JP6507574B2 - 超音波デバイスユニット並びにプローブおよび電子機器 - Google Patents

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Description

本発明は、超音波デバイスユニット、並びに、それを利用したプローブ、電子機器および超音波画像装置等に関する。
なお、本願中で「重ねる」「重ねられ」には、対象物同士が直接的に接触して重なる場合だけでなく、他の部材が重なってそこに重ねられる対象物同士が空間を置いて配置される場合も含まれる。
特許文献1に開示されるように、超音波デバイスは超音波素子のアレイを有する。超音波素子のアレイには1対の端子列が接続される。個々の端子列には個別にフレキシブルプリント基板(以下「フレキ基板」という)経由でコネクターが接続される。個々のコネクターに個別に電圧は供給される。1つの超音波素子には1対の端子列から共通に電圧が供給されることから、配線が微細化されても、電圧は時間遅れなく個々の超音波素子に供給されることができる。
特開2013−175878号公報
特許文献1ではフレキ基板の一端はデバイス基板の第1面に結合されフレキ基板の他端は第1面の裏側の第2面に結合される。したがって、フレキ基板は屈折状態でデバイス基板に実装されなければならず、フレキ基板の電気接続は煩雑だった。
本発明の少なくとも1つの態様によれば、実装時の電気接続が容易かつ確実にできる超音波デバイスユニットは提供されることができる。
(1)本発明の一態様は、超音波素子アレイを挟んで両側に配置され少なくとも1つの超音波素子列に共通に接続される第1端子および第2端子を有する超音波デバイスと、超音波デバイスが実装される第1平板部に第2平板部が重ねられて第2平板部で外部接続端子を露出し、前記第1平板部および前記第2平板部に屈折域を介して連続する第1配線域に、前記第1素子に前記外部接続端子を接続する第1配線が配置され、前記第1平板部および前記第2平板部に屈折域を介して連続する第2配線域に、前記第2素子に前記外部接続端子を接続する第2配線が配置されるフレキシブルプリント基板とを備える超音波デバイスユニットに関する。
超音波素子にはそれぞれ第1配線経由および第2配線経由で共通の外部接続端子から電圧が供給される。超音波素子には第1端子および第2端子から確実に同一の電圧が印加される。二系統から電圧は供給されることから、第1配線や第2配線が細線化されても、超音波素子には時間遅れなく瞬時に電圧は供給されることができる。
加えて、第1平板部、第2平板部、第1配線域および第2配線域は1枚のフレキシブルプリント基板に形成される。第1配線や第2配線の形成や外部接続端子の形成、超音波デバイスの実装は平たいフレキシブルプリント基板上で実施されることができ、第1配線や第2配線の形成や外部接続端子の形成、超音波デバイスの実装にあたって製造工程の複雑化は回避されることができる。ここで、フレキシブルプリント基板において外部接続端子の形成されている側を表側とする。
(2)超音波デバイスユニットでは、前記第1配線域は前記フレキシブルプリント基板の表側に対して第1山折り線に沿って山折りの前記屈曲域を形成し前記第1平板部および前記第2平板部に重ねられ、前記第2配線域は前記フレキシブルプリント基板の前記表側に対して第2山折り線に沿って山折りの前記屈曲域を形成し前記第1平板部および前記第2平板部に重ねられ、前記第1山折り線および前記第2山折り線に交差する谷折り線に沿って前記第1配線域および前記第2配線域は前記フレキシブルプリント基板の前記表側に対して谷折りに屈曲して前記第1平板部の裏側に前記第2平板部は重ねられてもよい。こうしてフレキシブルプリント基板は超音波デバイスの輪郭の大きさに折り畳まれることができる。第1配線域および第2配線域は第1平板部および第2平板部の間に収められることができる。1枚のフレキシブルプリント基板上に、第1平板部、第2平板部、第1配線域および第2配線域が形成されても、超音波デバイスユニットは最大限に小型化されることができる。このとき、フレキシブルプリント基板が当該フレキシブルプリント基板の表側に対して「山折り線」に沿って折り畳まれると、「山折り線」に沿って表側に山形状の突起が形成されフレキシブルプリント基板の裏側同士が重ねられる。その一方で、フレキシブルプリント基板が当該フレキシブルプリント基板の表側に対して「谷折り線」に沿って折り畳まれると、「谷折り線」に沿って表側に谷形状の凹みが形成されフレキシブルプリント基板の表側同士が重ねられる。
(3)前記フレキシブルプリント基板は前記谷折り線に沿って前記第1平板部と前記第2平板部との間に開口を備えることができる。谷折り線に沿って第1配線域および第2配線域が折り畳まれると、この折り畳みで形成される屈曲域は開口に進入することができる。こうして屈曲域ではフレキシブルプリント基板の他領域との干渉は回避されることができる。干渉に基づく応力の発生は回避される。こうしてフレキシブルプリント基板は小さな拘束力で折り畳まれた状態を維持することができる。
(4)前記フレキシブルプリント基板は矩形の輪郭を有することができる。フレキシブルプリント基板の形成にあたって加工手間の増大は回避される。フレキシブルプリント基板の形成にあたって加工コストの増大は回避される。
(5)超音波デバイスユニットは、前記超音波デバイスの裏側に接合される補強板をさらに備えることができる。補強板は超音波デバイスの剛性を補強する。超音波デバイスの耐衝撃性は高められる。補強板は例えば超音波デバイスのヤング率よりもよりも大きいヤング率を有する素材から形成されればよい。ここで、超音波デバイスでは裏側の反対の表側が超音波の出射側である。
(6)前記補強板は、前記平面視において前記超音波素子と重なる位置に空間を有してもよい。超音波素子から超音波デバイスの裏側に超音波が漏れても、超音波の反射は回避されることができる。こうして超音波素子では反射波による不要な振動は防止される。超音波の誤検出は回避されることができる。空間は超音波の減衰に寄与する材料で充填されてもよい。
(7)前記平面視において前記超音波素子と重なる位置には前記超音波デバイスおよび補強板の間に接着層が配置されてもよい。補強板は超音波デバイスに接着剤で固着されることができる。接着剤は接着層として超音波の減衰に寄与することができる。したがって、超音波素子から超音波デバイスの裏側に超音波が漏れても、超音波の反射は回避されることができる。こうして超音波素子では反射波による不要な振動は防止される。超音波の誤検出は回避されることができる。
(8)前記補強板は、前記フレキシブルプリント基板が重ねられる平坦面と、前記平坦面に直交する仮想平面に沿って広がって、前記平坦面に重ねられた前記フレキシブルプリント基板の側縁が突き当てられる壁面を有するガイドと、前記ガイドに沿って区画され、前記平坦面の縁から窪んで前記平坦面から前記ガイドを隔てる溝とを備えてもよい。超音波デバイスユニットの組み立てにあたって補強板の平坦面にフレキシブルプリント基板は重ねられる。このとき、溝の働きでガイドの壁面は平坦面よりも下方に広がることから、フレキシブルプリント基板は確実にガイドの壁面に突き当てられることができる。こうしてフレキシブルプリント基板は確実に正しい位置で補強板に重ねられることができる。こうした位置決めに基づき第1端部および第2端部は相互に位置合わせられることができる。第1端部の第2配線と第2端部の第2配線とは高い精度で相互に位置決めされることができる。こうして継ぎ目を跨いで第2配線は確実に形成されることができる。
(9)前記補強板の外周には、音響レンズの位置合わせにあたって突起を受け入れる窪みが形成されてもよい。超音波デバイスユニットの組み立てにあたって超音波デバイスの表面には音響レンズが結合される。音響レンズは超音波デバイスの超音波素子に位置合わせされる。窪みは音響レンズの位置合わせにあたって役立つ。
(10)前記第1端子および前記第2端子の間には。共通に接続される配線を有する複数の前記超音波素子を含む素子列が連結されてもよい。素子列には素子列の両側から電圧が印加される。その結果、素子列内の配線が細線化されても、個々の超音波素子には時間遅れなく瞬時に電圧は供給されることができる。
(11)超音波デバイスユニットはプローブの構成として利用されることができる。このとき、プローブは、超音波デバイスユニットと、前記超音波デバイスユニットを支持する筐体とを備えればよい。
(12)超音波デバイスユニットは電子機器の構成として利用されることができる。このとき、電子機器は、超音波デバイスユニットと、前記超音波デバイスユニットに接続されて、前記超音波デバイスユニットの出力を処理する処理装置とを備えればよい。
(13)超音波デバイスユニットは超音波画像装置の構成として利用されることができる。このとき、超音波画像装置は、超音波デバイスユニットと、前記超音波デバイスユニットの出力から生成される画像を表示する表示装置とを備えればよい。
一実施形態に係る電子機器の一具体例すなわち超音波診断装置を概略的に示す外観図である。 図1のA−A線に沿った拡大断面図である。 第1実施形態に係る超音波デバイスユニットの拡大平面図である。 超音波デバイスユニットの裏面の拡大斜視図である。 超音波デバイスの拡大平面図である。 図3のB−B線に沿った拡大断面図である。 フレキシブルプリント基板の表面の拡大平面図である。 屈折域で第1配線域および第2配線域が折り曲げられた際に超音波デバイスユニットを概略的に示す拡大斜視図である。 図2の拡大部分断面図である。 超音波デバイスユニットの位置決めの様子を概略的に示す拡大平面図である。 図7に対応し、他の具体例に係るフレキシブルプリント基板の表面の拡大平面図である。 図2の拡大部分断面図である。 図6に対応し、第2実施形態に係る超音波デバイスユニットの拡大断面図である。
以下、添付図面を参照しつつ本発明の一実施形態を説明する。なお、以下に説明する本実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではなく、本実施形態で説明される構成の全てが本発明の解決手段として必須であるとは限らない。以下の本件発明の説明においては、フレキシブルプリント基板の外部接続端子の形成面側を表側と呼び、その反対側を裏側として説明する。同様に、本件発明の説明においては、超音波デバイスの超音波出射面側を表側と呼び、その反対側を超音波デバイスの裏側として説明する。
(1)超音波診断装置の全体構成
図1は本発明の一実施形態に係る電子機器の一具体例すなわち超音波診断装置(超音波画像装置)11の構成を概略的に示す。超音波診断装置11は装置端末(処理部)12と超音波プローブ(プローブ)13とを備える。装置端末12と超音波プローブ13とはケーブル14で相互に接続される。装置端末12と超音波プローブ13とはケーブル14を通じて電気信号をやりとりする。装置端末12にはディスプレイパネル(表示装置)15が組み込まれる。ディスプレイパネル15の画面は装置端末12の表面で露出する。装置端末12では、超音波プローブ13で検出された超音波に基づき画像が生成される。画像化された検出結果がディスプレイパネル15の画面に表示される。
超音波プローブ13は筐体16を有する。筐体16には超音波デバイスユニットDVが嵌め込まれる。超音波デバイスユニットDVは超音波デバイス17を備える。超音波デバイス17は音響レンズ18を備える。音響レンズ18の外表面には部分円筒面18aが形成される。部分円筒面18aは平板部18bで囲まれる。平板部18bの外周は全周で途切れなく筐体16に結合される。音響レンズ18は例えばシリコーン樹脂から形成される。音響レンズ18は生体の音響インピーダンスに近い音響インピーダンスを有する。超音波デバイス17は表面から超音波を出力するとともに超音波の反射波を受信する。
(2)第1実施形態に係る超音波デバイスユニットの構成
図2に示されるように、超音波プローブ13の筐体16は表面側の第1体21と裏面側の第2体22とから形成される。第2体22は収容空間を囲む壁体23を有する。壁体23の頂上面には受け面23aが規定される。受け面23aは1平面で構成される。受け面23aに超音波デバイスユニットDVが受け止められる。超音波デバイスユニットDVの外周面は、受け面23aに直交する垂直面24に沿って壁体23の外周面と面一に連続する。
第1体21は平板部26を備える。平板部26には窓孔27が形成される。窓孔27から音響レンズ18は開放される。窓孔27の外側で平板部26の外縁には囲み壁28が形成される。囲み壁28は第2体22の壁体23の周囲に嵌め合わせられる。超音波デバイスユニットDVの外周面は壁体23の外周面と面一に連続することから、囲み壁28の内側には超音波デバイスユニットDVが嵌め込まれることができる。同時に、第1体21は第2体22の受け面23aとの間に超音波デバイスユニットDVを挟み込む。こうした嵌め合わせに基づき超音波デバイスユニットDVは超音波プローブ13の筐体16内に位置ずれなく固定されることができる。
ここでは、超音波デバイスユニットDVは1枚のフレキシブルプリント基板(以下「フレキ板」という)31を有する。フレキ板31は折り畳まれて、平面視で占有面積は縮小される。フレキ板31は第1平板部32および第2平板部33を備える。第1平板部32の裏側に第2平板部33は重ねられる。第1平板部32に超音波デバイス17は実装される。第2平板部33の表面には外部接続端子が露出する。
超音波デバイスユニットDVは第1補強板34を有する。第1補強板34の表面には第1平坦面35が形成される。第1平坦面35にはフレキ板31の第1平板部32が重ね合わせられる。第1平坦面35の両側にはガイド36が形成される。ガイド36は第1平坦面35に直交する仮想平面内で広がる壁面37を有する。壁面37には、第1平坦面35に重ね合わせられた第1平板部32の側縁が突き当てられる。第1平坦面35からの壁面37の高さはフレキ板31の板厚に一致することから、ガイド36は超音波デバイス17の高さの位置出しに利用されることができる。ガイド36の頂上面には第1体21の平板部26が密着する。
超音波デバイスユニットDVは第2補強板38を有する。第2補強板38の表面には第2平坦面39が形成される。第2平坦面39にはフレキ板31の第2平板部33が重ね合わせられる。第2平坦面39の両側にはガイド41が形成される。ガイド41は第2平坦面39に直交する仮想平面内で広がる壁面42を有する。壁面42には、第2平坦面39に重ね合わせられた第2平板部33の側縁が突き当てられる。
第1補強板34の裏面には第3平坦面44が形成される。第2補強板38の裏面には第4平坦面45が形成される。第2補強板38に第1補強板34が重ねられると、第3平坦面44および第4平坦面45は間隔を置いて相互に向き合わせられる。ここでは、第3平坦面44および第4平坦面45は相互に平行に広がる。第3平坦面44および第4平坦面45にはフレキ板31の第1配線域46および第2配線域47が順番に重ね合わせられる。板形状の第1配線域46および第2配線域47が相互に向き合う第3平坦面44および第4平坦面45に重ねられることから、重ね合わせにあたって第1配線域46および第2配線域47には屈曲域46a、47aが形成される。
図3に示されるように、ガイド36の壁面37には突起48が形成される。突起48に対応してフレキ板31の第1平板部32には切り欠き49が形成される。第1平板部32の側縁が壁面37に突き当てられると、突起48は切り欠き49に進入する。突起48は切り欠き49に嵌め合わせられる。突起48および切り欠き49の働きで壁面37に沿って第1平板部32の移動は阻止される。こうして突起48および切り欠き49は壁面37に沿った方向に第1補強板34に対してフレキ板31の位置決めを実現する。
第1補強板34の外縁には窪み51が形成される。窪み51は、例えば、第1補強板34の第1平坦面35に直交する軸心を有する半円柱形に形成される。窪み51には、例えば半円柱形の曲率に対応する円筒面を有する突起(図示されず)が受け入れられることができる。こうして突起は超音波デバイスユニットDVに対して位置決めされることができる。
フレキ板31の第1平板部32には開口52が形成される。開口52を囲むフレキ板31の縁の裏側に超音波デバイス17は固定される。開口52に音響レンズ18は臨む。
図4に示されるように、ガイド41の壁面42には突起53が形成される。突起53に対応してフレキ板31の第2平板部33には切り欠き54が形成される。第2平板部33の側縁が壁面42に突き当てられると、突起53は切り欠き54に進入する。突起53は切り欠き54に嵌め合わせられる。突起53および切り欠き54の働きで壁面42に沿って第2平板部33の移動は阻止される。こうして突起53および切り欠き54は壁面42に沿った方向に第2補強板38に対してフレキ板31の位置決めを実現する。第2平板部33にはコネクター55が実装される。
(3)超音波デバイスの構成
図5は超音波デバイス17の平面図を概略的に示す。超音波デバイス17は基体57を備える。基体57の表面には素子アレイ58が形成される。素子アレイ58はアレイ状に配置された薄膜型超音波トランスデューサー素子(以下「素子」という)59の配列で構成される。配列は複数行複数列のマトリクスで形成される。その他、配列では千鳥配置が確立されてもよい。千鳥配置では偶数列の素子59群は奇数列の素子59群に対して行ピッチの2分の1でずらされればよい。奇数列および偶数列の一方の素子数は他方の素子数に比べて1つ少なくてもよい。
個々の素子59は振動膜61を備える。図5では振動膜61の膜面に直交する方向の平面視(基板の厚み方向からの平面視)で振動膜61の輪郭が点線で描かれる。振動膜61上には圧電素子62が形成される。圧電素子62は上電極63、下電極64および圧電体膜65で構成される。個々の素子59ごとに上電極63および下電極64の間に圧電体膜65が挟まれる。これらは下電極64、圧電体膜65および上電極63の順番で重ねられる。超音波デバイス17は1枚の超音波トランスデューサー素子チップ(基板)として構成される。
基体57の表面には複数本の第1導電体66が形成される。第1導電体66は配列の行方向に相互に平行に延びる。1行の素子59ごとに1本の第1導電体66が割り当てられる。1本の第1導電体66は配列の行方向に並ぶ素子59の圧電体膜65に共通に接続される。第1導電体66は個々の素子59ごとに上電極63を形成する。第1導電体66の両端は1対の引き出し配線67にそれぞれ接続される。引き出し配線67は配列の列方向に相互に平行に延びる。したがって、全ての第1導電体66は同一長さを有する。こうしてマトリクス全体の素子59に共通に上電極63は接続される。第1導電体66は例えばイリジウム(Ir)で形成されることができる。ただし、第1導電体66にはその他の導電材が利用されてもよい。
基体57の表面には複数本の第2導電体68が形成される。第2導電体68は配列の列方向に相互に平行に延びる。1列の素子59ごとに1本の第2導電体68が割り当てられる。1本の第2導電体68は配列の列方向に並ぶ素子59の圧電体膜65に共通に配置される。第2導電体68は個々の素子59ごとに下電極64を形成する。第2導電体68には例えばチタン(Ti)、イリジウム(Ir)、白金(Pt)およびチタン(Ti)の積層膜が用いられることができる。ただし、第2導電体68にはその他の導電材が利用されてもよい。
列ごとに素子59の通電は切り替えられる。こうした通電の切り替えに応じてリニアスキャンやセクタースキャンは実現される。1列の素子59は同時に超音波を出力することから、1列の個数すなわち配列の行数は超音波の出力レベルに応じて決定されることができる。行数は例えば10〜15行程度に設定されればよい。図中では省略されて5行が描かれる。配列の列数はスキャンの範囲の広がりに応じて決定されることができる。列数は例えば128列や256列に設定されればよい。図中では省略されて8列が描かれる。上電極63および下電極64の役割は入れ替えられてもよい。すなわち、マトリクス全体の素子59に共通に下電極が接続される一方で、配列の列ごとに共通に素子59に上電極が接続されてもよい。
基体57の輪郭は、相互に平行な1対の直線で仕切られて対向する第1辺52aおよび第2辺52bを有する。第1辺52aと素子アレイ58の輪郭との間に1ラインの第1端子アレイ69aが配置される。第2辺52bと素子アレイ58の輪郭との間に1ラインの第2端子アレイ69bが配置される。第1端子アレイ69aは第1辺52aに平行に1ラインを形成することができる。第2端子アレイ69bは第2辺52bに平行に1ラインを形成することができる。第1端子アレイ69aは1対の上電極端子71および複数の下電極端子(第1端子)72で構成される。同様に、第2端子アレイ69bは1対の上電極端子73および複数の下電極端子(第2端子)74で構成される。1本の引き出し配線67の両端にそれぞれ上電極端子71、73は接続される。引き出し配線67および上電極端子71、73は素子アレイ58を二等分する垂直面で面対称に形成されればよい。1本の第2導電体68の両端にそれぞれ下電極端子72、74は接続される。こうして下電極端子72、74の間には第2導電体68で直列に順に接続された複数の素子59を含む素子列が確立される。第2導電体68および下電極端子72、74は素子アレイ58を二等分する垂直面で面対称に形成されればよい。ここでは、基体57の輪郭は矩形に形成される。基体57の輪郭は正方形であってもよく台形であってもよい。
基体57にはフレキ板31が連結される。フレキ板31の第1平板部32は開口52の両側で第1端子アレイ69aおよび第2端子アレイ69bにそれぞれ覆い被さる。フレキ板31には、開口52を挟んで第1配線75および第2配線76が形成される。第1配線75は上電極端子71および下電極端子72に個別に向き合わせられ個別に接合される。第1配線75は、第1平板部32から第1配線域46を経由して第2平板部33までフレキ板31上を延びる。同様に、第2配線76は上電極端子73および下電極端子74に個別に向き合わせられ個別に接合される。第2配線76は、第1平板部32から第2配線域47を経由して第2平板部33までフレキ板31上を延びる。
図6に示されるように、基体57は基板77および被覆膜78を備える。基板77の表面77aに一面に被覆膜78が積層される。基板77には個々の素子59ごとに開口部79が形成される。開口部79は、基板77の裏面77bから刳り抜かれて基板77を貫通する空間を区画する。開口部79は基板77に対してアレイ状に配置される。開口部79が配置される領域の輪郭は素子アレイ58の輪郭に相当する。基板77は例えばシリコン基板で形成されればよい。
隣接する2つの開口部79の間には仕切り壁81が区画される。隣接する開口部79は仕切り壁81で仕切られる。仕切り壁81の壁厚みは開口部79の間隔に相当する。仕切り壁81は相互に平行に広がる平面内に2つの壁面を規定する。
被覆膜78は、基板77の表面に積層される酸化シリコン(SiO)層82と、酸化シリコン層82の表面に積層される酸化ジルコニウム(ZrO)層83とで構成される。被覆膜78は開口部79に接する。こうして開口部79の輪郭に対応して被覆膜78の一部が振動膜61を形成する。振動膜61は、被覆膜78のうち、開口部79に臨むことから基板77の厚み方向に膜振動することができる部分である。酸化シリコン層82の膜厚は共振周波数に基づき決定されることができる。
振動膜61の表面に下電極64、圧電体膜65および上電極63が順番に積層される。圧電体膜65は例えばジルコン酸チタン酸鉛(PZT)で形成されることができる。圧電体膜65にはその他の圧電材料が用いられてもよい。ここでは、第1導電体66の下で圧電体膜65は完全に第2導電体68を覆う。圧電体膜65の働きで第1導電体66と第2導電体68との間で短絡は回避されることができる。
基体57の表面には音響整合層84が積層される。音響整合層84は素子アレイ58を覆う。音響整合層84の膜厚は振動膜61の共振周波数に応じて決定される。音響整合層84には例えばシリコーン樹脂膜が用いられることができる。音響整合層84は第1端子アレイ69aおよび第2端子アレイ69bの間の空間に収まる。
音響整合層84上に音響レンズ18が配置される。音響レンズ18は音響整合層84の表面に密着する。音響レンズ18は音響整合層84の働きで基体57に接着される。音響レンズ18の部分円筒面18aは第1導電体66に平行な母線を有する。部分円筒面18aの曲率は、1筋の第2導電体68に接続される1列の素子59から発信される超音波の焦点位置に応じて決定される。音響レンズ18は例えばシリコーン樹脂から形成される。音響レンズ18は生体の音響インピーダンスに近い音響インピーダンスを有する。
基体57には保護膜85が固定される。保護膜85は例えばエポキシ樹脂といった遮水性を有する素材から形成される。ただし、保護膜85はその他の樹脂材から形成されてもよい。保護膜85は音響レンズ18および音響整合層84の側面に固着される。保護膜85は、音響整合層84とフレキ板31との間で基体57表面の第2導電体68や引き出し配線67に被さる。同様に、保護膜85は、開口52の周囲でフレキ板31の第1平板部32に被さる。
基体57の裏面には第1補強板34が固定される。第1補強板34の表面に基体57の裏面が重ねられる。第1補強板34は超音波デバイス17の裏面で開口部79を閉じる。第1補強板34はリジッドな基材を備えることができる。ここでは、仕切り壁81は接合面で第1補強板34に結合される。第1補強板34は個々の仕切り壁81に少なくとも1カ所の接合域で接合される。接合にあたって接着剤は用いられることができる。接着剤は第1補強板34の表面に一面に接着層86として形成される。接着層86は、平面視において素子59と重なる位置で超音波デバイス17および第1補強板34の間に配置される。
図6から明らかなように、第1配線域46は屈折域87a、87bを介して第1平板部32および第2平板部33に連続する。屈折域87aの働きで第1配線域46は第1平板部32の裏側に配置され、屈折域87bの働きで第1配線域46は第2平板部33の裏側に配置される。同様に、第2配線域47は屈折域88a、88bを介して第1平板部32および第2平板部33に連続する。屈折域88aの働きで第2配線域47は第1平板部32の裏側に配置され、屈折域88bの働きで第2配線域47は第2平板部33の裏側に配置される。
図7はフレキ板31の展開図である。フレキ板31は矩形の輪郭を有する。第1平板部32および第2平板部33は第1山折り線89および第2山折り線91で仕切られる。第1山折り線89および第2山折り線91は相互に平行に延びる。第1山折り線89および第2山折り線91は、矩形の一方の対向する2辺に平行に延び、矩形の他方の対向する2辺の間でフレキ板31を横切る。第1山折り線89に沿って屈折域87a、87bは区画される。第2山折り線91に沿って屈折域88a、88bは区画される。第1山折り線89に沿って屈折域87a、87bは第1平板部32および第2平板部33から第1配線域46を隔てる。同様に、第2山折り線91に沿って屈折域88a、88bは第1平板部32および第2平板部33から第2配線域47を隔てる。
第1配線域46および第2配線域47には谷折り線92に沿って屈曲域46a、47aが形成される。谷折り線92は第1山折り線89および第2山折り線91に交差する。ここでは、谷折り線92は第1山折り線89および第2山折り線91に直交する。谷折り線92は第1平板部32および第2平板部33の間を通過し第1配線域46および第2配線域47を二分する。
フレキ板31では、谷折り線92に沿って第1平板部32および第2平板部33の間に開口93が形成される。開口93は第1平板部32および第2平板部33を相互に隔てる。開口93は屈折域88a、88b、89a、89bを横切って第1配線域46および第2配線域47に進入する。
第1配線75は、第1裏導線95、第2裏導線96、第3裏導線97および表導線98を有する。第1裏導線95、第2裏導線96および第3裏導線97はフレキ板31の裏面に形成される。表導線98は第1配線域46内でフレキ板31の表面に形成される。第1裏導線95は、開口52の縁から第1山折り線89を跨いで第1配線域46上を延び、谷折り線92に交差し、再び第1山折り線89を跨いで第2平板部33上の外部接続端子99に至る。第2裏導線96は開口52の縁から第1山折り線89を跨いで第1配線域46で表導線98に接続される。接続にあたって例えば貫通ビアは用いられる。表導線98は谷折り線92を跨いで延び第1配線域46で第3裏導線97に接続される。接続にあたって例えば貫通ビアは用いられる。第3裏導線97は第1山折り線89を跨いで第2平板部33上の外部接続端子101に至る。外部接続端子99、101にコネクター55が実装される。
第2配線76は、第1裏導線103、第2裏導線104、第3裏導線105および表導線106を有する。第1裏導線103、第2裏導線104および第3裏導線105はフレキ板31の裏面に形成される。表導線106は第2配線域47内でフレキ板31の表面に形成される。第1裏導線103は、開口52の縁から第2山折り線91を跨いで第2配線域47上を延び、谷折り線92に交差し、再び第2山折り線91を跨いで第2平板部33上の外部接続端子99に至る。第2裏導線104は開口52の縁から第2山折り線91を跨いで第2配線域47で表導線106に接続される。接続にあたって例えば貫通ビアは用いられる。表導線106は谷折り線92を跨いで延び第2配線域47で第3裏導線105に接続される。接続にあたって例えば貫通ビアは用いられる。第3裏導線105は第2山折り線91を跨いで第2平板部33上の外部接続端子101に至る。
(4)超音波診断装置の動作
次に超音波診断装置11の動作を簡単に説明する。超音波の送信にあたって圧電素子62にはパルス信号が供給される。パルス信号は下電極端子72、74および上電極端子71、73を通じて列ごとに素子59に供給される。個々の素子59では下電極64および上電極63の間で圧電体膜65に電界が作用する。圧電体膜65は超音波の周波数で振動する。圧電体膜65の振動は振動膜61に伝わる。こうして振動膜61は超音波振動する。その結果、被検体(例えば人体の内部)に向けて所望の超音波ビームは発せられる。
超音波の反射波は振動膜61を振動させる。振動膜61の超音波振動は所望の周波数で圧電体膜65を超音波振動させる。圧電体膜65の圧電効果に応じて圧電素子62から電圧が出力される。個々の素子59では上電極63と下電極64との間で電位が生成される。電位は下電極端子72、74および上電極端子71、73から電気信号として出力される。こうして超音波は検出される。
超音波の送信および受信は繰り返される。その結果、リニアスキャンやセクタースキャンは実現される。スキャンが完了すると、出力信号のデジタル信号に基づき画像が形成される。形成された画像はディスプレイパネル15の画面に表示される。
超音波デバイス17の素子59にはそれぞれ第1配線75経由および第2配線76経由で共通の外部接続端子99、101から電圧が供給される。素子59には下電極端子72および下電極端子74から確実に同一の電圧が印加される。二系統から電圧は供給されることから、第1配線75や第2配線76が細線化されても、素子59には時間遅れなく瞬時に電圧は供給されることができる。
加えて、第1平板部32、第2平板部33、第1配線域46および第2配線域47は1枚のフレキ板31に形成される。第1配線75や第2配線76の形成や外部接続端子99、101の形成、超音波デバイス17の実装は平たいフレキ板31上で実施されることができ、第1配線75や第2配線76の形成や外部接続端子99、101の形成、超音波デバイス17の実装にあたって製造工程の複雑化は回避されることができる。
前述のように、第1配線域46は第1山折り線89に沿って屈折域87a、87bを形成し第1平板部32および第2平板部33に重ねられる。第2配線域47は第2山折り線91に沿って屈折域88a、88bを形成し第1平板部32および第2平板部33に重ねられる。第1配線域46および第2配線域47は谷折り線92に沿って屈曲域46a、47aを形成し第1平板部32の裏側に第2平板部33は重ねられる。こうしてフレキ板31は超音波デバイス17の輪郭の大きさに折り畳まれる。第1配線域46および第2配線域47は第1平板部32および第2平板部33の間に収められる。1枚のフレキ板31上に、第1平板部32、第2平板部33、第1配線域46および第2配線域47が形成されても、超音波デバイスユニットDVは最大限に小型化されることができる。
フレキ板31には、谷折り線92に沿って第1平板部32と第2平板部33との間に開口93が形成される。谷折り線92に沿って第1配線域46および第2配線域47が折り畳まれると、この折り畳みで形成される屈曲域46a、47aは開口93に進入する。こうして屈曲域46a、47aではフレキ板31の他領域との干渉は回避される。干渉に基づく応力の発生は回避される。フレキ板31は小さな拘束力で折り畳まれた状態を維持する。
超音波デバイスユニットDVではフレキ板31の輪郭は矩形に形成される。フレキ板31の形成にあたって加工手間の増大は回避される。フレキ板31の形成にあたって加工コストの増大は回避される。
超音波デバイス17の裏側には第1補強板34が接合される。第1補強板34は超音波デバイス17の剛性を補強する。超音波デバイス17の耐衝撃性は高められる。第1補強板34は例えば超音波デバイス17のヤング率よりもよりも大きいヤング率を有する素材から形成されればよい。
超音波デバイスユニットDVでは素子59の裏側で超音波デバイス17および第1補強板34の間に接着層86が介在する。第1補強板34は超音波デバイス17に接着剤で固着される。接着剤は接着層86として超音波の減衰に寄与する。したがって、素子59から超音波デバイス17の裏側に超音波が漏れても、超音波の反射は回避されることができる。こうして素子59では反射波による不要な振動は防止される。超音波の誤検出は回避されることができる。
(5)超音波デバイスユニットの製造方法
フレキ板31は用意される。図7に示されるように、フレキ板31には開口93が形成される。開口93に基づきフレキ板31上には第1山折り線89、第2山折り線91および谷折り線92は規定されることができる。フレキ板31には第1配線75の第1、第2および第3裏導線95、96、97並びに表導線98や、第2配線76の第1、第2および第3裏導線103、104、105並びに表導線106、外部接続端子99、101が形成される。これらはめっき成膜その他一般的な形成方法で形成されることができる。
フレキ板31の第1平板部32には超音波デバイス17が実装される。基板77に個々の素子59が形成された後に基板77の表面にフレキ板31は重ねられる。第1配線75の第1裏導線95および第2裏導線96に第1端子アレイ69aの上電極端子71および下電極端子72は接合される。第2配線76の第1裏導線103および第2裏導線104に第2端子アレイ69bの上電極端子73および下電極端子74が接合される。こうして個々の素子59と第1配線75および第2配線76との間で導通が確立される。素子アレイ58は開口52に臨む。同様に、フレキ板31の外部接続端子99、101にコネクター55は実装される。
フレキ板31の第1平板部32は第1補強板34に取り付けられる。図3に示されるように、取り付けにあたってフレキ板31の側縁はガイド36の壁面37に突き当てられる。このとき、壁面37の突起48にフレキ板31の切り欠き49は嵌め合わせられる。こうして第1補強板34に対してフレキ板31は位置合わせされる。フレキ板31の第1平板部32は第1補強板34の第1平坦面35に重ねられる。
フレキ板31の第2平板部33は第2補強板38に取り付けられる。図4に示されるように、取り付けにあたってフレキ板31の側縁はガイド41の壁面42に突き当てられる。このとき、壁面42の突起53にフレキ板31の切り欠き54は嵌め合わせられる。こうして第2補強板38に対してフレキ板31は位置合わせされる。フレキ板31の第2平板部33は第2補強板38の第2平坦面39に重ねられる。
図8に示されるように、フレキ板31は第1補強板34および第2補強板38の形状に倣って折り曲げられる。第1配線域46は第1山折り線89に沿って屈折域88a、88bを形成する。第2配線域47は第2山折り線91に沿って屈折域89a、89bを形成する。こうして第1補強板34および第2補強板38の裏面にフレキ板31の第1配線域46および第2配線域47は順番に重ねられる。
続いて谷折り線92に沿って第1配線域46および第2配線域47には屈曲域46a、47aが形成される。第1補強板34の裏側に第2補強板38は重ねられる。こうしてフレキ板31は超音波デバイス17の輪郭の大きさに折り畳まれる。
ここでは、例えば図9に示されるように、第1補強板34および第2補強板38にはガイド36、41の壁面37、42に沿って溝109が区画されてもよい。溝109は、第1平坦面35(第2平坦面39)の縁から窪んで第1平坦面35(第2平坦面39)からガイド36(41)の壁面37(42)を隔てる。溝109の働きでガイド36、41の壁面37、42は第1平坦面35(第2平坦面39)よりも下方に広がることから、フレキ板31は確実にガイド36、41の壁面37、42に突き当てられることができる。こうしてフレキ板31は確実に正しい位置で第1補強板34および第2補強板38に重ねられることができる。
フレキ板31が折り畳まれると、図10に示されるように、第1補強板34および第2補強板38は治具111にセットされる。治具111は窪み51に対応する突起112を備える。突起112は、例えば窪み51の曲率に対応した円筒面を有する円柱に形作られる。突起112には同様に音響レンズ18が位置合わせされる。こうして素子アレイ58に対して音響レンズ18は正しい位置で接合される。音響レンズ18の接合にあたって素子アレイ58の表面には音響整合層84の素材の流動体が塗布されればよい。音響整合層84は音響レンズ18と基板77とを相互に接着する。
こうして製造された超音波デバイスユニットDVは超音波プローブ13の筐体16に組み込まれる。超音波デバイスユニットDVは筐体16の第2体22に対して位置決めされる。位置決めにあたって例えば第1補強板34の窪み51は利用されることができる。前述と同様に、予め突起に対して第2体22は位置決めされていればよい。超音波デバイスユニットDVは壁体23の受け面23aにセットされる。第2体22に第1体21が結合されると、超音波デバイスユニットDVは筐体16内に固定される。
その他、図11に示されるように、超音波デバイスユニットDVでは第1配線域46および第2配線域47の輪郭に傾斜が形成されてもよい。ここでは、谷折り線92から最も遠い第1配線域46および第2配線域47の輪郭線113は第1平板部32および第2平板部33から離れるにつれて谷折り線92に近づく直線で描かれる。こうした輪郭線113によれば、図12に示されるように、屈曲域46a、47aの曲率の相違に応じて内側の第2配線域47が第3平坦面44および第4平坦面45に沿ってガイド36、41側に押し出されても、第2配線域47の輪郭線113は確実に第1補強板34および第2補強板38の内向きの壁面に全域で接触することができる。
(6)第2実施形態に係る超音波デバイスユニット
図13に示されるように、第1補強板34には素子アレイ58の裏側で開口114が形成されてもよい。開口114は個々の素子59の裏側に空間を確保する。空間は平面視において素子59と重なる位置に配置される。こうした空間は超音波の減衰を誘引する。素子59から超音波デバイス17の裏側に超音波が漏れても、超音波の反射は回避されることができる。こうして素子59では反射波による不要な振動は防止される。超音波の誤検出は回避されることができる。空間は超音波の減衰に寄与する材料で充填されてもよい。
なお、上記のように本実施形態について詳細に説明したが、本発明の新規事項および効果から実体的に逸脱しない多くの変形が可能であることは当業者には容易に理解できるであろう。したがって、このような変形例はすべて本発明の範囲に含まれる。例えば、明細書または図面において、少なくとも一度、より広義または同義な異なる用語とともに記載された用語は、明細書または図面のいかなる箇所においても、その異なる用語に置き換えられることができる。また、超音波診断装置11、超音波プローブ13、筐体16、超音波デバイス17等の構成および動作も本実施形態で説明したものに限定されず、種々の変形が可能である。
11 電子機器としての超音波画像装置(超音波診断装置)、12 処理部(装置端末)、13 プローブ(超音波プローブ)、15 表示装置(ディスプレイパネル)、16 筐体、17 超音波デバイス、18 音響レンズ、31 フレキシブルプリント基板、32 第1平板部、33 第2平板部、34 補強板(第1補強板)、35 平坦面(第1平坦面)、36 ガイド、37 壁面、46 第1配線域、46a 屈曲域、47 第2配線域、47a 屈曲域、51 窪み、58 超音波素子列(素子アレイ)、59 超音波素子(薄膜型超音波トランスデューサー素子)、72 第1端子(下電極端子)、74 第2端子(下電極端子)、75 第1配線、76 第2配線、86 接着層、87a 屈折域、87b 屈折域、88a 屈折域、88b 屈折域、89 第1山折り線、91 第2山折り線、92 谷折り線、93 開口、99 外部接続端子、101 外部接続端子、109 溝、112 突起、114 空間(開口)、DV 超音波デバイスユニット。

Claims (13)

  1. 超音波素子アレイを挟んで両側に配置され少なくとも1つの超音波素子列に共通に接続される第1端子および第2端子を有する超音波デバイスと、
    超音波デバイスが実装される第1平板部に第2平板部が重ねられて第2平板部で外部接続端子を露出し、前記第1平板部および前記第2平板部に屈折域を介して連続する第1配線域に、前記第1端子に前記外部接続端子を接続する第1配線が配置され、前記第1平板部および前記第2平板部に屈折域を介して連続する第2配線域に、前記第2端子に前記外部接続端子を接続する第2配線が配置されるフレキシブルプリント基板と、
    を備えることを特徴とする超音波デバイスユニット。
  2. 請求項1に記載の超音波デバイスユニットにおいて、
    前記第1配線域は前記フレキシブルプリント基板の表側に対して第1山折り線に沿って山折りの前記屈折域を形成し前記第1平板部および前記第2平板部に重ねられ、
    前記第2配線域は前記フレキシブルプリント基板の前記表側に対して第2山折り線に沿って山折り前記屈折域を形成し前記第1平板部および前記第2平板部に重ねられ、
    前記第1山折り線および前記第2山折り線に交差する谷折り線に沿って前記第1配線域および前記第2配線域は前記フレキシブルプリント基板の前記表側に対して谷折りに屈曲して前記第1平板部の裏側に前記第2平板部は重ねられる
    ことを特徴とする超音波デバイスユニット。
  3. 請求項2に記載の超音波デバイスユニットにおいて、前記フレキシブルプリント基板は前記谷折り線に沿って前記第1平板部と前記第2平板部との間に開口を備えることを特徴とする超音波デバイスユニット。
  4. 請求項1〜3のいずれか1項に記載の超音波デバイスユニットにおいて、前記フレキシブルプリント基板は矩形の輪郭を有することを特徴とする超音波デバイスユニット。
  5. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の超音波デバイスユニットにおいて、前記超音波デバイスの裏側に接合される補強板をさらに備えることを特徴とする超音波デバイスユニット。
  6. 請求項5に記載の超音波デバイスユニットにおいて、前記補強板は、前記超音波デバイスの厚さ方向から見た平面視において前記超音波素子と重なる位置に空間を有することを特徴とする超音波デバイスユニット。
  7. 請求項5に記載の超音波デバイスユニットにおいて、前記平面視において前記超音波素子と重なる位置には前記超音波デバイスおよび補強板の間に接着層が配置されることを特徴とする超音波デバイスユニット。
  8. 請求項5〜7のいずれか1項に記載の超音波デバイスユニットにおいて、前記補強板は、前記フレキシブルプリント基板が重ねられる平坦面と、前記平坦面に直交する仮想平面に沿って広がって、前記平坦面に重ねられた前記フレキシブルプリント基板の側縁が突き当てられる壁面を有するガイドと、前記ガイドに沿って区画され、前記平坦面の縁から窪んで前記平坦面から前記ガイドを隔てる溝と、を備えることを特徴とする超音波デバイスユニット。
  9. 請求項5〜8のいずれか1項に記載の超音波デバイスユニットにおいて、前記補強板の外周には、音響レンズの位置合わせにあたって突起を受け入れる窪みが形成されることを特徴とする超音波デバイスユニット。
  10. 請求項1〜9のいずれか1項に記載の超音波デバイスユニットにおいて、前記第1端子および前記第2端子の間には、共通に接続される配線を有する複数の前記超音波素子を含む素子列が連結されることを特徴とする超音波デバイスユニット。
  11. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の超音波デバイスユニットと、前記超音波デバイスユニットを支持する筐体とを備えることを特徴とするプローブ。
  12. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の超音波デバイスユニットと、前記超音波デバイスユニットに接続されて、前記超音波デバイスユニットの出力を処理する処理装置とを備えることを特徴とする電子機器。
  13. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の超音波デバイスユニットと、前記超音波デバイスユニットの出力から生成される画像を表示する表示装置とを備えることを特徴とする超音波画像装置。
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