JP6497903B2 - レーザアニール装置 - Google Patents
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Description
第1のパルスレーザビームを出力する第1のレーザ発振器と、
前記第1のパルスレーザビームのパルス幅より短いパルス幅の第2のパルスレーザビームを出力する第2のレーザ発振器と、
前記第2のパルスレーザビームを減衰させる可変アッテネータを含み、前記第1のパルスレーザビーム及び前記第2のパルスレーザビームを、半導体基板に入射させる伝搬光学系と、
入出力装置と、
前記第1のレーザ発振器、前記第2のレーザ発振器、及び前記可変アッテネータを制御する制御装置と
を有し、
前記制御装置は、
前記入出力装置を通して、溶融深さの目標値が入力されると、前記第1のパルスレーザビームのパルス幅の設定値とフルエンスの設定値、及び入力された前記目標値に基づいて、前記第2のパルスレーザビームのフルエンスを算出し、
前記第1のパルスレーザビームのパルス幅の設定値とフルエンスの設定値、及び前記第2のパルスレーザビームのフルエンスの算出値に基づいて、前記第1のレーザ発振器、前記第2のレーザ発振器、及び前記可変アッテネータを制御することにより、前記半導体基板に前記第1のパルスレーザビーム及び前記第2のパルスレーザビームを入射させるレーザアニール装置が提供される。
11 入出力装置
20 制御措置
21 半導体レーザ発振器
22 アッテネータ
23 ビームエキスパンダ
24 ホモジナイザ
25 ダイクロイックミラー
26 集光レンズ
27 伝搬光学系
30 半導体基板
31 固体レーザ発振器
32 可変アッテネータ
33 ビームエキスパンダ
34 ホモジナイザ
35 ベンディングミラー
40 ビーム入射領域
41 ステージ
50 半導体基板
50B 第2の面
50T 第1の面
51 ベース領域
52 エミッタ領域
53 ゲート電極
54 ゲート絶縁膜
55 エミッタ電極
56 バッファ層
56a 深い部分
57 コレクタ層
57a 浅い部分
58 コレクタ電極
Claims (2)
- 第1のパルスレーザビームを出力する第1のレーザ発振器と、
前記第1のパルスレーザビームのパルス幅より短いパルス幅の第2のパルスレーザビームを出力する第2のレーザ発振器と、
前記第2のパルスレーザビームを減衰させる可変アッテネータを含み、前記第1のパルスレーザビーム及び前記第2のパルスレーザビームを、半導体基板に入射させる伝搬光学系と、
入出力装置と、
前記第1のレーザ発振器、前記第2のレーザ発振器、及び前記可変アッテネータを制御する制御装置と
を有し、
前記制御装置は、
前記入出力装置を通して、溶融深さの目標値が入力されると、前記第1のパルスレーザビームのパルス幅の設定値とフルエンスの設定値、及び入力された前記目標値に基づいて、前記第2のパルスレーザビームのフルエンスを算出し、
前記第1のパルスレーザビームのパルス幅の設定値とフルエンスの設定値、及び前記第2のパルスレーザビームのフルエンスの算出値に基づいて、前記第1のレーザ発振器、前記第2のレーザ発振器、及び前記可変アッテネータを制御することにより、前記半導体基板に前記第1のパルスレーザビーム及び前記第2のパルスレーザビームを入射させるレーザアニール装置。 - 第1のパルスレーザビームを出力する第1のレーザ発振器と、
前記第1のパルスレーザビームのパルス幅より短いパルス幅の第2のパルスレーザビームを出力する第2のレーザ発振器と、
前記第2のパルスレーザビームを減衰させる可変アッテネータを含み、前記第1のパルスレーザビーム及び前記第2のパルスレーザビームを、半導体基板に入射させる伝搬光学系と、
入出力装置と、
前記第1のレーザ発振器、前記第2のレーザ発振器、及び前記可変アッテネータを制御する制御装置と
を有し、
前記第1のレーザ発振器は、半導体レーザ発振器を含み、前記第2のレーザ発振器は、第2高調波を出力する固体レーザ発振器を含み、
前記制御装置は、
前記入出力装置を通して、溶融深さの目標値が入力されると、前記第1のパルスレーザビームのパルス幅の設定値とフルエンスの設定値、及び入力された前記目標値に基づいて、前記第2のパルスレーザビームのフルエンスを算出し、
前記第1のパルスレーザビームのパルス幅の設定値とフルエンスの設定値、及び前記第2のパルスレーザビームのフルエンスの算出値に基づいて、前記第1のレーザ発振器、前記第2のレーザ発振器、及び前記可変アッテネータを制御することにより、前記半導体基板に前記第1のパルスレーザビーム及び前記第2のパルスレーザビームを入射させるレーザアニール装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2014237411A JP6497903B2 (ja) | 2014-11-25 | 2014-11-25 | レーザアニール装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2014237411A JP6497903B2 (ja) | 2014-11-25 | 2014-11-25 | レーザアニール装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016100499A JP2016100499A (ja) | 2016-05-30 |
JP6497903B2 true JP6497903B2 (ja) | 2019-04-10 |
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ID=56078115
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2014237411A Active JP6497903B2 (ja) | 2014-11-25 | 2014-11-25 | レーザアニール装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP6497903B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5641965B2 (ja) * | 2011-02-09 | 2014-12-17 | 住友重機械工業株式会社 | レーザアニール方法及びレーザアニール装置 |
JP6245678B2 (ja) * | 2012-08-08 | 2017-12-13 | 住友重機械工業株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
-
2014
- 2014-11-25 JP JP2014237411A patent/JP6497903B2/ja active Active
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