金属塩含有ジカルボン酸等も挙げられるがこれらに限定されない。
多塩基酸は、単独または2種類以上を併用できる。
The polybasic acid is preferably, for example, an aromatic dicarboxylic acid, a linear aliphatic dicarboxylic acid, a cyclic aliphatic dicarboxylic acid, etc., and a trifunctional or higher functional carboxylic acid. In addition, polybasic acid contains an acid anhydride group containing compound.
Examples of aromatic dicarboxylic acids include, but are not limited to, terephthalic acid and isophthalic acid. In addition, examples of linear aliphatic dicarboxylic acids include, but are not limited to, adipic acid, sebacic acid, and azelaic acid. In addition, examples of cyclic aliphatic dicarboxylic acids include 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, dicarboxylic acid hydrogenated bisphenol A, dimer acid, 4-methylhexahydrophthalic anhydride, and 3-methylhexahydrophthalic anhydride. Is not limited to these. Moreover, although trifunctional or more than trifunctional carboxylic acid is used, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, etc. may be mentioned, but it is not limited thereto. Other carboxylic acids include, but are not limited to, unsaturated dicarboxylic acids such as fumaric acid, and sulfonic acid metal salt-containing dicarboxylic acids such as 5-sulfoisophthalic acid sodium salt.
The polybasic acids can be used alone or in combination of two or more.

前記ポリオールは、ジオール、および3個以上の水酸基を有する化合物が好ましい。
ジオールは、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール1,4−ブタンジオール、およびネオペンチルグリコール等が挙げられるがこれらに限定されない。
3個以上の水酸基を有する化合物は、トルメチロールプロパン、グリセリン、およびペンタエリスリトール等が挙げられるがこれらに限定されない。
ポリオールは、単独または2種類以上を併用できる。
The polyol is preferably a diol and a compound having three or more hydroxyl groups.
Examples of the diol include, but are not limited to, ethylene glycol, propylene glycol 1,4-butanediol, neopentyl glycol and the like.
Examples of the compound having three or more hydroxyl groups include, but are not limited to, tolmethylolpropane, glycerin, and pentaerythritol.
The polyols may be used alone or in combination of two or more.

前記ポリウレタン樹脂は、ポリオールとジイソシアネートと鎖延長剤のジオール化合物とを反応させた、末端に水酸基を有する化合物である。ポリウレタン樹脂は、鎖延長剤を使用して分子鎖を延ばすことができる。鎖延長剤は、一般的にはジオール等が好ましい。ポリウレタン樹脂は、公知の合成法で合成できる。   The said polyurethane resin is a compound which made the polyol, the diisocyanate, and the diol compound of the chain extender react, and has a hydroxyl group at the terminal. The polyurethane resin can extend the molecular chain using a chain extender. The chain extender is generally preferably a diol or the like. The polyurethane resin can be synthesized by a known synthesis method.

ポリウレタン樹脂の合成に使用するポリオールは、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、およびポリブタジエングリコール等が好ましい。ポリオールは単独または2種類以上併用できる。
ポリエーテルポリオールは、酸化エチレン、酸化プロピレン、およびテトラヒドロフラン等の重合体、ならびにこれらの共重合体である。
ポリエステルポリオールは、前記ポリエステル樹脂で説明したポリオールと多塩基酸のエステルである。
ポリカーボネートポリオールは、1)ジオールまたはビスフェノールと、炭酸エステルとを反応させた化合物、および2)ジオールまたはビスフェノールを、アルカリの存在下でホスゲンと反応させた化合物等が好ましい。
炭酸エステルは、例えばジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジフェニルカーボネート、エチレンカーボネート、およびプロピレンカーボネート等が挙げられるがこれらに限定されない。
The polyol used for the synthesis of the polyurethane resin is preferably polyether polyol, polyester polyol, polycarbonate polyol, polybutadiene glycol and the like. The polyols can be used alone or in combination of two or more.
Polyether polyols are polymers such as ethylene oxide, propylene oxide, and tetrahydrofuran, and copolymers thereof.
The polyester polyol is an ester of the polyol described in the polyester resin and a polybasic acid.
The polycarbonate polyol is preferably 1) a compound obtained by reacting a diol or bisphenol with a carbonate, and 2) a compound obtained by reacting a diol or a bisphenol with phosgene in the presence of an alkali.
Examples of carbonates include, but are not limited to, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, diphenyl carbonate, ethylene carbonate, and propylene carbonate.

ジイソシアネートは、芳香族ジイソシアネート、脂肪族ジイソシアネート、脂環族イソシアネート等が好ましい。ジイソシアネートは単独または2種類以上を併用できる。   The diisocyanate is preferably an aromatic diisocyanate, an aliphatic diisocyanate, an alicyclic isocyanate or the like. Diisocyanates can be used alone or in combination of two or more.

前記ポリウレタンウレア樹脂は、ポリオールとジイソシアネートとを反応させて末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーを合成し、さらにポリアミンと反応させた化合物である。また、ポリウレタンウレア樹脂は、分子量を調整するため必要に応じて反応停止剤を反応させることができる。ポリオールおよびジイソシアネートは、前記ポリウレタン樹脂で説明した化合物を使用することが好ましい。ポリアミンはジアミンが好ましい。
反応停止剤は、ジアルキルアミン、モノアルコール等が好ましい。ポリウレタンウレア樹脂は、公知の合成法で合成できる。
The polyurethane urea resin is a compound obtained by reacting a polyol and a diisocyanate to synthesize a urethane prepolymer having an isocyanate group at an end, and further reacting with a polyamine. In addition, the polyurethaneurea resin can be reacted with a reaction terminator as needed to adjust the molecular weight. It is preferable to use the compound demonstrated by the said polyurethane resin as a polyol and diisocyanate. The polyamine is preferably a diamine.
The reaction terminator is preferably dialkylamine, monoalcohol or the like. The polyurethaneurea resin can be synthesized by a known synthesis method.

ポリウレタン樹脂およびポリウレタンウレア樹脂は、水酸基に加えて、カルボキシル基を有することが好ましい。具体的には、合成の際、ジオールの一部をカルボキシル基を有するジオールに置き換えて合成する方法が挙げられる。前記ジオールは、ジメチロールプロピオン酸、およびジメチロールブタン酸等が好ましい。   The polyurethane resin and the polyurethane urea resin preferably have a carboxyl group in addition to the hydroxyl group. Specifically, there is a method of synthesis by replacing a part of the diol with a diol having a carboxyl group in the synthesis. The diol is preferably dimethylol propionic acid, dimethylol butanoic acid or the like.

導電性ペーストがポリウレタン樹脂またはポリウレタンウレア樹脂を含む場合、形成する導電性被膜の硬さがより向上する。   When the conductive paste contains a polyurethane resin or a polyurethane urea resin, the hardness of the conductive film to be formed is further improved.

ポリウレタン樹脂またはポリウレタンウレア樹脂を合成の際、溶剤を使用できる。
具体的にはエステル系溶剤、ケトン系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、脂肪族系溶剤、芳香族系溶剤、およびカーボネート系溶剤等が好ましい。
エステル系溶剤は、例えば酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、乳酸エチル、および炭酸ジメチル等が挙げられるがこれらに限定されない。
ケトン系溶剤は、例えばアセトン、メチルエチルケトン、ジイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、イソホロン、およびシクロヘキサノン等が挙げられるがこれらに限定されない。
グリコールエーテル系溶剤は、例えばエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、およびエチレングリコールモノブチルエーテル等のモノエーテル、ならびにこれらの酢酸エステル;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、およびプロピレングリコールモノエチルエーテル等、ならびにこれらの酢酸エステル;等が挙げられるがこれらに限定されない。
脂肪族系溶剤は、例えばn−ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等が挙げられるがこれらに限定されない。
溶剤は、単独または2種類以上併用できる。
A solvent can be used in the synthesis of the polyurethane resin or polyurethane urea resin.
Specifically, ester solvents, ketone solvents, glycol ether solvents, aliphatic solvents, aromatic solvents, carbonate solvents and the like are preferable.
Examples of ester solvents include, but are not limited to, ethyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl acetate, ethyl lactate, and dimethyl carbonate.
Examples of ketone solvents include, but are not limited to, acetone, methyl ethyl ketone, diisobutyl ketone, diisobutyl ketone, diacetone alcohol, isophorone, cyclohexanone and the like.
Examples of glycol ether solvents include monoethers such as ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, and ethylene glycol monobutyl ether, and acetates thereof; diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether Propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether and the like, and acetic acid esters thereof; and the like, but not limited thereto.
Examples of aliphatic solvents include, but are not limited to, n-hexane, cyclohexane, methylcyclohexane, methylcyclohexane and the like.
The solvents may be used alone or in combination of two or more.

前記エポキシ樹脂は、エポキシ基および水酸基を有する化合物であり、公知の化合物を使用できる。エポキシ樹脂は、ビスフェノールAおよびビスフェノールFに代表される芳香族ジオールとエピクロルヒドリンとを反応させて得たポリグリシジルエーテルが好ましい。エポキシ樹脂は、高分子エポキシ樹脂である、いわゆるフェノキシ樹脂を使用することも好ましい。
バインダ樹脂は、単独または2種類以上を併用できる。
The said epoxy resin is a compound which has an epoxy group and a hydroxyl group, and can use a well-known compound. The epoxy resin is preferably a polyglycidyl ether obtained by reacting an aromatic diol represented by bisphenol A and bisphenol F with epichlorohydrin. It is also preferable to use a so-called phenoxy resin which is a high molecular weight epoxy resin as the epoxy resin.
Binder resin can use together single or 2 types or more.

バインダ樹脂は、導電性粒子、有機溶剤可溶性レーザー吸収剤およびバインダ樹脂の合計100質量%のうち4.9〜20質量%を配合することが好ましく、5.0〜10質量%がより好ましい。5質量%以上になることで導電性被膜の基材との密着性がより向上し、機械強度も向上する。また、20質量%以下になることで導電性がより向上する。   The binder resin is preferably blended with 4.9 to 20% by mass of the total 100% by mass of the conductive particles, the organic solvent soluble laser absorber and the binder resin, and more preferably 5.0 to 10% by mass. By becoming 5 mass% or more, the adhesiveness with the base material of a conductive film improves more, and mechanical strength also improves. In addition, when the content is 20% by mass or less, the conductivity is further improved.

本発明において分散剤は、分散し難い導電性微粒子を導電性ペーストに分散するために使用することが好ましい。また、導電性ペーストが分散剤を含むとバインダ樹脂と導電性微粒子が混和しやすく分散性が向上するためTI値が低くなり、粘性をニュートニアンに調整し易くなる。本発明の導電性ペーストは、粘度が低くニュートニアンに近い粘性を有しているため流動性が良好であるため、例えばスクリーン印刷で塗工し形成した被膜は、表面が平滑で膜厚がバラつき難いので、レーザー加工での加工性が良好であるため、直線性が良好な配線回路が形成できる。   In the present invention, the dispersant is preferably used to disperse the conductive fine particles which are difficult to disperse in the conductive paste. In addition, when the conductive paste contains a dispersant, the binder resin and the conductive fine particles are easily mixed and the dispersibility is improved, so that the TI value becomes low, and the viscosity can be easily adjusted to the Newtonian. The conductive paste of the present invention has a low viscosity and a viscosity close to that of the Newtonian and therefore has good flowability. For example, a coating formed by screen printing has a smooth surface and a nonuniform thickness. Since it is difficult, the processability in laser processing is good, so that a wiring circuit with good linearity can be formed.

前記分散剤は、樹脂型分散剤、界面活性剤、シランカップリング剤および金属キレート等からなる群より選ばれることが好ましい。   The dispersant is preferably selected from the group consisting of resin type dispersants, surfactants, silane coupling agents, metal chelates and the like.

樹脂型分散剤は、導電性微粒子に吸着する親和性部位と、バインダ樹脂に親和性が高い部位を有するポリマー(樹脂)の分散剤である。前記親和性部位は、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、水酸基、マレイン酸基、(一級、二級、三級)アミノ基、アミド基、アルキルアンモニウム塩、リン酸塩、およびポリアミドアマイド等が挙げられる。またバインダ樹脂に親和性が高い部位は、ポリエステルユニット、ポリエーテルユニット、ポリエーテルエステルユニット、ポリアクリルユニット、およびポリウレタンユニット等が挙げられる。   The resin type dispersing agent is a dispersing agent of a polymer (resin) having an affinity site to be adsorbed to the conductive fine particles and a site having a high affinity to the binder resin. The said affinity site | part is a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, a hydroxyl group, a maleic acid group, (primary, secondary, tertiary) amino group, an amide group, an alkyl ammonium salt, phosphate, polyamideamide etc. Can be mentioned. Moreover, a polyester unit, a polyether unit, a polyether ester unit, a polyacryl unit, a polyurethane unit etc. are mentioned as a site | part with high affinity to binder resin.

樹脂型分散剤は、例えばポリウレタン、およびポリアクリレート等のポリカルボン酸エステルポリアミド;ポリカルボン酸、ポリカルボン酸(部分)アミン塩、ポリカルボン酸アンモニウム塩、ポリカルボン酸アルキルアミン塩、ポリシロキサン、長鎖ポリアミノアマイドリン酸塩、および水酸基含有ポリカルボン酸エステル;ポリ(低級アルキレンイミン)と遊離のカルボキシル基を有するポリエステルとの反応で合成したアミド、およびその塩等;、
ポリエステル、ポリエーテル、ポリエステルエーテル、ポリウレタン等のポリリン酸(塩);ポリリン酸、ポリリン酸(部分)アミン塩、ポリリン酸アンモニウム塩、ポリリン酸アルキルアミン塩等;
(メタ)アクリル酸−スチレン共重合体、(メタ)アクリル酸−(メタ)アクリル酸エステル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル系、変性ポリアクリレート系、エチレンオキサイド/プロピレンオキサイド付加化合物、および繊維系誘導体樹脂等が挙げられる。
Resin type dispersants include, for example, polycarboxylic acid ester polyamides such as polyurethane and polyacrylate; polycarboxylic acid, polycarboxylic acid (partial) amine salt, polycarboxylic acid ammonium salt, polycarboxylic acid alkylamine salt, polysiloxane, long -Chain polyaminoamide phosphates, and hydroxyl group-containing polycarboxylic acid esters; amides synthesized by the reaction of poly (lower alkyleneimine) with polyesters having free carboxyl groups, and salts thereof, etc .;
Polyphosphoric acids (salts) such as polyesters, polyethers, polyester ethers, polyurethanes; polyphosphoric acids, polyphosphoric acids (partial) amine salts, polyphosphate ammonium salts, polyphosphate alkylamine salts etc .;
(Meth) acrylic acid-styrene copolymer, (meth) acrylic acid- (meth) acrylic acid ester copolymer, styrene-maleic acid copolymer, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, Examples thereof include polyesters, modified polyacrylates, ethylene oxide / propylene oxide adducts, and fiber-based derivative resins.

界面活性剤は、アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、および両性界面活性剤が好ましい。
アニオン性界面活性剤は、例えばラウリル硫酸ソーダ、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ、およびスチレン−アクリル酸共重合体のアルカリ塩;ステアリン酸ナトリウム、アルキルナフタリンスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸モノエタノールアミン、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ラウリル硫酸アンモニウム、ステアリン酸モノエタノールアミン、ステアリン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、およびスチレン−アクリル酸共重合体のモノエタノールアミンポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エスエル等が挙げられるがこれらに限定されない。
ノニオン性界面活性剤は、例えばポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリエチレングリコールモノラウレート等が挙げられるがこれらに限定されない。
カチオン性界面活性剤は、アルキル4級アンモニウム塩やそれらのエチレンオキサイド付加物等が挙げられるがこれらに限定されない。
両性界面活性剤は、例えばアルキルジメチルアミノ酢酸ペタイン等のアルキルペタイン、およびアルキルイミダゾリン等が挙げられるがこれらに限定されない。
The surfactant is preferably an anionic surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, and an amphoteric surfactant.
Anionic surfactants include, for example, sodium lauryl sulfate, polyoxyethylene alkyl ether sulfate, sodium dodecyl benzene sulfonate, and alkali salts of styrene-acrylic acid copolymer; sodium stearate, sodium alkyl naphthalene sulfonate, alkyl diphenyl ether Sodium disulfonate, monoethanolamine lauryl sulfate, triethanolamine lauryl sulfate, ammonium lauryl sulfate, monoethanolamine stearic acid, sodium stearate, sodium lauryl sulfate, and monoethanolamine polyoxyethylene alkyl ether of styrene-acrylic acid copolymer Examples include, but are not limited to, phosphoric acid and the like.
Examples of nonionic surfactants include polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, polyoxyethylene alkyl ether phosphate, polyoxyethylene sorbitan monostearate, polyethylene glycol monolaurate and the like. But not limited thereto.
Examples of cationic surfactants include, but are not limited to, alkyl quaternary ammonium salts and ethylene oxide adducts thereof.
Amphoteric surfactants include, but are not limited to, alkylpetines such as, for example, alkyl dimethylamino acetic acid acetate and alkyl imidazolines.

シランカップリング剤は、例えばビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、2‐(3,4‐エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3‐グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3‐グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、p‐スチリルトリメトキシシラン‐3‐メタクリロキシプロピル、メチルジメトキシシラン、3‐メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3‐メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3‐メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3‐アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N‐2‐(アミノエチル)‐3‐アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N‐2‐(アミノエチル)‐3‐アミノプロピルトリメトキシシラン、N‐2‐(アミノエチル)‐3‐アミノプロピルトリエトキシシラン、3‐アミノプロピルトリメトキシシラン、3‐アミノプロピルトリエトキシシラン、3‐トリエトキシシリル-N(1,3‐ジメチル-ブチリデン)、プロピルアミンN‐フェニル‐3‐アミノプロピルトリメトキシシラン、N‐(ビニルベンジル)‐2‐アミノエチル‐3‐アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩、3‐ウレイドプロピルトリエトキシシラン、3‐クロロプロピルトリメトキシシラン、3‐メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3‐メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、および3‐イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるがこれらに限定されない。   The silane coupling agent is, for example, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycid Xypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane-3-methacryloxypropyl, methyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldi Ethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N ( 1,3-Dimethyl-butylidene), propylamine N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, hydrochloride of N- (vinylbenzyl) -2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyl Examples include triethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, bis (triethoxysilylpropyl) tetrasulfide, and 3-isocyanatopropyltriethoxysilane. But not limited thereto.

金属キレートは、金属アルコシドと、β−ジケトンやケトエステル(例えば、アセト酢酸エチル等)等のキレート化剤とを反応させたキレート化合物(金属錯体)である。金属キレートは、アルミニウムキレート、ジルコニウムキレート、およびチタンキレート等が好ましい。   The metal chelate is a chelate compound (metal complex) in which a metal alcoside is reacted with a chelating agent such as β-diketone or ketoester (eg, ethyl acetoacetate). The metal chelate is preferably aluminum chelate, zirconium chelate, titanium chelate and the like.

アルミニウムキレートは、アルミニウムとアセトネート基で構成される。アセトネート基は、例えばアセチルアセトネート基:−O−C(CH3)=CH、−CO(CH3)や、メチルアセトアセトネート基:−O−C(CH3)=CH−CO−O−CH3、およびエチルアセトアセトネート基:−O−C(CH3)=CH−CO−O−C25等が挙げられる。これらの中でもアセチルアセトネート基、メチルアセトアセトネート基、およびエチルアセトアセテート基を使用すると導電性被膜の導電性がより向上するため好ましい。
アルミニウムキレートは、例えばエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピオネート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(アセチルアセテート)、アルミニウムモノアセチルアセテートビス(エチルアセトアセテテート)、アルミニウム−ジ−n−ブトキシドモノメチルアセトアセテート、アルミニウムジイソブトキシドモノメチルアセトアセテート、アルミニウム−ジ−sec−ブトキシドモノメチルアセトアセテート等が挙げられるがこれらに限定されない。アルミニウムキレートは、式量が200〜420の化合物が好ましい。
Aluminum chelates are composed of aluminum and acetonate groups. Acetonate group such as acetyl acetonate group: -O-C (CH 3) = CH, -CO (CH 3) and methyl acetoacetonate groups: -O-C (CH 3) = CH-CO-O- CH 3 and ethylacetoacetonate group: —O—C (CH 3 ) = CH—CO—O—C 2 H 5 etc. may be mentioned. Among these, use of acetylacetonate group, methylacetoacetonate group and ethylacetoacetate group is preferable because the conductivity of the conductive film is further improved.
Aluminum chelates are, for example, ethyl acetoacetate aluminum diisopropionate, aluminum tris (ethyl acetoacetate), alkyl acetoacetate aluminum diisopropiolate, aluminum tris (acetyl acetate), aluminum monoacetyl acetate bis (ethyl acetoacetate), aluminum Examples thereof include, but are not limited to, -di-n-butoxide monomethyl acetoacetate, aluminum diisobutoxide monomethyl acetoacetate, and aluminum di-sec-butoxide monomethyl acetoacetate. The aluminum chelate is preferably a compound having a formula weight of 200 to 420.

ジルコニウムキレートは、ジルコニウムとアセトネート基で構成される。アセトネート基は、アセチルアセトネート基、およびエチルアセトアセテート基が好ましい。
ジルコニウムキレートは、例えばジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムトリブトキシアセチルアセトネート、ジルコニウムモノブトキシアセチルアセトネートビス(エチルアセトアセテート)、ジルコニウムジブトキシビス(エチルアセトアセテート)、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート等が挙げられる。ジルコニウムキレートは、式量が350〜1,000の化合物が好ましい。
Zirconium chelates are composed of zirconium and acetonate groups. The acetonate group is preferably an acetylacetonate group and an ethylacetoacetate group.
Examples of the zirconium chelate include zirconium tetraacetylacetonate, zirconium tributoxyacetylacetonate, zirconium monobutoxy acetylacetonate bis (ethylacetoacetate), zirconium dibutoxybis (ethylacetoacetate), zirconium tetraacetylacetonate and the like. . The zirconium chelate is preferably a compound having a formula weight of 350 to 1,000.

チタンキレートは、(HOR1O)2Ti(OR22あるいは(H2NR1O)2Ti(0R22で表すことができるチタンキレートおよびアルコキシチタンが好ましい。なお、R1およびR2はアルキル基である。
チタンキレートは、例えば、ジ−i−プロポキシビス(アセチルアセトナト)チタン、ジ−n−プトキシビス(トリエタノールアミナト)チタン、チタニウム−i−プロポキシオクチレングリコレート、チタニウムステアレート、チタンアセチルアセトナート、チタンテトラアセチルアセトナート、ポリチタンアセチルアセチルアセトナート、チタンオクチレングリコレート、チタンエチルアセトアセテート、チタンラクテート、およびチタントリエタノールアミネート等が挙げられる。チタンキレートは、式量が250〜1,500の化合物が好ましい。
分散剤は、単独または2種類以上を併用できる。
The titanium chelate is preferably a titanium chelate and an alkoxy titanium which can be represented by (HOR 1 O) 2 Ti (OR 2 ) 2 or (H 2 NR 1 O) 2 Ti (0R 2 ) 2 . R 1 and R 2 are alkyl groups.
Titanium chelates are, for example, di-i-propoxybis (acetylacetonato) titanium, di-n-ptoxybis (triethanolaminato) titanium, titanium-i-propoxy octylene glycolate, titanium stearate, titanium acetylacetonate And titanium tetraacetylacetonate, polytitanium acetylacetylacetonate, titanium octylene glycolate, titanium ethyl acetoacetate, titanium lactate, and titanium triethanol aminate. The titanium chelate is preferably a compound having a formula weight of 250 to 1,500.
The dispersant may be used alone or in combination of two or more.

分散剤は、バインダ樹脂および導電性微粒子を合計した100質量部に対して0.1〜20質量部を配合することが好ましく、0.1〜15質量%がより好ましい。分散剤が0.1質量部以上になることで導電性微粒子の分散性がより向上する。また、分散剤が20重量以下になることで導電性被膜の導電性がより向上する。   It is preferable to mix | blend 0.1-20 mass parts with respect to 100 mass parts which totaled binder resin and electroconductive fine particles, and, as for a dispersing agent, 0.1-15 mass% is more preferable. By the dispersing agent being 0.1 parts by mass or more, the dispersibility of the conductive fine particles is further improved. Moreover, the conductivity of a conductive film improves more because a dispersing agent becomes 20 weight or less.

本発明のレーザー加工用導電性ペーストは、さらに溶剤を配合できる。溶剤を配合することで導電性微粒子の分散が容易になり、印刷に適した粘度に調整がし易くなる。
溶剤は、使用する吸収剤及び樹脂の溶解性や印刷方法等の種類に応じて、選択することができる。具体的には、溶剤は、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、脂肪族系溶剤、脂環族系溶剤,芳香族系溶剤、アルコール系溶剤、および水等が好ましい。
エステル系溶剤としては、ポリウレタン樹脂またはポリウレタンウレア樹脂を合成の際に使用できる溶剤として例示したものが同様に例示できる。さらに、ε−カプロラクトン、およびγ―ブチロラクトン等の環状エステル系溶剤も例示できる。ケトン系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、脂肪族系溶剤は、ポリウレタン樹脂またはポリウレタンウレア樹脂を合成の際に使用できる溶剤として例示したものが同様に例示できる。
芳香族系溶剤は、例えばトルエン、キシレン、テトラリン等が挙げられるがこれらに限定されない。
溶剤は、単独または2種類以上を併用できる。
The conductive paste for laser processing of the present invention may further contain a solvent. By blending the solvent, the dispersion of the conductive fine particles becomes easy, and it becomes easy to adjust the viscosity suitable for printing.
The solvent can be selected according to the type of the absorbent used and the solubility of the resin, the printing method, and the like. Specifically, as the solvent, ester solvents, ketone solvents, glycol ether solvents, aliphatic solvents, alicyclic solvents, aromatic solvents, alcohol solvents, water and the like are preferable.
As an ester solvent, what was illustrated as a solvent which can be used at the time of a synthesis | combination in polyurethane resin or polyurethane urea resin can be illustrated similarly. Furthermore, cyclic ester solvents such as ε-caprolactone and γ-butyrolactone can also be exemplified. As ketone solvents, glycol ether solvents and aliphatic solvents, those exemplified as solvents which can be used at the time of synthesis of polyurethane resin or polyurethane urea resin can be exemplified similarly.
Examples of the aromatic solvent include, but not limited to, toluene, xylene, tetralin and the like.
The solvents may be used alone or in combination of two or more.

溶剤は、導電性ペーストの不揮発分および溶剤の合計100質量%のうち5〜50質量%程度である。   The solvent is about 5 to 50% by mass in the total of 100% by mass of the nonvolatile matter of the conductive paste and the solvent.

本発明の導電性ペーストは、さらに硬化剤を含むことができる。硬化剤は、バインダ樹脂の有する官能基(例えば水酸基やカルボキシル基等)と反応可能な官能基を有し、導電性被膜の耐熱性、耐溶剤性、耐薬品性、または密着性等を向上させることができる。硬化剤は、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物、オキサゾリン化合物、カルボジイミド化合物、アミン化合物、および酸無水物基含有化合物等が好ましい。
具体的には、バインダ樹脂が水酸基を有する場合、イソシアネート化合物等が好ましい。また、バインダ樹脂がカルボキシル基を有する場合、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物、オキサゾリン化合物、およびカルボジイミド化合物等が好ましい。さらに、バインダ樹脂がエポキシ基を有する場合、アミン化合物、酸無水物基含有化合物等が好ましい。
The conductive paste of the present invention can further contain a curing agent. The curing agent has a functional group capable of reacting with a functional group (for example, a hydroxyl group, a carboxyl group, etc.) of the binder resin, and improves the heat resistance, solvent resistance, chemical resistance, adhesion, etc. of the conductive film. be able to. The curing agent is preferably an isocyanate compound, an epoxy compound, an aziridine compound, an oxazoline compound, a carbodiimide compound, an amine compound, an acid anhydride group-containing compound, and the like.
Specifically, when the binder resin has a hydroxyl group, an isocyanate compound or the like is preferable. When the binder resin has a carboxyl group, isocyanate compounds, epoxy compounds, aziridine compounds, oxazoline compounds, carbodiimide compounds and the like are preferable. Furthermore, when a binder resin has an epoxy group, an amine compound, an acid anhydride group containing compound, etc. are preferable.

イソシアネート化合物は、芳香族ポリイソシアネート、脂肪族ポリイソシアネート、および脂環族ポリイソシアネート等が好ましい。
芳香族ポリイソシアネートは、例えばトリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、トリレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、および4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネートのオリゴマー等が挙げられる。
脂肪族ポリイシシアネートは、例えばヘキサメチレンジイソシアネートのビウレット体、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネートのオリゴマー、ヘキサメチレンジイソシアネートのウレトジオン、およびトリレンジイソシアネートとヘキサメチレンジイソシアネートからなるコポリマーのイソシアヌレート体等が挙げられる。
脂環族ポリイソシアネートは、例えばイソホロンジイソシアネートのイソシアヌレート体、イソホロンジイソシアネートのオリゴマー等が挙げられる。
また、これらの化合物をブロックしたブロック化イソシアネートも好ましい。ブロック剤は、例えば、ε−カプロラクタム、ブタノンオキシム、フェノール、および活性メチレン化合物等が好ましい。
The isocyanate compound is preferably an aromatic polyisocyanate, an aliphatic polyisocyanate, an alicyclic polyisocyanate and the like.
Examples of the aromatic polyisocyanate include a trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate, an isocyanurate of tolylene diisocyanate, and an oligomer of 4,4'-diphenylmethane diisocyanate.
Aliphatic polyisocyanates such as biuret of hexamethylene diisocyanate, isocyanurate of hexamethylene diisocyanate, trimethylolpropane adduct of hexamethylene diisocyanate, oligomer of hexamethylene diisocyanate, uretdione of hexamethylene diisocyanate, and tolylene diisocyanate The isocyanurate etc. of the copolymer which consists of hexamethylene diisocyanate etc. are mentioned.
The alicyclic polyisocyanate includes, for example, an isocyanurate of isophorone diisocyanate, an oligomer of isophorone diisocyanate and the like.
Also preferred is a blocked isocyanate obtained by blocking these compounds. The blocking agent is preferably, for example, ε-caprolactam, butanone oxime, phenol, an active methylene compound and the like.

エポキシ化合物は、エポキシ基を有する化合物である。エポキシ化合物の性状は、液体と固体がある。エポキシ化合物は、グリジシルエーテル型エポキシ樹脂、グリジシルアミン型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、および環状脂肪族(脂環型)エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂が好ましい。   The epoxy compound is a compound having an epoxy group. The properties of epoxy compounds are liquid and solid. The epoxy compound is preferably an epoxy resin such as a glycidyl ether type epoxy resin, a glycidyl amine type epoxy resin, a glycidyl ester type epoxy resin, and a cyclic aliphatic (alicyclic type) epoxy resin.

グリシジルエーテル型エポキシ樹脂は、例えばビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂の、クレゾール構造とクレゾール構造の間にビフェニル構造を有するエポキシ樹脂(日本化薬社製:NC−3000等)、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂の、クレゾール構造とクレゾール構造の間にジシクロペンタジエン骨格構造を有するエポキシ樹脂(日本化薬社製:XD−1000等)、α−ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型ノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリス(グリシジルオキシフェニル)メタン、およびテトラキス(グリシジルオキシフェニル)エタン等が挙げられる。   The glycidyl ether type epoxy resin is, for example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin And epoxy resin having biphenyl structure between cresol structure and cresol structure (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .: NC-3000 etc.), cresol novolak type epoxy resin, having dicyclopentadiene skeleton structure between cresol structure and cresol structure Epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .: XD-1000, etc.), α-naphthol novolac type epoxy resin, bisphenol A type novolac type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, Phenyl type epoxy resin, tris (glycidyloxy) methane, and tetrakis (glycidyloxyphenyl) ethane and the like.

グリシジルアミン型エポキシ樹脂は、例えばテトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルパラアミノフェノール、トリグリシジルメタアミノフェノール、およびテトラグリシジルメタキシリレンジアミン等が挙げられる。   Examples of glycidyl amine type epoxy resins include tetraglycidyldiaminodiphenylmethane, triglycidyl paraaminophenol, triglycidyl metaaminophenol, and tetraglycidyl metaxylylene diamine.

グリシジルエステル型エポキシ樹脂は、例えばジグリシジルフタレート、ジグリシジル
ヘキサヒドロフタレート、およびジグリシジルテトラヒドロフタレート等が挙げられる。
Examples of glycidyl ester type epoxy resins include diglycidyl phthalate, diglycidyl hexahydrophthalate, and diglycidyl tetrahydrophthalate.

環状脂肪族(脂環型)エポキシ樹脂は、例えばエポキシシクロヘキシルメチル−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、およびビス(エポキシシクロヘキシル)アジペート等が挙げられる。   Examples of cyclic aliphatic (alicyclic) epoxy resins include epoxycyclohexylmethyl-epoxycyclohexanecarboxylate, and bis (epoxycyclohexyl) adipate.

本発明の導電性ペーストに用いられる硬化剤のうちアジリジン化合物としては、例えば、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、テトラメチロールメタン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、N,N−ヘキサメチレン−1,6−ビス−1−アジリジンカルボキシアミド、4,4−ビス(エチレンイミノカルボキルアミノ)ジフェニルメタン等が挙げられる。   Among the curing agents used for the conductive paste of the present invention, as the aziridine compound, for example, trimethylolpropane-tri-β-aziridinyl propionate, tetramethylolmethane-tri-β-aziridinyl propionate, N, N-hexamethylene-1,6-bis-1-aziridinecarboxamide, 4,4-bis (ethyleneiminocarboxylamino) diphenylmethane and the like can be mentioned.

オキサゾリン化合物は、例えば2,2'−(1,3−フェニレン)−ビス(2−オキサゾリン)等が挙げられる。   Examples of the oxazoline compound include 2,2 ′-(1,3-phenylene) -bis (2-oxazoline) and the like.

カルボジイミド化合物は、例えばジシクロヘキシルカルボジイミド、およびカルボジライト(日清紡社製、ポリカルボジイミド系樹脂)等が挙げられる。   Examples of carbodiimide compounds include dicyclohexyl carbodiimide, and carbodilite (polycarbodiimide resin manufactured by Nisshinbo Co., Ltd.).

アミン化合物は、例えばジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン等が挙げられる。   Examples of the amine compound include diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine and the like.

酸無水物基含有化合物は、例えばテトラヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、無水メチルナジック酸、無水トリメリット酸、および無水ピロメリット酸等が挙げられる。
硬化剤は、単独または2種類以上を併用できる。
Examples of the acid anhydride group-containing compound include tetrahydrophthalic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, methyl nadic anhydride, trimellitic anhydride, and pyromellitic anhydride.
The curing agents may be used alone or in combination of two or more.

硬化剤は、バインダ樹脂100質量部に対して、0.5〜20質量部を配合することが好ましい。硬化剤を前記範囲内で使用すると導電性被膜の密着性、および耐熱性がより向上する。   The curing agent is preferably blended in an amount of 0.5 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin. When the curing agent is used within the above range, the adhesion of the conductive film and the heat resistance are further improved.

本発明の導電性ペーストは、硬化反応を促進するために硬化促進剤等の添加剤を配合できる。硬化促進剤は、ジシアンジアミド、3級アミン化合物、ホスフィン化合物、イミダゾール化合物、カルボン酸ヒドラジド、脂肪族または芳香族ジメチルウレア等のジアルキルウレア、酸無水物等が使用できる。なお、前記添加剤は、エポキシ樹脂の硬化促進に効果的である。     The conductive paste of the present invention can be blended with additives such as a curing accelerator to accelerate the curing reaction. As the curing accelerator, dicyandiamide, tertiary amine compounds, phosphine compounds, imidazole compounds, carboxylic acid hydrazides, dialkylureas such as aliphatic or aromatic dimethylureas, acid anhydrides and the like can be used. In addition, the said additive is effective in hardening acceleration | stimulation of an epoxy resin.

3級アミン化合物は、例えばトリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデセンー7、および1,5−ジアザビシクロ(4.3.0)ノネン−5等が挙げられる。
ホスフィン化合物は、例えばトリフェニルホスフィン、およびトリブチルホスフィン等が挙げられる。
イミダゾール化合物は、例えば2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、および2−フェニルイミダゾール等、ならびにこれらとエポキシ樹脂を反応させて溶剤に不溶化した化合物、ならびにこれらをマイクロカプセルに封入したタイプ等の保存安定性を改良した潜在性硬化促進剤等が挙げられる。
Examples of tertiary amine compounds include triethylamine, benzyldimethylamine, 1,8-diazabicyclo (5.4.0) undecen-7, and 1,5-diazabicyclo (4.3.0) nonene-5.
The phosphine compounds include, for example, triphenyl phosphine, tributyl phosphine and the like.
The imidazole compounds are, for example, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2-phenylimidazole, etc., and reaction thereof with an epoxy resin. And compounds which are insolubilized in a solvent, as well as latent curing accelerators having improved storage stability, such as a type in which these are encapsulated in microcapsules.

カルボン酸ヒドラジドは、例えばコハク酸ヒドラジド、アジピン酸ヒドラジド等を挙げることができる。酸無水物としては、テトラヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、無水メチルナジック酸、無水トリメリット酸、および無水ピロメリット酸等が挙げられる。
前記添加剤は、単独または2種類以上を併用できる。
Examples of carboxylic acid hydrazides include succinic acid hydrazide and adipic acid hydrazide. Examples of the acid anhydride include tetrahydrophthalic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, methyl nadic anhydride, trimellitic anhydride, and pyromellitic anhydride.
The additives may be used alone or in combination of two or more.

前記添加剤は、バインダ樹脂100質量部に対して0.1〜30質量部を配合することが好ましい。   It is preferable that the said additive mix | blends 0.1-30 mass parts with respect to 100 mass parts of binder resin.

本発明の導電性ペーストは、必要に応じて耐摩擦向上剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、芳香剤、酸化防止剤、有機顔料、無機顔料、消泡剤、可塑剤、難燃剤、および保湿剤等を含むことができる。   The conductive paste of the present invention may optionally contain a friction improver, an infrared absorber, an ultraviolet absorber, an aromatic, an antioxidant, an organic pigment, an inorganic pigment, an antifoamer, a plasticizer, a flame retardant, and a moisturizing agent. And the like.

本発明の導電性ペーストの製造は、上段で説明した原料を所定の割合で配合して攪拌機で混合することで作成できる。攪拌機は、プラネタリーミキサー、およびデスパー等の公知の装置を使用できる。また、攪拌機に加えて、分散を行うことで導電性微粒子をより微細に分散できる。分散機は、ボールミル、ビーズミル、および3本ロール等が挙げられる。
本発明の導電性シートは、シート状基材と、レーザー加工用導電性ペーストから形成してなる導電性被膜とを備えている。導電性シートの製造方法の1例を挙げると、例えば、導電性ペーストを基材上に印刷することで導電性被膜を形成できる。前記導電性被膜は、表面が平滑であるためレーザー加工性が良好である。導電性被膜の表面平滑性は、表面粗さRa0.3μm以下が好ましく、0.25μm以下が好ましい。また、Raの下限値は、0μmが好ましいが、実際には技術的に難しいため現状0.1μm程度である。Raが0.3μm以下になると表面の凸凹が少ないのでレーザー光が乱反射にし難く直進性が高い回路パターンを形成し易くなる。なおRaは、算術平均高さであり接触式表面形状粗さ測定機Talysurf60(アメテック社製)等で測定できる。
The conductive paste of the present invention can be produced by blending the raw materials described in the upper part at a predetermined ratio and mixing them with a stirrer. As a stirrer, a known mixer such as a planetary mixer and a desper can be used. Further, conductive fine particles can be dispersed more finely by dispersing in addition to a stirrer. The dispersing machine may, for example, be a ball mill, a bead mill, or a 3-roll mill.
The conductive sheet of the present invention is provided with a sheet-like substrate and a conductive film formed from the conductive paste for laser processing. If one example of the manufacturing method of a conductive sheet is given, a conductive film can be formed by printing a conductive paste on a substrate, for example. The conductive film has a smooth surface and thus has good laser processability. The surface smoothness of the conductive film is preferably 0.3 μm or less, and more preferably 0.25 μm or less. The lower limit value of Ra is preferably 0 μm, but is actually about 0.1 μm because it is technically difficult in practice. When Ra is 0.3 μm or less, the unevenness of the surface is small, so that it is difficult for the laser light to be irregularly reflected and it becomes easy to form a circuit pattern having high straightness. In addition, Ra is an arithmetic mean height, and can be measured by a contact type surface shape roughness measuring device Talysurf 60 (manufactured by Ametec Co., Ltd.) or the like.

前記印刷は、例えばスクリーン印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、グラビア印刷、およびグラビアオフセット印刷等が好ましく、スクリーン印刷がより好ましい。スクリーン印刷で使用するスクリーン版は、導電回路パターンの高精細化、導電性被膜の平滑性に対応すべく微細なメッシュ、特に好ましくは400〜650メッシュ程度の微細なメッシュのスクリーンを用いることが好ましい。この時のスクリーンの開放面積は20〜50%が好ましい。スクリーン線径は約10〜70μmが好ましい。
また、印刷後、乾燥工程を行なうことが好ましい。乾燥工程は、熱風オーブン、赤外線オーブン、およびマイクロウエーブオーブン、ならびにこれらを複合した複合オーブン等公知の乾燥装置が挙げられる。
For example, screen printing, flexographic printing, offset printing, gravure printing, gravure offset printing and the like are preferable, and screen printing is more preferable. As the screen plate used for screen printing, it is preferable to use a fine mesh screen, particularly preferably a fine mesh screen of about 400 to 650 mesh, in order to correspond to the high definition of the conductive circuit pattern and the smoothness of the conductive film. . The open area of the screen at this time is preferably 20 to 50%. The screen wire diameter is preferably about 10 to 70 μm.
Moreover, it is preferable to perform a drying process after printing. The drying process includes known drying devices such as a hot air oven, an infrared oven, and a microwave oven, and a composite oven in which these are combined.

シート状基材は、特に限定されるものではなく、例えば、ポリイミドフィルム、ポリパラフェニレンテレフタルアミドフィルム、ポリエーテルニトリルフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、およびポリアクリルフィルム等が挙げられる。またこれらのフィルム上にITO(スズドープ酸化インジウム)層を形成したITOフィルム、およびガラス板上にITO層を形成したITOガラスも挙げられる。また、基材は、セラミック板上にITO層を形成したITOセラミックも挙げられる、なおITO層は、フィルムないし板の全面に形成する必要は無く部分的で形成されていても良い。   The sheet-like substrate is not particularly limited, and, for example, polyimide film, polyparaphenylene terephthalamide film, polyether nitrile film, polyether sulfone film, polyethylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, polybutylene terephthalate film And polycarbonate films, polyvinyl chloride films, and polyacrylic films. Moreover, the ITO film which formed the ITO (tin dope indium oxide) layer on these films, and the ITO glass which formed the ITO layer on the glass plate are also mentioned. The substrate may also be an ITO ceramic in which an ITO layer is formed on a ceramic plate. The ITO layer does not have to be formed on the entire surface of the film or plate, and may be partially formed.

シート状基材の厚みは、特に限定されないが、50〜350μm程度であり、100〜250μmがより好ましい。前記範囲の厚みにより基材の機械特性、形状安定性、寸法安定性、およびハンドリング面等が適切になりやすい。   The thickness of the sheet-like substrate is not particularly limited, but is about 50 to 350 μm, and more preferably 100 to 250 μm. By the thickness in the above range, mechanical properties, shape stability, dimensional stability, handling surface and the like of the substrate tend to be appropriate.

導電性被膜の厚みは、通常3〜30μmが好ましく、4〜10μmがより好ましい。厚みが3〜30μmになることで非照射部のレーザー光の影響を抑制し、基材と密着性がより向上する。   3-30 micrometers is preferable normally, and, as for the thickness of a conductive film, 4-10 micrometers is more preferable. By setting the thickness to 3 to 30 μm, the influence of the laser light of the non-irradiated part is suppressed, and the adhesion to the substrate is further improved.

本発明の導電性ペーストを使用した配線回路の製造方法を説明する。
シート状基材上に、本発明のレーザー加工用導電性ペーストを印刷して導電性被膜を形成する第一の工程、
次いで、前記導電性被膜にレーザーを照射して、前記導電性被膜の一部を除去することで配線回路を形成する第二の工程を備えている。
The manufacturing method of the wiring circuit using the conductive paste of this invention is demonstrated.
A first step of printing the conductive paste for laser processing of the present invention on a sheet-like substrate to form a conductive film,
Then, the conductive film is irradiated with a laser to remove a part of the conductive film, thereby forming a wiring circuit.

前記第二の工程は、第一の工程で得られた導電性被膜にレーザー光を照射して所望のL/Sを有する配線回路を形成する工程である。導電性被膜にレーザー光を照射された部分は、レーザーエネルギーを吸収して温度が急激に数千度に上昇することで、当該部分の溶融と蒸発、ないし瞬時にプラズマになり、導電性塗膜が除去されると考えられている。   The second step is a step of forming a wiring circuit having a desired L / S by irradiating the conductive film obtained in the first step with a laser beam. The portion of the conductive film irradiated with the laser light absorbs the laser energy and the temperature rapidly rises to several thousand degrees, and the portion melts and evaporates to become plasma instantly, and the conductive coating film Is believed to be eliminated.

レーザー光は、基本波の波長が193〜10600nmの範囲が好ましい。具体的にはエキシマレーザー(基本波の波長:193〜308nm)、YVO4レーザー(基本波の波長:1064nm)、YAGレーザー(基本波の波長:1064nm)、ファイバーレーザー(基本波の波長:1060nm),CO2レーザー(基本波の波長:10600nm)、および半導体レーザー等が挙げられる。
本発明では、特にYAGレーザーが基材に対するダメージが少ないので好ましい。
The laser light preferably has a fundamental wave wavelength of 193 to 10600 nm. Specifically, excimer laser (wavelength of fundamental wave: 193 to 308 nm), YVO 4 laser (wavelength of fundamental wave: 1064 nm), YAG laser (wavelength of fundamental wave: 1064 nm), fiber laser (wavelength of fundamental wave: 1060 nm) , CO 2 lasers (wavelength of fundamental wave: 10600 nm), and semiconductor lasers.
In the present invention, YAG laser is particularly preferable because the damage to the substrate is small.

レーザー光を使用する際の出力、走査速度および周波数は、導電性被膜が除去できる程度の条件であれば良く、限定されないが、一般的に出力は1〜50W、走査速度は1,000〜4,000mm/s、および周波数は10〜400kHz程度である。
また、レーザー光の走査(照射)を複数回繰り返し行うこともできる。
The output, scanning speed and frequency when using laser light may be any conditions that can remove the conductive film, and are not limited, but generally the output is 1 to 50 W, the scanning speed is 1,000 to 4 And 1000 mm / s, and the frequency is about 10 to 400 kHz.
In addition, scanning (irradiation) of laser light can be repeated plural times.

上記製造方法で得た配線回路は、L/Sが30μm/30μm以下の超高精細パターンが得やすいため、視認性が重要なタッチパネルの構成部材に使用できる。また、フラットパネルディスプレイ、太陽電池の用途に使用しても良い。   The wiring circuit obtained by the above-mentioned manufacturing method can be used as a component of a touch panel whose visibility is important, since an ultra-high definition pattern with L / S of 30 μm / 30 μm or less can be easily obtained. Moreover, you may use for the use of a flat panel display and a solar cell.

本発明の電子機器は、レーザー加工用導電性ペーストを使用して形成した配線回路を備えている。前記電子機器は、携帯電話、スマートフォン、タブレット端末。ノート型PC,電子書籍、カーナビゲーション等のタッチパネルディスプレイを備えた電子デバイスが挙げられる。また、ディスプレイが無くともレーザー加工により形成した配線回路を備えた電子機器等、例えばデジタルカメラ、ビデオカメラ、CD・DVDプレーヤー等に制限無く使用できる。   The electronic device of the present invention includes a wiring circuit formed using a conductive paste for laser processing. The electronic device is a mobile phone, a smartphone, or a tablet terminal. Examples include electronic devices provided with a touch panel display such as a laptop PC, an electronic book, and a car navigation. In addition, even without a display, it can be used without limitation in electronic devices and the like provided with a wiring circuit formed by laser processing, such as digital cameras, video cameras, CD / DVD players and the like.

以下、実施例、比較例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。なお、「部」は「質量部」、「%」は「質量%」を意味する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples. In addition, "part" means "mass part" and "%" means "mass%."

(バインダ樹脂1)
JER1256(ビスフェニールA型エポキシ樹脂、数平均分子量(Mn)25,000、Tg95℃、エポキシ当量7,500、水酸基価190、三菱化学社製)40部をイソホロン30部、γ−ブチロラクトン30部に溶解し、不揮発分40%のバインダ樹脂溶液(1)を得た。
(Binder resin 1)
40 parts of JER 1256 (bisphenyl A type epoxy resin, number average molecular weight (Mn) 25,000, Tg 95 ° C, epoxy equivalent 7,500, hydroxyl value 190, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 30 parts isophorone, 30 parts γ-butyrolactone It melt | dissolved and obtained the binder resin solution (1) of 40% of a non volatile matter.

(バインダ樹脂2)
JER4250(ビスフェニールA型エポキシ樹脂およびビスフェノールF型エポキシ樹脂の混合物、Mn24,000、Tg70℃、エポキシ当量8,500、水酸基価180、三菱化学社製)40部をイソホロン30部、γ−ブチロラクトン30部に溶解し、不揮発分40%のバインダ樹脂溶液(2)を得た。
(Binder resin 2)
40 parts of JER 4250 (a mixture of bisphenyl A-type epoxy resin and bisphenol F-type epoxy resin, Mn 24,000, Tg 70 ° C., epoxy equivalent 8,500, hydroxyl value 180, Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) 30 parts isophorone, 30 γ-butyrolactone The mixture was dissolved in a portion to obtain a binder resin solution (2) having a nonvolatile content of 40%.

(バインダ樹脂3)
バイロン650(ポリエステル樹脂、Mn23,000、Tg10℃、水酸基価5,酸価1、東洋紡社製)40部をイソホロン30部、γ−ブチロラクトン30部に溶解し、不揮発分40%のバインダ樹脂溶液(3)を得た。
(Binder resin 3)
40 parts of Byron 650 (polyester resin, Mn 23,000, Tg 10 ° C., hydroxyl number 5, acid number 1, acid number 1, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) is dissolved in 30 parts of isophorone and 30 parts of γ-butyrolactone to obtain a binder resin solution with a nonvolatile content of 40% I got 3).

(バインダ樹脂4)
攪拌機、温度計、還流冷却管、窒素ガス導入管を備えた反応装置に、イソフタル酸と3−メチル−1,5ペンタンジオールで合成したポリエステルポリオール(クラレポリオールP−2030、Mn2033、クラレ社製)127.4部、ジメチロールブタン酸1.9部、イソホロンジイソシアネート15.9部、ジブチルチンジラウレート0.04部及びジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート43部を仕込み、窒素気流下にて90℃で5時間反応させた。次いでジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート102部を加えることで、Mn19,000、Tg17℃、水酸基価3、酸価5のポリウレタン樹脂の溶液を得た。ポリウレタン樹脂の溶液100部にイソホロン25部を加え、不揮発分40%のポリウレタン樹脂のバインダ樹脂溶液(4)を得た。
(Binder resin 4)
Polyester polyol synthesized from isophthalic acid and 3-methyl-1,5 pentanediol in a reactor equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, and nitrogen gas inlet (Kuraray polyol P-2030, Mn2033, Kuraray Co., Ltd.) Charge 127.4 parts, 1.9 parts of dimethylolbutanoic acid, 15.9 parts of isophorone diisocyanate, 0.04 parts of dibutyltin dilaurate and 43 parts of diethylene glycol monoethyl ether acetate, and react at 90 ° C. for 5 hours under nitrogen stream I did. Subsequently, 102 parts of diethylene glycol monoethyl ether acetate was added to obtain a solution of a polyurethane resin having a Mn of 19,000, a Tg of 17 ° C., a hydroxyl value of 3, and an acid value of 5. 25 parts of isophorone was added to 100 parts of the polyurethane resin solution to obtain a binder resin solution (4) of polyurethane resin having a nonvolatile content of 40%.

(バインダ樹脂5)
攪拌機、温度計、還流冷却管、窒素ガス導入管を備えた反応装置に、P−2030 90.9部、ジメチロールブタン酸1.5部、イソホロンジイソシアネート17.1部、ジブチルチンジラウレート0.03部及びジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート23部を仕込み、窒素気流下にて90℃で3時間反応させた。次いでジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート72部を加えることで、イソシアネート基を有するウレタンプレポリマー溶液を得た。次にイソホロンジアミン3.18部、ジ−n−ブチルアミン0.36部ジエチレングリコールモノエチルエーテル17.9部、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート56.7部の混合物に、得られたイソシアネート基を有するウレタンプレポリマー溶液204.5部を添加し、50℃で3時間反応させた後、90℃で2時間反応させることで、Mn17,000、Tg19℃、酸価5、不揮発分40%のポリウレタンウレア樹脂のバインダ樹脂溶液(5)を得た。
(Binder resin 5)
A reactor equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a nitrogen gas inlet pipe: 90.9 parts of P-2030, 1.5 parts of dimethylol butanoic acid, 17.1 parts of isophorone diisocyanate, 0.03 dibutyltin dilaurate Parts and 23 parts of diethylene glycol monoethyl ether acetate were charged and reacted at 90.degree. C. for 3 hours under a nitrogen stream. Then, 72 parts of diethylene glycol monoethyl ether acetate was added to obtain a urethane prepolymer solution having an isocyanate group. Next, a mixture of 3.18 parts of isophorone diamine, 0.36 parts of di-n-butylamine, 17.9 parts of diethylene glycol monoethyl ether, and 56.7 parts of diethylene glycol monoethyl ether acetate, the obtained urethane prepolymer having an isocyanate group obtained 204.5 parts of the solution is added, reacted at 50 ° C. for 3 hours, and reacted at 90 ° C. for 2 hours, and a binder of polyurethane urea resin having Mn 17,000, Tg 19 ° C., acid value 5 and nonvolatile content 40% Resin solution (5) was obtained.

なお、バインダ樹脂1〜5のMn、Tg、エポキシ当量、酸価および水酸基価は以下の方法に従って求めた。   The Mn, Tg, epoxy equivalent, acid value and hydroxyl value of the binder resins 1 to 5 were determined according to the following method.

<数平均分子量(Mn)の測定>
装置:GPC(ゲルパーミッションクロマトグラフィー)
機種:昭和電工(株)社製 Shodex GPC−101
カラム:昭和電工(株)社製 GPC KF−G+KF805L+KF803L+KF 802
検出器:示差屈折率検出器 昭和電工(株)社製 Shodex RI−71
溶離液:THF
流量 :サンプル側:1mL/分、リファレンス側:0.5mL/分
温度 :40℃
サンプル:0.2%THF溶液(100μLインジェクション)
検量線:東ソー(株)社製の下記の分子量の標準ポリスチレン12点を用いて検量線を作成した。
F128(1.09X106)、F80(7.06X105)、F40(4.27X105)、F20(1.90X105)、F10(9.64X104)、F4(3.79X104)、F2(1.81X104)、F1(1.02X104)、A5000(5.97X103)、A2500(2.63X103)、A1000(1.05X103)、A500(5.0X102)。
ベースライン:GPC曲線の最初のピークの立ち上がり点を起点とし、リテンションタイム25分(分子量3,150)でピークが検出されなかったので、これを終点とした。そして、両点を結んだ線をベースラインとして、分子量を計算した。
<Measurement of Number Average Molecular Weight (Mn)>
Device: GPC (gel permeation chromatography)
Model: Shodex GPC-101 manufactured by Showa Denko KK
Column: Showa Denko KK GPC KF-G + KF805L + KF803L + KF 802
Detector: Differential Refractive Index Detector Shodex RI-71 manufactured by Showa Denko KK
Eluent: THF
Flow rate: sample side: 1 mL / min, reference side: 0.5 mL / min Temperature: 40 ° C
Sample: 0.2% THF solution (100 μL injection)
Calibration curve: A calibration curve was prepared using 12 standard polystyrenes of the following molecular weight manufactured by Tosoh Corporation.
F128 (1.09 × 10 6 ), F80 (7.06 × 10 5 ), F40 (4.27 × 10 5 ), F20 (1.90 × 10 5 ), F10 (9.64 × 10 4 ), F4 (3.79 × 10 4 ), F2 1.81 × 10 4 ), F1 (1.02 × 10 4 ), A5000 (5.97 × 10 3 ), A2500 (2.63 × 10 3 ), A1000 (1.05 × 10 3 ), A500 (5.0 × 10 2 ).
Baseline: Starting from the rising point of the first peak of the GPC curve, no peak was detected at a retention time of 25 minutes (molecular weight: 3,150), and this was used as the end point. Then, the molecular weight was calculated using a line connecting the two points as a baseline.

<Tgの測定>
・装置:セイコーインスツルメンツ(株)社製示差走査熱量分析計DSC−220C
・試料:約10mg(0.1mgまで量る)
・昇温速度:10℃/分にて200℃まで測定
・Tg温度:低温側のベースラインを高温側に延長した直線と、融解ピークの低温側の 曲線に勾配が最大になる点で引いた折線の交点の温度とした。
<Measurement of Tg>
Device: Differential Scanning Calorimeter DSC-220C manufactured by Seiko Instruments Inc.
Sample: about 10 mg (scale to 0.1 mg)
Temperature rising rate: 200 ° C. at 10 ° C./min Tg temperature: A straight line extending the baseline on the low temperature side to the high temperature side and a curve on the low temperature side of the melting peak drawn at the point where the slope is maximum It was the temperature at the intersection of the broken lines.

<エポキシ当量の測定>
JIS K 7236 に準拠して測定した。
<水酸基価、酸価の測定>
JIS K 0070 に準拠して測定した。
<Measurement of epoxy equivalent>
It measured based on JISK7236.
<Measurement of hydroxyl value and acid value>
It measured based on JISK 0070.

<導電性粒子>
銀粉A:球状銀粉(D50粒子径1.6μm、比表面積1.0m2/g)
銀粉B:凝集銀粉(D50粒子径0.9μm、比表面積1.5m2/g)
<導電性粒子D50粒子径測定>
島津製作所社製レーザー回折粒度分布測定装置「SALD−3000」を用いて、体積粒度分布の累積粒度(D50)を測定した。
<Conductive particles>
Silver powder A: spherical silver powder (D50 particle size 1.6 μm, specific surface area 1.0 m 2 / g)
Silver powder B: Aggregated silver powder (D50 particle size 0.9 μm, specific surface area 1.5 m 2 / g)
<Conductive particle D50 particle size measurement>
The accumulated particle size (D50) of the volume particle size distribution was measured using a laser diffraction particle size distribution measuring apparatus "SALD-3000" manufactured by Shimadzu Corporation.

[分散剤A]アルミニウムキレートALCH−90F(アルミニウムエチルアセトアセテートジイソプロピオネート、不揮発分90%、川研ファインケミカル社製)
[分散剤B]DISPERBYK−140(樹脂型分散剤:カルボキシル基、アミノ基およびポリアクリルユニットを有するアンモニウム塩、酸価73KOHmg/g、アミン価76KOHmg/g、不揮発分52% ビックケミー・ジャパン社製)
[分散剤C]HypermerKD−8(樹脂型分散剤:カルボキシル基含有脂肪酸エステル共重合体、酸価33KOHmg/g、不揮発分100% クローダジャパン社製)
[Dispersant A] Aluminum chelate ALCH-90F (Aluminum ethyl acetoacetate diisopropionate, non volatile matter 90%, Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.)
[Dispersing agent B] DISPERBYK-140 (resin type dispersing agent: ammonium salt having a carboxyl group, an amino group and a polyacrylic unit, acid value 73 KOHmg / g, amine value 76 KOHmg / g, non volatile matter 52%, manufactured by BIC Chemie Japan)
[Dispersing agent C] Hypermer KD-8 (Resin type dispersing agent: carboxyl group-containing fatty acid ester copolymer, acid value 33 KOH mg / g, non-volatile content 100% manufactured by Croda Japan)

<レーザー光吸収剤>
[吸収剤A]ニグロシンベースEX(オリエント化学工業社製)
[吸収剤B]ニグロシンベースEX―BP(オリエント化学工業社製)
[吸収剤C]Oil Black 109(中央合成化学化学社製)
[吸収剤D]カーボンブラック#3030B(三菱化学社製)
なお、吸収剤A〜C各1gを、各ペーストに含まれる有機溶剤100g(23℃)に入れたところ、速やかに溶け、溶け残りは観察されなかった。一方、吸収剤Dは同様にしたが、溶けなかった。
<Laser light absorber>
[Absorbent A] Nigrosine Base EX (manufactured by Orient Chemical Industries, Ltd.)
[Absorbent B] Nigrosine Base EX-BP (manufactured by Orient Chemical Industries, Ltd.)
[Absorbent C] Oil Black 109 (manufactured by Chuo Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.)
[Absorbent D] Carbon Black # 3030B (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
When 1 g of each of the absorbents A to C was added to 100 g (23 ° C.) of the organic solvent contained in each paste, it was rapidly dissolved, and no undissolved matter was observed. On the other hand, Absorbent D was similar but did not dissolve.

<実施例1>
バインダ樹脂溶液(1):250部(バインダ樹脂1:100部を含む)と、分散剤A:2.8部(不揮発分:2.5部を含む)、銀粉A:391.5部、吸収剤C:1.2部、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート:37部とをプラネタリーミキサーにて混合後し、次いで3本ロールを使用して分散することで導電性ペーストを調製した。
Example 1
Binder resin solution (1): 250 parts (including binder resin 1: 100 parts), dispersing agent A: 2.8 parts (nonvolatile content: including 2.5 parts), silver powder A: 391.5 parts, absorption A conductive paste was prepared by mixing 1.2 parts of agent C and 37 parts of diethylene glycol monobutyl ether acetate: 37 parts by a planetary mixer and then dispersing using a three-roll.

<実施例2〜10、比較例1〜4>
樹脂溶液、銀粉、分散剤、吸収剤を表1に示す配合比率にした以外は、実施例1と同様に行なうことで、それぞれ実施例2〜10、および比較例1〜4の導電性ペーストを調整した。
Examples 2 to 10, Comparative Examples 1 to 4
The conductive pastes of Examples 2 to 10 and Comparative Examples 1 to 4 are obtained in the same manner as Example 1, except that the resin solution, the silver powder, the dispersant, and the absorbent are mixed as shown in Table 1. It was adjusted.

[導電性シートの作成]
厚さ75μmのコロナ処理したポリエチレンテレフタレートフィルム(以下、PETフィルムという)上に得られた導電性インキを、縦15mm×横30mmのパターン形状にスクリーン印刷し、135℃オーブンにて30分乾燥させ、膜厚が約5μmの導電性シートを得た。なお、導電性シートの厚みはMH−15M型測定器(ニコン社製)を用いて測定した。
[Create conductive sheet]
The conductive ink obtained on a corona-treated polyethylene terephthalate film (hereinafter referred to as PET film) having a thickness of 75 μm is screen printed in a pattern of 15 mm long × 30 mm wide, and dried in an oven at 135 ° C. for 30 minutes. A conductive sheet having a thickness of about 5 μm was obtained. In addition, the thickness of the electroconductive sheet was measured using MH-15M type | mold measuring device (made by Nikon Corporation).

<表面粗さRaの測定>
得られた導電性シートにおける導電性被膜の表面粗さRaを接触式表面形状粗さ測定器Talysurf60(アメテック社製)を用いて測定を行い、解析ソフト「Taly Map Platinum ver.5.0」(アメテック社製)を用いて解析した。
測定条件は下記の通りである。
・測定範囲:5mm×5mm
・本数:51本
・速度:0.5mm/s
解析は4mm×4mmの範囲で0.25μmのフィルターをかけてうねりを取り除いたデータを用いてパラメーターの算出を行った。
<Measurement of surface roughness Ra>
The surface roughness Ra of the conductive film in the obtained conductive sheet was measured using a contact-type surface profile roughness tester Talysurf 60 (manufactured by Ametec Corporation), and analysis software “Taly Map Platinum ver. 5.0” ( It analyzed using Ametech company make).
The measurement conditions are as follows.
・ Measurement range: 5mm x 5mm
・ Number: 51 ・ Speed: 0.5 mm / s
In the analysis, parameters were calculated using data obtained by applying a 0.25 μm filter in a range of 4 mm × 4 mm to remove waviness.

[レーザー加工感度の評価]
導電性ペーストを、高精度スクリーン印刷装置(SERIA、東海精機社製)を用いて、厚さ75μmの未処理PETフィルムに印刷し、135℃で30分乾燥することで厚さ約6μmの導電性被膜を有する導電性シートを得た。なおスクリーン印刷版は、図1に示す様に縦205mm・幅340mmの領域に、幅6mm、縦115mm、横65mmの窓枠柄画像部を4個有する版を使用した。なお、印刷条件は下記の通りである。
[Evaluation of laser processing sensitivity]
The conductive paste is printed on an untreated PET film with a thickness of 75 μm using a high precision screen printer (SERIA, manufactured by Tokai Seiki Co., Ltd.), and dried for 30 minutes at 135 ° C. to a conductivity of about 6 μm in thickness A conductive sheet having a coating was obtained. As shown in FIG. 1, the screen printing plate used was a plate having four window frame pattern image portions each having a width of 6 mm, a length of 115 mm and a width of 65 mm in an area of 205 mm long and 340 mm wide. The printing conditions are as follows.

(スクリーン印刷条件)
・スクリーン :ステンレス版400メッシュ、線径18μm
・乳剤厚 :10μm
・スクリーン枠 :650×550mm
・スキージ角度 :70°
・スキージ硬度 :80°
・スキージ速度 :150mm/秒
・スキージ印圧 :15kgf
・スキージ押込み:1.5mm
・クリアランス :2.5mm
・使用した溶剤:エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート
(Screen printing conditions)
Screen: Stainless steel plate 400 mesh, wire diameter 18 μm
Emulsion thickness: 10 μm
・ Screen frame: 650 × 550 mm
・ Squeegee angle: 70 °
・ Squeegee hardness: 80 °
Squeegee speed: 150 mm / sec Squeegee pressure: 15 kgf
・ Squeegee indentation: 1.5 mm
・ Clearance: 2.5 mm
・ Used solvent: ethylene glycol monobutyl ether acetate

次いで、得られた導電性シートの窓枠柄状の導電性被膜の角部に対して、図2の拡大図に示すように縦線(長さ70mm)、横線(長さ30mm)及びコーナー部からなる16本のL/Sが20μm/20μmの配線パターンの形成を目的としてレーザー加工を行なった。レーザー加工条件は下記の通りである。
(レーザー加工条件)
・レーザー加工機 : Suzhou Delphi Laser Co.,LTD社製 Ag Laser Etching System
・レーザー光:YAGレーザー(基本波の波長1064nm)
・最大出力:20W
・ビーム径:20μm
・周波数:300kHz
・パルス幅:25nm
・走査速度:2000mm/s
・走査回数:2回
Next, with respect to the corner portion of the window frame-like conductive film of the obtained conductive sheet, as shown in the enlarged view of FIG. 2, a vertical line (70 mm in length), a horizontal line (30 mm in length) and a corner Laser processing was performed for the purpose of forming a wiring pattern of 16 L / S of 20 μm / 20 μm. The laser processing conditions are as follows.
(Laser processing conditions)
-Laser processing machine: Suzhou Delphi Laser Co., LTD Ag Laser Etching System
Laser light: YAG laser (wavelength 1064 nm of fundamental wave)
・ Maximum output: 20W
・ Beam diameter: 20 μm
・ Frequency: 300kHz
・ Pulse width: 25 nm
・ Scanning speed: 2000 mm / s
・ Number of scans: 2 times

スペース幅:20μmを加工できるレーザー出力にて下記の基準で評価した。
○:最大出力の25%以下。
△:最大出力の25%超え〜35%以下。
×:最大出力の35%超え。
Space width: It evaluated by the following reference | standard in the laser output which can process 20 micrometers.
○: 25% or less of the maximum output.
Fair: 25% or more to 35% or less of the maximum output.
X: Over 35% of the maximum output.

<線とび性評価>
出力45%でレーザーを過剰に照射した場合、線の残存状態を下記の基準で評価した。
○:線が、残存している。
△:線が、一部残存している。
×:線が、殆んど残存していない。
<Line flyover evaluation>
When the laser was excessively irradiated at an output of 45%, the remaining state of the line was evaluated based on the following criteria.
○: The line remains.
Δ: The line is partially left.
X: The line hardly remains.

<レーザー加工評価>
導電性シートを使用して、最大出力の25%にて加工した。スペース幅のばらつき度合いの評価するためにデジタルマイクロスコープ(VHX−900 キーエンス社製)を用いて撮影した。撮影した拡大写真を小型汎用画像解析装置「LUZEX AP」(ニレコ社製)を用いて導電性被膜が除去された部分のスペース幅を読み取った。
前記回路パターンの任意のスペース8本を選択し、1本につき460箇所、8本合計で3680箇所のスペース幅を測定し、平均値、標準偏差を求めた。
スペース幅の平均値を下記の基準で判定した。
○:スペース幅が平均18〜22μm。良好。
△:スペース幅が平均16〜17μm、または23〜24μm。実用上問題ない。
×:スペース幅が16μm未満、または24μmを超えている。実用不可。
<Laser processing evaluation>
The conductive sheet was used to process at 25% of the maximum output. Images were taken using a digital microscope (manufactured by VHX-900 Keyence Corporation) in order to evaluate the degree of space width variation. Using the small-sized general-purpose image analyzer “LUZEX AP” (manufactured by Nireko Co., Ltd.), the photographed enlarged photograph was read for the width of the space where the conductive film was removed.
Arbitrary 8 spaces of the circuit pattern were selected, and a total of 3680 space spaces were measured at a total of 3 680 sites at 460 sites per one, and an average value and a standard deviation were determined.
The average value of the space width was determined based on the following criteria.
○: Space width is 18 to 22 μm on average. Good.
Δ: Space width is 16 to 17 μm on average, or 23 to 24 μm. There is no problem in practical use.
×: Space width is less than 16 μm or more than 24 μm. Not practical.

スペースの直線性(図2におけるライン部3とスペース部4部との境界のギザギザ・凹凸度合い)を、標準偏差にて評価した。
スペースの直線性を下記の基準で判定した。
○:標準偏差が0〜1.5μm。良好。
△:標準偏差が1.6〜2.4μm。実用上問題ない。
×:標準偏差が2.5μm以上。実用不可。
加工感度、線とび、スペース幅の平均値、スペース幅評価及びスペース直線性評価を表1、2に示す。
The linearity of the space (the degree of unevenness and the degree of unevenness at the boundary between the line portion 3 and the space portion 4 in FIG. 2) was evaluated by the standard deviation.
The linearity of the space was judged according to the following criteria.
○: standard deviation is 0 to 1.5 μm. Good.
Δ: Standard deviation is 1.6 to 2.4 μm. There is no problem in practical use.
X: Standard deviation is 2.5 micrometers or more. Not practical.
Tables 1 and 2 show the processing sensitivity, the line jump, the average space width, the space width evaluation and the space linearity evaluation.

表1から明らかなように、実施例1〜10の導電性ペーストは、レーザー加工感度が高く、線とびせず良好なレーザー加工性を示す。    As is clear from Table 1, the conductive pastes of Examples 1 to 10 have high laser processing sensitivity and exhibit good laser processability without line loss.

それに対し、表2に示すように、比較例1〜2は、可溶性レーザー光吸収剤を含まないため、レーザー加工感度が低く、レーザーを過剰に照射した場合、線とび性も悪化傾向となる。レーザー光吸収剤として不溶性のものを含む比較例3〜4は、レーザー加工感度が優れる反面、レーザーを過剰に照射した場合、著しく線とび性してしまう。また、スペース部の直線性が低下傾向にある。   On the other hand, as shown in Table 2, since Comparative Examples 1 and 2 do not contain a soluble laser light absorbing agent, the laser processing sensitivity is low, and when the laser is excessively irradiated, the line fly tends to be deteriorated. While Comparative Examples 3 to 4 containing an insoluble one as a laser light absorber have excellent laser processing sensitivity, they are remarkably line-broken when the laser is excessively irradiated. In addition, the linearity of the space tends to decrease.

本発明に係るレーザー加工用導電性ペーストは、良好なレーザー加工性を持つと共に、線とびしづらい導電性シートを提供することができる。
また、本発明に係るレーザー加工用導電性ペースト用いて、レーザー加工により形成した配線回路は、例えば、携帯電話、スマートフォン、タブレット端末、ノート型PC等のタッチパネルディスプレイに好適に用いることができる。
The conductive paste for laser processing according to the present invention has good laser processability and can provide a conductive sheet which is hard to break.
Moreover, the wiring circuit formed by laser processing using the conductive paste for laser processing which concerns on this invention can be used suitably, for example for touch-panel displays, such as a mobile telephone, a smart phone, a tablet terminal, a notebook PC.

1 スクリーン印刷版
2 窓枠柄画像部
3 ライン部(L)
4 スペース部(S)
1 Screen printing plate 2 Window frame pattern image area 3 Line area (L)
4 Space section (S)

Claims (10)

バインダ樹脂、導電性粒子、有機溶剤、および前記有機溶剤に溶解し得る、有機溶剤可溶性レーザー光吸収剤を含み、前記有機溶剤可溶性レーザー光吸収剤がニグロシンである、レーザー加工用導電性ペースト。 A binder resin, conductive particles may be dissolved in an organic solvent, and the organic solvent, seen containing an organic solvent-soluble laser absorbent, the organic solvent-soluble laser absorbent is nigrosine, laser machining a conductive paste. 有機溶剤可溶性レーザー光吸収剤を、バインダ樹脂、導電粒子および有機溶剤可溶性レーザー光吸収剤の合計100質量%のうちに0.1〜20質量%含む、請求項1記載のレーザー加工用導電性ペースト。 The organic solvent-soluble laser absorbent, a binder resin, within a total of 100 wt% of the conductive particles and organic solvent-soluble laser absorbent containing 0.1 to 20 mass%, conductivity for laser processing according to claim 1, wherein paste. 有機溶剤可溶性レーザー光吸収剤が、波長700〜2000nmの範囲内に吸収ピークを有するレーザー光吸収剤である、請求項1または2記載のレーザー加工用導電性ペースト。   The conductive paste for laser processing according to claim 1 or 2, wherein the organic solvent-soluble laser light absorbent is a laser light absorbent having an absorption peak in a wavelength range of 700 to 2,000 nm. 導電性粒子が銀粒子を含む、請求項1〜3いずれか1項に記載のレーザー加工用導電性ペースト。The electroconductive paste for laser processing of any one of Claims 1-3 in which an electroconductive particle contains a silver particle. バインダ樹脂が、数平均分子量10,000〜50,000、かつガラス転移温度5〜100℃である、請求項1〜4いずれか1項に記載のレーザー加工用導電性ペースト。   The conductive paste for laser processing according to any one of claims 1 to 4, wherein the binder resin has a number average molecular weight of 10,000 to 50,000 and a glass transition temperature of 5 to 100 ° C. バインダ樹脂が、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、およびエポキシ樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一種である請求項1〜5いずれか1項に記載のレーザー加工用導電性ペースト。   The conductive paste for laser processing according to any one of claims 1 to 5, wherein the binder resin is at least one selected from the group consisting of a polyester resin, a polyurethane resin, a polyurethane urea resin, and an epoxy resin. シート状基材と、請求項1〜6いずれか1項に記載のレーザー加工用導電性ペーストから形成してなる導電性被膜とを備えた導電性シート。   A conductive sheet comprising a sheet-like substrate and a conductive film formed from the conductive paste for laser processing according to any one of claims 1 to 6. 前記導電性被膜の表面粗さRaが0.1〜0.3μmであることを特徴とする請求項7記載の導電性シート。   8. The conductive sheet according to claim 7, wherein the surface roughness Ra of the conductive film is 0.1 to 0.3 [mu] m. シート状基材上に、請求項1〜6いずれか1項に記載のレーザー加工用導電性ペーストを印刷して導電性被膜を形成し、
次いで、前記導電性被膜にレーザーを照射して、前記導電性被膜の一部を除去することで配線回路を形成する、回路パターンの製造方法。
A conductive paste for laser processing according to any one of claims 1 to 6 is printed on a sheet-like substrate to form a conductive film.
Then, the conductive film is irradiated with a laser to remove a part of the conductive film, thereby forming a wiring circuit.
請求項1〜6いずれか1項に記載のレーザー加工用導電性ペーストから形成してなる回路パターンを備えた電子機器。
The electronic device provided with the circuit pattern formed from the electroconductive paste for laser processing of any one of Claims 1-6.
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