JP6094642B2 - Conductive paste for laser processing - Google Patents

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Description

本発明は、レーザーアブレーション等に適した導電性被膜を作製できる導電性ペーストに関する。   The present invention relates to a conductive paste capable of producing a conductive film suitable for laser ablation and the like.

電子部品、電磁波シールド用の薄膜形成手段あるいは配線回路の形成手段として、エッチング法および印刷法が知られている。エッチング法は、金属被膜の一部をエッチング液で除去することで所望の形状の回路パターンを得る方法であるが、一般的に工程が煩雑、かつ別途、廃液処理が必要であるため、環境負荷がかかる問題がある。また、エッチング法によって形成された配線回路は、アルミニウムや銅など金属材料等で形成されたものであるため、折り曲げ等の物理的衝撃に対して弱いという問題がある。   Etching methods and printing methods are known as means for forming thin parts for electronic parts, electromagnetic wave shields, or means for forming wiring circuits. The etching method is a method of obtaining a circuit pattern having a desired shape by removing a part of the metal film with an etching solution. However, the process is generally complicated and a separate waste liquid treatment is required. There is a problem that takes. Moreover, since the wiring circuit formed by the etching method is formed of a metal material such as aluminum or copper, there is a problem that it is weak against physical impact such as bending.

そこで、この問題を解決しより安価に配線回路を形成するために、導電性ペーストが注目を集めている。導電性ペーストを印刷することにより、容易に配線回路を形成できる。さらに電子部品の小型軽量化、生産性の向上、低コスト化、さらに環境負荷低減の実現が期待できるので、導電性ペーストを印刷する方法(印刷法)が普及してきた。   Thus, in order to solve this problem and form a wiring circuit at a lower cost, conductive paste has attracted attention. By printing the conductive paste, the wiring circuit can be easily formed. Furthermore, since it can be expected that electronic parts are reduced in size and weight, productivity is improved, cost is reduced, and environmental burden is reduced, a method (printing method) for printing a conductive paste has become widespread.

また、スマートフォン、タブレット型端末等の情報端末は、その大きさを維持したまま多機能化、およびディスプレイの高精細化が進んでいるが、これら性能をさらに向上させるためには、電子部品をさらに高密度に実装する必要がある。電子部品の高密度実装には、電子部品自体の小型化と、配線回路の微細化が求められており、導電性ペーストで形成した印刷法の配線回路も高精細化が求められていた。例えば、静電容量方式のタッチパネルでは、100μm以下の幅のライン/スペース(以下、「L/S」と略記する)100μm以下/100μm以下が普及しており、さらには、スマートフォン、およびタブレット型端末等の多機能化、ならびにディスプレイの高精細化により、L/Sが50μm/50μm以下が強く求められているが、印刷法では、更なる高精細化が難しかった。   In addition, information terminals such as smartphones and tablet-type terminals are becoming multifunctional and maintaining high definition while maintaining their size. To further improve these performance, electronic components are further added. It is necessary to mount with high density. For high-density mounting of electronic components, miniaturization of the electronic component itself and miniaturization of the wiring circuit are required, and a high-definition wiring circuit formed by a conductive paste is also required. For example, in a capacitive touch panel, a line / space with a width of 100 μm or less (hereinafter abbreviated as “L / S”) is 100 μm or less / 100 μm or less, and moreover, smartphones and tablet terminals However, L / S is strongly required to be 50 μm / 50 μm or less due to multifunctional functions such as the above and high definition of the display. However, it is difficult to achieve further high definition by the printing method.

そこでレーザー光照射により配線回路を形成するレーザー加工法(レーザーアブレーション法、またはレーザーエッチング法ともいう)の検討が行なわれている。レーザー加工法では、絶縁性基材上に導電性ペーストを使用して導電性被膜を形成し、その一部をレーザー光で除去することにより、印刷法では困難なL/Sが50μm/50μm程度の高精細配線回路を形成できるが、市場からは、さらにL/Sが30μm/30μm以下の超高精細の配線回路が強く求められていた。   Therefore, a laser processing method (also called a laser ablation method or a laser etching method) for forming a wiring circuit by laser light irradiation has been studied. In the laser processing method, a conductive coating is formed on an insulating substrate using a conductive paste, and a part thereof is removed with a laser beam, so that the L / S, which is difficult with the printing method, is about 50 μm / 50 μm. However, there is a strong demand from the market for an ultra-high-definition wiring circuit having an L / S of 30 μm / 30 μm or less.

特許文献1には、レーザー照射でアブレーション加工(以下、レーザー加工ともいう)を形成するための導電性ペーストとして、平均粒子径5nm〜30μmの導電性微粒子、無機フィラー、および樹脂結着剤、ならびに界面活性剤、シランカップリング剤および有機金属化合物のいずれかを含む導電性ペーストが開示されている。
また、特許文献2には、数平均分子量が5,000〜60,000かつガラス転移温度が60〜100℃のバインダ樹脂、D50平均粒子径1μm〜2μmの導電性粒子および有機溶剤を含む導電性ペーストが開示されている。
In Patent Document 1, as a conductive paste for forming ablation processing (hereinafter also referred to as laser processing) by laser irradiation, conductive fine particles having an average particle diameter of 5 nm to 30 μm, an inorganic filler, and a resin binder, and A conductive paste containing any of a surfactant, a silane coupling agent, and an organometallic compound is disclosed.
Patent Document 2 discloses a conductive material containing a binder resin having a number average molecular weight of 5,000 to 60,000 and a glass transition temperature of 60 to 100 ° C., conductive particles having a D50 average particle diameter of 1 μm to 2 μm, and an organic solvent. A paste is disclosed.

特開2014−2992号公報JP 2014-29992 A WO2014/013899号WO2014 / 013899

レーザー照射で高精細の配線を形成する際、直線部は低エネルギーのレーザーアブレーションで形成できるのに対して、曲線部(非直線部)の形成は高エネルギーのレーザーアブレーションが必要になる場合が多い。そのため、従来の導電性ペーストは、平均粒子径が1μm以上の導電性微粒子を使用していたため低エネルギーでは、直線部の形成は容易だが、曲線部の形成はレーザーアブレーションが上手くできず、高精細な配線が形成し難い問題があった。一方、平均粒子径が小さな導電性微粒子を使用すると、高エネルギーのレーザーアブレーションで曲線部が容易に形成できるが、直線部のレーザー照射量が過剰になるため断線し易い問題があった。   When forming high-definition wiring by laser irradiation, straight portions can be formed by low-energy laser ablation, whereas curved portions (non-linear portions) often require high-energy laser ablation. . Therefore, the conventional conductive paste uses conductive fine particles with an average particle diameter of 1 μm or more, so it is easy to form straight portions at low energy, but the formation of curved portions does not work well for laser ablation. There is a problem that it is difficult to form a simple wiring. On the other hand, when conductive fine particles having a small average particle diameter are used, a curved portion can be easily formed by high-energy laser ablation, but there is a problem in that disconnection is likely to occur because the amount of laser irradiation at the straight portion becomes excessive.

本発明は、低エネルギーのレーザーアブレーションで微細な配線回路が形成でき、かつ高エネルギーのレーザーアブレーションで断線が生じ難い導電性被膜を形成できるレーザー加工用導電性ペーストの提供を目的とする。   An object of the present invention is to provide a conductive paste for laser processing that can form a fine wiring circuit by low-energy laser ablation and can form a conductive coating that is hardly broken by high-energy laser ablation.

本発明のレーザー加工用導電性ペーストは、D50平均粒子径0.7〜3μmの導電性粒子Aと、D50平均粒子径0.1〜0.6μmの導電性粒子Bと、バインダ樹脂と、分散剤とを含み、
前記導電性粒子Aと前記導電性粒子Bとの重量比がA/B=95/5〜30/70である。
The conductive paste for laser processing of the present invention comprises a conductive particle A having a D50 average particle size of 0.7 to 3 μm, a conductive particle B having a D50 average particle size of 0.1 to 0.6 μm, a binder resin, and a dispersion Agent,
The weight ratio of the conductive particles A and the conductive particles B is A / B = 95/5 to 30/70.

上記の本発明によれば、導電性ペーストは、D50平均粒子径0.7〜3μmの導電性粒子Aと、D50平均粒子径0.1〜0.6μmの導電性粒子Bを含有することで、低エネルギーでレーザーアブレーションの際、導電性粒子Bの存在により微細な配線回路が形成できる一方、高エネルギーでレーザーアブレーションの際は、導電性粒子Aの存在により配線へのダメージを最小限に抑制できたことに加え、配線回路の物性が向上する予想外の効果が得られた。さらに、導電性粒子を併用したことで良好な導電パスが形成できたことで導電性が向上した。   According to the present invention, the conductive paste contains the conductive particles A having a D50 average particle size of 0.7 to 3 μm and the conductive particles B having a D50 average particle size of 0.1 to 0.6 μm. In the case of laser ablation at low energy, a fine wiring circuit can be formed due to the presence of the conductive particles B. On the other hand, in the case of laser ablation at high energy, damage to the wiring is minimized by the presence of the conductive particles A. In addition to this, an unexpected effect of improving the physical properties of the wiring circuit was obtained. Furthermore, conductivity was improved because a good conductive path could be formed by using conductive particles in combination.

本発明により、低エネルギーのレーザーアブレーションで微細な配線回路が形成でき、かつ高エネルギーのレーザーアブレーションで断線が生じ難い導電性被膜を形成できるレーザー加工用導電性ペーストを提供できる。   According to the present invention, it is possible to provide a conductive paste for laser processing that can form a fine wiring circuit by laser ablation with low energy and can form a conductive film that is hardly broken by laser ablation with high energy.

レーザー加工性の評価で使用するスクリーン印刷版の平面図である。It is a top view of the screen printing plate used by laser workability evaluation. レーザー加工後の回路パターンの一部の拡大図である。It is a one part enlarged view of the circuit pattern after laser processing.

本発明のレーザー加工用導電性ペースト(以下、導電性ペーストともいう)は、D50平均粒子径0.7〜3μmの導電性粒子Aと、D50平均粒子径0.1〜0.6μmの導電性粒子Bと、バインダ樹脂と、分散剤とを含み、
前記導電性粒子Aと前記導電性粒子Bとの重量比がA/B=95/5〜30/70である。
The conductive paste for laser processing of the present invention (hereinafter also referred to as a conductive paste) includes conductive particles A having a D50 average particle size of 0.7 to 3 μm and conductive properties having a D50 average particle size of 0.1 to 0.6 μm. Including particles B, a binder resin, and a dispersant;
The weight ratio of the conductive particles A and the conductive particles B is A / B = 95/5 to 30/70.

本発明のレーザー加工用導電性ペーストは、印刷することで導電性被膜を形成することが好ましい。また、その導電性被膜は、レーザー加工により配線回路を形成することが好ましい。また、他の用途としてレーザー加工用導電性ペーストを配線回路形状に直接印刷しても良い。なお本明細書では、レーザー加工をレーザーアブレーションともいう。   The conductive paste for laser processing of the present invention preferably forms a conductive film by printing. Moreover, it is preferable that the conductive film forms a wiring circuit by laser processing. As another application, a conductive paste for laser processing may be directly printed on the wiring circuit shape. In this specification, laser processing is also referred to as laser ablation.

本発明において導電性粒子は、D50平均粒子径0.7〜3μmの導電性粒子Aと、D50平均粒子径0.1〜0.6μmの導電性粒子Bとを含む。二つの導電性微粒子の役割について、平均粒子径が小さい導電性粒子Bは、低エネルギーレーザーを効率的に熱に変換できるため低エネルギーでの配線形成が容易になる。また平均粒子径が大きな導電性粒子Aは、高エネルギーレーザーでも相対的にアブレーションされ難いため配線回路の断線が生じ難い。   In the present invention, the conductive particles include a conductive particle A having a D50 average particle size of 0.7 to 3 μm and a conductive particle B having a D50 average particle size of 0.1 to 0.6 μm. With respect to the role of the two conductive fine particles, the conductive particles B having a small average particle diameter can efficiently convert a low energy laser into heat, so that wiring formation with low energy is facilitated. In addition, since the conductive particles A having a large average particle diameter are relatively difficult to be ablated even by a high energy laser, disconnection of the wiring circuit hardly occurs.

導電性粒子AのD50平均粒子径は、0.7〜3μmが好ましく、0.8〜2μmがより好ましい。D50平均粒子径が0.7〜3μmであることで低エネルギーでのレーザーアブレーションによる加工性への影響を最小限に抑制でき、高エネルギーでのレーザーアブレーションによる断線を抑制できるため、導電性や密着性が向上する。   0.7-3 micrometers is preferable and, as for D50 average particle diameter of the electroconductive particle A, 0.8-2 micrometers is more preferable. Since the D50 average particle size is 0.7-3 μm, the impact on workability due to laser ablation at low energy can be minimized, and disconnection due to laser ablation at high energy can be suppressed. Improves.

導電性粒子BのD50平均粒子径は、0.1〜0.6μmが好ましく、0.2〜0.6μmがより好ましい。D50平均粒子径が0.1〜0.6μmであることで高エネルギーレーザーアブレーションと低エネルギーレーザーアブレーションのデメリットを抑制し、レーザー加工性と導電性を両立できる。なお、D50平均粒子径は、レーザー回折粒度分布測定装置「SALAD−3000」(島津製作所社製)を用いて、体積粒度分布の累積粒度(D50)を測定した。   0.1-0.6 micrometer is preferable and, as for D50 average particle diameter of the electroconductive particle B, 0.2-0.6 micrometer is more preferable. When the D50 average particle diameter is 0.1 to 0.6 μm, the disadvantages of high energy laser ablation and low energy laser ablation are suppressed, and both laser processability and conductivity can be achieved. In addition, D50 average particle diameter measured the cumulative particle size (D50) of volume particle size distribution using the laser diffraction particle size distribution measuring apparatus "SALAD-3000" (made by Shimadzu Corp.).

導電性粒子Aと導電性粒子Bとの混合比率は、重量比でA/B=95/5〜30/70が好ましく、80/20〜60/40がより好ましい。混合比率がこれらの数値範囲を満たすことで導電性とレーザー加工性をより高いレベルで両立できる。
上記の2種類の導電性粒子は、ペースト生産の際に導電性粒子Aと導電性粒子Bを上記の比率で混合しても良いし、または1種類の導電性微粒子の粒子径分布が広く、結果的に前記混合比率を満たす微粒子を使用することもできる。
The mixing ratio of the conductive particles A and the conductive particles B is preferably A / B = 95/5 to 30/70, more preferably 80/20 to 60/40 in terms of weight ratio. When the mixing ratio satisfies these numerical ranges, both conductivity and laser processability can be achieved at a higher level.
The two types of conductive particles may be mixed with the conductive particles A and the conductive particles B at the above ratio during paste production, or the particle size distribution of one type of conductive fine particles may be wide. As a result, fine particles satisfying the mixing ratio can be used.

導電性粒子AおよびBの素材は、例えば金、銀、銅、ニッケル、クロム、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、インジウム、ケイ素、アルミニウム、タングステン、モリブテン、および白金等の金属微粒子、ならびにこれらの合金等が挙げられる。
また、核体と、その核体表面を核体とは異なる物質で表面を被覆した複合微粒子も好ましい。複合微粒子は、例えば、銅を核体とし、その表面を銀で被覆した銀コート銅微粒子等が挙げられる
また、例えば酸化銀、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化ルテニウム、ITO(スズドープ酸化インジウム)、AZO(アルミドープ酸化亜鉛)、およびGZO(ガリウムドープ酸化亜鉛)等の金属酸化物の微粒子、ならびにこれらの金属酸化物で表面被覆した微粒子等が挙げられる。
これらの中でもコストが低く、かつ導電性が高く、酸化がし難いため体積抵抗率の変化が少ない銀が好ましい。導電性粒子は、単独または2種類以上を併用できる。
The conductive particles A and B are made of, for example, gold, silver, copper, nickel, chromium, palladium, rhodium, ruthenium, indium, silicon, aluminum, tungsten, molybdenum, platinum and other metal fine particles, and alloys thereof. Can be mentioned.
Also preferred are nuclei and composite fine particles whose surfaces are coated with a substance different from the nuclei. The composite fine particles include, for example, silver-coated copper fine particles in which copper is used as a core and the surface thereof is coated with silver. For example, silver oxide, indium oxide, tin oxide, zinc oxide, ruthenium oxide, ITO (tin-doped indium oxide) ), AZO (aluminum-doped zinc oxide), and fine particles of metal oxides such as GZO (gallium-doped zinc oxide), and fine particles whose surfaces are coated with these metal oxides.
Among these, silver is preferable because it is low in cost, has high electrical conductivity, and is difficult to oxidize, so that the change in volume resistivity is small. The conductive particles can be used alone or in combination of two or more.

導電性粒子の形状は、球状、フレーク状、樹枝状、棒状、および線状等の公知の形状が使用できる。   As the shape of the conductive particles, known shapes such as a spherical shape, a flake shape, a dendritic shape, a rod shape, and a linear shape can be used.

導電性粒子AおよびBは合計で、バインダ樹脂および導電性粒子の合計100重量%のうちに60〜95重量%を配合することが好ましく、85〜95重量%がより好ましい。60重量%以上になることで導電性がより向上する。また、95重量%以下になることで導電性被膜は、基材との密着性がより向上し、機械強度も向上する。   The conductive particles A and B are added in a total amount of 60 to 95% by weight, more preferably 85 to 95% by weight, out of a total of 100% by weight of the binder resin and the conductive particles. Conductivity improves more by becoming 60 weight% or more. In addition, when the content is 95% by weight or less, the conductive film has more improved adhesion to the base material, and mechanical strength is also improved.

このレーザー加工用導電性ペーストは、印刷法で導電性被膜を形成することが好ましく、スクリーン印刷法で導電性被膜を形成することがより好ましい。導電性被膜は、レーザー光照射により所望の配線回路を形成することができる。   The conductive paste for laser processing preferably forms a conductive film by a printing method, and more preferably forms a conductive film by a screen printing method. The conductive coating can form a desired wiring circuit by laser light irradiation.

本発明においてバインダ樹脂は、数平均分子量10,000〜50,000が好ましく、20,000〜40,000がより好ましい。数平均分子量が10,000以上になることで形成する配線回路の環境信頼性が向上し、特に耐湿熱性がより向上する。また、数平均分子量が50,000以下になることで、導電性被膜に適度な凝集力が得られるため、レーザー加工時のアブレーションが容易になり高精細な配線回路が得易くなる。なお、数平均分子量は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)で測定したポリスチレン換算の数値である。   In the present invention, the binder resin preferably has a number average molecular weight of 10,000 to 50,000, more preferably 20,000 to 40,000. When the number average molecular weight is 10,000 or more, the environmental reliability of the formed wiring circuit is improved, and in particular, the heat and moisture resistance is further improved. Further, when the number average molecular weight is 50,000 or less, an appropriate cohesive force can be obtained in the conductive film, so that ablation during laser processing is facilitated and a high-definition wiring circuit is easily obtained. In addition, a number average molecular weight is a numerical value of polystyrene conversion measured by GPC (gel permeation chromatography).

また、バインダ樹脂は、ガラス転移温度(以下、Tgという)5〜100℃が好ましく、10〜95℃がより好ましい。Tgが5℃以上になると配線回路の耐湿熱性がより向上する。また、Tgが100℃以下になると配線回路と基材との密着性がより向上し、レーザー加工が容易になることで微細なL/Sが得易くなる。なお、Tgは、DSC(示差走査熱量計)にて測定した数値である。   The binder resin preferably has a glass transition temperature (hereinafter referred to as Tg) of 5 to 100 ° C, more preferably 10 to 95 ° C. When Tg is 5 ° C. or higher, the moisture and heat resistance of the wiring circuit is further improved. Further, when Tg is 100 ° C. or lower, the adhesion between the wiring circuit and the substrate is further improved, and laser processing is facilitated, so that a fine L / S can be easily obtained. Tg is a numerical value measured by DSC (differential scanning calorimeter).

バインダ樹脂は、上記数平均分子量と上記Tgを同時に満足すると配線回路の信頼性がより向上するとともに、レーザー加工性がより向上する。   When the binder resin satisfies the number average molecular weight and the Tg at the same time, the reliability of the wiring circuit is further improved and the laser processability is further improved.

バインダ樹脂は、例えばポリエステル樹脂、ウレタン変性ポリエステル樹脂、エポキシ変性ポリエステル樹脂、(メタ)アクリル樹脂、スチレン樹脂、スチレン−(メタ)アクリル樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂、エポキシ樹脂、変性エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ブチラール樹脂、アセタール樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アルキッド樹脂、ポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂、ケトン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、シリコン樹脂、ニトロセルロース、セルロース・アセテート・ブチレート(CAB)樹脂、セルロース・アセテート・プロピオネート(CAP)樹脂、ロジン、ロジンエステル、およびマレイン酸樹脂等が挙げられる。これらの中でもバインダ樹脂は、基材への密着性、例えばスクリーン印刷で使用される溶剤への溶解性、配線回路に必要な塗膜の機械強度の面より、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、およびエポキシ樹脂が好ましい。
バインダ樹脂は、単独または2種類以上を併用できる。
The binder resin is, for example, polyester resin, urethane-modified polyester resin, epoxy-modified polyester resin, (meth) acrylic resin, styrene resin, styrene- (meth) acrylic resin, styrene-butadiene resin, epoxy resin, modified epoxy resin, phenoxy resin, Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, butyral resin, acetal resin, phenol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyurethane resin, polyurethane urea resin, polyamide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, alkyd resin, polyolefin resin, fluorine resin , Ketone resin, benzoguanamine resin, melamine resin, urea resin, silicone resin, nitrocellulose, cellulose acetate butyrate (CAB) resin, cellulose acetate Propionate (CAP) resins, rosin, rosin esters, and maleic acid resins. Among these, the binder resin is polyester resin, polyurethane resin, polyurethane urea resin in terms of adhesion to a substrate, for example, solubility in a solvent used in screen printing, and mechanical strength of a coating film necessary for a wiring circuit. And epoxy resins are preferred.
Binder resins can be used alone or in combination of two or more.

ポリエステル樹脂は、水酸基およびカルボキシル基の少なくともいずれか有することが好ましい。ポリエステル樹脂は、多塩基酸とポリオール等との反応、または多塩基酸エステルとポリオール等とのエステル交換反応等の公知に反応等の公知の合成法で合成できる。また、ポリエステル樹脂にカルボキシル基を付与する方法は、公知の手法が使用できるが、例えばポリエステル樹脂を重合後、180〜230℃でε−カプロラクトンなどの環状エステルを後付加(開環付加)してブロック化する方法、または無水トリメリット酸、無水フタル酸などの酸無水物を付加する方法等が挙げられる。また、ポリエスエル樹脂は飽和ポリエステルが好ましい。   The polyester resin preferably has at least one of a hydroxyl group and a carboxyl group. The polyester resin can be synthesized by a known synthesis method such as a known reaction such as a reaction between a polybasic acid and a polyol or a transesterification reaction between a polybasic acid ester and a polyol. In addition, as a method for imparting a carboxyl group to a polyester resin, a known method can be used. For example, after polymerization of a polyester resin, a cyclic ester such as ε-caprolactone is post-added (ring-opening addition) at 180 to 230 ° C. Examples thereof include a method of blocking or a method of adding an acid anhydride such as trimellitic anhydride or phthalic anhydride. The polyester resin is preferably a saturated polyester.

多塩基酸は、例えば芳香族ジカルボン酸、直鎖脂肪族ジカルボン酸、環状脂肪族ジカルボン酸等、および3官能以上のカルボン酸等が好ましい。なお、多塩基酸は、酸無水物基含有化合物を含む。
芳香族ジカルボン酸は、例えばテレフタル酸、およびイソフタル酸等が挙げられるがこれらに限定されない。また、直鎖脂肪族ジカルボン酸は、例えばアジピン酸、セバシン酸、およびアゼライン酸等が挙げられるがこれらに限定されない。また、環状脂肪族ジカルボン酸は、例えば1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、ジカルボンキシ水素添加ビスフェノールA、ダイマー酸、4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、および3−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸等が挙げられるがこれらに限定されない。また、3官能以上のカルボン酸は、無水トリメリット酸、および無水ピロメリット酸等が挙げられるがこれらに限定されない。その他のカルボン酸は、フマル酸等の不飽和ジカルボン酸、5−スルホイソフタル酸ナトリウム塩等のスルホン酸金属塩含有ジカルボン酸等も挙げられるがこれらに限定されない。
多塩基酸は、単独または2種類以上を併用できる。
The polybasic acid is preferably, for example, an aromatic dicarboxylic acid, a linear aliphatic dicarboxylic acid, a cyclic aliphatic dicarboxylic acid, or the like, or a trifunctional or higher functional carboxylic acid. The polybasic acid includes an acid anhydride group-containing compound.
Examples of the aromatic dicarboxylic acid include, but are not limited to, terephthalic acid and isophthalic acid. Examples of the linear aliphatic dicarboxylic acid include, but are not limited to, adipic acid, sebacic acid, and azelaic acid. Examples of the cycloaliphatic dicarboxylic acid include 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, dicarboxyloxy hydrogenated bisphenol A, dimer acid, 4-methylhexahydrophthalic anhydride, and 3-methylhexahydrophthalic anhydride. However, it is not limited to these. Examples of the tri- or higher functional carboxylic acid include, but are not limited to, trimellitic anhydride and pyromellitic anhydride. Other carboxylic acids include, but are not limited to, unsaturated dicarboxylic acids such as fumaric acid, sulfonic acid metal salt-containing dicarboxylic acids such as sodium 5-sulfoisophthalate, and the like.
Polybasic acids can be used alone or in combination of two or more.

ポリオールは、ジオール、および3個以上の水酸基を有する化合物が好ましい。
ジオールは、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、およびネオペンチルグリコール等が挙げられるがこれらに限定されない。
3個以上の水酸基を有する化合物は、トルメチロールプロパン、グリセリン、およびペンタエリスリトール等が挙げられるがこれらに限定されない。
ポリオールは、単独または2種類以上を併用できる。
The polyol is preferably a diol and a compound having 3 or more hydroxyl groups.
Examples of the diol include, but are not limited to, ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, and neopentyl glycol.
Examples of the compound having three or more hydroxyl groups include, but are not limited to, tolmethylolpropane, glycerin, and pentaerythritol.
Polyols can be used alone or in combination of two or more.

ポリウレタン樹脂は、ポリオールとジイソシアネートと鎖延長剤のジオール化合物とを反応させた、末端に水酸基を有する化合物である。ポリウレタン樹脂は、鎖延長剤を使用して分子鎖を延ばすことができる。鎖延長剤は、一般的にはジオール等が好ましい。ポリウレタン樹脂は、公知の合成法で合成できる。   The polyurethane resin is a compound having a hydroxyl group at the terminal, obtained by reacting a polyol, diisocyanate, and a chain extender diol compound. A polyurethane resin can extend a molecular chain using a chain extender. The chain extender is generally preferably a diol. The polyurethane resin can be synthesized by a known synthesis method.

ポリウレタン樹脂の合成に使用するポリオールは、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、およびポリブタジエングリコール等が好ましい。ポリオールは単独または2種類以上併用できる。
ポリエーテルポリオールは、酸化エチレン、酸化プロピレン、およびテトラヒドロフラン等の重合体、ならびにこれらの共重合体である。
ポリエステルポリオールは、前記ポリエステル樹脂で説明したポリオールと多塩基酸のエステルである。
ポリカーボネートポリオールは、1)ジオールまたはビスフェノールと、炭酸エステルとを反応させた化合物、および2)ジオールまたはビスフェノールを、アルカリの存在下でホスゲンと反応させた化合物等が好ましい。
炭酸エステルは、例えばジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジフェニルカーボネート、エチレンカーボネート、およびプロピレンカーボネート等が挙げられるがこれらに限定されない。
Polyols used for the synthesis of the polyurethane resin are preferably polyether polyols, polyester polyols, polycarbonate polyols, and polybutadiene glycols. Polyols can be used alone or in combination of two or more.
The polyether polyol is a polymer such as ethylene oxide, propylene oxide, and tetrahydrofuran, and a copolymer thereof.
The polyester polyol is an ester of a polyol and a polybasic acid described in the polyester resin.
The polycarbonate polyol is preferably 1) a compound obtained by reacting a diol or bisphenol with a carbonic ester, and 2) a compound obtained by reacting a diol or bisphenol with phosgene in the presence of an alkali.
Examples of the carbonate ester include, but are not limited to, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, diphenyl carbonate, ethylene carbonate, and propylene carbonate.

ジイソシアネートは、芳香族ジイソシアネート、脂肪族ジイソシアネート、脂環族イソシアネート等が好ましい。ジイソシアネートは単独または2種類以上を併用できる。   The diisocyanate is preferably an aromatic diisocyanate, an aliphatic diisocyanate, an alicyclic isocyanate, or the like. Diisocyanate can be used alone or in combination of two or more.

ポリウレタンウレア樹脂は、ポリオールとジイソシアネートとを反応させて末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーを合成し、さらにポリアミンと反応させた化合物である。また、ポリウレタンウレア樹脂は、分子量を調整するため必要に応じて反応停止剤を反応させることができる。ポリオールおよびジイソシアネートは、前記ポリウレタン樹脂で説明した化合物を使用することが好ましい。ポリアミンはジアミンが好ましい。
反応停止剤は、ジアルキルアミン、モノアルコール等が好ましい。ポリウレタンウレア樹脂は、公知の合成法で合成できる。
The polyurethane urea resin is a compound obtained by reacting a polyol and diisocyanate to synthesize a urethane prepolymer having an isocyanate group at a terminal and further reacting with a polyamine. In addition, the polyurethane urea resin can be reacted with a reaction terminator as necessary to adjust the molecular weight. As the polyol and diisocyanate, it is preferable to use the compounds described for the polyurethane resin. The polyamine is preferably a diamine.
The reaction terminator is preferably a dialkylamine, monoalcohol or the like. The polyurethane urea resin can be synthesized by a known synthesis method.

ポリウレタン樹脂およびポリウレタンウレア樹脂は、水酸基に加えて、カルボキシル基を有することが好ましい。具体的には、合成の際、ジオールの一部をカルボキシル基を有するジオールに置き換えて合成する方法が挙げられる。前記ジオールは、ジメチロールプロピオン酸、およびジメチロールブタン酸等が好ましい。   The polyurethane resin and the polyurethane urea resin preferably have a carboxyl group in addition to the hydroxyl group. Specifically, a method of synthesizing by synthesizing a part of the diol with a diol having a carboxyl group at the time of synthesis can be mentioned. The diol is preferably dimethylolpropionic acid, dimethylolbutanoic acid, or the like.

導電性ペーストがポリウレタン樹脂またはポリウレタンウレア樹脂を含む場合、形成する導電性被膜の硬さがより向上する。   When the conductive paste contains a polyurethane resin or a polyurethane urea resin, the hardness of the conductive film to be formed is further improved.

ポリウレタン樹脂またはポリウレタンウレア樹脂は、その合成の際、溶剤を使用できる。
具体的には、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、脂肪族系溶剤、芳香族系溶剤、およびカーボネート系溶剤等が好ましい。
エステル系溶剤は、例えば酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、乳酸エチル、および炭酸ジメチル等が挙げられるがこれらに限定されない。
ケトン系溶剤は、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、イソホロン、およびシクロヘキサノン等が挙げられるがこれらに限定されない。
グリコールエーテル系溶剤は、例えばエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、およびエチレングリコールモノブチルエーテル等のモノエーテル、ならびにこれらの酢酸エステル;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、およびプロピレングリコールモノエチルエーテル等、ならびにこれらの酢酸エステル;等が挙げられるがこれらに限定されない。
脂肪族系溶剤は、例えばn−ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等が挙げられるがこれらに限定されない。
溶剤は、単独または2種類以上併用できる。
A polyurethane resin or a polyurethane urea resin can use a solvent in the synthesis thereof.
Specifically, ester solvents, ketone solvents, glycol ether solvents, aliphatic solvents, aromatic solvents, carbonate solvents and the like are preferable.
Examples of the ester solvent include, but are not limited to, ethyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl acetate, ethyl lactate, and dimethyl carbonate.
Examples of the ketone solvent include, but are not limited to, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, diisobutyl ketone, diacetone alcohol, isophorone, and cyclohexanone.
Examples of glycol ether solvents include monoethers such as ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, and ethylene glycol monobutyl ether, and acetates thereof; diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether , Propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, and the like, and acetic acid esters thereof, but are not limited thereto.
Examples of the aliphatic solvent include, but are not limited to, n-hexane, cyclohexane, methylcyclohexane, methylcyclohexane, and the like.
The solvent can be used alone or in combination of two or more.

エポキシ樹脂は、エポキシ基および水酸基を有する化合物であり、公知の化合物を使用できる。エポキシ樹脂は、ビスフェノールAおよびビスフェノールFに代表される芳香族ジオールとエピクロルヒドリンとを反応させて得たポリグリシジルエーテルが好ましい。エポキシ樹脂は、高分子エポキシ樹脂である、いわゆるフェノキシ樹脂を使用することも好ましい。
バインダ樹脂は、単独または2種類以上を併用できる。
The epoxy resin is a compound having an epoxy group and a hydroxyl group, and a known compound can be used. The epoxy resin is preferably a polyglycidyl ether obtained by reacting an aromatic diol represented by bisphenol A and bisphenol F with epichlorohydrin. As the epoxy resin, it is also preferable to use a so-called phenoxy resin which is a polymer epoxy resin.
Binder resins can be used alone or in combination of two or more.

バインダ樹脂は、バインダ樹脂および導電性微粒子の合計100重量%のうち5〜40重量%を配合することが好ましく、5〜15重量%がより好ましい。5重量%以上になることで導電性被膜の基材との密着性がより向上し、機械強度も向上する。また、40重量%以下になることで導電性がより向上する。   The binder resin is preferably blended in an amount of 5 to 40% by weight, more preferably 5 to 15% by weight, out of a total of 100% by weight of the binder resin and conductive fine particles. By being 5 weight% or more, the adhesiveness with the base material of an electroconductive film improves more, and mechanical strength also improves. Moreover, electroconductivity improves more by becoming 40 weight% or less.

本発明の導電性ペーストは、さらに硬化剤を含むことができる。硬化剤は、バインダ樹脂の有する反応性官能基(例えば水酸基やカルボキシル基等)と反応可能な官能基を複数有している。硬化剤がバインダ樹脂と硬化すると、レーザーアブレーションの際に生じた異物をエアブローで除去し易くなる(エア除去性)。また、導電性被膜の耐熱性、耐溶剤性、耐薬品性、密着性等をより向上する。なお、導電性塗膜をレーザーアブレーションした際に、うまくダクトに吸引されなかった導電性被膜のごみが基材に付着してしまう現象に対して、ショート防止のためエアブローを用いて異物を除去することが一般的である。このエアブローによる異物の除去のし易さをエア除去性と呼ぶ。   The conductive paste of the present invention can further contain a curing agent. The curing agent has a plurality of functional groups capable of reacting with a reactive functional group (for example, a hydroxyl group or a carboxyl group) of the binder resin. When the curing agent is cured with the binder resin, it becomes easy to remove foreign matters generated during laser ablation by air blowing (air removability). In addition, the heat resistance, solvent resistance, chemical resistance, adhesion and the like of the conductive film are further improved. In addition, when the conductive coating is laser ablated, foreign matter is removed using an air blow to prevent short-circuiting to prevent the conductive coating from adhering to the substrate. It is common. The ease of removing foreign matter by this air blow is called air removability.

硬化剤は、例えばイソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物、オキサゾリン化合物、カルボジイミド化合物、アミン化合物、イミダゾール化合物、ジシアンジアミド化合物、および酸無水物基含有化合物等が好ましい。
具体的には、バインダ樹脂が水酸基を有する場合、イソシアネート化合物等が好ましい。また、バインダ樹脂がカルボキシル基を有する場合、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物、オキサゾリン化合物、およびカルボジイミド化合物等が好ましい。さらに、バインダ樹脂がエポキシ基を有する場合、アミン化合物、イミダゾール化合物、ジシアンジアミド化合物、酸無水物基含有化合物等が好ましい。
Preferred examples of the curing agent include isocyanate compounds, epoxy compounds, aziridine compounds, oxazoline compounds, carbodiimide compounds, amine compounds, imidazole compounds, dicyandiamide compounds, and acid anhydride group-containing compounds.
Specifically, when the binder resin has a hydroxyl group, an isocyanate compound or the like is preferable. Moreover, when a binder resin has a carboxyl group, an isocyanate compound, an epoxy compound, an aziridine compound, an oxazoline compound, a carbodiimide compound, etc. are preferable. Furthermore, when the binder resin has an epoxy group, an amine compound, an imidazole compound, a dicyandiamide compound, an acid anhydride group-containing compound, and the like are preferable.

硬化剤のうちイソシアネート化合物としては、芳香族ポリイソシアネート、脂肪族ポリイソシアネート、および脂環族ポリイソシアネート等が好ましい。
芳香族ポリイソシアネートは、例えばトリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、トリレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、および4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネートのオリゴマー等が挙げられる。
脂肪族ポリイシシアネートは、例えばヘキサメチレンジイソシアネートのビウレット体、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネートのオリゴマー、ヘキサメチレンジイソシアネートのウレトジオン、およびトリレンジイソシアネートとヘキサメチレンジイソシアネートからなるコポリマーのイソシアヌレート体等が挙げられる。
脂環族ポリイソシアネートは、例えばイソホロンジイソシアネートのイソシアヌレート体、イソホロンジイソシアネートのオリゴマー等が挙げられる。
また、これらの化合物をブロックしたブロック化イソシアネートも好ましい。ブロック剤は、例えば、ε−カプロラクタム、ブタノンオキシム、フェノール、および活性メチレン化合物等が好ましい。
Of the curing agents, the isocyanate compound is preferably aromatic polyisocyanate, aliphatic polyisocyanate, alicyclic polyisocyanate, or the like.
Examples of the aromatic polyisocyanate include a trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate, an isocyanurate of tolylene diisocyanate, and an oligomer of 4,4′-diphenylmethane diisocyanate.
Aliphatic polyisocyanates include, for example, hexamethylene diisocyanate biuret, hexamethylene diisocyanate isocyanurate, hexamethylene diisocyanate trimethylolpropane adduct, hexamethylene diisocyanate oligomer, hexamethylene diisocyanate uretdione, and tolylene diisocyanate. Examples thereof include isocyanurate bodies of copolymers made of hexamethylene diisocyanate.
Examples of the alicyclic polyisocyanate include an isocyanurate of isophorone diisocyanate, an oligomer of isophorone diisocyanate, and the like.
Moreover, the blocked isocyanate which blocked these compounds is also preferable. As the blocking agent, for example, ε-caprolactam, butanone oxime, phenol, and an active methylene compound are preferable.

硬化剤のうちエポキシ化合物としては、エポキシ基を有する化合物である。エポキシ化合物の性状は、液体と固体がある。エポキシ化合物は、グリジシルエーテル型エポキシ樹脂、グリジシルアミン型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、および環状脂肪族(脂環型)エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂が好ましい。   Among the curing agents, the epoxy compound is a compound having an epoxy group. The properties of the epoxy compound include liquid and solid. The epoxy compound is preferably an epoxy resin such as a glycidyl ether type epoxy resin, a glycidyl amine type epoxy resin, a glycidyl ester type epoxy resin, and a cyclic aliphatic (alicyclic type) epoxy resin.

グリシジルエーテル型エポキシ樹脂は、例えばビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂の、クレゾール構造とクレゾール構造の間にビフェニル構造を有するエポキシ樹脂(日本化薬社製:NC−3000等)、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂の、クレゾール構造とクレゾール構造の間にジシクロペンタジエン骨格構造を有するエポキシ樹脂(日本化薬社製:XD−1000等)、α−ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型ノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリス(グリシジルオキシフェニル)メタン、およびテトラキス(グリシジルオキシフェニル)エタン等が挙げられる。   Examples of glycidyl ether type epoxy resins include bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, bisphenol S type epoxy resins, bisphenol AD type epoxy resins, cresol novolac type epoxy resins, phenol novolac type epoxy resins, and cresol novolak type epoxy resins. An epoxy resin having a biphenyl structure between the cresol structure and the cresol structure (Nippon Kayaku Co., Ltd .: NC-3000, etc.), a cresol novolac type epoxy resin having a dicyclopentadiene skeleton structure between the cresol structure and the cresol structure Epoxy resin (Nippon Kayaku Co., Ltd .: XD-1000, etc.), α-naphthol novolac epoxy resin, bisphenol A novolac epoxy resin, dicyclopentadiene epoxy resin, Phenyl type epoxy resin, tris (glycidyloxy) methane, and tetrakis (glycidyloxyphenyl) ethane and the like.

グリシジルアミン型エポキシ樹脂は、例えばテトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルパラアミノフェノール、トリグリシジルメタアミノフェノール、およびテトラグリシジルメタキシリレンジアミン等が挙げられる。   Examples of the glycidylamine type epoxy resin include tetraglycidyldiaminodiphenylmethane, triglycidylparaaminophenol, triglycidylmetaaminophenol, and tetraglycidylmetaxylylenediamine.

グリシジルエステル型エポキシ樹脂は、例えばジグリシジルフタレート、ジグリシジル
ヘキサヒドロフタレート、およびジグリシジルテトラヒドロフタレート等が挙げられる。
Examples of the glycidyl ester type epoxy resin include diglycidyl phthalate, diglycidyl hexahydrophthalate, and diglycidyl tetrahydrophthalate.

環状脂肪族(脂環型)エポキシ樹脂は、例えばエポキシシクロヘキシルメチル−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、およびビス(エポキシシクロヘキシル)アジペート等が挙げられる。   Examples of the cycloaliphatic (alicyclic) epoxy resin include epoxycyclohexylmethyl-epoxycyclohexanecarboxylate and bis (epoxycyclohexyl) adipate.

硬化剤のうちアジリジン化合物としては、例えば、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、テトラメチロールメタン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、N,N−ヘキサメチレン−1,6−ビス−1−アジリジンカルボキシアミド、4,4−ビス(エチレンイミノカルボキルアミノ)ジフェニルメタン等が挙げられる。   Among the curing agents, examples of the aziridine compound include trimethylolpropane-tri-β-aziridinylpropionate, tetramethylolmethane-tri-β-aziridinylpropionate, N, N-hexamethylene-1, Examples include 6-bis-1-aziridinecarboxamide and 4,4-bis (ethyleneiminocarboxylamino) diphenylmethane.

硬化剤のうちオキサゾリン化合物としては、例えば2,2'−(1,3−フェニレン)−ビス(2−オキサゾリン)等が挙げられる。   Among the curing agents, examples of the oxazoline compound include 2,2 ′-(1,3-phenylene) -bis (2-oxazoline).

硬化剤のうちカルボジイミド化合物としては、例えばジシクロヘキシルカルボジイミド、およびカルボジライト(日清紡社製、ポリカルボジイミド系樹脂)等が挙げられる。   Examples of the carbodiimide compound among the curing agents include dicyclohexyl carbodiimide, carbodilite (Nisshinbo Co., Ltd., polycarbodiimide resin), and the like.

硬化剤のうちアミン化合物としては、例えばジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン等が挙げられる。   Among the curing agents, examples of the amine compound include diethylenetriamine, triethylenetetramine, and tetraethylenepentamine.

硬化剤のうちイミダゾール化合物としては、2 − メチルイミダゾール、2 − エチル− 4 − メチルイミダゾール、2 − フェニル− 4 − メチルイミダゾール、2 , 4 − ジメチルイミダゾール、2 − フェニルイミダゾール等のイミダゾール化合物、およびこれらイミダゾール化合物とエポキシ樹脂を反応させて溶剤に不溶化したタイプ、またはイミダゾール化合物をマイクロカプセルに封入したタイプ等の保存安定性を改良した潜在性硬化剤が挙げられる。   Among the curing agents, examples of imidazole compounds include 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, imidazole compounds such as 2-phenylimidazole, and the like. A latent curing agent with improved storage stability such as a type in which an imidazole compound and an epoxy resin are reacted to insolubilize in a solvent, or a type in which an imidazole compound is encapsulated in a microcapsule can be mentioned.

硬化剤のうちジシアンジアミド化合物としては、ジシアンジアミド(DICY)等が挙げられる。   Among the curing agents, examples of the dicyandiamide compound include dicyandiamide (DICY).

硬化剤のうち酸無水物基含有化合物としては、例えばテトラヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、無水メチルナジック酸、無水トリメリット酸、および無水ピロメリット酸等が挙げられる。   Among the curing agents, examples of the acid anhydride group-containing compound include tetrahydrophthalic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, methyl nadic anhydride, trimellitic anhydride, and pyromellitic anhydride.

硬化剤は、単独または2種類以上を併用できる。   A hardening | curing agent can be used individually or in combination of 2 or more types.

硬化剤は、バインダ樹脂100重量部に対して、0.5〜20重量部を配合することが好ましい。硬化剤を前記範囲内で使用すると導電性被膜の基材との密着性、および耐熱性がより向上する。   It is preferable to mix 0.5-20 weight part of hardening | curing agents with respect to 100 weight part of binder resin. When a hardening | curing agent is used within the said range, the adhesiveness with the base material of a conductive film and heat resistance will improve more.

本発明の導電性ペーストは、硬化反応を促進するために硬化促進剤等の添加剤を配合できる。硬化促進剤は、ジシアンジアミド、3級アミン化合物、ホスフィン化合物、イミダゾール化合物、カルボン酸ヒドラジド、脂肪族または芳香族ジメチルウレア等のジアルキルウレア、酸無水物等が使用できる。なお、硬化促進剤は、エポキシ樹脂の硬化促進に効果的である。   The conductive paste of the present invention can contain additives such as a curing accelerator in order to accelerate the curing reaction. As the curing accelerator, dicyandiamide, tertiary amine compound, phosphine compound, imidazole compound, carboxylic acid hydrazide, dialkylurea such as aliphatic or aromatic dimethylurea, acid anhydride and the like can be used. The curing accelerator is effective for promoting the curing of the epoxy resin.

3級アミン化合物は、例えばトリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデセン−7、および1,5−ジアザビシクロ(4.3.0)ノネン−5等が挙げられる。
ホスフィン化合物は、例えばトリフェニルホスフィン、およびトリブチルホスフィン等が挙げられる。
カルボン酸ヒドラジドは、例えばコハク酸ヒドラジド、アジピン酸ヒドラジド等を挙げることができる。酸無水物としては、テトラヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、無水メチルナジック酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸等が挙げられる。
添加剤は、単独または2種類以上を併用できる。
Examples of the tertiary amine compound include triethylamine, benzyldimethylamine, 1,8-diazabicyclo (5.4.0) undecene-7, 1,5-diazabicyclo (4.3.0) nonene-5, and the like.
Examples of the phosphine compound include triphenylphosphine and tributylphosphine.
Examples of the carboxylic acid hydrazide include succinic acid hydrazide and adipic acid hydrazide. Examples of the acid anhydride include tetrahydrophthalic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, methyl nadic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, and the like.
The additives can be used alone or in combination of two or more.

添加剤は、バインダ樹脂100重量部に対して0.1〜30重量部を配合することが好ましい。   The additive is preferably blended in an amount of 0.1 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder resin.

本発明の導電性ペーストは、必要に応じて耐摩擦向上剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、芳香剤、酸化防止剤、有機顔料、無機顔料、消泡剤、可塑剤、難燃剤、および保湿剤等を含むことができる。   The conductive paste of the present invention includes a friction improver, an infrared absorber, an ultraviolet absorber, a fragrance, an antioxidant, an organic pigment, an inorganic pigment, an antifoaming agent, a plasticizer, a flame retardant, and a moisturizing agent as necessary. Agents and the like.

本発明のレーザー加工用導電性ペーストは、レーザー加工性を向上させるために、さらにレーザー増感剤を含むことができる。レーザー増感剤は、レーザー光の波長に吸収を有する染料、顔料、およびフィラー等が好ましく、顔料の炭素粉末がより好ましい。
炭素粉末は、例えばカーボンブラック、ファーネスブラック、チャンネルブラック、ランプブラック、アセチレンブラック、ケチェンブラック、カーボンナノチューブ、およびグラファイト等が挙げられる。レーザー増感剤は、バインダ樹脂および導電性微粒子を合計した100重量部に対して0.1〜10重量部を配合することが好ましい。
The conductive paste for laser processing of the present invention can further contain a laser sensitizer in order to improve laser processability. The laser sensitizer is preferably a dye, pigment, filler or the like having absorption at the wavelength of the laser beam, and more preferably carbon powder of the pigment.
Examples of the carbon powder include carbon black, furnace black, channel black, lamp black, acetylene black, ketjen black, carbon nanotube, and graphite. The laser sensitizer is preferably blended in an amount of 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total of the binder resin and the conductive fine particles.

本発明において分散剤は、分散し難い導電性微粒子を導電性ペースト中に分散するために使用する。また、導電性ペーストが分散剤を含むとバインダ樹脂と導電性微粒子が混和しやすく分散性が向上するため、そのTI値が低くなり、粘性をニュートニアンに調整し易くなる。本発明の導電性ペーストは、粘度が低くニュートニアンに近い粘性を有しているため流動性が良好であるため、例えばスクリーン印刷で塗工し形成した被膜は、表面が平滑で膜厚がバラつき難いので、レーザー加工での加工性が良好である。そのため直線性が良好な配線回路が形成できる。   In the present invention, the dispersant is used to disperse conductive fine particles that are difficult to disperse in the conductive paste. In addition, when the conductive paste contains a dispersant, the binder resin and the conductive fine particles are easily mixed and the dispersibility is improved, so that the TI value is lowered and the viscosity is easily adjusted to Newtonian. Since the conductive paste of the present invention has a low viscosity and a viscosity close to Newtonian, it has good fluidity. For example, a coating formed by screen printing has a smooth surface and a varying film thickness. Since it is difficult, the processability in laser processing is good. Therefore, a wiring circuit with good linearity can be formed.

分散剤は、樹脂型分散剤、界面活性剤、シランカップリング剤および金属キレート等が好ましい。   The dispersant is preferably a resin-type dispersant, a surfactant, a silane coupling agent, a metal chelate, or the like.

樹脂型分散剤は、導電性微粒子に吸着する親和性部位(官能基部位)と、バインダ樹脂に親和性が高い樹脂部位を有するポリマー(樹脂)の分散剤である。前記親和性部位は、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、水酸基、マレイン酸基、(一級、二級、三級)アミノ基、アミド基、アルキルアンモニウム塩、リン酸塩、およびポリアミドアマイド等が挙げられる。またバインダ樹脂に親和性が高い部位は、ポリエステルユニット、ポリエーテルユニット、ポリエーテルエステルユニット、ポリアクリルユニット、およびポリウレタンユニット等が挙げられる。   The resin-type dispersant is a polymer (resin) dispersant having an affinity site (functional group site) adsorbed on conductive fine particles and a resin site having high affinity for the binder resin. Examples of the affinity site include a carboxyl group, a phosphate group, a sulfonate group, a hydroxyl group, a maleate group, a (primary, secondary, and tertiary) amino group, an amide group, an alkyl ammonium salt, a phosphate, and a polyamide amide. Is mentioned. Examples of the portion having high affinity for the binder resin include a polyester unit, a polyether unit, a polyether ester unit, a polyacryl unit, and a polyurethane unit.

樹脂型分散剤は、例えばポリウレタン、およびポリアクリレート等のポリカルボン酸エステルポリアミド;ポリカルボン酸、ポリカルボン酸(部分)アミン塩、ポリカルボン酸アンモニウム塩、ポリカルボン酸アルキルアミン塩、ポリシロキサン、長鎖ポリアミノアマイドリン酸塩、および水酸基含有ポリカルボン酸エステル;ポリ(低級アルキレンイミン)と遊離のカルボキシル基を有するポリエステルとの反応で合成したアミド、およびその塩等;、
ポリエステル、ポリエーテル、ポリエステルエーテル、ポリウレタン等のポリリン酸(塩);ポリリン酸、ポリリン酸(部分)アミン塩、ポリリン酸アンモニウム塩、ポリリン酸アルキルアミン塩等;
(メタ)アクリル酸−スチレン共重合体、(メタ)アクリル酸−(メタ)アクリル酸エステル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル系、変性ポリアクリレート系、エチレンオキサイド/プロピレンオキサイド付加化合物、および繊維系誘導体樹脂等が挙げられる。
Resin-type dispersants include, for example, polyurethanes and polycarboxylic acid ester polyamides such as polyacrylates; polycarboxylic acids, polycarboxylic acid (partial) amine salts, polycarboxylic acid ammonium salts, polycarboxylic acid alkylamine salts, polysiloxanes, long A chain polyaminoamide phosphate, and a hydroxyl group-containing polycarboxylic acid ester; an amide synthesized by reaction of poly (lower alkyleneimine) with a polyester having a free carboxyl group, and a salt thereof;
Polyphosphoric acid (salt) such as polyester, polyether, polyester ether, polyurethane; polyphosphoric acid, polyphosphoric acid (partial) amine salt, polyphosphoric acid ammonium salt, polyphosphoric acid alkylamine salt, etc .;
(Meth) acrylic acid-styrene copolymer, (meth) acrylic acid- (meth) acrylic ester copolymer, styrene-maleic acid copolymer, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, Examples include polyester-based, modified polyacrylate-based, ethylene oxide / propylene oxide addition compounds, and fiber-based derivative resins.

界面活性剤は、アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、および両性界面活性剤が好ましい。
アニオン性界面活性剤は、例えばラウリル硫酸ソーダ、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ、およびスチレン−アクリル酸共重合体のアルカリ塩;ステアリン酸ナトリウム、アルキルナフタリンスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸モノエタノールアミン、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ラウリル硫酸アンモニウム、ステアリン酸モノエタノールアミン、ステアリン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、およびスチレン−アクリル酸共重合体のモノエタノールアミンポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エスエル等が挙げられるがこれらに限定されない。
ノニオン性界面活性剤は、例えばポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリエチレングリコールモノラウレート等が挙げられるがこれらに限定されない。
カチオン性界面活性剤は、アルキル4級アンモニウム塩やそれらのエチレンオキサイド付加物等が挙げられるがこれらに限定されない。
両性界面活性剤は、例えばアルキルジメチルアミノ酢酸ペタイン等のアルキルペタイン、およびアルキルイミダゾリン等が挙げられるがこれらに限定されない。
The surfactant is preferably an anionic surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, or an amphoteric surfactant.
Examples of the anionic surfactant include sodium lauryl sulfate, polyoxyethylene alkyl ether sulfate, sodium dodecylbenzene sulfonate, and alkali salt of styrene-acrylic acid copolymer; sodium stearate, sodium alkylnaphthalene sulfonate, alkyl diphenyl ether Sodium disulfonate, monoethanolamine lauryl sulfate, triethanolamine lauryl sulfate, ammonium lauryl sulfate, monoethanolamine stearate, sodium stearate, sodium lauryl sulfate, and monoethanolamine polyoxyethylene alkyl ether of styrene-acrylic acid copolymer Examples include, but are not limited to, phosphoric acid ester.
Nonionic surfactants include, for example, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyoxyethylene alkyl ether phosphate ester, polyoxyethylene sorbitan monostearate, polyethylene glycol monolaurate, etc. However, it is not limited to these.
Cationic surfactants include, but are not limited to, alkyl quaternary ammonium salts and their ethylene oxide adducts.
Examples of amphoteric surfactants include, but are not limited to, alkyl petines such as alkyldimethylaminoacetic acid petine, and alkylimidazolines.

シランカップリング剤は、例えばビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、2‐(3,4‐エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3‐グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3‐グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、p‐スチリルトリメトキシシラン‐3‐メタクリロキシプロピル、メチルジメトキシシラン、3‐メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3‐メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3‐メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3‐アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N‐2‐(アミノエチル)‐3‐アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N‐2‐(アミノエチル)‐3‐アミノプロピルトリメトキシシラン、N‐2‐(アミノエチル)‐3‐アミノプロピルトリエトキシシラン、3‐アミノプロピルトリメトキシシラン、3‐アミノプロピルトリエトキシシラン、3‐トリエトキシシリル-N(1,3‐ジメチル-ブチリデン)、プロピルアミンN‐フェニル‐3‐アミノプロピルトリメトキシシラン、N‐(ビニルベンジル)‐2‐アミノエチル‐3‐アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩、3‐ウレイドプロピルトリエトキシシラン、3‐クロロプロピルトリメトキシシラン、3‐メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3‐メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、および3‐イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるがこれらに限定されない。   Examples of the silane coupling agent include vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and 3-glycid. Xylpropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane-3-methacryloxypropyl, methyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldi Ethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N ( 1,3-dimethyl-butylidene), propylamine N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (vinylbenzyl) -2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride, 3-ureidopropyl Examples include triethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, bis (triethoxysilylpropyl) tetrasulfide, and 3-isocyanatopropyltriethoxysilane. However, it is not limited to these.

金属キレートは、金属アルコシドと、β−ジケトンやケトエステル(例えば、アセト酢酸エチル等)等のキレート化剤とを反応させたキレート化合物(金属錯体)である。金属キレートは、アルミニウムキレート、ジルコニウムキレート、およびチタンキレート等が好ましい。   The metal chelate is a chelate compound (metal complex) obtained by reacting a metal alcoside with a chelating agent such as β-diketone or ketoester (for example, ethyl acetoacetate). The metal chelate is preferably an aluminum chelate, a zirconium chelate, a titanium chelate or the like.

アルミニウムキレートは、アルミニウムとアセトネート基で構成される。アセトネート基は、例えばアセチルアセトネート基:−O−C(CH3)=CH、−CO(CH3)や、メチルアセトアセトネート基:−O−C(CH3)=CH−CO−O−CH3、およびエチルアセトアセトネート基:−O−C(CH3)=CH−CO−O−C25等が挙げられる。これらの中でもアセチルアセトネート基、メチルアセトアセトネート基、およびエチルアセトアセテート基を使用すると導電性被膜の導電性がより向上するため好ましい。
アルミニウムキレートは、例えばエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピオネート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(アセチルアセテート)、アルミニウムモノアセチルアセテートビス(エチルアセトアセテテート)、アルミニウム−ジ−n−ブトキシドモノメチルアセトアセテート、アルミニウムジイソブトキシドモノメチルアセトアセテート、アルミニウム−ジ−sec−ブトキシドモノメチルアセトアセテート等が挙げられるがこれらに限定されない。アルミニウムキレートは、式量が200〜420の化合物が好ましい。
Aluminum chelates are composed of aluminum and acetonate groups. The acetonate group is, for example, an acetylacetonate group: —O—C (CH 3 ) ═CH, —CO (CH 3 ), or a methyl acetoacetonate group: —O—C (CH 3 ) ═CH—CO—O—. CH 3 and ethyl acetoacetonate groups: —O—C (CH 3 ) ═CH—CO—O—C 2 H 5 and the like can be mentioned. Among these, it is preferable to use an acetylacetonate group, a methylacetoacetonate group, and an ethylacetoacetate group because the conductivity of the conductive coating is further improved.
Aluminum chelates include, for example, ethyl acetoacetate aluminum diisopropionate, aluminum tris (ethyl acetoacetate), alkyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (acetyl acetate), aluminum monoacetyl acetate bis (ethyl acetoacetate), aluminum Examples include, but are not limited to, di-n-butoxide monomethyl acetoacetate, aluminum diisobutoxide monomethyl acetoacetate, aluminum di-sec-butoxide monomethyl acetoacetate, and the like. The aluminum chelate is preferably a compound having a formula weight of 200 to 420.

ジルコニウムキレートは、ジルコニウムとアセトネート基で構成される。アセトネート基は、アセチルアセトネート基、およびエチルアセトアセテート基が好ましい。
ジルコニウムキレートは、例えばジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムトリブトキシアセチルアセトネート、ジルコニウムモノブトキシアセチルアセトネートビス(エチルアセトアセテート)、ジルコニウムジブトキシビス(エチルアセトアセテート)、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート等が挙げられる。ジルコニウムキレートは、式量が350〜1,000の化合物が好ましい。
Zirconium chelates are composed of zirconium and acetonate groups. The acetonate group is preferably an acetylacetonate group or an ethylacetoacetate group.
Examples of the zirconium chelate include zirconium tetraacetylacetonate, zirconium tributoxyacetylacetonate, zirconium monobutoxyacetylacetonate bis (ethylacetoacetate), zirconium dibutoxybis (ethylacetoacetate), zirconium tetraacetylacetonate and the like. . The zirconium chelate is preferably a compound having a formula weight of 350 to 1,000.

チタンキレートは、(HOR1O)2Ti(OR22あるいは(H2NR1O)2Ti(0R22で表すことができるチタンキレートおよびアルコキシチタンが好ましい。なお、R1およびR2はアルキル基である。
チタンキレートは、例えば、ジ−i−プロポキシビス(アセチルアセトナト)チタン、ジ−n−プトキシビス(トリエタノールアミナト)チタン、チタニウム−i−プロポキシオクチレングリコレート、チタニウムステアレート、チタンアセチルアセトナート、チタンテトラアセチルアセトナート、ポリチタンアセチルアセチルアセトナート、チタンオクチレングリコレート、チタンエチルアセトアセテート、チタンラクテート、およびチタントリエタノールアミネート等が挙げられる。チタンキレートは、式量が250〜1,500の化合物が好ましい。
分散剤は、単独または2種類以上を併用できる。
The titanium chelate is preferably a titanium chelate and an alkoxy titanium that can be represented by (HOR 1 O) 2 Ti (OR 2 ) 2 or (H 2 NR 1 O) 2 Ti (0R 2 ) 2 . R 1 and R 2 are alkyl groups.
Titanium chelates include, for example, di-i-propoxybis (acetylacetonato) titanium, di-n-ptoxybis (triethanolaminato) titanium, titanium-i-propoxyoctylene glycolate, titanium stearate, titanium acetylacetonate , Titanium tetraacetylacetonate, polytitanium acetylacetylacetonate, titanium octylene glycolate, titanium ethyl acetoacetate, titanium lactate, and titanium triethanolamate. The titanium chelate is preferably a compound having a formula weight of 250 to 1,500.
A dispersing agent can be used individually or in combination of 2 or more types.

分散剤は、バインダ樹脂および導電性微粒子を合計した100重量部に対して0.1〜20重量部を配合することが好ましく、0.1〜15重量部がより好ましい。分散剤が0.1重量部以上になることで導電性微粒子の分散性がより向上する。また、分散剤が20重量以下になることで導電性被膜の導電性がより向上する。   The dispersant is preferably blended in an amount of 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 0.1 to 15 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the binder resin and conductive fine particles. The dispersibility of electroconductive fine particles improves more because a dispersing agent will be 0.1 weight part or more. Moreover, the electroconductivity of a conductive film improves more because a dispersing agent will be 20 weight or less.

本発明のレーザー加工用導電性ペーストは、さらに溶剤を配合できる。溶剤を配合することで導電性微粒子の分散が容易になり、印刷に適した粘度に調整がし易くなる。
溶剤は、使用する樹脂の溶解性や印刷方法等の種類に応じて、選択することができる。
具体的には、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、脂肪族系溶剤、脂環族系溶剤、芳香族系溶剤、アルコール系溶剤、および水等が好ましい。
エステル系溶剤は、ポリウレタン樹脂またはポリウレタンウレア樹脂で既に説明した溶剤を使用できる。他にε−カプロラクトン、およびγ―ブチロラクトン等の環状エステル系溶剤も挙げられる。
ケトン系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、脂肪族系溶剤は、ポリウレタン樹脂またはポリウレタンウレア樹脂で既に説明した溶剤を使用できる。
芳香族系溶剤は、例えばトルエン、キシレン、テトラリン等が挙げられるがこれらに限定されない。
溶剤は、単独または2種類以上を併用できる。
The conductive paste for laser processing of the present invention can further contain a solvent. By blending the solvent, the dispersion of the conductive fine particles is facilitated, and the viscosity suitable for printing can be easily adjusted.
The solvent can be selected depending on the solubility of the resin used, the type of printing method, and the like.
Specifically, ester solvents, ketone solvents, glycol ether solvents, aliphatic solvents, alicyclic solvents, aromatic solvents, alcohol solvents, water, and the like are preferable.
As the ester solvent, the solvent already described for the polyurethane resin or the polyurethane urea resin can be used. Other examples include cyclic ester solvents such as ε-caprolactone and γ-butyrolactone.
As the ketone solvent, glycol ether solvent, and aliphatic solvent, the solvents already described in the polyurethane resin or polyurethane urea resin can be used.
Examples of the aromatic solvent include, but are not limited to, toluene, xylene, tetralin and the like.
The solvent can be used alone or in combination of two or more.

溶剤は、導電性ペーストの不揮発分および溶剤の合計100重量%のうち5〜50重量%程度である。   The solvent is about 5 to 50% by weight out of the total 100% by weight of the nonvolatile content of the conductive paste and the solvent.

本発明の導電性ペーストの粘度は、E型(コーンプレート型)粘度計、ローター#7(θ3°xR7.7mm)を使用し、温度25度、回転数5rpmで測定した数値である。またチキソインデックス(以下、TI値という)は、E型粘度計でローター#7を使用して温度25℃で回転数2rpmでの粘度を回転数20rpmでの粘度で除算した数値である。また、各粘度は測定開始から2分後の数値である。   The viscosity of the conductive paste of the present invention is a numerical value measured using an E-type (cone plate type) viscometer and rotor # 7 (θ3 ° x R7.7 mm) at a temperature of 25 degrees and a rotational speed of 5 rpm. The thixo index (hereinafter referred to as TI value) is a numerical value obtained by dividing the viscosity at a rotation speed of 2 rpm at a temperature of 25 ° C. by the viscosity at a rotation speed of 20 rpm using a rotor # 7 in an E type viscometer. Each viscosity is a value 2 minutes after the start of measurement.

従来のスクリーン印刷用の導電性ペーストは、高精細配線回路を印刷で形成するため粘性をチキソトロピック性に調整していたため流動性が悪く、形成した導電性被膜表面に、スクリーン印刷版に由来する凹凸形状が残っていたため、膜厚のばらつきが大きかった。このような導電性被膜に例えばL/S=30μm/30μmを目的としてレーザー加工を行うと、被膜が厚い部分はレーザーアブレーションし難いため被膜が残りやすく、他方、被膜が薄い部分ではレーザーアブレーションが容易で被膜を除去しやすいため、結果としてスペース幅(S幅)にばらつきが生じ、直線性が低い配線回路が形成されていた。これに対して本発明の導電性ペーストは、粘性がニュートニアンに近いため、流動性が良好なので、形成した導電性被膜は凹凸が少ない。そして導電性被膜は厚さのバラつきが少ないので、例えばL/S=30μm/30μmの配線回路を形成するためにレーザー加工をした場合、導電性被膜を均一に除去し易いので直線性が高い配線回路が形成できる。   The conventional conductive paste for screen printing has poor fluidity because the viscosity is adjusted to thixotropic properties to form a high-definition wiring circuit by printing, and is derived from the screen printing plate on the surface of the formed conductive film. Since the uneven shape remained, the variation in film thickness was large. When such a conductive film is subjected to laser processing for the purpose of, for example, L / S = 30 μm / 30 μm, it is difficult to laser ablate the part where the film is thick, and the film is likely to remain, whereas laser ablation is easy in the part where the film is thin As a result, the space width (S width) varies and a wiring circuit with low linearity is formed. On the other hand, since the conductive paste of the present invention has good fluidity because the viscosity is close to Newtonian, the formed conductive film has few irregularities. Since the conductive coating has little variation in thickness, for example, when laser processing is performed to form a wiring circuit of L / S = 30 μm / 30 μm, the conductive coating can be easily removed uniformly, so that the wiring with high linearity can be obtained. A circuit can be formed.

本発明の導電性ペーストの製造は、上段で説明した原料を所定の割合で配合して攪拌機で混合することで作成できる。攪拌機は、プラネタリーミキサー、およびデスパー等の公知の装置を使用できる。また、攪拌機に加えて、分散を行うことで導電性微粒子をより微細に分散できる。分散機は、ボールミル、ビーズミル、および3本ロール等が挙げられる。   The conductive paste of the present invention can be produced by blending the raw materials described above in a predetermined ratio and mixing with a stirrer. As the stirrer, a known apparatus such as a planetary mixer and a desper can be used. In addition to the stirrer, the conductive fine particles can be dispersed more finely by dispersing. Examples of the disperser include a ball mill, a bead mill, and a three roll.

本発明のレーザー加工用シートは、基材と、レーザー加工用導電性ペーストを含む導電性被膜とを備えている。レーザー加工用シートの製造方法の1例を挙げると、例えば、導電性ペーストを基材上に印刷することで導電性被膜を備えたレーザー加工用シートを製造できる。   The laser processing sheet of the present invention includes a base material and a conductive coating containing a laser processing conductive paste. If an example of the manufacturing method of the sheet | seat for laser processing is given, the sheet | seat for laser processing provided with the electroconductive film can be manufactured by printing an electrically conductive paste on a base material, for example.

前記印刷は、例えばスクリーン印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、グラビア印刷、およびグラビアオフセット印刷等が好ましく、スクリーン印刷がより好ましい。スクリーン印刷で使用するスクリーン版は、配線回路パターンの高精細化、導電性被膜の平滑性に対応すべく微細なメッシュ、特に好ましくは400〜650メッシュ程度の微細なメッシュのスクリーンを用いることが好ましい。この時のスクリーンの開放面積は20〜50%が好ましい。スクリーン線径は約10〜70μmが好ましい
また、印刷後、乾燥工程を行なうことが好ましい。乾燥工程は、熱風オーブン、赤外線オーブン、およびマイクロウエーブオーブン、ならびにこれらを複合した複合オーブン等公知の乾燥装置が挙げられる。
The printing is preferably, for example, screen printing, flexographic printing, offset printing, gravure printing, gravure offset printing, and more preferably screen printing. The screen plate used in the screen printing is preferably a fine mesh screen, particularly preferably a fine mesh screen of about 400 to 650 mesh, in order to cope with high definition of the wiring circuit pattern and smoothness of the conductive film. . At this time, the open area of the screen is preferably 20 to 50%. The screen wire diameter is preferably about 10 to 70 μm. It is preferable to perform a drying step after printing. Examples of the drying step include known drying apparatuses such as a hot air oven, an infrared oven, a microwave oven, and a composite oven in which these are combined.

基材は、例えば、ポリイミドフィルム、ポリパラフェニレンテレフタルアミドフィルム、ポリエーテルニトリルフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、およびポリアクリルフィルム等、公知のフィルムが挙げられる。またこれらのフィルム上にITO(スズドープ酸化インジウム)層を形成したITOフィルム、およびガラス板上にITO層を形成したITOガラスも挙げられる。また、基材は、セラミック板上にITO層を形成したITOセラミックも挙げられる、なおITO層は、フィルムないし板の全面に形成する必要は無く部分的で形成されていても良い。   The substrate is, for example, polyimide film, polyparaphenylene terephthalamide film, polyether nitrile film, polyether sulfone film, polyethylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, polybutylene terephthalate film, polycarbonate film, polyvinyl chloride film, and A well-known film, such as a polyacryl film, is mentioned. Moreover, the ITO film which formed the ITO (tin dope indium oxide) layer on these films and the ITO glass which formed the ITO layer on the glass plate are also mentioned. In addition, examples of the substrate include ITO ceramics in which an ITO layer is formed on a ceramic plate. The ITO layer does not need to be formed on the entire surface of the film or plate and may be formed partially.

基材の厚みは、通常30〜350μm程度であり、50〜250μm程度がより好ましい。前記範囲の厚みにより基材の機械特性、形状安定性、寸法安定性、およびハンドリング面等が適切になりやすい。   The thickness of the substrate is usually about 30 to 350 μm, and more preferably about 50 to 250 μm. The mechanical properties, shape stability, dimensional stability, handling surface and the like of the substrate are likely to be appropriate depending on the thickness within the above range.

導電性被膜の厚みは、通常3〜30μm程度が好ましく、4〜10μmがより好ましい。厚みが3〜30μmになることでレーザー光非照射部がレーザー光の影響を受け難く、基材と密着性がより向上する。   The thickness of the conductive coating is usually preferably about 3 to 30 μm and more preferably 4 to 10 μm. When the thickness is 3 to 30 μm, the non-irradiated portion of the laser beam is hardly affected by the laser beam, and the adhesion to the substrate is further improved.

レーザー加工用シートを使用した配線回路の製造方法を説明する。
まず、作製したレーザー加工用シートの導電性被膜に対して、レーザーアブレーションを行い、前記導電性被膜の一部を除去することで配線回路を形成できる。
上記製造方法は、導電性被膜にレーザー光を照射して所望のL/Sを有する配線回路を形成する。導電性被膜にレーザー光を照射された部分は、レーザーエネルギーを吸収して温度が急激に数千度に上昇することで、当該部分の溶融と蒸発、ないし瞬時にプラズマになり、導電性塗膜が除去されると考えられている。配線回路上に導電性被膜に由来する異物が残留する場合は、エアブローにより除去する。
A method of manufacturing a wiring circuit using a laser processing sheet will be described.
First, a wiring circuit can be formed by performing laser ablation on the conductive film of the produced laser processing sheet and removing a part of the conductive film.
In the manufacturing method, the conductive film is irradiated with laser light to form a wiring circuit having a desired L / S. The part of the conductive film irradiated with laser light absorbs the laser energy and the temperature rapidly rises to several thousand degrees, so that the part melts and evaporates, or instantly becomes plasma, and the conductive film becomes conductive. Is thought to be removed. If foreign matter derived from the conductive coating remains on the wiring circuit, it is removed by air blowing.

レーザー光は、基本波の波長が193〜10600nmの範囲が好ましい。具体的にはエキシマレーザー(基本波の波長:193〜308nm)、YVO4レーザー(基本波の波長:1064nm)、YAGレーザー(基本波の波長:1064nm)、ファイバーレーザー(基本波の波長:1060nm),CO2レーザー(基本波の波長:10600nm)、および半導体レーザー等が挙げられる。
本発明では、特にYAGレーザーが基材に対するダメージが少ないので好ましい。
The laser beam preferably has a fundamental wavelength in the range of 193 to 10600 nm. Specifically, excimer laser (wavelength of fundamental wave: 193 to 308 nm), YVO 4 laser (wavelength of fundamental wave: 1064 nm), YAG laser (wavelength of fundamental wave: 1064 nm), fiber laser (wavelength of fundamental wave: 1060 nm) , CO 2 laser (wavelength of fundamental wave: 10600 nm), semiconductor laser, and the like.
In the present invention, a YAG laser is particularly preferable because it causes little damage to the substrate.

レーザー光を使用する際の出力、走査速度および周波数は、導電性被膜が除去できる程度の条件であれば良く、限定されないが、一般的に出力は1〜50W、走査速度は1,000〜4,000mm/s、および周波数は10〜400kHz程度である。
また、レーザー光の走査(照射)を複数回繰り返し行うこともできる。
The output, scanning speed, and frequency when using the laser beam are not limited as long as the conductive film can be removed. Generally, the output is 1 to 50 W, and the scanning speed is 1,000 to 4. , 000 mm / s, and the frequency is about 10 to 400 kHz.
In addition, laser beam scanning (irradiation) can be repeated a plurality of times.

上記製造方法で得た配線回路は、L/Sが30μm/30μm以下の超高精細パターンが得やすいため、視認性が重要なタッチパネルの構成部材に使用することが好ましい。また、フラットパネルディスプレイ、太陽電池等の用途に使用しても良い。   The wiring circuit obtained by the above manufacturing method is preferably used as a constituent member of a touch panel in which visibility is important because an ultrahigh-definition pattern having an L / S of 30 μm / 30 μm or less is easily obtained. Moreover, you may use for uses, such as a flat panel display and a solar cell.

本発明の電子機器は、レーザー加工用導電性ペーストを使用して形成した配線回路を備えている。前記電子機器は、携帯電話、スマートフォン、タブレット端末、ノート型PC、電子書籍、カーナビゲーション等のタッチパネルディスプレイを備えた電子デバイスが挙げられる。また、ディスプレイが無くともレーザー加工により形成した配線回路を備えた電子機器等、例えばデジタルカメラ、ビデオカメラ、CD・DVDプレーヤー等に制限無く使用できる。   The electronic apparatus of the present invention includes a wiring circuit formed using a conductive paste for laser processing. Examples of the electronic device include an electronic device including a touch panel display such as a mobile phone, a smartphone, a tablet terminal, a notebook PC, an electronic book, and a car navigation system. Further, even if there is no display, it can be used without limitation for an electronic device equipped with a wiring circuit formed by laser processing, such as a digital camera, a video camera, a CD / DVD player, and the like.

以下、実施例、比較例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。なお、「部」は「重量部」、「%」は「重量%」を意味する。また、表中の配合量は、重量部である。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are given and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited only to a following example. “Parts” means “parts by weight” and “%” means “% by weight”. Moreover, the compounding quantity in a table | surface is a weight part.

<バインダ樹脂>
[バインダ樹脂1]
JER1256(ビスフェニールA型エポキシ樹脂、数平均分子量(Mn)25,000、Tg95℃、エポキシ当量7,500、水酸基価190、三菱化学社製)40部をイソホロン30部、γ−ブチロラクトン30部に溶解し、不揮発分40%のバインダ樹脂溶液(1)を得た。
<Binder resin>
[Binder resin 1]
40 parts of JER1256 (bisphenyl A type epoxy resin, number average molecular weight (Mn) 25,000, Tg 95 ° C., epoxy equivalent 7,500, hydroxyl value 190, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) in 30 parts of isophorone and 30 parts of γ-butyrolactone It melt | dissolved and the binder resin solution (1) of 40% of non volatile matters was obtained.

[バインダ樹脂2]
バイロン650(ポリエステル樹脂、Mn23,000、Tg10℃、水酸基価5,酸価1、東洋紡社製)40部をイソホロン30部、γ−ブチロラクトン30部に溶解し、不揮発分40%のバインダ樹脂溶液(2)を得た。
[Binder resin 2]
Byron 650 (polyester resin, Mn 23,000, Tg 10 ° C., hydroxyl value 5, acid value 1, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) 40 parts was dissolved in isophorone 30 parts and γ-butyrolactone 30 parts, and a binder resin solution (non-volatile content 40%) 2) was obtained.

[バインダ樹脂3]
攪拌機、温度計、還流冷却管、窒素ガス導入管を備えた反応装置に、イソフタル酸と3−メチル−1,5ペンタンジオールで合成したポリエステルポリオール(クラレポリオールP−2030、Mn2033、クラレ社製)127.4部、ジメチロールブタン酸1.9部、イソホロンジイソシアネート15.9部、ジブチルチンジラウレート0.04部及びジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート43部を仕込み、窒素気流下にて90℃で5時間反応させた。次いでジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート102部を加えることで、Mn19,000、Tg17℃、水酸基価3、酸価5のポリウレタン樹脂の溶液を得た。ポリウレタン樹脂の溶液100部にイソホロン25部を加え、不揮発分40%のポリウレタン樹脂のバインダ樹脂溶液(3)を得た。
[Binder resin 3]
Polyester polyol synthesized with isophthalic acid and 3-methyl-1,5-pentanediol (Kuraray Polyol P-2030, Mn 2033, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) in a reactor equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, and nitrogen gas introduction pipe 127.4 parts, dimethylolbutanoic acid 1.9 parts, isophorone diisocyanate 15.9 parts, dibutyltin dilaurate 0.04 parts and diethylene glycol monoethyl ether acetate 43 parts were charged and reacted at 90 ° C. for 5 hours under a nitrogen stream. I let you. Subsequently, 102 parts of diethylene glycol monoethyl ether acetate was added to obtain a polyurethane resin solution having a Mn of 19,000, a Tg of 17 ° C., a hydroxyl value of 3, and an acid value of 5. 25 parts of isophorone was added to 100 parts of a polyurethane resin solution to obtain a polyurethane resin binder resin solution (3) having a nonvolatile content of 40%.

[バインダ樹脂4]
攪拌機、温度計、還流冷却管、窒素ガス導入管を備えた反応装置に、クラレポリオールP−2030 90.9部、ジメチロールブタン酸1.5部、イソホロンジイソシアネート17.1部、ジブチルチンジラウレート0.03部及びジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート23部を仕込み、窒素気流下にて90℃で3時間反応させた。次いでジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート72部を加えることで、イソシアネート基を有するウレタンプレポリマー溶液を得た。次にイソホロンジアミン3.18部、ジ−n−ブチルアミン0.36部、ジエチレングリコールモノエチルエーテル17.9部、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート56.7部の混合物に、得られたイソシアネート基を有するウレタンプレポリマー溶液204.5部を添加し、50℃で3時間反応させた後、90℃で2時間反応させることで、Mn17,000、Tg19℃、酸価5、不揮発分40%のポリウレタンウレア樹脂のバインダ樹脂溶液(4)を得た。
[Binder resin 4]
In a reactor equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, and nitrogen gas inlet tube, 90.9 parts of Kuraray polyol P-2030, 1.5 parts of dimethylolbutanoic acid, 17.1 parts of isophorone diisocyanate, dibutyltin dilaurate 0 0.03 part and 23 parts of diethylene glycol monoethyl ether acetate were charged and reacted at 90 ° C. for 3 hours under a nitrogen stream. Subsequently, 72 parts of diethylene glycol monoethyl ether acetate was added to obtain a urethane prepolymer solution having an isocyanate group. Next, a urethane prepolymer having an isocyanate group was added to a mixture of 3.18 parts of isophoronediamine, 0.36 parts of di-n-butylamine, 17.9 parts of diethylene glycol monoethyl ether, and 56.7 parts of diethylene glycol monoethyl ether acetate. After adding 204.5 parts of polymer solution and reacting at 50 ° C. for 3 hours, reacting at 90 ° C. for 2 hours, the polyurethane urea resin having Mn of 17,000, Tg of 19 ° C., acid value of 5 and nonvolatile content of 40% A binder resin solution (4) was obtained.

なお、バインダ樹脂1〜4のMn、Tg、エポキシ当量、酸価および水酸基価は以下の方法に従って求めた。   The Mn, Tg, epoxy equivalent, acid value and hydroxyl value of the binder resins 1 to 4 were determined according to the following method.

<数平均分子量(Mn)の測定>
装置:GPC(ゲルパーミッションクロマトグラフィー)
機種:昭和電工社製 Shodex GPC−101
カラム:昭和電工社製 GPC KF−G+KF805L+KF803L+KF802
検出器:示差屈折率検出器 昭和電工社製 Shodex RI−71
溶離液:THF
流量 :サンプル側:1mL/分、リファレンス側:0.5mL/分
温度 :40℃
サンプル:0.2%THF溶液(100μLインジェクション)
検量線:東ソー社製の下記の分子量の標準ポリスチレン12点を用いて検量線を作成した。
F128(1.09X106)、F80(7.06X105)、F40(4.27X105)、F20(1.90X105)、F10(9.64X104)、F4(3.79X104)、F2(1.81X104)、F1(1.02X104)、A5000(5.97X103)、A2500(2.63X103)、A1000(1.05X103)、A500(5.0X102)。
ベースライン:GPC曲線の最初のピークの立ち上がり点を起点とし、リテンションタイム25分(分子量3,150)でピークが検出されなかったので、これを終点とした。そして、両点を結んだ線をベースラインとして、分子量を計算した。
<Measurement of number average molecular weight (Mn)>
Apparatus: GPC (gel permeation chromatography)
Model: Shodex GPC-101 manufactured by Showa Denko
Column: Showa Denko GPC KF-G + KF805L + KF803L + KF802
Detector: Differential refractive index detector Shodex RI-71 manufactured by Showa Denko KK
Eluent: THF
Flow rate: Sample side: 1 mL / min Reference side: 0.5 mL / min Temperature: 40 ° C
Sample: 0.2% THF solution (100 μL injection)
Calibration curve: A calibration curve was prepared using 12 standard polystyrenes with the following molecular weights manufactured by Tosoh Corporation.
F128 (1.09 X10 6 ), F80 (7.06 X10 5 ), F40 (4.27 X10 5 ), F20 (1.90 X10 5 ), F10 (9.64 X10 4 ), F4 (3.79 X10 4 ), F2 ( 1.81 × 10 4 ), F1 (1.02 × 10 4 ), A5000 (5.97 × 10 3 ), A2500 (2.63 × 10 3 ), A1000 (1.05 × 10 3 ), A500 (5.0 × 10 2 ).
Baseline: The starting point of the first peak of the GPC curve was the starting point, and no peak was detected at a retention time of 25 minutes (molecular weight 3,150). The molecular weight was calculated using the line connecting both points as the baseline.

<Tgの測定>
・装置:セイコーインスツル社製 示差走査熱量分析計DSC−220C
・試料:約10mg(0.1mgまで量る)
・昇温速度:10℃/分にて200℃まで測定
・Tg温度:低温側のベースラインを高温側に延長した直線と、融解ピークの低温側の 曲線に勾配が最大になる点で引いた折線の交点の温度とした。
<Measurement of Tg>
・ Apparatus: Seiko Instruments' differential scanning calorimeter DSC-220C
-Sample: about 10 mg (weigh to 0.1 mg)
・ Temperature increase rate: Measured up to 200 ° C at 10 ° C / min. ・ Tg temperature: Draw at the point where the gradient is maximized on the low temperature side of the straight line and the melting peak on the low temperature side of the curve. It was set as the temperature of the intersection of a broken line.

<エポキシ当量の測定>
JIS K 7236 に準拠して測定した。
<Measurement of epoxy equivalent>
It measured based on JISK7236.

<水酸基価、酸価の測定>
JIS K 0070 に準拠して測定した。
<Measurement of hydroxyl value and acid value>
Measurement was performed in accordance with JIS K 0070.

<導電性粒子>
[銀粉A]フレーク状銀粉(D50平均粒子径0.7μm、タップ密度4.5g/cm3、比表面積2.3m2/g)
<Conductive particles>
[Silver powder A] flaky silver powder (D50 average particle diameter 0.7 μm, tap density 4.5 g / cm 3 , specific surface area 2.3 m 2 / g)

[銀粉B]フレーク状銀粉(D50平均粒子径0.8μm、タップ密度3.6g/cm3、比表面積1.7m2/g) [Silver powder B] Flaky silver powder (D50 average particle size 0.8 μm, tap density 3.6 g / cm 3 , specific surface area 1.7 m 2 / g)

[銀粉C]フレーク状銀粉(D50平均粒子径1.0μm、タップ密度3.8g/cm3、比表面積1.3m2/g) [Silver powder C] Flaky silver powder (D50 average particle diameter 1.0 μm, tap density 3.8 g / cm 3 , specific surface area 1.3 m 2 / g)

[銀粉D]球状銀粉(D50平均粒子径1.4μm、タップ密度4.1g/cm3、比表面積0.9m2/g) [Silver powder D] Spherical silver powder (D50 average particle diameter 1.4 μm, tap density 4.1 g / cm 3 , specific surface area 0.9 m 2 / g)

[銀粉E]球状銀粉(D50平均粒子径2.8μm、タップ密度4.8g/cm3、比表面積0.4m2/g) [Silver powder E] Spherical silver powder (D50 average particle diameter 2.8 μm, tap density 4.8 g / cm 3 , specific surface area 0.4 m 2 / g)

[銀粉F]フレーク状銀粉(D50平均粒子径4.0μm、タップ密度4.6g/cm3、比表面積0.5m2/g) [Silver powder F] Flaky silver powder (D50 average particle diameter 4.0 μm, tap density 4.6 g / cm 3 , specific surface area 0.5 m 2 / g)

[銀粉a]凝集状銀粉(D50平均粒子径0.2μm、タップ密度2.4g/cm3、比表面積11.5m2/g) [Silver powder a] Aggregated silver powder (D50 average particle diameter 0.2 μm, tap density 2.4 g / cm 3 , specific surface area 11.5 m 2 / g)

[銀粉b]球状銀粉(D50平均粒子径0.3μm、タップ密度2.5g/cm3、比表面積4.0m2/g) [Silver powder b] Spherical silver powder (D50 average particle size 0.3 μm, tap density 2.5 g / cm 3 , specific surface area 4.0 m 2 / g)

[銀粉c]フレーク状銀粉(D50平均粒子径0.6μm、タップ密度4.0g/cm3、比表面積2.0m2/g) [Silver powder c] Flaky silver powder (D50 average particle diameter 0.6 μm, tap density 4.0 g / cm 3 , specific surface area 2.0 m 2 / g)

<D50平均粒子径測定>
レーザー回折粒度分布測定装置「SALAD−3000」(島津製作所社製)を用いて体積粒度分布の累積粒度(D50)を測定した。
<D50 average particle size measurement>
The cumulative particle size (D50) of the volume particle size distribution was measured using a laser diffraction particle size distribution analyzer “SALAD-3000” (manufactured by Shimadzu Corporation).

<タップ密度>
JIS Z 2512:2006法に基づいて測定した。
<Tap density>
Measured based on JIS Z 2512: 2006 method.

<BET比表面積>
流動式比表面積測定装置「フローソーブII」(島津製作所社製)を用いて測定した表面積より以下の計算式により算出した値を比表面積と定義し記載した。
比表面積(m2/g)=表面積(m2)/粉末質量(g)
<BET specific surface area>
The value calculated by the following calculation formula from the surface area measured using the flow type specific surface area measuring device “Flowsorb II” (manufactured by Shimadzu Corporation) was defined and described as the specific surface area.
Specific surface area (m 2 / g) = surface area (m 2 ) / powder mass (g)

[分散剤A]アルミニウムキレートALCH−90F(アルミニウムエチルアセトアセテートジイソプロピオネート、不揮発分90%、川研ファインケミカル社製) [Dispersant A] Aluminum chelate ALCH-90F (aluminum ethyl acetoacetate diisopropionate, non-volatile content 90%, manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.)

[分散剤B]DISPERBYK−140(樹脂型分散剤:カルボキシル基、アミノ基およびポリアクリルユニットを有するアンモニウム塩、酸価73KOHmg/g、アミン価76KOHmg/g、不揮発分52% ビックケミー・ジャパン社製) [Dispersant B] DISPERBYK-140 (resin-type dispersant: ammonium salt having carboxyl group, amino group and polyacryl unit, acid value 73 KOH mg / g, amine value 76 KOH mg / g, nonvolatile content 52%, manufactured by Big Chemie Japan)

[分散剤C]HypermerKD−8(樹脂型分散剤:カルボキシル基含有脂肪酸エステル共重合体、酸価33KOHmg/g、不揮発分100% クローダジャパン社製) [Dispersant C] Hypermer KD-8 (resin-type dispersant: carboxyl group-containing fatty acid ester copolymer, acid value 33 KOH mg / g, nonvolatile content 100%, manufactured by Croda Japan)

[カーボンブラックA]カーボンブラック#3030B(D50:55nm、比表面積32m2/g、吸油量130cm3/100g、三菱化学社製) [Carbon Black A] Carbon black # 3030B (D50: 55nm, specific surface area 32m 2 / g, oil absorption of 130 cm 3/100 g, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)

[硬化剤A]デュラネートMF−K60X(ブロック型ヘキサメチレンジイソシアネート硬化剤、不揮発分60%、旭化成ケミカルズ社製) [Curing Agent A] Duranate MF-K60X (Block type hexamethylene diisocyanate curing agent, non-volatile content 60%, manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation)

[硬化剤B]アミキュアPN−23(潜在性イミダゾール硬化剤、不揮発分100%、味の素ファインテクノ社製) [Curing agent B] Amicure PN-23 (latent imidazole curing agent, non-volatile content 100%, manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.)

[硬化剤C]アミキュアPN−50(潜在性イミダゾール硬化剤、不揮発分100%、味の素ファインテクノ社製) [Curing agent C] Amicure PN-50 (latent imidazole curing agent, non-volatile content 100%, manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.)

<実施例1>
バインダ樹脂溶液(1):100部と、分散剤A:2.5部、銀粉C:296部、銀粉a:74部、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート:32部とをプラネタリーミキサーにて混合後し、次いで3本ロールを使用して分散することで導電性ペーストを調製した。
得られた導電性ペーストは、不揮発分中、銀粉は約90重量%、エポキシ樹脂は約10重量%であった。
<Example 1>
Binder resin solution (1): 100 parts, Dispersant A: 2.5 parts, Silver powder C: 296 parts, Silver powder a: 74 parts, Diethylene glycol monobutyl ether acetate: 32 parts were mixed in a planetary mixer, Next, a conductive paste was prepared by dispersing using three rolls.
The obtained conductive paste contained about 90% by weight of silver powder and about 10% by weight of epoxy resin in the nonvolatile content.

<実施例2〜20、比較例1〜4>
バインダ樹脂溶液、銀粉、分散剤、カーボンブラックおよび硬化剤を表1および表2に示す配合比率にした以外は、実施例1と同様に行なうことで、それぞれ実施例2〜20、および比較例1〜4の導電性ペーストを調整した。なお、カーボンブラックは、バインダ樹脂溶液、銀粉、分散剤、溶剤と共に混合し、3本ロールを使用して分散した。
<Examples 2 to 20, Comparative Examples 1 to 4>
Examples 2 to 20 and Comparative Example 1 were carried out in the same manner as in Example 1 except that the binder resin solution, silver powder, dispersant, carbon black and curing agent were changed to the blending ratios shown in Tables 1 and 2. ~ 4 conductive pastes were prepared. Carbon black was mixed with a binder resin solution, silver powder, a dispersant and a solvent, and dispersed using a three roll.

<粘度、TI値の測定>
得られた導電性ペーストの粘度、TI値を下記条件で測定した。
・粘度計:E型粘度計TVE−25H(東機産業社製)
・ローター:コーンローター#7(θ3°xR7.7mm)
・測定温度:25℃
・試料:0.1ml
・粘度測定:回転数5rpmにて2分値を粘度とした。
・TI値測定:回転数2rpmの2分値と回転数20rpmの2分値を測定
TI値=(回転数2rpmの2分値)/(回転数20rpmの2分値)
<Measurement of viscosity and TI value>
The viscosity and TI value of the obtained conductive paste were measured under the following conditions.
・ Viscometer: E-type viscometer TVE-25H (manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.)
Rotor: Cone rotor # 7 (θ3 ° x R7.7mm)
・ Measurement temperature: 25 ℃
・ Sample: 0.1 ml
-Viscosity measurement: The viscosity was 2 minutes at a rotation speed of 5 rpm.
-TI value measurement: Measured 2 minutes at 2 rpm and 2 minutes at 20 rpm TI value = (2 minutes at 2 rpm) / (2 minutes at 20 rpm)

[導電性シートの作成(導電性評価用)]
得られた導電性ペーストを厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(以下、PETフィルムという)上に縦15mm×横30mmのパターン形状にスクリーン印刷し、135℃オーブンにて30分乾燥させ、膜厚が約5μmの導電性シートを得た。
[Creation of conductive sheet (for conductivity evaluation)]
The obtained conductive paste was screen-printed on a 75 μm thick polyethylene terephthalate film (hereinafter referred to as “PET film”) in a pattern shape of 15 mm in length × 30 mm in width, and dried in an oven at 135 ° C. for 30 minutes. A 5 μm conductive sheet was obtained.

<膜厚の測定>
得られた導電性シートにおける導電性被膜の厚みはMH−15M型測定器(ニコン社製)を用いて測定した。
<Measurement of film thickness>
The thickness of the conductive film in the obtained conductive sheet was measured using a MH-15M type measuring instrument (manufactured by Nikon Corporation).

<表面抵抗率>
得られた導電性シートの表面抵抗率は、25℃、湿度50%雰囲気下にてロレスタGPMCP−T610測定機(三菱化学アナリテック社製)の直列4探針プローブ(ASP)を用いて測定した。
<Surface resistivity>
The surface resistivity of the obtained conductive sheet was measured using a series 4 probe probe (ASP) of a Loresta GPMCP-T610 measuring machine (manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.) at 25 ° C. and a humidity of 50%. .

<体積抵抗率の算出>
上記方法で測定された表面抵抗率、および膜厚を以下の式に代入して導電性シートの体積抵抗率を算出した。
体積抵抗率(Ω・cm)=(表面抵抗率:Ω/□)×(膜厚:cm)
なお評価基準は下記の通りである。
○:100μΩ・cm以下。良好。
△:100μΩ・cmを超え500Ω・cm以下。実用上問題ない。
×:500μΩ・cm超える。実用不可。
<Calculation of volume resistivity>
The volume resistivity of the conductive sheet was calculated by substituting the surface resistivity and film thickness measured by the above method into the following formulas.
Volume resistivity (Ω · cm) = (Surface resistivity: Ω / □) x (Film thickness: cm)
The evaluation criteria are as follows.
○: 100 μΩ · cm or less. Good.
Δ: More than 100 μΩ · cm and 500 Ω · cm or less. There is no problem in practical use.
×: Over 500 μΩ · cm. Not practical.

[導電性シートの作成(レーザー加工性評価用)]
導電性ペーストは高精度スクリーン印刷装置(SERIA、東海精機社製)を用いて、厚さ75μmのPETフィルムに印刷し、135℃で30分乾燥することで厚さ約6μmの導電性被膜を有する導電性シートを得た。なおスクリーン印刷版は、図1に示す様に縦205mm・幅340mmの領域に、幅6mm、縦115mm、横65mmの窓枠柄画像部を4個有する版を使用した。印刷条件は下記の通りである。なお、得られた導電性シートの厚みはMH−15M型測定器(ニコン社製)を用いて測定した。
[Creation of conductive sheet (for laser workability evaluation)]
The conductive paste is printed on a 75 μm thick PET film using a high-precision screen printing apparatus (SERIA, manufactured by Tokai Seiki Co., Ltd.) and dried at 135 ° C. for 30 minutes to have a conductive film having a thickness of about 6 μm. A conductive sheet was obtained. As the screen printing plate, as shown in FIG. 1, a plate having four window frame image portions having a width of 6 mm, a length of 115 mm, and a width of 65 mm in an area of 205 mm in length and 340 mm in width was used. The printing conditions are as follows. In addition, the thickness of the obtained electroconductive sheet was measured using MH-15M type | mold measuring device (made by Nikon Corporation).

(スクリーン印刷条件)
・スクリーン :ステンレス版400メッシュ、線径18μm
・乳剤厚 :10μm
・スクリーン枠 :650×550mm
・スキージ角度 :70°
・スキージ硬度 :80°
・スキージ速度 :150mm/秒
・スキージ印圧 :15kgf
・スキージ押込み:1.5mm
・クリアランス :2.5mm
・使用した溶剤:ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート
(Screen printing conditions)
Screen: Stainless steel plate 400 mesh, wire diameter 18 μm
・ Emulsion thickness: 10 μm
・ Screen frame: 650x550mm
・ Squeegee angle: 70 °
・ Squeegee hardness: 80 °
・ Squeegee speed: 150 mm / sec ・ Squeegee printing pressure: 15 kgf
・ Squeegee push: 1.5mm
・ Clearance: 2.5mm
・ Solvent used: Diethylene glycol monobutyl ether acetate

<レーザー加工性評価>
得られた導電性シートの窓枠柄状の導電性被膜の角部に対して、図2の拡大図に示すように縦線(長さ70mm)、横線(長さ30mm)及びコーナー部からなる16本のL/Sが20μm/20μmの配線パターンの形成を目的としてレーザー加工を行なった。レーザー加工性の評価は、低エネルギー加工性、高エネルギー耐性、スペース直線性の3点の評価を行った。レーザー加工条件は下記の通りである。
(レーザー加工条件)
・レーザー加工機 : Suzhou Delphi Laser Co., LTD社製 Ag Laser Etching System
・レーザー光:YAGレーザー(基本波の波長1064nm)
・装置最大出力:20W
・ビーム径:20μm
・加工出力:10−60%
・周波数:300kHz
・パルス幅:25ns
・走査速度:2000mm/s
・走査回数:2回
加工出力とは、実際に加工する際に使用した出力(%)のことである。ここでは装置最大出力20Wに対して加工に使用した出力はその10−60%なので2−12Wと概算できる。
<Laser workability evaluation>
As shown in the enlarged view of FIG. 2, the conductive sheet is composed of a vertical line (length 70 mm), a horizontal line (length 30 mm), and a corner with respect to the corner of the window frame pattern-like conductive film of the obtained conductive sheet. Laser processing was performed for the purpose of forming 16 L / S wiring patterns of 20 μm / 20 μm. The laser workability was evaluated by three points: low energy workability, high energy resistance, and space linearity. The laser processing conditions are as follows.
(Laser processing conditions)
・ Laser processing machine: Ag Laser Etching System made by Suzhou Delphi Laser Co., LTD
・ Laser light: YAG laser (fundamental wavelength of 1064 nm)
・ Maximum output: 20W
・ Beam diameter: 20μm
・ Processing output: 10-60%
・ Frequency: 300 kHz
・ Pulse width: 25ns
・ Scanning speed: 2000mm / s
-Number of scans: 2 The machining output is the output (%) used in actual machining. Here, since the output used for processing is 10-60% of the maximum apparatus output of 20 W, it can be estimated as 2-12 W.

<線幅の測定>
レーザー加工後の導電性シートを使用して、スペース幅のばらつき度合いの評価するためにデジタルマイクロスコープ(VHX−900 キーエンス社製)を用いて撮影した。撮影した拡大写真を小型汎用画像解析装置「LUZEX AP」(ニレコ社製)を用いて導電性被膜が除去された部分のスペース幅を読み取った。
前記回路パターンの任意のスペース8本を選択し、1本につき460箇所、8本合計で3680箇所のスペース幅を測定し、平均値、標準偏差を求めた。この値を用いて下記レーザー加工性評価を行った
<Measurement of line width>
Using a conductive sheet after laser processing, a digital microscope (manufactured by VHX-900 Keyence) was used to evaluate the degree of variation in space width. The space width of the part from which the conductive coating was removed was read from the photographed enlarged photograph using a small general-purpose image analyzer “LUZEX AP” (manufactured by Nireco).
Arbitrary 8 spaces of the circuit pattern were selected, and the space width of 3680 locations in total, which was 460 locations, was measured, and the average value and standard deviation were obtained. The following laser workability evaluation was performed using this value.

1.レーザー加工性評価:低エネルギー加工性
低出力加工性は、スペース幅を20μmに加工するために必要な最低出力で評価を行った。
低エネルギー加工性を下記の基準で判定した。
○:スペース幅20μm加工必要出力が25%以下。良好。
△:スペース幅20μm加工必要出力が25%を超え、35%以下。実用上問題ない。
×:スペース幅20μm加工必要出力が35%を超える。実用不可。
1. Laser processability evaluation: low energy processability The low output processability was evaluated at the minimum output necessary for processing the space width to 20 μm.
The low energy workability was determined according to the following criteria.
○: Space width 20 μm Required processing output is 25% or less Good.
Δ: Space width 20 μm Required processing output exceeds 25% and 35% or less. There is no problem in practical use.
X: Space width 20 μm Required processing output exceeds 35%. Not practical.

2.レーザー加工性評価:高エネルギー耐性
高エネルギー耐性は断線が発生する最低出力で評価を行った。
高エネルギー耐性を下記の基準で判定した。
○:断線が発生した時の出力が50%以上。良好。
△:断線が発生した時の出力が40%以上、50%未満。実用上問題ない。
×:断線が発生した時の出力が40%未満。実用不可。
2. Laser workability evaluation: high energy resistance High energy resistance was evaluated at the lowest output at which disconnection occurred.
High energy resistance was determined according to the following criteria.
○: Output is 50% or more when disconnection occurs. Good.
Δ: Output when disconnection occurs is 40% or more and less than 50%. There is no problem in practical use.
X: Output when disconnection occurs is less than 40%. Not practical.

3.レーザー加工性評価:スペース直線性
スペースの直線性(図2におけるライン部3とスペース部4部との境界のギザギザ・凹凸度合い)を、標準偏差にて評価した。
スペースの直線性を下記の基準で判定した。
○:標準偏差が0〜1.5μm。良好。
△:標準偏差が1.6〜2.4μm。実用上問題ない。
×:標準偏差が2.5μm以上。実用不可。
3. Laser workability evaluation: Space linearity The linearity of the space (the jaggedness and the degree of unevenness at the boundary between the line portion 3 and the space portion 4 in FIG. 2) was evaluated with a standard deviation.
The linearity of the space was judged according to the following criteria.
○: Standard deviation is 0 to 1.5 μm. Good.
(Triangle | delta): A standard deviation is 1.6-2.4 micrometers. There is no problem in practical use.
X: Standard deviation is 2.5 μm or more. Not practical.

<密着性>
1.基材にITO積層フィルムおよびITO積層エッチングフィルムを使用して密着性を評価した。密着性は、初期密着性および経時試験後の密着性を評価した。
ITO積層フィルムのITO層に得られた導電性ペーストを、乾燥後の膜厚が6μmになるようにスクリーン印刷して縦15mm×横30mmのパターンを形成した。次いで135℃オーブンにて30分乾燥させることで導電性シートを得た。別途、ITO積層エッチングフィルムのITO層とPETフィルム基材が露出した面に対して上記同様に導電性ペーストを印刷することで導電性シートを得た。そしてこれらの導電性シートを使用して導電性被膜の密着性を評価した。
・ITO積層フィルム:V150L−OFME(厚さ:175μm、日東電工社製)
・ITO積層エッチングフィルム:上記ITO積層フィルムの一部を塩酸でエッチングしてITO層を除去して基材(PETフィルム)を露出させたフィルム。
<Adhesion>
1. The adhesion was evaluated using an ITO laminated film and an ITO laminated etching film as a base material. The adhesion was evaluated by initial adhesion and adhesion after a time test.
The conductive paste obtained on the ITO layer of the ITO laminated film was screen-printed so that the film thickness after drying was 6 μm to form a pattern of 15 mm length × 30 mm width. Subsequently, the electroconductive sheet was obtained by making it dry in 135 degreeC oven for 30 minutes. Separately, a conductive sheet was obtained by printing a conductive paste on the surface of the ITO laminated etching film where the ITO layer and the PET film substrate were exposed in the same manner as described above. And the adhesiveness of the conductive film was evaluated using these conductive sheets.
-ITO laminated film: V150L-OFME (thickness: 175 μm, manufactured by Nitto Denko Corporation)
ITO laminated etching film: A film in which a part of the ITO laminated film is etched with hydrochloric acid to remove the ITO layer to expose the substrate (PET film).

・評価方法
テープ密着試験:JIS K5600に準拠して、テープ密着試験を実施した。
ITO残存部分、ITOエッチング部分それぞれの領域上の導電性ペーストに、幅1m間隔に10マス×10マスの計100マス目をカッターで入れ、セロハンテープ(25mm幅、ニチバン社製)を印刷面に貼り付けた後、セロハンテープを手で急速に剥離することで、残ったマス目の状態を評価した。
・評価基準
○:剥離無し(良好)
△:マスの端がわずかに欠ける(実用上問題ない)
×:1マス以上の剥離が観察される(実用不可)
Evaluation method Tape adhesion test: A tape adhesion test was performed in accordance with JIS K5600.
Put a total of 100 squares of 10 squares x 10 squares at intervals of 1 meter into the conductive paste on the ITO remaining part and ITO etched part, and use cellophane tape (25 mm wide, manufactured by Nichiban Co.) on the printing surface. After pasting, the cellophane tape was rapidly peeled by hand to evaluate the state of the remaining cells.
・ Evaluation criteria ○: No peeling (good)
Δ: Slightly chipped edges (no problem in practical use)
×: Peeling over 1 square is observed (not practical)

・経時試験後の密着性
上記の方法で別途作成したITO積層フィルムの印刷物、およびITO積層エッチングフィルムの印刷物を60℃90%雰囲気下に240時間放置した後、上記同様の方法で密着性を評価した。上記同様の評価基準で評価した。
-Adhesiveness after time test After leaving the printed matter of the ITO laminated film and the ITO laminated etching film separately prepared by the above method in an atmosphere of 60 ° C and 90% for 240 hours, the adhesiveness was evaluated by the same method as above. did. Evaluation was performed according to the same evaluation criteria as described above.

2.基材にポリイミドフィルムを使用して密着性を評価した。
ポリイミドフィルム(カプトン100H、25μm厚、東レ・デュポン社製)上に、導電性ペーストを、乾燥後の膜厚が約8μmになるようにスクリーン印刷を行い縦15mm×横30mmのパターンを形成した。次いで180℃オーブンで30分乾燥させることで印刷物を得た。当該印刷物を使用して導電性被膜の密着性を評価した。
セロハンテープ(25mm幅)を印刷物の導電性被膜上に貼り付け、セロハンテープを手で急速に剥離することで密着性を評価した。
○:剥離が全く無い(良好)
△:わずかに剥離があった(実用上問題ない)
×:全面的に剥離した(実用不可)
2. Adhesion was evaluated using a polyimide film as the substrate.
On the polyimide film (Kapton 100H, 25 μm thickness, manufactured by Toray DuPont), the conductive paste was screen-printed so that the film thickness after drying was about 8 μm to form a pattern of 15 mm length × 30 mm width. Subsequently, the printed matter was obtained by drying in an oven at 180 ° C. for 30 minutes. The printed matter was used to evaluate the adhesion of the conductive coating.
Cellophane tape (25 mm width) was affixed on the conductive film of the printed matter, and the cellophane tape was rapidly peeled by hand to evaluate the adhesion.
○: No peeling at all (good)
Δ: Slight peeling (no problem in practical use)
X: Exfoliated entirely (not practical)

3.ITO積層エッチングフィルムを使用してレーザー加工前後での密着性を評価した。
導電性ペーストは高精度スクリーン印刷装置(SERIA、東海精機社製)を用いて、ITO積層エッチングフィルムのITO層とPETフィルム基材が露出した面に対して上記同様に導電性ペーストを印刷し、135℃で30分乾燥することで厚さ約6μmの導電性被膜を有する導電性シートを得た。ここで用いたITO積層エッチングフィルムはV150L−OFME(厚さ:175μm、日東電工社製)の一部を塩酸にてエッチングしてITO層を除去して基材(PETフィルム)を露出させたフィルムである。なおスクリーン印刷版は、図1に示す様に縦205mm・幅340mmの領域に、幅6mm、縦115mm、横65mmの窓枠柄画像部を4個有する版を使用した。作成した導電性シートの窓枠柄状の導電性被膜の角部に対して、図2の拡大図に示すように縦線(長さ70mm)、横線(長さ30mm)及びコーナー部からなる16本のL/Sが20μm/20μmの配線パターンの形成を目的としてレーザー加工を行なった。なお、印刷条件は上記同様であり、レーザー加工条件は下記の通りである。当該印刷物を使用してレーザー照射前後の導電性被膜の密着性を評価した。セロハンテープ(25mm幅)を印刷物の導電性被膜上に貼り付け、セロハンテープを手で急速に剥離することで密着性を評価した。
○:剥離が全く無い(良好)
△:わずかに剥離があった(実用上問題ない)
×:全面的に剥離した(実用不可)
3. Using an ITO laminated etching film, the adhesion before and after laser processing was evaluated.
The conductive paste is printed on the surface of the ITO laminated etching film where the ITO layer and the PET film substrate are exposed using a high-precision screen printing apparatus (SERIA, manufactured by Tokai Seiki Co., Ltd.), A conductive sheet having a conductive film with a thickness of about 6 μm was obtained by drying at 135 ° C. for 30 minutes. The ITO laminated etching film used here is a film in which a part of V150L-OFME (thickness: 175 μm, manufactured by Nitto Denko Corporation) is etched with hydrochloric acid to remove the ITO layer and expose the substrate (PET film). It is. As the screen printing plate, as shown in FIG. 1, a plate having four window frame image portions having a width of 6 mm, a length of 115 mm, and a width of 65 mm in an area of 205 mm in length and 340 mm in width was used. As shown in the enlarged view of FIG. 2, 16 formed of a vertical line (length 70 mm), a horizontal line (length 30 mm), and a corner portion with respect to the corner portion of the window frame pattern-shaped conductive coating of the prepared conductive sheet 16. Laser processing was performed for the purpose of forming a wiring pattern having L / S of 20 μm / 20 μm. The printing conditions are the same as above, and the laser processing conditions are as follows. The printed matter was used to evaluate the adhesion of the conductive coating before and after laser irradiation. Cellophane tape (25 mm width) was affixed on the conductive film of the printed matter, and the cellophane tape was rapidly peeled by hand to evaluate the adhesion.
○: No peeling at all (good)
Δ: Slight peeling (no problem in practical use)
X: Exfoliated entirely (not practical)

(レーザー加工条件)
・レーザー加工機 : Suzhou Delphi Laser Co., LTD社製 Ag Laser Etching System
・レーザー光:YAGレーザー(基本波の波長1064nm)
・装置最大出力:20W
・ビーム径:20μm
・加工出力:25%
・周波数:300kHz
・パルス幅:25ns
・走査速度:2000mm/s
・走査回数:2回
(Laser processing conditions)
・ Laser processing machine: Ag Laser Etching System made by Suzhou Delphi Laser Co., LTD
・ Laser light: YAG laser (fundamental wavelength of 1064 nm)
・ Maximum output: 20W
・ Beam diameter: 20μm
・ Processing output: 25%
・ Frequency: 300 kHz
・ Pulse width: 25ns
・ Scanning speed: 2000mm / s
・ Number of scans: 2 times

<エア除去性>
得られた導電性シートに対して、上記同様にレーザー加工を行い、エアブローによる洗浄を行った。エアブローでの洗浄条件は下記の通りである。エア除去性は、レーザー加工後の導電性シートをエアブローにて洗浄した後の単位面積当たりのごみの数によって評価した。
エア除去性を下記の基準で判定した。
○:10個/1cm2以下。良好。
△:10個/cm2を超え、20個/cm2以下。実用上問題ない。
×:20個/cm2を超える。実用不可。
<Air removal>
The obtained conductive sheet was subjected to laser processing in the same manner as described above and washed by air blow. The air blow cleaning conditions are as follows. Air removability was evaluated by the number of dust per unit area after the conductive sheet after laser processing was washed by air blow.
Air removability was determined according to the following criteria.
○: 10 / cm 2 or less. Good.
Δ: More than 10 pieces / cm 2 and not more than 20 pieces / cm 2 . There is no problem in practical use.
×: More than 20 pieces / cm 2 . Not practical.

(エア洗浄条件)
・エア洗浄機:アズワン社製エアガン
・洗浄時間:10秒
(Air cleaning conditions)
・ Air cleaner: Air gun manufactured by ASONE ・ Cleaning time: 10 seconds

表1および表2の結果から実施例1〜20の導電性ペーストは、良好な体積抵抗率、レーザー加工性、基材への密着性を示す。また、硬化剤を添加した実施例18〜20は、ポリイミドフィルムへの密着性とエア除去性がさらに向上した。一方、表3の結果から比較例1は、導電性粒子Bを含有しないため、低エネルギー加工性が悪く、加工後密着性も悪い。また、比較例2は、導電性粒子Aを含有していないため、導電性粒子Aを含有していないため、導電パスが形成されず、導電性が低下し、表面抵抗率が測定の上限を超えたため導電性が測定できなかった。また、比較例3は、D50平均粒子径の異なる銀粉を用いているが導電性粒子AのD50平均粒子径が大きいため、低エネルギー加工性が悪い。また、比較例4は、分散剤を使用していないため、TI値が高く、直線性が悪い。  From the results of Tables 1 and 2, the conductive pastes of Examples 1 to 20 exhibit good volume resistivity, laser workability, and adhesion to a substrate. Moreover, Examples 18-20 which added the hardening | curing agent further improved the adhesiveness to a polyimide film, and air removability. On the other hand, since the comparative example 1 does not contain the electroconductive particle B from the result of Table 3, low energy workability is bad and adhesiveness after a process is also bad. Moreover, since the comparative example 2 does not contain the electroconductive particle A, and does not contain the electroconductive particle A, an electroconductive path | pass is not formed, electroconductivity falls, and surface resistivity has the upper limit of a measurement. Since it exceeded, conductivity could not be measured. Moreover, although the comparative example 3 uses the silver powder from which D50 average particle diameter differs, since D50 average particle diameter of the electroconductive particle A is large, low energy workability is bad. Moreover, since the comparative example 4 does not use the dispersing agent, TI value is high and linearity is bad.

本発明のレーザー加工用導電性ペーストは、良好なレーザー加工性を持つと共に、基材密着性、耐熱耐湿度環境信頼を保持し、導電性の良好な導電性シートを提供することができる。さらに本発明のレーザー加工用導電性ペースト用いて、レーザー加工により形成した配線回路は、例えば、携帯電話、スマートフォン、タブレット端末、ノート型PC等のタッチパネルディスプレイに好適に用いることができる。   The conductive paste for laser processing of the present invention can provide a conductive sheet having good laser processability, maintaining substrate adhesion, heat and humidity resistance and environmental reliability, and having good conductivity. Furthermore, the wiring circuit formed by laser processing using the conductive paste for laser processing of the present invention can be suitably used for touch panel displays such as mobile phones, smartphones, tablet terminals, and notebook PCs.

1 スクリーン印刷版
2 窓枠柄画像部
3 ライン部(L)
4 スペース部(S)
1 Screen printing plate 2 Window frame pattern image part 3 Line part (L)
4 Space part (S)

Claims (7)

D50平均粒子径0.7〜3μmの導電性粒子Aと、D50平均粒子径0.1〜0.6μmの導電性粒子Bと、数平均分子量10,000〜50,000およびガラス転移温度5〜100℃のバインダ樹脂と、分散剤とを含む、レーザー加工用導電性ペースト。 Conductive particles A having a D50 average particle size of 0.7 to 3 μm, conductive particles B having a D50 average particle size of 0.1 to 0.6 μm, a number average molecular weight of 10,000 to 50,000 and a glass transition temperature of 5 A conductive paste for laser processing, comprising a binder resin at 100 ° C. and a dispersant. 前記導電性粒子Aと前記導電性粒子Bとの重量比がA/B=95/5〜30/70である、請求項1記載のレーザー加工用導電性ペースト。   The conductive paste for laser processing according to claim 1, wherein a weight ratio of the conductive particles A to the conductive particles B is A / B = 95/5 to 30/70. さらに硬化剤を含む、請求項1または2に記載のレーザー加工用導電性ペースト。   Furthermore, the electrically conductive paste for laser processing of Claim 1 or 2 containing a hardening | curing agent. さらにレーザー増感剤を含む、請求項1〜3いずれか1項に記載のレーザー加工用導電性ペースト。   Furthermore, the electrically conductive paste for laser processing of any one of Claims 1-3 containing a laser sensitizer. E型粘度計を使用して温度25℃、ローター回転数5rpmで測定した粘度が10Pa・s〜150Pa・s、かつチキソインデックスが1.2〜2.4である、請求項1〜4いずれか1項に記載のレーザー加工用導電性ペースト。   The viscosity measured by using an E-type viscometer at a temperature of 25 ° C. and a rotor rotation speed of 5 rpm is 10 Pa · s to 150 Pa · s, and the thixo index is 1.2 to 2.4. The conductive paste for laser processing according to item 1. 基材と、請求項1〜5いずれか1項に記載のレーザー加工用導電性ペーストを含む導電性被膜とを備えた、レーザー加工用シート。   The sheet | seat for laser processing provided with the base material and the electroconductive film containing the electroconductive paste for laser processing of any one of Claims 1-5. 請求項6のレーザー加工用シートの導電性被膜にレーザーアブレーションを行い、前記導電性被膜の一部を除去することで配線回路を形成する、配線回路の製造方法。   A method for manufacturing a wiring circuit, comprising performing laser ablation on the conductive coating of the laser processing sheet according to claim 6 and removing a part of the conductive coating to form a wiring circuit.
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